WO2015058472A1 - 一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法及系统 - Google Patents
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- WO2015058472A1 WO2015058472A1 PCT/CN2014/070363 CN2014070363W WO2015058472A1 WO 2015058472 A1 WO2015058472 A1 WO 2015058472A1 CN 2014070363 W CN2014070363 W CN 2014070363W WO 2015058472 A1 WO2015058472 A1 WO 2015058472A1
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
Definitions
- the present invention relates to a thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD) manufacturing technology, and more particularly to a method and system for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process.
- TFT-LCD thin film transistor liquid crystal display
- an exposure machine Exposure
- an exposure process is performed by bonding an optical film coated with a photoresist film to a photomask by an exposure machine.
- the positional accuracy of the exposure determines the alignment and fabrication accuracy of the glass substrate in the subsequent process. If the deviation of the exposure position is abnormal, the position of the pattern in the next process cannot be matched, which may cause the transistor in the TFT substrate to be unconductive.
- Light red, green and blue (RGB) pixels in the pass or color film substrate (CF) appear to leak light, which may cause the TFT substrate and the color film substrate to align when the box is formed (CELL), thereby affecting the boxing Product yield.
- the precision control of the exposure position of the exposure machine is particularly important.
- it is necessary to measure the exposure position accuracy of the exposed glass substrate, and perform complementary value re-exposure according to the measured value to ensure the exposure precision of the glass substrate.
- generally two kinds of values can be measured: First, the total pitch (Total Pitch) of the exposed first layer pattern on the glass substrate, wherein the total pitch refers to two points on the reticle design in one direction The distance between the distance and the actually produced glass substrate is measured.
- the overlay in the subsequent lithography process can be measured, generally based on the first layer pattern exposed on the glass substrate. , measuring the relative position of its overlap area Set the size.
- the exposure machine can make up the value based on the measured total spacing or data of the coverage area.
- the exposed glass substrate passes through a subsequent process or machine, it enters the measuring machine to measure the total pitch or the coverage area data.
- the operator is in the measuring machine. View and enter the formula of the complement formula on the computer of the station to calculate the amount of complement.
- the personnel input the compensation value into the software parameters of the exposure machine to complete the compensation process; after the subsequent observation of the supplementary value, the measurement condition of the glass is normally sampled.
- the existing measurement and compensation process has the following disadvantages: First, the calculation and input of the supplementary value are manually performed by the operator, so that on the one hand, there is a risk of error, and another On the one hand, if the person does not confirm the result and make up the value in time, it will lead to the glass substrate with abnormal exposure accuracy.
- the tact time is 30 seconds, and more than 20 exposures may occur in 10 minutes. Glass substrates with abnormal accuracy, these glass substrates with abnormal exposure accuracy can only be reworked, resulting in waste; Moreover, according to experience, because of the setting of the sampling mode of the measuring machine, the re-entry amount of the first glass substrate after the completion of the compensation is completed.
- the probability of measuring the measuring machine is low, and the effect after the supplementary value cannot be confirmed in time.
- the operator needs to continuously confirm and replenish the work, which requires a lot of labor and time. , and the reliability is poor.
- the technical problem to be solved by the present invention is to provide a method and system for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process, which can improve the complementing efficiency and the complementing accuracy of the exposure machine, and can save manpower.
- an aspect of an embodiment of the present invention provides a system for realizing automatic value-added in a glass substrate exposure process, including a measuring machine, and the measuring machine communicating with a network through a communication interface module.
- Exposure machine where:
- the measuring machine is configured to automatically measure the exposed glass substrate, and upload the exposure offset data of each measurement point obtained by the measurement to the exposure machine through the network of the communication interface module In the scheduled storage area;
- the exposure machine is configured to read out the exposure offset data from the storage area, and obtain corresponding amount of complement values of the respective measurement points according to the exposure offset data of the respective measurement points, And performing an additive value processing on the exposure points corresponding to the respective measurement points on the glass substrate.
- the measuring machine comprises:
- a measuring unit configured to measure the exposed glass substrate, and obtain exposure offset data of each measuring point of the glass substrate
- the offset format determining unit is configured to determine whether the offset amount data of each measurement point obtained by the measuring unit conforms to a predetermined format
- a feedback file generating unit configured to generate, after the offset format determining unit determines that at least a part of the offset data of the respective measuring points meets a predetermined format, generate the respective measuring points Feedback file of offset data;
- the feedback file includes at least: a file generation time, a measurement mark number, a glass substrate identification number, an X-direction offset of each measurement point, an offset of each measurement point Y direction, and each measurement point.
- the format of the judgment results are at least: a file generation time, a measurement mark number, a glass substrate identification number, an X-direction offset of each measurement point, an offset of each measurement point Y direction, and each measurement point. The format of the judgment results.
- the measuring machine further comprises:
- the prompting unit is configured to generate an alarm prompt after the offset amount determining unit determines that the offset amount data of the respective measuring points does not conform to a predetermined format.
- the exposure machine comprises:
- a storage area setting unit configured to set a storage area for the feedback file, for the measuring machine to access and upload the feedback file
- a supplementary value processing unit configured to perform exposure compensation processing for the corresponding glass substrate according to the feedback file in the storage area
- the forced sampling setting unit marks a forced sampling signal for the first glass substrate that subsequently enters the exposure machine after completing the complementary value to the glass substrate.
- the supplementary value processing unit further includes:
- a feedback file reading unit configured to read the stored feedback file when the feedback file is stored in the storage area
- a feedback file format determining unit configured to determine whether the feedback file read by the feedback file reading unit meets a predetermined format, where the predetermined format includes a file type, a file name format, and a content format;
- a feedback file analysis unit for analyzing a feedback file conforming to a predetermined format to obtain a glass a glass substrate identification number, the exposure step before the glass substrate is obtained according to the glass substrate identification number; and the corresponding compensation amount of each measurement point is automatically calculated according to the coordinate offset of each measurement point in the feedback file;
- the threshold comparison unit compares the corresponding compensation amount of each measurement point with a preset threshold value; the compensation value unit is configured to compare the result with the threshold comparison unit on the glass substrate to be greater than a preset threshold The corresponding exposure point of the measurement point is complemented.
- the supplementary value processing unit further includes:
- the alarm unit is configured to generate an alarm prompt after the feedback file format determining unit does not conform to the predetermined format.
- the storage area set by the storage area setting unit is accessible to the measuring machine
- Another aspect of an embodiment of the present invention provides a system for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process, including a measuring machine, and an exposure of the measuring machine through a communication interface module network.
- Machine where:
- the measuring machine is configured to automatically measure the exposed glass substrate, and upload the exposure offset data of each measurement point obtained by the measurement to the exposure machine through the network of the communication interface module In the scheduled storage area;
- the exposure machine is configured to read out the exposure offset data from the storage area, and obtain corresponding amount of complement values of the respective measurement points according to the exposure offset data of the respective measurement points, And performing complementary value processing on the exposure points corresponding to the respective measuring points on the glass substrate;
- the measuring machine comprises:
- a measuring unit configured to measure the exposed glass substrate, and obtain exposure offset data of each measuring point of the glass substrate
- the offset format determining unit is configured to determine whether the offset amount data of each measurement point obtained by the measuring unit conforms to a predetermined format
- a feedback file generating unit configured to generate, after the offset format determining unit determines that at least a part of the offset data of the respective measuring points meets a predetermined format, generate the respective measuring points Feedback file of offset data;
- the feedback file includes at least: a file generation time, a measurement mark number, a glass substrate identification number, an X-direction offset of each measurement point, an offset of each measurement point Y direction, and each measurement point.
- the format of the judgment results are at least: a file generation time, a measurement mark number, a glass substrate identification number, an X-direction offset of each measurement point, an offset of each measurement point Y direction, and each measurement point. The format of the judgment results.
- the measuring machine further comprises:
- the prompting unit is configured to generate an alarm prompt after the offset amount determining unit determines that the offset amount data of the respective measuring points does not conform to a predetermined format.
- the exposure machine comprises:
- a storage area setting unit configured to set a storage area for the feedback file, for the measuring machine to access and upload the feedback file
- a supplementary value processing unit configured to perform exposure compensation processing for the corresponding glass substrate according to the feedback file in the storage area
- the forced sampling setting unit marks a forced sampling signal for the first glass substrate that subsequently enters the exposure machine after completing the complementary value to the glass substrate.
- the supplementary value processing unit further includes:
- a feedback file reading unit configured to read the stored feedback file when the feedback file is stored in the storage area
- a feedback file format determining unit configured to determine whether the feedback file read by the feedback file reading unit meets a predetermined format, where the predetermined format includes a file type, a file name format, and a content format;
- a feedback file analyzing unit configured to analyze a feedback file conforming to a predetermined format, obtain a glass substrate identification number, obtain an exposure step before the glass substrate according to the glass substrate identification number; and according to each measurement point in the feedback file The coordinate offset amount automatically calculates the corresponding complement amount of each measurement point;
- the threshold comparison unit compares the corresponding compensation amount of each measurement point with a preset threshold value; the compensation value unit is configured to compare the result with the threshold comparison unit on the glass substrate to be greater than a preset threshold The corresponding exposure point of the measurement point is complemented.
- the supplementary value processing unit further includes:
- the alarm unit is configured to generate an alarm prompt after the feedback file format determining unit does not conform to the predetermined format.
- the storage area set by the storage area setting unit is accessible to the measuring machine
- a further aspect of the embodiments of the present invention provides a method for realizing automatic value compensation in a glass substrate exposure process, including the following steps:
- the measuring machine automatically measures the exposed glass substrate, and uploads the exposure offset data of each measuring point obtained by the measurement to the predetermined storage area of the exposure machine through the network of the communication interface module;
- the exposure machine obtains a corresponding complement amount of each of the measurement points according to the exposure offset data of each measurement point in the predetermined storage area, and displays an exposure corresponding to the respective measurement points on the glass substrate The point is complemented.
- the measuring machine automatically measures the exposed glass substrate, and uploads the exposure offset data of each measurement point obtained by the measurement to the predetermined storage area of the exposure machine through the network of the communication interface module.
- the steps include:
- the feedback file includes at least: The generation time, the measurement number of the measuring machine, the identification number of the glass substrate, the X-direction offset of each measurement point, the offset of the Y-direction of each measurement point, and the format judgment result of each measurement point;
- the feedback file is uploaded to a predetermined storage area of the exposure machine.
- the exposure machine obtains a corresponding complement amount of each measurement point according to exposure offset data of each measurement point in the predetermined storage area, and compares the measurement with the respective measurement on the glass substrate.
- the steps of performing the supplementary value processing on the corresponding exposure point include:
- the stored feedback file is read; determining whether the feedback file conforms to a predetermined format, and the predetermined format includes a file type, a file name format, and a content format;
- the feedback file conforming to the predetermined format is analyzed, and the corresponding supplementary amount of each measuring point is automatically calculated according to the coordinate offset of each measuring point in the feedback file; Comparing the corresponding complement amount of each measurement point with a preset threshold;
- the exposure point on the glass substrate corresponding to the measurement point whose comparison result is greater than a preset threshold value is subjected to a complementary value process.
- a forced sampling signal is marked for the first glass substrate that subsequently enters the exposure machine.
- the feedback file containing the glass substrate exposure offset data is automatically uploaded to the exposure machine by the measuring machine, and the exposure machine can automatically realize the compensation value for the glass substrate exposure according to the feedback file, which can effectively improve
- the complementing efficiency and the complementing accuracy of the exposure machine can improve the exposure quality and stability of the glass substrate, and save manpower.
- FIG. 1 is a schematic structural view of an embodiment of a system for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process according to the present invention
- Figure 2 is a schematic structural view of an embodiment of the measuring machine of Figure 1;
- Figure 3 is a schematic illustration of a feedback file in one embodiment of a system for achieving automatic fill-in in a glass substrate exposure process.
- Figure 4 is a schematic structural view of an embodiment of the exposure machine of Figure 1;
- Figure 5 is a schematic structural view of an embodiment of the supplementary value processing unit of Figure 3;
- FIG. 6 is a schematic diagram of a main flow of an embodiment of a method for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process according to the present invention
- FIG. 7 is a method for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process provided by the present invention. Schematic diagram of the flow on the measuring machine side in one embodiment
- Fig. 8 is a flow chart showing the side of the exposure machine in one embodiment of the method for realizing automatic compensation in the exposure process of the glass substrate provided by the present invention.
- FIG. 1 a schematic structural view of an embodiment of a system for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process is shown.
- the system comprises: a measuring machine 1, an exposure machine 2 communicating with the measuring machine 1 via a communication interface module network 3, wherein: the measuring machine 1 is configured to automatically expose the exposed glass The substrate is measured, and the exposure offset data of each measurement point obtained by the measurement is uploaded to the predetermined storage area of the exposure machine 2 through the communication interface module network 3 in the form of a feedback file;
- the exposure machine 2 is configured to read out the feedback file from the storage area, analyze the feedback file, and obtain the corresponding supplementary amount of each measurement point according to the exposure offset data of each measurement point, and the glass substrate The exposure points corresponding to the respective measurement points are subjected to complementation processing.
- the CIM network may include a plurality of connection cables and corresponding control modules, for example, in one embodiment
- the CIM network includes a coaxial cable and a twisted pair (ordinary network cable), wherein the coaxial cable is used to transmit control commands; and the twisted pair is used to transmit specific data files; wherein, the feedback file is twisted Line to transmit.
- IP Internet Protocol
- the measuring machine 1 comprises:
- the measuring unit 10 is configured to measure the exposed glass substrate to obtain exposure offset data of each measuring point of the glass substrate;
- the offset format determining unit 11 is configured to determine whether the offset data of each measurement point obtained by the measuring unit 10 conforms to a predetermined format, by which the determining unit 11 can prevent the measuring machine a case in which the measurement data is incorrect and causes the exposure machine 2 to have a mis-compensation value;
- the feedback file generating unit 12 is configured to determine at the offset format determining unit 11 After at least a part of the offset data of each measurement point conforms to a predetermined format, a feedback file including the offset data of the respective measurement points is generated;
- the prompting unit 14 is configured to generate an alarm prompt after the offset amount determining unit 11 determines that the offset data of the respective measuring points does not conform to a predetermined format;
- the sending unit 13 is configured to send the feedback file generated by the feedback file generating unit, and upload it to the predetermined storage area of the exposure machine 2 through the CIM network 3, where the storage area is preset for the exposure machine 2
- the machine accesses the folder of the File Transfer Protocol (FTP) server.
- FTP File Transfer Protocol
- the measuring machine 1 further includes a unit for monitoring whether the feedback file is successfully transmitted, and an alarm is issued when the feedback file cannot be successfully transmitted. And remind the relevant personnel to deal with it.
- the feedback file may be a file in a csv format, and the name is named by the glass substrate identification number.
- the feedback file includes at least: a file generation time (FILE_CREATED_TIME), and a measurement identifier (EQ).
- the feedback file can also be made into other easily identifiable formats, such as files in the TXT format, etc.
- the format of the unified feedback file can make the invention widely applicable to different types of exposure machines and measuring machines.
- the exposure machine 2 includes:
- the storage area setting unit 20 is configured to set a storage area for the feedback file, and the measuring machine 1 accesses and uploads the feedback file.
- the storage area is a folder of an FTP server accessible by the measuring machine.
- the FTP server can be set using the Internet Information Service (IIS) provided by Microsoft Corporation; it can also be set by other third-party software (such as FileZilla Server);
- the supplementary value processing unit 21 is configured to: according to the feedback file in the storage area, a corresponding glass
- the forced sampling setting unit 22 marks a forced sampling signal for the first glass substrate that subsequently enters the corresponding exposure machine after the compensation is completed for the glass substrate.
- the supplementary value processing unit 21 further includes:
- the feedback file reading unit 210 is configured to read the stored feedback file when the feedback file is stored in the storage area.
- the feedback file format determining unit 211 is configured to determine whether the feedback file read by the feedback file reading unit 210 conforms to a predetermined format, where the predetermined format includes a file type, a file name format, and a content format, that is, the deposited file is determined. Whether the feedback file is in CSV format, whether it is named after the glass substrate identification number, including whether the file generation time, the measurement machine identification number, the glass substrate identification number, the X-direction offset of each measurement point, and each measurement Information such as the offset in the Y direction and the format judgment result of each measurement point;
- the feedback file analyzing unit 212 is configured to analyze a feedback file conforming to a predetermined format, obtain a glass substrate identification number, obtain an exposure step (stage) before the glass substrate according to the glass substrate identification number; and according to the feedback file The coordinate offset of each measuring point automatically calculates the corresponding supplementary amount of each measuring point;
- the alarm unit 213 is configured to generate an alarm prompt after the feedback file format determining unit 211 does not conform to the predetermined format;
- the threshold comparison unit 214 compares the corresponding complement amount of each measurement point with a preset threshold
- the complementing unit 215 is configured to perform a complementary value processing on the exposure point corresponding to the measurement point that is greater than the preset threshold value by the threshold comparison unit 214 on the glass substrate, and specifically, according to each exposure point The corresponding compensation amount of the measurement point is complemented, that is, the glass substrate is partially re-exposed according to each complementary amount;
- the backup unit 216 is configured to back up the information of each replenishment amount before each replenishment, and the backup unit 216 can restore the value to the nearest replenishment point after the error occurs.
- the above measuring machine 1 and Some of the functional units in the exposure machine 2 are optional, for example, in some embodiments, may be the offset format determination unit 11, the prompt unit 14, and the like in the measuring machine 1,
- the feedback file format judging unit 211 and the alarm unit 213 in the exposure machine 2 set the selection of enabling and disabling for the engineering personnel to adjust the system setting according to the actual situation to realize an optimal automatic replenishment configuration.
- FIG. 6 a main flow diagram of an embodiment of a method for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process is provided.
- the main process of the method includes the following steps:
- Step S60 the measuring machine automatically measures the exposed glass substrate, and the exposure offset data of each measurement point obtained by the measurement is uploaded to the exposure through the network of the communication interface module in the form of a feedback file.
- the predetermined storage area of the machine In the predetermined storage area of the machine;
- Step S62 the exposure machine reads the feedback file from the storage area, analyzes the feedback file, and obtains a corresponding supplementary value of each measurement point according to the exposure offset data of each measurement point. And performing a complementary process on the exposure points corresponding to the respective measurement points on the glass substrate.
- FIG. 7 is a schematic flow chart of a measuring machine side in an embodiment of a method for realizing automatic value-adding in a glass substrate exposure process according to the present invention.
- the flow on the measuring machine side is shown in FIG. Including the following steps:
- Step S70 measuring the exposed glass substrate to obtain exposure offset data of each measurement point of the glass substrate
- Step S71 determining whether the offset data of each measurement point obtained by the measuring unit conforms to a predetermined format, and this step can prevent a situation in which the exposure machine has a mis-compensation value due to the measurement data error of the measuring machine itself.
- step S73 If the result of the determination is that at least a part of the offset data of the respective measurement points conforms to the predetermined format, the flow proceeds to step S73; if the result of the determination is that the offset data of each measurement point does not meet the predetermined schedule If the format is the same, the process goes to step S72, and is prompted in the above step S27, and confirms whether the data still needs to be uploaded. If it is determined that the data still needs to be uploaded, the flow goes to step S73, otherwise the process ends;
- Step S73 generating a feedback file including the offset data of the respective measurement points, where the feedback file includes at least: a file generation time, a measurement number of the measurement machine, an identification number of the glass substrate, and an X of each measurement point.
- the feedback file includes at least: a file generation time, a measurement number of the measurement machine, an identification number of the glass substrate, and an X of each measurement point.
- Step S74 uploading the feedback file to a predetermined storage area of the exposure machine through the CIM network, and the predetermined storage area may be a predetermined folder of the FTP server at the exposure machine.
- FIG. 8 is a schematic flow chart of an exposure machine side in an embodiment of a method for realizing automatic compensation in a glass substrate exposure process according to the present invention; in this embodiment, the flow on the exposure machine side includes the following Steps:
- Step S80 When the feedback file is stored in the storage area, the stored feedback file is read;
- Step S81 determining whether the feedback file meets a predetermined format, where the predetermined format includes a file type, a file name format, and a content format; if the determination result is that the feedback file meets the predetermined format, the process goes to step S83, otherwise the process goes to the step. S82, ending the process after the alarm; by step S81, it is possible to prevent the measuring machine from uploading the file format incorrectly or manually inserting other files into the folder, thereby causing the software of the exposure machine to be stuck in the operation;
- Step S83 analyzing the feedback file conforming to the predetermined format, obtaining the glass substrate identification number, and obtaining the exposure step before the glass substrate according to the glass substrate identification number (the general exposure machine has two left and right exposure steps);
- the coordinate offset of each measurement point in the feedback file automatically calculates the corresponding complement amount of each measurement point;
- Step S84 comparing the corresponding compensation amount of each measurement point with a preset threshold value, determining whether the corresponding supplementary value of each measurement point is greater than a preset threshold, and if the determination result is yes, the process proceeds to Step S85, otherwise the process ends.
- the threshold value may be set to ⁇ , and the exposure point corresponding to the measurement point whose complement value is lower than ⁇ does not need to be added, thereby further improving the efficiency of the complement value. ;
- Step S85 before supplementing the exposure points corresponding to the respective measurement points, backing up the corresponding compensation amount information of each measurement point, and the corresponding supplementary value information of the backup measurement points may be placed in a correction file;
- Step S86 at the corresponding exposure step of the exposure machine, performing complementary value processing on the exposure points corresponding to the measurement points on the glass substrate that are greater than a preset threshold value, and the compensation value calculation and the complement value portion are
- the inherent function of the exposure machine only the operator needs to set the corresponding relationship between the measurement point and the exposure point in advance, specifically, according to the corresponding supplementary value of the measurement point corresponding to each exposure point, that is, The glass substrate is partially re-exposed according to each complementary amount; a more detailed complementing process is not described here.
- a forced sampling signal is marked for the first glass substrate that is subsequently entered on the stage of the corresponding exposure machine, and the forced sampling signal is stored in the CIM network, for example, An address is allocated in the programmable logic device address (PLC Address) of the CIM network for storage by the sampling control device, and the corresponding glass substrate is sampled.
- PLC Address programmable logic device address
- the feedback file containing the glass substrate exposure offset data is automatically uploaded to the exposure machine by the measuring machine, and the exposure machine can automatically realize the compensation value for the glass substrate exposure according to the feedback file, which can effectively improve
- the complementing efficiency and the complementing accuracy of the exposure machine can improve the exposure quality and stability of the glass substrate, reduce the workload of the engineering staff, and save manpower.
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Abstract
公开了一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统，包括量测机（1）、通信接口模块网络（3）与曝光机（2），其中：量测机（1）用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测，并将量测获得的各个量测点的曝光偏移量数据通过通信接口模块网络（3）上传给曝光机（2）的预定存放区域中；曝光机用于根据各个量测点的曝光偏移量数据获得各个量测点相应的补值量，并对玻璃基板上与各个量测点对应的曝光点进行补值处理。还公开了相应的实现自动补值的方法。这种系统和方法可以提高曝光机的补值效率以及补值准确性，并可节省人力。
Description
一种在玻璃 曝光制程中实现自动补值的方法及系统
本申请要求于 2013 年 10 月 23 日提交中国专利局、 申请号为 201310501656.7、 发明名称为 "一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的 方法及系统" 的中国专利申请的优先权， 上述专利的全部内容通过引用结合 在本申请中。 技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor liquid crystal display, TFT-LCD )制造技术， 特别涉及一种在玻璃基板曝光制程中实现自 动补值的方法及系统。
背景技术
在 TFT-LCD制程的光刻工艺中均需要使用曝光机 ( Exposure ), 通过曝 光机对涂布有光刻胶膜的玻璃基板结合光罩实现曝光过程。 在该步骤中， 曝 光的位置精度决定了后续制程中玻璃基板的对位与制作精度，如果曝光位置 偏差异常，会导致下一制程中图案的位置无法匹配，从而可能导致 TFT基板 中晶体管无法导通或彩膜基板（CF )中红绿蓝（RGB )象素出现漏光的情形 发生， 从而有可能使成盒（CELL ) 时 TFT基板与彩膜基板对位了现偏差， 从而影响成盒时的产品良率。
故， 对曝光机的曝光位置的精度控制显得尤为重要。 现有技术中， 需要 对已曝光的玻璃基板的曝光位置精度进行量测， 并根据量测值进行补值重新 曝光， 以保证玻璃基板的曝光精度。 其中， 一般可以量测两种数值： 其一， 对玻璃基板上曝光的第一层图形的总间距（Total Pitch ) 的量测， 其中， 总 间距是指单方向上光罩设计上的两点之间距离与实际生产出来的玻璃基板 量测两点之间距离的差距， 如果总间距 >0, 则说明在玻璃基板上曝光出的图 形比设计的变大了， 反之如果总间距<0, 则说明在玻璃基板上曝光出的图形 比设计的变小了； 其二， 可以对后续光刻工艺中的覆盖区（Overlay )进行量 测， 一般是以玻璃基板上曝光的第一层图形为基准， 测量其重叠区的相对位
置大小。 曝光机可以根据量测出来的总间距或覆盖区的数据来进行补值。 在现有技术中， 经曝光后的玻璃基板经过后续制程或机台后， 进入量测 机台来量测总间距或覆盖区的数据， 在量测数据出来后， 由操作人员在量测 机台的电脑上查看并输入补值公式表格， 计算出补值量。 然后人员将补值量 输入曝光机的软件参数中， 完成补值过程； 在后续再观察补值后正常抽检玻 璃的量测状况。
本发明人发现， 现有的这种量测与补值的过程具有如下的不足之处： 首 先， 补值的计算和输入均需操作人员手动进行， 这样， 一方面有失误出错的 风险， 另一方面若人员没有及时进行结果确认和补值， 则会导致出现曝光精 度异常的玻璃基板， 例如， 在一个实施情形下， 节拍时间为 30秒计算， 在 10分钟内就可能出现 20片以上曝光精度异常的玻璃基板， 这些曝光精度异 常的玻璃基板只能重工， 造成了浪费； 而且， 根据经验， 因为量测机台抽检 模式的设定， 补值完成后的第一片玻璃基板重新进入量测机台进行量测的概 率 4艮低， 无法及时确认补值后的效果； 另外， 为实现稳定的产品品质特性， 需要操作人员持续进行确认和补值的工作， 从而需要花费很多人工与时间， 且可靠性差。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种玻璃基板曝光制程中实现自 动补值的方法及系统， 可以提高曝光机的补值效率以及补值准确性， 并可节 省人力。
为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供了一种在玻璃基 板曝光制程中实现自动补值的系统， 包括量测机、 与所述量测机通过通信接 口模块网络进行通信的曝光机， 其中：
所述量测机， 用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的 各个量测点的曝光偏移量数据，通过所述通信接口模块网络上传给所述曝光 机的预定存放区域中；
所述曝光机， 用于从所述存放区域中读出所述曝光偏移量数据， 并根据 所述各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相应的补值量， 并对 所述玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值处理。
其中， 所述量测机包括：
量测单元， 用于对曝光后的玻璃基板进行量测， 获得所述玻璃基板的各 个量测点的曝光偏移量数据；
偏移量格式判断单元， 用于判断所述量测单元所获得的各个量测点的偏 移量数据是否符合预定的格式；
反馈文件生成单元， 用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量 测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后，生成包含有所述各个量 测点的偏移量数据的反馈文件；
发送单元， 用于将所述反馈文件生成单元所生成的反馈文件发送出去。 其中， 所述反馈文件中至少包括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃 基板标识号、 各个量测点的 X方向偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及 各个量测点的格式判断结果。
其中， 所述量测机进一步包括：
提示单元， 用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量测点的偏 移量数据不符合预定的格式后， 生成报警提示。
其中， 所述曝光机包括：
存放区域设置单元， 用于为所述反馈文件设置一个存放区域， 供所述量 测机访问并上传所述反馈文件；
补值处理单元， 用于根据所述存放区域中的反馈文件中， 为相应的玻璃 基板的进行曝光补值处理；
强制抽检设置单元， 在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入所述曝 光机的第一片玻璃基板标记强制抽检信号。
其中， 所述补值处理单元进一步包括：
反馈文件读取单元， 用于在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读 取所述存入的反馈文件；
反馈文件格式判断单元， 用于判断所述反馈文件读取单元所读取的反馈 文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文件名格式以及内容 格式；
反馈文件分析单元， 用于对符合预定格式的反馈文件进行分析， 获得玻
璃基板标识号， 根据玻璃基板标识号获得所述玻璃基板之前的曝光台阶； 根 据所述反馈文件中的各量测点的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补 值量；
阈值比较单元， 将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较； 补值单元，用于对所述玻璃基板上与所述阈值比较单元比较结果为大于 预设的阈值的量测点相对应的曝光点进行补值处理。
其中， 所述补值处理单元进一步包括：
报警单元，用于在所述反馈文件格式判断单元反馈文件不符合预定的格 式后， 生成报警提示。
其中， 所述存放区域设置单元所设置的存放区域为可供量测机访问的
FTP服务器的文件夹。
相应地， 本发明的实施例的另一方面还提供了一种在玻璃基板曝光制程 中实现自动补值的系统， 包括量测机、 与所述量测机通过通信接口模块网络 进行通信的曝光机， 其中：
所述量测机， 用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的 各个量测点的曝光偏移量数据，通过所述通信接口模块网络上传给所述曝光 机的预定存放区域中；
所述曝光机， 用于从所述存放区域中读出所述曝光偏移量数据， 并根据 所述各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相应的补值量， 并对 所述玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值处理；
其中， 所述量测机包括：
量测单元， 用于对曝光后的玻璃基板进行量测， 获得所述玻璃基板的各 个量测点的曝光偏移量数据；
偏移量格式判断单元， 用于判断所述量测单元所获得的各个量测点的偏 移量数据是否符合预定的格式；
反馈文件生成单元， 用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量 测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后，生成包含有所述各个量 测点的偏移量数据的反馈文件；
发送单元， 用于将所述反馈文件生成单元所生成的反馈文件发送出去。
其中， 所述反馈文件中至少包括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃 基板标识号、 各个量测点的 X方向偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及 各个量测点的格式判断结果。
其中， 所述量测机进一步包括：
提示单元， 用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量测点的偏 移量数据不符合预定的格式后， 生成报警提示。
其中， 所述曝光机包括：
存放区域设置单元， 用于为所述反馈文件设置一个存放区域， 供所述量 测机访问并上传所述反馈文件；
补值处理单元， 用于根据所述存放区域中的反馈文件中， 为相应的玻璃 基板的进行曝光补值处理；
强制抽检设置单元， 在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入所述曝 光机的第一片玻璃基板标记强制抽检信号。
其中， 所述补值处理单元进一步包括：
反馈文件读取单元， 用于在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读 取所述存入的反馈文件；
反馈文件格式判断单元， 用于判断所述反馈文件读取单元所读取的反馈 文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文件名格式以及内容 格式；
反馈文件分析单元， 用于对符合预定格式的反馈文件进行分析， 获得玻 璃基板标识号， 根据玻璃基板标识号获得所述玻璃基板之前的曝光台阶； 根 据所述反馈文件中的各量测点的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补 值量；
阈值比较单元， 将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较； 补值单元，用于对所述玻璃基板上与所述阈值比较单元比较结果为大于 预设的阈值的量测点相对应的曝光点进行补值处理。
其中， 所述补值处理单元进一步包括：
报警单元，用于在所述反馈文件格式判断单元反馈文件不符合预定的格 式后， 生成报警提示。
其中， 所述存放区域设置单元所设置的存放区域为可供量测机访问的
FTP服务器的文件夹。
相应地， 本发明实施例的再一方面还提供了一种在玻璃基板曝光制程中 实现自动补值的方法， 包括如下步骤：
量测机自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的各个量测点 的曝光偏移量数据通过通信接口模块网络上传给所述曝光机的预定存放区 域中；
曝光机根据所述预定存放区域中的各个量测点的曝光偏移量数据获得 所述各个量测点相应的补值量， 并对所述玻璃基板上与所述各个量测点对应 的曝光点进行补值处理。
其中， 所述量测机自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的 各个量测点的曝光偏移量数据通过通信接口模块网络上传给所述曝光机的 预定存放区域中的步骤包括：
对曝光后的玻璃基板进行量测，获得所述玻璃基板的各个量测点的曝光 偏移量数据；
判断所述各个量测点的偏移量数据是否符合预定的格式；
在所述各个量测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后， 生成 包含有所述各个量测点的偏移量数据的反馈文件， 所述反馈文件中至少包 括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃基板标识号、 各个量测点的 X方向 偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及各个量测点的格式判断结果；
将所述反馈文件上传给所述曝光机的预定存放区域中。
其中， 所述曝光机根据所述预定存放区域中的各个量测点的曝光偏移量 数据获得所述各个量测点相应的补值量， 并对所述玻璃基板上与所述各个量 测点对应的曝光点进行补值处理的步骤包括：
在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读取所述存入的反馈文件； 判断所述反馈文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文 件名格式以及内容格式；
对符合预定格式的反馈文件进行分析，根据所述反馈文件中的各量测点 的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补值量；
将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较；
对玻璃基板上与所述比较结果为大于预设的阈值的量测点相对应的曝 光点进行补值处理。
其中， 进一步包括步骤：
为所述反馈文件设置一个存放区域，供所述量测机访问并上传所述反馈 文件， 其中， 所述存放区域为可供量测机访问的 FTP服务器的文件夹。
其中， 进一步包括步骤：
在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入所述曝光机的第一片玻璃基 板标记强制抽检信号。
实施本发明实施例， 具有如下有益效果：
在本发明的实施例中，通过量测机向曝光机自动上传包含有玻璃基板曝 光偏移量数据的反馈文件， 曝光机根据该反馈文件可以自动实现对玻璃基板 曝光的补值， 可以有效提升曝光机的补值效率以及补值准确性， 从而提升玻 璃基板的曝光品质和稳定性， 亦可节省人力。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实 施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面 描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根据这些附图获得其它的附图。
图 1是本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统一 个实施例的结构示意图；
图 2是图 1中的量测机的一个实施例的结构示意图；
图 3是本发明一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统一个实施 例中反馈文件的示意图。
图 4是图 1中的曝光机的一个实施例的结构示意图；
图 5是图 3中补值处理单元的一个实施例的结构示意图；
图 6是本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法一 个实施例的主流程示意图；
图 7是本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法的
一个实施例中量测机侧的流程示意图；
图 8是本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法的 一个实施例中曝光机侧的流程示意图。
具体实施方式
下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。
如图 1所示， 示出了本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动 补值的系统的一个实施例结构示意图。 在该实施例中， 该系统包括： 量测机 1、 与所述量测机 1通过通信接口模块网络 3进行通信的曝光机 2, 其中： 量测机 1 , 用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的各 个量测点的曝光偏移量数据以一反馈文件的形式， 通过通信接口模块网络 3 上传给所述曝光机 2的预定存放区域中；
曝光机 2, 用于从存放区域中读出反馈文件， 并对反馈文件进行分析， 根据各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相应的补值量， 并对 玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值处理。
通信接口模块网络（ Communication Interface Module , CIM ) 3 , 用于实 现量测机 1与曝光机 2之间的通信， 该 CIM网络可以包括多种连接线缆及 相应的控制模块， 例如在一个实施例中， 该 CIM 网络包括有同轴电缆和双 绞线 （普通网线）， 其中， 同轴电缆用以传输控制命令； 而双绞线用以传输 具体的数据文件； 其中， 反馈文件即通过双绞线来传送。 具体地， 需要预先 为量测机和曝光机的连接端口分配并锁定用于寻址的因特网协议（ IP )地址， 以保证量测机 1与曝光机 2之间的通信的稳定性。
如图 2所示， 是图 1中的量测机 1的一个实施例的结构示意图； 在该实 施例中， 该量测机 1包括：
量测单元 10,用于对曝光后的玻璃基板进行量测，获得所述玻璃基板的 各个量测点的曝光偏移量数据；
偏移量格式判断单元 11 , 用于判断所述量测单元 10所获得的各个量测 点的偏移量数据是否符合预定的格式， 通过该偏移量格式判断单元 11 可以 防止因为量测机 1本身量测数据错误而导致曝光机 2出现误补值的情形； 反馈文件生成单元 12, 用于在所述偏移量格式判断单元 11所判定所述
各个量测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后，生成包含有所述 各个量测点的偏移量数据的反馈文件；
提示单元 14, 用于在所述偏移量格式判断单元 11所判定所述各个量测 点的偏移量数据不符合预定的格式后， 生成报警提示；
发送单元 13 , 用于将所述反馈文件生成单元所生成的反馈文件发送出 去， 通过 CIM网络 3上传至曝光机 2的预定存放区域中， 该存放区域为曝 光机 2预先设置的可供量测机访问的文件传输协议 ( FTP )服务器的文件夹。
可以理解的是， 为了防止因为网络断线、 FTP异常导致反馈文件无法上 传到曝光机 2,在量测机 1中进一步包括监测反馈文件是否传送成功的单元， 在反馈文件无法传送成功时进行报警， 以及时提醒相关人员进行处理。
如图 3所示， 是图 2中一个反馈文件的示意图。 其中， 该反馈文件可以 是一种 csv格式的文件， 其名称以玻璃基板标识号进行命名， 在该反馈文件 中至少包括： 文件生成时间 ( FILE— CREATED— TIME )、 量测机标识号 ( EQ— ID )、 玻璃基板标识号 （CLASS— ID )、 各个量测点的 X 方向偏移量 ( X— Sift )、 各个量测点 Y方向偏移量（Y— Shift ) 以及各个量测点的格式判 断结果（ OK或 NO ), 在该示例中， 示出了 10个量测点的 X方向以及 Y方 向的偏移量， 可以理解的是， 此仅为举例， 非为限定； 例如， 在其他的例子 中， 也可以将反馈文件制作成其他易于识别的格式， 例如 TXT格式的文件 等； 统一反馈文件的格式， 可以使本发明广泛适用于的不同型号的曝光机以 及量测机。
如图 4所示， 是图 1中的曝光机的一个实施例的结构示意图； 在该实施 例中， 该曝光机 2包括：
存放区域设置单元 20, 用于为反馈文件设置一个存放区域， 供量测机 1 访问并上传所述反馈文件，具体地，该存放区域为可供量测机访问的 FTP服 务器的文件夹，具体地，该 FTP服务器可使用微软公司提供的互联网信息服 务（ Internet Information Service, IIS )来设置； 也可以通过其他第三方软件 (如 FileZilla Server )来设置；
补值处理单元 21 ,用于根据所述存放区域中的反馈文件中， 为相应的玻
强制抽检设置单元 22,在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入对应 曝光机上的第一片玻璃基板标记强制抽检信号。
具体地， 如图 5所示， 其中， 补值处理单元 21进一步包括：
反馈文件读取单元 210,用于在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读取所述存入的反馈文件；
反馈文件格式判断单元 211 , 用于判断所述反馈文件读取单元 210所读 取的反馈文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文件名格式 以及内容格式， 即判断该存入的反馈文件是否是 CSV格式的， 是否是以玻 璃基板识别号命名， 其中是否包括有文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃基 板标识号、 各个量测点的 X方向偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及各 个量测点的格式判断结果等信息；
反馈文件分析单元 212, 用于对符合预定格式的反馈文件进行分析， 获 得玻璃基板标识号，根据玻璃基板标识号获得所述玻璃基板之前的曝光台阶 ( stage ); 并根据所述反馈文件中的各量测点的坐标偏移量， 自动计算出各 量测点相应的补值量；
报警单元 213 , 用于在所述反馈文件格式判断单元 211反馈文件不符合 预定的格式后， 生成报警提示；
阈值比较单元 214, 将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比 较；
补值单元 215 , 用于对所述玻璃基板上所述阈值比较单元 214比较结果 为大于预设的阈值的量测点所对应的曝光点进行补值处理， 具体地， 根据各 曝光点所对应的量测点相应的补值量进行补值， 即对该玻璃基板根据各补值 量进行局部的再次曝光；
备份单元 216, 用于在每次进行补值之前备份每次补值量的信息， 通过 该备份单元 216, 可以补值出现错误后， 还原到最近的补值点。
可以理解的是， 可以理解的是， 在本发明提供的自动补值的系统中， 为 了防止某一处出现问题导致整个系统故障， 或者实际生产时某些功能不适 用， 上述量测机 1以及曝光机 2中的一些功能单元为可选的， 例如在一些实 施例中， 可以为量测机 1 中的偏移量格式判断单元 11、 提示单元 14, 以及
曝光机 2中的反馈文件格式判断单元 211、 报警单元 213设置启用和禁用的 选择， 以供工程人员根据实际情况来调整该系统设置， 实现最优的自动补值 配置。
如图 6所示， 示出了本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动 补值的方法一个实施例的主流程示意图， 在该实施例中， 该方法的主流程包 括如下步骤：
步骤 S60, 量测机自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的 各个量测点的曝光偏移量数据以一反馈文件的形式，通过通信接口模块网络 上传给所述曝光机的预定存放区域中；
步骤 S62曝光机从所述存放区域中读出所述反馈文件，并对所述反馈文 件进行分析，根据所述各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相 应的补值量， 并对所述玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值 处理。
如图 7所示，是本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值 的方法的一个实施例中量测机侧的流程示意图， 在该实施例中， 量测机侧的 流程包括如下步骤：
步骤 S70, 对曝光后的玻璃基板进行量测， 获得所述玻璃基板的各个量 测点的曝光偏移量数据；
步骤 S71 , 判断所述量测单元所获得的各个量测点的偏移量数据是否符 合预定的格式，此步骤可以防止因为量测机本身量测数据错误而导致曝光机 出现误补值的情形；
如果判断结果为在所述各个量测点的偏移量数据中至少一部份符合预 定的格式， 则流程转至步骤 S73 ; 如果判断结果为各个量测点的偏移量数据 均不符合预定的格式， 则流程转至步骤 S72, 在上步骤 S27中提示出来， 并 确认是否仍需要上传数据，如果确定仍需要上传数据，则流程转至步骤 S73 , 否则流程结束；
步骤 S73 , 生成包含有所述各个量测点的偏移量数据的反馈文件， 所述 反馈文件中至少包括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃基板标识号、 各 个量测点的 X方向偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及各个量测点的格
式判断结果；
步骤 S74,通过 CIM网络，将所述反馈文件上传给所述曝光机的预定存 放区域中， 该预定存放区域可以是曝光机处的 FTP服务器的预定文件夹。
如图 8所示，是本发明提供的一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值 的方法的一个实施例中曝光机侧的流程示意图； 在该实施例中， 曝光机侧的 流程包括如下步骤：
步骤 S80, 在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读取所述存入的 反馈文件；
步骤 S81 , 判断所述反馈文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文 件类型、文件名格式以及内容格式；如果判断结果为反馈文件符合预定格式， 则流程转至步骤 S83 , 否则流程转至步骤 S82, 在报警后结束该流程； 通过 步骤 S81 , 可以防止量测机上传文件格式有误或者人为误操作在文件夹中放 入其他文件而导致曝光机的软件在运行出现卡死的情形；
步骤 S83 ,对符合预定格式的反馈文件进行分析，获得玻璃基板标识号， 根据玻璃基板标识号获得所述玻璃基板之前的曝光台阶（stage ) (—般曝光 机有左右两个曝光台阶）； 根据所述反馈文件中的各量测点的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补值量；
步骤 S84, 将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较， 判断 各量测点相应的补值量是否大于预设的阈值， 如果判断结果为是， 则流程转 至步骤 S85,否则流程结束，具体地，在一个实施例中，可以将阈值设为 Ιμιη, 补值量低于 Ιμιη 的量测点所对应的曝光点无需补值， 这样可以进一步提高 补值的效率；
步骤 S85, 在对各量测点所对应的曝光点进行补值前， 备份各量测点相 应的补值量信息， 该备份量测点相应的补值量信息可以放置于一补正文件 中；
步骤 S86, 在曝光机的对应曝光台阶处， 对所述玻璃基板上比较结果为 大于预设的阈值的各量测点所对应的曝光点进行补值处理，补值量计算和补 值部分为曝光机固有功能， 只需操作人员事先设定量测点和曝光点的对应关 系即可， 具体地， 根据各曝光点所对应的量测点相应的补值量进行补值， 即
对该玻璃基板根据各补值量进行局部的再次曝光； 更细节的补值过程在此不 进行伴述。
进一步的， 在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入对应曝光机的台 阶（stage )上的第一片玻璃基板标记强制抽检信号， 该强制抽检信号被存放 在 CIM网络中，例如可以在 CIM网络的可编程逻辑器件地址（ PLC Address ) 中分配一个位址来存放， 以供量测抽检控制设备读取， 对相应的玻璃基板进 行抽检。
实施本发明的实施例， 具有如下的有益效果：
在本发明的实施例中，通过量测机向曝光机自动上传包含有玻璃基板曝 光偏移量数据的反馈文件， 曝光机根据该反馈文件可以自动实现对玻璃基板 曝光的补值， 可以有效提升曝光机的补值效率以及补值准确性， 从而提升玻 璃基板的曝光品质和稳定性， 亦可减少工程人员工作负担， 节省了人力。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已， 当然不能以此来限定本发明 之权利范围， 因此等同变化， 仍属本发明所涵盖的范围。
Claims
1、 一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 包括量测 机、 与所述量测机通过通信接口模块网络进行通信的曝光机， 其中：
所述量测机， 用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的 各个量测点的曝光偏移量数据，通过所述通信接口模块网络上传给所述曝光 机的预定存放区域中；
所述曝光机， 用于从所述存放区域中读出所述曝光偏移量数据， 并根据 所述各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相应的补值量， 并对 所述玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值处理。
2、 如权利要求 1 所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述量测机包括：
量测单元， 用于对曝光后的玻璃基板进行量测， 获得所述玻璃基板的各 个量测点的曝光偏移量数据；
偏移量格式判断单元， 用于判断所述量测单元所获得的各个量测点的偏 移量数据是否符合预定的格式；
反馈文件生成单元， 用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量 测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后，生成包含有所述各个量 测点的偏移量数据的反馈文件；
发送单元， 用于将所述反馈文件生成单元所生成的反馈文件发送出去。
3、 如权利要求 2所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述反馈文件中至少包括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃基板 标识号、 各个量测点的 X方向偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及各个 量测点的格式判断结果。
4、 如权利要求 2所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述量测机进一步包括：
提示单元，用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量测点的偏 移量数据不符合预定的格式后， 生成报警提示。
5、 如权利要求 4所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述曝光机包括：
存放区域设置单元， 用于为所述反馈文件设置一个存放区域， 供所述量 测机访问并上传所述反馈文件；
补值处理单元， 用于根据所述存放区域中的反馈文件中， 为相应的玻璃 基板上的曝光点进行补值处理；
强制抽检设置单元， 在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入所述曝 光机的第一片玻璃基板标记强制抽检信号。
6、 如权利要求 5所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述补值处理单元进一步包括：
反馈文件读取单元， 用于在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读 取所述存入的反馈文件；
反馈文件格式判断单元，用于判断所述反馈文件读取单元所读取的反馈 文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文件名格式以及内容 格式；
反馈文件分析单元， 用于对符合预定格式的反馈文件进行分析， 获得玻 璃基板标识号， 根据玻璃基板标识号获得所述玻璃基板之前的曝光台阶； 根 据所述反馈文件中的各量测点的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补 值量；
阈值比较单元， 将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较； 补值单元，用于对所述玻璃基板上与所述阈值比较单元比较结果为大于 预设的阈值的量测点相对应的曝光点进行补值处理。
7、 如权利要求 6所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述补值处理单元进一步包括：
报警单元，用于在所述反馈文件格式判断单元反馈文件不符合预定的格 式后， 生成报警提示。
8、 如权利要求 6所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述存放区域设置单元所设置的存放区域为可供量测机访问的 FTP 服务器的文件夹。
9、 一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 包括量测 机、 与所述量测机通过通信接口模块网络进行通信的曝光机， 其中：
所述量测机， 用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的 各个量测点的曝光偏移量数据，通过所述通信接口模块网络上传给所述曝光 机的预定存放区域中；
所述曝光机， 用于从所述存放区域中读出所述曝光偏移量数据， 并根据 所述各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相应的补值量， 并对 所述玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值处理；
其中， 所述量测机包括：
量测单元， 用于对曝光后的玻璃基板进行量测， 获得所述玻璃基板的各 个量测点的曝光偏移量数据；
偏移量格式判断单元， 用于判断所述量测单元所获得的各个量测点的偏 移量数据是否符合预定的格式；
反馈文件生成单元， 用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量 测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后，生成包含有所述各个量 测点的偏移量数据的反馈文件；
发送单元， 用于将所述反馈文件生成单元所生成的反馈文件发送出去。
10、 如权利要求 9所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述反馈文件中至少包括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃基板 标识号、 各个量测点的 X方向偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及各个 量测点的格式判断结果。
11、如权利要求 10所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述量测机进一步包括：
提示单元，用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量测点的偏 移量数据不符合预定的格式后， 生成报警提示。
12、如权利要求 11所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述曝光机包括：
存放区域设置单元， 用于为所述反馈文件设置一个存放区域， 供所述量 测机访问并上传所述反馈文件；
补值处理单元， 用于根据所述存放区域中的反馈文件中， 为相应的玻璃 基板上的曝光点进行补值处理；
强制抽检设置单元， 在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入所述曝 光机的第一片玻璃基板标记强制抽检信号。
13、如权利要求 12所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述补值处理单元进一步包括：
反馈文件读取单元， 用于在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读 取所述存入的反馈文件；
反馈文件格式判断单元， 用于判断所述反馈文件读取单元所读取的反馈 文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文件名格式以及内容 格式；
反馈文件分析单元， 用于对符合预定格式的反馈文件进行分析， 获得玻 璃基板标识号， 根据玻璃基板标识号获得所述玻璃基板之前的曝光台阶； 根 据所述反馈文件中的各量测点的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补 值量；
阈值比较单元， 将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较； 补值单元，用于对所述玻璃基板上与所述阈值比较单元比较结果为大于 预设的阈值的量测点相对应的曝光点进行补值处理。
14、如权利要求 13所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述补值处理单元进一步包括：
报警单元，用于在所述反馈文件格式判断单元反馈文件不符合预定的格 式后， 生成报警提示。
15、如权利要求 14所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统， 其中， 所述存放区域设置单元所设置的存放区域为可供量测机访问的 FTP 服务器的文件夹。
16、 一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法， 其中， 所述方法 包括如下步骤：
量测机自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的各个量测点 的曝光偏移量数据通过通信接口模块网络上传给所述曝光机的预定存放区 域中；
曝光机根据所述预定存放区域中的各个量测点的曝光偏移量数据获得
所述各个量测点相应的补值量， 并对所述玻璃基板上与所述各个量测点对应 的曝光点进行补值处理。
17、如权利要求 15所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法， 其中， 所述量测机自动对曝光后的玻璃基板进行量测， 并将量测获得的各个 量测点的曝光偏移量数据通过通信接口模块网络上传给所述曝光机的预定 存放区域中的步骤包括：
对曝光后的玻璃基板进行量测，获得所述玻璃基板的各个量测点的曝光 偏移量数据；
判断所述各个量测点的偏移量数据是否符合预定的格式；
在所述各个量测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后， 生成 包含有所述各个量测点的偏移量数据的反馈文件， 所述反馈文件中至少包 括： 文件生成时间、 量测机标识号、 玻璃基板标识号、 各个量测点的 X方向 偏移量、 各个量测点 Y方向偏移量以及各个量测点的格式判断结果；
将所述反馈文件上传给所述曝光机的预定存放区域中。
18、如权利要求 17所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法， 其中， 所述曝光机根据所述预定存放区域中的各个量测点的曝光偏移量数据 获得所述各个量测点相应的补值量， 并对所述玻璃基板上与所述各个量测点 对应的曝光点进行补值处理的步骤包括：
在监控到所述存放区域有反馈文件存入时， 读取所述存入的反馈文件； 判断所述反馈文件是否符合预定格式， 所述预定格式包括文件类型、 文 件名格式以及内容格式；
对符合预定格式的反馈文件进行分析，根据所述反馈文件中的各量测点 的坐标偏移量， 自动计算出各量测点相应的补值量；
将所述各量测点相应的补值量与预设的阈值进行比较； 理。
19、如权利要求 18所述的在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法， 其中， 进一步包括步骤：
在对所述玻璃基板完成补值后， 为后续进入所述曝光机的第一片玻璃基
板标记强制抽检信号。
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