WO2014008889A1 - Verfahren zum herstellen von metall-keramik-substraten sowie metall-keramik-substrat - Google Patents

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    • H05K2203/1147Sealing or impregnating, e.g. of pores

Definitions

  • the invention relates to a method according to the preamble of claim 1 and to a metal-ceramic substrate according to the preamble of claim 20.
  • Metal-ceramic substrates in particular those in the form of printed circuit boards for electrical and electronic circuits or modules, as well as methods for producing such substrates are known.
  • these substrates consist of a ceramic
  • Insulating layer which is provided in each case with a metallization on its two surface sides.
  • a metal foil e.g. is made of copper, of a copper alloy, of aluminum or of an aluminum alloy and connected with the aid of a suitable process over the entire surface of the ceramic insulating layer.
  • DCB direct copper bond
  • this layer or coating forms a eutectic with a melting temperature below the melting temperature of the metal (eg copper), so by hanging up the film on the ceramic and by heating all the layers they can be connected together, by melting the metal or copper substantially only in the region of the melting layer or
  • This DCB method then indicates e.g. the following process steps:
  • active soldering method (DE 22131 1 5, EP-A-153 618), e.g. for joining metallization-forming metal layers or metal foils, in particular also copper layers or copper foils or aluminum layers or aluminum foils with ceramic material.
  • active soldering method which is also used especially for the production of metal-ceramic substrates, at a temperature between about 800 - 1000 ° C, a connection between a metal foil, such as copper foil, and a ceramic substrate, such as aluminum nitride ceramic, under
  • brazing alloy which also contains an active metal in addition to a main component such as copper, silver and / or gold.
  • This active metal which is, for example, at least one element of the group Hf, Ti, Zr, Nb, Ce, establishes a chemical bond between the solder and the ceramic, while the bond between the solder and the metal is a metallic braze joint ,
  • Step etching by introducing depressions, etc.
  • edge weakening can ultimately only delay the problem of a continuing or widening cracking, that the additional force necessary for the generation of the edge weakenings can be achieved
  • the object of the invention is to provide a method for producing metal-ceramic substrates, with which the disadvantages are effectively avoided, resulting from existing cracks between the metallization and the ceramic and within the ceramic.
  • a method according to claim 1 is formed. Further developments of the method are the subject of the dependent claims.
  • a metal-ceramic substrate is the subject of claim 20.
  • Fig. 1 in a simplified representation and in section a metal-ceramic substrate
  • Fig. 6 is a plan view of a multiple substrate.
  • the metal-ceramic substrate generally designated 1 in the figures, comprises i.a. a ceramic substrate or a ceramic layer 2, an upper metallization 3 in FIG. 1, which is structured to form conductor tracks, contact surfaces, mounting surfaces for components, etc., e.g. by a masking and etching process, and thereby
  • the metallizations 3 and 4 and the metallization 3.1 are flat with a suitable bonding or bonding technique with the relevant surface side of the
  • FIG. 2 shows, in positions a) and b), again in an enlarged sectional view details of the metal-ceramic substrate 1 in the edge region of the metallizations 3 and 4 or of the metallization regions 3.1.
  • the cracks 5 which are caused, for example, by the bonding of the metallizations 3 and 4 to the ceramic layer 2 and by the different coefficients of thermal expansion of metal and ceramic, also partly extend into the ceramic layer 2, even below the respective metallization 3 and 4 or the
  • the invention generally proposes to completely fill the cracks 5 with a suitable curable or polymerizable plastic sealing and / or grouting mass 7, so that the cracks 5 thus filled do not impair the mechanical stability and / or or more cause the electrical properties of the respective metal-ceramic substrate 1, in particular a continuation or
  • metallization 4 is not shown in positions c) and d).
  • the length I of the cracks 5 to be closed or pressed is, for example, I ⁇ 0.2 ⁇ d,
  • d is the thickness of the ceramic layer 2.
  • FIG. 3 shows in the positions a) -d) essential method steps of a method according to the invention for producing the metal-ceramic substrate 1.
  • the ceramic layer 2 is first provided on both surface sides by means of a suitable bonding technique with metal foils which form the metallizations 3 and 4.
  • This is followed by structuring of the upper metallization 3, for example with the aid of a masking and etching technique, so that the ceramic layer 2 corresponding to the position b) is provided on a surface side with the structured metallization 3 forming the metallization regions 3.1.
  • the flowable plastic sealing and / or grouting mass 7 is pressed by pressing into the existing cracks 5, by pressurizing the metal-ceramic substrate 1, i.
  • a pressure chamber which with a compressed gas, for example with compressed air, but preferably with a pressurized inert gas, e.g. Nitrogen is applied.
  • a pressurized inert gas e.g. Nitrogen
  • the pressure (compression pressure) used in the compression or in the pressure treatment is, for example, in the range between 1.1 and 500 bar, for example between 1.1 and 100 bar.
  • the pressing of the cracks 5 takes place for example at ambient temperature or at elevated temperature or at heated to this temperature substrate.
  • the position d) shows the filled with the plastic closing and / or grouting mass 7 cracks 5, which are denoted by 5/7.
  • the curing or polymerizing of the plastic closure and / or plastic received in the cracks 5 then takes place Pressing mass 7. This curing is then carried out at atmospheric pressure, but preferably under pressure, preferably at injection pressure.
  • FIG. 4 shows in the positions a) -e) the essential method steps of a further method according to the invention for producing the metal-ceramic substrate 1.
  • the method illustrated in FIG. 4 essentially differs from the method described above in connection with FIG. 3 only in that according to FIG. 4
  • Vacuum treatment of the metal-ceramic substrate 1 is carried out, e.g. by
  • the application of the plastic sealing and / or grouting compound 7 to the exposed ceramic of the ceramic layer 2 takes place in the region of the edges of the metallizations 3 and 4 or the metallization regions 3.1 and in particular also in turn in the etching trenches 6, with the special
  • the introduced into the etch trenches 6 flowable plastic closing and / or grouting mass 7 is additionally prevented by the lateral metallization 3.1 at a drain.
  • the plastic sealing and / or grouting mass 7 flows by capillary action into the cracks 5.
  • the vacuum is removed, ie, the metal-ceramic substrate 1 is subjected to atmospheric pressure or with an overpressure, whereby the plastic closure and / or grouting Mass 7 then flows into the cracks 5 and this completely closes, as again shown in the position d) of Figure 4 with 5/7.
  • the plastic sealing and / or grouting mass 7 has a high flowability or a low viscosity in the uncured or polymerized state, it is possible to spread this mass by spraying it onto the surface sides of the metal-ceramic composite. Apply substrate 1. After pressing and closing the cracks 5, the metallizations 3 and 4 as well as the metallization areas 3.1 at their exposed, i. the ceramic layer 2 facing away from the surface of any residues of Kunststoffvergussmasse 7 cleaned, for example mechanically, e.g. by brushing, grinding, etc. Basically, a cleaning with a suitable
  • Plastic closure and / or grouting mass 7 from the cracks 5 the pressing of the cracks 5 is carried out such that after pressing at the edges of the metallizations 3 and 4 and metallization 3.1 outside the cracks 5 a residual amount of plastic closure and / or grouting mass 7 remains, with a thickness which is greater than the thickness of the plastic sealing and / or grouting mass 7 on the exposed surface sides of the metallizations 3 and 4 or metallization areas 3.1.
  • the exposed is greater than the thickness of the plastic sealing and / or grouting mass 7 on the exposed surface sides of the metallizations 3 and 4 or metallization areas 3.1.
  • a release layer is then suitable, for example, a temperature-resistant Atzresist, which for the masking in structuring the
  • Metallizations 3 and 4 is used with the masking and etching process. In general and especially here as well, it may then also be expedient to cure the plastic closing and / or grouting mass 7 by heating in at least two stages
  • FIG. 5 shows in the positions a) -d) method steps of a further method according to the invention.
  • this process after the application of the metallizations 3 and 4 on the ceramic layer 2 (position a)) and after the structuring of the metallization 3 (position b)) on the exposed ceramic of the ceramic layer 2 in the region of the edges of the metallizations 3 and 4 or the metallization 3.1 and in turn also in particular in the area of the etching trenches 6 the plastic closure and / or Verpress- mass 7 applied in granular or powder form (position e)).
  • This is followed by heating of the metal-ceramic substrate 1 to a temperature at which the thermoplastic plastic sealing and / or grouting mass 7 in this embodiment passes into the liquid state (position c)).
  • metal-ceramic substrate 1 When kept at this temperature metal-ceramic substrate 1 is then carried out, for example, by applying the metal-ceramic substrate 1 with the pressure P, the compression of the liquid plastic closure and / or grouting mass 7 in the cracks 5, so they are completely filled with the plastic closure and / or grouting mass 7, which cures after cooling of the metal-ceramic substrate 1.
  • Metallization areas 3.1 can be easily removed, e.g. by brushing, wiping etc.
  • FIG. 6 shows a top view of a metal-ceramic substrate 1 in the form of a metal substrate
  • Metal webs created in patterning the metallization or of an easily removable mass e.g. made of plastic and / or wax.
  • thermo cycle between a reduced and an elevated temperature e.g. between a temperature well below room temperature and a temperature above 100 ° C, for example between a temperature of -50 ° C and a temperature of + 150 ° C.
  • curable or polymerizable monomers, polymers or plastics or plastic compounds or mixed polymers or plastic mixtures are suitable as plastic sealing and / or grouting masses
  • thermoplastic or thermosetting type which are liquid or viscous for introduction into the cracks 5 in the not yet cured or polymerized state and in the cured state preferably have a transverse and longitudinal crosslinking.
  • Suitable plastic sealing and / or grouting masses 7 are, for example, those based on polyamide or epoxy resin.
  • the thermal expansion coefficient of the plastic closure and / or grouting mass 7 is greater than the thermal
  • the curing or polymerization takes place e.g. by energy input, for example by heating, by treatment with ultrasound, with microwave radiation, with
  • a plastic closure and / or Curing compound 7 based on epoxy resin with hardener is cured by exposure to heat at a temperature in the range between 100 ° C and 180 ° C.
  • the curing of the plastic sealing and / or grouting mass 7 by heating has the advantage that, after hardening, this mass contracts on cooling of the substrate 1 to ambient temperature. As a result, the ceramic is pulled together at the cracks 5, which, inter alia, counteracts tensile forces in the metallizations 3 and 4.
  • the bonding or joining of the metal foils forming the metallizations 3 and 4 with the ceramic layer 2 takes place for example by DMB bonding, by active brazing or by a suitable adhesive material, also polymeric adhesive material.
  • a suitable adhesive material also polymeric adhesive material.
  • Metallizations 3 and 4 and the metallization regions 3.1 are suitable, e.g. Copper, aluminum, silver, nickel as well as alloys of the aforementioned metals.
  • a ceramic for the ceramic layer for example, Al 2 O 3, Si 3 N 4, AIN and also suitable
  • the thickness of the metallizations 3 and 4 and of the metallization regions 3.1 is, for example, in the range between 0.1 mm and 1.5 mm.
  • the thickness of the ceramic layer 2 lgt for example, in the range between 0.2mm and 2mm.
  • the depressions 8 are on the side facing away from the ceramic layer 2 of the metallizations 3 and 4 and the
  • Metallization regions 3.1 open and rich but in the illustrated embodiment not to the ceramic layer 2.
  • the invention has been described above with reference to embodiments. It is understood that numerous changes and modifications are possible without thereby departing from the inventive concept underlying the invention. It has been assumed above that the metallizations 3 and 4 as well as the metallization areas 3.1 are formed by metal foils. However, the metallizations 3 and / or 4 and / or especially the structured metallization regions 3.1 can also be produced in thick / thin-film technology by applying a metal paste to the ceramic layer 2 and by burning in this metal paste.

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Abstract

Verfahren zum Herstellen von Metall-Keramik-Substraten mit einer Keramikschicht und mit wenigstens einer Metallisierung und/oder mit wenigstens eine strukturierte Metallisierung bildenden Metallisierungsbereichen an wenigstens einer Oberflächenseite der Keramikschicht.

Description

Verfahren zum Herstellen von Metall-Keramik-Substraten sowie Metall-Keramik-Substrat
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren gemäß Oberbegriff Patentanspruch 1 sowie auf ein Metall-Keramik-Substrat gemäß Oberbegriff Patentanspruch 20.
Metall-Keramik-Substrate, insbesondere auch solche in Form von Leiterplatten für elektrische und elektronische Schaltkreise oder Module sowie Verfahren zum Herstellen derartiger Substrate sind bekannt. In der Regel bestehen diese Substrate aus einer keramischen
Isolierschicht, die an ihren beiden Oberflächenseiten jeweils mit einer Metallisierung versehen ist. Diese ist dann beispielsweise von einer Metallsfolie, z.B. aus Kupfer, aus einer Kupferlegierung, aus Aluminium oder aus einer Aluminiumlegierung gebildet ist und mit H ilfe eines geeigneten Verfahrens vollflächig mit der keramischen Isolierschicht verbunden.
Bekannt ist hierfür u.a. das sogenannte„DCB-Verfahrens" (Direct-Copper-Bond-Technology) beispielsweise zum Verbinden von Metallschichten oder -blechen (z.B. Kupferblechen oder - folien) mit einander und/oder mit Keramik oder Keramikschichten, und zwar unter
Verwendung von Metall- bzw. Kupferblechen oder Metall- bzw. Kupferfolien, die an ihren Oberflächenseiten eine Schicht oder einen Überzug (Aufschmelzschicht) aus einer chemischen Verbindung aus dem Metall und einem reaktiven Gas, bevorzugt Sauerstoff aufweisen. Bei diesem beispielsweise in der US-PS 37 44 120 oder in der DE-PS 23 1 9 854 beschriebenen Verfahren bildet diese Schicht oder dieser Überzug (Aufschmelzschicht) ein Eutektikum mit einer Schmelztemperatur unter der Schmelztemperatur des Metalls (z.B. Kupfers), sodass durch Auflegen der Folie auf die Keramik und durch Erhitzen sämtlicher Schichten diese miteinander verbunden werden können, und zwar durch Aufschmelzen des Metalls bzw. Kupfers im wesentlichen nur im Bereich der Aufschmelzschicht bzw.
Oxidschicht.
Dieses DCB-Verfahren weist dann z.B. folgende Verfahrensschritte auf:
• Oxidieren einer Kupferfolie derart, dass sich eine gleichmäßige Kupferoxidschicht ergibt; · Auflegen des Kupferfolie auf die Keramikschicht;
• Erhitzen des Verbundes auf eine Prozesstemperatur zwischen etwa 1025 bis 1083 °C, z.B. auf ca. 1071 °C;
• Abkühlen auf Raumtemperatur. Analog zu diesem vorgenannten DCB-Verfahren zum Direct-Bonden von Kupfer auf Kupfer oder Kupfer auf Keramik sind auch andere Direct-Metal-Bond-Verfahren- oder Technologien bekannt, mit denen in analoger Weise das Verbinden von Metallschichten oder -blechen ganz allgemein miteinander und/oder mit Keramik- oder Keramikschichten möglich ist. Das DCB-Verfahren und die mit diesem analogen Verfahren werden nachstehend als DMB- Verfahren (Direct-Metal-Bond-Verfahren) bezeichnet werden.
Bekannt ist weiterhin das sogenannte Aktivlot- Verfahren (DE 22131 1 5; EP-A-153 618) z.B. zum Verbinden von Metallisierungen bildenden Metallschichten oder Metallfolien, insbesondere auch von Kupferschichten oder Kupferfolien oder Aluminiumschichten oder Aluminiumfolien mit Keramikmaterial. Bei diesem Verfahren, welches speziell auch zum Herstellen von Metall-Keramik-Substraten verwendet wird, wird bei einer Temperatur zwischen ca. 800 - 1000°C eine Verbindung zwischen einer Metallfolie, beispielsweise Kupferfolie, und einem Keramiksubstrat, beispielsweise Aluminiumnitrid-Keramik, unter
Verwendung eines Hartlots hergestellt, welches zusätzlich zu einer Hauptkomponente, wie Kupfer, Silber und/oder Gold auch ein Aktivmetall enthält. Dieses Aktivmetall, welches beispielsweise wenigstens ein Element der Gruppe Hf, Ti, Zr, Nb, Ce ist, stellt durch chemische Reaktion eine Verbindung zwischen dem Lot und der Keramik her, während die Verbindung zwischen dem Lot und dem Metall eine metallische Hartlöt-Verbindung ist.
Es hat sich gezeigt, dass insbesondere hohe thermische Wechselbelastungen des jeweiligen Metall-Keramik-Substrates, wie sie vor allem bei Verwendung eines solchen Substrates als Leiterplatte für Schaltkreise oder Module im Leistungsbereich auftreten, zu einer
Vergrößerung von Rissen oder Mikrorissen am Übergang zwischen dem Metall der
Metallisierung und der Keramik führen können, wobei diese Risse auch in der Keramik unterhalb der jeweiligen Metallisierung hinein reichen können. Hierdurch ergibt sich nicht nur eine Beeinträchtigung der mechanischen Standfestigkeit des jeweiligen Metall-Keramik- Substrates, sondern insbesondere auch eine Beeinträchtigung der elektrischen Eigenschaften des jeweiligen Metall-Keramik-Substrates, und zwar vor allem auch hinsichtlich
Spannungsfestigkeit und Teilentladungsfestigkeit, was dann möglicherweise zu einem frühzeitigen Ausfallen des betreffenden Schaltkreises oder Moduls führt. Es wurde bereits versucht, (DE 43 18 241 ) diesen Nachteil, der hauptsächlich durch die unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten von Metall und Keramik bedingt ist, durch eine gezielte Schwächung des Randbereiches bzw. durch eine gezielte Reduzierung des Metallvolumens im Randbereich der Metallisierung (Randabschwächung) zu beheben, beispielsweise durch eine zusätzliche Strukturierung des Randbereichs, z.B. durch
Stufenätzung, durch Einbringen von Vertiefungen usw.
Vorgeschlagen wurde auch bereits, auf den Randbereich der Metallisierungen bzw. der durch eine Strukturierung der Metallisierung erzeugten und Leiterbahnen, Kontakt- und Montageflächen bildenden Metallisierungsbereiche ein polymeres Material aufzubringen.
Nachteilig ist bei diesen Verfahren,
dass bei vorhandenen Rissen durch die Randabschwächung letztlich nur eine Verzögerung des Problems einer sich fortsetzenden oder erweiternden Rissbildung erreicht werden kann, dass die für die Erzeugung der Randabschwächungen notwendigen zusätzliche
Strukturierung der Metallisierungen bzw. Metallisierungsbereiche einen erhöhten Aufwand bei der Fertigung bedingt, und
dass das Aufbringen von Polymeren auf den Randbereich der Metallisierungen und der Metallisierungsbereiche aufwendig ist und dennoch nicht zu dem gewünschten Erfolg führt, allenfalls wiederum nur eine Verzögerung der sich fortsetzenden oder erweiternden Rissbildung bewirkt.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Herstellen von Metall-Keramik-Substraten aufzuzeigen, mit dem die Nachteile wirksam vermieden werden, die sich aus vorhandenen Rissen zwischen der Metallisierung und der Keramik sowie innerhalb der Keramik ergeben. Zur Lösung dieser Aufgabe ist ein Verfahren entsprechend dem Patentanspruch 1 ausgebildet. Weiterbildungen des Verfahrens sind Gegenstand der Unteransprüche. Ein Metall-Keramik-Substrat ist Gegenstand des Patentanspruchs 20. Der Ausdruck„im Wesentlichen" bzw.„etwa" bedeutet im Sinne der Erfindung
Abweichungen vom jeweils exakten Wert um +/- 10%, bevorzugt um +/- 5% und/oder Abweichungen in Form von für die Funktion unbedeutenden Änderungen. Weiterbildungen, Vorteile und Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung ergeben sich auch aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen und aus den Figuren. Dabei sind alle beschriebenen und/oder bildlich dargestellten Merkmale für sich oder in beliebiger Kombination grundsätzlich Gegenstand der Erfindung, unabhängig von ihrer
Zusammenfassung in den Ansprüchen oder deren Rückbeziehung. Auch wird der Inhalt der Ansprüche zu einem Bestandteil der Beschreibung gemacht.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand der Figuren an Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 in vereinfachter Darstellung und im Schnitt ein Metall-Keramik-Substrat;
Fig. 2 in den Positionen a) und b) jeweils in vergrößerter Schnittdarstellung Details des
Metall-Keramik-Substrats der Figur 1 ;
Fig. 3 in den Positionen a) - d) verschiedene Verfahrensschritte zum Herstellen des Metall- Keramik-Substrats der Figur 1 ;
Fig. 4 in den Positionen a) - e) verschiedene Verfahrensschritte zum Herstellen des Metall- Keramik-Substrats der Figur 1 entsprechend einer weiteren Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 5 in den Positionen a) - d) verschiedene Verfahrensschritte zum Herstellen des Metall- Keramik-Substrats der Figur 1 bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 6 eine Draufsicht auf ein Mehrfachsubstrat.
Das in den Figuren allgemein mit 1 bezeichnete Metall-Keramik-Substrat umfasst u.a. ein Keramiksubstrat bzw. eine Keramikschicht 2, eine in der Figur 1 obere Metallisierung 3, die zur Ausbildung von Leiterbahnen, Kontaktflächen, Befestigungsflächen für Bauelemente usw. strukturiert ist, z.B. durch ein Maskierungs- und Ätzverfahren, und hierdurch
Metallisierungsbereiche 3.1 bildet, sowie eine in der Figur 1 untere Metallisierung 4. Die Metallisierungen 3 und 4 bzw. die Metallisierungsbereiche 3.1 sind mit einer geeigneten Verbindungs- oder Bondtechnik flächig mit der betreffenden Oberflächenseite der
Keramikschicht 2 verbunden.
Die Figur 2 zeigt in Positionen a) und b) nochmals in vergrößerter Schnittdarstellung Details des Metall-Keramik-Substrates 1 im Randbereich der Metallisierungen 3 und 4 bzw. der Metallisierungsbereiche 3.1 . Mit 5 sind dort schematisch Risse (Mikrorisse) angedeutet, die sich am Rand der Metallisierung 3 und 4 bzw. der Metallisierungsbereiche 3.1 jeweils teilweise im Verbindungsbereich zwischen der Metall isierung 3/4 und der Keramikschicht 2 erstrecken, sodass dort keine Verbindung zwischen den Metall und der Keramik besteht. Die Risse 5, die beispielsweise durch das Bonden der Metallisierungen 3 und 4 mit der Keramikschicht 2 und durch die unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten von Metall und Keramik verursacht sind, erstrecken sich teilweise auch in die Keramikschicht 2 hinein, und zwar auch unterhalb der jeweiligen Metallisierung 3 und 4 oder der
Metallisierungsbereiche 3.1 . Diese Risse 5 beeinträchtigen nicht nur die mechanische Stabilität der Verbindung zwischen den Metallisierungen 3 und 4 und der Keramikschicht 2, sondern insbesondere auch die elektrische Spannungsfestigkeit des Metall-Keramik-Substrates 1 und dessen
Teilentladungsfestigkeit. Ein weiterer Nachteil besteht darin, dass bei thermischen
Wechselbelastungen des Metall-Keramik-Substrates 1 , wie sie insbesondere bei Verwendung dieses Substrates als Leiterplatte für Leistungsschaltkreise oder -module, beispielsweise zum Steuern von elektrischen Antrieben, durch die wechselnde Verlustwärme von
Leistungsbauteilen auftreten, dazu neigen, sich zu vergrößern und zu verlängern, was zu einem vorzeitigen Ausfall des betreffenden Schaltkreises oder Moduls führen kann. Um hier wirksam Abhilfe zu schaffen, schlägt die Erfindung generell vor, die Risse 5 mit einer geeigneten aushärtbaren oder polymerisierbaren Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress- Masse 7 vollständig zu verfüllen, sodass die so verfüllten Risse 5 keine Beeinträchtigung der mechanischen Stabilität und/oder der elektrischen Eigenschaften des betreffenden Metall- Keramik-Substrates 1 mehr verursachen, insbesondere auch eine Fortsetzung oder
Erweiterung der Rissbildung während des Betriebes eines das Metall-Keramik-Substrat 1 enthaltenen Schaltkreises oder Moduls wirksam verhindert ist. Der einfacheren Darstellung wegen ist in den Positionen c) und d) die Metallisierung 4 nicht gezeigt.
Die Länge I der zu verschließenden oder verpressenden Risse 5 beträgt beispielsweise, I < 0,2 x d,
wobei d die Dicke der Keramikschicht 2 ist.
Weiterhin gilt:
Figure imgf000006_0001
wobei kdm der mittlere Korndurchmesser der Keramik ist. Nur wenn die Risse 5 den vorstehenden Bedingungen entsprechen, macht es grundsätzlich Sinn, die Risse 5 zu verschließen oder zu verpressen. Die Figur 3 zeigt in den Positionen a) - d) wesentliche Verfahrensschritte eines Verfahrens gemäß der Erfindung zur Herstellung des Metall-Keramik-Substrates 1 . Entsprechend der Position a) wird zunächst die Keramikschicht 2 an beiden Oberflächenseiten mit Hilfe einer geeigneten Bondtechnik mit Metallfolien versehen, die die Metallisierungen 3 und 4 bilden. Im Anschluss daran erfolgt eine Strukturierung der oberen Metallisierung 3 beispielsweise mit Hilfe einer Maskierungs- und Ätztechnik, sodass die Keramikschicht 2 entsprechend der Position b) an einer Oberflächenseite mit der die Metallisierungsbereiche 3.1 bildenden strukturierten Metallisierung 3 versehen ist. Im Anschluss daran wird entsprechend der Position c) seitlich von den Metallisierungsbereichen 3.1 und insbesondere aber auch in den Ätzgräben 6, die beim Strukturieren der Metallisierung 3 zwischen den
Metallisierungsbereichen 3.1 entstanden sind, ein die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 aufgebracht, und zwar auf die jeweils freiliegende Keramik der
Keramikschicht 2. In einem weiteren Verfahrensschritt wird die fließfähige Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 durch Verpressen in die vorhandenen Risse 5 gedrückt, und zwar durch Beaufschlagung des Metall-Keramik-Substrates 1 mit Druck, d.h. beispielsweise durch Einbringen des Metall-Keramik-Substrates 1 in eine Druckkammer, die mit einem Druckgas, beispielsweise mit Druckluft, bevorzugt aber mit einem unter Druck stehenden Inertgas, z.B. Stickstoff beaufschlagt wird. In der Position c) ist diese
Druckbeaufschlagung insbesondere auch der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 mit dem Pfeil P angedeutet. Der bei dem Verpressen bzw. bei der Druckbehandlung verwendete Druck (Verpressdruck) liegt beispielsweise im Bereich zwischen 1 ,1 bar und 500bar, beispielsweise zwischen 1 ,1 bar und 100bar.
Das Verpressen der Risse 5 erfolgt beispielsweise bei Umgebungstemperatur oder bei erhöhter Temperatur bzw. bei auf diese Temperatur erhitztem Substrat 1 . Die Position d) zeigt die mit der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 gefüllten Risse 5, die mit 5/7 bezeichnet sind. In einem weiteren Verfahrensschritt erfolgt dann das Aushärten bzw. Polymerisieren der in den Rissen 5 aufgenommenen Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7. Dieses Aushärten erfolgt dann bei Normaldruck, bevorzugt aber unter Druck, vorzugsweise bei Verpressdruck.
Die Figur 4 zeigt in den Positionen a) - e) die wesentlichen Verfahrensschritte eines weiteren Verfahrens gemäß der Erfindung zum Herstellen des Metall-Keramik-Substrates 1 . Das in der Figur 4 dargestellte Verfahren unterscheidet sich von dem vorstehend im Zusammenhang mit der Figur 3 beschriebenen Verfahren im Wesentlichen nur dadurch, dass nach der
Strukturierung der Metallisierung 3, d.h. nach der Bildung der Metallisierungsbereiche 3.1 , und vor dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 eine
Vakuumbehandlung des Metall-Keramik-Substrates 1 erfolgt, und zwar z.B. durch
Anordnung des Metall-Keramik-Substrates 1 mit der Strukturierten Metallisierung 3 in einer Vakuumkammer, die mit einem Unterdruck oder Vakuum, z.B. mit einem 70%-igen bis 99%-igen Vakuum beaufschlagt wird, sodass Gas-, Dampf- und/oder Flüssigkeitsreste durch das Vakuum aus den Rissen 5 entfernt werden, wie dies in der Position e) mit den Pfeilen V angedeutet ist.
Noch im Vakuum erfolgt dann entsprechend der Position c) das Aufbringen der Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 auf die freiliegende Keramik der Keramikschicht 2 im Bereich der Ränder der Metallisierungen 3 und 4 bzw. der Metallisierungsbereiche 3.1 und dabei insbesondere auch wiederum in die Ätzgräben 6, und zwar mit dem besonderen
Vorteil, dass die in die Ätzgräben 6 eingebrachte fließfähige Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 durch die seitlichen Metallisierungsbereiche 3.1 an einem Abfließen zusätzlich gehindert wird. Die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 fließt dabei durch Kapillarwirkung in die Risse 5. Weiterhin kann es auch zweckmäßig sein, nach dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 das Substrat mit Druck zu beaufschlagen, beispielsweise mit einem Verpressdruck im Bereich zwischen 1 ,1 bar und 500bar, wobei diese Vakuum und Druckbehandlung dann beispielsweise wenigstens einmal wiederholt wird. Das Verpressen der Risse 5 erfolgt beispielsweise wiederum bei
Umgebungstemperatur oder bei erhöhter Temperatur bzw. bei auf diese Temperatur erhitztem Substrat 1 .
Nach dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 wird das Vakuum entfernt, d.h. das Metall-Keramik-Substrat 1 wird mit Atmosphärendruck oder aber mit einem Überdruck beaufschlagt, wodurch die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress- Masse 7 dann in die Risse 5 fließt und diese vollständig verschließt, wie dies wiederum in der Position d) der Figur 4 mit 5/7 gezeigt ist.
Insbesondere dann, wenn die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 im noch nicht ausgehärteten bzw. polymerisierten Zustand eine hohe Fließfähigkeit bzw. eine geringe Viskosität besitzt, ist es möglich, diese Masse durch Aufsprühen auf die Oberflächenseiten des Metall-Keramik-Substrates 1 aufzubringen. Nach dem Verpressen und Verschließen der Risse 5 werden die Metallisierungen 3 und 4 sowie die Metallisierungsbereiche 3.1 an ihren freiliegenden, d.h. der Keramikschicht 2 abgewandten Oberflächenseiten von eventuellen Resten der Kunststoffvergussmasse 7 gereinigt, beispielsweise mechanisch, z.B. durch Bürsten, Schleifen usw. Grundsätzlich ist auch eine Reinigung mit einem geeigneten
Lösungsmittel möglich, wobei in diesem Fall zur Vermeidung eines Entfernens der
Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 aus den Rissen 5 das Verpressen der Risse 5 derart erfolgt, dass nach dem Verpressen an den Rändern der Metallisierungen 3 und 4 sowie Metallisierungsbereiche 3.1 außerhalb der Risse 5 eine Restmenge an Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 verbleibt, und zwar mit einer Dicke, die größer ist als die Dicke der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 an den freiliegenden Oberflächenseiten der Metallisierungen 3 und 4 bzw. Metallisierungsbereiche 3.1 . Bei der Reinigung der Metallisierungen 3 und 4 bzw. der Metallbereiche 3.1 wird dann allenfalls diese Restmenge abgetragen, ohne dass die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 aus den Rissen 5 entfernt wird. Zweckmäßig ist es weiterhin, die frei liegenden
Oberflächenseiten der Metallisierungen 3 und 4 sowie der Metallisierungsbereiche 3.1 vor dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 mit einer Trennschicht zu versehen, die zusammen mit der ausgehärteten Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress- Masse 7 leicht entfernt werden kann. Als Trennschicht eignet sich dann beispielsweise ein temperaturbeständiges Atzresist, welches für die Maskierung beim Strukturieren der
Metallisierungen 3 und 4 mit dem Maskierungs- und Ätzverfahren verwendet wird. Generell und speziell auch hierbei kann es dann auch zweckmäßig sein, das Aushärten der Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 durch Erhitzen in wenigstens zwei Stufen
vorzunehmen, und zwar in einer ersten Stufe ein Teilaushärten bei reduzierter Temperatur und dann ein vollständiges Aushärten bei erhöhter Temperatur.
Die Figur 5 zeigt in den Positionen a) - d) Verfahrensschritte eines weiteren Verfahrens gemäß der Erfindung. Bei diesem Verfahren wird nach dem Aufbringen der Metallisierungen 3 und 4 auf die Keramikschicht 2 (Position a)) und nach der Strukturierung der Metallisierung 3 (Position b)) auf die freiliegende Keramik der Keramikschicht 2 im Bereich der Ränder der Metallisierungen 3 und 4 bzw. der Metallisierungsbereiche 3.1 und dabei wiederum insbesondere auch im Bereich der Ätzgräben 6 die Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress- Masse 7 in Granulat- oder Pulverform aufgebracht (Position e)). Im Anschluss daran erfolgt ein Erhitzen des Metall-Keramik-Substrates 1 auf eine Temperatur, bei der die bei dieser Ausführungsform thermoplastische Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 in den flüssigen Zustand übergeht (Position c)). Bei weiterhin auf dieser Temperatur gehaltenem Metall-Keramik-Substrat 1 erfolgt dann beispielsweise durch Beaufschlagung des Metall- Keramik-Substrates 1 mit dem Druck P das Verpressen der flüssigen Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 in die Risse 5, sodass diese vollständig mit der Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 gefüllt sind, die nach dem Abkühlen des Metall- Keramik-Substrates 1 aushärtet. Auch bei diesem Verfahren ist es möglich, das Metall- Keramik-Substrat 1 vor dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 mit einem Vakuum zu beaufschlagen, wobei dann im Vakuum das Erhitzen des Metall- Keramik-Substrates zum Verflüssigen der zunächst granulatartigen oder pulverförmigen Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 erfolgt, die dann im flüssigen Zustand nach dem Aufheben des Vakuums, z.B. durch Beaufschlagung des Metall-Keramik-Substrates 1 mit Umgebungsdruck oder Überdruck in die Risse 7 fließt und dort mit dem Abkühlen des Metall-Keramik-Substrates 1 aushärtet und die Risse 5 vollständig verschließt.
Die Verwendung einer beim Aufbringen auf das Metall-Keramik-Substrat 1 pulverförmigen oder granulatartigen Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 hat den Vorteil, dass diese Masse vor dem Erhitzen des Metall-Keramik-Substrates 1 von den der Keramikschicht 2 abgewandten Oberflächenseiten der Metallisierungen 3 und 4 und der
Metallisierungsbereiche 3.1 einfach entfernt werden kann, und zwar z.B. durch Abbürsten, Abwischen usw.
Die Figur 6 zeigt in Draufsicht ein Metall-Keramik-Substrat 1 in Form eines
Mehrfachsubstrates mit großformatiger Keramikschicht 2, mit den Metallisierungsbereichen 3.1 und mit zusätzlichen randseitigen Metallisierungsbereichen 3.2, die ebenso wie die Metallisierungsbereiche 3.1 durch Strukturieren einer DMB-gebondeten Metallisierung (Metallfolie) erzeugt sind. Zwischen den randseitigen Metallisierungsbereichen 3.2 im Bereich der Ecken des Metall-Keramik-Substrates 1 sind Barrieren 9 vorgesehen, die dort die Ätzgräben 6 zwischen den Metallisierungsbereichen 3.1 und 3.2 seitlich verschließen, eine der Dicke der Metallisierungsbereiche 3.1 und 3.2 entsprechende Höhe aufweisen und dadurch eine seitliches Wegfließen der in die Ätzgräben 6 eingebrachten Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 vor ihrem Aushärten verhindern. Da es für die spätere Verwendung des Metal l-Keramik-Substrates 1 erforderlich ist, dass die randseitigen Metallisierungsbereiche 3.2 von einander getrennt sind, sind die Barrieren 9 leit entfern- und/oder durchtrennbar ausgebildet. Sie bestehen hierfür beispielsweise aus dünnen
Metallstegen, die beim Strukturieren der Metallisierung erzeugt wurden, oder aus einer leicht entfernbaren Masse, z.B. aus Kunststoff und/oder Wachs.
Bei allen vorgenannten Verfahren kann es zweckmäßig sein, die Risse 5 vor dem Einbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7, d.h. nach der Strukturierung der Metallisierung 3 bzw. nach dem jeweils mit der Position b) angedeuteten Verfahrensschritt und vor dem weiteren Verfahrensschritt c) bzw. e) zu weiten, und zwar durch
Beaufschlagung des Metall-Keramik-Substrates 1 mit einem einmaligen oder mehrmaligen
Temperaturzyklus zwischen einer reduzierten und einer erhöhten Temperatur, z.B. zwischen einer Temperatur deutlich unter Raumtemperatur und einer Temperatur über 100°C, beispielsweise zwischen einer Temperatur von -50°C und einer Temperatur von + 150°C. Als Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 eignen sich bei der Erfindung grundsätzlich aushärtbare oder polymerisierbare Monomere, Polymere bzw. Kunststoffe oder Kunststoffverbindungen oder Mischpolymere bzw. Kunststoffmischungen
thermoplastischer oder duroplastischer Art, die für das Einbringen in die Risse 5 im noch nicht ausgehärteten bzw. polymerisierten Zustand flüssig oder zähflüssig sind und im ausgehärteten Zustand vorzugsweise eine Quer- und Längsvernetzung aufweisen. Geeignete Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Massen 7 sind beispielsweise solche auf Polyamid- Basis oder Epoxyharz-Basis. Bevorzugt ist der thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 größer als der thermische
Ausdehnungskoeffizient der Keramik der Keramikschicht 2.
Das Aushärten oder Polymerisieren erfolgt z.B. durch Energieeintrag, beispielsweise durch Erhitzen, durch Behandlung mit Ultraschall, mit Mikrowellenstrahlung, mit
Elektronenstrahlung, mit radioaktiver Strahlung usw., oder durch chemische, das Vernetzen bewirkende Zusätze (Härter). Speziell bei Verwendung einer Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 auf Epoxyharz-Basis mit Härter erfolgt das Aushärten durch Hitzeeinwirkung bei einer Temperatur im Bereich zwischen 100°C und 180°C. Das Aushärten der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 7 durch Erhitzen hat den Vorteil, dass sich diese Masse nach dem Aushärten beim Abkühlen des Substrates 1 auf Umgebungstemperatur zusammenzieht. Hierdurch wird die Keramik an den Rissen 5 zusammengezogen, was u.a. Zugkräften in den Metallisierungen 3 und 4 entgegen wirkt.
Das Bonden oder Verbinden der die Metallisierungen 3 und 4 bildenden Metallfolien mit der Keramikschicht 2 erfolgt beispielsweise durch DMB-Bonden, durch Aktivlöten oder durch ein geeignetes Klebematerial, auch polymeres Klebematerial. Als Werkstoff für die
Metallisierungen 3 und 4 sowie die Metallisierungsbereiche 3.1 eignet sich z.B. Kupfer, Aluminium, Silber, Nickel sowie auch Legierungen der vorgenannten Metalle. Als Keramik für die Keramikschicht eignet sich beispielsweise AI203, Si3N4, AIN sowie auch
Mischkeramiken, z. B. AI203 - Zr02.
Die Dicke der Metallisierungen 3 und 4 sowie der Metallisierungsbereiche 3.1 liegt beispielsweise im Bereich zwischen 0,1 mm und 1 ,5mm. Die Dicke der Keramikschicht 2 l iegt beispielsweise im Bereich zwischen 0,2mm und 2mm. Zur Unterstützung der Wirkung, die mit dem Verpressen der Risse 5 erreicht wird, kann es auch zweckmäßig sein, die Metallisierungen 3 und 4 sowie die Metallisierungsbereiche 3.1 mit einer Randabschwächung zu versehen, beispielsweise durch Stufenätzen und/oder durch Einbringen von Vertiefungen 8 im Randbereich, die in den Positionen c) - d) der Figur 5 dargestellt sind und beispielsweise während der Strukturierung der Metallisierung 3 oder aber vor oder nach dieser Strukturierung erzeugt werden. Die Vertiefungen 8 sind an der der Keramikschicht 2 abgewandten Seite der Metallisierungen 3 und 4 und der
Metallisierungsbereiche 3.1 offen und reichen aber bei der dargestellten Ausführungsform nicht bis an die Keramikschicht 2. Die Erfindung wurde voranstehend an Ausführungsbeispielen beschrieben. Es versteht sich, dass zahlreiche Änderungen sowie Abwandlungen möglich sind, ohne dass dadurch der der Erfindung zugrundeliegende Erfindungsgedanke verlassen wird. Vorstehend wurde davon ausgegangen, dass die Metallisierungen 3 und 4 sowie die Metallisierungsbereiche 3.1 von Metallfolien gebildet sind. Die Metallisierungen 3 und/oder 4 und/oder speziell die strukturierten Metallisierungsbereiche 3.1 können aber auch in Dick- /Dünnfilmtechmik durch Auftragen einer Metallpaste auf die Keramikschicht 2 und durch Einbrennen dieser Metallpaste erzeugt sein.
Bezugszeichenliste
1 Metall-Keramik-Substrat
2 Keramikschicht
3, 4 Metallisierung
3.1 Metallisierungsbereich
5 Riss
6 Ätzgraben
7 Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse 8 Vertiefung
9 Barriere
P Druckbeaufschlagung
V Vakuumbeaufschlagung

Claims

Patentansprüche
1 . Verfahren zum Herstellen von Metall-Keramik-Substraten (1 ) mit einer
Keramikschicht (2) und mit wenigstens einer Metallisierung (3, 4) und/oder mit wenigstens eine strukturierte Metallisierung bildenden Metallisierungsbereichen (3.1 , 3.2) an wenigstens einer Oberflächenseite der Keramikschicht (2),
dadurch gekennzeichnet,
dass nach dem Aufbringen der wenigstens einen Metallisierung (3, 4) und/oder der Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) Risse (5), die am Randbereich der wenigstens einen Metallisierung (3, 4) oder der Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) zwischen der Keramik der Keramikschicht (2) und dem Metall der wenigstens einen Metallisierung (3, 4) oder der Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) vorhanden sind und/oder die sich in die Keramik der Keramikschicht (2) hinein erstrecken mit einer aushärtbaren oder polymerisierbaren Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) ausgefüllt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse ein duroplastisches oder thermoplastisches Monomer, Polymer, Copolymer und/oder Mischpolymer ist, beispielsweise ein solches auf Polyamid-Basis oder auf Epoxyharz-Basis.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Aushärten bzw. Polymerisieren der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) chemisch unter Verwendung eines Härters oder eines Polymerisationsmittels und/oder durch Energieeintrag, beispielsweise durch Erwärmen oder Erhitzen, beispielsweise durch Erhitzen auf eine Temperatur im Bereich zwischen 100°C und 180°C, und/oder durch Beaufschlagung mit UV-Licht und/oder mit
elektromagnetischer Strahlung und/oder mit Elektronenstrahlung und/oder mit radioaktiver Strahlung erfolgt, beispielsweise unter Druck oder unter
Aufrechterhaltung des Verpressdrucks oder unter Vakuum.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Aushärten bzw. Polymerisieren der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in wenigstens zwei Stufen erfolgt:
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) durch Verpressen unter Druck (P) in die Risse (5) eingebracht wird, wobei das jeweil ige Metall-Keramik- Substrat (1 ) zumindest nach dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) auf die freiliegende Keramik der Keramikschicht (2) im Bereich des Randes der wenigstens einen Metallisierung (3, 4) oder der
Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) mit einem Überdruck beaufschlagt wird, beispielsweise mit einem Druck im Bereich zwischen 1 ,1 bar und 500bar, und dass anschl ießend das Aushärten oder Polymerisieren der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in den Rissen (5) erfolgt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Druckbeaufschlagung durch ein flüssiges und/oder gas- und/oder dampfförmiges Druckmedium, vorzugsweise in Form von Druckluft oder in Form eines unter Druckstehenden Inertgases erfolgt.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor und während des Aufbringens der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress- Masse (7) das jeweilige Metall-Keramik-Substrat (1 ) evakuiert, d.h. mit einem
Unterdruck, beispielsweise mit einem 70%-igen bis 99%-igen Vakuum beaufschlagt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Einbringen der
Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in die Risse (5) durch
Kapillarwirkung und/oder dadurch erfolgt, dass das Metall-Keramik-Substrat (1 ) nach dem Aufbringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) mit
Umgebungsdruck oder einem Überdruck, beispielsweise mit einem Überdruck im Bereich zwischen 1 ,1 bar und 500bar beaufschlagt wird und anschließend das Aushärten oder Polymerisieren der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in den Rissen (5) erfolgt, wobei beispielsweise nach dem Aufbringen und vor dem Aushärten der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) wenigstes ein nochmalige Evakuieren mit anschließender Druckbeaufschlagung erfolgt.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die noch nicht ausgehärtete oder polymerisierte Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) im flüssigen oder zähflüssigen und/oder im erwärmten Zustand aufgebracht wird.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in pulverförmigen oder/oder granulatartigen Zustand aufgebracht wird, dass anschließend das Metall- Keramik-Substrat (1 ) zur Verflüssigung der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress- Masse (7) erhitzt wird, und dass das Metall-Keramik-Substrat (1 ) nach dem Eindringen der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in die Risse (5) zum Aushärten bzw. Polymerisieren der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) abgekühlt wird, beispielsweise auf Umgebungstemperatur.
1 1 . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor und/oder während des Einbringens der Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) in die Risse (5) diese durch eine wenigstens einmalige
Beaufschlagung des Metall-Keramik-Substrates mit einem wenigstens einmal igen Temperaturzyklus zwischen einer reduzierten und einer erhöhten Temperatur geöffnet werden, beispielsweise mit einem wenigstens einmaligen Temperaturzyklus zwischen einer Temperatur deutlich unter Raumtemperatur und einer Temperatur über 100°C, z.B. mit einem wenigstens einmaligen Temperaturzyklus zwischen einer Temperatur von -50°C und einer Temperatur von + 150°C.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Verwendung einer Kunststoff-Verschließ- und/oder Verpress-Masse (7) mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten der größer ist als der thermische
Ausdehnungskoeffizient der Keramik der Keramikschicht (2).
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Metallisierung (3, 4) und/oder die Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) an wenigstens einem Randbereich mit einer Randabschwächung, beispielsweise durch Einbringen von Vertiefungen (8) und/oder durch eine
Stufenätzung versehen werden.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Keramikschicht (2) beidseitig mit jeweils wenigstens einer Metallisierung (3,
4) versehen wird.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verbinden der wenigstens einen Metallisierung mit der Keramikschicht (2) durch DMB-Bonden, durch Aktivlöten oder Kleben erfolgt.
16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für die wenigstens eine Metallisierung (3, 4) und/oder für die
Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) Kupfer, Aluminium, Silber, Nickel oder eine Legierung jeweils der vorgenannten Metalle verwendet wird.
1 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für die Keramikschicht ein Keramikmaterial der nachstehenden Gruppe AI203, Si3N4, AIN oder eine Mischkeramik, beispielsweise AI203 - Zr02 verwendet wird.
18. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Metallisierung (3, 4) und/oder die Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) eine Dicke im Bereich zwischen 0,1 mm und 1 ,5mm und/oder die
Keramikschicht (2) eine Dicke im Bereich zwischen 0,2mm und 2mm aufweist.
19. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpress-Masse in Ätzgräben (6) zwischen den Metallisierungsbereichen (3.1 , 3.2) eingebracht wird, und dass die Ätzgräben (6) seitlich durch Barrieren (9) verschlossen sind.
20. Metall-Keramik-Substrat mit einer Keramikschicht (2) und mit wenigstens einer
Metallisierung (3, 4) und/oder mit wenigstens einer strukturierten Metallisierung bildenden Metallisierungsbereichen (3.1 , 3.2) an wenigstens einer Oberflächenseite der Keramikschicht (2), dadurch gekennzeichnet,
dass Risse (5), die am Randbereich der wenigstens einer Metallisierung (3, 4) und/oder der Metallisierungsbereiche (3.1 , 3.2) zwischen der Keramik der
Keramikschicht (2) und dem Metall der wenigstens einen Metallisierung (3, 4) oder der Metallisierungsbereich (3.1 , 3.2) vorhanden sind und/oder die sich in die
Keramik der Keramikschicht (2) hineinerstrecken mit einer aushärtbaren oder polymerisierbaren Kunststoff-Verschluss- und/oder Verpress-Masse (7) ausgefüllt sind. Metall-Keramik-Subtrat nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoff- Verschließ- und/oder Verpressmasse (7) ausschließlich oder im
Wesentlichen ausschließlich die Risse (5) ausfüllt.
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