WO2015156157A1 - プラズマ処置システム - Google Patents

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WO2015156157A1
WO2015156157A1 PCT/JP2015/059756 JP2015059756W WO2015156157A1 WO 2015156157 A1 WO2015156157 A1 WO 2015156157A1 JP 2015059756 W JP2015059756 W JP 2015059756W WO 2015156157 A1 WO2015156157 A1 WO 2015156157A1
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electrode
impedance
plasma
control unit
amount
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PCT/JP2015/059756
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石川　学
木村　修一
宏一郎 渡辺
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オリンパス株式会社
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    • A61B90/90—Identification means for patients or instruments, e.g. tags
    • A61B90/98—Identification means for patients or instruments, e.g. tags using electromagnetic means, e.g. transponders

Definitions

  • the present invention relates to a plasma treatment system.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-045756 discloses an electrosurgical treatment system used for such treatment.
  • two electrodes and a fluid supply element for forming a flow path so as to infiltrate these electrodes are provided.
  • a high-frequency voltage between these two electrodes By applying a high-frequency voltage between these two electrodes, a part of the fluid near the electrodes is vaporized and ionized plasma is generated.
  • 2011-045756 discloses that charged particles of plasma generated in this manner collide with a target biological tissue to cause molecular destruction or molecular collapse in the biological tissue. In this way, a treatment in which a living tissue or the like to be treated evaporates is called a low temperature ablation treatment.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-045756 discloses that the above system can be used in the field of otolaryngology.
  • an object of the present invention is to provide a plasma treatment system capable of appropriately adjusting the amount of the conductive solution around the electrode.
  • a plasma treatment system includes a spout configured to discharge a conductive solution, and a suction port configured to suck the conductive solution.
  • a spout configured to discharge a conductive solution
  • a suction port configured to suck the conductive solution.
  • a first electrode and a second electrode configured to generate a plasma
  • an impedance acquisition unit for acquiring an impedance between the first electrode and the second electrode, and the conductive solution
  • a liquid amount adjustment unit that adjusts the supply amount or suction amount of the liquid, and a first control unit that controls the liquid amount adjustment unit so as to increase or decrease the supply amount or suction amount of the conductive solution based on the impedance; Equipped with That.
  • FIG. 1 is a block diagram showing an outline of a configuration example of a plasma treatment system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a configuration example of the distal end portion of the probe of the plasma treatment instrument.
  • FIG. 3 is a side view showing a configuration example of the distal end portion of the probe of the plasma treatment instrument.
  • FIG. 4 is a flowchart showing an example of the operation of the plasma treatment system according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the relationship between the impedance and the state of the probe tip.
  • FIG. 6 is a flowchart showing an example of the operation of the plasma treatment system according to the second embodiment.
  • FIG. 7 is a flowchart showing an example of the operation of the plasma treatment system according to the second embodiment.
  • FIG. 1 is a block diagram showing an outline of the overall configuration of a plasma treatment system 1 according to the present embodiment.
  • the plasma treatment system 1 is used for a treatment in which plasma is generated and a living tissue to be treated is evaporated by the plasma. By excising the living tissue using plasma, thermal damage around the excised tissue becomes relatively small, and a minimally invasive treatment is realized.
  • the plasma treatment system 1 is used for excision of tonsil tissue in the field of otolaryngology, for example.
  • this plasma treatment system 1 may be used for excision of synovium and cartilage in the orthopedic field, and may be used for excision of an organ (particularly liver) in general laparotomy.
  • the plasma treatment system 1 includes a control unit 2 that controls each part of the system, a plasma treatment device 7 that performs a treatment on a living tissue with plasma, and a power supply unit 3 that supplies radio frequency (RF) power to the plasma treatment device 7.
  • RF radio frequency
  • the plasma treatment device 7 includes a holding portion 7a for a user to hold the plasma treatment device 7, and a probe 7b provided on the distal end side of the holding portion 7a.
  • An active electrode 15 and a return electrode 16 are provided at the tip of the probe 7b.
  • the plasma treatment tool 7 generates plasma at the tip of the probe 7b when a current flows between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • the plasma treatment system 1 is a physiological saline bag filled with physiological saline to supply physiological saline, which is a conductive solution necessary for generating plasma at the distal end of the probe 7b, to the distal end of the probe 7b. 4, a supply suction unit 5 that supplies and sucks physiological saline, and a drain tank 6 that stores the sucked physiological saline.
  • physiological saline bag 4 a commercially available bag can be used.
  • Supply of the physiological saline to the probe 7b and suction of the physiological saline from the probe 7b are adjusted by the supply / suction unit 5.
  • the supply suction unit 5 functions as a liquid amount adjustment unit that adjusts the supply amount or suction amount of the conductive solution.
  • the conductive solution is preferably physiological saline that is conductive and harmless to the human body, but is not limited thereto. Other solutions may be used as long as they are conductive and harmless to the human body.
  • control unit 2 includes a processing unit having an arithmetic processing function such as a CPU and an ASIC, and a memory for storing a processing program, preset or appropriately set numerical information, a control table, and the like.
  • the control unit 2 includes components included in a general electronic computer.
  • the control unit 2 is connected to a display unit 9 for displaying information on treatment, set information, detected information, and the like.
  • a display unit 9 for displaying information on treatment, set information, detected information, and the like.
  • various commonly used display devices such as a liquid crystal display and a pilot lamp including an LED lamp can be used.
  • the control unit 2 is connected to the input unit 8 including an input panel and a keyboard for inputting and setting information by wire or wirelessly.
  • the input unit 8 includes a plurality of switches for executing a plasma treatment described later.
  • This switch includes, for example, a switch for setting physiological saline supply and suction, and a foot switch for performing treatment by generating plasma at the tip of the probe 7b.
  • these switches may be provided independently, may be provided in the power supply part 3, the supply suction part 5, the control part 2, or may be provided in the holding part 7a of the plasma treatment instrument 7.
  • the function of the foot switch described above may be performed by a switch provided in the holding unit 7a.
  • the power supply unit 3 is a high frequency power source that outputs a high frequency current (voltage) that is, for example, a sine wave, a triangular wave, or a pulse wave.
  • the power supply unit 3 can change the output level.
  • the output level is roughly divided into two stages. That is, a high output level that outputs a large power that generates plasma at the tip of the probe 7b to perform treatment, and a low level for measuring the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16 as will be described later. There is an output level.
  • the plurality of output levels are set in advance and are switched by the control of the control unit 2.
  • an output level suitable for each treatment target and treatment type is prepared, and an output level is selected according to the treatment to be performed.
  • the output level can be adjusted according to various situations during the treatment, such as the size of the treatment target region, the state of the tissue, the state of the tissue around the treatment target region, the progress of the treatment, and the like.
  • the situation during the treatment may be input by the user, for example, may be determined by the control unit 2 according to the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16 described later, or may be output from other sensors. Accordingly, the determination may be made by the control unit 2.
  • an output level suitable for each type of plasma treatment tool such as a difference in the shape of the active electrode is prepared, and the output level is selected according to the type of plasma treatment tool.
  • the selection of the output level according to the type of the plasma treatment device may be performed by the user selecting the plasma treatment device.
  • a memory for storing ID information is mounted on the plasma treatment instrument, and when the plasma treatment instrument is connected to the power supply unit 3, the ID information is read from the treatment instrument by the control unit 2, and an appropriate output level is obtained. It may be set.
  • a high output level corresponds to a first power that generates plasma
  • a low output level for example, corresponds to a second power that is lower than the first power and does not generate plasma. To do.
  • the power supply unit 3 can acquire a voltage value applied between the active electrode 15 and the return electrode 16 and a current value flowing therebetween.
  • the power supply unit 3 outputs the acquired voltage value and current value to the control unit 2.
  • the control unit 2 Based on the voltage value and the current value, calculates the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16 as described later.
  • the plasma treatment tool 7 is a disposable type treatment tool.
  • the plasma treatment device 7 includes the holding portion 7a and the probe 7b. Terminals 12a and 12b to which high-frequency power output from the power supply unit 3 is supplied are provided on the proximal end side of the holding unit 7a.
  • One end of a power cable 13 is detachably connected to these terminals 12a and 12b.
  • the other end of the power cable 13 is detachably connected to the power supply unit 3 via a connector 14.
  • the power cable 13 is preferably an electromagnetic shielded cable or the like so that high-frequency electromagnetic waves do not leak to the outside and so that external noise is not superimposed on a signal flowing through the power cable 13.
  • a unit in which the connector 14 and the power cable 13 are integrated can be used for each treatment, and can be configured to be discarded for each unit after use.
  • the plasma treatment tool 7 and the power cable 13 may be detachable at the terminals 12a and 12b, and the plasma treatment tool 7 may be replaced for each treatment.
  • the plasma treatment instrument 7 is provided with a memory for storing an individual identification number and characteristics of the treatment instrument.
  • information in this memory may be read out to the control unit 2.
  • Various setting conditions of the plasma treatment tool for example, an appropriate output level, a physiological saline supply amount, a suction amount, and the like are recorded in a memory in the plasma treatment tool 7, and the control unit 2 reads out this information. Can be configured. Further, only model information is recorded in the memory in the plasma treatment instrument 7, and appropriate output levels, physiological saline supply amounts, suction amounts, and the like for a plurality of models are recorded in the control unit 2. It may be configured.
  • control unit 2 reads out the model information from the memory in the plasma treatment instrument 7 and reads out the information such as the corresponding output level recorded in the control unit 2 and the supply amount and suction amount of the physiological saline. Can be configured. Since information is recorded in the plasma treatment instrument 7 in this manner, it is not necessary for the user to set various conditions.
  • the probe 7b of this embodiment is provided with an active electrode 15 and a return electrode 16 on the tip surface 7c.
  • a plurality of active electrodes 15 and return electrodes 16 are provided, but it is sufficient that at least one of each is provided.
  • the active electrode 15 is connected to the terminal 12a by an internal wiring 17a.
  • the return electrode 16 is connected to the terminal 12b by an internal wiring 17b.
  • the internal wiring 17a and the internal wiring 17b are inserted through the holding portion 7a and the probe 7b.
  • the active electrode 15 and the return electrode 16 are connected to the power supply unit 3 via the internal wiring 17 a and the internal wiring 17 b and the power supply cable 13.
  • a plurality of jet outlets 18 having arc-shaped openings are provided along the outer periphery in the vicinity of the outer periphery of the tip surface 7c of the probe 7b.
  • a circular suction port 19 is provided in the central portion of the distal end surface 7c.
  • the active electrode 15 is provided so as to straddle the suction port 19.
  • the jet outlet 18 and the suction port 19 are arranged so that the active electrode 15 and the return electrode 16 are sandwiched between the jet outlet 18 and the suction port 19.
  • One end of the first inner tube 20 is connected to the jet port 18, and the first inner tube 20 passes through the probe 7 b.
  • One end of a second internal tube 21 is connected to the suction port 19, and the second internal tube 21 passes through the probe 7 b.
  • the first inner tube 20 is connected to the first connection tube 22.
  • the second inner tube 21 is connected to the second connection tube 23.
  • the inner tube and the connection tube may be one tube.
  • the return electrode 16 and the ejection port 18 are not necessarily arranged on the distal end surface 7c, and may be arranged on the cylindrical side surface of the probe 7b.
  • a sheath through which the probe 7b is inserted may be provided, and the ejection port may be formed at the tip of the gap between the sheath and the probe 7b.
  • the spout 18 should just be arrange
  • the active electrode 15 and the suction port 19 are preferably provided on the distal end surface 7c of the probe 7b for ease of treatment, but are not limited thereto.
  • the jet port and the suction port may be arranged in reverse. That is, the ejection port may be provided at the center of the distal end surface 7c of the probe 7b, and the suction port may be disposed along the outer periphery of the distal end surface 7c.
  • the distal end surface 7c is placed on the central axis of the cylindrical probe 7b so that the distal end surface 7c of the probe 7b faces the surface of the biological tissue to be treated. It is not vertical but inclined. Thereby, operability is improved.
  • the physiological saline supplied from the ejection port 18 and sucked from the suction port 19 perfuses the tip of the probe 7b.
  • the physiological saline 42 exists in a certain range. That is, a physiological saline perfusion layer is formed on the distal end surface of the probe 7b and the outer peripheral surface near the distal end. As a result, the active electrode 15 and the return electrode 16 are immersed in physiological saline.
  • a high frequency voltage is applied between the active electrode 15 and the return electrode 16 in a state where the active electrode 15 and the return electrode 16 are immersed in the physiological saline 42.
  • the physiological saline 42 evaporates in the vicinity of the active electrode 15 and the return electrode 16, and a vapor layer is generated.
  • a voltage is further applied between the active electrode 15 and the return electrode 16
  • breakdown occurs in this vapor layer, and plasma is generated.
  • the region where the plasma is generated is referred to as a plasma generation region P.
  • the living tissue 41 in the vicinity of the plasma generation region P evaporates due to the generated plasma.
  • the transpired biological tissue or the fragment of the destroyed biological tissue is sucked into the suction port 19 together with the physiological saline.
  • the conditions for generating plasma include the shape of the active electrode 15 and the return electrode 16 and the structure such as the distance between the electrodes, the characteristics of the conductive solution used such as physiological saline, the amount of the conductive solution, It depends on temperature. For this reason, it is preferable that the positional relationship between the active electrode 15 and the return electrode 16 is fixed. Furthermore, the amount of physiological saline is an important factor for properly generating plasma.
  • the surface area of the return electrode 16 is larger than the surface area of the active electrode 15 as the surface area of the electrode in contact with the physiological saline. Since the surface area of the active electrode 15 is small, the current density is increased in the vicinity of the active electrode 15, and desired plasma is generated in the vicinity of the active electrode 15. If the surface area of the return electrode 16 is larger than the surface area of the active electrode 15, the return electrode 16 plays a role of the active electrode 15, and the desired good plasma may not be generated.
  • the active electrode 15 and the return electrode 16 function as a first electrode and a second electrode, and the active electrode 15 and the return electrode 16 are discharged from the jet port 18 and sucked from the suction port 19. It is provided so that a mutual positional relationship may be fixed at a position where it is immersed in the physiological saline.
  • the supply suction unit 5 supplies and sucks physiological saline to the plasma treatment instrument 7 as described above. As shown in FIG. 1, the supply suction unit 5 is provided with a supply line 31 that supplies physiological saline to the plasma treatment instrument 7 and a suction line 32 that sucks physiological saline from the plasma treatment instrument 7. .
  • a supply pump 33, a temperature adjustment unit 34, and a supply amount sensor 35 are provided from the upstream side, and the supply tube 39 on the downstream side is a first connection of the plasma treatment instrument 7. Connected to the tube 22.
  • a suction tube 40, a suction amount sensor 38, a temperature sensor 37, and a suction pump 36 connected to the second connection tube 23 of the plasma treatment instrument 7 are provided from the upstream side.
  • the downstream side of the suction pump 36 is connected to the drain tank 6.
  • the supply pump 33 operates under the control of the control unit 2, takes out a new physiological saline from the physiological saline bag 4, and supplies it to the probe 7 b of the plasma treatment instrument 7.
  • the supply pump 33 can change the amount of physiological saline supplied to the probe 7b under the control of the control unit 2.
  • the supply pump 33 is not particularly limited, but preferably has a structure that is easy to manage and maintain in terms of hygiene, and a so-called roller pump that transports the liquid inside while crushing the elastic tube by the rotation of the roller. preferable.
  • the temperature adjustment unit 34 cools or warms the physiological saline sent out from the supply pump 33 under the control of the control unit 2 and adjusts the temperature to a predetermined range suitable for treatment.
  • the supply amount sensor 35 is a known flow rate sensor, and detects the supply amount of physiological saline supplied to the probe 7b.
  • the supply amount sensor 35 transmits a signal indicating the detected supply amount to the control unit 2.
  • the control unit 2 uses the supply amount detected by the supply amount sensor 35 to adjust the supply amount of the supply pump 33.
  • the supply amount sensor 35 may not be provided, and the supply amount may be adjusted without using feedback control.
  • the supply pump 33, the temperature adjustment unit 34, and the supply amount sensor 35 may be arranged in any order. Further, for example, the supply amount sensor 35 may be provided in the plasma treatment instrument 7 depending on its size and the like.
  • the suction pump 36 operates under the control of the control unit 2 and sends the physiological saline sucked from the probe 7b to the drain tank 6.
  • the suction pump 36 can change the amount of physiological saline sucked from the probe 7 b under the control of the control unit 2.
  • the suction amount sensor 38 detects the amount of physiological saline sucked by the suction pump 36.
  • the suction amount sensor 38 may be a known flow rate sensor, or a liquid level sensor or a water level sensor provided in the drain tank 6.
  • the suction amount sensor 38 transmits a signal indicating the detected suction amount to the control unit 2.
  • the temperature sensor 37 detects the temperature of the sucked physiological saline and transmits the detection result to the control unit 2.
  • the control unit 2 uses the suction amount detected by the suction amount sensor 38 to adjust the suction amount of the suction pump 36.
  • the suction amount sensor 38 is not provided, and the suction amount may be adjusted without feedback control.
  • the suction pump 36, the temperature sensor 37, and the suction amount sensor 38 may be arranged in any order. Further, the temperature sensor 37 and the suction amount sensor 38 may be provided in the plasma treatment instrument 7 depending on the size thereof.
  • the control unit 2 includes an impedance acquisition unit 201, a power control unit 202, and a liquid supply amount control unit 203.
  • the impedance acquisition unit 201 is connected between the active electrode 15 and the return electrode 16 based on the voltage applied between the active electrode 15 and the return electrode 16 acquired from the power supply unit 3 and the current flowing therebetween. Calculate the impedance.
  • the power control unit 202 controls the power supply to the plasma treatment instrument 7 by the power supply unit 3 based on the impedance calculated by the impedance acquisition unit 201.
  • the liquid supply amount control unit 203 controls the operations of the supply pump 33 and the suction pump 36 based on the impedance calculated by the impedance acquisition unit 201.
  • the liquid supply amount control unit 203 causes the supply pump 33 to change the supply amount or causes the suction pump 36 to change the suction amount.
  • the power control unit 202 functions as a second control unit that controls the power supply unit that supplies power between the first electrode and the second electrode.
  • the liquid supply amount control unit 203 functions as a first control unit that controls the liquid amount adjustment unit so as to increase or decrease the supply amount or suction amount of the conductive solution based on the impedance.
  • the control unit 2 may be provided integrally with the power supply unit 3.
  • the operation of the plasma treatment system 1 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Note that the processing shown in the flowchart shown in FIG. 4 is realized by arithmetic processing performed in the control unit 2 according to a program stored in a storage unit included in the control unit 2, for example.
  • This program may be recorded in advance in the control unit 2, or may be recorded in various media.
  • the control unit 2 may read the program from this medium, or may be provided online.
  • the program may be acquired by communication.
  • step S101 the control unit 2 sets the output level of the plasma treatment instrument 7 to a low output.
  • the low output is not a high output in which plasma is generated by the plasma treatment instrument 7 in order to perform treatment, but a low output capable of measuring the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • the control unit 2 controls the power supply unit 3 based on the set low output value, and causes the power supply unit 3 to supply power to the plasma treatment instrument 7 at a low output.
  • the electric power may be controlled by a voltage value or a current value.
  • the control unit 2 causes the supply pump 33 and the suction pump 36 to start driving these pumps.
  • the supply amount of the supply pump 33 and the suction amount of the suction pump 36 are set to predetermined initial values, for example. This initial value may be set by the user, or may be set to a value recorded in advance in the control unit 2 or the plasma treatment instrument 7.
  • step S102 the control unit 2 acquires the voltage and current supplied from the power supply unit 3 to the plasma treatment instrument 7, and calculates the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16 is used as the impedance.
  • the impedance between the terminal 12a and the terminal 12b or the gap between the active electrode 15 and the return electrode 16 is used.
  • Impedance of an arbitrary part in which the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16 is reflected, such as the impedance between two locations in the power supply unit 3 including, is related between the active electrode 15 and the return electrode 16. It may be used as an impedance.
  • step S103 the control unit 2 determines whether or not the calculated impedance is higher than a predetermined first threshold value Z1.
  • a predetermined first threshold value Z1 is set as an impedance measured when the tip of the probe 7b is not immersed in physiological saline.
  • step S104 the control unit 2 sets the output of the plasma treatment instrument 7 to a low output, and causes the power supply unit 3 to supply power to the probe 7b at a low output.
  • step S105 the control unit 2 controls the supply pump 33 so as to increase the supply amount of physiological saline. As a result, the amount of physiological saline present at the tip of the probe 7b gradually increases. After step S105, the process proceeds to step S109.
  • step S103 When it is determined in step S103 that the impedance is not higher than the first threshold value Z1, the process proceeds to step S106. That the impedance is not higher than the first threshold value Z1 means that the tip of the probe 7b is immersed in physiological saline to the extent necessary for generating plasma.
  • step S106 the control unit 2 sets the output level of the plasma treatment instrument 7 to a high output.
  • the high output is an output that generates plasma at the tip of the probe 7b.
  • the output level of high output may include a plurality of output levels depending on the type of plasma treatment instrument 7 and the method of treatment. However, here, they are referred to as high output without distinction.
  • the control unit 2 controls the power supply unit 3 based on the set high output value, and causes the power supply unit 3 to supply power to the plasma treatment instrument 7 with high output. As a result, plasma is generated in a region where the tip of the physiological saline probe 7b is immersed.
  • the treatment is performed by this plasma.
  • the output at the high output level of the power supply unit 3 may be configured to be always output when the setting by the control unit 2 is high output, or when the setting by the control unit 2 is high output, and the input unit It may be configured to output when the 8 foot switch is stepped on. It should be noted that the impedance can be calculated based on the voltage value and the current value acquired by the power supply unit 3 even in a state where such a large power that generates plasma is supplied.
  • step S107 the control unit 2 determines whether or not the impedance calculated in step S106 is lower than a predetermined second threshold Z2. For example, if the amount of physiological saline present at the tip of the probe 7b is larger than an appropriate amount, plasma is not efficiently generated at the tip. At this time, the measured impedance is lower than when plasma is generated.
  • the impedance measured when the active electrode 15 and the return electrode 16 are immersed in pure physiological saline not mixed with impurities is defined as a first impedance. Further, the impedance measured when plasma is generated is defined as a second impedance. The second impedance is higher than the first impedance.
  • the physiological saline in which the active electrode 15 and the return electrode 16 are immersed in the tissue Impurities such as origin are mixed.
  • the impedance measured at this time is defined as a third impedance.
  • the third impedance is higher than the first impedance and lower than the second impedance.
  • the second threshold value Z2 can be set to a value higher than the third impedance and lower than the second impedance.
  • step S107 When it is determined in step S107 that the impedance is not lower than the second threshold value Z2, the process proceeds to step S109.
  • step S108 the control unit 2 controls the supply pump 33 so as to reduce the supply amount of physiological saline. As a result, the amount of physiological saline present at the tip of the probe 7b gradually decreases. After step S108, the process proceeds to step S109.
  • step S109 the control unit 2 determines whether or not an instruction to end the treatment is input by the user. When the end instruction is not input, the process returns to step S102 and the above process is repeated. On the other hand, when an end instruction is input, the process proceeds to step S110.
  • step S110 the control unit 2 causes the power supply unit 3 to stop supplying power to the probe 7b. Further, the control unit 2 causes the supply pump 33 to stop the supply of physiological saline, and subsequently causes the suction pump 36 to stop the suction. Thereafter, the process ends.
  • the amount of physiological saline present at the tip of the probe 7b when the amount of physiological saline present at the tip of the probe 7b is small to generate plasma, the amount of physiological saline supplied by the supply pump 33 is increased. When the amount of physiological saline present at the tip of the probe 7b is too large to generate plasma, the amount of physiological saline supplied by the supply pump 33 is reduced. As a result, an amount of physiological saline suitable for plasma generation is always maintained at the tip of the probe 7b.
  • the plasma treatment system 1 according to the present embodiment can reduce the risk of such complications.
  • the plasma treatment system 1 according to the present embodiment is effective in the field of performing plasma treatment by perfusing physiological saline only at the distal end portion of the probe 7b as in the treatment in the otolaryngology region.
  • the impedance when the output level is high and large electric power is supplied to the probe 7b, the impedance is calculated based on the voltage value and current value at that time.
  • the output level when the power supply unit 3 outputs a large amount of power to generate plasma, the output level is set to a low output for a short time of, for example, several milliseconds in order to acquire impedance, and the voltage value acquired at this time
  • the impedance may be calculated based on the current value.
  • the impedance calculation system is improved by always performing the calculation of the impedance in a low output state.
  • the present invention is not limited to this.
  • the amount of physiological saline sucked by the suction pump 36 may be controlled. That is, for example, in step S105, instead of increasing the supply amount of the physiological saline, the suction amount of the physiological saline may be decreased. Similarly, in step S108, instead of decreasing the supply amount of physiological saline, the suction amount of physiological saline may be increased. Moreover, both the supply amount of physiological saline and the suction amount may be controlled.
  • the plasma treatment system 1 may be configured to adjust the output of the power supply unit 3 based on the impedance in order to perform an appropriate treatment.
  • the power control unit 202 may determine the amount of the substance derived from the biological tissue contained in the physiological saline that is the conductive solution based on the impedance, and may control the output of the power supply unit 3. .
  • the start and end of the treatment are described as being input by the user, but are not limited thereto.
  • a sensor is provided at the tip of the probe 7b, and the process starts when the tip of the probe 7b is pressed against the treatment target site by the sensor, and the process ends when a predetermined time elapses. Also good.
  • the plasma treatment device 7 of the present embodiment is provided with a jet port 18 and a suction port 19, and the supply and suction of physiological saline are performed by the probe 7b, but the configuration is not limited thereto.
  • the active electrode 15 and the return electrode 16 are provided in the probe 7b, and the supply and suction of the physiological saline may be performed by a supply probe and a suction probe different from the probe 7b.
  • the plasma treatment instrument 7 with the jet port 18 and the suction port 19 as in the above embodiment, access to the treatment target is facilitated and treatment is easily performed. For this reason, it is preferable that the plasma treatment tool 7 is provided with a jet port 18 and a suction port 19.
  • the supply pump 33 is used to supply physiological saline and adjust the supply amount, but is not limited thereto.
  • the physiological saline bag 4 may be disposed at a high position, and the physiological saline may be supplied to the probe 7b by gravity. At this time, a valve may be provided in the supply line to adjust the supply amount.
  • the suction pump 36 is used for the suction of physiological saline and the adjustment of the suction amount, but the present invention is not limited to this.
  • the physiological saline may be sucked from the probe 7b by a wall suction device provided in the treatment room.
  • a valve may be provided in the suction line to adjust the suction amount.
  • the plasma treatment system 1 includes a liquid amount adjusting unit that adjusts the supply amount or suction amount of, for example, physiological saline that is a conductive solution
  • the liquid amount adjusting unit may have any configuration. .
  • the processing shown in FIG. 4 is an example, and for example, the order of the processing may be changed as appropriate, and a part of the processing may be deleted.
  • the liquid supply amount is adjusted according to the impedance, but the output level may not be changed, or only the output level may be changed.
  • the plasma treatment system 1 has been described so as to be able to perform only the treatment of evaporating the biological tissue that is the treatment target, the present invention is not limited to this.
  • the plasma treatment system 1 can be configured so that the living tissue to be treated can be coagulated.
  • the output can be set lower than when transpiring.
  • the plasma treatment system 1 can be configured such that the transpiration mode and the coagulation mode can be switched as appropriate. These switching operations may be performed by the user, or may be set in advance according to the procedure of the treatment.
  • control unit 2 determines various situations of the distal end portion of the probe 7 b of the plasma treatment instrument 7 based on the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • FIG. 5 shows an outline of an example of the relationship between the state of the tip of the probe 7b and the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16 measured at that time.
  • the impedance is lowest when there is pure physiological saline between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • the impedance becomes higher than that of pure physiological saline.
  • the active electrode 15 and the return electrode 16 are in contact with the living tissue, the impedance is higher than when the electrode is immersed in physiological saline.
  • the impedance becomes higher than in the state where the active electrode 15 and the return electrode 16 are in contact with the living tissue. Further, in the state where there is no physiological saline between the active electrode 15 and the return electrode 16 and no plasma is generated, the impedance is higher than in the state where plasma is generated.
  • the plasma treatment system 1 determines these states based on the impedance, and performs an operation suitable for the state.
  • step S ⁇ b> 201 the control unit 2 sets the output level to a low output and starts driving the supply pump 33 and the suction pump 36.
  • step S ⁇ b> 202 the control unit 2 calculates the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • step S203 the control unit 2 determines whether a high output level has been output in the series of operations thus far. This is because there is a possibility that a substance derived from a living tissue is mixed in physiological saline by plasma treatment when the output of a high output level has already been performed. This is for changing the threshold value used in the subsequent processing. If it is determined that a high output level has been output, the process proceeds to step S206. On the other hand, when it is determined that the high output level is not output, the process proceeds to step S204.
  • step S204 the control unit 2 determines whether or not the calculated impedance is higher than the third threshold value Z3.
  • the third threshold value is higher than the impedance when the probe 7b is immersed in pure physiological saline, and is immersed in physiological saline mixed with a substance derived from living tissue. It is a value lower than the impedance when When it is determined that the impedance is higher than the third threshold value Z3, the process proceeds to step S205. At this time, it is considered that the tip of the probe 7b is not immersed in physiological saline. Therefore, in step S205, the control unit 2 increases the supply amount of physiological saline. Thereafter, the process proceeds to step S209. On the other hand, when it is determined in step S204 that the impedance is not higher than the third threshold value Z3, the process proceeds to step S207.
  • step S206 the control unit 2 determines whether or not the calculated impedance is higher than the fourth threshold value Z4.
  • the fourth threshold is higher than the impedance when the probe 7b is immersed in a physiological saline mixed with a substance derived from a living tissue, and the probe 7b and the living tissue are in contact with each other. It is a value lower than the impedance when When it is determined that the impedance is not higher than the fourth threshold value Z4, the process proceeds to step S207. At this time, it is considered that the tip of the probe 7b is immersed in physiological saline.
  • the control unit 2 performs high output level control described later. Thereafter, the process proceeds to step S209.
  • step S206 If it is determined in step S206 that the impedance is higher than the fourth threshold value Z4, the process proceeds to step S208. At this time, it is considered that the tip of the probe 7b is not immersed in physiological saline. In step S205, the control unit 2 increases the supply amount of physiological saline. Thereafter, the process proceeds to step S209.
  • step S209 the control unit 2 determines whether an instruction to end the treatment is input by the user. If no termination instruction has been input, the process returns to step S202, and the above process is repeated. On the other hand, when an end instruction is input, the process proceeds to step S210.
  • step S210 the control unit 2 causes the power supply unit 3 to stop supplying power to the probe 7b. Further, the control unit 2 causes the supply pump 33 to stop the supply of physiological saline, and subsequently causes the suction pump 36 to stop the suction. Thereafter, the process ends.
  • High output level control is control performed when the output level is set to a high output level.
  • the control unit 2 sets the output level to high output. Thereafter, the process proceeds to step S302.
  • the control unit 2 calculates the impedance between the active electrode 15 and the return electrode 16.
  • step S303 the control unit 2 determines whether the impedance is higher than the fifth threshold value Z5.
  • the fifth threshold value Z5 is a value that is slightly lower than the impedance measured in the absence of physiological saline at the tip of the probe 7b. That is, when the impedance is higher than the fifth threshold value Z5, it is considered that there is no physiological saline at the tip of the probe 7b.
  • the control unit 2 sets the output level to low output. Thereafter, the process returns to step S207.
  • step S305 the control unit 2 determines whether the impedance is higher than the sixth threshold value Z6.
  • the sixth threshold value Z6 is a value slightly lower than the impedance measured in a state where plasma is generated at the tip of the probe 7b. That is, it is considered that when the impedance is higher than the sixth threshold value Z6, plasma is generated at the tip of the probe 7b.
  • the process proceeds to step S309.
  • step S305 When it is determined in step S305 that the impedance is not higher than the sixth threshold value Z6, the process proceeds to step S306.
  • step S306 the control unit 2 determines whether or not the impedance is higher than the seventh threshold value Z7.
  • the seventh threshold value Z7 is a value slightly lower than the impedance measured in a state where the distal end portion of the probe 7b is in contact with the biological tissue to be treated. That is, when the impedance is higher than the seventh threshold value Z7, it is considered that the tip of the probe 7b is in contact with the living tissue.
  • the process proceeds to step S307.
  • step S307 the control unit 2 stops the power supply between the active electrode 15 and the return electrode 16. Thereafter, the process returns to step S207.
  • step S306 When it is determined in step S306 that the impedance is not higher than the seventh threshold value Z7, the process proceeds to step S308. At this time, the physiological saline at the tip of the probe 7b is excessive, and it is considered that plasma is not generated efficiently. Therefore, in step S308, the control unit 2 decreases the supply amount of physiological saline. Thereafter, the process proceeds to step S309.
  • step S309 the control unit 2 determines whether an instruction to end the treatment is input by the user. When the end instruction has not been input, the process returns to step S302 to repeat the above process. On the other hand, when an end instruction is input, the process returns to step S207.
  • the plasma treatment system 1 can determine the state of the distal end portion of the probe 7b based on the impedance and perform an operation suitable for the state.
  • the case where the power supply to the active electrode 15 and the return electrode 16 is stopped when the tip of the probe 7b and the living tissue to be treated are in contact has been described as an example.
  • the present invention is not limited thereto.
  • the supplied power may be set to a low output level so that the impedance can be measured.
  • the power supply may be adjusted according to the amount and composition of the biological tissue contained in the physiological saline, or the amount of physiological saline supplied may be changed.
  • a jet port configured to discharge a conductive solution
  • a suction port configured to suck the conductive solution
  • a first electrode and a second electrode provided so that the mutual positional relationship is fixed at a position soaked in the solution, and a voltage is provided between the first electrode and the second electrode.
  • a plasma treatment control unit used together with a plasma treatment tool for treating living tissue with plasma generated by being applied, and a liquid amount adjusting unit for adjusting the supply amount or suction amount of the conductive solution,
  • An impedance acquisition unit for acquiring an impedance between the first electrode and the second electrode;
  • a plasma treatment control unit comprising: a liquid supply amount control unit configured to increase or decrease the supply amount or suction amount of the conductive solution in the liquid amount adjustment unit based on the impedance.

Abstract

プラズマ処置システム（１）は、噴出口（１８）と、吸引口（１９）と、第１の電極（１５）及び第２の電極（１６）と、インピーダンス取得部（２０１）と、液量調整部（５）と、第１の制御部（２０３）とを備える。第１の電極（１５）及び第２の電極（１６）は、電圧が印加されることで生体組織を処置するためのプラズマを発生するように構成されている。インピーダンス取得部（２０１）は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に係るインピーダンスを取得する。液量調整部（５）は、前記導電性溶液の供給量又は吸引量を調整する。第１の制御部（２０３）は、インピーダンスに基づいて、導電性溶液の供給量又は吸引量を増減させるように前記液量調整部を制御する。

Description

プラズマ処置システム
　本発明は、プラズマ処置システムに関する。
　生理食塩水に浸った２つの電極間に高周波電流を流すことによってプラズマを発生させ、当該プラズマによって生体組織を蒸散させて切除するという処置方法が知られている。例えば日本国特開２０１１－０４５７５６号公報には、このような処置に用いられる電気外科治療用のシステムが開示されている。日本国特開２０１１－０４５７５６号公報に開示されているシステムでは、２つの電極と、これら電極を浸潤させるように流路を形成させる流体供給エレメントとが設けられている。これら２つの電極間に高周波電圧が印加されることで、電極近傍の流体の一部は気化し、イオン化したプラズマが発生する。日本国特開２０１１－０４５７５６号公報には、このようにして発生したプラズマの荷電粒子が標的である生体組織に衝突し、生体組織において分子破壊又は分子崩壊が生じることが開示されている。このように、処置対象である生体組織などが蒸散する処置は、低温アブレーション処置と呼ばれる。日本国特開２０１１－０４５７５６号公報には、上記のようなシステムが耳鼻咽喉科分野で用いられ得ることが開示されている。
　上記のようなプラズマを発生させる処置具において、適切にプラズマを発生させるためには、電極の周囲に存在する導電性溶液の量を適量に維持することが重要である。
　そこで、本発明は、電極周辺の導電性溶液の量を適切に調整できるプラズマ処置システムを提供することを目的とする。
　前記目的を果たすため、本発明の一態様によれば、プラズマ処置システムは、導電性溶液を吐出するように構成された噴出口と、前記導電性溶液を吸引するように構成された吸引口と、前記噴出口から吐出され前記吸引口から吸引される前記導電性溶液に浸るような位置に互いの位置関係が固定されるように設けられ、電圧が印加されることで生体組織を処置するためのプラズマを発生するように構成された第１の電極及び第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に係るインピーダンスを取得するインピーダンス取得部と、前記導電性溶液の供給量又は吸引量を調整する液量調整部と、前記インピーダンスに基づいて、前記導電性溶液の供給量又は吸引量を増減させるように前記液量調整部を制御する第１の制御部とを具備する。
　本発明によれば、電極周辺の導電性溶液の量を適切に調整できるプラズマ処置システムを提供できる。
図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマ処置システムの構成例の概略を示すブロック図である。 図２は、プラズマ処置具のプローブの先端部の構成例を示す斜視図である。 図３は、プラズマ処置具のプローブの先端部の構成例を示す側面図である。 図４は、第１の実施形態に係るプラズマ処置システムの動作の一例を示すフローチャートである。 図５は、インピーダンスとプローブ先端部の状態との関係の一例を示す図である。 図６は、第２の実施形態に係るプラズマ処置システムの動作の一例を示すフローチャートである。 図７は、第２の実施形態に係るプラズマ処置システムの動作の一例を示すフローチャートである。
　［第１の実施形態］
　本発明の第１の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係るプラズマ処置システム１の全体の構成の概略を示すブロック図である。このプラズマ処置システム１は、プラズマを発生させ、このプラズマによって処置対象である生体組織を蒸散させる処置に用いられる。プラズマを利用した生体組織の切除により、切除組織周辺への熱損傷は比較的小さくなり、低侵襲な処置が実現される。プラズマ処置システム１は、例えば耳鼻咽喉科分野において、扁桃組織の切除術などに用いられる。また、このプラズマ処置システム１は、例えば、整形外科分野において滑膜の切除、軟骨の切除などに用いても良いし、開腹手術全般において臓器（特に肝臓）の切除などに用いても良い。
　プラズマ処置システム１は、システムの各部を制御する制御部２と、生体組織に対してプラズマによる処置を施すプラズマ処置具７と、プラズマ処置具７に高周波（ＲＦ）電力を供給する電源部３とを備える。プラズマ処置具７は、ユーザがプラズマ処置具７を把持するための保持部７ａと、保持部７ａの先端側に設けられたプローブ７ｂとを有する。プローブ７ｂの先端には、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが設けられている。プラズマ処置具７は、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間に電流が流れることによって、プローブ７ｂの先端部にプラズマを発生させる。
　プラズマ処置システム１は、プローブ７ｂの先端にプラズマを発生させるために必要となる導電性溶液である生理食塩水をプローブ７ｂの先端に供給するために、生理食塩水が充填された生理食塩水バッグ４と、生理食塩水の供給と吸引を行う供給吸引部５と、吸引した生理食塩水を収容する排水タンク６とを備える。生理食塩水バッグ４は、一般的に市販されているものが利用され得る。プローブ７ｂへの生理食塩水の供給と、プローブ７ｂからの生理食塩水の吸引は、供給吸引部５によって調整されている。このように、供給吸引部５は、導電性溶液の供給量又は吸引量を調整する液量調整部として機能する。なお、導電性溶液としては、導電性があって人体に対して無害である生理食塩水が好ましいが、これに限らない。導電性があって人体に対して無害である液体であれば、他の溶液であってもよい。
　制御部２は、図示していないが、例えばＣＰＵやＡＳＩＣといった演算処理機能を有する処理部と、処理プログラム、予め設定された又は適宜設定した数値情報、制御テーブル等を格納するメモリとを有する。制御部２は、一般的な電子計算機が有する構成要素を有する。
　制御部２には、処置に関する情報や、設定された情報や、検出された情報等を表示する表示部９が接続されている。表示部９には、例えば液晶ディスプレイや、ＬＥＤランプを含むパイロットランプ等、一般的に用いられる種々の表示装置が用いられ得る。
　また、制御部２には、情報の入力及び設定を行うための入力パネルやキーボード等を含む入力部８が、有線又は無線によって接続されている。入力部８には、後述するプラズマ処置を実行するための複数のスイッチが含まれる。このスイッチには、例えば、生理食塩水の供給や吸引の設定を行うためのスイッチや、プローブ７ｂの先端にプラズマを発生させて処置を行うためのフットスイッチ等が含まれる。なお、これらスイッチは、独立して設けられても、電源部３や供給吸引部５や制御部２に設けられても、プラズマ処置具７の保持部７ａに設けられてもよい。例えば、上述のフットスイッチの機能は、保持部７ａに設けられたスイッチによって担われてもよい。
　電源部３は、例えば正弦波、三角波又はパルス波である高周波電流（電圧）を出力する高周波電源である。電源部３は、出力レベルを変化させることができる。出力レベルは大きく分けると２段階に分けられる。すなわち、処置を行うためにプローブ７ｂの先端にプラズマを発生させるような大電力を出力する高出力レベルと、後述するようにアクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを計測するための低出力レベルとがある。
　さらに、高出力レベルには、複数の出力レベルが用意されている。例えばこの複数の出力レベルは、予め設定されており、制御部２の制御により切り換えられる。例えば、処置対象や処置の種別ごとに適する出力レベルが用意されており、実施する処置に応じて出力レベルが選択される。また、処置対象部位の大きさや組織の状態等や、処置対象部位の周辺の組織の状態等や、処置の進捗状況等、処置中の様々な状況に応じて出力レベルは調整され得る。処置中の状況は、ユーザによって入力されてもよいし、例えば後述するアクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスに応じて制御部２によって判断されてもよいし、その他のセンサの出力に応じて制御部２によって判断されてもよい。また、例えば、アクティブ電極の形状の違いなどのプラズマ処置具の種別ごとに適する出力レベルが用意されており、プラズマ処置具の種別に応じて出力レベルが選択される。プラズマ処置具の種別に応じた出力レベルの選択は、ユーザがプラズマ処置具を選択することで行われてもよい。また、例えばプラズマ処置具にＩＤ情報を格納するメモリが搭載されており、電源部３にプラズマ処置具が連結された際に、制御部２によって処置具からＩＤ情報が読み取られ、適する出力レベルが設定されてもよい。このように、例えば高出力レベルは、プラズマが発生するような第１の電力に相当し、例えば低出力レベルは、第１の電力よりも低い、プラズマが発生しないような第２の電力に相当する。
　電源部３は、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間に印加されている電圧値と、その間に流れる電流値とを取得できる。電源部３は、取得した電圧値と電流値とを制御部２に出力する。制御部２は、この電圧値と電流値とに基づいて、後述するようにアクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを算出する。
　ここで、プラズマ処置具７について詳述する。プラズマ処置具７は、ディスポーザブルタイプの処置具である。前述のとおり、プラズマ処置具７は、保持部７ａとプローブ７ｂとを含む。保持部７ａの基端側には、電源部３から出力された高周波電力が供給される端子１２ａ，１２ｂが設けられている。これらの端子１２ａ，１２ｂには、着脱可能に電源ケーブル１３の一端が接続されている。電源ケーブル１３の他端は、電源部３に、コネクタ１４を介して着脱可能に接続されている。なお、この電源ケーブル１３は、外部に高周波の電磁波が漏れ出ないように、また電源ケーブル１３を流れる信号に外部からのノイズが重畳しないように、電磁シールドケーブル等であることが好ましい。例えばコネクタ１４と電源ケーブル１３とが一体となったユニットが処置ごとに用いられ、使用後はこのユニットごとに廃棄されるように構成され得る。なお、端子１２ａ，１２ｂにおいてプラズマ処置具７と電源ケーブル１３とが着脱可能であり、プラズマ処置具７が処置ごとに交換されるように構成されてもよい。また、保持部７ａとプローブ７ｂとが着脱可能であれば、プローブ７ｂのみが処置ごとに交換されるように構成されてもよい。
　プラズマ処置具７には、個別識別番号や処置具の特性を格納するメモリが設けられている。プラズマ処置具７が制御部２に接続されたとき、このメモリ内の情報が制御部２に読み出されるように構成されてもよい。プラズマ処置具の各種設定条件、例えば、適切な出力レベルや、生理食塩水の供給量及び吸引量等がプラズマ処置具７内のメモリに記録されており、制御部２は、この情報を読み出すように構成され得る。また、プラズマ処置具７内のメモリには機種情報のみが記録されており、制御部２に、複数の機種に対する適切な出力レベルや、生理食塩水の供給量及び吸引量等が記録されている構成でもよい。この場合、制御部２は、プラズマ処置具７内のメモリから機種情報を読み出し、制御部２内に記録された対応する出力レベルや、生理食塩水の供給量及び吸引量等の情報を読み出すように構成され得る。このようにプラズマ処置具７に情報が記録されていることで、ユーザが種々の条件を設定する必要がなくなる。
　図２及び図３に示すように、本実施形態のプローブ７ｂには、その先端面７ｃに、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが設けられている。図２に示す例では、アクティブ電極１５とリターン電極１６とはそれぞれ複数設けられているが、それぞれ少なくとも１つ設けられていればよい。アクティブ電極１５は、内部配線１７ａにより端子１２ａに接続されている。リターン電極１６は、内部配線１７ｂにより端子１２ｂに接続されている。内部配線１７ａ及び内部配線１７ｂは、保持部７ａ及びプローブ７ｂ内を挿通されている。アクティブ電極１５とリターン電極１６とは、内部配線１７ａ及び内部配線１７ｂと、電源ケーブル１３とを介して、電源部３に接続されている。
　また、プローブ７ｂの先端面７ｃの外周近傍には、円弧形状の開口を有する複数の噴出口１８が外周に沿って設けられている。また、先端面７ｃの中央部分には、円形の吸引口１９が設けられている。アクティブ電極１５は、吸引口１９をまたぐように設けられている。このように、噴出口１８と吸引口１９とは、アクティブ電極１５とリターン電極１６とを噴出口１８と吸引口１９とで挟むように配置されている。噴出口１８には、第１の内部チューブ２０の一端が繋がれており、第１の内部チューブ２０は、プローブ７ｂ内を通過している。吸引口１９には、第２の内部チューブ２１の一端が繋がれており、第２の内部チューブ２１は、プローブ７ｂ内を通過している。第１の内部チューブ２０は、第１の接続チューブ２２に繋がれている。第２の内部チューブ２１は、第２の接続チューブ２３に繋がれている。本実施形態では、内部チューブと接続チューブとを連結した例を示しているが、内部チューブと接続チューブとは、１本のチューブであってもよい。
　なお、リターン電極１６及び噴出口１８は、必ずしも先端面７ｃ上に配置される必要はなく、プローブ７ｂの円筒側面上に配置されてもよい。また、プローブ７ｂが挿通されるシースが設けられ、噴出口が、当該シースとプローブ７ｂとの間の隙間の先端に形成されてもよい。アクティブ電極１５とリターン電極１６とが生理食塩水に浸るように、噴出口１８は、リターン電極１６よりも外周側又は保持部７ａ側に配置されていればよい。アクティブ電極１５及び吸引口１９は、処置の行いやすさのため、プローブ７ｂの先端面７ｃに設けられていることが好ましいが、これに限らない。また、噴出口と吸引口とは逆に配置されてもよい。すなわち、噴出口がプローブ７ｂの先端面７ｃの中央に設けられ、吸引口が先端面７ｃの外周に沿って配置される等してもよい。
　ユーザがプラズマ処置具７を把持して使用する際に、プローブ７ｂの先端面７ｃが処置対象の生体組織の面と対向するように、先端面７ｃは、円筒形状をしたプローブ７ｂの中心軸に対して垂直ではなく、傾いている。これにより、操作性が向上する。
　プラズマ処置具７による処置が行われるとき、噴出口１８から供給され、吸引口１９から吸引される生理食塩水は、プローブ７ｂの先端部を灌流する。図３に示すように、プローブ７ｂの先端面が処置対象である生体組織４１の近傍に位置するとき、生理食塩水４２が一定の範囲に存在することになる。すなわち、プローブ７ｂの先端面及び先端近傍の外周面に、生理食塩水の灌流層が形成されることになる。その結果、アクティブ電極１５とリターン電極１６とは、生理食塩水に浸る。
　アクティブ電極１５とリターン電極１６とが生理食塩水４２に浸った状態で、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間には高周波電圧が印加される。このとき、アクティブ電極１５とリターン電極１６との近傍では、生理食塩水４２が蒸発し、蒸気層が生成される。アクティブ電極１５とリターン電極１６との間にさらに電圧が印加されると、この蒸気層においてブレイクダウンが起こり、プラズマが発生する。このプラズマが発生する領域をプラズマ発生領域Ｐと称することにする。プラズマ発生領域Ｐの近傍の生体組織４１は、発生したプラズマに起因して蒸散する。蒸散した生体組織や、破壊された生体組織の欠片は、生理食塩水と共に吸引口１９に吸引される。
　プラズマ発生領域Ｐの近傍における生体組織の蒸散の原理は不明な点が多いが、ＯＨラジカル等の作用によるとの考えがある。また、プラズマ発生領域Ｐにおいて生理食塩水４２の分子が分離して、高エネルギーを有する陽イオンが発生し、この陽イオンが生体組織に衝突することで、組織表面の分子が削り取られるという考えもある。
　ここで、プラズマが発生する条件は、アクティブ電極１５及びリターン電極１６の形状や電極間距離等の構造や、例えば生理食塩水といった利用される導電性溶液の特性や、導電性溶液の液量や温度等による。このためアクティブ電極１５とリターン電極１６との位置関係は固定されていることが好ましい。さらに、生理食塩水の量は、適切にプラズマを発生させるために重要な要素となる。
　なお、生理食塩水と接する電極の表面積はアクティブ電極１５の表面積よりもリターン電極１６の表面積の方が大きいことが重要である。アクティブ電極１５の表面積が小さいことで、アクティブ電極１５近傍において電流密度が高くなり、アクティブ電極１５近傍に所望のプラズマが発生する。アクティブ電極１５の表面積よりもリターン電極１６の表面積の方が大きいと、リターン電極１６がアクティブ電極１５の役割を担ってしまい、所望するような良好なプラズマが発生しない場合がある。
　以上のように、例えばアクティブ電極１５及びリターン電極１６は、第１の電極及び第２の電極として機能し、アクティブ電極１５とリターン電極１６とは、噴出口１８から吐出され吸引口１９から吸引される生理食塩水に浸るような位置に互いの位置関係が固定されるように設けられている。
　次に、供給吸引部５について詳述する。供給吸引部５は、前述のとおり、プラズマ処置具７に対して生理食塩水の供給と吸引とを行う。図１に示すように、供給吸引部５には、生理食塩水をプラズマ処置具７に供給する供給ライン３１と、生理食塩水をプラズマ処置具７から吸引する吸引ライン３２とが設けられている。
　供給ライン３１上には、上流側から供給ポンプ３３と、温度調整部３４と、供給量センサ３５とが設けられており、下流側の供給用チューブ３９は、プラズマ処置具７の第１の接続チューブ２２に接続されている。吸引ライン３２上には、上流側から、プラズマ処置具７の第２の接続チューブ２３に接続された吸引用チューブ４０と、吸引量センサ３８と、温度センサ３７と、吸引ポンプ３６とが設けられており、吸引ポンプ３６の下流側は、排水タンク６に接続されている。
　供給ポンプ３３は、制御部２の制御下で動作し、生理食塩水バッグ４から新たな生理食塩水を取り出し、プラズマ処置具７のプローブ７ｂへ供給する。供給ポンプ３３は、制御部２の制御下で、プローブ７ｂへ供給する生理食塩水の量を変化させることができる。この供給ポンプ３３は、特に限定されるものではないが、衛生面で管理維持が容易な構造であることが好ましく、ローラの回転により弾性チューブを押しつぶしながら内部の液体を輸送する、いわゆるローラーポンプが好ましい。
　温度調整部３４は、制御部２の制御下で、供給ポンプ３３から送り出された生理食塩水を冷却又は加温して、処置に適した所定範囲の温度に調整する。供給量センサ３５は、公知な流量センサであり、プローブ７ｂに供給される生理食塩水の供給量を検出する。供給量センサ３５は、検出した供給量を示す信号を制御部２に送信する。制御部２は、供給ポンプ３３の供給量の調整に、供給量センサ３５が検出した供給量を利用する。なお、供給量センサ３５が設けられず、フィードバック制御によらない供給量の調整が行われるように構成されてもよい。また、供給ポンプ３３、温度調整部３４、及び供給量センサ３５は、どのような順序で配置されてもよい。また、例えば供給量センサ３５は、その大きさ等によっては、プラズマ処置具７内に設けられてもよい。
　吸引ポンプ３６は、制御部２の制御下で動作し、プローブ７ｂから吸引した生理食塩水を排水タンク６へ送る。吸引ポンプ３６は、制御部２の制御下で、プローブ７ｂから吸引する生理食塩水の量を変化させることができる。吸引量センサ３８は、吸引ポンプ３６による生理食塩水の吸引量を検出する。吸引量センサ３８は、周知の流量センサでもよいし、排水タンク６に設けられた液面センサや水位センサでもよい。吸引量センサ３８は、検出した吸引量を示す信号を制御部２に送信する。温度センサ３７は、吸引した生理食塩水の温度を検出し、検出結果を制御部２に送信する。制御部２は、吸引ポンプ３６の吸引量の調整に、吸引量センサ３８が検出した吸引量を利用する。なお、吸引量センサ３８が設けられず、フィードバック制御によらない吸引量の調整が行われるように構成されてもよい。また、吸引ポンプ３６、温度センサ３７、及び吸引量センサ３８は、どのような順序で配置されてもよい。また、温度センサ３７や吸引量センサ３８は、その大きさなどによってプラズマ処置具７に設けられてもよい。
　次に、制御部２について詳述する。制御部２は、インピーダンス取得部２０１と、電力制御部２０２と、送液量制御部２０３とを含む。インピーダンス取得部２０１は、電源部３から取得したアクティブ電極１５とリターン電極１６との間に印加されている電圧と、その間を流れる電流とに基づいて、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを算出する。
　電力制御部２０２は、インピーダンス取得部２０１によって算出されたインピーダンスに基づいて、電源部３によるプラズマ処置具７への電力供給を制御する。送液量制御部２０３は、インピーダンス取得部２０１によって算出されたインピーダンスに基づいて、供給ポンプ３３及び吸引ポンプ３６の動作を制御する。すなわち、送液量制御部２０３は、供給ポンプ３３に供給量を変更させたり、吸引ポンプ３６に吸引量を変更させたりする。このように、例えば電力制御部２０２は、第１の電極と第２の電極との間に電力を供給する電源部を制御する第２の制御部として機能する。例えば送液量制御部２０３は、インピーダンスに基づいて、導電性溶液の供給量又は吸引量を増減させるように液量調整部を制御する第１の制御部として機能する。なお、制御部２は、電源部３と一体として設けられてもよい。
　プラズマ処置システム１の動作について、図４に示すフローチャートを参照して説明する。なお、図４に示すフローチャートに表されている処理は、例えば制御部２に含まれる記憶部に記憶されているプログラムに従って、制御部２で行われる演算処理によって実現される。このプログラムは、制御部２にあらかじめ記録されていてもよいし、各種媒体に記録されており、制御部２はこの媒体から当該プログラムを読み取ってもよいし、オンラインにより提供され、制御部２は、通信によって当該プログラムを取得してもよい。
　ユーザが入力部８から処置開始の指示を入力したとき、図４に示す処理が開始する。ステップＳ１０１において、制御部２は、プラズマ処置具７の出力レベルを低出力に設定する。ここで、低出力とは、処置を行うためにプラズマ処置具７でプラズマを発生させるような高出力ではなく、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを計測できる程度の低出力であることを意味する。制御部２は、設定した低出力値に基づいて電源部３を制御し、電源部３に低出力でのプラズマ処置具７への電力の供給を行わせる。ここで電力は電圧値によって制御されてもよいし、電流値によって制御されてもよい。また、制御部２は、供給ポンプ３３及び吸引ポンプ３６にこれらポンプの駆動を開始させる。供給ポンプ３３の供給量及び吸引ポンプ３６の吸引量は、例えば所定の初期値とする。この初期値は、ユーザによって設定されてもよいし、制御部２やプラズマ処置具７に予め記録された値に設定されてもよい。
　ステップＳ１０２において、制御部２は、電源部３からプラズマ処置具７に供給されている電圧と電流とを取得し、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを算出する。本実施形態では、インピーダンスとして、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを用いる例を挙げるが、例えば端子１２ａと端子１２ｂの間のインピーダンスや、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間を含む電源部３内の２か所の間のインピーダンス等、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスが反映される任意の部分のインピーダンスが、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間に係るインピーダンスとして用いられてもよい。
　ステップＳ１０３において、制御部２は、算出したインピーダンスが所定の第１の閾値Ｚ１よりも高いか否かを判定する。プラズマを発生させるために必要な程度にプラズマ処置具７のプローブ７ｂの先端部が生理食塩水に浸っていないとき、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスは非常に高くなる。また、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが生理食塩水に浸っている場合でも、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間に生理食塩水が不連続となっている部分が存在する場合は、インピーダンスは非常に高くなる。第１の閾値Ｚ１は、このようなプローブ７ｂの先端部が生理食塩水に浸っていないとき等に計測されるインピーダンスとして設定される。
　ステップＳ１０３においてインピーダンスが第１の閾値Ｚ１よりも高いと判定されたとき、処理はステップＳ１０４に進む。ステップＳ１０４において、制御部２は、プラズマ処置具７の出力を低出力に設定し、電源部３に低出力でのプローブ７ｂへの電力の供給を行わせる。ステップＳ１０５において、制御部２は、生理食塩水の供給量を増やすように供給ポンプ３３を制御する。その結果、プローブ７ｂの先端部に存在する生理食塩水の量は徐々に増加することになる。ステップＳ１０５の後、処理はステップＳ１０９に進む。
　ステップＳ１０３においてインピーダンスが第１の閾値Ｚ１よりも高くないと判定されたとき、処理はステップＳ１０６に進む。インピーダンスが第１の閾値Ｚ１よりも高くないということは、プラズマを発生させるために必要な程度にプローブ７ｂの先端部が生理食塩水に浸っていることを意味する。
　ステップＳ１０６において、制御部２は、プラズマ処置具７の出力レベルを高出力に設定する。ここで、高出力とは、プローブ７ｂの先端にプラズマを発生させるような出力である。前述のとおり、高出力の出力レベルには、プラズマ処置具７の種類や処置の方法に応じて複数段階の出力レベルが含まれ得る。しかしながらここではそれらを区別せずに高出力と称することにする。制御部２は、設定した高出力値に基づいて電源部３を制御し、電源部３に高出力でのプラズマ処置具７への電力の供給を行わせる。その結果、生理食塩水のプローブ７ｂの先端が浸っている領域でプラズマが発生する。
　このプラズマによって処置が行われる。電源部３の高出力レベルでの出力は、制御部２による設定が高出力のときに常に出力されるように構成されてもよいし、制御部２による設定が高出力のとき、かつ入力部８のフットスイッチが踏まれているときに出力されるように構成されてもよい。なお、このようなプラズマを発生させるような大きな電力が供給されている状態でも、電源部３で取得される電圧値及び電流値に基づいて、インピーダンスは算出され得る。
　ステップＳ１０７において、制御部２は、ステップＳ１０６の中で算出されたインピーダンスが所定の第２の閾値Ｚ２よりも低いか否かを判定する。例えばプローブ７ｂの先端部に存在する生理食塩水が適量よりも多いと、先端部においてプラズマが効率的に発生しない。このとき、計測されるインピーダンスはプラズマ発生時よりも低くなる。不純物が混じっていない純粋な生理食塩水にアクティブ電極１５とリターン電極１６とが浸っているときに計測されるインピーダンスを第１のインピーダンスとする。また、プラズマが発生しているときに計測されるインピーダンスを第２のインピーダンスとする。第２のインピーダンスは、第１のインピーダンスよりも高い。また、プローブ７ｂの先端部に存在する生理食塩水が過多となる等のためにプラズマの発生が途中で止まったとき、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが浸っている生理食塩水には、組織由来等の不純物が混入している。このときに計測されるインピーダンスを第３のインピーダンスとする。第３のインピーダンスは、第１のインピーダンスよりも高く、第２のインピーダンスよりも低い。以上のことから、第２の閾値Ｚ２は、第３のインピーダンスよりも高く、第２のインピーダンスよりも低い値に設定され得る。
　ステップＳ１０７の判定においてインピーダンスが第２の閾値Ｚ２よりも低くないと判定されたとき、処理はステップＳ１０９に進む。一方、インピーダンスが第２の閾値Ｚ２よりも低いと判定されたとき、処理はステップＳ１０８に進む。ステップＳ１０８において、制御部２は、生理食塩水の供給量を減らすように供給ポンプ３３を制御する。その結果、プローブ７ｂの先端部に存在する生理食塩水の量は徐々に減少する。ステップＳ１０８の後、処理はステップＳ１０９に進む。
　ステップＳ１０９において、制御部２は、ユーザによって処置を終了させる指示が入力されたか否かを判定する。終了の指示が入力されていないとき、処理はステップＳ１０２に戻り、上記の処理を繰り返す。一方、終了の指示が入力されたとき、処理はステップＳ１１０に進む。ステップＳ１１０において、制御部２は、電源部３にプローブ７ｂへの電力の供給を停止させる。また、制御部２は、供給ポンプ３３に生理食塩水の供給を停止させ、続いて吸引ポンプ３６に吸引を停止させる。その後処理は終了する。
　以上の処理を行う本実施形態のプラズマ処置システム１によれば、プラズマを発生させるにはプローブ７ｂの先端部に存在する生理食塩水が少ないとき、供給ポンプ３３による生理食塩水の供給量が増やされ、プラズマを発生させるにはプローブ７ｂの先端部に存在する生理食塩水が多すぎるとき、供給ポンプ３３による生理食塩水の供給量が減らされる。その結果、プローブ７ｂの先端部には、プラズマの発生に適する量の生理食塩水が常に維持されることになる。
　また、例えば扁桃腺に対する処置では、多量に生理食塩水が存在すると、この生理食塩水が気管支等に流入し、合併症が引き起こされる恐れがある。本実施形態によるプラズマ処置システム１は、このような合併症のリスクを低減させることができる。このように、本実施形態に係るプラズマ処置システム１は、特に耳鼻咽喉科領域における処置のようにプローブ７ｂの先端部においてのみ生理食塩水を灌流させてプラズマ処置を行う分野で効果を奏する。
　また、プローブ７ｂの先端部においてプラズマが発生し得る程度にプローブ７ｂの先端部に生理食塩水が存在するときにのみ、アクティブ電極１５及びリターン電極１６に大きな電力が供給される。その結果、生理食塩水の量が、プラズマが発生しない程度に少ないときにアクティブ電極１５とリターン電極１６との間に高電圧が印加されることがないので、より安全性が向上する。
　前述の例では、出力レベルが高出力となり、大きな電力がプローブ７ｂに供給されているときには、そのときの電圧値及び電流値に基づいて、インピーダンスが算出される場合を示した。しかしながらこれに限らない。例えば、プラズマを発生させるために電源部３が大きな電力を出力しているときに、インピーダンスを取得するために例えば数ミリ秒の短い時間だけ出力レベルを低出力とし、このとき取得される電圧値及び電流値に基づいてインピーダンスが算出されるように構成されてもよい。このようにインピーダンスの算出を常に低出力の状態で行うことで、インピーダンスの算出制度は向上する。
　また、前述の例では、プローブ７ｂの先端部の生理食塩水の量を、供給ポンプ３３による生理食塩水の供給量によって制御する場合を示したがこれに限らない。プローブ７ｂの先端部の生理食塩水の量を調整するために、例えば、吸引ポンプ３６による生理食塩水の吸引量が制御されてもよい。すなわち、例えばステップＳ１０５においては、生理食塩水の供給量を増加させる代わりに、生理食塩水の吸引量を減少させてもよい。同様に、ステップＳ１０８においては、生理食塩水の供給量を減少させる代わりに、生理食塩水の吸引量を増加させてもよい。また、生理食塩水の供給量と吸引量との両方が制御されてもよい。
　プローブ７ｂによって処置が行われるとき、処置によって発生した生体組織の欠片は、プローブ７ｂの先端部を灌流する生理食塩水中に溶解したり分散したりする。その結果、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスは、生体組織の欠片の量によって変化する。このため、当該インピーダンスの計測によれば、処置の様子をモニタリングすることも可能である。そこで、プラズマ処置システム１は、適切な処置を行うために、当該インピーダンスに基づいて、電源部３の出力を調整するように構成されてもよい。このように、電力制御部２０２は、当該インピーダンスに基づいて、導電性溶液である生理食塩水に含まれる生体組織に由来する物質の量を判定し、電源部３の出力を制御してもよい。
　本実施形態では、処置の開始及び終了はユーザが入力するものとして説明したがこれに限らない。例えばプローブ７ｂの先端にセンサが設けられ、このセンサによってプローブ７ｂの先端部が治療対象部位に押し当てられたときに処理が開始し、所定時間経過したときに処理が終了するように構成されてもよい。
　本実施形態のプラズマ処置具７には、噴出口１８と吸引口１９とが設けられ、生理食塩水の供給及び吸引がプローブ７ｂによってなされる構成としているがこれに限らない。例えば、プローブ７ｂには、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが設けられ、生理食塩水の供給と吸引とは、プローブ７ｂとは別の供給プローブと吸引プローブとによって行われてもよい。ただし、上記実施形態のようにプラズマ処置具７に噴出口１８と吸引口１９とが設けられることで、処置対象へのアクセスが容易となり処置が行われやすくなる。このため、プラズマ処置具７に噴出口１８と吸引口１９とが設けられることが好ましい。
　また、本実施形態では、生理食塩水の供給及び供給量の調整には供給ポンプ３３が用いられているがこれに限らない。例えば生理食塩水バッグ４を高い位置に配置し、重力によってプローブ７ｂへの生理食塩水の供給を行うようにしてもよい。このとき、供給ラインにバルブが設けられ、供給量が調整されるようにしてもよい。
　また、本実施形態では、生理食塩水の吸引及び吸引量の調整には吸引ポンプ３６が用いられているがこれに限らない。例えば施術室に設けられた壁吸引装置によってプローブ７ｂからの生理食塩水の吸引を行うようにしてもよい。このとき、吸引ラインにバルブが設けられ、吸引量が調整されるようにしてもよい。このように、プラズマ処置システム１には、導電性溶液である例えば生理食塩水の供給量又は吸引量を調整する液量調整部が備わっていれば、液量調整部はどのような構成でもよい。
　図４に示した処理は一例であり、例えば処理の順序は適宜変更され得るし、処理の一部が削除されてもよい。例えばインピーダンスに応じて送液量の調整は行われるが出力レベルの変更は行われないとしてもよいし、出力レベルの変更のみが行われてもよい。
　本実施形態に係るプラズマ処置システム１は、処置対象である生体組織を蒸散させる処置のみを行えるように説明したが、これに限らない。アクティブ電極１５及びリターン電極１６への供給電力を調整することによって、処置対象である生体組織を凝固させることができるようにプラズマ処置システム１は構成され得る。例えば生体組織を凝固させるときには、蒸散させる場合よりも出力は低く設定され得る。蒸散モードと凝固モードとは適宜に切り替え可能なようにプラズマ処置システム１は構成され得る。これらの切り替えはユーザによって行われてもよいし、処置の手順等に応じて予め設定されていてもよい。
　［第２の実施形態］
　本発明の第２の実施形態について説明する。ここでは、第１の実施形態との相違点について説明し、同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態に係る制御部２は、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスに基づいて、プラズマ処置具７のプローブ７ｂの先端部の種々の状況を判断する。
　プローブ７ｂの先端部の状況と、そのときに計測されるアクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスとの関係の一例の概略を図５に示す。この図に示すように、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間に純粋な生理食塩水がある状態では、インピーダンスは最も低くなる。この生理食塩水に、プラズマ処置によって発生した生体組織由来の物質が混入すると、純粋な生理食塩水よりもインピーダンスが高くなる。また、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが生体組織と接触している状態では、電極が生理食塩水に浸っている状態よりもインピーダンスが高くなる。また、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間にプラズマが発生している状態では、アクティブ電極１５とリターン電極１６とが生体組織と接触している状態よりもさらにインピーダンスが高くなる。また、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間に生理食塩水がなくプラズマが発生していない状態では、プラズマが発生している状態よりもさらにインピーダンスが高くなる。本実施形態に係るプラズマ処置システム１は、インピーダンスに基づいて、これらの状態を判定し、その状態に応じて適した動作を行う。
　本実施形態において制御部２で行われる処理を図５及び図６に示すフローチャートを参照して説明する。ステップＳ２０１において、制御部２は、出力レベルを低出力に設定し、供給ポンプ３３及び吸引ポンプ３６の駆動を開始させる。ステップＳ２０２において、制御部２は、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを算出する。
　ステップＳ２０３において、制御部２は、これまでの一連の動作の中で高出力レベルの出力を行ったか否かを判定する。これは、既に高出力レベルの出力を行っている場合、プラズマ処置によって生理食塩水に生体組織由来の物質が混入している可能性があるので、このような可能性がある場合とない場合とで後の処理に用いる閾値を変更するためである。高出力レベルの出力を行ったと判定されたとき、処理はステップＳ２０６に進む。一方、高出力レベルの出力を行っていないと判定されたとき、処理はステップＳ２０４に進む。
　ステップＳ２０４において、制御部２は、算出されたインピーダンスが第３の閾値Ｚ３よりも高いか否かを判定する。ここで第３の閾値は、図５に示すように、プローブ７ｂが純粋な生理食塩水に浸っているときのインピーダンスよりも高く、生体組織由来の物質が混入している生理食塩水に浸っているときのインピーダンスよりも低い値である。インピーダンスが第３の閾値Ｚ３よりも高いと判定されたとき、処理はステップＳ２０５に進む。このとき、プローブ７ｂの先端部は、生理食塩水に浸っていないと考えられる。そこで、ステップＳ２０５において、制御部２は、生理食塩水の供給量を増加させる。その後、処理はステップＳ２０９に進む。一方、ステップＳ２０４の判定において、インピーダンスが第３の閾値Ｚ３よりも高くないと判定されたとき、処理はステップＳ２０７に進む。
　ステップＳ２０６において、制御部２は、算出されたインピーダンスが第４の閾値Ｚ４よりも高いか否かを判定する。ここで第４の閾値は、図５に示すように、プローブ７ｂが生体組織由来の物質が混入している生理食塩水に浸っているときのインピーダンスよりも高く、プローブ７ｂと生体組織とが接触しているときのインピーダンスよりも低い値である。インピーダンスが第４の閾値Ｚ４よりも高くないと判定されたとき、処理はステップＳ２０７に進む。このとき、プローブ７ｂの先端部は、生理食塩水に浸っていると考えられる。ステップＳ２０７において、制御部２は、後述する高出力レベル制御を行う。その後、処理はステップＳ２０９に進む。
　ステップＳ２０６において、インピーダンスが第４の閾値Ｚ４よりも高いと判定されたとき、処理はステップＳ２０８に進む。このとき、プローブ７ｂの先端部は、生理食塩水に浸っていないと考えられる。ステップＳ２０５において、制御部２は、生理食塩水の供給量を増加させる。その後、処理はステップＳ２０９に進む。
　ステップＳ２０９において、制御部２は、ユーザによって処置を終了させる指示が入力されたか否かを判定する。終了の指示が入力されていないとき、処理はステップＳ２０２に戻り、上記の処理を繰り返す。一方、終了の指示が入力されたとき、処理はステップＳ２１０に進む。ステップＳ２１０において、制御部２は、電源部３にプローブ７ｂへの電力の供給を停止させる。また、制御部２は、供給ポンプ３３に生理食塩水の供給を停止させ、続いて吸引ポンプ３６に吸引を停止させる。その後処理は終了する。
　次に、ステップＳ２０７において行われる高出力レベル制御について図７に示すフローチャートを参照して説明する。高出力レベル制御は、出力レベルを高出力レベルとしているときに行われる制御である。ステップＳ３０１において、制御部２は、出力レベルを高出力に設定する。その後、処理はステップＳ３０２に進む。ステップＳ３０２において、制御部２は、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間のインピーダンスを算出する。
　ステップＳ３０３において、制御部２は、インピーダンスが第５の閾値Ｚ５よりも高いか否かを判定する。ここで、第５の閾値Ｚ５は、図５に示すように、プローブ７ｂの先端部に生理食塩水がない状態で計測されるインピーダンスよりもやや低い値である。すなわち、インピーダンスが第５の閾値Ｚ５よりも高いとき、プローブ７ｂの先端に生理食塩水がない状態であると考えられる。インピーダンスが第５の閾値Ｚ５よりも高いと判定されたとき、処理はステップＳ３０４に進む。ステップＳ３０４において、制御部２は、出力レベルを低出力に設定する。その後、処理はステップＳ２０７に戻る。
　ステップＳ３０３の判定において、インピーダンスが第５の閾値Ｚ５よりも高くないと判定されたとき、処理はステップＳ３０５に進む。ステップＳ３０５において、制御部２は、インピーダンスが第６の閾値Ｚ６よりも高いか否かを判定する。ここで、第６の閾値Ｚ６は、図５に示すように、プローブ７ｂの先端部でプラズマが発生している状態で計測されるインピーダンスよりもやや低い値である。すなわち、インピーダンスが第６の閾値Ｚ６よりも高いとき、プローブ７ｂの先端でプラズマが発生している状態であると考えられる。インピーダンスが第６の閾値Ｚ６よりも高いと判定されたとき、処理はステップＳ３０９に進む。
　ステップＳ３０５の判定において、インピーダンスが第６の閾値Ｚ６よりも高くないと判定されたとき、処理はステップＳ３０６に進む。ステップＳ３０６において、制御部２は、インピーダンスが第７の閾値Ｚ７よりも高いか否かを判定する。ここで、第７の閾値Ｚ７は、図５に示すように、プローブ７ｂの先端部が処置対象である生体組織と接触している状態で計測されるインピーダンスよりもやや低い値である。すなわち、インピーダンスが第７の閾値Ｚ７よりも高いとき、プローブ７ｂの先端は、生体組織と接触している状態であると考えられる。インピーダンスが第７の閾値Ｚ７よりも高いと判定されたとき、処理はステップＳ３０７に進む。プローブ７ｂの先端が生体組織と接触している状態でアクティブ電極１５とリターン電極１６との間に高い電力が供給されていると、生体組織が熱損傷を起こす恐れがある。そこで、ステップＳ３０７において、制御部２は、アクティブ電極１５とリターン電極１６との間への電力供給を停止させる。その後、処理はステップＳ２０７に戻る。
　ステップＳ３０６において、インピーダンスが第７の閾値Ｚ７よりも高くないと判定されたとき、処理はステップＳ３０８に進む。このとき、プローブ７ｂの先端部の生理食塩水が過多となっており、プラズマが効率よく発生していないと考えられる。そこで、ステップＳ３０８において、制御部２は、生理食塩水の供給量を低下させる。その後、処理はステップＳ３０９に進む。
　ステップＳ３０９において、制御部２は、ユーザによって処置を終了させる指示が入力されたか否かを判定する。終了の指示が入力されていないとき、処理はステップＳ３０２に戻り、上記の処理を繰り返す。一方、終了の指示が入力されたとき、処理はステップＳ２０７に戻る。
　以上のように動作することで、本実施形態に係るプラズマ処置システム１は、インピーダンスに基づいて、プローブ７ｂの先端部の状態を判定し、その状態に応じて適した動作を行うことができる。本実施形態では、プローブ７ｂの先端と処置対象である生体組織とが接触しているとき、アクティブ電極１５及びリターン電極１６への電力供給を停止する場合を例として挙げたが、これに限らない。プローブ７ｂの先端と処置対象である生体組織とが接触しているとき、インピーダンスの測定は可能となるように、供給電力を低出力レベルとしてもよい。また、生理食塩水に含まれる生体組織の量や組成に応じて供給電力を調整してもよいし、生理食塩水の供給量を変化させてもよい。
　本実施形態によっても、第１の実施形態の場合と同様の効果が得られる。また、本実施形態に係るプラズマ処置システムにおいても、第１の実施形態の場合と同様の変形がなされ得る。
　なお、本発明の上記の実施形態には、以下の発明も含まれる。
［１］　導電性溶液を吐出するように構成された噴出口と、前記導電性溶液を吸引するように構成された吸引口と、前記噴出口から吐出され前記吸引口から吸引される前記導電性溶液に浸るような位置に互いの位置関係が固定されるように設けられた第１の電極及び第２の電極とを備え、前記第１の電極と前記第２の電極との間に電圧が印加されることで発生するプラズマによって生体組織を処置するためのプラズマ処置具と、前記導電性溶液の供給量又は吸引量を調整する液量調整部とともに用いられるプラズマ処置制御ユニットであって、
　前記第１の電極と前記第２の電極との間に係るインピーダンスを取得するインピーダンス取得部と、
　前記インピーダンスに基づいて、前記液量調整部に前記導電性溶液の供給量又は吸引量を増減させる送液量制御部と
　を具備するプラズマ処置制御ユニット。

Claims (8)

  1. 　導電性溶液を吐出するように構成された噴出口と、
    　前記導電性溶液を吸引するように構成された吸引口と、
    　前記噴出口から吐出され前記吸引口から吸引される前記導電性溶液に浸るような位置に互いの位置関係が固定されるように設けられ、電圧が印加されることで生体組織を処置するためのプラズマを発生するように構成された第１の電極及び第２の電極と、
    　前記第１の電極と前記第２の電極との間に係るインピーダンスを取得するインピーダンス取得部と、
    　前記導電性溶液の供給量又は吸引量を調整する液量調整部と、
    　前記インピーダンスに基づいて、前記導電性溶液の供給量又は吸引量を増減させるように前記液量調整部を制御する第１の制御部と
    　を具備するプラズマ処置システム。
  2. 　前記第１の制御部は、前記インピーダンスと所定の閾値とを比較して前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記導電性溶液が満たされているか否かを判定する、請求項１に記載のプラズマ処置システム。
  3. 　前記第１の制御部は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記導電性溶液が満たされていないと判定したとき、前記導電性溶液の供給量を増加させること、及び前記導電性溶液の吸引量を減少させることのうち少なくとも何れか一方を前記液量調整部に行わせる、請求項２に記載のプラズマ処置システム。
  4. 　前記第１の制御部は、前記インピーダンスと所定の閾値とを比較して前記第１の電極と前記第２の電極との間にプラズマが発生しているか否かを判定する、請求項１に記載のプラズマ処置システム。
  5. 　前記第１の制御部は、プラズマが発生していないと判定したとき、前記導電性溶液の供給量を減少させること、及び前記導電性溶液の吸引量を増加させることのうち少なくとも何れか一方を前記液量調整部に行わせる、請求項４に記載のプラズマ処置システム。
  6. 　前記第１の電極と前記第２の電極との間に電力を供給する電源部を制御する第２の制御部をさらに具備し、
    　前記第２の制御部は、
    　　前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記導電性溶液が満たされていると判定されたとき、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、前記プラズマが発生するような第１の電力を前記電源部に供給させ、
    　　前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記導電性溶液が満たされていないと判定されたとき、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、第１の電力よりも低い、前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記プラズマが発生しないような第２の電力を前記電源部に供給させる、
    　請求項２に記載のプラズマ処置システム。
  7. 　前記第１の電極と前記第２の電極との間に電力を供給する電源部を制御する第２の制御部をさらに具備し、
    　前記第２の制御部は、
    　　前記プラズマを発生させるときは前記プラズマが発生するような第１の電力を前記電源部に供給させ、
    　　前記インピーダンスを取得するときは、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、第１の電力よりも低い、前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記プラズマが発生しないような第２の電力を前記電源部に供給させる、
    　請求項１に記載のプラズマ処置システム。
  8. 　前記第１の電極と前記第２の電極との間に電力を供給する電源部を制御する第２の制御部をさらに具備し、
    　前記第２の制御部は、前記インピーダンスに基づいて、前記電源部の出力を制御する、
    　請求項１に記載のプラズマ処置システム。
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