WO2012175315A1 - Vorrichtung zur aerosolerzeugung und abscheiden einer lichtemittierenden schicht - Google Patents
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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- C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
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- C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
- C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
- C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
Definitions
- the invention relates to a device comprising a reservoir for receiving a powder and with a screw conveyor to promote a metered amount of the powder from the reservoir to a feed point at which feed point, the powder passes into a carrier gas stream to as suspended particles in the carrier gas flow through an aerosol line to be transported.
- a device of this kind is described by US 6,037,241.
- a funnel-shaped reservoir is filled with an organic powder.
- a screw conveyor which is driven by a motor to feed metered amounts of the powder at a feed point in a carrier gas line through which a carrier flows gas flow.
- the powder particles form an aerosol in the carrier gas stream, which is transported by an aerosol line into an evaporator.
- the evaporator is formed by a container whose walls are formed by an open-cell foam body which is heated by passing electrical current, so that heat is transferred to the aerosol particles coming into contact with the cell walls, resulting in their evaporation.
- Carrier gas and steam are passed via a vapor line into a process chamber of a CVD reactor, where the vapor condenses on the surface of a substrate, forming a light-emitting layer.
- US Pat. No. 7,501,152 B2 describes a device which has a reservoir which has an opening on its underside, which opens into a bearing tube in which a screw conveyor is mounted, with which a feed screw is mounted in the container. Rateten powder metered to an evaporator can be transported.
- the powder used is an organic precursor which is vaporized to condense on a substrate as a light-emitting layer.
- US 2009/0039175 AI also describes an evaporator, which is supplied via a screw conveyor powdered organic material, with which OLED structures can be deposited on a substrate.
- US 2006/0177576 A1, US 2006/0177578 A1, US 2009/0081365 A1, US Pat. No. 6,037,241 A and EP 0 585 848 A1 describe conveyors which have a screw conveyor with a solid axis.
- DE 19 638 100 C1 describes a CVD reactor with storage containers for solid parts, which are constantly kept in motion by means of a drive. At the reservoirs, a tube is fixed, which is rotationally driven and is traversed by a carrier gas.
- the invention has for its object to technically improve the aerosol generator mentioned above.
- the screw conveyor has an axial flow channel through which flows the carrier gas stream. This improves the functionality of the aerosol generator in an evaporation device.
- the powder particles conveyed by the screw are conveyed at the end of the screw via a suitable shaping of the end of the screw. gerhöhlung the worm transported radially inwardly and fed directly into the emerging from the end of the screw conveyor carrier gas stream.
- the flow channel runs in the axis of rotation of the screw.
- the powder particles are transported as suspended particles in an aerosol line from the carrier gas to an evaporator, in which the suspended particles evaporate by supplying heat to a vapor.
- the enriched with the vapor of the vaporized organic starting material carrier gas stream is fed through a vapor line to a CVD reactor.
- This has a gas distributor in the form of a shower head with arranged on its underside Gasaustritts- surface, which has a plurality of sieve-like arranged gas outlet openings.
- the carrier gas stream enriched with the steam passes through this gas distributor and the gas outlet openings into a process chamber arranged below the gas distributor, the bottom of which is formed by a susceptor carrying a substrate to be coated, for example of glass, which is cooled to a temperature by coolant of the susceptor is cooled, wherein the vapor condenses on the surface of the substrate.
- the feeding of the aerosol, which is formed directly at the end of the screw conveyor, into the aerosol line can take place in a second carrier gas flow flowing transversely to the screw.
- the aerosol line is aligned with the flow channel.
- a second carrier gas can flow into the aerosol line at the feed point. While the first carrier gas flows out of the center of a rotationally symmetrical feed arrangement, the second carrier gas can be fed from a radially outer nozzle arrangement.
- the carrier gas feed line for the first carrier gas may comprise a valve which is alternately opened and closed so that carrier gas pulses flow through the flow channel of the feed screw.
- the second carrier gas can also be supplied pulsed.
- the valve is preferably a switching valve, which directs the carrier gas flow either into the flow channel or into a vent line.
- the carrier gas stream is preferably metered. This is done with a mass flow controller.
- the storage container may have an agitator, as described for example in US Pat. No. 7,501,152 B2.
- the agitator can be driven by the same motor that also turns the worm.
- the agitator is a helically bent wire that is rotated about the axis of the helix.
- the container has a rotational symmetry. The axis of the agitator runs parallel to the axis of the spindle.
- FIG. 1 shows schematically the device according to the invention
- FIG. 2 shows an enlarged detail according to the dot-dash line II - II in FIG. 1,
- FIG. 4 shows a representation of the conveying device shown in FIG. 3 with broken conveying screw bearing
- FIG. 5 shows a plan view of a conveying device according to FIGS. 3 and 4 with a cut-open tube into which particles conveyed by the conveying device are injected, a section according to the line VI - VI in FIG. 5, 7 shows the conveying device of FIGS. 3 and 4 in another application example, in which the powder particles conveyed by the conveying device are fed axially into an aerosol line 15,
- Fig. 8 is a section along the line VIII - VIII in Figure 7 and
- Fig. 9 shows another application example of the conveyor device shown in Figures 3 and 4, wherein also axially fed into an aerosol line 15.
- FIG. 1 schematically shows a device for depositing OLED layers on a substrate 20.
- the CVD reactor 3 used for this purpose is shown in greatly reduced form in FIG.
- a gas distributor 18 in the form of a shower head, which has on its underside a plurality of gas outlet openings facing a process chamber 19 whose bottom is formed by a susceptor 21 which is cooled and on the surface of which the substrate to be coated 20 lies.
- a vacuum pump 22 With a vacuum pump 22, the total pressure within the process chamber 19 can be set in a wide range. Usually, total pressures between 1 and 100 mbar are used.
- the gas distributor 18 is supplied via a steam supply line 17 with a process gas. It is a transported by a carrier gas vapor of an organic starting material, which condenses on the substrate 20 as a thin layer.
- an aerosol is initially produced in an aerosol generator 1 from a pulverulent organic starting material 5 and a carrier gas stream 25, which is brought by an aerosol line 15 into an evaporator 2 where the suspended particles transported by the carrier gas stream 25 are vaporized.
- the evaporator 2 has an evaporation body 16, which is heated.
- the evaporation body is preferably an open-cell structure. It can be an open-celled, solid-state foam.
- the walls of the cells form curvilinear channels.
- the channel walls form evaporation surfaces.
- evaporation energy is supplied to the suspended particles, so that they evaporate and are transported as vapor from the carrier gas stream 25 through the steam line 17 to the CVD reactor 3.
- the carrier gas stream 25 is metered by a mass flow controller 27.
- the thus-metered carrier gas stream 25 can be conducted by means of a switching valve 26 either into a carrier gas feed line 12 or into a vent line 28. By rapid switching, the carrier gas feed line 12 can be traversed by the carrier gas 25 in a pulse shape.
- the carrier gas feed line 12 opens into a flow channel 10, which runs in the axis of a screw conveyor 8.
- the screw conveyor 8 has on its outer circumferential wall one or more helically arranged conveyor ribs. By rotating the conveyor screw 8 by means of a drive device 11, a powdered organic starting material 5 stored in the storage container 4 is conveyed to the end of the screw conveyor 8, where the mouth 14 of the flow channel 10 is located.
- a motor 7 agitator 6 Within the storage container 4 is a driven by a motor 7 agitator 6, which ensures a uniform filling of the screw conveyor 8.
- the conveyor screw 8 By turning the conveyor screw 8, the powder conveyed between the helical webs 24 in a conveying channel 23 is transported to a feed point 13.
- the screw conveyor 8 rotates in a bearing tube 9, the end of which is funnel-shaped, so that through a gap between the end face and the funnel-shaped end 9 ', the powder is conveyed in front of the mouth 14 of the flow channel 10.
- screw conveyor 8 and agitator 6 are driven by a common motor 7, wherein the mutually parallel shafts of the agitator 6 and screw conveyor 8 are connected to each other with gears.
- a wire coil which forms the agitator 6 rotates.
- the end 33 of the bearing tube 9 is formed by a nozzle, whose end face the funnel 9 'is formed. This nozzle is intended to be inserted into an opening of a pipe.
- the nozzle 33 is inserted in a shell opening of a tube through which a second carrier gas stream 29 flows. Upstream of the feed point 13, the tube thus forms a carrier gas feed line 30 for the second carrier gas 29. Downstream of the feed point 13, the tube forms the aerosol line 15. At the feed
- the powder conveyed by the screw conveyor 8 is fed by means of the first carrier gas stream 25 passing through the flow channel 10.
- the feed of the aerosol from the front side takes place in the aerosol line 15.
- the nozzle 33 is inserted in a nozzle head 31, with which a second carrier gas stream 29 can be fed into the aerosol line 15. This is done by a feed zone surrounding the nozzle 33 for the second carrier gas 29, which forms a plurality of openings 32 through which the second carrier gas 29, which is fed into the nozzle head 31 by means of a carrier gas feed line 30, flows into the aerosol line 15.
- the embodiment shown in FIG. 9 does not use a second carrier gas.
- the pipe end of the aerosol line 15 is attached directly to the nozzle 33.
- the carrier gas flowing through the carrier 10 arranged in the axis of rotation of the screw conveyor 8 carrier carrier 25 takes at the mouth 14 of the flow channel 10 from the outside radially to the center of rotation funded powder particles and transported as suspended particles to the evaporator. 2
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einem Vorratsbehälter (4) zur Aufnahme eines Pulvers (5) und mit einer Förderschnecke (8), um eine dosierte Menge des Pulvers (5) aus dem Vorratsbehälter (4) zu einer Einspeisestelle (13) zu fördern, an welcher Einspeisestelle (13) das Pulver (5) in einen Trägergasstrom (25) gelangt, um als Schwebeteilchen im Trägergasstrom (25) durch eine Aerosolleitung (15) abtransportiert zu werden. Zur technischen Verbesserung eines Aerosol-Erzeugers wird vorgeschlagen, dass die Förderschnecke (8) einen vom Trägergasstrom (25) durchströmten axialen Strömungskanal (10) aufweist.
Description
Vorrichtung zur Aerosolerzeugung und Abscheiden einer lichtemittierenden
Schicht
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einem Vorratsbehälter zur Auf- nähme eines Pulvers und mit einer Förderschnecke, um eine dosierte Menge des Pulvers aus dem Vorratsbehälter zu einer Einspeisestelle zu fördern, an welcher Einspeisestelle das Pulver in einen Trägergasstrom gelangt, um als Schwebeteilchen im Trägergasstrom durch eine Aerosolleitung abtransportiert zu werden.
Eine Vorrichtung dieser Art wird von der US 6,037,241 beschrieben. Ein trichterförmiger Vorratsbehälter ist mit einem organischen Pulver gefüllt. Unterhalb des Vorratsbehälters befindet sich eine Förderschnecke, die von einem Motor angetrieben wird, um dosierte Mengen des Pulvers an einer Einspeisestelle in eine Trägergasleitung einzuspeisen, durch die ein Träger gas ström strömt. Die Pulverteilchen bilden im Trägergasstrom ein Aerosol, das durch eine Aerosolleitung in einen Verdampfer transportiert wird. Der Verdampfer wird von einem Behälter ausgebildet, dessen Wände von einem offenzelligen Schaumkörper gebildet sind, der durch Hindurchleiten elektrischen Stroms beheizt wird, so dass Wärme auf die in Kontakt mit den Zellwänden tretenden Aerosolteilchen übertragen wird, was zu deren Verdampfung führt. Über eine Dampfleitung werden Trägergas und Dampf in eine Prozesskammer eines CVD- Reaktors geleitet, wo der Dampf auf der Oberfläche eines Substrates kondensiert, so dass eine lichtemittierende Schicht gebildet wird.
Die US 7,501,152 B2 beschreibt eine Vorrichtung, die einen Vorratsbehälter aufweist, der an seiner Unterseite eine Öffnung besitzt, die in ein Lagerrohr mündet, in dem eine Förderschnecke gelagert ist, mit der ein im Behälter bevor-
ratetes Pulver dosiert zu einem Verdampfer transportiert werden kann. Bei dem verwendeten Pulver handelt es sich um einen organischen Ausgangsstoff, der verdampft wird, um auf einem Substrat als lichtemittierende Schicht zu kondensieren.
Die US 2009/ 0039175 AI beschreibt ebenfalls einen Verdampfer, dem über eine Förderschnecke pulverförmiges organisches Material zugeführt wird, mit welchem OLED-Strukturen auf einem Substrat abgeschieden werden können. Die US 2006/0177576 AI, US 2006/0177578 AI, US 2009/0081365 AI, US 6,037,241 A und EP 0 585 848 AI beschreiben Fördereinrichtungen, die eine Förderschnecke mit einer massiven Achse besitzen.
Die DE 19 638 100 Cl beschreibt einen CVD-Reaktor mit Vorratsbehältern für Feststoffteile, die mittels eines Antriebs ständig in Bewegung gehalten werden. An den Vorratsbehältern ist ein Rohr befestigt, welches drehangetrieben wird und von einem Trägergas durchströmt wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den eingangs genannten Aerosol- Erzeuger technisch zu verbessern.
Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung.
Zunächst und im Wesentlichen ist vorgesehen, dass die Förderschnecke einen vom Trägergasstrom durchströmten axialen Strömungskanal aufweist. Hierdurch wird die Funktionalität des Aerosol-Erzeugers in einer Verdampfungseinrichtung verbessert. Die von der Schnecke geförderten Pulverteilchen werden am Ende der Schnecke über eine geeignete Formgebung des Endes der La-
gerhöhlung der Schnecke radial einwärts transportiert und unmittelbar in den aus dem Ende der Förderschnecke austretenden Trägergasstrom eingespeist. Der Strömungskanal verläuft in der Drehachse der Schnecke. Die Pulverteilchen werden als Schwebeteilchen in eine Aerosolleitung vom Trägergas zu ei- nem Verdampfer transportiert, in welchem die Schwebeteilchen durch Zufuhr von Wärme zu einem Dampf verdampfen. Der mit dem Dampf des verdampften organischen Ausgangsstoffes angereicherte Trägergasstrom wird durch eine Dampfleitung einem CVD-Reaktor zugeführt. Dieser besitzt einen Gasverteiler in Form eines shower head mit an seiner Unterseite angeordneter Gasaustritts- fläche, die eine Vielzahl von siebartig angeordneten Gasaustrittsöffnungen aufweist. Durch diesen Gasverteiler und die Gasaustrittsöffnungen gelangt der mit dem Dampf angereicherte Trägergasstrom in eine unterhalb des Gasverteilers angeordnete Prozesskammer, deren Boden von einem Suszeptor ausgebildet wird, der ein zu beschichtendes Substrat, beispielsweise aus Glas trägt, wel- ches durch Kühlmittel des Suszeptors auf eine Temperatur gekühlt wird, bei der der Dampf auf der Oberfläche des Substrates kondensiert. Die Einspeisung des Aerosols, welches unmittelbar am Ende der Förderschnecke gebildet wird, in die Aerosolleitung kann in einen quer zur Schnecke fließenden zweiten Trägergasstrom erfolgen. Es ist aber auch vorgesehen, dass die Aerosolleitung mit dem Strömungskanal fluchtet. Auch bei einer fluchtenden Anordnung kann an der Einspeisestelle ein zweites Trägergas in die Aerosolleitung strömen. Während das erste Trägergas aus dem Zentrum einer rotationssymmetrischen Einspeiseanordnung ausströmt, kann das zweite Trägergas von einer radial äußeren Düsenanordnung eingespeist werden. Die Trägergaseinspeiseleitung für das erste Trägergas kann ein Ventil aufweisen, das alternierend geöffnet und geschlossen wird, so dass Trägergaspulse durch den Strömungskanal der Förderschnecke strömen. Auch das zweite Trägergas kann gepulst zugeleitet werden. Bei dem Ventil handelt es sich bevorzugt um ein Umschaltventil, welches
den Trägergasfluss entweder in den Strömungskanal oder in eine Vent-Leitung leitet. Der Trägergasstrom wird bevorzugt dosiert. Dies erfolgt mit einem Mas- senflussregler. Der Vorratsbehälter kann ein Rührwerk aufweisen, wie es beispielsweise in der US 7,501,152 B2 beschrieben wird. Das Rührwerk kann von dem selben Motor angetrieben werden, der auch die Schnecke dreht. Bei dem Rührwerk handelt es sich um einen wendelgangf örmig gebogenen Draht, der um die Achse der Wendel drehangetrieben wird. Der Behälter besitzt eine Rotationssymmetrie. Die Achse des Rührwerks verläuft parallel zur Achse der Spindel.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 schematisch die erfindungsgemäße Vorrichtung, Fig. 2 einen vergrößerten Ausschnitt gemäß der strichpunktierten Linie II - II in Fig. 1,
3 in perspektivischer Darstellung eine Fördereinrichtung eines Aerosol- Erzeugers 1,
4 eine Darstellung der in Figur 3 dargestellten Fördereinrichtung mit aufgebrochener Förderschneckenlagerung,
Fig. 5 eine Draufsicht auf eine Fördereinrichtung gemäß der Figuren 3 und 4 mit einem aufgeschnittenen Rohr, in welches von der Fördereinrichtung geförderte Partikel injiziert werden, einen Schnitt gemäß der Linie VI - VI in Figur 5,
Fig. 7 die Fördereinrichtung der Figuren 3 und 4 in einem anderen Anwendungsbeispiel, bei dem die von der Fördereinrichtung geförderten Pulverteilchen axial in eine Aerosolleitung 15 eingespeist werden,
Fig. 8 einen Schnitt gemäß der Linie VIII - VIII in Figur 7 und
Fig. 9 ein weiteres Anwendungsbeispiel der in den Figuren 3 und 4 dargestellten Fördereinrichtung, wobei ebenfalls axial in eine Aerosolleitung 15 eingespeist wird.
Die Figur 1 zeigt schematisch eine Vorrichtung zum Abscheiden von OLED- Schichten auf einem Substrat 20. Der dazu verwendete CVD-Reaktor 3 ist in der Figur 1 stark verkleinert dargestellt. In ihm befindet sich ein Gasverteiler 18 in Form eines shower head, der an seiner Unterseite eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen aufweist, die zu einer Prozesskammer 19 weisen, deren Boden von einem Suszeptor 21 gebildet wird, der gekühlt ist und auf dessen Oberfläche das zu beschichtende Substrat 20 liegt. Mit einer Vakuumpumpe 22 lässt sich der Total druck innerhalb der Prozesskammer 19 in einen weiten Bereich einstellen. Üblicherweise werden Totaldrücke zwischen 1 und 100 mbar verwendet.
Der Gasverteiler 18 wird über eine Dampfzuleitung 17 mit einem Prozessgas versorgt. Es handelt sich dabei um einen von einem Trägergas transportierten Dampf eines organischen Ausgangsstoffes, der auf dem Substrat 20 als dünne Schicht kondensiert.
Zur Erzeugung des Dampfes wird zunächst in einem Aerosol-Erzeuger 1 aus einem pulverförmigen organischen Ausgangsstoff 5 und einem Trägergasstrom 25 ein Aerosol erzeugt, welches durch eine Aerosolleitung 15 in einen Verdampfer 2 gebracht wird, wo die vom Trägergasstrom 25 transportierten Schwebeteilchen verdampft werden. Hierzu besitzt der Verdampfer 2 einen Verdampfungskörper 16, der beheizt wird. Bei dem Verdampfungskörper handelt es sich bevorzugt um eine offenzellige Struktur. Es kann sich um einen of- fenzelligen Festkörperschaum handeln. Die Wände der Zellen bilden krummlinig verlaufende Kanäle. Die Kanalwände bilden Verdampfungsflächen aus. Über Oberflächenkontakt mit den Verdampfungsflächen wird den Schwebeteilchen Verdampfungsenergie zugeführt, so dass sie verdampfen und als Dampf vom Trägergasstrom 25 durch die Dampfleitung 17 zum CVD-Reaktor 3 transportiert werden. Der Trägergasstrom 25 wird von einem Massenflussregler 27 dosiert. Der so dosierte Trägergasstrom 25 kann mittels eines Umschaltventils 26 entweder in eine Trägergaseinspeiseleitung 12 oder in eine Vent-Leitung 28 geleitet werden. Durch schnelles Umschalten kann die Trägergaseinspeiseleitung 12 pulsförmig vom Trägergas 25 durchströmt werden.
Die Trägergaseinspeiseleitung 12 mündet in einen Strömungskanal 10, der in der Achse einer Förderschnecke 8 verläuft. Die Förderschnecke 8 besitzt auf ihrer Außenmantelwand eine oder mehrere wendelgangförmig angeordnete Förderrippen. Durch Drehen der Förderschnecke 8 mit Hilfe einer Antriebsein- richtung 11 wird ein im Vorratsbehälter 4 bevorrateter pulverförmiger organischer Ausgangsstoff 5 zum Ende der Förderschnecke 8 gefördert, wo sich die Mündung 14 des Strömungskanals 10 befindet.
Innerhalb des Vorratsbehälters 4 befindet sich ein von einem Motor 7 angetriebenes Rührwerk 6, welches für eine gleichmäßige Befüllung der Förderschnecke 8 sorgt.
Durch Drehen der Förderschnecke 8 wird das zwischen den wendelgangf örmi- gen Stegen 24 in einem Förderkanal 23 geförderte Pulver zu einer Einspeisestelle 13 transportiert. Die Förderschnecke 8 dreht sich dabei in einem Lagerrohr 9, dessen Ende trichterförmig zuläuf , so dass durch einen Spalt zwischen Stirnfläche und trichterförmigen Ende 9' das Pulver vor die Mündung 14 des Strömungskanals 10 gefördert wird.
Der aus der Mündung 14 heraustretende Trägergasstrom 25 fördert das Pulver als Schwebeteilchen durch die Aerosolleitung 15 zum Verdampfer 2.
Bei dem in den Figuren 3 und 4 dargestellten Ausführungsbeispiel werden Förderschnecke 8 und Rührwerk 6 von einem gemeinsamen Motor 7 angetrieben, wobei die parallel zueinander verlaufenden Wellen des Rührwerks 6 und Förderschnecke 8 mit Zahnrädern miteinander verbunden sind. In dem zylindrischen Vorratsbehälter 4 dreht sich eine Drahtwendel, die das Rührwerk 6 bildet. Das Ende 33 des Lagerrohres 9 wird von einem Stutzen gebildet, dessen Stirnseite den Trichter 9' ausbildet. Dieser Stutzen ist dazu vorgesehen, in eine Öffnung eines Rohres eingesteckt zu werden.
Bei dem in den Figuren 5 und 6 dargestellten Ausführungsbeispiel steckt der Stutzen 33 in einer Mantelöffnung eines Rohres, durch welches ein zweiter Trägergasstrom 29 strömt. Stromaufwärts der Einspeisestelle 13 bildet das Rohr somit eine Trägergaszuleitung 30 für das zweite Träger gas 29. Stromabwärts der Einspeisestelle 13 bildet das Rohr die Aerosolleitung 15. An der Einspeise-
BERICHTIGTES BLATT (REGEL 91 )
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stelle 13 wird das von der Förderschnecke 8 geförderte Pulver mit Hilfe des durch den Strömungskanal 10 hindurchtretenden ersten Trägergasstrom 25 eingespeist. Bei dem in den Figuren 7 und 8 dargestellten Ausführungsbeispiel erfolgt die Einspeisung des Aerosols von der Stirnseite her in die Aerosolleitung 15. Hier steckt der Stutzen 33 in einem Düsenkopf 31, mit dem ein zweiter Trägergasstrom 29 in die Aerosolleitung 15 eingespeist werden kann. Dies erfolgt durch eine den Stutzen 33 umgebende Einspeisezone für das zweite Trägergas 29, die eine Vielzahl von Öffnungen 32 ausbildet, durch die das zweite Trägergas 29, welches mittels einer Trägergaszuleitung 30 in den Düsenkopf 31 eingespeist wird, in die Aerosolleitung 15 einströmt.
Das in der Figur 9 dargestellte Ausführungsbeispiel benutzt kein zweites Trä- gergas. Hier ist das Rohrende der Aerosolleitung 15 unmittelbar auf den Stutzen 33 aufgesteckt. Das durch den in der Drehachse der Förderschnecke 8 angeordneten Strömungskanal 10 hindurchströmende Träger gas 25 nimmt an der Mündung 14 des Strömungskanals 10 die von radial außen zum Drehzentrum hin geförderten Pulverteilchen mit und transportiert sie als Schwebeteilchen zum Verdampfer 2.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollin- haltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren in ihrer fakultativ nebengeordneten Fassung eigenständige
erfinderische Weiterbildung des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.
Bezugszeichenliste
1 Aerosol-Erzeuger
2 Verdampfer
3 CVD-Reaktor
4 Vorratsbehälter
5 pulverförmiger organischer Ausgangsstoff
6 Rührwerk
7 Motor
8 Förderschnecke
9 Lagerrohr 9'
10 Strömungskanal
11 Antriebseinrichtung
12 Trägergaseinspeiseleitung
13 Einspeisestelle
14 Mündung
15 Aerosolleitung
16 Verdampfungskörper
17 Dampfleitung
18 Gasverteiler
19 Prozesskammer
20 Substrat
21 Suszeptor
22 Vakuumpumpe
23 Förderkanal
24 wendelgangförmige Stege
25 Trägergasstrom
26 Ventil
Massenflussregler Vent-Leitung zweites Trägergas Trägergaszuleitung Düsenkopf Öffnung
Stutzen
Claims
1. Vorrichtung mit einem Vorratsbehälter (4) zur Aufnahme eines Pulvers (5) und mit einer Förderschnecke (8), um eine dosierte Menge des Pulvers (5) aus dem Vorratsbehälter (4) zu einer Einspeisestelle (13) zu fördern/ an welcher Einspeisestelle (13) das Pulver (5) in einen Trägergasstrom (25) gelangt, um als Schwebeteilchen im Trägergasstrom (25) durch eine Aerosolleitung (15) abtransportiert zu werden, dadurch gekennzeichnet, dass die Förderschnecke (8) einen vom Trägergasstrom (25) durchströmten axialen Strömungskanal (10) aufweist.
2. Vorrichtung gemäß Anspruch 1 oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch einen von der Aerosolleitung (15) gespeisten Verdampfer (2), in welchem die Schwebeteilchen durch Zufuhr von Wärme zu einem Dampf verdampft werden, der vom Trägergasstrom (25) durch eine Dampfleitung (17) abtransportiert wird.
3. Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch einen von der Dampfleitung (17) gespeisten Gasverteiler (18) eines CVD-Reaktors (3), der eine Prozesskammer (19) mit einem Suszeptor (21) aufweist zur Aufnahme eines Substrates (20), das durch Kondensation des Dampfes beschichtet wird.
4. Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Aerosolleitung (15) mit dem Strömungskanal (10) fluchtet oder quer zum Strö-
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ISA/EP mungskanal (10) verläuft.
Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch eine im Bereich der Einspeisestelle (13) in die Aerosolleitung (15) mündende zweite Trägergaszuleitung (30).
Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch ein in der Trägergasleitung (12) angeordnetes Ventil (26), das zur Erzeugung eines gepulsten Trägergasstroms abwechselnd geöffnet oder geschlossen werden kann.
Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch einen in der Trägergasleitung (12) angeordneten Massenflussregler (27) zum Dosieren des Trägergasstroms (25).
Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch ein im Vorratsbehälter (4) angeordnetes Rührwerk (6).
Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Verdampfer (2) beheizte Wärmeübertragungsflächen aufweist, die von einem Verdampfungskörper (16) gebildet sind, der insbesondere ein Festkörperschaum ist. Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Suszeptor (21) Mittel aufweist, um das Substrat (20) zu kühlen.
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102011051263.2 | 2011-06-22 | ||
| DE102011051263.2A DE102011051263B4 (de) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | Vorrichtung zur Aerosolerzeugung und Abscheiden einer lichtemittierenden Schicht |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2012175315A1 true WO2012175315A1 (de) | 2012-12-27 |
Family
ID=46395583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2012/060413 Ceased WO2012175315A1 (de) | 2011-06-22 | 2012-06-01 | Vorrichtung zur aerosolerzeugung und abscheiden einer lichtemittierenden schicht |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102011051263B4 (de) |
| TW (1) | TW201305377A (de) |
| WO (1) | WO2012175315A1 (de) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013106863A1 (de) | 2013-07-01 | 2015-01-08 | Aixtron Se | Vorrichtung zum Bestimmen des Massenflusses eines in einem Trägergas transportierten Dampfs |
| DE102014101792A1 (de) | 2014-02-13 | 2015-08-13 | Aixtron Se | Vorrichtung zum Bestimmen des Massenflusses eines Gases beziehungsweise Gasgemisches mit ineinandergeschachtelten rohrförmigen Filamentanordnungen |
| KR102369676B1 (ko) | 2017-04-10 | 2022-03-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
| DE102017112668A1 (de) * | 2017-06-08 | 2018-12-13 | Aixtron Se | Verfahren zum Abscheiden von OLEDs |
| DE102017119565A1 (de) | 2017-08-25 | 2019-02-28 | Aixtron Se | Vorrichtung und Verfahren zum Fördern eines Pulvers, insbesondere als Komponente einer Beschichtungseinrichtung |
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- 2012-06-01 WO PCT/EP2012/060413 patent/WO2012175315A1/de not_active Ceased
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201305377A (zh) | 2013-02-01 |
| DE102011051263A1 (de) | 2012-12-27 |
| DE102011051263B4 (de) | 2022-08-11 |
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