WO2013035827A1 - 新規オレフィン誘導体 - Google Patents

新規オレフィン誘導体 Download PDF

Info

Publication number
WO2013035827A1
WO2013035827A1 PCT/JP2012/072859 JP2012072859W WO2013035827A1 WO 2013035827 A1 WO2013035827 A1 WO 2013035827A1 JP 2012072859 W JP2012072859 W JP 2012072859W WO 2013035827 A1 WO2013035827 A1 WO 2013035827A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substituted
unsubstituted
compound
formula
group
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/072859
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
松村　明
尚武 小林
祐二 西浦
幸恵 田頭
士郎 木田
香菜 渡辺
光拡 米原
Original Assignee
塩野義製薬株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 塩野義製薬株式会社 filed Critical 塩野義製薬株式会社
Priority to US14/343,992 priority Critical patent/US20150246938A1/en
Publication of WO2013035827A1 publication Critical patent/WO2013035827A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/14—Particulate form, e.g. powders, Processes for size reducing of pure drugs or the resulting products, Pure drug nanoparticles
    • A61K9/16—Agglomerates; Granulates; Microbeadlets ; Microspheres; Pellets; Solid products obtained by spray drying, spray freeze drying, spray congealing,(multiple) emulsion solvent evaporation or extraction
    • A61K9/1605—Excipients; Inactive ingredients
    • A61K9/1617—Organic compounds, e.g. phospholipids, fats
    • A61K9/1623—Sugars or sugar alcohols, e.g. lactose; Derivatives thereof; Homeopathic globules
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/20—Pills, tablets, discs, rods
    • A61K9/2004—Excipients; Inactive ingredients
    • A61K9/2013—Organic compounds, e.g. phospholipids, fats
    • A61K9/2018—Sugars, or sugar alcohols, e.g. lactose, mannitol; Derivatives thereof, e.g. polysorbates
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
    • A61K9/48—Preparations in capsules, e.g. of gelatin, of chocolate
    • A61K9/4841—Filling excipients; Inactive ingredients
    • A61K9/4858—Organic compounds
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
    • A61P3/04—Anorexiants; Antiobesity agents
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
    • A61P3/08—Drugs for disorders of the metabolism for glucose homeostasis
    • A61P3/10—Drugs for disorders of the metabolism for glucose homeostasis for hyperglycaemia, e.g. antidiabetics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C217/54—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and amino groups bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
    • C07C217/56—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and amino groups bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino groups linked to the six-membered aromatic ring, or to the condensed ring system containing that ring, by carbon chains not further substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C217/62—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and amino groups bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino groups linked to the six-membered aromatic ring, or to the condensed ring system containing that ring, by carbon chains not further substituted by singly-bound oxygen atoms linked by carbon chains having at least three carbon atoms between the amino groups and the six-membered aromatic ring or the condensed ring system containing that ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00—Carboxylic acid amides
    • C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C233/17—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
    • C07C233/18—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/16—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/22—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/64—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups singly-bound to oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D213/36—Radicals substituted by singly-bound nitrogen atoms
    • C07D213/40—Acylated substituent nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D213/63—One oxygen atom
    • C07D213/64—One oxygen atom attached in position 2 or 6
    • C07D213/643—2-Phenoxypyridines; Derivatives thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D213/63—One oxygen atom
    • C07D213/65—One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D213/69—Two or more oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/72—Nitrogen atoms
    • C07D213/73—Unsubstituted amino or imino radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/79—Acids; Esters
    • C07D213/80—Acids; Esters in position 3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/81—Amides; Imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/84—Nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
    • C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/66—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D233/70—One oxygen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D237/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings
    • C07D237/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D237/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D237/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D237/14—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/32—One oxygen, sulfur or nitrogen atom
    • C07D239/34—One oxygen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
    • C07D261/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D261/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D261/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D261/12—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/34—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D285/00—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D275/00 - C07D283/00
    • C07D285/01—Five-membered rings
    • C07D285/02—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles
    • C07D285/04—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles not condensed with other rings
    • C07D285/06—1,2,3-Thiadiazoles; Hydrogenated 1,2,3-thiadiazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D309/10—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D309/10—Oxygen atoms
    • C07D309/12—Oxygen atoms only hydrogen atoms and one oxygen atom directly attached to ring carbon atoms, e.g. tetrahydropyranyl ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D319/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D319/04—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes
    • C07D319/06—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
    • C07D333/20—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/12—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/14—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/04—Ortho-condensed systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D487/04—Ortho-condensed systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Diabetes (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Hematology (AREA)
  • Obesity (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Child & Adolescent Psychology (AREA)
  • Endocrinology (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)

Abstract

　本発明の目的は、式（Ｉ'）で表されるＡＣＣ２阻害活性を有する新規化合物及び当該化合物を含有する医薬組成物を提供することにある。 （上記式中、Ｒ１は置換若しくは非置換のアリール等であり、 Ｘ１は－Ｏ－等であり、 Ｒ２は水素等であり、 Ｒ３は水素等であり、 ｎは０～３の整数であり、 環Ａは芳香族炭素環等であり、 Ｒ９は置換若しくは非置換アルキル等であり、 ｍは０～４の整数であり、 Ｒ４及びＲ５は水素等であり、 Ｒ６は置換若しくは非置換のアルキル等であり、 Ｒ１３は水素等であり、 Ｘ５は単結合等であり、 Ｒ７は水素等であり、 Ｒ８は置換若しくは非置換のアルキルカルボニル等である。)

Description

新規オレフィン誘導体
　本発明は、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ２（以下、ＡＣＣ２という）阻害作用を有する化合物に関する。
　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ（以下、ＡＣＣという）は、アセチル－ＣｏＡをカルボキシル化してマロニル－ＣｏＡに変換する酵素であり、脂肪酸の代謝に関与する。ＡＣＣには、アセチル－ＣｏＡカルボキシラーゼ１（以下、ＡＣＣ１という）及びＡＣＣ２の２つのアイソフォームが存在する。
　ＡＣＣ２は、おもに心臓や骨格筋で発現しており、ＡＣＣ２によって産生されるマロニル－ＣｏＡはカルニチンパルミトイルトランスフェラーゼＩ（ＣＰＴ－Ｉ）を阻害することにより脂肪酸の酸化を阻害する。
　ＡＣＣ２欠損マウスにおいて、心臓や骨格筋におけるマロニル－ＣｏＡ量の低下により、継続的な脂肪酸の酸化が起こっており、食餌量の増加にかかわらず、体重の減少が見られる。さらに、ＡＣＣ２欠損マウスは高脂肪／高炭水化物の餌の投与によって誘発される糖尿病や肥満に対して耐性を獲得していることも報告されている。
　以上の知見から、ＡＣＣ２は糖尿病や肥満症などの疾患に関与しており、その阻害剤は抗糖尿病薬や抗肥満薬となることが示唆される。
　一方、ＡＣＣ１欠損マウスは胎児期において致死的であることから、ＡＣＣ１を阻害することなくＡＣＣ２を阻害する選択的な阻害剤が望まれている。
　特許文献１～特許文献７にはＡＣＣ２阻害剤が記載されている。例えば、特許文献１には、オレフィン構造を有する化合物として、以下に示す２化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　また、特許文献３には、オレフィン構造を有する化合物として、以下に示す化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　非特許文献１～５には、ＡＣＣ２を特異的に阻害するチアゾールフェニルエーテル誘導体が記載されている。非特許文献６には、ＡＣＣ１及びＡＣＣ２に対し阻害活性を有するビフェニル誘導体あるいは３－フェニル－ピリジン誘導体が記載されている。非特許文献７には、以下の化合物がＡＣＣ２阻害活性を有し、かつ、好ましい薬物動態パラメーターを有する化合物として記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　特許文献８～１９及び非特許文献８～１４には、オレフィン構造を有する化合物が記載されている。
　特許文献８には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　特許文献９には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　特許文献１０には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　特許文献１１には、下記の２化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　特許文献１２には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　非特許文献８には、下記の２化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　非特許文献９には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　非特許文献１０には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　非特許文献１１には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　非特許文献１２には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034

　特許文献１３には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035

　特許文献１４には、下記の６化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　特許文献１５には、下記の３化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037

　特許文献１６には、下記の２化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038

　特許文献１７及び１８には、下記の３化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039

　特許文献１９及び非特許文献１４には、下記の２化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040

　非特許文献１３には、下記の化合物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041

　しかし、本発明については、上記先行技術には記載も示唆もされていない。
国際公開公報ＷＯ２００８／０７９６１０号 国際公開公報ＷＯ２０１０／０５０４４５号 国際公開公報ＷＯ２０１０／００３６２４号 国際公開公報ＷＯ２００７／０９５６０１号 国際公開公報ＷＯ２００７／０９５６０２号 国際公開公報ＷＯ２００７／０９５６０３号 米国出願公開公報２００６／１７８４００号 国際公開公報ＷＯ２００５／０４４３０２号 国際公開公報ＷＯ２００２／００８１８９号 国際公開公報ＷＯ１９９３／０２０３７号 国際公開公報ＷＯ１９９５／３０６７１号 国際公開公報ＷＯ２０１０／００７１１４号 国際公開公報WO２０１２／０２３５８２号 国際公開公報WO２００８／１５３１５９号 国際公開公報WO２０１２／０６６２３４号 国際公開公報WO２００７／１１５０５８号 国際公開公報WO２００７／０６９７１２号 国際公開公報WO２００８／１５３１５９号 日本出願公開公報２００３／２６７９３６号
Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ　＆　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、２００６年、１６巻、６０７８～６０８１頁 Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２００６年、４９巻、３７７０～３７７３頁 Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ　＆　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、２００７年、１７巻、１８０３～１８０７頁 Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ　＆　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、２００７年、１７巻、１９６１～１９６５頁 Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２００７年、５０巻、１０７８～１０８２頁 Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ　＆　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、１９巻、５８７２～５８７６頁 Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２０１０年、５３巻、８６７９-８６８７頁 Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ　Ｂ: Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ　Ｓｃｉｅｎｃｅｓ　ａｎｄ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ、１９９１年、５６２巻、２４９-２５６頁 Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　-　Ａｎ　Ａｓｉａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ、２００９年、４巻、１１１-１２５頁 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２０００年、５６巻、２３７９－２３９０頁 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ:　Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ、１９９９年、１０巻、３１０７-３１１０頁 Ｙａｋｕｇａｋｕ　Ｚａｓｓｈｉ、１９６５年、８５巻、９-１３頁 Ｓｙｎｌｅｔｔ、２００７年、１８巻、２８４１-２８４６頁 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ: Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ、２００６年、１７巻、２７８１－２７９２頁
　本発明の目的は、ＡＣＣ２阻害活性を有する新規化合物を提供することにある。また、上記化合物を含有する医薬組成物を提供する。
　本発明は、以下に関する。
（１）式（Ｉ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 （式中、
Ｒ１は置換若しくは非置換のアリール又は置換若しくは非置換のヘテロアリールであり、
Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（－Ｒ１２）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｏ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｓ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－又は－Ｎ（－Ｒ１２）－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－であり、
Ｒ２はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、
Ｒ３はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、
同一の炭素原子に結合するＲ２とＲ３は、結合する炭素原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成していてもよく、
Ｒ２又はＲ３は、Ｒ１のアリール又はヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成してもよく、
ｎは０～３の整数であり、
Ｒ１２は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ１２は、Ｒ１のアリール若しくはヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成してもよく、
環Ａは芳香族炭素環又は芳香族複素環であり、
Ｒ９はそれぞれ独立して置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のスルファモイル、カルボキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニル又は置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルであり、
ｍは０～４の整数であり、
Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキルオキシ又は置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルであり、
Ｒ６は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ１３は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであるか、又はＲ６及びＲ１３は隣接する炭素原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成してもよく、
Ｘ５は単結合又は－Ｃ（－Ｒ１６）（－Ｒ１７）－であり、
Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、
Ｒ７は水素又は置換若しくは非置換のアルキルであり、
Ｒ８は置換若しくは非置換のアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のスルファモイル、置換若しくは非置換のアミジノ、置換若しくは非置換のアリールカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニル又は置換若しくは非置換のスルフィノであり、
波線は、Ｒ４の結合する炭素原子とＲ５の結合する炭素原子の間の二重結合に関し、
式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
で示される基と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
で示される基が、Ｅ配置、Ｚ配置又はその混合であることを意味する。
但し、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 で示される基は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
で示される基でなく、
以下の化合物を除く。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051

）で示される化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２）Ｒ１が置換若しくは非置換の縮合アリール又は置換若しくは非置換の縮合へテロアリールである、上記（１）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（３）Ｒ１が式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（式中、
Ｘ２はそれぞれ独立して－Ｎ＝、－Ｃ（Ｈ）＝又は－Ｃ（－Ｒ１０）＝であり、
Ｘ３は－Ｓ－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｈ）－又は－Ｎ（－Ｒ１１）－であり、
Ｘ４はそれぞれ独立して－Ｎ＝又は－Ｃ（Ｈ）＝であり、
Ｒ１０はそれぞれ独立してハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、メルカプト、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルスルファニル、シアノ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、トリアルキルシリルオキシ、置換若しくは非置換のアリールオキシ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアルキルスルフォニル又は置換若しくは非置換のアルキルスルフォニルオキシであり、
Ｒ１１は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ１５は置換若しくは非置換の炭素数２以上のアルキル、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のアリールオキシ又は置換若しくは非置換の非芳香族複素環であり、
環Ｐは置換若しくは非置換の５員の芳香族複素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族炭素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族複素環、置換若しく非置換の６員の非芳香族炭素環又は置換若しく非置換の６員の非芳香族複素環である。）で示される基である、上記（１）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（４）Ｒ１が式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
で示される基であり、
上記の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000054

で示される基が、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
（式中、Ｘ２は上記（３）と同意義であり、
Ｒ１４は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
環Ｐに相当する環上の炭素原子はさらに置換されていてもよい。）で示される基である、上記（３）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（５）Ｘ２が－Ｃ（Ｈ）＝又は－Ｃ（－Ｒ１０）＝である上記（４）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（６）Ｒ１が式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
（式中、Ｒ１０、Ｘ２及びＸ４は上記（３）と同意義である）で示される基である、上記（３）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（７）Ｒ１が式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 （式中、Ｒ１０は上記（６）と同意義である）で示される基である、上記（６）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（８）Ｒ１０がそれぞれ独立してハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、シアノ、トリアルキルシリルオキシ又は置換若しくは非置換のアリールオキシである、上記（３）～（７）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（９）Ｒ１３が水素である、上記（１）～（８）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１０）Ｒ６が置換若しくは非置換のアルキルである、上記（１）～（９）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１１）Ｒ６が非置換のアルキルである、上記（１０）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１２）Ｒ６がメチルである、上記（１１）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１３）Ｒ８が置換若しくは非置換のアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のアリールカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリール又は置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニルである、上記（１）～（１２）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１４）Ｒ８がアセチルである、上記（１３）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１５）Ｘ１が－Ｏ－である、上記（１）～（１４）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１６）ｎが１～３の整数であり、Ｒ２及びＲ３が水素である、上記（１）～（１５）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１７）ｎが０である、上記（１）～（１５）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１８）環Ａが芳香族複素環である、上記（１）～（１７）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（１９）環Ａが６員の芳香族複素環である、上記（１８）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２０）環Ａがピラゾール、チアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン又はベンゼンである、上記（１）～（１７）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２１）Ｒ４及びＲ５が水素である、上記（１）～（２０）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２２）Ｒ７が水素である、上記（１）～（２１）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２３）ｍが０である、上記（１）～（２２）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２４）Ｘ５が単結合である、（１）～（２３）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２５）式（Ｉ’）で示される化合物において、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
で示される基と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
で示される基がＥ配置である、上記（１）～（２４）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２６）式（Ｉ’）で示される化合物が
式（ＩＩ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
で示される化合物である、上記（１）～（２５）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２７）式（Ｉ’）で示される化合物が
式（ＩＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000061

で示される化合物であり、
Ｒ１が式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
（式中、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｒ１０及び環Ｐは上記（３）と同意義）で示される基であり、
Ｘ１が－Ｏ－であり、
ｎが０であり、
Ｒ４及びＲ５が水素であり、
Ｒ１３が水素であり、
Ｘ５が単結合であり、
Ｒ７が水素である、上記（１）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２８）Ｒ６が置換若しくは非置換のアルキルである、上記（２７）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（２９）Ｒ８が置換若しくは非置換のアルキルカルボニルである、上記（２７）又は（２８）記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
（３０）上記（１）～（２９）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
（３１）ＡＣＣ２の関与する疾患の治療又は予防に用いる、上記（３０）記載の医薬組成物。
（３２）上記（１）～（２９）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、ＡＣＣ２の関与する疾患の治療又は予防方法。
（３３）ＡＣＣ２の関与する疾患の治療剤又は予防剤を製造するための、上記（１）～（２９）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩の使用。
（３４）ＡＣＣ２の関与する疾患を治療又は予防するための、上記（１）～（２９）のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
　上記「置換若しくは非置換のアミノ」、「置換若しくは非置換のカルバモイル」、「置換若しくは非置換のスルファモイル」、「置換若しくは非置換のアミジノ」の窒素原子上の置換基には、次の置換基が包含される。窒素原子上の水素原子が次の置換基から選択される１～２個の基で置換されていてもよい。
　置換基：
アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、トリアルキルシリルオキシ、シアノアルキル、シアノアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、モノアルキルオキシカルボニルアミノ、ジアルキルオキシカルボニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルキルカルボニルスルファニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、モノ（ヒドロキシアルキル）カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、シアノカルバモイル、カルボキシアルキルカルバモイル、モノ（ジアルキルアミノアルキル）カルバモイル、シクロアルキルカルバモイル、非芳香族複素環アルキルカルバモイル、非芳香族複素環式基カルバモイル、アルキルオキシカルバモイル、アルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロアリール、アルキルオキシカルボニルで置換されたへテロアリール、非芳香族複素環式基、アルキルで置換された非芳香族複素環式基、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環式、アリールオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロアリールオキシ、非芳香族複素環オキシ、アリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルキルカルボニルで置換されたヘテロアリールカルボニル、非芳香族複素環カルボニル、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルボニル、アリールオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、アリールアルキル、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、ヘテロアリールアルキル、非芳香族複素環アルキル、アリールアルキルオキシ、シクロアルキルアルキルオキシ、シクロアルケニルアルキルオキシ、ヘテロアリールアルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、アリールアルキルオキシカルボニル、シクロアルキルアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルアルキルオキシカルボニル、ヘテロアリールアルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、アリールアルキルアミノ、シクロアルキルアルキルアミノ、シクロアルケニルアルキルアミノ、ヘテロアリールアルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、アリールスルファニル、シクロアルキルスルファニル、シクロアルケニルスルファニル、ヘテロアリールスルファニル、非芳香族複素環スルファニル、アリールスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、非芳香族複素環スルホニル、アルキルオキシカルボニルアルキル、カルボキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ジアルキルアミノアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシアルキル、アリールアルキルオキシアルキル、シクロアルキルアルキルオキシアルキル、シクロアルケニルアルキルオキシアルキル、ヘテロアリールアルキルオキシアルキル及び非芳香族複素環アルキルオキシアルキル。
　上記「置換若しくは非置換のアルキル」、「置換若しくは非置換のアルケニル」、「置換若しくは非置換のアルキニル」、「置換若しくは非置換のアルキルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルケニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキルスルファニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニルスルファニル」の置換基には、次の置換基が包含される。任意の位置の炭素原子上の水素原子が次の置換基から選択される１以上の基に置換されていてもよい。
　置換基：
ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、トリアルキルシリルオキシ、シアノアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、モノアルキルオキシカルボニルアミノ、ジアルキルオキシカルボニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルカルボニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、モノ（ヒドロキシアルキル）カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、シアノカルバモイル、カルボキシアルキルカルバモイル、カルボキシアルキルカルバモイル、モノ（ジアルキルアミノアルキル）カルバモイル、シクロアルキルカルバモイル、非芳香族複素環アルキルカルバモイル、非芳香族複素環式基カルバモイル、
アルキルオキシカルバモイル、アルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロアリール、アルキルオキシカルボニルで置換されたへテロアリール、非芳香族複素環式基、アルキルで置換された非芳香族複素環式基、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環式基、アリールオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロアリールオキシ、非芳香族複素環オキシ、アリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルキルカルボニルで置換されたへテロアリールカルボニル、非芳香族複素環カルボニル、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルボニル、アリールオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、アリールアルキルオキシ、シクロアルキルアルキルオキシ、シクロアルケニルアルキルオキシ、ヘテロアリールアルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、アリールアルキルオキシカルボニル、シクロアルキルアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルアルキルオキシカルボニル、ヘテロアリールアルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、アリールアルキルアミノ、シクロアルキルアルキルアミノ、シクロアルケニルアルキルアミノ、ヘテロアリールアルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、アリールスルファニル、シクロアルキルスルファニル、シクロアルケニルスルファニル、ヘテロアリールスルファニル、非芳香族複素環スルファニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル及び非芳香族複素環スルホニル。
　上記「置換若しくは非置換のシクロアルキル」、「置換若しくは非置換のシクロアルケニル」、「置換若しくは非置換のアリール」、「置換若しくは非置換のヘテロアリール」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」、「置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル」、「置換若しくは非置換のシクロアルケニルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアリールカルボニル」、「置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「同一の炭素原子に結合するＲ２とＲ３が、結合する炭素原子と一緒になって形成する置換若しくは非置換の環」、「Ｒ２又はＲ３が、Ｒ１のアリール又はヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって形成する置換若しくは非置換の環」、「Ｒ１２が、Ｒ１のアリール若しくはヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって形成する置換若しくは非置換の環」、「Ｒ６及びＲ１３が隣接する炭素原子と一緒になって形成する置換若しくは非置換の環」、「置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアリールオキシ」の環上の置換基には、次の置換基が包含される。環上の任意の位置の原子上の水素原子が次の置換基から選択される１以上の基に置換されていてもよい。
　置換基：
置換若しくは非置換のアルキル（たとえば、ハロアルキル、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、ヘテロアリールアルキル、非芳香族複素環アルキル、アリールアルキルオキシアルキル、シクロアルキルアルキルオキシアルキル、シクロアルケニルアルキルオキシアルキル、ヘテロアリールアルキルオキシアルキル、非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキル、アリールアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシイミノで置換されたアルキル）、置換若しくは非置換のアルケニル（たとえば、アルキルオキシカルボニルアルケニル、カルボキシアルケニル）、置換若しくは非置換のアルキニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、置換若しくは非置換のアミノ（たとえば、ヒドロキシアミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アリールアルキルアミノ、シクロアルキルアルキルアミノ、シクロアルケニルアルキルアミノ、ヘテロアリールアルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、モノアルキルオキシカルボニルアミノ、ジアルキルオキシカルボニルアミノ、モノヒドロキシアルキルアミノ、モノカルボキシアルキルアミノ、モノ（アルキルオキシカルボニルアルキル）アミノ、モノ（シクロアルキルアルキルカルボニル）アミノ、シクロアルキルカルバモイルアミノ、シクロアルキルアミノ）、イミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、置換若しくは非置換のカルバモイル（たとえば、ヒドロキシカルバモイル、シアノカルバモイル、アルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル、カルボキシアルキルカルバモイル、モノ（ヒドロキシアルキル）カルバモイル、モノ（ジアルキルアミノアルキル）カルバモイル、シクロアルキルカルバモイル、アルキルオキシカルボニルで置換されたシクロアルキルカルボニル、非芳香族複素環アルキルカルバモイル、非芳香族複素環カルバモイル、、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルバモイル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、アルキルオキシカルバモイル、モノアルキルカルバモイルアルキルオキシ、モノ（ヒドロキシアルキル）カルバモイル、モノアルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル、シクロアルキルアルキルカルバモイル）、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ（たとえば、アリールアルキルオキシ、シクロアルキルアルキルオキシ、ヒドロキシで置換されたシクロアルキルアルキルオキシ、シクロアルケニルアルキルオキシ、ヘテロアリールアルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環オキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシ、シアノアルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ、カルボキシアルキルオキシ、ジアルキルアミノアルキルオキシ、ヒドロキシアルキルオキシ）、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルキルスルフォニルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、置換若しくは非置換のアリール（たとえば、アルキルで置換されたアリール、シアノで置換されたアリール）、置換若しくは非置換のシクロアルキル（たとえば、カルボキシ、アルキル、ハロゲンから選択される1以上の基で置換されたシクロアルキル）、シクロアルケニル、置換若しくは非置換のヘテロアリール（たとえば、アルキルオキシカルボニルで置換されたへテロアリール、アルキルで置換されたヘテロアリール、ハロアルキルで置換されたヘテロアリール、アルキルオキシアルキルで置換されたヘテロアリール、ハロゲンで置換されたヘテロアリール）、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基（たとえば、アルキルで置換された非芳香族複素環式基、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環式基、ハロゲンで置換された非芳香族複素環式基）、置換若しくは非置換のアリールオキシ（たとえば、ニトロ基で置換されたアリールオキシ、シアノ基で置換されたアリールオキシ、）、置換若しくは非置換のヘテロアリールオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロアリールオキシ、非芳香族複素環オキシ、アリールカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル（たとえば、アルキルカルボニルで置換されたヘテロアリールカルボニル）、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル（たとえば、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルボニル）、アリールオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、
ヘテロアリールオキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、アリールアルキルオキシカルボニル、シクロアルキルアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルアルキルオキシカルボニル、ヘテロアリールアルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アリールスルファニル、シクロアルキルスルファニル、シクロアルケニルスルファニル、ヘテロアリールスルファニル、非芳香族複素環スルファニル、アルキルスルフォニル、アリールスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、ヘテロアリールスルホニル及び非芳香族複素環スルホニル。
　上記「置換若しくは非置換のシクロアルキル」、「置換若しくは非置換のシクロアルケニル」及び「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」は「オキソ」で置換されていてもよい。この場合、以下のように炭素原子上の２個の水素原子が＝Ｏ基で置換されている基を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
　上記「置換若しくは非置換のシクロアルキルオキシ」、「置換若しくは非置換のシクロアルケニルオキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル」、「置換若しくは非置換のシクロアルケニルカルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換若しくは非置換のシクロアルキルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のシクロアルケニルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のシクロアルキルスルファニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換若しくは非置換のシクロアルキルスルホニル」、及び「置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」のシクロアルキル、シクロアルケニル及び非芳香族複素環部分も上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。
　本発明に係る化合物は、ＡＣＣ２阻害活性を有する。本発明に係る化合物を含有する医薬組成物は、ＡＣＣ２が関与する疾患、たとえばメタボリックシンドローム、肥満症、糖尿病、インスリン抵抗性、耐糖能異常、糖尿病性末梢神経障害、糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性大血管症、脂質異常症、高血圧症、心血管疾患、動脈硬化症、アテローム性動脈硬化症、心不全、心筋梗塞、感染症、腫瘍等（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｅｌｌｕｌａｒ　Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２００６年、第９９巻、１４７６-１４８８頁、ＥＸＰＥＲＴ　ＯＰＩＮＩＯＮ　ＯＮ　ＴＨＥＲＡＰＥＵＴＩＣ　Ｔａｒｇｅｔｓ、２００５年、第９巻、２６７－２８１頁、国際公開公報ＷＯ２００５／１０８３７０号、日本国出願公開公報２００９－１９６９６６号、日本国出願公開公報２０１０－０８１８９４号、日本国出願国内公表公報２００９－５０２７８５号）の治療剤及び／又は予防剤、特に、糖尿病又は／及び肥満症の治療剤及び／又は予防剤として有用である。
　以下に本明細書において用いられる各用語の意味を説明する。各用語は特に断りのない限り、単独で用いられる場合も、又は他の用語と組み合わせて用いられる場合も、同一の意味で用いられる。
　「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子を包含する。特にフッ素原子、及び塩素原子が好ましい。
　「アルキル」とは、炭素数１～１５、好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１～６、さらに好ましくは炭素数１～４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、ｎ－へプチル、イソヘプチル、ｎ－オクチル、イソオクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル等が挙げられる。
　「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチルが挙げられる。
　Ｒ１の「置換若しくは非置換のアリール」又は「置換若しくは非置換のヘテロアリール」の環上の置換基におけるアルキルの好ましい態様としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチルが挙げられる。
　Ｒ２又はＲ３の「アルキル」としては、上記アルキルのうち、特に、メチル、エチルが好ましく、さらにはメチルが好ましい。
　Ｒ６又はＲ１３における「アルキル」としては、上記アルキルのうち、特に、メチル、エチルが好ましく、さらにはメチルが好ましい。
　Ｒ７における「アルキル」としては、上記アルキルのうち、特に、メチルが好ましい。
　「アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２～１５、好ましくは炭素数２～１０、より好ましくは炭素数２～６、さらに好ましくは炭素数２～４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
　「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。
　「アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２～１０、好ましくは炭素数２～８、さらに好ましくは炭素数２～６、さらに好ましくは炭素数２～４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。
　「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。
　「芳香族炭素環」とは、単環又は２環以上の環状芳香族炭化水素環を意味する。例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等が挙げられる。「芳香族炭素環」の好ましい態様として、ベンゼンが挙げられる。
　「芳香族複素環」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環又は多環の芳香族へテロ環を意味する。例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアゾール、トリアジン、テトラゾール、イソオキサゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イソチアゾール、チアゾール、チアジアゾール、フラン、チオフェン等の単環の芳香族へテロ環；インドール、イソインドール、インダゾール、インドリジン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、ナフチリジン、キノキサリン、プリン、プテリジン、ベンズイミダゾール、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンズオキサジアゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾトリアゾール、イミダゾピリジン、トリアゾロピリジン、イミダゾチアゾール、ピラジノピリダジン、オキサゾロピリジン、チアゾロピリジン等の２環の芳香族へテロ環；カルバゾール、アクリジン、キサンテン、フェノチアジン、フェノキサチン、フェノキサジン、ジベンゾフラン等の３環の芳香族へテロ環が挙げられる。特に好ましくは、５員又は６員の芳香族複素環であり、さらには、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、チアゾール、ピラゾール、ピラジン等が好ましい。
　「シクロアルキル」とは、炭素数３～８の環状飽和炭化水素基、及びこれらの環状飽和炭化水素基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基を意味する。炭素数３～８の環状飽和炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチル、シクロオクチルが挙げられる。特に、炭素数３～６のシクロアルキル、炭素数５又は６のシクロアルキルが好ましく、さらには炭素数の３のシクロアルキルが好ましい。
　炭素数３～８の環状飽和炭化水素基に縮合する３～８員の環としては、例えば、シクロアルカン環（例：シクロヘキサン環、シクロペンタン環等）、シクロアルケン環（例：シクロヘキセン環、シクロペンテン環等）、非芳香族複素環（例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）が挙げられる。なお、結合手は、炭素数３～８の環状飽和炭化水素基から出ているものとする。
　例えば、以下の基もシクロアルキルに例示され、シクロアルキルに含まれる。なお、これらの基は置換可能な任意の位置で置換されていてもよい。置換のシクロアルキルの場合、シクロアルキル上の置換基は、炭素数３～８の環状飽和炭化水素基又は炭素数３～８の環状飽和炭化水素基に縮合する３～８員の環のいずれに置換していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
　さらに、「シクロアルキル」は、以下のように架橋している基、又はスピロ環を形成する基も包含する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
　「カルボキシで置換されたシクロアルキル」とは、１以上のカルボキシが置換された上記「シクロアルキル」を意味する。
　「シクロアルケニル」とは、炭素数３～８個の環状不飽和脂肪族炭化水素基、及びこれらの環状不飽和脂肪族炭化水素基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基を意味する。炭素数３～８個の環状不飽和脂肪族炭化水素基としては、好ましくは環中の炭素原子間において１～３個の二重結合を有する炭素数３～８個の環状不飽和脂肪族炭化水素基を意味し、具体的には、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。特に、炭素数３～６のシクロアルケニル、炭素数５又は６のシクロアルケニルが好ましい。
　炭素数３～８の環状不飽和脂肪族炭化水素基に縮合する環としては、炭素環（芳香族炭素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等）、シクロアルカン環（例：シクロヘキサン環、シクロペンタン環等）、シクロアルケン環（例：シクロヘキセン環、シクロペンテン環等）等）、複素環（芳香族複素環（ピリジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環等）、非芳香族複素環（例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）が挙げられる。
　なお、結合手は、炭素数３～８の環状不飽和脂肪族炭化水素基から出ているものとする。
　例えば、以下の基もシクロアルケニルとして例示され、シクロアルケニルに含まれる。なお、これらの基は置換可能な任意の位置で置換されていてもよい。置換のシクロアルケニルの場合、シクロアルケニル上の置換基は、炭素数３～８の環状不飽和脂肪族炭化水素基又は炭素数３～８の環状不飽和脂肪族炭化水素基に縮合する３～８員の環のいずれに置換していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
　さらに、「シクロアルケニル」は、以下のようにスピロ環を形成する基も包含する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
　「アリール」とは、単環又は多環の芳香族炭素環式基、及びこれらの単環又は多環の芳香族炭素環式基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基を意味する。単環又は多環の芳香族炭素環式基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。特にフェニルが好ましい。
　単環又は多環の芳香族炭素環式基に縮合する環としては、非芳香族炭素環（例えば、シクロアルカン環（例：シクロヘキサン環、シクロペンタン環等）、シクロアルケン環（例：シクロヘキセン環、シクロペンテン環等）等）、非芳香族複素環（例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）が挙げられる。なお、結合手は、単環又は多環の芳香族炭素環式基から出ているものとする。
　例えば、以下の基もアリールとして例示され、アリールに含まれる。なお、これらの基は置換可能な任意の位置で置換されていてもよい。置換のアリールの場合、アリール上の置換基は、単環又は多環の芳香族炭素環式基又はこれらの単環又は多環の芳香族炭素環式基に縮合する３～８員の環のいずれに置換していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　置換のアリールにはオキソで置換されたアリールも含まれる。「オキソで置換されたアリール」とは、アリールを構成する単環又は多環の芳香族炭素環式基に縮合する３～８員の環上の炭素原子上の２個の水素原子が＝Ｏ基で置換されている基を意味する。「オキソで置換されたアリール」として以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000076

で示される基を挙げることができる。
　「ヘテロアリール」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環又は多環の芳香族へテロ環式基、及びこれらの単環又は多環の芳香族へテロ環式基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基を意味する。
　「単環の芳香族ヘテロ環式基」としては、特に５員又は６員のヘテロアリールが好ましく、例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリル、チエニル等が挙げられる。
　「多環の芳香族ヘテロ環式基」としては、特に５員又は６員の環が縮合したヘテロアリールが好ましく、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等の２環の芳香族へテロ環式基；カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等の３環の芳香族へテロ環式基等が挙げられる。多環の芳香族へテロ環式基である場合、結合手をいずれの環に有していてもよい。
　単環又は多環の芳香族へテロ環式基に縮合する環としては、例えば、シクロアルカン環（例：シクロヘキサン環、シクロペンタン環等）、シクロアルケン環（例：シクロヘキセン環、シクロペンテン環等）、非芳香族複素環（例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）等が挙げられる。なお、結合手は、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環又は多環の芳香族へテロ環式基から出ているものとする。
　例えば、以下の基もヘテロアリールとして例示され、ヘテロアリールに含まれる。なお、これらの基は置換可能な任意の位置で置換されていてもよい。置換のヘテロアリールの場合、ヘテロアリール上の置換基は、単環又は多環の芳香族へテロ環式基又はこれらの単環又は多環の芳香族へテロ環式基に縮合する３～８員の環のいずれに置換していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
　置換のヘテロアリールにはオキソで置換されたヘテロアリールも含まれる。「オキソで置換されたヘテロアリール」とは、ヘテロアリールを構成する単環又は多環の芳香族へテロ環式基に縮合する３～８員の環上の炭素原子上の２個の水素原子が＝Ｏ基で置換されている基を意味する。「オキソで置換されたヘテロアリール」として以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
で示される基を挙げることができる。
　「非芳香族複素環式基」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環の非芳香族へテロ環式基、及びこれらの単環の非芳香族へテロ環式基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基（多環の非芳香族へテロ環式基）を意味する。
　「単環の非芳香族複素環式基」としては、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１～４個有する単環の３～８員の非芳香族へテロ環式基が好ましく、具体的には、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペリジノ、ピペラジニル、ピペラジノ、モルホリニル、モルホリノ、オキサジアジニル、ジヒドロピリジル、チオモルホリニル、チオモルホリノ、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、オキサゾリジル、チアゾリジル、オキセタニル、チアゾリジニル、テトラヒドロピリジル、ジヒドロチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル等が挙げられる。
　Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環の非芳香族へテロ環式基に縮合する環としては、炭素環（芳香族炭素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等）、シクロアルカン環（例：シクロヘキサン環、シクロペンタン環等）、シクロアルケン環（例：シクロヘキセン環、シクロペンテン環等）等）、複素環（芳香族複素環（ピリジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環等）、非芳香族複素環（例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）が挙げられる。
　「多環の非芳香族複素環式基」として、具体的には、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル等が挙げられる。
　多環の非芳香族へテロ環式基である場合、結合手は、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する非芳香族へテロ環式基から出ているものとする。
　例えば、以下の基も非芳香族複素環式基に含まれる。なお、これらの基は置換可能な任意の位置で置換されていてもよい。置換の非芳香族複素環式基の場合、非芳香族複素環式基上の置換基は、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環の非芳香族へテロ環式基又はこれらの単環の非芳香族へテロ環式基に縮合する３～８員の環のいずれに置換していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
　「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、又はスピロ環を形成する基も包含する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
　上記「シクロアルキル」、「シクロアルケニル」、「アリール」及び「非芳香族複素環式基」において、縮合している環として定義した「シクロアルカン環」「シクロアルケン環」、「非芳香族複素環」、「芳香族炭素環」、「芳香族複素環」、「炭素環」及び「複素環」は、以下の意味を有する。置換基を有する場合は、これらの縮合している環上に置換基を有してもよく、「シクロアルカン環」「シクロアルケン環」、「非芳香族複素環」は、オキソで置換されていてもよい。
　「シクロアルカン環」とは、炭素数３～８の環状飽和炭化水素環を意味し、例えば、シクロヘキサン環、シクロペンタン環等が挙げられる。
　「シクロアルケン環」とは、炭素数３～８個の環状不飽和脂肪族炭化水素環を意味し、例えば、シクロヘキセン環、シクロペンテン環等が挙げられる。
　「非芳香族複素環」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１～４個有する３～８員の非芳香族へテロ環を意味し、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等が挙げられる。
　「芳香族炭素環」とは、単環又は多環の芳香族炭素環を意味し、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
　「芳香族複素環」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択されるヘテロ原子を環内に１以上有する単環又は多環の芳香族へテロ環を意味し、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環等が挙げられる。
　「炭素環」とは、上記「シクロアルカン環」、「シクロアルケン環」及び「芳香族炭素環」を包含する。
　「複素環」とは、上記「非芳香族複素環」及び「芳香族炭素環」を包含する。
　同一の炭素原子に結合するＲ２とＲ３が、結合する炭素原子と一緒になって形成する環は、上記「シクロアルカン環」、「シクロアルケン環」及び「非芳香族複素環」を意味する。好ましくは、「シクロアルカン環」であり、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタンなどが挙げられる。さらに、上記環は置換されていてもよい。環上の置換基としては、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、シアノ、オキソ、チオキソなどが挙げられる。
　また、同一の炭素原子に結合するＲ２とＲ３が、結合する炭素原子と一緒になって形成する環が「非芳香族複素環」である場合、式（Ｉ）で示される式中の下記の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
で示される基としては、
下記の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
（式中、ｐ及びｑは、それぞれ独立して０～３の整数であり、かつ、ｐ＋ｑ≧１であり、－Ｘ７－は単結合、－Ｏ－、－Ｓ－又は－Ｎ（－Ｒ１５）－であり、Ｒ１５は、水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。）で示される基を好ましい態様として例示することができる。メチレン部分は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、シアノ、オキソ、チオキソなどで置換されていてもよい。
　Ｒ６及びＲ１３が隣接する炭素原子と一緒になって形成する環は、上記「シクロアルカン環」、「シクロアルケン環」及び「非芳香族複素環」を意味する。好ましくは、「シクロアルカン環」であり、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタンなどが挙げられる。さらに、上記環は置換されていてもよい。環上の置換基としては、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、シアノ、オキソ、チオキソなどが挙げられる。
　また、Ｒ６及びＲ１３が隣接する炭素原子と一緒になって形成する環が「非芳香族複素環」である場合、式（Ｉ）で示される式中の下記の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 で示される基としては、
下記の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
（式中、ｒ及びｓは、それぞれ独立して０～３の整数であり、かつ、ｒ＋ｓ≧１であり、－Ｘ６－は単結合、－Ｏ－、－Ｓ－又は－Ｎ（－Ｒ１６）－であり、Ｒ１６は、水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。）で示される基を好ましい態様として例示することができる。メチレン部分は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、シアノ、オキソ、チオキソなどで置換されていてもよい。
　「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ－ブチルオキシ、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ－ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ－ブチルオキシが挙げられる。
　「アルケニルオキシ」とは、上記「アルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、１－プロペニルオキシ、２－ブテニルオキシ、２－ペンテニルオキシ、２－ヘキセニルオキシ、２－ヘプテニルオキシ、２－オクテニルオキシ等が挙げられる。
　「アルキニルオキシ」とは、上記「アルキニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、エチニルオキシ、１－プロピニルオキシ、２－プロピニルオキシ、２－ブチニルオキシ、２－ペンチニルオキシ、２－ヘキシニルオキシ、２－ヘプチニルオキシ、２－オクチニルオキシ等が挙げられる。
　「アルキルスルファニル」とは、上記「アルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ－プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、ｎ－ブチルスルファニル、ｔｅｒｔ－ブチルスルファニル、イソブチルスルファニル、ｓｅｃ－ブチルスルファニル、ペンチルスルファニル、イソペンチルスルファニル、へキシルスルファニル等が挙げられる。「アルキルスルファニル」の好ましい態様として、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ－プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、ｔｅｒｔ－ブチルスルファニルが挙げられる。
　「アルキルスルファニルアルキル」とは、上記「アルキルスルファニル」が１～２個置換した上記「アルキル」を意味する。例えば、メチルスルファニルメチル、メチルスルファニルエチル、エチルスルファニルメチル等が挙げられる。
　「アルキルスルファニルアルキルカルボニル」とは、上記「アルキルスルファニルアルキル」が結合したカルボニル基を意味する。例えば、メチルスルファニルメチルカルボニル、メチルスルファニルエチルカルボニル、エチルスルファニルメチルカルボニル等が挙げられる。
　「アルケニルスルファニル」とは、上記「アルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。
　例えば、ビニルスルファニル、アリルスルファニル、１－プロペニルスルファニル、２－ブテニルスルファニル、２－ペンテニルスルファニル、２－ヘキセニルスルファニル、２－ヘプテニルスルファニル、２－オクテニルスルファニル等が挙げられる。
　「アルキニルスルファニル」とは、上記「アルキニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。
　例えば、エチニルスルファニル、１－プロピニルスルファニル、２－プロピニルスルファニル、２－ブチニルスルファニル、２－ペンチニルスルファニル、２－ヘキシニルスルファニル、２－ヘプチニルスルファニル、２－オクチニルスルファニル等が挙げられる。
　「アルキルカルボニル」とは、上記「アルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、アセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ－ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。「アルキルカルボニル」の好ましい態様として、アセチル、エチルカルボニル、ｎ－プロピルカルボニルが挙げられる。
　「シアノアルキルカルボニル」とは、上記「アルキルカルボニル」の１以上の任意の水素原子がシアノで置換された基を意味する。例えば、シアノメチルカルボニル等が挙げられる。
　「スルファモイルアルキルカルボニル」とは、スルファモイルで置換されたアルキルカルボニルを意味する。
　「アルケニルカルボニル」とは、上記「アルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニル、プロペニルカルボニル等が挙げられる。
　「アルキニルカルボニル」とは、上記「アルキニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル等が挙げられる。
　「アルキルオキシカルボニル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、へキシルオキシカルボニル等が挙げられる。「アルキルオキシカルボニル」の好ましい態様としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニルが挙げられる。
　「アルキルオキシカルボニルアルケニル」とは、上記「アルケニル」の一以上の任意の水素原子が上記「アルキルオキシカルボニル」で置換された基を意味する。たとえば、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
で示される基等が挙げられる。
　「アルケニルオキシカルボニル」とは、上記「アルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「アルキニルオキシカルボニル」とは、上記「アルキニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「アリールカルボニル」とは、上記「アリール」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル等が挙げられる。
　「シクロアルキルカルボニル」とは、上記「シクロアルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロへキセニルカルボニル等が挙げられる。
　「アルキルオキシカルボニルで置換されたシクロアルキルカルボニル」とは、１以上の上記「アルキルオキシカルボニル」で置換された上記「シクロアルキルカルボニル」を意味する。
　「シクロアルケニルカルボニル」とは、上記「シクロアルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロへキセニルカルボニル等が挙げられる。
　「ヘテロアリールカルボニル」とは、上記「ヘテロアリール」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルカルボニル、オキサゾリルカルボニル等が挙げられる。
　「アルキルカルボニルで置換されたヘテロアリールカルボニル」とは、上記「アルキルカルボニル」が１～２個置換した上記「ヘテロアリールカルボニル」を意味する。例えば、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000090

で示される基等が挙げられる。
　「非芳香族複素環カルボニル」とは、上記「非芳香族複素環式基」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルカルボニル、テトラヒドロフリルカルボニル等が挙げられる。
　「アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルボニル」とは、上記「アルキルオキシカルボニル」が１～２個置換した上記「非芳香族複素環カルボニル」を意味する。たとえば、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000091

で示される基等が挙げられる。
　「アルキルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ等が挙げられる。「アルキルカルボニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシが挙げられる。
　「アルキルカルボニルスルファニル」とは、上記「アルキルカルボニル」が硫黄原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルスルファニル、エチルカルボニルスルファニル、ｎ－プロピルカルボニルスルファニル、イソプロピルカルボニルスルファニル、ｎ－ブチルカルボニルスルファニル、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルスルファニル、イソブチルカルボニルスルファニル、ｓｅｃ－ブチルカルボニルスルファニル、ペンチルカルボニルスルファニル、イソペンチルカルボニルスルファニル、へキシルカルボニルスルファニル等が挙げられる。「アルキルカルボニルスルファニル」の好ましい態様として、例えば、メチルカルボニルスルファニル、エチルカルボニルスルファニル、プロピルカルボニルスルファニル、イソプロピルカルボニルスルファニル、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルスルファニル、イソブチルカルボニルスルファニル、ｓｅｃ－ブチルカルボニルスルファニル等が挙げられる。
　「ハロアルキル」とは、上記「アルキル」の一以上の任意の水素原子が上記「ハロゲン」で置換された基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル、２，２，２－トリクロロエチル、１，２－ジブロモエチル、１，１，１－トリフルオロプロパン－２－イル等が挙げられる。
　「ハロアルキルカルボニル」とは、上記「ハロアルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチルカルボニル、ジフルオロメチルカルボニル、モノフルオロエチルカルボニル、モノフルオロプロピルカルボニル、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルカルボニル、モノクロロメチルカルボニル、トリフルオロメチルカルボニル、トリクロロメチルカルボニル、２，２，２－トリフルオロエチル、２，２，２－トリクロロエチルカルボニル、１，２－ジブロモエチルカルボニル、１，１，１－トリフルオロプロパン－２－イルカルボニル等が挙げられる。
　「ハロアルケニル」とは、上記「アルケニル」の一以上の任意の水素原子が上記「ハロゲン」で置換された基を意味する。
　「ヒドロキシアルキル」とは、上記「アルキル」の一以上の任意の水素原子がヒドロキシで置換された基を意味する。
　「トリアルキルシリル」とは、上記「アルキル」３個がケイ素原子に結合している基を意味する。３個のアルキルは同一でも異なっていてもよい。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリル等が挙げられる。
　「トリアルキルシリルオキシ」とは、上記「トリアルキルシリル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルオキシ、トリイソプロピルシリルオキシ等が挙げられる。
　「シアノアルキル」とは、上記「アルキル」の１以上の任意の水素原子がシアノで置換された基を意味する。例えば、シアノメチル等が挙げられる。
　「シアノアルキルオキシ」とは、上記「シアノアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シアノメチルオキシ等が挙げられる。
　「ハロアルキルオキシ」とは、上記「ハロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメトキシ、モノフルオロエトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、トリクロロエトキシ等が挙げられる。
　「ハロアルキルオキシ」の好ましい態様として、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシが挙げられる。
　「カルバモイルアルキルカルボニル」とは、カルバモイルで置換されている上記「アルキルカルボニル」を意味する。たとえば、カルバモイルメチルカルボニル、カルバモイルエチルカルボニル等が挙げられる。
　「モノアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ等が挙げられる。
　「モノアルキルアミノ」の好ましい態様として、メチルアミノ、エチルアミノが挙げられる。
　「モノ（ヒドロキシアルキル）アミノ」とは、上記「モノアルキルアミノ」のアルキル基の任意の水素原子がヒドロキシで置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ等が挙げられる。
　「ジアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミノ、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルアミノ、Ｎ－イソプロピル－Ｎ－エチルアミノ等が挙げられる。
　「ジアルキルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルアミノ、ジエチルアミノが挙げられる。
　「アルキルスルホニル」とは、上記「アルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ－ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ－ブチルスルホニル等が挙げられる。
　「アルキルスルホニル」の好ましい態様として、メチルスルホニル、エチルスルホニルが挙げられる。
　「アルケニルスルホニル」とは、上記「アルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニル、プロペニルスルホニル等が挙げられる。
　「アルキニルスルホニル」とは、上記「アルキニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル等が挙げられる。
　「モノアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルアミノ等が挙げられる。
　「モノアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノが挙げられる。
　「モノアルキルカルボニルアミノアルキル」とは、１以上の上記「モノアルキルカルボニルアミノ」で置換されている上記「アルキルを意味する」。例えば、メチルカルボニルアミノメチル、エチルカルボニルアミノメチル等が挙げられる。
　「モノアルキルカルボニルアミノアルキルカルボニル」とは、上記「モノアルキルカルボニルアミノアルキル」がカルボニルに結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルアミノメチルカルボニル、エチルカルボニルアミノメチルカルボニル等が挙げられる。
　「ジアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボニルアミノ等が挙げられる。
　「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノが挙げられる。
　「モノアルキルオキシカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルオキシカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。「モノアルキルオキシカルボニルアミノ」の好ましい態様として、メチルオキシカルボニルアミノ、エチルオキシカルボニルアミノが挙げられる。
　「モノアルキルオキシカルボニルアミノアルキル」とは、１以上の上記「モノアルキルオキシカルボニルアミノ」で置換されている上記「アルキル」を意味する。例えば、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニルアミノメチル、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニルアミノエチル等が挙げられる。
　「モノアルキルオキシカルボニルアミノアルキルカルボニル」とは、上記「モノアルキルオキシカルボニルアミノアルキル」が結合したカルボニル基を意味する。例えば、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニルアミノメチルカルボニル、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニルアミノエチルカルボニル等が挙げられる。
　「ジアルキルオキシカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルオキシカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルオキシカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、
　「アルキルオキシカルボニルで置換されたへテロアリール」とは、上記「アルキルオキシカルボニル」が１～２個置換した上記「ヘテロアリール」を意味する。
　「アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環式基」とは、上記「アルキルオキシカルボニル」が１～２個置換した上記「非芳香属複素環式基」を意味する。
　「アルキルで置換されたヘテロアリール」とは、アルキルが１～２個置換した上記「ヘテロアリール」を意味する。
　「モノアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ－ブチルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、ｓｅｃ－ブチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
　「モノアルキルスルホニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノが挙げられる。
　「ジアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルスルホニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルスルホニルアミノ等が挙げられる。
　「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノが挙げられる。
　「アルキルイミノ」とは、上記「アルキル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルイミノ、エチルイミノ、ｎ－プロピルイミノ、イソプロピルイミノ等が挙げられる。
　「アルケニルイミノ」とは、上記「アルケニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルイミノ、プロペニルイミノ等が挙げられる。
　「アルキニルイミノ」とは、上記「アルキニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルイミノ、プロピニルイミノ等が挙げられる。
　「アルキルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルイミノ、エチルカルボニルイミノ、ｎ－プロピルカルボニルイミノ、イソプロピルカルボニルイミノ等が挙げられる。
　「アルケニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルケニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルイミノ、プロペニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
　「アルキニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルボニルイミノ、プロピニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
　「アルキルオキシイミノ」とは、上記「アルキルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルオキシイミノ、エチルオキシイミノ、ｎ－プロピルオキシイミノ、イソプロピルオキシイミノ等が挙げられる。
　「アルケニルオキシイミノ」とは、上記「アルケニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルオキシイミノ、プロペニルオキシイミノ等が挙げられる。
　「アルキニルオキシイミノ」とは、上記「アルキニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルオキシイミノ、プロピニルオキシイミノ等が挙げられる。
　「アルケニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルケニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルオキシ、プロペニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
　「アルキニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニルオキシ、プロピニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
　「アルキルスルフィニル」とは、上記「アルキル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ－プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等が挙げられる。
　「アルケニルスルフィニル」とは、上記「アルケニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルフィニル、プロペニルスルフィニル等が挙げられる。
　「アルキニルスルフィニル」とは、上記「アルキニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルフィニル、プロピニルスルフィニル等が挙げられる。
　「モノアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル等が挙げられる。
　「モノアルキルカルバモイルアルキルオキシ」とは、１以上の上記「モノアルキルカルバモイル」で置換されている上記「アルキルオキシ」を意味する。例えば、メチルカルバモイルメチルオキシなどが挙げられる。
　「モノ（ヒドロキシアルキル）カルバモイル」とは、上記「モノアルキルカルバモイル」のアルキル基の任意の水素原子がヒドロキシで置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチルカルボニル、ヒドロキシエチルカルボニル等が挙げられる。
　「モノ（ハロアルキル）カルバモイル」とは、上記「モノアルキルカルバモイル」のアルキル基の任意の水素原子がハロゲンで置き換わった基を意味する。例えば、モノクロロメチルカルバモイル、２－クロロエチルカルバモイル等が挙げられる。
　「ジアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
　「アルキルオキシカルボニルアルキル」とは、１以上の上記「アルキルオキシカルボニル」で置換されている上記「アルキル」を意味する。
　「アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシカルボニルアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。たとえば、メチルオキシカルボニルメチルオキシ等が挙げられる。
　「モノ（アルキルオキシカルボニルアルキル）アミノ」とは、上記「アルキルオキシカルボニルアルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、エチルオキシカルボニルエチルアミノ等が挙げられる。
　「アルキルオキシカルボニルアルキルカルボニル」とは、上記「アルキルオキシカルボニルアルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。たとえば、メチルオキシカルボニルエチルカルボニル、メチルオキシカルボニルメチルカルボニル、エチルオキシカルボニルエチルカルボニル、tert-ブチルオキシカルボニルメチルカルボニル等が挙げられる。
　「モノアルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキルオキシカルボニルアルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニルメチルカルバモイル、エチルオキシカルカルボニルメチルカルバモイル等が挙げられる。
　「ジアルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキルオキシカルボニルアルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。
　「カルボキシアルキル」とは、１以上の「カルボキシ」で置換されている上記「アルキル」を意味する。
　「カルボキシアルケニル」とは、上記「アルケニル」の一以上の任意の水素原子が「カルボキシ」で置換された基を意味する。例えば、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000092

で示される基が挙げられる。
　「カルボキシアルキルカルバモイル」とは、１以上の上記「カルボキシアルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、カルボキシメチルカルバモイル等が挙げられる。
　「カルボキシアルキルオキシ」とは、上記「カルボキシアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、カルボキシメチルオキシ、カルボキシエチルオキシ等が挙げられる。
　「モノカルボキシアルキルアミノ」とは、上記「カルボキシアルキル」がアミノ基の窒素原子と結合する水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、カルボキシメチルアミノ、カルボキシエチルアミノ等が挙げられる。
　「ジアルキルアミノアルキル」とは、１以上の「ジアルキルアミノ」で置換されている上記「アルキル」を意味する。例えば、ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエチルなどが挙げられる。
　「ジアルキルアミノカルボニル」とは、上記「ジアルキルアミノ」がカルボニルに結合した基を意味する。たとえば、ジメチルアミノカルボニル等が挙げられる。
　「ジアルキルアミノカルボニルアルキルカルボニル」とは、上記「ジアルキルアミノカルボニル」で置換されている上記「アルキルカルボニル」を意味する。例えば、ジメチルアミノカルボニルメチルカルボニル、ジメチルアミノカルボニルエチルカルボニル等が挙げられる。
　「モノ（ジアルキルアミノアルキル）カルバモイル」とは、上記「ジアルキルアミノアルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えばジメチルアミノメチルカルバモイル、ジメチルアミノエチルカルバモイルなどが挙げられる。
　「ジ（ジアルキルアミノアルキル）カルバモイル」とは、上記「ジアルキルアミノアルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。例えば、ジ（メチルオキシカルボニルメチル）カルバモイル、ジ（エチルオキシカルカルボニルメチル）カルバモイル等が挙げられる。
　「シクロアルキルカルバモイル」とは、１以上の上記「シクロアルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルカルバモイル等が挙げられる。
　「非芳香族複素環カルバモイル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、以下の式で示される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
　「モノアルキルオキシカルバモイル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えばメチルオキシカルバモイルなどが挙げられる。
　「ジアルキルオキシカルバモイル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。例えばジ（メチルオキシ）カルバモイルなどが挙げられる。
　「モノアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイルモイル等が挙げられる。
　「ジアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
　「アリールアルキル」とは、１以上の上記「アリール」で置換されている上記「アルキル」を意味する。例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピニル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
等が挙げられる。
　「アリールアルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリルが挙げられる。
　「シクロアルキルアルキル」とは、１以上の上記「シクロアルキル」で置換されている上記「アルキル」を意味する。また、「シクロアルキルアルキル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」で置換されている「シクロアルキルアルキル」も包含する。例えば、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
等が挙げられる。
　「シクロアルケニルアルキル」とは、１以上の上記「シクロアルケニル」で置換されている上記「アルキル」を意味する。また、「シクロアルケニルアルキル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」で置換されている「シクロアルケニルアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、等が挙げられる。
　「ヘテロアリールアルキル」とは、１以上の上記「ヘテロアリール」で置換されている上記「アルキル」を意味する。また、「ヘテロアリールアルキル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」及び／又は「シクロアルキル」で置換されている「ヘテロアリールアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
等が挙げられる。
　「ヘテロアリールアルキルカルボニル」とは、上記「ヘテロアリールアルキル」がカルボニルに結合した基を意味する。例えば、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 で示される基等が挙げられる。
　「非芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されている上記「アルキル」を意味する。また、「非芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」、「シクロアルキル」及び／又は「ヘテロアリール」で置換されている「非芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
等が挙げられる。
　「非芳香族複素環アルキルカルバモイル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、以下の式で示される基を挙げることが出来る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
　「非芳香族複素環アルキルカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環アルキル」がカルボニルと結合した基を意味する。例えば、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
で示される基等が挙げられる。
　「アリールアルキルオキシ」とは、１以上の上記「アリール」で置換されている上記「アルキルオキシ」を意味する。例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピニルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
等が挙げられる。
　「シクロアルキルアルキルオキシ」とは、１以上の上記「シクロアルキル」で置換されている上記「アルキルオキシ」を意味する。また、「シクロアルキルアルキルオキシ」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」で置換されている「シクロアルキルアルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロへキシルメチルオキシ、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
等が挙げられる。
　「シクロアルケニルアルキルオキシ」とは、１以上の上記「シクロアルケニル」で置換されている上記「アルキルオキシ」を意味する。また、「シクロアルケニルアルキルオキシ」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」、「シクロアルキル」又はその両方で置換されている「シクロアルケニルアルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロへキシルメチルオキシ、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
等が挙げられる。
　「ヘテロアリールアルキルオキシ」とは、１以上の上記「ヘテロアリール」で置換されている上記「アルキルオキシ」を意味する。また、「ヘテロアリールアルキルオキシ」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」及び／又は「シクロアルキル」で置換されている「ヘテロアリールアルキルオキシ」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシ、フラニルメチルオキシ、イミダゾリルメチルオキシ、インドリルメチルオキシ、ベンゾチオフェニルメチルオキシ、オキサゾリルメチルオキシ、イソキサゾリルメチルオキシ、チアゾリルメチルオキシ、イソチアゾリルメチルオキシ、ピラゾリルメチルオキシ、イソピラゾリルメチルオキシ、ピロリジニルメチルオキシ、ベンズオキサゾリルメチルオキシ、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
等が挙げられる。
　「非芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されている上記「アルキルオキシ」を意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」、「シクロアルキル」及び／又は「ヘテロアリール」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
等が挙げられる。
　「アリールアルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「アリール」で置換されている上記「アルキルオキシカルボニル」を意味する。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、フェニルプロピニルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ナフチルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
等が挙げられる。
　「シクロアルキルアルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「シクロアルキル」で置換されている上記「アルキルオキシカルボニル」を意味する。また、「シクロアルキルアルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」で置換されている「シクロアルキルアルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシカルボニル、シクロブチルメチルオキシカルボニル、シクロペンチルメチルオキシカルボニル、シクロへキシルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
等が挙げられる。
　「シクロアルケニルアルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「シクロアルケニル」で置換されている上記「アルキルオキシカルボニル」を意味する。
　「ヘテロアリールアルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「ヘテロアリール」で置換されている上記「アルキルオキシカルボニル」を意味する。また、「ヘテロアリールアルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」「シクロアルキル」及び／又は「シクロアルケニル」で置換されている「ヘテロアリールアルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシカルボニル、フラニルメチルオキシカルボニル、イミダゾリルメチルオキシカルボニル、インドリルメチルオキシカルボニル、ベンゾチオフェニルメチルオキシカルボニル、オキサゾリルメチルオキシカルボニル、イソキサゾリルメチルオキシカルボニル、チアゾリルメチルオキシカルボニル、イソチアゾリルメチルオキシカルボニル、ピラゾリルメチルオキシカルボニル、イソピラゾリルメチルオキシカルボニル、ピロリジニルメチルオキシカルボニル、ベンズオキサゾリルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
等が挙げられる。
　「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されている上記「アルキルオキシカルボニル」を意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分がさらに上記「アリール」、「シクロアルキル」、「シクロアルキニル」及び／又は「ヘテロアリール」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
等が挙げられる。
　「アリールアルキルアミノ」とは、上記「アリールアルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、フェニルプロピニルアミノ、ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。
　「シクロアルキルアルキルアミノ」とは、上記「シクロアルキルアルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルメチルアミノ、シクロブチルメチルアミノ、シクロペンチルメチルアミノ、シクロへキシルメチルアミノ等が挙げられる。
　「シクロアルケニルアルキルアミノ」とは、上記「シクロアルケニルアルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。
　「ヘテロアリールアルキルアミノ」とは、上記「ヘテロアリールアルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルメチルアミノ、フラニルメチルアミノ、イミダゾリルメチルアミノ、インドリルメチルアミノ、ベンゾチオフェニルメチルアミノ、オキサゾリルメチルアミノ、イソキサゾリルメチルアミノ、チアゾリルメチルアミノ、イソチアゾリルメチルアミノ、ピラゾリルメチルアミノ、イソピラゾリルメチルアミノ、ピロリジニルメチルアミノ、ベンズオキサゾリルメチルアミノ等が挙げられる。
　「非芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、ピペラジニルメチルアミノ等が挙げられる。
　「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキルオキシ」が１～２個置換した上記「アルキル」を意味する。例えば、メチルオキシメチル、メチルオキシエチル、エチルオキシメチル等が挙げられる。
　「アルキルオキシアルキルで置換されたヘテロアリール」とは、上記「アルキルオキシアルキル」が１～２個置換しているヘテロアリールを意味する。
　「アルキルオキシアルキルカルボニル」とは、上記「アルキルオキシアルキルカルボニル」がカルボニルに結合した基を意味する。例えば、チルオキシメチルカルボニル、メチルオキシエチルカルボニル、エチルオキシメチルカルボニル等が挙げられる。
　「アリールアルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「アリール」で置換されている上記「アルキルオキシアルキル」を意味する。例えば、ベンジルオキシメチル、フェネチルオキシメチル、フェニルプロピニルオキシメチル、ベンズヒドリルオキシメチル、トリチルオキシメチル、ナフチルメチルオキシメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
等が挙げられる。
　「シクロアルキルアルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「シクロアルキル」で置換されている上記「アルキルオキシアルキル」を意味する。また、「シクロアルキルアルキルオキシアルキル」は、シクロアルキルが結合しているアルキル部分がさらに上記「アリール」で置換されている「シクロアルキルアルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル、シクロへキシルメチルオキシメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
等が挙げられる。
　「シクロアルケニルアルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「シクロアルケニル」で置換されている上記「アルキルオキシアルキル」を意味する。また、「シクロアルケニルアルキルオキシアルキル」は、シクロアルケニルが結合しているアルキル部分がさらに上記「アリール」、「シクロアルキル」又はその両方で置換されている「シクロアルケニルアルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
等が挙げられる。
　「ヘテロアリールアルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「ヘテロアリール」で置換されている上記「アルキルオキシアルキル」を意味する。また、「ヘテロアリールアルキルオキシアルキル」は、芳香族複素環が結合しているアルキル部分がさらに上記「アリール」「シクロアルキル」及び／又は「シクロアルケニル」で置換されている「ヘテロアリールアルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシメチル、フラニルメチルオキシメチル、イミダゾリルメチルオキシメチル、インドリルメチルオキシメチル、ベンゾチオフェニルメチルオキシメチル、オキサゾリルメチルオキシメチル、イソキサゾリルメチルオキシメチル、チアゾリルメチルオキシメチル、イソチアゾリルメチルオキシメチル、ピラゾリルメチルオキシメチル、イソピラゾリルメチルオキシメチル、ピロリジニルメチルオキシメチル、ベンズオキサゾリルメチルオキシメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
等が挙げられる。
　「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されている上記「アルキルオキシアルキル」を意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、非芳香族複素環が結合しているアルキル部分がさらに上記「アリール」、「シクロアルキル」、「シクロアルケニル」及び／又は「ヘテロアリール」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシメチル、モルホリニルエチルオキシメチル、ピペリジニルメチルオキシメチル、ピペラジニルメチルオキシメチル、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
等が挙げられる。
　「アリールオキシ」とは、上記「アリール」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
　「シクロアルキルオキシ」とは、上記「シクロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロへキセニルオキシ等が挙げられる。
　「シクロアルケニルオキシ」とは、「シクロアルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロペニルオキシ、シクロブテニルオキシ、シクロペンテニルオキシ、シクロヘキセニルオキシ、シクロヘプテニルオキシ、シクロヘキサジエニルオキシ等が挙げられる。
　「ヘテロアリールオキシ」とは、上記「ヘテロアリール」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシ、オキサゾリルオキシ等が挙げられる。
　「非芳香族複素環オキシ」とは、上記「非芳香族複素環式基」が酸素原子に結合した基を意味する。
　「非芳香族複素環オキシ」としては、例えば、ピペリジニルオキシ、テトラヒドロフリルオキシ等が挙げられる。
　「アルキルオキシアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。
　「アリールオキシカルボニル」とは、上記「アリールオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「シクロアルキルオキシカルボニル」とは、上記「シクロアルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロへキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「シクロアルケニルオキシカルボニル」とは、上記「シクロアルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロペニルオキシカルボニル、シクロヘキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「ヘテロアリールオキシカルボニル」とは、上記「ヘテロアリールオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「非芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル等が挙げられる。
　「アリールスルファニル」とは、上記「アリール」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルスルファニル、ナフチルスルファニル等が挙げられる。
　「シクロアルキルスルファニル」とは、上記「シクロアルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニル等が挙げられる。
　「シクロアルケニルスルファニル」とは、上記「シクロアルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロペニルスルファニル、シクロブテニルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニルシクロペンテニルスルファニル、シクロヘプテニルスルファニル、シクロヘキサジエニルスルファニル等が挙げられる。
　「ヘテロアリールスルファニル」とは、上記「ヘテロアリール」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルスルファニル、オキサゾリルスルファニル等が挙げられる。
　「非芳香族複素環スルファニル」とは、上記「非芳香族複素環式基」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピペリジニルスルファニル、テトラヒドロフリルスルファニル等が挙げられる。
　「アリールスルホニル」とは、上記「アリール」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等が挙げられる。
　「シクロアルキルスルホニル」とは、上記「シクロアルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘキセニルスルホニル等が挙げられる。
　「シクロアルケニルスルホニル」とは、上記「シクロアルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。
　「ヘテロアリールスルホニル」とは、上記「ヘテロアリール」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルホニル、オキサゾリルスルホニル等が挙げられる。
　「非芳香族複素環スルホニル」とは、上記「非芳香族複素環式基」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルホニル、テトラヒドロフリルスルホニル等が挙げられる。
　「アルキルで置換された非芳香族複素環式基」とは、上記「アルキル」が１～２個置換した上記「非芳香族複素環式基」を意味する。
　「アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルバモイル」とは、上記「アルキルオキシカルボニル」が上記「非芳香族複素環カルバモイル」の非芳香族環情の原子と結合している水素原子１～２個と置き換わった基を意味する。例えば、以下に示される基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
等が挙げられる。
　式（Ｉ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
 で示される化合物における、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１３、ｎ、ｍ、Ａ、Ｘ１、Ｘ５の好ましい態様を以下に示す。
　Ｒ１は、置換若しくは非置換のアリール又は置換若しくは非置換のヘテロアリールであり、好ましくは、置換若しくは非置換のアリールである。特に、置換若しくは非置換のフェニルが好ましく、さらには置換フェニルが好ましい。また、別の態様としては、置換若しくは非置換の縮合アリール又は置換若しくは非置換の縮合ヘテロアリールが好ましい。
　置換のアリール又は置換のヘテロアリールとしては、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
（式中、
Ｘ２はそれぞれ独立して－Ｎ＝、－Ｃ（Ｈ）＝又は－Ｃ（－Ｒ１０）＝であり、
Ｘ３は－Ｓ－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｈ）－又は－Ｎ（－Ｒ１１）－であり、
Ｘ４はそれぞれ独立して－Ｎ＝又は－Ｃ（Ｈ）＝であり、
Ｒ１０はそれぞれ独立してハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、メルカプト、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルスルファニル、シアノ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、トリアルキルシリルオキシ、置換若しくは非置換のアリールオキシ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアルキルスルフォニル又は置換若しくは非置換のアルキルスルフォニルオキシであり、
Ｒ１１は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ１５は置換若しくは非置換の炭素数２以上のアルキル、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のアリールオキシ又は置換若しくは非置換の非芳香族複素環であり、
環Ｐは置換若しくは非置換の５員の芳香族複素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族炭素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族複素環、置換若しく非置換の６員の非芳香族炭素環又は置換若しく非置換の６員の非芳香族複素環である。）で示される基が好ましく、特に式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
で示される基が好ましい。
　Ｘ２はそれぞれ独立して－Ｎ＝、－Ｃ（Ｈ）＝又は－Ｃ（－Ｒ１０）＝であり、
　Ｘ４はそれぞれ独立して－Ｎ＝又は－Ｃ（Ｈ）＝であり、
　Ｒ１０はそれぞれ独立してハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、メルカプト、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルスルファニル、シアノ、非芳香族複素環式基、トリアルキルシリルオキシ、置換若しくは非置換のアリールオキシ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアルキルスルフォニル又は置換若しくは非置換のアルキルスルフォニルオキシである。
　Ｒ１０としては、ハロゲン（たとえば、クロロなど）、置換若しくは非置換のアルキル（たとえばハロアルキルなど）、置換若しくは非置換のアミノ（たとえば、モノアルキルアミノ、モノアルキルオキシカルボニルアミノ、シクロアルキルアルキルアミノ）、置換若しくは非置換のアルキルオキシ（たとえば、シクロアルキルアルキルオキシなど）、シアノ、トリアルキルシリルオキシ又は置換若しくは非置換のアリールオキシが好ましい。
　具体的には、Ｒ１としては、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
で示される基が好ましい。
　別の態様として、Ｒ１は置換若しくは非置換の縮合アリール又は置換若しくは非置換の縮合へテロアリールである。
　縮合アリールとは、多環の芳香族炭素環式基又は単環若しくは多環の芳香族炭素環式基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基を意味する。
　縮合へテロアリールとは、多環の芳香族へテロ環式基又は単環若しくは多環の芳香族へテロ環式基にさらに３～８員の環が１又は２個縮合した基であることを意味する。
　置換若しくは非置換の縮合アリール又は置換若しくは非置換の縮合へテロアリールとして、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
（式中、Ｘ２は前記と同意義）で示される基が好ましい。
　環Ｐは置換若しくは非置換の５員の芳香族複素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族炭素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族複素環、置換若しく非置換の６員の非芳香族炭素環又は置換若しく非置換の６員の非芳香族複素環であり、環Ｐと以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
で示される環が縮合して二環性の環を形成する。特に、置換若しくは非置換の５員の芳香族複素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族炭素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族複素環が好ましい。
　上記の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
で示される基の具体例としては、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
で示される基が好ましい。
　Ｒ１４は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。Ｒ１４としては、置換若しくは非置換のアルキル（たとえばシクロアルキルアルキルなど）が好ましい。
　環Ｐに相当する環上の炭素原子はさらに置換されていてもよい。置換基としては、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル（たとえばハロアルキルなど）又は置換若しくは非置換のシクロアルキルが好ましい。
　さらに具体的には、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
で示される基が好ましい。
　Ｒ２はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、Ｒ３はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであるか、又は、同一の炭素原子に結合するＲ２とＲ３は、結合する炭素原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成していてもよい。好ましくは、Ｒ２がそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、Ｒ３がそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、さらには、Ｒ２及びＲ３が水素である場合がより好ましい。
　Ｒ２又はＲ３は、Ｒ１のアリール又はヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって環を形成してもよい。Ｒ２がＲ１のアリール又はヘテロアリールの環上の置換基（Ｒ１０）と、それぞれが結合する原子と一緒になって環を形成するの場合、式（Ｉ’）中の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
 で示される基は、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
で示すことができる。
　たとえば、式（Ｉ）で示される化合物は、以下の式（Ｉ－Ａ）のように記載することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
（ただし、式中、各記号は前記と同意義。ｎは０～３の整数であり、n′及びn′′は、n′+ n′′+1=ｎを満たす０以上の整数である。）
　上記の式（Ｉ－Ａ）で示される化合物の好ましい態様として、以下の式（Ｉ－Ａ１）で示される化合物が例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
（式中、各記号は前記と同意義。）
　Ｘ１が－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｏ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｓ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－又は－Ｎ（Ｒ１２）－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－である場合、Ｘ１中のＲ２またはＲ３がＲ１のアリール若しくはヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって環を形成してもよい。この場合、式（Ｉ’）中の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
 で示される基は、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
で示すことができる。
　たとえば、式（Ｉ）で示される化合物は、以下の式（Ｉ－Ｂ）のように記載することもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
（式中、各記号は前記と同意義。）
　上記の式（Ｉ－B）で示される化合物の好ましい態様として、以下の式（Ｉ－Ｂ１）で示される化合物が例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
　Ｘ１が－Ｎ（－Ｒ１２）－又は－Ｎ（－Ｒ１２）－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－である場合、Ｘ１中のＲ１２がＲ１のアリール若しくはヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって環を形成していてもよい。この場合、式（Ｉ’）中の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
 で示される基は、以下の式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
で示すことができる。
　たとえば、式（Ｉ）で示される化合物は、以下の式（Ｉ－Ｃ）のように記載することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
（式中、各記号は前記と同意義。）
　上記の式（Ｉ－Ｃ）で示される化合物の好ましい態様として、以下の式（Ｉ－Ｃ１）で示される化合物が例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
（式中、各記号は前記と同意義。）
　Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキルオキシ又は置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルである。好ましくは、Ｒ４は水素であり、Ｒ５は水素又はハロゲンである。さらに好ましくは、Ｒ４及びＲ５は水素である。
　Ｒ６は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、Ｒ６は置換若しくは非置換のアルキルである。特に好ましくは、Ｒ６はメチル、エチルである。さらに好ましくは、Ｒ６はメチルである。
　Ｒ１３は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、Ｒ１３は水素である。
　Ｒ７は水素又は置換若しくは非置換のアルキルである。好ましくは水素である。
　Ｒ８は置換若しくは非置換のアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のスルファモイル、置換若しくは非置換のアミジノ、置換若しくは非置換のアリールカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニル又は置換若しくは非置換のスルフィノである。
　Ｒ８としては、置換若しくは非置換のアルキルカルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。ハロゲン、アルキルスルファニル、シアノ、、モノアルキルカルボニルアミノ、非芳香族複素環、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環、アルキルで置換された非芳香族複素環、オキソで置換された非芳香族複素環アルキルカルボニル、ヘテロアリール、アルキルオキシカルボニルで置換されたヘテロアリール、アルキルオキシ、アルキルオキシカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、スルファモイル、アルキルオキシアルキルオキシ、モノアルキルオキシカルボニルアミノ、カルバモイル、モノアルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニル、ヒドロキシ、ジアルキルアミノ）、置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。カルバモイル、アルキル、アルキルオキシカルボニル、ヒドロキシ、シアノ）、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。非置換のアルキルオキシカルボニルなど）、
置換若しくは非置換のカルバモイル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。アルキル、アルキル、アルキルオキシ、ハロアルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、モノアルキルオキシアルキル、シアノアルキル）、置換若しくは非置換のアリールカルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環式基、ヘテロアリール、オキソ、アルキルスルホニル、ハロゲン、スルファモイル、アルキル、オキソ、シアノ、アルキルオキシ）、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。ヒドロキシアルキル、ホルミル、アルキルオキシカルボニルアルケニル、カルボキシアルケニル、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、モノ（ヒドロキシアルキル）アミノ、カルボキシアルキルオキシ、モノカルボキシアルキルアミノ、モノアルキルカルバモイルアルキルオキシ、モノ（ヒドロキシアルキル）カルバモイル、非芳香族複素環カルバモイル、モノアルキルカルバモイルで置換されてヘテロアリールカルボニル、カルバモイル、非芳香族複素環アルキルアミノ、モノ（アルキルオキシカルボニルアルキル）アミノ、モノアルキルカルボニルアミノ、ヘテロアリール、アルキルで置換されたヘテロアリール、アルキルへテロアリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、ハロゲン、ジメチルアミノ、アミノ、ヘテロアリールカルボニル、ハロゲン、アルキルオキシカルボニル、モノアルキルオキシカルバモイル、非芳香族複素環アルキルカルバモイル、モノシクロアルキルカルバモイル、アルキルオキシカルボニルで置換された非芳香族複素環カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、モノ（ジアルキルアミノアルキル）カルバモイル、シアノカルバモイル、モノアルキルオキシカルボニルアルキルカルバモイル、アルキルオキシカルボニルで置換されたシクロアルキルカルバモイル置換されたヘテロアリールカルボニル、カルボキシアルキルカルバモイルで置換された置換されたヘテロアリールカルボニル、カルボキシで置換されたシクロアルキル、アルキルカルボニルで置換されたヘテロアリール、ジアルキルアミノ、モノアルキルカルボニルアミノ、非芳香族複素環、アルキルオキシアルキルで置換されたヘテロアリール）、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。アルキルオキシ、アルキルオキシカルボニル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシカルボニル、オキソ）、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリール（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。アルキル）、置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニル（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。ニトロ）又は置換若しくは非置換のスルフィノ（たとえば、以下の置換基で置換されていてもよい。アルキル）が好ましい。
　Ｒ８としては、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルがより好ましく、非置換のアルキルカルボニルがさらに好ましく、メチルカルボニルが最も好ましい。
　Ｒ９は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のスルファモイル、カルボキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニル又は置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルである。
　ｎは０～３の整数であり、好ましくは、０である。
　ｍは０～４の整数であり、好ましくは、０～２であり、より好ましくは、０である。
　環Ａは芳香族炭素環又は芳香族複素環である。Ａにおける芳香族炭素環としては、ベンゼンが好ましい。Ａにおける芳香族複素環としては、１～３個のＯ、Ｓ又はＮを環内に包含する５又は６員の芳香族複素環が好ましく、さらには、ピラゾール、チアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン又はピラジンが好ましい。
　Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（－Ｒ１２）－、－Ｃ（＝Ｏ）、－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｏ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｓ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－又は－Ｎ（Ｒ１２）－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－である。好ましくは－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－であり、より好ましくは－Ｏ－である。
　Ｘ５は単結合又は－Ｃ（－Ｒ１６）（－Ｒ１７）－である。好ましくは単結合又はメチレンであり、より好ましくは単結合である。
　「ＡＣＣ２の関与する疾患」としては、メタボリックシンドローム、肥満症、糖尿病、インスリン抵抗性、耐糖能異常、糖尿病性末梢神経障害、糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性大血管症、脂質異常症、高血圧症、心血管疾患、動脈硬化症、アテローム性動脈硬化症、心不全、心筋梗塞、感染症、腫瘍等が挙げられる。
　式（Ｉ）で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（例えば、ケト－エノール異性体、イミン－エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体又はそれらの混合物を含む。
　式（Ｉ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
で示される化合物は、Ｒ４の結合する炭素原子とＲ５の結合する炭素原子において二重結合を形成している。本発明は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
で示される基と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
で示される基が上記二重結合に対してＥ配置である化合物及びＺ配置である化合物を包含する。上記式（Ｉ’）中、波線は、上記二重結合に対してＥ配置、Ｚ配置又はその混合を意味する。
　上記式（Ｉ’）中の波線が、、上記二重結合に対してＥ配置である場合、上記式（Ｉ）は以下の式（Ｉ’－Ｄ）で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
　上記式（Ｉ’）中の波線が、、上記二重結合に対してＺ配置である場合、上記式（Ｉ’）は以下の式（Ｉ’－Ｅ）で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
　好ましくは、上記の各基がＥ配置である化合物である。
　また、式（Ｉ’）で示される化合物において、Ｒ６とＲ１３が同じ置換基でない場合、R体及びS体が存在するが、本発明には、ラセミ体及び光学活性体（Ｒ体及びＳ体）のいずれも包含される。
　Ｒ１３が水素である場合、式（Ｉ’）で示される化合物が
式（ＩＩ’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
で示される化合物である場合が好ましい。
式（ＩＩ’）：で示される化合物は、
式（ＩＩ’－Ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
で示される化合物、又は、
式（ＩＩ’－Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
で示される化合物、又はその混合を意味する。特に好ましくは、式（ＩＩ’－Ａ）で示される化合物である。
　上記式（Ｉ’）中のＸ５が単結合である場合、上記式（Ｉ’）は以下の式（Ｉ）で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
　式（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
で示される化合物は、Ｒ４の結合する炭素原子とＲ５の結合する炭素原子において二重結合を形成している。本発明は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
で示される基と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
で示される基が上記二重結合に対してＥ配置である化合物及びＺ配置である化合物を包含する。上記式（Ｉ）中、波線は、上記二重結合に対してＥ配置、Ｚ配置又はその混合を意味する。
　上記式（Ｉ）中の波線が、、上記二重結合に対してＥ配置である場合、上記式（Ｉ）は以下の式（Ｉ－Ｄ）で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
　上記式（Ｉ）中の波線が、、上記二重結合に対してＺ配置である場合、上記式（Ｉ）は以下の式（Ｉ－Ｅ）で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
　好ましくは、上記の各基がＥ配置である化合物である。
　また、式（Ｉ）で示される化合物において、Ｒ６とＲ１３が同じ置換基でない場合、R体及びS体が存在するが、本発明には、ラセミ体及び光学活性体（Ｒ体及びＳ体）のいずれも包含される。
　Ｒ１３が水素である場合、式（Ｉ）で示される化合物が
式（ＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
で示される化合物である場合が好ましい。
式（ＩＩ）：で示される化合物は、
式（ＩＩ－Ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
で示される化合物、又は、
式（ＩＩ－Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
で示される化合物、又はその混合を意味する。特に好ましくは、式（ＩＩ－Ａ）で示される化合物である。
　式（Ｉ’）で示される化合物の一つ以上の水素、炭素及び／又は他の原子は、それぞれ水素、炭素及び／又は他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ２Ｈ、３Ｈ、１１Ｃ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、１８Ｏ、１７Ｏ、３１Ｐ、３２Ｐ、３５Ｓ、１８Ｆ、123Ｉ及び３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素及び塩素が包含される。式（Ｉ’）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ’）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究及び／又は診断のツールとして有用である。
　式（Ｉ’）で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式（Ｉ’）で示されるトリチウム標識化合物は、例えば、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式（Ｉ’）で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下又は非存在下で、式（Ｉ’）で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Ｉｓｏｔｏｐｅｓ　ｉｎ　ｔｈｅ　Ｐｈｙｓｉｃａｌ　ａｎｄ　Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ　Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　（Ｐａｒｔ　Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ　６　（１９８７年）を参照にできる。１４Ｃ－標識化合物は、１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。
　式（Ｉ’）で示される化合物の製薬上許容される塩としては、例えば、式（Ｉ’）で示される化合物と、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、バリウム等）、マグネシウム、遷移金属（例えば、亜鉛、鉄等）、アンモニア、有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等）及びアミノ酸との塩、又は無機酸（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等）、及び有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
　本発明の式（Ｉ’）で示される化合物又はその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）及び／又は結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物及び結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式（Ｉ’）で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。式（Ｉ’）で示される化合物又はその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式（Ｉ’）で示される化合物又はその製薬上許容される塩を、再結晶することでそれらの結晶多形を形成する場合がある。
　本発明の式（Ｉ’）で示される化合物又はその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグも包含する。プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解等を受けて式（Ｉ’）で示される化合物に変換される化合物、胃酸等により加水分解されて式（Ｉ’）で示される化合物に変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法及び製造する方法は、例えばＤｅｓｉｇｎ　ｏｆ　Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，　Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，　Ａｍｓｔｅｒｄａｍ　１９８５に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。
　式（Ｉ’）で示される化合物又はその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えば、ヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライド及びミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。
　プロドラッグに使用する保護基としては、例えば、ＣＨ３ＣＯＯ－、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ－、ｔ－ＢｕＣＯＯ－、Ｃ１５Ｈ３１ＣＯＯ－、ＰｈＣＯＯ－、（ｍ－ＮａＯＯＣＰｈ）ＣＯＯ－、ＮａＯＯＣＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ－、ＣＨ３ＣＨ（ＮＨ２）ＣＯＯ－、ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２ＣＯＯ－、ＣＨ３ＳＯ３－、ＣＨ３ＣＨ２ＳＯ３－、ＣＦ３ＳＯ３－、ＣＨ２ＦＳＯ３－、ＣＦ３ＣＨ２ＳＯ３－、p-ＣＨ３-Ｏ-ＰｈＳＯ３－、ＰｈＳＯ３－、p-ＣＨ３ＰｈＳＯ３－が挙げられる。
　本発明に係る化合物の一般的合成方法を以下に示す。これら合成に用いる出発物質及び反応試薬はいずれも、商業的に入手可能であるか、又は商業的に入手可能な化合物を用いて当分野で周知の方法にしたがって製造することができる。
　本発明に係る式（Ｉ’）で示される化合物のうち、Ｘ５が単結合である本発明に係る式（Ｉ）で示される化合物は、例えば、以下の製法Ａに示す合成ルートによって製造することができる。
製法Ａ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
（式中、Ｙがハロゲンであり、その他の記号は前記と同意義である）
工程１
　式（Ｉａ）で示される化合物と式（Ｉｂ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｃ）で示される化合物を製造する工程である。塩基存在下若しくは金属触媒存在下で行うことができる。
　金属触媒としては、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）二塩化物又はビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウムなどが挙げられ、式（Ｉａ）で示される化合物に対して、０．００１～０．５モル当量を用いることができる。
　塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉａ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程２
　式（Ｉｃ）で示される化合物と還元剤を反応させ、式（Ｉｄ）で示される化合物を製造する工程である。
　還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム等が挙げられ、式（Ｉｃ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、０℃～加熱還流下、好ましくは２０℃～加熱還流下である。
　反応時間は、０．２時間～４８時間、好ましくは１時間～２４時間である。
　反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程３
　式（Ｉｄ）で示される化合物とハロゲン化剤を反応させ、式（Ｉｅ）で示される化合物を製造する工程である。
　ハロゲン化剤としては、三臭化リン、五臭化リン、ヨウ素等が挙げられ、化合物Ｉｄに対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、０℃～加熱還流下、好ましくは２０℃～加熱還流下である。
　反応時間は、０．２時間～４８時間、好ましくは１時間～２４時間である。
　反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程４
　式（Ｉｅ）で示される化合物とトリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト等を反応させ、式（Ｉｆ）で示される化合物を製造する工程である。
　反応温度は、０℃～加熱還流下、好ましくは２０℃～加熱還流下である。
　反応時間は、０．２時間～４８時間、好ましくは１時間～２４時間である。
　反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、トルエン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程５
　式（Ｉｆ）で示される化合物と式（Ｉｇ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｈ）で示される化合物を製造する工程である。塩基存在下で行うことができる。
　塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉｆ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程６
　式（Ｉｈ）で示される化合物と脱保護剤を反応させ、式（Ｉｉ）で示される化合物を得る工程である。
　脱保護剤としては、ヒドラジン、メチルヒドラジン等が挙げられ、式（Ｉｈ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１時間～２４時間、好ましくは１時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、アセトにトリル、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、メタノール、エタノール、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程７
　式（Ｉｉ）で示される化合物から、式（Ｉｊ）で示される化合物を製造する工程である。導入するＲ８によって、各種条件を用いることができる。たとえば、イソシアナート、酸クロライド、混合酸無水物を反応させる方法、縮合剤の存在下、カルボン酸等を反応させる方法、又は金属触媒及び塩基存在下、ハロゲン化アリールやヘテロアリールを反応させる方法などを用いることができる。導入するＲ８がアリール又はヘテロアリールの場合は、金属触媒及び塩基存在下で反応させることができる。
　縮合剤としては、ジシクロへキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド－Ｎ－ヒドロキシベンゾトリアゾール、ＥＤＣ、４－（４，　６－ジメトキシ－１，３，５，－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウムクロリド、ＨＡＴＵ等が挙げられ、式（Ｉｉ）で示される化合物に対して１～５モル当量を用いることができる。
　金属触媒としては、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）二塩化物、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウムなどが挙げられ、式（Ｉｉ）で示される化合物に対して、０．００１～０．５モル当量を用いることができる。
　塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉｉ）で示される化合物Ｉｉに対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
　式（Ｉｊ）で示される化合物は、Ｒ７が水素である式（Ｉ）で示される化合物であり、本発明に係る化合物である。
工程８
　式（Ｉｊ）で示される化合物と式：Ｒ７－Ｙ（式中、Ｒ７は前記と同意義、Ｙはハロゲン）で示される化合物を反応させ、式（Ｉ）で示される化合物を製造する工程である。本工程は、塩基の存在下で行うことができる。
　塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉｊ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　式：Ｒ７－Ｙ（式中、Ｒ７は前記と同意義、Ｙはハロゲン）で示される化合物としては、アルキル化剤等が挙げられる。アルキル化剤としては、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル等が挙げられ、式（Ｉｊ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、アセトにトリル、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
　本発明に係る式（Ｉ’）で示される化合物のうち、Ｒ４及びＲ５が水素原子である式（Ｉ－Ｄ）で示される化合物は、以下に示す製法Ｂによって製造することもできる。
製法Ｂ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
（式中、Ｙがハロゲンであり、Ｚはハロゲン、－Ｏ－Ｔｆ等であり、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニルであり、その他の記号は前記と同意義である）
工程１
　式（Ｉｋ）で示される化合物と式（Ｉｌ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｍ）で示される化合物を製造する工程である。トリフェニルホスフィン及び縮合剤の存在下で行うことができる。
　縮合剤としては、ＤＥＡＤ、ＤＩＡＤ等が挙げられ、式（Ｉｋ）で示される化合物に対して１～５モル当量を用いることができる。
　反応温度は、０℃～６０℃、好ましくは１０℃～４０℃である。
　反応時間は、０．１時間～１２時間、好ましくは０．２時間～６時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、トルエン、アセトニトリル等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程２
　式（Ｉｍ）で示される化合物と式（Ｉｎ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｏ）で示される化合物を製造する工程である。塩基存在下若しくは金属触媒存在下で行うことができる。
　金属触媒としては、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）二塩化物、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムクロリドヒドリドなどが挙げられ、式（Ｉｍ）で示される化合物に対して、０．００１～０．５モル当量を用いることができる。
　塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ＤＢＵ、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉｍ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程３
　式（Ｉａ）で示される化合物と式（Ｉｐ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｑ）で示される化合物を製造する工程である。塩基存在下若しくは金属触媒存在下で行うことができる。
　金属触媒としては、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）二塩化物、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウムなどが挙げられ、式（Ｉａ）で示される化合物に対して、０．００１～０．５モル当量を用いることができる。
　塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉａ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程４
　式（Ｉｑ）で示される化合物と式（Ｉｏ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｒ）で示される化合物を製造する工程である。塩基存在下若しくは金属触媒存在下で行うことができる。
　金属触媒としては、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）二塩化物、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムクロリドヒドリドなどが挙げられ、式（Ｉｑ）で示される化合物に対して、０．００１～０．５モル当量を用いることができる。
　塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉｑ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程５
　式（Ｉｒ）で示される化合物と脱保護剤を反応させ、式（Ｉｓ）で示される化合物を製造する工程である。
　本工程は、製法Ａの工程６と同様に行うことができる。
工程６
　式（Ｉｓ）で示される化合物から、式（Ｉｔ）で示される化合物を製造する工程である。
　本工程は、製法Ａの工程７と同様に行うことができる。
　式（Ｉｔ）で示される化合物は、Ｒ７が水素である式（Ｉ－D）で示される化合物であり、本発明に係る化合物である。
　工程７
　式（Ｉｔ）で示される化合物と式：Ｒ７－Ｙ（式中、Ｒ７は前記と同意義、Ｙはハロゲン）で示される化合物を反応させ、式（Ｉ－D）で示される化合物を製造する工程である。
　本工程は、製法Ａの工程８と同様に行うことができる。
　本発明に係る式（Ｉ’）で示される化合物が式（ＩＩ）で示される化合物である場合、以下に示す製法Ｃによって製造することもできる。
製法Ｃ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
 （式中、Ｙはハロゲン、－Ｏ－Ｔｆ又は－Ｏ－Ｎｆであり、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニルであり、Ｎｆはニトロベンゼンスルホニルであり、その他の記号は前記と同意義である）
工程１
　式（Ｉｂ）で示される化合物と式（Ｉｕ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｖ）で示される化合物を製造する工程である。塩基の存在下で行うことができる。
　塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム、Ｇｒｉｇｎａｒｄ試薬等が挙げられ、好ましくは臭化イソプロピルマグネシウムが用いられる。式（Ｉｂ）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、０℃～６０℃、好ましくは１０℃～４０℃である。
　反応時間は、０．１時間～１２時間、好ましくは０．２時間～６時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、トルエン、アセトニトリル等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程２
　式（Ｉｖ）で示される化合物とＮ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミンを反応させ、式（Ｉｗ）で示される化合物を製造する工程である。縮合剤の存在下で行うことができる。
縮合剤としては、ジシクロへキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド－Ｎ－ヒドロキシベンゾトリアゾール、ＥＤＣ、４－（４，　６－ジメトキシ－１，３，５，－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホリニウムクロリド、ＨＡＴＵ等が挙げられ、式（Ｉｖ）で示される化合物に対して１～５モル当量を用いることができる。
　反応温度は、０℃～６０℃、好ましくは０℃～４０℃である。
　反応時間は、０．１時間～１２時間、好ましくは０．２時間～６時間である。
　反応溶媒としては、ＤＭＦ、ＮＭＰ、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、ジクロロメタン、アセトニトリル等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程３
　式（Ｉｗ）で示される化合物と求核剤を反応させることにより、式（Ｉｘ）で示される化合物を製造する工程である。
　求核剤としては、メチルリチウム、エチルリチウム等のリチウム試薬やメチル臭化マグネシウム、メチル塩化マグネシウム、メチルヨウ化マグネシウム、エチル臭化マグネシウム、エチル塩化マグネシウム、エチルヨウ化マグネシウム等のグリニャール試薬及びこれらと金属塩の混合試薬が挙げられ、化合物（Ｉｗ）に対して、１～５モル当量用いることができる。
反応温度は、－７８℃～溶媒の還流温度、好ましくは－４５℃～０℃である。
　反応時間は、０．５～２４時間、好ましくは１時間～６時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル、トルエン、ジクロロメタン等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程４
　式（Ｉｘ）で示される化合物と式（Ｉｙ）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｚ）で示される化合物を製造する工程である。ルイス酸及び還元剤の存在下で行うことができる。
ルイス酸としては、ヨウ化トリメチルシリル、ＢＢｒ３、ＡｌＣｌ３、ＢＦ３・（Ｅｔ２Ｏ）、ＴｉＣｌ４、Ｔｉ（Ｏ－ｉＰｒ）４等が挙げられ、好ましくはＴｉ（Ｏ－ｉＰｒ）４であり、化合物（Ｉｘ）に対して１～１０モル当量用いることができる。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられ、化合物（Ｉｘ）に対して、１～１０モル当量用いることができる。
反応温度は、－７８℃～溶媒の還流温度である。
　反応時間は、０．５～４８時間、好ましくは１時間～８時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程５
　式（Ｉｚ）で示される化合物と酸を反応させ、式（Ｉａ’）で示される化合物を製造する工程である。
酸としては、塩酸－酢酸エチル、塩酸－メタノール、塩酸－ジオキサン、硫酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。ルイス酸としては、ヨウ化トリメチルシリル、ＢＢｒ３、ＡｌＣｌ３、ＢＦ３・（Ｅｔ２Ｏ）等が挙げられ、化合物（Ｉｚ）に対して１～１０モル当量用いることができる。
　反応温度は、０℃～６０℃、好ましくは０℃～２０℃である。
　反応時間は、０．５時間～１２時間、好ましくは１時間～６時間である。
　反応溶媒としては、メタノール、エタノール、水、アセトン、アセトニトリル、ＤＭＦ等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
工程６
　式（Ｉａ’）で示される化合物から、式（Ｉｂ’）で示される化合物を製造する工程である。
　本工程は、製法Ａの工程７と同様に行うことができる。
　式（Ｉｂ’）で示される化合物は、Ｒ７が水素である式（Ｉ）で示される化合物であり、本発明に係る化合物である。
工程７
　式（Ｉｂ’）で示される化合物と式：Ｒ７－Ｙ（式中、Ｒ７は前記と同意義、Ｙはハロゲン）で示される化合物を反応させ、式（Ｉｃ’）で示される化合物を製造する工程である。
　本工程は、製法Ａの工程８と同様に行うことができる。
工程８
　式（Ｉｃ’）で示される化合物と式（Ｉａ）で示される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で示される化合物を製造する工程である。塩基存在下若しくは金属触媒存在下で行うことができる。
　金属触媒としては、ヨウ化銅、塩化銅、臭化銅、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）二塩化物、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムクロリドヒドリドなどが挙げられ、好ましくはヨウ化銅であり、式（Ｉｃ’）で示される化合物に対して、０．００１～０．５モル当量を用いることができる。
　配位子としては、グリシン、メチルグリシン、ジメチルグリシン、グリシンエステル類、メチルグリシンエステル類、ジメチルグリシンエステル類等が挙げられ、好ましくはジメチルグリシンであり、式（Ｉｃ’）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム等が挙げられ、式（Ｉｃ’）で示される化合物に対して、１～１０モル当量を用いることができる。
　反応温度は、２０℃～溶媒の加熱還流下、場合によってはマイクロウェーブ照射下の温度で行う。
　反応時間は、０．１～４８時間、好ましくは０．５時間～１２時間である。
　反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ＤＭＦ、ジオキサン、水等が挙げられ、単独又は混合して用いることができる。
　本発明に係る式（Ｉ’）で示される化合物のうち、Ｘ５が単結合でない化合物については、実施例５２１に記載の方法に準じて製造することができる。
　本発明に係る化合物は、ＡＣＣ２阻害活性を有する。本発明に係る化合物を含有する医薬組成物は、ＡＣＣ２の関与する疾患の治療剤及び／又は予防剤として有用である。ＡＣＣ２が関与する疾患とは、ＡＣＣ２によって産生されるマロニル－ＣｏＡにより引き起こされる疾患を意味し、具体的には、メタボリックシンドローム、肥満症、糖尿病、インスリン抵抗性、耐糖能異常、糖尿病性末梢神経障害、糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性大血管症、脂質異常症、高血圧症、心血管疾患、動脈硬化症、アテローム性動脈硬化症、心不全、心筋梗塞、感染症、腫瘍等が挙げられる。本発明に係る化合物を含有する医薬組成物は、それら疾患の治療剤及び／又は予防剤として有用である。
　本発明化合物は、ＡＣＣ２阻害作用のみならず、医薬としての有用性を備えており、下記いずれか、あるいは全ての優れた特徴を有している。
ａ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ１Ａ２、ＣＹＰ２Ｃ９、ＣＹＰ２Ｃ１９、ＣＹＰ２Ｄ６、ＣＹＰ３Ａ４等）に対する阻害作用が弱い。
ｂ）高いバイオアベイラビリティー、適度なクリアランス等良好な薬物動態を示す。
ｃ）代謝安定性が高い。
ｄ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ３Ａ４）に対し、本明細書に記載する測定条件の濃度範囲内で不可逆的阻害作用を示さない。
ｅ）変異原性を有さない。
ｆ）心血管系のリスクが低い。
ｇ）高い溶解性を示す。
　本発明の医薬組成物を投与する場合、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することができる。経口投与は常法に従って錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤等の通常用いられる剤型に調製して投与すればよい。非経口投与は、注射剤等の通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することができる。本発明に係る化合物は経口吸収性が高いため、経口剤として好適に使用できる。
　本発明化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬組成物とすることができる。
　本発明の医薬組成物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考慮した上で設定することが望ましいが、成人に経口投与する場合、通常０．０５～１００ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．１～１０ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常０．００５～１０ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．０１～１ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。これを１日１回～数回に分けて投与すれば良い。
　以下に本発明の実施例及び参考例、調製例ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
　また、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
Ａｃ：アセチル
ａｃａｃ：アセチルアセトン
ＢＩＮＡＰ：２，２’－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１’－ビナフチル
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル
Ｂｏｃ２Ｏ：ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジカーボネート
Ｂｕ：ブチル
ＣＤＩ：カルボニルジイミダゾール
ｄｂａ：ジベンジリデンアセトン
ＤＥＡＤ：ジエチルアゾジカルボキシレート
ＤＩＡＤ：ジイソプロピルアゾジカルボキシレート
ＤＩＰＥＡ：Ｎ－エチルジイソプロピルアミン
ＤＭＡＰ：４－ジメチルアミノピリジン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＷＳＣＤ：１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド
Ｅｔ：エチル
ＨＡＴＵ：Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－１，１，３，３－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
ｍＣＰＢＡ：ｍ－クロロ過安息香酸
Ｍｅ：メチル
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＮＢＳ：Ｎ－ブロモスクシイミド
Ｐｄ２（ｄｂａ）３：トリス（ジベンジリデンアセトン）ビスパラジウム
Ｐｈ：フェニル
ＳＥＭ：２－（トリメチルシリル）エトキシメチル
ＴＢＡＦ：テトラブチルアンモニウムフルオリド
ＴＢＳ：ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル
ＴＥＳＨ：トリエチルシラン
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＩＰＳＣｌ：トリイソプロピルシリルクロリド
　各参考例及び実施例で得られたＮＭＲ分析は３００ＭＨｚ若しくは４００ＭＨｚで行い、ＤＭＳＯ－ｄ６、ＣＤＣｌ３等を用いて測定した。
　各参考例及び実施例又は表中に「保持時間」とあるのは、ＬＣ／ＭＳ：液体クロマトグラフィー／質量分析でのリテンションタイムを表し、以下の条件で測定した。
　測定条件１：カラム：Ｇｅｍｉｎｉ－ＮＸ（５μｍ、ｉ．ｄ．４．６ｘ５０ｍｍ）（Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ）
流速：３ｍＬ／分
ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有メタノール溶液
グラジエント：３．５分間で５％－１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
　測定条件2:カラム：Ｓｈｉｍ－ｐａｃｋ　ＸＲ－ＯＤＳ　（２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ）　（Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６　ｍＬ／分
ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％－１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、１分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した
　測定条件3: カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ（Ｒ）ＢＥＨ　Ｃ１８　（１．７μｍ　ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）　（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８　ｍＬ／分
ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３．５分間で１０％－１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
参考例００１　化合物２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
　化合物１(8.00 g, 40.2 mmol、合成法はUS2006/0178400に記載)及び4,4,5,5－テトラメチル－1,3,2－ジオキサボロラン(7.21 mL, 48.2 mmol)に、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ＩＶ)＝クロリド＝ヒドリド(1.04 g, 4.02 mmol)及びトリエチルアミン (0.557 mL, 4.02 mmol)を加え、テトラヒドロフラン(8mL)に溶解させ65℃にて24時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２（9.00g、収率69%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.84-7.78 (m, 2H), 7.72-7.66 (m, 2H), 6.78 (dd, J = 18.0, 5.0 Hz, 1H), 5.51 (dd, J = 18.1, 1.8 Hz, 1H), 5.03-4.94 (m, 1H), 1.62 (d, J = 7.3 Hz, 3H), 1.24 (s, 2H).
参考例００２　化合物６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
　化合物４ (3.0 g, 30.6 mmol)のピリジン(15 mL, 185 mmol)溶液に化合物５(7.45 g, 33.6 mmol)を加え、室温にて５時間攪拌した。2ｍｏｌ／Ｌ-塩酸(100ml)を加え、析出した結晶を濾取した。減圧下60℃にて乾燥させ、化合物６(8.37g, 収率97%)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.42 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 8.10 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.16 (s, 1H), 2.31 (s, 3H).
参考例００３　化合物１０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
工程１　化合物８の合成
　化合物７(1.021 mL, 12.71 mmol)、化合物６ (3.0 g, 10.59 mmol)及びトリフェニルホスフィン (4.17 g, 15.89 mmol)のテトラヒドロフラン(30 mL)溶液を窒素気流下氷冷し、アゾカルボン酸ジエチル（2.2mol/L トルエン溶液,　7.22 mL, 15.89 mmol)を滴下し、滴下終了後室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧留去した。残渣にエタノールを加えて濾取、エタノールにて洗浄し、減圧下60℃にて乾燥させ、化合物８(2.64 g, 収率74 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.44 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 8.15 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 6.40 (s, 1H), 5.32-5.23 (m, 1H), 2.44 (s, 3H), 1.35 (d, J = 7.0 Hz, 3H).
工程２　化合物９の合成
　化合物８ (1.0 g, 2.98 mmol)のDMF (10 ml)溶液に、4-メルカプト安息香酸(920 mg, 5.96 mmol)及び炭酸カリウム(1.65 g, 11.93 mmol)を加え、40℃にて４時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物９(386 mg, 収率86 %)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 5.55 (t, J = 0.7 Hz, 1H), 4.39-4.27 (m, 1H), 3.94 (br s, 1H), 2.30-2.28 (m, 4H), 1.52 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
工程３　化合物１０の合成
　化合物９(300 mg, 1.998 mmol)、4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane (0.359 mL, 2.40 mmol)、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ＩＶ)＝クロリド＝ヒドリド(51.5 mg, 0.200 mmol)及びトリエチルアミン(0.028 mL, 0.200 mmol)のテトラヒドロフラン (1 mL)懸濁液を60℃にて３時間攪拌した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１０(459 mg, 収率83 %)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.60 (dd, J = 18.1, 4.9 Hz, 1H), 5.58 (dd, J = 18.1, 1.6 Hz, 1H), 5.46 (d, J = 0.8 Hz, 1H), 4.16-4.08 (m, 1H), 3.83-3.76 (m, 1H), 2.27 (s, 3H), 1.36-1.23 (m, 15H).
参考例００４　化合物１１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
　上記参考例００２において化合物４のかわりに３－メチルイソキサゾール－５－アミンを用いて得られた化合物を、上記参考例００３の工程１において化合物６の代わり用いて化合物１１を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.51 (dd, J = 18.1, 5.3 Hz, 1H), 5.58 (dd, J = 18.1, 1.4 Hz, 1H), 4.78 (s, 1H), 4.39 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 3.97-3.87 (m, 1H), 2.14 (s, 3H), 1.33 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 1.27 (s, 12H).
参考例００５　化合物１６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
工程１　化合物１４の合成
　化合物１２(7.63 g, 31.4 mmol)及び化合物１３ (5.98 g, 37.7 mmol)のＤＭＦ (20 mL)溶液に炭酸カリウム (5.21 g, 37.7 mmol)を加え、120℃にて6時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１４（9.42g、収率94%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.23 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.11 (s, 1H), 7.00 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.84 (dd, J = 8.9, 3.0 Hz, 1H), 3.81 (s, 3H).
工程２　化合物１５の合成
　窒素雰囲気下、化合物１４ (10.68 g, 33.3 mmol)のジクロロメタン (50 mL) 溶液をドライアイス－アセトンで－７８℃に冷却した。これに1．0ｍｏｌ／Ｌ　三臭化ほう素 (100 mL, 100 mmol)を滴下し、滴下終了後３時間かけて室温まで昇温した。反応液を飽和重曹水中に注ぎ、攪拌した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１５(10.21 g, 収率100 % )を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 10.17 (s, 1H), 7.40 (s, 1H), 7.37 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.82 (dd, J = 8.9, 2.9 Hz, 1H).
工程３　化合物１６の合成
　化合物１５ (6.0 g, 19.57 mmol)のDMF(15 ml)溶液に炭酸カリウム (4.06 g, 29.4 mmol)及び（ブロモメチル）シクロプロパン (2.87 mL, 29.4 mmol)を加え、80℃にて7時間攪拌した。水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６(6.74 g、収率96%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.22 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.11 (s, 1H), 6.99 (d, J =  2.9 Hz, 1H), 6.84 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 3.78 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.33-1.20 (m, 1H), 0.70-0.63 (m, 2H), 0.38-0.32 (m, 2H).
参考例００６　化合物１７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
　参考例００５の工程３の（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりに１－ブロモプロパンを用いることにより化合物１７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.21 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.11 (s, 1H), 6.99 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.83 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 3.90 (t, J = 6.5 Hz, 2H), 1.79-1.83 (m, 2H), 1.03 (t, J = 7.4 Hz, 3H).
参考例００７　化合物１８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに４－メトキシフェノールを用いることにより化合物１８を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.39 (s, 1H), 7.28 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.00 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 3.82 (d, J = 6.8 Hz, 2H), 1.19-1.23 (m, 1H), 0.53-0.60 (m, 2H), 0.30-0.34 (m, , 2H).
参考例００８　化合物１９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに２－フルオロ－４－メトキシフェノールを用いることにより化合物１９を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.43 (t, J = 8.8 Hz, 1H), 7.37 (s, 1H), 7.05 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 6.83 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 3.84 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.19-1.24 (m, 1H), 0.55-0.59 (m, 2H), 0.30-0.35 (m, 2H).
参考例００９　化合物２０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに４－メトキシ－２－メチルフェノールを用いることにより化合物２０を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.12 (s, 1H), 7.07 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.80-6.72 (m, 2H), 3.78 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 2.22 (s, 3H), 1.29-1.22 (m, 1H), 0.68-0.62 (m, 2H), 0.37-0.32 (m, 2H).
参考例０１０　化合物２１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに２－ヒドロキシ－５－メトキシベンズアルデヒドを用いることにより化合物２１を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 10.23 (s, 1H), 7.37 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.28-7.18 (m, 2H), 7.12 (s, 1H), 3.85 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.35-1.22 (m, 1H), 0.70-0.64 (m, 2H), 0.39-0.34 (m, 2H).
参考例０１１　化合物２２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
　化合物２１ (530 mg, 1.50 mmol)のテトラヒドロフラン(6 mL)溶液に２８％アンモニア水溶液 (1.2 mL, 15.5 mmol)及びヨウ素 (418 mg, 1.65 mmol)を加え、室温にて終夜攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２２(323 mg、収率62%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.35 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.18-7.11 (m, 3H), 3.81 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.33-1.22 (m, 1H), 0.71-0.65 (m, 2H), 0.38-0.33 (m, 2H).
参考例０１２　化合物２３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに４－イソプロポキシフェノールを用いることにより化合物２３を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.18-7.13 (m, 3H), 6.92-6.87 (m, 2H), 4.57-4.45 (m, 1H), 1.34 (d, J = 6.0 Hz, 6H).
参考例０１３　化合物２４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに４－エトキシフェノールを用いることにより化合物２４を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.19-7.12 (m, 3H), 6.93-6.88 (m, 2H), 4.02 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 1.42 (t, J = 6.9 Hz, 3H).
参考例０１４　化合物２７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
工程１　化合物２６の合成
　化合物２５ (2.0, 13.8 mmol)のDMF(10 mL)溶液に炭酸カリウム (4.78 g, 34.6 mmol)、（ブロモメチル）シクロプロパン (2.03 mL, 20.8 mmol)を加え、80℃にて8時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２６(470 mg、収率17%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.89 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.83 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.66 (dd, J = 8.8, 2.9 Hz, 1H), 4.56 (s, 1H), 3.81 (d, J = 6.7 Hz, 2H), 1.34-1.21 (m, 1H), 0.65-0.59 (m, 2H), 0.37-0.32 (m, 2H).
工程２　化合物２７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに化合物２６を用いることにより化合物２７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.31 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.14-7.09 (m, 2H), 6.91 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 3.88 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.37-1.25 (m, 1H), 0.69-0.63 (m, 2H), 0.42-0.36 (m, 2H).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
参考例０１５　化合物２９の合成
　化合物２８ (2.0 g, 13.9 mmol)のクロロホルム (100 mL)溶液に、トリエチルアミン(4.24 mL, 30.6 mmol)、Boc2O (3.56 mL, 15.3 mmol)及びDMAP(170 mg, 1.39 mmol)を加え、室温にて終夜攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物２９ (2.29 g、収率68%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.08 (s, 1H), 6.84 (m, 2H), 1.46 (s, 9H).
参考例０１６　化合物３１の合成
工程１　化合物３０の合成
　化合物２９ (1.0 g, 4.10 mmol)のDMF(10 mL)溶液に炭酸カリウム (851 mg, 6.16 mmol)及び（ブロモメチル）シクロプロパン (0.597 mL, 6.16 mmol)を加え、８０℃にて１１時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物３０(702 mg、収率57%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.14 (s, 1H), 6.95 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.70 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 5.12 (s, 1H), 3.00-2.95 (m, 2H), 1.46 (s, 9H), 1.10-1.07 (m, 1H), 0.42-0.47 (m, 2H), 0.21-0.25 (m, 2H).
工程２　化合物３１の合成
　化合物３０ (700 mg, 2.35 mmol)のジクロロメタン(7 mL)溶液にトリフルオロ酢酸 (0.906 mL, 11.75 mmol)を加え、室温にて７時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を減圧留去。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物３１ (472 mg, 収率100 % )を得た。
[M+H]=198、測定条件3：保持時間1.04分
参考例０１７　化合物３２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに上記化合物３１を用いることにより化合物３２を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 10.80 (s, 1H), 7.87 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.69 (s, 1H), 7.51 (s, 1H), 7.37 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 3.88 (s, 2H), 1.52 (m, 1H), 0.90 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 0.61 (m, 2H).
参考例０１８　化合物３５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに２－メチル－３－メトキシフェノールを用い、工程３の（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりに２－ヨードプロパンを用いることにより化合物３５を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.19-7.11 (m, 2H), 6.81-6.75 (m, 2H), 4.58-4.50 (m, 1H), 2.10 (s, 3H), 1.35 (d, J = 5.9 Hz, 6H).
参考例０１９　化合物３６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに２－メチル－３－メトキシフェノールを用いることにより化合物３６を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.20-7.13 (m, 2H), 6.80 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 6.75 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 3.84 (dd, J = 6.6, 1.9 Hz, 2H), 2.15 (s, 3H), 1.32-1.23 (m, 1H), 0.66-0.59 (m, 2H), 0.39-0.33 (m, 2H).
参考例０２０　化合物３７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
　参考例００５の工程１の化合物１２のかわりに２－クロロ－３－メトキシフェノールを用いることにより化合物３７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.23 (t, J = 8.4 Hz, 1H), 7.12 (s, 1H), 6.94 (dd, J = 8.2, 1.2 Hz, 1H), 6.84 (dd, J = 8.5, 1.1 Hz, 1H), 3.91 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.31 (m, 1H), 0.69-0.63 (m, 2H), 0.37-0.42 (m, 2H).
参考例０２１　化合物４１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
工程１　化合物３９の合成
　化合物３８(8.00 g, 33.8 mmol )及び化合物１２ (6.96 g, 43.9 mmol)のＤＭＦ (40 mL)溶液に、炭酸カリウム (6.07 g, 43.9 mmol)を加え、140℃にて12時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物３９（9.32g、収率88%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.15 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.76 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.87 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.84 (dd, J = 8.9, 3.0 Hz, 1H), 3.81 (s, 3H).
工程２　化合物４０の合成
　窒素雰囲気下、化合物３９ (9.0g, 28.6 mmol)のジクロロメタン (100 mL) 溶液をドライアイス－アセトンで－７８℃に冷却した。これに1．0ｍｏｌ／Ｌ　三臭化ほう素 (65 mlL, 65.0 mmol)を滴下し、滴下終了後３時間かけて室温まで昇温した。反応液を飽和重曹水中に注ぎ、攪拌した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物４０(7.53 g, 収率88 % )を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.87 (s, 1H), 8.22 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 8.03 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 7.12 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.04 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.90 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.77 (dd, J = 8.7, 2.8 Hz, 1H).
工程３　化合物４１の合成
　化合物４０ (2.0 g, 6.65 mmol)のDMF (10 mL)溶液に炭酸カリウム (1.38 g, 9.98 mmol)及びヨードエタン (0.807 mL, 9.98 mmol)を加え、50℃にて3時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物４１(2.05 g、収率94%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.16 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.76 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 7.09 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.86 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.83 (dd, J = 8.8, 2.8 Hz, 1H), 4.01 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 1.42 (t, J = 6.9 Hz, 3H).
参考例０２２　化合物４２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
　参考例０２１の工程３のヨードエタンのかわりに（ブロモメチル）シクロプロパンを用いることにより化合物４２を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.35 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.18-7.11 (m, 3H), 3.81 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.33-1.22 (m, 1H), 0.71-0.65 (m, 2H), 0.38-0.33 (m, 2H).
参考例０２３　化合物４３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
　参考例０２１の工程３のヨードエタンのかわりにブロモアセトニトリルを用いることにより化合物４３を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.14 (dd, J = 2.4, 0.6 Hz, 1H), 7.79 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 7.18 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.97-6.89 (m, 2H), 4.77 (s, 2H).
参考例０２４　化合物４４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182
　参考例０２１工程２で得られた化合物４０(500mg, 1.66mmol)、２－フルオロエタノール(0.145 mL, 2.50 mmol)及びトリフェニルホスフィン(655 mg, 2.50 mmol)のテトラヒドロフラン(5 ml)溶液を窒素気流下氷冷し、アゾカルボン酸ジエチル（2.2mol/L トルエン溶液,　1.13 mL 2.50 mmol)を滴下し、滴下終了後室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物４４(479 mg、収率86%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.15 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 7.77 (ddd, J = 8.7, 2.4, 0.9 Hz, 1H), 7.12 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.03 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.90-6.86 (m, 2H), 4.75 (dt, J = 47.3, 4.2 Hz, 2H), 4.21 (dt, J = 27.7, 4.2 Hz, 2H).
参考例０２５　化合物４５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000183
　参考例０２４の工程１の２－フルオロエタノールのかわりに２,２－ジフルオロエタノールを用いることにより化合物４５を得た。
2011-7107-044-01
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.14 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.78 (dd, J = 8.8, 2.5 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.04 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.91-6.86 (m, 2H), 6.08 (tt, J = 54.9, 4.0 Hz, 1H), 4.18 (td, J = 12.9, 4.1 Hz, 2H).
参考例０２６　化合物４６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000184
　化合物３８(2.0 g, 8.44 mmol)及び４－エトキシベンジルアルコール(1.80 g, 11.8 mmol)のトルエン(30 mＬ)溶液に、ジベンゾ－１８－クラウン－６(0.152 mg, 0.422 mmol)及び水酸化カリウム(1.14 g, 20.3 mmol)を加え、１２０℃にて２時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物４６ (2.42 g、収率93%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.20 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.62 (dd, J = 8.8, 2.5 Hz, 1H), 7.38-7.32 (m, 2H), 6.91-6.86 (m, 2H), 6.68 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 5.25 (s, 2H), 4.03 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 1.41 (t, J = 7.0 Hz, 3H).
参考例０２７　化合物４７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに４－エトキシフェノールを用いることにより化合物４７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.20 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 7.73 (ddd, J = 8.7, 2.6, 0.6 Hz, 1H), 7.06-7.00 (m, 2H), 6.93-6.88 (m, 2H), 6.78 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 4.02 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 1.42 (t, J = 7.0 Hz, 3H).
参考例０２８　化合物４８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに３－メトキシフェノールを用いることにより化合物４８を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.24 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 7.76 (dd, J = 8.6, 2.6 Hz, 1H), 7.29 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 6.84-6.67 (m, 4H), 3.80 (s, 3H).
参考例０２９　化合物４９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000187
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに４－イソプロポキシフェノールを用いることにより化合物４９を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.20 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.72 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 7.04-6.99 (m, 2H), 6.92-6.86 (m, 2H), 6.78 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 4.56-4.44 (m, 1H), 1.34 (d, J = 5.9 Hz, 6H).
参考例０３０　化合物５０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000188
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに化合物２６を用いることにより化合物５０を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.19 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 7.75 (dd, J = 8.9, 2.2 Hz, 1H), 7.17 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.97 (dd, J = 8.9, 2.5 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.81 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 3.88 (d, J = 6.7 Hz, 2H), 1.39-1.23 (m, 1H), 0.69-0.63 (m, 2H), 0.41-0.36 (m, 2H).
参考例０３１　化合物５１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000189
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに化合物３１を用いることにより化合物５１を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.19 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 7.72 (dd, J = 8.8, 2.5 Hz, 1H), 7.08 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.92 (dd, J = 8.8, 2.7 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.63 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 4.34 (br s, 1H), 3.00 (d, J = 4.7 Hz, 2H), 1.22-1.10 (m, 1H), 0.63-0.57 (m, 2H), 0.30-0.25 (m, 2H).
参考例０３２　化合物５２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに2－クロロー4－（メトキシメチル）フェノール（合成法はHeterocycles, 1985 , vol. 23, # 6 p. 1483 - 1491に記載）を用いることにより化合物５２を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.20 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.65 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 7.47 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.30 (dd, J = 8.1, 2.0 Hz, 1H), 6.92 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.70 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 5.25 (s, 2H), 3.90 (s, 3H).
参考例０３３　化合物５３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに６－（シクロプロピルメトキシ）ピリジンー３－オール（合成法はWO2010/050445に記載）を用いることにより化合物５３を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.17 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 7.98 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 7.77 (dd, J = 8.9, 2.3 Hz, 1H), 7.39 (dd, J = 8.6, 3.0 Hz, 1H), 6.86 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.81 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 4.12 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.29 (m, 1H), 0.62 (m, 2H), 0.35 (m, 2H).
[M+H]=322、測定条件2：保持時間2.55分
参考例０３４　化合物５４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000192
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに５－メトキシピリジン－３－オールを用いることにより化合物５４を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.20 (dd, J = 5.6, 2.5 Hz, 2H), 8.11 (d, J = 2.03 Hz, 1H), 7.82 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 7.04 (t, J = 2.3 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.6, 1H), 3.86 (s, 3H).
[M+H]=282、測定条件2：保持時間1.74分
参考例０３５　化合物５５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに２－クロロー５－メトキシフェノールを用いることにより化合物５５を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.18 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.76-7.80 (m, 1H), 7.36-7.32 (m, 1H), 6.89 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.78-6.74 (m, 2H), 3.79 (s, 3H).
参考例０３６　化合物５６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに３－クロロー５－メトキシフェノールを用いることにより化合物５６を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.23 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.76-7.80 (m, 1H), 6.85 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.76-6.71 (m, 2H), 6.58-6.56 (m, 1H), 3.78 (s, 3H).
参考例０３７　化合物５７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに２－クロロー３－メトキシフェノールを用いることにより化合物５７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.16 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.77 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 7.27 (t, J = 8.3 Hz, 1H), 6.90-6.81 (m, 3H), 3.93 (s, 3H).
参考例０３８　化合物５９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196
工程１　化合物５８の合成
　化合物３８(3.00 g, 12.7 mmol )及び化合物２８ (2.00 g, 13.9 mmol)のＤＭＦ (10 mL)溶液に、炭酸カリウム (2.10 g, 15.2 mmol)を加え、160℃にて３時間攪拌した。反応液を酢酸エチルにて希釈し不溶物を濾去した。濾液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物５８（1.67 g、収率44%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.16 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.74 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.83 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.59 (dd, J = 8.5, 2.7 Hz, 1H), 3.69 (br s, 2H).
工程２　 化合物５９の合成
　化合物５８ (1.00 g, 3.34 mmol)のジオキサン(10 ml)溶液に、Boc2O (0.930 mL, 4.01 mmol)を加え、６０℃にて７時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物５９ (1.21 g、収率91%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.14 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 7.76 (dd, J = 8.3, 2.1 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 1.7 Hz, 1H), 7.21 (dd, J = 8.9, 2.4 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 6.86 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.48 (br s, 1H), 1.52 (s, 9H).
参考例０３９　化合物６４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
工程１　化合物６１の合成
　化合物６０(2.50 g, 12.1 mmol )のＤＭＦ(25 mL)溶液にベンジルブロマイド (1.57 mL, 13.3 mmol)及び炭酸カリウム (2.17 g, 15.7 mmol)を加え、室温にて３時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物６１ (3.56 g、収率99%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.52 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.45-7.25 (m, 6H), 6.83 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 5.14 (s, 2H).
[M+H]=298、測定条件2：保持時間2.79分
工程２　 化合物６２の合成
　化合物６１ (1.00 g, 3.36 mmol)及びピロリジン(0.281 mL, 3.36 mmol)のトルエン(10 ml)溶液に、t-ブトキシカリウム(0.388g, 4.03 mmol)、Pd2(dba)3(31.0 mg, 0.0336 mmol)及びBINAP(63.0 mg, 0.101 mmol)を加え、窒素置換し、100℃にて４時間攪拌した。水を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を２mol/L-塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物６２ (1.00 g、収率69%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.50-7.25 (m, 5H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.60 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.35 (dd, J = 9.1, 3.0 Hz, 1H), 5.04 (s, 2H), 3.21 (t, J = 6.3 Hz, 4H), 1.96 (m, 4H).
[M+H]=288、測定条件2：保持時間2.86分
工程３　 化合物６３の合成
　化合物６２ (0.960 mg, 3.36 mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)及びエタノール(10mL)の混合溶液に白金-パラジウム／炭素（商品名：ASCA-2、エヌイーケムキャット社製、96.0 mg)を加え、水素雰囲気下7時間攪拌した。触媒を濾去し、濾液を濃縮。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物６３ (154 mg、収率23%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.90 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.51 (s, 1H), 6.42 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 4.89 (s, 1H), 3.20 (m, 4H), 1.99 (m, 4H).
[M+H]=198、測定条件2：保持時間1.25分
工程４　 化合物６４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに工程３で得られた化合物６３を用いることにより化合物６４を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.18 (d, J = 2.5, 1H), 7.73 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 7.03 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.82 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.60 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.46 (dd, J = 8.9, 2.8 Hz, 1H), 3.27 (m, 4H), 2.01 (m, 4H).
[M+H]=354、測定条件2：保持時間2.87分
参考例０４０　化合物６５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199
　参考例０２１の工程１の化合物１２のかわりに2－クロロ－4－プロピルフェノール(
合成法はUS1980966に記載)を用いることにより化合物６５を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.17 (d, J = 2.5, 1H), 7.77 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 7.28 (s, 1H), 7.13-7.08 (m, 2H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 2.58 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.66 (td, J = 15.0, 7.8 Hz, 2H), 0.97 (t, J = 7.8 Hz, 3H).
[M+H]=327、測定条件2：保持時間2.91分
参考例０４１　化合物６８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000200
工程１　化合物６７の合成
　化合物６６(3.00 g, 15.5 mmol )及び化合物１２ (3.20 g, 20.2 mmol)の２－ブタノン(50 mL)溶液に、炭酸カリウム (2.57 g, 18.6 mmol)を加え、100℃にて5時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、析出した結晶を濾取した。乾燥させ化合物６７（4.90 g、収率100%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.81 (s, 2H), 7.32 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.17 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.98 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 3.80 (s, 3H).
工程２　化合物６８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
　参考例０２１の工程２の化合物３９のかわりに化合物６７を用い、工程３のヨードエタンのかわりに（ブロモメチル）シクロプロパンを用いることにより化合物６８を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.55 (d, J = 0.8 Hz, 2H), 7.13 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.85 (dd, J = 8.8, 2.9 Hz, 1H), 3.79 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.34-1.20 (m, 1H), 0.69-0.63 (m, 2H), 0.38-0.32 (m, 2H).
参考例０４２　化合物７０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000202
工程１　 化合物６９の合成
　化合物２８ (3.0 g, 20.9 mmol)のジオキサン (30 mL)溶液に、Ｂｏｃ２Ｏ (5.82 mL, 25.1 mmol)を加え、室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物６９ (6.10 g、収率99%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.71 (s, 1H), 9.17 (s, 1H), 7.46 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.14 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 6.83 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 1.45 (s, 9H).
工程２　化合物７０の合成
　化合物６９(1.54 g, 7.95 mmol)及び化合物６６(3.0 g, 10.34 mmol)の２－ブタノン(20 mL)溶液に炭酸カリウム (1.32 g, 9.55 mmol)を加え、100℃にて４時間攪拌した。溶媒を減圧留去し水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、ろ過。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル－ヘキサン）により精製して化合物７０ (3.15 g、収率97%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.55 (s, 2H), 7.66 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.23 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 7.13 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.63 (s, 1H), 1.52 (s, 9H).
参考例０４３　化合物７４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000203
工程１　化合物７３の合成
　化合物７１(500 mg, 2.12mmol)のテトラヒドロフラン(5 mL)溶液に、イソプロピルマグネシウムブロミド (15%テトラヒドロフラン溶液, 1mol/L, 2.34 mL, 2.34mmol)を加え室温にて2.5時間攪拌後、－３０℃まで冷却し、化合物７２(395 mg, 2.12mmol)のテトラヒドロフラン(5 mL)溶液を滴下し、滴下終了後1時間かけ－10℃まで昇温しながら攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物７３(552 mg, 収率88%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.63 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.75 (dd, J = 8.6, 2.0 Hz, 1H), 7.22 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.78 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 6.15 (d, J = 4.1 Hz, 1), 4.81 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 4.00 (q, J = 7.1Hz, 2H), 1.39 (t, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=342、測定条件2：保持時間2.18分
工程２　化合物７４の合成
　化合物７３(112 mg, 0.327mmol)のトリフルオロ酢酸(2 mL)溶液に、トリエチルシラン (0.106 mL, 0.654mmol)を加え６０℃にて６．５時間攪拌後、反応液を飽和重曹水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物７４(68 mg, 収率64%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.59 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.68 (dd, J = 8.1, 2.5 Hz, 1H), 7.16 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.93 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.77 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1.H), 4.17 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 4.00 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 1.40 (t, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=328、測定条件2：保持時間2.60分
参考例０４４　化合物７６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
工程１　化合物７５の合成
　化合物７３(665 mg, 1.94 mmol)のテトラヒドロフラン(3 mL)溶液に、二酸化マンガン(1.69 g, 19.4 mmol)を加え室温にて２．５時間攪拌した。不溶物を濾去し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物７５(529 mg, 収率80%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.71 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 8.02 (dd, J = 8.1, 2.0 Hz, 1H), 7.96 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.52 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.95 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.88 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 4.09 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 1.44 (t, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=341、測定条件2：保持時間2.44分
工程２　化合物７６の合成
　化合物７５(152 mg, 0.446mmol)にデオキソフロア(0.411 mL, 2.23 mmol)を加え、９０℃にて１０時間攪拌した。反応液に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物７６(131 mg, 収率81%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.62 (s, 1H), 7.96 (dd, J = 8.3, 2.3 Hz, 1H), 7.77 (m, 2H), 6.90 (m, 2H), 4.05 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 1.42 (t, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=362、測定条件2：保持時間2.66分
参考例０４５　化合物８０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000205
工程１　化合物７８の合成
　化合物７７ (3.35 g, 15.75 mmol、合成法はWO2010/050445に記載)のテトラヒドロフラン(20 ml)溶液を窒素気流下氷冷し、三臭化りん (6.30 ml, 6.30 mmol, 1mol/L ジクロロメタン溶液)を滴下し、氷冷のまま３０分攪拌した。反応液を飽和重曹水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をそのまま次工程へ用いた。化合物７８(4.23 g, 収率 93 %)
工程２　化合物８０の合成
　水素化ナトリウム (0.217 g, 5.41 mmol)のDMF (4 ml)懸濁液を窒素気流下氷冷し、化合物７９ (700 mg, 3.61 mmol)を加え、室温にて30分攪拌後、再度氷冷し、化合物７８(1.193 g, 4.33 mmol)のDMF (2.000 ml)溶液を加え、室温にて１時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物８０(1.31 g, 収率93 % )を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.52 (s, 1H), 7.43 (s, 1H), 7.10 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.94 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.79 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 5.34 (s, 2H), 3.78 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.32-1.18 (m, 1H), 0.68-0.62 (m, 2H), 0.37-0.31 (m, 2H).
参考例０４６　化合物８１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000206
　参考例０４５の工程２の化合物７８のかわりに１－（ブロモメチル）－４－（シクロプロピルメトキシ）ベンゼン(合成法はWO2010/127212に記載)を用いることにより化合物８１を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.52 (s, 1H), 7.34 (s, 1H), 7.20-7.14 (m, 2H), 6.91-6.85 (m, 2H), 5.22 (s, 2H), 3.79 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.33-1.20 (m, 1H), 0.67-0.61 (m, 2H), 0.37-0.31 (m, 2H).
参考例０４７　化合物８５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
工程１　化合物８３の合成
　化合物８２ (6.10 g, 30.4 mmol)のＤＭＦ(60 mL)溶液を窒素気流下氷冷し、イミダゾール(8.18g, 121 mmol)及びトリイソプロピルシリルクロリド(14.3 mL, 66.8 mmol)を加え、６０℃にて１０時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物８３(10.2 g, 収率94%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.80 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.94 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 6.77 (dd, J = 8.6, 2.4 Hz, 1H), 4.35 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 1.38 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.32-1.21 (m, 3H), 1.10 (d, J = 7.0 Hz, 18H).
工程２　化合物８４の合成
　化合物８３(7.00 g, 19.6 mmol)のテトラヒドロフラン(20 mＬ)溶液を窒素気流下氷冷し、水素化ホウ素リチウム(1.28 g, 58.8 mmol)を加え、窒素気流下８０℃にて４時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物８４(5.33 g, 収率86%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.27 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 6.90 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 6.77 (dd, J = 8.4, 2.4 Hz, 1H), 4.69 (d, J = 6.4 Hz, 2H), 1.84 (t, J = 6.3 Hz, 1H), 1.31-1.18 (m, 3H), 1.11 (d, J = 7.0 Hz, 18H).
工程３　化合物８５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
　参考例０４５の工程１の化合物７７のかわりに化合物８４を用いることにより化合物８５を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.53 (s, 1H), 7.43 (s, 1H), 6.99 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.92 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 6.74 (dd, J = 8.5, 2.5 Hz, 1H), 5.33 (s, 2H), 1.33-1.18 (m, 3H), 1.09 (d, J = 7.0 Hz, 18H).
参考例０４８　化合物８６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
　参考例０２１の工程１の化合物３８のかわりに２，５－ジブロモ－３－ピコリンを用い、工程３のヨードエタンの変わりに（ブロモメチル）シクロプロパンを用いることにより化合物８６を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.94 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.61 (d, J = 1.7 Hz, 1H), 7.09 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.84 (dd, J = 8.8, 3.0 Hz, 1H), 3.78 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 2.37 (s, 3H), 1.33-1.20 (m, 1H), 0.69-0.63 (m, 2H), 0.37-0.32 (m, 2H).
参考例０４９　化合物８７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
　参考例０２１の工程１の化合物３８のかわりに３，６－ジクロロピリダジンを用い、工程３のヨードエタンの変わりに（ブロモメチル）シクロプロパンを用いることにより化合物８７を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.96 (d, J = 9.3 Hz, 1H), 7.65 (d, J = 9.3 Hz, 1H), 7.33 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.16 (s, 1H), 6.99 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 3.85 (d, J = 6.8 Hz, 2H), 1.20-1.24 (m, 1H), 0.55-0.59 (m, 2H), 0.30-0.34 (m, 2H).
参考例０５０　化合物８９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211
工程１　化合物８８の合成
　化合物１２(2.00 g, 12.6 mmol)、１,４－ジヨードベンゼン(8.32 g, 25.2 mmol)のジオキサン(20 mＬ)溶液に炭酸セシウム(8.22 g, 25.2 mmol)、ヨウ化銅(0.240 g, 1.26 mmol)、Ｎ，Ｎ－ジメチルグリシン塩酸塩(0.176 g, 1.26 mmol)を加え、100℃にて１２時間攪拌した。クロロホルムにて希釈し、不溶物を濾去。濾液を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物８８(3.16 g, 収率70%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.58-7.53 (m, 2H), 7.02-6.97 (m, 2H), 6.80 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.66-6.61 (m, 2H), 3.81 (s, 3H).
工程２　化合物８９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212
　参考例０２１の工程２の化合物３９のかわりに化合物８８を用い、工程３のヨードエタンの変わりに（ブロモメチル）シクロプロパンを用いることにより化合物８９を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.59-7.53 (m, 2H), 7.00-6.96 (m, 2H), 6.80 (dd, J = 8.8, 2.9 Hz, 1H), 6.66-6.61 (m, 2H), 3.78 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.32-1.22 (m, 1H), 0.70-0.63 (m, 2H), 0.38-0.33 (m, 2H).
参考例０５１　化合物９０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213
　参考例０５０の工程１の１,４－ジヨードベンゼンのかわりに１－ブロモ－２－フルオロ－４－ヨードベンゼンを用いることにより化合物９０を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.41 (t, J = 8.2 Hz, 1H), 7.04-6.99 (m, 2H), 6.82 (dd, J = 8.8, 2.9 Hz, 1H), 6.65-6.55 (m, 2H), 3.79 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.34-1.21 (m, 1H), 0.71-0.63 (m, 2H), 0.40-0.33 (m, 2H).
参考例０５２　化合物９９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000214
工程１　化合物９３の合成
　化合物９１(2.06 g, 8.87 mmol)のテトラヒドロフラン(20 mL)溶液を窒素気流下氷冷し、化合物９２(1.32 mL, 9.76 mmol)を滴下し、室温にて３０分攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をジイソプロピルエーテルに懸濁させ、析出した固体を濾取した。得られた固体を精製することなく次工程へ進めた。
工程２　化合物９４の合成
　化合物９３(3.43 g, 8.83 mmol)のメタノール(30 mL)懸濁液に１mol/Lナトリウムメトキシド溶液(メタノール溶液)を加え、窒素気流下８０℃にて４８時間攪拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣を酢酸エチル／ジイソプロピルエーテルにて濾取した。得られた固体を精製することなく次工程へ進めた。
工程３　化合物９６の合成
　化合物９４(1.90 g, 6.68 mmol)のエタノール(20 mL)懸濁液に化合物９５(1.54 mL, 10.0 mmol)、２mol/L-塩酸(0.334 mL, 0.668 mmol)を加え、１００℃にて４時間攪拌した。飽和重曹水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物９６(1.12 g, 収率54%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.82 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.46-7.29 (m, 6H), 6.88-6.82 (m, 2H), 6.66 (d, J = 3.5 Hz, 1H), 5.04 (s, 2H), 4.10 (t, J = 8.5 Hz, 2H), 3.26 (t, J = 8.5 Hz, 2H).
工程４　化合物９７の合成
　化合物９６(880 mg, 2.85 mmol)のトリフルオロ酢酸(3mL, 38.9 mmol)溶液を８０℃にて３０時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物９７(490 mg, 収率79%)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.47 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 7.41 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 6.79-6.70 (m, 3H), 4.31 (t, J = 8.5 Hz, 2H), 3.27 (t, J = 8.4 Hz, 2H).
工程５　化合物９８の合成
　化合物９７ (480 mg, 2.20 mmol)のアセトニトリル(5 mL)溶液に炭酸カリウム (608 mg, 4.40 mmol)及び（ブロモメチル）シクロプロパン (0.323 mL, 3.30 mmol)を加え、100℃にて16時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物９８(344 mg、収率57%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.80 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.37 (d, J = 3.7 Hz, 1H), 6.82-6.74 (m, 2H), 6.65 (d, J = 3.7 Hz, 1H), 4.10 (t, J = 8.6 Hz, 2H), 3.77 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 3.25 (t, J = 8.5 Hz, 2H), 1.33-1.20 (m, 1H), 0.67-0.61 (m, 2H), 0.37-0.32 (m, 2H).
工程６　化合物９９の合成
　化合物９８ (343 mg, 1.26 mmol)のDMF(2 mL)溶液にＮ－ブロモスクシイミド(247 mg, 1.39 mmol)を加え、室温にて３時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物９９(270 mg、収率61%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.67 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.23 (s, 1H), 6.81 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.74 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 4.03 (t, J = 8.5 Hz, 2H), 3.77 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 3.25 (t, J = 8.5 Hz, 2H), 1.32-1.19 (m, 1H), 0.67-0.61 (m, 2H), 0.38-0.30 (m, 2H).
参考例０５３　化合物１０２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215
工程１　化合物１０１の合成
　化合物１００(4.00 g, 12.2 mmol, 合成法はWO2007/107346に記載)及び化合物２ (3.96 g, 12.2 mmol)のエタノール (13 mL)溶液に2ｍｏｌ／Ｌ-炭酸ナトリウム水溶液 (12.2 mL, 24.4 mmol)を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド (0.858 g, 1.22 mmol)を加えてマイクロウェーブを照射し、８０℃にて２０分反応させた。反応液をクロロホルム(26 mL)にて稀釈し、ＷＳＣＤ (3.52 g, 18.3 mmol)を加え、室温にて１時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物101(3.78 g、収率78%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.86 (dd, J = 5.5, 3.0 Hz, 2H), 7.74 (dd, J = 5.0, 3.0 Hz, 2H), 7.63 (s, 1H), 7.56 (s, 1H), 6.49 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 6.41 (dd, J = 15.9, 7.3 Hz, 1H), 5.39 (s, 2H), 5.07 (m, 1H), 3.55 (m, 2H), 1.68 (d, J = 7.1 Hz, 3H), 0.92 (t, J = 8.3 Hz, 2H), 0.03 (s, 9H).
[M+H]=398、測定条件2：保持時間2.59分
工程２　化合物１０２の合成
　化合物１０１(3.78 g, 9.51 mmol)にトリフルオロ酢酸(20 mL)を加え、室温にて１時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣にメタノール(10 mL)、トリフルオロ酢酸(20 mL)を加え、５０℃にて３．５時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物10２(2.06 g、収率81%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 12.75 (s, 1H), 7.61-7.88 (m, 6H), 6.42 (d, J = 16.2 Hz, 1.0H), 6.24 (dd, J = 16.0, 6.3 Hz, 1H), 4.94 (m, 1H), 1.57 (d, J = 7.1 Hz, 3H).
参考例０５４　化合物１０４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
　参考例０４５の工程１の化合物７７のかわりに化合物１０３(合成法はWO2010/050445)を用いることにより化合物１０４を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.29-7.22 (m, 1H), 6.69-6.56 (m, 2H), 4.50 (s, 2H), 3.77 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.32-1.19 (m, 1H), 0.70-0.61 (m, 2H), 0.39-0.31 (m, 2H).
参考例０５５　化合物１０７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
工程１　化合物１０６の合成
　化合物１０５(1.00 g, 4.93 mmol)をシクロプロパンカルビノール(3.00 mL,　37.0 mmol) に溶解させ、炭酸セシウム(3.21 g, 9.85 mmol)を加え、マイクロウェーブを照射し、１８０℃にて８０分反応させた。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１０６(496 mg、収率39%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.33 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 6.85 (dd, J = 8.5, 2.5 Hz, 1H), 4.67 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 3.78 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.91 (t, J = 6.3 Hz, 1H), 1.33-1.19 (m, 1H), 0.68-0.62 (m, 2H), 0.40-0.29 (m, 2H).
工程２　化合物１０７の合成
　参考例０４５の工程１の化合物７７のかわりに化合物１０６を用いることにより化合物１０７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.33 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.82 (dd, J = 8.5, 2.6 Hz, 1H), 4.59 (s, 2H), 3.78 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.32-1.17 (m, 1H), 0.71-0.61 (m, 2H), 0.38-0.30 (m, 2H).
参考例０５６　化合物１１１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
工程１　化合物１０９の合成
　化合物１０８ (500 mg, 2.62 mmol)のDMF(5 mL)溶液に炭酸カリウム (724 mg, 5.24 mmol)及び（ブロモメチル）シクロプロパン (0.384 mL, 3.393 mmol)を加え、８０℃にて２時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１０９(647 mg、収率100%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 10.41 (s, 1H), 6.90 (s, 2H), 3.87 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.27 (s, 1H), 0.69 (q, J = 6.4 Hz, 2H), 0.37 (q, J = 5.1 Hz, 2H).
[M+H]=245.15、測定条件2：保持時間2.40分
工程２　化合物１１０の合成
　化合物１０９ (645 mg, 2.63 mmol)のメタノール(5 mL)溶液に水素化ホウ素ナトリウム (149 mg, 3.95 mmol)を加え、室温にて２時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１１０(629 mg、収率97%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.88 (s, 2H), 4.88 (d, J = 4.1 Hz, 2H), 3.78 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.21-1.28 (m, 1H), 0.66 (q, J = 6.3 Hz, 2H), 0.35 (q, J = 5.1 Hz, 2H).
工程３　化合物１１１の合成
　参考例０４５の工程１の化合物７７のかわりに化合物１１０を用いることにより化合物１１１を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.88 (s, 2H), 4.73 (s, 2H), 3.78 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.21-1.27 (m, 1H), 0.66 (q, J = 6.3 Hz, 2H), 0.34 (q, J = 5.1 Hz, 2H).
参考例０５７　化合物１１４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
工程１　化合物１１３の合成
　化合物１１２ (1.00 g, 7.24 mmol)のＤＭＦ(10 mL)溶液に炭酸カリウム (2.00 g, 14.5 mmol)及び（ブロモメチル）シクロプロパン (1.06 mL, 10.9 mmol)を加え、８０℃にて５．５時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１１３(874 mg、収率63%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.1 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.86 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 3.83-3.77 (m, 4H), 2.80 (t, J = 6.3 Hz, 2H), 1.21-1.31 (m, 1H), 0.64 (q, J = 6.3 Hz, 2H), 0.34 (q, J = 5.1 Hz, 2H).
工程２　化合物１１４の合成
　参考例０４５の工程１の化合物７７のかわりに化合物１１３を用いることにより化合物１１４を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.11 (d, J = 8.6 Hz, 2.H), 6.85 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 3.78 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 3.52 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 3.09 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.21-1.31 (s, 1H), 0.64 (q, J = 6.2 Hz, 2H), 0.34 (q, J = 5.1 Hz, 2H).
参考例０５８　化合物１１９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
工程１　化合物１１６の合成
　化合物１１５ (1.00 g, 6.39 mmol)のＤＭＦ(10 mL)溶液に炭酸カリウム (1.77 g, 12.8 mmol)及びヨードエタン (0.542 mL, 6.71 mmol)を加え、８０℃にて２．５時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１１６(1.10 g、収率93%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 10.2 (s, 1H), 7.82 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.15 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 7.07 (t, J = 4.3 Hz, 1H), 4.18 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 1.35 (t, J = 6.8 Hz, 3H).
工程２　化合物１１７の合成
　化合物１１６ (1.10 g, 5.96 mmol)のジクロロメタン(10 mL)溶液にメタクロロ過安息香酸(2.27 g, 8.94 mmol)を加え、室温にて１８時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した。得られた残渣のメタノール(10 mL)溶液に２N水酸化ナトリウム水溶液(8.94 mL, 17.9 mmol)を加え、室温で１時間撹拌した。水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１１７(0.867 g、収率84%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 6.90 (dd, J = 19.3, 5.6 Hz, 2H), 6.74 (dd, J = 8.9, 2.8 Hz, 1H), 5.20 (s, 1H), 3.95 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.38 (t, J = 7.1 Hz, 3H).
工程３　化合物１１９の合成
　化合物１１７ (0.194 g, 1.12 mmol)のＤＭＦ(2.0 mL)溶液に化合物１１８ (0.282 g, 1.12 mmol)、炭酸カリウム (0.202 g, 1.46 mmol)、を加え、室温にて一晩攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１１９(0.338 g,、収率88%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.63 (d, J = 2.03 Hz, 1H), 7.86 (dd, J = 8.36, 2.28 Hz, 1H), 7.56 (d, J = 8.11 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 3.04 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 9.12 Hz, 1H), 6.73 (dd, J = 9.12, 3.04 Hz, 1H), 5.15 (s, 2H), 3.97 (q, J = 6.93 Hz, 2H), 1.39 (t, J = 7.10 Hz, 3H).
[M+H]=343、測定条件2：保持時間2.65分
実施例００１　化合物Ｉ－１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000221
工程１　化合物１２０の合成
　参考例００５の化合物１６ (10.0 g, 27.7 mmol)及び参考例００１の化合物２(10.9 g, 33.3 mmol)のエタノール (80 mL)溶液に2ｍｏｌ／Ｌ-炭酸ナトリウム水溶液 (27.7 mL, 55.5 mmol)を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド (1.95 g, 2.77 mmol)を加えて80℃にて1.5時間攪拌した。反応液をCHCl3 (160 ml)にて稀釈し、ＷＳＣＤ (7.97 g, 41.6 mmol)を加え、室温にて１時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１２０(12.0 g、収率87%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.83-7.79 (m, 2H), 7.73-7.68 (m, 2H), 7.21 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.01 (s, 1H), 6.98 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.83 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.57 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 6.15 (dd, J = 15.7, 7.6 Hz, 1H), 5.05-4.96 (m, 1H), 3.78 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.62 (d, J = 7.2 Hz, 3H), 1.29-1.23 (m, 1H), 0.70-0.62 (m, 2H), 0.38-0.32 (m, 2H).
工程２　化合物１２１の合成
　化合物１２０(12.0 g, 24.20 mmol)のジクロロメタン (90 mL)溶液にヒドラジン一水和物 (11.76 mL, 242 mmol)及びＥｔＯＨ(15 mL)を加えて６０℃にて１．５時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、飽和重曹水を加え、攪拌した後、クロロホルムにて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、濾過した。濾液を濃縮した。減圧下乾燥させ化合物１２１（8.49 g, 収率100%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.23 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 6.99 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.98 (s, 1H), 6.84 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.45 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.80 (dd, J = 15.6, 6.5 Hz, 1H), 3.79 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 3.64-3.55 (m, 1H), 1.32-1.21 (m, 1H), 1.21 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 0.69-0.63 (m, 2H), 0.38-0.33 (m, 2H).
工程３　化合物Ｉ－１の合成
　化合物１２１ (5.0 g, 14.25 mmol)のテトラヒドロフラン(50 mL)溶液を、窒素気流下氷冷し、ピリジン (1.73 mL, 21.4 mmol)及び塩化アセチル (1.53 mL, 21.4 mmol)を加え、１０分間攪拌した。反応液にメタノール(20mL)を加えて、溶媒を減圧留去した。残渣に0.2ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチル抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－１(5.12 g、収率91%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.93 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.20 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 7.18 (s, 1H), 6.99 (dd, J = 8.9, 3.0 Hz, 1H), 6.49 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 5.78 (dd, J = 15.8, 5.4 Hz, 1H), 4.46-4.35 (m, 1H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.81 (s, 3H), 1.27-1.16 (m, 1H), 1.14 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例００２　化合物Ｉ－２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物１７を用いることにより化合物Ｉ－２を得た。[M+H]=381、測定条件2：保持時間2.30分 
実施例００３　化合物Ｉ－３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000223
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物１８を用いることにより化合物Ｉ－３を得た。[M+H]=359、測定条件2：保持時間2.09分 
実施例００４　化合物Ｉ－４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物１９を用いることにより化合物Ｉ－４を得た。[M+H]=377、測定条件2：保持時間2.16分 
実施例００５　化合物Ｉ－５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物２０を用いることにより化合物Ｉ－５を得た。[M+H]=373、測定条件2：保持時間2.17分 
実施例００６　化合物Ｉ－６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物２２を用いることにより化合物Ｉ－６を得た。[M+H]=384、測定条件2：保持時間2.08分 
実施例００７　化合物Ｉ－７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物３７を用いることにより化合物Ｉ－７を得た。[M+H]=393、測定条件2：保持時間2.19分 
実施例００８　化合物Ｉ－８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物３６を用いることにより化合物Ｉ－８を得た。[M+H]=373、測定条件2：保持時間2.27分 
実施例００９　化合物Ｉ－９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物３５を用いることにより化合物Ｉ－９を得た。[M+H]=361、測定条件2：保持時間2.23分 
実施例０１０　化合物Ｉ－１０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物３２を用いることにより化合物Ｉ－１０を得た。[M+H]=392、測定条件2：保持時間2.30分 
実施例０１１　化合物Ｉ－１１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物２４を用いることにより化合物Ｉ－１１を得た。[M+H]=333、測定条件2：保持時間1.90分 
実施例０１２　化合物Ｉ－１２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物２７を用いることにより化合物Ｉ－１２を得た。[M+H]=393、測定条件2：保持時間2.26分 
実施例０１３　化合物Ｉ－１３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
工程１ 化合物１３４の合成
　化合物４１ (1.50 g, 4.56 mmol)及び化合物２ (1.79 g, 5.48 mmol)のエタノール (12 mL)溶液に2ｍｏｌ／Ｌ-炭酸ナトリウム水溶液 (4.56 mL, 9.13 mmol)を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド (0.320 g, 0.456 mmol)を加えてマイクロウェーブを照射し、80℃にて20分反応させた。反応液をクロロホルム(24mL)にて稀釈し、ＷＳＣＤ (1.31 g, 6.85 mmol)を加え、室温にて１時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１３４(2.23 g、収率98%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.05 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.84-7.81 (m, 2H), 7.76 (dd, J = 8.3, 2.4 Hz, 1H), 7.71-7.68 (m, 2H), 7.08 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.87 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.82 (dd, J = 8.9, 3.0 Hz, 1H), 6.54-6.53 (m, 2H), 5.12-5.03 (m, 1H), 4.01 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 1.66 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.41 (t, J = 7.0 Hz, 3H).
工程２　化合物１３５の合成
　化合物１３４(2.2 g, 4.41 mmol)のクロロホルム (20 mL)溶液に40%メチルアミン-メタノール溶液 (10.0 mL, 116 mmol)を加えて室温にて終夜攪拌した。濃縮し、残渣を酢酸エチル-ヘキサンに懸濁させ，不溶物を濾去した。濃縮し、そのまま次工程へと進めた。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.06 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.73 (dd, J = 8.7, 2.3 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.83 (dd, J = 9.1, 2.8 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 6.13 (dd, J = 15.9, 6.6 Hz, 1H), 4.01 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 3.71-3.62 (m, 1H), 1.42 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 1.25 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
工程３　化合物Ｉ－１３の合成
　化合物１３５ (1.41 g, 4.41 mmol)のテトラヒドロフラン(15 mL)溶液を、窒素気流下氷冷し、ピリジン (0.535 mL, 6.62 mmol)及び塩化アセチル (0.472 mL, 6.62 mmol)を加え、10分間攪拌した。反応液にメタノール(20mL)を加えて、溶媒を減圧留去。0.2ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチル抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－１３ (1.08 g、収率68%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.06 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 8.00-7.92 (m, 2H), 7.20 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.23 (dd, J = 16.1, 5.4 Hz, 1H), 4.55-4.43 (m, 1H), 4.05 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.33 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 1.20 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
実施例０１４　化合物Ｉ－１４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４２を用いることにより化合物Ｉ－１４を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.06 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.99-7.93 (m, 2H), 7.19 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.99 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 9.0, 3.0 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.23 (dd, J =16.2, 5.1 Hz, 1H), 4.53-4.44 (m, 1H), 3.84 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.27-1.18 (m, 1H), 1.19 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.35-0.30 (m, 2H). 
実施例０１５　化合物Ｉ－１５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４６を用いることにより化合物Ｉ－１５を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.15 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.84 (dd, J = 8.6, 2.4 Hz, 1H), 7.35 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.90 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.80 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 16.3 Hz, 1H), 6.19 (dd, J = 16.1, 5.5 Hz, 1H), 5.24 (s, 2H), 4.55-4.44 (m, 1H), 4.01 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.31 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 1.20 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
実施例０１６　化合物Ｉ－１６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４７を用いることにより化合物Ｉ－１６を得た。 
[M+H]=327、測定条件2：保持時間1.93分 
実施例０１７　化合物Ｉ－１７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000237
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４８を用いることにより化合物Ｉ－１７を得た。
[M+H]=313、測定条件2：保持時間1.79分 
実施例０１８　化合物Ｉ－１８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000238
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物３９を用いることにより化合物Ｉ－１８を得た。 
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.06 (d, J = 2.3 Hz, 1H), 8.00-7.94 (m, 2H), 7.22 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.01 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 6.95 (dd, J = 8.8, 2.9 Hz, 2H), 6.40 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.23 (dd, J = 16.2, 5.4 Hz, 1H), 4.54-4.43 (m, 1H), 3.79 (s, 3H), 1.83 (s, 3H), 1.20 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
実施例０１９　化合物Ｉ－１９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000239
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４４を用いることにより化合物Ｉ－１９を得た。 
[M+H]=379、測定条件2：保持時間1.90分 
実施例０２０　化合物Ｉ－２０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000240
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４３を用いることにより化合物Ｉ－２０を得た。
[M+H]=372、測定条件2：保持時間1.80分 
実施例０２１　化合物Ｉ－２１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000241
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４５を用いることにより化合物Ｉ－２１を得た。
[M+H]=397、測定条件2：保持時間1.97分 
実施例０２２　化合物Ｉ－２２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000242
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物８６を用いることにより化合物Ｉ－２２を得た。
[M+H]=401、測定条件2：保持時間2.43分 
実施例０２３　化合物Ｉ－２３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000243
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５０を用いることにより化合物Ｉ－２３を得た。 
[M+H]=387、測定条件2：保持時間2.24分 
実施例０２４　化合物Ｉ－２４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000244
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５１を用いることにより化合物Ｉ－２４を得た。 
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.09 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.98 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.91 (dd, J = 8.7, 2.1 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 6.95-6.89 (m, 2H), 6.75 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.22 (dd, J = 16.0, 5.3 Hz, 1H), 5.12 (t, J = 5.6 Hz, 1H), 4.55-4.42 (m, 1H), 3.01 (t, J = 6.1 Hz, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.23-1.07 (m, 4H), 0.51-0.44 (m, 2H), 0.29-0.22 (m, 2H).
実施例０２５　化合物Ｉ－２５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000245
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５２を用いることにより化合物Ｉ－２５を得た。 
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.09 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.64 (dd, J = 8.6, 2.0 Hz, 1H), 7.48 (s,  1H), 7.31 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.74 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.44 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.06 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.43 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 5.28 (s, 2H), 4.74 (dd, J = 13.4, 6.3 Hz, 1H), 3.90 (s, 3H), 2.02 (s, 3H), 1.34 (d, J = 6.6 Hz, 3H).
[M+H]=361、測定条件2：保持時間2.00分
実施例０２６　化合物Ｉ－２６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000246
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物４９を用いることにより化合物Ｉ－２６を得た。 
[M+H]=341、測定条件2：保持時間2.01分
実施例０２７　化合物Ｉ－２７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000247
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５５を用いることにより化合物Ｉ－２７を得た。 
[M+H]=347、測定条件2：保持時間1.91分
実施例０２８　化合物Ｉ－２８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000248
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５６を用いることにより化合物Ｉ－２８を得た。 
[M+H]=347、測定条件2：保持時間2.04分
実施例０２９　化合物Ｉ－２９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000249
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５７を用いることにより化合物Ｉ－２９を得た。 
[M+H]=347、測定条件2：保持時間1.84分
実施例０３０　化合物Ｉ－３０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000250
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物６５を用いることにより化合物Ｉ－３０を得た。 
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.07 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.72 (dd, J = 8.4, 2.3 Hz, 1H), 7.28 (s, 1H), 7.10 (d, J = 1.0 Hz, 2H), 6.89 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.44 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.09 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.44 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.76-4.69 (m, 1H), 2.58 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.01 (s, 3H), 1.66 (td, J = 15.0, 7.3 Hz, 2H), 1.33 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 0.97 (t, J = 7.3 Hz, 3H).
[M+H]=359、測定条件2：保持時間2.37分
実施例０３１　化合物Ｉ－３１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000251
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５９を用いることにより化合物Ｉ－３１を得た。
[M+H]=432、測定条件2：保持時間2.17分
実施例０３２　化合物Ｉ－３２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000252
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物６４を用いることにより化合物Ｉ－３２を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.08 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.69 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 7.05 (d, J = 9.1 Hz, 1H), 6.83 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.60 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.50-6.40 (m, 2H), 6.07 (dd, J = 16.0, 5.8 Hz, 1H), 5.45 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.73 (m, 1H), 3.27 (t, J = 6.3 Hz, 4H), 2.01 (t, J = 6.3 Hz, 4H), 2.01 (s, 3H), 1.32 (d, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=386、測定条件2：保持時間2.27分
実施例０３３　化合物Ｉ－３３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000253
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５３を用いることにより化合物Ｉ－３３を得た。 
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.07 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.99 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 7.72 (dd, J = 8.3, 2.4 Hz, 1H), 7.41 (dd, J = 8.9, 2.8 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.81 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.44 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.10 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.46 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 4.74 (m, 1H), 4.12 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 2.02 (s, 3H), 1.29 (m, 1H), 1.34 (d, J = 7.1 Hz, 3H), 0.62 (m, 2H), 0.35 (m, 2H).
[M+H]=354、測定条件2：保持時間1.96分
実施例０３４　化合物Ｉ－３４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000254
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物５４を用いることにより化合物Ｉ－３４を得た。 
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.17 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 8.11 (s, 2H), 7.76 (dd, J = 8.6, 2.0 Hz, 1H), 7.05 (t, J = 2.3 Hz, 1H), 6.93 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.46 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 6.13 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.51 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.75 (m, 1H), 3.86 (s, 3H), 2.02 (s, 3H), 1.34 (d, J = 6.6 Hz, 3H).
[M+H]=314、測定条件2：保持時間1.25分
実施例０３５　化合物Ｉ－３５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000255
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物１１９を用いることにより化合物Ｉ－３５を得た。 
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.53 (s, 1H), 7.72 (d, J = 8.1Hz, 1H), 7.57 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.71 (dd, J = 9.1, 2.5 Hz, 1H), 6.50 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.24 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.46 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 5.19 (s, 2H), 4.77 (m, 1H), 3.96 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 2.03 (s, 3H), 1.39 (d, J = 7.1 Hz, 3H), 1.36 (t, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=375、測定条件2：保持時間1.94分
実施例０３６　化合物Ｉ－３６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000256
工程１　化合物１５９の合成
　参考例０２１の化合物４０ (1.00 g, 3.33 mmol)のＤＭＦ（1mL）溶液にイミダゾール(0.453 g, 6.65 mmol)及びＴＢＳ－Ｃｌ(0.620 g, 3.99 mmol)を加え、室温にて終夜攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１５９（1.27g、収率92%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.17 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 7.78-7.74 (m, 1H), 7.04 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 6.94 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.84 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.76 (dd, J = 8.8, 2.8 Hz, 1H), 0.99 (d, J = 0.8 Hz, 9H), 0.23 (d, J = 0.8 Hz, 6H).
工程２　化合物１６０の合成
　化合物１５９ (830 mg, 2.00 mmol)及び化合物２ (786 mg, 2.40 mmol)のエタノール (6 mL)溶液に2ｍｏｌ／Ｌ-炭酸ナトリウム水溶液 (2.00 ml, 4.00 mmol)を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド (140 mg, 0.200 mmol)を加えてマイクロウェーブを照射し、８０℃にて２０分反応させた。反応液をクロロホルム(12mL)にて稀釈し、ＷＳＣＤ (575 mg, 3.00 mmol)を加え、室温にて１時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６０(530 mg、収率63%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.05 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.86-7.79 (m, 3H), 7.74-7.67 (m, 2H), 7.00 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.95 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.66 (dd, J = 8.8, 3.0 Hz, 1H), 6.62-6.49 (m, 2H), 5.13-5.04 (m, 1H), 1.67 (d, J = 7.2 Hz, 3H).
工程３　化合物１６１の合成
　化合物１６０ (105 mg, 0.225 mmol)のDMF (2 mL)溶液に炭酸セシウム (88.0 mg, 0.269 mmol),　１－ブロモ－２－メチルプロパン (0.0370 mL, 0.337 mmol)を加え、50℃にて3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６１(54.4 mg、収率51%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.05 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.84-7.68 (m, 5H), 7.08 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.88 (s, 1H), 6.82 (dd, J = 8.8, 2.9 Hz, 1H), 6.59-6.48 (m, 2H), 5.12-5.03 (m, 1H), 3.69 (d, J = 6.4 Hz, 2H), 2.12-2.03 (m, 1H), 1.66 (d, J = 7.2 Hz, 3H), 1.02 (d, J = 6.7 Hz, 7H).
工程４　化合物Ｉ－３６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000257
　実施例０１３の工程２において化合物１３４のかわりに化合物１６１を用いることにより化合物Ｉ－３６を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.06 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.99-7.93 (m, 2H), 7.20 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.12 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 8.9, 2.8 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.23 (dd, J = 16.0, 5.5 Hz, 1H), 4.54-4.43 (m, 1H), 3.77 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 2.06-1.97 (m, 1H), 1.83 (s, 3H), 1.19 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 0.98 (d, J = 6.6 Hz, 6H).
実施例０３７　化合物Ｉ－３７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000258
　実施例０３６の工程３において１－ブロモ－２－メチルプロパンのかわりに２－ヨードプロパンを用いることにより化合物Ｉ－３７を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.06 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.99-7.93 (m, 2H), 7.19 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.92 (dd, J = 8.8, 2.7 Hz, 1H), 6.40 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.23 (dd, J = 16.2, 5.4 Hz, 1H), 4.67-4.59 (m, 1H), 4.52-4.45 (m, 1H), 1.83 (s, 3H), 1.28 (d, J = 5.9 Hz, 6H), 1.19 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
実施例０３８　化合物Ｉ－３８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000259
　実施例０３６の工程３において１－ブロモ－２－メチルプロパンのかわりに１－ブロモプロパンを用いることにより化合物Ｉ－３８を得た。
[M+H]=375、測定条件2：保持時間2.28分
実施例０３９　化合物Ｉ－３９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000260
　実施例０３６の工程３において１－ブロモ－2－メチルプロパンのかわりにブロモシクロブタンを用いることにより化合物Ｉ－３９を得た。
[M+H]=387、測定条件2：保持時間2.33分
実施例０４０　化合物Ｉ－４０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000261
工程１　化合物Ｉ－４０ａの合成
　窒素雰囲気下、化合物Ｉ－２７(500 mg, 1.44 mmol)のジクロロメタン (6 mL) 溶液をドライアイス－アセトンで－７８℃に冷却した。これに１．０ｍｏｌ／Ｌ　三臭化ほう素 (3.00 mL, 3.00 mmol)を滴下し、滴下終了後３時間かけて室温まで昇温した。反応液を飽和重曹水中に注ぎ、攪拌した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－４０ａ(355 mg、収率74%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.89 (s, 1H), 8.11 (d, J = 2.2 Hz, 1H), 8.00-7.95 (m, 2H), 7.31 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.01 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.67 (dd, J = 8.6, 2.8 Hz, 1H), 6.62 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.42 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 6.25 (dd, J = 16.1, 5.4 Hz, 1H), 4.55-4.43 (m, 1H), 1.83 (s, 3H), 1.20 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
工程２　化合物Ｉ－４０の合成
　化合物Ｉ－４０ａ(140 mg, 0.421 mmol)のDMF(2 ml)溶液に炭酸セシウム (206 mg, 0.631 mmol)、（ブロモメチル）シクロプロパン (0.0820 mL, 0.841 mmol)を加え、65℃にて１．５時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－４０ (140 mg、収率86%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.09 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 8.00-7.95 (m, 2H), 7.42 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.03 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.88-6.82 (m, 2H), 6.41 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.25 (dd, J = 16.1, 5.4 Hz, 1H), 4.55-4.44 (m, 1H), 3.80 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.25-1.14 (m, 4H), 0.59-0.53 (m, 2H), 0.34-0.27 (m, 2H).
実施例０４１　化合物Ｉ－４１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000262
　実施例０４０の工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりに２－ヨードプロパンを用いることにより化合物Ｉ－４１を得た。
[M+H]=375、測定条件2：保持時間2.20分
実施例０４２　化合物Ｉ－４２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000263
　実施例０４０の工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりにヨードエタンを用いることにより化合物Ｉ－４２を得た。
[M+H]=361、測定条件2：保持時間2.08分
実施例０４３　化合物Ｉ－４３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000264
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－２８を用いることにより化合物Ｉ－４３を得た。
[M+H]=387、測定条件2：保持時間2.35分
実施例０４４　化合物Ｉ－４４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000265
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－２８を用い、工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりに２－ヨードプロパンを用いることにより化合物Ｉ－４４を得た。
[M+H]=361、測定条件2：保持時間2.22分
実施例０４５　化合物Ｉ－４５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000266
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－２８を用い、工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりにヨードエタンを用いることにより化合物Ｉ－４５を得た。
[M+H]=361、測定条件2：保持時間2.22分
実施例０４６　化合物Ｉ－４６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000267
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－２９を用いることにより化合物Ｉ－４６を得た。
[M+H]=387、測定条件2：保持時間2.18分
実施例０４７　化合物Ｉ－４７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000268
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－２９を用い、工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりに２－ヨードプロパンを用いることにより化合物Ｉ－４７を得た。
[M+H]=375、測定条件2：保持時間2.15分
実施例０４８　化合物Ｉ－４８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000269
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－２９を用い、工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりにヨードエタンを用いることにより化合物Ｉ－４８を得た。
[M+H]=361、測定条件2：保持時間2.02分
実施例０４９　化合物Ｉ－４９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000270
　実施例０４０の工程１において化合物Ｉ－２７のかわりに化合物Ｉ－１７を用い、工程２において（ブロモメチル）シクロプロパンのかわりに２－ヨードプロパンを用いることにより化合物Ｉ－４９を得た。
[M+H]=341、測定条件2：保持時間2.03分
実施例０５０　化合物Ｉ－５０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000271
工程１　化合物Ｉ－５０ａの合成
　化合物Ｉ－３１(80.0mg, 0.185 mmol)のＤＭＦ(2 mL)溶液を窒素気流下氷冷し、水素化ナトリウム(22.2 mg, 0.556 mmol)を加え、１０分攪拌後、ヨードエタン(0.030 mL, 0.370 mmol)を加えて氷冷のまま３０分攪拌した。水を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－５０ａ(12.5 mg、収率15%）を得た。
[M+H]=460、測定条件2：保持時間2.39分
工程２　化合物Ｉ－５０の合成
　化合物Ｉ－５０ａ(12.5 mg, 0.027 mmol)のクロロホルム(2 mL)溶液にトリフルオロ酢酸(1 mL, 13.0 mmol)を加え、室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－５０ (9.20 mg、収率94%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.06 (d, J = 2.3 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.91 (dd, J = 8.8, 2.1 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 24.7, 9.0 Hz, 2H), 6.62 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 6.53 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, 1H), 6.39 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 6.21 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.82-5.76 (m, 1H), 4.52-4.44 (m, 1H), 3.06-2.97 (m, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.19 (d, J = 6.1 Hz, 3H), 1.15 (d, J = 6.7 Hz, 3H).
実施例０５１　化合物Ｉ－５１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000272
工程１　化合物Ｉ－５１ａの合成
　化合物Ｉ－３１(80.0 mg, 0.185 mmol)のクロロホルム(2 mL)溶液にトリフルオロ酢酸(1 mL, 13.0 mmol)を加え、室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－５１ａ(61.6 mg、収率100%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.07 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.70 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.85 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 6.60 (dd, J = 8.7, 2.7 Hz, 1H), 6.42 (d, J = 16.6 Hz, 1H), 6.07 (dd, J = 16.1, 5.7 Hz, 1H), 5.40 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 4.80-4.68 (m, 1H), 3.67 (br s, 2H), 2.01 (s, 3H), 1.33 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
工程２　化合物Ｉ－５１の合成
　化合物Ｉ－５１ａ(58.0 mg, 0.175 mmol)のDMF(2 mL)溶液に炭酸セシウム(68.3 mg, 0.210 mmol)、２－ヨードプロパン(0.021 mL, 0.210 mmol)を加え、100℃にて９時間攪拌した。水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－５１(25.0 mg、収率36%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.07 (d, J = 2.2 Hz, 1H), 7.98 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.92 (dd, J = 8.7, 2.3 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.64 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.53 (dd, J = 8.8, 2.5 Hz, 1H), 6.41 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 6.22 (dd, J = 16.3, 5.4 Hz, 1H), 5.66 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 4.54-4.45 (m, 1H), 3.57-3.45 (m, 1H), 1.83 (s, 3H), 1.20 (d, J = 7.1 Hz, 3H), 1.13 (d, J = 6.3 Hz, 6H)
実施例０５２　化合物Ｉ－５２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000273
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物６８を用いることにより化合物Ｉ－５２を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.70 (s, 2H), 8.01 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.13 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.96 (dd, J = 9.0, 2.3 Hz, 1H), 6.39 (s, 2H), 4.55-4.45 (m, 1H), 3.85 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.84 (s, 3H), 1.29-1.17 (m, 4H), 0.62-0.56 (m, 2H), 0.37-0.30 (m, 2H).
実施例０５３　化合物Ｉ－５３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000274
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物７０を用いることにより化合物Ｉ－５３を得た。
[M+H]=433、測定条件2：保持時間1.98分
実施例０５４　化合物Ｉ－５４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000275
　実施例０５１の工程１において化合物Ｉ－３１のかわりに化合物Ｉ－５３を用い、ヨードエタンのかわりに（ブロモメチル）シクロプロパンを用いることにより化合物Ｉ－５４を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.67 (s, 2H), 8.00 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.02 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 6.66 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 6.56 (dd, J = 8.8, 2.6 Hz, 1H), 6.41-6.35 (m, 2H), 6.01-5.90 (m, 1H), 4.54-4.45 (m, 1H), 2.88 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 1.84 (s, 3H), 1.20 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 1.11-0.97 (m, 1H), 0.52-0.46 (m, 2H), 0.26-0.18 (m, 2H).
実施例０５５　化合物Ｉ－５５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000276
　実施例０５１の工程１において化合物Ｉ－３１のかわりに化合物Ｉ－５３を用いることにより化合物Ｉ－５５を得た。
[M+H]=375、測定条件2：保持時間1.66分
実施例０５６　化合物Ｉ－５６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000277
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物８７を用いることにより化合物Ｉ－５６を得た。 
[M+H]=388、測定条件2：保持時間2.00分
実施例０５７　化合物Ｉ－５７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000278
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物８９を用いることにより化合物Ｉ－５７を得た。 
[M+H]=386、測定条件2：保持時間2.47分
実施例０５８　化合物Ｉ－５８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000279
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物９０を用いることにより化合物Ｉ－５８を得た。 
[M+H]=404、測定条件2：保持時間2.54分
実施例０５９　化合物Ｉ－５９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000280
　実施例０１３の工程１において化合物４１のかわりに化合物９９を用いることにより化合物Ｉ－５９を得た。 
[M+H]=384、測定条件2：保持時間2.16分
実施例０６０　化合物Ｉ－６０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000281
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物７４を用いることにより化合物Ｉ－６０を得た。 
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.47 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.99 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.77 (dd, J = 8.1, 2.0 Hz, 1H), 7.23 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.07 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 6.99 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.87 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 6.42 (d, J = 16.7 Hz, 1H), 6.31 (dd, J = 16.0, 5.3 Hz, 1H), 4..45-4.54 (m, 1H), 4.10 (s, 2H), 4.02 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.83 (s, 3H), 1.30 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.20 (d, J = 6.6 Hz, 3H).
[M+H]=359、測定条件2：保持時間1.52分
実施例０６１　化合物Ｉ－６１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000282
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物７５を用いることにより化合物Ｉ－６１を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.61 (s, 1H), 8.02 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.85 (dd, J = 8.1, 2.0 Hz, 1H), 7.52 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.95 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.87 (dd, J = 8.4, 2.3 Hz, 1H), 6.56 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 6.37 (dd, J = 15.7, 5.6 Hz, 1H), 5.48 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.77-4.82 (m, 1H), 4.09 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 2.04 (s, 3H), 1.44 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.37 (d, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=373、測定条件2：保持時間1.87分
実施例０６２　化合物Ｉ－６２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000283
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物７６を用いることにより化合物Ｉ－６２を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.52 (s, 1H), 7.75-7.78 (m, 3H), 6.89-6.91 (m, 2H), 6.51 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.28 (dd, J = 15.7, 5.6 Hz, 1H), 5.45 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.77 (dd, J = 13.7, 6.6 Hz, 1H), 4.05 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 2.02 (s, 3H), 1.44-1.34 (m, 6H).
[M+H]=395、測定条件2：保持時間2.11分
実施例０６３　化合物Ｉ－６３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000284
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物８０を用いることにより化合物Ｉ－６３を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.90 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.76 (s, 1H), 7.57 (s, 1H), 7.04-6.98 (m, 2H), 6.89 (dd, J = 8.5, 2.4 Hz, 1H), 6.23 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.88 (dd, J = 16.1, 5.6 Hz, 1H), 5.27 (s, 2H), 4.46-4.34 (m, 1H), 3.82 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.80 (s, 3H), 1.23-1.14 (m, 4H), 0.59-0.53 (m, 2H), 0.33-0.27 (m, 2H).
実施例０６４　化合物Ｉ－６４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000285
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物８１を用いることにより化合物Ｉ－６４を得た。
[M+H]=340、測定条件2：保持時間1.82分
実施例０６５　化合物Ｉ－６５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000286
　実施例００１の工程１において化合物１６のかわりに化合物８５を用いることにより化合物Ｉ－６５を得た。
[M+H]=476、測定条件2：保持時間3.06分
実施例０６６　化合物Ｉ－６６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000287
工程１　化合物１９４の合成
　化合物１０２(120 mg, 0.449 mmol)のＤＭＦ(2 mL)溶液を窒素気流下氷冷し、水素化ナトリウム (35.9 mg, 0.898 mmol)を加え、これに化合物１１４のＤＭＦ(1 mL)溶液を滴下し、室温にて１時間攪拌した。反応液を１０％クエン酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥させ、ろ過、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１９４(52.1 mg、収率26%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.82 (dd, J = 5.3, 3.3 Hz, 2H), 7.70 (dd, J = 5.1, 3.0 Hz, 2H), 7.56 (s, 1H), 7.17 (s, 1H), 6.97 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.80 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.38 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.29 (dd, J = 16.0, 7.4 Hz, 1H), 4.96-5.03 (m, 1H), 4.22 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 3.76 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 3.05 (t, J = 7.1 Hz, 2H), 1.62 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 1.21-1.29 (m, 1H), 0.60-0.65 (m, 2H), 0.31-0.35 (m, 2H).
[M+H]=442、測定条件2：保持時間2.52分
工程２　化合物Ｉ－６６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000288
 　実施例００１の工程２において化合物１２０のかわりに化合物１９４を用いることにより化合物Ｉ－６６を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.55 (s, 1H), 7.14 (s, 1H), 6.97 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.81 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 6.28 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 5.84 (dd, J = 16.0, 5.8 Hz, 1H), 5.37 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.63-4.68 (m, 1H), 4.24 (t, J = 7.1 Hz, 2H), 3.77 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 3.07 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 1.99 (s, 3H), 1.23-1.29 (m, 4H), 0.61-0.66 (m, 2H), 0.32-0.35 (m, 2H).
[M+H]=354、測定条件2：保持時間1.86分
実施例０６７　化合物Ｉ－６７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000289
　実施例０６６の工程１において化合物１１４のかわりに化合物１０４を用いることにより化合物Ｉ－６７を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.88 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.76 (s, 1H), 7.53 (s, 1H), 7.14 (t, J = 8.6 Hz, 1H), 6.73-6.78 (m, 2H), 6.23 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.88 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.21 (s, 2.0H), 4.36-4.45(m, 1H), 3.81 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.81 (s, 3H), 1.14-1.19 (m, 4H), 0.53-0.58 (m, 2H), 0.28-0.32 (m, 2H).
[M+H]=358、測定条件2：保持時間1.86分
実施例０６８　化合物Ｉ－６８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000290
　実施例０６６の工程１において化合物１１４のかわりに化合物１０７を用いることにより化合物Ｉ－６８を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.88 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.76 (s, 1H), 7.58 (s, 1H), 7.19 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 6.98-6.92 (m, 2H), 6.24 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 5.89 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.26 (s, 2H), 4.37-4.45 (m, 1H), 3.82 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.81 (s, 3H), 1.14-1.19 (m, 4H), 0.53-0.58 (m, 2H), 0.30 (m, 2H).
[M+H]=420、測定条件2：保持時間2.03分
実施例０６９　化合物Ｉ－６９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000291
　実施例０６６の工程１において化合物１１４のかわりに化合物１１１を用いることにより化合物Ｉ－６９を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.55 (s, 1H), 7.28 (s, 1H), 6.93 (s, 2H), 6.29 (d, J = 17.2 Hz, 1H), 5.85 (dd, J = 16.0, 5.8 Hz, 1H), 5.49 (s, 2H), 5.35 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 4.62-4.67 (m, 1H), 3.79 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 1.97 (s, 3H), 1.28-1.22 (m, 4H), 0.64-0.69 (m, 2H), 0.35 (m, 2H).
[M+H]=408、測定条件2：保持時間2.17分
実施例０７０　化合物Ｉ－７０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000292
工程１　化合物Ｉ－７０ａの合成
　化合物Ｉ－６５(348 mg, 0.731 mmol)のテトラヒドロフラン(5 mL)溶液にテトラブチルアンモニウムフルオリド(1 mol/L テトラヒドロフラン溶液, 3.65 mL, 3.65 mmol)を加え、８０℃にて２時間攪拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－７０ａ(197 mg、収率84%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.95 (s, 1H), 7.87 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.74 (s, 1H), 7.56 (s, 1H), 6.97 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.8 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 6.71 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 6.23 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.89 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.23 (s, 2H), 4.28-4.43 (m, 1H), 1.80 (s, 3H), 1.15 (t, J = 6.6 Hz, 3H).
[M+H]=320、測定条件2：保持時間1.33分
工程２　化合物Ｉ－７０の合成
　化合物Ｉ－７０ａ(46.6 mg, 0.146 mmol)のDMF(2 mL)溶液に炭酸セシウム(71.2 mg, 0.219 mmol)、ヨードベンゼン(44.6 mg, 0.219 mmol)、ヨウ化銅(2.78 mg, 0.015 mmol)、アセチルアセトン鉄(ＩＩＩ)(10.3 mg, 0.029 mmol)を加え、１３５℃にて７時間攪拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をHPLC分取（アセトニトリル－水）により精製して化合物Ｉ－７０ (3.30 mg、収率5.7%）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.59 (s, 1H), 7.34-7.41 (m, 3H), 7.16 (t, J = 7.6 Hz, 1H), 7.00-7.05 (m, 4H), 6.85 (dd, J = 8.4, 2.3 Hz, 1H), 6.33 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.89 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.33-5.38 (m, 3H), 4.62-4.70 (m, 1H), 1.99 (s, 3H), 1.29 (d, J = 7.1 Hz, 3H).
[M+H]=396、測定条件2：保持時間2.14分
実施例０７１～１６０
　各カルボン酸 (0.086 mmol)のDMF (0.5 mL) 溶液に、HATU (32.5 mg, 0.086 mmol) N-エチルジイソプロピルアミン (19.91 μL, 0.114 mmol)を加え、10分間震盪後、実施例００１の工程２で得られた化合物１２１(20 mg, 0.057 mmol)の DMF (0.5 mL) 溶液を加え、3時間震盪した。飽和重曹水(1mL)を加えCHCl3(1ml)にて抽出し、遠心エバポレーターにて濃縮。残渣をDMSO(1mL)に溶解させ、LC/MS分取にて精製し、以下の化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000293
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000294
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000295
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000296
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000297
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000298
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000299
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000300
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000301
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000302
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000303
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000304
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000305
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000306
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000307
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000308
実施例１６１～１７０
　実施例７１と同様に実施例００２の中間体を用いて以下の化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000309
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000310
実施例１７１～１７６
　実施例７１と同様に実施例０６３の中間体を用いて以下の化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000311
実施例１７７　化合物Ｉ－１７７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000312
　化合物１２１(62.0 mg, 0.177 mmol)のジフルオロ酢酸エチル(1 mL, 10.3 mmol)溶液にマイクロウェーブを照射し、１５０℃にて２０分反応反応させた。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－１７７ (55.4 mg、収率73%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.90 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.46 (d, J = 9.1 Hz, 1H), 7.24-7.18 (m, 2H), 7.00 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.56 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 6.19 (t, J = 53.7 Hz, 1H), 5.82 (dd, J = 15.8, 6.0 Hz, 1H), 4.56-4.42 (m, 1H), 3.87 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 1.30-1.19 (m, 4H), 0.62-0.55 (m, 2H), 0.37-0.30 (m, 2H).
実施例１７８　化合物Ｉ－１７８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000313
　実施例１７７においてジフルオロ酢酸エチルのかわりにフルオロ酢酸エチルを用いることにより化合物Ｉ－１７８を得た。
[M+H]=411、測定条件2：保持時間2.37分
実施例１７９　化合物Ｉ－１７９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000314
　実施例１７７において化合物１２１のかわりに化合物１３５を用いることにより化合物Ｉ－１７９を得た。
[M+H]=397、測定条件2：保持時間2.28分
実施例１８０　化合物Ｉ－１８０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000315
　化合物１２１ (150 mg, 0.428 mmol)のテトラヒドロフラン(2 mL)溶液を、窒素気流下氷冷し、Ｎ－エチルジイソプロピルアミン (0.224 mL, 1.28 mmol)及びクロロ炭酸メチル(0.050 mL, 0.641 mmol)を加え、10分間攪拌した。メタノールを加えて、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－１８０ (123 mg、収率70%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.30 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.21-7.18 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.50 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.78 (dd, J = 15.7, 5.8 Hz, 1H), 4.23-4.10 (m, 1H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 3.52 (s, 3H), 1.27-1.14 (m, 4H), 0.62-0.54 (m, 2H), 0.37-0.30 (m, 2H).
実施例１８１　化合物Ｉ－１８１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000316
　実施例１８０において化合物１２１のかわりに実施例００２の中間体を用いることにより化合物Ｉ－１８１を得た。
[M+H]=397、測定条件2：保持時間2.55分
実施例１８２　化合物Ｉ－１８２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000317
　実施例１８０において化合物１２１のかわりに化合物１６２を用いることにより化合物Ｉ－１８２を得た。
[M+H]=363、測定条件2：保持時間2.31分
実施例１８３　化合物Ｉ－１８３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000318
　実施例１８０において化合物１２１のかわりに実施例０６３の中間体を用いることにより化合物Ｉ－１８３を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.56 (s, 1H), 7.36 (s, 1H), 7.05 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.94 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 6.77 (dd, J = 8.6, 2.5 Hz, 1H), 6.32 (d, J = 15.7 Hz, 1.H), 5.86 (dd, J = 16.0, 5.8 Hz, 1H), 5.29 (s, 2H), 4.36 (s, 1H), 3.77 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 3.67 (s, 3H), 1.22-1.29 (t, J = 8.62 Hz, 4H), 0.62-0.67 (m, 2H), 0.32-0.36( m, 2H).
[M+H]=390、測定条件2：保持時間2.24分
実施例１８４　化合物Ｉ－１８４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000319
工程１　化合物Ｉ－１８４ａの合成
　化合物１３５(295 mg, 0.925 mmol)のジクロロメタン(3 ml)溶液にピリジン(0.225 mL, 2.78 mmol)を加え、窒素気流下氷冷し、クロロぎ酸４－ニトロフェニル(205 mg, 1.018 mmol)を加え、室温にて１０時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、1ｍｏｌ／Ｌ-塩酸を加え、酢酸エチル抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物Ｉ－１８４ａ(405 mg, 0.753 mmol, purity90%,81.4 % yield)を得た。精製は行わずそのまま次工程へ進めた。
工程２　化合物Ｉ－１８４の合成
　化合物Ｉ－１８４ａ (190 mg, 0.393 mmol)のアセトニトリル (3 ml)懸濁液に、塩化アンモニウム (105 mg, 1.96 mmol)、ジイソプロピルエチルアミン (0.343 mL, 1.96 mmol)を加え、60℃にて1時間攪拌した。 2ｍｏｌ／Ｌ-水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムに抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－１８４ (84.7 mg、収率61%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.05 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.95 (dd, J = 8.6, 2.4 Hz, 1H), 7.20 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 6.93 (dd, J = 8.9, 2.7 Hz, 1H), 6.39 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.26 (dd, J = 16.2, 4.8 Hz, 1H), 6.06 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 5.42 (s, 2H), 4.36-4.24 (m, 1H), 4.05 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.33 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 1.17 (d, J = 6.9 Hz, 3H).
実施例１８５　化合物Ｉ－１８５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000320
　実施例１８４の工程２において塩化アンモニウムのかわりにメチルアミン塩酸塩を用いることにより化合物Ｉ－１８５を得た。
[M+H]=376、測定条件2：保持時間2.02分
実施例１８６　化合物Ｉ－１８６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000321
　実施例１８４の工程２において塩化アンモニウムのかわりにジメチルアミン塩酸塩を用いることにより化合物Ｉ－１８６を得た。
[M+H]=390、測定条件2：保持時間2.16分
実施例１８７　化合物Ｉ－１８７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000322
　実施例１８４の工程２において塩化アンモニウムのかわりにＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩を用いることにより化合物Ｉ－１８７を得た。
[M+H]=392、測定条件2：保持時間2.12分
実施例１８８　化合物Ｉ－１８８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000323
　実施例１８４の工程１において化合物１３５のかわりに実施例０６２の中間体を用いることにより化合物Ｉ－１８８を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.53 (s, 1H), 7.76-7.78 (m, 3H), 6.89-6.91 (m, 2H), 6.54 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.31 (dd, J = 15.7, 5.1 Hz, 1H), 4.49 (br-s, 2H), 4.36 (br-s, 2H), 4.05 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.42 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.35 (d, J = 6.6 Hz, 3H)
[M+H]=396、測定条件2：保持時間1.98分
実施例１８９～１９４
　実施例１８４の工程１において化合物１３５のかわりに化合物１２１を用い、工程２において塩化アンモニウムのかわりにアミンを用いることにより以下の化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000324
実施例１９５　化合物Ｉ－１９５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000325
　化合物１２１ (64 mg, 0.182 mmol)のテトラヒドロフラン(2 mL)溶液を、窒素気流下氷冷し、Ｎ－エチルジイソプロピルアミン (0.048 mL, 0.274 mmol)、イソシアン酸エチル(0.022 mL, 0.274 mmol)を加え、室温にて１時間攪拌した。反応液にメタノールを加えて、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－１９５ (65.7 mg、収率85%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.45 (d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.20 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 7.17 (s, 1H), 6.99 (dd, J = 8.8, 2.7 Hz, 1H), 6.46 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.89 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 5.81 (dd, J = 15.8, 5.4 Hz, 1H), 5.72 (t, J = 5.6 Hz, 1H), 4.31-4.19 (m, 1H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 3.04-2.95 (m, 2H), 1.28-1.17 (m, 1H), 1.12 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 0.97 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 0.62-0.54 (m, 2H), 0.37-0.30 (m, 2H).
実施例１９６　化合物Ｉ－１９６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000326
　実施例１９５において化合物１２１のかわりに実施例０６３の中間体を用いることにより化合物Ｉ－１９６を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.76 (s, 1H), 7.56 (s, 1H), 7.01-7.03 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.89 (br-d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.21 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 5.91 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 5.81 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 5.68 (t, J = 5.6 Hz, 1H), 5.27 (s, 2H), 4.22-4.27 (d, J = 6.1 Hz, 1H), 3.82 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 2.97-3.03 (m, 2H), 1.12-1.19 (m, 4H), 0.98 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 0.56 (br-d, J = 8.1 Hz, 2H), 0.30 (br-d, J = 4.6 Hz, 2H).
[M+H]=403、測定条件2：保持時間2.06分
実施例１８７　化合物Ｉ－１９７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000327
　実施例１９５において化合物１２１のかわりに実施例０３０の中間体を用いることにより化合物Ｉ－１９７を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.07 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.72 (dd, J = 8.6, 2.0 Hz, 1H), 7.27 (s, 1H), 7.10 (s, 2H), 6.89 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 6.45 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.11 (dd, J = 16.2, 5.6 Hz, 1H), 4.45 (m, 1H), 4.31 (m, 2H), 3.21 (m, 2H), 2.58 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.66 (m, 2H), 1.31 (d, J = 7.1 Hz, 3H), 1.12 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.97 (t, J = 7.4 Hz, 3H).
[M+H]=388、測定条件2：保持時間2.40分
実施例１９８　化合物Ｉ－１９８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000328
　実施例１９５においてイソシアン酸エチルのかわりイソシアン酸－２－クロロエチルを用いることにより化合物Ｉ－１９８を得た。
[M+H]=456、測定条件2：保持時間2.37分
実施例１９９　化合物Ｉ－１９９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000329
　実施例１９５においてイソシアン酸エチルのかわりイソシアン酸シクロプロピルを用いることにより化合物Ｉ－１９９を得た。
[M+H]=434、測定条件2：保持時間2.34分
実施例２００　化合物Ｉ－２００の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000330
　CDI(27.7 mg, 0.171 mmol)のテトラヒドロフラン(2 mL)溶液を、窒素気流下氷冷し、化合物１２１ (50 mg, 0.143 mmol)及びトリエチルアミン(0.040 mL, 0.285 mmol)を加え、室温にて５時間攪拌した。水を加え、クロロホルムに抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－２００ (44.0 mg、収率62%）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.45 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.20 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 7.17 (s, 1H), 7.07 (s, 1H), 7.00 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.86 (s, 1H), 6.76 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 6.50 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.84 (dd, J = 15.7, 5.6 Hz, 1H), 4.54 (s, 2H), 4.43-4.32 (m, 1H), 3.95 (t, J = 5.2 Hz, 2H), 3.86 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 3.76 (t, J = 5.2 Hz, 2H), 1.28-1.17 (m, 0H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.37-0.30 (m, 2H).
実施例２０１　化合物Ｉ－２０１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000331
　化合物１６ (100 mg, 0.277 mmol)及び化合物１０ (93 mg, 0.333 mmol)のエタノール (2 ml)溶液に、2 ｍｏｌ／Ｌ-炭酸ナトリウム水溶液(0.277 ml, 0.555 mmol)を加え、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド(19.46 mg, 0.028 mmol)を加えてマイクロウェーブを照射し、80℃にて20分反応させた。水を加え、クロロホルムにて抽出。無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－２０１(96.2 mg, 収率80 % )を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.44 (d, J = 9.3 Hz, 1H), 7.21-7.15 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 9.0, 2.6 Hz, 1H), 6.55 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 6.13 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 5.80 (dd, J = 15.7, 5.9 Hz, 1H), 5.61 (s, 1H), 4.08-3.96 (m, 1H), 3.86 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 2.20 (s, 3H), 1.25-1.15 (m, 4H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.37-0.28 (m, 2H).
実施例２０２　化合物Ｉ－２０２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000332
　実施例２０１において化合物１０のかわりに化合物１１を用いることにより化合物Ｉ－２０２を得た。
[M+H]=432、測定条件2：保持時間2.59分
実施例２０３　化合物Ｉ－２０３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000333
　実施例２０１において化合物１６のかわりに化合物４１を用いることにより化合物Ｉ－２０３を得た。
[M+H]=400、測定条件2：保持時間2.44分
実施例２０４　化合物Ｉ－２０４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000334
　実施例２０１において化合物１０のかわりに化合物１１を用い、化合物１６のかわりに化合物４１を用いることにより化合物Ｉ－２０４を得た。
[M+H]=400、測定条件2：保持時間2.46分
実施例２０５　化合物Ｉ－２０５の合成

　実施例２０１において化合物１６のかわりに化合物８０を用いることにより化合物Ｉ－２０５を得た。
[M+H]=413、測定条件2：保持時間2.36分
実施例２０６　化合物Ｉ－２０６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000336
工程１　化合物Ｉ－２０６ａの合成
　化合物Ｉ－１３６(305 mg, 0.578 mmol)のエタノール(3 mL)に懸濁液に、2mol/L-水酸化ナトリウム水溶液(1.0 mL, 2.00 mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した。10%クエン酸水溶液を加えて中和し 、析出した結晶を濾取。減圧下80℃にて乾燥させ、化合物Ｉ－２０６ａ(288 mg, 0.576 mmol, 収率100 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.98 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.83 (d, J = 4.9 Hz, 1H), 8.45 (s, 1H), 7.99 (dd, J = 4.9, 1.2 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.21 (s, 1H), 7.19 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 6.99 (dd, J = 9.0, 2.9 Hz, 1H), 6.61 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 5.91 (dd, J = 15.9, 5.7 Hz, 1H), 4.77-4.64 (m, 1H), 3.86 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 1.31 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 1.27-1.16 (m, 1H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.35-0.30 (m, 2H).
工程２　化合物Ｉ－２０６の合成
　化合物Ｉ－２０６ａ(84 mg, 0.168 mmol),エタノールアミン(0.015 mL, 0.252 mmol)のジクロロメタン(2 mL)懸濁液に、N-エチルジイソプロピルアミン(0.044 mL, 0.252 mmol),HATU (83 mg, 0.218 mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。飽和重曹水((5ml)を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）にて精製し、化合物Ｉ－２０６を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.01 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 8.80-8.71 (m, 2H), 8.46 (s, 1H), 7.97 (d, J = 4.3 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.24-7.17 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 9.0, 2.7 Hz, 1H), 6.60 (d, J = 15.4 Hz, 1H), 5.92 (dd, J = 15.4, 5.6 Hz, 1H), 4.85-4.65 (m, 2H), 3.86 (d, J = 6.4 Hz, 2H), 3.57-3.49 (m, 2H), 3.44-3.36 (m, 2H), 1.31 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.28-1.15 (m, 1H), 0.62-0.54 (m, 2H), 0.37-0.29 (m, 2H).
実施例 ２０７～２２３
　実施例２０６の工程２において対応するアミン、ヒドロキシルアミンを用いることにより下記の化合物を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000337
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000338
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000339
実施例 ２２４～２２９
　化合物Ｉ－２１８～Ｉ－２２３を実施例２０６の工程１と同様の方法で加水分解し、以下の化合物を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000340
実施例　２３０～２３６
　実施例２０６の工程１において化合物Ｉ－１３６のかわりに化合物Ｉ－１７３を用い、工程２において対応するアミンを用いることにより下記の化合物を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000341
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000342
実施例２３７　化合物Ｉ－２３７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000343
　化合物Ｉ―１３６(86 mg, 0.147 mmol)のテトラヒドロフラン(2 ml)溶液に、水素化ホウ素リチウム(9.58 mg, 0.440 mmol)を加え、室温にて１．５時間攪拌した。反応液に水(15ml)を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）にて精製し、化合物Ｉ－２３７ (47.9 mg,収率67 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.81 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 8.59 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.63 (d, J = 4.3 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.21-7.18 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 8.9, 3.0 Hz, 1H), 6.59 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.91 (dd, J = 15.7, 5.8 Hz, 1H), 5.56-5.48 (m, 0H), 4.75-4.64 (m, 1H), 4.61 (d, J = 5.6 Hz, 2H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.29 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 1.26-1.16 (m, 1H), 0.62-0.54 (m, 2H), 0.37-0.29 (m, 2H).
実施例２３８　化合物Ｉ－２３８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000344
　化合物Ｉ－２３７ (27 mg, 0.047 mmol)の酢酸エチル(2 mL)溶液に、化合物３１０(26.4 mg, 0.094 mmol)を加え、80℃にて6時間攪拌した。沈殿を濾去し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）にて精製し、化合物Ｉ－２３８ (20.8 mg, 収率91.0 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 10.04 (s, 1H), 9.03 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 8.96 (d, J = 4.9 Hz, 1H), 8.34 (s, 1H), 8.08 (d, J = 4.1 Hz, 1H), 7.46 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.23-7.17 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 9.1, 2.8 Hz, 1H), 6.61 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.91 (dd, J = 15.8, 5.7 Hz, 1H), 4.77-4.66 (m, 1H), 3.86 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.31 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 1.28-1.14 (m, 1H), 0.62-0.55 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例２３９　化合物Ｉ－２３９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000345
　水素化ナトリウム(6.69 mg, 0.167 mmol)のテトラヒドロフラン(2 mL)懸濁液を窒素気流下氷冷し、化合物２２９(0.033 mL, 0.167 mmol)を加え、室温にて１０分攪拌後、化合物Ｉ－２３８ (54 mg, 0.112 mmol)を加え、室温にて１０分攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液(10mL)中に反応液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）にて精製し、化合物Ｉ－２３９ (47 mg, 収率76 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.80-8.75 (m, 2H), 8.15 (s, 1H), 7.77 (dd, J = 5.0, 1.6 Hz, 1H), 7.69 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 7.46 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.22 (s, 1H), 7.20 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.00 (dd, J = 9.0, 3.1 Hz, 1H), 6.94 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 6.62 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.91 (dd, J = 15.9, 5.6 Hz, 1H), 4.75-4.65 (m, 1H), 4.22 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 1.32-1.22 (m, 7H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例２４０　化合物Ｉ－２４０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000346
　化合物Ｉ－２３９ (38 mg, 0.069 mmol)のエタノール (1 mL)溶液に2mol/L- 水酸化ナトリウム水溶液(0.10 mL, 0.200 mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した。 2mol/L-塩酸を加えて中和し、クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）にて精製し、化合物Ｉ－２４０ 29.3 mg, 収率81%）を得た（
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.79 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.75 (d, J = 5.2 Hz, 1H), 8.11 (s, 1H), 7.77-7.73 (m, 1H), 7.61 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 7.46 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.22-7.19 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 9.0, 3.0 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 6.61 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.91 (dd, J = 15.6, 5.6 Hz, 1H), 4.75-4.65 (m, 1H), 3.86 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.31 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 1.26-1.18 (m, 1H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例２４１　化合物Ｉ－２４１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000347
工程１　化合物２３３の合成
　化合物２３２(1.0 g, 7.09 mmol)の２‐メチル‐プロパノール(12 mL)、テトラヒドロフラン(4 mL)懸濁液に、Boc2O (3.29 ml, 14.17 mmol)、DMAP (0.260 g, 2.126 mmol)を加えて、室温にて終夜攪拌した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）にて精製し、化合物２３３(1.26 g, 収率90 %)を得た
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.32 (dd, J = 5.1, 0.5 Hz, 1H), 7.68 (dt, J = 5.0, 1.4 Hz, 1H), 7.42-7.41 (m, 1H), 1.61 (s, 9H).
工程２　化合物２３５の合成
　水素化ナトリウム(122 mg, 3.04 mmol)のテトラヒドロフラン(4 mL)懸濁液を窒素気流下氷冷し、化合物２３４(0.231 mL, 3.04 mmol)を加え、室温にて15分攪拌後、化合物２３３ (400 mg, 2.03 mmol)のテトラヒドロフラン(2 mL)溶液を加え、60℃にて２時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム中に反応液を注ぎ、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）にて精製し、化合物２３５(201 mg, 収率35 %)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.18 (d, J = 5.2 Hz, 1H), 7.41-7.38 (m, 2H), 4.93 (s, 2H), 3.77 (s, 3H), 1.58 (s, 9H).
工程３　化合物２３６の合成
　化合物２３５(58 mg, 0.206 mmol)に、トリフルオロ酢酸 (1 mL, 12.98 mmol)を加え、室温にて３時間攪拌した。減圧濃縮し、そのまま次工程へ進めた。
工程４　化合物Ｉ－２４１の合成
　化合物１６(73.1 mg, 0.208 mmol)、化合物２３６(44 mg, 0.208 mmol)のジクロロメタン(2 mL)に懸濁液に、N-エチルジイソプロピルアミン(0.182 mL, 1.04 mmol)、HATU (119 mg, 0.313 mmol)を加え、室温にて三時間攪拌した。飽和重曹水を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）にて精製し、化合物Ｉ－２４１ (90.6 mg,　収率80 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.75 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.22 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.39 (d, J = 5.3 Hz, 1H), 7.32 (s, 1H), 7.23-7.17 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 9.2, 2.9 Hz, 1H), 6.58 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 5.90 (dd, J = 15.9, 5.7 Hz, 1H), 4.96 (s, 2H), 4.74-4.61 (m, 1H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 3.66 (s, 3H), 1.28 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 1.26-1.15 (m, 1H), 0.62-0.54 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例２４２　化合物Ｉ－２４２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000348
　実施例２４１の工程２において化合物２３４のかわりに２－（ピロリジン－１－イル）エタノールを用いることにより化合物Ｉ－２４２を合成した。
[M+H]=569、測定条件2：保持時間1.79分
実施例２４３　化合物Ｉ－２４３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000349
　化合物２３３(200 mg, 1.01 nnol)をアミノエタノール(1 mL, 16.5 mmol)に溶解させ80度にて１時間攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）にて精製し、化合物２３９(107 mg,収率44 %)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.12 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 7.05 (dd, J = 5.4, 1.2 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 1.2 Hz, 1H),  5.01-4.93 (m, 1H), 3.82 (t, J = 4.7 Hz, 2H), 3.57-3.54 (m, 2H), 1.58 (s, 9H). 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000350
　以下、実施例１０６の工程３、４と同様の操作により化合物Ｉ－２４３を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.50 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.01 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.22-7.17 (m, 2H), 7.03-6.96 (m, 1H), 6.89-6.80 (m, 2H), 6.68 (t, J = 5.5 Hz, 1H), 6.55 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.88 (dd, J = 15.8, 5.9 Hz, 1H), 4.73-4.59 (m, 2H), 3.86 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 3.55-3.46 (m, 1H), 1.30-1.17 (m, 4H), 0.61-0.55 (m, 2H), 0.37-0.29 (m, 2H).
実施例２４４～２４７
　実施例２４３の工程１において対応するアミンを用いることにより下記の化合物を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000351
実施例２４８　化合物Ｉ－２４８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000352
　化合物Ｉ－２４１(72 mg, 0.132 mmol)のメタノール(1.5 mL)溶液に、2mol/L-水酸化ナトリウム水溶液(0.20 mL, 0.400 mmol)を加え室温にて２時間攪拌した。2mol/L-塩酸を加えて中和し、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去した。残渣をクロロホルム/ヘキサンに懸濁させ、濾取。減圧下乾燥させ化合物Ｉ－２４８(70 mg、収率99.8 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 12.8(brs, 1H)8.73 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 8.23 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 7.46 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.38 (d, J = 5.2 Hz, 1H), 7.29 (s, 1H), 7.23-7.18 (m, 2H), 7.00 (dd, J = 9.1, 2.7 Hz, 1H), 6.59 (d, J = 15.4 Hz, 1H), 5.90 (dd, J = 15.8, 5.7 Hz, 1H), 4.86 (s, 2H), 4.73-4.62 (m, 1H), 3.86 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 1.28 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 1.26-1.17 (m, 1H), 0.62-0.55 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例２４９　Ｉ－２４９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000353
　実施例２４８において化合物Ｉ－２４１のかわりに実施例Ｉ－２４７を用いることにより化合物Ｉ－２４９を得た。
[M+H]=543、測定条件2：保持時間1.78分
実施例２５０　化合物Ｉ－２５０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000354
　化合物Ｉ－２４８(35 mg, 0.066 mmol)、塩化メチルアンモニウム(6.69 mg, 0.099 mmol)のジクロロメタン(2 ml)懸濁液に、N-エチルジイソプロピルアミン(0.029 ml, 0.165 mmol)、HATU (32.6 mg, 0.086 mmol)を加え、室温にて1時間攪拌した。飽和重曹水を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）にて精製し、化合物Ｉ－２５０(18.6 mg、収率52 %)を得た。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 8.75 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.23 (d, J = 5.3 Hz, 1H), 7.96 (d, J = 4.6 Hz, 1H), 7.46 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.39 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.32 (s, 1H), 7.22-7.18 (m, 2H), 6.99 (dd, J = 8.7, 2.6 Hz, 1H), 6.58 (d, J = 15.7 Hz, 1H), 5.90 (dd, J = 15.7, 5.9 Hz, 1H), 4.73 (s, 2H), 4.72-4.64 (m, 1H), 3.86 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 2.60 (d, J = 4.6 Hz, 3H), 1.29 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.27-1.17 (m, 1H), 0.62-0.55 (m, 2H), 0.36-0.30 (m, 2H).
実施例２５１～４３０
　上記の実施例と同様に化合物Ｉ－２５１～４３０を得た。以下に化合物Ｉ－２５１～４３０の構造式及び物理恒数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000355
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000356
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000357
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000358
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000359
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000360
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000361
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000362
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000363
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000364
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000365
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000366
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000367
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000368
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000369
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000370
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000371
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000372
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000373
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000374
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000375
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000376
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000377
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000378
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000379
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000380
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000381
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000382
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000383
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000384
実施例２５３　化合物Ｉ－２５３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000385
工程１　化合物１６４の合成
化合物１６３（４００ｍｇ、２．０１ｍｍｏｌ）及び２，５－ジブロモピリジン（４７７ｍｇ、２．０１ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（４．００ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（１．３１ｇ、４．０３ｍｍｏｌ）を加え、１４０℃で８時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６４（６５８ｍｇ、収率９２％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：0.73 (t, J = 8.0Hz, 3H), 1.29 (s, 6H), 1.63 (m, 2H), 6.87 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.26 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 7.40 (s, 1H), 7.78 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 8.19 (d, J = 4.0Hz, 1H).
工程２　化合物１６５の合成
化合物１６４（０．６４ｇ、１．８０ｍｍｏｌ）及び参考例００１にて合成した化合物２（０．５９ｇ、１．８０ｍｍｏｌ）のエタノール （６．５０ｍＬ）溶液に、2ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（１．８０ｍＬ）を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド （０．１３ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を加えてマイクロウェーブを照射し、８０℃にて１５分反応させた。反応液をクロロホルム（６．５０ｍＬ）にて稀釈し、ＷＳＣＤ （０．５２ｇ、２．７１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６５（０．４８ｇ、収率５７％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：0.72 (t, J = 8.0Hz, 3H), 1.28 (s, 6H), 1.64 (m, 2H), 1.66 (d, J = 8.0Hz, 3H), 5.08 (m, 1H), 6.55 (s, 2H), 6.88 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.24 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 7.39 (d, J = 4.0Hz, 1H), 7.71 (m, 4H), 7.78 (dd, J = 12.0, 4.0Hz, 1H), 7.84 (m, 4H), 8.08 (d, J = 4.0Hz, 1H).
工程３　化合物Ｉ－２５３の合成
化合物１６５（０．４８ｇ、１．００ｍｍｏｌ）をエタノール（１０ｍＬ）に溶解し、ヒドラジン一水和物（０．４９ｍＬ、１０．０ｍｍｏｌ）を加え２．５時間加熱還流した。放冷後、析出した固体をろ過除去し、濾液を減圧留去した。残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製した。得られた残渣をピリジン（３．００ｍＬ）に溶解し、氷冷下、塩化アセチル（０．０８６ｍＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－２５３（０．２９ｇ、収率７５％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：0.73 (t, J = 8.0Hz, 3H), 1.29 (s, 6H), 1.33 (d, J = 8.0Hz, 3H), 1.64 (m, 2H), 2.01 (s, 3H), 4.74 (m, 1H), 5.44 (d, J = 8.0Hz, 1H), 6.10 (dd, J = 12.0, 4.0Hz, 1H), 6.44 (d, J = 12.0Hz, 1H), 6.89 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.12 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.24 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 7.40 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.73 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 8.09 (d, J = 4.0Hz, 1H).
[M+H]=387、測定条件2：保持時間2.57分
実施例２６７　化合物Ｉ－２６７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000386
工程１　化合物１６７の合成
化合物１６６（４．３６ｇ、３０．４ｍｍｏｌ）及び２，５－ジブロモピリジン（６．００ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ（５０．０ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（４．２０ｇ、３０．４ｍｍｏｌ）を加え、１５０℃で５時間撹拌した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６７（３．９２ｇ、収率４７％）を純度９０％で得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.69 (s, 2H), 6.57-6.61 (m, 1H), 6.77 (d, J = 2.9Hz, 1H), 6.83 (d, J = 8.7Hz, 1H), 6.97 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.73-7.76 (m, 1H), 8.17 (d, J = 2.5Hz, 1H).
工程２　化合物１６８の合成
化合物１６７（３．９０ｇ、１１．７ｍｍｏｌ）をジオキサン（２０．０ｍＬ）に溶解し、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ジカーボナート（３．８４ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で７時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６８（３．９０ｇ、収率８３％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.49 (s, 9H), 7.08 (d, J = 8.9Hz, 1H), 7.22 (d, J = 8.9Hz, 1H), 7.38 (dd, J = 8.9, 2.2Hz, 1H), 7.71 (d, J = 2.2Hz, 1H), 8.04-8.07 (m, 1H), 8.22 (d, J = 2.7Hz, 1H), 9.59 (s, 1H).
工程３　化合物１６９の合成
化合物１６８（２．００ｇ、５．００ｍｍｏｌ）及び参考例００１にて合成した化合物２（２．２４ｇ、６．５１ｍｍｏｌ）のエタノール （２０．０ｍＬ）溶液に、2ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（５．００ｍＬ）を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド （０．３５１ｇ、０．５００ｍｍｏｌ）を加えてマイクロウェーブを照射し、８０℃にて２０分反応させた。反応液をクロロホルム（４０．０ｍＬ）にて稀釈し、ＷＳＣＤ （１．４４ｇ、７．５１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１６９（２．１０ｇ、収率８１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.51 (s, 9H), 1.66 (d, J = 7.1Hz, 3H), 5.07-5.09 (m, 1H), 6.48 (s, 1H), 6.53-6.55 (m, 2H), 6.88 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.7Hz, 1H), 7.20 (dd, J = 8.8, 2.6Hz, 1H), 7.62 (d, J = 2.4Hz, 1H), 7.69-7.84 (m, 5H), 8.04 (d, J = 2.0Hz, 1H).
工程４　化合物１７０の合成
化合物１６９（２．０９ｇ、４．０２ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１５．０ｍＬ）に溶解し、４０％メチルアミン水溶液（１０．０ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。不溶物を濾去、溶媒を減圧留去し、化合物１７０（１．６６ｇ、収率９５％）を純度９０％で得た。一部精製し、以下のデータを得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.25 (d, J = 6.5Hz, 3H), 1.52 (s, 9H), 3.66-3.68 (m, 1H), 6.13 (dd, J = 15.9, 6.5Hz, 1H), 6.40 (d, J = 15.9Hz, 1H), 6.52 (s, 1H), 6.89 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.9Hz, 1H), 7.21 (dd, J = 8.6, 2.4Hz, 1H), 7.63 (d, J = 2.4Hz, 1H), 7.73 (dd, J = 8.6, 2.4Hz, 1H), 8.06 (d, J = 2.2Hz, 1H).
工程５　化合物１７１の合成
化合物１７０（１．６６ｇ、３．８３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ピリジン（０．４６５ｇ、５．７５ｍｍｏｌ）及び塩化アセチル（０．４１ｍＬ、５．７５ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１７１（１．６４ｇ、収率９９％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (d, J = 6.9Hz, 3H), 1.52 (s, 9H), 2.01 (s, 3H), 4.69-4.76 (m, 1H), 5.44 (d, J = 7.9Hz, 1H), 6.09 (dd, J = 15.9, 5.7Hz, 1H), 6.43 (d, J = 15.9Hz, 1H), 6.53 (s, 1H), 6.88 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.7Hz, 1H), 7.20 (dd, J = 8.8, 2.6Hz, 1H), 7.62 (d, J = 2.3Hz, 1H), 7.71 (dd, J = 8.5, 2.4Hz, 1H), 8.05 (d, J = 2.3Hz, 1H).
工程６　化合物１７２の合成
化合物１７１（１．６４ｇ、３．８０ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１０．０ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（５．００ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１７２（１．０６ｇ、収率８１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.32 (d, J = 6.9Hz, 3H), 2.01 (s, 3H), 3.68 (s, 2H), 4.70-4.75 (m, 1H), 5.44 (d, J = 8.1Hz, 1H), 6.07 (dd, J = 16.0, 5.6Hz, 1H), 6.42 (d, J = 15.9Hz, 1H), 6.59 (dd, J = 8.5, 2.7Hz, 1H), 6.77 (d, J = 2.7Hz, 1H), 6.84 (d, J = 8.7Hz, 1H), 6.98 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.69 (dd, J = 8.5, 2.4Hz, 1H), 8.06 (d, J = 2.4Hz, 1H).
工程７　化合物１７３の合成
臭化銅（II）（３．６１ｇ、１６．２ｍｍｏｌ）のアセトにトリル（５０．０ｍＬ）懸濁液に、氷冷下、亜硝酸ｔｅｒｔ－ブチル（１．５１ｍＬ、１２．６ｍｍｏｌ）及び化合物１７２（３．３５ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌後した後、室温で２時間撹拌した。塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１７３（１．８７ｇ、収率４７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (d, J = 6.9Hz, 3H), 2.01 (s, 3H), 4.71-4.75 (m, 1H), 5.41 (d, J = 7.5Hz, 1H), 6.10 (dd, J = 15.9, 5.7Hz, 1H), 6.43 (d, J = 16.0Hz, 1H), 6.94 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.08 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.42 (dd, J = 8.4, 2.1Hz, 1H), 7.61 (d, J = 2.4Hz, 1H), 7.74 (dd, J = 8.5, 2.4Hz, 1H), 8.04 (d, J = 2.1Hz, 1H).
工程８　化合物Ｉ－２６７の合成
化合物１７３（２４ｍｇ、０．０６１ｍｍｏｌ）及びフェニルボロン酸（８．９ｍｇ、０．０７３ｍｍｏｌ）のエタノール （１．０ｍＬ）溶液に、2ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．０６１ｍＬ）を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド （４．３ｍｇ、０．００６１ｍｍｏｌ）を加えてマイクロウェーブを照射し、１００℃にて１０分反応させた。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－２６７（１８ｍｇ、収率７７％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.20 (d, J = 6.9Hz, 3H), 1.83 (s, 3H), 4.49 (dd, J = 12.9, 6.6Hz, 1H), 6.26 (dd, J = 16.0, 5.5Hz, 1H), 6.42 (d, J = 16.2Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.39 (t, J = 8.0Hz, 2H), 7.48 (t, J = 7.3Hz, 2H), 7.66-7.72 (m, 3H), 7.84 (d, J = 2.0Hz, 1H), 7.96-8.02 (m, 2H), 8.10 (d, J = 2.0Hz, 1H).
実施例３８９　化合物Ｉ－３８９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000387
工程１　化合物１７５の合成
化合物１７４（１０．０ｇ、６３．９ｍｍｏｌ）及び１－クロロメチル－４－メトキシベンゼン（１３．０ｇ、８３．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５０．０ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（１３．２ｇ、９６．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にヘキサンを加えて濾取し、化合物１７５（１７．０ｇ、収率９６％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：3.82 (s, 3H), 5.19 (s, 2H), 6.94 (m, 2H), 7.09 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.39 (m 2H), 7.74 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 7.93 (d, J = 4.0Hz, 1H), 9.85 (s, 1H). 
工程２　化合物１７６の合成
化合物１７５（５．００ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１００ｍＬ）溶液に、窒素気流下、１ｍｏｌ／Ｌ臭化エチルマグネシウムのＴＨＦ溶液（３６．２ｍＬ、３６．２ｍｍｏｌ）を滴下して加え、室温で４時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１７６（５．６０ｇ、収率１００％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：0.90 (t, J = 8.0Hz, 3H), 1.60-1.80 (m, 3H), 3.81 (s, 3H), 4.52 (t, J = 4.0Hz, 1H), 5.08 (s, 2H), 6.92 (m, 2H), 6.93 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.15 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 7.37 (d, J = 4.0Hz, 1H), 7.38 (m, 2H).
工程３　化合物１７７の合成
化合物１７６（５．６０ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（１５０ｍＬ）溶液に、ＩＢＸ（１５．３ｇ、５４．３ｍｍｏｌ）を加え、６時間加熱還流した。不溶物を濾去した後、濾液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて有機層と水層に分配した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にジイソプロピルエーテルを加えて濾取し、化合物１７７（４．６７ｇ、収率８４％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.21 (t, J = 8.0Hz, 3H), 2.93 (m, 2H), 3.82 (s, 3H), 5.16 (s, 2H), 6.93 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.01 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.38 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.84 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 8.02 (d, J = 4.0Hz, 1H).
工程４　化合物１７８の合成
化合物１７７（４．６５ｇ、１５．３ｍｍｏｌ）のアニソール（５０．０ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（４６．０ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣にヘキサンを加えて濾取し、化合物１７８（２．５５ｇ、収率９１％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.22 (t, J = 8.0Hz, 3H), 2.94 (q, J = 8.0Hz, 2H), 5.98 (s, 1H), 7.08 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.83 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 8.00 (d, J = 4.0Hz, 1H).
工程５　化合物１７９の合成
化合物１７８（１．００ｇ、５．４２ｍｍｏｌ）及び２，５－ジブロモピリジン（７．７０ｇ、３２．５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１５．０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（１７．６ｇ、５４．２ｍｍｏｌ）を加え、１４０℃で２４時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１７９（０．４６５ｇ、収率２５％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.24 (t, J = 8.0Hz, 3H), 3.00 (q, J = 8.0Hz, 2H), 6.98 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.28 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.84 (dd, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 7.92 (d, J = 8.0, 4.0Hz, 1H), 8.10 (d, J = 4.0Hz, 1H), 8.17 (d, J = 4.0Hz, 1H).
工程６　化合物１８０の合成
化合物１７９（０．２００ｇ、０．５８７ｍｍｏｌ）と[ビス（２－メトキシエチル）アミノ]スルファ　トリフルオリド（０．６５０ｇ、２．９４ｍｍｏｌ）を８０℃で１１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１８０（０．１５７ｇ、収率７４％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.03 (t, J = 7.4Hz, 3H), 2.16 (m, 2H), 6.95 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.23 (m, 1H), 7.41 (d, J = 8.3Hz, 1H), 7.59 (s, 1H), 7.82 (d, J = 6.7Hz, 1H) 8.16 (s, 1H).
工程７　化合物１８１の合成
化合物１８０（０．１５７ｇ、０．４３２ｍｍｏｌ）及び参考例００１にて合成した化合物２（０．１５６ｇ、０．４７６ｍｍｏｌ）のエタノール （３．００ｍＬ）溶液に、2ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．４３２ｍＬ）を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド （０．０３０ｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）を加えてマイクロウェーブを照射し、８０℃にて１５分反応させた。反応液をクロロホルム（６．００ｍＬ）にて稀釈し、ＷＳＣＤ （０．１６６ｇ、０．８６５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１８１（０．１４７ｇ、収率７０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.03 (t, J = 7.4Hz, 3H), 1.67 (d, J = 7.0Hz, 3H), 2.08-2.20 (m, 2H), 5.09 (m, 1H), 6.57 (m, 2H), 6.96 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.23 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.39 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.57 (s, 1H), 7.72 (m, 2H), 7.83 (m, 3H), 8.06 (s, 1H).
工程８　化合物Ｉ－３８９の合成
化合物１８１（０．１４７ｇ、０．３０４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３．００ｍＬ）とエタノール（０．５０ｍＬ）混合溶媒に溶解し、ヒドラジン一水和物（０．１５ｍＬ、３．０４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で４時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をジクロロメタン（３．００ｍＬ）に溶解した。氷冷撹拌下、ピリジン（０．０７４ｍＬ、０．９１３ｍｍｏｌ）を加えた後、塩化アセチル（０．０３３ｍＬ、０．４７５ｍｍｏｌ）を加え０．５時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－３８９（０．１０８ｇ、収率９０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.03 (t, J = 7.4Hz, 3H), 1.34 (d, J = 6.8Hz, 3H), 2.02 (s, 3H), 2.16 (m, 2H), 4.74 (m, 1H), 5.44 (d, J = 7.8Hz, 1H), 6.12 (dd, J = 16.1, 5.6Hz, 1H), 6.45 (d, J = 16.1Hz, 1H), 6.96 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.25 (m, 1H), 7.40 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.58 (s, 1H), 7.77 (d, J = 8.3Hz, 1H), 8.07 (s, 1H).
実施例４２５　化合物Ｉ－４２５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000388
工程１　化合物１８３の合成
化合物１８２（０．３００ｇ、１．８２ｍｍｏｌ）及び２，５－ジブロモピリジン（０．５１６ｇ、２．１８ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２．００ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（１．７８ｇ、５．４５ｍｍｏｌ）を加え、１４０℃で５時間撹拌した。水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１８３（０．４１２ｇ、収率７１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.84 (s, 3H), 6.89 (d, J = 8.7Hz, 1H), 7.21 (dd, J = 8.8, 2.4Hz, 1H), 7.59 (d, J = 2.3Hz, 1H), 7.80 (dd, J = 8.7, 2.5Hz, 1H), 7.95 (d, J = 8.8Hz, 1H), 8.21 (d, J = 2.0Hz, 1H).
工程２　化合物１８４の合成
化合物１８３（０．１００ｇ、０．３１１ｍｍｏｌ）及び参考例００１にて合成した化合物２（０．１２２ｇ、０．３７４ｍｍｏｌ）のエタノール （４．００ｍＬ）溶液に、2ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．３１１ｍＬ）を加え、窒素置換し、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム(ＩＩ)ジクロリド （０．０２２ｇ、０．０３１ｍｍｏｌ）を加えてマイクロウェーブを照射し、１００℃にて１５分反応させた。反応液をクロロホルム（８．００ｍＬ）にて稀釈し、ＷＳＣＤ （０．１１９ｇ、０．６２３ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を食塩水及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物１８４（０．０７９ｇ、収率５８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.67 (d, J = 7.0Hz, 3H), 2.83 (s, 3H), 5.06-5.13 (m, 1H), 6.57 (dd, J = 22.0, 16.2Hz, 2H), 6.90 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.21 (dd, J = 8.8, 2.4Hz, 1H), 7.58 (d, J = 2.4Hz, 1H), 7.71-7.74 (m, 2H), 7.82 (m, 3H), 7.93 (d, J = 8.8Hz, 1H), 8.1 (d, J = 2.3Hz, 1H).
工程３　化合物Ｉ－４３５の合成
化合物１８４（０．０７９３ｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３．００ｍＬ）とエタノール（０．５０ｍＬ）混合溶媒に溶解し、ヒドラジン一水和物（０．１７５ｍＬ、３．５９ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で４．５時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をメタノール（２．００ｍＬ）に溶解した。氷冷撹拌下、無水酢酸（０．０２５ｍＬ、０．２６９ｍｍｏｌ）を加え２時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－４２５（０．０５５３ｇ、収率８７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (d, J = 6.8Hz、3H), 2.02 (t, J = 15.7Hz, 3H), 2.83 (s, 3H), 4.75 (dd, J = 12.8, 6.8Hz, 1H), 5.44 (d, J = 8.0Hz, 1H), 6.12 (dd, J = 16.1, 5.5Hz, 1H), 6.45 (d, J = 16.1Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.22 (dd, J = 8.8, 2.5Hz, 1H), 7.59 (d, J = 2.3Hz, 1H), 7.74 (dd, J = 8.5, 2.5Hz, 1H), 7.94 (d, J = 8.8Hz, 1H), 8.12 (d, J = 2.3Hz, 1H).
実施例４３１～５２０　上記の実施例と同様に化合物Ｉ－４３１～５２０を得た。化合物Ｉ－４３１～５２０の構造式及び物理恒数を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000389
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000390
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000391
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000392
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000393
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000394
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000395
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000396
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000397
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000398
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000399
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000400
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000401
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000402
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000403
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000404
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000405
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000406
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000407
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000408
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000409
実施例４５４　Ｉ－４５４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000410
工程１　化合物Ｉ－４５４ａの合成
化合物Ｉ－１８（２．００ｇ、５．７７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２０．０ｍＬ）に溶解し、－７８℃で１．００ｍｏｌ／Ｌ三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（１７．３ｍＬ、１７．３ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で９時間撹拌した。飽和飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物Ｉ－４５４ａ（１．５４ｇ、収率８０％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.20 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.83 (s, 3H), 4.44-4.55 (m, 1H), 6.24 (dd, J = 16.1, 5.5 Hz, 1H), 6.41 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 6.77 (dd, J = 8.8, 2.8 Hz, 1H), 6.90 (d, J = 2.8 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.95 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 7.99 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.07 (d, J = 2.3 Hz, 1H), 9.84 (s, 1H).
[M+H]=333、測定条件2：保持時間1.52分
工程２　化合物Ｉ－４５４ｂの合成
化合物Ｉ－４５４ａ（０．７８０ｇ、２．３４ｍｍｏｌ）及び1，1，1－トリフルオロ－Ｎ－フェニル－Ｎ－（トリフルオロメチルスルフォニル）メタンスルフォンアミド（１．２６ｇ、３．５２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（８．００ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．６５０ｍＬ、４．６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－４５４ｂ（１．１２ｇ、収率１００％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.34 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 2.02 (s, 3H), 4.69-4.80 (m, 1H), 5.42 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 6.13 (dd, J = 16.1, 5.8 Hz, 1H), 6.45 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.24 (dd, J = 8.8, 2.8 Hz, 1H), 7.29 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.42 (d, J = 2.8 Hz, 1H), 7.78 (dd, J = 8.5, 2.3 Hz, 1H), 8.05 (d, J = 2.5 Hz, 1H).
[M+H]=465、
測定条件2：保持時間2.29分
工程３　化合物Ｉ－４５４ｃの合成
化合物Ｉ－４５４ｂ（０．６００ｇ、１．２９ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（０．３９３ｇ、１．５５ｍｍｏｌ）、（ジフェニルホスフィノフェロセン）パラジウム（II）ジクロリド ジクロロメタンコンプレックス（０．１０５ｇ、０．１２９ｍｍｏｌ）及び酢酸カリウム（０．３８０ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（６．００ｍＬ）溶液を１３０℃にて３時間反応させた。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－４５４ｃ（０．４７０ｇ、収率８２％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.33 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.34 (s, 12 H), 2.02 (s, 3H), 4.69-4.79 (m, 1H), 5.46 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 6.10 (dd, J = 16.1, 5.8 Hz, 1H), 6.44 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 6.92 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.19 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.71-7.77 (m, 2H), 7.92 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 8.07 (d, J = 2.3 Hz, 1H).
[M+H]=443、
測定条件2：保持時間2.46分
工程４　Ｉ－４５４の合成
化合物８（０．０４０ｇ、０．０９０ｍｍｏｌ）、２－クロロ－５－フルオロピリミジン（０．０１４ｇ、０．１０８ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０．０１０ｇ、０．００９ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（０．０１９２、０．１８１ｍｍｏｌ）のジオキサン（１．２ｍＬ）－水（０．４０ｍＬ）混合溶液を１００℃にて１５分間反応させた。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去してＩ－４５４（０．０３５ｇ、収率９５％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.34 (d, J = 6.5 Hz, 3H), 2.02 (s, 3H), 4.69-4.80 (m, 1H), 5.44 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 6.12 (dd, J = 16.2, 5.4 Hz, 1H), 6.45 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 6.98 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.30 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.09 (s, 1H), 8.35 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.55 (s, 1H), 8.65 (s, 2H).
[M+H]=413、測定条件2：保持時間2.14分
実施例４７１　Ｉ－４７１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000411
工程１　化合物２４１の合成
２－（ジエトキシホスホリル）－２－フルオロ酢酸（３．５２ｇ、１６．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０．０ｍＬ）懸濁液に、氷冷撹拌下、０．７５ｍｏｌ／Ｌ臭化イソプロピルマグネシウムのＴＨＦ溶液（４５．９ｍＬ、３４．４ｍｍｏｌ）を滴下して加え、氷冷下で1時間撹拌した。化合物２４０（３．００ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０．０ｍＬ）溶液を滴下して加え、４０℃で３時間撹拌した。塩酸水溶液を加え、メチルエチルケトンで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して化合物２４１（３．９１ｇ、収率９９％）を粗精製物として得た。
工程２　化合物２４２の合成
得られた化合物２４１をＤＭＦ（３０．０ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（１．６８ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（６．５４ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（６．５１ｍＬ、４６．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２４２（１．７４ｇ、収率３９％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.29 (s, 3H), 3.80 (s, 3H), 6.65 (d, J = 36.4 Hz, 1H), 7.52 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.84 (dd, J = 8.5, 2.1 Hz, 1H), 8.51 (d, J = 2.1 Hz, 1H).
[M+H]=289.0、測定条件2：保持時間1.69分
工程３　化合物２４３の合成
化合物２４２（１．７４ｇ、６．０２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０．０ｍＬ）に溶解し、氷冷撹拌下、３．０ｍｏｌ／Ｌ臭化メチルマグネシウムのジエチルエーテル溶液（３．００ｍＬ、９．００ｍｍｏｌ）を滴下して加えた後、室温まで昇温して１時間撹拌した。塩酸水溶液を加えて反応を停止した。水を加えて希釈した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して化合物２４３（１．５１ｇ）を粗精製物として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.43 (d, J = 3.8 Hz, 3H), 6.76 (d, J = 35.6 Hz, 1H), 7.55 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.89 (dd, J = 8.4, 2.3 Hz, 1H), 8.56 (d, J = 2.3 Hz, 1H).
[M+H]=245.8、測定条件2：保持時間1.69分
工程４　化合物２４４の合成
得られた化合物２４３をＴＨＦ（２０．０ｍＬ）に溶解し、（Ｒ）－２－メチルプロパン－２－スルフィンアミド（１０．９ｇ、９．０３ｍｍｏｌ）及びテトライソプロピルオキシチタン（２．７３ｍＬ、９．０３ｍｍｏｌ）を加え、一晩加熱還流した。－７８℃に冷却し、１．０２ｍｏｌ／Ｌ水素化ジイソブチルアルミニウムのＴＨＦ溶液（７．６７ｍＬ、７．８２ｍｍｏｌ）を加え６時間撹拌した。食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して化合物２４４（２．５６ｇ）を粗精製物として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.24 (s, 9H), 1.49 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 3.48-3.55 (m, 1H), 4.05-4.16 (m, 1H), 5.79 (d, J = 38.4 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.76 (dd, J = 8.3, 2.5 Hz, 1H), 8.38 (d, J = 2.5 Hz, 1H).
[M+H]=350.7、測定条件2：保持時間1.88分
工程５　化合物２４５の合成
化合物２４４（２．１０ｇ、６．０１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（８．００ｍＬ）に溶解し、氷冷下、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－ジオキサン溶液（３．０１ｍＬ）を加え、１．５時間攪拌した。酢酸エチルを加えて析出した固体を濾取して化合物２４５（１．５３ｇ、収率９０％）を得た。
工程６　化合物２４６の合成
化合物２４５（２．０９ｇ、６．００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ピリジン（０．８７５ｍＬ、１０．８ｍｍｏｌ）、無水酢酸（０．８５３ｍＬ、９．０２ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をヘキサン－酢酸エチルから析出した固体を濾取して化合物２４６（０．８０８ｇ、収率４７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.42 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 2.03 (s,3H), 4.76-4.88 (m, 1H), 5.58-5.74 (m, 2H), 7.44 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.71 (dd, J = 8.3, 2.3 Hz, 1H), 8.38 (d, J = 2.3 Hz, 1H).
[M+H]=289.0、測定条件2：保持時間1.44分
工程７　Ｉ－４７１の合成
２－クロロ－４－エトキシフェノール（０．１２５ｇ、０．７２４ｍｍｏｌ）をジオキサン（４．００ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノグリシン（０．０１７２ｇ、０．１６７ｍｍｏｌ）、化合物２４６（０．１６０ｇ、０．５５７ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（０．０１０６ｇ、０．０５６ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（０．５４５ｇ、１．６７ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下、１５０℃で１時間１５分間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ－４７１（０．１７２ｇ、収率８２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.39-1.43 (m, 6H), 2.02 (s, 3H), 4.02 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 4.74-4.87 (m, 1H), 5.62-5.72 (m, 2H), 6.84 (dd, J = 8.8, 2.5 Hz, 1H), 6.90 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.99 (d, J = 2.6 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.89 (dd, J = 8.5, 2.0 Hz, 1H), 8.16 (brs, 1H).
[M+H]=379.0、測定条件2：保持時間2.16分
実施例５２１　Ｉ’－１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000412
工程１　化合物２４８の合成
化合物２４７（２．００ｇ、１６．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４０．０ｍＬ）溶液に、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルクロリド（２．８１ｇ、１８．６ｍｍｏｌ）、イミダゾール（１．７３ｇ、２５．４ｍｍｏｌ）及び４－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（０．２０７ｇ、１．６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２４８（３．２８ｇ、収率８３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.00 (s, 6H), 0.84 (s, 9H), 1.10 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 2.57-2.66 (m, 1H), 3.59-3.64 (m, 4.0H), 3.74 (dd, J = 9.2, 7.3 Hz, 1H).
[M+H]=233.0、測定条件2：保持時間2.82分
工程２　化合物２４９の合成
化合物２４８（１．３５ｇ、５．８１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０．０ｍＬ）溶液に、－７８℃で１．０２ｍｏｌ／Ｌ水素化ジイソプロピルアルミニウムのＴＨＦ溶液（１４．２ｍＬ、１４．５ｍｍｏｌ）を加えた後、－７８℃で３０分間撹拌した。メタノールを加えて不溶物を濾去した。濾液を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム－メタノール）により精製して化合物２４９（０．３８０ｇ、収率３２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.08 (s, 6H), 0.84 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 0.89-0.95 (m, 10H), 1.90-2.00 (m, 1H), 2.85 (dd, J = 7.0, 4.0 Hz, 1H), 3.55(dd, J = 9.8, 8.0 Hz, 1H, 3.58-3.68 (m, 2H), 3.75 (dd, J = 9.8, 4.5 Hz, 1H).
[M+H]=205.0、測定条件2：保持時間2.43分
工程３　化合物２５０の合成
オキサリルクロリド（０．２４４ｍＬ、２．７９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１４．０ｍＬ）溶液に、－７８℃でＤＭＳＯ（０．３９６ｍＬ、５．５８ｍｍｏｌ）、化合物２４９（０．３４０ｇ、１．６６ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１．６８ｍＬ、１２．１ｍｍｏｌ）を加え、－７８℃で４時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２５０（０．２１４ｇ、収率６４％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.05 (s, 6H), 0.88 (s, 9H), 1.09 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 2.49-2.58 (m, 1H), 3.79-3.88 (m, 2H), 9.74 (d, J = 1.5 Hz, 1H).
工程４　化合物２５２の合成
化合物２５１（２．６０ｇ、１６．４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（３０．０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（８．０１ｇ、２４．６ｍｍｏｌ）と６－ブロモニコチンアルデヒド（３．０５ｇ、１６．４ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で３０分間撹拌した。水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２５２（３．２７ｇ、収率７６％）を得た。
[M+H]=264.1、測定条件2：保持時間2.02分
工程５　化合物の２５３合成
化合物２５２（２．００ｇ、７．５９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３０．０ｍＬ）に溶解し、１．００ｍｏｌ／Ｌ三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（３０．３ｍＬ、３０．３ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で２時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して化合物２５３（２．０３ｇ）を粗精製物として得た。
[M+H]=249.8、測定条件2：保持時間1.58分
工程６　化合物２５４の合成
化合物２５３（２．０３ｇ）をＤＭＦ（３０．０ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（２．６２ｇ、１９．０ｍｍｏｌ）とヨードエタン（０．７９７ｍＬ、９．８６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２５４（１．６２ｇ、収率７７％）を得た。
[M+H]=278.1、測定条件2：保持時間2.22分
工程７　化合物２５５の合成
化合物２５４（０．５５５ｇ、２．００ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８．００ｍＬ）とメタノール（４．００ｍＬ）混合溶媒に溶解し、氷冷撹拌下、水素化ホウ素ナトリウム（０．０９８ｇ、２．６０ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して化合物２５５（０．５９６ｇ）を粗精製物として得た。
[M+H]=280.9、測定条件2：保持時間1.86分
工程８　化合物２５６の合成
化合物２５５（０．５９６ｇ）をジクロロメタン（１０．０ｍＬ）に溶解し、四臭化炭素（０．７３６ｇ、２．２０ｍｍｏｌ）と固相担持トリフェニルホスフィン（１．００ｇ、３．００ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。不溶物を濾去し、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２５６（０．３９２ｇ、収率５７％）を得た。
[M+H]=344.0、測定条件2：保持時間2.51分
工程９　化合物２５７の合成
化合物２５６（０．５９６ｇ）をトルエン（４．００ｍＬ）に溶解し、トリフェニルホスフィン（０．３２５ｇ、１．２４ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で３時間撹拌した。析出した固体を濾取して、化合物２５７（０．６４５ｇ）を粗精製物として得た。
[M+H]=525.4、測定条件2：保持時間1.89分
工程１０　化合物２５８の合成
化合物２５７（０．５９８ｇ、０．９９０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０．０ｍＬ）に溶解し、－７８℃で１．０９ｍｏｌ／ＬナトリウムヘキサメチルジシリルアミドのＴＨＦ溶液（０．９０７ｍＬ、０．９８９ｍｍｏｌ）を加えた後、－７８℃で０．５時間撹拌した。化合物２５０（０．２１２ｇ、１．０５ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２５８（０．１６２ｇ、収率３２％）を得た。
[M+H]=448.4、測定条件2：保持時間3.44分
工程１１　化合物２５９の合成
化合物２５８（０．１６２ｇ）をＴＨＦ（１．００ｍＬ）に溶解し、１．００ｍｏｌ／ＬテトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液（０．４９４ｍＬ、０．４９４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２５９（０．０２４ｇ、収率７．３％）を得た。
[M+H]=334.2、測定条件2：保持時間2.29分
工程１２　化合物２６０の合成
化合物２５９（０．０２４ｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（０．５００ｍＬ）に溶解し、ピリジン（０．０４７ｍＬ、０．５７５ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルクロリド（０．０２２ｍＬ、０．２８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２６０（０．０１９ｇ、収率６３％）を得た。
[M+H]=412.0、測定条件2：保持時間2.47分
工程１３　化合物２６１の合成
化合物２６０（０．０１９ｇ、０．０４５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１．００ｍＬ）に溶解し、アジ化ナトリウム（０．００６ｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で一晩撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２６１（０．０１７ｇ、収率６４％）を得た。
[M+H]=359.2、測定条件2：保持時間2.82分
工程１４　化合物２６２の合成
化合物２６１（０．０１７ｇ、０．０４６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１．００ｍＬ）と水（０．１０ｍＬ）混合溶媒に溶解し、トリフェニルホスフィン（０．０１４０ｇ、０．０５３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応混合物を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物２６２（０．０２９ｇ）を得た。
[M+H]=333.0、測定条件2：保持時間1.58分
工程１５　Ｉ’－１の合成
化合物３１（０．０２９ｇ）をメタノール（１．００ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（０．０１３ｍＬ、０．１３８ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン－酢酸エチル）により精製して化合物Ｉ’－１（０．００８ｇ、収率４６％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.11 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.42 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 2.46-2.56 (m, 1H), 3.08-3.15 (m, 1H), 3.36-3.42 (m, 1H), 4.02 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 5.48 (brs, 1H), 5.97 (dd, J = 15.8, 8.0 Hz, 1H), 6.35 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 6.84 (dd, J = 8.9, 2.9 Hz, 1H), 6.89 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 2.9 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.74 (dd, J = 8.5, 2.4 Hz, 1H), 8.05 (d, J = 2.4 Hz, 1H).
[M+H]=375.0、測定条件2：保持時間2.19分
　以下に、本発明化合物の生物試験例を記載する。
調製例１：リコンビナントヒトＡＣＣ２の調製
　ヒトＡＣＣ２蛋白質（Ｎ末より２７アミノ酸残基～２４５８アミノ酸残基）をコードするｃＤＮＡをヒト腎臓ｃＤＮＡライブラリー（クロンテック社）よりクローニングし、５’末端にＨｉｓ－ｔａｇ配列を導入後、ｐＦａｓｔＢａｃ１（インビトロジェン社）に挿入した。Ｂａｃ－ｔｏ－Ｂａｃバキュロウイルス発現システム　（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ社）のプロトコールに従い、組換えバキュロウィルスを作製後、Ｓｆ－９細胞に感染させ、ヒトＡＣＣ２蛋白質を発現させた。回収した細胞を破砕し、フィルターろ過後、Ｎｉアフィニティクロマトグラフィー及び陰イオン交換クロマトグラフィーに供した。ヒトＡＣＣ２蛋白質が含まれている画分を回収し、リコンビナントヒトＡＣＣ２を得た。
調製例２：リコンビナントヒトＡＣＣ１の調製
　ヒトＡＣＣ１蛋白質（Ｎ末より１アミノ酸残基～２３４６アミノ酸残基）をコードするｃＤＮＡをヒト肝臓ｃＤＮＡライブラリー（ＢｉｏＣｈａｉｎ社）よりクローニングし、３’末端にｍｙｃタグ及びＨｉｓ－ｔａｇ配列を導入後、ｐＩＥＸＢＡＣ３（ノバジェン社）に挿入した。ＦｌａｓｈＢＡＣＧＯＬＤ（オックスフォード　エクスプレッション　テクノロジーズ社）のプロトコールに従い、組換えバキュロウィルスを作製後、Ｓｆ－９細胞に感染させ、ヒトＡＣＣ１蛋白質を発現させた。回収した細胞を破砕し、フィルターろ過後、Ｎｉアフィニティクロマトグラフィー及び陰イオン交換クロマトグラフィーに供した。ヒトＡＣＣ１蛋白質が含まれている画分を回収し、リコンビナントヒトＡＣＣ１を得た。
試験例１：ヒトＡＣＣ１及びＡＣＣ２阻害活性の測定
　上記の調製例により得たリコンビナントヒトＡＣＣ１及びリコンビナントヒトＡＣＣ２を、アッセイ緩衝液（50 mM HEPES-KOH (pH 7.4), 10 mM 塩化マグネシウム、6～10 mM クエン酸カリウム、4 mM 還元型グルタチオン、1.5 mg/ml 牛血清アルブミン）中で1時間プレインキュベーションを行った。ついで、0.2μLの各々の本発明化合物溶液（DMSO）を分注した384穴マイクロプレートに、プレインキュベーションした酵素溶液5μLと基質溶液（50 mM HEPES-KOH (pH 7.4)、1 mM ATP、0.8 mM アセチルCoA、25～50 mM 炭酸水素カリウム）5μLを添加し、遠心、振とう後、湿潤箱中で室温、1～3時間インキュベーションした。インキュベーション後にEDTAの添加により酵素反応を停止し、その後、MALDIターゲットプレート上でCHCA (α-cyano-4-hydroxy cinnamic acid)マトリックスと共結晶させ、マトリックス支援レーザー脱離イオン化－飛行時間型質量分析計（MALDI-TOF MS）を用いて、リフレクターネガティブモードで測定を行った。基質のアセチルCoA (AcCoA)と反応産物であるマロニルCoA (MalCoA)の脱プロトン化イオンを検出し、それぞれのシグナル強度を用いてマロニルCoAへの変換率Intensity of [MalCoA-H]―/(Intensity of [MalCoA-H]― + Intensity of [AcCoA-H]―)を算出した。各化合物濃度における酵素反応の阻害率から５０％阻害濃度（ＩＣ５０値）を算出した。なお、アッセイ緩衝液中のクエン酸カリウム濃度、基質溶液中の炭酸水素カリウム濃度及びインキュベーションの時間は、使用する酵素のロット毎に上記の濃度又は反応時間内で調整した。
　ヒトＡＣＣ１阻害活性については化合物Ｉ－１、Ｉ－３０、Ｉ－６０、Ｉ－１００、Ｉ－１３０、Ｉ－１６０、Ｉ－１８０、Ｉ－２１０、Ｉ－２５０、Ｉ－３００、Ｉ－３２０、Ｉ－３９０、Ｉ－４２０及びＩ－４３８についてＩＣ５０値を測定し、いずれの化合物もＩＣ５０値は１００μＭ以上であった。
　各本発明化合物のヒトＡＣＣ２の阻害活性を以下の表７９～８４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000413
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000414
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000415
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000416
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000417
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000418
試験例２：ＣＹＰ阻害試験
　市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要ＣＹＰ５分子種（ＣＹＰ１Ａ２、２Ｃ９、２Ｃ１９、２Ｄ６、３Ａ４）の典型的基質代謝反応として７－エトキシレゾルフィンのＯ－脱エチル化（ＣＹＰ１Ａ２）、トルブタミドのメチル－水酸化（ＣＹＰ２Ｃ９）、メフェニトインの４’－水酸化（ＣＹＰ２Ｃ１９）、デキストロメトルファンのＯ脱メチル化（ＣＹＰ２Ｄ６）、テルフェナジンの水酸化（ＣＹＰ３Ａ４）を指標とし、それぞれの代謝物生成量が本発明化合物によって阻害される程度を評価する。
　反応条件は以下のとおり：基質、０．５μｍｏｌ／Ｌ　エトキシレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２）、１００μｍｏｌ／Ｌ　トルブタミド（ＣＹＰ２Ｃ９）、５０μｍｏｌ／Ｌ　Ｓ－メフェニトイン（ＣＹＰ２Ｃ１９）、５μｍｏｌ／Ｌ　デキストロメトルファン（ＣＹＰ２Ｄ６）、１μｍｏｌ／Ｌ　テルフェナジン（ＣＹＰ３Ａ４）；反応時間、１５分；反応温度、３７℃；酵素、プールドヒト肝ミクロソーム０．２ｍｇ　タンパク質／ｍＬ；本発明化合物濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。
　９６穴プレートに反応溶液として、５０ｍｍｏｌ／Ｌ　Ｈｅｐｅｓ緩衝液中に各５種の基質、ヒト肝ミクロソーム、本発明化合物を上記組成で加え、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して、指標とする代謝反応を開始する。３７℃、１５分間反応した後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を添加することで反応を停止する。３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中のレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２代謝物）を蛍光マルチラベルカウンタで定量し、トルブタミド水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ９代謝物）、メフェニトイン４’水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ１９代謝物）、デキストロルファン（ＣＹＰ２Ｄ６代謝物）、テルフェナジンアルコール体（ＣＹＰ３Ａ４代謝物）をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量する。
　薬物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出する。
試験例３：ＢＡ試験
経口吸収性の検討実験材料と方法
（１）使用動物：マウスあるいはＳＤラットを使用する。
（２）飼育条件：マウスあるいはＳＤラットは、固形飼料及び滅菌水道水を自由摂取させる。
（３）投与量、群分けの設定：経口投与、静脈内投与を所定の投与量により投与する。以下のように群を設定する。（化合物ごとで投与量は変更有）
　経口投与　１～３０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２～３）
　静脈内投与　０．５～１０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２～３）
（４）投与液の調製：経口投与は溶液又は懸濁液として投与する。静脈内投与は可溶化して投与する。
（５）投与方法：経口投与は、経口ゾンデにより強制的に胃内に投与する。静脈内投与は、注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与する。
（６）評価項目：経時的に採血し、血漿中本発明化合物濃度をＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて測定する。
（７）統計解析：血漿中本発明化合物濃度推移について、非線形最小二乗法プログラムＷｉｎＮｏｎｌｉｎ（登録商標）を用いて血漿中濃度‐時間曲線下面積（ＡＵＣ）を算出し、経口投与群と静脈内投与群のＡＵＣから本発明化合物のバイオアベイラビリティ（ＢＡ）を算出する。
試験例４：代謝安定性試験
　市販のプールドヒト肝ミクロソームと本発明化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、本発明化合物が肝で代謝される程度を評価する。
　ヒト肝ミクロソーム０．５ｍｇタンパク質／ｍＬを含む０．２ｍＬの緩衝液（５０ｍｍｏｌ／Ｌ　Ｔｒｉｓ－ＨＣｌ　ｐＨ７．４、１５０ｍｍｏｌ／Ｌ　塩化カリウム、１０ｍｍｏｌ／Ｌ　塩化マグネシウム）中で、１ｍｍｏｌ／Ｌ　ＮＡＤＰＨ存在下で３７℃、０分あるいは３０分間反応させる（酸化的反応）。反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（ｖ／ｖ）溶液の１００μＬに反応液５０μＬを添加、混合し、３０００ｒｐｍで１５分間遠心する。その遠心上清中の本発明化合物をＬＣ／ＭＳ／ＭＳにて定量し、反応後の本発明化合物の残存量を０分反応時の化合物量を１００％として計算する。なお、加水分解反応はＮＡＤＰＨ非存在下で、グルクロン酸抱合反応はＮＡＤＰＨに換えて５ｍｍｏｌ／Ｌ　ＵＤＰ－グルクロン酸の存在下で反応を行い、以後同じ操作を実施する。
試験例５：ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験
　ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験は、代謝反応による本発明化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害の増強を調べる試験である。ＣＹＰ３Ａ４酵素（大腸菌発現酵素）により７－ベンジルオキシトリフルオロメチルクマリン（７－ＢＦＣ）が脱ベンジル化されて、蛍光を発する代謝物７－ハイドロキシトリフルオロメチルクマリン（７－ＨＦＣ）が生じる。７－ＨＦＣ生成反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価する。
　反応条件は以下のとおり：基質、５．６μｍｏｌ／Ｌ　７－ＢＦＣ；プレ反応時間、０又は３０分；反応時間、１５分；反応温度、２５℃（室温）；ＣＹＰ３Ａ４含量（大腸菌発現酵素）、プレ反応時６２．５ｐｍｏｌ／ｍＬ、反応時６．２５ｐｍｏｌ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明化合物濃度、０．６２５、１．２５、２．５、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（６点）。
　９６穴プレートにプレ反応液としてＫ－Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中に酵素、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ－Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ　Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止する。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ－Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始する。所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ　Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止する。それぞれの指標反応を行ったプレートを蛍光プレートリーダーで代謝物である７－ＨＦＣの蛍光値を測定する。（Ｅｘ＝４２０ｎｍ、Ｅｍ＝５３５ｎｍ）
　本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出する。ＩＣ５０値の差が５μｍｏｌ／Ｌ以上の場合を（＋）とし、３μｍｏｌ／Ｌ以下の場合を（－）とする。
試験例６：Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎ　Ａｍｅｓ　Ｔｅｓｔ
　本発明化合物の変異原性を評価する。
　凍結保存しているネズミチフス菌（Ｓａｌｍｏｎｅｌｌａ　ｔｙｐｈｉｍｕｒｉｕｍ　ＴＡ９８株、ＴＡ１００株）２０μＬを１０ｍＬ液体栄養培地（２．５％　Ｏｘｏｉｄ　ｎｕｔｒｉｅｎｔ　ｂｒｏｔｈ　Ｎｏ．２）に接種し３７℃にて１０時間、振盪前培養する。ＴＡ９８株は９ｍＬの菌液を遠心（２０００×ｇ、１０分間）して培養液を除去する。９ｍＬのＭｉｃｒｏ　Ｆ緩衝液（Ｋ２ＨＰＯ４：３．５ｇ／Ｌ、ＫＨ２ＰＯ４：１ｇ／Ｌ、（ＮＨ４）２ＳＯ４：１ｇ／Ｌ、クエン酸三ナトリウム二水和物：０．２５ｇ／Ｌ、ＭｇＳＯ４・７Ｈ２０：０．１ｇ／Ｌ）に菌を懸濁し、１１０ｍＬのＥｘｐｏｓｕｒｅ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）に添加する。ＴＡ１００株は３．１６ｍＬ菌液に対しＥｘｐｏｓｕｒｅ培地１２０ｍＬに添加し試験菌液を調製する。本発明化合物ＤＭＳＯ溶液（最高用量５０ｍｇ／ｍＬから２～３倍公比で数段階希釈）、陰性対照としてＤＭＳＯ、陽性対照として非代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対しては５０μｇ／ｍＬの４－ニトロキノリン－１－オキシドＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては０．２５μｇ／ｍＬの２－（２－フリル）－３－（５－ニトロ－２－フリル）アクリルアミドＤＭＳＯ溶液、代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対して４０μｇ／ｍＬの２－アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては２０μｇ／ｍＬの２－アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液それぞれ１２μＬと試験菌液５８８μＬ（代謝活性化条件では試験菌液４９８μＬとＳ９　ｍｉｘ　９０μＬの混合液）を混和し、３７℃にて９０分間、振盪培養する。本発明化合物を暴露した菌液４６０μＬを、Ｉｎｄｉｃａｔｏｒ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬ、ブロモクレゾールパープル：３７．５μｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）２３００μＬに混和し５０μＬずつマイクロプレート４８ウェル／用量に分注し、３７℃にて３日間、静置培養する。アミノ酸（ヒスチジン）合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、ｐＨ変化により紫色から黄色に変色するため、１用量あたり４８ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価する。変異原性が陰性のものを（－）、陽性のものを（＋）として示す。
試験例７：ｈＥＲＧ試験
　本発明化合物の心電図ＱＴ間隔延長リスク評価を目的として、ｈｕｍａｎ　ｅｔｈｅｒ－ａ－ｇｏ－ｇｏ　ｒｅｌａｔｅｄ　ｇｅｎｅ　（ｈＥＲＧ）チャンネルを発現させたＨＥＫ２９３細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流Ｋ＋電流（ＩＫｒ）への本発明化合物の作用を検討する。
　全自動パッチクランプシステム（ＰａｔｃｈＸｐｒｅｓｓ　７０００Ａ、ＡｘｏｎＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　Ｉｎｃ．）を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を－８０ｍＶの膜電位に保持した後、＋４０ｍＶの脱分極刺激を２秒間、さらに－５０ｍＶの再分極刺激を２秒間与えた際に誘発されるＩＫｒを記録する。発生する電流が安定した後、本発明化合物を目的の濃度で溶解させた細胞外液（ＮａＣｌ：１３５　ｍｍｏｌ／Ｌ、ＫＣｌ：５．４　ｍｍｏｌ／Ｌ、ＮａＨ２ＰＯ４：０．３ｍｍｏｌ／Ｌ、ＣａＣｌ２・２Ｈ２Ｏ：１．８ｍｍｏｌ／Ｌ、ＭｇＣｌ２・６Ｈ２Ｏ：１ｍｍｏｌ／Ｌ、グルコース：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＨＥＰＥＳ（４－（２－ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ）－１－ｐｉｐｅｒａｚｉｎｅｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ　ａｃｉｄ、４－（２－ヒドロキシエチル）－１－ピペラジンエタンスルホン酸）：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ＝７．４）を室温条件下で、１０分間細胞に適用させる。得られたＩＫｒから、解析ソフト（ＤａｔａＸｐｒｅｓｓ　ｖｅｒ．１、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｄｅｖｉｃｅｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測する。さらに、本発明化合物適用前の最大テール電流に対する阻害率を算出し、媒体適用群（０．１％ジメチルスルホキシド溶液）と比較して、本発明化合物のＩＫｒへの影響を評価する。
試験例８：溶解性試験
　本発明化合物の溶解度は、１％ＤＭＳＯ添加条件下で決定する。ＤＭＳＯにて１０ｍｍｏｌ／Ｌ化合物溶液を調製し、本発明化合物溶液６　μＬをｐＨ６．８人工腸液（０．２ｍｏｌ／Ｌ　リン酸二水素カリウム試液　２５０ｍＬに０．２ｍｏｌ／Ｌ　ＮａＯＨ試液１１８ｍＬ、水を加えて１０００ｍＬとする。）５９４μＬに添加する。２５℃で１６時間静置させた後、混液を吸引濾過する。濾液をメタノール／水＝１／１（Ｖ／Ｖ）にて２倍希釈し、絶対検量線法によりＨＰＬＣ又はＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて濾液中濃度を測定する。
試験例９：粉末溶解度試験
　適当な容器に本発明化合物を適量入れ、各容器にＪＰ－１液（塩化ナトリウム２．０ｇ、塩酸７．０ｍＬに水を加えて１０００ｍＬとする。）、ＪＰ－２液（ｐＨ６．８のリン酸塩緩衝液５００ｍＬに水５００ｍＬを加える。）、２０ｍｍｏｌ／Ｌ　タウロコール酸ナトリウム（ＴＣＡ）／ＪＰ－２液（ＴＣＡ１．０８ｇにＪＰ－２液を加え１００ｍＬとする。）を２００μＬずつ添加する。試験液添加後に全量溶解する場合には、適宜、本発明化合物を追加する。密閉して３７℃で１時間振とう後に濾過し、各濾液１００μＬにメタノール１００μＬを添加して２倍希釈を行う。希釈倍率は、必要に応じて変更する。気泡及び析出物がないかを確認し、密閉して振とうする。絶対検量線法によりＨＰＬＣを用いて本発明化合物を定量する。
製剤例
　以下に示す製剤例は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。
製剤例１　錠剤
　　本発明化合物　　　　　　　　　１５ｍｇ
　　乳糖　　　　　　　　　　　　　１５ｍｇ
　　ステアリン酸カルシウム　　　　　３ｍｇ
　ステアリン酸カルシウム以外の成分を均一に混合し、破砕造粒して乾燥し、適当な大きさの顆粒剤とする。次にステアリン酸カルシウムを添加して圧縮成形して錠剤とする。
製剤例２　カプセル剤
　　本発明化合物　　　　　　　　　１０ｍｇ
　　ステアリン酸マグネシウム　　　１０ｍｇ
　　乳糖　　　　　　　　　　　　　８０ｍｇ
を均一に混合して粉末又は細粒状として散剤をつくる。それをカプセル容器に充填してカプセル剤とする。
製剤例３　顆粒剤
　　本発明化合物　　　　　　　　　　　３０ｇ
　　乳糖　　　　　　　　　　　　　　２６５ｇ
　　ステアリン酸マグネシウム　　　　　　５ｇ
　よく混合し、圧縮成型した後、粉砕、整粒し、篩別して適当な大きさの顆粒剤とする。
　本発明化合物はＡＣＣ２阻害作用を有しており、ＡＣＣ２が関与する疾患の治療又は予防に有用である。

Claims (34)

  1. 式（Ｉ’）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、
    Ｒ１は置換若しくは非置換のアリール又は置換若しくは非置換のヘテロアリールであり、
    Ｘ１は－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（－Ｒ１２）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｏ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－、－Ｓ－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－又は－Ｎ（－Ｒ１２）－Ｃ（－Ｒ２）（－Ｒ３）－であり、
    Ｒ２はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、
    Ｒ３はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、
    同一の炭素原子に結合するＲ２とＲ３は、結合する炭素原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成していてもよく、
    Ｒ２又はＲ３は、Ｒ１のアリール又はヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成してもよく、
    ｎは０～３の整数であり、
    Ｒ１２は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
    Ｒ１２は、Ｒ１のアリール若しくはヘテロアリールの環上の置換基と、それぞれが結合する原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成してもよく、
    環Ａは芳香族炭素環又は芳香族複素環であり、
    Ｒ９はそれぞれ独立して置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のスルファモイル、カルボキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニル又は置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルであり、
    ｍは０～４の整数であり、
    Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキルオキシ又は置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルであり、
    Ｒ６は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
    Ｒ１３は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであるか、又はＲ６及びＲ１３は隣接する炭素原子と一緒になって置換若しくは非置換の環を形成してもよく、
    Ｘ５は単結合又は－Ｃ（－Ｒ１６）（－Ｒ１７）－であり、
    Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立して水素、置換若しくは非置換のアルキル又はハロゲンであり、
    Ｒ７は水素又は置換若しくは非置換のアルキルであり、
    Ｒ８は置換若しくは非置換のアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルケニルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のスルファモイル、置換若しくは非置換のアミジノ、置換若しくは非置換のアリールカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニル又は置換若しくは非置換のスルフィノであり、
    波線は、Ｒ４の結合する炭素原子とＲ５の結合する炭素原子の間の二重結合に関し、
    式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    で示される基と式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    で示される基が、Ｅ配置、Ｚ配置又はその混合であることを意味する。
    但し、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     で示される基は、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    で示される基でなく、
    以下の化合物を除く。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010

    ）で示される化合物、又はその製薬上許容される塩。
  2. Ｒ１が置換若しくは非置換の縮合アリール又は置換若しくは非置換の縮合へテロアリールである、請求項１記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  3. Ｒ１が式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    （式中、
    Ｘ２はそれぞれ独立して－Ｎ＝、－Ｃ（Ｈ）＝又は－Ｃ（－Ｒ１０）＝であり、
    Ｘ３は－Ｓ－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｈ）－又は－Ｎ（－Ｒ１１）－であり、
    Ｘ４はそれぞれ独立して－Ｎ＝又は－Ｃ（Ｈ）＝であり、
    Ｒ１０はそれぞれ独立してハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、メルカプト、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルスルファニル、シアノ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、トリアルキルシリルオキシ、置換若しくは非置換のアリールオキシ、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のヘテロアリール、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のシクロアルケニル、置換若しくは非置換のアルキルスルフォニル又は置換若しくは非置換のアルキルスルフォニルオキシであり、
    Ｒ１１は置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
    Ｒ１５は置換若しくは非置換の炭素数２以上のアルキル、置換若しくは非置換のアリール、置換若しくは非置換のアリールオキシ又は置換若しくは非置換の非芳香族複素環であり、
    環Ｐは置換若しくは非置換の５員の芳香族複素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族炭素環、置換若しくは非置換の５員の非芳香族複素環、置換若しく非置換の６員の非芳香族炭素環又は置換若しく非置換の６員の非芳香族複素環である。）で示される基である、請求項１記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  4. Ｒ１が式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    で示される基であり、
    上記の式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013

    で示される基が、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
    （式中、Ｘ２は請求項３と同意義であり、
    Ｒ１４は水素、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
    環Ｐに相当する環上の炭素原子はさらに置換されていてもよい。）で示される基である、請求項３記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  5. Ｘ２が－Ｃ（Ｈ）＝又は－Ｃ（－Ｒ１０）＝である請求項４記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  6. Ｒ１が式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
    （式中、Ｒ１０、Ｘ２及びＸ４は請求項３と同意義である）で示される基である、請求項３記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  7. Ｒ１が式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     （式中、Ｒ１０は請求項６と同意義である）で示される基である、請求項６記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  8. Ｒ１０がそれぞれ独立してハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、シアノ、トリアルキルシリルオキシ又は置換若しくは非置換のアリールオキシである、請求項３～７のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  9. Ｒ１３が水素である、請求項１～８のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  10. Ｒ６が置換若しくは非置換のアルキルである、請求項１～９のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  11. Ｒ６が非置換のアルキルである、請求項１０記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  12. Ｒ６がメチルである、請求項１１記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  13. Ｒ８が置換若しくは非置換のアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のアリールカルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリールカルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換のヘテロアリール又は置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニルである、請求項１～１２のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  14. Ｒ８がアセチルである、請求項１３記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  15. Ｘ１が－Ｏ－である、請求項１～１４のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  16. ｎが１～３の整数であり、Ｒ２及びＲ３が水素である、請求項１～１５のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  17. ｎが０である、請求項１～１５のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  18. 環Ａが芳香族複素環である、請求項１～１７のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  19. 環Ａが６員の芳香族複素環である、請求項１８記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  20. 環Ａがピラゾール、チアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン又はベンゼンである、請求項１～１７のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  21. Ｒ４及びＲ５が水素である、請求項１～２０のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  22. Ｒ７が水素である、請求項１～２１のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  23. ｍが０である、請求項１～２２のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  24. Ｘ５が単結合である、請求項１～２３のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  25. 式（Ｉ’）で示される化合物において、式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
    で示される基と式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
    で示される基がＥ配置である、請求項１～２４のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  26. 式（Ｉ’）で示される化合物が
    式（ＩＩ’）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
    で示される化合物である、請求項１～２５のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  27. 式（Ｉ’）で示される化合物が
    式（ＩＩＩ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000020

    で示される化合物であり、
    Ｒ１が式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
    （式中、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｒ１０および環Ｐは請求項３と同意義）で示される基であり、
    Ｘ１が－Ｏ－であり、
    ｎが０であり、
    Ｒ４及びＲ５が水素であり、
    Ｒ１３が水素であり、
    Ｘ５が単結合であり、
    Ｒ７が水素である、請求項１記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  28. Ｒ６が置換若しくは非置換のアルキルである、請求項２７記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  29. Ｒ８が置換若しくは非置換のアルキルカルボニルである、請求項２７又は２８記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
  30. 請求項１～２９のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
  31. ＡＣＣ２の関与する疾患の治療又は予防に用いる、請求項３０記載の医薬組成物。
  32. 請求項１～２９のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、ＡＣＣ２の関与する疾患の治療又は予防方法。
  33. ＡＣＣ２の関与する疾患の治療剤又は予防剤を製造するための、請求項１～２９のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩の使用。
  34. ＡＣＣ２の関与する疾患を治療又は予防するための、請求項１～２９のいずれかに記載の化合物、又はその製薬上許容される塩。
PCT/JP2012/072859 2011-09-09 2012-09-07 新規オレフィン誘導体 WO2013035827A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/343,992 US20150246938A1 (en) 2011-09-09 2012-09-07 Novel olefin derivative

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-196847 2011-09-09
JP2011196847 2011-09-09
JP2012155263 2012-07-11
JP2012-155263 2012-07-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013035827A1 true WO2013035827A1 (ja) 2013-03-14

Family

ID=47832267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/072859 WO2013035827A1 (ja) 2011-09-09 2012-09-07 新規オレフィン誘導体

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20150246938A1 (ja)
JP (1) JPWO2013035827A1 (ja)
WO (1) WO2013035827A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015036892A1 (en) 2013-09-12 2015-03-19 Pfizer Inc. Use of acetyl-coa carboxylase inhibitors for treating acne vulgaris
WO2015056782A1 (ja) * 2013-10-17 2015-04-23 塩野義製薬株式会社 新規アルキレン誘導体
CN105358155A (zh) * 2013-05-10 2016-02-24 尼普斯阿波罗有限公司 Acc抑制剂和其用途
WO2016159049A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 武田薬品工業株式会社 単環式化合物
WO2016159082A1 (ja) * 2015-03-30 2016-10-06 塩野義製薬株式会社 ９員縮合環誘導体
US9988399B2 (en) 2013-05-10 2018-06-05 Gilead Apollo, Llc Bicyclic compounds as ACC inhibitors and uses thereof
US10208063B2 (en) 2013-05-10 2019-02-19 Gilead Apollo, Llc ACC inhibitors and uses thereof

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3952997A1 (en) 2019-04-10 2022-02-16 Cellestia Biotech AG Compounds for the treatment of oncovirus induced cancer and methods of use thereof
TW202104166A (zh) 2019-04-10 2021-02-01 瑞士商西萊絲蒂亞生物科技股份有限公司 Notch訊息傳遞路徑抑制劑及其在癌症治療之用途

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993002037A1 (en) * 1991-07-19 1993-02-04 Abbott Laboratories Arylamidoalkyl-n-hydroxyurea compounds having lipoxygenase inhibitory activity
WO1995030671A1 (en) * 1994-05-09 1995-11-16 Abbott Laboratories Substituted aryl- and heteroarylalkenyl-n-hydroxyurea inhibitors of leukotriene biosynthesis
WO2008079610A2 (en) * 2006-12-21 2008-07-03 Abbott Laboratories Novel acetyl-coa carboxylase (acc) inhibitors and their use in diabetes, obesity and metabolic syndrome
WO2010003624A2 (en) * 2008-07-09 2010-01-14 Sanofi-Aventis Heterocyclic compounds, processes for their preparation, medicaments comprising these compounds, and the use thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993002037A1 (en) * 1991-07-19 1993-02-04 Abbott Laboratories Arylamidoalkyl-n-hydroxyurea compounds having lipoxygenase inhibitory activity
WO1995030671A1 (en) * 1994-05-09 1995-11-16 Abbott Laboratories Substituted aryl- and heteroarylalkenyl-n-hydroxyurea inhibitors of leukotriene biosynthesis
WO2008079610A2 (en) * 2006-12-21 2008-07-03 Abbott Laboratories Novel acetyl-coa carboxylase (acc) inhibitors and their use in diabetes, obesity and metabolic syndrome
WO2010003624A2 (en) * 2008-07-09 2010-01-14 Sanofi-Aventis Heterocyclic compounds, processes for their preparation, medicaments comprising these compounds, and the use thereof

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
WOOLLARD, P. M. ET AL.: "Use of high-performance liquid chromatography-thermospray mass spectrometry and gas chromatography-electron- impact mass spectrometry in the identification of the metabolites of a-methylacetohydroxamic acids, potential anti-asthmatic agents", JOURNAL OF CHROMATOGRAPHY, BIOMEDICAL APPLICATIONS, vol. 562, no. 1-2, 1991, pages 249 - 256, XP026508221, DOI: doi:10.1016/0378-4347(91)80582-W *

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9988399B2 (en) 2013-05-10 2018-06-05 Gilead Apollo, Llc Bicyclic compounds as ACC inhibitors and uses thereof
CN105358155A (zh) * 2013-05-10 2016-02-24 尼普斯阿波罗有限公司 Acc抑制剂和其用途
JP2016520065A (ja) * 2013-05-10 2016-07-11 ニンバス アポロ，インコーポレーテッド Ａｃｃ阻害剤及びその使用
US10208044B2 (en) 2013-05-10 2019-02-19 Gilead Apollo, Llc ACC inhibitors and uses thereof
US10208063B2 (en) 2013-05-10 2019-02-19 Gilead Apollo, Llc ACC inhibitors and uses thereof
WO2015036892A1 (en) 2013-09-12 2015-03-19 Pfizer Inc. Use of acetyl-coa carboxylase inhibitors for treating acne vulgaris
WO2015056782A1 (ja) * 2013-10-17 2015-04-23 塩野義製薬株式会社 新規アルキレン誘導体
EP3670496A3 (en) * 2013-10-17 2020-09-30 Shionogi&Co., Ltd. Acc2 inhibitors
EP3670496A2 (en) 2013-10-17 2020-06-24 Shionogi&Co., Ltd. Acc2 inhibitors
JPWO2015056782A1 (ja) * 2013-10-17 2017-03-09 塩野義製薬株式会社 新規アルキレン誘導体
CN107428700A (zh) * 2015-03-30 2017-12-01 盐野义制药株式会社 9元稠环衍生物
JPWO2016159082A1 (ja) * 2015-03-30 2018-02-01 塩野義製薬株式会社 ９員縮合環誘導体
KR20170131568A (ko) 2015-03-30 2017-11-29 시오노기 앤드 컴파니, 리미티드 9원 축합환 유도체
RU2702637C2 (ru) * 2015-03-30 2019-10-09 Сионоги Энд Ко., Лтд. Производные бензимидазола или имидазопиридина, полезные для лечения или профилактики болезней, ассоциированных с асс2
WO2016159082A1 (ja) * 2015-03-30 2016-10-06 塩野義製薬株式会社 ９員縮合環誘導体
AU2016240715B2 (en) * 2015-03-30 2020-10-08 Shionogi & Co., Ltd. 9-membered fused ring derivative
CN107428700B (zh) * 2015-03-30 2021-08-03 盐野义制药株式会社 9元稠环衍生物
US10252997B2 (en) 2015-03-31 2019-04-09 Takeda Pharmaceutical Company Limited Monocyclic compound
WO2016159049A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 武田薬品工業株式会社 単環式化合物

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013035827A1 (ja) 2015-03-23
US20150246938A1 (en) 2015-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2013035827A1 (ja) 新規オレフィン誘導体
JP6643773B2 (ja) 新規アルキレン誘導体
JP6614585B2 (ja) Ｈｉｖ複製阻害作用を有する含窒素３環性誘導体
JP6812059B2 (ja) ＴｒｋＡ阻害活性を有する複素環誘導体
JP6725177B2 (ja) ９員縮合環誘導体
JP6099051B2 (ja) Ｐｇｄ２受容体アンタゴニスト活性を有するへテロ環誘導体
WO2014061693A1 (ja) 新規非芳香族炭素環又は非芳香族複素環誘導体
JP2016501827A (ja) Ｂａｃｅ１阻害作用を有するジヒドロオキサジンまたはオキサゼピン誘導体
WO2013002357A1 (ja) Ｈｉｖ複製阻害剤
JP6579549B2 (ja) Ｈｉｖ複製阻害作用を有する３環性複素環誘導体
EP3815689A1 (en) Arenavirus growth inhibitor comprising polycyclic carbamoyl pyridone derivative
JPWO2013146754A1 (ja) Ｔｒｐｖ４阻害活性を有する芳香族複素５員環誘導体
WO2018079759A1 (ja) ＴｒｋＡ阻害活性を有する縮合複素環および縮合炭素環誘導体
WO2017069224A1 (ja) Ｍｇａｔ２阻害活性を有するスピロ環誘導体
JP7038460B2 (ja) 二環性含窒素複素環誘導体およびそれらを含有する医薬組成物
WO2014175370A1 (ja) ピロリジン誘導体およびそれらを含有する医薬組成物
JP6689013B2 (ja) 含窒素３環性誘導体を含有する医薬組成物
WO2016098793A1 (ja) 環状グアニジル基を有するチアゾール誘導体
WO2016039403A1 (ja) 持続性ｈｉｖプロテアーゼ阻害剤
JP6304877B2 (ja) へテロ環誘導体を含有する、アレルギー性疾患の治療および／または予防用医薬組成物
WO2017209267A1 (ja) プリン誘導体
JP6692113B2 (ja) ６員複素環誘導体を含有する医薬組成物
WO2013161928A1 (ja) オキサゾロトリアゾール誘導体およびそれらを含有する医薬組成物
JP2014080394A (ja) イミダゾイミダゾロン誘導体およびそれらを含有する医薬組成物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12829953

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013532661

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14343992

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12829953

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1