WO2013073873A1 - 선광원 발생장치와, 선광원 발생장치를 구비한 노광기와, 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템 - Google Patents

선광원 발생장치와, 선광원 발생장치를 구비한 노광기와, 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템 Download PDF

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exposure
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Definitions

  • the present invention relates to a line light source generator, a lenticular system used in the line light source generator, and an exposure machine including the line light source generator.
  • the present invention also makes a method for producing a fine linear light source.
  • the present invention also relates to a method of manufacturing a microcircuit board using a line light source having a fine line width and the microcircuit board thereby.
  • the present invention is characterized by using a line light source characteristic provided by Lenticular.
  • the line width of the line light source can be manufactured up to nano size.
  • the line light source exposure machine for generating a nano-sized line width is a breakthrough invention.
  • the exposure machine provided with the line light source generator of this invention does not have any restriction
  • a line light source generator using the lenticular of the present invention and an exposure machine provided with the line light source generator employ the condensing function of the convex lenticula.
  • the vertical light function generated in the region near the center of the lens of the convex lenticula is effectively used.
  • a lenticular system in which the lenticular is combined in various forms is used.
  • the form of the lenticular system is; There are a form consisting of one lenticular and a form in which a plurality of lenticulars are laminated. One convex lenticular is used for one lenticular, or one concave lenticular is used. In the form of the stacked lenticulas, there are a form in which only the same ones are laminated, and a form in which heterogeneous ones are appropriately combined and arranged in a stack.
  • the lenticular system of the lenticular system of the present invention includes at least a portion of the vertical light lenticular.
  • the vertical light lenticular includes convex vertical light lenticulars or concave vertical light lenticulars. Combinations or arrangements of these can be applied in a wide variety of forms, as they are designed for each situation.
  • the Lenticular system can simultaneously use the condensing function of the convex lenticula and the light splitting function of the concave lenticula.
  • Concave lenticura has the function of splitting light. When the light is split, the line width of the line light source becomes finer, and the number of line light sources increases. This allows more delicate exposures.
  • an exposure machine means the apparatus which transfers a pattern to the material (Photo-resist: PR, photosensitive material) which reacts to light.
  • PR photosensitive material
  • This process consists of several processes.
  • substrate is prepared.
  • the pattern film on which the pattern is formed is placed on the substrate. UV light is exposed on the pattern film. The ultraviolet light exposes the photosensitive material in the shape of a pattern through the pattern film. After the exposure operation, a non-exposed part is chemically removed to transfer a desired pattern.
  • the parallel light exposure machine was used in order to manufacture the circuit which has a fine pitch.
  • Parallel light exposure machine is accompanied by a lot of manufacturing cost, there is a limit to the area that can be applied.
  • an exposure machine having a line light source generator using a lenticular can be manufactured to replace expensive equipment.
  • the exposure machine In general, the exposure machine; It consists of a light source, an optical system for processing light of the light source by an arrangement of various lenses, a table, other transfer devices, a cooling device, and a controller.
  • the exposure machine of this invention It is an exposure machine provided with the line light source generator which uses a lenticular.
  • the linear light source generator includes a light source and a lenticular system.
  • the exposure operation of the exposure apparatus of the present invention is characterized in that it is made through the relative transfer of the line light source generator and the pattern film or photomask.
  • the exposure machine of the present invention is particular to replace the optical system used in the general exposure machine with the line light source generator of the present invention.
  • the line light source generator of the present invention uses a lenticular.
  • the photosensitive layer is exposed correctly and precisely as a pattern of a pattern film or a photomask. Even if the pattern has an extremely fine pitch, the exposure can be performed, and the exposure can be made clear whether the thickness of the photosensitive layer is relatively thick.
  • the linear light source generator of the present invention replaces a simple structure with a complicated optical system manufactured by processing and removing large lenses. For fine and precise exposure, complex and large optical systems must be used. In this case, the reality is that the effective area for actually exposing the substrate is obtained only as large as the palm of the area near the center of the optical system.
  • the present invention can increase the effective area as desired with only a simple lenticular system.
  • the thickness of the lenticular system used in the present invention is most within 1 mm.
  • making large lenses that make up the optical system has physical limitations. But even at the present scientific level, making lenticular large is simple and has no limitations.
  • one of the great features of the exposure apparatus with the line light source generator of the present invention is that it is resistant to vibration.
  • the exposure machine of the present invention has a feature capable of accurate exposure even in a somewhat vibrating environment.
  • the present invention relates to a line light source generator, a lenticular system used in the line light source generator, and an exposure machine including the line light source generator.
  • the present invention also makes a method for producing a fine linear light source.
  • the present invention also relates to a method of manufacturing a microcircuit board using a line light source having a fine line width and the microcircuit board thereby.
  • This invention uses the line light source characteristic which lenticura has. Since the exposure machine provided with the line light source generator of the present invention can be manufactured at low cost, it can achieve a considerable economic ripple effect in the field of the exposure machine. In addition, a large-area fine pitch circuit that could not be manufactured even by using a swollen light exposure machine can be produced in a mass production system through the exposure machine of the present invention. This is a breakthrough in technology in the field of exposure equipment.
  • the present invention it is an object of the present invention to develop an exposure technique capable of processing an ultra-fine circuit at a low cost and exposing a large area.
  • the present invention utilizes the light condensing function and the vertical light function of the convex lenticula for this technology development.
  • the exposure technique of the present invention makes it easy to expose even a circuit formed of extremely fine pitch, even if the substrate is formed with a thick photosensitive layer.
  • the greatest feature of using the linear light source generator of the present invention is that exposure can be performed even with an extremely fine circuit composed of several micron units, that it can be rapidly exposed to a large area, and continuously exposed by scanning operation of the linear light source. There is a characteristic that can work.
  • machining with laser is essential to machining in vibration free space.
  • the exposure apparatus with the line light source generator of the present invention does not create a critical flaw in the result even with slight vibration.
  • the possibility of a microcircuit by a laser is in the form of a point light source.
  • the line light source generator of the present invention is formed in the form of a line light source, which has a great contrast with each other.
  • the balanced light exposure machine In order to expose an extremely fine circuit, a conventionally balanced exposure machine has been used.
  • the balanced light exposure machine has a complicated structure of an optical system, and requires a high manufacturing cost.
  • Optical systems are expensive because complex combinations are required by combining large convex and concave lenses.
  • the effective area of the optical system that can be used in actual work is limited to the limited area on the center of the lens.
  • the exposure apparatus of the present invention having the line light source generator is simple and the apparatus is manufactured using only the optical properties of the lenticular lens without using expensive equipment.
  • Light of the linear light source in the present invention has the property of vertical light having a line shape or quasi-parallel light having a line shape. Even if the line-shaped vertical light having a fine line width passes through the pattern film, light diffusion, diffraction, and scattering effects are minimized, thereby enabling the ultra fine pattern to be exposed precisely.
  • the line light source generator of the present invention satisfies all conditions. First, diffraction, dispersion and scattering of light are to be prevented; Second, it should be a line light source capable of rapid scanning; Third, the light energy will be collected by the lens; Fourth, a line light source of much finer line width would be provided than the extremely fine circuit to be exposed; Fifth, the line light source and the line light source should be spaced apart from each other.
  • Light provided by the line light source generator of the exposure apparatus of the present invention is irradiated onto a substrate on which a photosensitive layer is formed through a pattern film or a photomask.
  • the irradiated light exposes the photosensitive layer in the pattern shape of the pattern film or photomask.
  • Embodiments of the line light source generator of the present invention can be variously configured.
  • the line light source generator using the lenticular used as the core technology includes a light source and a lenticular system as basic components.
  • fine vibration is sometimes applied to the lenticular system through vibration means.
  • the line light source generator performs a relative transfer operation with respect to the pattern film installed in the exposure machine.
  • the exposure operation is performed by this relative transfer operation.
  • the present invention is characterized by using a line light source provided by Lenticular.
  • the lenticula used in the linear light source generator can be configured to have various pitches and focal lengths according to the exposure purpose. In order to expose an extremely fine pitch, the pitch of the lenticula should be designed to have an extremely fine pitch.
  • the line light source generator using the lenticular of the present invention is applied to an exposure machine, the line light source generator is necessarily located on the upper part of the pattern film or photomask.
  • the line light source generator is provided at a predetermined distance from the pattern film or photomask so that there is no friction between them.
  • the exposure operation is performed through the relative transfer operation with the line light source generator spaced apart from the pattern film.
  • the substrate and the pattern film should not slip between each other, and there should be no relative movement between them. That is, during the exposure operation, the substrate and the pattern film must move in a companion structure as if they were integrated.
  • the concave lenticura used in the lenticular system of the present invention makes the line light source light collected by the convex lenticura into a line light source having a narrower line width. At the same time, the number of lines of light of the line light source is increased. In this way, when the number of lines of the line light source is increased and at the same time, the line light source having a narrower line width is used, more precise exposure is possible.
  • the Lenticular system which combines the properties of concave lenticula and convex lenticula, it is possible to make an ultra fine line light source having a line width of tens to hundreds of nanometers. This fact means that the exposure machine provided with the line light source generator of the present invention can be exposed to fine pitch of several microns.
  • the pitch of the circuit to be exposed is only a few microns, and the photosensitive layer used is clean even if the thickness of the photosensitive layer is thicker than several tens of microns. .
  • the nature of the vertical light minimizes diffraction, interference and scattering of the light, thereby allowing exposure of even the finest circuits.
  • a defect free, clear and clean circuit can be configured.
  • the exposure apparatus provided with the line light source generator of the present invention has a feature that the large area can be exposed at once in a short time through the relative movement of the line light source generator.
  • the line light source generator and the pattern film or the line light source generator and the photomask it is necessary to transfer the line light source generator and the pattern film or the line light source generator and the photomask to each other relatively.
  • First when the line light source generator is transported while the pattern film or photomask is stopped, and second, when the pattern film or photomask is transported while the line light source generator is stopped.
  • the generator and the pattern film or photomask may move simultaneously.
  • designing the exposure apparatus of this invention it can design into the form as needed.
  • the line light source generator in the present invention mainly uses the light condensing function of each lens constituting the convex lenticula.
  • concave lenticura and convex lenticura are laminated and used.
  • Each lens of the convex lenticula functions to condense the light of the light source in the form of a linear light source
  • each lens of the concave lenticula functions to further divide and divide the light in the form of a linear light source.
  • the lenticular system in which the convex lenticula and the concave lenticula are stacked has a light condensing function and a light splitting function simultaneously.
  • the light passing through the lenticular system is characterized by a line shape.
  • the present invention utilizes a vertical light function in which light falls vertically.
  • Convex lenticura collects light by refracting light and focusing it.
  • the area near the center of the lens of the lententicure is a weak refraction of light.
  • the vertical light function of the convex lenticura is concentrated.
  • a parallel light exposure machine needs an expensive optical system first.
  • the exposure machine of the present invention is economical because it utilizes only the physical function of the lenticula.
  • the conventional parallel light exposure machine is difficult to expose a large area, but the exposure machine of the present invention can perform large area exposure very easily and quickly through relative transfer of the linear light source generator.
  • the line light source generator and lenticular system of the present invention can be widely used not only in the field of the exposure machine but also in the imaging apparatus and the imaging panel.
  • the image panel used in the existing imaging device is a structure in which the light of the backlight is transmitted through the polarization filter. At this time, the light of the backlight is greatly reduced through the polarization filter. Therefore, a lot of wasted power loss.
  • the polarization filter can be removed.
  • the polarization filter serves as a line light source.
  • the line light source generator of the present invention itself serves as a line light source without a polarizing filter.
  • the line light source generator of the present invention provides a line light source without loss of light. Therefore, if the line light source generator replaces the backlight and the polarization filter of the image panel, there is no loss of light, which can greatly increase the battery life.
  • FIG. 1 is an overall conceptual diagram of an exposure apparatus of the present invention having a line light source generator.
  • FIG. 2 is a perspective view of a general convex lenticura.
  • FIG. 3 is a view showing a state in which light is concentrated in the convex lenticura.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating vertical light of convex lenticula.
  • 5 is an explanatory diagram of vertical light lenticula.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a vertical light lenticura provided with a light transmitting slitting.
  • FIG. 8 is a perspective view of a general concave lenticula.
  • 9A, 9B and 9C show an embodiment of a lenticular system.
  • FIG. 10 is a configuration diagram of a convex lenticula having a light shielding portion.
  • FIG. 11 is a configuration diagram of a concave lenticula having a light shielding portion.
  • FIG. 15 is an explanatory diagram for additionally explaining FIG. 14.
  • 16 is an explanatory diagram of a line light source generator of the present invention.
  • 17 is another embodiment of the superstructure of the exposure apparatus of the present invention.
  • FIG. 18 is an explanatory diagram of a line light source generator for adjusting light intensity inside a container.
  • 19 is an explanatory diagram for explaining a positional relationship between a line light source generator, a pattern film, and a substrate in the exposure machine.
  • exposure machine 2 line light source generator
  • An object of the present invention is a line light source generator using a lenticula. Moreover, the object of this invention is the lenticular system used for the said line light source generator. Moreover, the object of this invention is the exposure machine provided with the said linear light source generator. Furthermore, the object of this invention is the manufacturing method of the fine line light source which converts the general light irradiated from the light source into the line light source which has a fine line width. At this time, the line light source generator uses a lenticular system having a fine pitch. In addition, the object of the present invention is a method of manufacturing a microcircuit board using a line light source having a fine line width and a microcircuit board manufactured thereby.
  • the characteristics of the line light source generated through the lenticular system of the present invention are basically used.
  • the lenticular system is manufactured using the lenticular system.
  • the exposure machine provided with the said line light source generator is manufactured.
  • an extremely fine line light source of which the line width of the line light source is nano size can be made.
  • the lenticular system of the present invention is constructed.
  • the line light source generator using the lenticular system of the present invention can be usefully used in other industries, but can be most effectively utilized in the field of an exposure machine.
  • the line light source generator using the lenticula of the present invention may be provided with additional equipment, but basically includes a light source and a lenticular system.
  • the light source may be used as a surface light source LED using a compound semiconductor, or may be used as a light source by mounting a plurality of LEDs. Of course, in addition to the LED, all the light emitters can be used as a light source.
  • the lenticular system may be composed of a single convex lenticura. However, in most cases, one convex lentilizer and one concave lenticula are stacked and used, or several lenticulas are stacked and used.
  • the intensity of the light used during exposure is very important.
  • the uniform distribution of light plays an important role.
  • the light of the light source is preferably uniformly irradiated with respect to the entire area of the lenticular system with uniform distribution and uniform intensity.
  • the line light source generator of the present invention can be exposed only if there is a relative transfer with respect to the pattern film mounted on the exposure machine.
  • the light source and the lenticular system constituting the line light source generator of the present invention are relatively conveyed with respect to the pattern film of the exposure machine in the form of moving in the same direction and at the same speed without relative movement to each other.
  • the light source and the lenticular system are often mounted in one container.
  • the light source and the lenticular system are mounted in one container as described above; In the container, the light source can be oscillated in a plane or fine vibration can be applied to the lenticular system.
  • the light source and the lenticular system are mounted in one container, relative transfer must occur with respect to the pattern film of the exposure machine at the same speed and in the same direction as a whole.
  • the light passing through the line light source generator of the present invention is ideally lowered in the vertical direction. In this way, the light goes straight down, rather than scattered sideways or diffracted.
  • a line light source generator is referred to as a vertical light source generator in the present invention.
  • the function of the central region of the lenticular lens is mainly used.
  • a lenticular which has a function of allowing light to descend substantially in a direction perpendicular to the substrate is defined in the present invention as a vertical light lenticular.
  • Vertical light lenticura as defined in the present invention does not mean that the light goes down vertically perfectly.
  • the vertical light defined in the present invention is that the collected light needs to go down almost in the vertical direction.
  • vertical light lenticules there are two kinds of vertical light lenticules. There is a vertical light lenticular made of convex lenticula, and a vertical light lenticular made of concave lenticula.
  • Vertical light lenticulars made of convex lenticula are defined as convex vertical light lenticulas
  • vertical light lenticulars made of concave lenticulas are defined as concave vertical light lenticulas.
  • vertical light lenticular means convex or concave vertical light lenticular.
  • the concave vertical light lenticula and the convex vertical light lenticula correspond to each other. Corresponds to each other like a female thread.
  • the lenticules used in the line light source generator of the present invention can also be used. In this case, however, the accuracy of the exposure operation may be lowered.
  • the line light source generator of the present invention the exposure machine of the present invention, the lenticular system of the present invention, etc., it is preferable to use a vertical light lenticular to accurately perform the function of the lenticular which generates the line light source.
  • the simplest and most basic form consists of only one convex lenticura.
  • the next simple form is that one concave lenticura is laminated under one convex lenticula.
  • at least one convex lenticura and at least one concave lenticura can be produced in a laminate.
  • the lenticular stack is arranged by combining convex lenticula or concave lenticula in an appropriate order.
  • the exposure apparatus of this invention is demonstrated.
  • the general concept of the exposure machine of the present invention will be described. And to explain the specific configuration will be described an embodiment divided into a superstructure and a lower structure.
  • the exposure apparatus of this invention is equipped with the line light source generator which uses a lenticular.
  • the linear light source generator includes a light source and a lenticular system.
  • the exposure operation of the exposure machine of the present invention is performed through relative transfer between the linear light source generator and the pattern film.
  • the pattern film and the photomask perform almost the same functions and almost the same purpose, even if only the pattern film is mentioned, the photomask is equally applicable unless otherwise specified.
  • the exposure operation is possible only if there is a relative transfer operation between the line light source generator and the pattern film.
  • the structure of the movement of the substrate under the pattern film and the table under the substrate may be appropriately designed as necessary. Any one of the above three types of exposure machine of the present invention is applied. In each case, a structural design is required that matches the operating structure of the exposure machine. Such a structural design is merely an application of a known technology, and therefore will not be described separately.
  • the upper structure of the exposure apparatus of the present invention will be described.
  • the line light source generator is configured.
  • the upper structure may be further provided with a conveying means for transferring the line light source generator, a cooling means for cooling the heat of the light source, a controller and the like.
  • the upper structure may be configured to additionally the elastic roller.
  • the lower structure of the exposure apparatus of the present invention is a structure formed under the upper structure.
  • the underlying structure of the exposure machine of the present invention basically comprises a table.
  • the table is detachably mounted with a substrate coated with a photosensitive material.
  • the table can be configured to have a close contact means for bringing the substrate into close contact.
  • the undercarriage may include a conveying means for conveying the table, a cooling means for cooling the line light source generator, a power supply means, a controller, and the like.
  • a pattern film or a photomask, a substrate on which the photosensitive layer is formed, and the like are detachably positioned.
  • a pattern film or a photomask positioned between the upper structure and the lower structure, a substrate on which the photosensitive layer is formed, and the like are removable when preparing or completing an exposure operation.
  • attachment / detachment from the exposure machine structure of this invention is defined as an accessory, not regarded as a component of an exposure machine in this invention.
  • the standard configuration procedure for the exposure machine of the present invention is as follows. However, of course, it can be changed to suit each situation and characteristic.
  • a pattern film or photomask and a substrate are positioned between the linear light source generator and the table.
  • the substrate is positioned below the pattern film or photomask and mounted in a detachable state on a table.
  • Light of the line light source produced by the line light source generator of the present invention is irradiated to the pattern film or photomask of the exposure machine.
  • the light of the linear light source passes through the pattern film or photomask and then exposes the photosensitive layer of the substrate.
  • the pattern film or photomask When the exposure operation is performed, the pattern film or photomask is in close contact with or spaced from the substrate. In addition, when the exposure operation is performed, the pattern film or the photomask should never slip with the substrate. In addition, when the exposure operation proceeds, the substrate is in close contact with the table so that slip does not occur. However, the substrate may slip against the table.
  • the substrate and the table can be brought into close contact with each other by means of adhesion by vacuum pressure formed on the table.
  • the line light source generator can be fixed and the table can be moved.
  • the substrate slips against the table, which is a case where the continuous exposure operation is performed while the substrate is wound around the reel using a flexible substrate.
  • the table and the line light source generator are stationary, the pattern film and the substrate is in a state of being in close contact or spaced apart from each other, and is moved while sliding with respect to the table.
  • an elastic roller may be formed in the upper structure, and the pattern film may be pressed using the elastic roller. That is, the pattern film is pressed onto the substrate by pressing using an elastic roller; The pattern film and the substrate become one body and move while slipping with respect to the stationary table.
  • the elastic roller is preferably configured to make the same movement in conjunction with the line light source generator and one body.
  • the superstructure including the linear light source generator is in a stopped state during the exposure operation.
  • a transfer device for relatively transferring the upper structure and the lower structure to each other, a cooling device for removing heat from the light source, the superstructure drive device, the infrastructure drive device, the controller, the power supply device It is a matter of course that the back can be replaced by a commonly used device. Therefore, these specific configurations are not disclosed in the present invention.
  • EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the Example of the exposure machine of this invention is described. However, the present invention is not limited to the examples as long as they do not depart from the gist thereof.
  • the exposure machine of this invention is equipped with the line light source generator of this invention.
  • the exposure apparatus 1 of this invention is comprised by the board
  • the specific configuration of the exposure apparatus of the present invention will be described later with the concept of the upper structure and the lower structure.
  • the line light source generator 2 of the present invention includes a light source 4 and a lenticular system 5 in a basic configuration. It is preferable that the said light source 4 is comprised so that light may be irradiated uniformly with respect to the whole area of the lenticular system which has a fixed area. The most important part of the exposure machine with the line light source generator of the present invention is the lenticular system of the present invention.
  • the line light source generator of the present invention has various forms.
  • the linear light source generator includes a light source and a lenticular system.
  • the lenticular system and the light source do not have relative movement with each other.
  • the simplest form of the linear light source generator is to mount the light source and the lenticular system on the same frame. In this case, in the container, the light source may oscillate, or the lenticular system may vibrate finely.
  • the linear light source generator performs a relative movement with the pattern film mounted on the exposure machine.
  • mounting the light source and the lenticular system in the same container is a common configuration of the line light source generator of the present invention.
  • the light source and the lenticular system can be mounted on various types of structures without the container being mounted. It is one of the core concepts of the present invention that the light source and the lenticular system move together in the same direction and at the same speed. Mechanisms to prevent the light source and the lenticular system from moving relative to each other belong to the core technology of the present invention.
  • the lenticular system is stopped belongs to the concept that the light source and the lenticular system move together in the same direction and at the same speed.
  • the convex lenticura is placed in front of the film for recording the image.
  • Another method is to record multiple images while moving the convex lenticue and film with the subject still.
  • This mechanism is very different from the mechanism of the present invention.
  • the subject is a light source.
  • the stereoscopic camera uses a mechanism that stops the lenticular and moves only the light source, or stops the light source and moves only the lenticular.
  • Mechanisms for recording stereoscopic images using convex lenticuras have been commonly used in recording apparatuses for stereoscopic images. Observing the stereoscopic image, it can be seen that a plurality of images are recorded on the film through each convex lenient lens. This shows that a plurality of images having different wide angles for the same subject are recorded in a plurality of lenticular pitches. This is a principle in which images of a plurality of wide-angle subjects are recorded in the pitch of each lens of the convex lenticura, so that three-dimensional images can be viewed.
  • coated uniformly is located on the table of the exposure machine of this invention.
  • the substrate is detachable from the table when the substrate is ready for exposure or the exposure is completed.
  • the substrate may be fixed to the top of the table by the adhesion device.
  • a pattern film or a photomask is positioned on the substrate. The pattern film or the photomask may be detachable from the table when the exposure film is prepared or the exposure is completed.
  • the pattern film or photomask is mounted on or in close contact with the substrate. During the exposure operation, the pattern film or photomask should not have any relative movement with respect to the substrate. During the exposure operation of the exposure apparatus of the present invention, the pattern film or photomask should be configured to allow relative transfer between the line light source generator and each other. Namely, when the line light source generator is stopped, the pattern film or photomask is transferred; When the pattern film or photomask is stopped, the line light source generator is transferred. Of course, it is also possible to transfer both the linear light source generator and the pattern film, but in this case, the feed rate must be different.
  • the lenticular system of the linear light source generator is configured under the linear light source generator.
  • the lenticula system formed under the line light source generator is preferably spaced at a predetermined distance. In order to realize accurate exposure work, the smaller the distance is, the better.
  • various transfer means 3 Said relative transfer is possible by various transfer means 3.
  • various forms such as using a motor and a rail, using a rack and pinion, or using an LM guide may be used to transfer the linear light source generator.
  • the line light source generator is stationary and can be configured to move the substrate structure 9 under the line light source generator.
  • the substrate structure refers to a structure located under the line light source generator.
  • the substrate structure may include a table, a table feeder, a vacuum generator, a cooling means, and the like.
  • the substrate on which the photosensitive material is applied is detachably placed on a table, and the substrate is separate from the substrate structure.
  • an adhesion device that adheres the substrate to the table using vacuum pressure may be provided.
  • the table transfer device for moving the table of the exposure machine is configured in various forms. These devices are all included in the substrate structure.
  • the substrate is mounted in a form detachable from the table of the exposure machine.
  • the photosensitive layer 7 is uniformly applied to the substrate 8.
  • the pattern film or the photomask may be mounted in a state in which the pattern film or the photomask is in close contact with the substrate. During the exposure operation, the pattern film or photomask should not move relative to the substrate.
  • the photosensitive layer on the substrate is coated with a transparent protective film. This is to protect the photosensitive material.
  • the exposure operation is performed using the exposure apparatus of the present invention, the exposure operation is performed with the transparent protective film attached, or the exposure operation is performed with the transparent protective film removed.
  • the exposure work with the transparent protective film has the advantage that the photosensitive layer is protected, and if the exposure work with the transparent protective film removed there is an advantage that can be precise exposure.
  • the pattern film or the photomask should be prevented from damaging the photosensitive layer.
  • the pattern film or photomask is exposed to a predetermined distance away from the photosensitive layer, or secondly, the releasability is increased on the surface of the pattern film or photomask, and then exposed to the photosensitive layer.
  • Exposure in the state in which the protective film is coated on the photosensitive layer is preferable because the photosensitive material is not damaged.
  • the most accurate exposure is to perform the exposure work by bringing the pattern film or photomask into close contact with the photosensitive layer while the protective film of the photosensitive layer is peeled off.
  • the second accurate exposure is to perform the exposure work by bringing the pattern film or photomask into close contact with the photosensitive layer while the protective film of the photosensitive layer is coated.
  • the third accurate exposure is to perform the exposure work by separating the pattern film or photomask from the photosensitive layer while the protective film of the photosensitive layer is removed.
  • the fourth accurate exposure is to perform the exposure work by separating the pattern film or photomask from the photosensitive layer in a state where the protective film of the photosensitive layer is coated.
  • the exposure apparatus of the present invention can be manufactured in a structure that can appropriately respond to the exposure conditions and conditions of the field.
  • the transparent portion of the pattern film is transmitted and the opaque portion blocks the light.
  • the light collected through the line light source generator 2 of the present invention cures the photosensitive layer through the transparent portion of the pattern film 6.
  • the line light source light formed through the line light source generator of the present invention is irradiated to the pattern film, the photosensitive material is exposed to the pattern of the pattern film. After the exposure operation, when the portion where the photosensitive material is not exposed, that is, the portion that is not cured, is removed by a chemical method, a pattern by the exposed portion is formed in the flat plate 8.
  • the substrate is detachably positioned on the table of the exposure machine.
  • the substrate is preferably in close contact with the table.
  • a plate on which the photosensitive material is uniformly applied is called a substrate, and a state in which the substrate is unfolded is described as a flat plate.
  • the pattern film or photomask has a removable structure and is positioned below the line light source generator and above the substrate.
  • a pattern film prevents relative movement with respect to a board
  • the substrate on which the photosensitive material is uniformly applied may have various forms. There is also a form in which a thin photosensitive material is applied to a rigid substrate that is not deformed. If it is wound by a flexible substrate, exposure operation can be performed continuously.
  • the roller which can wind a flexible substrate can be comprised in the both sides or one side of an exposure machine table. In this way, the flexible substrate can be wound on a reel, so that the exposure operation can be performed continuously.
  • the line light source generator of the present invention may include not only the light source and the lenticular system but also other components to enable additional functions. Even if other components are included in the light source generator of the present invention, if the light source 4, which is a key element of the light source generator, and the lenticular system 5 located below the light source are included, the light source generator of the present invention is generated. It is included in the device.
  • the lenticular system used in the present invention has a form consisting of one lenticular and a form in which a plurality of lenticulars are laminated.
  • One convex lenticular is used for one lenticular, or one concave lenticular is used.
  • the stacked lenticulas there are a form in which only the same ones are laminated, and a form in which heterogeneous ones are appropriately combined and arranged in a stack.
  • the form in which heterogeneous ones are appropriately combined and stacked with each other is one in which at least one convex lenticular and at least one concave lenticular are arranged in an appropriate order.
  • the lenticular system of the lenticular system of the present invention includes at least a portion of the vertical light lenticular.
  • the vertical light lenticular includes convex vertical light lenticulars or concave vertical light lenticulars.
  • the combination or arrangement order of the stacked lenticulas can be applied in a wide variety of forms because the design is suitable for each situation.
  • the respective lenticulars can be directly laminated, and in some cases, they are laminated upside down.
  • a convex lenticula is generally formed at the top.
  • a concave lenticura can be constructed.
  • concave lenticula is stacked below the convex lenticula.
  • the number of concave lenticulas is at least one form. If you want to divide the light of the concentrated light source into a larger number, you can increase the number of concave lenticula.
  • the line light source generator is located above the pattern film or photomask.
  • the linear light source generator is located at a predetermined distance away from the pattern film or photomask to allow relative transfer without friction.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a general convex lenticura.
  • the convex lenticura 10 has a shape in which pillars having convex portions are continuously connected.
  • a plurality of convex lenticura lenses 11, called convex lenticuras, are continuously connected to the side surfaces.
  • Each convex lenticura lens has a long columnar shape.
  • Convex lenticura is a shape in which a plurality of convex lenticura lenses are connected sideways.
  • Each convex lenticura lens has a flat surface on one surface and a columnar shape with convex portions on the other surface.
  • the light of the light source is condensed in the form of a line.
  • Such convex lenticules are commonly used for recording and replaying stereoscopic images.
  • FIG. 3 is a view illustrating a state in which light of a light source is collected through convex lenticula.
  • Each convex lenticular lens 13, 14 condenses the light of the light source 12.
  • the collected light exposes the photosensitive layer 15 in a line shape.
  • the collected light forms the exposed portion 16.
  • the exposed portion and the non-exposed portion appear in a linear form on the photosensitive layer.
  • the light of the light source 12 is irradiated to the convex lenticura, the light is focused toward the focus of each of the lenticular lenses 13 and 14.
  • the focal length of the lens changes.
  • the light focused on the photosensitive material 15 can be adjusted.
  • the light collecting ability of the lens can be tuned.
  • An exposure part 16 is formed in the photosensitive layer by the collected light.
  • FIG. 4 is a view showing a vertical light state occurring at the center of each lens of the convex lenticura.
  • the convex lenticura refracts the light received from the upper side through the curved surface of each lens and condenses the light toward the focal point.
  • the light irradiated near the center portion of each convex lens has a fine refractive effect. In other words, the deflection is lowered almost vertically downward.
  • the more light is deflected toward the center of each convex lenticura lens, the more the light is focused toward the focal point.
  • the condensation phenomenon occurs through the above-mentioned stacking action. The farther away from the center of each lens, the greater the angle of refraction.
  • a portion of the light which is extremely fine and descends almost vertically downward is defined as a vertical light region.
  • the vertical light region corresponds to a region near the center of each lens of the convex lenticula.
  • the vertical light lenticura is explained by cutting only the regions near the center of each lens of the convex lenticura and connecting them to form the convex lenticura.
  • Vertical light lenticura is a function of condensing light emitted from a light source and transmitting the light to the bottom, and transmitting the light vertically.
  • the central region of the convex lenient lens does not mean exactly the center portion of the convex lenient lens. It defines as including the small range of right and left area
  • the constant range region 18 near the center of the convex lenticura lenses condenses the light source 17 and transmits the light downward in a substantially vertical direction.
  • the refractive action is minimized.
  • the light irradiated in this area is focused and descends vertically.
  • Light condensed and emitted in a substantially vertical direction through a region near the center of the lenses of the convex lenticula is defined as vertical light in the present invention.
  • the area of the convex lenticura lens which causes the light to be condensed down in a substantially vertical direction is defined as the vertical light area 18 in the present invention.
  • a certain range near the center of the convex lenticula lenses becomes the vertical light region. Even the vertical light lenticule is the object of protection of the invention.
  • Vertical light in the present invention means almost near vertical, and does not mean exactly vertical.
  • Vertical light lenticula is a representative embodiment of the lenticula system used in the line light source generator of the present invention.
  • various types of convex or concave lenticulars can be used, but the vertical light lenticular is most efficient.
  • various types of lenticulars can be used for the exposure machine of the present invention in addition to the vertical light lenticulars.
  • the pitch of the lenticular used must be fine size.
  • the pitch of the vertical light convex lenticula was 30 microns
  • the line width of the line light source was 3 microns.
  • This lenticular system was used to implement a microcircuit with a pitch of 20 microns.
  • the efficiency of the line light source generator varies depending on the pitch size and the focal length of the lenticula. It can be manufactured by various methods such as vertical light lenticule having extremely fine pitch. Hereinafter, various methods of manufacturing vertical light lenticulars will be described.
  • one or several lenses constituting the vertical light convex lentilizer are subjected to bite or laser processing.
  • the vertical light convex lenticura lens is composed of only the region portion near the center of the convex lentilura. After processing, the vertical light lenticular can be produced by copying and connecting the same.
  • the pitch of the vertical light lenticula is significantly smaller than the pitch of a typical convex lenticula. This is because the convex lenticura is constituted only by the region near the center of the lenses of the convex lenticula. Only when the pitch of the vertical light lenticular is less than several tens of microns can a circuit board having a pitch of several microns can be processed.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the configuration of the vertical light lenticura of the present invention.
  • Vertical light lenticura in the present invention can be configured in various forms of embodiments.
  • FIG. 5 shows only the vertical light region 21 of each convex lenient lens. This is a representative form of the vertical light lenticura of the present invention.
  • the light of the light source located at the upper side passes through the vertical light lenticule of the present invention and is transmitted downward in a substantially vertical direction in a focused form.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a vertical light lenticular which forms a lens shield on the convex lenticura to implement vertical light;
  • FIG. This is one embodiment of the vertical light lenticular of the present invention.
  • the opaque shield 24 is filled in portions except the vertical light region 25 to shield the passage of light. This constitutes a vertical light lenticular through a method of filling an opaque shield in a portion other than the vertical light region in the lenticular lenses. If the photosensitive material is placed under the vertical light lenticular, the light is irradiated only through the vertical light region 25 of the lenticular lens to form the exposure part 26.
  • light transmitting slits are formed under the convex lenticura.
  • the light transmitting slits are configured under the central portion of each convex lenient lens 29.
  • the light transmitting slits are configured such that light passes only in a region below the central portion of the convex lenticula lens 29.
  • the light transmitting slits can be produced by digging grooves in the opaque plate along the lengthwise direction of each lenticular lens.
  • the light transmitting slits may be formed, but the transparent portion may be formed in the film even if light passes only in a region below the central portion of the convex lens.
  • the light condensed through each lens 29 of the convex lenticula is transmitted downward, only the light allowed through the light transmitting slits descends to the bottom.
  • the photosensitive layer is placed below the light transmitting slits, the collected light is irradiated onto the photosensitive layer 31 to form the exposure part 33.
  • the light transmitting slits are supported through the slits support 30.
  • the shield of FIG. 6 and the light transmitting slits of FIG. 7 are simultaneously configured in the lenticula.
  • the lenticula if the lenticula can form vertical light even in part, the lenticula is referred to as vertical light lenticula.
  • a number of lenticular lenses are connected by a lenticule.
  • Each lenticular lens has the same cross section in the longitudinal direction of the lens. As long as the number of lenses of a lenticular is at least one, it is called a lenticular in this invention. Therefore, of course, even a lenticule in which the number of lenses of a lenticula is one belongs to the present invention.
  • Fresnel lens can be used to induce more efficient light utilization. This also belongs to an embodiment of the present invention.
  • a lenticular is always used.
  • the line light source generator of the present invention includes a light source and a lenticular system.
  • the representative embodiment is that the light source and the lenticular system are configured to be mounted in one container.
  • the light source includes an LED light source, and various types of light sources can be used.
  • the light source is preferably irradiated uniformly over the entire area of the lenticular system.
  • the light source can be configured to oscillate in the front, rear, and / or left and right directions in a plane parallel to the lenticular system.
  • to adjust the intensity of the light it can be configured to adjust the distance to the lenticular system by moving the light source up and down. As a method for adjusting the distance, it can be done using a scrub or various other methods.
  • the lenticular system is provided with a vibration means to apply a fine vibration.
  • the lenticular system of the present invention comprises at least one convex lenticura, or is configured to include at least one concave lenticular. It is also configured to include at least one convex lenticura and at least one concave lenticura at the same time.
  • the lenticular system includes at least one vertical light lenticular.
  • the vertical light lenticura at this time means a convex vertical light lenticura or a concave vertical light lenticula.
  • the lenticular system may be configured to include at least one convex lenticura configured with an opaque shield.
  • the lenticular system may be configured to include at least one lenticular in which light transmitting slits are formed.
  • the lenticular system may be configured to include at least one or more lenticulars in which light blocking parts are formed.
  • the line light source generator of the present invention comprises a light source and a lenticular system;
  • the shape in which the light source and the lenticular system are fixed without being moved relative to each other is the most representative form.
  • the line light source generating device includes a light source and a lenticular system;
  • the light source and the lenticular system can be configured to be mounted in the same line light source container.
  • the lenticular system when the lenticular system is composed of only one convex lenticura, the same number of line shapes as the convex lenticura lens are formed in the lower part of the lenticular system. That is, when only one convex lentilizer is used, the number of lines of the line light source is formed corresponding to the number of convex lentilizer lenses.
  • the size of the line light source generator is compared with the size of the lenticular system.
  • the length in the longitudinal direction of the lenticular lens is defined as the length of the lenticular system, which is also defined as the length of the line light source generator.
  • the size of the lenticular system is defined as the width of the lenticular system, which is also defined as the width of the line light source generator.
  • the length of the line light source generator should be long, and the transfer distance in the width direction of the line light source generator should be long. Since the conveying operation is possible in the width direction of the linear light source generator, a large area exposure operation is possible even if the width of the linear light source generator is small.
  • the length of the line light source generator of the present invention that is, the size in the longitudinal direction of the lenticular lens, can be produced as long as the lenticular lens is produced. Therefore, in the present invention, a large-area exposure work can be easily performed.
  • the size of the line light source generator of the present invention will be described below. If the specification of the substrate to be exposed; In the case of 1 meter in width and 200 meters in length, the width of the line light generator is about 10 centimeters and the length of the line light generator is slightly larger than 1 meter. At this time, the transfer distance is required at least 200 meters or more.
  • the lenticular system is configured at the bottom of the line light source generator, and is located on the pattern film or the top of the photomask.
  • the pattern film or photomask is preferably spaced apart from the line light source generator by a predetermined distance.
  • the linear light source generator of the present invention can form a large-area exposed portion through relative transfer with a pattern film or a photomask during an exposure operation.
  • such relative transfer between each other can be configured in various ways.
  • the case where the line light source generator is moved and the pattern film is fixed together with the table of the exposure machine will be described.
  • the rail unit and the driving unit may be formed in the linear light source generator, and the driving unit may include a driving motor having a driving gear, and the rail unit may form a rack gear to which the driving gear is engaged.
  • the line light source generator of the present invention uses the condensing function of the lenticular.
  • the light converging function of the vertical light convex lentilizer is used in the exposure apparatus of the present invention to the maximum, clean exposure is possible even if the thickness of the photosensitive layer becomes tens of microns or more and the pitch of the exposed circuit width is several microns. Since clean exposure is possible, the structure of a clear circuit is free from defects.
  • the vertical light produced from the line light source generator can prevent the scattering, diffraction and reflection of the light as much as possible.
  • the line light source generator using the lenticula of the present invention includes a light source and a lenticular system as basic components.
  • the lenticular system is roughly divided into two types. The first is a form composed of only one lenticula, and the second is a form of a lenticula laminate in which a plurality of lenticulas are laminated.
  • the lenticular stack is arranged by appropriately combining convex lenticula or concave lenticula.
  • at least one concave lenticura is laminated on the lower part of the convex lenticura.
  • at least one or more sheets may be laminated only by a concave lenticula, and various other forms of lamination exist.
  • the lenticular system when the lenticular system is obtained by laminating convex lenticula and concave lenticula, exposure of a circuit having a finer pitch in the exposure operation is possible. This is because when the stacked lenticulas are used, a line light source having a line width of a line light source of several tens of nano units can be made. When a line film having such a line width of several tens of nanometers is irradiated onto the pattern film, exposure to a circuit width of several microns is possible.
  • Lenticular is made of a transparent material.
  • One surface is composed of a flat surface, and the other surface is composed of a convex lens or a concave lens.
  • the concave or convex lenses are arranged in a columnar shape in succession.
  • the definition of concave lenticura used in the present invention is as follows. It is made of a transparent material called concave lenticure, one side is composed of a plane, and the other side is defined as a concave lens column shape arranged continuously.
  • the lenticular system of the present invention comprises at least one convex lenticura array, or at least one concave lenticura, or constitutes a laminate in which at least one convex lentilura and at least one concave lenticura are laminated. Can be.
  • the lenticular system of the present invention can stack convex lenticula and concave lenticula in various orders, and can produce different effects depending on the order and method of lamination.
  • the stacking order of Lenticular is much influenced on the performance of the exposure machine, so it is designed for each situation.
  • FIG. 9A is a concave lenticura stacked on the bottom of the convex lenticura.
  • the convex lenticura lens functions as a convex lens
  • the concave lenticura lens functions as a concave lens.
  • the central portion of the concave portion is called a valley in the present invention.
  • FIG. 9B shows four concave lenticuras 38, 39, 40, and 41 stacked under the convex lenticula 37. Arranging the concave lenticuras upside down can produce another effect. It is possible to change the performance of the lenticular system by changing the shape of laminating the concave lenticula at the top or laminating the convex lenticula at the bottom.
  • FIG. 9C shows an embodiment in which concave lenticuras are arranged under the convex lenticura, and convex lenticuras 44 are formed in the lower part of the concave lenticula 43.
  • the light condensed by the convex lenticula is divided by the concave lenticula.
  • the concave lenticura divides the light of the line light source.
  • convex lenticura is placed at the top and concave lenticula is laminated at the bottom;
  • the light irradiated from the light source is transmitted to the concave lenticula as the light having the same number of lines as the number of the convex lenticula lenses.
  • the above line-shaped light is divided by the lower concave lenticular lens.
  • the same number of lines of light as the number of lenses of the convex lenticula is divided into more lines of light by the concave lenticura positioned below.
  • the line light source is divided into a larger number of line light sources.
  • the concave lenticura is divided into a larger number of line light sources, and the line width of the line light source becomes thinner.
  • a line light source having a thinner line width passes through the pattern film with less diffraction and interference.
  • the light condensed and split by the stacked lenticulars are; First, the line width of the line light source is thinned. Second, the number of line light sources is increased. In the present invention, since the light collected and divided by the lenticular system is used, a finer exposure operation is possible.
  • the line light source made through the lenticular system of the present invention can produce light of a line shape having a line width of several tens of nanometers to several hundred nanometers.
  • a stacked light source can be made from tens of nanometers to hundreds of nanometers through a stacked lenticular system. In this case, however, the distance between neighboring sources of light passing through the lenticular system becomes too narrow. If the light sources are too dense and attached like this, an undesirable phenomenon occurs. If the spacing of neighboring line-shaped lights is reduced too much, they can easily stick together.
  • the light blocking part 47 is configured to block the flow of light between the convex lenticuras 46.
  • a light shielding portion can be provided which prevents light from entering between the lens and its neighboring lens in the lenticula.
  • a light shielding part in this invention.
  • the light-shielding portion constitutes a flat plane portion between the lens and the printing therein with an opaque portion by a printing method; It is also possible to form and attach a flat film between the lens and the flat film, and to form a pattern film comprising the opaque portion on the flat.
  • such a lenticular is defined as a lenticular 45 provided with a light shielding part.
  • FIG. 11 is a configuration diagram of a concave lenticula having a light shielding portion. This corresponds to the convex lenticura provided with the light shielding portion.
  • the light shielding portion 50 is positioned between the recessed portion 51 and the recessed portion.
  • FIG. 12 is yet another embodiment of a lenticular system having a light shield.
  • the convex lenticura 53 provided with the light shielding portion and the concave lentilizers 54, 55 and 56 provided with the light shielding portion are laminated to form a lenticular system provided with the light shielding portion.
  • Fig. 13 shows convex lenticulas 57, 59 and 61 having light shielding portions and concave lenticulas 58 and 60 having light shielding portions to form another lenticular system having light shielding portions.
  • This configuration has the advantage of separating the line light source and the line light source generated in the lenticular system.
  • the lenticular system provided with the light shielding part can be made into various forms combining the convex lenticura provided with the light shielding part and / or the concave lenticular which provided with the light shielding part.
  • a lenticular system used in a line light source generator is claimed.
  • the lenticular system of the present invention is composed of only one lenticular or a lenticular stack.
  • the laminate may include at least one convex lenticura, at least one concave lenticura, or at least one convex lentilura and at least one concave lenticura. .
  • the lenticular system of the present invention may include vibration means.
  • the lenticular system of the present invention may include a vertical light lenticular in a part.
  • the types of vertical light lenticulars include vertical light convex lenticuras and vertical light concave lenticulas.
  • a normal lenticular can be constructed by including an opaque shield, a light transmitting slitting, or a light shielding portion.
  • the lenticular system needs to maintain flatness.
  • a transparent plate such as a glass plate.
  • Lenticular systems are thin and can bend well.
  • the most representative embodiment of a transparent plate for maintaining flatness is a glass plate.
  • the transparent plate is positioned to maintain a plane above, below, or above and below the lenticular system.
  • the lenticular system prevents the lenticular from moving with each other when forming a stack.
  • it is desirable to bond integrally. Bonding is not performed on the entire surface of the lenticula, but is formed at the edge of the lenticula.
  • the bonding unit may be configured in various ways. As the most representative embodiment, it can be bonded by ultrasonic bonding or by UV resin. When constituting the bonding portion, it is preferable to process the bonding portion in a vacuum state so that a gap does not occur in the laminated portion of the lenticular and the lenticular.
  • An exposure apparatus provided with the line light source generator of the present invention is characterized by using a lenticular.
  • the linear light source generator comprises a light source and a lenticular system;
  • the light source and the lenticular system generally have a companion structure that moves at the same speed in the same direction.
  • the movement of the light source and the lenticular system in the same direction and at the same speed as a whole is defined as a companion structure.
  • Accompanied structure means that the light source and the lenticular system move in the same direction, and as a whole, both move at the same speed.
  • the most representative method of the companion structure is to mount the light source and the lenticular system in one container.
  • the container is made of a closed or open structure. In this case, the light source and the lenticular system are transported in the same direction and at the same speed as a whole.
  • the conveying direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the lenticular lens.
  • the rocking motion of the light source does not affect the speed of the light source at all, but it is assumed that the rocking speed of the light source is made faster than the moving speed of the light source, and does not significantly affect the speed of the overall light source. That is, when the light source and the lenticular system are transferred for the exposure operation, the conveyance speed of the light source is designed so as not to be greatly affected by the fluctuations, so that the light source moves at the same speed as the lenticular system as a whole.
  • the lenticular system may be subjected to fine vibration by adding vibration means. Strictly speaking, if you have a rocking light source or a vibrating lenticular system, the parts don't move at the same speed. However, for convenience of explanation, it is defined as moving at the same speed as a whole.
  • the term companion structure In the exposure apparatus provided with the line light source generator of the present invention, the light source and the lenticular system are fixed in the same container and move at the same speed without relative movement at all. In this case, the light source does not oscillate and the lenticular system does not vibrate, and moves with one body.
  • the property of the light source is important.
  • the intensity of the light source cannot be said to be uniform for all areas.
  • every effort is made to obtain a uniform distribution of light for all areas.
  • the rocking motion of repeatedly moving in a short time is performed. The fluctuation of the light source can be in any direction, but must be repeated in a short time.
  • a method of controlling the amount of electricity consumed is a typical method.
  • the line light source generator of the present invention provides a method of adjusting the distance between the light source and the lenticular system. Even when the same power is consumed, when the distance between the light source and the lenticular system is close, it is possible to irradiate such strong light.
  • the light source can be adjusted to be far or close to the lenticular system to adjust the distance.
  • the lenticular system is located at the lowest end of the container. By moving the light source from the inside of the container toward the lenticular system, the light source can be located close to it.
  • Various types of linear transfer devices can be applied to construct a device for adjusting the distance between the light source and the lenticular system.
  • the light source and the lenticular system are mounted in the same container, it is also possible to fix the light source and the lenticular system to the container so that there is no movement, so that the light source and the lenticular system do not move relative to each other.
  • the light intensity can only be controlled by the power control used.
  • the line light source generator can function well.
  • An exposure machine in which the light source and the lenticular system are configured such that there is no relative movement between them also belongs to one embodiment of the exposure machine of the present invention.
  • the container When the light source and the lenticular system are mounted in the same container, the container itself is configured to be movable up and down with respect to the table of the exposure machine of the present invention.
  • the vertical movement of such a container makes it possible to perform preparation work for exposure work on a table.
  • the cooling air or cooling water can be circulated forcibly to cool the inside of the container.
  • the mechanical device for making cooling air or cooling water may be inside or outside the line light source generator, or may be configured under the table of the exposure machine.
  • the pattern film or photomask is located under the lenticular system.
  • the lenticular system is positioned at a predetermined distance from the pattern film or photomask. This spacing reduces friction and enables smooth transfer when the relative transfer between them occurs. The spacing is preferably as short as possible.
  • a substrate on which a photosensitive layer is formed is positioned below the pattern film or photomask. The substrate is spaced apart from or in close contact with the pattern film or photomask. When spaced apart, side effects such as diffraction or interference of light cannot be excluded.
  • the pattern film or photomask when the pattern film or photomask is in close contact with the photosensitive layer, the pattern film or photomask may contact the photosensitive layer and damage the photosensitive layer. Therefore, the pattern film or photomask and the photosensitive layer need to be spaced apart from each other. However, in the case of separation, it is desirable to keep the distance as short as possible to reduce the influence of light diffraction and interference.
  • Close contact is necessary for accurate exposure work.
  • the exposure is carried out in close contact, since light is directly transmitted to the photosensitive layer, side effects such as diffraction or interference of light are greatly reduced.
  • the choice of whether to space apart or close contact may be appropriately selected depending on the severity and precision of the exposure operation to be produced.
  • the lenticular system of the present invention it is common to use a convex lenticura for the top layer of the lenticular system, but in some cases, the concave lenticular system is located. Depending on the required characteristics of each exposure machine, the type and lamination form of the lenticular can be varied. In order to construct the most efficient exposure machine, it is preferable to include at least one or more vertical light lenticulars.
  • the lenticular system of the exposure apparatus of the present invention may include a lenticular with an opaque shield, a lenticular with a transparent slitting, or a lenticular with a light shield.
  • the upper structure includes a compression roller 74 wrapped with an elastic body 73 and a line light source generator 75.
  • auxiliary rollers 62, 64 and 65 may be provided.
  • the pressing roller 74 and the line light source generator 75 are linked to each other.
  • the pressing roller is configured in the front portion of the line light source generator, and performs the operation of bringing the pattern film 63 into close contact with the substrate 70.
  • the exposure operation proceeds to the line light source generated by the line light source generator in a state where the pattern film and the substrate are in close contact with each other.
  • the undercarriage includes a table 69 on which the substrate 70 is placed and a contact means 68 which adheres the substrate to the table.
  • the exposure machine of this drawing is designed to fix the table and the upper structure, and to transfer the substrate and the pattern film during the exposure operation.
  • the substrate 70 having the thin photosensitive layer 72 uniformly coated is detachably positioned on the table 69 of the exposure machine.
  • the pattern film 62 is positioned on the substrate.
  • the superstructure with the line light source generator must be moved relative to the pattern film.
  • the transport means shall be constructed on either the superstructure or undercarriage.
  • cooling means for cooling the heat generated from the light source of the linear light source generator is formed in any one of the upper structure or the lower structure. Cooling air or cooling water generated by the cooling means cools the heat generated by the light source of the linear light source generator.
  • the pattern film is pressed onto the substrate by a pressing roller.
  • the substrate can be brought into close contact with the table by the contact means.
  • a fine hole may be formed in the table, and the contact means may be provided to adhere the substrate to the table by the vacuum pressure of the vacuum pump through the fine hole.
  • the upper engine can be moved up and down with respect to the table so that the exposure work can be prepared. This is because it is necessary to move the upper engine upward from the table in the step for preparing the exposure operation.
  • the shape of the pattern film is various. In general, a sheet-like pattern film divided separately is used a lot. In another embodiment, the pattern film may be manufactured in an infinite orbit shape connected to the beginning and the end of the pattern film. This tracked method is advantageous in mass production systems. In the case of the pattern film forming the infinite ruling, the line light source generating device is located inside the pattern film.
  • the upper structure When the pattern film of indefinite degree is not used, the upper structure performs the exposure operation in such a manner that after the exposure operation is performed at the initial position, it is moved away from the lower structure and returns to the initial position again. .
  • a reel structure may be configured to wind the flexible substrate.
  • the substrate is a non-conductive substrate
  • the surface is first thinly sputtered with a conductive metal in order to provide the conductive layer 71 on the substrate 70.
  • plating is again performed on the spattering layer to increase the thickness of the conductive layer 71.
  • the line light source generator and the pattern film of the exposure machine must have relative transfer between each other during the exposure operation.
  • the movement of the pattern film can be connected to the undercarriage to make it move.
  • fixing the superstructure allows the substructure to be relatively moved, and if the substructure is fixed, the superstructure can be relatively moved.
  • the pattern film 63 in which the pattern is formed may also be configured as a caterpillar.
  • the pattern film is configured to be in close contact with the substrate by a pressing roller (74). That is, the pattern film is pressed onto the substrate 70 to which the photosensitive material 72 is applied, and the pattern film and the photosensitive layer coated on the substrate are contacted by the pressing roller so that there is no relative slip between them.
  • the substrate and the table can be brought into close contact with each other by the adhesion means.
  • the linear light source generator 75 is present inside the infinite trajectory 53.
  • the upper structure is configured to be able to move in the vertical direction with respect to the lower structure to enable the exposure preparation work such as replacement of the substrate.
  • the substrate 70 a flexible substrate on which a thin photosensitive layer 72 is uniformly applied is used.
  • the reel of both sides of the table 69 can be wound and continuous exposure operation can be performed.
  • the pattern film is composed of infinite tracks, infinite continuous work is possible.
  • a conductive metal layer 71 is formed on the polyimide film 70, and a photosensitive material 72 is uniformly coated on the metal layer.
  • the position at which the exposure operation is started is defined as an initial position. After performing a range of exposure operations, the apparatus is moved back to its initial position by moving the upper structure away from the lower structure.
  • FIG. 15 is an explanatory diagram for additionally explaining FIG. 14.
  • FIG. The pattern film made of infinite ruling is composed of a transparent 87 and an opaque portion 76.
  • the line light source generator 86 is located inside the infinite ruling.
  • the upper structure includes a compression roller 84 supported by the elastic body 83, at least one auxiliary rollers 77, 78, 79, and the line light source generator 86.
  • the undercarriage includes a table and a contact means for bringing the substrate into close contact with the table.
  • the light source constituting the linear light source generator and the lenticular system are firmly integrated by the support frame 85.
  • the substrate 80 is uniformly coated with the photosensitive material 81.
  • FIG. 16 is an explanatory diagram of an embodiment of the line light source generator of the present invention.
  • the light source 88 and the lenticular system 89 constituting the linear light source generator 91 are mounted in the container 90. It goes without saying that the light source can be configured to oscillate inside the container or to be movable up and down.
  • a rocking structure for rocking the light source or a rocking structure for vibrating the lenticular system finely can be formed inside the container.
  • This structure is a known general equipment can be configured in various ways, so a detailed description thereof will be omitted.
  • auxiliary equipment such as a cooling device for cooling the heat generated from the light source can be installed inside the container.
  • a device may be configured in which the light source device can move in the vertical direction.
  • the lenticular system is generally located at the bottom of the container. In order to control the intensity of the light source, the distance between the light source and the lenticular system may be adjusted within the container.
  • the intensity of light irradiated onto the pattern film or photomask can be adjusted.
  • the upper structure includes a compression roller 97 wrapped in an elastic body, at least one auxiliary roller 100, 101, 102, 103, and the line light source generator 98.
  • the pressing roller and the linear light source generator move in conjunction with each other, and move up and down with respect to the table so as to prepare for an exposure operation.
  • the pressing roller and the linear light source generator are moved in the left and right directions so that the exposure operation can be performed for a large area.
  • the pressing roller and the linear light source generator can be stopped, the pattern film and the substrate can be moved in the horizontal direction, and the exposure can be performed on the large area.
  • the superstructure after performing the exposure operation in the initial position, the superstructure may be returned to the initial position in a state spaced apart from the lower structure to perform a repetitive operation.
  • a thin layer of sputtered metal is formed to impart conductivity
  • a thin plating layer 92 is formed of a metal such as copper on the sputtered metal layer, and then a thin photosensitive layer is formed on the thin plated layer. It is composed.
  • the light source that can be used in the present invention is not limited only to the form mounted on the container.
  • the light of a light source may be revealed with respect to the whole exposure machine table of this invention.
  • the light of a uniform light source may be revealed with respect to the whole operation room which performs an exposure operation. Regardless of what form the light source exists in the present invention, if the light of the light source is transmitted to the photosensitive layer only through the lenticular system, all belong to the present invention.
  • light is not transmitted to the photosensitive layer through portions other than the lenticular system during the exposure operation. This is common to all light sources in the exposure machine of the present invention. As described above, when the light source illuminates the entire table area or when the light source illuminates the entire work room, it is of course not necessary to move the light source. However, during the exposure operation, light is not transmitted to the photosensitive layer through portions other than the lenticular system. The lenticular system, of course, must be relative to each other with respect to the pattern film.
  • the light source comprised in the above form is also defined as being included in the concept of the light source which comprises the line light source generator of this invention.
  • the line light source generator includes a light source and a lenticular system;
  • the linear light source generator is defined as a concept that an exposure operation is performed through relative transfer with a pattern film.
  • LED 18 is an explanatory diagram of a line light source generator for adjusting light intensity inside a container.
  • the light source and the lenticular system are mounted in the same container 104.
  • the light source mounted inside the container is configured to move up and down inside the container.
  • the LED light source 106 can be mentioned.
  • LEDs generally comprise a plurality of individual LEDs on a support to construct a light source.
  • the LED can also be configured as a surface light source.
  • An individual LED is bonded to a support, or an LED composed of a surface light source is referred to as a light source support 105 in the present invention.
  • the light source support is moved up and down inside the container.
  • a lenticular system 107 At the bottom of the container is a lenticular system 107.
  • the light source support is moved up and down in the container to adjust the intensity of light irradiated to the lenticular system.
  • the intensity of the light source used in the exposure machine of the present invention may be controlled by controlling the power required, and may be controlled by adjusting the distance between the light source and the lenticular system.
  • the intensity of light irradiated onto the substrate and the relative conveyance speed of the linear light source generator play a very important role in determining the exposure quality. Therefore, a device that enables to finely control the intensity of the line light source irradiated to the substrate is very important. In addition, it is also very important that the device to be able to finely control the relative feed speed of the linear light source generator.
  • 19 is an explanatory diagram for explaining a positional relationship between a linear light source generator, a pattern film, and a substrate.
  • the lenticular system is located at the bottom of the container.
  • the pattern film or photomask is located under the lenticular system.
  • the substrate is positioned below the pattern film or photomask. 19 illustrates a case where the pattern film or photomask 108 is brought into close contact with the substrate 109.
  • the exposure operation can be performed accurately. If the exposure operation is performed without peeling off the protective film formed on the photosensitive layer, there is no damage to the photosensitive layer even when working in close contact. However, if the protective film is peeled off, the damage to the photosensitive layer must be considered. In this case, it is preferable to expose the pattern film or photomask in a state where a predetermined distance is separated from the photosensitive layer.
  • the uppermost portion of the lenticular system is a convex lenticura, and the lower part of the convex lenticura is configured such that at least one concave lenticura is combined.
  • the concave lenticura is located at the top of the lenticular system, and the convex lenticula is located at the bottom.
  • the lenticular system used in the line light source generator and the line light source generator of the present invention can be used in various forms not only for an exposure machine but also for an image panel of a general imaging apparatus.
  • the conventional imaging device light is transmitted to the image panel through the backlight and the polarizing filter, and when the light passes through the polarizing film, a large amount of light is reduced.
  • the line light source generator is used in an imaging device, the functions of the backlight and the polarization filter can be substituted.
  • the line light source generator of the present invention has a great advantage of being utilized as it is without loss of light provided by the light source. Without light loss, the life of the battery can be greatly increased.
  • fine vibration means may be added to the lenticular system.
  • the lenticular system is equipped with vibration means for generating fine vibration, thereby eliminating the gap between the line light source and the line light source generated in the line light source generator.
  • the distance between the line light source and the line light source is only a few microns to tens of microns in size.
  • the gap due to the gap between the linear light source and the linear light source is solved by the fine vibration of the lenticular system. In other words, by using the optical illusion, the viewer does not feel the gap.
  • a method for producing a fine line light source is also an area of the present invention.
  • the method for producing a fine linear light source of the present invention is characterized by producing a fine linear light source by passing light emitted from a light source through a lenticular system having a fine pitch.
  • the pitch of the lenticular used must be fine. It is also preferred to use a lenticular system comprising a vertical light lenticular.
  • the fine line light source represented above means that the line width of the line light source is fine, and the size of the line width includes the size of several tens of nanometers to the size of tens of microns.
  • a vertical light convex lenticula having a pitch of 33 microns was used, and eight concave lenticuras were stacked below the vertical light convex lenticula.
  • a vertical light convex lenticula having a pitch of 30 microns and a lenticular system in which one concave lentilizer was laminated on the lower part of the vertical light convex lentilizer were used.
  • a line light source generator having a line width of the above line light source of 3 microns it was possible to quickly perform a large-area exposure work.
  • the pitch of the lenticular lens is the same, more precise exposure can be performed by changing the focal length of the lenticular lens.
  • the pitch of the lenticula used in the present invention is extremely fine, the focal length of the lenticula can be variously designed even at the fine pitch.
  • the term "fine light source” is representative of the range of the line width of the light source is in the range of tens of nanometers to several tens of microns.
  • the exposure apparatus of the present invention and the line light source generator of the present invention can be applied at any time even in a region outside of the fine range described above.
  • the range of the fine pitch typically represents a range of several microns to several tens of microns.
  • the lenticula system of the present invention can be applied to any extent even in a region outside the range of the micro-expression described above. How to make the fine lenticura used in the present invention is an important element, but this is not the subject of the present invention, so the detailed description thereof will be omitted.
  • this invention makes the object of this invention the manufacturing method of a microcircuit board
  • a substrate for forming a microcircuit is generally manufactured by an exposure operation and an etching operation. Or it is produced by exposure work and plating work.
  • a light source for performing an exposure operation on a large pitch circuit board is mainly made of scattered light.
  • exposure to a PCB substrate having a large line width circuit may be performed by using a scattered light source.
  • exposure work on a circuit board having a fine pitch has been performed in parallel light.
  • a large-area exposure operation can be easily performed by using an exposure apparatus provided with a line light source generator capable of producing a fine line width.
  • a method of manufacturing a microcircuit board of the present invention comprises: irradiating light of a light source to a lenticular system of the present invention having a fine pitch to generate a line light source having a fine line width; The substrate with the photosensitive layer applied thereon is exposed using the generated light source. Thereafter, a microcircuit substrate is manufactured on the exposed substrate through a developing process and an etching process. Alternatively, a microcircuit substrate is manufactured on the exposed substrate through a developing process and a plating process.
  • the method of manufacturing a fine circuit board by the said plating process is explained in full detail below.
  • the plating process is performed on the substrate after the development work without etching process.
  • the metal circuit part is formed in the space part from which the non-exposure part was removed through the developing process through the plating process.
  • the plating is stopped. Thereafter, the exposed portion is chemically removed.
  • the conductive metal that is exposed where the exposed portion is removed is removed by soft etching. This completes the manufacture of the microcircuit board by the plating method.
  • the method of manufacturing the microcircuit board by a plating process is demonstrated more concretely.
  • a thin conductive layer is formed on the non-conductive support substrate.
  • the most representative example of the non-conductive support substrate may be a polyimide film.
  • a conductive layer is formed to be extremely thin by sputtering a metal such as copper on the non-conductive support substrate.
  • the conductive metal such as copper may be plated thinly on the sputtering layer.
  • the non-conductive support substrate may also include a material that is not flexible.
  • the non-conductive support substrate use a flexible substrate wound in a roll form for mass production.
  • the non-conductive support substrate used in the present invention may include a polyimide film.
  • a photosensitive material is coated on the conductive layer formed on the non-conductive support substrate.
  • the photoresist is evenly applied in a thickness of several microns to several tens of microns. In this case, in order to apply the photoresist well, it is preferable to apply the thin conductive layer after washing through plasma operation.
  • the pattern film is irradiated with light of a line light source having a fine line width generated through the line light source generator of the present invention.
  • the exposed portion and the non-exposed portion are formed on the substrate through the pattern film.
  • the line light source light is irradiated to the photosensitive layer through the pattern film, the light-receiving portion is made of an exposed portion, and the portion not receiving light is a non-exposed portion.
  • the non-exposed part is chemically removed, a space part is formed. A thin conductive layer is exposed under the space part.
  • plating is performed by applying electricity to the exposed conductive layer.
  • a conductive microcircuit is formed in the space portion.
  • a conductive microcircuit grows in the space part.
  • the grown microcircuit can also be cleaned by polishing the surface.
  • the surface may be polished through a polishing wheel, and of course, the polishing may be performed in various other ways.
  • the exposed portion is chemically removed.
  • the space portion is formed where the exposed portion is removed.
  • a thin conductive layer is exposed under the space part.
  • the exposed thin conductive layer is removed through soft etching.
  • the etching space portion is newly formed.
  • the present invention can be widely used in the processing of fine parts. As a kind of fine parts, a fine metal circuit can be mentioned.
  • the present invention has many applications in chip on film or FPCB having extremely fine metal circuits. It is common to use a non-conductive support substrate as a polyimide film.
  • microcircuit board made by the method of manufacturing the microcircuit board is also an object of the present invention.
  • the present invention can be modified in various ways without departing from the technical spirit of the present invention. It is not limited.

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Abstract

본 발명은 선광원 발생장치와, 상기 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템과, 상기 선광원 발생장치를 구비한 노광기에 대한 것이다. 본 발명은 미세 선광원의 제조방법도 본 발명의 대상으로 한다. 또한 본 발명은, 미세 선폭을 가지는 선광원을 사용한, 미세회로 기판의 제조방법과 그에 의한 미세회로 기판도 본 발명의 대상으로 한다. 본 발명은 렌티큐라가 가지는 선광원 특성을 이용한다. 본 발명의 선광원 발생장치는 렌티큐라의 선광원 특성을 사용하여 제작이 된다. 본 발명에서는 나노 사이즈 선폭의 선광원을 만들기 위하여, 렌티큐라시스템을 구성한다. 상기 렌티큐라시스템은 한장의 렌티큐라를 사용하거나, 렌티큐라를 적층체를 사용한다. 본 발명의 선광원 발생장치를 가장 잘 활용할 수 있는 분야는 노광기 분야이다. 본 발명에서의 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성된다. 광원은 균일한 상태로 렌티큐라시스템에 조사되는 것이 바람직하며, 렌티큐라시스템의 전 면적에 대하여 균일한 강도로 조사하도록 하는 것이 바람직하다.

Description

선광원 발생장치와, 선광원 발생장치를 구비한 노광기와, 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템
본 발명은 선광원 발생장치와, 상기 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템과, 상기 선광원 발생장치를 구비한 노광기에 대한 것이다. 본 발명은 미세 선광원의 제조방법도 발명의 대상으로 한다. 또한 본 발명은 미세 선폭을 가지는 선광원을 사용한 미세회로 기판의 제조방법과 그에 의한 미세회로 기판도 발명의 대상으로 한다.
본 발명은 렌티큐라가 제공하는 선광원 특성을 이용하는 것이 특징이다. 본 발명의 렌티큐라시스템을 사용하면 선광원의 선폭이 나노 사이즈가 될 수까지 제작이 가능하다. 나노 사이즈의 선폭을 발생시키는 선광원 노광기는 획기적인 발명이라 하겠다. 기존의 노광기를 사용하면, 노광을 시킬 수가 있는 면적이 한정적이었다. 그에 비하여, 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기는, 노광시키고자 하는 노광물의 길이나 폭에 어떤 제한없다. 필요에 따른 대면적을 얼마든지 가공할 수가 있다는 것은 획기적인 사실이라 하겠다.
본 발명의 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치와, 상기 선광원 발생장치를 구비한 노광기는, 볼록렌티큐라의 집광기능을 응용한 것이다. 특히 볼록렌티큐라의 렌즈의 중앙부 부근의 영역에서 생기는 수직광 기능을 효과적으로 사용한다. 본 발명의 선광원 발생장치에는, 렌티큐라가 다양한 형태로 결합되는 렌티큐라시스템을 사용한다.
상기 렌티큐라시스템의 형태는; 하나의 렌티큐라로 구성되는 형태와, 복수개의 렌티큐라가 적층되어 구성이 되는 형태가 있다. 하나의 렌티큐라로 구성되는 것에는, 하나의 볼록 렌티큐라가 사용되거나, 하나의 오목 렌티큐라가 사용된다. 적층되는 렌티큐라의 형태에는, 동일한 것끼리만 적층이 되는 형태와, 이종의 것이 서로 적절히 조합 배열되어 적층이 되는 형태가 있다.
동일한 것끼리만 적층이 되는 형태로는, 볼록 렌티큐라끼리 적층이 되는 형태와 오목렌티큐라끼리 적층이 되는 형태가 있다. 이종의 것이 서로 적절히 조합 배열되어 적층이 되는 형태는, 적어도 한장 이상의 볼록 렌티큐라와 적어도 한장 이상의 오목 렌티큐라가 적절한 순서로 배열이 되는 형태가 있다.
본 발명의 렌티큐라시스템의 렌티큐라에는 적어도 일부분에 수직광 렌티큐라가 포함되는 것이 바람직하다. 물론 수직광 렌티큐라는 볼록 수직광 렌티큐라 또는 오목 수직광 렌티큐라를 포함한다. 이들의 조합 또는 배열순서는 각 상황에 맞는 설계를 하면 되므로 극히 다양한 형태로 응용이 가능하다.
렌티큐라시스템은 볼록렌티큐라의 집광기능과 오목렌티큐라의 빛의 분할기능을 동시에 이용할 수가 있다. 오목렌티큐라는 빛을 분할시키는 기능을 가진다. 빛이 분할되면 선광원의 선폭은 더욱 미세하게 되며, 선광원의 갯수는 증가한다. 이를 사용하면 더 섬세한 노광작업이 가능케 된다.
일반적으로 노광기란, 빛에 반응하는 물질(Photo-resist: PR, 감광재)에 패턴을 전사시키는 장치를 말한다. 이 과정은 몇가지의 과정으로 구성된다. 기판에 감광재가 도포된 기판을 준비한다. 상기 기판 위에 패턴이 형성된 패턴필름을 올려놓는다. 상기 패턴필름 위에 자외선을 쬐어준다. 상기 자외선은 패턴필름을 통하여, 패턴의 형상대로 감광재를 노광시킨다. 노광작업 후, 화학적으로 비노광부를 제거하여 원하는 패턴을 전사시키는 것이다.
본 발명에서는 감광재가 도포가 되는 다양한 형태의 소재를 기판이라 정의한다. 종래에는 미세 피치를 가지는 회로를 제작하기 위하여서, 평행광 노광기를 사용하였다. 평행광 노광기는 많은 제작비용이 동반되며, 적용시킬 수 있는 면적이 한계를 가진다. 본 발명에서는 고가의 평행광 노광기를 사용하지 아니하고, 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 만들어 고가의 장비를 대신할 수가 있게 한다.
일반적으로 노광기는; 광원과, 다양한 렌즈의 배열에 의하여 상기 광원의 빛을 처리하는 광학계와, 테이블과, 기타 이송장치 와 냉각장치와 콘트롤러로 구성이 된다. 본 발명의 노광기는; 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기이다. 상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성된다.
상기 본발명의 노광기의 노광작업은, 상기 선광원 발생장치와 패턴필름 또는 포토마스크와의 상대적 이송을 통하여 이루어 지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 노광기는 일반적 노광기에서 사용되는 광학계를 본 발명의 선광원 발생장치로 대체하는 것이 특정이다. 본 발명의 선광원 발생장치는 렌티큐라를 사용한다.
본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 사용하면, 페턴필름 또는 포토마스크의 문양대로 정확하고 정밀하게 감광층이 노광된다. 피치가 극히 미세한 패턴일지라도 노광이 가능하며, 감광층의 두께가 상대적으로 두텁다 할지라고 선명한 노광이 가능하다. 본 발명의 선광원 발생장치는 커다란 렌즈들을 가공하고, 결하시켜서 제작하는 복잡한 광학계가 간단한 구조로 대체를 하는 것이다. 미세하고 정밀한 노광을 하려면, 복잡하고 큰 광학계를 사용하여야만 한다. 이 경우, 실제로 기판을 노광시키는 유효면적은, 광학계 중심부근의 영역중에서, 손바닥만한 크기밖에 얻지를 못하는 것이 현실이다.
그러나, 본 발명은 간단한 렌티큐라시스템만으로 유효면적을 원하는 만큼 크게 할 수가 있다는 것은 놀라운 일이라 할 수가 있다. 본 발명에서 사용되는 렌티큐라시스템의 두께는 1 mm 이내의 것이 대부분이다. 현재의 과학 수준에서는 광학계를 이루는 렌즈를 크게 제작하는 것은 물리적인 한계를 가진다. 그러나 현재의 과학 수준에서도, 렌티큐라를 크게 만드는 것은 간단하며 한계를 가지지 않는다. 또한 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기의 큰 특징중 하나는 진동에 강하다는 것이다. 본 발명의 노광기는 다소 진동이 있는 환경에서도 정확한 노광이 가능한 특징이 있다.
본 발명은 선광원 발생장치와, 상기 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템과, 상기 선광원 발생장치를 구비한 노광기에 대한 것이다. 본 발명은 미세 선광원의 제조방법도 발명의 대상으로 한다. 또한 본 발명은 미세 선폭을 가지는 선광원을 사용한 미세회로 기판의 제조방법과 그에 의한 미세회로 기판도 발명의 대상으로 한다.
본 발명은, 렌티큐라가 가지는 선광원 특성을 이용한다. 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기는 저가에 제작이 가능하므로, 노광기 분야에서 상당한 경제적 파급효과를 거둘 수가 있다. 또한 팽행광 노광기를 사용하더라도 제작이 불가능 하였던 대면적 미세피치 회로를, 본 발명의 노광기를 통하여 대량생산의 체제로 생산가능하게 되었다. 이는 노광기 분야에 기술에 있어서 혁기적인 진보를 이룬 것이라 하겠다.
본 발명에서는 낮은 코스트로 극미세 회로의 노광이 가공하며, 또한 대면적의 노광을 할수 있는 노광기술을 개발하는 것을 본 발명의 목적으로 한다. 본 발명은 이러한 기술개발을 위하여, 볼록렌티큐라의 집광기능과 수직광 기능을 활용한다. 렌티큐라의 특성을 최대로 이용함으로써, 본 발명의 노광기술을 이용하면, 두꺼운 감광층을 형성한 기판일지라도, 극 미세피치로 구성되어야 하는 회로라 할지라도 용이하게 노광시킬 수가 있다. 본 발명 선광원 발생장치를 사용할 때의 가장 큰 특징은, 수 미크론 단위로 구성되는 극 미세 회로라도 노광이 가능하다는 것과, 대면적으로 신속히 노광시킬 수가 있다는 것과, 선광원의 스캐닝 작업으로 연속적으로 노광작업을 할 수가 있는 특징이 있다.
작업환경 측면에서 볼 때, 레이저에 의한 가공은 진동이 없는 공간에서 가공을 하는 것이 필수이다. 그러나 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기는 약간의 진동이 있더라도 결과물에는 결정적인 흠을 만들지 않는다는 사실이다. 레이저에 의한 미세 회로의 가능은 점광원의 형태로 이루어진다. 이에 대하여, 본 발명의 선광원 발생장치는 선광원의 형태로 이루어지는 것으로서, 이점이 서로 큰 대비가 된다.
노광속도의 측면에서 보더라도, 본 발명의 선광원으로 스캔하면, 대면적을 생산성 있게 노광시키는 것이 용이하다. 노광 결과물을 엄밀하게 관찰하여 보면, 점광원으로 구성되는 레이저를 통하여 만들어진 노광을 시키게 되면, 노광단면은 원천적으로 거칠기가 거친것을 볼 수가 있다. 그러나 본 발명의 노광기에 의한 노광단면은 깨끗한 상태인 것을 확인할 수가 있었다.
극 미세한 회로를 노광시키기 위하여, 기존에는 평형광 노광기가 사용되었다. 그러나 평형광 노광기는 광학계의 구조가 복잡하며, 고가의 제작비가 소요된다. 커다란 볼록렌즈와 오목렌즈를 결합시켜서 복잡한 조합이 요구되므로 이루어지는 광학계는 많은 비용이 들게 된다. 또한 커다란 광학계를 만든다 하더라도, 실제 작업에 사용을 할 수가 있는 광학계의 유효면적은, 렌즈의 중심부위의 제한적인 영역만 유효면적으로 이루어 진다.
그러나 선광원 발생장치를 구비한 본 발명의 노광기는 장치가 간단하며, 고가의 장비를 이용하지 아니하고, 렌티큐라 렌즈의 광학적 성질만을 사용하여 제작한다. 본 발명에서의 선광원의 빛은, 라인 형태를 가지는 수직광 또는 라인 형태를 가지는 준 평행광의 성질을 가진다. 미세한 선폭을 가지는 라인 형상의 수직광은 패턴필름을 통과하더라도 빛의 확산이나 회절 및 산란작용이 극소화 되어, 극 미세 패턴을 정밀하게 노광시킬 수가 있게 한다.
대면적으로, 극 미세한 회로를 구현하려면 다음조건이 요구된다. 본 발명의 선광원 발생장치는 모든 조건을 충족시킨다. 첫째, 빛의 회절과 분산과 산란이 방지될 것; 둘째, 신속한 스캔작업이 가능한 선광원 일 것; 셋째, 빛 에너지가 렌즈에 의하여 집광될 것; 넷째, 노광되는 극 미세한 회로보다, 훨씬 더 미세한 선폭의 선광원이 제공될 것; 다섯째, 선광원과 선광원은 상호간에 붙지 않도록 간격을 가질 것.
본 발명 노광기의 선광원 발생장치가 제공하는 빛은, 패턴필름을 또는 포토마스크를 통하여 감광층이 형성된 기판에 조사된다. 상기 조사되어진 빛은, 패턴필름 또는 포토마스크의 패턴 형상대로 감광층을 노광시킨다.
본 발명의 선광원 발생장치의 실시예는 다양하게 구성가능하다. 본 발명에 있어서, 핵심기술로 사용되는 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치는, 광원과 렌티큐라시스템을 기본적 구성요소로 포함한다. 선광원 발생장치에 있어서, 진동수단으로 통하여 상기 렌티큐라시스템에 미세 진동을 가하는 경우도 있다.
상기 광원과 렌티큐라시스템은 상호간에 상대적인 이동이 없도록 고정되어 사용되는 것이 가장 대표적인 형태이다. 상기의 선광원 발생장치를 본 발명의 노광기에 적용시켜 노광작업을 진행할 때는, 상기 선광원 발생장치는 노광기에 설치된 패턴필름에 대하여 상호간에 상대적인 이송동작이 이루진다. 이러한 상대적인 이송동작에 의하여 노광작업이 이루어진다.
본 발명은 렌티큐라가 제공하는 선광원을 사용하는 것을 특징으로한다. 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라는, 노광목적에 따라 다양한 피치와 초점거리를 가지도록 구성을 할 수가 있다. 극미세한 피치를 노광시키기 위하여서는, 렌티큐라의 피치 역시 극히 미세한 피치를 갖도록 설계를 하여야 한다. 또한 선광원 발생장치에서는 볼록렌티큐라를 통과한 빛이 수직으로 내려가는 볼록렌티큐라 수직광 기능을 최대한 활용하는 것이 바람직하다. 이러한 수직광에 대한 자세한 설명은 후술키로 한다. 본 발명의 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치를 노광기에 적용시킬 때, 선광원 발생장치는 반드시 패턴필름 또는 포토마스크의 상부에 위치시킨다.
본 발명의 노광기를 사용하여, 유연성 기판을 연속적으로 노광시키고자 하는 경우에는, 선광원 발생장치를 패턴필름이나 포토마스크로부터 일정거리 이격하여 설치하여 상호간에 마찰이 없도록 하는 것이 바람직하다. 선광원 발생장치가 패턴필름에서 이격된 상태로 상호간에 상대적 이송작업을 통하여 노광작업이 진행된다.
이러한 이송작업을 통하여 기판의 면적이 아무리 커도, 선광원 발생장치의 스캔작업을 통하여 용이하게 노광시킬 수가 있다. 일반적으로 모든 노광기는 패턴필름이나 포토마스크의 하부에 감광재가 얇게 도포된 기판이 위치된다. 노광작업이 진행될 때는, 상기의 기판과 상기의 패턴필름은 상호간에 슬립이 있어서도 안되며, 상호간에 어떠한 상대적인 움직임이 없어야 한다. 즉, 노광작업 중에는, 상기 기판과 상기 패턴필름은 일체화 된 것처럼 동행구조로 움직여야만 한다.
본 발명의 렌티큐라시스템에 사용되는 오목렌티큐라는, 볼록렌티큐라에 의하여 집광된 선광원 빛을, 더욱 좁은 선폭을 가지는 선광원으로 만든다. 또한 동시에 선광원의 빛의 라인수를 증가시킨다. 이같이 선광원의 라인수를 증가시키며, 동시에 더욱 좁은 선폭을 가지는 선광원을 사용하면, 더욱 정밀한 노광이 가능케 된다. 오목렌티큐라와 볼록렌티큐라의 성질을 결합시킨 렌티큐라시스템을 사용하면, 선광원의 선폭이 수십 ~ 수백 나노를 가지는 극미세 선광원을 만들 수가 있다. 이 사실은 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 사용하면, 수 마이크론의 미세피치까지 능히 노광시킬 수가 있음을 의미한다.
또한 본 발명 노광기에서, 볼록렌티큐라의 수직광 기능을 사용하게 되면, 노광시키고자하는 회로의 피치가 수미크론에 불과하고, 사용되는 감광층의 두께는 수십 마이크론 이상의 두꺼운 것이라도 깨끗한 노광이 가능하다. 수직광의 성질은 빛의 회절과 간섭과 산란을 극소화시키므로, 극 미세한 회로도 노광 가능케 한다. 본 발명의 노광기를 통하여 노광작업을 하면, 불량이 없고 선명하며 깨끗한 회로의 구성이 가능하다. 또한 대면적 기판이라 할지라도, 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기는, 선광원 발생장치의 상대적인 이송운동을 통하여, 대면적을 짧은 시간에 한꺼번에 노광시킬 수가 있는 특징이 있다.
본 발명의 노광기에서는, 선광원 발생장치와 패턴필름 또는 선광원 발생장치와 포토마스크를 상호간에 상대적으로 이송시키는 것이 필요한다. 이때의 상대적인 이송의 방법으로는; 첫째, 패턴필름 또는 포토마스크는 정지한 상태에서, 선광원 발생장치가 이송되는 경우와, 둘째, 선광원 발생장치는 정지한 상태에서, 패턴필름 또는 포토마스크를 이송하는 경우와, 셋째, 선광원 발생장치와 패턴필름 또는 포토마스크가 동시에 움직이는 경우가 있다. 본 발명 노광기를 설계할 때, 필요에 따른 형태로 설계할 수가 있다.
본 발명에서의 선광원 발생장치는, 볼록렌티큐라를 구성하는 각각의 렌즈가 가지는 빛의 집광기능을 주로 사용한다. 특히 미세한 선폭을 가지는 선광원을 이용하고자 할 경우에는, 오목렌티큐라와 볼록렌티큐라를 적층시켜 사용한다. 볼록렌티큐라의 각각의 렌즈는 광원의 빛을 선광원의 형태로 집광시키는 기능을 하며, 오목렌티큐라의 각각의 렌즈는 선광원의 형태로 빛을 더욱 세분하여 분할시키는 기능을 한다. 볼록렌티큐라와 오목렌티큐라가 적층되는 렌티큐라시스템은, 빛의 집광기능과 빛의 분할기능이 동시에 수행된다. 렌티큐라시스템을 통과한 빛들은 라인형상으로 구성이 되는 것이 특징이다.
또한 본 발명에서는, 빛이 수직으로 내려가는 수직광 기능을 활용한다. 볼록렌티큐라는 광원을 빛을 굴절시키어 촛점으로 모은다. 그런데 볼렌렌티큐라의 렌즈의 중앙부 부근의 영역은 빛의 굴절작용이 미약한 곳이다. 이곳에서는 광원의 빛을 굴절시키지 않고 그대로 하부로 내리는 기능을 한다. 본 발명에서는 볼록렌티큐라가 갖고 있는 수직광 기능을 집중적으로 이용한다.
수직광 렌티큐라를 사용한 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 사용하면, 감광층의 두께가 수십 마이크론 이상이 되고, 노광하고자 하는 피치가 수 마이크론에 불과하더라도, 정밀한 노광작업이 가능하다. 패턴필름이나 포토마스크가 이루는 패턴의 피치가 극미세 피치일지라도, 수직광 렌티큐라시스템을 사용하면 빛의 산란이나 회절, 확산, 분산 등이 극소화되어 깨끗하고 선명한 노광이 가능하다.
기존의 평행광 노광기를 본 발명의 노광기와 비교하면, 우선 평행광 노광기는 고가의 광학계가 필요하다. 이에 비하여 본 발명의 노광기는 렌티큐라가 가지는 물리적 기능만을 활용하므로 경제적이다. 또한 기존의 평행광 노광기는 대면적 노광이 어려우나, 본 발명의 노광기는 선광원 발생장치의 상대적인 이송을 통하여 대면적의 노광을 극히 용이하고 신속하게 행할 수가 있다.
본 발명의 선광원 발생장치와 렌티큐라시스템은, 노광기 분야 뿐만 아니라 영상장치와 영상패널에도 널리 사용될 수가 있다. 기존 영상장치에 사용되는 영상패널은 백라이트의 빛이 편광필터를 통하여 전달되는 구조이다. 이때 편광필터를 통하게 되면 백라이트의 빛이 대단히 많이 감소된다. 따라서 허비되는 전력손실이 많다. 그러나 본 발명의 선광원 발생장치를 영상장치에 사용하게 되면, 편광필터를 제거할 수가 있게 된다. 편광필터는 선광원의 역할을 수행한다. 본 발명의 선광원 발생장치는 편광필터 없이 그 자체가 선광원의 역할을 한다. 뿐만아니라 본 발명의 선광원 발생장치는 빛의 손실이 없이 선광원을 제공한다. 따라서 본 선광원 발생장치로 영상패널의 백라이트와 편광필터를 대신하게 하면, 빛의 손실이 없으므로 밧데리 수명을 대단히 증가시킬 수가 있다.
영상패널에 본 발명의 선광원 발생장치를 적용시킬 경우에 렌티큐라시스템에 미세한 진동을 가할 수가 있다. 본 발명의 선광원 발생장치에 의하여 만들어지는 선광원을 관찰하면, 선광원과 선광원 사이에는 수 미크론 크기의 간격이 있음을 ㅇ알수가 있다. 이러한 간격은 렌티큐라시스템에 부가하는 미세 진동을 통하여 해결할 수가 있다. 즉 진동수단에 의하여 렌티큐라시스템을 진동시키면, 진동에 의하여 선광원과 선광원 사이의 공백부는 순간적으로 채울 수가 있다. 렌티큐라시스템의 진동에 의하여, 영상패널에 잔상을 이용한 착시효과를 이용할 수가 있다. 즉 미세한 초고속 진동으로 말미암아, 사람의 눈은 공백부를 인식하지 못하게 할 수가 있는 것이다.
도 1은 선광원 발생장치를 구비한, 본 발명 노광기의 전체적 개념도이다.
도 2는 일반적인 볼록렌티큐라의 사시도이다.
도 3은 볼록렌티큐라에서 빛이 집광되는 상태를 보여주는 도면이다.
도 4는 볼록렌티큐라의 수직광을 설명하는 설명도이다.
도 5는 수직광 렌티큐라의 설명도이다.
도 6은 렌즈 차폐물을 형성한 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다.
도 7은 광투과 슬리트를 설치한 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다.
도 8은 일반적인 오목렌티큐라의 사시도이다.
도 9a, 9b, 9c는 렌티큐라시스템의 실시예이다.
도 10은 차광부를 구비한 볼록렌티큐라의 구성도이다.
도 11은 차광부를 구비한 오목렌티큐라의 구성도이다.
도 12, 13은 차광부를 구비한 렌티큐라시스템의 또 다른 실시예이다.
도 14는 본 발명 노광기의 구성을 상,하부 구조로 설명하는 설명도이다.
도 15는 도 14를 부가적으로 설명하는 설명도이다.
도 16은 본 발명의 선광원 발생장치의 설명도이다.
도 17은 본 발명 노광기의 상부구조에 대한 또 다른 실시예이다.
도 18은 컨테이너 내부에서 빛의 세기를 조절하는 선광원 발생장치의 설명도이다.
도 19는 노광기에서 선광원 발생장치와, 패턴필름과, 기판의 위치관계를 설명하는 설명도이다.
* 부호의 설명 *
1 : 노광기 2 : 선광원 발생장치
3 : 선광원 발생장치 이송수단 4: 광원
5: 볼록렌티큐라, 렌티큐라 조합체
6 : 필름 7 : 감광재
8 : 평판 9 : 기판구조물
11 : 볼록렌티큐라 렌즈 34 : 오목렌티큐라
73 : 탄성체 74 : 압착롤러
62,64,65 : 보조롤러 63 : 패턴필름
68 : 밀착수단 69 : 테이블
70 : 기판 71 : 도전층
72 : 감광층 75 : 선광원 발생장치
본 발명의 대상은, 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치이다. 또한 본 발명의 대상은, 상기 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템이다. 또한 본 발명의 대상은, 상기 선광원 발생장치를 구비한 노광기이다. 또한 본 발명의 대상은, 광원으로부터 조사되는 일반적 빛을 미세한 선폭을 가지는 선광원으로 변환시키는 미세 선광원 제작 방법이다. 이때 선광원 발생장치는 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 사용한다. 또한 본 발명의 대상은, 미세 선폭을 가지는 선광원을 사용한 미세회로 기판의 제조방법과 그에 의하여 제조된 미세회로 기판이다.
이하에서는 본 발명들의 다양한 실시예를 설명한다. 본 발명에서는, 본 발명의 렌티큐라시스템을 통하여 발생시키는 선광원의 특성을 기본적으로 이용한다. 렌티큐라시스템을 사용하여 본 발명의 선광원 발생장치를 제작한다. 그리고 상기 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 제작한다. 렌티큐라를 사용한 본 발명의 선광원 발생장치를 사용하면, 선광원의 선폭이 나노 사이즈인 극히 미세한 선광원을 만들 수 있다. 이러한 나노 사이즈의 선폭을 가지는 선광원을 제작하기 위하여, 본 발명의 렌티큐라시스템을 구성한다. 본 발명의 렌티큐라시스템을 사용한 선광원 발생장치는 다른 산업분야에 유용하게 사용이 가능하나, 노광기 분야에서 가장 효과적으로 활용될 수 있다.
본 발명의 렌티큐라를 사용한 선광원 발생장치는, 추가장비도 구비될 수가 있지만, 광원과 렌티큐라시스템을 기본적으로 포함한다. 광원은 화합물 반도체를 사용한 면광원 LED를 사용하거나, 다수개의 LED 를 장착하여 광원으로 사용을 할 수가 있다. 물론 LED 이외에도 모든 발광하는 발광체는 광원으로 사용이 될 수가 있다. 본 발명에서 렌티큐라시스템은 한장의 볼록렌티큐라로 구성되기도 한다. 그러나 대부분의 경우, 한장의 볼록렌티큐와 한장의 오목렌티큐라를 적층시켜서 사용을 하거나, 여러장의 렌티큐라가 적층시켜서 사용한다. 본 발명의 광원은, 노광중에 사용이 되는 빛의 세기가 매우 중요하다. 또한 균일한 빛의 분포가 중요한 역할을 한다. 광원의 빛은 균일한 분포도와 균일한 세기로, 렌티큐라시스템의 전 면적에 대하여 균일하게 조사되는 것이 바람직하다.
본 발명의 노광기에서, 본 발명의 선광원 발생장치는 노광기에 장착된 패턴필름에 대하여 상대적인 이송이 있어야만 노광작업이 가능하다. 본 발명의 선광원 발생장치를 구성하는 광원과 렌티큐라시스템은, 상호간에 상대적인 움직임 없이 동일한 방향으로, 동일한 속도로 같이 움직이는 형태로, 노광기의 패턴필름에 대하여 상대적으로 이송되게 한다. 이를 위하여 본 발명의 노광기에서는 광원과 렌티큐라시스템을 하나의 컨테이너에 탑재시키는 경우가 많다. 상기와 같이 광원과 렌티큐라시스템을 하나의 컨테이너에 탑재시키었을 경우; 상기 컨테이너 속에서, 상기 광원을 평면안에서 요동하게 하거나, 상기 렌티큐라시스템에 미세진동을 가할 수가 있다. 그러나 이러한 경우에도, 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 하나의 컨테이너에 탑재되어 있으므로, 전체적으로는 동일한 속도로, 동일한 방향으로 노광기의 패턴필름에 대하여 상대적인 이송이 일어나야만 한다.
본 발명에서, 본 발명의 선광원 발생장치를 통과한 빛은, 수직방향으로 내려가도록 하는 것이 이상적이다. 이같이 수직방향으로 내려가도록 하면, 빛이 옆으로 분산되거나, 회절되지 아니하고, 곧바로 수직방향으로 내려간다. 이같은 선광원 발생장치를 수직광 선광원 발생장치라고 본 발명에서 명명키로 한다. 이러한 수직광을 발생시키기 위하여서 렌티큐라 렌즈의 중앙부 영역의 기능을 주로 사용하게 된다.
빛을 기판에 대하여 거의 수직방향으로 내려가도록 할수 있는 기능을 가진 렌티큐라를 본 발명에서는 수직광 렌티큐라라고 정의한다. 본 발명에서 정의하는 수직광 렌티큐라는, 완벽하게 빛이 수직으로 내려가는 것을 의미하지는 않는다. 본 발명에서 정의하는 수직광이란 집광된 빛이 거의 수직방향으로 내려가면 되는 것이다.
본 발명에서, 수직광 렌티큐라는 2 종류가 있다. 볼록렌티큐라로 된 수직광 렌티큐라가 있고, 오목렌티큐라로 된 수직광 렌티큐라가 있다. 볼록렌티큐라로 된 수직광 렌티큐라를 볼록 수직광 렌티큐라라고 정의하고, 오목렌티큐라로 된 수직광 렌티큐라를 오목 수직광 렌티큐라라고 정의한다. 본 발명에서, 수직광 렌티큐라라고 칭하면 볼록 또는 오목 수직광 렌티큐라를 의미하는 것이다. 오목 수직광 렌티큐라와 볼록 수직광 렌티큐라는 서로 대응되는 것이다. 암나사 수나사와 같이 서로 대응이 된다. 볼록 또는 오목 수직광 렌티큐라 중 어느 하나를 만들면, 다른 하나는 이형층을 형성하고 도금하여 복제하여 구성한다.
본 발명의 선광원 발생장치에서 사용되는 렌티큐라는 일반적인 렌티큐라도 사용할수가 있다. 그렇지만, 이 경우에는 노광작업의 정확도가 떨어질 수가 있다. 본 발명의 선광원 발생장치, 본 발명의 노광기, 본 발명의 렌티큐라시스템 등에서는 선광원을 발생시키는 렌티큐라의 기능을 정확히 수행하기 위하여, 수직광 렌티큐라를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 렌티큐라시스템의 형태에서, 가장 간단하고 기본적인 형태는 단 한개의 볼록렌티큐라로 구성하는 것이다. 그 다음 간단한 형태는, 하나의 볼록렌티큐라의 하부에 한장의 오목렌티큐라가 적층하는 것이다. 그러나 더욱 다양한 효과를 내기 위하여, 적어도 한장 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 한장 이상의 오목렌티큐라가 적층되는 적층체로 제작할 수가 있다. 상기 렌티큐라 적층체는 볼록렌티큐라 또는 오목렌티큐라가 적절한 순서로 조합되어 배열된다.
이하에서는 본 발명의 노광기에 대하여 설명한다. 본 발명의 노광기를 설명함에 있어서, 본 발명 노광기의 일반적 개념을 설명한다. 그리고 구체적인 구성을 설명하기 위하여서는 상부구조와 하부구조로 나누어 실시예를 설명한다.
본 발명 노광기는 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치를 구비한다. 상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성된다. 본 발명의 노광기의 노광작업은, 상기 선광원 발생장치와 패턴필름의 상호간에 상대적 이송을 통하여 이루어 진다. 본 발명의 설명에 있어서, 패턴필름과 포토마스크는 거의 같은 목적과 거의 같은 기능을 수행하는 것이므로, 패턴필름만을 언급하더라도, 별다른 사항이 없으면 포토마스크도 동일하게 적용이 되는 것으로 한다.
본 발명의 노광기를 사용하여 노광작업을 진행할 때, 반드시 선광원 발생장치와 패턴필름 사이에 상대적인 이송작업이 있어야만 노광작업이 가능하다. 노광작업을 이행하기 위하여, 선광원 발생장치와 패턴필름과의 상대적 이송을 하는데는 크게 세가지 형태가 이송방법이 있다. 첫째, 선광원 발생장치를 움직이고, 패턴필름은 고정되는 경우, 둘째, 선광원 발생장치를 고정시키고, 패턴필름을 이동시키는 경우 세째, 선광원 발생장치와 패턴필름을 다같이 움직이되, 그 이동되는 속도는 다르게 하는 경우로 대별된다.
상기 패턴필름 하부에 있는 기판과, 상기 기판 하부에 있는 테이블과의 움직임에 대한 구조는 필요에 따라서 적절하게 설계를 하면 된다. 본 발명 노광기는 상기의 세가지 형태중 어느 하나의 형태가 적용된다. 각각의 경우, 노광기의 작동구조에 맞는 구조설계가 필요하다. 이러한 구조설계는 단순한 공지기술의 적용에 불과하므로 별도로 설명을 하지 않는 것으로 한다.
본 발명의 노광기 구조를 좀더 구체적으로 설명을 하기 위하여, 본 발명의 노광기의 상부구조를 설명한다. 상부구조에는 선광원 발생장치가 구성된다. 상기 상부구조에는 선광원 발생장치를 이송하는 이송수단, 광원의 열을 냉각시키는 냉각수단, 콘터롤러 등이 추가적으로 구비될 수가 있다. 또한 상기 상부구조에는 탄성롤러를 추가적으로 구성을 할 수도 있다.
본 발명 노광기의 하부구조는, 상기 상부구조 밑에 형성되는 구조물이다. 본 발명의 노광기의 하부구조에는 기본적으로 테이블이 구성된다. 상기 테이블에는 감광재가 도포된 기판을 착탈가능하게 장착시킨다. 상기 테이블에는 기판을 밀착시키는 밀착수단을 구성할 수가 있다. 하부구조에는 상기 테이블을 이송시키는 이송수단, 선광원 발생장치를 냉각시키는 냉각수단, 전력공급수단, 콘터롤러 등을 포함하여 구성시킬 수가 있다.
상기 상부구조와 하부구조 사이에는, 패턴필름 또는 포토마스크, 감광층이 형성된 기판 등이 착탈 가능하게 위치된다. 상부구조와 하부구조 사이에 위치되는 패턴필름 또는 포토마스크, 감광층이 형성된 기판 등은 노광작업을 준비하거나, 마치었을 경우에 착탈이 가능하다. 이같이 본 발명의 노광기 구조물로부터 착탈이 가능한 것은, 본 발명에서는 노광기의 구성품으로 보지 않고, 부속품으로 정의한다.
본 발명의 노광기에 대한 표준적 구성순서는 아래와 같다. 그러나 각 상황과 특성에 맞추어 얼마든지 변경가능함은 물론이다. 선광원 발생장치와 테이블 사이에는, 패턴필름 또는 포토마스크와 기판이 위치된다. 기판은 패턴필름 또는 포토마스크의 하부에 위치되며, 테이블 위에서 착탈가능한 상태로 장착된다. 테이블 하부에는 기판을 테이블에 밀착시키는 밀착수단, 상기 테이블을 이송시키는 이송수단, 광원의 열을 냉각시키는 냉각수단, 전력공급수단, 콘터롤러 등이 위치될 수가 있다.
본 발명의 선광원 발생장치에 의하여 만들어진 선광원의 빛은, 노광기의 패턴필름 또는 포토마스크에 조사된다. 상기 선광원의 빛은 상기 패턴필름 또는 포토마스크를 통과한 후, 기판의 감광층을 노광시킨다.
노광작업이 진행될 때, 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 기판과 밀착되거나 이격되어 존재한다. 또한 노광작업이 진행될 때, 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 기판과 미끄럼이 생기면 결코 않된다. 또한 노광작업이 진행될 때, 기판은 테이블에 밀착되어 슬립이 일어나지 않는 형태가 일반적이나, 상기 기판이 테이블에 대하여 슬립이 일어나는 경우도 있다.
노광작업이 진행될 때, 기판이 테이블에 대하여 슬립이 일어나지 않는 경우는, 테이블에 형성된 진공압에 의한 밀착수단을 통하여 상기 기판과 상기 테이블을 밀착시킬 수가 있다. 이 경우 선광원 발생장치를 움직이고, 테이블을 고정시키는 방법이 있다. 또한 선광원 발생장치를 고정시키고, 테이블을 이동시킬 수 있다.
노광작업이 진행될 때, 기판이 테이블에 대하여 슬립을 일어키는 경우는, 연성기판을 사용하여 기판이 릴에 감긴 감기면서 연속적 노광작업을 진행하는 경우이다. 이때, 테이블과 선광원 발생장치는 정지하여 있고, 패턴필름과 기판은 상호간에 밀착되거나 이격된 상태로 한 몸체가 되어, 테이블에 대하여 미끄러지면서 이동된다.
이경우 상부구조에 탄성롤러를 구성시키고, 상기 탄성롤러를 사용하여 패턴필름을 가압할 수가 있다. 즉, 탄성롤러를 사용하여 가압함으로써 상기 패턴필름은 기판에 압착되고; 상기 패턴필름과 기판은 한 몸체가 되어, 정지된 테이블에 대하여 슬립하면서 이동된다. 이때 탄성롤러는 선광원 발생장치와 한 몸체와 연동시키어 동일한 이동을 하도록 구성을 시키는 것이 바라직하다. 이때, 노광 작업중에는 선광원 발생장치를 포함한 상부구조는 정지상태이다.
본 발명의 노광기에서, 상부구조와 하부구조를 상호간에 상대적으로 이송시키기 위한 이송장치와, 광원으로부터 나오는 열을 제거하기 위한 냉각장치, 상부구조 구동장치, 하부구조 구동장치, 콘터롤러, 전원공급장치 등은 일반적으로 사용이 되는 장치로 대체가 가능함은 물론이다. 따라서 이들의 구체적 구성에 대하여서는 본 발명에서 개시하지 않는다. 이하, 본 발명의 노광기의 실시예에 대하여 설명한다. 그러나 본 발명은 그 요지를 이탈하지 않는 한, 실시예에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 노광기에 대한 개념을 설명하는 도면이다. 본 발명의 노광기는 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한다. 본 발명의 노광기(1)는 기판 구조물(9)과, 선광원 발생장치(2)와, 개폐구를 포함한 장치부로 기본 틀이 구성된다. 본 발명의 노광기의 구체적인 구성에 대하여서는 상부구조와 하부구조의 개념으로 다시 후술키로 한다.
본 발명의 선광원 발생장치(2)는, 광원(4)과 렌티큐라시스템(5)을 기본구성으로 포함한다. 상기 광원(4)은, 일정한 면적을 갖는 렌티큐라시스템의 전 면적에 대하여 균일하게 빛이 조사되도록 구성하는 것이 바람직하다. 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기에서 가장 중요한 부분은 본 발명의 렌티큐라시스템이다.
본 발명의 선광원 발생장치는 여러가지 형태가 있다. 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성된다. 상기 렌티큐라시스템과 상기 광원은 상호간에 상대적인 움직임이 없도록 한다. 가장 간단한 형태의 선광원 발생장치는, 광원과 렌티큐라시스템을 동일한 프레임에 탑재시키는 형태이다. 이 경우, 상기 컨테이너 속에서, 광원은 요동운동을 하거나, 렌티큐라시스템은 미세 진동을 할 수도 있다. 노광작업 중, 선광원 발생장치는 노광기에 장착된 패턴필름과 상대적인 이송운동을 한다.
이 같이 광원과 렌티큐라시스템을 동일한 컨테이너에 탑재시키는 것은, 본 발명 선광원 발생장치의 보편적인 구성이다. 물론 광원과 렌티큐라시스템을 컨테이너에 탑재시키지 않고, 다양한 형태의 구조물에 장착을 시킬수 있음은 물론이다. 광원과 렌티큐라시스템이 전체적으로 동일한 방향, 동일한 속도로 같이 움직이는 것은 본 발명의 핵심적 개념 중의 하나이다. 광원과 렌티큐라시스템은, 전체적으로 볼때, 상호간에 상대적인 움직임을 하는 않도록 하는 메카니즘은 본 발명의 핵심기술에 속한다. 물론 광원이 정지하였을 때, 상기 렌티큐라시스템가 정지하고 있는 것은, 광원과 렌티큐라시스템이 전체적으로 동일한 방향, 동일한 속도로 같이 움직이는 개념에 속한다.
렌티큐라를 사용한 기술 중에는, 본 발명의 선광원 발생장치의 메카니즘과는 다른 입체영상 카메라 기술이 있다. 입체영상 카메라에서는, 이미지를 기록하는 필름 앞에 볼록렌티큐라를 위치시킨다. 이것은 입체영상을 촬영하고자 할때는, 카메라의 셔터를 열어 렌즈를 개방시켜놓고, 볼록렌티큐라와 필름은 정지시키고 피사체를 이동시키면서 다수의 이미지를 기록하는 방법을 사용한다. 또 다른 방법으로는 피사체를 정지시켜놓고 볼록렌티큐와 필름을 이동시키면서 다수의 이미지를 기록하는 방법이 있다. 이러한 메카니즘은 본 발명의 메카니즘과는 큰 차이가 있다. 피사체는 광원에 해당된다고 보면 된다.
즉 입체영상 카메라에서는 렌티큐라는 정지시키고 광원만을 이동시거나, 광원은 정지시키고 렌티큐라만 이동시키는 메카니즘을 사용한다. 볼록렌티큐라를 사용하여 입체영상을 기록하는 메카니즘은 입체영상의 기록장치에 흔히 사용되어져 왔다. 입체영상을 관촬하여 보면, 각각의 볼록렌티큐라 렌즈를 통하여 필름에 복수개의 이미지가 기록된 것을 알 수가 있다. 이것은 동일한 피사체에 대하여 광각을 달리하는 복수개의 이미지가, 하나의 렌티큐라 피치안에 다수개로 기록된 것임을 알수가 있다. 이것은 볼록렌티큐라의 각각의 렌즈의 피치 안에, 복수개의 광각을 달리하는 피사체의 상이 기록되어, 입체영상을 볼 수 있게 하는 원리이다.
본 발명의 노광기의 테이블에는 감광재를 균일하게 도포된 기판이 위치된다. 상기 기판은 노광작업을 준비하거나 노광을 완료하였을 경우, 상기 테이블로부터 착탈가능하다. 상기 기판은 밀착장치에 의하여 테이블의 상부에 밀착고정 될 수가 있다. 상기 기판 위에는 패턴필름 또는 포토마스크가 위치된다. 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 노광작업을 준비하거나 노광을 완료하였을 경우, 상기 테이블로부터 착탈가능하다.
상기 패턴필름 또는 포토마스크는 기판에 밀착되거나 이격되게 장착된다. 노광작업 중에는 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 기판에 대하여 어떠한 상대적인 움직임이 있으면 안된다. 본 발명의 노광기의 노광작업 중에는, 패턴필름 또는 포토마스크는 선광원 발생장치와 상호간에 상대적인 이송이 가능토록 구성되어야만 한다. 즉 선광원 발생장치가 정지되어 있으면, 패턴필름 또는 포토마스크가 이송되며; 패턴필름 또는 포토마스크가 정지가 되어 있으면, 선광원 발생장치가 이송이 된다. 물론 선광원 발생장치와 패턴필름의 양자가 모두 이송되는 것도 가능하나, 이때는 각자 이송속도를 달리하여야만 한다.
본 발명의 노광기에서, 선광원 발생장치의 렌티큐라시스템은 선광원 발생장치의 하부에 구성이 된다. 선광원 발생장치의 하부에 구성되는 렌티큐라시스템은, 패턴필름 또는 포토마스크와 움직임에 대한 마찰이 발생하지 않도록 하기 위하여, 일정거리 이격을 시키는 것이 바람직하다. 정확한 노광작업을 구현하기 위하여, 그 이격의 정도는 작을 수록 바람직하다.
상기의 상대적 이송은 여러 가지 이송수단(3)에 의하여 가능하다. 본 발명의 노광기에서, 상기 선광원 발생장치를 이송시키기 위하여서 모타와 레일을 사용하거나, 랙과 피니언의 구조를 사용하거나, LM가이드를 사용하는 등 다양한 형태를 사용할 수가 있다. 도 1에서 도시된 것처럼, 슬라이더 봉을 이용하여 모타의 구동으로 이송이 되는 것도 가능하다.
본 발명 노광기의 노광작업 중에는, 선광원 발생장치는 정지한 상태로 있고 상기 선광원 발생장치의 하부에 있는 기판구조물(9)을 이동시키도록 구성할 수가 있음도 물론이다. 본 발명에서 기판구조물이란 선광원 발생장치의 하부에 위치하는 구조물을 총칭한다. 기판구조물에는 테이블, 테이블 이송장치, 진공압 발생장치, 냉각수단 등을 포함 할 수가 있다. 감광재가 도포된 기판은 테이블 위에 착탈이 가능하게 놓여지며, 상기 기판은 기판구조물과 별개이다.
기판을 테이블에 장착을 시킬 때, 상기 기판을 테이블에 진공압을 사용하여 밀착시키는 밀착장치를 설치할 수도 있다. 또한 노광기의 테이블을 이동시키는 테이블 이송장치는 다양한 형태로 구성하다. 이러한 장치들은 모두 상기의 기판구조물에 포함된다. 패턴필름(6) 또는 포토마스크의 하부에는, 기판이 노광기의 테이블로 부터 착탈가능한 형태로 장착된다. 상기 기판(8)에는 감광층(7)이 균일하게 도포되어진다. 패턴필름 또는 포토마스크는 기판에 대하여는 밀착되거나 이격된 상태로 장착가능하다. 노광작업 중에는, 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 기판에 대하여 상대적인 이동은 하지 않아야만 한다.
기판위의 감광층에는 투명한 보호필름으로 코팅 되어져 있다. 이것은 감광재를 보호하기 위한 것이다. 본 발명의 노광기를 사용하여 노광 작업을 진행 할때, 투명한 보호필름이 붙어있는 상태로 노광작업을 진행이 되거나, 투명한 보호필름을 제거된 상태로 노광작업을 진행한다. 투명한 보호필름이 있는 상태로 노광작업을 하면 감광층이 보호되는 장점이 있고, 투명한 보호필름을 제거한 상태로 노광작업을 하면 정밀노광을 할 수가 있는 장점이 있다.
투명한 보호필름을 벗긴 상태에서 노광을 진행할 때, 패턴필름 또는 포토마스크가 감광층에 손상을 주지 않도록 하여야만 한다. 이를 위하여서, 첫째, 상기 패턴필름 또는 포토마스크를 감광층으로부터 일정거리 이격시켜 노광작업을 하거나 둘째, 상기 패턴필름 또는 포토마스크의 표면에 이형성을 증가시키고 나서, 감광층에 밀착시켜 노광작업을 한다.
감광층에 보호필름을 입힌 상태에서 노광하면, 감광재에 손상을 주기 않게 되므로 바람직하다. 이론적으로 가장 정확한 노광은, 감광층의 보호필름을 벗긴 상태에서, 패턴필름 또는 포토마스크를 감광층에 밀착시켜 노광작업을 하는 것이다. 두번째 정확한 노광은, 감광층의 보호필름을 입힌 상태에서, 패턴필름 또는 포토마스크를 감광층에 밀착시켜 노광작업을 하는 것이다. 세번째 정확한 노광은, 감광층의 보호필름을 벗긴 상태에서, 패턴필름 또는 포토마스크를 상기 감광층으로부터 이격시켜 노광작업을 하는 것이다. 네번째 정확한 노광은, 감광층의 보호필름을 입힌 상태에서, 패턴필름 또는 포토마스크를 상기 감광층으로부터 이격시켜 노광작업을 하는 것이다.
보호필름을 입힌 상태에서 노광작업을 하는 것은 감광층에 손상을 주지않는 목적에서는 바람직하나, 투명한 보호필름으로 인한 빛의 회절이나 간섭과 확산 등의 악영향을 받을 수가 있다. 본 발명의 노광기는 현장의 노광조건과 상태에 적절하게 대응가능한 구조로 제작이 가능하다.
본 발명의 선광원 발생장치(2)에 의하여 패턴필름(6)으로 빛을 조사하면, 패턴필름의 투명부는 빛이 투과되고 불투명부는 빛을 차단된다. 본 발명의 선광원 발생장치(2)를 통하여 집광되어진 빛은, 패턴필름(6)의 투명부를 통하여 감광층을 경화시킨다. 본 발명의 선광원 발생장치를 통하여 형성된 선광원 빛을 패턴필름에 조사시키면, 감광재는 패턴필름의 패턴대로 노광된다. 노광작업 후에, 감광재가 노광되지 않은 부분 즉, 경화되지 않은 부분을 화학적 방법으로 제거하면, 평판(8)에는 노광부에 의한 패턴이 만들어 진다.
본 발명의 노광기에서, 기판은 노광기의 테이블 위에서 탈착가능하게 위치된다. 노광작업 중에는 기판은 테이블에 대하여 밀착시키는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 테이블의 상부에 미세한 공기구멍을 형성하고, 상기 구멍을 통하여 진공압으로 기판을 테이블에 밀착 고정시키는 것이 바람직하다. 본 발명에서 설명의 편의를 위하여, 감광재가 균일하게 도포된 판을 기판이라 하며, 상기 기판이 편편하게 펼쳐진 상태를 평판이라 설명한다. 패턴필름 또는 포토마스크는 착탈 가능한 구조로, 선광원 발생장치의 하부, 기판의 상부에 위치된다.
본 발명의 노광기를 사용하여 노광작업을 진행하고 있는 상태에서는, 패턴필름은 기판에 대하여 상호간에 상대적인 움직임이 발생하지 않도록 한다. 슬립도 없어야 한다. 감광재가 균일하게 도포되어진 기판은 다양한 형태를 가질 수가 있다. 변형되지 않는 딱딱한 기판에 감광재가 얇게 도포되어진 형태도 있다. 연성기판으로 감겨져 있으면, 노광작업을 연속으로 할 수가 있다.
본 발명의 노광기에 있어서, 노광기 테이블의 양측 또는 일측에, 유연성 기판을 감을 수 있는 롤러를 구성할 수가 있다. 이렇게 하면 연성기판을 릴상으로 감을 수가 있으므로 노광작업을 연속적으로 할 수가 있다.
본 발명의 선광원 발생장치에는 광원과 렌티큐라시스템 뿐만아니라, 추가적인 기능이 가능하도록 다른 구성요소가 포함될 수 있음은 물론이다. 본 발명의 선광원 발생장치에 기타 구성요소가 포함되더라도, 선광원 발생장치의 핵심요소인 광원(4)과 광원 하부에 위치하는 렌티큐라시스템(5)을 포함하고 있으면 모두 본 발명의 선광원 발생장치에 포함된다 하겠다.
본 발명에서 사용이 되는 렌티큐라시스템은, 하나의 렌티큐라로 구성되는 형태와, 복수개의 렌티큐라가 적층되어 구성이 되는 형태가 있다. 하나의 렌티큐라로 구성되는 것에는, 하나의 볼록 렌티큐라가 사용되거나, 하나의 오목 렌티큐라가 사용된다. 적층되는 렌티큐라의 형태에는, 동일한 것끼리만 적층이 되는 형태와, 이종의 것이 서로 적절히 조합 배열되어 적층이 되는 형태가 있다. 동일한 것끼리만 적층이 되는 형태로는, 볼록 렌티큐라끼리 적층이 되는 형태와 오목렌티큐라끼리 적층이 되는 형태가 있다. 이종의 것이 서로 적절히 조합 배열되어 적층이 되는 형태는, 적어도 한장 이상의 볼록 렌티큐라와 적어도 한장 이상의 오목 렌티큐라가 적절한 순서로 배열이 되는 형태가 있다.
본 발명의 렌티큐라시스템의 렌티큐라에는, 적어도 일부분에 수직광 렌티큐라가 포함되는 것이 바람직하다. 물론 수직광 렌티큐라는 볼록 수직광 렌티큐라 또는 오목 수직광 렌티큐라를 포함한다. 적층되는 렌티큐라의 조합 또는 배열순서는 각 상황에 맞는 설계를 하면 되므로 극히 다양한 형태로 응용이 가능하다. 또는 볼록 또는 오목 렌티큐라를 적층할 때, 각각의 렌티큐라를 바로 적층을 할 수고 있으며, 뒤집어서 적층을 하는 경우도 있다.
본 발명의 렌티큐라시스템에 있어서, 일반적인 경우, 가장 윗부분에는 일반적으로 볼록렌티큐라가 구성된다. 그러나 오목렌티큐라를 구성할 수가 있음은 물론이다. 또한 상기 볼록렌티큐라의 하부에 오목렌티큐라가 적층되는 것이 보편적이다. 상기 오목렌티큐라의 숫자는 적어도 하나 이상의 형태이다. 집광되어진 선광원의 빛을 더욱 많은 수로 분할하고자 하면, 오목렌티큐라의 숫자를 증가시키면 된다.
본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 만들 경우, 선광원 발생장치는 패턴필름 또는 포토마스크의 상부에 위치된다. 연속적인 노광작업을 위하여, 노광작업 중에는, 상기 선광원 발생장치는 패턴필름 또는 포토마스크와 소정거리 이격되게 위치되도록 하여 마찰이 없는 상태로 상대적 이송이 가능케 하는 것이 바람직 하다.
도 2는 일반적인 볼록렌티큐라를 보여주는 사시도이다. 볼록렌티큐라(10)는 도 2에서 도시된 바와 같이, 볼록부를 가지는 기둥이 연속적으로 연결된 모양이다. 볼록렌티큐라는 다수개의 볼록렌티큐라 렌즈(11)들이, 측면으로 연속적으로 연결되어져 있다. 각각의 볼록렌티큐라 렌즈는 길게 기둥형상을 이룬다.
볼록렌티큐라는 다수의 볼록렌티큐라 렌즈가 옆으로 연결되어져 있는 형상이다. 각각의 볼록렌티큐라 렌즈는 한쪽 표면에는 평면이 구성되고, 다른 한쪽 표면에는 볼록부가 구성된 기둥형태로 이루어 진다. 볼록렌티큐라의 각각의 볼록렌즈를 통하여 광원의 빛은 라인형태로 집광된다. 이러한 볼록렌티큐라는 입체영상의 기록이나 재상에도 흔히 사용된다.
도 3은 광원의 빛이 볼록렌티큐라를 통하여 집광되는 상태를 보여주는 도면이다. 각각의 볼록렌티큐라 렌즈(13,14)는 광원(12)의 빛을 집광시킨다. 볼록렌티큐라의 하부에 감광층을 밀착시켜 놓고, 빛을 조사하게 되면, 집광된 빛이 라인 형상으로 감광층(15)을 노광시킨다. 집광된 빛은 노광부(16)를 형성한다. 감광층에는 노광부와 비노광부가 선형태로 나타난다.
도시된 바와 같이, 광원(12)의 빛이 볼록렌티큐라에 조사되면, 각각의 렌티큐라 렌즈(13,14)의 초점을 향하여 빛은 집광된다. 렌즈의 곡률변화를 주면, 렌즈의 초점거리는 변화된다. 볼록렌티큘라의 초점거리를 조절함으로, 감광재(15)에 집광된 빛은 조절할 수가 있다. 이러한 특성을 활용하여 렌즈의 집광능력을 조율할 수가 있다. 감광층에는 상기 집광되어진 빛에 의하여 노광부(16)가 형성된다.
도 4는 볼록렌티큐라의 각각의 렌즈의 중앙부에서 발생하는 수직광 상태를 보여주는 도면이다. 볼록렌티큐라는 각각의 렌즈의 곡면을 통하여, 상부에서 받은 빛을 굴절시켜 촛점을 향하여 집광시킨다. 이때, 각각의 볼록렌티규라 렌즈의 정 중앙부 부근에 조사된 빛은, 굴절작용이 미세하게 일어난다. 즉 굴절이 작은 상태로 하부를 향하여 거의 수직으로 내려간다. 볼록렌티큐라 렌즈의 각각의 정 중앙부에서 벗어날 수록 빛은 많이 굴절되며, 촛점을 향하여 집광된다. 상기의 굴적작용을 통하여 집광현상이 일어난다. 각각의 렌즈의 정 중앙부에서 벗어나면 벗어날수록 굴절각도는 크다.
볼록렌티큐라에서, 빛의 굴절작용이 극히 미세한 상태로, 하부를 향하여 거의 수직으로 내려가는 부분을 수직광 영역이라 정의한다. 수직광 영역은, 볼록렌티큐라의 각각의 렌즈의 중앙부 부근 영역이 해당된다.
볼록렌티큐라의 각각의 렌즈의 중앙부 부근 영역만을 따서 볼록렌티큐라를 구성시킨 것을 수직광 렌티큐라라고 정의한다. 수직광 렌티큐라에서도 빛이 거의 수직으로 하부로 내려간다. 그러나 굴절작용이 전혀 없는 상태는 아니다. 수직광 렌튜큐라에서도 굴절작용이 있으므로 집광기능이 수행됨은 물론이다. 수직광 렌티큐라는 일반적인 렌티큐라에 비하여 빛이 거의 수직으로 내려간다고 표현을 할 수 있다. 본 발명에서 수직광 렌티큐라는, 굴절 작용이 존재하나 그 굴절의 크기는 상대적으로 대단히 작은 것으로 이해하면 된다.
본 발명에서는, 설명의 편의를 위하여, 수직광 렌티큐라는 볼록렌티큐라의 각각의 렌즈의 중앙부 부근의 영역들만 절단하여, 이들만을 연결하여 볼록렌티큐라를 만든 것이라 설명을 할 수가 하겠다. 수직광 렌티큐라는, 광원에서 조사되는 빛을 집광시켜서 하부로 전달하되, 거의 수직으로 전달하는 기능을 하게 된다. 본 발명에서, 볼록렌티큐라 렌즈의 중앙부 영역이란 정확히 볼록렌티큐라 렌즈의 정 중앙부만을 의미하는 것이 아니다. 정 중앙부를 중심으로 하여 좌우의 작은 범위의 영역을(18) 포함하는 것으로 정의한다.
볼록렌티큐라 렌즈들의 정 중앙부 부근의 일정범위 영역(18)은, 광원(17)을 빛을 집광시켜 거의 수직방향으로 하부로 전달한다. 볼록렌티큐라 렌즈들의 정 중앙부 부근의 일정범위 영역(18)에서는, 굴절작용이 최소화된다. 이 영역에 조사된 빛은 집광되어 수직으로 내려간다.
볼록렌티큐라의 렌즈들의 정 중앙부 부근의 영역을 통하여, 거의 수직방향으로 집광되어 조사되는 빛을 본 발명에서는 수직광이라 정의한다. 빛이 거의 수직방향으로 집광되어 내려가도록 하는 볼록렌티큐라 렌즈의 영역을 본 발명에서는 수직광 영역(18)이라 정의한다. 볼록렌티큐라 렌즈들의 정 중앙부 부근의 일정 범위가 수직광 영역이 된다. 수직광 렌티큐라도 발명의 보호대상으로 한다.
본 발명에서의 수직광이란 거의 수직에 가까운 것을 의미하며, 정확히 수직이란 의미는 아니다. 수직광 렌티큐라는 본 발명의 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템의 대표적인 실시예이다. 본 발명의 노광기에서는, 다양한 형태의 볼록 또는 오목 렌티큐라를 사용을 할 수가 있으되, 그 효율은 수직광 렌티큐라가 가장 효율적이다. 본 발명의 노광기에는 상기의 수직광 렌티큐라 이외에도 다양한 형태의 렌티큐라를 사용할 수가 있음은 물론이다.
그런데 미세한 선폭을 갖는 선광원을 얻고자 하면, 사용되는 렌티큐라의 피치는 반드시 미세한 크기가 되어야만 한다. 실시예로서 수직광 볼록렌티큐라의 피치를 30마이크론을 하였을 경우, 선광원의 선폭은 3 마이크론이었다. 이러한 렌티큐라시스템을 사용하여 피치가 20 마이크론 되는 미세회로를 구현시켰다. 렌티큐라에 있어서, 렌티큐라의 피치의 크기와 초점거리에 따라, 선광원 발생장치의 효율은 변화가 되는 것을 알 수가 있었다. 극히 미세한 피치를 가지는 수직광 렌티큐라는 다양한 방법으로 제작이 가능하다. 이하에서는 수직광 렌티큐라를 제작하는 다양한 방법을 설명한다.
일 실시예로서, 수직광 볼록렌티큐라를 구성하는 렌즈 하나 또는 몇개를 바이트 또는 레이저 가공을 한다. 상기 수직광 볼록렌티큐라 렌즈는 볼록렌티큐라의 정 중앙부 부근의 영역 부분만으로 구성된다. 가공 후, 이를 복사하여 연결하여 수직광 렌티큐라를 제작할 수 있다. 수직광 렌티큐라의 피치는 일반적인 볼록렌티큐라의 피치의 크기에 비하여 현격히 작다. 이는 볼록렌티큐라의 렌즈들의 정 중앙부 부근의 영역만으로 따서 볼록렌티큐라를 구성하기 때문이다. 수직광 렌티큐라의 피치가 수십 미크론의 이하로 되어야만 수 미크론 크기의 피치를 가지는 회로기판을 가공할 수가 있다.
도 5는 본 발명의 수직광 렌티큐라의 구성을 설명하는 설명도이다. 본 발명에서 수직광 렌티큐라는, 다양한 형태의 실시예로 구성이 가능하다. 도 5는 각각의 볼록렌티큐라 렌즈의 수직광 영역(21)만 이어서 만든것이다. 이것은 본 발명 수직광 렌티큐라의 대표적인 형태이다. 상부에 위치한 광원의 빛은, 본 발명의 수직광 렌티큐라는 거쳐, 집광된 형태로 거의 수직방향으로 하부로 전달된다.
도 6은 볼록렌티큐라에 렌즈차폐물을 형성하여 수직광을 구현하는 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다. 이것은 본 발명의 수직광 렌티큐라의 한 실시예이다. 각각의 볼록렌티큐라 렌즈에서, 수직광 영역(25)을 제외한 부분에는 불투명 차폐물(24)을 충진시켜서 빛의 통과를 차폐시키는 것이 특징이다. 이것은 렌티큐라 렌즈들에서 수직광 영역 이외의 부분에는 불투명 차폐물을 충진시키는 방법을 통하여 수직광 렌티큐라를 구성한다. 만약 수직광 렌티큐라의 하부에 감광재를 두게 되면, 빛은 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역(25)만을 통하여 조사되어, 노광부(26)를 형성한다.
도 7은 볼록렌티큐라에 광투과 슬리트를 설치한 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다. 본 실시예에서는 볼록렌티큐라의 하부에는 광투과 슬리트가 구성한다. 상기 광투과 슬리트는 각각의 볼록렌티큐라 렌즈(29)의 정 중앙부의 하부에 구성된다. 광투과 슬리트는 볼록렌티큐라 렌즈(29)의 정 중앙부의 하부의 영역에만 빛이 통과되도록 구성된다. 상기 광투과 슬리트는 불투명 판에, 각각의 렌티큐라 렌즈의 길이방향을 따라서 길게 홈을 파서 제작할 수가 있다.
또는 광투가 슬리트가 형성되는 필름으로 제작하되, 상기 필름에는 볼록렌티큐라 렌즈(29)의 정 중앙부의 하부의 영역만 빛이 통과되도 투명부를 형성한다. 볼록렌티큐라의 각각의 렌즈(29)를 거쳐서 집광된 빛이 하부로 전달될때, 광투과 슬리트를 통하여 허락된 빛만 하부로 내려간다. 만약 광투과 슬리트의 하부에 감광층을 두면, 집광된 빛은 감광층(31)에 조사되어 노광부(33)을 형성한다. 광투과 슬리트는 슬리트 지지체(30)를 통하여 지지된다.
본 발명의 수직광 렌티큐라의 또 다른 실시예로, 상기 도 6의 차폐물과 상기 도 7의 광투과 슬리트를 동시에 렌티큐라에 구성하는 것이 있다. 본 발명에서, 렌티큐라가 일부분만이라도 수직광을 형성시킬 수가 있다면, 상기 렌티큐라는 수직광 렌티큐라로 칭하기로 한다. 일반적으로 렌티큐라는 수많은 렌티큐라 렌즈가 연결되어 구성된다. 각각의 렌티큐라 렌즈는, 렌즈의 길이방향으로 동일한 단면을 가진다. 렌티큐라의 렌즈의 갯수는 적어도 하나 이상이기만 하면 본 발명에서는 렌티큐라라고 칭하는 것으로 한다. 따라서 렌티큐라의 렌즈의 갯수가 하나인 렌티큐라도 본 발명에 속함은 물론이다.
렌티큐라 렌즈의 수가 많을수록 노광이 용이함은 물론이다. 즉 렌티큐라 렌즈의 갯수가 많으면 많을수록 노광시간은 짧아지게 됨은 당연하다. 본 발명의 실시예에 있어서, 프레넬 렌즈를 사용하여 보다 효율적인 빛의 활용을 유도할 수가 있다. 이 역시 본 발명의 실시예에 속한다 하겠다.
본 발명의 하나인 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치의 개념은 너무나 중요하다. 본 발명의 선광원 발생장치에서는 반드시 렌티큐라를 사용한다. 본 발명의 선광원 발생장치는, 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성된다. 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 하나의 컨테이너 안에 탑재되도록 구성하는 것이 대표적인 실시형태이다.
본 발명에서, 광원은 LED 광원을 포함하며, 다양한 형태의 광원이 사용가능하다. 상기 광원은 렌티큐라시스템의 전 면적에 대하여 균일하게 조사되는 것이 바람직하다. 균일한 분포도를 가지는 빛을 구현하기 위하여, 본 발명에서는, 렌티큐라시스템과 평행된 평면 안에서, 상기 광원을 전후 및/또는 좌우 방향으로 요동운동을 하도록 구성할 수가 있다. 또한 빛의 세기를 조절하기 위하여, 광원을 상하로 움직여 렌티큐라시스템에 대한 거리를 조절하도록 구성할 수가 있다. 거리조절을 위한 방법으로는 스크큐를 사용하거나 기타 다양한 방법으로 할 수가 있다. 또한 상기 렌티큐라시스템에 진동수단을 구비하여 미세한 진동을 가할 수가 있음은 물론이다.
본 발명의 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라를 포함하거나, 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함하도록 구성을 한다. 또한 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 동시에 포함하도록 구성한다. 상기 렌티큐라시스템은 수직광 렌티큐라를 적어도 하나 이상 포함하도록 하는 것이 바람직하다. 물론 본 발명에서 상기 렌티큐라시스템을 구성하는 모든 렌티큐라를 수직광 렌티큐라로 구성하는 것이 가장 바람직한 형태이다. 이 때의 수직광 렌티큐라는 볼록 수직광 렌티큐라 또는 오목 수직광 렌티큐라를 포함한 의미이다.
상기 렌티큐라시스템은 불투명 차폐물이 구성된 볼록렌티큐라를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 구성할 수가 있다. 상기 렌티큐라시스템은 광투과 슬리트가 형성된 렌티큐라를 적어도 하나 이상 포함하도록 구성을 할 수가 있다. 상기 렌티큐라시스템은 차광부를 형성한 렌티큐라를 적어도 하나 이상 포함하도록 구성을 할 수가 있다.
본 발명의 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하는 것으로 구성되며; 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 상호간에 상대적으로 이동되지 않고 고정되는 형태는 가장 대표적인 형태이다. 또 다른 실시예로서, 상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성되며; 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 동일한 선광원 컨테이너에 탑재되는 것으로 구성을 할 수가 있다.
본 발명에서 렌티큐라시스템이 단 한장의 볼록렌티큐라로 구성될 경우, 렌티큐라시스템의 하부에는 볼록렌티큐라 렌즈와 같은 개수의 라인 형상이 만들어 진다. 즉, 볼록렌티큐라를 한 장만 사용한 경우에는 선광원의 라인의 수는 볼록렌티큐라 렌즈의 갯수에 대응하여 형성된다.
이하에서는 선광원 발생장치의 크기를 정의하는 용어를 설명한다. 선광원 발생장치의 크기를 렌티큐라시스템의 크기와 비교하여 설명한다. 렌티큐라시스템에 있어서, 렌티큐라 렌즈의 길이 방향으로의 크기를 렌티큐라시스템의 길이라고 정의하며, 이를 또한 선광원 발생장치의 길이로 정의한다. 렌티큐라 렌즈의 길이에 대한 직각방향으로, 렌티큐라시스템의 크기를 렌티큐라시스템의 폭이라 정의하며, 이를 또한 선광원 발생장치의 폭이라 정의한다. 노광작업이 진행될 때, 선광원 발생장치는 렌티큐라 렌즈의 폭 방향, 즉 선광원 발생장치의 폭 방향으로 상대적 이송운동이 수행된다.
본 발명의 노광기로 대면적의 노광작업을 행하기 위하여서는, 선광원 발생장치의 길이가 길어야 하며, 선광원 발생장치의 폭방향으로의 이송거리가 길어야 한다. 선광원 발생장치의 폭방향으로는 이송작업이 가능하므로, 선광원 발생장치의 폭은 작더라도 대면적 노광작업이 가능하다. 본 발명의 선광원 발생장치의 길이, 즉 렌티큐라 렌즈의 길이방향의 사이즈는, 렌티큐라를 제작할 때 얼마든지 길게 제작을 할 수가 있다. 따라서 본 발명에서는 대면적의 노광작업은 용이하게 가능하다.
이하에서 본 발명의 선광원 발생장치의 크기에 대한 실시예를 설명한다. 만약 노광시키고자 하는 기판의 규격이; 가로 1미터, 세로가 200미터라 할 경우, 선광원 발생장치의 폭은 대략 10 센티미터 전후, 선광원 발생장치의 길이는 1 미터보다 조금 크게 제작한다. 이때, 이송거리는 적어도 200 미터 이상이 요구된다.
본 발명의 선광원 발생장치는, 노광작업 중에, 패턴필름에 대하여 상대적으로 이송시키는 것이 반드시 필요하다. 본 발명의 노광기에서 렌티큐라시스템은 선광원 발생장치의 가장 저부에 구성되며, 패턴필름 또는 포토마스크의 상부에 위치한다. 패턴필름 또는 포토마스크와 선광원 발생장치가 마찰 없이 움직일 수가 있도록 하기 위하여, 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 선광원 발생장치와 소정거리 이격시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 선광원 발생장치는 노광작업 중에, 패턴필름 또는 포토마스크와의 상대적인 이송을 통하여 대면적의 노광부를 형성할 수 있다. 본 발명에서 이러한 상호간의 상대적 이송은 다양한 방법으로 구성이 가능하다. 구체적 실시예로서, 선광원 발생장치를 움직이고, 패턴필름은 노광기의 테이블과 함께 고정이 될 경우를 설명한다. 선광원 발생장치에 레일부와 구동부를 형성하고, 구동부는 구동기어를 갖는 구동모터로 이루어지며, 레일부에는 구동기어가 맞물리는 렉기어를 형성할 수 있다.
본 발명의 선광원 발생장치는 렌티큐라의 집광기능을 사용한다. 본 발명 노광기에서 수직광 볼록렌티큐라의 집광기능을 최대한 사용하면, 감광층의 두께가 수십 마이크론 이상이 되더라도, 그리고 노광되는 회로 폭의 피치가 수 마이크론일지라도 깨끗한 노광이 가능하다. 깨끗한 노광이 가능하므로, 불량이 없고 선명한 회로의 구성이 가능하다. 특히 본 발명의 선광원 발생장치에서 수직광 렌티큐라를 사용할 경우, 선광원 발생장치로 부터 만들어 지는 수직광은 빛의 산란작용과 회절작용 및 반사작용을 최대한 방지시킬 수가 있다.
본 발명의 렌티큐라를 사용한 선광원 발생장치는, 광원과 렌티큐라시스템을 기본적 구성요소로 포함한다. 상기 렌티큐라시스템의 형태는 크게 두가지로 대별한다. 첫째는 단 한장의 렌티큐라로 구성되는 형태이며, 둘째는 다수의 렌티큐라를 적층시킨 렌티큐라 적층체의 형태이다. 상기 렌티큐라 적층체는 볼록렌티큐라 또는 오목렌티큐라가 적절히 조합되어 배열된다. 렌티큐라시스템의 가장 대표적인 실시예로서, 볼록렌티큐라의 하부에 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 적층시킨 것을 들 수가 있다. 렌티큐라시스템의 형태로, 오목렌티큐라만으로 적어도 한장 이상 적층하는 경우도 있으며, 기타 다양한 적층의 형태가 존재한다.
본 발명에서 렌티큐라시스템을 볼록렌티큐라와 오목렌티큐라를 적층시킨 것을 사용하면, 노광작업에서 보다 미세한 피치를 가지는 회로의 노광이 가능하다. 적층시킨 렌티큐라를 사용하면, 선광원의 선폭이 수십 나노 단위 선폭을 가지는 선광원을 만들 수가 있기 때문이다. 이러한 수십 나노의 선폭을 가지는 선광원을 패턴필름에 조사하면, 수 미크론의 회로폭을 가지는 노광작업까지 가능하게 된다.
이하에서는 볼록렌티큐라와 오목렌티큐라에 대하여 간단히 설명한다. 렌티큐라는 투명한 소재로 제작이 된다. 한쪽의 면은 평면으로 구성이 되고, 다른 한 쪽의 면은 볼록렌즈 또는 오목렌즈로 구성이 된다. 상기 오목렌즈 또는 볼록렌즈가 기둥형상으로 연속으로 나열된다. 본 발명에서 사용되는 오목렌티큐라의 정의를 다음과 같이 한다. 오목렌티큐라는 투명한 소재로 제작이 되며, 한쪽 면은 평면으로 구성이 되고, 다른 한 쪽의 면은 오목렌즈 기둥형상이 연속하여 나열된 것으로 정의한다.
도 8은 오목렌티큐라의 사시도이다. 볼록렌티규라는 볼록렌즈 기둥이 연속적으로 연결되는 것임에 대응하여, 오목렌티큐라(34)는 오목렌즈 기둥이 연속적으로 연결되는 것이다. 볼록렌티큐라를 통하여 빛은 집광이 이루어지며, 오목렌티큐라를 통하여 빛은 복수개의 빛으로 분할된다. 본 발명의 렌티큐라시스템은, 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라 배열하거나, 또는 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 배열하거나, 또는 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라가 적층되는 적층체를 구성할 수 있다.
단 한장의 볼록렌티큐라로 본 발명의 렌티큐라시스템을 구성할 수가 있음도 물론이다. 본 발명의 렌티큐라시스템은 볼록렌티큐라와 오목렌티큐라를 다양한 순서로 적층시킬 수가 있으며, 그 적층의 순서와 방법에 따라 각각 다른 효과를 낼 수가 있다. 렌티큐라의 적층순서는 노광기의 성능에 많은 영향을 미치므로 각 상황에 맞춰 설계한다.
도 9a, 9b, 9c는 렌티큐라시스템의 실시예이다. 도 9a는 볼록렌티큐라의 하부에 오목렌티큐라를 적층시킨 것이다. 볼록렌티큐라 렌즈는 볼록렌즈의 기능을 하며, 오목렌티큐라의 렌즈는 오목렌즈의 기능을 한다. 오목렌티큐라에 있어서, 오목한 부분의 중앙부를 본 발명에서는 골이라 칭한다.
도 9b는 볼록렌티큐라(37)의 하부에 4개의 오목렌티큐라(38,39,40,41)를 적층한 것이다. 오목렌티큐라를 뒤집어 배열하면 또 다른 효과를 낼 수가 있다. 오목렌티큐라를 가장 상부에 적층하거나, 볼록렌티큐라를 가장 하부에 적층하는 형태변화에 의하여 렌티큐라시스템의 성능변화를 줄 수 있다.
도 9c는 볼록렌티큐라의 하부에 오목렌티큐라를 배열하고, 상기 오목렌티큐라(43)의 하부에는 다시 볼록렌티큐라(44)를 구성한 실시예이다.
이하에서는 볼록렌티큐라에 의하여 집광된 빛이 오목렌티큐라에 의하여 분할되는 것을 설명한다. 오목렌티큐라는 선광원의 빛을 분할시키는 분할작용을 한다. 상부에 볼록렌티큐라를 위치시키고, 하부에 오목렌티큐라를 적층한 경우; 광원으로부터 조사되어진 빛은, 볼록렌티큐라 렌즈의 갯수와 동일한 개수의 라인 형상의 빛으로 오목렌티큐라에 전달이 된다. 상기의 라인 형상의 빛은, 하부의 오목렌티큐라 렌즈에 의하여 분할이 일어난다.
볼록렌티큐라의 렌즈의 개수와 동일한 갯수의 라인 형상의 빛은, 하부에 위치되어진 오목렌티큐라에 의하여 더 많은 갯수의 라인 형상의 빛으로 분할된다. 오목렌티큐라에 의하여 선광원은 더 많은 갯수의 선광원으로 분할되는 것이다. 오목렌티큐라에 의하여 더 많은 수의 선광원으로 분할됨과 동시에, 선광원의 선폭은 더욱 가늘게 된다. 가늘어진 선폭을 가지는 선광원은, 보다 적은 회절과 간섭을 받으면서 패턴필름을 통과한다.
이러한 현상은 기판의 노광층을 더욱 미세하게 노광시킬 수가 있음을 의미한다. 적층된 렌티큐라에 의한 집광 및 분할되는 빛은; 첫째, 선광원의 선폭은 가늘어지고, 둘째, 선광원의 개수는 증가된다. 본 발명에서는 렌티큐라시스템에 의하여 집광되고 분할되어진 빛을 사용하므로, 보다 미세한 노광작업을 가능케 하는 것이다. 본 발명에서의 렌티큐라시스템을 통하여 만들어진 선광원은, 수십 나노에서 수백 나노의 선폭을 갖는 라인형상의 빛까지 만들 수가 있다.
도 10은 차광부를 구비한 수직광 볼록렌티큐라의 구성도이다. 본 발명에서는 적층시킨 렌티큐라시스템을 통하여 수십 나노에서 수백 나노의 선광원을 만들 수가 있다. 그러나 이 경우, 렌티큐라시스템을 통과한 이웃하는 선광원의 간격이 너무 좁아지게 된다. 이같이 선광원들이 너무 밀집하여 붙게되면 바람직하지 않는 현상이 야기된다. 이웃하는 라인 형상의 빛들의 간격이 너무 줄어들면, 자칫 한 덩어리로 붙어질 수가 있다.
이것은 선광원이 패턴필름을 통과할때, 빛의 간섭과 회절이 일어나게 된다. 정확한 노광작업이 불가하게 한다. 따라서 이웃하는 선광원들이 서로 붙는 것을 방지하기 위하여, 도 10과 같이 볼록렌티큐라(46)의 사이에 빛의 흐름을 차단시키는 차광부(47)를 구성한다.
본 발명에서는 볼록렌티큐라 또는 오목렌티큐라를 불문하고, 렌티큐라에 있어서 렌즈와 그 이웃하는 렌즈 사이에 빛이 들어가지 못하도록 하는 차광부를 만들 수가 있다. 이같이 렌티큐라에서 빛이 들어가지 못하게 하는 영역을 구성한 것을, 본 발명에서는 차광부라 정의한다. 상기 차광부는 렌즈와 렌즈 사이에 편평한 평면부를 구성하고, 그곳에 인쇄방법으로 불투명부로 인쇄를 하거나; 렌즈와 렌즈 사이에 편평한 평면부를 구성하고, 상기 평면부에 불투명부를 구성시킨 패턴필름을 제작하여 붙일 수도 있다. 본 발명에서는 이러한 렌티큐라를, 차광부를 구비한 렌티큐라(45)라고 정의한다.
도 11은 차광부를 구비한 오목렌티큐라의 구성도이다. 이것은 차광부를 구비한 볼록렌티큐라에 대응하는 것이다. 차광부(50)를 구비한 오목렌티큐라(49)에서, 오목부(51)와 오목부 사이에 차광부(50)가 위치된다.
도 12는 차광부를 구비한 렌티큐라시스템에 대한 또다른 실시예이다. 차광부를 구비한 볼록렌티큐라(53)와 차광부를 구비한 오목렌티큐라(54,55,56)을 적층시켜, 차광부를 구비한 렌티큐라시스템을 구성한다.
도 13은 차광부를 구비한 볼록렌티큐라(57,59,61)와 차광부를 구비한 오목렌티큐라(58,60)을 적층하여, 차광부를 구비한 또 다른 렌티큐라시스템을 구성한 것이다. 이러한 구성은 렌티큐라시스템에서 발생되는 선광원과 선광원의 사이를 이격시키는 장점이 있다. 차광부를 구비한 렌티큐라시스템은, 차광부를 구비한 볼록렌티큐라 또는/및 차광부를 구비한 오목렌티큐라를 조합하여 다양한 형태로 만들 수가 있다.
본 발명에서는 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템을 청구대상으로 한다. 본 발명의 렌티큐라시스템은 단 하나의 렌티큐라로 구성되거나, 렌티큐라 적층체로 구성된다. 렌티큐라 적층체로 구성될 경우, 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라를 포함하거나, 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함하거나, 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함하여 적층체로 구성할 수가 있다.
본 발명의 렌티큐라시스템은 진동수단을 포함할 수도 있다. 또한 본 발명의 렌티큐라시스템은 일부분에 수직광 렌티큐라를 포함시킬 수가 있다. 수직광 렌티큐라의 종류로는 수직광 볼록렌티큐라, 수직광 오목렌티큐라가 있다. 일반적인 렌티큐라가 불투명 차폐물을 포함하거나, 광투과 슬리트를 포함하거나, 차광부를 포함하게 하여 수직광 렌티큐라를 구성할 수가 있다.
본 발명에서 렌티큐라시스템은 평탄도를 유지할 필요가 있다. 렌티큐라를 평면으로 유지하도록 하기 위하여 유리판 등의 투명판으로 지지할 수가 있다. 렌티큐라시스템은 두께가 얇기 때문에 잘 휘어 질수가 있다. 평탄도를 유지하기 위한 투명판의 가장 대표적 실시예가 유리판이다. 렌티큐라시스템의 상부 또는 하부 또는 상하부에 평면을 유지시키기 위하여 투명판을 위치시킨다.
상기 렌티큐라시스템은 적층체를 이룰경우, 렌티큐라가 서로간에 움직이지 않도록 한다. 이를 위하여 일체로 본딩을 하는 것이 바람직하다. 본딩은 렌티큐라의 전체면에 하지 않고, 렌티큐라의 가장자리부에 구성한다. 상기 본딩부는 다양한 방법으로 구성이 가능하다. 가장 대표적 실시예로서는 초음파 접합에 의하거나, 유브이 수지로 접합할 수가 있다. 상기 본딩부를 구성할 때, 렌티큐라와 렌티큐라의 적층부에 틈새가 생기지 않도록 진공상태에서 본딩부를 가공되는 것이 바람직하다.
이하에서는, 렌티큐라를 사용하는 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기에 대하여 부가설명을 하겠다.
본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기는, 렌티큐라를 사용하는 것을 특징으로 한다. 상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성되며; 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 전체적으로 같은 방향으로 같은 속도로 움직이는 동행구조로 이루어진다. 본 발명에서, 광원과 렌티큐라시스템이 전체적으로 같은 방향으로, 같은 속도로 움직이는 것을 동행구조라고 정의한다.
동행구조란 광원과 렌티큐라시스템이 같은 방향으로 이동을 하면서, 전체적으로는 양자가 같은 속도로 움직이는 것을 의미한다. 동행구조의 가장 대표적인 방법으로, 광원과 렌티큐라시스템을 하나의 컨테이너에 탑재를 시키는 것이다. 상기 컨테이너는 밀폐되거나 개방된 구조물로 만들어 진다. 이 경우 광원과 렌티큐라시스템은 동일방향으로, 전체적으로 동일속도로 이송된다. 이송방향은 렌티큐라 렌즈의 길이방향에 대한 직각방향이다.
광원의 요동운동은, 광원의 속도에 영향을 전혀 미치지 않는 것은 아니나, 광원의 이동속도에 비하여 광원의 요동속도를 빠르게 하여, 전체적 광원의 속도에 큰 영향을 미치지 않는 것으로 한다. 즉 광원과 렌티큐라시스템이 노광작업을 위하여 이송될때, 상기 광원의 이송속도는 요동에 의하여 크게 영향을 받지 않게 설계되어, 상기 광원은 전체적으로 렌티큐라시스템과 동일한 속도로 움직인다고 설명한다.
본 발명의 선광원 발생장치에 있어서, 렌티큐라시스템에는 진동수단을 부가하여 미세진동을 가할 경우도 있다. 엄격하게 보면, 요동하는 광원이나 진동하는 렌티큐라시스템을 가질 경우 각 부분들은 동일한 속도로 움직인다라고 볼 수는 없다. 그러나 설명의 편의를 위하여, 전체적으로 같은 속도로 움직인다는 것으로 정의를 한다.
이것을 원만하게 설명하기 위하여, 본 발명에서는 동행구조라는 용어로 표현한다. 본 발명의 선광원 발생장치를 구비한 노광기에서 광원과 렌티큐라시스템은 동일한 컨테이너에 고정되고, 전혀 상호간에 상대적인 이동없이, 같은 속도로 이동하는 것이 가장 대표적인 실시예이다. 이 경우는, 광원도 요동하지 아니하고, 렌티큐라시스템도 진동하지 않는 상태이며, 한 몸체와 같이 이동하는 것이다.
본 발명에서 광원의 성질은 중요하다. 평판에 LED와 같은 발광체가 수많은 갯수로 부착시켜 광원을 만들 경우, 엄격하게는 설명하면, 광원의 세기는 모든 면적에 대하여 균일하다고는 말할 수가 없다. LED 광원의 경우, 이웃하는 LED 와의 사이에 간격이 있게 마련이다. 이러한 간격으로 인하여, 모든 면적에 대하여 빛의 세기를 균일하게 할 수가 없게 한다. 그러나 이러한 경우라 할지라도, 모든 면적에 대하여, 균일한 빛의 분포도를 얻기 위하여서 최대한 노력한다. 이것은 렌티큐라시스템이 이루는 평면과 동일 평면으로, 상기 광원을 가로방향 또는/및 세로방향으로 요동시키는 것이다. 광원의 균일성을 확보하기 위하여, 짧은 시간에 반복적인 움직임을 하는 요동동작을 실행시키는 것이다. 광원의 요동은, 임의의 방향이 가능하나, 반드시 짧은 시간에 반복적인 움직임이 되어야만 한다.
빛의 세기는 노광기에서 매우 중요한 작용을 한다. 빛의 세기를 조절하기 위하여서는 우선 소모되는 전기량을 조절하는 방법이 대표적인 방법이다. 부가적인 방법으로, 빛의 세기를 조절하기 위하여, 본 발명의 선광원 발생장치에서는 광원과 렌티큐라시스템의 상호간의 거리를 조절하는 방법을 제시한다. 같은 전력을 소모하는 경우일지라도, 광원과 렌티큐시스템의 거리가 가까우면 그 만큼 강한 빛을 조사시킬 수가 있게 된다.
빛의 세기를 조절하기 위하여, 상기 광원을 상기 렌티큐라시스템에 대하여 멀게 하거나 가깝게 하여 거리를 조절할 수가 있도록 한다. 광원과 렌티큐라시스템이 동일한 컨테이너에 탑재되는 경우, 렌티큐라시스템은 상기 컨테이너의 최하단면에 위치된다. 광원을 컨테이너 내부에서 렌티큐라시스템 쪽으로 이동을 시켜 광원을 가깝게 위치시키면, 강한 빛의 세기를 얻을 수가 있음은 물론이다. 광원과 렌티큐라시스템과의 거리를 조절하는 장치를 구성하기 위하여 다양한 형태의 직선이송장치들의 적용이 가능함은 물론이다.
광원과 렌티큐라시스템이 동일한 컨테이너에 탑재된 경우, 광원과 렌티큐라시스템을 움직임이 없도록 상기 컨테이너에 고정시키어, 상기 광원과 렌티큐라시스템은 상호간에 상대적인 이동이 없도록 하는 것도 가능하다. 이 경우에는 사용되는 전력조절에 의하여서만 빛의 세기를 콘트롤 가능하다. 이 경우에는 광원의 요동작용이나 렌티큐라시스템의 진동작용을 시키지 않는 경우이다. 이 같은 경우에도 선광원 발생장치는 그 기능을 잘 할 수가 있다. 광원과 렌티큐라시스템은 상호간에 상대적인 이동이 없도록 구성된 노광기 역시 본 발명의 노광기의 한 실시예에 속한다.
광원과 렌티큐라시스템이 동일 컨테이너에 탑재된 경우, 상기 컨테이너 자체를 본 발명 노광기의 테이블에 대하여 상하방향으로 움직일 수 있게 구성을 한다. 이러한 컨테이너의 상하 운동은, 노광작업을 위한 준비작업을 테이블 위에서 행할 수가 있게 하는 것이다.
본 발명 노광기에서는 광원에 의하여 발생하는 열을 냉각수단을 통하여 제거하는 것이 필요하다. 컨테이너 내부에 강제적으로 냉각공기 또는 냉각수를 순환시켜서 냉각시킬 수가 있다. 이때 냉각공기 또는 냉각수를 만들기 위한 기계적 장치는 선광원 발생장치의 내부 또는 외부에 있게하거나, 노광기의 테이블 밑에 구성을 할 수가 있다.
본 발명의 노광기에서, 패턴필름 또는 포토마스크는 렌티큐라시스템의 하부에는 위치된다. 노광작업 중에는, 렌티큐라시스템은 상기 패턴필름 또는 포토마스크로부터 일정간격으로 이격된 상태로 위치된다. 이러한 간격은 양자가 상호간에 상대적인 이송이 일어날 때, 마찰을 줄이며 운활한 이송을 가능케 한다. 상기 이격거리는 되도록 짧은 것이 바람직하다. 상기 패턴필름 또는 포토마스크의 하부에는 감광층이 형성된 기판이 위치된다. 상기 기판은 상기 패턴필름 또는 포토마스크와 일정거리 이격되거나, 밀착된다. 이격시킬 경우, 빛의 회절이나 간섭 등의 부작용을 배제할 수가 없다.
따라서 정밀한 노광작업을 위해서는 밀착을 시키는 것이 바람직하다. 그러나 패턴필름 또는 포토마스크와 감광층을 밀착시킬 경우, 패턴필름 또는 포토마스크가 감광층에 접촉되어 감광층을 손상시킬 수가 있다. 따라서 패턴필름 또는 포토마스크와 감광층은 서로간에 간격을 두어 이격을 시킬 필요성이 있는 것이다. 그러나 이격을 시킬 경우에는 가능한 짧은 거리를 이격시켜, 빛의 회절과 간섭의 영향을 줄이는 것이 바람직하다.
정확한 노광작업을 위하여서는 밀착시키는 것이 필요하다. 밀착시켜서 노광작업을 진행하면, 빛이 바로 감광층에 전달되므로 빛의 회절이나 간섭 등의 부작용이 월등히 줄어들게 된다. 이격시킬 것이냐 또는 밀착시킬 것이냐의 선택은 제작하고자 하는 노광작업의 엄격도와 정밀도에 따라서 적절히 선택을 하면 된다.
본 발명의 렌티큐라시스템에서, 렌티큐라시스템의 가장 상부층에는 볼록렌티큐라를 사용하는 것이 일반적이나 경우에 따라서는 오목렌티큐라를 위치시키는 것도 있다. 각 노광기의 요구되는 특성에 따라, 렌티큐라의 종류와 적층형태는 다양하게 할 수가 있다. 가장 효율적인 노광기를 구성하기 위하여서, 수직광 렌티큐라를 적어도 한장 이상 포함하는 것이 바람직하다. 또한 본 발명 노광기의 렌티큐라시스템은, 불투명 차폐물이 형성된 렌티큐라를 포함하거나, 투과 슬리트가 형성된 렌티큐라를 포함하거나, 차광부를 형성한 렌티큐라를 포함할 수가 있다.
도 14는 본 발명 노광기를 상부 및 하부구조의 개념으로 설명하는 설명도이다. 이 것은 본 발명의 노광기를 구조적인 측면으로 부가설명하는 것이다. 상부구조는 탄성체(73)로 감싼 압착롤러(74)와, 선광원 발생장치(75)를 포함한다. 부가적으로 보조롤러(62,64,65)를 구비할 수가 있다. 압착롤러(74)와 선광원 발생장치(75)는 연동하여 이송이 된다.
압착롤러는 선광원 발생장치의 전방부에 구성이 되어, 패턴필름(63)을 기판(70)에 밀착시키는 작업을 수행한다. 이 같이 하면, 패턴필름과 기판이 밀착된 상태에서 선광원 발생장치에서 발생된 선광원으로 노광작업이 진행된다. 하부구조는 기판(70)을 위치시키는 테이블(69)과, 상기 테이블에 기판을 밀착시키는 밀착수단(68)을 포함한다. 본 도면의 노광기는 테이블과 상부구조는 고정되며, 노광작업중에는 기판과 패턴필름은 이송되는 것으로 설계된 것이다.
노광기의 테이블(69)에는, 얇은 감광층(72)을 균일하게 도포한 기판(70)이 착탈가능하게 위치된다. 상기 기판 위에는 패턴필름(62)이 위치된다. 노광작업 중에는 선광원 발생장치를 구비한 상부구조는 패턴필름과 상대적인 이송을 하여야만 한다. 패턴필름이 하부구조의 테이블과 일체로 움직이는 경우에는 상부구조와 하부구조의 어느 한곳에 이송수단을 구성하여야만 한다.
또한 선광원 발생장치의 광원에서 생기는 열을 냉각시키는 냉각수단이 상부구조 또는 하부구조 중 어느 한곳에 형성된다. 냉각수단에 의하여 발생된 냉각공기 또는 냉각수는 선광원 발생장치의 광원에서 발생된 열을 냉각시킨다. 패턴필름은 압착롤러에 의하여 기판에 압착된다.
기판은 밀착수단에 의하여 테이블에 밀착 시킬 수가 있다. 테이블에 미세 구멍을 형성하고, 상기 미세 구멍을 통하여 진공펌퍼의 진공압으로 기판을 테이블에 밀착시키는 밀착수단을 구비할 수가 있다. 노광작업의 준비를 할 수가 있도록, 상부기관을 테이블에 대하여 상하 방향으로 이동할 수가 있게 구성한다. 노광작업을 준비하기 위한 공정에서, 상부기관을 테이블로부터 상방으로 이동시킬 필요가 생기기 때문이다.
본 발명의 노광기에서, 패턴필름의 형태는 다양하다. 일반적으로 개별로 나눠어진 시트상의 패턴필름이 많이 사용된다. 또다른 형태로는, 패턴필름의 시작부와 끝부가 연결된 무한괘도 형상으로 제작을 할 수도 있다. 이러한 무한궤도 방식은 대량생산 체계에서 유리하다. 상기 무한괘도의 형태를 이루는 패턴필름의 경우, 선광원 발생장치는 상기 패턴필름의 내부에 위치시킨다.
무한괘도의 패턴필름을 사용하지 않을 경우, 상기 상부구조는 초기위치에서 노광작업을 수행한 후, 하부구조로부터 이격된 상태로 이동하여, 다시 초기위치로 되돌아가는 방식으로 반복적인 노광작업을 수행시킨다.
본 발명의 노광기의 테이블의 양쪽 단부 또는 한쪽 단부에는 유연성 기판을 감는 릴 구조가 구성 될 수가 있다. 기판이 비전도성 기판일 경우에는, 기판(70)에 도전층(71)을 마련하기 위하여 먼저 도전성 금속으로 표면을 얇게 스파터링 처리한다. 경우에 따라서는 상기 스파터링 층 위에 다시 도금을 실시하여 도전층(71)의 두께를 증가시킨다.
노광기의 선광원 발생장치와 패턴필름은 노광작업중에는 반드시 상호간의 상대적인 이송이 있어야 한다. 패턴필름의 운동을 하부구조와 연결되어 움직이게 할 수가 있다. 이 경우에는 상부구조를 고정하면 하부구조가 상대적으로 이동이 될 수가 있으며, 만약 하부구조가 고정되면 상부구조가 상대적으로 이동이 될 수가 있도록 한다. 패턴이 형성되어진 패턴필름(63)은 무한궤도로도 구성을 할 수도 있다. 상기 패턴필름은 압착롤러(74)에 의하여 기판에 밀착되게 구성한다. 즉 패턴필름은 감광재(72)가 도포된 기판(70)에 압착되며, 상기 패턴필름과 상기 기판에 도포된 감광층은 상기 압착롤러에 의하여 맞닿아 상호간에 상대적인 미끄럼이 없도록 한다. 밀착수단에 의하여 기판과 테이블은 밀착시킬 수가 있다.
패턴필름이 무한괘도의 형태의 경우에는, 선광원 발생장치(75)는 상기 무한괘도(53)의 내부에 존재한다. 상부구조는 하부구조에 대하여 상하 방향으로 이동을 시킬 수가 있도록 구성하여 기판의 교체 등과 같은 노광준비 작업을 할 수 있도록 한다. 기판(70)은 얇은 감광층(72)이 균일하게 도포된 유연성 기판이 많이 사용된다. 유연성 기판으로 사용하면 테이블(69) 양쪽의 릴에 감아서 연속 노광작업을 행 할 수가 있다.
패턴필름을 무한궤도로 구성하면, 무한 연속작업이 가능하다. 기판은 폴리이미드 필름(70) 상에 도전성 금속층(71)을 형성되고, 상기 금속층 위에 감광재(72)가 균일하게 도포된 것을 사용한다. 패턴필름이 무한괘도가 아닐 경우, 일정 범위의 노광작업이 수행되면, 상부구조를 다시 초기위치로 이동시킬 필요가 있게 된다. 이러한 구조를 설명하기 위하여, 노광작업이 시작된는 위치를 초기위치라 정의한다. 일정 범위의 노광작업을 행한 이후, 상부구조를 하부구조로부터 이격된 상태로 이동시켜 초기위치로 되돌리는 장치를 구성한다.
도 15는 도 14를 부가적으로 설명하는 설명도이다. 무한괘도로 이루어진 패턴필름은 투명(87)과 불투명부(76)로 구성된다. 상기 무한괘도 내부에는 선광원 발생장치(86)가 위치된다.
상부구조는 탄성체(83)로 지지되는 압착롤러(84)와, 적어도 한개 이상의 보조롤러(77,78,79)와, 선광원 발생장치(86)를 포함한다. 하부구조는 테이블과, 상기 테이블에 기판을 밀착시키는 밀착수단을 포함한다. 선광원 발생장치를 구성하는 광원과 렌티큐라시스템은 지지프레임(85)에 의하여 견고히 일체로 결합된다. 기판(80)은 감광재(81)로 균일하게 도포된다.
도 16은 본 발명의 선광원 발생장치의 실시예의 설명도이다. 본 실시예에서는 선광원 발생장치(91)를 구성하는 광원(88)과 렌티큐라시스템(89)은 컨테이너(90)에 탑재된다. 상기 광원은, 컨테이너 내부에서 요동하거나, 또는 상하로 이동가능하게 구성을 할 수가 있음은 물론이다.
컨테이너 내부에는, 광원을 요동시키는 요동구조 또는 렌티큐라시스템을 미세 진동시키는 진동구조를 형성할 수가 있다. 이러한 구조는 공지된 일반적인 장비로서 다양하게 구성을 할 수가 있음으로 구체적인 설명은 생략한다. 또한 컨테이너 내부에는, 광원에서 발생하는 열을 냉각시키는 냉각장치 등의 다양한 부대장비를 설치할 수가 있음은 물론이다.
컨테이너 내부에는, 광원장치가 상하방향으로 이동을 할 수 있는 장치를 구성할 수도 있다. 본 발명에서는 일반적으로 렌티큐라시스템은 컨테이너의 저부에 위치시킨다. 광원의 세기를 조절하기 위하여 컨테이너 내부에서, 광원과 렌티큐라시스템과의 거리를 조절할 수 있다.
광원과 렌티큐라시스템과의 거리조절을 통하여, 패턴필름 또는 포토마스크에로 조사되는 빛의 세기를 조절할 수가 있다.
도 17은 상부구조에 대한 또 다른 실시예이다. 상부구조는 탄성체로 감싸지는 압착롤러(97)와, 적어도 한개 이상의 보조롤러(100,101,102,103)와, 선광원 발생장치(98)를 포함한다. 압착롤러와 선광원 발생장치는 서로 연동하여 움직이며, 테이블에 대하여 상하방향으로 이동하여 노광작업을 준비할 수가 있도록 한다. 또한 압착롤러와 선광원 발생장치를 좌우방향으로 이동시켜, 대면적에 대하여 노광작업을 행할 수가 있도록 한다. 또는 압착롤러와 선광원 발생장치를 정지시키고, 패턴필름과 기판을 좌우방향으로 이동시켜, 대면적에 대하여 노광작업을 행할 수가 있다.
본 실시예에서, 초기위치에서 노광작업을 수행한 후, 상부구조는 하부구조로부터 이격된 상태로 초기위치로 되돌아 가도록 하여 반복적인 작업을 하게 할 수도 있다. 기판(93)의 상부에는 도전성을 부여하기 위하여 스파터링한 금속층을 얇게 구성하고, 상기 스파터링한 금속층 위에 구리와 같은 금속으로 얇은 도금층(92)을 형성한 후, 상기 얇은 도금층 위에는 얇은 감광층이 구성된다.
본 발명의 노광기에서, 광원이 컨테이너에 탑재되는 형태가 보편적이다. 그러나 본 발명에서 사용될 수 있는 광원은 컨테이너에 탑재되는 형태만으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 발명의 노광기 테이블 전체에 대하여, 광원의 빛이 밝혀지는 경우도 있다. 또는 노광작업을 실시하는 작업실 전체에 대하여, 균일한 광원의 빛이 밝혀지는 경우도 있다. 본 발명에서는 광원이 어떠한 형태로 존재하든지 불문하고, 광원의 빛이 렌티큐라시스템만을 통하여 감광층에 전달되면 모두 본 발명에 속한다 하겠다.
본 발명의 노광기에서는, 노광작업 중에는, 렌티큐라시스템 이외의 부분을 통하여서는 감광층에 빛이 전달되지 못하게 한다. 이것은 본 발명 노광기에 있어서의 모든 광원에 대한 공통사항이다. 상기와 같이, 광원이 테이블 전체면적을 밝히는 경우 또는 광원이 작업실 전체를 밝히는 경우에는, 굳이 광원을 이동시킬 필요가 없음은 물론이다. 단지, 노광작업 중에는 렌티큐라시스템 이외의 부분을 통하여서는 감광층에 빛이 전달되지 못하게 한다. 상기 렌티큐라시스템은 패턴필름에 대하여, 상호간에 상대적인 이송이 있어야만 하는 것은 물론이다.
상기와 같은 형태로 구성되는 광원도, 본 발명의 선광원 발생장치를 구성하는 광원의 개념에 포함된다고 정의한다. 이 경우에도, 상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성되며; 상기 선광원 발생장치는 패턴필름과의 상대적 이송을 통하여 노광작업이 이루어 진다는 개념으로 정의한다.
도 18은 컨테이너 내부에서 빛의 세기를 조절하는 선광원 발생장치의 설명도이다. 광원과 렌티큐라시스템이 동일한 컨테이너(104)에 탑재된다. 상기 컨테이너의 내부에 탑재된 광원은 컨테이너 내부에서 상하로 이동을 할 수가 있게 구성을 한다. 광원의 실시예로서 LED 광원(106)을 들 수가 있다. LED는 다수의 개개의 LED를 지지체에 결합시켜 광원을 구성하는 것이 일반적이다. 물론 LED를 면광원으로 구성할 수도 있음은 물론이다. 개개의 LED를 지지체에 결합시킨 것이나, 면광원으로 구성된 LED를 본 발명에서는 광원 지지체(105)로 명명한다.
본 발명의 실시예에서는 상기 컨테이너 내부에 상기 광원지지체를 상하로 이동 가능한 형태로 구성된다. 상기 컨테이너의 저부에는 렌티큐라시스템(107)이 구성된다. 상기 광원지지체를 컨테이너의 내부에서 상하방향으로 이동시켜 렌티큐라시스템에 조사하는 빛의 세기를 조절한다.
본 발명의 노광기에 사용되는 광원의 세기는 소요되는 전력을 콘터롤하여 제어하기도 하며, 부수적으로 광원과 렌티큐라시스템과의 상호간의 거리를 조절함으로서 제어할 수가 있다. 본 발명의 노광기에 있어서, 기판에 조사되는 빛의 세기와 선광원 발생장치의 상대적인 이송속도는 노광품질을 결정하는데 너무나 중요한 역할을 감당한다. 따라서 기판에 조사되는 선광원의 세기를 미세하게 제어할수 있도록 하는 장치는 너무나 중요하다. 또한 선광원 발생장치의 상대적인 이송속도를 미세하게 제어할 수 있도록 하는 장치도 너무나 중요하다 하겠다.
도 19는 선광원 발생장치와, 패턴필름과, 기판의 위치관계를 설명하는 설명도이다. 본 발명의 선광원 발생장치에서는 컨테이너의 저부에 렌티큐라시스템이 위치된다. 패턴필름 또는 포토마스크는 렌티큐라시스템의 하부에 위치된다. 패턴필름이나 포토마스크의 하부에는 기판이 위치된다. 도 19는 패턴필름 또는 포토마스크(108)를 기판(109)에 밀착시킨 경우를 도시한다.
패턴필름 또는 포토마스크(108)를 기판의 감광층에 밀착을 시키면, 빛의 회절 또는 간섭은 최대한 줄어든다. 따라서 노광작업이 정확하게 수행될 수가 있다. 감광층에 형성된 보호필름을 벗기지 않고 노광작업을 시행하면, 밀착상태에서 작업을 하더라도 감광층의 손상이 없다. 그러나 보호필름을 벗기고 작업을 하게 되면, 감광층의 손상을 생각하여야만 한다. 이때는 패턴필름 또는 포토마스크를 감광층으로부터 소정거리 이격을 시킨 상태로 노광하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 렌티큐라시스템에 있어서는, 렌티큐라시스템의 가장 상부를 볼록렌티큐라로 하며, 상기 볼록렌티큐라의 하부에는 적어도 한 개 이상의 오목렌티큐라가 조합되도록 구성을 하는 것이 일반적인 형태이다. 그러나 경우에 따라서는 렌티큐라시스템의 가장 상부에 오목렌티큐라를 위치시키기도 하며, 가장 하부에 볼록렌티큐라를 위치시키기도 한다.
본 발명의 선광원 발생장치 및 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템은 노광기 뿐만 아니라 일반 영상장치의 영상패널에도 다양한 형태로 사용이 될 수가 있다. 기존 영상장치에서는 백라이트와 편광필터를 통하여 영상패널로 빛이 전달되는데, 이때 편광필름을 통과하게 되면 많은 양의 빛이 감소된다. 그러나 본 선광원 발생장치를 영상장치에 사용하게 되면, 백라이트와 편광필터의 기능을 대신 할 수가 있게 된다. 본 발명의 선광원 발생장치는 광원에서 제공하는 빛의 손실없이 그대로 활용되는 큰 장점이 있다. 빛의 손실이 없으면, 밧데리의 수명을 대단히 증가시킬 수가 있다.
본 발명 선광원 발생장치를 일반 영상패널에 사용할 수가 있도록 하기 위하여서 렌티큐라시스템에 미세 진동수단을 부가할 경우가 있다. 렌티큐라시스템에 미세 진동을 발생시키는 진동수단을 장착시켜, 선광원 발생장치에서 생기는 선광원과 선광원 사이의 공백부를 해소시킨다. 선광원과 선광원 사이의 간격은 수 미크론에서 수십 미크론 정도의 크기에 불과하다. 이러한 선광원과 선광원 사이의 간격에 의한 공백부는, 렌티큐라시스템의 미세 진동으로 해결된다. 즉, 착시현상을 이용하여 시청자는 공백부를 느끼지 않게 된다.
본 발명에서는 미세 선광원 제작 방법 역시 본 발명의 영역으로 한다. 본 발명의 미세 선광원 제작방법은, 광원으로부터 조사되는 빛을 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 통과케 함으로써, 미세한 선광원을 제작하는 것을 특징으로 한다. 미세 선광원을 제작하기 위하여서는 사용되는 렌티큐라의 피치는 미세한 것이여야만 한다. 또한 수직광 렌티큐라를 포함하는 렌티큐라시스템이 사용되는 것이 바람직 하다.
상기에서 표현된 미세 선광원이란, 선광원의 선폭이 미세하다는 것을 의미하며, 선폭의 사이즈가 수 십 나노의 크기로 부터 수 십 마이크론의 크기까지 포함한다. 본 발명의 구체적 실험치로, 선광원의 선폭이 700 나노를 얻기 위하여서, 피치가 33 마이크론의 수직광 볼록렌티큐라를 사용하였고, 상기 수직광 볼록렌티큐라의 하부에는 8장의 오목렌티큐라를 적층하였다.
또한 3 마이크론의 선폭을 갖는 선광원을 만들기 위하여서, 피치가 30 마이크론의 수직광 볼록렌티큐라와, 상기 수직광 볼록렌티큐라의 하부에 오목렌티큐라를 한장 적층시킨 렌티큐라시스템이 사용되었다. 상기의 선광원의 선폭이 3 마이크론의 선광원 발생장치를 사용하여, 대면적의 노광작업을 신속히 진행을 할 수가 있었다. 상기의 3 마이크론의 선폭을 갖는 선광원을 구비한 노광기를 사용하여 노광작업을 실시한 결과, 노광부의 폭이 10 마이크론, 비노광부의 폭이 10 마이크론, 감광층의 두께가 15 마이크론인 기판을 대면적으로 신속히 노광시키었다.
본 발명의 렌티큐라시스템에 있어서, 렌티큐라의 피치는 동일 하더라도 렌티큐라 렌즈의 초점거리를 변화시키면, 더욱 정밀한 노광작업을 할 수가 있음은 물론이다. 본 발명에서 사용되는 렌티큐라의 피치가 극히 미세하지만, 그 미세한 피치에서도 렌티큐라의 초점거리는 다양하게 설계를 할 수가 있음은 물론이다.
본 발명에서 미세 선광원이란 용어는, 선광원의 선폭의 범위가 수십 나노 에서 수십 미크론의 범위를 대표적으로 나타낸다. 그러나 본 발명의 노광기나, 본 발명의 선광원 발생장치는 상기에서 표현한 미세의 범위를 벗어난 영역에서도 얼만든지 적용이 가능함은 물론이다.
본 발명의 렌티큐라시스템에서 미세 피치라는 용어를 사용할 때에는, 상기 미세 피치의 범위는 수 마이크론에서 수십 마이크론의 범위를 대표적으로 나타낸다. 그러나 본 발명의 렌티큐라시스템은 상기에서 표현한 미세의 범위를 벗어난 영역에서도 얼만든지 적용이 가능함은 물론이다. 본 발명에서 사용되는 미세 렌티큐라를 어떻게 제작을 하느냐 하는 것은 중요한 요소이나, 이것은 본 발명의 대상으로 하지 않으므로 본 명세서에서는 그 상세한 설명은 생략키로 한다.
또한 본 발명은, 미세 선폭의 선광원을 사용한 미세회로 기판의 제조방법과 그에 의한 미세회로 기판도 본 발명의 대상으로 한다. 종래에는 일반적으로 미세회로를 형성하는 기판은 노광작업과 에칭작업에 의하여 제작이 된다. 또는 노광작업과 도금작업에 의하여 제작이 된다. 종래, 피치가 큰 회로기판에 대한 노광작업을 수행하는 광원은 주로 산란광에서 이루어 진다. 예를 들면 큰 선폭의 회로를 가지는 PCB 기판에 대한 노광작업은 산란광 광원에서 작업하는 것을 들수가 있다. 종래, 미세 피치를 가지는 회로기판에 대한 노광작업은 평행광에서 이루어져 왔다. 본 발명에서는, 미세한 선폭을 만들 수가 있는 선광원 발생장치를 구비한 노광기를 사용하여 대면적의 노광작업을 용이하게 시행할 수가 있게한다.
본 발명의 미세회로 기판의 제조방법은, 미세한 피치를 가지는 본 발명의 렌티큐라시스템에 광원의 빛을 조사시켜, 미세한 선폭을 가지는 선광원을 발생시키고; 상기 발생된 선광원을 사용하여 감광층이 도포된 기판을 노광시킨다. 그후 상기 노광된 기판에 현상공정 및 에칭공정을 통하여 미세회로 기판을 제조한다. 또는 상기 노광된 기판에 현상공정 및 도금공정을 통하여 미세회로 기판을 제작한다.
상기 기판은, 유연성 기판에 구리가 스파터링 되며, 상기 스파터링 층위에 다시 구리가 도금되어 구리 도금층이 형성된 것을 사용하는 것이 일반적이다. 상기의 구리 대신에 도전성 금속으로 대체가 가능함은 물론이다. 노광작업이 끝난 기판에 현상작업 및 에칭작업을 하는 공정은 기존의 일반 공정과 동일하므로 설명을 생략한다.
상기의 도금공정으로 미세회로 기판을 제작하는 방법에 대하여 이하에서 상술하겠다. 먼저 현상작업이 마쳐진 기판에 에칭공정 없이 그대로 도금공정을 실시한다. 현상공정을 통하여 비노광부가 제거된 공간부에는, 도금공정을 통하여 금속 회로부가 형성된다. 회로부가 완전히 성장한 후에는 도금작업을 중지한다. 이후, 노광부를 화학적으로 제거한다. 상기 노광부가 제거된 곳에 드러나는 도전성 금속을 소프트 에칭을 통하여 제거한다. 이렇게 하면 도금방법에 의한 미세회로 기판의 제작이 완성된다. 이하에서는 보다 구체적으로, 도금공정에 의한 미세회로 기판을 제작하는 방법에 대하여 설명한다.
먼저 비도전체 지지기판에 얇은 도전층을 형성한다. 상기 비도전체 지지기판의 가장 대표적인 실시예로서는 폴리이미드 필름을 들 수가 있다. 얇은 도전층을 형성하기 위하여서는 구리 등의 금속을 상기 비도전체 지지기판 위에 스파터링을 통하여 극히 얇게 도전층을 형성한다. 상기 도전층의 두께를 증가시키고자 할 경우에는, 상기 스파터링 층 위에 구리 등과 같은 전도성 금속을 얇게 도금할 수 있는 것은 물론이다.
본 발명에서는 비도전체 지지기판이 플렉시블 하지 않은 소재도 포함될 수가 있음은 물론이다. 또한 비도전체 지지기판은 롤 형태로 감겨진 유연성 기판을 사용하는 것이 대량생산을 위하여 바람직한 형태라 하겠다. 본 발명에서 사용이 되는 비도전체 지지기판은 폴리이미드 필름을 들 수가 있다. 비도전체 지지기판에 형성된 도전층 상부에는 감광재를 도포한다. 감광재는 수 미크론에서 수십 미크론의 두께로 균일하게 도포된다. 이때 감광재가 잘 도포 되도록 하기 위하여 얇은 도전층에 플라즈마 작업을 통하여 세정한 후에 도포하는 것이 바람직하다.
상기 감광재에, 본 발명의 선광원 발생장치를 통하여 발생된 미세 선폭을 갖는 선광원의 빛을 패턴필름에 조사한다. 패턴필름을 통하여 기판에는 노광부와 비노광부가 형성된다. 패턴필름을 통하여 선광원 빛을 감광층에 조사시키면, 빛을 받은 부분은 노광부로 만들어 지고, 빛을 받지 못한 부분은 비노광부가 된다. 상기 비노광부를 화학적으로 제거하면, 공간부가 형성된다. 상기 공간부의 하부에는 얇은 도전층이 드러난다.
도금조 내에서, 상기 드러난 도전층에 전기를 가하여 도금을 실행한다. 상기 공간부에는 도전성 미세 회로가 형성된다. 도금이 진행됨과 더불어, 상기 공간부에는 전도성 미세 회로가 성장하게 된다. 일정한 높이로 미세 회로가 성장하게 되면 도금을 멈춘다. 상기 성장된 미세 회로는 표면을 연마하여 깨끗하게 할 수도 있다. 연마의 방법은 연마 휠을 통하여 표면을 연마를 할 수도 있으며, 그 외의 다양한 방법으로 연마할 수가 있음은 물론이다.
그후, 노광부 하부에 존재하는 얇은 도전층을 제거하기 위하여, 노광부를 화학적으로 제거한다. 노광부가 제거된 곳에는 공간부가 형성된다. 상기 공간부의 하부에는 얇은 도전층이 노출된다. 노출된 얇은 도전층은 소프트 에칭을 통하여 제거한다. 얇은 도전층이 제거되면, 에칭 공간부가 새로 형성된다. 본 발명은 미세부품의 가공에 널리 사용될 수 있다. 미세부품의 한 종류로서 미세 금속회로를 들 수가 있다. 본 발명은 극히 미세한 금속회로를 가지는 chip on film 이나 FPCB 등에 많이 응용이 된다. 비도전체 지지기판을 폴리이미드 필름으로 하는 경우가 일반적이다.
상기의 미세회로 기판의 제조방법으로 만들어진 미세회로 기판도 본 발명의 대상으로 한다. 본 발명은, 본 발명에 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서, 여러 가지 치환 변형이 가능하므로, 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에만 한정되는 것은 아니다.

Claims (73)

  1. 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기에 있어서,
    상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성되며;
    상기 노광기의 노광작업은, 상기 선광원 발생장치와, 패턴필름 또는 포토마스크와의 상대적 이송을 통하여 이루어 지는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  2. 제 1항에 있어서, 패턴필름 또는 포토마스크는 정지된 상태에서, 선광원 발생장치의 이송을 통하여 노광기의 노광작업이 이루어 지는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  3. 제 1항에 있어서, 선광원 발생장치가 정지된 상태에서, 패턴필름 또는 포토마스크의 이송을 통하여 노광기의 노광작업이 이루어 지는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 모두 컨테이너에 탑재된 것을 특징으로 하는 노광기.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 모두 컨테이너에 탑재되고; 상기 컨테이너는 노광기의 테이블에 대하여 전후 또는 좌우방향으로 이송가능하게 구성된 것을 특징으로 하는 노광기.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 모두 컨테이너에 탑재되며; 상기 컨테이너는 노광기의 테이블에 대하여 상하방향으로 이동가능하게 구성 된 것을 특징으로 하는 노광기.
  7. 제 4항에 있어서, 상기 광원은 상기 컨테이너 내부에서, 좌우방향 또는/및 전후방향으로 반복적인 요동운동을 하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  8. 제 4항에 있어서, 빛의 세기를 조절하기 위하여, 상기 광원은 상기 컨테이너 내부에서, 상기 렌티큐라시스템과의 거리조절이 가능하도록 구성된 것을 특징으로 하는 노광기.
  9. 제 4항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 진동수단을 포함한 것을 특징으로 하는 노광기.
  10. 제 4항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은, 상기 컨테이너의 저부에 구성된 것을 특징으로 하는 노광기.
  11. 제 4항에 있어서, 상기 컨테이너에는 냉각수단이 포함된 것을 특징으로 하는 노광기.
  12. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은, 패턴필름 또는 포토마스크로부터 일정거리 이격된 상태로 이송되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  13. 제 1항에 있어서, 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 렌티큐라시스템의 하부에 위치되며; 패턴필름 또는 포토마스크의 하부에는 감광층이 형성된 기판이 위치되며; 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 기판으로부터 일정거리 이격된 것을 특징으로 하는 노광기.
  14. 제 1항에 있어서, 패턴필름 또는 포토마스크는 상기 렌티큐라시스템의 하부에 위치되며; 패턴필름 또는 포토마스크의 하부에는 감광층이 형성된 기판이 위치되며; 패턴필름 또는 포토마스크는 기판과 밀착되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  15. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은, 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  16. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은, 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  17. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은, 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라가 조합되어 구성되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  18. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 수직광 렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는노광기.
  19. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 불투명 차폐물을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  20. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 광투과 슬리트를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  21. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 차광부를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  22. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 평면부를 구성하고, 상기 평면부에는 차광부를 구성시킨 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  23. 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기에 있어서,
    상기 노광기는 상부구조와 하부구조로 구성이 되며; 상부구조는 탄성체로 덮여지는 압착롤러와, 보조롤러와, 선광원 발생장치를 포함하며; 하부구조는 테이블과, 테이블에 기판을 밀착시키는 밀착수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  24. 제 23항에 있어서, 상기 상부구조와 하부구조는 상호간에 상대적인 이동을 하며; 선광원 발생장치의 하부에는 패턴필름 또는 포토마스크가 위치되며; 상기 패턴필름 또는 포토마스크는 압착롤러에 의하여 기판에 밀착되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  25. 제 23항에 있어서, 상기 밀착수단은 진공압을 이용하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  26. 제 23항에 있어서, 상기 패턴필름은 무한괘도를 이루는 것을 특징으로 하는 노광기.
  27. 제 26항에 있어서, 상기 무한괘도 내부에 선광원 발생장치가 위치하는 것을 특징으로 하는 노광기.
  28. 제 23항에 있어서, 상기 상부구조는 초기위치에서 노광작업을 수행하고, 하하부구조로부터 이격되어 다시 초기위치로 되돌아가는 것을 특징으로 하는 노광기.
  29. 제 23항에 있어서, 상기 테이블에는 유연성 기판을 감는 릴 구조가 구성된 것을 특징으로 하는 노광기.
  30. 제 23항에 있어서, 상기 선광원 발생장치는 냉각수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  31. 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템.
  32. 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템.
  33. 31항 또는 제 32항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 진동수단을 포함한 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  34. 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 다수의 렌티큐라가 적층되는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템.
  35. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라가 조합되는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  36. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 수직광 렌티큐라를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  37. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 불투명 차폐물을 포함하는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  38. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 광투과 슬리트가 형성된 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템.
  39. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 차광부를 포함한 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  40. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 평면부를 구성하고, 상기 평면부에는 차광부를 구성시킨 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  41. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 유리판으로 평탄도를 유지하게 한 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  42. 제 34항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템의 가장자리부에는 본딩부가 구비되는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  43. 제 42항에서, 상기 본딩부는 초음파로 접합하는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  44. 제 42항에서, 상기 본딩부는 유브이 수지로 접합하는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  45. 제 42항에서, 상기 본딩부는 진공상태에서 가공되는 것을 특징으로 하는 렌티큐라시스템.
  46. 렌티큐라를 사용하는 선광원 발생장치에 있어서, 상기 선광원 발생장치는 광원과 렌티큐라시스템을 포함하여 구성되며; 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 컨테이너에 탑재된 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  47. 제 46항에 있어서, 상기 광원과 상기 렌티큐라시스템은 컨테이너에 고정되어, 전혀 상대적인 움직임이 없는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  48. 제 46항에 있어서, 상기 광원은 상기 렌티큐라시스템에 대하여 전후 및/또는 좌우 방향으로 요동운동을 하도록 구성된 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  49. 제 46항에 있어서, 상기 광원은, 광량조절을 위하여, 상기 렌티큐라시스템에 대한 접근거리의 조절이 가능한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  50. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 진동수단을 포함한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  51. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라를 포함한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  52. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  53. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 다수의 렌티큐라가 적층되는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  54. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 하나의 볼록렌티큐라로 이루어진 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  55. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라가 조합되는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  56. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 수직광 렌티큐라를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  57. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 불투명 차폐물을 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  58. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 광투과 슬리트를 포함한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  59. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 차광부를 포함한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  60. 제 46항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 한 부분에 평면부를 구성하고, 상기 평면부에는 차광부를 구성시킨 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치.
  61. 렌티큐라를 사용한 미세 선폭의 선광원 제작 방법에 있어서, 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 통과케 함으로써, 미세한 선폭을 가지는 선광원을 제작하는 것을 특징으로 하는 미세 선폭의 선광원 제작 방법.
  62. 제 61항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 진동수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 선폭의 선광원 제작 방법.
  63. 제 61항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 선폭의 선광원 제작 방법.
  64. 제 61항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 선폭의 선광원 제작 방법.
  65. 제 61항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 적어도 하나 이상의 볼록렌티큐라와 적어도 하나 이상의 오목렌티큐라가 조합되는 것을 특징으로 하는 미세 선폭의 선광원 제작 방법.
  66. 제 61항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 수직광 렌티큐라를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 선폭의 선광원 제작 방법.
  67. 제 1항에 있어서, 상기 광원은 LED 광원인 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  68. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 단 한 장의 볼록렌티큐라로 구성되는 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  69. 제 1항에 있어서, 상기 렌티큐라시스템은 볼록렌티큐라와 오목렌티큐라를 각각 한 장씩 적층하여 구성한 것을 특징으로 하는 선광원 발생장치를 구비한 노광기.
  70. 미세회로 기판의 제조방법에 있어서, 광원의 빛을 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 통과시켜 미세한 선폭을 가지는 선광원을 발생시키며, 상기 발생된 선광원을 사용하여 감광층이 도포된 기판을 노광시키고, 상기 노광된 기판에 현상 및 에칭공정을 통하여 미세회로를 구성하는 것을 특징으로 하는 미세회로 기판의 제조방법.
  71. 미세회로 기판에 있어서, 광원의 빛을 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 통과시켜 미세한 선폭을 가지는 선광원을 발생시키며, 상기 발생된 선광원을 사용하여 감광층이 도포된 기판을 노광시키고, 상기 노광된 기판에 현상 및 에칭공정을 통하여 미세회로를 구성한 것을 특징으로 하는 미세회로 기판.
  72. 미세회로 기판의 제조방법에 있어서, 광원의 빛을 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 통과시켜 미세한 선폭을 가지는 선광원을 발생시키며, 상기 발생된 선광원을 사용하여 감광층이 도포된 기판을 노광시키고, 상기 노광된 기판에 현상 및 도금공정을 통하여 미세회로를 구성하는 것을 특징으로 하는 미세회로 기판의 제조방법.
  73. 미세회로 기판에 있어서, 광원의 빛을 미세한 피치를 가지는 렌티큐라시스템을 통과시켜 미세한 선폭을 가지는 선광원을 발생시키며, 상기 발생된 선광원을 사용하여 감광층이 도포된 기판을 노광시키고, 상기 노광된 기판에 현상 및 도금공정을 통하여 미세회로를 구성한 것을 특징으로 하는 미세회로 기판.
PCT/KR2012/009685 2011-11-16 2012-11-15 선광원 발생장치와, 선광원 발생장치를 구비한 노광기와, 선광원 발생장치에 사용되는 렌티큐라시스템 WO2013073873A1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150115498A (ko) * 2014-04-04 2015-10-14 김창섭 나노 빔 스캔 노광기

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018156703A1 (en) * 2017-02-22 2018-08-30 Tetra Tech, Inc. Broken wheel detection system
CN107613656B (zh) * 2017-08-31 2020-08-11 景旺电子科技(龙川)有限公司 一种改善金属基厚铜板曝光不良的方法
KR102344359B1 (ko) * 2018-06-14 2021-12-29 삼성전자주식회사 인쇄회로기판과 그 제조 방법
CN109491101B (zh) * 2019-01-09 2020-10-16 中国科学院光电技术研究所 一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030006784A (ko) * 2001-07-16 2003-01-23 류석철 패턴형성용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법
KR20030078079A (ko) * 2001-02-28 2003-10-04 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 차광성층을 갖춘 렌티큘라 렌즈시트 및 그 제조방법
KR20070106936A (ko) * 2006-05-01 2007-11-06 캐논 가부시끼가이샤 노광장치

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153924A (ja) * 1982-03-10 1983-09-13 Hitachi Ltd 投写用スクリン
US4668080A (en) * 1985-11-29 1987-05-26 Rca Corporation Method and apparatus for forming large area high resolution patterns
US5216543A (en) * 1987-03-04 1993-06-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Apparatus and method for patterning a film
US6091479A (en) * 1997-05-15 2000-07-18 Eastman Kodak Company System for aligning lenticular images using line sets with different line colors
US6575600B2 (en) * 2000-12-22 2003-06-10 Umax Data Systems, Inc. Optic reflection device
JP2003029414A (ja) * 2001-07-19 2003-01-29 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
EP1493060A2 (de) * 2002-04-11 2005-01-05 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH Verfahren und Vorrichtung zum Abbilden einer Maske auf einem Substrat
JP2006245270A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Canon Inc 露光装置及び露光方法
KR101476219B1 (ko) * 2008-08-01 2014-12-24 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 방법 및 그를 이용한 표시 장치의 제조장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030078079A (ko) * 2001-02-28 2003-10-04 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 차광성층을 갖춘 렌티큘라 렌즈시트 및 그 제조방법
KR20030006784A (ko) * 2001-07-16 2003-01-23 류석철 패턴형성용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법
KR20070106936A (ko) * 2006-05-01 2007-11-06 캐논 가부시끼가이샤 노광장치

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2851751A4 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150115498A (ko) * 2014-04-04 2015-10-14 김창섭 나노 빔 스캔 노광기
KR101627340B1 (ko) * 2014-04-04 2016-07-08 이윤경 나노 빔 스캔 노광기

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