WO2014157051A1 - Method for producing pattern structure - Google Patents

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隆 宮川
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市川 秀寿
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Abstract

This embodiment of a method for producing a pattern structure forms a lift-off material (12) on a substrate (10) using a coating device (20) having a brush (34). Next, a functional film (14) is formed on the substrate (10) and the lift-off material (12) by means of an atomic layer deposition method. Next, a pattern (14a) is formed from the functional film (14) on the substrate (10) by means of eliminating the lift-off material (12) by means of a lift-off method.

Description

パターン構造体の製造方法Method for manufacturing pattern structure
 本発明は、パターン構造体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a pattern structure.
 国際公開第2012/161051号には、インクジェット法によりリフトオフ材を基材上に形成した後、原子層堆積法により機能膜をリフトオフ材及び基材上に形成し、リフトオフ法により機能膜からパターンを形成する方法が記載されている。 In International Publication No. 2012/161051, after a lift-off material is formed on a substrate by an inkjet method, a functional film is formed on the lift-off material and the substrate by an atomic layer deposition method, and a pattern is formed from the functional film by a lift-off method. A method of forming is described.
 上記方法では、非接触のインクジェット法によりリフトオフ材を基材上に形成するので、通常のディスペンサーを用いた場合に比べ、リフトオフ材の塗布量が過大となるのを抑制するが、半面、リフトオフ材の塗布量が比較的少なくなるため、隠蔽できない部分が生じやすい。また、インクジェットプリンターの導入コスト負担があり、インクジェットプリンターからインクが好適に吐出されるようにインク設計を行なう必要がある。 In the above method, since the lift-off material is formed on the substrate by a non-contact ink jet method, the amount of application of the lift-off material is suppressed compared to the case of using a normal dispenser. Since the amount of the coating is relatively small, a portion that cannot be concealed easily occurs. In addition, there is a burden of introducing an inkjet printer, and it is necessary to design the ink so that the ink is suitably ejected from the inkjet printer.
 本発明の一実施形態は、ディスペンサー方式と比較して、リフトオフ材の塗布量を比較的少なくすることができると共に、インクジェット方式のように設備投資負担がない簡便な設備で、且つ、インクジェット方式のような複雑なインク設計を必要とせず、リフトオフ材の厚みの均一性を高めることができるパターン構造体の製造方法を提供することを目的とする。 One embodiment of the present invention is capable of relatively reducing the amount of lift-off material applied as compared with a dispenser method, and is a simple facility that does not have a capital investment burden as in the ink jet method, and is an ink jet method. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a pattern structure that can increase the thickness uniformity of the lift-off material without requiring such a complicated ink design.
 本発明の一側面に係るパターン構造体の製造方法は、接触式塗布部を有する塗布装置を用いて基材上にリフトオフ材を形成する工程と、前記基材及び前記リフトオフ材上に、原子層堆積法により機能膜を形成する工程と、リフトオフ法により前記リフトオフ材を除去することによって、前記基材上に、前記機能膜からパターンを形成する工程と、を含む。 The pattern structure manufacturing method according to one aspect of the present invention includes a step of forming a lift-off material on a base material using a coating apparatus having a contact-type coating portion, and an atomic layer on the base material and the lift-off material. Forming a functional film by a deposition method, and forming a pattern from the functional film on the substrate by removing the lift-off material by a lift-off method.
 この方法では、接触式塗布部を有する塗布装置を用いているので、基材上に塗布されるリフトオフ材の塗布量を比較的少なくすることができると共に、リフトオフ材の厚みの均一性を高めることができる。 In this method, since a coating apparatus having a contact-type coating unit is used, the amount of lift-off material applied on the substrate can be relatively reduced, and the thickness uniformity of the lift-off material can be increased. Can do.
 前記接触式塗布部が前記基材に接触することにより、前記塗布装置が変形可能であってもよい。 The coating device may be deformable when the contact-type coating unit contacts the substrate.
 この場合、接触式塗布部が基材に接触して塗布装置が変形することによって、接触式塗布部から基材に加わる圧力が小さくなる。そのため、接触式塗布部が基材に与えるダメージを小さくすることができる。 In this case, the pressure applied to the base material from the contact-type coating portion is reduced by the contact-type coating portion contacting the base material and the coating device being deformed. Therefore, the damage which a contact-type application part gives to a base material can be made small.
 前記接触式塗布部が筆を備えてもよい。 The contact-type application unit may include a brush.
 この場合、接触式塗布部が基材に与えるダメージをより小さくすることができる。また、塗布面積が可変になる。 In this case, damage to the base material by the contact-type application part can be further reduced. Further, the application area becomes variable.
 前記リフトオフ材が、樹脂と溶媒とを含むインクを前記基材上に塗布した後、前記溶媒を除去することによって形成されてもよい。 The lift-off material may be formed by applying an ink containing a resin and a solvent on the substrate and then removing the solvent.
 前記基材が凸部を有し、前記リフトオフ材が、前記凸部上に形成されてもよい。 The base material may have a convex portion, and the lift-off material may be formed on the convex portion.
 前記基材が、ポリマーフィルムであってもよい。 The base material may be a polymer film.
 低温プロセスでは、ポリマーフィルムを用いることができる。その結果、各種デバイス、フレキシブルプリント配線基板(FPC)を低コストで製造することができる。 In the low temperature process, a polymer film can be used. As a result, various devices and flexible printed wiring boards (FPC) can be manufactured at low cost.
 前記リフトオフ材が、溶媒に可溶な材料を含んでもよい。 The lift-off material may include a solvent-soluble material.
 この場合、溶媒によってリフトオフ材を簡単に除去することができる。 In this case, the lift-off material can be easily removed with a solvent.
 前記パターンを形成した後、前記リフトオフ材を形成する工程に戻ってもよい。 After forming the pattern, the process may return to the step of forming the lift-off material.
 これにより、パターン形成を繰り返すことによって、複数のパターンを基材上に積層させることができる。 Thereby, a plurality of patterns can be laminated on the substrate by repeating pattern formation.
 本発明の一実施形態によれば、リフトオフ材の塗布量を比較的少なくすることができると共に、リフトオフ材の厚みの均一性を高めることができるパターン構造体の製造方法が提供され得る。 According to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a pattern structure that can reduce the coating amount of the lift-off material and can increase the uniformity of the thickness of the lift-off material.
実施形態に係るパターン構造体の製造方法の各工程を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each process of the manufacturing method of the pattern structure concerning an embodiment. 接触式塗布部を有する塗布装置の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the coating device which has a contact-type application part. 図2のIII-III線に沿った塗布装置の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line III-III in FIG. 2. 図2の塗布装置の塗布具を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the applicator of the coating device of FIG. 図4のV-V線に沿った塗布具の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the applicator along the line VV in FIG. 4. 図2の塗布装置のホルダーを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the holder of the coating device of FIG. 図6のVII-VII線に沿ったホルダーの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the holder along the line VII-VII in FIG. 6. 変形した図2の塗布装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the apply | coating apparatus of FIG. 2 which deform | transformed. 接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the coating device which has a contact-type application part. 変形した図9の塗布装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the apply | coating apparatus of FIG. 9 which deform | transformed. 接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the coating device which has a contact-type application part. 図11のXII-XII線に沿った塗布装置の断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line XII-XII in FIG. 11. 図11の塗布装置の塗布具を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the applicator of the coating device of FIG. 図13のXIV-XIV線に沿った塗布具の断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view of the applicator along the line XIV-XIV in FIG. 13. 変形した図11の塗布装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the apply | coating apparatus of FIG. 11 which deform | transformed. 接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the coating device which has a contact-type application part. 変形した図16の塗布装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the apply | coating apparatus of FIG. 16 which deform | transformed. 接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the coating device which has a contact-type application part. 変形した図18の塗布装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the apply | coating apparatus of FIG. 18 which deform | transformed. 塗布具の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of an applicator. 図20のXXI-XXI線に沿った塗布具の断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view of the applicator along the XXI-XXI line in FIG. 20. 図20の塗布具の一部を模式的に示す図である。It is a figure which shows a part of applicator of FIG. 20 typically. 接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the coating device which has a contact-type application part. 図23のXXIV-XXIV線に沿った塗布装置の断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line XXIV-XXIV in FIG. 23. 図23の塗布装置の塗布具を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the applicator of the coating device of FIG. 図25のXXVI-XXVI線に沿った塗布具の断面図である。FIG. 26 is a cross-sectional view of the applicator along the line XXVI-XXVI in FIG. 25. 接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of the coating device which has a contact-type application part. 図27のXXVIII-XXVIII線に沿った塗布装置の断面図である。It is sectional drawing of the coating device along the XXVIII-XXVIII line of FIG. 分解した図27の塗布装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the coating device of FIG. 27 which decomposed | disassembled. 接触式塗布部の形状の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the example of the shape of a contact-type application part.
 以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態が詳細に説明される。図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号が用いられ、重複する説明は省略される。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are used for the same or equivalent elements, and redundant descriptions are omitted.
 図1は、実施形態に係るパターン構造体の製造方法の各工程を模式的に示す図である。本実施形態に係るパターン構造体の製造方法は、例えば以下のように実施される。 FIG. 1 is a diagram schematically showing each step of the method for manufacturing a pattern structure according to the embodiment. The manufacturing method of the pattern structure according to the present embodiment is performed as follows, for example.
(リフトオフ材形成工程)
 まず、図1(a)に示されるように、接触式塗布部としての筆34を有する塗布装置20を用いて基材上にリフトオフ材12を形成する。塗布装置20は、例えばディスペンサ装置である。塗布装置20は、筆34を有する塗布具30と、塗布具30がはめ込まれるホルダー40とを備えてもよい。塗布具30は例えばペン体である。塗布装置20の詳細な構造については後述する。
(Lift-off material formation process)
First, as shown in FIG. 1A, a lift-off material 12 is formed on a base material using a coating apparatus 20 having a brush 34 as a contact-type coating unit. The coating device 20 is, for example, a dispenser device. The applicator 20 may include an applicator 30 having a brush 34 and a holder 40 into which the applicator 30 is fitted. The applicator 30 is, for example, a pen body. The detailed structure of the coating apparatus 20 will be described later.
 基材10は凸部10aを有してもよい。リフトオフ材12は、凸部10a上に形成されてもよい。凸部10aは、基材10の表面10bに沿って第1の方向Yに延びている。リフトオフ材12は、基材10の表面10bに沿って第1の方向Yと交差する第2の方向Xに延びるように形成されてもよい。第1の方向Yは、第2の方向Xと直交してもよい。第2の方向Xに垂直な面におけるリフトオフ材12の断面形状は例えば矩形であるが、断面形状はこれに限定されない。第1の方向Yに垂直な面における凸部10aの断面形状は例えば矩形であるが、断面形状はこれに限定されない。凸部10aは、基材10と一体でもよいし、別体でもよい。凸部10aの幅をL、高さをhとしたときに、h/Lは100以下であってもよく、10以下であってもよい。隣接する凸部10a間の距離をWとしたときに、W/hは100以下であってもよく、10以下であってもよい。 The base material 10 may have the convex part 10a. The lift-off material 12 may be formed on the convex portion 10a. The convex portion 10 a extends in the first direction Y along the surface 10 b of the base material 10. The lift-off material 12 may be formed to extend in the second direction X that intersects the first direction Y along the surface 10 b of the substrate 10. The first direction Y may be orthogonal to the second direction X. The cross-sectional shape of the lift-off material 12 in the plane perpendicular to the second direction X is, for example, a rectangle, but the cross-sectional shape is not limited to this. The cross-sectional shape of the convex portion 10a on the surface perpendicular to the first direction Y is, for example, a rectangle, but the cross-sectional shape is not limited to this. The convex portion 10a may be integrated with the base material 10, or may be a separate body. When the width of the protrusion 10a is L and the height is h, h / L may be 100 or less, or 10 or less. When the distance between adjacent convex portions 10a is W, W / h may be 100 or less, or 10 or less.
 基材10は、例えばガラス基板、シリコン基板、ポリマーフィルム、フレキシブル基材又はこれらの組み合わせ等であってもよい。低温プロセスでは、基材10としてポリマーフィルムを用いることができる。その結果、例えばフレキシブルプリント配線基板(FPC)を低コストで製造することができる。基材10は、例えばポリイミドフィルム等の熱硬化性フィルム、例えばポリプロピレンフィルム等の熱可塑性樹脂フィルム、透明ポリエステル基材であってもよい。 The base material 10 may be, for example, a glass substrate, a silicon substrate, a polymer film, a flexible base material, or a combination thereof. In the low temperature process, a polymer film can be used as the substrate 10. As a result, for example, a flexible printed circuit board (FPC) can be manufactured at low cost. The base material 10 may be a thermosetting film such as a polyimide film, a thermoplastic resin film such as a polypropylene film, or a transparent polyester base material.
 リフトオフ材12は、溶媒に可溶な材料を含んでもよい。この場合、後述するパターン形成工程(図1(c)参照)において、溶媒によってリフトオフ材12を簡単に除去することができる。 The lift-off material 12 may include a material soluble in a solvent. In this case, the lift-off material 12 can be easily removed with a solvent in a pattern forming step (see FIG. 1C) described later.
 溶媒としては、例えば、水、有機溶剤等が挙げられる。有機溶剤は、水溶性有機溶剤であってもよいし、水溶性有機溶剤に相溶する有機溶剤であってもよい。溶媒は、例えば、水と、水に無限に又は一部可溶する有機溶剤との混合物であってもよい。または、溶媒は、水に不溶な有機溶剤を単独又は2種以上混合したものでもよい。有機溶剤としては、例えば、アルコール、グリコール、多価アルコール、ケトン類、ピロリドン類、グリコールエーテル類、グリコールジエーテル類、アルキレングリコール類、アルキルエーテル類及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。有機溶剤は、例えば、アルコール類、多価アルコール類、グリコールエーテル類、炭化水素類等であってもよい。アルコール類としては、例えば、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブチルアルコール、1-ペンタノール、イソアミルアルコール、sec-アミルアルコール、3-ペンタノール、tert-アミルアルコール、n-ヘキサノール、メチルアミルアルコール、2-エチルブタノール、n-ヘプタノール、2-ヘプタノール、3-ヘプタノール、n-オクタノール、2-オクタノール、2-エチルヘキサノール、3,5,5-トリメチルヘキサノール、ノナノール、n-デカノール、ウンデカノール、n-デカノール、トリメチルノニルアルコール、テトラデカノール、ヘプタデカノール、シクロヘキサノール、2-メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、2-フェノキシエタノー等が挙げられる。多価アルコール類としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。グリコールエーテル類としては、例えば、メチルイソプロピルエーテル、エチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ヘキシルエーテル、2-エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノ-2-エチルブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、3-メチル-3-メトキシ-1-ブタノール、3-メトキシ-1-ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。炭化水素類としては、例えば、シクロヘキサン、キシレン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。 Examples of the solvent include water and organic solvents. The organic solvent may be a water-soluble organic solvent or an organic solvent compatible with the water-soluble organic solvent. The solvent may be, for example, a mixture of water and an organic solvent that is infinitely or partially soluble in water. Alternatively, the solvent may be an organic solvent insoluble in water or a mixture of two or more. Examples of the organic solvent include alcohols, glycols, polyhydric alcohols, ketones, pyrrolidones, glycol ethers, glycol diethers, alkylene glycols, alkyl ethers, and mixed solvents thereof. The organic solvent may be, for example, alcohols, polyhydric alcohols, glycol ethers, hydrocarbons and the like. Examples of alcohols include ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butyl alcohol, 1-pentanol, isoamyl alcohol, sec-amyl alcohol, 3-pentanol, tert-amyl alcohol, n-hexanol, methyl amyl alcohol, 2-ethylbutanol, n-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, n-octanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, 3,5,5-trimethylhexanol, nonanol, n -Decanol, undecanol, n-decanol, trimethylnonyl alcohol, tetradecanol, heptadecanol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, etc. It is. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, 3-methyl-1,3-butanediol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, Examples include 1,5-pentanediol, hexylene glycol, octylene glycol, glycerin and the like. Examples of glycol ethers include methyl isopropyl ether, ethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, isopropyl ether, butyl ether, hexyl ether, 2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol mono -2-Ethylbutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, 3- Tyl-3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-1-butanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol phenyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether , Dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, tetrapropylene glycol monobutyl ether, and the like. Examples of hydrocarbons include cyclohexane, xylene, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and the like.
 リフトオフ材12は、例えば樹脂を含む。樹脂としては、例えば、上記溶媒に可溶な材料が挙げられる。樹脂としては、例えば、ケトン樹脂、スルホアミド樹脂、マレイン酸樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、エステルガム、キシレン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ロジン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、セルロース系樹脂等の天然及び合成樹脂の1種又は2種以上を用いることができる。樹脂は、例えばセルロース系(カルボキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース)、合成ポリマー系(ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール、酢酸ビニル-ビニルピロリドン共重合体)等であってもよい。これらの中でも、ポリビニルアセタール、酢酸ビニル-ビニルピロリドン共重合体が特に好ましい。 The lift-off material 12 includes, for example, a resin. Examples of the resin include materials that are soluble in the solvent. Examples of the resin include ketone resin, sulfoamide resin, maleic acid resin, terpene resin, terpene phenol resin, ester gum, xylene resin, alkyd resin, phenol resin, rosin, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, acrylic resin, One kind or two or more kinds of natural and synthetic resins such as melamine resin and cellulose resin can be used. Examples of the resin include cellulose (carboxyl cellulose, hydroxyethyl cellulose), synthetic polymer (sodium polyacrylate, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyethylene imine, polyethylene oxide, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl acetal, vinyl acetate-vinyl pyrrolidone copolymer). Etc. Among these, polyvinyl acetal and vinyl acetate-vinyl pyrrolidone copolymer are particularly preferable.
 リフトオフ材12は、非硬化型の樹脂を含んでもよい。この場合、硬化することなく溶媒を揮発させるだけで、低温でリフトオフ材12を形成することができる。樹脂のガラス転移温度(Tg)は例えば100℃以下である。この場合、樹脂のガラス転移温度(Tg)以上の温度にリフトオフ材12を加熱することによって、リフトオフ材12の表面の応力が緩和され、表面形状が変化する。その結果、リフトオフが更に容易になる。 The lift-off material 12 may include a non-curing resin. In this case, the lift-off material 12 can be formed at a low temperature simply by volatilizing the solvent without curing. The glass transition temperature (Tg) of the resin is, for example, 100 ° C. or less. In this case, by heating the lift-off material 12 to a temperature equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the resin, the stress on the surface of the lift-off material 12 is relieved and the surface shape changes. As a result, lift-off is further facilitated.
 リフトオフ材12は、塗膜の識別のための色材を含んでもよい。色材としては、染料、顔料分散体、UV照射等により発光する材料(例えば蛍光材料、蓄光材料)等が挙げられる。 The lift-off material 12 may include a color material for identifying the coating film. Examples of the color material include dyes, pigment dispersions, and materials that emit light by UV irradiation or the like (for example, fluorescent materials and phosphorescent materials).
 リフトオフ材12は、その他任意の材料を含んでもよい。リフトオフ材12は、例えば、防錆剤、防腐剤、PH調整剤、界面活性剤、保湿剤、糖類、天然多糖類等を含んでもよい。防錆剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、ジシクロへキシルアンモニウムナイトライト等が挙げられる。防腐剤としては、例えば、フェノール、ナトリウムオマジン、安息香酸ナトリウム、ベンズイミダゾール系化合物等が挙げられる。PH調整剤としては、例えば、トリエタノールアミン、アミノメチルプロパノール等が挙げられる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系、アセチレングリコール系、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ショ糖エステル等が挙げられる。保湿剤としては、例えば、尿素等が挙げられる。糖類としては、例えば、単糖類、二糖類、オリゴ糖、デキストリン、デンプン分解物等が挙げられる。天然多糖類としては、例えば、キサンタンガム、サクシノグリカン、ウェランガム、カラギーナン等が挙げられる。 The lift-off material 12 may include any other material. The lift-off material 12 may include, for example, a rust preventive, a preservative, a pH adjuster, a surfactant, a moisturizer, a saccharide, a natural polysaccharide, and the like. Examples of the rust preventive include benzotriazole, tolyltriazole, dicyclohexylammonium nitrite and the like. Examples of the preservative include phenol, sodium omadin, sodium benzoate, and benzimidazole compounds. Examples of the pH adjuster include triethanolamine and aminomethylpropanol. Examples of the surfactant include fluorine-based, acetylene glycol-based, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl ester, and sucrose ester. Examples of the humectant include urea. Examples of the saccharide include monosaccharides, disaccharides, oligosaccharides, dextrin, and starch degradation products. Examples of natural polysaccharides include xanthan gum, succinoglycan, welan gum, and carrageenan.
 リフトオフ材12は、硬化プロセスが不要な材料からなってもよい。基材10の表面10bからのリフトオフ材12の高さ(リフトオフ材12の厚み)は、例えば1~500μmである。 The lift-off material 12 may be made of a material that does not require a curing process. The height of the lift-off material 12 from the surface 10b of the base material 10 (the thickness of the lift-off material 12) is, for example, 1 to 500 μm.
 リフトオフ材12は、例えば樹脂と溶媒とを含むインクを基材10上に塗布した後、溶媒を乾燥除去することによって形成される。インクは任意の添加剤等を含んでもよい。インクの溶媒を除去する際に、必ずしも全ての溶媒を除去する必要はない。すなわち、溶媒は、リフトオフ材12中に残存してもよい。溶媒の除去方法としては、例えば、揮発性溶剤の自然乾燥、熱風乾燥等が挙げられる。 The lift-off material 12 is formed by, for example, applying an ink containing a resin and a solvent on the substrate 10 and then removing the solvent by drying. The ink may contain an optional additive. When removing the ink solvent, it is not always necessary to remove all the solvent. That is, the solvent may remain in the lift-off material 12. Examples of the solvent removal method include natural drying of a volatile solvent, hot air drying, and the like.
 インクの粘度は、例えば塗布装置20からインクが好適に吐出される粘度である。インクの粘度は、25℃、せん断速度3.8s-1において、例えば1~1000mPa・sである。1000mPa・sを超える高粘度を有するインク又はチキソトロピー性を有するインクであっても、加温したり、加圧したりしてインクを吐出させることができる。 The viscosity of the ink is a viscosity at which the ink is suitably ejected from the coating device 20, for example. The viscosity of the ink is, for example, 1 to 1000 mPa · s at 25 ° C. and a shear rate of 3.8 s −1 . Even an ink having a high viscosity exceeding 1000 mPa · s or an ink having thixotropy can be heated or pressurized to eject the ink.
(成膜工程)
 次に、図1(b)に示されるように、基材10及びリフトオフ材12上に、原子層堆積法により機能膜14を形成する。例えば、まず、機能膜14の第1原料を基材10及びリフトオフ材12上に供給した後、パージガスを供給する。その後、例えば酸化剤等の第2原料を基材10及びリフトオフ材12上に供給した後、パージガスを供給する。このようなサイクルを繰り返すことにより、機能膜14が形成される。
(Film formation process)
Next, as shown in FIG. 1B, a functional film 14 is formed on the base material 10 and the lift-off material 12 by an atomic layer deposition method. For example, first, the first raw material of the functional film 14 is supplied onto the base material 10 and the lift-off material 12, and then the purge gas is supplied. Thereafter, a second raw material such as an oxidant is supplied onto the base material 10 and the lift-off material 12, and then a purge gas is supplied. By repeating such a cycle, the functional film 14 is formed.
 原子層堆積法を用いると、広い面積において機能膜14の膜厚均一性を高めることができると共に、3次元的なコンフォーマリティを有する化学量論組成の機能膜14を形成することができる。また、機能膜14の膜厚を高精度に制御することができる。さらに、ダスト粒子が存在する場合であっても、ダスト粒子の陰になる場所において機能膜14が形成されるので、ダスト粒子の影響を比較的受けにくい。 When the atomic layer deposition method is used, it is possible to improve the film thickness uniformity of the functional film 14 over a wide area, and to form the functional film 14 having a stoichiometric composition having a three-dimensional conformality. In addition, the film thickness of the functional film 14 can be controlled with high accuracy. Furthermore, even when dust particles are present, the functional film 14 is formed in a place that is in the shadow of the dust particles, so that it is relatively difficult to be affected by the dust particles.
 機能膜14は、例えば導体膜、半導体膜、絶縁膜、無機膜、有機膜、ナノ積層膜、複合酸化物膜、金属酸化膜又はこれらの組み合わせ等であってもよい。機能膜14が金属を含む場合、そのような金属としては、例えばアルミニウム、銅、ハフニウム、ルテニウム、タンタル、チタン、タングステン、亜鉛、ジルコニウム等が挙げられる。機能膜14の第1原料としては、例えばTMA(AL(CH)、TDMAH(Hf[N(CH)、Ru(C-C、(CHCN=Ta(N(C、TDMAT(Ti[N(CH)、((CHCN)W(N(CH、Zn(C、TDMAZ(Zr[N(CH)等をそれぞれ用いることができる。機能膜14は、ITO膜であってもよい。機能膜14は、例えばSiO又はAl等からなるパッシベーション膜であってもよい。機能膜14は、例えばZnO半導体、IGZO半導体等からなる半導体膜であってもよい。 The functional film 14 may be, for example, a conductor film, a semiconductor film, an insulating film, an inorganic film, an organic film, a nanolaminate film, a composite oxide film, a metal oxide film, or a combination thereof. When the functional film 14 contains a metal, examples of such a metal include aluminum, copper, hafnium, ruthenium, tantalum, titanium, tungsten, zinc, and zirconium. As the first raw material of the functional film 14, for example, TMA (AL (CH 3 ) 3 ), TDMAH (Hf [N (CH 3 ) 2 ] 4 ), Ru (C 5 H 4 —C 2 H 5 ) 2 , ( CH 3 ) 3 CN = Ta (N (C 2 H 5 ) 2 ) 3 , TDMAT (Ti [N (CH 3 ) 2 ] 4 ), ((CH 3 ) 3 CN) 2 W (N (CH 3 ) 2 ) 2 , Zn (C 2 H 5 ) 2 , TDMAZ (Zr [N (CH 3 ) 2 ] 4 ), or the like can be used. The functional film 14 may be an ITO film. The functional film 14 may be a passivation film made of, for example, SiO 2 or Al 2 O 3 . The functional film 14 may be a semiconductor film made of, for example, a ZnO semiconductor or an IGZO semiconductor.
(パターン形成工程)
 次に、図1(c)に示されるように、リフトオフ法によりリフトオフ材12を除去することによって、基材10上に、機能膜14からパターン14aを形成する。これにより、パターン構造体100が製造される。リフトオフ材12は、溶媒を用いて除去されてもよい。溶媒を用いる前に、機能膜14の表面に傷又は穴を形成してもよい。機能膜14の表面に傷又は穴を形成する方法として、例えば、レーザー、超音波、ウォータージェット、ドライアイスブラスト、及びリフトオフ材12と基材10との熱膨張係数の差のうち少なくとも1つが挙げられる。リフトオフ材12と基材10との熱膨張係数の差を用いる場合、熱又は光(例えば紫外線)によりリフトオフ材12を可溶化させることにより、リフトオフ材12を除去することができる。パターン14aを形成した後、上記リフトオフ材形成工程に戻ってもよい。これにより、パターン形成を繰り返すことによって、複数のパターン14aを基材10上に積層させることができる。複数のパターン14aは互いに異なってもよい。パターン14aは、配線パターンであってもよい。
(Pattern formation process)
Next, as shown in FIG. 1C, a pattern 14 a is formed from the functional film 14 on the substrate 10 by removing the lift-off material 12 by a lift-off method. Thereby, the pattern structure 100 is manufactured. The lift-off material 12 may be removed using a solvent. Scratches or holes may be formed on the surface of the functional film 14 before using the solvent. Examples of the method of forming scratches or holes on the surface of the functional film 14 include at least one of laser, ultrasonic wave, water jet, dry ice blast, and the difference in thermal expansion coefficient between the lift-off material 12 and the substrate 10. It is done. When using the difference in thermal expansion coefficient between the lift-off material 12 and the substrate 10, the lift-off material 12 can be removed by solubilizing the lift-off material 12 with heat or light (for example, ultraviolet rays). You may return to the said lift-off material formation process after forming the pattern 14a. Thereby, the several pattern 14a can be laminated | stacked on the base material 10 by repeating pattern formation. The plurality of patterns 14a may be different from each other. The pattern 14a may be a wiring pattern.
 パターン構造体100は、例えば、集積回路、ディスプレイ、太陽電池、撮像装置、センサ、半導体デバイス、電子デバイス、光学デバイス、有機EL素子、無機EL素子、薄膜トランジスタ(TFT)、シフトレジスタ、プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板(FPC)又はこれらの組み合わせ等であってもよい。FPCの場合、基材10として透明ポリエステル基材を用い、パターン14aとしてビット線回路の配線を用い、例えばインクジェット法、スクリーン印刷法等により形成されたワード線回路の配線を用いることができる。TFTの場合、パターン構造体100はシフトレジスタを更に備えてもよく、基材10の幅は300mm以上、長さは2000mm以上と大面積であってもよい。有機EL素子の場合、パターン14aとして有機EL層を用いることができる。 The pattern structure 100 includes, for example, an integrated circuit, a display, a solar cell, an imaging device, a sensor, a semiconductor device, an electronic device, an optical device, an organic EL element, an inorganic EL element, a thin film transistor (TFT), a shift register, a printed wiring board, A flexible printed circuit board (FPC) or a combination thereof may be used. In the case of FPC, a transparent polyester base material is used as the base material 10, and a bit line circuit wiring is used as the pattern 14a. For example, a word line circuit wiring formed by an inkjet method, a screen printing method, or the like can be used. In the case of a TFT, the pattern structure 100 may further include a shift register, and the base material 10 may have a large area with a width of 300 mm or more and a length of 2000 mm or more. In the case of an organic EL element, an organic EL layer can be used as the pattern 14a.
 本実施形態に係るパターン構造体の製造方法では、筆34を有する塗布装置20を用いているので、基材10上に塗布されるリフトオフ材12の塗布量を比較的少なくすることができると共に、リフトオフ材12の厚みの均一性を高めることができる。その結果、薄くて均一な厚みを有するリフトオフ材12を形成することができる。さらに、リフトオフ材12が形成される位置を高精度に制御することができる。 In the pattern structure manufacturing method according to the present embodiment, since the coating apparatus 20 having the brush 34 is used, the amount of the lift-off material 12 applied on the base material 10 can be relatively reduced, The uniformity of the thickness of the lift-off material 12 can be improved. As a result, the lift-off material 12 having a thin and uniform thickness can be formed. Furthermore, the position where the lift-off material 12 is formed can be controlled with high accuracy.
 また、原子層堆積法では、通常の成膜方法に比べて低温(例えば室温~400℃)で機能膜14を形成可能である。リフトオフ法では、通常のフォトリソグラフィー法に比べて低温かつ低コストでパターン14aを形成可能である。したがって、熱により損傷を受け易い基材10(例えばポリマーフィルム)を用いることができる。また、通常の原子層堆積法では適用が難しいリフトオフ法によって、パターン構造体100を製造することができる。 In addition, in the atomic layer deposition method, the functional film 14 can be formed at a lower temperature (for example, room temperature to 400 ° C.) than a normal film formation method. In the lift-off method, the pattern 14a can be formed at a lower temperature and at a lower cost than in a normal photolithography method. Therefore, the base material 10 (for example, a polymer film) that is easily damaged by heat can be used. Further, the pattern structure 100 can be manufactured by a lift-off method that is difficult to apply by a normal atomic layer deposition method.
 さらに、原子層堆積法では、低い圧力でプロセスを行うことができるので、リフトオフ材の塗布及びリフトオフ法との連続プロセスが可能になる。また、基材10を巻いてロールを形成する、いわゆるロールトゥーロール(Roll-to-Roll)プロセスが可能になる。 Furthermore, in the atomic layer deposition method, since the process can be performed at a low pressure, the continuous process with the application of the lift-off material and the lift-off method becomes possible. In addition, a so-called roll-to-roll process in which the substrate 10 is wound to form a roll becomes possible.
 図2は、接触式塗布部を有する塗布装置の一例を模式的に示す図である。図3は、図2のIII-III線に沿った塗布装置の断面図である。図2及び図3に示される塗布装置20は、図4及び図5に示される塗布具30と、図6及び図7に示されるホルダー40とを備える。 FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. FIG. 3 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line III-III in FIG. The applicator 20 shown in FIGS. 2 and 3 includes an applicator 30 shown in FIGS. 4 and 5 and a holder 40 shown in FIGS. 6 and 7.
 塗布具30は、軸体31と、貯蔵体32と、中継芯33と、筆34と、ホルダー部材35と、尾栓36とを備える。軸体31は例えば円筒形状を有する。軸体31内には、例えば中綿等の貯蔵体32が収容される。貯蔵体32は、毛管作用によってインクを繊維束内に貯蔵可能である。軸体31の前部及び後部には開口が形成されている。軸体31の前部に形成された開口には中継芯33の後部が挿入されている。軸体31の後部に形成された開口は尾栓36によって封止されている。中継芯33の前部は、筆34の後部に接続されている。筆34の後部は、中継芯33に接続されたホルダー部材35によって保持されている。筆34の前部は、ホルダー部材35から外側に突出している。貯蔵体32中のインクは、中継芯33及び筆34を通って基材10上に供給される。 The applicator 30 includes a shaft body 31, a storage body 32, a relay core 33, a brush 34, a holder member 35, and a tail plug 36. The shaft body 31 has, for example, a cylindrical shape. A storage body 32 such as a batting is accommodated in the shaft body 31. The storage body 32 can store ink in the fiber bundle by capillary action. Openings are formed in the front and rear portions of the shaft body 31. The rear portion of the relay core 33 is inserted into the opening formed in the front portion of the shaft body 31. An opening formed in the rear portion of the shaft body 31 is sealed by a tail plug 36. The front part of the relay core 33 is connected to the rear part of the brush 34. The rear part of the brush 34 is held by a holder member 35 connected to the relay core 33. The front portion of the brush 34 projects outward from the holder member 35. The ink in the storage body 32 is supplied onto the substrate 10 through the relay core 33 and the brush 34.
 筆34は、多数の繊維を備える。筆34の繊維は、筆34の後部においてリング状部材134に溶着されている。筆34としては、例えば丸筆、平筆、はけ等が挙げられる。 The brush 34 includes a large number of fibers. The fibers of the brush 34 are welded to the ring-shaped member 134 at the rear part of the brush 34. Examples of the brush 34 include a round brush, a flat brush, and a brush.
 筆34の繊維としては、例えば、合成樹脂繊維、獣毛等が挙げられる。合成樹脂繊維の材料としては、例えば、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン6、ナイロン610、ナイロン612等のポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリフェニレン系樹脂、ポリビニル系樹脂等が挙げられる。獣毛としては、例えば、馬、イタチ、たぬき、リス等の毛が挙げられる。 Examples of the fibers of the brush 34 include synthetic resin fibers and animal hair. Examples of the synthetic resin fiber material include polyester resins such as polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polymethylene terephthalate, and polybutylene naphthalate, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, nylon 6, nylon 610, and nylon 612. Examples include polyamide resins, acrylic resins, polyurethane resins, polyacetal resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyphenylene resins, and polyvinyl resins. Examples of animal hair include horse, weasel, raccoon dog, and squirrel hairs.
 筆34の繊維は、例えば、太さが一定なストレート形状、末端に向かって断面積が小さくなるテーパー形状、巻き毛(クリンプ)形状等を有する。筆34の繊維の断面は、円形でもよいし、多角形でもよい。筆34の繊維は、三角形、星形、クローバ型等の異形断面形状を有してもよい。この場合、繊維間に多くの微小な空隙を形成することができる。 The fibers of the brush 34 have, for example, a straight shape with a constant thickness, a tapered shape whose cross-sectional area decreases toward the end, a curly shape (crimp) shape, and the like. The cross section of the fiber of the brush 34 may be circular or polygonal. The fibers of the brush 34 may have a modified cross-sectional shape such as a triangle, a star, or a clover. In this case, many minute voids can be formed between the fibers.
 筆34の繊維の直径は例えば0.05~0.3mmである。筆34の繊維の長さは例えば5~100mmである。 The diameter of the fiber of the brush 34 is, for example, 0.05 to 0.3 mm. The length of the fibers of the brush 34 is, for example, 5 to 100 mm.
 ホルダー40は、ホルダー本体41と、固定部材42と、蓋体43とを備える。塗布具30は、ホルダー本体41内に挿入される。ホルダー本体41は、例えば、軸体31と同軸の円筒形状を有する。ホルダー本体41の前部及び後部には開口が形成されている。ホルダー本体41の前部に形成された開口には、塗布具30を固定するための固定部材42が接続されている。ホルダー本体41の後部に形成された開口は蓋体43によって封止されている。 The holder 40 includes a holder main body 41, a fixing member 42, and a lid 43. The applicator 30 is inserted into the holder main body 41. The holder main body 41 has, for example, a cylindrical shape that is coaxial with the shaft body 31. Openings are formed in the front and rear portions of the holder body 41. A fixing member 42 for fixing the applicator 30 is connected to the opening formed in the front portion of the holder main body 41. The opening formed in the rear part of the holder body 41 is sealed with a lid 43.
 図8は、変形した図2の塗布装置を模式的に示す図である。図8に示されるように、筆34は、基材10に接触することにより、変形可能である。そのため、筆34から基材10に加わる圧力が小さくなる。よって、筆34が基材10に与えるダメージを小さくすることができる。また、例えば筆34の形状、筆34を基材10に押し付ける力等を変えることによって、インクの塗布面積を変えることができる。さらに、基材10の表面10bの法線方向において塗布装置20に位置ずれが生じても、筆34が変形することによって、位置ずれを補正することができる。 FIG. 8 is a diagram schematically showing the deformed coating apparatus of FIG. As shown in FIG. 8, the brush 34 can be deformed by contacting the substrate 10. Therefore, the pressure applied to the base material 10 from the brush 34 becomes small. Therefore, the damage which the brush 34 gives to the base material 10 can be made small. For example, the ink application area can be changed by changing the shape of the brush 34, the force with which the brush 34 is pressed against the substrate 10, and the like. Furthermore, even if a positional deviation occurs in the coating apparatus 20 in the normal direction of the surface 10b of the substrate 10, the positional deviation can be corrected by the deformation of the brush 34.
 図9は、接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。図9に示される塗布装置20aは、塗布具30aとホルダー40とを備える。塗布具30aは、筆34に代えてペン芯34aを備え、ホルダー部材35に代えて先軸32aを備えること以外は塗布具30と同様の構造を備える。ペン芯34aは、先軸32aによって保持されている。ペン芯34aは、例えば気孔を有する弾性部材である。弾性部材の材料としては、例えばエラストマー、ゴム、スポンジ等が挙げられる。塗布具30a中のインクは、ペン芯34aを通って基材10上に供給される。 FIG. 9 is a diagram schematically illustrating another example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. The applicator 20a shown in FIG. 9 includes an applicator 30a and a holder 40. The applicator 30a has a structure similar to that of the applicator 30 except that it includes a pen core 34a instead of the brush 34 and a front shaft 32a instead of the holder member 35. The pen core 34a is held by the tip shaft 32a. The pen core 34a is an elastic member having pores, for example. Examples of the material of the elastic member include elastomer, rubber, sponge, and the like. The ink in the applicator 30a is supplied onto the substrate 10 through the pen core 34a.
 図10は、変形した図9の塗布装置を模式的に示す図である。図10に示されるように、ペン芯34aは、基材10に接触することにより、弾性変形可能である。そのため、ペン芯34aから基材10に加わる圧力が小さくなる。よって、ペン芯34aが基材10に与えるダメージを小さくすることができる。塗布装置20aでは、塗布装置20と同様の作用効果が得られる。 FIG. 10 is a diagram schematically showing the deformed coating apparatus of FIG. As shown in FIG. 10, the pen core 34 a can be elastically deformed by contacting the base material 10. Therefore, the pressure applied to the base material 10 from the pen core 34a becomes small. Therefore, damage to the base material 10 by the pen core 34a can be reduced. In the coating apparatus 20a, the same effect as the coating apparatus 20 is obtained.
 図11は、接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。図12は、図11のXII-XII線に沿った塗布装置の断面図である。図11及び図12に示される塗布装置20bは、図13及び図14に示される塗布具30aと、ホルダー40とを備える。塗布具30aはいわゆるバルブ式の塗布具である。 FIG. 11 is a diagram schematically illustrating another example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. 12 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line XII-XII in FIG. The applicator 20b shown in FIGS. 11 and 12 includes an applicator 30a shown in FIGS. The applicator 30a is a so-called valve-type applicator.
 塗布具30aは、本体である後軸31aと、先軸32aと、弁棒33aと、接触式塗布部としてのペン芯34aと、弁座35aと、スプリング36aと、スプリング受け37aと、スポンジ38aを備える。塗布具30aは中継芯を備えていない。後軸31aは例えば中空形状を有する。後軸31aの前部には開口が形成されているが、後部には開口が形成されていない。後軸31a内には、インクが貯蔵され得る。後軸31aの前部は先軸32aの後部内に嵌め込まれている。先軸32aは例えば中空形状を有する。後軸31aの前部に形成された開口には、弁棒33aの後部が挿入されている。弁棒33aの前部はペン芯34aの後部に当接している。ペン芯34aの前部は先軸32aの前部から外側に突出している。先軸32a内において、弁棒33aの前部及びペン芯34aの後部の周囲には、スポンジ38aが配置されている。弁棒33aの周囲にはスプリング36aが配置され、スプリング36aの後端にはスプリング受け37aが配置されている。弁棒33aの中央部には、大径部が形成されている。スプリング36aの前端は、弁棒33aの大径部に当接されている。スプリング36aは、弁棒33aの大径部とスプリング受け37aとの間において伸縮可能である。弁座35aは、弁棒33aの大径部を保持すると共に先軸32aに接続されている。スプリング36aが前後に伸縮することによって、ペン芯34aも前後に伸縮する。 The applicator 30a includes a main body rear shaft 31a, a front shaft 32a, a valve stem 33a, a pen core 34a as a contact-type application unit, a valve seat 35a, a spring 36a, a spring receiver 37a, and a sponge 38a. Is provided. The applicator 30a does not include a relay core. The rear shaft 31a has a hollow shape, for example. An opening is formed in the front part of the rear shaft 31a, but no opening is formed in the rear part. Ink can be stored in the rear shaft 31a. The front portion of the rear shaft 31a is fitted in the rear portion of the front shaft 32a. The front shaft 32a has a hollow shape, for example. The rear portion of the valve rod 33a is inserted into the opening formed in the front portion of the rear shaft 31a. The front part of the valve rod 33a is in contact with the rear part of the pen core 34a. The front portion of the pen core 34a protrudes outward from the front portion of the tip shaft 32a. In the front shaft 32a, a sponge 38a is disposed around the front part of the valve stem 33a and the rear part of the pen core 34a. A spring 36a is disposed around the valve rod 33a, and a spring receiver 37a is disposed at the rear end of the spring 36a. A large diameter portion is formed at the center of the valve stem 33a. The front end of the spring 36a is in contact with the large diameter portion of the valve rod 33a. The spring 36a can be expanded and contracted between the large diameter portion of the valve rod 33a and the spring receiver 37a. The valve seat 35a holds the large diameter portion of the valve rod 33a and is connected to the front shaft 32a. As the spring 36a expands and contracts back and forth, the pen core 34a also expands and contracts back and forth.
 ペン芯34aは、例えば、フェルト、繊維束、焼結体、又は毛管からなってもよい。フェルトは、繊維を圧縮加工した後、樹脂加工することによって得られる。繊維束は、繊維を一定方向に束ねてまとめることによって得られる。焼結体は、プラスチック粉末を接着して焼結することによって得られる。毛管は、樹脂にスリットを設けながら棒状に成形することによって得られる。 The pen core 34a may be made of, for example, a felt, a fiber bundle, a sintered body, or a capillary. A felt is obtained by compressing a fiber and then processing the resin. A fiber bundle is obtained by bundling fibers together in a certain direction. The sintered body is obtained by bonding and sintering plastic powder. The capillary tube is obtained by forming a rod shape while providing a slit in the resin.
 ペン芯34aは、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフォイン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリフェニレン系樹脂等の一般的な樹脂材料、エラストマーを成型したものでもよい。ペン芯34aは、例えば、上記各種の樹脂材料の繊維、植物性繊維、動物性繊維等の繊維束を樹脂加工等により固定した繊維芯を、切断又は研磨加工したものでもよい。さらには、フェルト、スポンジ、又は、樹脂粒子焼結体、樹脂繊維焼結体等の焼結体等から構成される毛管力を有する多孔質体を適宜加工して使用してもよい。ペン芯34aは、毛筆状のものであってもよい。 The pen core 34a is, for example, a general resin such as a polyethylene resin, a polyester resin, a polyacetal resin, a polyamide resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, a polyolefin resin, a polyether resin, or a polyphenylene resin. A resin material or an elastomer molded material may be used. For example, the pen core 34a may be obtained by cutting or polishing a fiber core in which fiber bundles such as fibers of various resin materials, vegetable fibers, and animal fibers are fixed by resin processing or the like. Furthermore, a porous body having a capillary force composed of felt, sponge, or a sintered body such as a resin particle sintered body or a resin fiber sintered body may be appropriately processed and used. The pen core 34a may be a brush-like one.
 図15は、変形した図11の塗布装置を模式的に示す図である。図15に示されるように、ペン芯34aは、基材10に接触することにより、先軸32a内に引っ込む。すなわち、ペン芯34aは、基材10に接触することにより、基材10の表面10bの法線方向において変位する。よって、塗布具30aは、基材10に接触することにより、変形可能である。塗布装置20bでは、塗布装置20aと同様の作用効果が得られる。 FIG. 15 is a diagram schematically showing the deformed coating apparatus of FIG. As shown in FIG. 15, the pen core 34 a is retracted into the front shaft 32 a by contacting the base material 10. That is, the pen core 34 a is displaced in the normal direction of the surface 10 b of the substrate 10 by contacting the substrate 10. Therefore, the applicator 30 a can be deformed by contacting the base material 10. In the coating apparatus 20b, the same effect as the coating apparatus 20a is obtained.
 図16は、接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。図16に示される塗布装置20cは、塗布具30bとホルダー40aとを備える。塗布具30bは、スプリング36aに関する機構を備えないこと以外は塗布具30aと同様の構造を備える。 FIG. 16 is a diagram schematically illustrating another example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. The applicator 20c shown in FIG. 16 includes an applicator 30b and a holder 40a. The applicator 30b has a structure similar to that of the applicator 30a except that the applicator 30b has no mechanism relating to the spring 36a.
 図17は、変形した図16の塗布装置を模式的に示す図である。塗布具30bでは、ペン芯34aが基材10に接触しても塗布具30bは変形しない。ホルダー40aは、塗布具30bを変位させる機構(例えばスプリング等)を更に備えること以外はホルダー40と同様の構造を備える。塗布装置20cでは、ペン芯34aが基材10に接触することにより、塗布具30bがホルダー40a内に引っ込む。すなわち、塗布具30bは、基材10に接触することにより、基材10の表面10bの法線方向において変位する。よって、塗布装置20cは、基材10に接触することにより、変形可能である。塗布装置20cでは、塗布装置20bと同様の作用効果が得られる。 FIG. 17 is a diagram schematically showing the deformed coating apparatus of FIG. In the applicator 30b, the applicator 30b is not deformed even if the pen core 34a contacts the base material 10. The holder 40a has the same structure as the holder 40 except that it further includes a mechanism (for example, a spring) that displaces the applicator 30b. In the coating apparatus 20c, the pen tool 34b is retracted into the holder 40a when the pen core 34a contacts the base material 10. That is, the applicator 30 b is displaced in the normal direction of the surface 10 b of the substrate 10 by contacting the substrate 10. Therefore, the coating device 20 c can be deformed by contacting the base material 10. In the coating apparatus 20c, the same effect as the coating apparatus 20b is obtained.
 図18は、接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。図18に示される塗布装置20dは、塗布具30bとホルダー40bとを備える。ホルダー40bは、例えば蛇腹部等の伸縮部44を更に備えること以外はホルダー40と同様の構造を備える。 FIG. 18 is a diagram schematically illustrating another example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. The applicator 20d shown in FIG. 18 includes an applicator 30b and a holder 40b. The holder 40b has a structure similar to that of the holder 40 except that the holder 40b further includes a telescopic part 44 such as a bellows part.
 図19は、変形した図18の塗布装置を模式的に示す図である。塗布装置20dでは、塗布具30bが変形しない。ペン芯34aが基材10に接触することにより、ホルダー40bが変形する。よって、塗布装置20dは、基材10に接触することにより、変形可能である。ペン芯34aが基材10に接触することにより、塗布装置20dにおけるホルダー40b以外の部材が変形可能であってもよい。塗布装置20dでは、塗布装置20cと同様の作用効果が得られる。 FIG. 19 is a diagram schematically showing the deformed coating apparatus of FIG. In the applicator 20d, the applicator 30b is not deformed. When the pen core 34a contacts the base material 10, the holder 40b is deformed. Therefore, the coating device 20 d can be deformed by contacting the base material 10. When the pen core 34a contacts the base material 10, members other than the holder 40b in the coating apparatus 20d may be deformable. In the coating apparatus 20d, the same effect as the coating apparatus 20c is obtained.
 図20は、塗布具の他の例を模式的に示す図である。図21は、図20のXXI-XXI線に沿った塗布具の断面図である。図22は、図20の塗布具の一部を模式的に示す図である。図20及び図21に示される塗布具30cは、軸体31bと、貯蔵体(中綿)32bと、中継芯33bと、接触式塗布部としてのペン先34bと、ホルダー部材35と、尾栓36bとを備える。軸体31bは例えば円筒形状を有する。軸体31b内には、例えば中綿等の貯蔵体32bが収容される。貯蔵体32bは、毛管作用によってインクを繊維束内に貯蔵可能である。軸体31bの前部及び後部には開口が形成されている。軸体31bの前部に形成された開口には中継芯33bの後部が挿入されている。軸体31bの後部に形成された開口は尾栓36bによって封止されている。中継芯33bの前部は、ペン先34bに接続されている。中継芯33bの前部及びペン先34bは、ホルダー部材35bによって保持されている。貯蔵体32b中のインクは、中継芯33b及びペン先34bを通って基材10上に供給される。ペン先34bの材料としては、ペン芯34aの材料と同様のものが挙げられる。 FIG. 20 is a diagram schematically showing another example of the applicator. FIG. 21 is a cross-sectional view of the applicator along the line XXI-XXI in FIG. FIG. 22 is a diagram schematically showing a part of the applicator of FIG. An applicator 30c shown in FIGS. 20 and 21 includes a shaft body 31b, a storage body (filling) 32b, a relay core 33b, a pen tip 34b as a contact-type application unit, a holder member 35, and a tail plug 36b. With. The shaft body 31b has a cylindrical shape, for example. A storage body 32b such as a batting is accommodated in the shaft body 31b. The storage body 32b can store ink in the fiber bundle by capillary action. Openings are formed in the front and rear portions of the shaft body 31b. The rear portion of the relay core 33b is inserted into the opening formed in the front portion of the shaft body 31b. The opening formed in the rear part of the shaft body 31b is sealed with a tail plug 36b. The front portion of the relay core 33b is connected to the pen tip 34b. The front portion of the relay core 33b and the pen tip 34b are held by a holder member 35b. The ink in the storage body 32b is supplied onto the substrate 10 through the relay core 33b and the pen tip 34b. Examples of the material of the pen tip 34b include the same materials as the material of the pen core 34a.
 塗布具30cは、塗布具30,30a,30bに代えて用いられてもよい。塗布具30cは、接触式塗布部としてのペン先34bを備えているので、基材10上に塗布されるリフトオフ材12の塗布量を比較的少なくすることができると共に、リフトオフ材12の厚みの均一性を高めることができる。さらに、リフトオフ材12が形成される位置を高精度に制御することができる。 The applicator 30c may be used instead of the applicators 30, 30a, 30b. Since the applicator 30c includes the pen tip 34b as a contact-type applicator, the application amount of the lift-off material 12 applied on the substrate 10 can be relatively reduced, and the thickness of the lift-off material 12 can be reduced. Uniformity can be improved. Furthermore, the position where the lift-off material 12 is formed can be controlled with high accuracy.
 図23は、接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。図24は、図23のXXIV-XXIV線に沿った塗布装置の断面図である。図23及び図24に示される塗布装置20eは、図25及び図26に示される塗布具30dと、ホルダー40とを備える。 FIG. 23 is a diagram schematically illustrating another example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. 24 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line XXIV-XXIV in FIG. The applicator 20e shown in FIGS. 23 and 24 includes an applicator 30d shown in FIGS. 25 and 26 and a holder 40.
 塗布具30dは、軸体31dと、継手32dと、中継芯33dと、接触式塗布部としてのペン先34dと、コレクター部材(インク保溜体)35dとを備える。軸体31dは例えば中空形状を有する。軸体31dの前部には開口が形成されているが、後部には開口が形成されていない。軸体31d内には、インクが貯蔵され得る。軸体31dの前部には継手32dが接続されている。継手32dは例えば中空形状を有する。軸体31dの前部に形成された開口には、中継芯33d及びコレクター部材35dが挿入されている。コレクター部材35dは、中継芯33dの周囲に配置されている。コレクター部材35dは、軸体31d内の空気の加圧又は減圧によるインクの漏れ出しを抑制する。中継芯33dの前部はペン先34dに当接している。インクは、コレクター部材35dから中継芯33d及びペン先34dを通って基材10上に供給される。 The applicator 30d includes a shaft body 31d, a joint 32d, a relay core 33d, a pen tip 34d as a contact-type applicator, and a collector member (ink reservoir) 35d. The shaft body 31d has a hollow shape, for example. An opening is formed in the front part of the shaft body 31d, but no opening is formed in the rear part. Ink can be stored in the shaft body 31d. A joint 32d is connected to the front portion of the shaft body 31d. The joint 32d has a hollow shape, for example. A relay core 33d and a collector member 35d are inserted into the opening formed in the front portion of the shaft body 31d. The collector member 35d is disposed around the relay core 33d. The collector member 35d suppresses ink leakage due to pressurization or decompression of air in the shaft body 31d. The front portion of the relay core 33d is in contact with the pen tip 34d. Ink is supplied onto the substrate 10 from the collector member 35d through the relay core 33d and the pen tip 34d.
 塗布具30dは中継芯33dを備えなくてもよい。その場合、軸体31dの前部に形成された開口にペン先34dの後部が挿入される。塗布具30dは、塗布具30,30a,30b,30cに代えて用いられてもよい。塗布具30dでは、塗布具30cと同様の作用効果が得られる。 The applicator 30d may not include the relay core 33d. In that case, the rear part of the pen tip 34d is inserted into the opening formed in the front part of the shaft body 31d. The applicator 30d may be used in place of the applicators 30, 30a, 30b, 30c. In the applicator 30d, the same effect as the applicator 30c is obtained.
 図27は、接触式塗布部を有する塗布装置の他の例を模式的に示す図である。図28は、図27のXXVIII-XXVIII線に沿った塗布装置の断面図である。図29は、分解した図27の塗布装置を模式的に示す図である。図27~図29に示される塗布装置20fは、図29(b)に示される塗布具30eと、図29(a)に示されるホルダー40cとを備える。塗布具30eは、ホルダー40cに取り付けられるアタッチメントである。 FIG. 27 is a diagram schematically illustrating another example of a coating apparatus having a contact-type coating unit. FIG. 28 is a cross-sectional view of the coating apparatus along the line XXVIII-XXVIII in FIG. FIG. 29 is a diagram schematically showing the exploded coating apparatus of FIG. The applicator 20f shown in FIGS. 27 to 29 includes an applicator 30e shown in FIG. 29 (b) and a holder 40c shown in FIG. 29 (a). The applicator 30e is an attachment attached to the holder 40c.
 塗布具30eは、固定部材31cと、中継芯33cと、筆34cと、ホルダー部材35cとを備える。固定部材31cは、中継芯33cの周囲に配置され、ホルダー40bに着脱可能に固定される。中継芯33cの後部はホルダー40c内に挿入される。中継芯33cの前部は筆34cの後部に接続されている。筆34cの後部は、ホルダー部材35cによって保持されている。ホルダー部材35cは固定部材31cに接続されている。 The applicator 30e includes a fixing member 31c, a relay core 33c, a brush 34c, and a holder member 35c. The fixing member 31c is disposed around the relay core 33c and is detachably fixed to the holder 40b. The rear part of the relay core 33c is inserted into the holder 40c. The front part of the relay core 33c is connected to the rear part of the brush 34c. The rear part of the brush 34c is held by a holder member 35c. The holder member 35c is connected to the fixing member 31c.
 ホルダー40cは、ホルダー本体41bと、蓋体43bとを備える。ホルダー本体41bは例えば円筒形状を有する。ホルダー本体41bの前部及び後部には開口が形成されている。ホルダー本体41bの前部に形成された開口には、塗布具30eが取り付けられる。ホルダー本体41bの後部に形成された開口は蓋体43bによって封止されている。蓋体43bには、ホルダー本体41bの内部と連通するチューブ50が接続されている。これにより、ホルダー本体41bの内部を加圧又は減圧することができる。 The holder 40c includes a holder body 41b and a lid body 43b. The holder main body 41b has a cylindrical shape, for example. Openings are formed in the front and rear portions of the holder main body 41b. An applicator 30e is attached to the opening formed in the front portion of the holder body 41b. The opening formed in the rear part of the holder main body 41b is sealed with a lid 43b. A tube 50 communicating with the inside of the holder main body 41b is connected to the lid body 43b. Thereby, the inside of the holder main body 41b can be pressurized or depressurized.
 塗布装置20fでは、塗布具30eの交換が容易になる。また、塗布装置20fでは、塗布装置20と同様の作用効果が得られる。筆34cをペン芯34a、ペン先34b又はペン先34dに置き換えてもよい。 In the application device 20f, the application tool 30e can be easily replaced. Further, in the coating device 20f, the same function and effect as the coating device 20 can be obtained. The brush 34c may be replaced with a pen core 34a, a pen tip 34b, or a pen tip 34d.
 図30は、接触式塗布部の形状の例を模式的に示す図である。筆34、ペン芯34a、ペン先34b、ペン先34d、又は筆34cといった接触式塗布部は、任意の形状を有してもよい。図30(a)及び(e)に示されるように、接触式塗布部は、円柱形状の本体部と、曲面を有する先端部とを有してもよい。図30(b)及び(f)に示されるように、接触式塗布部は、円錐形状を有してもよい。図30(c)及び(g)に示されるように、接触式塗布部は、円柱形状を有し、先端の円形の縁が面取りされていてもよい。図30(d)及び(h)に示されるように、接触式塗布部は、直方体形状を有し、4側面を連結する4辺が面取りされていてもよい。 FIG. 30 is a diagram schematically showing an example of the shape of the contact-type application part. The contact application unit such as the brush 34, the pen core 34a, the pen tip 34b, the pen tip 34d, or the brush 34c may have any shape. As shown in FIGS. 30 (a) and 30 (e), the contact-type application unit may have a cylindrical main body and a tip having a curved surface. As shown in FIGS. 30B and 30F, the contact-type application unit may have a conical shape. As shown in FIGS. 30C and 30G, the contact-type application unit may have a cylindrical shape, and the circular edge of the tip may be chamfered. As shown in FIGS. 30D and 30H, the contact-type application unit has a rectangular parallelepiped shape, and four sides connecting the four side surfaces may be chamfered.
 以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明されたが、本発明は上記実施形態に限定されない。上述した塗布装置の構成要素は、互いに任意に組み合わせ得る。 The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to the above embodiments. The components of the coating apparatus described above can be arbitrarily combined with each other.
 塗布装置は、ディスペンサー装置に限られず、例えば、平版印刷機、凹版印刷機(例えばグラビア印刷機)、凸版印刷機等の印刷機であってもよい。塗布装置の接触式塗布部は、筆、ペン芯又はペン先に限られず、任意の部材であってもよい。 The application device is not limited to the dispenser device, and may be a printing machine such as a lithographic printing machine, an intaglio printing machine (for example, a gravure printing machine), and a relief printing machine. The contact-type coating unit of the coating apparatus is not limited to a brush, a pen core, or a pen tip, and may be an arbitrary member.
 また、基材10は、凸部10aを有しておらず、平坦な表面10bを有してもよい。 Moreover, the base material 10 does not have the convex part 10a, but may have a flat surface 10b.
 10…基材、10a…凸部、10b…基材の表面、12…リフトオフ材、14…機能膜、14a…パターン、20,20a,20b,20c,20d,20e,20f…塗布装置、34,34c…筆(接触式塗布部)、34a…ペン芯(接触式塗布部)、34b,34d…ペン先(接触式塗布部)、100…パターン構造体、X…第2の方向、Y…第1の方向。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base material, 10a ... Convex part, 10b ... Surface of base material, 12 ... Lift-off material, 14 ... Functional film, 14a ... Pattern, 20, 20a, 20b, 20c, 20d, 20e, 20f ... Coating apparatus, 34, 34c ... brush (contact type application part), 34a ... pen core (contact type application part), 34b, 34d ... pen tip (contact type application part), 100 ... pattern structure, X ... second direction, Y ... first 1 direction.

Claims (8)

  1.  接触式塗布部を有する塗布装置を用いて基材上にリフトオフ材を形成する工程と、
     前記基材及び前記リフトオフ材上に、原子層堆積法により機能膜を形成する工程と、
     リフトオフ法により前記リフトオフ材を除去することによって、前記基材上に、前記機能膜からパターンを形成する工程と、
    を含む、パターン構造体の製造方法。
    Forming a lift-off material on a substrate using a coating apparatus having a contact-type coating unit;
    Forming a functional film on the substrate and the lift-off material by an atomic layer deposition method;
    Forming a pattern from the functional film on the substrate by removing the lift-off material by a lift-off method;
    The manufacturing method of a pattern structure containing this.
  2.  前記接触式塗布部が前記基材に接触することにより、前記塗布装置が変形可能である、請求項1に記載のパターン構造体の製造方法。 The manufacturing method of the pattern structure according to claim 1, wherein the coating device is deformable when the contact-type coating unit contacts the substrate.
  3.  前記接触式塗布部が筆を備える、請求項2に記載のパターン構造体の製造方法。 The method for producing a pattern structure according to claim 2, wherein the contact-type application unit includes a brush.
  4.  前記リフトオフ材が、樹脂と溶媒とを含むインクを前記基材上に塗布した後、前記溶媒を除去することによって形成される、請求項1~3のいずれか一項に記載のパターン構造体の製造方法。 The pattern structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the lift-off material is formed by applying an ink containing a resin and a solvent onto the substrate and then removing the solvent. Production method.
  5.  前記基材が凸部を有し、
     前記リフトオフ材が、前記凸部上に形成されている、請求項1~4のいずれか一項に記載のパターン構造体の製造方法。
    The substrate has a convex portion;
    The pattern structure manufacturing method according to any one of claims 1 to 4, wherein the lift-off material is formed on the convex portion.
  6.  前記基材が、ポリマーフィルムである、請求項1~5のいずれか一項に記載のパターン構造体の製造方法。 The method for producing a patterned structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the substrate is a polymer film.
  7.  前記リフトオフ材が、溶媒に可溶な材料を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載のパターン構造体の製造方法。 The method for manufacturing a pattern structure according to any one of claims 1 to 6, wherein the lift-off material includes a material soluble in a solvent.
  8.  前記パターンを形成した後、前記リフトオフ材を形成する工程に戻る、請求項1~7のいずれか一項に記載のパターン構造体の製造方法。 The method for manufacturing a pattern structure according to any one of claims 1 to 7, wherein after the pattern is formed, the process returns to the step of forming the lift-off material.
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