WO2015124489A1 - Glasware, glasware mit leuchtstoff-partikeln, vorrichtung zum herstellen einer glasware, verfahren zum herstellen einer glasware und verfahren zum herstellen einer glasware mit leuchtstoff-partikeln - Google Patents

Glasware, glasware mit leuchtstoff-partikeln, vorrichtung zum herstellen einer glasware, verfahren zum herstellen einer glasware und verfahren zum herstellen einer glasware mit leuchtstoff-partikeln Download PDF

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glass
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glass matrix
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Thomas Wehlus
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Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • a glassware, a glassware with phosphor particles, an apparatus for making a glassware, a method for producing a glassware, and a method for producing a glassware with phosphor particles are provided.
  • organic light emitting diodes organic iight
  • OLED emitting diode
  • an organic optoelectronic component for example an OLED
  • an organic functional layer system for example an organic light source
  • Layer system may include one or more emitter layer (s) in which electromagnetic radiation is generated, one or more charge carrier pair generation layer structure each of two or more
  • Hole transport layer (s) ("hole transport layer” HTL), and one or more hole block layers, also referred to as electron transport layer (s) ("electron transport layer” - ETL) to direct the flow of current.
  • HTL Hole transport layer
  • ETL electron transport layer
  • a current flow between the electrodes leads to the generation of electromagnetic radiation in the organic
  • the electromagnetic radiation can be decoupled by total reflection within the device usually only ⁇ 20% without technical aids from the OLED.
  • the internal total reflection in the OLED can be reduced by using scattering layers, for example with a scattering layer between the first electrode and the carrier. This allows a higher proportion of the generated electromagnetic radiation,
  • light be decoupled.
  • an organic matrix is used (whereby this litter layer is also referred to as organic litter layer), in the scattering centers with a different refractive index than the organic
  • organic scattering layers can age or degrade upon contact with water and / or oxygen, thus reducing the stability of an OLED.
  • Another disadvantage of organic litter layers is their low refractive index (n ⁇ 1.475).
  • As the organic functional layer structure usually a
  • the carrier is conventionally cleaned prior to forming the scattering layer and the stray-layered carrier prior to forming the first electrode, whereby the
  • organic litter layers may be easily susceptible to mechanical abrasion due to the size of the substrate with the litter layer.
  • the organic litter layer can furthermore be damaged in subsequent coating and / or cleaning processes,
  • litter layers of high refractive glass solder with embedded scattering centers are known. The number density of the scattering centers decreases in these litter layers from the inside to the surface to the outside or is homogeneous in the
  • This layer cross-section results from the conventional method for producing the layers, which are formed from a suspension or a paste of scattering centers and matrix material, for example glass solder.
  • the roughness of the litter layer or the shape of the scattering centers can be used to form spikes on the
  • Scattering particles as scattering centers can at the
  • Spikes are to be understood as high local surface roughening
  • Design of an OLED spikes can lead to a short circuit of the first electrode with the second electrode.
  • local distortion or de-wetting of the layers may occur on or above the scattering layer, for example the first electrode or the
  • a low surface roughness or a defined waviness are conventionally set by means of an additionally applied to the litter layer glass layer. This also reduces the risk that not completely enclosed by glass scattering particles at the
  • Surface of the litter layer can be arranged.
  • a glassware a glassware with phosphor particles
  • an apparatus for producing a glassware a method for producing a glassware
  • a method for producing a glassware with phosphor particles with which it
  • the coupling-out structure or
  • a glassware In various embodiments, a glassware
  • the glassware may comprise a glass matrix having a surface, a first type of particles, and at least a second type of particles.
  • the particles of the second type may have a higher refractive index than the particles
  • Particles of the first kind wherein the particles of the first type are completely surrounded by the glass matrix, so that the surface of the glass matrix is free of particles of the first kind, and the particles of the second kind over and / or between the particles of the first kind at least partially in the
  • Glass matrix are arranged on the surface of the glass matrix for increasing the refractive index of the glassware, for example in the region of the surface or on the surface of the glass
  • the glassware can be any suitable material.
  • the glassware can be any suitable material.
  • the glassware can be any suitable material.
  • the glassware may be formed at least translucent in the visible wavelength range of electromagnetic radiation, for example transparent, for example, colored.
  • the glassware may be formed as a flat glass, for example as a carrier, a cover, a window, a pane or a planar optical waveguide, for example as a carrier and / or
  • the glassware may be formed as a hollow glass, for example as a glass tube or glass bulb; for example, as a glass bulb one
  • Incandescent or glass tube of a fluorescent lamp Incandescent or glass tube of a fluorescent lamp.
  • the glassware may be formed as a glass fiber, for example as a glass wool or optical waveguide.
  • the glass matrix may be or have a metallic glass;
  • a metallic alloy in eutectic for example, a metallic alloy in eutectic.
  • the metallic glass can also be on a metal of the same material
  • composition be formed.
  • the particles may further comprise a crystallization of the metal or a
  • the surface may have an average roughness (RMS).
  • the surface may lie exposed part of the particles of the second kind and the
  • the first type is a first type
  • Particles and / or the second type of particles each having a refractive index in a range of about 1, 5 to about 4.0 or be formed, for example in a range of about 1.7 to about 3.9;
  • the first type for example, in a range of about 2.3 to about 3.1.
  • Particles have a mean diameter in a range of about 100 nm to about 50 ⁇ , for example in a range of about hr 250 nm to about 350 nm.
  • particles of the first kind as
  • Phosphor particles are formed, a middle
  • particles of the first kind which are formed as scattering centers for visible light, may have an average diameter in a range of about 230 nm to about 350 nm.
  • the second type is the second type
  • Particles have a mean diameter in a range of about 10 nm to about 1 ⁇ , for example in a range of about 10 nm to about 700 nm, for example in a range of about 10 nm to about 500 nm, for example i a range of about 10 nm to about 350 nm, for example in a range from about 10 nra to about 250 nm, for example, in a range of about 10 nm to about 100 nm, for example, in a range of about 10 nm to about 30 nm.
  • Refractive index of the glass matrix with respect to at least one wavelength of electromagnetic radiation is greater than 0.05; for example, in a range of about 0.05 to about 2.5.
  • the particles of the first type and / or the second type may be amorphous or crystalline and / or nanoparticles.
  • the second particles can have a smaller average diameter than the particles of the first type.
  • the roughness of the surface can be reduced.
  • the second type of particle can be designed such that the particles of the second Ar fill the cavity between the particles of the first type, for example in a kind of spherical packing of the particles of the first type.
  • the ratio of the mean diameter of the second type of particles to the average diameter of the first type of particles can be such
  • the packing density of particles of the first type and / or second type in the glass matrix is in a range of 50% to 100%
  • the first type is a first type
  • Particles and / or the second type of particles each have one or more of the following optically functional properties with respect to the glass matrix and an electromagnetic
  • Radiation absorbing for example in the ultraviolet and / or infrared wavelength range of
  • electromagnetic radiation for example as UV or IR protection; Radiation absorbing in the visible
  • Wavelength range of the electromagnetic radiation for example as an optical filter and / or
  • wavelength converting for example as
  • high index particles may have a refractive index with respect to the electromagnetic
  • the scattering particles can, for example, with respect to the wavelength of the
  • the second type of particles with respect to the first type of particles may have the same material and / or a same average diameter.
  • the second type of particle may differ in at least one optically functional property from the first type of particle, for example in the
  • Particles and / or the second type of particles comprise or formed from a material such that it in the
  • Glass matrix has an electrochromic, electrootropic, thermochromic and / or photochromic property.
  • the glassware may vary the fidelity, the opaqueness, the translucency, the transmission, the absorption, and / or the reflectivity for one or more wavelengths, wavelength range and / or polarizations on the glassware incident electromagnetic radiation
  • electrotropic, thermochromic and / or photochromic properties should be designed such that these particles essentially retain their shape at the temperature at which they are distributed in the glass matrix and / or are still present as particles in the glassware, that is to say be resistant in the glass matrix as a particle.
  • they can be jacketed.
  • the glassware may, for example, change from transparent to translucent when changing an external electric field or current field through the glassware.
  • An electrochromic property can be present, for example, in the case of particles of the first type and / or of the second type which have, for example, a transition metal oxide, for example tungsten oxide ⁇ WO 3), or are formed therefrom.
  • the glassware as flat glass can do this
  • thermochromic property the glassware may be self-tinting, for example, when changing the temperature of the glassware Change reflectivity and / or transparency as a function of the temperature.
  • a thermochromic property can be
  • particles of the first type and / or the second type for example, zinc oxide, indium (III) oxide, lead (II) oxide, nickel sulfate, titanium dioxide, for example as rutile; Chromium (III) oxide: aluminim (III) oxide, and / or a mineral form, mixture or alloy having thermochromic properties of one of the materials of the particles mentioned in the description or formed therefrom.
  • Radiation greater than 0.05 for example, in one
  • a gradient of the different refractive indices for example, a gradient of the different refractive indices
  • Refractive index are formed by the surface in the glassware.
  • the glass matrix may comprise at least one further type of particle, the further type of particle being in at least one optical
  • the glass matrix may have a second surface, which is opposite to the first surface at a distance, wherein the at least one of the first type of particles and the second type of particle differs, for example, has a different refractive index, or a phosphor second surface of the first type particles are exposed and the second surface is free of particles of the second kind.
  • a glassware can be formed whose first surface and z eite surface may have different optical properties, such as different Reflections depend on the incidence side on the glassware.
  • the second surface may be free of particles of the first type and the second type
  • Glassware are formed whose surface is free of particles of the first kind and second kind. This can
  • the material of the first type and the second type should be harmful to health, as a direct physical contact when handling the glassware can be avoided.
  • the second surface may be free of particles of the first type and particles of the second type may be exposed on the second surface.
  • an optically symmetrical glassware can be formed, so that a
  • the glassware may have one or more layers of particles of the first type and / or the second type. In the layers, the particles can be arranged, for example, in different volume concentrations in the glassware.
  • the particles of the first type and / or the second type in the glassware in one embodiment, the particles of the first type and / or the second type in the glassware in
  • substantially homogeneous distribution refers to the part of the
  • the particles of the first type and / or the second type in the glassware in one embodiment, the particles of the first type and / or the second type in the glassware in
  • a glassware with a high mechanical breakage rate can be formed.
  • a method of making a glassware according to any one of the above embodiments comprising: providing a molten glass matrix with a glassware
  • Glass matrix are completely surrounded, so that the surface of the glass matrix is free of particles of the first kind;
  • the particles of the second type may have a higher refractive index than the particles of the first kind.
  • the particles of the first kind may be formed and dispersed in the molten glass matrix such that the particles of the first type act as a diffusion barrier for the particles of the second type in distributing the particles of the second species into the molten glass matrix.
  • the particles of the second kind may be distributed in the glass matrix such that the Refractive index of the glassware is increased, for example, on the surface of the glassware.
  • manufacturing a glassware may further shape the glass melt into a predetermined shape
  • a flat glass, hollow glass or glass fiber in various embodiments, a
  • Optoelectronic device provided with a glassware according to one of the above embodiments.
  • the optoelectronic component can be an optically active
  • the glassware is formed as a covering body of the optically active region, and in
  • the cover body may be formed, for example, as a carrier and / or cover of the optoelectronic component.
  • the particles of the first type and / or of the second type can form a coupling-out structure and / or a coupling-in structure with respect to the electromagnetic radiation.
  • a coupling-in structure and / or a coupling-out structure can also generally be referred to as a coupling structure.
  • the optoelectronic component can also have a
  • Oxygen is formed by the encapsulation structure in the optically active region, and wherein the
  • Encapsulation structure comprising or from the glassware is formed.
  • the cover body can be part of
  • Encapsulation structure may be formed, for example, to the diffusion of a gas, such as a
  • the optoelectronic component can be used as a light-emitting diode, a solar cell; a fluorescent tube, an incandescent lamp, a fluorescent tube or a halogen lamp may be formed.
  • the optoelectronic component can be designed as an organic optoelectronic component
  • organic solar cell and / or an organic light emitting diode.
  • the optically active region may comprise a first electrode, a second electrode and an organic functional one
  • Covering body is arranged on or above the second electrode.
  • the device comprises a glassware according to one of the above-mentioned embodiments.
  • the method may include: forming an optically active region on or above the glassware and / or applying the glassware on, over and / or around the optically active region.
  • the glassware can be used as a coupling-out structure and / or coupling structure with respect to that of the optically active region absorbed or emitted
  • electromagnetic radiation is formed and arranged.
  • Producing an optoelectronic component Merkmaie of the optoelectronic component; and an optoelectronic component have features of the method for producing an optoelectronic component such and
  • an apparatus for producing a glassware comprising: a transport path for a molten glass matrix, wherein the transport path is set up, that the molten glass matrix is cooled along the transport path;
  • a first coater adapted to disperse a first type of particles in the molten glass matrix in a first cooling region, the first coater being disposed along the transport path such that the molten glass matrix in the first cooling region has a viscosity relative to the particles of the first type that the particles of the first kind are completely surrounded by the glass matrix, so that the surface of the glass matrix is free of particles of the first kind; and at least one second coater capable of distributing a second type
  • Particle is arranged in the molten glass matrix in a second cooling area, wherein the second coater is arranged along the transport path, that the molten glass matrix in the second cooling region with respect to the particles of the second type has a viscosity that the particles of the second kind on and / / or between the particles of the first kind at least partially in the Glass matrix can be arranged on the surface of the glass matrix.
  • the first senor in one embodiment, the first
  • thermally insulated for example thermally insulated.
  • the device in one embodiment, the
  • Transport line have an upper cooling area and a lower cooling area, wherein the first cooling area and the second cooling area between the upper cooling area and the lower cooling area are arranged, wherein the upper
  • Cooling area is arranged for receiving the molten glass matrix, for example by means of a siphon-like flow, a Lippstein, a constriction and / or a Abstehwanne; and the lower cooling area to a
  • Forming the molten Giasware is set up, for example by means of a feeder, a
  • the device in one embodiment, the
  • Transport route have a float bath or a feeder and a cooling section.
  • a glassware with phosphor particles is provided.
  • Phosphor particles have or are formed from a phosphor, wherein the phosphor absorbs an electromagnetic radiation of a first wavelength and a portion of the absorbed electromagnetic radiation with a second wavelength emitted; wherein the phosphor particles are distributed in the glass matrix such that the surface is substantially free of phosphor particles. This can be prevented, for example, that the
  • Phosphor is exposed directly at the surface. This can be advantageous, for example, for phosphors which
  • the glass matrix can furthermore have a further surface which lies opposite the surface, wherein the phosphor particles are arranged in the glass matrix in such a way that the phosphor particles are exposed on the further surface; or the phosphor particles are arranged in the glass matrix such that the further surface is free from
  • the phosphors can be completely or one-sidedly protected in the glassware from external chemical or mechanical influences.
  • Phosphor particles have features according to one of the embodiments of the described features of the glassware with particles of the first type and second type, for example
  • a method of making a glassware with phosphor particles is disclosed
  • the method comprising: providing a molten glass matrix having a first surface and a second surface, the first surface in a Spaced opposite, distributing phosphor particles in the molten glass matrix through the first surface, wherein the phosphor particles comprise or are formed from a phosphor, wherein the phosphor is a
  • the phosphor particles are distributed in the molten glass matrix such that the first surface and / or the second surface is substantially free of phosphor particles.
  • Producing a glassware with phosphor particles have features of the method for producing the glassware and the glassware and vice versa, as appropriate in each case
  • Figure 1 is a flow chart for producing a
  • Figure 2 is a schematic representation of a glass matrix in the method for producing the glassware according to various embodiments; and Figure 3 is an optoelectronic device with the
  • optoelectronic components are described, wherein an optoelectronic Component having an optically active region.
  • the optically active region can emit electromagnetic radiation by means of an applied voltage to the optically active region.
  • the optoelectronic component can be configured such that the electromagnetic radiation has a wavelength range of X-ray radiation, UV radiation (AC),
  • An optoelectronic component can be used, for example, as a light emitting diode (LED), as an organic light emitting diode (OLED), as a light emitting transistor or as an organic light emitting transistor, for example an organic field effect transistor (OFET). and / or organic electronics
  • a plurality of electromagnetic radiation emitting components may be provided, for example housed in a common housing.
  • Optoelectronic component can be an organic
  • the organic functional layer structure may include or be formed from an organic substance or an organic substance mixture that is, for example, configured to emit an electromagnetic radiation from a supplied electric current.
  • An organic light emitting diode may be formed as a so-called top emitter and / or a so-called bottom emitter. In a bottom emitter becomes electromagnetic
  • a top emitter and / or bottom emitter may also be optically transparent or optically translucent, for example, any of those described below
  • Layers or structures are transparent or translucent or are formed with respect to the absorbed or emitted electromagnetic radiation.
  • Coping structure a layer or structure that for internal decoupling or internal coupling of
  • electromagnetic radiation is set up.
  • electromagnetic radiation for example light
  • an optoelectronic component for example, which can be guided or generated in the optically active region of the optoelectronic component.
  • Phosphorus particles are formed in the glass matrix a cop lungs NASA.
  • translucent or “translucent layer” can be understood in various embodiments that a layer for electromagnetic radiation is permeable, for example for that of the
  • Optoelectronic component absorbed or generated light for example, one or more wavelength ranges, for example, for light in a wavelength range of visible light (for example, at least in one
  • Translucent layer is to be understood as meaning that substantially all the light quantity coupled into a structure (for example a layer) is also coupled out of the structure (for example layer), part of the light in this case can be scattered
  • transparent or “transparent layer” can be understood in various embodiments be that a layer for electromagnetic radiation is permeable (for example, at least in one
  • Subregion of the wavelength range from 380 nm to 780 nm), wherein a structure (for example a layer)
  • coupled-in light without scattering or light conversion is also coupled out of the structure (for example, layer).
  • a glass is a solid material without a crystal structure, so that the atoms or molecules of the glass do not form a lattice, but in the
  • a glass has an atomic or molecular structure called amorphous.
  • the glass matrix of a glassware is in different
  • Embodiment examples formed from or comprises a glass or is formed as glass A glassware may be referred to as a shaped body of a glass formed by molding a softened glass or melting the raw materials of a glass. As a process of glass melting, thermal liquefaction, i. Melting, a glass to be understood.
  • thermal liquefaction i. Melting
  • the glass can be any suitable material.
  • the glass can be any suitable material.
  • a nonmetallic glass may be, for example, an organic material glass or an inorganic nonmetallic glass.
  • An organic glass may, for example, be a thermoplastic, for example polyphthalamide (PPA), a thermoset, for example epoxies or polyurethane resin, an elastomer, for example a silicone . , or a hybrid material comprising, for example, one of said materials; for example, a polyacrylate, a polycarbonate, a polyolefin, a silicone, for example
  • An inorganic non-metallic glass may for example be a non-metallic oxidic glass, for example a Halegonidglas or
  • oxidic glass may be a phosphatic glass, a silicate glass, or a borate glass, such as an alkali borate glass.
  • a silicate glass can be any silicate glass.
  • an aluminosilicate glass for example, an aluminosilicate glass, a lead silicate glass, an alkali silicate glass, an alkaline earth alkali silicate glass or a borosilicate glass; for example
  • the glassware may be formed as a carrier or cover, for example as automotive glass in the automotive sector; as glass in mirrors, lenses, prisms in optical components, for example microscopes, binoculars, lenses,
  • Laminated glass as an optical waveguide, as a carrier, covering or encapsulation in, for example, organic light-emitting diodes, solar cells, fluorescent lamps; in glass fiber reinforced
  • Plastic, textile glass Window glass; Laboratory glassware; Architecture or building glass.
  • the particles of the first type and / or the second type may comprise or be a dye.
  • a dye a chemical compound
  • Dyestuffs for the particles of the first type and / or the second type may include or be formed from a dye of the following classes and derivatives of dyes: acridine, acridone, anthraquinone, anthracene, cyanine, dansyl, squaryllium, spiropyrane, boron-dipyrromethane
  • Triarylmethane nitro, nitroso, phthalocyanine and their
  • the particles of the first type and / or the second type have one of the following inorganic substances or be formed from the group of inorganic
  • Dye classes inorganic dye derivatives or inorganic dye pigments: transition metals,
  • Rare-earth oxides rare-earth oxides, sulfides, cyanides, iron oxides,
  • the particles of the first type and / or the second type may comprise or be formed from nanoparticles, for example carbon, for example carbon black; Gold, silver, platinum.
  • the particles of the first type and / or the second type; and the phosphor particles comprise or be formed from a phosphor.
  • Phosphors are substances that are suitable for converting the wavelength of electromagnetic radiation. In other words, a phosphor transforms
  • Forming electromagnetic radiation of a second wavelength from electromagnetic radiation of a first wavelength is called wavelength conversion. Wavelength conversion will be in different
  • Embodiments of optoelectronic devices for color conversion used, for example, to facilitate the generation of white light. For example, a blue light is converted into a yellow light.
  • a phosphor can be arranged, for example, for the wavelength conversion of an electromagnetic radiation in the beam path of the electromagnetic radiation.
  • the phosphor can be in physical contact with the radiation source, for example an optoelectronic component, ie share a common interface, or set up as a remote phosphor be.
  • the radiation source for example an optoelectronic component, ie share a common interface, or set up as a remote phosphor be.
  • Particles of the first type and / or of the second type; and the phosphor particles comprise or consist of one of the following substances: garnets, nitrides, silicates, oxides, phosphates, borates, oxynitrides, sulphides, selenides, aluminates, tungstates, and halides of aluminum, silicon, magnesium, calcium, barium, Strontium, zinc, cadmium, manganese, indium, tungsten and other transition metals, or rare earth metals such as yttrium, gadolinium or lanthanum, with a
  • Activator such as copper, silver, aluminum,
  • a phosphor can be an oxidic or (oxi) nitridic phosphor, for example a garnet, orthosilicate,
  • Nitrido (alumo) silicate, nitride or nitrido orthosilicate, or a halide or halophosphate are strontium chloroapatite: Eu ⁇ (Sr, Ca) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu; SCAP), yttrium aluminum grant. Cerium (YAG: Ce) or ß CaAlSiN: Eu. Furthermore, in the phosphor or
  • Phosphor mixture for example, particles with
  • adjuvants include surfactants and
  • organic solvents examples include gold, silver and metal oxide particles.
  • the first type of particles may be formed as air pockets or
  • the average diameter may also be referred to as average pore size.
  • the particles of the first type and / or the second type; and the phosphor particles comprise or be formed from a fabric which reduces the transmission of ultraviolet (UV) and / or infrared (IR) electromagnetic radiation.
  • UV ultraviolet
  • IR infrared
  • Embodiments may be the particles of the first type and / or the second type; and the phosphor particles comprise a substance, a mixture of substances or a stoichiometric compound or be formed therefrom from the group of
  • Phosphorus particles have little or no solubility in the molten glass matrix and / or react with it poorly or poorly. For example, that can
  • Material of the particles of the first type and / or the second type comprise or be formed from a material having a melting point which is higher than the temperature of the glass matrix at which the particles are distributed in the glass matrix.
  • the non-scattering high-index particles can lead to no or only to a small scattering in the visible wavelength range of an electromagnetic radiation, for example
  • Nanoparticles having a particle size less than about 50 nm for example, from T1O2, Ce02, ZnO or B12O3.
  • a method for producing a glassware a method for producing a glassware with phosphor particles and a method for. Producing an optoelectronic component with a glassware illustrated.
  • a method 100 is provided by means of which a glassware 200 can be formed - illustrated in Fig. 1/2.
  • the glassware 200 may be at least translucent in the visible Wavelength range of electromagnetic radiation are formed, for example, transparent.
  • the method 100 for producing a glassware may include providing 102 a molten glass matrix 204 having a surface - for example, illustrated in FIG. 1/2.
  • the providing 102 may be a melting of the raw materials of the glassware 200 into a molten glass on iron.
  • the melting of the raw materials of the glass melt can also be referred to as a noise melt with melting of the mixture of the homogenization.
  • Process can be considered as a continuous process in one
  • Glasschmelzwanne 222 take place, in which continuously or discreetly glass melt is derived from the glass melting tank 222 and continuously or discretely raw / e in the
  • Glass melting tank 222 is / are supplied.
  • the glass melt may be or form a molten glass matrix in various embodiments.
  • the temperature for melting the raw materials depends on the type of glass and raw materials.
  • the raw materials of non-metallic inorganic glasses for example, can only be melted and homogenized at temperatures of more than 1200 ° C, for example at a temperature of about 1700 ° C.
  • non-metallic organic glasses for example in
  • gas bubbles in the glassware 200 may represent a glass defect that
  • the providing 102 may further refine the glass melt, for example, before standing up have the shaping temperature.
  • refining can be understood an expulsion of gas bubbles from the molten glass.
  • the basic principle is the entrainment of small gas bubbles in the glass melt by faster rising larger gas bubbles. In a viscous molten glass, under economic aspects, small bubbles can not rise fast enough in the molten glass, so that
  • Unterstutzungsdorflander may for example include adding at least one refining agent in the molten glass, for example in the form of a chemical refining,
  • the glass melt can be mechanically or physically purified, for example by means of a so-called Bubbling. It is by blowing gases into the molten glass of the
  • Bubble content in the glass melt is reduced by the small bubbles in the molten glass with the larger ones
  • a refining can be dispensed with, or gas bubbles can be deliberately introduced into the molten glass.
  • Glass melt can, for example, scattering centers for
  • the distribution of gas bubbles as first particles is not part of the provision 102, but part of the distribution 104 of
  • provision 102 may include cooling the
  • the protruding of the molten glass for example, in a work tub, Abstehwanne and / or carried on a transport path 218. These can / can be structurally separate
  • the molten glass matrix 204 can be transported, for example, along a transport path 218 (illustrated in FIG. 2 by means of the arrow 212).
  • a cooling range can be established, which is limited by the so-called upper cooling temperature and the lower cooling temperature.
  • the upper cooling temperature may be, for example, at the beginning of the transport path 218 and the lower cooling area at the end of the transport path 218.
  • the working trough may be separated during the production of hollow glass to the melting tank 222, for example by means of a siphon-like flow.
  • the work tub for example, the work tub for
  • Melting tank 222 may be separated, for example by means of a constriction. At the end of the transport path 218, the
  • Glass melt 204 with particles 208, 210 are provided - for example, illustrated in Figure 2, and the sampling point 224 and / or the shape adjoin and.
  • the beginning and the end of the transport path 218 can be defined, for example, by means of the viscosity of the glass melt.
  • the uppermost point 224 and / or the shape adjoin and.
  • the beginning and the end of the transport path 218 can be defined, for example, by means of the viscosity of the glass melt.
  • a viscosity of 10 mPa-s that is, for example, lie between 590 ° C and 450 ° C in Kalknatronsilikatglas.
  • Thermo-mechanical stresses in the glassware 200 can be reduced by annealing the glass melt, that is, by defining slow cooling in the cooling region.
  • the method 100 may include distributing 104 of
  • the distribution of the particles 208 of the first type can take place, for example, between the beginning of the transport path 218 and the end of the transport path 218-illustrated, for example, in FIG.
  • the first type of particle 208 may be, for example, a
  • Refractive index in a range of about 1.5 to about 4.0, for example in a range of about 1.7 to about 3.9; for example, in a range of about 2.3 to about 3.1.
  • Refractive index of the glass matrix 204 with respect to at least one Wavelength of electromagnetic radiation may be greater than 0.05.
  • the particles 208 of the first type may be diffusive with respect to the glass matrix 204 for the electromagnetic radiation incident on the particles 208 of the first type in the glass matrix 204.
  • Such particles may, for example, also be referred to as high-index particles.
  • the first type of particle 208 may have a mean diameter in a range of about 100 nm to about 50 ⁇ m, for example in a range of about 250 nm to about 350 nm.
  • the particles 208 of the first type may be scattering with respect to visible light or be formed non-scattering.
  • the first type of particle 208 may be one or more of the
  • optically functional properties with respect to the glass matrix 204 and an electromagnetic radiation or be formed as non-scattering high-index particles, as scattering particles, radiation-absorbing, for example in the ultraviolet and / or infrared
  • Wavelength range of the electromagnetic radiation absorbing radiation in the visible wavelength range of the electromagnetic radiation, and / or
  • the method 100 may include distributing 106 of
  • Particles 210 of a second type into the molten glass 204 through the surface of the glass melt have such that the particles 210 of the second type above and / or between the
  • the second type of particle 210 may have a refractive index in a range of about 1.5 to about 4.0, for example, in a range of about 1.7 to about 3.9; for example, in one
  • radiation may be greater than 0.05.
  • the second type particles 210 may be scattered with respect to the glass matrix 204 for the
  • the second type of particles 210 have a mean diameter in a range of about 10 nm to about 1 ⁇ , for example in one
  • the second type particles 210 may be diffusive or non-diffusive with respect to visible light.
  • the second type of particle 210 may have one or more of the following optically functional properties with respect to the glass matrix 204 and an electromagnetic radiation or may be configured in such a way: non-scattering
  • Wavelength range of the electromagnetic radiation
  • the particles 210 of the second type may be formed such that the particles 210 of the second type can fill up the void between the particles 208 of the first type, for example one kind Ball packing of the particles 208 of the first kind. In other words; the particles 210 of the second type may fill in place of the glass matrix 204 a portion of the space between the particles 208 of the first type.
  • the ratio of the mean diameter of the second type particles 210 to the mean diameter of the first type particles 208 may be configured such that the
  • Packing density of particles 208, 210 of the first type and second type in the glass matrix 204 in a range of 50% to 100%.
  • the second type is the second type
  • Property of the first type particles 208 differ, for example, in the average diameter of the particles, the
  • the first type of particles 208 and the second type of particles 210 may be formed such that the magnitude difference of the refractive index of the second type of refractive index of the first type of particles 208 with respect to at least one wavelength
  • electromagnetic radiation is greater than 0.05;
  • the second type particles 210 may have a higher refractive index than the first type particles 208.
  • at least one other may be included in the molten glass matrix 204 Type particles are distributed, wherein the further type particles are in at least one optically functional property of the first type of particles and the second type of particles
  • only one type of particle, the first type of particles 208 and / or the second type Particles 210 are distributed in the glass matrix 204, with only one type of particles as the phosphor particle
  • Phosphor particles may range from about 1.5 to about 4.0, for example, in a range from about 1.7 to about 3.9; for example, in a range of about 2.3 to about 3.1.
  • the phosphor particles may have a mean diameter in a range of about 100 nm to about 50 ⁇ ,
  • electromagnetic radiation may be greater than 0.05.
  • the phosphor particles may additionally or alternatively one or more of the following optically functional
  • Scattering particles for example in the ultraviolet and / or infrared wavelength range of the electromagnetic radiation, and / or
  • the method of making a glassware 200 having phosphor particles comprises providing 102 a molten glass matrix 204 having a first surface and a second surface spaced from the first surface; distributing phosphor particles in the molten silica matrix 204 through the first surface, wherein the
  • Phosphor particles comprise or are formed from a phosphor, the phosphor absorbing an electromagnetic radiation of a first wavelength and emitting a portion of the absorbed electromagnetic radiation having a second wavelength; and wherein the phosphor particles are distributed in the molten glass matrix 204 be that the first surface and / or the second
  • the phosphor particles may be distributed in the glass matrix 204 such that the
  • Phosphor particles 204 are completely surrounded by the molten glass matrix 204 such that the first surface and / or the second surface of the glass matrix 204 are / are free of phosphor particles.
  • the phosphor particles may be distributed in the glass matrix 204 such that the phosphor particles at least partially in the glass matrix 204 on the first surface of the glass matrix.
  • the molten glass matrix 204 may be provided on a transport path 218, wherein the molten glass matrix 204 is cooled on the transport path 218, wherein the phosphor particles on the
  • Transport path 218 are distributed in the glass matrix 204.
  • the first type particles 208 in a first cooling region and the second type particles 210 are distributed in a second cooling region in the molten glass 204, that is, at different regions along the transport path 218, with the molten glass matrix 204 in the
  • the position of the first cooling region and the second cooling region along the transport path 218, that is, the distribution 104, 106 of the particles 208, 210 may depend on the (visco) elastic properties of the molten glass matrix 204 and the properties of the
  • Particles 208, 210 Properties of the particles 208, 210 which can influence the cooling region, that is to say the region along the transport path at which the particles 208, 210 are distributed in the glass matrix 204, can be, for example, the shape, the size, the size distribution , the density and / or the melting point of the particles.
  • the first type particles 208 and the second type particles 210 may be distributed in the glass matrix 204 such that the glassware 200 has one or more layers of first type particles 208 and / or second type particles 210.
  • the first type particles 208 and the second type particles 210 may be distributed in the glass matrix 204 such that the first type particles 208 and / or the second type particles 210 in the glassware 200 in FIG. Essentially homogeneously distributed.
  • the particles 208 of the first type and the particles 210 of the second type may be in the
  • Glass matrix 204 are distributed, that the particles 208 of the first type and / or the particles 210 of the second type are distributed in the glassware 200 substantially at the surface.
  • the first type of particle 208 may be formed and distributed within the molten glass matrix 204 such that the first type particles 208 act as a diffusion barrier for the second type particles 210 when dispensed into the molten glass matrix 204.
  • the particles 208, 210 may be distributed in the glass matrix 204 such that the
  • Refractive index of the glassware 200 is increased, for example, on the surface of the glassware 200th
  • the glass matrix 204 may have a second surface that is spaced from the first surface, with the first type particles 208 and the second type particles 210 distributed through the first surface in the glass matrix 204.
  • the particles 208, 210 may be so with respect to the viscosity of the glass matrix in the first cooling area and the second
  • Cooling region are distributed in the glass matrix 204 that on the second surface of the first type 208 particles exposed and the second surface is free of particles of the second kind.
  • the particles 208 of the first Type and the particles 210 of the second type such in the
  • Glass matrix 204 may be dispersed such that the second surface is free of first type particles 208 and second type particles 210.
  • the first type particles 208 and the second type particles 210 may be distributed in the glass matrix 204 such that the second Surface is free of particles 208 of the first kind and particles 210 of the second kind are exposed on the second surface.
  • spreading of the particles 208, 210 in the molten glass matrix 204 may be done
  • the phosphor particles may be distributed such that the glassware 200 has one or more layers of phosphor particles.
  • Glassware 200 are distributed substantially homogeneously.
  • the phosphor particles in the glassware 200 may be distributed substantially at the surface.
  • the glass melt i. the molten glass matrix has a surface through which - as described above - in the course of the method 100 particles 208, 210 in the
  • Glass matrix 204 can be distributed. In one
  • Embodiment may be the first type of particles 208
  • the second type of particles 210 are formed and distributed in the glass matrix 204 such that the surface of the glassware 200 or the glass matrix 204 is formed after the distribution 106 of the second type of particles 210 having a mean roughness (RMS) which is smaller is about 10 nm, that is, substantially smooth for application
  • RMS mean roughness
  • the glassware 200 may be formed such that the Surface freely lying part of the particles 210 of the second type and glass matrix 204 has.
  • the device comprises a glassware 200 described above and the method comprises providing such a glassware.
  • the procedure can be
  • a glassware 200 may be referred to as
  • an organic light emitting diode (organic light emitting diode - OLED) be set up - for example, illustrated in Figure 3.
  • Refractive index of glassware 200 can increase
  • Beispieiswiese are formed as high-index particles, for example, as a coupling-out structure 206 and / or
  • the high - index particles should be removed from the surface of the glass
  • the high index particles should be a part of the surface of the glassware 200 with respect to the incident side of the electromagnetic radiation, and for example substantially not formed by the glass matrix 204.
  • the high index particles or agglomerates thereof, should also be large enough to be coupled out
  • first particles 208 of a first type for example, large scattering particles or
  • Temperature range or cooling range in which the particles 208 are introduced into the molten glass 204 should be adjusted in such a way based on the temperature-dependent viscosity of the glass melt 204 and the buoyancy of the particles 208 in the molten glass 204 that these particles / agglomerates to below the surface of the glass melt 204 or glass matrix 204 sink.
  • the particles of the first kind may be completely surrounded by the glass matrix 204 and the surface may be free of particles of the first kind.
  • second temperature range of the glass melt 204 for example at another location along a float glass ribbon Particles 210 of a second type are applied, introduced and / or distributed in the glass ribbon. The second temperature range in which the particles 210 of the second type are applied to the molten glass 204,
  • the second type of particles 210 may be significantly smaller than the first type of particles 208.
  • the second type of particles 210 may be the effective one
  • Refractive index that is, in one plane above the
  • Refractive index of the particles 210 and the glass matrix 204 average refractive index can be raised at the interface of the glassware 200 without generating a high roughness, for example, with respect to an interface at the only
  • Particles of the first type 208 are exposed.
  • Particles 208, 210 into the molten glass 204 a plurality of coaters 214, 216 (coater) with different types of particles 208, 210, such as particle sizes, particles of different materials, may be provided, which the
  • first type of particles 208 and for the second type of particles 210 for example the same or different materials, with the same or different optical properties and / or with different average size can be used. These can be used in different temperature ranges
  • Glass melt 204 that is, for example, on
  • the particles 208 of the first type which may, for example, have a larger average dimension than the particles 210 of the second type, may be a basis for the light scattering in the glassware 200.
  • the second-type particles 210 from the second coater 216 may
  • Glassware-air interface or glassware OLED interface increase.
  • more than two coaters may be provided and, for example, more than two types of particles of different mean
  • the first type of particles 208 and the second type of particles 210 may be one with respect to one in the optoelectronic device
  • the first type of particles 208 and the second type of particles 210 may include or may be formed of high refractive index materials.
  • the particles 208, 210 may be configured to measure the temperature in the molten glass matrix 204, for example, in the first cooling region or second
  • the particles 208, 210 may include titanium dioxide, zinc oxide, indium zinc oxide (ITO),
  • Aluminum zinc oxide (AZO), aluminum oxide, indium tinokid (IZO) and tin oxide Aluminum zinc oxide (AZO), aluminum oxide, indium tinokid (IZO) and tin oxide.
  • the first type of particles 208 and the second type of particles 210 may have an effect with respect to one in the optoelectronic Component emissive or absorbable
  • the first type of particles 208 and / or the second type of particles 210 may be formed or act as dyes.
  • the first type of particles 208 and the second type of particles 210 may / may have a color conversion with respect to an emissable or absorbable in the optoelectronic component
  • the first type of particles 208 and / or the second type of particles 210 can be used as phosphors, for example
  • Phosphors be formed or have.
  • the extraction point 224 may be a feeder, also referred to as a feeder.
  • a feeder also referred to as a feeder.
  • 204 drops are produced from the stale glass melt, which are passed through a channel system into underlying glass machines.
  • the stale glass melt 204 may enter the float bath, for example via a lipstone, the float bath being part of the transport path 218,
  • the glassware 200 can be brought into a predetermined shape and thus form the glassware 200.
  • the glassware 200 may be formed as a flat glass, for example, as a support, a cover, a window, a pane, or a planar optical fiber.
  • the glassware 200 may be formed as a hollow glass, for example as a glass tube or glass bulb.
  • the glassware 200 is formed as a glass fiber, for example as
  • a flat glass may be a float glass or rolled glass. Alternatively, the flat glass can be pulled or cast. Float glass is one by means of a Float method manufactured flat glass.
  • the glassware 200 may be formed as an amorphous layer, an amorphous tape or an amorphous molded body, for example, be formed in one of the following forms: hollow glass, sheet glass, tube glass, glass fiber.
  • a hollow glassware can be formed in several processes by pressing, blowing, suction and combinations of these techniques, for example in a blow-blow process or a press-blow process.
  • glass fibers for example for glass wool or as optical waveguides, by means of spinning in a rod drawing process, nozzle drawing process,
  • Centrifugal method or nozzle blowing method (TOR method) are formed.
  • TEL method Centrifugal method
  • TOR method nozzle blowing method
  • tube glass may be formed by a continuous drawing process or a spin coating process.
  • an apparatus 220 for producing a glassware 200 is provided - for example schematically illustrated in FIG.
  • the device 220 may include a molten glass matrix transport path 218.
  • the transport path 218 is arranged such that the molten glass matrix 204 is transported along the transport path 218 from a melting tank 222 to a removal point 224 (indicated by the arrow 212) and thereby from the melting temperature in an upper cooling region of the transport path 218 to the shaping temperature in a lower one Cooling area of
  • Transport path 218 is cooled.
  • the transport path 218 may, for example, a
  • Storage tub a float bath, a cooling section, a feeder, a float line, a conveyor belt, a conveyor line
  • the apparatus 220 further includes a first coater 214 configured to disperse a first type of particulate 208 in the molten glass matrix 204 in a first cooling area.
  • Coater have a kind of grinder, a shaking, shaking or vibrating device and / or a nebulizer.
  • the first coater 214 may be configured such that the particles 208 of the first type are distributed by gravity and / or a carrier gas on or above the surface of the molten glass matrix.
  • the particles of the first species can be applied to the surface of the molten glass matrix 204 by means of an electric field, for example in an electric field, in the event that the particles are electrically charged or polarizable; for example by means of a cathode sputtering (sputtering).
  • the first coater 214 is along the
  • Transport route is arranged that the molten
  • Particle 208 of the first type has a viscosity that the particles 208 of the first type are completely surrounded by the glass matrix 204, so that the surface of the
  • Glass matrix 204 is free of first type particles 208.
  • the apparatus 220 may further include at least one second coater 216 configured to disperse a second type of particle 210 in the molten glass matrix 204 in a second cooling area.
  • the second coater 216 may be made according to any one of
  • Embodiments of the first coater 214 may be formed.
  • the second coater 216 may be so along the
  • Transport path 218 may be arranged such that the molten glass matrix 204 in the second cooling region with respect to the
  • Particle 210 of the second type has a viscosity that the particles 210 of the second. Art about and / or between the particles 208 of the first kind at least partially in the
  • the first coater 214 may be temperature-stable with respect to the temperature of the glass matrix 204 in the first cooling region, for example spaced above the glass matrix 204, and / or the second coater 216 temperature-stable with respect to the temperature of the glass matrix 204 in the second
  • Cooling be formed, for example, be arranged at a distance above the glass matrix 204.
  • the first cooling area and the second cooling area may be arranged between the upper cooling area and the lower cooling area.
  • a glassware 200 comprises a glass matrix 204 having a surface, a first type of particles 208, and at least a second type of particles 210.
  • the second type particles 210 may have a higher index of refraction than the first type particles 208.
  • the first type particles 208 may be completely surrounded by the glass matrix 204 such that the surface of the glass matrix 204 is free of particulate matter first type 208, and the second type particles over
  • Glass matrix 204 are arranged to increase the
  • the surface may thereby have, for example, an average roughness which is less than about 10 nm.
  • the surface can be exposed lying part of the particles of the second kind and
  • Glass matrix 204 have.
  • the glassware may have features of the above-described method for producing the glassware or may be designed in such a way and to the extent that the features are in each case usefully applicable.
  • the glassware 200 may be formed with phosphor particles.
  • the glassware has a glass matrix 204 with a surface.
  • phosphor particles are distributed, wherein the phosphor particles have a phosphor or are formed therefrom.
  • the phosphor can absorb electromagnetic radiation of a first wavelength and emit a portion of the absorbed electromagnetic radiation having a second wavelength.
  • the phosphor particles may be distributed in the glass matrix 204 such that the surface is substantially free of phosphor particles.
  • the phosphor particles may, for example, according to one of the described embodiments of the particles of the first and / or the second type have such and to the extent that the features are each usefully applicable.
  • the phosphor particles may be completely surrounded by the glass matrix 204.
  • the glass matrix 204 may further have a further surface facing the surface, wherein the phosphor particles are arranged in the glass matrix 204 such that the phosphor particles are exposed on the further surface.
  • the phosphor particles may be arranged in the glass matrix such that the further
  • Optoelectronic device provided with a glassware 200 according to one of the embodiments described above.
  • the optoelectronic component has an optically active region 306 for converting an electrical current into an electromagnetic radiation and / or for converting an electromagnetic radiation into an electrical current.
  • the glassware 200 may be formed as a cover body 324/200 of the optically active region 306 and arranged in the beam path of the electromagnetic radiation.
  • Cover body 324/200 may be the optically active region 306, for example, in the form or as part of a
  • the optically active region 306 may be formed on the covering body 302/200, whereby the underside of the optically active region 306 is thus covered by the covering body 302/200.
  • the particles 208 of the first type and / or the particles 210 of the second type may have a coupling-out structure 206 and / or a coupling-in structure 206 with respect to the electromagnetic
  • Optoelectronic device 300 further a
  • Encapsulation structure 328 on or above the optically active region 306, wherein the encapsulation structure 328 hermetically sealed with respect to a diffusion of water
  • the optoelectronic component as a light emitting diode, a
  • Incandescent tube or a halogen lamp may be formed.
  • the optoelectronic component can be embodied, for example, as an organic optoelectronic component 300, for example as an organic photodetector, an organic solar cell and / or an organic light-emitting diode, for example illustrated in FIG.
  • the optically active region 306 may include a first electrode 310, a second electrode 314, and an organic functional one
  • an optoelectronic component 300 described below may have a glassware 200 described above, wherein the glassware 200 may be formed, for example, as carrier 302/202 and / or cover 324/202 with integrated coupling structure 206.
  • the particles 210 of the second type may, for example, have a physical contact with the optically active region 306, with electromagnetic radiation being coupled from the optically active into the coupling structure 206 and vice versa.
  • an organic optoelectronic device 300 may include a hermetically sealed substrate 326, an active region 306, and a
  • Encapsulation structure 328 have.
  • the hermetically sealed substrate 326 may include a carrier 302 and a first barrier layer 304, alternatively or In addition, the hermetically sealed substrate 326 may be the
  • the active region 306 is an electrically active region 306 and / or an optically active region 306.
  • the active region 306 is, for example, the region of the optoelectronic component 300 in which electrical current flows for operating the optoelectronic component 300 and / or in the electromagnetic radiation is generated and / or absorbed,
  • the organic functional layer structure 312 may include one, two or more functional layer structure units and one, two or more interlayer structures between the layer structure units.
  • Functional layer structure 312 may comprise, for example, a first organic functional layer structure unit 316, an intermediate layer structure 318 and a second organic functional layer structure unit 320.
  • the encapsulation structure 326 may be a second
  • the encapsulation structure 326 may include or be the glassware 200.
  • the carrier 302 may be glass, quartz, and / or a
  • the carrier may comprise or be formed from a plastic film or a laminate with one or more plastic films.
  • the plastic may include or be formed from one or more polyolefins (eg, high or low density polyethylene or PE) or polypropylene (PP).
  • PE polyethylene
  • PP polypropylene
  • Polyvinyl chloride PVC
  • PS polystyrene
  • PC polycarbonate
  • PET polyethylene terephthalate
  • the carrier 302 may comprise or be formed of a metal, for example copper, silver, gold, platinum, iron, for example a metal compound, for example steel.
  • the carrier 302 may be opaque, translucent or even transparent.
  • the carrier 302 may be part of a mirror structure or il * * * 3 H-1ci ⁇ n ⁇
  • the carrier 302 may have a mechanically rigid region and / or a mechanically flexible region or be formed in such a way, for example as a foil.
  • the carrier 302 may be formed as a waveguide for electromagnetic radiation, for example, be transparent or translucent with respect to the emitted or
  • the first barrier layer 304 may include or be formed from one of the following materials:
  • Indium zinc oxide aluminum-doped zinc oxide, poly (p-phenylene terephthalamide), nylon 66, and mixtures and
  • the first barrier layer 304 may be by means of one of
  • Atomic layer deposition Atomic Layer Deposition (ALD)
  • ALD Atomic layer deposition
  • PEALD Atomic Layer Deposition
  • PECVD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
  • Sublayers all sublayers can be formed by means of a Atom fürabscheide Kunststoffs.
  • a layer sequence which has only ALD layers can also be referred to as "nanolaminate".
  • a first barrier layer 304 which has several layers
  • Partial layers on ice one or more
  • Atomic layer deposition processes are deposited
  • the first barrier layer 304 may have a layer thickness of about 0.1 nm (one atomic layer) to about 1000 nm
  • a layer thickness of about 10 nm to about 100 nm for example, a layer thickness of about 10 nm to about 100 nm according to an embodiment
  • the first barrier layer 304 may be one or more
  • having high refractive index materials for example one or more high refractive index materials, for example having a refractive index of at least 2.
  • Barrier layer 304 may be omitted, for example, in the event that the carrier 302 hermetically sealed
  • the first electrode 304 may be formed as an anode or as a cathode.
  • the first electrode 310 may include or be formed from one of the following electrically conductive materials: a metal; a conductive conductive oxide (TCO); a network of metallic
  • Nanowires and particles for example of Ag, which are combined, for example, with conductive polymers;
  • the first electrode 310 made of a metal or a metal may comprise or be formed from one of the following materials: Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ca, Sm or Li, as well as compounds, combinations or alloys of these materials ,
  • the first electrode 310 may be one of the following as a transparent conductive oxide
  • metal oxides for example, zinc oxide,
  • binary metal oxygen compounds such as ZnO, Sn0 2 , or In 2 03 also include ternary metal oxygen compounds, such as AlZnO, Zn2Sn0 4 , CdSn0 3 , ZnSn ⁇ 3, Mgln 0 4 , Galn0 3 , Zn 2 In 2 0s or In 4 Sn 3 0 12 or mixtures differ] .icher transparent conductive oxides to the group of TCOs and can in different
  • Embodiments are used. Farther
  • the TCOs do not necessarily correspond to a stoichiometric composition and can furthermore be p-doped or n-doped, or hole-conducting (p-TCO) or electron-conducting (n-TCO).
  • the first electrode 310 may be a layer or a
  • the first electrode 310 may be formed by a stack of layers of a combination of a layer of a metal on a layer of a TCO, or vice versa.
  • An example is one
  • the first electrode 304 may, for example, have a layer thickness in a range of 10 nm to 500 nm,
  • the first electrode 310 may be a first electrical
  • the first electrical potential may be provided by a power source, such as a power source or a voltage source.
  • the first electrical potential may be applied to an electrically conductive carrier 302 and the first electrode 310 may be indirectly electrically supplied by the carrier 302.
  • the first electrical potential may be, for example, the ground potential or another predetermined reference potential.
  • FIG. 3 shows an optoelectronic component 300 having a first organic functional layer structure unit 316 and a second organic functional one
  • Layer structure unit 320 shown.
  • Layer structure 312 but also have more than two organic functional layer structures, for example, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, or even more, for example 15 or more, for example 70th
  • Layer structures can be the same or different be formed, for example, an equal or
  • the second organic functional layer structure unit 320 may be one of those described below
  • Layer structure unit 316 may be formed.
  • the first organic functional structure unit 316 may include a hole injection layer, a
  • an organic functional layer structure unit 312 one or more of said layers may be provided, wherein like layers may be in physical contact with iron, may only be electrically interconnected, or even electrically isolated from each other, for example, formed side by side. Individual layers of said layers may be optional.
  • a Lochin etechnischstik may be formed on or above the first electrode 310.
  • the Lochinj can edictions slaughter include one or more of the following materials or may be formed from: HAT-CN, Cu (I) pFBz, MoO x, WO x, VO x, ReO x, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Bi (III) pFBz, F16CuPc; NPB ( ⁇ , ⁇ '-bis (naphthalen-1-yl) - ⁇ , ⁇ '-bis (phenyl) -benzidine); beta- PB ⁇ , ⁇ 'bis (naphthalen-2-yl) - ⁇ , ⁇ '-bis (phenyl) benzidine); TPD
  • the hole injection layer may have a layer thickness in a range of about 10 nm to about 1000 nm, for example in a range of about 30 nm to about 300 nm, for example in a range of about 50 nm to about 200 nm.
  • Hole transport layer may comprise or be formed from one or more of the following materials: NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, '-bis (phenyl) -benzidine); beta-NPB ⁇ , ⁇ '-bis (naphthalen-2-yl) - ⁇ , ⁇ '-bis (phenyl) -benzidine); TPD ( ⁇ , ⁇ '-bis (3-methylphenyl) - ⁇ , ⁇ '-bis (phenyl) benzidine); Spiro TPD ( ⁇ , ⁇ '-bis (3-methylphenyl) -N, '-bis (phenyl) -benzidine); Spiro-NPB ( ⁇ , ⁇ '-bis (naphthalen-1-yl) - ⁇ , ⁇ '-bis (phenyl) -spiro); DMFL-TPD ⁇ , ⁇ '-bis (3-methylphenyl) - ⁇ , ⁇ '-bis (phenyl) -9, 9-d
  • the hole transport layer may have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 50 nm,
  • nm for example, in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.
  • functional layer structure units 316, 320 may each have one or more emitter layers
  • An emitter layer may include or be formed from organic polymers, organic oligomers, organic monomers, organic small, non-polymeric molecules ("small molecules”), or a combination of these materials.
  • the optoelectronic component 300 may be in a
  • organometallic compounds such as derivatives of polyfluorene, polythiophene and polyphenylene (for example 2- or 2,5-substituted-oly-p-phenylenevinylene) and metal complexes, for example iridium complexes such as blue-phosphorescent FIrPic (bis (3,5-difluoro-2-) (2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) -iridium III), green phosphorescent Ir (ppy) 3 (tris (2-phenylpyridine) iridium III), red phosphorescent u (dtb-bpy) 3 * 2 (PFg) (tris [4, '-di-tert-butyl- (2,2') - bipyridine] ruthenium (III) complex) and blue fluorescent DPAVBi (4, bis [4- (di-p-tolylamino) styryl] biphenyl), green fluorescent TTPA
  • fluorescent DCM2 (4-dicyanomethylene) -2-methyl-6-glolidolidyl-9-enyl-4H-pyran) as a non-polymeric emitter.
  • non-polymeric emitters can be deposited by means of thermal evaporation, for example. Furthermore, can
  • Polymer emitter are used, which can be deposited, for example by means of a wet chemical process, such as a spin-on process (also referred to as spin coating).
  • a wet chemical process such as a spin-on process (also referred to as spin coating).
  • the emitter materials may suitably be in one
  • Embedded matrix material for example one
  • Emitter layer have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 50 nm, for example in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.
  • the emitter layer may have single-color or different-colored (for example blue and yellow or blue, green and red) emitting emitter materials.
  • the emitter layer may have single-color or different-colored (for example blue and yellow or blue, green and red) emitting emitter materials.
  • Emitter layer have multiple sub-layers that emit light of different colors. By mixing the different colors, the emission of light can result in a white color impression.
  • a converter material in the beam path of the primary emission produced by these layers, which at least partially absorbs the primary radiation and emits a secondary radiation of different wavelengths, so that results from a (not yet white) primary radiation by the combination of primary radiation and secondary radiation, a white color impression.
  • the organic functional layer structure unit 316 may include one or more emitter layers configured as a hole transport layer. Furthermore, the organic functional layer structure unit 316 may include one or more emitter layers configured as an electron transport layer.
  • Be formed electron transport layer for example, be deposited.
  • the electron transport layer may include or be formed from one or more of the following materials: NET- 18; 2, 2 ', 2 "- (1,3,5-benzinetriyl) tris (1-phenyl-1-H-benzimidazoles); 2- (biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1, 3, -oxadiazoles, 2, 9-dimethyl-4,7-diphenyl-l, 10-phenanthroline (BCP), 8-hydroxyquinolinolato-lithium, 4- (naphthalen-1-yl) -3, 5-diphenyl-4H- 1, 2, 4 - triazoles; 1,3-bis [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene; 4,7-diphenyl-1 , 10-phenanthrolines (BPhen); 3- ⁇ 4-biphenylyl) -4-phenyl-5-tert-butylpheny
  • the electron transport layer may have a layer thickness
  • a first electron transport layer 50 nm, for example in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.
  • a second electron transport layer 50 nm, for example in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.
  • Electron injection layer may be formed.
  • Electron injection layer may include or may be formed of one or more of the following materials: DN-26, MgAg, Cs 2 C0 3 , Cs 3 P0 4 , Na, Ca, K, Mg, Cs, Li, LiF;
  • the electron injection layer may have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 200 nm, for example in a range of about 20 nm to about 50 nm, for example about 30 nm,
  • the second organic functional layer structure unit 320 may be formed above or next to the first functional layer structure units 316. Electrically between the organic fnctional
  • Layer structure units 316, 320 may be a
  • Interlayer structure 318 may be formed.
  • the first layer 318 may be formed.
  • Interlayer structure 318 may be formed as an intermediate electrode 318, for example according to one of
  • Embodiments of the first electrode 310 Embodiments of the first electrode 310.
  • Intermediate electrode 318 may be electrically connected to an external voltage source.
  • the external voltage source may provide, for example, a third electrical potential at the intermediate electrode 318.
  • the intermediate electrode 318 may also have no external electrical connection, for example by the intermediate electrode having a floating electrical potential.
  • Interlayer structure 318 may be formed as a charge generation layer structure 318 (charge generation layer CGL).
  • a charge carrier pair generation layer structure 318 may be one or more
  • the charge carrier pair generation layer (s) and the hole-conducting charge carrier pair generation layer (s) may each be formed of an intrinsically conductive substance or a dopant in a matrix.
  • the charge carrier pair generation Layer structure 318 should be formed with respect to the energy levels of the electron-conducting charge carrier pair generation layer (s) and the hole-conducting charge carrier pair generation layer (s) such that at the interface of an electron-conducting charge carrier pair generation layer with a hole-conducting charge carrier generation layer a separation of electron and hole can be made.
  • the carrier pair generation layer structure 318 may further include a sandwich between adjacent layers
  • Each organic functional layer structure unit 316, 320 may, for example, have a layer thickness of at most approximately 3 ⁇ m, for example a layer thickness of at most approximately 1 ⁇ m, for example a layer thickness of approximately approximately 300 nm.
  • the optoelectronic component 300 can optionally have further organic functional layers, for example arranged on or above the one or more
  • the further organic functional layers can be, for example, internal or external coupling / decoupling structures, which are the
  • organic functional layer structure 312 On or above the organic functional layer structure 312 or optionally on or above the one or more other of the organic functional
  • the second electrode 314 may be formed.
  • the second electrode 314 may be formed according to any one of the configurations of the first electrode 310, wherein the first electrode 310 and the second electrode 314 may be the same or different.
  • the second electrode 314 can be used as an anode, ie as a hole-injecting electrode be formed or as a cathode, so as an electron injecting electrode,
  • the second electrode 314 may have a second electrical
  • the second electrical potential can be applied.
  • the second electrical potential may be from the same or another source of energy
  • the second electrical potential may be provided as the first electrical potential and / or the optional third electrical potential.
  • the second electrical potential may be different from the first electrical potential and / or the optionally third electrical potential.
  • the second electrical potential may, for example, have a value such that the
  • Difference from the first electrical potential has a value in a range of about 1.5 V to about 20 V, for example, a value in a range of about 2.5 V to about 15 V, for example, a value in a range of about 3 V. to about 12 V.
  • the second barrier layer 308 may be formed on the second electrode 314.
  • the second barrier layer 308 may also be referred to as
  • TFE Thin film encapsulation
  • the second barrier layer 308 may be formed according to one of the embodiments of the first barrier layer 304.
  • Barrier layer 308 can be dispensed with.
  • the optoelectronic component 300 may, for example, have a further encapsulation structure, as a result of which a second barrier layer 308 may be optional, for example a cover 324, for example one
  • Cavity glass encapsulation or metallic encapsulation Furthermore, in various embodiments
  • one or more input / output coupling layers may be formed in the optoelectronic component 300, for example an external outcoupling foil on or above the carrier 302 (not shown) or an internal one
  • the coupling-in layer 206 can have a glass matrix 204 and particles 208/210 distributed therein, wherein the mean refractive index of the coupling-in / coupling-out layer 206 is greater or smaller as the
  • one or more antireflection coatings for example, one or more antireflection coatings
  • Glass matrix realized a coupling layer, for example, in which the particles of the second type are exposed on the incident side of the electromagnetic radiation.
  • Coupling splitter for example, as a
  • Coefficient of expansion of the glass matrix for example by a suitable choice of material, for example within a range of about 50%, for example within a range of about 40%, for example within a range of about 30%, for example within a range of about 20%, for example within a range of about 10%, for example, approximately equal to the thermal expansion coefficient of the glass matrix.
  • the particles of the first and / or second type may be a glass, that is to say be amorphous.
  • the cladding layer 206 may have an average refractive index of at least about 1.5,
  • At least about 1.65 for example, a range of about 1.7 to about 2.1.
  • the coupling layer may have a thickness in a range from approximately 100 ⁇ m to approximately 100 ⁇ m, for example in a range from approximately 1 ⁇ to approximately 10 ⁇ , for example approximately 2.5 ⁇ .
  • the particles may have one of the following geometric shapes and / or a part of one of the following geometric shapes: spheric, aspherical, for example, prismatic, ellipsoidal, hollow, compact, platelet or rod-shaped.
  • the particles of the first and / or second type, and / or phosphor particles in the glass matrix a layer having a thickness of about 0.1 ⁇ to about 100 ⁇ have. In one embodiment, the particles of the first and / or second type, and / or
  • Phosphor particles of the coupling layer 206 206 have several layers one above the other in the glass matrix, wherein the individual layers may be formed differently.
  • the particles of the first and / or second type, and / or phosphor particles have several layers one above the other in the glass matrix, wherein the individual layers may be formed differently.
  • the particles of the first and / or second type, and / or phosphor particles have several layers one above the other in the glass matrix, wherein the individual layers may be formed differently.
  • Particles of the first and / or second type, and / or phosphor particles, which can scatter, for example, electromagnetic radiation and can not absorb UV radiation can be used.
  • AI2O3, S1O2, Y2.O3 or ZrC> 2 have or be formed thereof_ particles of the first and / or second type, and / or phosphor particles which scatter, for example, electromagnetic radiation and convert the wavelength of electromagnetic radiation can
  • the particles of the coupling layer 206 for example laterally and / or vertically; for example by means of a different material composition and distribution of the particles of the coupling layer 206, for example laterally and / or vertically, for example with a different local concentration of at least one type of particles of the first and / or second type, and / or phosphor particles.
  • the structured interface may be formed, for example, by roughening one of the surfaces or forming a pattern on a surface of the glass matrix.
  • Microlenses be formed.
  • the ikrolinsen and / or the interface roughness for example, as
  • the coupling layer 206 may be formed as a grid, wherein the grid has a structured layer
  • a conclusive one may be on or above the second barrier layer 308
  • Connection layer 322 may be provided, for example, an adhesive or a paint.
  • a cover 324 can be connected conclusively to the second barrier layer 308, for example by being glued on.
  • transparent material can be particles
  • the coherent bonding layer 322 can act as a scattering layer and to improve the color angle distortion and the
  • dielectric As light-scattering particles, dielectric
  • Metal oxide for example silicon oxide (S1O2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (Zr0 2 ), indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), gallium oxide (Ga 2 O x ) aluminum oxide, or titanium oxide.
  • Other particles may also be suitable as long as they have a refractive index that is different from the effective refractive index of the matrix of the coherent bonding layer 322, for example air bubbles, acrylate, or glass bubbles.
  • metallic nanoparticles, metals such as gold, silver, iron nanoparticles, or the like may be provided as light-scattering particles.
  • the coherent connection layer 322 may have a layer thickness of greater than 1 ⁇ , for example one
  • the interlocking tie layer 322 may include or be a lamination adhesive.
  • the coherent connection layer 322 may be such
  • Such an adhesive may, for example, be a low refractive adhesive such as an acrylate having a refractive index of about 1.3. However, the adhesive may also be a high refractive index adhesive, for example
  • a plurality of different adhesives may be provided which form an adhesive layer sequence.
  • SiN for example, with a layer thickness in a range of about 300 nm to about 1.5 ⁇ , for example, with a layer thickness in a range of about 500 nm to about 1 ⁇ to electrically unstable materials
  • a cohesive interconnect layer 322 may be optional, for example, if the cover 324 is formed directly on the second barrier layer 308, such as a glass cover 324 formed by plasma spraying.
  • the electrically active region 306 may also be a so-called getter layer or getter structure,
  • a laterally structured getter layer may be arranged (not shown).
  • the getter layer may comprise or be formed from a material Substances that are detrimental to the electrically active region 306 absorb and bind.
  • a getter layer can be arranged (not shown).
  • the getter layer can be translucent,
  • the getter layer may have a layer thickness of greater than about 1 ⁇ , for example, a layer thickness of several ⁇ .
  • the getter layer may include a lamination adhesive or may be embedded in the interlocking tie layer 322.
  • a cover 324 may be formed on or above the coherent connection layer 322.
  • the cover 324 can be connected to the electrically active region 306 by means of the coherent connection slide 322 and protect it from harmful substances.
  • the cover 324 may include, for example, a glass cover 324, a
  • Runststofffolien cover 324 may, for example, by means of a frit bonding / glass soldering / seal glass bonding by means of a conventional glass solder in the geometric edge regions of the organic optoelectronic device 300 with the second barrier layer 308 and the electrically active region 306 conclusive get connected.
  • the cover 324 and / or the integral interconnect layer 322 may have a refractive index (for example, at a wavelength of 633 nm) of 1.55.
  • described glassware can be used as a glass cover.

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Abstract

In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine Glasware (200) (202) bereitgestellt, die Glasware (200) aufweisend: eine Glasmatrix mit einer Oberfläche, eine erste Art Partikel (208), und wenigstens eine zweite Art Partikel (210), wobei die Partikel (210) der zweiten Art einen höheren Brechungsindex aufweisen als die Partikel (208) der ersten Art; wobei die Partikel (208) der ersten Art von der Glasmatrix (204) vollständig umgeben sind, so dass die Oberfläche der Glasmatrix (204) frei ist von Partikel (208) der ersten Art, und die Partikel (210) der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln (208) der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix (204) an der Oberfläche der Glasmatrix (204) angeordnet sind zum Erhöhen des Brechungsindexes der Glasware (200).

Description

Beschreibung
Glasware, Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln, Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware, Verfahren zum Herstellen einer Glasware und Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln
In verschiedenen Ausführungsformen werden eine Glasware, eine Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln , eine Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware, ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware und ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln bereitgestellt.
Optoelektronische Bauelemente auf organischer Basis,
beispielsweise organische Leuchtdioden (organic iight
emitting diode - OLED) , finden zunehmend verbreitete
Anwendung in der Allgemeinbeleuchtung , beispielsweise als ' Flächenlichtquelle , Ein organisches optoelektronisches Bauelement, beispielsweise eine OLED, kann auf einem Träger eine Anode und eine Kathode mit einem organischen funktionellen Schichtensystem
dazwischen aufweisen. Das organische funktionelle
Schichtensystem kann eine oder mehrere Emitterschicht/en aufweisen, in der/denen elektromagnetische Strahlung erzeugt wird, eine oder mehrere Ladungsträgerpaar-Erzeugungs- Schichtenstruktur aus jeweils zwei oder mehr
Ladungsträgerpaar-Erzeugungs- Schichten („Charge generating layer", CGL) zur Ladungsträgerpaarerzeugung, sowie einer oder mehrerer Elektronenblockadeschichten, auch bezeichnet als
Lochtransportschicht (en) („hole transport layer" -HTL) , und einer oder mehrerer Lochblockadeschichten, auch bezeichnet als Elektronentransportschicht (en) {„electron transport layer" - ETL) , um den Stromfluss zu richten .
Ein Stromfluss zwischen den Elektroden führt zum Erzeugen elektromagnetischer Strahlung in dem organischen
funktionellen Schichtsystem . Die elektromagnetische Strahlung kann mittels Totalreflektion innerhalb des Bauelementes normalerweise nur zu ~ 20 % ohne technische Hilfsmittel aus der OLED ausgekoppelt werden. Die interne Totalreflektion in der OLED kann mittels Verwendens von Streuschichten reduziert werden, beispielsweise mit einer Streuschicht zwischen der ersten Elektrode und dem Träger . Dadurch kann ein höherer Anteil der erzeugten elektromagnetischen Strahlung,
beispielsweise Licht, ausgekoppelt werden.
In einer herkömmlichen Streuschicht wird eine organische Matrix verwendet (wodurch diese Streuschicht auch als organische Streuschicht bezeichnet wird) , in der Streuzentren mit anderem Brechungsindex als die organische
Matrixeingebettet sind. Organische Streuschichten können bei Kontakt mit Wasser und/oder Sauerstoff jedoch Altern bzw. Degradieren und so die Stabilität einer OLED verringern. Ein weiterer Nachteil organischer Streuschichten sind deren geringer Brechungsindex (n ~ 1,475) . Da die organische funktionelle Schichtenstruktur meist einen
schichtdickengemittelten Brechungsinde von ungefähr 1 , 7 aufweist , ergeben sich mit dem geringen Brechungsindex der organischen Streuschichten moderate Einfallswinkel für das Kriterium der Totalreflektion an der Grenzfläche der ersten Elektrode zur Streuschicht, so dass die Auskoppeleffizienz moderate ist.
Weiterhin wird der Träger vor dem Ausbilden der Streuschicht und der Träger mit Streuschicht vor dem Ausbilden der ersten Elektrode herkömmlich gereinigt , wodurch das
Herstellungsverfahren zum Ausbilden des optoelektronischen Bauelementes zeit- und kostenintensiver wird.
Weiterhin können herkömmliche organische Streuschichten aufgrund der Gren fläche des Trägers mit der Streuschicht leicht anf llig sein für mechanischen Abrieb . Die organische Streuschicht kann weiterhin in nachfolgenden Beschichtungsund/oder Reinigungsprozessen beschädigt werden,
beispielsweise durch Lösungsmittel . Weiterhin sind Streuschichten aus hochbrechendem Glaslot mit eingebetteten Streuzentren bekannt . Die Anzahldichte der Streuzentren nimmt bei diesen Streuschichten von innen zur Oberfläche nach außen ab oder ist homogen im
Schichtquerschnitt. Dieser Schichtquerschnitt resultiert aus dem herkömmlichen Verfahren zum Herstellen der Schichten, die aus einer Suspension, bzw. einer Paste aus Streuzentren und Matrixstoff, beispielsweise Glaslot, ausgebildet werden. Die Rauheit der Streuschicht oder die Form der Streuzentren können jedoch zum Bilden von Spikes an der
Streuschichtoberfläche führen. Bei Verwenden von
Streupartikeln als Streuzentren können an der
Streuschichtoberfläche nicht komplett von Glas umschlossene Streupartikel ebenfalls Spikes ausbilden. Spikes sind zu verstehen als lokale Oberflächenaufrauungen mit hohem
Aspekt-Verhältnis. Insbesondere bei einer dünnen
Ausgestaltung einer OLED können Spikes zu einem Kurzschließen der ersten Elektrode mit der zweiten Elektrode führen. Zudem kann es beim Herstellen der OLED in unmittelbarer Umgebung zu den Spikes der Streuschicht zu einem lokalen Verzerren oder Entnetzen der Schichten, auf oder über der Streuschicht kommen, beispielsweise der ersten Elektrode oder der
organisch funktionellen Schicht. Wird auf dem Bauelement eine Dünnf ilmverkapselung aufgebracht, so besteht mittels der
Spikes die Gefahr, dass die Dünnfilmverkapselung lokal nicht dicht ist, was zur Degradation des Bauteils führen kann.
Die Oberflächeneigenschaften von Streuschichten,
beispielsweise eine geringe Oberflächenrauheit oder eine definierte Welligkeit werden herkömmlich mitteis einer zusätzlich auf die Streuschicht aufgebrachte Glasschicht eingestellt. Diese reduziert auch das Risiko, dass nicht komplett von Glas umschlossene Streupartikel an der
Streuschichtoberfläche vorliegen. Die zusätzliche Schicht erfordert jedoch meist einen zusätzlichen Temper- Schritt und verlängert somit die Prozessführung. Weiterhin weißt ein solches Verfahren den Nachteil auf, dass brechung indexändernde Stoff nicht kontrolliert an der
Oberfläche der Streuschicht angeordnet werden können.
Weiterhin ist ein herkömmliches Verfahren bekannt, in dem Partikel auf ein Floatglas-Glasband aufgebracht werden, während das Glas noch heiß ist, sodass Partikel in das
Floatglas teilweise einsinken oder mit diesem chemisch reagieren. Dies hat jedoch den Nachteil, dass Partikel mehrerer Größen gemeinsam aufgebracht werden, was zu oben genannten Problemen führen kann. Insbesondere die
Oberflächengüte (Rauheit) des Glases kann sich dadurch verschlechtern, da Partikel nicht definiert aufgebracht werden und zum Teil aus der Oberfläche ragen können. In verschiedenen Ausführungsformen werden eine Glasware, eine Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln, eine Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware, ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware und ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln bereitgestellt, mit denen es
beispielsweise möglich ist, die Auskoppelstruktur bzw.
Einkoppelstruktur eines optoelektronischen Bauelementes während des Herstellungsprozesses des Trägers und/oder der Abdeckung des optoelektronischen Bauelementes auszubilden. In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Glasware
bereitgestellt. Die Glasware kann eine Glasmatrix mit einer Oberfläche, eine erste Art Partikel, und wenigstens eine zweite Art Partikel aufweisen, Die Partikel der zweiten Art können einen höheren Brechungsindex aufweisen als die
Partikel der ersten Art; wobei die Partikel der ersten Art von der Glasmatrix vollständig umgeben sind, so dass die Oberfläche der Glasmatrix frei ist von Partikel der ersten Art, und die Partikel der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln der ersten Art zumindest teilweise in der
Glasmatrix an der Oberfläche der Glasmatrix angeordnet sind zum Erhöhen des Brechungsindexes der Glasware, beispielsweise im Bereich der Oberfläche oder an der Oberfläche der
Glasware . In verschiedenen Ausgestaltungen wird auf eine elektromagnetische Strahlung bezuggenommen, beispielsweise bezüglich optischer Eigenschaften der Partikel und
Glasmatrix, Als elektromagnetische Strahlung ist wenigstens ein Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung zu verstehen, die auf die Glasware einfällt , beispielsweise von der Glasware transmittiert oder reflektiert wird . In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasware
wenigstens transluzent im sichtbaren Wellenlängenbereich einer elektromagnetischen Strahlung ausgebildet sein, beispielsweise transparent, beispielsweise gefärbt. In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasware als ein Flachglas ausgebildet sein, beispielsweise als ein Träger, eine Abdeckung, ein Fenster, eine Scheibe oder ein planer Lichtwellenleiter,- beispielsweise als Träger und/oder
Abdeckung einer organischen Leuchtdiode , einer Solarzelle oder als Lichtwellenleiter eine Hintergrundbeleuchtung einer Display-Anzeige .
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasware als ein Hohlglas ausgebildet sein, beispielsweise als ein Glasrohr oder Glaskolben; beispielsweise als Glaskolben einer
Glühlampe oder Glasrohr einer Leuchtstofflampe .
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasware als Glasfaser ausgebildet sein, beispielsweise als Glaswolle oder Lichtwellenleiter .
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasmatrix ein metallisches Glas sein oder aufweisen; beispielsweise eine metallische Legierung im Eutektikum . Das metallische Glas kann auch auf einem Metall der gleichen stofflichen
Zusammensetzung ausgebildet sein . Die Partikel können weiterhin eine Kristallisation des Metalls oder eine
Rissausbildung in dem Metall verhindern. In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Oberfläche eine mittlere Rauheit (root mean Square roughness - RMS)
aufweisen, die kleiner ist als ungefähr 10 nra, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 0,1 nm bis ungefähr 8 nm.
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Oberfläche frei liegend einen Teil der Partikel der zweiten Art und der
Glasmatrix aufweisen. Dadurch kann der Brechungsindex dicht an der Oberfläche verändert werden
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die erste Art
Partikel und/oder die zweite Art an Partikeln jeweils einen Brechungs index in einem Bereich von ungefähr 1 , 5 bis ungefähr 4,0 aufweisen oder derart ausgebildet sein, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 3,9;
beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 2 , 3 bis ungefähr 3,1. In einer Ausgestaltung der Glasware kann die erste Art
Partikel einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 100 nm bis ungefähr 50 μττι aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungef hr 250 nm bis ungefähr 350 nm. Beispielsweise können Partikel der ersten Art , die als
Leuchtstoff -Partikel ausgebildet sind, einen mittleren
Durchmesser in einem Bereich von ungef hr 20 μτα. bis ungefähr 30 Jim aufweisen . Hingegen können Partikel der ersten Art , die als Streuzentren für sichtbares Licht ausgebildet sind, einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 230 nm bis ungef hr 350 nm ausgebildet sein.
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die zweite Art
Partikel einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungef hr 10 nm bis ungefähr 1 μτη aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 700 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungef hr 10 nm bis ungefähr 500 nm, beispielsweise i einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 350 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nra bis ungefähr 250 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 100 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm.
In einer Ausgestaltung der Glasware kann der
Betragsunterschied des Brechungsindexes der ersten Art
Partikel und oder die zweite Art an Partikeln zum
Brechungsindex der Glasmatrix bezüglich wenigstens einer Wellenlänge einer elektromagnetischen Strahlung größer sein als 0,05; beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 0,05 bis ungefähr 2,5.
In verschiedenen Ausgestaltungen können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art amorph oder kristallin und/oder Nanopartikel sein.
In einer Ausgestaltung der Glasware kann das Verhältnis des mittleren Durchmessers der Partikel der zweiten Art zu dem mittleren Durchmesser der Partikel der ersten Art in einem
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Bereich von ungef hr 2 · 10 bis ungefähr 1 sein. Mit anderen Worten : die zweiten Partikel können einen kleineren mittleren Durchmesser aufweisen als die Partikel der ersten Art.
Dadurch kann beispielsweise die Rauhei der Oberfläche reduziert werden.
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die zweite Art Partikel derart ausgebildet sein, dass die Partikel der zweiten Ar den Hohlraum zwischen den Partikeln der ersten Art auffüllen, beispielsweise bei einer Art Kugelpackung der Partikel der ersten Art . Dadurch kann beispielsweise die Dichte an Partikeln in der Glasmatrix in der Nähe der
Oberfläche erhöht werden. Dadurch kann die Rauheit der
Oberfläche reduziert werden, indem die Glasmatrix weniger Hohlraumvolumen zwischen den Partikeln auffüllt , und somit eine glattere Oberfläche ausbilden kann. In einer Ausgestaltung der Glasware kann das Verhältnis des mittleren Durchmessers der zweiten Art Partikel zu dem mittleren Durchmesser der ersten Art Partikel derart
eingerichtet sein, dass die Packungsdichte an Partikeln der ersten Art und/oder zweiten Art in der Glasmatrix in einem Bereich von 50 % bis 100 % ist,
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die erste Art
Partikel und/oder die zweite Art Partikel jeweils eine oder mehrere der nachfolgenden optisch funktionalen Eigenschaften bezüglich der Glasmatrix und einer elektromagnetischen
Strahlung aufweisen oder derart ausgebildet sei : nicht- streuende Hochindexpartikel , Streupartikei ,
Strahlungsabsorbierend, beispielsweise im ultravioletten und/oder infraroten Wellenlängenbereich der
elektromagnetischen Strahlung, beispielsweise als UV- oder IR-Schutz ; strahlungsabsorbierend im sichtbaren
Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung , beispielsweise als optischer Filter und/oder
wellenlängenkonvertierend, beispielsweise als
Konvertermaterial. Hochindexpartikel können beispielsweise einen Brechungsindex bezüglich der elektromagnetischen
Strahlung von größer als 1 , 7 auf eisen . Die Streupartikel können beispielsweise bezüglich der Wellenlänge der
elektromagnetischen Strahlung und dem Brechungsindex der Glasmatrix einen Brechungsindex und einen Durchmesser aufweisen, dass die Streupartikel einfallende
elektromagnetische Strahlung streuen können .
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die zweite Art an Partikeln bezüglich der ersten Art an Partikeln ein gleiches Material und/oder einen gleichen mittleren Durchmesser aufweisen. Die zweite Art Partikel kann sich jedoch in wenigstens einer optisch funktionalen Eigenschaft von der ersten Art Partikel unterscheiden, beispielsweise im
Wellenlängenbereich der optischen funktionalen Eigenschaft und/oder der Intensität der optischen funktionalen
Eigenschaft . In einer Ausgestaltung der Glasware kann die erste Art
Partikel und/oder die zweite Art Partikel ein Material aufweisen oder daraus gebildet derart , dass es in der
Glasmatrix eine elektrochrome , elektrotrope , thermochrome und/oder fotochrome Eigenschaft aufweist . Mittels einer oder mehrerer dieser Eigenschaften der Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art kann die Glasware ein Verändern der Fabre, der Opakheit , der Transluzenz , der Transmission, der Absorption, und/oder der Reflektivität für eine oder mehrere Wellenlängen, We11enlängenbereich und/oder Polarisationen auf die Glasware einfallende elektromagnetische Strahlung
aufweisen . Die Partikel mit der elektrochromen,
elektrotropen, thermochromen und/oder fotochromen Eigenschaft sollten j edoch derart ausgebildet sein, dass diese Partikel bei der Temperatur, bei der sie in der Glasmatrix verteilt werden, im Wesentlichen ihre Form beibehalten und/oder in der Glasware noch als Partikel vorhanden sind, das heißt in der Glasmatrix als Partikel beständig sein. Beispielsweise können die ummantelt sein.
Als Beispiel für eine elektrochrome und/'oder elektrotrope Eigenschaft kann die Glasware bei einem Ändern eines äußeren elektrischen Feldes oder eines Stromfeldes durch die Glasware die Glasware beispielsweise von transparent zu transluzent werden. Eine elektrochrome Eigenschaft kann beispielsweise bei Partikeln der ersten Art und/oder der zweiten Art vorhanden sein, die beispielsweise ein Übergangsmetalloxid, beispielsweise Wolframoxid {WO3 ) aufweisen oder daraus gebildet sind. Die Glasware als Flachglas kann dazu
beispielsweise auf beiden flächigen Seiten elektrische
Kontakte oder Elektroden auf eisen, mittels deren die optischen Eigenschaften der Glasware eingestellt werden können . Als Beispiel für eine thermochrome Eigenschaft kann die Glasware bei einem Ändern der Temperatur der Glasware beispielsweise selbsttönend sein, beispielsweise die Reflektivität und/oder Transparenz in Abhängigkeit von der Temperatur ändern. Eine thermochrome Eigenschaft kann
beispielsweise bei Partikeln der ersten Art und/oder der zweiten Art vorhanden sein, die beispielsweise Zinkoxid, Indium (III) oxid, Blei (II) oxid, Nickelsulfat , Titandioxid, beispielsweise als Rutil; Chrom (III) oxid : Aluminim ( III ) oxid, und/oder eine Mineraiform, Mischung oder Legierung mit thermochromen Eigenschaften von einem der in der Beschreibung genannten Materialen der Partikel aufweisen oder daraus gebildet sind.
I einer Ausgestaltung der Glasware kann der
Betragsunterschied des Brechungsindexes der zweiten Art
Partikel zum. Brechungsindex der ersten Art Partikel bezüglich wenigstens einer Wellenlänge einer elektromagnetischen
Strahlung größer sein als 0,05; beispielsweise in einem
Bereich von ungefähr 0,05 bis ungefähr 2,5; beispielsweise in einem Bereich von 0 , 05 bis 1. Mittels der unterschiedlichen Brechungsindizes kann beispielsweise ein Gradient des
Brechungsindex von der Oberfläche in der Glasware ausgebildet werden .
In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasmatrix wenigstens eine weitere Art Partikel aufweisen, wobei die weitere Art Partikel sich in wenigstens einer optisch
funktionalen Eigenschaft von der ersten Art Partikel und der zweiten Art Partikel unterscheidet , beispielsweise einen andern Brechungsindex aufweist, oder ein Leuchtstoff ist In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasmatrix eine zweite Oberfläche aufweisen, die der ersten Oberfläche in einem Abstand, gegenüberliegt , wobei an der zweiten Oberfläche Partikel der ersten Art frei liegen und die zweite Oberfläche frei ist von Partikeln der zweiten Art . Dadurch kann
beispielsweise eine Glasware ausgebildet werden, deren erste Oberfläche und z eite Oberfläche unterschiedliche optische Eigenschaften aufweisen kann, beispielsweise unterschiedliche Reflekti i täten in Abhängigkeit von der Einfallsseite auf die Glasware .
Alternativ kann die zweite Oberfläche frei sein von Partikeln der ersten Art und der zweiten Art. Dadurch kann eine
Glasware ausgebildet werden, deren Oberfläche frei ist von Partikeln der ersten Art und zweiten Art. Dies kann
beispielsweise vorteilhaft sein, falls das Material der ersten Art und der zweiten Art gesundheitsschädlich sein sollte, da dadurch ein direkter körperlicher Kontakt beim Handhaben der Glasware vermieden werden kann.
Alternativ kann die zweite Oberfläche frei sein von Partikeln der ersten Art und Partikel der zweiten Art an der zweiten Oberfläche frei liegend aufweisen. Dadurch kann eine optisch symmetrische Glasware ausgebildet werden, so dass eine
Verwechselung der optischen Eigenschaften der Oberflächen vermieden werden kann. In einer Ausgestaltung der Glasware kann die Glasware eine oder mehrere Lagen an Partikeln der ersten Art und/oder der zweiten Art aufweisen. In den Lagen können die Partikel beispielsweise in unterschiedlichen Volumenkonzentrationen in der Glasware angeordnet sein.
In einer Ausgestaltung der Glasware können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art in der Glasware im
Wesentlichen homogen verteilt sein. Die im Wesentlichen homogene Verteilung bezieht sich dabei auf den Teil der
Glasware bis auf die Oberfläche der Gl sware .
In einer Ausgestaltung der Glasware können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art in der Glasware im
Wesentlichen an der Oberfläche verteilt sein. Dadurch kann beispielsweise eine Glasware mit hoher mechanischer Bruchrate ausgebildet werden. In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware gemäß einer der oben genannten Ausgestaltungen bereitgestellt, das Verfahren aufweisend: Bereitstellen einer geschmolzenen Glasmatrix mit einer
Oberfläche, Verteilen von Partikeln einer ersten Art in der geschmolzenen Glasrnatrix durch die erste Oberfläche derart, dass die Partikel der ersten Art von der geschmolzenen
Glasmatrix vollständig umgeben sind, so dass die Oberfläche der Glasmatrix frei ist von Partikeln der ersten Art;
Verteilen von Partikeln einer zweiten Art in der Glasschmelze durch die Oberfläche derart, dass die Partikel der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix an der Oberfläche der Glasmatrix angeordnet sind.
In verschiedenen Ausgestaltungen des Verfahrens zum
Herstellen einer Glasware können die Partikel der zweiten Art einen höheren Brechungsindex aufweisen als die Partikel der ersten Art .
In verschiedenen Ausgestaltungen kann das Verfahren zum
Hersteilen einer Glasware Merkmale der Glasware; und eine Giasware Merkmale des Verfahrens zum Herstellen der Glasware aufweisen derart und insoweit, als dass die Merkmale jeweils sinnvoll anwendbar sind.
In verschiedenen Ausgestaltungen des Verfahrens zum
Herstellen einer Glaswarekann können die Partikel der ersten Art derart ausgebildet und in der geschmolzenen Glasmatrix verteilt werden, dass die Partikel der ersten Art als eine Diffusionsbarriere für die Partikel der zweiten Art beim Verteilen der Partikel der zweiten Art in die geschmolzenen Glasmatrix wirken. In verschiedenen Ausgestaltungen des Verfahrens zum
Herstellen einer Glaswarekann können die Partikel der zweiten Art derart in der Glasmatrix verteilt werden, dass der Brechungsindex der Glasware erhöht wird, beispielsweise an der Oberfläche der Glasware.
In verschiedenen Ausgestaltungen des Verfahrens zum
Herstellen einer Glaswarekann kann das Verfahren ferner ein Formgeben der Glasschmelze in eine vorgegebene Form
aufweisen, beispielsweise die Form der Glasware,
beispielsweise als Flachglas, Hohlglas oder Glasfaser, In verschiedenen Ausführungsformen wird ein
optoelektronisches Bauelement mit einer Glasware gemäß einer der oben genannten Ausgestaltungen bereitgestellt. Das optoelektronische Bauelement kann einen optisch aktiven
Bereich zu einem Umwandeln eines elektrischen Stromes in eine elektromagnetische Strahlung und/oder zu einem Umwandeln einer elektromagnetischen Strahlung in einen elektrischen Strom aufweisen; wobei die Glasware als Abdeckkörper des optisch aktiven Bereiches ausgebildet ist, und im
Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung angeordnet ist. Der Abdeckkörper kann beispielsweise als Träger und/oder Abdeckung des optoelektronischen Bauelementes ausgebildet sein.
In einer Ausgestaltung des optoelektronischen Bauelementes können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art eine Auskoppelstruktur und/oder eine Einkoppelstruktur bezüglich der elektromagnetischen Strahlung ausbilden. Ein Einkoppelstruktur und/oder eine Auskoppelstruktur kann allgemein auch als Kopplungsstruktur bezeichnet werden.
In einer Ausgestaltung des optoelektronischen Bauelementes kann das optoelektronische Bauelement ferner eine
Verkapselungsstruktur auf oder über dem optisch aktiven
Bereich aufweisen, wobei die Verkapselungss ruktur hermetisch dicht bezüglich einer Diffusion von Wasser und/oder
Sauerstoff durch die Verkapselungsstruktur in den optisch aktiven Bereich ausgebildet ist, und wobei die
Verkapselungsstruktur die Glasware aufweist oder daraus gebildet ist. Der Abdeckkörper kann Teil der
Verkapselungsstruktur sein oder diese bilden. Die
Verkapselungsstruktur kann beispielsweise ausgebildet sein, um die Diffusion eines Gases, beispielsweise eines
Leuchtgases, aus dem optisch aktiven Bereich durch die
Verkapselungsstruktur zu verhindern.
In einer Ausgestaltung des optoelektronischen Bauelementes kann das optoelektronische Bauelement als eine Leuchtdiode, eine Solarzelle; eine Leuchtstoffröhre, eine Glühlampe, eine Leuchtröhre oder eine Halogenlampe ausgebildet sein.
In einer Ausgestaltung des optoelektronischen Bauelementes kann das optoelektronische Bauelement als ein organisches optoelektronisches Bauelement ausgebildet sein,
beispielsweise als ein organischer Fotodetektor, eine
organische Solarzelle und/oder eine organische Leuchtdiode.
In einer Ausgestaltung des optoelektronischen Bauelementes kann der optisch aktive Bereich eine erste Elektrode, eine zweite Elektrode und eine organische funktionelle
Schichtenstruktur zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode aufweisen, wobei die organische
funktionelle Schichtenstruktur zum Umwandeln der
elektromagnetischen Strahlung und/oder des elektrischen
Stromes ausgebildet ist, und wobei die erste Elektrode auf oder über dem Abdeckkörper ausgebildet ist und/oder der
Abdeckkörper auf oder über der zweiten Elektrode angeordnet ist .
In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelementes
bereitgestellt, wobei das Bauelement eine Glasware gemäß einer der oben genannten Ausgestaltungen aufweist. Das
Verfahren kann aufweisen: ein Ausbilden eines optisch aktiven Bereiches auf oder über der Glasware und/oder Aufbringen der Glasware auf dem, über dem und/oder um den optisch aktiven Bereich aufweist. Die Glasware kann als Auskoppelstruktur und/oder Einkoppelstruktur bezüglich der von dem optisch aktiven Bereich absorbierten oder emittierten
elektromagnetischen Strahlung in dem Strahlengang der
elektromagnetischen Strahlung ausgebildet und angeordnet werden .
In verschiedenen Ausgestaltungen kann das Verfahren zum
Herstellen eines optoelektronischen Bauelementes Merkmaie des optoelektronischen Bauelementes; und ein optoelektronisches Bauelement Merkmale des Verfahrens zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelementes aufweisen derart und
insoweit, als dass die Merkmale jeweils sinnvoll anwendbar sind. In verschiedenen Aus führungs formen wird eine Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware gemäß einer der oben genannten Ausgestaltungen bereitgestellt. Die Vorrichtung aufweisend: eine Transportstrecke für eine geschmolzene Glasmatrix, wobei die Transportstrecke eingerichtet ist, dass die geschmolzene Glasmatrix entlang der Transportstrecke abgekühlt wird;
einen ersten Beschichter, der zu einem Verteilen einer ersten Art Partikel in der geschmolzenen Glasmatrix in einem ersten Kühlbereich eingerichtet ist, wobei der erste Beschichter derart entlang der Transportstrecke angeordnet ist, dass die geschmolzene Glasmatrix in dem ersten Kühlbereich bezüglich der Partikel der ersten Art eine Viskosität aufweist, dass die Partikel der ersten Art von der Glasmatrix vollständig umgeben werden, so dass die Oberfläche der Glasmatrix frei ist von Partikel der ersten Art; und wenigstens einen zweiten Beschichter, der zu einem Verteilen einer zweiten Art
Partikel in der geschmolzenen Glasmatrix in einem zweiten Kühlbereich eingerichtet ist, wobei der zweite Beschichter derart entlang der Transportstrecke angeordnet ist, dass die geschmolzene Glasmatrix in dem zweiten Kühlbereich bezüglich der Partikel der zweiten Art eine Viskosität aufweist, dass die Partikel der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix an der Oberfläche der Glasmatrix angeordnet werden.
In einer Ausgestaltung der Vorrichtung kann der erste
Beschichter temperaturbeständig bezüglich der Temperatur der Glasmatrix im ersten Kühlbereich ausgebildet sein,
beispielsweise in einem Abstand über der Glasmatrix
angeordnet sein, und/oder der zweite Beschichter
temperaturbeständig bezüglich der Temperatur der Glasmatrix im zweiten Kühlbereich ausgebildet sein, beispielsweise in einem Abstand über der Glasmatrix angeordnet sein,
beispielsweise thermisch isoliert.
In einer Ausgestaltung der Vorrichtung kann die
Transportstrecke einen oberen Kühlbereich und einem unteren Kühlbereich aufweisen, wobei der erste Kühlbereich und der zweite Kühlbereich zwischen dem oberen Kühlbereich und dem unteren Kühlbereich angeordnet sind, wobei der obere
Kühlbereich zu einem Aufnehmen der geschmolzenen Glasmatrix eingerichtet ist, beispielsweise mittels eines siphonartigen Durchfluss, einem Lippstein, einer Einschnürung und/oder einer Abstehwanne; und der untere Kühlbereich zu einem
Formgeben der geschmolzenen Giasware eingerichtet ist, beispielsweise mittels eines Speisers, einer
Spinnvorrichtung, einer Schleudervorrichtung, einer Walze ,
In einer Ausgestaltung der Vorrichtung kann die
Transportstrecke: ein Floatbad oder einen Speiser und eine Kühlstrecke aufweisen.
In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln bereitgestellt. Die Glasware
aufweisend: eine Glasmatrix mit einer Oberfläche,
Leuchtstoff -Partikel in der Glasmatrix, wobei die
Leuchtstoff -Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sind, wobei der Leuchtstoff eine elektromagnetische Strahlung einer ersten Wellenlänge absorbiert und einen Teil der absorbierten elektromagnetischen Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge emittiert; wobei die Leuchtstoff-Partikel derart in der Glasmatrix verteilt sind, dass die Oberfläche im Wesentlichen frei ist von Leuchtstoff -Partikel . Dadurch kann beispielsweise verhindert werden, dass der
Leuchtstoff direkt an der Oberfläche freiliegt. Dies kann beispielsweise für Leuchtstoffe vorteilhaft sein, die
gesundheitsschädlich sein können. In einer Ausgestaltung der Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln können die Leuchtstoff-Partikel von der Glasmatrix
vollständig umgeben ein.
In einer Ausgestaltung der Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln kann die Glasmatrix ferner eine weitere Oberfläche aufweisen, die der Oberfläche gegenüberliegt, wobei die Leuchtstoff - Partikel in der Glasmatrix derart angeordnet sind, dass die Leuchtstoff-Partikel an der weiteren Oberfläche frei liegen; oder die Leuchtstoff-Partikel in der Glasmatrix derart angeordnet sind, dass die weitere Oberfläche frei ist von
Leuchtstoff-Partikel . Beispielsweise können die Leuchtstoffe dadurch vollständig oder einseitig in der Glasware vor äußerlichen chemischen oder mechanischen Einflüssen geschützt sein.
In verschiedenen Ausgestaltungen kann die Glasware mit
Leuchtstoffpartikeln Merkmale gemäß einer der Ausgestaltungen der beschriebenen Merkmale der Glasware mit Partikeln der ersten Art und zweiten Art aufweisen, beispielsweise
bezüglich der Glasmatrix, Oberfläche, den Eigenschaften der Partikel, insoweit die Merkmale der Ausgestaltungen sinnvoll anwendbar sind.
In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln
bereitgestellt, das Verfahren aufweisend: Bereitstellen einer geschmolzenen Glasmatrix mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, die der ersten Oberfläche in einem Abstand gegenüberliegt, Verteilen von Leuchtstoff -Partikel in der geschmolzenen Glasmatrix durch die erste Oberfläche, wobei die Leuchtstoff -Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sind, wobei der Leuchtstoff eine
elektromagnetische Strahlung einer ersten Wellenlänge
absorbiert und einen Teil der absorbierten
elektromagnetischen Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge emittiert; wobei die Leuchtstoff -Partikel derart in der geschmolzenen Glasmatrix verteilt werden, dass die erste Oberfläche und/oder die zweite Oberfläche im Wesentlichen frei ist von Leuchtstoff-Partikeln.
In verschiedenen Ausgestaltungen kann das Verfahren zum
Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln Merkmale der Giasware mit Leuchtstoff -Partikeln,- und eine Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln Merkmale des Verfahrens zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln aufweisen derart und insoweit, als dass die Merkmale jeweils sinnvoll anwendbar sind.
In verschiedenen Ausgestaltungen kann das Verfahren zum
Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln Merkmale des Verfahrens zum Herstellen der Glasware und der Glasware aufweisen und umgekehrt, soweit sie jeweils sinnvoll
anwendbar sind.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert. Es zeigen
Figur 1 ein Ablaufdiagramm zum Hersteilen einer
Glasware gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen;
Figur 2 eine schematische Darstellung einer Glasmatrix im Verfahren zum Herstellen der Glasware gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen; und Figur 3 ein optoelektronisches Bauelement mit der
Glasware gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen.
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische
Äusführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird
Richtungsterminologie wie etwa „oben", „unten", „vorne", „hinten", „vorderes", „hinteres", usw. mit Bezug auf die
Orientierung der beschriebenen Figu (en) verwendet. Da
Komponenten von Äusführungsformen in einer Anzahl
verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Äusführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegebe . Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der
Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe
"verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
In verschiedenen Äusführungs ormen werden optoelektronische Bauelemente beschrieben, wobei ein optoelektronisches Bauelement einen optisch aktiven Bereich aufweist. Der optisch aktive Bereich kann mittels einer angelegten Spannung an den optisch aktiven Bereich elektromagnetische Strahlung emittieren. In verschiedenen Ausführungsformen kann das optoelektronische Bauelement derart ausgebildet sein, dass die elektromagnetische Strahlung einen Wellenlängenbereich aufweist, der Röntgenstrahlung, UV-Strahlung (A-C) ,
sichtbares Licht und/oder Inf arot-Strahlung (A-C) umfasst . Ein optoelektronisches Bauelement kann beispielsweise als lichtemittierende Diode ( light emitting diode, LED) , als organische lichtemit ierende Diode (organic light emitting diode, OLED) , als lichtemittierender Transistor oder als organischer lichtemittierender Transistor, beispielsweise ein organischer Feldeffekttransistor (organic field effect transistor OFET) und/oder eine organische Elektronik
ausgebildet sein .
Weiterhin kann eine Mehrzahl von elektromagnetische Strahlung emittierenden Bauelementen vorgesehen sein, beispielsweise untergebracht in einem gemeinsamen Gehäuse . Ein
optoelektronisches Bauelement kann ein organisches
funktionelles Schichtensystem auf eisen, welches synonym auch als organische funktionelle Schichtenstruktur bezeichnet wird. Die organische funktionelle Schichtenstruktur kann einen organischen Stoff oder ein organisches Stoffgemisch aufweisen oder daraus gebildet sein, der/das beispielsweise zum Emittieren einer elektromagnetischen Strahlung aus einem bereitgestellten elektrischen Strom eingerichtet ist .
Eine organische Leuchtdiode kann als ein sogenannter Top- Emitter und/oder ein sogenannter Bottom-Emitter ausgebildet sein. Bei einem Bottom-Emitter wird elektromagnetische
Strahlung aus dem elektrisch aktiven Bereich durch den Träger emittiert . Bei einem Top-Emitter wird elektromagnetische
Strahlung aus der Oberseite des elektrisch aktiven Bereiches emittiert und nicht durch den Träger. Ein Top-Emitter und/oder Bottom-Emitter kann auch optisch transparent oder optisch transluzent ausgebildet sein, beispielsweise kann jede der nachfolgend beschriebenen
Schichten oder Strukturen transparent oder transluzent sein oder ausgebildet werden bezüglich der absorbierten oder emittierten elektromagnetischen Strahlung .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen ist eine
Kop lungsstruktur eine Schicht oder Struktur, die zu einem internen Auskoppeln oder internen Einkoppeln von
elektromagnetischer Strahlung eingerichtet ist . Beim internen Auskoppeln kann beis ielsweise elektromagnetische Strahlung, beispielsweise Licht , aus einem optoelektronischen Bauelement ausgekoppelt werden, das in dem optisch aktiven Bereich des optoelektronischen Bauelementes geführt oder erzeugt werden kann . In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann mittels der Partikel der ersten Art , der zweiten Art und/oder
Leuchtstoff -Partikel in der Glasmatrix eine Kop lungsstruktur ausgebildet werden .
Unter dem Begriff „transluzent" bzw. „transluzente Schicht" kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für elektromagnetische Strahlung durchlässig ist, beispielsweise für das von dem
optoelektronische Bauelement absorbierte oder erzeugte Licht , beispielsweise einer oder mehrerer Wellenlängenbereiche , beispielsweise für Licht in einem Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts (beispielsweise zumindest in einem
Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm) . Beispielsweise ist unter dem Begriff „transluzente Schicht" i verschiedenen Aus führungsbei spielen zu verstehen, dass im Wesentlichen die gesamte in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppelte Lichtmenge auch aus der St uktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird, wobei ein Teil des Licht hierbei gestreut werden kann
Unter dem Begriff „transparent" oder „transparente Schicht" kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für elektromagnetische Strahlung durchlässig ist (beispielsweise zumindest in einem
Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm) , wobei in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht)
eingekoppeltes Licht ohne Streuung oder Lichtkonversion auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird.
In verschiedenen .Ausführungsbeispielen ist ein Glas ein festes Material ohne Kristallstruktur, so dass die Atome oder Moleküle des Glases kein Gitter bilden, sondern im
Wesentlichen willkürlich angeordnet sind. Es besteht in dem Glas unter den Atomen oder Molekülen des Glases somit keine Fernordnung.. Lokal können die Atome oder Moleküle des Glases jedoch eine Nahordnung aufweisen. Somit weist ein Glas ein als amorph bezeichnetes Atom- oder Molekülgefüge auf . Die Glasmatrix einer Glasware ist in verschiedenen
Äusführungsbeispielen aus einem Glas gebildet oder weist ein solches auf oder wird als Glas ausgebildet. Eine Glasware kann als ein Formkörper aus einem Glas bezeichnet werden, der mittels eines Formens eines erweichten Glases oder schmelzen der Rohmaterialien eines Glases ausgebildet wird. Als Prozess des Glasschmelzens kann ein thermisches Verflüssigen, d.h. Aufschmelzen, eines Glases verstanden werden. In
verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das Glas ein
metallisches Glas oder ein nichtmetallisches Glas sein. Ein nichtmetallisches Glas kann beispielsweise ein Glas aus einem organischen Stoff oder ein anorganisches nichtmetallisches Glas sein. Ein organisches Glas kann beispielsweise einen Thermoplasten, beispielsweise Polyphtalamid (PPA) , einen Duroplasten, beispielsweise Epoxide oder Polyurethanharz, ein Elastomer beispielsweise ein Silikon., oder ein Hybridmaterial aufweisen, das beispielsweise eines der genannten Materialien aufweist; beispielsweise ein Polyacrylat, ein Polycarbonat , ein Polyolefin, ein Silikon, beispielsweise
Polydimethylsiloxan, Polydimethylsiloxan/Polydiphenylsiloxan ein Silazan, ein Epoxid, oder ähnliches, beispielsweise ein Silikon-Hybrid, ein Silikon-Epoxid-Hybrid . Ein anorganisches nichtmetallisches Glas kann beispielsweise ein nicht- oxidisches Glas, beispielsweise ein Halegonidglas oder
Chalkogenidglas ; oder ein oxidisches Glas sein. Ein
oxidisches Glas kann beispielsweise ein phosphatisches Glas, ein silikatisches Glas oder ein Boratglas, beispielsweise ein Alkaliboratglas , sein. Ein silikatisches Glas kann
beispielsweise ein Alumosilikatglas , ein Bleisilikatglas, ein Alkalisilikatglas , ein Alkali -Erdalkalisilikatglas oder ein Borosilikatglas sein; beispielsweise ein
Kalknatronsilikatglas, In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Glasware als Träger oder Abdeckung ausgebildet sein, beispielsweise als Automobilglas im Automobilbereich; als Glas in Spiegeln, Linsen, Prismen in optischen Bauelementen, beispielsweise Mikroskopen, Ferngläser, Objektive,
Brillengläsern, Kotaktlinsen; als Temperglas oder
Verbundglas; als Lichtwellenleiter, als Träger, Abdeckung bzw. Verkapselung in beispielsweise organischen Leuchtdioden, Solarzellen, Leuchtstofflampen; in glasfaserverstärkten
Kunststoff, Textilglas ; Fensterglas; Laborglas; Architekturoder Bauglas .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art einen Farbstoff aufweisen oder sein. Als Farbstoff kann eine chemische
Verbindung oder ein Pigment verstanden werden, der andere Stoffe oder Stoffgemische f rben kann, d.h. das äußere
Erscheinungsbild der Glasware verändert . Als organische
Farbstoffe können für die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art einen Farbstoff der folgenden Stoffklassen und Derivate von Farbstoffen aufweisen oder daraus gebildet sein : Acridin, Acridon, Anthrachino, Anthracen, Cyanin, Dansyl, Squaryllium, Spiropyrane, Boron-dipyrromethane
(30DIPY) , Perylene , Pyrene , Naphtalene , Flavine , Pyrrole , Porphrine und deren Metallkomplexe, Diarylmethan,
Triarylmethan, Nitro, Nitroso, Phthalocyanin und deren
Metallkomplexe , Quinone, Azo, Indophenol , Oxazine , Oxazone , Thiazine , Thiazole , Xanthene , Fluorene , Flurone , Pyronine , Rhodamine , Coumarine , Metallocene . Alternativ oder zusätzlich können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art einen der folgenden anorganischen Stoffe aufweisen oder daraus gebildet sein aus der Gruppe der anorganischen
Farbstoffklassen, anorganischen Farbstoff-Derivate oder anorganischen Farbstoffpigmente : Übergangsmetalle,
Seltenerdmetall-Oxide, Sulfide, Cyanide, Eisenoxide,
Zirkonsilikate , Bismutvanadat , Chromoxide, Alternativ oder zusätzlich können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art Nanopartikel aufweisen oder daraus gebildet sein, beispielsweise Kohlenstoff, beispielsweise Ruß; Gold, Silber, Platin.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art; und die Leuchtstoff- Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sein. Leuchtstoffe sind Stoffe, die zu einem Konvertieren der Wellenlänge einer elektromagnetischen Strahlung geeignet sind. Mit anderen Worten: ein Leuchtstoff wandelt
verlustbehaftet elektromagnetische Strahlung einer
Wellenlänge in elektromagnetische Strahlung anderer
Wellenlänge um, beispielsweise längerer Wellenlänge (Stokes- VerSchiebung) oder kürzerer Wellenlänge (Anti-Stokes- VerSchiebung) , beispielsweise mittels Phosphoreszenz oder Fluoreszenz. Das Bilden von elektromagnetischer Strahlung einer zweiten Wellenlänge aus elektromagnetischer Strahlung einer ersten Wellenlänge wird Wellenlängenkonversion genannt. Wellenlängenkonversion wird in verschiedenen
Ausführungsbeispielen optoelektronischer Bauelemente für die Farbumwandlung verwendet, beispielsweise zur Vereinfachung der Erzeugung von weißem Licht. Dabei wird beispielsweise ein blaues Licht in ein gelbes Licht konvertiert. Die
Farbmischung aus blauen Licht und gelben Licht kann ein weißes Licht bilden. Ein Leuchtstoff kann beispielsweise zur Wellenlängenkonversion einer elektromagnetischen Strahlung im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung angeordnet sein. Der Leuchtstoff kann dazu im körperlichen Kontakt mit der Strahlungsquelle, beispielsweise einem optoelektronischen Bauelement stehen, d.h. sich eine gemeinsame Grenzfläche teilen, oder als Fernphospor (remote phosphor) eingerichtet sein. In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die
Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art; und die Leuchtstoff-Partikel einen der folgenden Stoffe aufweisen oder daraus gebildet sein: Granate, Nitride, Silikate, Oxide, Phosphate, Borate, Oxynitride, Sulfide, Selenide, Aluminate , Wolframate, und Halide von Aluminium, Silizium, Magnesium, Calcium, Barium, Strontium, Zink, Cadmium, Mangan, Indium, Wolfram und anderen Übergangsmetallen, oder Seltenerdmetallen wie Yttrium, Gadolinium oder Lanthan, die mit einem
Aktivator, wie zum Beispiel Kupfer, Silber, Aluminium,
Mangan, Zink, Zinn, Blei, Cer, Terbium, Titan, Antimon oder Europium dotiert sind. Beispielsweise kann ein Leuchtstoff ein oxidischer oder (oxi - ) nitridischer Leuchtstoff sein, beispielsweise ein Granat, Orthosilikat ,
Nitrido (alumo) Silikat , Nitrid oder Nitridoorthosilikat , oder ein Halogenid oder Halophosphat . Konkrete Beispiele für geeignete Leuchtstoffe sind Strontiumchloroapatit : Eu { (Sr, Ca) 5 (P04) 3CI : Eu; SCAP) , Yttrium-Aluminium-Grant ·. Cer (YAG: Ce) oder CaAlSiNß : Eu . Ferner können im Leuchtstoff bzw.
Leuchtstoffgemisch beispielsweise Partikel mit
Iichts euenden Eigenschaften und/oder Hilfsstoffe enthalten sein. Beispiele für Hilfsstoffe schließen Tenside und
organische Lösungsmittel ein. Beispiele für Licht streuende Partikel sind Gold- , Silber- und Metalloxidpartikel .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste Art Partikel als Lufteinschlüsse ausgebildet sein oder
Lufteinschlüsse aufweisen. In diesem Fall kann der mittlere Durchmesser auch als mittlere Porengröße bezeichnet werden.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art ; und die Leuchtstoff - Partikel einen Stof aufweisen oder daraus gebildet sein, der die Transmission von ultravioletter (UV) und/oder infraroter (IR) elektromagnetischer Strahlung reduziert . Die geringere UV- bzw. IR-Transmission kann beispielsweise mittels einer höheren Absorption und/oder Reflektion und/oder Streuung von UV- bzw. IR- Strahlung realisiert sein. In verschiedenen
Ausgestaltungen können die Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art; und die Leuchtstoff-Partikel einen Stoff, ein Stoffgemisch oder eine stöchiometrische Verbindung aufweisen oder daraus gebildet sein aus der Gruppe der
Stoffe: Ti02 , CeO-2, B12O3, ZnO, Sn02 , einen Leuchtstoff, ÜV- bzw. IR- absorbierende Glaspartikel und/oder geeignete UV- bzw. IR-absorbierende metallische Nanopartikel , wobei der Leuchtstoff, die Glaspartikel und/oder die Nanopartikel eine Absorption von elektromagnetischer Strahlung im UV-Bereich bzw. IR-Bereich aufweisen. In verschiedenen Ausgestaltungen können Partikel der ersten Art, der zweiten Art und die
Leuchtstoff -Partikel keine oder eine nur geringe Löslichkeit in der geschmolzenen Glasmatrix aufweisen und/oder mit dieser nicht oder nur schlecht reagieren. Beispielsweise kann das
Material der Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art ein Material aufweisen oder daraus gebildet sein, das einen Schmelzpunkt aufweist, der höher ist als die Temperatur der Glasmatrix, an der die Partikel in der Glasmatrix verteilt werden. In verschiedene Ausgestaltungen können die nicht- streuende Hochindexpartikel zu keiner bzw. nur zu einer geringen Streuung im sichtbaren Wellenlängenbereich einer elektromagnetischer Strahlung führen, beispielsweise
Nanopartikel, die eine Korngröße kleiner ungefähr 50 nm aufweisen, beispielsweis aus T1O2 , Ce02 , ZnO oder B12O3.
In verschiedenen Ausfuhrungsbeispielen werden in Fig.1/2 ein
Verfahren zum Herstellen einer Glasware, ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoffpartikeln und ein Verfahren zum. Herstellen eines optoelektronisches Bauelements mit einer Glasware veranschaulicht.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren 100 bereitgestellt mittels dessen eine Glasware 200 ausgebildet werden kann - veranschaulicht in Fig.1/2. Die Glasware 200 kann beispielsweise wenigstens transluzent im sichtbaren Wellenlängenbereich einer elektromagnetischen Strahlung ausgebildet werden, beispielsweise transparent.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das Verfahren 100 zum Herstellen einer Glasware ein Bereitstellen 102 einer geschmolzenen Glasmatrix 204 mit einer Oberfläche aufweisen - beispielsweise veranschaulicht in Fig.1/2.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das Bereitstellen 102 ein Aufschmelzen der Rohstoffe der Glasware 200 zu einer Glasschmelze auf eisen . Das Aufschmelzen der Rohstoffe der Glasschmelze kann auch als Rauschmelze mit Erschmelzen des Gemenges der Homogenisierung bezeichnet werden . Dieser
Prozess kann als ein kontinuierlicher Prozess in einer
Glasschmelzwanne 222 erfolgen, bei dem kontinuierlich oder diskret Glasschmelze aus der Glasschmelzwanne 222 abgeleitet wird und kontinuierlich oder diskret Rohstoff/e in die
Glasschmelzwanne 222 zugeführt wird/werden. Die Glasschmelze kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen eine geschmolzene Glasmatrix sein oder ausbilden .
Die Temperatur zum Aufschmelzen der Rohstoffe ist abhängig von der Art des Glases und Rohstoffe . Die Rohstoffe von nichtmetallische anorganischen Gläser können beispielsweise erst bei Temperaturen von mehr als 1200 °C aufgeschmolzen und homogenisiert werden, beispielsweise bei einer Temperatur von ungefähr 1700 °C . Hingegen können die Rohstoffe von
nichtmetallische organischen Gläsern beispielsweise in
Abhängigkeit von der Ke tenlänge und der Art der
Wiederholungseinheiten bereits bei Temperatur von ungefähr 100 °C bis 300 °C aufgeschmolzen und homogenisiert werden.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen können Gasblasen in der Glasware 200 einen Glasfehler darstellen, der
beispielsweise die mechanische Haltbarkeit der Glasware 200 beeinträchtigen kann . Daher kann das Bereitstellen 102 in verschiedenen Ausführungsbeispielen ferner ein Läutern der Glasschmelze aufv/eisen, beispielsweise vor dem Abstehen auf die Formgebungstemperatur aufweisen. Als Läutern kann dabei ein Austreiben von Gasblasen aus der Glasschmelze verstanden werden. Das Grundprinzip ist das Mitreißen kleiner Gasblasen in der Glasschmelze durch schneller aufsteigende größere Gasblasen. In einer zähflüssigen Glasschmelze können unter wirtschaftlichen Aspekten kleine Blasen nicht schnell genug in der Glasschmelze aufsteigen, so dass
Unters ützungsmaßnahmen nötig sein können. Eine
Unterstutzungsmaßnahme kann beispielsweise ein Zugeben wenigstens eines Läutermittels in die Glasschmelze aufweisen, beispielsweise in Form eines chemischen Läuterns,
beispielsweise einer Schwefelläuterung mit Zugabe von
Schwefel oder einer schwefelhaltigen Verbindung; oder
Arsenläuterung mit Zugabe von Arsen oder einer arsenhaltigen Verbindung, beispielsweise beim Herstellen nichtmetallischer, anorganischer Gläser, Zusätzlich oder alternativ kann die Glasschmelze mechanisch bzw. physikalisch geläutert werden, beispielsweise mittels eines so genannten Bubblings. Dabei wird durch Einblasen von Gasen in die Glasschmelze der
Blasenanteil in der Glasschmelze reduziert, indem sich die kleinen Blasen in der Glasschmelze mit den größeren
eingeblasenen Gasblasen verbinden und leichter aufsteigen können. Alternativ oder zusätzlich kann das Läutern mittels eines Einwirkens eines Ultraschalls und/oder eines
Unterdrucks auf die Glasschmelze erfolgen.
Alternativ kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen auf ein Läutern verzichtet werden, oder gezielt Gasblasen in die Glasschmelze eingebracht werden. Die Gasblasen in der
Glasschmelze können beispielsweise Streuzentren für
elektromagnetische Strahlung sein. In diesem Fall ist das Verteilen von Gasblasen als erste Partikel nicht Teil des Bereitstellens 102, sondern Teil des Verteilens 104 von
(Luft- /Gas- ) Partikeln in der geschmolzenen Glasmatrix.
Weiterhin kann das Bereitstellen 102 ein Abkühlen der
Glasschmelze von der Schmelztemperatur der Rohstoffe auf eine Temperatur oberhalb der Formgebungstemperatur der
Glasschmelze aufweisen.
Das Abstehen der Glasschmelze kann beispielsweise in einer Arbeitswanne, Abstehwanne und/oder auf einer Transportstrecke 218 erfolgen. Diese können/kann ein baulich getrennter
Bereich einer kontinuierlich arbeitenden Glasschmelzwanne 222 sein. In diesem Bereich wird das geschmolzene Glas vor dem Formgeben hinreichend kontrolliert abgekühlt, d.h. auf
Formgebungstemperatur gebracht. Die geschmolzene Glasmatrix 204 kann dazu beispielsweise entlang einer Transportstrecke 218 transportiert werden (in Fig.2 veranschaulicht mittels des Pfeils 212) .. Für jedes Glas läset sich ein Kühlbereich festlegen, weicher von der sogenannten oberen Kühltemperatur und der unteren Kühltemperatur begrenzt wird.
Die obere Kühltemperatur kann beispielsweise am Beginn der Transportstrecke 218 sein und der untere Kühlbereich am Ende der Transportstrecke 218. Am Beginn der Transportstrecke 218 kann sich die Schmelzwanne 222, Arbeitswanne und/.oder
Abstehwanne anschließen und die Glasschmelze 204
bereitgestellt 102 werden - beispielsweise veranschaulicht in Fig.2. Die Arbeitswanne kann beim Herstellen von Hohlglas zur Schmelzwanne 222 beispielsweise mittels eines siphonartigen Durchflusses getrennt sein. Beim Herstellen von Flachglas, beispielsweise Floatglas, kann die Arbeitswanne zur
Schmelzwanne 222 beispielsweise mittels einer Einschnürung getrennt sein. Am Ende der Transportstrecke 218 kann die
Glasschmelze 204 mit Partikeln 208, 210 bereitgestellt werden - beispielsweise veranschaulicht in Fig.2, und sich der Entnahmepunkt 224 und/oder die Formgebung anschließen und. Der Beginn und das Ende der Transportstrecke 218 kann beispielsweise mittels der Viskosität der Glasschmelze definiert werden. Beispielsweise kann die obere
Kühltemperatur bei einem Kalknatronsilikatglas diejenige Temperatur sein, bei der das Glas eine Viskosität von
15
10 mPa-s besitzt . Bei der unteren Kühltemperatur kann
16, 5
beispielsweise eine Viskosität von 10 mPa-s vorliegen, das heißt bei Kalknatronsilikatglas beispielsweise zwischen 590 °C und 450 °C liegen.
Thermomechanisehe Spannungen in der Glasware 200 können durch Tempern der Glasschmelze verringert werden, das heißt durch definiertes langsames Abkühlen im Kühlbereich.
Bei den im Kühlbereich vorherrschenden Viskositäten kann eine Spannungsrelaxation gerade noch möglich sein, so dass
bleibende Spannungen im Glaskörper vermieden werden können, wenn dies für die jeweilige Anwendung erforderlich ist .
Thermische VerSpannungen können j edoch auch
anwendungsspezifisch notwendig sein, beispielsweise bei gespanntem Sicherheitsglas .
Weiterhin kann das Verfahren 100 ein Verteilen 104 von
Partikeln 208 einer ersten Art in der geschmolzenen
Glasmatrix 204 durch die Oberfläche der Glasschmelze
auf eisen derart , dass die Partikel 208 der ersten Art von der geschmolzenen Glasmatri 204 vollständig umgeben sind, so dass die Oberfläche der Glasmatrix 204 frei ist von Partikeln 208 der ersten Art - beispielsweise veranschaulicht in
Fig.1/2. Das Verteilen der Partikel 208 der ersten Art kann beispielsweise zwischen dem Anfang der Transportstrecke 218 und dem Ende der Transportstrecke 218 erfolgen - beispielsweise veranschaulicht in Fig.1/2.
Die erste Art Partikel 208 kann beispielsweise einen
Brechungsindex in einem Bereich von ungefähr 1 , 5 bis ungefähr 4 , 0 aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1 , 7 bis ungef hr 3,9; beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 2,3 bis ungefähr 3,1. Der Betragsunterschied des Brechungsindexes der ersten Art Partikel 208 zum
Brechungsindex der Glasmatrix 204 bezüglich wenigstens einer Wellenlänge einer elektromagnetischen Strahlung kann größer als 0,05 sein. Mit anderen Worten; die Partikel 208 der ersten Art können streuend bezüglich der Glasmatrix 204 für die elektromagnetische Strahlung sein, die in der Glasmatrix 204 auf die Partikel 208 der ersten Art einfällt. Solche Partikel können beispielsweise auch als Hochindexpartikel bezeichnet werden. Die erste Art Partikel 208 kann einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 100 nm bis ungefähr 50 μτη aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 250 nm bis ungefähr 350 nm. Mit anderen Worten: die Partikel 208 der ersten Art können bezüglich sichtbaren Lichts streuend oder nicht-streuend ausgebildet sein. Die erste Art Partikel 208 kann eine oder mehrere der
nachfolgenden optisch funktionalen Eigenschaften bezüglich der Glasmatrix 204 und einer elektromagnetischen Strahlung aufweisen oder derart ausgebildet sein: als nicht-streuende Hochindexpartikel , als Streupartikel , strahlungsabsorbierend, beispielsweise im ultravioletten und/oder infraroten
Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung, strahlungsabsorbierend im sichtbaren We1lenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung, und/oder
wellenlängenkonvertierend.
Weiterhin kann das Verfahren 100 ein Verteilen 106 von
Partikeln 210 einer zweiten Art in die Glasschmelze 204 durch die Oberfläche der Glasschmelze aufweisen derart , dass die Partikel 210 der zweiten Art über und/oder zwischen den
Partikeln 208 der ersten Art zumindest teilweise in der
Glasmatrix 204 an der Oberfläche der Glasmatrix 204
angeordnet sind - beispielsweise veranschaulicht in Fig.1/2. Das Verteilen der Partikel 210 der zweiten Art kann
beispielsweise zwischen dem Anfang der Transportstrecke 218 und dem Ende der Transportstrecke 218 erfolgen,
beispielsweise gleichzeitig oder nachdem die erste Art
Partikel 208 in der Glasschmelze 204 verteilt wurden ~ beispielsweise veranschaulicht in Fig.1/2. In einem Ausführungsbeispiel kann die zweite Art Partikel 210 einen Brechungsindex in einem Bereich von ungefähr 1,5 bis ungefähr 4,0 aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 3,9; beispielsweise in einem
Bereich von ungefähr 2,3 bis ungefähr 3,1. Der
Betragsunterschied des Brechungsindexes der zweiten Art
Partikel 210 zum Brechungs index der Glasmatrix 204 bezüglich wenigstens einer Wellenlänge einer elektromagnetischen
Strahlung kann beispielsweise größer als 0,05 sein. Mit anderen Worten: die Partikel 210 der zweiten Art können streuend bezüglich der Glasmatrix 204 für die
elektromagnetische Strahlung ausgebildet sein, die in der Glasmatrix 204 auf die Partikel 210 der zweiten Art einfällt. In einem. Ausführungsbeispiel kann die zweite Art Partikel 210 einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 1 μτη aufweisen, beispielsweise in einem
Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm. Mit anderen Worten: die Partikel 210 der zweiten Art können bezüglich sichtbaren Lichts streuend oder nicht-streuend ausgebildet sein. Die zweite Art Partikel 210 kann eine oder mehrere der nachfolgenden optisch funktionalen Eigenschaften bezüglich der Glasmatrix 204 und einer elektromagnetischen Strahlung aufweisen oder derart ausgebildet sein: nicht- streuende
Hochindexpartikel, Streupartikel, Strahlungsabsorbierend, beispielsweise im ultravioletten und/oder infraroten
Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung,
Strahlungsabsorbierend im sichtbaren Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung, und/oder
wellenlängenkonvertierend .
In einem Ausführungsbeispiel kann das Verhältnis des
mittleren Durchmessers der zweiten Art Partikel 210 zu dem mittleren Durchmesser der ersten Art Partikel 208 in einem
-4
Bereich von 2· 10 bis 1 sein. Die Partikel 210 der zweiten Art können derart ausgebildet sein, dass die Partikel 210 der zweiten Art den Hohlraum zwischen den Partikeln 208 der ersten Art auffüllen können, beispielsweise bei einer Art Kugelpackung der Partikel 208 der ersten Art. Mit anderen Worten; die Partikel 210 der zweiten Art können an Stelle der Glasmatrix 204 einen Teil des Raumes zwischen den Partikeln 208 der ersten Art ausfüllen. In einem Ausführungsbeispiel kann das Verhältnis des mittleren Durchmessers der Partikel 210 der zweiten Art zu dem mittleren Durchmesser der Partikel 208 der ersten Art derart eingerichtet sein, dass die
Packungsdichte an Partikeln 208, 210 der ersten Art und zweiten Art in der Glasmatrix 204 in einem Bereich von 50 % bis 100 % ist.
In einem Ausführungsbeispiel kann sich die zweite Art
Partikel 210 in wenigstens einer optisch funktionalen
Eigenschaft von der ersten Art Partikel 208 unterscheiden, beispielsweise im mittleren Durchmesser der Partikel, dem
Wellenlängenbereich der optischen, funktionalen Eigenschaft und/oder der Intensität der optischen funktionalen
Eigenschaft . In einem Ausführungsbeispiel können die erste Art Partikel 208 und die zweite Art Partikel 210 derart ausgebildet sein, dass der Betragsunterschied des Brechungsindexes der zweiten Art Partikel 210 zum Brechungsindex der ersten Art Partikel 208 bezüglich wenigstens einer Wellenlänge einer
elektromagnetischen Strahlung größer ist als 0,05;
beispielsweise in einem Bereich von 0,05 bis 1. Mit anderen Worten: die Partikel 210 der zweiten Art können einen höheren Brechungsindex aufweisen als die Partikel 208 der ersten Art. In einem Ausführungsbeispiel kann in dem Verfahren 100 in der geschmolzenen Glasmatrix 204 wenigstens eine weitere Art Partikel verteilt werden, wobei die weitere Art Partikel sich in wenigstens einer optisch funktionalen Eigenschaft von der ersten Art Partikel und der zweiten Art Partikel
unterscheidet.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann nur eine Art Partikel, die erste Art Partikel 208 und/oder die zweite Art Partikel 210 in der Glasmatrix 204 verteilt werden, wobei die nur eine Art an Partikeln als Leuchtstoff -Partikel
ausgebildet ist oder einen Leuchtstoff aufweisen. Die
Leuchtstoff -Partikel können einen Bereich von ungefähr 1,5 bis ungefähr 4,0 aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 3,9; beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 2,3 bis ungefähr 3,1. Die Leuchtstoff - Partikel können einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 100 nm bis ungefähr 50 μχα aufweist,
beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 20 μτα bis ungefähr 30 μτα. Der Betragsunterschied des BrechungsIndexes der Leuchtstoff -Partikel zum Brechungsindex der Glasmatrix 204 bezüglich wenigstens einer Wellenlänge einer
elektromagnetischen Strahlung kann größer als 0,05 sein. Die Leuchtstoff -Partikel können zusätzlich oder alternativ eine oder mehrere der nachfolgenden optisch funktionalen
Eigenschaften bezüglich der Giasmatrix 204 und einer
elektromagnetischen Strahlung aufweist oder derart
ausgebildet sein: nicht- streuende Hochindexpartikel,
Streupartikel, strahlungsabsorbierend, beispielsweise im ultravioletten und/oder infraroten Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung, und/oder
strahlungsabsorbierend im sichtbaren Wellenlängenbereich der elektromagnetischen Strahlung.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen weist das Verfahren zum Herstellen einer Glasware 200 mit Leuchtstoff -Partikeln, ein Bereitstellen 102 einer geschmolzenen Glasmatrix 204 mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche auf, die der ersten Oberfläche in einem Abstand gegenüberliegt; ein Verteilen von Leuchtstoff -Partikeln in der geschmolzenen Giasmatrix 204 durch die erste Oberfläche, wobei die
Leuchtstoff -Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sind, wobei der Leuchtstoff eine elektromagnetische Strahlung einer ersten Wellenlänge absorbiert und einen Teil der absorbierten elektromagnetischen Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge emittiert; und wobei die Leuchtstoff - Partikel derart in der geschmolzenen Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die erste Oberfläche und/oder die zweite
Oberfläche im Wesentlichen frei sind/ist von Leuchtstoff - Partikeln. In einem Ausführungsbeispiel können die Leuchtstoff -Partikel derart in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die
Leuchtstoff -Partikel von der geschmolzenen Glasmatrix 204 vollständig umgeben sind, so dass die erste Oberfläche und/oder die zweite Oberfläche der Glasmatrix 204 frei sind/ist von Leuchtstoff -Partikeln. Alternativ können die Leuchtstoff -Partikel derart in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die Leuchtstoff-Partikel zumindest teilweise in der Glasmatrix 204 an der ersten Oberfläche der Glasmatrix In einem Ausführungsbeispiel kann die geschmolzene Glasmatrix 204 auf einer Transportstrecke 218 bereitgestellt wird, wobei die geschmolzene Glasmatrix 204 auf der Transportstrecke 218 abgekühlt wird, wobei die Leuchtstoff - Partikel auf der
Transportstrecke 218 in der Glasmatrix 204 verteilt werden.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen werden die Partikel 208 der ersten Art 208 in einem ersten Kühlbereich und die Partikel 210 der zweiten Art in einem zweiten Kühlbereich in der Glasschmelze 204 verteilt, dass heißt beispielsweise an unterschiedlichen Bereichen entlang der Transportstrecke 218, wobei die geschmolzene Glasmatrix 204 in den
unterschiedlichen Bereichen unterschiedliche Viskositäten aufweisen kann. Die Position des ersten Kühlbereiches und des zweiten Kühlbereiches entlang der Transportstrecke 218, dass heißt das Verteilen 104, 106 der Partikel 208, 210 kann abhängig sein von den (visko- ) elastischen Eigenschaften der geschmolzenen Glasmatrix 204 und den Eigenschaften der
Partikel 208, 210. Eigenschaften der Partikel 208, 210, die den Kühlbereich beeinflussen können, dass heißt den Bereich entlang der Transportstrecke, an dem die Partikel 208, 210 in der Glasmatrix 204 verteilt werden, können beispielsweise die Form, die Größe, die Größenverteilung, die Dichte und/oder der Schmelzpunkt der Partikel sein. In einem Ausführungsbeispiel können die Partikel 208 der ersten Art und die Partikel 210 der zweiten Art derart in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die Glasware 200 eine oder mehrere Lagen an Partikeln 208 der ersten Art und/oder Partikeln 210 der zweiten Art aufweist. Alternativ können die Partikel 208 der ersten Art und die Partikel 210 der zweiten Art derart in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die Partikel 208 der ersten Art und/oder die Partikel 210 der zweiten Art in der Glasware 200 im. Wesentlichen homogen verteilt sind. Alternativ können die Partikel 208 der ersten Art und die Partikel 210 der zweiten Art derart in der
Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die Partikel 208 der ersten Art und/oder die Partikel 210 der zweiten Art in der Glasware 200 im Wesentlichen an der Oberfläche verteilt sind.
In einem Ausführungsbeispiel kann die erste Art Partikel 208 derart ausgebildet sein und in der geschmolzenen Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die Partikel 208 der ersten Art als eine Diffusionsbarriere für die Partikel 210 der zweiten Art beim Verteilen in die geschmolzenen Glasmatrix 204 wirken.
In einem Ausführungsbeispiel können die Partikel 208, 210 derart in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass der
Brechungsindex der Glasware 200 erhöht wird, beispielsweise an der Oberfläche der Glasware 200.
In einem Ausführungsbeispiel kann die Glasmatrix 204 eine zweite Oberfläche aufweisen, die der ersten Oberfläche in einem Abstand gegenüberliegt, wobei die Partikel 208 der ersten Art und die Partikel 210 der zweiten Art durch die erste Oberfläche in der Glasmatrix 204 verteilt werden. Die Partikel 208, 210 können derart bezüglich der Viskosität der Glasmatrix in dem ersten Kühlbereich und dem zweiten
Kühlbereich in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass an der zweiten Oberfläche Partikel 208 der ersten Art frei liegen und die zweite Oberfläche frei ist von Partikeln der zweiten Art. Alternativ können die Partikel 208 der ersten Art und die Partikel 210 der zweiten Art derart in der
Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die zweite Oberfläche frei ist von Partikeln 208 der ersten Art und Partikeln 210 der zweiten Art. Alternativ können die Partikel 208 der ersten Art und die Partikel 210 der zweiten Art derart in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die zweite Oberfläche frei ist von Partikeln 208 der ersten Art und Partikel 210 der zweiten Art an der zweiten Oberfläche frei liegen. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das Verteilen der Partikel 208 , 210 in der geschmolzenen Glasmatrix 204
zwischen/mit dem Einbringen der Rohstoffe in Glasschmelzwanne 222 oder der Abstellwanne erfolgen, beispielsweise indem die Partikel 208 , 210 einen höheren Schmelzpunkt aufweisen, als die Rohstoffe der Glasschmelze 204 ,- und der Formgebung der Glasschmelze 204.
In einem Ausführungsbeispiel können die Leuchtstoff -Partikel derart verteilt werden, dass die Glasware 200 eine oder mehrere Lagen an Leuchtstoff-Partikel aufweist . Alternativ oder zusätzlich können die Leuchtstoff-Partikel in der
Glasware 200 im Wesentlichen homogen verteilt werden .
Alternativ können die Leuchtstoff - Partikel in der Glasware 200 im Wesentlichen an der Oberfläche verteilt werden .
Die Glasschmelze , d.h. die geschmolzene Glasmatrix, weist eine Oberfläche auf , durch die - wie oben beschrieben wurde - im Verlaufe des Verfahrens 100 Partikel 208 , 210 in der
Glasmatrix 204 verteilt werden können . In einem
Ausführungsbeispiel können die erste Art Partikel 208
und/oder die zweite Art Partikel 210 derart ausgebildet und in der Glasmatrix 204 verteilt werden, dass die Oberfläche der Glasware 200 bzw. der Glasmatrix 204 nach dem Verteilen 106 der zweiten Art Partikel 210 mit einer mittleren Rauheit (RMS) ausgebildet ist , die kleiner ist als ungefähr 10 nm, dass heißt im Wesentlichen glatt für das Aufbringen
nachfolgender dünner Schichten. Zusätzlich oder alternativ kann die Glasware 200 derart ausgebildet werden, dass die Oberfläche frei liegend einen Teil der Partikel 210 der zweiten Art und Glasmatrix 204 aufweist.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelementes
bereitgestellt, wobei das Bauelement eine oben beschriebene Glasware 200 aufweist und das Verfahren ein Bereitstellen einer solchen Glasware aufweist. Das Verfahren kann ein
Ausbilden eines optisch aktiven Bereiches auf oder über der Glasware 200 und/oder ein Aufbringen der Glasware 200 auf dem, über dem und/oder um den optisch aktiven Bereich
aufweisen oder ein Ausbilden des optisch aktiven Bereiches auf der Glasware 200 aufweisen. In einem Ausführungsbeispiel kann eine Glasware 200 als
Träger oder Abdeckung des optoelektronischen Bauelementes, beispielsweise einer organischen Leuchtdiode (organic light emitting diode - OLED) eingerichtet sein - beispielsweise veranschaulicht in Fig.3.
Die Glasware 200 mit zweiten Partikeln, die den
Brechungsindex der Glasware 200 erhöhen können, die
beispieiswiese als Hochindexpartikeln ausgebildet sind, kann beispielsweise als eine Auskoppelstruktur 206 und/oder
Einkoppeistruktur 206 für die von der OLED emittierte
elektromagnetische Strahlung eingerichtet sein. Um eine optimale Auskoppelung aus der OLED zu ermöglichen, sollten die Hochindexpartikel aus der Oberfläche des Glases der
Glasware 200 herausragen oder an der Oberfläche des Glases enden. Mit anderen Worten: die Hochindexpartikel sollten einen Teil der Oberfläche der Glasware 200 bezüglich der Einfallsseite der elektromagnetischen Strahlung sein, und beispielsweise im Wesentlichen nicht von der Glasmatrix 204 übe formt sein. Die Hochindexpartikel oder Agglomerate davon, sollten zudem groß genug sein, um die auszukoppelnde
elektromagnetische Strahlung zu brechen. Weiterhin können Hochindexpartikel bzw. Agglomerate davon, notwendig sein, die eine Abmessung in Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung in der Größenordnung der optischen Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung aufweisen. Dadurch kann beispielsweise eine signifikante Verbesserung der Oberflächengüte eines mittels eines Floatglas -Verfahrens gemäß einer der Ausgestaltungen des Verfahrens hergestellten Streufilms erzielt werden. Beispielsweise indem Partikel unterschiedlicher Größe an unterschiedlichen Tiefenbereichen bezüglich der Oberfläche des Glasbandes und somit an
unterschiedlichen Temperaturbereichen entlang des Glasbandes in das Glasband auf- bzw. eingebracht werden.
In einem Ausführungsbeispiel werden zunächst Partikel 208 einer ersten Art, beispielsweise große Streupartikel oder
Agglomerate von Partikeln in der Größenordnung der optischen Wellenlänge der zu streuenden elektromagnetischen Strahlung, in das Glasband bzw. die Glasschmelze 204 eingebracht - beispielsweise veranschaulicht in Fig.2. Der erste
Temperaturbereich bzw. Kühlbereich, in dem die Partikel 208 in die Glasschmelze 204 eingebracht werden, sollte derart anhand der temperaturabhängigen Viskosität der Glasschmelze 204 und dem Auftrieb der Partikel 208 in der Glasschmelze 204 eingestellt sein, dass diese Partikel/ Agglomerate bis unter die Oberfläche der Glasschmelze 204 bzw. Glasmatrix 204 versinken. Mit anderen Worten: die Partikel der ersten Art können vollständig von der Glasmatrix 204 umgeben sein und die Oberfläche frei sein von Partikeln der ersten Art. In einem anderen, zweiten Temperaturbereich der Glasschmelze 204, beispielsweise an einer anderen Stelle entlang eines Floatglas-Bandes, können Partikel 210 einer zweiten Art in das Glasband aufgebracht, eingebracht und/oder verteilt werden. Der zweite Temperaturbereich, in dem die Partikel 210 der zweiten Art in die Glasschmelze 204 aufgebracht,
eingebracht und/oder verteilt werden, sollte derart anhand der temperaturabhängigen Viskosität der Glasschmelze 204 und dem Auftrieb der Partikel in der Glasschmelze 204 eingestellt sein, dass diese Partikel/ Agglomerate wenigstens zu einem Teil an Oberfläche der Glasschmelze 204 bzw. Glasmatrix 204 frei liegen. Die zweite Art an Partikeln 210 kann deutlich kleiner sein als die erste Art an Partikeln 208. Mittels der zweiten Art an Partikeln 210 kann beispielsweise der effektive
Brechungsindex, dass heißt der in einer Ebene über den
Brechungsindex der Partikel 210 und der Glasmatrix 204 gemittelte Brechungsindex, an der Grenzfläche der Glasware 200 angehoben werden, ohne eine hohe Rauheit zu erzeugen, beispielsweise bezüglich einer Grenzfläche, an der nur
Partikel der ersten Art 208 frei liegen. Zum Aufbringen, Verteilen bzw. Einbringen der (Arten an)
Partikei/n 208, 210 in die Glasschmelze 204, können mehrere Beschichter 214, 216 (Coater) mit verschiedenen Arten an Partikeln 208, 210, beispielsweise Partikelgrößen, Partikel unterschiedlicher Materialien, vorgesehen sein, die die
Partikel in unterschiedlichen Temperaturbereichen auf bzw. in die Glasschmelze 204 einbringen und/oder verteilen - wie unten noch ausführlicher beschrieben wird. Beispielsweise in einem Floatglas-Verfahren an verschiedenen Stellen entlang des Glasbandes . Dies kann zu der Verbesserung der
Oberflächengüte des Substratgiases mit interner
Auskoppelwirkung führen. Mit anderen Worten: In verschiedenen Ausführungsbeispielen können für die erste Art an Partikeln 208 und für die zweite Art an Partikeln 210, beispielsweise das gleiche oder unterschiedliche Materialien, mit gleichen oder unterschiedlichen optischen Eigenschaften und/oder mit unterschiedlicher mittlerer Größe verwendet werden. Diese können in unterschiedlichen Temperaturbereichen der
Glasschmelze 204, das heißt beispielsweise an
unterschiedlichen Positionen entlang eines Glasbandes in einem Floatglas-Verfahren, auf das Glasband aufgebracht werden und in dieses einsinken bzw. in diesem versinken. Die Partikel 208 der ersten Art , die beispielsweise eine größere mittlere Abmessung aufweisen können als die Partikel 210 der zweiten Art, können beispielsweise eine Basis für die Lichtstreuung in der Glasware 200 sein. Die Partikel 210 der zweiten Art aus dem zweiten Beschichter 216 können
anschließend auf das Glasband auf- bzw. eingebracht werden, um den effektiven Brechungsindex beispielsweise an der
Glasware-Luft-Grenzfläche oder Glasware-OLED-Grenzfläche zu erhöhen.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen können mehr als zwei Beschichter vorgesehen sein, und beispielsweise mehr als zwei Arten an Partikeln mit unterschiedlicher mittlerer
Partikelgröße in das Glasband verteilt bzw. angeordnet werden.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen können/kann die erste Art an Partikeln 208 und die zweite Art an Partikeln 210 bezüglich einer in dem optoelektronischen Bauelement
emittierbaren oder absorbierbaren elektromagentischen
Strahlung streuend, brechend, reflektierend und/oder
absorbierend ausgebildet sein.
In verschieden Ausführungsbeispielen können/kann die erste Art an Partikeln 208 und die zweite Art an Partikeln 210 hochbrechende Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein . Die Partikel 208 , 210 können derart ausgebildet sein, dass sie die Temperatur in der geschmolzenen Glasraatrix 204 , beispielsweise im ersten Kühlbereich oder zweiten
Kühlbereich, beispielsweise im Floatglasband, im Wesentlichen formstabil aushalten. Beispielsweise können die Partikel 208 , 210 Titandioxid, Zinkoxid, Indiumzinkoxid (ITO) ,
Aluminiumzinkoxid (AZO) , Aluminiumoxid, Indiumzinnokid ( IZO) und Zinnoxid sein oder aufweisen .
In verschieden Ausführungsbeispielen können/kann die erste Art an Partikeln 208 und die zweite Art an Partikeln 210 eine Fi11erwirkung bezüglich einer in dem optoelektronischen Bauelement emittierbaren oder absorbierbaren
elektromagentisehen Strahlung aufweisen. Mit anderen Worten: die erste Art an Partikeln 208 und/oder die zweite Art an Partikeln 210 können als Farbstoffe ausgebildet sein oder wirken.
In verschieden Ausführungsbeispielen können/kann die erste Art an Partikeln 208 und die zweite Art an Partikeln 210 eine Farbkonversion bezüglich einer in dem optoelektronischen Bauelement emittierbaren oder absorbierbaren
elektromagentisehen Strahlung aufweisen. Mit anderen Worten: die erste Art an Partikeln 208 und/oder die zweite Art an Partikeln 210 können als Leuchtstoffe, beispielsweise
Phosphore , ausgebildet sein oder aufweisen.
Beim Herstellen von Hohlglas kann der Entnahmepunkt 224 ein Speiser sein, auch bezeichnet als Feeder. Dabei werden aus der abgestandenen Glasschmelze 204 Tropfen erzeugt, die über ein Rinnensystem in darunter stehende Glasmaschinen geleitet werden. Bei der Flachglasherstellung, beispielsweise nach dem Floatglas-Verfahren, kann die abgestandene Glasschmelze 204 beispielsweise über einen Lippstein in das Floatbad gelangen, wobei das Floatbad einen Teil der Transportstrecke 218 sein kann,
Die geschmolzene Glasmatrix mit Partikeln 208, 210 oder
Leuchtstoff-Partikeln, kann in eine vorgegebene Form gebracht werden und somit die Glasware 200 ausbilden. Die Glasware 200 kann als ein Flachglas ausgebildet werden, beispielsweise als ein Träger, eine Abdeckung, ein Fenster, eine Scheibe oder ein planer Lichtwellenleiter. Alternativ kann die Glasware 200 als ein Hohlglas ausgebildet werden, beispielsweise als ein Glasrohr oder Glaskolben. Alternativ kann die Glasware 200 als Glasfaser ausgebildet wird, beispielsweise als
Glaswolle oder Lichtwellenleiter. In verschiedenen
Ausführungsbeispielen kann ein Flachglas ein Floatglas oder Walzglas sein. Alternativ kann das Flachglas gezogen oder gegossen werden. Floatglas ist ein mittels eines Floatverfahrens hergestelltes Flachglas. Mit anderen Worten; In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Glasware 200 als eine amorphe Schicht, ein amorphes Band oder ein amorpher Formkörper ausgebildet sein oder werden, beispielsweise in einer der nachfolgenden Formen ausgebildet sein: Hohlglas, Flachglas, Rohrglas, Glasfaser. In Abhängigkeit von der Art der herzustellenden Glasware 200 und der Art des Glases kann die Formgebung variieren. Beispielsweise kann eine Hohlglas - Glasware in mehreren Verfahren durch Pressen, Blasen, Saugen und Kombinationen dieser Techniken ausgebildet werden, beispielsweise in einem Blas -Blas -Verfahren oder Press-Blas- Verfahren. Beispielsweise können Glasfasern, beispielsweise für Glaswolle oder als Lichtwellenleiter, mittels Spinnens in einem Stabziehverfahren, Düsenziehverfahren,
Schleuderverfahren (TEL-Verfahren) oder Düsenblasverfahren (TOR-Verfahren) ausgebildet werden. Beispielsweise kann Flachglas mittels eines Floatglasverfahrens, eines
Walzverfahrens oder eines Ziehverfahrens ausgebildet werden. Beispielsweise kann Rohrglas mitteis eines kontinuierlichen Ziehverfahrens oder eines Schleuderverfahrens ausgebildet werden .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen ist eine Vorrichtung 220 zum Herstellen einer Glasware 200 gemäß einer der oben beschriebenen Ausführungsbeispiele bereitgestellt - beispielsweise schematisch veranschaulicht in Fig.2.
Die Vorrichtung 220 kann eine Transportstrecke 218 für eine geschmolzene Glasmatrix 204 aufweisen. Die Transportstrecke 218 ist eingerichtet, dass die geschmolzene Glasmatrix 204 entlang der Transportstrecke 218 von einer Schmelzwanne 222 zu einem Entnahmepunkt 224 transportiert wird (angedeutet mittels des Pfeils 212) und dabei von der Schmelztemperatur in einem oberen Kühlbereich der Transportstrecke 218 auf die Formgebungstemperatur in einem unteren Kühlbereich der
Transportstrecke 218 abgekühlt wird. Die Transportstrecke 218 kann beispielsweise eine
Abstellwanne, ein Floatbad, eine Kühlstrecke, einen Speiser, eine Floatstrecke, ein Förderband, eine Förderleitung
und/oder eine Förderrinne aufweisen.
Die Vorrichtung 220 weist ferner einen ersten Beschichter 214 auf, der zu einem Verteilen einer ersten Art Partikel 208 in der geschmolzenen Glasmatrix 204 in einem ersten Kühlbereich eingerichtet ist.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann der erste
Beschichter eine Art Mahlwerk, eine Ruttel-, Schüttel- oder Vibrationsvorrichtung und/oder einen Zerstäuber aufweisen. Der erste Beschichter 214 kann derart ausgebildet sein, dass die Partikel 208 der ersten Art mittels der Schwerkraft und/oder einem Trägergas auf oder über der Oberfläche der geschmolzenen Glasmatrix verteilt werden. Alternativ oder zusätzlich können die Partikel der ersten Arten mittels eines elektrischen Feldes auf die Oberfläche der geschmolzenen Glasmatrix 204 aufgebracht werden,- beispielsweise in einem elektrischen Feld, für den Fall, dass die Partikel elektrisch geladen oder polarisierbar sind; beispielsweise mittels eines Kathodenzerstäubens (Sputtern) . Der erste Beschichter 214 ist derart entlang der
Transportstrecke angeordnet ist, dass die geschmolzene
Glasmatrix 204 in dem ersten Kühlbereich bezüglich der
Partikel 208 der ersten Art eine Viskosität aufweist, dass die Partikel 208 der ersten Art von der Glasmatrix 204 vollständig umgeben werden, so dass die Oberfläche der
Glasmatrix 204 frei ist von Partikel der ersten Art 208.
Die Vorrichtung 220 kann ferner wenigstens einen zweiten Beschichter 216 aufweisen, der zu einem Verteilen einer zweiten Art Partikel 210 in der geschmolzenen Glasmatrix 204 in einem zweiten Kühlbereich eingerichtet ist. Der zweite Beschichter 216 kann gemäß einer der
Ausgestaltungen des ersten Beschichters 214 ausgebildet sein.
Der zweite Beschichter 216 kann derart entlang der
Transportstrecke 218 angeordnet sein, dass die geschmolzene Glasmatrix 204 in dem zweiten Kühlbereich bezüglich der
Partikel 210 der zweiten Art eine Viskosität aufweist, dass die Partikel 210 der zweiten. Art über und/oder zwischen den Partikeln 208 der ersten Art zumindest teilweise in der
Glasmatrix 204 an der Oberfläche der Glasmatrix 204
angeordnet werden.
In einem Ausführungsbeispiel kann der erste Beschichter 214 temperaturbeständig bezüglich der Temperatur der Glasmatrix 204 im ersten Kühlbereich ausgebildet sein, beispielsweise in einem Abstand über der Glasmatrix 204 angeordnet sein, und/oder der zweite Beschichter 216 temperaturbeständig bezüglich der Temperatur der Glasmatrix 204 im zweiten
Kühlbereich ausgebildet sein, beispielsweise in einem Abstand über der Glasmatrix 204 angeordnet sein.
Der erste Kühlbereich und der zweite Kühlbereich können zwischen dem oberen Kühlbereich und dem unteren Kühlbereich angeordnet sein.
In verschiedenen Ausführungsbeis ielen werden in Fig .3 eine Glasware, eine Glasware mit Leuchtstoff artikeln und ein optoelektronisches Bauelement mit einer Glasware
veranschaulicht .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen weist eine Glasware 200 eine Glasmatrix 204 mit einer Oberfläche, eine erste Art Partikel 208, und wenigstens eine zweite Art Partikel 210 auf. Die Partikel 210 der zweiten Art können beispielsweise einen höheren Brechungs index aufweisen als die Partikel 208 der ersten Art. Die Partikel 208 der ersten Art können von der Glasmatrix 204 vollständig umgeben sein, so dass die Oberfläche der Glasmatrix 204 frei ist von Partikel der ersten Art 208, und die Partikel der zweiten Art über
und/oder zwischen den Partikeln der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix 204 an der Oberfläche der
Glasmatrix 204 angeordnet sind zum Erhöhen des
Brechungsindexes der Glasware 200. Die Oberfläche kann dadurch beispielsweise eine mittlere Rauheit aufweisen, die kleiner ist als ungefähr 10 nm . Die Oberfläche kann frei liegend einen Teil der Partikel der zweiten Art und
Glasmatrix 204 aufweisen.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Glasware Merkmale des oben beschriebenen Verfahrens zum Herstellen der Glasware aufweisen oder derart ausgebildet sein derart und insoweit, als dass die Merkmale jeweils sinnvoll anwendbar sind.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Glasware 200 mit Leuchtstoff -Partikeln ausgebildet sein. Dabei weist die Glasware eine Glasmatrix 204 mit einer Oberfläche auf. In der Glasmatrix 204 sind Leuchtstoff-Partikel verteilt, wobei die Leuchtstoff -Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sind. Der Leuchtstoff kann eine elektromagnetische Strahlung einer ersten Wellenlänge absorbieren und einen Teil der absorbierten elektromagnetischen Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge emittieren. Die Leuchtstoff-Partikel können derart in der Glasmatrix 204 verteilt sein, dass die Oberfläche im Wesentlichen frei ist von Leuchtstoff -Partikel .
Die Leuchtstoff-Partikel können beispielsweise gemäß einer der beschriebenen Ausgestaltungen der Partikel der ersten und/oder der zweiten Art aufweisen derart und insoweit, als dass die Merkmale jeweils sinnvoll anwendbar sind.
In verschieden Ausführungsbeispielen können die Leuchtstoff - Partikel von der Glasmatrix 204 vollständig umgeben sein. Die Glasmatrix 204 kann ferner eine weitere Oberfläche aufweisen, die der Oberfläche gegenüberliegt, wobei die Leuchtstoff - Partikel in der Glasmatrix 204 derart angeordnet sind, dass die Leuchtstoff -Partikel an der weiteren Oberfläche frei liegen. Alternativ können die Leuchtstoff-Partikel in der Glasmatrix derart angeordnet sein, dass die weitere
Oberfläche frei ist von Leuchtstoff -Partikel .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein
optoelektronisches Bauelement mit einer Glasware 200 gemäß einer der oben beschriebenen Ausgestaltungen bereitgestellt. Das optoelektronische Bauelement weist einen optisch aktiven Bereich 306 zu einem Umwandeln eines elektrischen Stromes in eine elektromagnetische Strahlung und/oder zu einem Umwandeln einer elektromagnetischen Strahlung in einen elektrischen Strom auf. Die Glasware 200 kann als Abdeckkörper 324/200 des optisch aktiven Bereiches 306 ausgebildet und im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung angeordnet sein. Ein
Abdeckkörper 324/200 kann den optisch aktiven Bereich 306 beispielsweise in Form oder als Teil einer
Verkapselungsstruktur 328 umgeben und somit abdecken.
Alternativ oder zusätzlich kann der optisch aktive Bereich 306 auf dem Abdeckkörper 302/200 ausgebildet sein, wodurch die Unterseite des optisch aktiven Bereiches 306 somit durch den Abdeckkörper 302/200 abgedeckt wird.
Die Partikel 208 der ersten Art und/oder die Partikel 210 der zweiten Art können eine Auskoppelstruktur 206 und/oder eine Einkoppe1struktur 206 bezüglich der elektromagnetischen
Strahlung ausbilden.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das
optoelektronische Bauelement 300 ferner eine
Verkapselungsstruktur 328 auf oder über dem optisch aktiven Bereich 306 aufweisen, wobei die Verkapselungsstruktur 328 hermetisch dicht bezüglich einer Diffusion von Wasser
und/oder Sauerstoff durch die Verkapselungsstruktur 328 in den oder aus dem optisch aktiven Bereich 306 ausgebildet ist , und wobei die Verkapselungsstruktur 328 die Glasware 200 aufweist oder daraus gebildet sein kann . In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das optoelektronische Bauelement als eine Leuchtdiode, eine
Solarzelle; eine Leuchtstoffröhre, eine Glühlampe, eine
Leuchtröhre oder eine Halogenlampe ausgebildet sein.
Das optoelektronische Bauelement kann beispielsweise als ein organisches optoelektronisches Bauelement 300 ausgebildet sein, beispielsweise als ein organischer Fotodetektor, eine organische Solarzelle und/oder eine organische Leuchtdiode- beispielsweise veranschaulicht in Fig.3.
Bei einem organischen optoelektronischen Bauelement kann der optisch aktive Bereich 306 eine erste Elektrode 310, eine zweite Elektrode 314 und eine organische funktionelle
Schichtenstruktur 312 zwischen der ersten Elektrode 310 und der zweiten Elektrode 314 aufweisen, wobei die organische funktionelle Schichtenstruktur 312 zum Umwandeln der
elektromagnetischen Strahlung und/oder des elektrischen
Stromes ausgebildet ist.
In verschiedenen Ausf hrungsbeispielen kann ein nachfolgend beschriebenes optoelektronisches Bauelement 300 eine oben beschriebene Glasware 200 aufweisen, wobei die Glasware 200 beispielsweise als Träger 302/202 und/oder Abdeckung 324/202 mit integrierter Koppelstruktur 206 ausgebildet sein kann.
Die Partikel 210 der zweiten Art können beispielsweise einen körperlichen Kontakt mit dem optisch aktiven Bereich 306 aufweisen, wobei elektromagnetische Strahlung aus dem optisch aktiven in die Kopp1ungsstruktur 206 eingekoppelt wird und umgekehrt .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann ein organisches, optoelektronisches Bauelement 300 ein hermetisch dichtes Substrat 326, einen aktiven Bereich 306 und eine
Verkapselungsstruktur 328 aufweisen.
Das hermetisch dichte Substrat 326 kann einen Träger 302 und eine erste Barriereschicht 304 aufweisen, Alternativ oder zusätzlich kann das hermetisch dichte Substrat 326 die
Glasware 200 aufweisen oder sein.
Der aktive Bereich 306 ist ein elektrisch aktiver Bereich 306 und/oder ein optisch aktiver Bereich 306. Der aktive Bereich 306 ist beispielsweise der Bereich des optoelektronischen Bauelements 300, in dem elektrischer Strom zum Betrieb des optoelektronischen Bauelements 300 fließt und/oder in dem elektromagnetische Strahlung erzeugt und/oder absorbiert wird,
Die organische funktionelle Schichtenstruktur 312 kann ein, zwei oder mehr funktionelle Schichtenstruktur-Einheiten und eine, zwei oder mehr Zwischenschichtstruktur (en) zwischen den Schichtenstruktur-Einheiten aufweisen. Die organische
funktionelle Schichtenstruktur 312 kann beispielsweise eine erste organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 316, eine Zwischenschichtstruktur 318 und eine zweite organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 320 aufweisen.
Die Verkapselungsstruktur 326 kann eine zweite
Barriereschicht 308, eine schlüssige Verbindungsschicht 322 und eine Abdeckung 324 aufweisen. Alternativ oder zusätzlich kann die Verkapselungsstruktur 326 die Glasware 200 aufweisen oder sein.
Der Träger 302 kann Glas, Quarz, und/oder ein
Halbleitermaterial aufweisen oder daraus gebildet sein.
Ferner kann der Träger eine Kunststofffolie oder ein Laminat mit einer oder mit mehreren Kunststofffolien aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Kunststoff kann ein oder mehrere Polyolefine (beispielsweise Polyethylen (PE) mit hoher oder niedriger Dichte oder Polypropylen (PP) ) aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann der Kunststoff
Polyvinylchlorid (PVC) , Polystyrol (PS) , Polyester und/oder Polycarbonat (PC) , Polyethylenterephthalat (PET) ,
Poiyethersulfon (PES) und/oder Polyethylennaphthalat (PEN) aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Träger 302 kann ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein, beispielsweise Kupfer, Silber, Gold, Platin, Eisen, beispielsweise eine Metallverbindung, beispielsweise Stahl .
Der Träger 302 kann opak, transluzent oder sogar transparent ausgeführt sein .
Der Träger 302 kann ein Teil einer Spiegelstruktur sein oderil6^£* 3 H-1ci^n ·
Der Träger 302 kann einen mechanisch rigiden Bereich und/oder einen mechanisch flexiblen Bereich aufweisen oder derart ausgebildet sein, beispielsweise als eine Folie .
Der Träger 302 kann als Wellenleiter für elektromagnetische Strahlung ausgebildet sein, beispielsweise transparent oder transluzent sein hinsichtlich der emittierten oder
absorbierten elektromagnetischen Strahlung des
optoelektronischen Bauelementes 300.
Die erste Barriereschicht 304 kann eines der nachfolgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein:
Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid,
Hafniumoxid, Tantaloxid, Lanthaniumoxid, Siliziumoxid,
Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid, Indiumzinnoxid,
Indiumzinkoxid, Aluminium-dotiertes Zinkoxid, Poiy (p- phenylenterephthalamid) , Nylon 66, sowie Mischungen und
Legierungen derselben .
Die erste Barriereschicht 304 kann mittels eines der
folgenden Verfahren ausgebildet we den : ein
Atomlagenabscheideverfahrens {Atomic Layer Deposition (ALD) ) , beispielsweise eines plasmaunterstützten
Atomlagenabscheideverf hrens {Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) ) oder ein plasmaloses
Atomlageabscheideverfahren (Plasma- less Atomic Layer
Deposition (PLALD) ) ; ein chemisches Gasphasenabscheideverfahren (Chemical Vapor Deposition
(CVD) ) , beispielsweise ein plasmaunterstütztes
Gasphasenabscheideverfahren (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ) oder ein plasmaloses
Gasphasenabscheideverfahren ( Plasma- less Chemical Vapor
Deposition (PLCVD) ) ; oder alternativ mittels anderer
geeigneter Abscheideverfahren.
Bei einer ersten Barriereschicht 304 , die mehrere
Teilschichten aufweist , können alle Teilschichten mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens gebildet werden . Eine Schichtenfolge , die nur ALD-Schichten aufweist , kann auch als „Nanolaminat" bezeichnet werden, Bei einer ersten Barriereschicht 304 , die mehrere
Teilschichten auf eist , können eine oder mehrere
Teilschichten der ersten Barriereschicht 304 mittels eines anderen Abscheideverfahrens als einem
Atomlagenabscheideverfahren abgeschieden werden,
beispielsweise mittels eines Gasphasenabscheideverfahrens .
Die erste Barriereschicht 304 kann eine Schichtdicke von ungefähr 0,1 nm (eine Atomlage) bis ungefähr 1000 nm
aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von ungefähr 10 nm bis ungefähr 100 nm gemäß einer Ausgestaltung,
beispielsweise ungefähr 40 nm gemäß einer Ausgestaltung .
Die erste Barriereschicht 304 kann ein oder mehrere
hochbrechende Materialien aufweisen, beispielsweise ein oder mehrere Material ( ien) mit einem hohen Brechungsindex, beispielsweise mit einem Brechungsindex von mindestens 2.
Ferner ist darauf hinzuweisen, dass i verschiedenen
Ausführungsbeispielen auch ganz auf eine erste
Barriereschicht 304 verzichtet werden kann, beispielsweise für den Fall , dass der Träger 302 hermetisch dicht
ausgebildet ist , beispielsweise Glas , Metall, Metalloxid aufweist oder daraus gebildet ist . Die erste Elektrode 304 kann als Anode oder als Kathode ausgebildet sein. Die erste Elektrode 310 kann eines der folgenden elektrisch le.itfähigen Material aufweisen oder daraus gebildet werden: ein Metall ; ein leitfähiges transparentes Oxid (transparent conductive oxide, TCO) ; ein Netzwerk aus metallischen
Nanodrähten und - eilchen, beispielsweise aus Ag , die beispielsweise mit leitfähige Polymeren kombiniert sind;
ein Netzwerk aus Kohlenstoff -Nanoröhren, die
beispielsweise mit leitfähigen Polymeren kombiniert sind; Graphen-Teilchen und - Schichten; ein Netzwerk aus
halbleitenden Nanodrähten; ein elektrisch leitfähiges
Polymer ; ein Übergangsmetalloxid ; und/oder deren
Komposite . Die erste Elektrode 310 aus einem Metall oder ein Metall aufweisend kann eines der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: Ag, Pt , Au, Mg, AI , Ba, In, Ca, Sm oder Li , sowie Verbindungen, Kombinationen oder Legierungen dieser Materialien. Die erste Elektrode 310 kann als transparentes leitf higes Oxid eines der folgenden
Materialien aufweist oder derart ausgebildet sein :
beispielsweise Metalloxide : beispielsweise Zinkoxid,
Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid, oder Indium- Zinn-Oxid ( ITO) . Neben binären MetallsauerstoffVerbindungen, wie beispielsweise ZnO, Sn02 , oder In203 gehören auch ternäre MetallsauerstoffVerbindungen, beispielsweise AlZnO, Zn2Sn04 , CdSn03, ZnSnÖ3 , Mgln 04 , Galn03 , Zn2In20s oder In4Sn3012 oder Mischungen unterschied].icher transparenter leitfähiger Oxide zu der Gruppe der TCOs und können in verschiedenen
Ausführungsbeispielen eingesetzt werden. Weiterhin
entsprechen die TCOs nicht zwingend einer stöchiometrischen Zusammensetzung und können ferner p-dotiert oder n-dotiert sein, bzw. lochleitend (p-TCO) oder elektronenleitend (n-TCO) sein . Die erste Elektrode 310 kann eine Schicht oder einen
Schichtenstapel mehrerer Schichten desselben Materials oder unterschiedlicher Materialien aufweisen. Die erste Elektrode 310 kann gebildet werden von einem Schichtenstapel einer Kombination einer Schicht eines Metalls auf einer Schicht eines TCOs, oder umgekehrt. Ein Beispiel ist eine
Silberschicht, die auf einer Indium-Zinn-Oxid- Schicht (ITO) aufgebracht ist (Ag auf ITO) oder ITO-Ag-ITO Multischichten . Die erste Elektrode 304 kann beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von 10 nm bis 500 nm,
beispielsweise von kleiner 25 nm bis 250 nm, beispielsweise von 50 nm bis 100 nm. Die erste Elektrode 310 kann einen ersten elektrischen
Anschluss aufweisen, an den ein erstes elektrisches Potential anlegbar ist . Das erste elektrische Potential kann von einer Energiequelle bereitgestellt werden, beispielsweise einer Stromquelle oder einer Spannungsquelle . Alternativ kann das erste elektrische Potential an einen elektrisch leitfähigen Träger 302 angelegt sein und die erste Elektrode 310 durch den Träger 302 mittelbar elektrisch zuge ührt sein . Das erste elektrische Potential kann beispielsweise das Massepotential oder ein anderes vorgegebenes Bezugspotential sein .
In Fig.3 ist ein optoelektronisches Bauelement 300 mit einer ersten organischen funktionellen Schichtenstruktur -Einheit 316 und einer zweite organischen funktionellen
Schichtenstruktur-Einheit 320 dargestellt . In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische funktionelle
Schichtenstruktur 312 aber auch mehr als zwei organische funktionelle Schichtenstrukturen aufweisen, beispielsweise 3 , 4 , 5 , 6 , 7, 8 , 9, 10 , oder sogar mehr, beispielsweise 15 oder mehr, beispielsweise 70.
Die erste organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 316 und die optional weiteren organischen funktionellen
Schichtenstrukturen können gleich oder unterschiedlich ausgebildet sein, beispielsweise ein gleiches oder
unterschiedliches Emittermaterial aufweisen . Die zweite organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 320 , oder die weiteren organischen funktionellen Schichtenstruktur- Einheiten können wie eine der nachfolgend beschriebenen
Ausgestaltungen der ersten organischen funktionellen
Schichtenstruktur-Einheit 316 ausgebildet sein.
Die erste organische funktionelle Sch chtenstruktur-Einheit 316 kann eine Lochinjektionsschicht, eine
Lochtransportschicht , eine Emitterschicht , eine
Elektronentransportschicht und eine
Elektroneninj ektionsschicht aufweisen . In einer organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheit 312 kann eine oder mehrere der genannten Schichten vorgesehen sein, wobei gleiche Schichten einen körperlichen Kontakt auf eisen können, nur elektrisch miteinander verbunden sein können oder sogar elektrisch voneinander isoliert ausgebildet sein können, beispielsweise nebeneinander ausgebildet sein können. Einzelne Schichten der genannten Schichten können optional sei .
Eine Lochin ektionsschicht kann auf oder über der ersten Elektrode 310 ausgebildet sein . Die Lochinj ektionsschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: HAT-CN, Cu(I)pFBz, MoOx, WOx, VOx, ReOx, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Bi (III) pFBz, F16CuPc; NPB (Ν,Ν' - Bis (naphthalen-l-yl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -benzidin) ; beta- PB Ν,Ν' -Bis (naphthalen-2-yl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -benzidin) ; TPD
(Ν,Ν' -Bis (3-methylphenyl) -N, ' -bis (phenyl) -benzidin) ; Spiro TPD (Ν,Ν' -Bis ( 3-methylphenyl ) -N, N 1 -bis (phenyl) -benzidin) ; Spiro-NPB (N, ' -Bis (naphthalen-l-yl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -spiro) ; DMFL-TPD N, N 1 -Bis (3-methylphenyl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -9,9- dimethyl-fluoren) ; DMFL-NPB (Ν,Ν' -Bis (naphthalen-l-yl) -Ν,Ν' - bis (phenyl) -9, 9-dimethyl - fluoren) ; DPFL-TPD (Ν,Ν' -Bis (3- methylphenyl) -N, N ' -bis (phenyl) -9, 9 -diphenyl- fluoren) ; DPFL- NPB (Ν,Ν' -Bis (naphthalen- 1 -yl ) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -9 , 9- diphenyl - f luoren) ; Spiro-TAD (2,2' ,7,7' -Tetrakis (n, n-diphenylamino) - 9,9 ' -spirobif luoren) ; 9,9-Bis[4- ( , -bis -biphenyl - -yl - araino) phenyl] -9H-f luoren; 9 , 9 -Bis [4 - ( , N-bis -naphthalen- 2 -yl- araino) phenyl] - 9H- f luoren; 9,9-Bis[4-(N,N' -bis -naphthalen- 2- yl-N, N' -bis -phenyl -amino) -phenyl] -9H-f luor ;
N, ' -bis (phenanthren- 9-yl) -N, ' -bis (phenyl) -benzidin;
2 , 7-Bis [N, -bis (9, 9 - spiro-bifluorene - 2 -yl ) -amino] -9, 9-spiro- bif luoren; 2,2' -Bis [N, -bis (biphenyl-4 -yl) amino] 9 , 9-spiro- bifluoren; 2,2' -Bis (N, -di -phenyl -amino) 9 , 9 - spiro-bifluoren; Di- [4 - (N, -ditolyl- amino) -phenyl] cyclohexan;
2,2' ,1,1' -tetra (N, N-di- tolyl) amino-spiro-bifluoren; und/oder N, Ν,Ν' ,Ν' -tetra- naphthalen- 2 -yl -benzidin. Die Lochinj ektionsschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 1000 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 30 nm bis ungef hr 300 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 50 nm bis ungefähr 200 nm.
Auf oder über der Lochinj ektionsschicht kann eine
Locht ansportschicht ausgebildet sein . Die
Lochtransportschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein : NPB (N, N ' - Bis (naphthalen- 1-yl) -N, ' -bis (phenyl) -benzidin) ; beta-NPB Ν,Ν' -Bis (naphthalen- 2 -yl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -benzidin) ; TPD (Ν,Ν' -Bis ( 3 -methylphenyl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -benzidin) ; Spiro TPD (Ν,Ν' -Bis ( 3 -methylphenyl ) -N, ' -bis (phenyl) -benzidin) ; Spiro-NPB (Ν,Ν' -Bis (naphthalen- 1 -yl ) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -spiro) ; DMFL-TPD Ν , Ν ' -Bis ( 3 -methylphenyl ) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -9, 9- dimethy1 - f luoren) ; D FL-NPB ( Ν , Ν ' -Bis (naphthalen-l-yl) -Ν,Ν' - bis (phenyl) - 9, 9-dimethyl-f luoren) ; DPFL-TPD (Ν,Ν' -Bis (3- methylphenyl) -Ν,Ν' -bis (phenyl) -9, 9 -diphenyl - fluoren) ; DPFL- NPB (Ν,Ν' -Bis (naphthalen-l-yl) - , ' -bis (phenyl) -9 , 9- diphenyl - f luoren) ; Spiro -TAD (2,2' ,7,7' -Tetrakis (n, n-diphenylamino) - 9 , 9 ' -spirobif luoren) ; 9, 9~Bis [4- (N, N-bis -biphenyl - -yl - amino) phenyl] -9H-f luoren; 9 , 9-Bis [4- (N, N-bis -naphthalen- 2 -yl - amino) phenyl] -9H- f luoren; 9, 9-Bis [4- (Ν,Ν' -bis -naphthalen- 2 - yl-N, ' -bis-phenyl-amino) -phenyl] -9H-fluor;
N, N ' -bis (phenanthren- 9 -yl } -Ν,Ν' -bis (phenyl) -benzidin 2,7- Bis [N, -bis (9, 9-spiro-bifluorene-2 -yl ) -amino] -9, 9-spiro- bifluoren; 2,2' -Bis [N, -bis (biphenyl -4 -yl ) amino] 9, 9-spiro- bifluoren; 2,2' -Bis (N, N-di -phenyl -amino) 9 , 9-spiro-bifluoren; Di- [4- {N, N-ditolyl-amino) -phenyl] cyclohexan; 2,2' ,7,7'- tetra (N, N-di-tolyl) amino-spiro-bifluoren; und N,
Ν,Ν' ,Ν' -tetra-naphthalen- 2 -yl -benzidin, ein tertiäres Amin, ein Carbazolderivat , ein leitendes Polyanilin und/oder
Polyethylendioxythiophen .
Die Loch ransportschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm,
beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beis ielsweise ungef hr 20 nm .
Auf oder über der Lochtransportschicht kann eine
Emitterschicht ausgebildet sein . Jede der organischen
funktionellen Schichtenstruktur-Einhei en 316 , 320 kann jeweils eine oder mehrere Emitterschichten aufweisen,
beispielsweise mit fluoreszierenden und/oder
phosphoreszierenden Emittern .
Eine Emitterschicht kann organische Polymere, organische Oligomere , organische Monomere , organische kleine, nicht- polymere Moleküle („small molecules" ) oder eine Kombination dieser Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein .
Das optoelektronische Bauelement 300 kann in einer
Emitterschicht eines oder mehrere der folgenden Materialien auf eisen oder daraus gebildet sein: organische oder
organometallische Verbindungen, wie Derivate von Polyfluoren, Polythiophen und Polyphenylen (beispielsweise 2- oder 2,5- substituiertes ?oly-p-phenylenvinylen) sowie Metallkomplexe, beispielsweise Iridium-Komplexe wie blau phosphoreszierendes FIrPic (Bis (3 , 5-difluoro-2- ( 2 -pyridyl) phenyl- (2- carboxypyridyl) -iridium III) , grün phosphoreszierendes Ir (ppy) 3 (Tris (2-phenylpyridin) iridium III) , rot phosphoreszierendes u (dtb-bpy) 3*2 (PFg) (Tris [ 4 , ' -di-tert- butyl- (2,2' ) -bipyridin] ruthenium (III) komplex) sowie blau fluoreszierendes DPAVBi (4 , -Bis [4- (di-p- tolylamino) styryl] biphenyl) , grün fluoreszierendes TTPA
( 9 , 10-Bis [ , -di - (p- toiyl) -amino] anthracen) und rot
fluoreszierendes DCM2 (4 -Dicyanomethylen) -2-methyl-6- julolidyl-9-enyl-4H-pyran) als nichtpolymere Emitter. Solche nichtpolymeren Emitter sind beispielsweise mittels thermischen Verdampfens abscheidbar. Ferner können
Polymeremitter eingesetzt werden, welche beispielsweise mittels eines nasschemischen Verfahrens abscheidbar sind, wie beispielsweise einem Aufschleuderverfahren (auch bezeichnet als Spin Coating) .
Die Emittermaterialien können in geeigneter Weise in einem
Matrixmaterial eingebettet sein, beispielsweise einer
technischen Keramik oder einem Polymer, beispielsweise einem Epoxid; oder einem Silikon.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die
Emitterschicht eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungef hr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.
Die Emitterschicht kann einfarbig oder verschiedenfarbig (zum Beispiel blau und gelb oder blau, grün und rot) emittierende Emittermaterialien aufweisen. Alternativ kann die
Emitterschicht mehrere Teilschichten aufweisen, die Licht unterschiedlicher Farbe emittieren . Mittels eines Mischens der verschiedenen Farben kann die Emission von Licht mit einem weißen Farbeindruck resultieren . Alternativ kann auch vorgesehen sein, im Strahlengang der durch diese Schichten erzeugten Primäremission ein Konvertermaterial anzuordnen, das die Primär trahlung zumindest teilweise absorbiert und eine Sekundärstrahlung anderer Wellenlänge emittiert, so dass sich aus einer (noch nicht weißen) Primärstrahlung durch die Kombination von primärer Strahlung und sekundärer Strahlung ein weißer Farbeindruck ergibt.
Die organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 316 kann eine oder mehrere Emitterschichten aufweisen, die als Lochtransportschicht ausgeführt ist/ sind. Weiterhin kann die organische funktionelle Schichtenstruktur- Einheit 316 eine oder mehrere Emitterschichten aufweisen, die als Elektronentransportschicht ausgeführt ist/sind.
Auf oder über der Emitterschicht kann eine
Elektronentransportschicht ausgebildet sein, beispielsweise abgeschieden sein.
Die Elektronentransportschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NET- 18 ; 2, 2', 2" -(1,3, 5 -Benzinetriyl) -tris ( 1 -phenyl-1-H- benzimidazole) ; 2- ( -Biphenylyl) -5- ( 4 -tert-butylphenyl ) - 1,3 , -oxadiazole, 2 , 9-Dimethyl-4 , 7-diphenyl-l , 10- phenanthroline (BCP) ; 8 -Hydroxyquinolinolato- lithium, 4- (Naphthalen-l-yl) -3 , 5 -diphenyl -4H-1 , 2 , 4 - triazole ; 1, 3 -Bis [2- (2,2' -bipyridine-6 -yl) -1,3,4 -oxadiazo- 5 -yl] benzene; 4,7- Diphenyl-1, 10 -phenanthroline (BPhen) ; 3- {4 -Biphenylyl) -4- phenyl-5- tert-butylphenyl-1 , 2, 4 -triazole ; Bis (2-methyl-8- quinolinolate) -4 - (phenylphenolato) aluminium; 6,6' -Bis [5- (biphenyl-4 -yl) -1,3 , 4 -oxadiazo- 2 -yl] -2,2' -bipyridyl ; 2- phenyl-9, 10-di (naphthalen-2 -yl) -anthracene; 2 , 7-Bis [2- (2,2' - bipyridine- 6 -yl ) -1, 3 , 4 - oxadiazo- 5 -yl] -9, 9 -dimethy1fluorene ; 1 , 3 -Bis [2- (4 -tert-butylphenyl) -1,3, 4 -oxadiazo- 5 -yl] benzene ; 2- (naphthalen- 2 -yl) - , 7 -diphenyl - 1 , 10 -phenanthroline ; 2,9- Bis (naphthalen-2 -yl) -4 , 7-diphenyl-l , 10-phenanthroline ;
Tris (2,4, 6-trimethyl-3 - (pyridin- 3 -yl ) phenyl ) borane ; 1-methyl- 2- (4 - (naphthalen-2 -yl) phenyl) -IH-imidazo [4,5- f] [1,10] phenanthrolin; Phenyl-dipyrenylphosphine o ide ;
Naphta lintetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide ; Perylentetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide ; und Stoffen basierend auf Silolen mit einer
Silacyclopentadieneinheit . Die Elektronentransportschicht kann eine Schichtdicke
aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr
50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm. Auf oder über der Elektronentransportschicht kann eine
Elektroneninjektionsschicht ausgebildet sein. Die
Elektroneninj ektionsSchicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: DN-26, MgAg, Cs2C03 , Cs3P04 , Na, Ca, K, Mg, Cs, Li, LiF;
2, 2', 2" -(1,3 , 5-Benzinetriyl) -tris (1-phenyl-l-H- benzimidazole) ; 2- (4 -Biphenylyl) -5- ( - tert -butylphenyl ) - 1,3, -oxadiazole, 2 , 9-Dimethyl-4 , 7 -diphenyl - 1 , 10- phenanthrol ine (BCP) ; 8-Hydroxyquinolinolato-lithium, 4 - (Naphthalen- 1 -yl ) -3, 5 -diphenyl - 4H- 1 , 2 , 4 - triazole ; 1, 3 -Bis [2- (2,2' -bipyridine-6-yl) -1,3, 4 -oxadiazo- 5 -yl] benzene ; 4,7- Diphenyl-1, 10 -phenanthroline (BPhen) 3- (4 -Biphenylyl) -4- phenyl - 5 - tert -butylphenyl - 1 , 2 , 4 -triazole ; Bis (2-methyl~8- quinolinolate) -4- (phenylphenolato) aluminium; 6,6' -Bis [5- (biphenyl-4-yl) -1,3 , -oxadiazo- 2 -yl] -2,2' -bipyridyl ; 2- phenyl - 9 , 10-di (naphthalen- 2 -yl ) -anthracene; 2 , 7 -Bis [2 - (2 , 2 ' - bipyridine-6 -yl) -1,3, 4 -oxadiazo- 5 -yl] -9 , 9 -dimethy1fluorene ; 1, 3 -Bis [2- ( 4 - ert -butylphenyl ) -1,3, 4 -oxadiazo- 5 -yl] benzene ; 2- (naphthalen-2 -yl) -4 , 7 -diphenyl- 1 , 10-phenanthroline ; 2,9- Bis (naphthalen- 2 -yl ) -4 , 7 -diphenyl - 1 , 10 -phenanthroline ;
Tris (2,4, 6-trimethyl-3- (pyridin- 3 -yl ) henyl) borane ; 1-methyl- 2- (4- (naphthalen-2-yl) henyl) - 1H- imidazo [4,5- f] [1 , 10] phenanthroline ; Phenyl - dipyrenylphosphine oxide ;
Naphtahlintetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide;
Perylentetracarbonsäuredianhydrid bzw. dessen Imide ; und Stoffen basierend auf Silolen mit einer
Silacyclopentadieneinheit . Die Elektroneninj ektionsschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 200 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 20 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise ungefähr 30 nm,
Bei einer organischen funktionellen Schichtenstruktur 312 mit zwei oder mehr organischen f nktionellen Schichtenstruktur- Einheiten 316, 320, kann die zweite organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 320 über oder neben der ersten funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten 316 ausgebildet sein. Elektrisch zwischen den organischen f nktionellen
Schichtenstruktur-Einheiten 316, 320 kann eine
Zwischenschichtstruktur 318 ausgebildet sein, In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die
Zwischenschichtstruktur 318 als eine Zwischenelektrode 318 ausgebildet sein, beispielsweise gemäß einer der
Ausgestaltungen der ersten Elektrode 310. Eine
Zwischenelektrode 318 kann mit einer externen Spannungsquelle elektrisch verbunden sein. Die externe Spannungsquelle kann an der Zwischenelektrode 318 beispielsweise ein drittes elektrisches Potential bereitstellen. Die Zwischenelektrode 318 kann jedoch auch keinen externen elektrischen Änschluss aufweisen, beispielsweise indem die Zwischenelektrode ein schwebendes elektrisches Potential aufweist.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die
Zwischenschichtstruktur 318 als eine Ladungsträgerpaar- Erzeugung-Schichtenstruktur 318 (Charge generation layer CGL) ausgebildet sein. Eine Ladungsträgerpaar-Erzeugung- Schichtenstruktur 318 kann eine oder mehrere
elektronenleitende Ladungsträgerpaar- Erzeugung-Schicht (en) und eine oder mehrere lochleitende Ladungsträgerpaar- Erzeugung-Schicht (en) aufweisen. Die elektronenleitende
Ladungsträgerpaar-Erzeugung-Schicht (en) und die lochleitende Ladungsträgerpaar-Erzeugung-Schicht (en) können jeweils aus einem intrinsisch leitenden Stoff oder einem Dotierstoff in einer Matrix gebildet sein. Die Ladungsträgerpaar-Erzeugung- Schichtenstruktur 318 sollte hinsichtlich der Energieniveaus der elektronenleitenden Ladungsträgerpaar-Erzeugung- Schicht (en) und der lochleitenden Ladungsträgerpaar- Erzeugung-Schicht (en) derart ausgebildet sein, dass an der Grenzfläche einer elektronenleitenden Ladungsträgerpaar- Erzeugung-Schicht mit einer lochleitenden Ladungsträgerpaar- Erzeugung- Schicht ein Trennung von Elektron und Loch erfolgen kann. Die Ladungsträgerpaar-Erzeugung -Schichtenstruktur 318 kann ferner zwischen benachbarten Schichten eine
Diffusionsbarriere aufweisen.
Jede organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit 316 , 320 kann beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von maximal ungefähr 3 μτη, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1 μχα, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungef hr 300 nm.
Das optoelektronische Bauelement 300 kann optional weitere organische funktionalen Schichten aufweisen, beispielsweise angeordnet auf oder über der einen oder mehreren
Emitterschichten oder auf oder über der oder den
Elektronentransportschicht (en) . Die weiteren organischen funktionalen Schichten können beispielsweise interne oder extern Einkoppel- /Auskoppelstrukturen sein, die die
Funktionalität und damit die Effizienz des optoelektronischen Bauelements 300 weiter verbessern.
Auf oder über der organischen funktionellen Schichtenstruktur 312 oder gegebenenfalls auf oder über der einen oder den mehreren weiteren der organischen funktionellen
Schichtenstruktur und/oder organisch funktionalen Schichten kann die zweite Elektrode 314 ausgebildet sein.
Die zweite Elektrode 314 kann gemäß einer der Ausgestaltungen der ersten Elektrode 310 ausgebildet sein, wobei die erste Elektrode 310 und die zweite Elektrode 314 gleich oder unterschiedlich ausgebildet sein können. Die zweite Elektrode 314 kann als Anode, also als löcherinjizierende Elektrode ausgebildet sein oder als Kathode, also als eine elektroneninj izierende Elektrode ,
Die zweite Elektrode 314 kann einen zweiten elektrischen
Anschluss aufweisen, an den ein zweites elektrisches
Potential anlegbar ist. Das zweite elektrische Potential kann von der gleichen oder einer anderen Energiequelle
bereitgestellt werden wie das erste elektrische Potential und/oder das optionale dritte elektrische Potential. Das zweite elektrische Potential kann unterschiedlich zu dem ersten elektrischen Potential und/oder dem optional dritten elektrischen Potential sein. Das zweite elektrische Potential kann beispielsweise einen Wert aufweisen derart, dass die
Differenz zu dem ersten elektrischen Potential einen Wert in einem Bereich von ungefähr 1,5 V bis ungefähr 20 V aufweist, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 2,5 V bis ungefähr 15 V, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 3 V bis ungefähr 12 V. Auf der zweiten Elektrode 314 kann die zweite Barriereschicht 308 ausgebildet sein.
Die zweite Barriereschicht 308 kann auch als
Dünnschichtverkapselung (thin film encapsulation TFE)
bezeichnet werden. Die zweite Barriereschicht 308 kann gemäß einer der Ausgestaltungen der ersten Barriereschicht 304 ausgebildet sein.
Ferner ist darauf hinzuweisen, dass in verschiedenen
Ausführungsbeispielen auch ganz auf eine zweite
Barriereschicht 308 verzichtet werden kann. In solch einer Ausgestaltung kann das optoelektronische Bauelement 300 beispielsweise eine weitere Verkapselungsstruktur aufweisen, wodurch eine zweite Barriereschicht 308 optional werden kann, beispielsweise eine Abdeckung 324, beispielsweise eine
Kavitätsglasverkapselung oder metallische Verkapselung . Ferner können in verschiedenen Ausführungsbeispielen
zusätzlich noch eine oder mehrere Ein- /Auskoppelschichten in dem optoelektronischen Bauelementes 300 ausgebildet sein, beispielsweise eine externe Auskoppelfolie auf oder über dem Träger 302 (nicht dargestellt) oder eine interne
Auskoppelschicht (siehe Fig.2), beispielsweise mittels der Glasware 200. Die Ein-/AuskoppelSchicht 206 kann wie oben beschrieben eine Glasmatrix 204 und darin verteilt Partikel 208/210 aufweisen, wobei der mittlere Brechungsindex der Ein- /Auskoppelschicht 206 größer oder kleiner ist als der
mittlere Brechungsindex der Schicht, aus der die
elektromagnetische Strahlung bereitgestellt wird. Ferner können in verschiedenen Ausführungsbeispielen zusätzlich eine oder mehrere Entspiegelungsschichten (beispielsweise
kombiniert mit der zweiten Barriereschicht 308) in dem optoelektronischen Bauelement 300 vorgesehen sein.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen ist mittels der
Partikel der ersten Art und/oder der zweiten Art in der
Glasmatrix eine Kopplungsschicht realisiert, beispielsweise in dem die Partikel der zweiten Art auf der Einfallseite der elektromagnetischen Strahlung frei liegen. Die
Kopplungsschient kann beispielsweise als eine
Einkoppelschicht und/oder eine Äuskoppelschicht ausgebildet sein.
In einer Ausgestaltung kann der thermische
Ausdehnungskoeffizient der Partikel 208/210 der ersten Art und/oder der zweiten Art und der thermische
Ausdehnungskoeffizient der Glasmatrix aneinander angepasst sein, beispielsweise durch eine geeignete Materialauswahl, beispielsweise innerhalb eines Bereiches von ungefähr 50 % , beispielsweise innerhalb eines Bereiches von ungefähr 40 %, beispielsweise innerhalb eines Bereiches von ungefähr 30 % , beispielsweise innerhalb eines Bereiches von ungefähr 20 %, beispielsweise innerhalb eines Bereiches von ungefähr 10 % , beispielsweise ungefähr gleich bezüglich des thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Glasmatrix. Beispielsweise können die Partikel der ersten und/oder zweiten Art ein Glas sein, das heißt amorph ausgebildet sein.
In einer Ausgestaltung kann die Kop lungsSchicht 206 einen mittleren Brechungs index von mindestens ungefähr 1,5,
aufweisen, beispielsweise einen Brechungsindex von mindestens ungefähr 1,6, beispielsweise einen Brechungsindex von
mindestens ungefähr 1,65, beispielsweise einen Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 2,1.
In einer Ausgestaltung kann die Kopplungsschicht eine Dicke in einem Bereich von ungefähr 100 um bis ungefähr 100 μττι aufweisen, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1 μνα bis ungefähr 10 μκι, beispielsweise ungefähr 2,5 μτα.
In einer Ausgestaltung können die Partikel der ersten
und/oder zweiten Art, und/oder Leuchtstoff -Partikel eine gewölbte Oberfläche aufweisen, beispielsweise ähnlich oder gleich einer optischen Linse. Zusätzlich oder alternativ können die Partikel eine der folgenden geometrische Formen und/oder einen Teil einer der folgenden geometrischen Formen aufweist oder derart ausgebildet sein: sphärisch, asphärisch beispielsweise prismatisch, ellipsoid, hohl, kompakt, plättchen oder stäbchenf rmig.
In einer Ausgestaltung können die Partikel der ersten und/oder zweiten Art, und/oder Leuchtstoff -Partikel in der Glasmatrix eine Lage mit einer Dicke von ungefähr 0,1 μτ bis ungefähr 100 μιη aufweisen. In einer Ausgestaltung können die Partikel der ersten und/oder zweiten Art, und/oder
Leuchtstoff -Partikel der Kopplungs chicht 206 mehrere Lagen übereinander in der Glasmatrix aufweisen, wobei die einzelnen Lagen unterschiedlich ausgebildet sein können. In einer Ausgestaltung können die die Partikel der ersten und/oder zweiten Art, und/oder Leuchtstoff -Partikel
elektromagnetische Strahlung streuen, UV- Strahlung
absorbieren, die Wellenlänge von elektromagnetischer Strahlung konvertieren, die Kopplungsschicht einfärben und/oder schädliche Stoffe binden. Partikel der ersten und/oder zweiten Art, und/oder Leuchtstoff-Partikel, die beispielsweise elektromagnetische Strahlung streuen können und keine UV-Strahlung absorbieren können, können
beispielsweise AI2O3 , S1O2 , Y2.O3 oder ZrC>2 aufweisen oder daraus gebildet sein_ Partikel der ersten und/oder zweiten Art, und/ode Leuchtstoff-Partikel , die beispielsweise elektromagnetische Strahlung streuen und die Wellenlänge elektromagnetischer Strahlung konvertieren, können
beispielsweise als Glaspartikel mit einem Leuchtstoff
eingerichtet sein.
In einer Ausgestaltung kann die Kopplungsschicht 206
strukturiert sein, beispielsweise topographisch,
beispielsweise lateral und/oder vertikal; beispielsweise mittels einer unterschiedlichen stofflichen Zusammensetzung und Verteilung der Partikel der Kopplungsschicht 206, beispielsweise lateral und/oder vertikal, beispielsweise mit einer unterschiedlichen lokalen Konzentration wenigstens einer Art der Partikel der ersten und/oder zweiten Art, und/oder Leuchtstoff -Partikel .
Die strukturierte Grenzfläche kann beispielsweise mittels Aufrauens einer der Oberfläche oder Ausbilden eines Musters an einer Oberfläche der Glasmatrix ausgebildet sein. In einer Ausgestaltung kann die strukturierte Oberfläche von
Mikrolinsen gebildet sein. Die ikrolinsen und/oder die Grenzflächenrauheit können beispielsweise auch als
Streuzentren verstanden werde und beispielsweise mittels der .zweiten Partikel ausgebildet sein, beispielsweise zum Erhöhen der Lichteinkopplung/Lichtauskopplung. In einer Ausgestaltung kann die Koppelungsschicht 206 als ein Gitter ausgebildet sein, wobei das Gitter eine strukturierte Schicht mit
Bereichen mit niedrigem Brechungsindex aufweist. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann auf oder über der zweiten Barriereschicht 308 eine schlüssige
Verbindungsschicht 322 vorgesehen sein, beispielsweise aus einem Klebstoff oder einem Lack. Mittels der schlüssigen Verbindungsschicht 322 kann eine Abdeckung 324 auf der zweiten Barriereschicht 308 schlüssig verbunden werden, beispielsweise aufgeklebt sein.
Eine schlüssige Verbindungsschicht 322 aus einem
transparenten Material kann beispielsweise Partikel
aufweisen, die elektromagnetische Strahlung streuen,
beispielsweise lichtstreuende Partikel, Dadurch kann die schlüssige Verbindungsschicht 322 als Streuschicht wirken und zu einer Verbesserung des Farbwinkelverzugs und der
Auskoppeleffizienz führen.
Als lichtstreuende Partikel können dielektrische
Streupartikel vorgesehen sein, beispielsweise aus einem
Metalloxid, beispielsweise Siliziumoxid (S1O2 ) , Zinkoxid (ZnO) , Zirkoniumoxid (Zr02 ) , Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO) , Galliumoxid (Ga2Öx) Aluminiumoxid, oder Titanoxid. Auch andere Partikel können geeignet sein, sofern sie einen Brechungsindex haben, der von dem effektiven Brechungsindex der Matrix der schlüssigen Verbindungsschicht 322 verschieden ist , beispielsweise Luftblasen, Acrylat , oder Glashohlkugeln . Ferner können beispielsweise metallische Nanopartikel , Metalle wie Gold, Silber, Eisen-Nanopartikel , oder dergleichen als lichtstreuende Partikel vorgesehen sein . Die schlüssige Verbindungsschicht 322 kann eine Schichtdicke von größer als 1 μτη aufweisen, beispielsweise eine
Schichtdicke von mehreren μττι. In verschiedenen
Ausführungsbeispielen kann die schlüssige Verbindungsschicht 322 einen Laminations -Klebstoff aufweisen oder ein solcher sein. Die schlüssige VerbindungsSchicht 322 kann derart
eingerichtet sein, dass sie einen Klebstoff mit einem
Brechungsindex aufweist, der kleiner ist als der
Brechungsindex der Abdeckung 324. Ein solcher Klebstoff kann beispielsweise ein niedrigbrechender Klebstoff sein wie beispielsweise ein Acrylat, der einen Brechungsindex von ungefähr 1,3 aufweist» Der Klebstoff kann jedoch auch ein hochbrechender Klebstoff sein der beispielsweise
hochbrechende, nichtstreuende Partikel aufweist und einen schichtdickengemittelten Brechungsindex aufweist, der
ungefähr dem mittleren Brechungsindex der organisch
funktionellen Schichtenstruktur 312 entspricht,
beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 2,0. Weiterhin können mehrere unterschiedliche Klebstoffe vorgesehen sein, die eine Kleberschichtenfolge bilden.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann zwischen der zweiten Elektrode 314 und der schlüssigen Verbindungsschicht 322 noch eine elektrisch isolierende Schicht {nicht
dargestellt) aufgebracht werden oder sein, beispielsweise
SiN, beispielsweise mit einer Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 300 nm bis ungefähr 1,5 μτ , beispielsweise mit einer Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 500 nm bis ungefähr 1 μτη, um elektrisch instabile Materialien zu
schützen, beispielsweise während eines nasschemischen
Prozesses .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann eine schlüssige Verbindungsschicht 322 optional sein, beispielsweise falls die Abdeckung 324 direkt auf der zweiten Barriereschicht 308 ausgebildet wird, beispielsweise eine Abdeckung 324 aus Glas, die mittels Plasmaspritzens ausgebildet wird.
Auf oder über dem elektrisch aktiven Bereich 306 kann ferner eine sogenannte Getter-Schicht oder Getter- Struktur,
beispielsweise eine lateral strukturierte Getter-Schicht, angeordnet sein (nicht dargestellt) . Die Getter-Schicht kann ein Material aufweisen oder daraus gebildet sein, dass Stoffe, die schädlich für den elektrisch aktiven Bereich 306 sind, absorbiert und bindet. Eine Getter-Schicht kann
beispielsweise ein Zeolith-Derivat aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Getter-Schicht kann transluzent,
transparent oder opak und/oder undurchlässig hinsichtlich der elektromagnetischen Strahlung, die in dem optisch aktiven Bereich emittiert und/oder absorbiert wird, ausgebildet sein. Die Getter-Schicht kann eine Schichtdicke von größer als ungefähr 1 μπι aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren μτα . In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Getter-Schicht einen Laminations- Klebstoff aufweisen oder in der schlüssigen Verbindungsschicht 322 eingebettet sein.
Auf oder über der schlüssigen Verbindungsschicht 322 kann eine Abdeckung 324 ausgebildet sein. Die Abdeckung 324 kann mittels der schlüssigen Verbindungsschiebt 322 mit dem elektrisch aktiven Bereich 306 schlüssig verbunden sein und diesen vor schädlichen Stoffen schützen. Die Abdeckung 324 kann beispielsweise eine Glasabdeckung 324, eine
Metallfolienabdeckung 324 oder eine abgedichtete
Runststofffolien-Abdeckung 324 sein. Die Glasabdeckung 324 kann beispielsweise mittels einer Fritten-Verbindung (engl, glass frit bonding/glass soldering/seal glass bonding) mittels eines herkömmlichen Glaslotes in den geometrischen Randbereichen des organischen optoelektronischen Bauelementes 300 mit der zweite Barriereschicht 308 bzw. dem elektrisch aktiven Bereich 306 schlüssig verbunden werden.
Die Abdeckung 324 und/oder die schlüssige Verbindungsschicht 322 können einen Brechungsindex (beispielsweise bei einer Wellenlänge von 633 nm) von 1,55 aufweisen.
In verschieden Ausführungsbeispielen kann eine oben
beschriebene Glasware als Glasabdeckung verwendet werden.
In verschiedenen Ausführungsformen werden eine Glasware, eine Glasware mit Leuchtstoff-Partikeln, eine Vorrichtung zum Herstellen einer Glasware, ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware und ein Verfahren zum Herstellen einer Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln bereitgestellt, mit denen es
beispielsweise möglich ist, die AuskoppeIstruktur bzw.
Einkoppelstruktur eines optoelektronischen Bauelementes während des Herstellungsprozesses eines Trägers und/oder einer Abdeckung des optoelektronischen Bauelementes
auszubilden.

Claims

Glasware (200) , aufweisend:
• eine Glasmatrix (204) mit einer Oberfläche,
• eine erste Art Partikel (208) , und
• wenigstens eine zweite Art Partikel (210), wobei die Partikel (210) der zweiten Art einen höheren
Brechungsindex aufweisen als die Partikel (208) der ersten Art;
o wobei die Partikel (208) der ersten Art von der
Glasmatrix (204) vollständig umgeben sind, so dass die Oberfläche der Glasmatrix (204) frei ist von Partikel (208) der ersten Art, und
o die Partikel (210) der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln (208) der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix (204) an der Oberfläche der Glasmatrix (204) angeordnet sind zum Erhöhen des Brechungsindexes der Glasware (200) .
Glasware (200) gemäß Anspruch 1,
wobei die Glasware (200) wenigstens transluzent im sichtbaren Wellenlängenbereich einer elektromagnetischen Strahlung ausgebildet ist, vorzugsweise transparent.
Glasware (200) gemäß Anspruch 1 oder 2,
wobei die Glasware (200) ausgebildet als:
• ein Flachglas., vorzugsweise als ein Träger, eine
Abdeckung, ein Fenster, eine Scheibe oder ein planer Lichtwellenleiter ?
• ein Hohlglas, vorzugsweise als ein Glasrohr oder
Glaskolben; oder
• als Glasfaser, vorzugsweise als Glaswolle oder
Lichtwellenleiter.
Glasware (200) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das Glas ein silikatische Glas ist, vorzugsweise ein Alumosilikatglas , ein Bleisilikatglas, ein Alkalisilikatglas, ein Alkali -Erdalkalisilikatglas oder ein Borosilikatglas ist, vorzugsweise ein
Kalknatronsilikatglas ist.
Glasware (200) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die erste Art Partikel (208) einen Brechungsindex in einem Bereich von ungefähr 1,5 bis ungefähr 4,0 aufweist, vorzugsweise in einem Bereich von ungefähr 1,7 bis ungefähr 3,9; beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 2,3 bis ungefähr 3,1, und
wobei die erste Art Partikel (208) einen mittleren
Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 100 nm bis ungefähr 50 /xm aufweist, vorzugsweise in einem Bereich von ungefähr 250 nm bis ungefähr 350 nm, und .
wobei die zweite Art Partikel (210) einen mittleren Durchmesser in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 1 μηα aufweist, vorzugsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm.
Glasware (200) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erste Art Partikel (208) und/oder die zweite Art Partikel (210) eine oder mehrere der nachfolgenden optisch funktionalen Eigenschaften bezüglich der
Glasmatrix (204) und einer elektromagnetischen Strahlung aufweist oder derart ausgebildet ist:
• nicht-streuende Hochindexpartikel,
• Streupartikel,
• Strahlungsabsorbierend, vorzugsweise im
ultravioletten und/oder infraroten
Wellenlängenbereich der elektromagnetischen
Strahlung,
• Strahlungsabsorbierend im sichtbaren
Wellenlängenbereich der elektromagnetischen
Strahlung, und/oder
• wellenlängenkonvertierend.
Glasware (200) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Glasmatrix (204) eine zweite Oberfläche aufweist, die der ersten Oberfläche in einem Abstand gegenüberliegt, wobei an der zweiten Oberfläche;
• Partikel (208) der ersten Art frei liegen und die
zweite Oberfläche frei ist von Partikeln der zweiten Art ; oder
• die zweite Oberfläche frei ist von Partikeln (208) der ersten Art und der zweiten Art; oder
• die zweite Oberfläche frei ist von Partikeln (208) der ersten Art und Partikel (210) der zweiten Art an der zweiten Oberfläche frei liegen.
Verfahren (100) zum Herstellen einer Glasware (200) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, das Verfahren (100) aufweisend;
• Bereitstellen (102) einer geschmolzenen Glasmatrix (204) mit einer Oberfläche,
• Verteilen (104) von Partikeln (208) einer ersten Art in der geschmolzenen Glasmatrix (204) durch die
Oberfläche derart, dass die Partikel (208) der ersten Art von der geschmolzenen Glasmatrix (204)
vollständig umgeben sind, so dass die Oberfläche der Glasmatrix (204) frei ist von Partikeln (208) der ersten Art;
• Verteile (106) von Partikeln (210) einer zweiten Art in die Glasschmelze durch die Oberfläche derart, dass die Partikel (210) der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln (208) der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix (204) an der Oberfläche der Glasmatrix (204) angeordnet sind,
Optoelektronisches Bauelement (300) mit einer Glasware (200) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, das
optoelektronische Bauelement (300) aufweisend;
• einen optisch aktiven Bereich (306) zu einem
Umwandeln eines elektrischen Stromes in eine elektromagnetische Strahlung und/oder zu einem Umwandeln einer elektromagnetischen Strahlung in einen elektrischen Strom ;
• wobei die Glasware (200) als Abdeckkörper des
optisch aktiven Bereiches (306) ausgebildet ist, und im. Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung angeordnet ist.
Optoelektronisches Bauelement (300) gemäß Anspruch 9, wobei das optoelektronische Bauelement (300) als eine Leuchtdiode, eine Solarzelle; eine Leuchtstoffröhre, eine Glühlampe, eine Leuchtröhre oder eine Halogenlampe; ein organisches optoelektronisches Bauelement
ausgebildet ist, vorzugsweise als ein organischer
Fotodetektor, eine organische Solarzelle und/oder eine organische Leuchtdiode ,
Optoelektronisches Bauelement (300) gemäß einem der Ansprüche 9 oder 10,
wobei der optisch aktive Bereich (306) eine erste
Elektrode (310) , eine zweite Elektrode (314) und eine organische funktionelle Schichtenstruktur (312) zwischen der ersten Elektrode (310) und der zweiten Elektrode (314) aufweist, wobei die organische funktionelle
Schichtenstruktur (312) zum Umwandeln der
elektromagnetischen Strahlung und/oder des elektrischen Stromes ausgebildet ist.
Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen
Bauelementes (300) gemäß einem der Ansprüche 9 bis 11, das Verfahren aufweisend:
• Ausbilden eines optisch aktiven Bereiches (306) auf oder über der Giasware (200) und/oder Aufbringen der Glasware (200) auf dem, über dem und/oder um den optisch aktiven Bereich (306) ;
• wobei die Glasware (200) als Auskoppelstruktur (206) und/oder Einkoppelstruktur (206) bezüglich der von dem optisch aktiven Bereich (306) absorbierten oder emittierten elektromagnetischen Strahlung in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung angeordnet wird.
Vorrichtung (220) zum Herstellen einer Glasware (200) gemäß einer der Ansprüche 1 bis 7, die Vorrichtung (220) aufweisend:
• eine Transportstrecke (.218) für eine geschmolzene
Glasmatrix (204) , wobei die Transportstrecke (218) eingerichtet ist» dass die geschmolzene Glasmatrix (204) entlang der Transportstrecke (218) abgekühlt wird;
• einen ersten Beschichter (214) , der zu einem
Verteilen einer ersten Art Partikel (208) in der geschmolzenen Glasmatrix (204) in einem ersten Kühlbereich eingerichtet ist, wobei der erste Beschichter (214) derart entlang der Transportstrecke (218) angeordnet ist, dass die geschmolzene
Glasmatrix (204) in dem ersten Kühlbereich bezüglich der Partikel (208) der ersten Art eine Viskosität aufweist, dass die Partikel (208) der ersten Art von der Glasmatrix. (204) vollständig umgeben werden, so dass die Oberfläche der Glasmatrix (204) frei ist von Partikel der ersten Art; und
• wenigstens einen zweiten Beschichter (216) , der zu einem Verteilen einer zweiten Art Partikel (210) in der geschmolzenen Glasmatrix (204) in einem zweiten Kühlbereich eingerichtet ist, wobei der zweite Beschichter (216) derart entlang der Transportstrecke (218) angeordnet ist, dass die geschmolzene
Glasmatrix (204) in dem zweiten Kühlbereich bezüglich der Partikel (210) der zweiten Art eine Viskosität aufweist, dass die Partikel (210) der zweiten Art über und/oder zwischen den Partikeln (208) der ersten Art zumindest teilweise in der Glasmatrix (204) an der Oberfläche der Glasmatrix (204) angeordnet werden.
14. Glasware mit Leuchtstoff -Partikeln, aufweisend: ne Glasmatrix (204) mit einer Oberfläche,
Leuchtstoff-Partikel in der Glasmatrix (204), wobei die Leuchtstoff-Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sind, wobei der Leuchtstoff eine elektromagnetische Strahlung einer ersten Wellenlänge absorbiert und einen Teil der absorbierten
elektromagnetischen Strahlung mit einer zweiten
Wellenlänge emittiert ;
wobei die Leuchtstoff-Partikel derart in der
Glasmatrix (204) verteilt sind, dass die Oberfläche im. Wesentlichen frei ist von Leuchtstoff-Partikel ,
Verfahren (100) zum Herstellen einer Glasware (200) mit Leuchtstoff-Partikeln, das Verfahren (100) aufweisend:
• Bereitstellen einer geschmolzenen Glasmatrix (204) mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten
Oberfläche, die der ersten Oberfläche in einem
Abstand gegenüberliegt,
• Verteilen von Leuchtstoff-Partikel in der
geschmolzenen Glasmatrix (204) durch die erste
Oberfläche, wobei die Leuchtstoff-Partikel einen Leuchtstoff aufweisen oder daraus gebildet sind, wobei der Leuchtstoff eine elektromagnetische
Strahlung einer ersten Wellenlänge absorbiert und einen Teil der absorbierten elektromagnetischen Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge emittiert ;
• wobei die Leuchtstoff-Partikel derart in der
geschmolzenen Glasmatrix (204) verteilt werden, dass die erste Oberfläche und/oder die zweite Oberfläche im Wesentlichen frei sind/ist von Leuchtstoff- Partikeln.
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