WO2015029118A1 - Application device - Google Patents

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裕之 宮野
健 宮野
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Abstract

The purpose of the present invention is to make a placement interval between a reservoir tank and an application head as small as possible while maintaining the ability to deliver a mixture in a highly mixed state. This application device (1) is configured so that a forced circulation flow generating mechanism (49) has: a motor (41) attached to the top of a reservoir tank (3); a rotary shaft (42) that is coupled to the motor (41) and that extends in the vertical direction in the reservoir tank (3); a circular rotating plate (48) that partitions the interior of the reservoir tank (3) into an upper chamber (51) and a lower chamber (50) by being disposed in the reservoir tank (3) in a state of being coupled to the rotary shaft (42) and that has a communicating hole (53) by which the upper chamber (51) and lower chamber (50) communicate; and a blade (49) that is fixed to the bottom face of the circular rotating plate (48). An inlet end for a supply channel (18) is opened in the lower chamber (50) from the lateral side of the reservoir tank (3).

Description

塗布装置Coating device
 本発明は、相分離傾向を示す混合液を被塗布材に塗布する塗布装置に関する。 This invention relates to the coating device which apply | coats the liquid mixture which shows a phase-separation tendency to a to-be-coated material.
 塗布装置には、相分離傾向を示す混合液(塗布材料)を被塗布材に濃度ムラなく塗布できるものがある。例えば、特許文献1(図3)には、相分離傾向を示す混合液を貯留する貯留タンクと、前記混合液を吐出するための塗布ヘッドとの間に、該混合液を循環流として流すための循環経路を介在させ、その循環経路を、貯留タンク側から塗布ヘッド側へ混合液を導く供給通路と、塗布ヘッド側から貯留タンク側へ該混合液を導くリターン通路と、を有するように構成し、その循環経路に混合液の循環流を強制的に作り出すための強制循環流生成手段を介装したものが提案されている。 Some coating apparatuses can apply a mixed solution (coating material) exhibiting a phase separation tendency to a material to be coated without uneven density. For example, Patent Document 1 (FIG. 3) discloses that the mixed liquid flows as a circulating flow between a storage tank that stores a mixed liquid that exhibits a phase separation tendency and a coating head that discharges the mixed liquid. The circulation path is configured to have a supply path that guides the liquid mixture from the storage tank side to the coating head side, and a return path that guides the liquid mixture from the coating head side to the storage tank side. However, there has been proposed a forced circulation flow generating means for forcibly creating a circulation flow of the mixed solution in the circulation path.
 この塗布装置によれば、相分離傾向を示す混合液を被塗布材に塗布する場合であっても、貯留タンクと塗布ヘッドとの間に介在される循環経路において、混合液が、強制循環流生成手段により強制的に循環流とされることになり、混合液は、塗布ヘッドから吐出されていない場合(相分離し易くなる状態の場合)を含めいつでも、高い混合状態に維持される。結果、塗布ヘッドには、常に、高い混合状態の混合液が供給されている状態となり、塗布ヘッドから混合液が吐出されるときには、高い混合状態の混合液が吐出され、被塗布材に濃度ムラなく混合液を塗布できる(均一な塗布確保)。 According to this coating apparatus, even when a liquid mixture exhibiting a phase separation tendency is applied to a material to be coated, the liquid mixture is forced to flow in the circulation path interposed between the storage tank and the coating head. The generation means forcibly causes a circulating flow, and the mixed liquid is maintained in a high mixed state at any time including when it is not discharged from the coating head (when it is in a state where phase separation is easy). As a result, the coating head is always supplied with a highly mixed liquid mixture, and when the mixed liquid is discharged from the coating head, the high mixed liquid mixture is discharged, resulting in uneven density in the coating material. The liquid mixture can be applied without any problems (to ensure uniform application).
特開2012-134289号公報JP 2012-134289 A
 しかし、上記塗布装置においては、循環経路の途中に強制循環流生成手段を介装しなければならず、これに伴い、循環経路に強制循環流生成手段を介装できる(取付ける)ことができる長さが必要となるばかりか、その強制循環流生成手段を貯留タンクと塗布ヘッドとの間に配置できる空間が必要となる。このため、貯留タンクと塗布ヘッドとの間の間隔を狭めて当該塗布装置のコンパクト化を図ろうとしても、自ずと限界がある。 However, in the coating apparatus, the forced circulation flow generating means must be interposed in the middle of the circulation path, and accordingly, the forced circulation flow generation means can be installed (attached) to the circulation path. In addition, a space in which the forced circulation flow generating means can be disposed between the storage tank and the coating head is required. For this reason, even if it is going to make the said coating device compact by narrowing the space | interval between a storage tank and a coating head, there is a limit naturally.
 本発明は以上のような事情を勘案してなされたもので、その目的は、混合液を高い混合状態で吐出できることを確保しつつ、貯留タンクと塗布ヘッドとの間の配置間隔を極力狭めることができる塗布装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and its purpose is to reduce the arrangement interval between the storage tank and the coating head as much as possible while ensuring that the liquid mixture can be discharged in a highly mixed state. An object of the present invention is to provide a coating apparatus that can perform the above.
 前記目的を達成するために本発明(請求項1に係る発明)にあっては、
 相分離傾向を示す混合液を貯留する貯留タンクと、前記混合液を吐出するための塗布ヘッドとの間に、前記混合液を循環流として流すための循環経路が介在され、該循環経路が、該貯留タンク側から該塗布ヘッド側へ前記混合液を導く供給通路と、該塗布ヘッド側から該貯留タンク側へ該混合液を導くリターン通路と、を有するように構成され、前記循環通路に対して前記循環流を強制的に作り出す強制循環流生成手段が関連付けられている塗布装置において、
 前記強制循環流生成手段が、
 前記貯留タンクの上部に取付けられる回転駆動源と、
 前記回転駆動源に連結されて前記貯留タンク内を上下方向に延びる回転軸と、
 前記貯留タンク内に前記回転軸に連結された状態で配設されて、該回転軸の回転に伴う回転が許容される状態をもって該貯留タンク内を上室と該上室の下側に位置される下室とに区画すると共に、その径方向内方部分において該上室と該下室とを連通させる連通孔を有している回転円板と、
 前記回転円板の下面に該下面から起立した状態で固定され、該回転円板の径方向内方側から径方向外方側に延びる羽根と、
を有するように構成され、
 前記循環経路における前記供給通路の入口端が、前記貯留タンクの下室に該貯留タンクの側方側から開口されている構成とされている。この請求項1の好ましい態様としては、請求項2以下の記載の通りとなる。
In order to achieve the above object, the present invention (the invention according to claim 1)
A circulation path for flowing the mixed liquid as a circulating flow is interposed between a storage tank for storing the mixed liquid exhibiting a phase separation tendency and an application head for discharging the mixed liquid. A supply passage that guides the liquid mixture from the storage tank side to the coating head side, and a return passage that guides the liquid mixture from the coating head side to the storage tank side. In the coating apparatus associated with the forced circulation flow generating means for forcibly generating the circulation flow,
The forced circulation flow generating means is
A rotational drive source attached to the top of the storage tank;
A rotating shaft connected to the rotational drive source and extending in the vertical direction in the storage tank;
It is disposed in the storage tank in a state of being connected to the rotating shaft, and is positioned in the upper chamber and the lower side of the upper chamber in a state in which the rotation accompanying the rotation of the rotating shaft is allowed. A rotating disk having a communication hole that communicates with the upper chamber and the lower chamber at a radially inner portion thereof.
A blade that is fixed to the lower surface of the rotating disk in an upright state from the lower surface, and extends from the radially inner side of the rotating disk to the radially outer side;
Is configured to have
The inlet end of the supply passage in the circulation path is configured to open from the side of the storage tank to the lower chamber of the storage tank. The preferred embodiment of claim 1 is as described in claim 2 and the following.
 本発明(請求項1に係る発明)によれば、貯留タンク内において、回転駆動源によって回転軸が回転されると、回転円板が回転し、その回転円板の下面における羽根の作用に基づき貯留タンク内下室の混合液に対して遠心力が働く。この遠心力を受けた混合液が循環経路の供給通路に押し出され、これに伴い、貯留タンク内上室の混合液がその回転円板の連通孔から下室に引き込まれることになり、循環経路には強制循環流が生成されて、その循環経路内における混合液は、高い混合状態に維持される。このため、塗布ヘッドには、常に、高い混合状態の混合液を供給している状態となり、塗布ヘッドから混合液が吐出されるときには、高い混合状態の混合液が吐出される(均一な塗布確保)。 According to the present invention (the invention according to claim 1), when the rotation shaft is rotated by the rotation drive source in the storage tank, the rotation disk rotates, and based on the action of the blades on the lower surface of the rotation disk. Centrifugal force acts on the mixed liquid in the lower chamber in the storage tank. The mixed liquid that receives this centrifugal force is pushed out to the supply passage of the circulation path, and accordingly, the mixed liquid in the upper chamber in the storage tank is drawn into the lower chamber from the communication hole of the rotating disk, and the circulation path In this case, a forced circulation flow is generated, and the liquid mixture in the circulation path is maintained in a highly mixed state. For this reason, the coating head is always supplied with a highly mixed liquid mixture, and when the mixed liquid is discharged from the coating head, the high mixed liquid mixture is discharged (to ensure uniform application). ).
 一方、強制循環流生成手段は、回転駆動源が貯留タンクの上部に取付けられる一方、回転軸、回転円板及び羽根に関しては、それらを貯留タンク内空間に組み込んで構成されることになり、強制循環流生成手段を循環経路に介装して貯留タンクと塗布ヘッドとの間に配置する必要性がなくなる。このため、強制循環流生成手段を貯留タンクと塗布ヘッドとの間に配置しなくてもよくなる分だけ、貯留タンクと塗布ヘッドとの間隔を狭めることができる(貯留タンクと塗布ヘッドとの間の配置間隔短縮)。 On the other hand, the forced circulation flow generating means is configured such that the rotation drive source is attached to the upper part of the storage tank, while the rotation shaft, the rotation disk, and the blade are incorporated in the storage tank internal space. There is no need to arrange the circulation flow generating means between the storage tank and the coating head by interposing the circulation path. For this reason, the interval between the storage tank and the coating head can be reduced by the amount that the forced circulation flow generating means need not be arranged between the storage tank and the coating head (between the storage tank and the coating head). (Shorter arrangement interval).
 したがって、当該塗布装置においては、混合液を高い混合状態で吐出できることを確保しつつ、貯留タンクと塗布ヘッドとの間の配置間隔を極力狭めることができる。 Therefore, in the coating apparatus, it is possible to reduce the arrangement interval between the storage tank and the coating head as much as possible while ensuring that the liquid mixture can be discharged in a highly mixed state.
 請求項2に係る発明によれば、回転円板が、羽根が貯留タンクの内底面に近接するようにして配置されていることから、貯留タンク内の底部側と回転円板とによりポンプケーシングが構成され、そのポンプケーシング内(下室)に羽根が適合した状態で収納されることになり、回転円板の回転に伴う羽根の回転により下室内の混合液に遠心力を効果的に作用させることができる。このため、循環経路での流速を効率良く高め、循環経路内での混合液の混合状態を一層、高めることができる。この結果、相分離し易い傾向の混合液を塗布材料として用いる場合であっても、的確な塗布を行うことができる。 According to the second aspect of the present invention, since the rotating disk is disposed so that the blades are close to the inner bottom surface of the storage tank, the pump casing is formed by the bottom side in the storage tank and the rotating disk. It is configured, and the blades are accommodated in the pump casing (lower chamber) so that the centrifugal force effectively acts on the mixed liquid in the lower chamber by the rotation of the blades accompanying the rotation of the rotating disk. be able to. For this reason, the flow velocity in the circulation path can be efficiently increased, and the mixed state of the mixed liquid in the circulation path can be further increased. As a result, even when a liquid mixture that tends to phase separate is used as a coating material, accurate coating can be performed.
 また、混合液の混合状態を高い状態に維持するためには、循環経路において、循環流が循環されている必要があることから、貯留タンク内に少なくとも下室を越えた混合液が貯留されている必要があるが、羽根が貯留タンクの内底面に近接するように配置されて下室が狭くされていることから、その最低限必要となる貯留タンク内の混合液貯留量の限界高さ(下限高さ)を減らすことができ、高価な混合液を貯留タンク内に貯留して用いる場合においても、その混合液をできるだけ多く使用できる。 In order to maintain the mixed state of the mixed liquid at a high level, the circulating flow needs to be circulated in the circulation path, so that the mixed liquid exceeding at least the lower chamber is stored in the storage tank. However, since the lower chamber is narrowed by placing the blades close to the inner bottom surface of the storage tank, the minimum height of the liquid mixture storage amount in the storage tank (minimum required) The lower limit height) can be reduced, and even when an expensive mixed liquid is stored and used in a storage tank, the mixed liquid can be used as much as possible.
 請求項3に係る発明によれば、回転円板の外周面と貯留タンクの内周面との間に、所定の隙間があけられていることから、回転円板(羽根)の回転に伴い、その所定の隙間を介して、貯留タンクの内周面に沿って旋回しつつ、下室から上室に向けて上昇する混合液の上昇流が生じることになり、その上昇流が、回転円板の連通孔を介して下室に引き込まれる。このため、上室において、所定の隙間から上室に入って、回転円板の連通孔から下室に戻る循環流が生成されることになり、その循環流が上室内の混合液を撹拌する。これにより、上室での混合液の混合状態を高めることができ、これに伴い、下室の混合液の混合状態をより一層、高めることができる。 According to the invention according to claim 3, since a predetermined gap is formed between the outer peripheral surface of the rotating disk and the inner peripheral surface of the storage tank, with the rotation of the rotating disk (blade), An upward flow of the mixed liquid rising from the lower chamber toward the upper chamber is generated while swirling along the inner peripheral surface of the storage tank via the predetermined gap, and the upward flow is generated by the rotating disk. It is drawn into the lower chamber through the communication hole. For this reason, in the upper chamber, a circulating flow that enters the upper chamber through a predetermined gap and returns to the lower chamber from the communication hole of the rotating disk is generated, and the circulating flow agitates the mixed liquid in the upper chamber. . Thereby, the mixed state of the liquid mixture in the upper chamber can be increased, and accordingly, the mixed state of the liquid mixture in the lower chamber can be further increased.
 また、回転円板の外周面と貯留タンクの内周面との間に所定の隙間があけられていることから、貯留タンク内に対する回転円板の組み込み、取り外しを、貯留タンク内周面との干渉等により邪魔されることなく円滑に行うことができる。これにより、メンテナンス作業を容易に行うことができる。 In addition, since a predetermined gap is provided between the outer peripheral surface of the rotating disk and the inner peripheral surface of the storage tank, the rotation disk can be assembled and removed from the storage tank with the inner peripheral surface of the storage tank. It can be performed smoothly without being disturbed by interference or the like. Thereby, maintenance work can be easily performed.
 請求項4に係る発明によれば、循環経路におけるリターン通路の出口端が、貯留タンクの上室に該貯留タンクの側方側から開口されていることから、回転円板(羽根)の回転に伴い、その外周面と貯留タンクの内周面との間の所定の隙間を介して、貯留タンクの内周面に沿って回転しつつ下室から上室に向けて上昇する混合液の上昇流を生じ、それに伴って、上室における混合液の液面の形が旋回流に基づく回転放物面を構成することになっても、上記上昇流に対してリターン通路からの循環流を衝突させることができ、その上昇流の上昇を抑制できる。このため、上昇流の上昇を抑制した分だけ、混合液における液面(旋回流に基づく回転放物面)の最低液位の高さ(貯留タンクの径方向中心の液位)を高めて最高液位と最低液位との差(高さ)を狭めることができ、その混合液における液面の最低液位に基づき、循環経路において循環流を循環できなくなるまでの間に使用できる混合液の量を増大させることができる。この結果、実際の混合液の液位が混合液の下限高さ(塗布を行うために最低限必要となる貯留タンク内の混合液貯留量の限界液位)を超えた状態で塗布作業を行わなければならない状況下にあっても、貯留タンク内の混合液をできるだけ使用することができ、高価な混合液を用いる場合においても、その混合液をできるだけ多く使用できる。 According to the invention which concerns on Claim 4, since the exit end of the return path in a circulation path is opened from the side of the storage tank in the upper chamber of the storage tank, the rotation disk (blade) can be rotated. Accordingly, an upward flow of the mixed liquid that rises from the lower chamber toward the upper chamber while rotating along the inner peripheral surface of the storage tank through a predetermined gap between the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the storage tank. Accordingly, even if the shape of the liquid level of the mixed liquid in the upper chamber constitutes a rotating paraboloid based on the swirling flow, the circulating flow from the return passage collides with the upward flow. And the rise of the upward flow can be suppressed. For this reason, the minimum liquid level (liquid level at the center in the radial direction of the storage tank) of the liquid level in the liquid mixture (the liquid level at the radial center of the storage tank) is increased by the amount that suppresses the increase in the upward flow. The difference (height) between the liquid level and the minimum liquid level can be narrowed, and based on the minimum liquid level of the liquid level in the liquid mixture, the liquid mixture that can be used until the circulating flow cannot be circulated in the circulation path The amount can be increased. As a result, the coating operation is performed in a state where the actual liquid level of the liquid mixture exceeds the lower limit height of the liquid mixture (the limit liquid level of the liquid mixture storage amount in the storage tank that is the minimum required for application). Even in situations where it is necessary, the liquid mixture in the storage tank can be used as much as possible, and even when an expensive liquid mixture is used, the liquid mixture can be used as much as possible.
 また、上昇流の上昇を抑制できることに伴い、貯留タンクにおける径方向外方側の混合液の液面が径方向内方側に崩れる際に、その混合液中に取り込まれる空気の量を減らすことができ、循環経路において循環流の流れが妨げられることを抑制できる。 In addition, when the rising of the upward flow can be suppressed, the amount of air taken into the liquid mixture when the liquid level of the liquid mixture on the radially outer side in the storage tank collapses radially inward is reduced. It is possible to prevent the circulation flow from being hindered in the circulation path.
 請求項5に係る発明によれば、貯留タンクの底部内面に、回転円板の径方向内方側において、下室に開口する循環流導入用凹所が形成され、循環流導入用凹所内に、循環経路におけるリターン通路の出口端が開口されていることから、循環経路に凹所、下室も組み込まれ、それらの中を循環流が流れることになり、その循環流中に羽根を配置させることができる。このため、回転円板の回転に伴う羽根の回転に基づく遠心力を、その循環している(流れている)循環流に作用させることができ、循環流の速度を一層高めて、混合液の混合状態を一層、高めることができる。これにより、相分離傾向が高い混合液であっても、それを高い混合状態とし、その状態を維持できる。 According to the invention which concerns on Claim 5, the recessed part for circulation flow introduction opened to a lower chamber is formed in the inner surface of the bottom part of a storage tank in the radial direction inner side of a rotating disc, and it is in the depression for circulation flow introduction. Since the exit end of the return passage in the circulation path is opened, a recess and a lower chamber are also incorporated in the circulation path, and the circulation flow flows through them, and the blades are arranged in the circulation flow. be able to. For this reason, the centrifugal force based on the rotation of the blades accompanying the rotation of the rotating disk can be applied to the circulating (flowing) circulating flow, and the speed of the circulating flow is further increased. The mixed state can be further enhanced. Thereby, even if it is a liquid mixture with a high phase-separation tendency, it can be made into a high mixing state and the state can be maintained.
 請求項6に係る発明によれば、基板が備えられ、その基板が、その肉厚方向一方側面に形成される取付け凹所と、その肉厚方向に貫通する取付け貫通孔と、を有するものとされ、貯留タンクが、基板の取付け凹所に筒体の一端部を嵌合することにより構成され、塗布ヘッドが、取付け貫通孔を利用することにより前記基板の肉厚方向他方側に取付けられ混合液を吐出口側に導くための導入口が取付け貫通孔に臨まされている吐出部と、取付け貫通孔を利用することにより基板の肉厚方向一方側に取付けられ吐出部における導入口の開閉調整を行う供給調整部と、を有するように構成され、供給通路とリターン通路とが基板内部に形成され、供給通路は、その入口端が貯留タンクの下室内に開口され、その出口端が取付け貫通孔内に開口され、リターン通路は、その入力端が取付け貫通孔に開口され、その出口端が貯留タンク内に開口されていることから、共通の基板上にその共通の基板を利用して貯留タンクと塗布ヘッドとを構成することができ、その両者の間に介在される循環経路を基板内部に形成して外部に現れないようにすることができる。このため、貯留タンクと塗布ヘッドとを一体的に扱うことができると共に、外見上簡素でコンパクトなものにできる。これにより、当該塗布装置を、ロボットに搭載するものとしても好ましいものにできる。 According to the invention which concerns on Claim 6, the board | substrate is provided, and the board | substrate has the attachment recess formed in the thickness direction one side surface, and the attachment through-hole penetrated in the thickness direction, The storage tank is configured by fitting one end of the cylindrical body into the mounting recess of the substrate, and the coating head is mounted on the other side in the thickness direction of the substrate by using the mounting through hole and mixed. Opening and closing adjustment of the introduction port at the discharge part attached to one side in the thickness direction of the board by using the attachment through hole and the discharge part where the introduction port for guiding the liquid to the discharge port side faces the attachment through hole A supply passage and a return passage formed in the substrate, the supply passage having an inlet end opened in the lower chamber of the storage tank, and an outlet end thereof being attached through. Open in the hole Since the return passage has an input end opened to the attachment through hole and an outlet end opened to the storage tank, the storage tank and the coating head are connected to the common substrate using the common substrate. The circulation path interposed between the two can be formed inside the substrate so that it does not appear outside. For this reason, while being able to handle a storage tank and a coating head integrally, it can be made simple and compact in appearance. Thereby, the said coating device can be made preferable also as what is mounted in a robot.
 請求項7に係る発明によれば、回転円板の外周面と貯留タンクの内周面との間に、所定の隙間があけられ、リターン通路が、基板の肉厚方向において、供給通路よりも前記筒体の他端部に近い側に配置され、リターン通路の出口端が、貯留タンクの上室内に該貯留タンクの側方側から開口されていることから、上記請求項6と同様の作用効果を得ることができるだけでなく、前述の請求項4同様、所定の隙間を介して下室から上室に向けて上昇する混合液の上昇流の上昇を抑制でき、実際の混合液の液位が混合液の下限高さ(塗布を行うために最低限必要となる貯留タンク内の混合液貯留量の限界液位)を超えた状態で塗布作業を行わなければならない状況下にあっても、貯留タンク内の混合液をできるだけ使用することができる。 According to the seventh aspect of the present invention, a predetermined gap is formed between the outer peripheral surface of the rotating disk and the inner peripheral surface of the storage tank, and the return passage is more than the supply passage in the thickness direction of the substrate. Since it is arrange | positioned at the side close | similar to the other end part of the said cylinder, and the exit end of a return path is opened from the side of this storage tank in the upper chamber of a storage tank, the effect | action similar to the said Claim 6 is carried out. Not only can the effect be obtained, but, as in the above-described fourth aspect, the rise in the upward flow of the mixed liquid rising from the lower chamber toward the upper chamber through the predetermined gap can be suppressed, and the actual liquid level of the mixed liquid can be suppressed. Even under circumstances where the application work must be performed in a state that exceeds the lower limit height of the liquid mixture (the minimum liquid level of the liquid mixture storage amount in the storage tank that is the minimum required for application) The liquid mixture in the storage tank can be used as much as possible.
 請求項8に係る発明によれば、基板における取付け凹所の底部に、回転円板の径方向内方側において、下室に開口する循環流導入用凹所が形成され、リターン通路が、基板の肉厚方向において、供給通路よりも筒体の他端部に対して遠い側に配置され、リターン通路の出口端が、循環流導入用凹所内に開口されていることから、前記請求項6と同様の作用効果を得ることができるだけでなく、前述の請求項5同様、回転円板の回転に伴う羽根の回転に基づく遠心力を、循環している(流れている)循環流に作用させて、循環流の流速を一層高めることができ、混合液の混合状態を一層、高めることができる。 According to the eighth aspect of the present invention, the recess for circulating flow introduction that opens to the lower chamber is formed on the inner side in the radial direction of the rotating disk at the bottom of the mounting recess in the substrate, and the return passage is formed on the substrate. Since the outlet end of the return passage is opened into the recess for introducing a circulation flow, it is disposed on the side farther from the other end portion of the cylindrical body than the supply passage in the thickness direction. As in the case of claim 5 described above, the centrifugal force based on the rotation of the blades accompanying the rotation of the rotating disk is applied to the circulating (flowing) circulating flow. Thus, the flow rate of the circulating flow can be further increased, and the mixed state of the mixed liquid can be further increased.
 請求項9に係る発明によれば、基板が、第1基板と、第2基板と、第1、第2基板との間に配置される仕切板とを積層することにより構成され、第1基板に、第1基板の内面に形成されて回転円板及び羽根を回転可能に配置できる収納凹所と、第1基板の肉厚方向に貫通する第1貫通孔と、第1基板の内面に形成されて収納凹所と第1貫通孔とを連絡する第1連絡溝と、が形成され、第2基板に、収納凹所に対向して配置され第2基板の外面側において筒体の一端部を密嵌合させる筒体保持用貫通孔と、第1貫通孔に対向して配置される第2貫通孔と、第2基板の内面に形成され筒体保持用貫通孔と第2貫通孔とを連絡する第2連絡溝と、が形成され、仕切板に、収納凹所及び前記筒体保持用貫通孔に対向して配置されて収納凹所及び筒体保持用貫通孔と協働して取付け凹所を構成する中間貫通孔と、第1、第2貫通孔に対向して配置され該第1、第2貫通孔と協働して取付け貫通孔を構成する第3貫通孔と、が形成されていることから、第1、第2基板及び仕切板を用いて基板を形成することにより、前記請求項7における供給通路、リターン通路等の基板内部構造を簡単に形成できる。 According to the invention according to claim 9, the substrate is configured by stacking the first substrate, the second substrate, and the partition plate disposed between the first and second substrates, and the first substrate In addition, a storage recess formed on the inner surface of the first substrate and capable of rotating the rotating disk and the blade, a first through hole penetrating in the thickness direction of the first substrate, and an inner surface of the first substrate are formed. And a first communication groove that communicates between the storage recess and the first through-hole, and is disposed on the second substrate so as to face the storage recess, and at one end of the cylindrical body on the outer surface side of the second substrate A cylindrical body holding through hole, a second through hole disposed opposite to the first through hole, a cylindrical body holding through hole and a second through hole formed on the inner surface of the second substrate, A second communication groove is formed, and the partition plate is disposed to face the storage recess and the through hole for holding the cylindrical body, and the storage recess and the cylindrical body An intermediate through-hole that forms an attachment recess in cooperation with the holding through-hole, and a first through-hole that is disposed opposite to the first and second through-holes. Since the third through hole is formed, the substrate internal structure such as the supply passage and the return passage according to claim 7 is formed by forming the substrate using the first and second substrates and the partition plate. Can be easily formed.
 請求項10に係る発明によれば、基板が、第1基板と、第2基板と、第1、第2基板との間に配置される仕切板とを積層することにより構成され、第1基板に、第1基板の内面に筒体の内径よりも縮径された状態で形成されて循環流導入用凹所の一部を構成する基礎凹所と、第1基板の肉厚方向に貫通する第1貫通孔と、第1基板の内面に形成されて基礎凹所と第1貫通孔とを連絡する第1連絡溝と、が形成され、第2基板に、基礎凹所よりも拡径された状態をもって同心状に配置され第2基板の外面側において筒体の一端部を密嵌合させる筒体保持用貫通孔と、第1貫通孔に対向して配置される第2貫通孔と、第2基板の内面に形成され筒体保持用貫通孔と第2貫通孔とを連絡する第2連絡溝と、が形成され、仕切板に、基礎凹所に対向しつつ同じ開口径をもって配置されて基礎凹所と協働して循環流導入用凹所を構成する中間貫通孔と、第1、第2貫通孔に対向して配置され第1、第2貫通孔と協働して取付け貫通孔を構成する第3貫通孔と、が形成されていることから、前記請求項8における循環流導入用凹所、供給通路、リターン通路等の基板内部通路構造を簡単に形成できる。 According to the invention of claim 10, the substrate is configured by stacking the first substrate, the second substrate, and the partition plate disposed between the first and second substrates, and the first substrate. And a base recess that is formed on the inner surface of the first substrate in a state of being smaller than the inner diameter of the cylindrical body and forms a part of the recess for circulating flow introduction, and penetrates in the thickness direction of the first substrate. A first through hole and a first communication groove formed on the inner surface of the first substrate and connecting the basic recess and the first through hole are formed, and the second substrate has a diameter larger than that of the basic recess. A cylindrical holding through-hole that is arranged concentrically with the one end of the cylindrical body on the outer surface side of the second substrate, and a second through-hole that is arranged to face the first through-hole, A second connecting groove formed on the inner surface of the second substrate and connecting the cylindrical body holding through hole and the second through hole is formed, and the partition plate is opposed to the basic recess. An intermediate through hole that is disposed with the same opening diameter and forms a circulation flow introduction recess in cooperation with the basic recess, and the first and second through holes that are disposed to face the first and second through holes. Since the third through hole constituting the mounting through hole is formed in cooperation with the circuit board internal passage structure such as the circulation flow introduction recess, the supply passage, the return passage and the like in the above-mentioned claim 8 is simplified. Can be formed.
 請求項11に係る発明によれば、貯留タンク内周面側に、前記回転円板の上方側において邪魔板が配設され、邪魔板が、貯留タンク内周面から貯留タンクの径方向内方に向けて突出しつつ上下方向に延びていることから、回転円板(羽根)の回転に伴い、その外周面と貯留タンクの内周面との間の所定の隙間を介して、貯留タンクの内周面に沿って旋回しつつ下室から上室に向けて上昇する混合液の上昇流が生じ、それに伴って、上室における混合液の液面の形が旋回流に基づく回転放物面を構成することになるとしても、その上室における旋回流を邪魔板により止めて旋回流の径を縮小することができ、これに伴い、旋回流の液面上昇を抑制できる。このため、旋回流の液面上昇を抑制した分だけ、旋回流における回転放物面の最低液位の高さを高めて最高液位と最低液位との差(高さ)を小さくすることができ、その旋回流における回転放物面の最低液位に基づき、循環経路において循環流を循環できなくなるまでの間に使用できる混合液の使用可能量を増大させることができる。この結果、実際の混合液の液位が混合液の下限高さ(塗布を行うために最低限必要となる貯留タンク内の混合液貯留量の限界液位)を超えた状態で塗布作業を行わなければならない状況下にあっても、貯留タンク内の混合液をできるだけ使用することができ、高価な混合液を用いる場合においても、その混合液をできるだけ多く使用できる。 According to the eleventh aspect of the present invention, the baffle plate is disposed on the inner peripheral surface side of the storage tank above the rotating disk, and the baffle plate is radially inward of the storage tank from the storage tank inner peripheral surface. And extending in the vertical direction while projecting toward the inner side of the storage tank through a predetermined gap between the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the storage tank as the rotating disk (blade) rotates. Ascending flow of the mixed liquid that rises from the lower chamber toward the upper chamber while swirling along the peripheral surface is generated, and accordingly, the shape of the liquid surface of the mixed liquid in the upper chamber is a rotating paraboloid based on the swirling flow. Even if configured, the swirling flow in the upper chamber can be stopped by the baffle plate to reduce the diameter of the swirling flow, and accordingly, the rise in the liquid level of the swirling flow can be suppressed. For this reason, the height of the minimum liquid level on the rotating paraboloid in the swirling flow is increased to reduce the difference (height) between the highest liquid level and the lowest liquid level by the amount that restrains the swirling flow from rising. Based on the lowest liquid level of the rotating paraboloid in the swirling flow, the usable amount of the mixed liquid that can be used before the circulating flow cannot be circulated in the circulation path can be increased. As a result, the coating operation is performed in a state where the actual liquid level of the liquid mixture exceeds the lower limit height of the liquid mixture (the limit liquid level of the liquid mixture storage amount in the storage tank that is the minimum required for application). Even in situations where it is necessary, the liquid mixture in the storage tank can be used as much as possible, and even when an expensive liquid mixture is used, the liquid mixture can be used as much as possible.
 また、混合液の液面上昇を抑制できることに伴い、混合液の液面が貯留タンクの径方向内方側に崩れる際に取り込む空気の量を減らすことができ、循環経路において循環流の流れが妨げられることを抑制できる。 In addition, as the liquid level rise of the mixed liquid can be suppressed, the amount of air taken in when the liquid level of the mixed liquid collapses inward in the radial direction of the storage tank can be reduced, and the flow of the circulating flow in the circulation path can be reduced. It is possible to suppress the obstruction.
 請求項12に係る発明によれば、回転駆動源の回転数を調整する回転数調整手段と、貯留タンク内を加圧する加圧源と、貯留タンク内に対する加圧源の供給圧を調整する圧力調整手段と、を備えていることから、混合液の相分離傾向に応じて、回転駆動源の回転数を、混合液が相分離しない適正なものにできる一方、回転駆動源の回転数の変化に伴う塗布ヘッドの吐出圧の変化を、貯留タンク内圧力を調整することにより適正なものに戻すことができる。このため、混合液の相分離の防止を図りつつ、塗布ヘッドからの吐出圧を適正なものにできる。 According to the twelfth aspect of the present invention, the rotational speed adjusting means for adjusting the rotational speed of the rotational drive source, the pressurizing source for pressurizing the inside of the storage tank, and the pressure for adjusting the supply pressure of the pressurizing source to the inside of the storage tank Adjustment means, so that the rotational speed of the rotary drive source can be made appropriate so that the mixed liquid does not phase-separate according to the phase separation tendency of the mixed liquid, while the rotational speed of the rotary drive source changes The change in the discharge pressure of the coating head accompanying this can be returned to an appropriate one by adjusting the pressure in the storage tank. For this reason, the discharge pressure from the coating head can be made appropriate while preventing the phase separation of the mixed liquid.
 請求項13に係る発明によれば、回転軸に、上室において撹拌羽根が取付けられていることから、上室における混合液の混合状態を高めることができ、その高まった混合状態の混合液を下室及び循環経路に取り込んで強制循環流とすることができる。このため、循環経路の混合液の混合状態を一層、高めることができる。 According to the invention of claim 13, since the stirring blade is attached to the rotary shaft in the upper chamber, the mixed state of the mixed liquid in the upper chamber can be increased, and the mixed liquid in the increased mixed state can be obtained. It can be taken into the lower chamber and the circulation path to form a forced circulation flow. For this reason, the mixing state of the liquid mixture of a circulation path can be improved further.
第1実施形態に係る塗布装置を示す一部破断全体構成図。The partially broken whole block diagram which shows the coating device which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る塗布装置を示す縦断面図。The longitudinal cross-sectional view which shows the coating device which concerns on 1st Embodiment. 図2の一部拡大図。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 第1実施形態に係る基板を構成する第1基板を内面側から見た図。The figure which looked at the 1st substrate which constitutes the substrate concerning a 1st embodiment from the inner surface side. 第1実施形態に係る基板を構成する第2基板を内面側から見た図。The figure which looked at the 2nd substrate which constitutes the substrate concerning a 1st embodiment from the inner surface side. 図2のX6-X6線断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line X6-X6 of FIG. 図2のX7-X7線断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line X7-X7 in FIG. 図2のX8-X8線断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along line X8-X8 in FIG. 図2のX9-X9線断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line X9-X9 in FIG. 図2の底面図。The bottom view of FIG. 第1実施形態における作用を説明する説明図。Explanatory drawing explaining the effect | action in 1st Embodiment. 第2実施形態に係る塗布装置を示す縦断面図。The longitudinal cross-sectional view which shows the coating device which concerns on 2nd Embodiment. 図12の一部拡大図。FIG. 13 is a partially enlarged view of FIG. 12. 第2実施形態に係る基板を構成する第1基板を内面側から見た図。The figure which looked at the 1st substrate which constitutes the substrate concerning a 2nd embodiment from the inner surface side. 図12のX15-X15線断面図。FIG. 13 is a sectional view taken along line X15-X15 in FIG. 図12のX16-X16線断面図。FIG. 13 is a sectional view taken along line X16-X16 in FIG. 図12のX17-X17線断面図。FIG. 13 is a sectional view taken along line X17-X17 in FIG. 第2実施形態における作用を説明する説明図。Explanatory drawing explaining the effect | action in 2nd Embodiment.
 以下、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<第1実施形態>
 図1、図2は第1実施形態に係る塗布装置1を示している。塗布装置1は、平面視略矩形状の基板2を備えていると共に、その基板2上にその基板2の長手方向において隣り合うようにして設けられる貯留タンク3と塗布ヘッド4とを備えている。
<First Embodiment>
1 and 2 show a coating apparatus 1 according to the first embodiment. The coating apparatus 1 includes a substrate 2 having a substantially rectangular shape in plan view, and a storage tank 3 and a coating head 4 provided on the substrate 2 so as to be adjacent to each other in the longitudinal direction of the substrate 2. .
 前記基板2は、本実施形態においては、図1~図3に示すように、第1基板2Aと、その第1基板2A上に積層された状態で取付けられる第2基板2Bと、その第1、第2基板2A,2B間に介在される仕切板2Cと、により構成されている。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 to 3, the substrate 2 includes a first substrate 2A, a second substrate 2B attached in a state of being stacked on the first substrate 2A, and a first substrate 2A. And a partition plate 2C interposed between the second substrates 2A and 2B.
 第1基板2Aとしては、図1~図4に示すように、平面視略矩形状の厚板が用いられている。この第1基板2Aの内面には、その長手方向に延びるようにして主凹所5が形成されている(図4参照)。この主凹所5は、その第1基板2Aの長手方向一方側(図4中、左側)から他方側(図4中、右側)に向かうに従って、その幅(図3中、上下方向長さ)が次第に狭まるように形成され、その主凹所5の内周面は、その長手方向両側において、曲率半径が異なる平面視半円形状の湾曲面をもってそれぞれ形成されている(図4参照)。これにより、第1基板2Aの内面2Aiには、その全周に亘って形成される取付け面2Ai-1と、その取付け面2Ai-1の内側においてその取付け面2Ai-1から第1基板2Aの肉厚方向内方に引っ込んで取付け面2Ai-1との間で段差を形成する第1底面2Ai-2と、が形成されている。尚、図4中、符号6は、第1基板2Aと第2基板2Bとを一体化するために第1基板2Aに形成された取付け孔である。 As the first substrate 2A, as shown in FIGS. 1 to 4, a thick plate having a substantially rectangular shape in plan view is used. A main recess 5 is formed on the inner surface of the first substrate 2A so as to extend in the longitudinal direction (see FIG. 4). The main recess 5 has a width (length in the vertical direction in FIG. 3) as it goes from one side of the first substrate 2A in the longitudinal direction (left side in FIG. 4) to the other side (right side in FIG. 4). Are formed such that the inner peripheral surface of the main recess 5 has curved surfaces having a semicircular shape in plan view with different radii of curvature on both sides in the longitudinal direction (see FIG. 4). As a result, the inner surface 2Ai of the first substrate 2A has an attachment surface 2Ai-1 formed over the entire circumference of the first substrate 2A, and the inner surface of the attachment surface 2Ai-1 from the attachment surface 2Ai-1 to the first substrate 2A. A first bottom surface 2Ai-2 that is recessed inward in the thickness direction to form a step with the mounting surface 2Ai-1 is formed. In FIG. 4, reference numeral 6 denotes an attachment hole formed in the first substrate 2A in order to integrate the first substrate 2A and the second substrate 2B.
 前記第1基板2Aには、図3、図4に示すように、収納凹所7と、第1貫通孔8と、第1連絡溝9と、が形成されている。 In the first substrate 2A, as shown in FIGS. 3 and 4, a storage recess 7, a first through hole 8, and a first communication groove 9 are formed.
 収納凹所7は、第1基板2Aにおける第1底面2Ai-2(内面2Ai)上に、その長手方向一方側において開口されており、その収納凹所7は、主凹所5における長手方向一方側の平面視半円状の内周面よりも多少、縮径された平面視円状の開口をもって形成されている。 The storage recess 7 is opened on one side in the longitudinal direction on the first bottom surface 2Ai-2 (inner surface 2Ai) of the first substrate 2A. The storage recess 7 is one side in the longitudinal direction of the main recess 5. It is formed with an opening having a circular shape in a plan view that is somewhat smaller in diameter than the inner peripheral surface in a semicircular shape in a plan view on the side.
 第1貫通孔8は、第1基板2Aをその肉厚方向に貫通している。この第1貫通孔8は、第1基板2Aにおける第1底面2Ai-2上に、その長手方向他方側において配置されており、その第1貫通孔8は、主凹所5における長手方向他方側の平面視半円状の内周面よりも多少、縮径された平面視円状の開口をもって形成されている。この第1貫通孔8の開口径は、収納凹所7の開口径に比して格段に小さく形成され、この第1貫通孔8と収納凹所7とは、その両中心が第1基板2Aの幅方向中央においてその長手方向に並設されるようにして配置されている。 The first through hole 8 penetrates the first substrate 2A in the thickness direction. The first through hole 8 is arranged on the other side in the longitudinal direction on the first bottom surface 2Ai-2 of the first substrate 2A, and the first through hole 8 is located on the other side in the longitudinal direction in the main recess 5. Is formed with an opening having a circular shape in plan view that is slightly reduced in diameter from the inner peripheral surface of the semicircular shape in plan view. The opening diameter of the first through hole 8 is much smaller than the opening diameter of the storage recess 7, and both the centers of the first through hole 8 and the storage recess 7 are the first substrate 2A. Are arranged in parallel in the longitudinal direction at the center in the width direction.
 第1連絡溝9は、第1基板2Aの第1底面2Ai-2(内面2Ai)に形成されている。この第1連絡溝9は、主凹所5の幅方向一方側の内周面(図4中、上側内周面)から多少、離間した状態で、その内周面に沿いつつ真っ直ぐに延びており、その第1連絡溝9の溝幅は第1貫通孔8の径と略同じとされ、その第1連絡溝9の溝深さは収納凹所7の深さに略等しくされている。この第1連絡溝9の一端側は、その一方の溝壁が収納凹所7に対して接線となるようにしてその収納凹所7内に連なり、第1連絡溝9の他端部は、その他端部における溝底部に第1貫通孔8が開口することにより、その第1貫通孔8に連なっている。これにより、第1底面2Ai-2には、収納凹所7と第1連絡溝9と第1貫通孔8とが、連続して連なるように形成され、それらの周囲にのみ、第1底面2Ai-2が残ることになっている。 The first communication groove 9 is formed on the first bottom surface 2Ai-2 (inner surface 2Ai) of the first substrate 2A. The first communication groove 9 extends straight along the inner peripheral surface in a state slightly spaced from the inner peripheral surface on one side in the width direction of the main recess 5 (upper inner peripheral surface in FIG. 4). The groove width of the first communication groove 9 is substantially the same as the diameter of the first through hole 8, and the groove depth of the first communication groove 9 is substantially equal to the depth of the storage recess 7. One end side of the first communication groove 9 is connected to the storage recess 7 so that one groove wall thereof is tangent to the storage recess 7, and the other end of the first communication groove 9 is By opening the first through hole 8 at the groove bottom at the other end, the first through hole 8 is continued. As a result, the storage recess 7, the first communication groove 9, and the first through hole 8 are formed in the first bottom surface 2Ai-2 so as to be continuous with each other. -2 is supposed to remain.
 前記第2基板2Bには、図2、図3、図5、図6に示すように、筒体保持用貫通孔としてのタンク本体保持用貫通孔10と、第2貫通孔11と、第2連絡溝12と、が形成されている。 As shown in FIGS. 2, 3, 5, and 6, the second substrate 2 </ b> B includes a tank body holding through hole 10 as a cylinder holding through hole, a second through hole 11, and a second through hole 10. A communication groove 12 is formed.
 タンク本体保持用貫通孔10は、第2基板2Bの内面側から外面側に向けて順に、小径部10Aと、その小径部10Aよりも拡径された大径部10Bと、その大径部10Bと小径部10Aとの間に形成される段部10Cと、からなる段付き貫通孔として形成されている。小径部10Aは、前記収納凹所7に対向して配置されており、その開口径は、収納凹所7の開口径と同じ大きさに設定されている。大径部10Bは、後述の筒体としてのタンク本体20を嵌合保持するための保持孔としての役割を有しており、段部10Cは、タンク本体20のタンク本体保持用貫通孔10への進入を止めるストッパとしての役割を有している。 The tank body holding through-hole 10 has a small-diameter portion 10A, a large-diameter portion 10B larger in diameter than the small-diameter portion 10A, and a large-diameter portion 10B in order from the inner surface side to the outer surface side of the second substrate 2B. Is formed as a stepped through hole including a step portion 10C formed between the small diameter portion 10A and the small diameter portion 10A. The small-diameter portion 10 </ b> A is disposed to face the storage recess 7, and the opening diameter thereof is set to the same size as the opening diameter of the storage recess 7. The large-diameter portion 10B has a role as a holding hole for fitting and holding a tank body 20 as a cylindrical body to be described later, and the stepped portion 10C is connected to the tank body holding through-hole 10 of the tank body 20. It has a role as a stopper to stop the entry of the.
 第2貫通孔11は、第2基板2Bをその肉厚方向に貫通している。この第2貫通孔11は、第2基板2Bに、その長手方向他方側において配置されており、その第2貫通孔11の開口は、第1貫通孔8の開口径と同じ開口径をもって、その第1貫通孔8の開口に対向されている。 The second through hole 11 penetrates the second substrate 2B in the thickness direction. The second through hole 11 is arranged on the second substrate 2B on the other side in the longitudinal direction, and the opening of the second through hole 11 has the same opening diameter as the opening diameter of the first through hole 8, It faces the opening of the first through hole 8.
 第2連絡溝12は、第2基板2Bの内面2Biに形成されている。第2連絡溝12は、第2貫通孔11の径と略同じ溝幅と、小径部10Aの肉厚に略等しい溝深さと、を有しながら真っ直ぐに延びており、この第2連絡溝12は、基板2の幅方向中央においてその長手方向に延びる中心線を基準として、前記第1連絡溝9に対して対称な配置となっている(図6参照)。この第2連絡溝12の一端側は、その第2連絡溝12における一方の溝壁が小径部10Aに対して接線となるようにしてその小径部10A内に連なっており、第2連絡溝12の他端部は、その他端部における溝底部に第2貫通孔11が開口することにより、その第2貫通孔11に連なっている。 The second communication groove 12 is formed on the inner surface 2Bi of the second substrate 2B. The second communication groove 12 extends straight while having a groove width substantially the same as the diameter of the second through-hole 11 and a groove depth substantially equal to the thickness of the small diameter portion 10A. Is symmetrical with respect to the first communication groove 9 with respect to the center line extending in the longitudinal direction at the center in the width direction of the substrate 2 (see FIG. 6). One end side of the second communication groove 12 is connected to the small diameter portion 10A such that one groove wall of the second communication groove 12 is tangent to the small diameter portion 10A. The other end of the second end is continuous with the second through-hole 11 by opening the second through-hole 11 at the bottom of the groove at the other end.
 尚、図6中、符号13は、前記第1基板2Aにおける取付け孔6に対応して第2基板2Bに形成された取付け孔であり、この両取付け孔6,13と留め具とを利用することにより第1、第2基板2A、2Bは一体化される。 In FIG. 6, reference numeral 13 denotes an attachment hole formed in the second substrate 2B corresponding to the attachment hole 6 in the first substrate 2A. The attachment holes 6 and 13 and the fasteners are used. Thus, the first and second substrates 2A and 2B are integrated.
 前記仕切板2Cは、図2、図3、図7に示すように、前記第1基板2Aと前記第2基板2Bとの間に介在されている。具体的には、仕切板2Cは、その肉厚が前記主凹所5の深さと同じとされると共に、その仕切板2Cの平面視形状が、主凹所5の開口形状と同じとされており、その仕切板2Cは前記第1基板2Aの主凹所5内に適合した状態で嵌合されている(図7参照)。このため、仕切板2Cは、主凹所5の第1底面2Ai-2に受け止められ、その仕切板2Cの上面は第1基板2Aの取付け面2Ai-1(内面2Ai)と協働して面一な面を構成している。これにより、第1基板2Aと第2基板2Bとが留め具により一体化されるに伴い、仕切板2Cは第1基板2Aの第1底面2Ai-2と第2基板2Bの内面2Biとにより挟持されることになっている。 As shown in FIGS. 2, 3, and 7, the partition plate 2C is interposed between the first substrate 2A and the second substrate 2B. Specifically, the partition plate 2 </ b> C has the same thickness as the depth of the main recess 5, and the plan view shape of the partition plate 2 </ b> C is the same as the opening shape of the main recess 5. The partition plate 2C is fitted in the main recess 5 of the first substrate 2A (see FIG. 7). Therefore, the partition plate 2C is received by the first bottom surface 2Ai-2 of the main recess 5, and the top surface of the partition plate 2C cooperates with the mounting surface 2Ai-1 (inner surface 2Ai) of the first substrate 2A. It constitutes one aspect. Thus, as the first substrate 2A and the second substrate 2B are integrated by the fastener, the partition plate 2C is sandwiched between the first bottom surface 2Ai-2 of the first substrate 2A and the inner surface 2Bi of the second substrate 2B. Is supposed to be done.
 上記仕切板2Cには、図3、図7に示すように、中間貫通孔14と第3貫通孔15とが形成されている。中間貫通孔14は、仕切板2Cの長手方向一方側において、その仕切板2Cをその肉厚方向に貫通している。この中間貫通孔14は、その開口径を収納凹所7及び小径部10Aの両開口径と同じにしつつ、その収納凹所7及び小径部10Aに対向して配置されており、この中間貫通孔14は、タンク本体保持用貫通孔10及び収納凹所7と協働して取付け凹所16を構成している。この場合、中間貫通孔14、タンク本体保持用貫通孔10の小径部10A内及び収納凹所7内は、協働して、一定の開口径を維持した連続孔を構成することになる。 In the partition plate 2C, as shown in FIGS. 3 and 7, an intermediate through hole 14 and a third through hole 15 are formed. The intermediate through hole 14 penetrates the partition plate 2C in the thickness direction on one side in the longitudinal direction of the partition plate 2C. The intermediate through hole 14 is arranged to face the storage recess 7 and the small diameter portion 10A while making the opening diameter the same as the opening diameters of the storage recess 7 and the small diameter portion 10A. 14 constitutes a mounting recess 16 in cooperation with the tank body holding through-hole 10 and the storage recess 7. In this case, the intermediate through hole 14, the inside of the small diameter portion 10 </ b> A of the tank body holding through hole 10 and the inside of the storage recess 7 cooperate to form a continuous hole maintaining a constant opening diameter.
 第3貫通孔15は、仕切板2Cの長手方向他方側において、その仕切板2Cをその肉厚方向に貫通している。この第3貫通孔15は、その開口径を前記第1、第2貫通孔8、11よりも若干、拡径された状態にしつつ、その第1、第2貫通孔8、11に対向して配置されており、これにより、この第3貫通孔15及び前記第1、第2貫通孔8,11は、協働して取付け貫通孔17を構成することになる。 The third through hole 15 penetrates the partition plate 2C in the thickness direction on the other side in the longitudinal direction of the partition plate 2C. The third through-hole 15 is opposed to the first and second through- holes 8 and 11 while having an opening diameter slightly larger than that of the first and second through- holes 8 and 11. Thus, the third through hole 15 and the first and second through holes 8 and 11 cooperate to form an attachment through hole 17.
 前記仕切板2Cは、上記のように該仕切板2Cが第1、第2基板2A,2B間に介在される結果、第1基板2Aの第1連絡溝9の開口側及び第2連絡溝12の開口側を塞いでいる。このため、仕切板2Cと第1基板2Aとが、その間に供給通路18を構成することになり、仕切板2Cと第2基板2Bとが、その間にリターン通路19を構成することになる。そして、供給通路18は、その一端(入口端)が収納凹所7内に開口され、その他端(出口端)は取付け貫通孔17(第1貫通孔8)に開口されることになる。リターン通路19は、その一端(入口端)が取付け貫通孔17(第2貫通孔11)内に開口され、その他端(出口端)はタンク本体保持用貫通孔10内に開口されることになる。 As described above, the partition plate 2C is interposed between the first and second substrates 2A and 2B, and as a result, the opening side of the first connection groove 9 and the second connection groove 12 of the first substrate 2A. The opening side is closed. For this reason, the partition plate 2C and the first substrate 2A constitute a supply passage 18 therebetween, and the partition plate 2C and the second substrate 2B constitute a return passage 19 therebetween. Then, one end (inlet end) of the supply passage 18 is opened in the housing recess 7, and the other end (outlet end) is opened in the attachment through hole 17 (first through hole 8). One end (inlet end) of the return passage 19 is opened in the attachment through hole 17 (second through hole 11), and the other end (outlet end) is opened in the tank body holding through hole 10. .
 前記貯留タンク3は、図1~図3に示すように、円筒状の透明なタンク本体(筒体)20と前記基板2とにより構成されている。このタンク本体20は、その内径が、前記収納凹所7、中間貫通孔14及びタンク本体保持用貫通孔10の小径部10Aの径と略同じとされ、タンク本体20の外径がタンク本体保持用貫通孔10の大径部10Bの径と略同じとされている。このタンク本体20は、その一端部(下端部)がタンク本体保持用貫通孔10の大径部10B内に嵌合されており、このタンク本体20の一端面がタンク本体保持用貫通孔10における段部10Cに当接されている。これにより、タンク本体20の内周面、タンク本体保持用貫通孔10における小径部10Aの内周面、仕切板2Cにおける中間貫通孔14の内周面及び収納凹所7の内周面が同一径を保ちつつ連続的な内周面を構成し、第1基板2Aの収納凹所7の底部7aが貯留タンク3の底部を構成することになり、このタンク本体20と基板2とは、貯留タンク3を構成することになる。 As shown in FIGS. 1 to 3, the storage tank 3 includes a cylindrical transparent tank body (tubular body) 20 and the substrate 2. The inner diameter of the tank body 20 is substantially the same as the diameter of the storage recess 7, the intermediate through hole 14, and the small diameter portion 10 </ b> A of the tank body holding through hole 10, and the outer diameter of the tank body 20 is held in the tank body. The diameter of the large-diameter portion 10B of the through-hole 10 for use is substantially the same. One end (lower end) of the tank body 20 is fitted in the large diameter portion 10B of the tank body holding through hole 10, and one end surface of the tank body 20 is in the tank body holding through hole 10. It is in contact with the step portion 10C. Thereby, the inner peripheral surface of the tank main body 20, the inner peripheral surface of the small diameter portion 10A in the tank main body holding through hole 10, the inner peripheral surface of the intermediate through hole 14 in the partition plate 2C, and the inner peripheral surface of the storage recess 7 are the same. A continuous inner peripheral surface is formed while maintaining the diameter, and the bottom 7a of the storage recess 7 of the first substrate 2A forms the bottom of the storage tank 3, and the tank body 20 and the substrate 2 are stored The tank 3 is constituted.
 前記タンク本体20の他端面には、図1、図2に示すように、固定板21を介して上蓋22が設けられている。 An upper lid 22 is provided on the other end surface of the tank body 20 via a fixing plate 21 as shown in FIGS.
 固定板21は、基板2(第2基板2B)の上面に立設された複数の支柱23の上端部に固定されており、この固定板21の下面には嵌合凹所24が形成されている。この嵌合凹所24には、タンク本体20の他端部が嵌合されており、その嵌合凹所24の底部24aと基板2とによりタンク本体20が挟持されている。このとき、嵌合凹所24の底部24aは、タンク本体20の他端面との当接領域においてのみに存在しており、嵌合凹所24の底部24aのうち、タンク本体20の他端開口が臨む領域には、貫通孔25が形成されている。 The fixing plate 21 is fixed to upper ends of a plurality of support columns 23 erected on the upper surface of the substrate 2 (second substrate 2B), and a fitting recess 24 is formed on the lower surface of the fixing plate 21. Yes. The other end of the tank body 20 is fitted in the fitting recess 24, and the tank body 20 is sandwiched between the bottom 24 a of the fitting recess 24 and the substrate 2. At this time, the bottom 24 a of the fitting recess 24 exists only in the contact area with the other end surface of the tank body 20, and the other end opening of the tank body 20 is opened in the bottom 24 a of the fitting recess 24. A through-hole 25 is formed in the region where is exposed.
 上蓋22は、固定板21上に取付けねじ26(図1参照)により着脱可能に取付けられている。この上蓋22の下面には、嵌合凸部27が設けられており、上蓋22が固定板21に取付けられたときには、上蓋22の嵌合凸部27は固定板21の貫通孔25に嵌合され、タンク本体20の他端開口は閉塞される。 The upper lid 22 is detachably mounted on the fixing plate 21 by mounting screws 26 (see FIG. 1). A fitting convex portion 27 is provided on the lower surface of the upper lid 22, and when the upper lid 22 is attached to the fixing plate 21, the fitting convex portion 27 of the upper lid 22 is fitted into the through hole 25 of the fixing plate 21. Then, the other end opening of the tank body 20 is closed.
 尚、図2、図3中、符号28は、液密性を確保するシール部材である。 2 and 3, reference numeral 28 denotes a seal member that ensures liquid tightness.
 前記貯留タンク3内には、図2に示すように、塗布材料としての混合液29(仮想線参照)が貯留される。混合液としては、相分離傾向を示すものを対象としており、そのような混合液として、具体的には、相分離し易い複数種類の混合液、液体中に液体粒子又は固体粒子が分散された混合液等が対象となる。本実施形態においては、LED発光素子に蛍光体分散膜を塗布によって形成すべく、蛍光体粉末を溶剤や樹脂バインダーに配合した液状の蛍光体含有混合液が、混合液29として、貯留タンク3内に貯留されている。勿論、当該塗布装置1においては、相分離しない混合液を用いることもできる。 In the storage tank 3, as shown in FIG. 2, a mixed solution 29 (see a virtual line) as a coating material is stored. The liquid mixture is intended for those exhibiting a phase separation tendency, and as such a liquid mixture, specifically, liquid particles or solid particles dispersed in a plurality of types of liquid mixtures that are easily phase-separated. A mixed liquid or the like is an object. In the present embodiment, in order to form a phosphor dispersion film on the LED light-emitting element, a liquid phosphor-containing mixed liquid in which phosphor powder is mixed with a solvent or a resin binder is used as a liquid mixture 29 in the storage tank 3. It is stored in. Of course, in the coating apparatus 1, a liquid mixture that does not undergo phase separation can also be used.
 前記塗布ヘッド4は、図1~図3に示すように、前記基板2に、混合液29を外部に吐出するための吐出部4Aと、吐出部4Aへの混合液29の供給量を調整する供給調整部4Bと、を組付けることにより構成されている。 As shown in FIGS. 1 to 3, the coating head 4 adjusts the discharge unit 4A for discharging the liquid mixture 29 to the substrate 2 and the supply amount of the liquid mixture 29 to the discharge unit 4A. The supply adjustment unit 4B is assembled.
 吐出部4Aは、基板の肉厚方向他方側(第1基板2A)に第1貫通孔8(取付け貫通孔17)を利用することにより取付けられており、その第1貫通孔8は、吐出部4Aにより閉塞されている。この吐出部4Aは、その内部において、混合液29を導入する導入口30と、その導入口30に導入された混合液29を外部に吐出する吐出口31と、その吐出口31と導入口30とを連通させる送り出し通路32と、を備えており、そのうち、導入口30は取付け貫通孔17(第1貫通孔8)内に臨んでいる。 The discharge portion 4A is attached to the other side (first substrate 2A) in the thickness direction of the substrate by using the first through hole 8 (attachment through hole 17), and the first through hole 8 is connected to the discharge portion. It is blocked by 4A. The discharge unit 4A has an introduction port 30 for introducing the mixed liquid 29 therein, a discharge port 31 for discharging the mixed liquid 29 introduced into the introduction port 30 to the outside, and the discharge port 31 and the introduction port 30. , And the introduction port 30 faces the mounting through hole 17 (first through hole 8).
 供給調整部4Bは、図1~図3に示すように、基板2の肉厚方向一方側(第2基板2B)に第2貫通孔11(取付け貫通孔17)を利用することにより取付けられており、その取付け貫通孔17を構成する第2貫通孔11は、供給調整部4Bにより閉塞されている。 As shown in FIGS. 1 to 3, the supply adjusting unit 4B is attached to the one side in the thickness direction of the substrate 2 (second substrate 2B) by using the second through hole 11 (attachment through hole 17). And the 2nd through-hole 11 which comprises the attachment through-hole 17 is obstruct | occluded by the supply adjustment part 4B.
 この供給調整部4Bは、作動機構33と、その作動機構33により往復動されるニードル弁34と、を備えている。 The supply adjusting unit 4B includes an operating mechanism 33 and a needle valve 34 reciprocated by the operating mechanism 33.
 作動機構33は、既知の如く、油圧作動室35内にピストン36を収納し、そのピストン36を油圧作動室35内への油圧の給排等に基づき往復動させ、その往復動を、吐出部4Aに向けて延びる作動軸37に伝達することになっている。 As is well known, the operating mechanism 33 houses the piston 36 in the hydraulic working chamber 35, reciprocates the piston 36 based on the supply and discharge of the hydraulic pressure into the hydraulic working chamber 35, etc. It is to be transmitted to an operating shaft 37 extending toward 4A.
 ニードル弁34は、吐出部4Aの導入口30に対向した配置状態をもって、上記作動機構33の作動軸37の先端部に連結されている。このため、ニードル弁34は、作動軸37の往復動に伴って往復動することになり、これに基づき、ニードル弁34は、吐出部4Aにおける導入口30の開閉を調整する。この場合、ニードル弁34による開閉操作は、既知の如く、基本的に、作動室35内への油圧の給排を制御手段としての制御ユニット(図示略)を用いて制御することにより行われることになるが、勿論、その油圧作動室35内への油圧の給排を作業者の手動操作により適宜、行うようにしてもよい。 The needle valve 34 is connected to the tip of the operating shaft 37 of the operating mechanism 33 with an arrangement state facing the inlet 30 of the discharge unit 4A. For this reason, the needle valve 34 reciprocates as the operating shaft 37 reciprocates, and based on this, the needle valve 34 adjusts the opening and closing of the inlet 30 in the discharge part 4A. In this case, as is known, the opening / closing operation by the needle valve 34 is basically performed by controlling the supply and discharge of the hydraulic pressure into the working chamber 35 using a control unit (not shown) as a control means. Of course, the hydraulic pressure in and out of the hydraulic working chamber 35 may be appropriately supplied by manual operation by the operator.
 尚、符号38は、導入口30からのニードル弁34の開弁時のリフト量(吐出量)を調整する調整つまみである。 Reference numeral 38 denotes an adjustment knob for adjusting the lift amount (discharge amount) when the needle valve 34 is opened from the introduction port 30.
 前記塗布装置1は、図1~図3に示すように、強制循環流生成手段として、強制循環流生成機構40を備えている。強制循環流生成機構40は、回転駆動源としてのモータ41と、そのモータ41の駆動力を伝達する回転軸42と、その回転軸42の回転により駆動されるポンプ機構43と、を備えている。 As shown in FIGS. 1 to 3, the coating apparatus 1 includes a forced circulation flow generation mechanism 40 as a forced circulation flow generation means. The forced circulation flow generation mechanism 40 includes a motor 41 as a rotational drive source, a rotary shaft 42 that transmits a driving force of the motor 41, and a pump mechanism 43 that is driven by the rotation of the rotary shaft 42. .
 前記モータ41は、図1、図2に示すように、前記貯留タンク3の上蓋22上に保護筒44及び支持ボックス45を介して取付けられている。 The motor 41 is mounted on the upper cover 22 of the storage tank 3 via a protective cylinder 44 and a support box 45 as shown in FIGS.
 保護筒44としては、その軸心方向両端部にフランジ部を有する円筒が用いられており、その保護筒44は、その一端部側が上蓋22の中心部に固定されている。このため、保護筒44の他端部は、その保護筒44の軸心を貯留タンク3の軸心に合致させつつ貯留タンク3の上蓋22の上方に延びている。 As the protective cylinder 44, a cylinder having flange portions at both ends in the axial center direction is used, and the protective cylinder 44 has one end fixed to the center of the upper lid 22. For this reason, the other end of the protective cylinder 44 extends above the upper cover 22 of the storage tank 3 while aligning the axial center of the protective cylinder 44 with the axial center of the storage tank 3.
 支持ボックス45としては、内部空間を有するものが用いられており、その支持ボックス45の底板部に保護筒44の他端部が固定されている。 The support box 45 has an internal space, and the other end of the protective cylinder 44 is fixed to the bottom plate of the support box 45.
 モータ41は、支持ボックス45の上板部に固定されており、その出力軸41aは、支持ボックス45の上板部を回転可能に貫通してその支持ボックス45内に突出されている。 The motor 41 is fixed to the upper plate portion of the support box 45, and the output shaft 41 a extends through the upper plate portion of the support box 45 so as to be rotatable and protrudes into the support box 45.
 前記回転軸42は、図1、図2に示すように、その一端部(上端部)が前記モータ41の出力軸41aに連結され、その他端側(下端側)が貯留タンク3内を通ってその底部7a(収納凹所7の底部7a)に向けて延びている。この回転軸42は、その回転軸心が貯留タンク3の軸心に合致するように配置されており、その回転軸42は、途中、支持ボックス45の底板部、保護筒44内、上蓋22を回転可能な状態で貫通している。この場合、回転軸42の一端部は、支持ボックス45内において、連結具46を介してモータ41の出力軸41aに連結され、その回転軸42の他端側は、保護筒44における上端部内周及び下端部内周に軸受け47を介して回転可能に支持されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, one end (upper end) of the rotating shaft 42 is connected to the output shaft 41 a of the motor 41, and the other end (lower end) passes through the storage tank 3. It extends toward the bottom 7a (the bottom 7a of the storage recess 7). The rotation shaft 42 is arranged so that the rotation axis coincides with the axis of the storage tank 3, and the rotation shaft 42 covers the bottom plate portion of the support box 45, the inside of the protective cylinder 44, and the upper lid 22 on the way. It penetrates in a rotatable state. In this case, one end of the rotating shaft 42 is connected to the output shaft 41 a of the motor 41 via the connector 46 in the support box 45, and the other end of the rotating shaft 42 is the inner periphery of the upper end of the protective cylinder 44. And it is rotatably supported via a bearing 47 on the inner periphery of the lower end.
 前記ポンプ機構43は、図1~図3に示すように、前記貯留タンク3内の底部側に配設されている。ポンプ機構43は、回転円板48と、その回転円板48の下面に固定される羽根49と、を備えている。 The pump mechanism 43 is disposed on the bottom side in the storage tank 3 as shown in FIGS. The pump mechanism 43 includes a rotating disk 48 and a blade 49 fixed to the lower surface of the rotating disk 48.
 前記回転円板48は、図1~図3、図6、図8、図9に示すように、前記回転軸42の他端部に羽根49を介して取付けられている。回転円板48は、前記仕切板2Cと略同じ肉厚とされたものが用いられ、その回転円板48は、貯留タンク3内において、その回転円板48の板面を貯留タンク3の底部に向けつつ仕切板2Cと同じ高さ位置に配置されている。しかも、回転円板48は、回転軸42の回転に伴う回転が許容される状態をもって貯留タンク3内に配置されており、この回転円板48により、貯留タンク3内は、仕切板2Cよりも下側の下室50と、仕切板2Cよりも上側の上室51とに区画されている。これに伴い、前記供給通路18は、その入口端が下室50に貯留タンク3の側方側から開口され、前記リターン通路19は、その出口端が回転円板48の上面近傍において上室51に貯留タンク3の側方側から開口されている。 The rotating disc 48 is attached to the other end of the rotating shaft 42 via a blade 49 as shown in FIGS. 1 to 3, 6, 8, and 9. The rotating disk 48 has a thickness substantially the same as that of the partition plate 2 </ b> C, and the rotating disk 48 has a plate surface of the rotating disk 48 at the bottom of the storage tank 3 in the storage tank 3. It is arranged at the same height position as the partition plate 2C. Moreover, the rotating disk 48 is disposed in the storage tank 3 in a state in which the rotation associated with the rotation of the rotating shaft 42 is allowed. The rotating disk 48 allows the inside of the storage tank 3 to be more than the partition plate 2C. The lower chamber 50 is partitioned into a lower chamber 50 and an upper chamber 51 above the partition plate 2C. Accordingly, the inlet end of the supply passage 18 is opened to the lower chamber 50 from the side of the storage tank 3, and the return passage 19 has an outlet end near the upper surface of the rotating disk 48 and the upper chamber 51. The storage tank 3 is opened from the side.
 また、この回転円板48には、その中心から一定径を有する連通孔53が形成されている。この連通孔53は、回転円板48の肉厚方向に貫通しており、この連通孔53により貯留タンク3内の上室51と下室50とが連通されている。 Further, the rotating disk 48 is formed with a communication hole 53 having a constant diameter from the center. The communication hole 53 passes through the rotating disk 48 in the thickness direction, and the upper chamber 51 and the lower chamber 50 in the storage tank 3 are communicated with each other through the communication hole 53.
 本実施形態においては、上記回転軸42の回転に伴う回転が許容される状態の確保、組付け作業性等を考慮して、回転円板48の外周面と貯留タンク3内周面との間に所定の隙間52が形成されており、その所定の隙間52として、例えば1~2mmが設定されている。 In the present embodiment, in consideration of ensuring a state in which the rotation associated with the rotation of the rotating shaft 42 is allowed, assembling workability, and the like, between the outer peripheral surface of the rotating disk 48 and the inner peripheral surface of the storage tank 3. A predetermined gap 52 is formed, and for example, 1 to 2 mm is set as the predetermined gap 52.
 前記羽根49は、本実施形態においては、図1~図3、図9、図10に示すように、回転円板48の下面において、複数(本実施形態では4枚)の帯板状のもの(各要素についても符号49を用いる)が放射状に配置されて構成されている。具体的には、各帯板状の羽根49は、その幅方向を上下方向(回転軸42の軸心延び方向)に向けつつ回転円板48の中央部から径方向外方に向けて延びるように回転円板48の下面に固定され、その複数の羽根49は、回転円板48の周方向に等角度毎(本実施形態では90度毎)に配置されている。この複数の羽根49の中心部に、前記回転軸42の他端部が連結されており、回転軸42の他端部は、複数の羽根49を介して回転円板48に連結されている。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 to 3, 9, and 10, the blades 49 have a plurality of (four in the present embodiment) strips on the lower surface of the rotating disk 48. (The reference numeral 49 is also used for each element). Specifically, each strip-shaped blade 49 extends from the center of the rotating disk 48 radially outward while the width direction thereof is directed in the vertical direction (the direction in which the rotating shaft 42 extends). The plurality of blades 49 are fixed at equal angles in the circumferential direction of the rotating disk 48 (in this embodiment, every 90 degrees). The other end of the rotating shaft 42 is connected to the center of the plurality of blades 49, and the other end of the rotating shaft 42 is connected to the rotating disk 48 via the plurality of blades 49.
 この複数の羽根49は、貯留タンク3の底部7a(収納凹所7の底部7a)に近接させた状態で配置されている。このため、回転円板48と貯留タンク3の底部側とはポンプケーシングを構成することになり、そのポンプケーシング内に複数の羽根49がポンプ機能を発揮するように収納されることになる。 The plurality of blades 49 are arranged in a state of being close to the bottom 7a of the storage tank 3 (the bottom 7a of the storage recess 7). For this reason, the rotating disk 48 and the bottom side of the storage tank 3 constitute a pump casing, and a plurality of blades 49 are accommodated in the pump casing so as to exhibit a pump function.
 これにより、貯留タンク3内に混合液29が貯留されている状態において、モータ41、回転軸42により回転円板48及び複数の羽根49が回転された場合には、複数の羽根49が下室50内の混合液29に遠心力を効果的に付与できることになり、その遠心力を受けた混合液29は供給通路18に押し出されることになる(図2、図3における供給通路18中の矢印参照)。これに伴い、回転円板48の連通孔53から上室51の混合液29が引き込まれ、供給通路18に押し出される混合液29は連続することになる。そして、その混合液29の押し出しが連続するようになると、その押し出された混合液29は、供給通路18を介して塗布ヘッド4に供給され、その塗布ヘッド4から外部に混合液29が吐出されないときには、取付け貫通孔17、リターン通路19を経て上室51に戻される。このように、上室51、連通孔53、下室50、供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19は、循環経路60を構成することになり、その循環経路60において、強制循環流生成機構40は、図2、図3の矢印で示すように、第1強制循環流C1を生成する。 Thus, when the rotating disk 48 and the plurality of blades 49 are rotated by the motor 41 and the rotating shaft 42 in the state where the mixed liquid 29 is stored in the storage tank 3, the plurality of blades 49 are in the lower chamber. Thus, the centrifugal force can be effectively applied to the mixed solution 29 in 50, and the mixed solution 29 receiving the centrifugal force is pushed out to the supply passage 18 (the arrow in the supply passage 18 in FIGS. 2 and 3). reference). Along with this, the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 is drawn from the communication hole 53 of the rotating disk 48, and the mixed liquid 29 pushed out to the supply passage 18 continues. When the liquid mixture 29 continues to be extruded, the extruded liquid mixture 29 is supplied to the coating head 4 via the supply passage 18, and the liquid mixture 29 is not discharged from the coating head 4 to the outside. Sometimes, it returns to the upper chamber 51 through the attachment through hole 17 and the return passage 19. Thus, the upper chamber 51, the communication hole 53, the lower chamber 50, the supply passage 18, the attachment through-hole 17, and the return passage 19 constitute a circulation path 60, and forced circulation flow generation is performed in the circulation path 60. The mechanism 40 produces | generates the 1st forced circulation flow C1, as shown by the arrow of FIG. 2, FIG.
 前記モータ41には、図2に示すように、ドライバ回路54(電流制御部54a)を介して電源55が接続されていると共に、そのドライバ回路54(比較増幅部54b)に対して速度設定器56から速度設定電圧を入力できることになっている。このため、速度設定器56から速度設定電圧がドライバ回路54の比較増幅部54bに入力されると、ドライバ回路54の比較増幅部54bは、モータ41の回転速度を検出して、それを速度信号電圧に変換する。そして、比較増幅部54bは、その速度信号電圧と速度設定電圧との差を求め、その差をドライバ回路54の電流制御部54aに出力する。この結果、ドライバ回路54の電流制御部54aは、比較増幅部54bからの出力値に応じた電流をモータ41に与え、モータ41の回転速度は、速度設定器56で設定した回転速度に近づくことになる。勿論この場合、ドライバ回路54の電流制御部54aに換えて電圧制御部を用いてもよく、その場合には、電圧制御部は、比較増幅部54bからの出力値に応じた電圧をモータ41に出力することになる。 As shown in FIG. 2, a power source 55 is connected to the motor 41 via a driver circuit 54 (current control unit 54a), and a speed setting device is connected to the driver circuit 54 (comparison amplification unit 54b). The speed setting voltage can be input from 56. For this reason, when the speed setting voltage is input from the speed setter 56 to the comparison amplification section 54b of the driver circuit 54, the comparison amplification section 54b of the driver circuit 54 detects the rotational speed of the motor 41 and uses it as a speed signal. Convert to voltage. Then, the comparison amplification unit 54b calculates a difference between the speed signal voltage and the speed setting voltage, and outputs the difference to the current control unit 54a of the driver circuit 54. As a result, the current control unit 54 a of the driver circuit 54 gives a current corresponding to the output value from the comparison amplification unit 54 b to the motor 41, and the rotation speed of the motor 41 approaches the rotation speed set by the speed setting unit 56. become. Of course, in this case, a voltage control unit may be used instead of the current control unit 54a of the driver circuit 54. In this case, the voltage control unit applies a voltage to the motor 41 according to the output value from the comparison amplification unit 54b. Will be output.
 したがって、貯留タンク3内の混合液29の相分離傾向が特に強いような場合には、それに応じて、速度設定器56によりモータ41の回転速度を速め(複数の羽根49の回転数を高め)、循環経路60(特に、供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19)内における混合液29(第1強制循環流C1)の流速を速めることができることになり、貯留タンク3内の混合液29が、相分離傾向が強いものであるとしても、循環経路60内において、その混合液29の混合状態を高い状態(相分離防止状態)とし、その状態を維持できる。 Accordingly, when the phase separation tendency of the mixed liquid 29 in the storage tank 3 is particularly strong, the rotational speed of the motor 41 is increased by the speed setting device 56 accordingly (the rotational speed of the plurality of blades 49 is increased). The flow rate of the liquid mixture 29 (first forced circulation flow C1) in the circulation path 60 (in particular, the supply passage 18, the mounting through hole 17, and the return passage 19) can be increased, and the liquid mixture in the storage tank 3 can be increased. Even if 29 has a strong phase separation tendency, the mixed state of the mixed liquid 29 is set to a high state (phase separation preventing state) in the circulation path 60, and the state can be maintained.
 本実施形態においては、前記回転軸42に、図1~図3に示すように、前記上室51において撹拌羽根61が取付けられている。これは、上室51における混合液29の混合状態を撹拌に高め、それを連通孔53を介して下室50に供給することにより、その高い混合状態の混合液29を第1強制循環流C1としようとしているのである。これにより、循環経路60における混合液29の混合状態は、一層、高まることになる。 In the present embodiment, a stirring blade 61 is attached to the rotating shaft 42 in the upper chamber 51 as shown in FIGS. This enhances the mixed state of the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 to stirring, and supplies it to the lower chamber 50 through the communication hole 53, whereby the mixed liquid 29 in the high mixed state is supplied to the first forced circulation flow C1. It is trying to. Thereby, the mixed state of the liquid mixture 29 in the circulation path 60 further increases.
 前記貯留タンク3には、図2に示すように、加圧源としての圧縮エア源57が供給管58を介して接続されている。圧縮エア源57は、当該塗布装置1の使用時に、貯留タンク3内を加圧することになっており、この加圧に基づき、塗布ヘッド4からの混合液29の吐出圧を適正なものにしている。具体的に説明すれば、当該塗布装置1の使用時に貯留タンク3内を加圧しない場合(大気圧の場合)には、供給通路18の出口端(導入口30付近)での流速が早い一方、リターン通路19の出口端での流速(貯留タンク3内への流速)が、供給通路18からリターン通路にかけての絞り構造(例えば、第3貫通孔15と供給調整部4Bとの間で結果的に形成される絞り構造等)や通路の圧力損失等により、供給通路18の出口端での流速よりも低下することになり、供給通路18の出口端での圧力(吐出圧)がリターン通路19の出口端での圧力(大気圧)よりも低下する(ベルヌーイの定理)。このため、貯留タンク内を加圧しない状態(大気圧状態)のときには、塗布ヘッド4(吐出部4A)から混合液を吐出しようとしても、吐出圧が大気圧よりも低い状態にあるため、混合液29を吐出することができない。そこで、吐出部4Aにおいて、大気圧よりも高い適正な吐出圧をもって混合液を吐出できるようにすべく、貯留タンク3内を圧縮エア源57により加圧しているのである。 As shown in FIG. 2, a compressed air source 57 as a pressurizing source is connected to the storage tank 3 via a supply pipe 58. The compressed air source 57 pressurizes the storage tank 3 when the coating apparatus 1 is used. Based on this pressurization, the discharge pressure of the mixed liquid 29 from the coating head 4 is made appropriate. Yes. Specifically, when the inside of the storage tank 3 is not pressurized when the coating apparatus 1 is used (in the case of atmospheric pressure), the flow velocity at the outlet end (near the inlet 30) of the supply passage 18 is fast. The flow velocity at the outlet end of the return passage 19 (flow velocity into the storage tank 3) is a result of the throttle structure (for example, between the third through hole 15 and the supply adjusting portion 4B) from the supply passage 18 to the return passage. Or the pressure loss in the passage, the flow velocity at the outlet end of the supply passage 18 is reduced, and the pressure (discharge pressure) at the outlet end of the supply passage 18 is reduced to the return passage 19. It drops below the pressure at the outlet end (atmospheric pressure) (Bernoulli's theorem). For this reason, when the inside of the storage tank is not pressurized (atmospheric pressure state), even if an attempt is made to discharge the liquid mixture from the coating head 4 (discharge portion 4A), the discharge pressure is lower than the atmospheric pressure. The liquid 29 cannot be discharged. Therefore, in the discharge unit 4A, the inside of the storage tank 3 is pressurized by the compressed air source 57 so that the liquid mixture can be discharged with an appropriate discharge pressure higher than the atmospheric pressure.
 前記供給管58には、図2に示すように、圧縮エア源57と貯留タンク3との間において、圧力調整手段としてのレギュレータ59が介装されている。レギュレータ59は、貯留タンク内を所定圧力(設定圧力)に維持するために圧縮エア源57からの圧縮エア圧の供給を調整するものであり、このレギュレータ59としては、手動操作により設定圧力を調整できるものが用いられている。レギュレータ59を設けているのは、前述のように、混合液29の相分離傾向に応じて、速度設定器56により供給通路18内における混合液29の流速を調整した場合、供給通路18における出口端の圧力(吐出圧)が変化することになるからである。具体的に説明すれば、供給通路18内における混合液29の流速が変化すれば、それに伴い、リターン通路19の出口端の流速も変化し、供給通路18における出口端の圧力(吐出圧)が、その変化後の各流速の2乗差に比例して変化することになる(ベルヌーイの定理)。特に、通常の場合(基準モード)よりも供給通路18内の混合液29の流速を速めた場合には、供給通路18の出口端での圧力降下が大きくなり、基準モードにおける貯留タンク3内の加圧力では吐出圧が不足して、適正な吐出圧を確保することができないことになる。このため、レギュレータ59の設定圧力を調整できるようにして、貯留タンク3内に圧力を加えることにより、塗布ヘッド4からの吐出圧力を適正なものとしている。この場合、レギュレータ59の設定圧力を手動調整しているのは、扱うべき混合液29の種類が多くあり、その各混合液29の相分離の傾向も区々であることから、自動化調整では対応しきれない可能性があるからである。このため、本実施形態においては、基本的には、本格的な塗布作業を開始する前に、モータ41の回転速度を、混合液の相分離防止の観点から速度設定器56により適宜調整すると共に、レギュレータ59の設定圧力を、適正な吐出圧を確保する観点から適宜調整し、その後、試験片に対する試験塗布を行い、その試験結果(単位面積当たりの塗布量の測定結果、濃度ムラ等についての目視による検査結果等)から適正な設定値を見つけることになる。 As shown in FIG. 2, the supply pipe 58 is provided with a regulator 59 as pressure adjusting means between the compressed air source 57 and the storage tank 3. The regulator 59 adjusts the supply of compressed air pressure from the compressed air source 57 in order to maintain the inside of the storage tank at a predetermined pressure (set pressure). As the regulator 59, the set pressure is adjusted by manual operation. What can be used is used. As described above, the regulator 59 is provided when the flow rate of the mixed liquid 29 in the supply passage 18 is adjusted by the speed setting device 56 in accordance with the phase separation tendency of the mixed liquid 29, and the outlet in the supply passage 18. This is because the end pressure (discharge pressure) changes. More specifically, if the flow rate of the mixed liquid 29 in the supply passage 18 changes, the flow rate at the outlet end of the return passage 19 changes accordingly, and the pressure (discharge pressure) at the outlet end in the supply passage 18 changes. Then, it changes in proportion to the square difference of each flow velocity after the change (Bernoulli's theorem). In particular, when the flow rate of the liquid mixture 29 in the supply passage 18 is increased as compared with the normal case (reference mode), the pressure drop at the outlet end of the supply passage 18 becomes large, and the storage tank 3 in the reference mode is in the reference mode. With the applied pressure, the discharge pressure is insufficient, and an appropriate discharge pressure cannot be secured. For this reason, the discharge pressure from the coating head 4 is made appropriate by applying the pressure in the storage tank 3 so that the set pressure of the regulator 59 can be adjusted. In this case, the set pressure of the regulator 59 is manually adjusted because there are many types of mixed liquids 29 to be handled and the tendency of phase separation of the mixed liquids 29 varies. This is because there is a possibility that it cannot be exhausted. For this reason, in the present embodiment, basically, before starting a full-scale coating operation, the rotational speed of the motor 41 is appropriately adjusted by the speed setting device 56 from the viewpoint of preventing phase separation of the mixed liquid. Then, the set pressure of the regulator 59 is appropriately adjusted from the viewpoint of securing an appropriate discharge pressure, and then test coating is performed on the test piece, and the test results (measurement results of coating amount per unit area, density unevenness, etc. Appropriate set values are found from visual inspection results.
 勿論、作業性の観点からは、混合液の相分離傾向の程度を、「相分離傾向が早い(強い)」「相分離傾向が遅い(弱い)」「相分離傾向が普通」の各モードに分け、その各モードに応じた代表的な設定値(速度設定器56による設定値、レギュレータ59の設定圧力)を予め求めておき、それを作業者(ユーザ)に提供することが好ましい。 Of course, from the viewpoint of workability, the degree of the phase separation tendency of the mixed liquid is changed to each mode of “fast phase separation tendency (strong)”, “slow phase separation tendency (weak)”, and “normal phase separation tendency”. It is preferable that a typical set value (a set value by the speed setting device 56, a set pressure of the regulator 59) corresponding to each mode is obtained in advance and provided to an operator (user).
 次に、上記塗布装置1についての使用方法を、作用と共に説明する。 Next, the usage method for the coating apparatus 1 will be described together with the operation.
 塗布装置1を使用するに際しては、先ず、上蓋22を固定板21から取外し、タンク本体20の上端開口を外部に開放する。このとき、上蓋22には、保護筒44、支持ボックス45等を介して強制循環流生成機構40の各要素41,42,43等が一体的に組み付けられており、上蓋22の取外しに伴い、強制循環流生成機構40も取外される。この場合、上蓋22の取外しに伴う回転軸42のタンク本体20内からの引き抜きにより回転円板48も取り出されることになるが、回転円板48とタンク本体20の内周面との間には所定の隙間52が形成されており、回転円板48とタンク本体20の内周面との干渉が問題となることはない。 When using the coating apparatus 1, first, the upper lid 22 is removed from the fixed plate 21, and the upper end opening of the tank body 20 is opened to the outside. At this time, each element 41, 42, 43, etc. of the forced circulation flow generation mechanism 40 is integrally assembled to the upper lid 22 via the protective cylinder 44, the support box 45, etc., and with the removal of the upper lid 22, The forced circulation flow generation mechanism 40 is also removed. In this case, the rotary disk 48 is also taken out by pulling out the rotary shaft 42 from the tank body 20 when the upper lid 22 is removed, but between the rotary disk 48 and the inner peripheral surface of the tank body 20. The predetermined gap 52 is formed, and interference between the rotating disk 48 and the inner peripheral surface of the tank body 20 does not become a problem.
 タンク本体20の上端開口が外部に開放されると、その上端開口からタンク本体20内に塗布材料としての混合液が注入され、その注入を終えると、上蓋22が固定板21上に固定される。勿論、これに伴い、強制循環流生成機構40の各要素41,42,43等は、各所定位置に配置される(セット状態)。 When the upper end opening of the tank body 20 is opened to the outside, a mixed liquid as a coating material is injected into the tank body 20 from the upper end opening, and when the injection is finished, the upper lid 22 is fixed on the fixing plate 21. . Of course, along with this, the elements 41, 42, 43, etc. of the forced circulation flow generating mechanism 40 are arranged at predetermined positions (set state).
 貯留タンク3(タンク本体20)内に混合液29が貯留されると、試験片に対する試験塗布が行われる。被塗布材に対して濃度ムラなく混合液29を塗布すべく、試験片に対する試験結果に基づき、モータ41の設定回転速度(循環経路60の第1強制循環流C1の流速)と、貯留タンク3内の設定圧力(塗布ヘッド4からの吐出圧)とが、混合液29に応じた適正なものか否かを判断するためである。 When the mixed liquid 29 is stored in the storage tank 3 (tank body 20), the test application is performed on the test piece. Based on the test result for the test piece, the set rotation speed of the motor 41 (flow velocity of the first forced circulation flow C1 in the circulation path 60) and the storage tank 3 are applied to apply the mixed liquid 29 to the material to be coated without unevenness of concentration. This is to determine whether or not the set pressure (discharge pressure from the coating head 4) is appropriate according to the liquid mixture 29.
 上記各設定値の設定は、基本的には、モータ41の設定回転速度を、混合液29の相分離傾向が強いほど高める(供給通路18.取付け貫通孔17、リターン通路19における第1強制循環流C1の流速を速める)と共に、圧縮エア源57の設定圧力を、供給通路18等における第1強制循環流C1の流速を速めるほど高めることになるが、通常は、作業性等の観点から、混合液29の種類(相分離傾向による分類)に応じたモードの代表的な設定値(モータ41の設定回転速度、貯留タンク3内の設定圧力)が、設定値として用いられる。 The setting of each set value basically increases the set rotational speed of the motor 41 as the phase separation tendency of the mixed liquid 29 increases (supply passage 18. mounting through hole 17 and first forced circulation in the return passage 19). In addition, the set pressure of the compressed air source 57 is increased as the flow rate of the first forced circulation flow C1 in the supply passage 18 and the like is increased. Usually, from the viewpoint of workability and the like, A typical set value (set rotation speed of the motor 41, set pressure in the storage tank 3) according to the type of the mixed liquid 29 (classification based on the phase separation tendency) is used as the set value.
 上記各設定値が設定されると、被塗布材としてのLED発光素子に対して、塗布装置1の塗布ヘッド4により混合液29の塗布作業が開始される。 When each set value is set, the application operation of the mixed liquid 29 is started by the application head 4 of the application apparatus 1 on the LED light emitting element as the material to be applied.
 塗布作業が開始されると、塗布装置1においては、モータ41が駆動され、そのモータ41の駆動により、回転軸42は、その軸心を中心として回転される。この回転軸42の回転により、貯留タンク3内の上室51においては、撹拌羽根61により混合液29が撹拌され、上室51における混合液29の混合状態は高いものとなる。 When the coating operation is started, the motor 41 is driven in the coating apparatus 1, and the rotation shaft 42 is rotated around the axis by the driving of the motor 41. By the rotation of the rotating shaft 42, the mixed liquid 29 is stirred by the stirring blade 61 in the upper chamber 51 in the storage tank 3, and the mixed state of the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 becomes high.
 また同時に、回転円板48及び複数の羽根49も回転軸42により回転されることになり、貯留タンク3内の下室50の混合液29には、複数の羽根49により遠心力が付与され、その遠心力を受けた混合液29は、供給通路18へと押し出される。この下室50における混合液29の供給通路18への押し出しに伴い、上室51の混合液29が回転円板48の連通孔53を介して引き込まれることになり、複数の羽根49は、混合液29を連続的に供給通路18に押し出すことになる(ポンプ作用)。この供給通路18に押し出された混合液は、取付け貫通孔17を経由してリターン通路19に流れ、そのリターン通路19に入った混合液29は、貯留タンク3内の上室51へと流れる(図2、図3中、矢印参照)。このため、下室50、供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19、上室51及び連通孔53は、循環経路60を構成することになり、その循環経路60において、第1強制循環流C1が循環されることになる。 At the same time, the rotating disk 48 and the plurality of blades 49 are also rotated by the rotating shaft 42, and centrifugal force is applied to the mixed liquid 29 in the lower chamber 50 in the storage tank 3 by the plurality of blades 49, The liquid mixture 29 receiving the centrifugal force is pushed out to the supply passage 18. As the mixed liquid 29 is pushed out into the supply passage 18 in the lower chamber 50, the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 is drawn through the communication hole 53 of the rotating disk 48, and the plurality of blades 49 are mixed. The liquid 29 is continuously pushed out to the supply passage 18 (pump action). The liquid mixture pushed out to the supply passage 18 flows into the return passage 19 via the attachment through-hole 17, and the liquid mixture 29 that has entered the return passage 19 flows into the upper chamber 51 in the storage tank 3 ( (See arrows in FIGS. 2 and 3). For this reason, the lower chamber 50, the supply passage 18, the mounting through-hole 17, the return passage 19, the upper chamber 51, and the communication hole 53 constitute a circulation path 60, and in the circulation path 60, the first forced circulation flow C1 will be circulated.
 したがって、塗布装置1は、循環経路60のうちでも、特に、供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19において、混合液29が比較的速い流速を保有することになり、混合液29は、その流速(乱流状態)に基づき撹拌される。このため、供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19においては、塗布ヘッド4から混合液29が吐出されないときを含めて、混合液29は高い混合状態に維持され、塗布ヘッド4には、常に、高い混合状態の混合液29が供給されている状態となる。これにより、塗布ヘッド4から混合液29が吐出されるときには、高い混合状態の混合液29が吐出されることになり、被塗布材としてのLED発光素子に対して濃度ムラなく混合液29を塗布することができる。 Therefore, the coating apparatus 1 has a relatively fast flow rate of the mixed solution 29 in the supply passage 18, the attachment through hole 17, and the return passage 19, particularly in the circulation path 60. Stirring is performed based on the flow velocity (turbulent flow state). For this reason, in the supply passage 18, the mounting through-hole 17, and the return passage 19, the mixed liquid 29 is maintained in a highly mixed state including when the mixed liquid 29 is not discharged from the coating head 4. The mixed liquid 29 in a high mixed state is always supplied. As a result, when the mixed liquid 29 is discharged from the coating head 4, the mixed liquid 29 in a highly mixed state is discharged, and the mixed liquid 29 is applied to the LED light emitting element as the material to be coated without density unevenness. can do.
 この場合、図3に示すように、回転円板48が上室51と下室50とを区画し、その回転円板48が、複数の羽根49が貯留タンク3の内底面に近接するように配置されていることから、貯留タンク3内の底部側と回転円板48とがポンプケーシングを構成し、そのポンプケーシング内に複数の羽根49がポンプ機能を発揮するように収納されることになる。このため、回転円板48の回転に伴って複数の羽根49が回転したときには、その複数の羽根49は、下室50内の混合液29に対して遠心力を効果的に作用させることになり、供給通路18等での混合液29の流速は効率良く高められる。(効率的なポンプ作用)。 In this case, as shown in FIG. 3, the rotating disc 48 divides the upper chamber 51 and the lower chamber 50, and the rotating disc 48 has a plurality of blades 49 close to the inner bottom surface of the storage tank 3. Since it is disposed, the bottom side in the storage tank 3 and the rotating disk 48 constitute a pump casing, and a plurality of blades 49 are accommodated in the pump casing so as to exhibit a pump function. . For this reason, when the plurality of blades 49 are rotated in accordance with the rotation of the rotating disk 48, the plurality of blades 49 effectively exert a centrifugal force on the mixed liquid 29 in the lower chamber 50. The flow rate of the mixed liquid 29 in the supply passage 18 and the like can be increased efficiently. (Efficient pump action).
 一方、このとき、回転円板48の外周面と貯留タンク3の内周面との間に所定の隙間52があけられていることに基づき、回転円板48及び複数の羽根49の回転に伴い、その所定の隙間52を介して、貯留タンク3の内周面に沿って旋回しつつ、下室50から上室51に向けて上昇する混合液29の上昇流63が生じる(図11中、上向きの矢印仮想線参照)。この上昇流63は、回転円板48の連通孔53を介して下室50に引き込まれる。このため、混合液29が所定の隙間52から上室51に入って、それが回転円板48の連通孔53から下室50に戻る第2強制循環流C2が生成されることになり、その第2強制循環流C2が上室51内の混合液29を撹拌する(図11中、第2強制循環流C2の仮想線参照)。 On the other hand, at this time, with the rotation of the rotating disk 48 and the plurality of blades 49, the predetermined gap 52 is provided between the outer peripheral surface of the rotating disk 48 and the inner peripheral surface of the storage tank 3. Then, an upward flow 63 of the mixed liquid 29 rising from the lower chamber 50 toward the upper chamber 51 is generated while turning along the inner peripheral surface of the storage tank 3 via the predetermined gap 52 (in FIG. 11, Up arrow virtual line). The upward flow 63 is drawn into the lower chamber 50 through the communication hole 53 of the rotating disk 48. For this reason, the mixed liquid 29 enters the upper chamber 51 from the predetermined gap 52, and a second forced circulation flow C2 that returns from the communication hole 53 of the rotating disk 48 to the lower chamber 50 is generated. The second forced circulation flow C2 stirs the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 (see the phantom line of the second forced circulation flow C2 in FIG. 11).
 このため、上室51においては、撹拌羽根61の回転に基づく撹拌だけでなく、第2強制循環流C2の流れによる撹拌が加わることになり、上室51における混合液29の混合状態は、一層、高められる。この高い混合状態の混合液29が、複数の羽根49の回転に伴って、連通孔53を介して下室50に引き込まれることになり、循環経路60での流速に基づく混合液29の混合状態は、より一層、高められる。 For this reason, in the upper chamber 51, not only stirring based on the rotation of the stirring blade 61 but also stirring by the flow of the second forced circulation flow C2 is added, and the mixed state of the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 is further increased. , Enhanced. The mixed liquid 29 in a high mixed state is drawn into the lower chamber 50 through the communication hole 53 as the plurality of blades 49 rotate, and the mixed state of the mixed liquid 29 based on the flow velocity in the circulation path 60 is obtained. Is further enhanced.
 他方、上記上昇流63及び回転円板48は、図11に示すように、上室51における混合液29の液面29aを回転放物面状態とし、混合液29の液位を貯留タンク3の径方向外方ほど高くする一方、貯留タンク3における径方向中心の混合液29の液位が最も低くする。このため、貯留タンク3内の混合液29に関し、実質的に使用できる量が問題となる。 On the other hand, as shown in FIG. 11, the upward flow 63 and the rotating disc 48 bring the liquid surface 29 a of the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 into a rotating parabolic state, and the liquid level of the mixed liquid 29 is set in the storage tank 3. While increasing in the radially outward direction, the liquid level of the mixed liquid 29 at the center in the radial direction in the storage tank 3 is set to the lowest. For this reason, regarding the liquid mixture 29 in the storage tank 3, the amount which can be used substantially becomes a problem.
 すなわち、循環経路60において、混合液29の混合状態を高い状態に維持するためには、第1強制循環流C1が生成されている必要があり、その第1強制循環流C1が継続されるためには、貯留タンク3内に、少なくとも下室50を越えた混合液29が貯留されている必要がある。第1強制循環流C1を継続させるために最低限必要となる貯留タンク3内の混合液の下限高さを、図3、図11において、符号Hminで示せば、実際の混合液29の液位は、これを超えている必要がある。このような条件を満たさなければならない状況の下で、図11の仮想線に示すように、上室51における混合液29の液面29aが回転放物面状態となって、混合液29の液位が貯留タンク3の径方向外方側ほど高くなる一方、貯留タンク3における径方向中心の混合液29の液位が最も低くなる場合には、その貯留タンク3における径方向中心の混合液29の液位が、貯留タンク3内の混合液の下限高さHminよりも低くなったときには、貯留タンク3の径方向外方側における混合液29の液位が貯留タンク3内の混合液の下限高さHminを超えていても、もはや、第1強制循環流C1を継続させることができない。 That is, in the circulation path 60, in order to maintain the mixed state of the mixed liquid 29 in a high state, the first forced circulation flow C1 needs to be generated, and the first forced circulation flow C1 is continued. In this case, it is necessary that the mixed liquid 29 exceeding at least the lower chamber 50 is stored in the storage tank 3. If the lower limit height of the liquid mixture in the storage tank 3 that is the minimum required to continue the first forced circulation flow C1 is indicated by the symbol Hmin in FIGS. 3 and 11, the liquid level of the actual liquid mixture 29 Need to exceed this. Under the condition that such a condition must be satisfied, the liquid level 29a of the liquid mixture 29 in the upper chamber 51 becomes a paraboloidal state as shown by the phantom line in FIG. When the liquid level of the mixed liquid 29 at the center in the radial direction in the storage tank 3 is the lowest, the mixed liquid 29 at the center in the radial direction in the storage tank 3 is higher. Is lower than the lower limit height Hmin of the liquid mixture in the storage tank 3, the liquid level of the liquid mixture 29 on the radially outer side of the storage tank 3 is the lower limit of the liquid mixture in the storage tank 3. Even if the height Hmin is exceeded, the first forced circulation flow C1 can no longer be continued.
 そこで、本実施形態においては、リターン通路19の出口端が、回転円板48近傍における上室51に貯留タンク3の側方側から開口され、そのリターン通路19から流出する第1強制循環流C1が前記上昇流63(C2)に衝突されるようにされている。これにより、上昇流63の向きが貯留タンク3の径方向内方側に傾くことになり(図11中、実線の上昇流63参照)、貯留タンク3における径方向最外方の混合液29の液位の上昇が、上昇流63とリターン通路19からの第1強制循環流C1とを衝突させない場合に比して抑えられることになる(実線の液面29a参照)。このため、その上昇流63の上昇を抑制した分だけ、混合液29における回転放物面の最低液位の高さを高めて混合液29の最高液位と最低液位との差(高さ)を狭めることができ、実際の混合液29の液位が混合液の下限高さHminを超えた状態で塗布作業を行わなければならない状況下にあっても、貯留タンク3内の混合液29をできるだけ使用できることになる。 Therefore, in the present embodiment, the outlet end of the return passage 19 is opened from the side of the storage tank 3 to the upper chamber 51 in the vicinity of the rotating disk 48 and flows out from the return passage 19. Is made to collide with the upward flow 63 (C2). As a result, the direction of the upward flow 63 is inclined inward in the radial direction of the storage tank 3 (see the upward flow 63 indicated by a solid line in FIG. 11), and the radially outermost mixed liquid 29 in the storage tank 3 The rise in the liquid level is suppressed as compared with the case where the upward flow 63 and the first forced circulation flow C1 from the return passage 19 do not collide (refer to the solid line 29a). For this reason, the height of the minimum liquid level of the paraboloid in the mixed liquid 29 is increased by the amount that suppresses the rise of the upward flow 63, and the difference (height between the highest liquid level and the lowest liquid level of the mixed liquid 29 is increased. ) And the liquid mixture 29 in the storage tank 3 can be used even in a situation where the coating operation must be performed in a state where the actual liquid level of the liquid mixture 29 exceeds the lower limit height Hmin of the liquid mixture. Can be used as much as possible.
 この点については、構造の面からも工夫が払われている。 This point is also devised in terms of structure.
 塗布装置1においては、複数の各羽根49として帯板状のものが用いられて、その幅方向が上下方向(貯留タンク3の軸心延び方向)に向くようにしつつその各羽根49が回転円板48下面に固定され、しかも、その複数の羽根49が貯留タンク3の内底面に近接するように配置されている。このため、貯留タンク3の内底面から回転円板48までの上下長さを極めて短くすることができ、第1強制循環流C1を継続させるために最低限必要となる貯留タンク3内の混合液の下限高さHmin自体が低いものになっている。この結果、この点からも、貯留タンク3内の混合液29をできるだけ使用することができることになり、高価な混合液29を貯留タンク3内に貯留して用いる場合においても、有利となる。 In the coating apparatus 1, a plurality of blades 49 are used as the plurality of blades 49, and each blade 49 rotates in a circular shape while its width direction is directed in the vertical direction (the axial extension direction of the storage tank 3). It is fixed to the lower surface of the plate 48, and the plurality of blades 49 are arranged so as to be close to the inner bottom surface of the storage tank 3. For this reason, the vertical length from the inner bottom surface of the storage tank 3 to the rotating disk 48 can be made extremely short, and the liquid mixture in the storage tank 3 that is the minimum required to continue the first forced circulation flow C1. The lower limit height Hmin itself is low. As a result, also from this point, the liquid mixture 29 in the storage tank 3 can be used as much as possible, which is advantageous even when the expensive liquid mixture 29 is stored in the storage tank 3 and used.
 また、上述のように、図11中の仮想線に示すように、上室51における混合液29の液面29aが回転放物面状態となるときには、貯留タンク3における径方向外方側の混合液29の液位が高いほど、その液面29aが貯留タンク3の径方向内方側に崩れ易く、それに伴い、空気を混合液29中に取り込み易い。 Further, as described above, when the liquid surface 29a of the liquid mixture 29 in the upper chamber 51 is in a paraboloid state as shown by the phantom line in FIG. The higher the liquid level of the liquid 29, the more easily the liquid surface 29 a collapses inward in the radial direction of the storage tank 3, and accordingly, the air is more easily taken into the liquid mixture 29.
 しかし、上述のように、リターン通路19の出口端からの第1強制循環流C1により上昇流63の上昇を抑制でき、貯留タンク3における径方向中心の混合液29の液位(混合液29の最低液位)を基準とした貯留タンク3における径方向外方側の混合液29の液位(最高液位)を低めることができる。このため、貯留タンク3における径方向外方側の混合液29の液面29aが径方向内方側に崩れる際に、混合液29中に取り込まれる空気の量を減らすことができることになり、循環経路60、特に供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19において第1強制循環流C1の流れが妨げられることが抑制される。 However, as described above, the rising of the upward flow 63 can be suppressed by the first forced circulation flow C1 from the outlet end of the return passage 19, and the liquid level of the mixed liquid 29 in the radial center in the storage tank 3 (the mixed liquid 29) The liquid level (maximum liquid level) of the liquid mixture 29 on the radially outer side in the storage tank 3 with reference to the minimum liquid level can be lowered. For this reason, when the liquid level 29a of the liquid mixture 29 on the radially outer side in the storage tank 3 collapses radially inward, the amount of air taken into the liquid mixture 29 can be reduced, and the circulation The passage of the first forced circulation flow C1 in the path 60, particularly the supply passage 18, the attachment through hole 17, and the return passage 19, is suppressed.
 塗布装置による塗布作業が終了した時には、モータ41の駆動が停止され、貯留タンク3内及び循環経路60内の残存混合液29が取り除かれる。混合液29を循環経路60等に放置しておくと、混合液が相分離し、特に、固体粒子が含有されている混合液29においては、その固体粒子が沈積してしまい、次の塗布作業に支障を与えるからである。このため、塗布装置1においては、モータ41の駆動を停止させた後、調整つまみ38によりニードル弁34が導入口30から退出され、導入口30が開放状態とされる。これにより、貯留タンク3内の加圧力を受けて、残存混合液29は、吐出部4Aの導入口30、送り出し通路32を経て吐出口31から外部に排出される。 When the coating operation by the coating apparatus is completed, the driving of the motor 41 is stopped, and the remaining mixed liquid 29 in the storage tank 3 and the circulation path 60 is removed. If the mixed solution 29 is left in the circulation path 60 or the like, the mixed solution is phase-separated. In particular, in the mixed solution 29 containing solid particles, the solid particles are deposited, and the next coating operation is performed. This is because it interferes with the situation. For this reason, in the coating apparatus 1, after stopping the drive of the motor 41, the needle valve 34 is withdrawn from the introduction port 30 by the adjustment knob 38, and the introduction port 30 is opened. As a result, receiving the pressure in the storage tank 3, the remaining mixed liquid 29 is discharged to the outside from the discharge port 31 through the introduction port 30 and the delivery passage 32 of the discharge unit 4 </ b> A.
 この後、レギュレータ59を閉弁した上で、貯留タンク3内の圧縮エアが抜かれ、塗布装置1は、次の塗布作業に備えることになる。 Thereafter, after the regulator 59 is closed, the compressed air in the storage tank 3 is removed, and the coating apparatus 1 is ready for the next coating operation.
 したがって、上記第1実施形態に係る装置においては、上述のように、塗布ヘッド4に、吐出されていないときも含めて常に、高い混合状態の混合液29を供給できる状態にしておくことができる。その一方、強制循環流生成機構40は、モータ41が貯留タンク3の上部に取付けられ、回転軸42、回転円板48及び羽根49に関しては、それらを貯留タンク3内空間に組み込んで構成されることになっており、強制循環流生成機構40を供給通路18又はリターン通路19に介装して設ける必要はなくなる。このため、貯留タンク3と塗布ヘッド4との間に強制循環流生成機構40を配置する必要性がなくなり、強制循環流生成機構40を貯留タンク3と塗布ヘッド4との間に配置しなくてもよくなる分だけ、貯留タンク3と塗布ヘッド4との間隔を狭めることができる。 Therefore, in the apparatus according to the first embodiment, as described above, the liquid mixture 29 in a high mixed state can be always supplied to the coating head 4 even when it is not discharged. . On the other hand, the forced circulation flow generation mechanism 40 is configured such that the motor 41 is attached to the upper portion of the storage tank 3 and the rotation shaft 42, the rotation disc 48 and the blades 49 are incorporated in the internal space of the storage tank 3. Therefore, it is not necessary to provide the forced circulation flow generation mechanism 40 in the supply passage 18 or the return passage 19. For this reason, it is not necessary to arrange the forced circulation flow generation mechanism 40 between the storage tank 3 and the coating head 4, and the forced circulation flow generation mechanism 40 is not disposed between the storage tank 3 and the coating head 4. Therefore, the interval between the storage tank 3 and the coating head 4 can be narrowed by the amount of improvement.
 また、塗布装置1は、基板2(第1、第2基板2A,2B、仕切板2C)上にその基板2を利用して貯留タンク3と塗布ヘッド4とを構成すると共に、貯留タンク3と塗布ヘッド4との間に介在される供給通路18、リターン通路19等を基板2内部に形成して、それらを外部に現れないようにすることができる。このため、貯留タンク3と塗布ヘッド4とを一体的に扱うことができると共に、外見上簡素でコンパクトなものにできる。これにより、当該塗布装置1を、ロボットに搭載するものとしても好ましいものにできる。 Further, the coating apparatus 1 configures a storage tank 3 and a coating head 4 on the substrate 2 (first and second substrates 2A, 2B, partition plate 2C) using the substrate 2, and the storage tank 3 A supply passage 18, a return passage 19 and the like interposed between the coating head 4 and the like can be formed inside the substrate 2 so that they do not appear outside. For this reason, while being able to handle the storage tank 3 and the application | coating head 4 integrally, it can be made simple and compact in appearance. Thereby, the said coating device 1 can be made preferable as what is mounted in a robot.
 さらに、第1、第2基板2A,2B及び仕切板2Cを用いて基板2を形成することから、第1、第2基板2A,2B及び仕切板2Cに簡単な加工を加えるだけで、供給通路18、リターン通路19等の基板内部構造を容易に形成できる。 Further, since the substrate 2 is formed by using the first and second substrates 2A and 2B and the partition plate 2C, the supply passage can be obtained simply by adding simple processing to the first and second substrates 2A and 2B and the partition plate 2C. 18, the internal structure of the substrate such as the return passage 19 can be easily formed.
<第2実施形態>
 図12~図18は第2実施形態を示すものである。この第2実施形態において、前記第1実施形態と同一構成要素については、同一符号を付してその説明を省略する。
Second Embodiment
12 to 18 show a second embodiment. In the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
 この第2実施形態は、強制循環経路60での第1強制循環流C1の流速を、一層速めると共に、貯留タンク3内における混合液29の実質的な使用可能量を確実に高めることができる内容を示している。 In the second embodiment, the flow rate of the first forced circulation flow C1 in the forced circulation path 60 can be further increased, and the substantial usable amount of the liquid mixture 29 in the storage tank 3 can be reliably increased. Is shown.
 第2実施形態に係る塗布装置1も、図12、図13に示すように、前記第1実施形態同様、平面視略矩形状の基板2を備えていると共に、その基板2上にその基板2の長手方向において隣り合うようにして設けられる貯留タンク3と塗布ヘッド4とを備え、基板2は、第1、第2基板2A,2Bと、その両者2A,2B間に介在される仕切板2Cとを備えている。 As shown in FIGS. 12 and 13, the coating apparatus 1 according to the second embodiment also includes a substrate 2 having a substantially rectangular shape in plan view, and the substrate 2 on the substrate 2, as in the first embodiment. The substrate 2 is provided with a storage tank 3 and a coating head 4 provided adjacent to each other in the longitudinal direction, and the substrate 2 includes first and second substrates 2A and 2B, and a partition plate 2C interposed between the two substrates 2A and 2B. And.
 前記第1基板2Aにおける主凹所5の第1底面2Ai-2には、図12~図14に示すように、第1貫通孔8の他に、基礎凹所70と、その基礎凹所70と第1貫通孔8とを連絡する第1連絡溝9と、が形成されている。 On the first bottom surface 2Ai-2 of the main recess 5 in the first substrate 2A, as shown in FIGS. 12 to 14, in addition to the first through hole 8, a basic recess 70 and its basic recess 70 are provided. And a first communication groove 9 that communicates with the first through hole 8 is formed.
 基礎凹所70は、第1基板2Aにおける第1底面2Ai-2(内面2Ai)上に、その長手方向一方側において開口されており、その基礎凹所70は、主凹所5における長手方向一方側の平面視半円状の内周面よりもかなり縮径された平面視円状の開口をもって形成されている。 The basic recess 70 is opened on one side in the longitudinal direction on the first bottom surface 2Ai-2 (inner surface 2Ai) of the first substrate 2A, and the basic recess 70 is one side in the longitudinal direction of the main recess 5. An opening having a circular shape in plan view that is considerably smaller in diameter than the inner peripheral surface in a semicircular shape in plan view on the side is formed.
 第1連絡溝9は、第1貫通孔8の径と略同じ溝幅と、基礎凹所70の深さと同じ溝深さをもって、第1基板2の幅方向中央においてその長手方向に延びている。この第1連絡溝9の一端が基礎凹所70に連なり、その他端部は、その他端部における溝底部に第1貫通孔8が開口することにより、その第1貫通孔8に連なっている。これにより、第1底面2Ai-2には、基礎凹所70と第1連絡溝9と第1貫通孔8とが、連続して連なるように形成されることになり、それらの周囲に第1底面2Ai-2が残ることになる。 The first communication groove 9 extends in the longitudinal direction at the center in the width direction of the first substrate 2 with a groove width substantially the same as the diameter of the first through-hole 8 and a groove depth equal to the depth of the basic recess 70. . One end of the first communication groove 9 is connected to the basic recess 70, and the other end portion is connected to the first through hole 8 by opening the first through hole 8 at the groove bottom portion at the other end portion. Accordingly, the basic recess 70, the first communication groove 9, and the first through hole 8 are formed in the first bottom surface 2Ai-2 so as to be continuously connected to each other, and the first bottom surface 2Ai-2 is surrounded by the first bottom surface 2Ai-2. The bottom surface 2Ai-2 will remain.
 前記第2基板2Bには、図12、図13、図15に示すように、タンク本体保持用貫通孔10が形成されているが、このタンク本体保持用貫通孔10の大径部10Bも、小径部10Aも、前記基礎凹所70に対して同心状に配置されていると共に、その基礎凹所70の開口径よりも拡径されている。 In the second substrate 2B, as shown in FIGS. 12, 13, and 15, a tank body holding through hole 10 is formed. The large diameter portion 10B of the tank body holding through hole 10 is also The small diameter portion 10 </ b> A is also concentrically arranged with respect to the basic recess 70, and has a diameter larger than the opening diameter of the basic recess 70.
 前記仕切板2Cは、図12、図13、図16に示すように、前記第1基板2Aの主凹所5内に適合した状態で嵌合されており、第1基板2Aと第2基板2Bとが留め具により一体化されるに伴い、仕切板2Cは第1基板2Aの第1底面2Ai-2と第2基板2Bの内面2Biとにより挟持されている。 As shown in FIGS. 12, 13, and 16, the partition plate 2C is fitted in the main recess 5 of the first substrate 2A, and the first substrate 2A and the second substrate 2B. Are integrated by the fasteners, the partition plate 2C is sandwiched between the first bottom surface 2Ai-2 of the first substrate 2A and the inner surface 2Bi of the second substrate 2B.
 この仕切板2Cは、本実施形態においては、タンク本体保持用貫通孔10を閉じて取付け凹所16を構成すると共に、その仕切板2Cにおける中間貫通孔14が、その開口径を前記基礎凹所70の開口径と同じにしつつ、その基礎凹所70に対向して配置されている。これにより、この中間貫通孔14は、基礎凹所70と協働して循環流導入用凹所71を構成することになり、その循環流導入用凹所71は、取付け凹所16における底部の径方向中央部に配置されて、そこから取付け凹所16内に臨むことになる。 In this embodiment, the partition plate 2C closes the tank body holding through-hole 10 to form a mounting recess 16, and the intermediate through-hole 14 in the partition plate 2C has an opening diameter that is the same as the basic recess. While being the same as the opening diameter of 70, it is arranged to face the basic recess 70. As a result, the intermediate through-hole 14 constitutes a circulation flow introduction recess 71 in cooperation with the basic recess 70, and the circulation flow introduction recess 71 is formed at the bottom of the attachment recess 16. It arrange | positions in a radial direction center part, and faces the attachment recess 16 from there.
 前記仕切板2Cは、上記のように該仕切板2Cが第1、第2基板2A,2B間に介在される結果、図12、図13、図16に示すように、第1基板2Aの第1連絡溝9の開口側及び第2連絡溝12の開口側を塞いでいる。これにより、仕切板2Cと第1基板2Aとが、その間にリターン通路19を構成することになり、仕切板2Cと第2基板2Bとが、その間に供給通路18を構成することになる。そして、リターン通路19は、その出口端が循環流導入用凹所71内に開口され、その入口端は取付け貫通孔17(第1貫通孔8)に開口されることになる。供給通路18は、その入口端がタンク本体保持用貫通孔10内に開口され、その出口端が取付け貫通孔17(第2貫通孔11)内に開口されることになる。 As described above, the partition plate 2C is interposed between the first and second substrates 2A and 2B. As a result, as shown in FIG. 12, FIG. 13, and FIG. The opening side of the first connecting groove 9 and the opening side of the second connecting groove 12 are closed. As a result, the partition plate 2C and the first substrate 2A constitute a return passage 19 therebetween, and the partition plate 2C and the second substrate 2B constitute a supply passage 18 therebetween. The return passage 19 has an outlet end opened in the circulation flow introduction recess 71, and an inlet end opened in the attachment through hole 17 (first through hole 8). The inlet end of the supply passage 18 is opened in the tank body holding through hole 10, and the outlet end thereof is opened in the attachment through hole 17 (second through hole 11).
 前記取付け凹所16にタンク本体20の一端部が嵌合保持されることにより貯留タンク3が構成され、その貯留タンク3内の底部側に、図12、図13に示すように、ポンプ機構43が配設されている。そのポンプ機構43の回転円板48は、複数の羽根49を仕切板2C(貯留タンク3の底部)に近接させた状態で貯留タンク3内に配置されており、この回転円板48により、貯留タンク3内は、下室50と、上室51とに区画されている。これに伴い、下室50における複数の羽根49の径方向中央部に、循環流導入用凹所71が臨み、前記供給通路18の入口端が下室50に貯留タンク3の側方側から開口され、前記リターン通路19の出口端が循環流導入用凹所71にその側方側から開口されている。 The storage tank 3 is configured by fitting and holding one end of the tank body 20 in the mounting recess 16, and a pump mechanism 43 is formed on the bottom side of the storage tank 3 as shown in FIGS. 12 and 13. Is arranged. The rotary disk 48 of the pump mechanism 43 is disposed in the storage tank 3 with a plurality of blades 49 in proximity to the partition plate 2C (the bottom of the storage tank 3). The tank 3 is divided into a lower chamber 50 and an upper chamber 51. Along with this, a circulating flow introduction recess 71 faces the radial center of the plurality of blades 49 in the lower chamber 50, and the inlet end of the supply passage 18 opens into the lower chamber 50 from the side of the storage tank 3. The outlet end of the return passage 19 is opened from the side of the circulation flow introduction recess 71.
 前記貯留タンク3内周面側には、図12、図13、図17に示すように、前記回転円板48の上方側において複数の邪魔板72が配設されている。複数の各邪魔板72は、貯留タンク3の周回り方向に等間隔毎に配置されており、その各邪魔板72は、貯留タンク3内周面から該貯留タンク3の径方向内方に向けて突出しつつ上下方向にそれぞれ延びている。この各邪魔板72は、本実施形態においては、その各上端部が上蓋22に取付けられており、上蓋22をタンク本体20から取外す際には、複数の邪魔板72は、回転軸42、回転円板48及び複数の羽根49と共に一体的に引き抜かれることになっている。 On the inner peripheral surface side of the storage tank 3, a plurality of baffle plates 72 are disposed above the rotating disc 48 as shown in FIGS. The plurality of baffle plates 72 are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the storage tank 3, and the baffle plates 72 are directed from the inner peripheral surface of the storage tank 3 toward the radially inner side of the storage tank 3. Each extending in the vertical direction. In the present embodiment, each baffle plate 72 has its upper end attached to the upper lid 22, and when the upper lid 22 is removed from the tank body 20, the baffle plates 72 have the rotating shaft 42, the rotating shaft 42. The disk 48 and the plurality of blades 49 are extracted together.
 したがって、このような第2実施形態に係る塗布装置1においては、貯留タンク3内に混合液29が貯留されている状態において、モータ41、回転軸42により回転円板48及び複数の羽根49を回転させた場合には、複数の羽根49が下室50内の混合液29に遠心力を効果的に付与することになり、その遠心力を受けた混合液29は供給通路18に押し出される(図12、図13における供給通路18中の矢印参照)。これに伴い、回転円板48の連通孔53から上室51の混合液29が引き込まれて、供給通路18に押し出される混合液29は連続することになり、その押し出された混合液29は、供給通路18を介して塗布ヘッド4に供給され、その塗布ヘッド4から外部に混合液29が吐出されないときには、取付け貫通孔17、リターン通路19、循環流導入用凹所71を経て下室50に戻される。以後、塗布ヘッド4からの吐出分の混合液29を、上室51から連通孔53を介して補充される場合を除き、循環経路60を構成する下室50、供給通路18、取付け貫通孔17、リターン通路19、循環流導入用凹所71における混合液29は、第1強制循環流C1として、速い流速を保持しつつ流れ続ける。このため、この第1強制循環流C1により、混合液29の混合状態は、高い状態とされ、その状態が維持される。 Therefore, in the coating apparatus 1 according to the second embodiment, the rotating disk 48 and the plurality of blades 49 are moved by the motor 41 and the rotating shaft 42 in a state where the mixed liquid 29 is stored in the storage tank 3. When rotated, the plurality of blades 49 effectively applies a centrifugal force to the mixed solution 29 in the lower chamber 50, and the mixed solution 29 receiving the centrifugal force is pushed out to the supply passage 18 ( (See arrows in the supply passage 18 in FIGS. 12 and 13). Along with this, the mixed liquid 29 in the upper chamber 51 is drawn from the communication hole 53 of the rotating disk 48, and the mixed liquid 29 pushed out to the supply passage 18 is continuous. When the liquid mixture 29 is supplied to the coating head 4 via the supply passage 18 and is not discharged to the outside from the coating head 4, it passes through the attachment through hole 17, the return passage 19, and the circulation flow introduction recess 71 into the lower chamber 50. Returned. Thereafter, the lower chamber 50 constituting the circulation path 60, the supply passage 18, and the mounting through-hole 17 are excluded unless the mixed liquid 29 discharged from the coating head 4 is replenished from the upper chamber 51 through the communication hole 53. The mixed liquid 29 in the return passage 19 and the recess 71 for circulating flow introduction continues to flow as the first forced circulating flow C1 while maintaining a high flow rate. For this reason, the mixed state of the mixed liquid 29 is set to a high state by the first forced circulation flow C1, and the state is maintained.
 この場合、複数の羽根49が、第1強制循環流C1の流れ中に、その流れを極力、止めることなく配置されている。このため、この複数の羽根49の回転により、第1強制循環流C1の流速が、前記第1実施形態の場合よりも、増速されることになり、混合液29として、相分離傾向が高いものが用いられるとしても、的確に対応できることになる。 In this case, the plurality of blades 49 are arranged in the flow of the first forced circulation flow C1 without stopping the flow as much as possible. For this reason, by the rotation of the plurality of blades 49, the flow velocity of the first forced circulation flow C1 is increased as compared with the case of the first embodiment, and the mixed solution 29 has a high phase separation tendency. Even if a thing is used, it can respond appropriately.
 また、回転円板48及び複数の羽根49が回転すると、図18に示すように、回転円板48の外周面と貯留タンク3の内周面との間の所定の隙間52を介して、貯留タンク3の内周面に沿って旋回しつつ下室50から上室51に向けて上昇する混合液29の上昇流(図18中、実線矢印参照)が生じ、それに伴って、上室51においては旋回流が生じ、それに基づき、混合液29の液面29aの形は回転放物面を形成しようとする(図18中、液面29aの仮想線参照)。 Further, when the rotating disk 48 and the plurality of blades 49 are rotated, as shown in FIG. 18, storage is performed via a predetermined gap 52 between the outer peripheral surface of the rotating disk 48 and the inner peripheral surface of the storage tank 3. An upward flow of the mixed liquid 29 (refer to a solid line arrow in FIG. 18) that rises from the lower chamber 50 toward the upper chamber 51 while turning along the inner peripheral surface of the tank 3 is generated. Produces a swirling flow, and based on this, the shape of the liquid surface 29a of the liquid mixture 29 tends to form a paraboloid of revolution (see the phantom line of the liquid surface 29a in FIG. 18).
 しかし、本実施形態においては、邪魔板72が設けられ、その邪魔板72により上室51における旋回流が止められることになり、邪魔板72が存在する領域(貯留タンク3内の径方向外方側)においては、旋回流が生じないことになって混合液29の液面上昇が抑制される。その旋回流の液面上昇が抑制された分だけ、旋回流における回転放物面の最低液位の高さが高められて最高液位と最低液位との差(高さ)が小さくなり(図18中、液面29aの実線参照)、その旋回流における回転放物面の最低液位が、貯留タンク3内の混合液の下限高さHminに至るまで第1強制循環流C1を循環させることができる。このため、邪魔板72により旋回流を止めない場合に比して、貯留タンク3内における混合液29の使用可能量を増大させることができることになる。 However, in the present embodiment, the baffle plate 72 is provided, and the baffle plate 72 stops the swirling flow in the upper chamber 51, and the region where the baffle plate 72 exists (the radially outward direction in the storage tank 3). On the other hand, no swirling flow is generated, and the rise of the liquid level of the mixed liquid 29 is suppressed. The height of the minimum liquid level of the rotating paraboloid in the swirling flow is increased by the amount that the liquid level rise of the swirling flow is suppressed, and the difference (height) between the highest and lowest liquid levels is reduced ( In FIG. 18, the first forced circulation flow C1 is circulated until the lowest liquid level of the rotating paraboloid in the swirling flow reaches the lower limit height Hmin of the mixed liquid in the storage tank 3. be able to. For this reason, the usable amount of the liquid mixture 29 in the storage tank 3 can be increased as compared with the case where the swirling flow is not stopped by the baffle plate 72.
 また同時に、混合液29の液面29aが貯留タンク3の径方向外方側において上昇することを邪魔板72により抑制することは、混合液29の液面29aが貯留タンク3の径方向内方側に崩れる際に取り込む空気の量を減らすことになる。このため、循環経路60において、第1強制循環流C1の流れが混合液29中の空気により妨げられることが抑制される。 At the same time, the baffle plate 72 prevents the liquid level 29a of the mixed liquid 29 from rising on the radially outer side of the storage tank 3 because the liquid level 29a of the mixed liquid 29 is radially inward of the storage tank 3. This will reduce the amount of air taken in when it collapses to the side. For this reason, in the circulation path 60, it is suppressed that the flow of the 1st forced circulation flow C1 is obstructed by the air in the liquid mixture 29.
 1 塗布装置
 2 基板
 2A 第1基板
 2B 第2基板
 2C 仕切板
 3 貯留タンク
 4 塗布ヘッド
 4A 吐出部
 4B 供給調整部
 7 収納凹所
 8 第1貫通孔(取付け貫通孔)
 10 タンク本体保持用貫通孔(取付け凹所)
 10A 小径部
 10B 大径部
 11 第2貫通孔(取付け貫通孔)
 12 第2連絡溝
 14 中間貫通孔(取付け凹所)
 15 第3貫通孔(取付け貫通孔)
 16 取付け凹所
 17 取付け貫通孔
 18 供給通路
 19 リターン通路
 20 タンク本体(筒体)
 29 混合液
 30 導入口
 31 吐出口
 40 強制循環流生成機構
 41 モータ(回転駆動源、強制循環流生成機構)
 42 回転軸(強制循環流生成機構)
 43 ポンプ機構(強制循環流生成機構)
 48 回転円板(ポンプ機構、強制循環流生成機構)
 49 羽根(ポンプ機構、強制循環流生成機構)
 50 下室
 51 上室
 52 所定の隙間
 53 連通孔
 54 ドライバ回路(回転数調整手段)
 55 電源(回転数調整手段)
 56 速度設定器(回転数調整手段)
 57 圧縮エア源(加圧源)
 59 レギュレータ(圧力調整手段)
 60 循環経路
 61 撹拌羽根
 70 基礎凹所
 71 循環流導入用凹所
 72 邪魔板
 C1 第1強制循環流(循環流)
 C2 第2強制循環流
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating device 2 Board | substrate 2A 1st board | substrate 2B 2nd board | substrate 2C Partition plate 3 Storage tank 4 Coating head 4A Discharge part 4B Supply adjustment part 7 Storage recess 8 1st through-hole (attachment through-hole)
10 Through hole for holding tank body (Mounting recess)
10A Small diameter portion 10B Large diameter portion 11 Second through hole (mounting through hole)
12 Second communication groove 14 Intermediate through hole (mounting recess)
15 3rd through hole (mounting through hole)
16 Mounting recess 17 Mounting through hole 18 Supply passage 19 Return passage 20 Tank body (tubular body)
29 Liquid mixture 30 Inlet port 31 Discharge port 40 Forced circulation flow generation mechanism 41 Motor (rotation drive source, forced circulation flow generation mechanism)
42 Rotating shaft (Forced circulation flow generation mechanism)
43 Pump mechanism (forced circulation flow generation mechanism)
48 Rotating disc (pump mechanism, forced circulation flow generation mechanism)
49 blades (pump mechanism, forced circulation flow generation mechanism)
50 Lower chamber 51 Upper chamber 52 Predetermined gap 53 Communication hole 54 Driver circuit (rotational speed adjusting means)
55 Power supply (rotational speed adjustment means)
56 Speed setter (Rotation speed adjusting means)
57 Compressed air source (pressure source)
59 Regulator (Pressure adjustment means)
60 Circulation path 61 Stirrer blade 70 Basic recess 71 Circulation flow recess 72 Baffle plate C1 First forced circulation flow
C2 Second forced circulation flow

Claims (13)

  1.  相分離傾向を示す混合液を貯留する貯留タンクと、前記混合液を吐出するための塗布ヘッドとの間に、前記混合液を循環流として流すための循環経路が介在され、該循環経路が、該貯留タンク側から該塗布ヘッド側へ前記混合液を導く供給通路と、該塗布ヘッド側から該貯留タンク側へ該混合液を導くリターン通路と、を有するように構成され、前記循環通路に対して前記循環流を強制的に作り出す強制循環流生成手段が関連付けられている塗布装置において、
     前記強制循環流生成手段が、
     前記貯留タンクの上部に取付けられる回転駆動源と、
     前記回転駆動源に連結されて前記貯留タンク内を上下方向に延びる回転軸と、
     前記貯留タンク内に前記回転軸に連結された状態で配設されて、該回転軸の回転に伴う回転が許容される状態をもって該貯留タンク内を上室と該上室の下側に位置される下室とに区画すると共に、その径方向内方部分において該上室と該下室とを連通させる連通孔を有している回転円板と、
     前記回転円板の下面に該下面から起立した状態で固定され、該回転円板の径方向内方側から径方向外方側に延びる羽根と、
    を有するように構成され、
     前記循環経路における前記供給通路の入口端が、前記貯留タンクの下室に該貯留タンクの側方側から開口されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    A circulation path for flowing the mixed liquid as a circulating flow is interposed between a storage tank for storing the mixed liquid exhibiting a phase separation tendency and an application head for discharging the mixed liquid. A supply passage that guides the liquid mixture from the storage tank side to the coating head side, and a return passage that guides the liquid mixture from the coating head side to the storage tank side. In the coating apparatus associated with the forced circulation flow generating means for forcibly generating the circulation flow,
    The forced circulation flow generating means is
    A rotational drive source attached to the top of the storage tank;
    A rotating shaft connected to the rotational drive source and extending in the vertical direction in the storage tank;
    It is disposed in the storage tank in a state of being connected to the rotating shaft, and is positioned in the upper chamber and the lower side of the upper chamber in a state in which the rotation accompanying the rotation of the rotating shaft is allowed. A rotating disk having a communication hole that communicates with the upper chamber and the lower chamber at a radially inner portion thereof.
    A blade that is fixed to the lower surface of the rotating disk in an upright state from the lower surface, and extends from the radially inner side of the rotating disk to the radially outer side;
    Is configured to have
    The inlet end of the supply passage in the circulation path is opened from the side of the storage tank to the lower chamber of the storage tank.
    An applicator characterized by that.
  2.  請求項1において、
     前記回転円板が、前記羽根が前記貯留タンクの内底面に近接するようにして配置されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 1,
    The rotating disk is arranged so that the blades are close to the inner bottom surface of the storage tank,
    An applicator characterized by that.
  3.  請求項2において、
     前記回転円板の外周面と前記貯留タンクの内周面との間に、所定の隙間があけられている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 2,
    A predetermined gap is provided between the outer peripheral surface of the rotating disk and the inner peripheral surface of the storage tank.
    An applicator characterized by that.
  4.  請求項3において、
     前記循環経路における前記リターン通路の出口端が、前記貯留タンクの上室に該貯留タンクの側方側から開口されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 3,
    The outlet end of the return passage in the circulation path is opened from the side of the storage tank to the upper chamber of the storage tank.
    An applicator characterized by that.
  5.  請求項2において、
     前記貯留タンクの底部内面に、前記回転円板の径方向内方側において、前記下室に開口する循環流導入用凹所が形成され、
     前記循環流導入用凹所内に、前記循環経路における前記リターン通路の出口端が開口されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 2,
    On the inner surface of the bottom of the storage tank, on the radially inner side of the rotating disk, a recess for circulating flow introduction that opens to the lower chamber is formed,
    An exit end of the return passage in the circulation path is opened in the circulation flow introduction recess.
    An applicator characterized by that.
  6.  請求項2において、
     基板が備えられ、
     前記基板が、その肉厚方向一方側面に形成される取付け凹所と、その肉厚方向に貫通する取付け貫通孔と、を有するものとされ、
     前記貯留タンクが、前記基板の取付け凹所に筒体の一端部を嵌合することにより構成され、
     前記塗布ヘッドが、前記取付け貫通孔を利用することにより前記基板の肉厚方向他方側に取付けられ前記混合液を吐出口側に導くための導入口が該取付け貫通孔に臨まされている吐出部と、該取付け貫通孔を利用することにより該基板の肉厚方向一方側に取付けられ前記吐出部における導入口の開閉調整を行う供給調整部と、を有するように構成され、
     前記供給通路と前記リターン通路とが、前記基板内部に形成され、
     前記供給通路は、その入口端が前記貯留タンクの下室内に開口され、その出口端が前記取付け貫通孔内に開口され、
     前記リターン通路は、その入力端が前記取付け貫通孔に開口され、その出口端が前記貯留タンク内に開口されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 2,
    A substrate is provided,
    The substrate has an attachment recess formed on one side surface in the thickness direction, and an attachment through hole penetrating in the thickness direction.
    The storage tank is configured by fitting one end of a cylindrical body into the mounting recess of the substrate,
    A discharge section in which the coating head is mounted on the other side in the thickness direction of the substrate by using the mounting through hole, and an introduction port for guiding the mixed liquid to the discharge port side faces the mounting through hole. And a supply adjustment unit that is attached to one side in the thickness direction of the substrate by using the attachment through hole and performs opening / closing adjustment of the introduction port in the discharge unit, and
    The supply passage and the return passage are formed inside the substrate;
    The supply passage has an inlet end opened in a lower chamber of the storage tank, an outlet end opened in the attachment through hole,
    The return passage has an input end opened in the attachment through hole, and an outlet end opened in the storage tank.
    An applicator characterized by that.
  7.  請求項6において、
     前記回転円板の外周面と前記貯留タンクの内周面との間に、所定の隙間があけられ、
     前記リターン通路が、前記基板の肉厚方向において、前記供給通路よりも前記筒体の他端部に近い側に配置され、
     前記リターン通路の出口端が、前記貯留タンクの上室内に該貯留タンクの側方側から開口されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 6,
    A predetermined gap is opened between the outer peripheral surface of the rotating disk and the inner peripheral surface of the storage tank,
    The return path is disposed closer to the other end of the cylindrical body than the supply path in the thickness direction of the substrate;
    The exit end of the return passage is opened from the side of the storage tank into the upper chamber of the storage tank.
    An applicator characterized by that.
  8.  請求項6において、
     前記基板における前記取付け凹所の底部に、前記回転円板の径方向内方側において、前記下室に開口する循環流導入用凹所が形成され、
     前記リターン通路が、前記基板の肉厚方向において、前記供給通路よりも前記筒体の他端部に対して遠い側に配置され、
     前記リターン通路の出口端が、前記循環流導入用凹所内に開口されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 6,
    On the bottom side of the mounting recess in the substrate, on the radially inner side of the rotating disk, a recess for circulating flow introduction that opens to the lower chamber is formed,
    The return path is disposed on the side farther from the other end of the cylinder than the supply path in the thickness direction of the substrate,
    An exit end of the return passage is opened in the recess for circulating flow introduction,
    An applicator characterized by that.
  9.  請求項7において、
     前記基板が、第1基板と、第2基板と、前記第1、第2基板との間に配置される仕切板とを積層することにより構成され、
     前記第1基板に、該第1基板の内面に形成されて前記回転円板及び前記羽根を回転可能に配置できる収納凹所と、該第1基板の肉厚方向に貫通する第1貫通孔と、該第1基板の内面に形成されて前記収納凹所と前記第1貫通孔とを連絡する第1連絡溝と、が形成され、
     前記第2基板に、前記収納凹所に対向して配置され該第2基板の外面側において前記筒体の一端部を密嵌合させる筒体保持用貫通孔と、前記第1貫通孔に対向して配置される第2貫通孔と、該第2基板の内面に形成され前記筒体保持用貫通孔と前記第2貫通孔とを連絡する第2連絡溝と、が形成され、
     前記仕切板に、前記収納凹所及び前記筒体保持用貫通孔に対向して配置されて該収納凹所及び該筒体保持用貫通孔と協働して前記取付け凹所を構成する中間貫通孔と、前記第1、第2貫通孔に対向して配置され該第1、第2貫通孔と協働して前記取付け貫通孔を構成する第3貫通孔と、が形成されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 7,
    The substrate is configured by laminating a first substrate, a second substrate, and a partition plate disposed between the first and second substrates,
    A housing recess formed in an inner surface of the first substrate and capable of rotating the rotating disk and the blades, and a first through hole penetrating in a thickness direction of the first substrate; A first communication groove formed on the inner surface of the first substrate and connecting the storage recess and the first through hole;
    A through hole for holding a cylinder, which is disposed on the second substrate so as to face the housing recess and fits one end portion of the cylinder on the outer surface side of the second substrate, and opposed to the first through hole A second through-hole disposed on the inner surface of the second substrate, and a second communication groove formed on the inner surface of the second substrate and connecting the through-hole for holding the cylinder and the second through-hole,
    An intermediate through which is disposed in the partition plate so as to face the storage recess and the through hole for holding the cylinder and forms the mounting recess in cooperation with the storage recess and the through hole for holding the cylinder A hole, and a third through hole which is disposed to face the first and second through holes and which forms the attachment through hole in cooperation with the first and second through holes, are formed.
    An applicator characterized by that.
  10.  請求項8において、
     前記基板が、第1基板と、第2基板と、前記第1、第2基板との間に配置される仕切板とを積層することにより構成され、
     前記第1基板に、該第1基板の内面に前記筒体の内径よりも縮径された状態で形成されて前記循環流導入用凹所の一部を構成する基礎凹所と、該第1基板の肉厚方向に貫通する第1貫通孔と、該第1基板の内面に形成されて前記基礎凹所と前記第1貫通孔とを連絡する第1連絡溝と、が形成され、
     前記第2基板に、前記基礎凹所よりも拡径された状態をもって同心状に配置され該第2基板の外面側において前記筒体の一端部を密嵌合させる筒体保持用貫通孔と、前記第1貫通孔に対向して配置される第2貫通孔と、該第2基板の内面に形成され前記筒体保持用貫通孔と前記第2貫通孔とを連絡する第2連絡溝と、が形成され、
     前記仕切板に、前記基礎凹所に対向しつつ同じ開口径をもって配置されて該基礎凹所と協働して前記循環流導入用凹所を構成する中間貫通孔と、前記第1、第2貫通孔に対向して配置され該第1、第2貫通孔と協働して前記取付け貫通孔を構成する第3貫通孔と、が形成されている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 8,
    The substrate is configured by laminating a first substrate, a second substrate, and a partition plate disposed between the first and second substrates,
    A basic recess formed on the inner surface of the first substrate in a state in which the inner diameter of the first substrate is smaller than an inner diameter of the cylindrical body and constituting a part of the recess for introducing the circulation flow; A first through hole penetrating in a thickness direction of the substrate, and a first communication groove formed on the inner surface of the first substrate and connecting the basic recess and the first through hole,
    A cylindrical body holding through-hole that is concentrically arranged on the second substrate with a diameter larger than that of the basic recess and tightly fits one end of the cylindrical body on the outer surface side of the second substrate; A second through hole disposed to face the first through hole, a second communication groove formed on the inner surface of the second substrate and connecting the cylindrical body holding through hole and the second through hole; Formed,
    An intermediate through hole that is disposed in the partition plate with the same opening diameter while facing the basic recess and forms the circulation flow introducing recess in cooperation with the basic recess, and the first and second A third through hole that is disposed to face the through hole and forms the mounting through hole in cooperation with the first and second through holes is formed;
    An applicator characterized by that.
  11.  請求項3において、
     前記貯留タンク内周面側に、前記回転円板の上方側において邪魔板が配設され、
     前記邪魔板が、前記貯留タンク内周面から該貯留タンクの径方向内方に向けて突出しつつ上下方向に延びている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In claim 3,
    On the inner peripheral surface side of the storage tank, a baffle plate is disposed on the upper side of the rotating disk,
    The baffle plate extends in the vertical direction while projecting from the inner peripheral surface of the storage tank toward the radially inner side of the storage tank,
    An applicator characterized by that.
  12.  請求項1~11のいずれか1項において、
     前記回転駆動源の回転数を調整する回転数調整手段と、
     前記貯留タンク内を加圧する加圧源と、
     前記貯留タンク内に対する前記加圧源の供給圧を調整する圧力調整手段と、
    を備えている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In any one of claims 1 to 11,
    A rotation speed adjusting means for adjusting the rotation speed of the rotation drive source;
    A pressurizing source for pressurizing the inside of the storage tank;
    Pressure adjusting means for adjusting the supply pressure of the pressurizing source to the storage tank;
    With
    An applicator characterized by that.
  13.  請求項1~11のいずれか1項において、
     前記回転軸に、前記上室において撹拌羽根が取付けられている、
    ことを特徴とする塗布装置。
    In any one of claims 1 to 11,
    A stirring blade is attached to the rotating shaft in the upper chamber,
    An applicator characterized by that.
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