WO2012124395A1 - Composition for ultraviolet absorbing material and ultraviolet absorbing material using same - Google Patents

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悠策 増原
山本 勝政
幸司 藤本
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    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/74UV-absorbing coatings

Abstract

The present invention, seeking to resolve problems associated with the prior art, provides a composition for an ultraviolet absorbing material, as well as an ultraviolet absorbing material produced using the same, whereby superior light resistance can be maintained over a long duration of time and ultraviolet rays in the range of 380-400 nm, which conventionally have been difficult to block, can be adequately blocked even while a high degree of transmittance for visible light is maintained, and whereby coloration is reduced. More specifically, the present invention provides a composition for an ultraviolet absorbing material, the composition comprising at least one type of metal complex represented by formula (1) and at least one type of silane coupling agent having one or more functional groups selected from the group consisting of a thiol group, an amino group, a ureido group, and an isocyanate group. The present invention further provides an ultraviolet absorbing material produced using the composition.

Description

紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材Composition for ultraviolet absorbing member and ultraviolet absorbing member using the same
 本発明は、式(1)で表される少なくとも1種類の金属錯体と、チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤とを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される紫外線吸収部材に関する。 The present invention includes at least one metal complex represented by the formula (1) and at least one functional group selected from the group consisting of a thiol group, an amino group, a ureido group, and an isocyanate group. The present invention relates to an ultraviolet absorbing member composition containing a silane coupling agent, and an ultraviolet absorbing member produced using the composition.
 近年、可視光線を十分に透過すると同時に、紫外線のみを選択的に遮蔽する機能をもった部材が様々な分野で使用されている。例えば、自動車のウインドウガラスや建築物の窓ガラス等においては、日焼けや内装材の劣化を引き起こす紫外線を遮蔽するために紫外線遮蔽ガラスが広く使用されている。 In recent years, members having a function of sufficiently transmitting visible light and simultaneously selectively blocking only ultraviolet light have been used in various fields. For example, in a window glass of an automobile, a window glass of a building, etc., an ultraviolet shielding glass is widely used for shielding ultraviolet rays that cause sunburn and deterioration of interior materials.
 また、カーポート、ショーウインドウ、ショーケース、照明用透明シェード等に使用される透明樹脂板や、各種透明容器等の用途においても、紫外線遮蔽機能を付与したアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の透明な熱可塑性樹脂の成形体が用いられている。 Also, in applications such as transparent resin plates used in carports, show windows, showcases, transparent shades for lighting, and various transparent containers, acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins, etc. that have been provided with an ultraviolet shielding function A molded body of a transparent thermoplastic resin is used.
 このように、ガラスや樹脂等に紫外線遮蔽機能を付与するために、紫外線吸収剤として無機系金属酸化物微粒子や有機系紫外線吸収剤を用いる方法が一般的に利用されている(特許文献1~4)。 As described above, in order to impart an ultraviolet shielding function to glass, resin, or the like, a method using inorganic metal oxide fine particles or an organic ultraviolet absorber as an ultraviolet absorber is generally used (Patent Documents 1 to 6). 4).
 無機系酸化物微粒子は耐光性に優れている反面、その吸収波長は材料固有のバンドギャップによって支配されるため、吸収波長の最適化が困難である。さらに、その吸収スペクトルは多くの場合ブロードで、所望の波長域のみを選択的に遮蔽するには限界がある。さらに、溶媒等に溶解させることができないため通常微粒子分散状態で使用するが、可視光域の透明性を確保するためには粒子径をナノオーダーまで小さくする必要があり、多大な労力とコストを要する。 Although inorganic oxide fine particles are excellent in light resistance, the absorption wavelength is governed by the band gap inherent to the material, so it is difficult to optimize the absorption wavelength. Further, the absorption spectrum is broad in many cases, and there is a limit in selectively blocking only a desired wavelength region. Furthermore, since it cannot be dissolved in a solvent or the like, it is usually used in a fine particle dispersed state. However, in order to ensure transparency in the visible light region, it is necessary to reduce the particle diameter to the nano order, which requires a great deal of labor and cost. Cost.
 一方、有機系紫外線吸収剤は、分子構造の変更による吸収波長の変更がある程度可能であり、また溶媒に溶解させて使用することができるため、比較的容易に可視光域の透明性を確保できる。しかしながらほとんどの場合、耐光性が不十分であり、紫外線吸収能の持続力という面で信頼性に欠ける。また、吸光係数が小さいことからコーティングにより十分な吸収能を得ることは困難であり、適用可能な用途に制限がある。 On the other hand, the organic ultraviolet absorber can change the absorption wavelength to some extent by changing the molecular structure, and can be used by being dissolved in a solvent, so that transparency in the visible light region can be secured relatively easily. . However, in most cases, the light resistance is insufficient, and the reliability is insufficient in terms of the sustainability of the ultraviolet absorbing ability. In addition, since the extinction coefficient is small, it is difficult to obtain a sufficient absorption capacity by coating, and there are limitations on applicable applications.
 また、無機系酸化物微粒子、有機系紫外線吸収剤のいずれについても、380~400nmの波長域の紫外線を選択的に吸収し、かつ吸光係数の大きな材料はほとんど知られていない。 In addition, for both inorganic oxide fine particles and organic ultraviolet absorbers, few materials are known that selectively absorb ultraviolet rays in the wavelength region of 380 to 400 nm and have a large extinction coefficient.
 ここで、380~400nmの紫外線は、UV-Aと呼ばれる比較的波長の長い紫外線に分類され、地表に到達する太陽光の紫外線としては最も多く含まれるが、人体にとっては皮膚への浸透程度が深いため、長時間の曝露が色素沈着(シミ)やシワを引き起こすことが知られている。様々な分野において高機能化に伴い、可視光域との境界付近の380~400nmの紫外線を十分に遮蔽でき、かつ400~780nmの可視光線を十分に透過する材料が望まれている。 Here, ultraviolet rays with a wavelength of 380 to 400 nm are classified as ultraviolet rays having a relatively long wavelength called UV-A, and are the most abundant as ultraviolet rays of sunlight reaching the ground surface. Due to the depth, long exposure is known to cause pigmentation and wrinkles. Along with higher functionality in various fields, a material that can sufficiently shield ultraviolet rays of 380 to 400 nm in the vicinity of the boundary with the visible light region and sufficiently transmits visible light of 400 to 780 nm is desired.
特開2006-052116号公報JP 2006-052116 A 特開2010-111729号公報JP 2010-1111729 A 特開2010-189215号公報JP 2010-189215 A 特開2008-274246号公報JP 2008-274246 A
 本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であった380~400nm域の紫外線を十分に遮蔽することができ、かつ着色を低減した紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される紫外線吸収部材を提供することを目的としている。 The present invention is intended to solve the problems associated with the prior art as described above, and it has been difficult to shield while maintaining excellent light resistance for a long period of time and maintaining a high visible light transmittance. An object of the present invention is to provide a composition for an ultraviolet absorbing member that can sufficiently shield the ultraviolet rays in the range of 380 to 400 nm and has reduced coloring, and an ultraviolet absorbing member produced using the composition.
 本発明は、以下に示すとおりの紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
項1.式(1):
The present invention relates to a composition for an ultraviolet absorbing member as shown below and an ultraviolet absorbing member using the same.
Item 1. Formula (1):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式中、Y、Y、YおよびYはそれぞれ互いに独立して、NH、NR、酸素原子または硫黄原子であり、
 Y、Y、YまたはYに帰属されるNRのRは、炭素数1~8のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数6~15のアリール基である。尚、Y、Y、YおよびYのうち少なくとも2つがNRで表される場合、これらNRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
 また、ZおよびZはそれぞれ互いに独立して、窒素原子、CHまたはCRであり、
 ZまたはZに帰属されるCRのRは、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数4~12のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数5~12のヘテロアラルキル基または炭素数7~15のアラルキル基を示す。尚、ZおよびZがともにCRで表される場合、これらCRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
 R、R、RおよびRの各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、
 Mは金属原子を示す。)
で表される少なくとも1種類の金属錯体と、
 チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤とを含む紫外線吸収部材用組成物。
Wherein Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each independently NH, NR 5 , an oxygen atom or a sulfur atom,
R 5 of NR 5 belonging to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent. Incidentally, Y 1, Y 2, when Y 3 and at least two of Y 4 is represented by NR 5, the R 5 of NR 5 represent a substituent independent of each other, respectively.
Z 1 and Z 2 are each independently a nitrogen atom, CH or CR 6 ;
R 6 of CR 6 assigned to Z 1 or Z 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or optionally substituted aryl having 6 to 15 carbon atoms. And a heteroaryl group having 4 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a heteroaralkyl group having 5 to 12 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent. . Incidentally, a substituent case, R 6 of CR 6 is that each independently of one another that Z 1 and Z 2 are both represented by CR 6.
Each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, represents two carbon atoms shared with a 5-membered ring of the six carbon atoms of one benzene ring. 1 to 4 of the 4 hydrogen atoms bonded to the removed 4 carbon atoms can be substituted, and all of the substituents substituted with 4 hydrogen atoms of the benzene ring are independent of each other. An optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, halogeno group, and optionally having 1 to 8 carbon atoms An alkylaminosulfonyl group, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, a pyrrolidinosulfonyl group which may have a substituent, a substituent You may have A morpholinosulfonyl group, or may have a substituent group piperazino sulfonyl group,
M represents a metal atom. )
At least one metal complex represented by:
A composition for an ultraviolet absorbing member, comprising at least one silane coupling agent having at least one functional group selected from the group consisting of a thiol group, an amino group, a ureido group, and an isocyanate group.
項2.式(1)における金属原子Mが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である項1に記載の紫外線吸収部材用組成物。
項3.前記項1または2に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
項4.紫外線吸収部材用組成物が、有機系または無機系基材上にコーティングされる前記項3に記載の紫外線吸収部材。
Item 2. Item 2. The composition for an ultraviolet absorbing member according to Item 1, wherein the metal atom M in the formula (1) is a cobalt atom, a nickel atom, or a copper atom.
Item 3. 3. An ultraviolet absorbing member produced using the ultraviolet absorbing member composition according to item 1 or 2.
Item 4. Item 4. The ultraviolet absorbing member according to item 3, wherein the composition for ultraviolet absorbing member is coated on an organic or inorganic base material.
 本発明は、紫外線吸収剤としての式(1)で表される金属錯体と、チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤とを含有することを特徴とする紫外線吸収部材用組成物を提供する。 The present invention includes at least one functional group selected from the group consisting of a metal complex represented by the formula (1) as an ultraviolet absorber and a thiol group, amino group, ureido group, and isocyanate group. The composition for ultraviolet absorption members characterized by containing the silane coupling agent of this.
 式(1)で表される金属錯体は、上記シランカップリング剤に対して非常に良好な溶解性および/または分散性を示す。
 さらに、該シランカップリング剤中に式(1)で表される金属錯体を溶解または分散させることにより、式(1)で表される金属錯体固有の可視光域の微弱な吸収を波長シフトまたは低減することができ、その結果、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率を向上させることができる。
The metal complex represented by the formula (1) exhibits very good solubility and / or dispersibility with respect to the silane coupling agent.
Further, by dissolving or dispersing the metal complex represented by the formula (1) in the silane coupling agent, the weak absorption in the visible light region specific to the metal complex represented by the formula (1) is shifted in wavelength or As a result, the visible light transmittance of the finally obtained ultraviolet absorbing member can be improved.
 また、本発明は前記の紫外線吸収部材用組成物を用いて、樹脂基材等への配合、および/またはガラス基材や樹脂基材上にコーティング膜を施すことによって作製される紫外線吸収部材を提供する。 Further, the present invention provides an ultraviolet absorbing member produced by blending into a resin substrate and / or applying a coating film on a glass substrate or resin substrate using the composition for ultraviolet absorbing member. provide.
 式(1)で表される金属錯体は、従来遮蔽困難であった380~400nm域の紫外線を効率よく吸収し、また一般的な有機系紫外線吸収剤に比べてはるかに良好な耐光性を示す。また、少量の添加で十分な紫外線吸収能を付与することができ、さらに可視光域における透明性が非常に優れている。 The metal complex represented by the formula (1) efficiently absorbs ultraviolet light in the range of 380 to 400 nm, which has been difficult to shield, and exhibits much better light resistance than a general organic ultraviolet absorber. . Further, a sufficient amount of ultraviolet absorbing ability can be imparted with a small amount of addition, and transparency in the visible light region is very excellent.
 さらに式(1)で表される金属錯体は、該シランカップリング剤を前駆体として形成されるポリシロキサンネットワーク中において安定化され、優れた耐光性を発揮する。 Further, the metal complex represented by the formula (1) is stabilized in a polysiloxane network formed using the silane coupling agent as a precursor, and exhibits excellent light resistance.
 本発明によると、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であった380~400nm域の紫外線を十分に遮蔽することができ、かつ着色を低減した紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される紫外線吸収部材を提供することができる。 According to the present invention, excellent light resistance can be maintained for a long period of time, and visible light transmittance can be maintained at a high level, and UV light in the range of 380 to 400 nm, which has been difficult to shield conventionally, can be sufficiently shielded. And the composition for ultraviolet absorbers which reduced coloring and the ultraviolet absorber produced using this can be provided.
 以下、本発明を詳細に説明する。
 本発明は、式(1):
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention relates to formula (1):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式中、Y、Y、YおよびYはそれぞれ互いに独立して、NH、NR、酸素原子または硫黄原子であり、Y、Y、YまたはYに帰属されるNRのRは、炭素数1~8のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数6~15のアリール基である。尚、Y、Y、YおよびYのうち少なくとも2つがNRで表される場合、これらNRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、ZおよびZはそれぞれ互いに独立して、窒素原子、CHまたはCRであり、ZまたはZに帰属されるCRのRは、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数4~12のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数5~12のヘテロアラルキル基または炭素数7~15のアラルキル基を示す。尚、ZおよびZがともにCRで表される場合、これらCRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。R、R、RおよびRの各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Mは金属原子を示す。)
で表される少なくとも1種類の金属錯体と、
 チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤とを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供するものである。
(In the formula, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each independently NH, NR 5 , an oxygen atom or a sulfur atom, and belong to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4. R 5 in NR 5 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, which may have a substituent, of Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 when at least two are represented by NR 5, the R 5 of NR 5 represent a substituent independent of each other, respectively. Further, Z 1 and Z 2 are each, independently of one another, a nitrogen atom, CH or CR 6 , R 6 of CR 6 belonging to Z 1 or Z 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, optionally having a substituent group having 6 to 15 carbon atoms. An aryl group or an optionally substituted hetero atom having 4 to 12 carbon atoms Lumpur group, a heteroaralkyl group or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms to 12 carbon atoms 5 may have a substituent. In the case where Z 1 and Z 2 are both represented by CR 6 , R 6 of CR 6 each represents an independent substituent, and each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, 1 to 4 of 4 hydrogen atoms bonded to 4 carbon atoms except 2 carbon atoms shared with a 5-membered ring of carbon atoms can be substituted, and 4 benzene rings All of the substituents substituted with hydrogen atoms are independently of each other an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, Even if it has a halogeno group or a substituent An alkylaminosulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, and a pyrrole which may have a substituent A dinosulfonyl group, an optionally substituted thiomorpholinosulfonyl group or an optionally substituted piperazinosulfonyl group, and M represents a metal atom.)
At least one metal complex represented by:
Composition for ultraviolet absorbing member comprising at least one kind of silane coupling agent having at least one functional group selected from the group consisting of thiol group, amino group, ureido group and isocyanate group, and ultraviolet ray using the same An absorbent member is provided.
 また、式(1)におけるY、Y、YおよびY、ZおよびZ、R、R、R、R、R、RおよびMについて以下に例示する。 Further, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 , Z 1 and Z 2 , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and M in Formula (1) are exemplified below.
 式中、Y、Y、YまたはYに帰属される、前記のNRのRとしては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、3-クロロフェニル基、4-ブロモフェニル基、3,4-ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
 尚、Y、Y、Y、Yのうち少なくとも2つがNRで表される場合、これらNRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
In the formula, R 5 of the NR 5 attributed to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4 is, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, alkyl groups such as sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl, n-heptyl group, n-octyl group, phenyl And aryl groups such as 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-bromophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group and naphthyl group.
Incidentally, Y 1, Y 2, Y 3, when Y least two of the four is represented by NR 5, the R 5 of NR 5 represent a substituent independent of each other, respectively.
 ここで、式(1)におけるY、Y、YおよびYは、合成方法の簡便さの観点から、硫黄原子であることが特に好ましい。 Here, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 in Formula (1) are particularly preferably sulfur atoms from the viewpoint of simplicity of the synthesis method.
 式中、ZまたはZに帰属される、前記のCRのRとしては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、3-クロロフェニル基、4-ブロモフェニル基、3,4-ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基や、2-フリル基、2-チエニル基、5-クロロ-2-チエニル基、2-ピロリル基、2-オキサゾリル基、5-メチル-2-オキサゾリル基、2-チアゾリル基等のヘテロアリール基や、4-ピリジルメチル基、4-キノリルメチル基、2-チエニルメチル基等のヘテロアラルキル基や、 In the formula, R 6 of CR 6 attributed to Z 1 or Z 2 is, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert group -Alkyl groups such as -butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, cyclopentyl, n-hexyl, isohexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, phenyl, 2-methylphenyl Group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-bromophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, aryl group such as naphthyl group, 2-furyl group, 2-thienyl group, Such as 5-chloro-2-thienyl, 2-pyrrolyl, 2-oxazolyl, 5-methyl-2-oxazolyl, 2-thiazolyl, etc. A heteroaryl group such as a roaryl group, a 4-pyridylmethyl group, a 4-quinolylmethyl group, a 2-thienylmethyl group,
 4-アセトアミドベンジル基、3-アミノベンジル基、4-アミノベンジル基、3-メトキシベンジル基、2-メトキシフェネチル基、4-(n-ペンチルオキシ)ベンジル基、2-アリルオキシフェネチル基、5-アリル-2-ヒドロキシ-3-メトキシベンジル基、4-フェニルベンジル基、2-ブロモベンジル基、3-フェネチル基、4-ブロモベンジル基、2-クロロベンジル基、3-クロロベンジル基、4-クロロベンジル基、6-ブロモ-2-ヒドロキシベンジル基、5-ブロモ-3-ニトロ-2-ヒドロキシフェネチル基、4-(n-ブチル)ベンジル基、3-ブロモ-5-メトキシ-4-ヒドロキシベンジル基、4-ベンジルオキシベンジル基、6-ブロモ-3-メトキシ-2-ヒドロキシベンジル基、(1-ブロモ-2-ナフチル)-n-プロピル基、2-ベンジルオキシベンジル基、3,5-ビストリフルオロメチルフェネチル基、4-tert-ブチルベンジル基、5-ブロモ-2-フルオロベンジル基、3-ブロモ-4-メトキシベンジル基、5-ブロモ-2-メトキシベンジル基、3-ブロモ-5-クロロ-2-ヒドロキシベンジル基、4-ブロモ-2-フルオロベンジル基、2-ブロモ-4,5-ジメトキシフェネチル基、3,4-エチレンジオキシベンジル基、3-ブロモ-4-フルオロフェネチル基、6-ブロモ-3,4-メチレンジオキシベンジル基、3-ブロモ-4-ヒドロキシベンジル基、2-ブロモ-5-フルオロフェネチル基、4-シアノベンジル基、4-トリフルオロベンジル基、4-(4-クロロフェノキシ)フェネチル基、4-(N,N-ジエチルアミノ)ベンジル基、3,4-ジアセトキシベンジル基、4-(N,N-ジフェニルアミノ)ベンジル基、4-[N-(4,4-ジオキソチオモルホリノ)]ベンジル基、4-(N-ピロリジノ)ベンジル基、3-(2-ヒドロキシエトキシ)ベンジル基、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェネチル基、4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルベンジル基、(6-ヒドロキシ-2-ナフチル)-n-プロピル基、4-イソプロピルベンジル基、4-イソブチルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。 4-acetamidobenzyl group, 3-aminobenzyl group, 4-aminobenzyl group, 3-methoxybenzyl group, 2-methoxyphenethyl group, 4- (n-pentyloxy) benzyl group, 2-allyloxyphenethyl group, 5- Allyl-2-hydroxy-3-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group, 2-bromobenzyl group, 3-phenethyl group, 4-bromobenzyl group, 2-chlorobenzyl group, 3-chlorobenzyl group, 4-chloro Benzyl group, 6-bromo-2-hydroxybenzyl group, 5-bromo-3-nitro-2-hydroxyphenethyl group, 4- (n-butyl) benzyl group, 3-bromo-5-methoxy-4-hydroxybenzyl group 4-benzyloxybenzyl group, 6-bromo-3-methoxy-2-hydroxybenzyl group, (1-bromo-2 Naphthyl) -n-propyl group, 2-benzyloxybenzyl group, 3,5-bistrifluoromethylphenethyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 5-bromo-2-fluorobenzyl group, 3-bromo-4-methoxy Benzyl group, 5-bromo-2-methoxybenzyl group, 3-bromo-5-chloro-2-hydroxybenzyl group, 4-bromo-2-fluorobenzyl group, 2-bromo-4,5-dimethoxyphenethyl group, 3 , 4-ethylenedioxybenzyl group, 3-bromo-4-fluorophenethyl group, 6-bromo-3,4-methylenedioxybenzyl group, 3-bromo-4-hydroxybenzyl group, 2-bromo-5-fluoro Phenethyl group, 4-cyanobenzyl group, 4-trifluorobenzyl group, 4- (4-chlorophenoxy) phenethyl group, 4- (N, N-diethylamino) benzyl group, 3,4-diacetoxybenzyl group, 4- (N, N-diphenylamino) benzyl group, 4- [N- (4,4-dioxothiomorpholino)] benzyl group, 4- (N-pyrrolidino) benzyl group, 3- (2-hydroxyethoxy) benzyl group, 4- (2-hydroxyethoxy) phenethyl group, 4-hydroxy-3,5-dimethylbenzyl group, (6-hydroxy-2-naphthyl) ) Aralkyl groups such as -n-propyl group, 4-isopropylbenzyl group, 4-isobutylbenzyl group.
 前記のZまたはZに帰属されるCRのRとして例示したものの中では、合成方法の簡便さや反応性の観点から、アラルキル基であることが特に好ましい。
 尚、ZおよびZがともにCRで表される場合、これらCRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
Among those exemplified as R 6 of CR 6 attributed to Z 1 or Z 2 , an aralkyl group is particularly preferable from the viewpoint of simplicity of the synthesis method and reactivity.
Incidentally, a substituent case, R 6 of CR 6 is that each independently of one another that Z 1 and Z 2 are both represented by CR 6.
 さらに、式(1)におけるZおよびZは、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子であることが特に好ましい。 Furthermore, Z 1 and Z 2 in Formula (1) are particularly preferably nitrogen atoms from the viewpoint of simplicity of the synthesis method.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、3-クロロ-n-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、4-ヒドロキシ-n-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、6-フェニル-n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基等が挙げられる。 In the formula, examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have the above-mentioned substituents belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include, for example, methyl group, ethyl group, 2 -Methoxyethyl group, n-propyl group, isopropyl group, 3-chloro-n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 4-hydroxy-n-butyl group, n-pentyl group , Isopentyl group, neopentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl, 6-phenyl-n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and the like.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、前記の炭素数1~4のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、tert-ブトキシ基等が挙げられる。 In the formula, examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a methoxy group, an ethoxy group, and a tert-butoxy group.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。 In the formula, examples of the halogeno group belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, and an iodo group.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、N-メチルアミノスルホニル基、N-エチルアミノスルホニル基、N-イソプロピルアミノスルホニル基、N-n-プロピルアミノスルホニル基、N-n-ブチルアミノスルホニル基、N,N-ジメチルアミノスルホニル基、N,N-メチルエチルアミノスルホニル基、N,N-ジエチルアミノスルホニル基、N,N-エチルイソプロピルアミノスルホニル基、N,N-ジイソプロピルアミノスルホニル基、N,N-ジ-n-プロピルアミノスルホニル基、N,N-ジ-n-ブチルアミノスルホニル基、N,N-ジイソブチルアミノスルホニル基等が挙げられる。 In the formula, the alkylaminosulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have the above-mentioned substituents belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 includes, for example, N-methylaminosulfonyl Group, N-ethylaminosulfonyl group, N-isopropylaminosulfonyl group, Nn-propylaminosulfonyl group, Nn-butylaminosulfonyl group, N, N-dimethylaminosulfonyl group, N, N-methylethylamino Sulfonyl group, N, N-diethylaminosulfonyl group, N, N-ethylisopropylaminosulfonyl group, N, N-diisopropylaminosulfonyl group, N, N-di-n-propylaminosulfonyl group, N, N-di-n -Butylaminosulfonyl group, N, N-diisobutylaminosulfonyl group and the like can be mentioned.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、2-メチルモルホリノスルホニル基、3-メチルモルホリノスルホニル基、2-エチルモルホリノスルホニル基、3-n-プロピルモルホリノスルホニル基、3-n-ブチルモルホリノスルホニル基、2,3-ジメチルモルホリノスルホニル基、2,6-ジメチルモルホリノスルホニル基、3-フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。 In the formula, examples of the morpholinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include morpholinosulfonyl group, 2-methylmorpholinosulfonyl group, 3-methyl Morpholinosulfonyl group, 2-ethylmorpholinosulfonyl group, 3-n-propylmorpholinosulfonyl group, 3-n-butylmorpholinosulfonyl group, 2,3-dimethylmorpholinosulfonyl group, 2,6-dimethylmorpholinosulfonyl group, 3-phenyl Examples thereof include a morpholinosulfonyl group.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、2-メチルピペリジノスルホニル基、3-メチルピペリジノスルホニル基、4-メチルピペリジノスルホニル基、2-エチルピペリジノスルホニル基、4-n-プロピルピペリジノスルホニル基、3-n-ブチルピペリジノスルホニル基、2,4-ジメチルピペリジノスルホニル基、2,6-ジメチルピペリジノスルホニル基、4-フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。 In the formula, examples of the piperidinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a piperidinosulfonyl group, 2-methylpiperidino Sulfonyl group, 3-methylpiperidinosulfonyl group, 4-methylpiperidinosulfonyl group, 2-ethylpiperidinosulfonyl group, 4-n-propylpiperidinosulfonyl group, 3-n-butylpiperidinosulfonyl Group, 2,4-dimethylpiperidinosulfonyl group, 2,6-dimethylpiperidinosulfonyl group, 4-phenylpiperidinosulfonyl group and the like.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、2-メチルピロリジノスルホニル基、3-メチルピロリジノスルホニル基、2-エチルピロリジノスルホニル基、3-n-プロピルピロリジノスルホニル基、3-n-ブチルピロリジノスルホニル基、2,4-ジメチルピロリジノスルホニル基、2,5-ジメチルピロリジノスルホニル基、3-フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。 In the formula, examples of the pyrrolidinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a pyrrolidinosulfonyl group, a 2-methylpyrrolidinosulfonyl group, 3-methylpyrrolidinosulfonyl group, 2-ethylpyrrolidinosulfonyl group, 3-n-propylpyrrolidinosulfonyl group, 3-n-butylpyrrolidinosulfonyl group, 2,4-dimethylpyrrolidinosulfonyl group, 2,5- Examples thereof include a dimethylpyrrolidinosulfonyl group and a 3-phenylpyrrolidinosulfonyl group.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、2-メチルチオモルホリノスルホニル基、3-メチルチオモルホリノスルホニル基、2-エチルチオモルホリノスルホニル基、3-n-プロピルチオモルホリノスルホニル基、3-n-ブチルチオモルホリノスルホニル基、2,3-ジメチルチオモルホリノスルホニル基、2,6-ジメチルチオモルホリノスルホニル基、3-フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。 In the formula, examples of the optionally substituted thiomorpholinosulfonyl group belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a thiomorpholinosulfonyl group and a 2-methylthiomorpholinosulfonyl group. 3-methylthiomorpholinosulfonyl group, 2-ethylthiomorpholinosulfonyl group, 3-n-propylthiomorpholinosulfonyl group, 3-n-butylthiomorpholinosulfonyl group, 2,3-dimethylthiomorpholinosulfonyl group, 2,6- Examples thereof include a dimethylthiomorpholinosulfonyl group and a 3-phenylthiomorpholinosulfonyl group.
 式中、R、R、RまたはRに帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、2-メチルピペラジノスルホニル基、3-メチルピペラジノスルホニル基、2-エチルピペラジノスルホニル基、3-n-プロピルピペラジノスルホニル基、3-n-ブチルピペラジノスルホニル基、2,5-ジメチルピペラジノスルホニル基、2,6-ジメチルピペラジノスルホニル基、3-フェニルピペラジノスルホニル基、2-ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。 In the formula, examples of the piperazinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a piperazinosulfonyl group, 2-methylpiperazino Sulfonyl group, 3-methylpiperazinosulfonyl group, 2-ethylpiperazinosulfonyl group, 3-n-propylpiperazinosulfonyl group, 3-n-butylpiperazinosulfonyl group, 2,5-dimethylpiperazi Nosulfonyl group, 2,6-dimethylpiperazinosulfonyl group, 3-phenylpiperazinosulfonyl group, 2-pyrimidylpiperazinosulfonyl group and the like.
 前記のR、R、RおよびRの各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個、好ましくは1または2個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、経済性すなわち原料の入手の簡便さや収率の観点から、存在しないか、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ハロゲノ基、炭素数1~4のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であることが好ましく、存在しないか、ハロゲノ基、炭素数1~4のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。
 これらに加えて、Y、Y、YおよびY、ZおよびZ、R、R、RおよびRはそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質(純度)管理の観点から、Y=YかつY=YかつZ=ZかつR=R=R=Rであることが特に好ましい。
Each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, two carbons shared with a 5-membered ring of the six carbon atoms of one benzene ring. Substituent in which 1 to 4, preferably 1 or 2 of 4 hydrogen atoms bonded to 4 carbon atoms excluding atoms can be substituted, and hydrogen atoms of 4 benzene rings are substituted All independently have an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogeno group, and a substituent which may have a substituent. An alkylaminosulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, and a substituent. Pyrrolidinosulfonyl , A thiomorpholinosulfonyl group which may have a substituent or a piperazinosulfonyl group which may have a substituent, and is not present from the viewpoint of economy, that is, the availability of raw materials and the yield An optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a halogeno group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and an optionally substituted alkylaminosulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms A morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, a pyrrolidinosulfonyl group which may have a substituent, and a substituent. It is preferably a thiomorpholinosulfonyl group or an optionally substituted piperazinosulfonyl group, which is absent, has a halogeno group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or has a substituent. Carbon atoms and optionally 1-8 alkylaminosulfonyl group, more preferably a good morpholinosulfonyl group which may have a substituent, and more preferably not present.
In addition to these, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 , Z 1 and Z 2 , R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are independent of each other. From the viewpoint of quality (purity) control of the metal complex to be obtained, it is particularly preferable that Y 1 = Y 2 and Y 3 = Y 4 and Z 1 = Z 2 and R 1 = R 2 = R 3 = R 4. .
 式中、Mで表される金属原子は、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子等が挙げられる。該金属錯体とシランカップリング剤からなる紫外線吸収部材用組成物および最終的に得られる紫外線吸収部材の着色低減の観点から、ニッケル原子であることが特に好ましい。 In the formula, examples of the metal atom represented by M include a cobalt atom, a nickel atom, or a copper atom. From the viewpoint of reducing coloration of the composition for an ultraviolet absorbing member comprising the metal complex and the silane coupling agent and the finally obtained ultraviolet absorbing member, a nickel atom is particularly preferable.
 式(1)で表される金属錯体は、下記式(2)で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
 式(2):
The metal complex represented by the formula (1) is obtained by reacting a ligand represented by the following formula (2) with a metal salt such as a metal halide, metal sulfate, metal acetate, or metal nitrate. Can be synthesized.
Formula (2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式(2)において、Y、Y、Z、R、Rは、それぞれ式(1)中のY(および/またはY)、Y(および/またはY)、Z(および/またはZ)、R(および/またはR)、R(および/またはR)に対応している。 In the formula (2), Y 1 , Y 2 , Z 1 , R 1 , R 2 are Y 1 (and / or Y 3 ), Y 2 (and / or Y 4 ), Z in the formula (1), respectively. 1 (and / or Z 2 ), R 1 (and / or R 3 ), R 2 (and / or R 4 ).
 式(2)で表される配位子は、例えば、「特開昭56-87575」、「Synthesis 1987,368」、「Synthesis 1982,590」、「Synthesis 1982,1066-1067」、「J.Org.Chem.2002,67,5753-5772」、「J.Org.Chem.2002,67,5753-5772」、「J.Org.Chem.1961,26,3434-3445」、「Gazz.Chim.Ital.1996,126,329-337」、「Gazz.Chim.Ital.1994,124,301-308」、「特表2007-535421」において開示されている方法で合成することができる。
 以下、式(2)で表される配位子の製造方法を一部説明する。
Examples of the ligand represented by the formula (2) include “JP-A-56-87575”, “Synthesis 1987, 368”, “Synthesis 1982, 590”, “Synthesis 1982, 1066-1067”, “J. "Org. Chem. 2002, 67, 5753- 5772", "J. Org. Chem. 2002, 67, 5753- 5772", "J. Org. Chem. 1961, 26, 3434-3445", "Gazz. Chim. Ital. 1996, 126, 329-337, “Gazz. Chim. Ital. 1994, 124, 301-308”, and “Special Table 2007-535421”.
Hereinafter, a part of manufacturing method of the ligand represented by Formula (2) is demonstrated.
≪配位子の製造方法≫
i) 下記式(3):式(2)においてY=Y=S,Z=Nの場合
≪Ligand production method≫
i) In the following formula (3): in the formula (2), Y 1 = Y 2 = S, Z 1 = N
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 例えば、特開昭56-87575に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノベンゾチアゾール(RおよびRが存在しない場合)または2-アミノ-置換ベンゾチアゾール(RおよびRが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)をフェノール等の酸触媒存在下において、150~185℃に加熱し、反応させることによって2,2’-イミノビスベンゾチアゾールまたは2,2’-イミノビス(置換ベンゾチアゾール)を合成することができる。 For example, it can be synthesized according to the method described in JP-A-56-87575. That is, 2-aminobenzothiazole (when R 1 and R 2 are not present) or 2-amino-substituted benzothiazole (wherein R 1 and R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) , Hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or halogeno group) in the presence of an acid catalyst such as phenol, the mixture is heated to 150 to 185 ° C. and reacted to give 2,2′-iminobis Benzothiazole or 2,2′-iminobis (substituted benzothiazole) can be synthesized.
ii) 下記式(4):式(2)においてY=S,Y=O,Z=Nの場合 ii) In the case of Y 1 = S, Y 2 = O, and Z 1 = N in the following formula (4):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 例えば、Synthesis 1987,368に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノフェノール(Rが存在しない場合)または2-アミノ-置換フェノール(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)をN,N’-ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させ、塩基として水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で30分間攪拌し、ここにS,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)-カルボンイミドジチオエート(Rが存在しない場合)またはS,S’-ジメチル-N-[2-(置換ベンゾチアゾリル)]-カルボンイミドジチオエート(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)のDMF溶液を滴下し、窒素雰囲気下で還流させることで2-(2-ベンゾチアゾリルアミノ)ベンゾオキサゾールまたは2-[2-(置換ベンゾチアゾリル)アミノ]置換ベンゾオキサゾールを合成することができる。 For example, it can be synthesized according to the method described in Synthesis 1987,368. That is, 2-aminophenol (when R 2 is not present) or 2-amino-substituted phenol (wherein R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, carbon (In the case of an alkoxy group or a halogeno group of 1 to 4) is dissolved in N, N′-dimethylformamide (DMF), an aqueous sodium hydroxide solution is added as a base, and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes. -Dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) -carbonimidodithioate (if R 1 is not present) or S, S'-dimethyl-N- [2- (substituted benzothiazolyl)]-carbonimidodithioate (where R 1 is An optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or halogeno 2- (2-benzothiazolylamino) benzoxazole or 2- [2- (substituted benzothiazolyl) amino] -substituted benzoxazole is synthesized by dropping a DMF solution in the case of a group and refluxing under a nitrogen atmosphere. be able to.
 前記S,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)カルボンイミドジチオエートまたはS,S’-ジメチル-N-[2-(置換ベンゾチアゾリル)]カルボンイミドジチオエートは、例えば、Synthesis 1982,590に記載されている方法に従って合成することができる。 The S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) carbonimidodithioate or S, S′-dimethyl-N- [2- (substituted benzothiazolyl)] carbonimidodithioate is described in, for example, Synthesis 1982,590. Can be synthesized according to the methods described.
 すなわち、2-アミノベンゾチアゾール(Rが存在しない場合)または2-アミノ-置換ベンゾチアゾール(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)をDMFに溶解させ、水浴または氷浴下でこの溶液に、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、次に二硫化炭素を滴下し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を滴下した後、ヨウ化メチルを滴下することで、S,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)カルボンイミドジチオエート(Rが存在しない場合)またはS,S’-ジメチル-N-(2-置換ベンゾチアゾリル)カルボンイミドジチオエート(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)を合成することができる。 That is, 2-aminobenzothiazole (when R 1 is not present) or 2-amino-substituted benzothiazole (wherein R 1 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group) In the case of an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group), an aqueous sodium hydroxide solution is added dropwise to this solution in a water bath or ice bath, carbon disulfide is then added dropwise, and water is added. An aqueous sodium oxide solution is added dropwise, followed by methyl iodide, so that S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) carbonimide dithioate (when R 1 is not present) or S, S′-dimethyl is added. -N-(2-substituted-benzothiazolyl) dicarbonimide phosphorodithioate (alkyl group R 1 is - carbon atoms 1 may have a substituent 8, hydroxy Group, a carboxyl group, can be synthesized when an alkoxy group or a halogeno group having 1 to 4 carbon atoms).
iii) 下記式(5):式(2)においてY=S,Y=NH,Z=Nの場合 iii) In the following formula (5): in the formula (2), Y 1 = S, Y 2 = NH, Z 1 = N
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
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 例えば、Synthesis 1982,1066-1067に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、o-フェニレンジアミン(Rが存在しない場合)またはo-(置換フェニレン)ジアミン(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)をDMFに溶解させ、ここにS,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)-カルボンイミドジチオエート(Rが存在しない場合)またはS,S’-ジメチル-N-[2-(置換ベンゾチアゾリル)]-カルボンイミドジチオエート(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)のDMF溶液を滴下した後に、10~16時間還流させることで2-(2-ベンゾチアゾリルアミノ)ベンゾイミダゾールまたは2-[2-(置換ベンゾチアゾリルアミノ)]置換ベンゾイミダゾールを合成することができる。 For example, it can be synthesized according to the method described in Synthesis 1982, 1066-1067. That is, o-phenylenediamine (when R 2 is not present) or o- (substituted phenylene) diamine (wherein R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, C 1-4 alkoxy group or halogeno group) is dissolved in DMF, where S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) -carbonimidodithioate (if R 1 is not present) or S, S′-dimethyl-N- [2- (substituted benzothiazolyl)]-carbonimidodithioate (wherein R 1 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, After dropwise addition of a DMF solution of a C 1-4 alkoxy group or halogeno group), the mixture is refluxed for 10-16 hours to give 2- (2-benzothia Riruamino) benzimidazole or 2- [2- (substituted-benzothiazolyl amino)] can be synthesized substituted benzimidazol.
iv) 下記式(6):式(2)においてY=S,Y=NH,Z=CHの場合 iv) In the case of Y 1 = S, Y 2 = NH, Z 1 = CH in the following formula (6):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
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 例えば、J.Org.Chem.2002,67,5753-5772に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、o-フェニレンジアミン(Rが存在しない場合)またはo-(置換フェニレン)ジアミン(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)と、エチル-2-ベンゾチアゾリルアセテート(Rが存在しない場合)またはエチル-2-(置換ベンゾチアゾリル)アセテート(Rが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)を窒素雰囲気下において160℃で6時間還流することによって(2-ベンゾチアゾリル)(2-ベンゾイミダゾリル)メタンまたは[2-(置換ベンゾチアゾリル)][2-(置換ベンゾイミダゾリル)]メタンを合成することができる。
 前記エチル-2-ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル-2-(置換ベンゾチアゾリル)アセテートは、例えば、J.Org.Chem.2002,67,5753-5772に記載されている方法に従って合成することができる。
For example, J. et al. Org. Chem. It can be synthesized according to the method described in 2002, 67, 5753-5772. That is, o-phenylenediamine (when R 2 is not present) or o- (substituted phenylene) diamine (wherein R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group) and ethyl-2-benzothiazolyl acetate (when R 1 is not present) or ethyl-2- (substituted benzothiazolyl) acetate (where R 1 is a substituent). (Optionally having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or halogeno group) by refluxing at 160 ° C. for 6 hours in a nitrogen atmosphere ( 2-benzothiazolyl) (2-benzimidazolyl) methane or [2- (substituted benzothiazolyl)] [2- (substituted benzimi Dazolyl)] methane can be synthesized.
Examples of the ethyl-2-benzothiazolylacetate or ethyl-2- (substituted benzothiazolyl) acetate include those described in J. Org. Org. Chem. It can be synthesized according to the method described in 2002, 67, 5753-5772.
 すなわち、エチルシアノアセテートと2-アミノ-置換チオフェノールを混合し、窒素雰囲気下において120℃で2時間反応させることで、エチル-2-ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル-2-(置換ベンゾチアゾリル)アセテートを合成することができる。 That is, ethyl 2-benzothiazolyl acetate or ethyl-2- (substituted benzothiazolyl) acetate is prepared by mixing ethyl cyanoacetate and 2-amino-substituted thiophenol and reacting at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. Can be synthesized.
v) 下記式(7):式(2)においてY=Y=O,Z=CHの場合 v) In the case of Y 1 = Y 2 = O, Z 1 = CH in the following formula (7):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 例えば、US3250780に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノフェノール(RおよびRが存在しない場合)または2-アミノ-置換フェノール(RおよびRが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に70℃に保温しながら加える。次に、この反応液を175℃まで昇温し、反応させることで、ビス(2-ベンゾオキサゾリル)メタンまたはビス[2-(置換ベンゾオキサゾリル)]メタンを合成することができる。 For example, it can be synthesized according to the method described in US3250780. That is, 2-aminophenol (when R 1 and R 2 are not present) or 2-amino-substituted phenol (wherein R 1 and R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl Group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or halogeno group) and malonic acid are mixed, and this mixed liquid is added to polyphosphoric acid under stirring while maintaining the temperature at 70 ° C. Next, this reaction solution is heated to 175 ° C. and reacted to synthesize bis (2-benzoxazolyl) methane or bis [2- (substituted benzoxazolyl)] methane.
vi) 下記式(8):式(2)においてY=Y=S,Z=CHの場合 vi) The following formula (8): In the case of Y 1 = Y 2 = S, Z 1 = CH in formula (2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 例えば、J.Org.Chem.1961,26,3434-3445に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、2-アミノチオフェノール(RおよびRが存在しない場合)または2-アミノ-置換チオフェノール(RおよびRが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に70℃に保温しながら加える。次に、この反応液を125-150℃で2時間反応させることで、ビス(2-ベンゾチアゾリル)メタンまたはビス[2-(置換ベンゾチアゾリル)]メタンを合成することができる。 For example, J. et al. Org. Chem. It can be synthesized according to the method described in 1961, 26, 3434-3445. That is, 2-aminothiophenol (when R 1 and R 2 are not present) or 2-amino-substituted thiophenol (wherein R 1 and R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) , A hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group) and malonic acid are mixed, and this mixed solution is added to polyphosphoric acid under stirring while keeping the temperature at 70 ° C. Next, this reaction solution is reacted at 125-150 ° C. for 2 hours to synthesize bis (2-benzothiazolyl) methane or bis [2- (substituted benzothiazolyl)] methane.
 vii) 下記式(9):式(2)においてY=NR、Y=NR,Z=CHの場合 vii) In the case of Y 1 = NR 5 , Y 2 = NR 5 , Z 1 = CH in the following formula (9): Formula (2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
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 例えば、Gazz.Chim.Ital.1996,126,329-337に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、(N-置換-)o-フェニレンジアミン(RおよびRが存在しない場合)または(N-置換-)[o-(置換フェニレン)]ジアミン(RおよびRが置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合)とマロン酸ジエチルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において155℃で11時間還流することで、ビス[2-(N-置換)ベンゾイミダゾリル]メタンまたはビス[2-(N-置換)(置換ベンゾイミダゾリル)]メタンを合成することができる。 For example, Gazz. Chim. Ital. It can be synthesized according to the method described in 1996, 126, 329-337. That is, (N-substituted-) o-phenylenediamine (when R 1 and R 2 are not present) or (N-substituted-) [o- (substituted phenylene)] diamine (R 1 and R 2 have a substituent) An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group) and diethyl malonate are mixed, and the mixture is mixed under a nitrogen atmosphere. By refluxing at 155 ° C. for 11 hours, bis [2- (N-substituted) benzimidazolyl] methane or bis [2- (N-substituted) (substituted benzimidazolyl)] methane can be synthesized.
viii) 下記式(10):式(2)においてZ=CRの場合 viii) In the following formula (10): In the formula (2), Z 1 = CR 6
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
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 例えば、Gazz.Chim.Ital.1994,124,301-308に記載されている方法に従って合成することができる。前記の通り、式(1)中のZまたはZに帰属されるCRのRとしてはアラルキル基であることが特に好ましい。ここでは、このアラルキル基が例えば4-ピリジルメチル基である場合を取り上げ、以下、合成方法を説明する。4-ピリジルメチル基以外の置換基である場合にも対応する基質(置換基に対応するアルデヒド体)を選択することで、同様の合成方法に従って合成することが可能である。 For example, Gazz. Chim. Ital. 1994, 124, 301-308. As described above, R 6 of CR 6 attributed to Z 1 or Z 2 in formula (1) is particularly preferably an aralkyl group. Here, taking the case where the aralkyl group is, for example, a 4-pyridylmethyl group, the synthesis method will be described below. Even when it is a substituent other than the 4-pyridylmethyl group, it can be synthesized according to the same synthesis method by selecting the corresponding substrate (aldehyde body corresponding to the substituent).
 iv)で得られた(2-ベンゾチアゾリル)(2-ベンゾイミダゾリル)メタンまたは[2-(置換ベンゾチアゾリル)][2-(置換ベンゾイミダゾリル)]メタン、または
 v)で得られたビス(2-ベンゾオキサゾリル)メタンまたはビス[2-(置換ベンゾオキサゾリル)]メタン、または
 vi)で得られたビス(2-ベンゾチアゾリル)メタンまたはビス[2-(置換ベンゾチアゾリル)]メタン、または
 vii)で得られたビス[2-(N-置換)ベンゾイミダゾリル]メタンまたはビス[2-(N-置換)(置換ベンゾイミダゾリル)]メタンと、
 酢酸および酢酸ナトリウムを混合し、ここに4-ピリジンカルボキシアルデヒドを添加し反応させた後に、パラジウムカーボン等を用いて還元することで、
(2-benzothiazolyl) (2-benzimidazolyl) methane or [2- (substituted benzothiazolyl)] [2- (substituted benzimidazolyl)] methane obtained in iv), or bis (2-benzoxazolyl) obtained in v) ) Methane or bis [2- (substituted benzoxazolyl)] methane, or bis (2-benzothiazolyl) methane or bis [2- (substituted benzothiazolyl)] methane obtained from vi), or vii) Bis [2- (N-substituted) benzimidazolyl] methane or bis [2- (N-substituted) (substituted benzimidazolyl)] methane,
Acetic acid and sodium acetate are mixed, 4-pyridinecarboxaldehyde is added and reacted therewith, and then reduced using palladium carbon or the like,
 iv)で得られた化合物からは、対応する4-[β,β-(2-ベンゾチアゾリル)(2-ベンゾイミダゾリル)エチル]ピリジンまたは4-[β,β-{2-(置換ベンゾチアゾリル)}{2-(置換ベンゾイミダゾリル)}エチル]ピリジンを、
 v)で得られた化合物からは、対応する4-[β,β-ビス(2-ベンゾオキサゾリル)エチル]ピリジンまたは4-[β,β-ビス{2-(置換ベンゾオキサゾリル)}エチル]ピリジンを、
 vi)で得られた化合物からは、対応する4-[β,β-ビス(2-ベンゾチアゾリル)エチル]ピリジンまたは4-[β,β-ビス{2-(置換ベンゾチアゾリル)}エチル]ピリジンを、
 vii)で得られた化合物からは、対応する4-[β,β-ビス{2-(N-置換)ベンゾイミダゾリル}エチル]ピリジンまたは4-[β,β-ビス{2-(N-置換)(置換ベンゾイミダゾリル)エチル]ピリジンを合成することができる。
From the compound obtained in iv), the corresponding 4- [β, β- (2-benzothiazolyl) (2-benzimidazolyl) ethyl] pyridine or 4- [β, β- {2- (substituted benzothiazolyl)} {2 -(Substituted benzimidazolyl)} ethyl] pyridine,
From the compound obtained in v), the corresponding 4- [β, β-bis (2-benzoxazolyl) ethyl] pyridine or 4- [β, β-bis {2- (substituted benzoxazolyl)] } Ethyl] pyridine,
From the compound obtained in vi), the corresponding 4- [β, β-bis (2-benzothiazolyl) ethyl] pyridine or 4- [β, β-bis {2- (substituted benzothiazolyl)} ethyl] pyridine is
From the compounds obtained in vii), the corresponding 4- [β, β-bis {2- (N-substituted) benzimidazolyl} ethyl] pyridine or 4- [β, β-bis {2- (N-substituted)] (Substituted benzimidazolyl) ethyl] pyridine can be synthesized.
ix) 式(2)においてRおよびRのそれぞれ少なくとも一つの置換基が、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基の場合 ix) In Formula (2), each of at least one substituent of R 1 and R 2 may have an optionally substituted alkylaminosulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms or a substituent. A morpholinosulfonyl group, an optionally substituted piperidinosulfonyl group, an optionally substituted pyrrolidinosulfonyl group, an optionally substituted thiomorpholinosulfonyl group or a substituent; In the case of piperazinosulfonyl group which may have
 例えば、特表2007-535421に記載されている方法に従って、前記i)~viii)の方法で得られた配位子(式(2)においてRおよびRの各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし3個が置換されたものに限る)に、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基を導入することができる。 For example, according to the method described in JP-A-2007-535421, the ligands obtained by the above methods i) to viii) (in the formula (2), each of R 1 and R 2 is absent, or When present, 1 to 3 of 4 hydrogen atoms bonded to 4 carbon atoms except 6 carbon atoms shared with a 5-membered ring among 6 carbon atoms of one benzene ring. The alkylaminosulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, and a substituent. Piperidinosulfonyl group which may have, pyrrolidinosulfonyl group which may have a substituent, thiomorpholinosulfonyl group which may have a substituent or piperazinosulfonyl which may have a substituent Introducing groups It can be.
 ここでは、i)で得られた2,2’-イミノビスベンゾチアゾールまたは2,2’-イミノビス(置換ベンゾチアゾール)を例に挙げ、以下、合成方法を説明する。
 i)で得られた2,2’-イミノビスベンゾチアゾールまたは2,2’-イミノビス(置換ベンゾチアゾール)をクロロスルホン酸に添加し、混合物を一晩攪拌する。さらに塩化チオニルを添加し50℃で1時間攪拌した後室温まで冷却する。混合物を氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒に一級または二級アミンと攪拌することで対応する2,2’-イミノビス(置換ベンゾチアゾール)を合成することができる。
Here, taking 2,2′-iminobisbenzothiazole or 2,2′-iminobis (substituted benzothiazole) obtained in i) as an example, the synthesis method will be described below.
2,2′-Iminobisbenzothiazole or 2,2′-iminobis (substituted benzothiazole) obtained in i) is added to the chlorosulfonic acid and the mixture is stirred overnight. Further, thionyl chloride is added and stirred at 50 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature. The corresponding 2,2′-iminobis (substituted benzothiazole) can be synthesized by pouring the mixture onto ice and stirring with a primary or secondary amine along with the suction-filtered ice.
≪式(1)で表される金属錯体の製造方法≫
 例えば、Polyhedron 2006,25,2363-2374やJ.Org.Chem.2002,67,5753-5772等に記載されている方法に従って、前記のi) ~ix)の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。すなわち、前記のi) ~ix)の製造方法に基づいて得られた配位子と、式(1)中のMに対応する金属塩を、メタノール、エタノール、水、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。
<< Method for Producing Metal Complex Represented by Formula (1) >>
For example, Polyhedron 2006, 25, 2363-2374 Org. Chem. In accordance with the methods described in 2002, 67, 5753-577, etc., the ligands obtained on the basis of the above production methods i) to ix), metal halides, metal sulfates, metal acetates, metals The corresponding metal complex can be synthesized by reacting with a metal salt such as nitrate. That is, a ligand obtained on the basis of the production methods i) to ix) and a metal salt corresponding to M in the formula (1) are mixed with methanol, ethanol, water, N, N-dimethylformamide ( It can be synthesized by reacting in a solvent such as DMF).
≪式(1)で表される少なくとも1種類の金属錯体と、チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤とを含む紫外線吸収部材用組成物の製造方法≫
 本発明における紫外線吸収部材用組成物について以下説明する。
<< At least one kind of silane coupling having at least one kind of metal complex represented by the formula (1) and one or more functional groups selected from the group consisting of thiol group, amino group, ureido group and isocyanate group For producing a composition for an ultraviolet absorbing member containing an agent >>
The composition for ultraviolet absorbing members in the present invention will be described below.
 チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤としては、例えば、
 トリメトキシシリルプロパンチオール、トリエトキシシリルプロパンチオール、3-(ジメトキシメチルシリル)-1-プロパンチオール等や、
 3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルジエトキシメチルシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、4-(2-アミノエチルアミノメチル)フェネチルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルエチレンジアミン、N,N’-ビス[3-(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミン等や、
 3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等や、
 3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
As at least one silane coupling agent having one or more functional groups selected from the group consisting of thiol groups, amino groups, ureido groups, and isocyanate groups, for example,
Trimethoxysilylpropanethiol, triethoxysilylpropanethiol, 3- (dimethoxymethylsilyl) -1-propanethiol, etc.
3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyldiethoxymethylsilane, 3- (N-phenyl) aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-amino Propyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 4- (2-aminoethylaminomethyl) phenethyltrimethoxysilane, trimethoxysilylethylenediamine, N, N′-bis [3 -(Trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine, etc.
Such as 3-ureidopropyltriethoxysilane,
Examples include 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.
 入手のし易さ、および最終的に得られる紫外線吸収部材の着色低減の観点から、トリメトキシシリルプロパンチオール、トリエトキシシリルプロパンチオール、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシランであることが好ましく、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシランであることがより好ましい。 From the viewpoint of easy availability and reduction in coloration of the finally obtained ultraviolet absorbing member, trimethoxysilylpropanethiol, triethoxysilylpropanethiol, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3- (N-phenyl) aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyl Triethoxysilane is preferable, and 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, and 3-ureidopropyltriethoxysilane are more preferable.
 また、該シランカップリング剤の使用量としては、該金属錯体10重量部に対して1~500重量部、好ましくは3~350重量部、より好ましくは5~250重量部である。1重量部未満の場合、本発明の特徴である該金属錯体の着色低減効果が十分に発揮されないおそれがあり、500重量部より多いと得られる紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度が低下し、最終的に得られる紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収能を付与できないおそれがある。 The amount of the silane coupling agent to be used is 1 to 500 parts by weight, preferably 3 to 350 parts by weight, more preferably 5 to 250 parts by weight with respect to 10 parts by weight of the metal complex. If the amount is less than 1 part by weight, the color reduction effect of the metal complex, which is a feature of the present invention, may not be sufficiently exerted. If the amount is more than 500 parts by weight, the concentration of the metal complex in the composition for an ultraviolet absorbing member to be obtained May decrease, and the ultraviolet absorbing member finally obtained may not be provided with sufficient ultraviolet absorbing ability.
 また、本発明における紫外線吸収部材用組成物の濃度を調整するために、溶媒を別途使用してもよい。 Further, in order to adjust the concentration of the composition for ultraviolet absorbing member in the present invention, a solvent may be used separately.
 さらに、最終的に得られる紫外線吸収部材のコーティング膜の機械強度や膜厚等を調整するために、別途シリコンアルコキシドや金属アルコキシドを添加してもよい。 Furthermore, silicon alkoxide or metal alkoxide may be added separately in order to adjust the mechanical strength, film thickness and the like of the coating film of the finally obtained ultraviolet absorbing member.
 例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル-トリス(2-メトキシエトキシ)シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル-トリス(2-メトキシエトキシ)シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ(エトキシ)シラン、エチルジエトキシ(メトキシ)シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス(2-メトキシエトキシ)ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のシリコンアルコキシドや、
 チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
For example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, methyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, ethyl Trimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, ethyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, hexyltripropoxysilane, hexyltributoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, phenyltributoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltri Toxisilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, methyldimethoxy (ethoxy) silane, ethyldiethoxy (methoxy) silane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, bis (2-methoxyethoxy) ) Silicon alkoxides such as dimethylsilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane,
Examples thereof include metal alkoxides such as titanium alkoxide, cerium alkoxide, zirconium alkoxide, tin alkoxide, aluminum alkoxide, nickel alkoxide, and zinc alkoxide.
 これらシリコンアルコキシドや金属アルコキシドを添加する場合、そのまま添加してもよいし、事前にシリコンアルコキシドおよび/または金属アルコキシドを加水分解・重縮合させゾル体を調製し、これを添加してもよい。 When these silicon alkoxides and metal alkoxides are added, they may be added as they are, or silicon alkoxides and / or metal alkoxides may be hydrolyzed and polycondensed in advance to prepare sol bodies, which may be added.
 また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。 Further, as long as the effects of the present invention are not impaired, a curing agent, a curing catalyst, a crosslinking agent, a coupling agent, a leveling agent, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, a thermal stabilizer, a flame retardant, and a filler , A colorant, a photocatalyst material, a rust inhibitor, a water repellent, a conductive material, an anti-blocking material, a softener, a release agent, a fluorescent brightening agent, and the like may be added as appropriate.
 また、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて従来公知の光吸収剤を添加し、併用することも可能である。
 併用することのできる光吸収剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機系光吸収剤としては、フタロシアニン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゼンジチオール金属錯体系、ジチオレン金属錯体系、アゾ金属系、金属フタロシアニン系、金属ナフタロシアニン系、ポルフィリン金属錯体系等の金属錯体系色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サルチレート系、サリチル酸フェニルエステル系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミド系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。
Moreover, a conventionally well-known light absorber can be added as needed and used together in the range which does not impair the effect of this invention.
The light absorber that can be used in combination is not particularly limited. For example, organic light absorbers include phthalocyanine, quinacridone, quinacridonequinone, benzimidazolone, quinone, and anthanthrone. , Dioxazine, diketopyrrolopyrrole, ansanthrone, indanthrone, flavanthrone, perinone, perylene, isoindoline, isoindolinone, azo, cyanine, azacyanine, squarylium, Organic dyes such as triarylmethane, metal complex dyes such as benzenedithiol metal complex, dithiolene metal complex, azo metal, metal phthalocyanine, metal naphthalocyanine, porphyrin metal complex, benzophenone, benzo Triazole, triazine, saluchi Over preparative system, phenyl salicylate ester type, hindered amine type, hindered phenol type, benzoate-based, phosphorus-based, amide-based, amine-based, organic-based ultraviolet absorbers such as the sulfur-based, and the like.
 また、無機系光吸収剤としては、六ホウ化物、酸化タングステン、複合酸化タングステン、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、酸化ガリウム、酸化リチウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タリウム、酸化ニッケル、酸化ネオジム、酸化コバルト、酸化クロム、酸化ランタン、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化プラセオジウム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビニウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミニウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等の金属酸化物や、ITO(インジウム-錫複合酸化物)、ATO(アンチモン-錫複合酸化物)等の複合金属酸化物や、窒化チタン、窒化クロム酸等の金属窒化物等が挙げられる。 Inorganic light absorbers include hexaboride, tungsten oxide, composite tungsten oxide, titanium oxide, cerium oxide, zirconium oxide, tin oxide, zinc oxide, iron oxide, tantalum oxide, aluminum oxide, scandium oxide, yttrium oxide. , Calcium oxide, gallium oxide, lithium oxide, strontium oxide, barium oxide, magnesium oxide, indium oxide, thallium oxide, nickel oxide, neodymium oxide, cobalt oxide, chromium oxide, lanthanum oxide, niobium oxide, hafnium oxide, praseodymium oxide, oxide Metal oxides such as samarium, europium oxide, gadolinium oxide, terbium oxide, dysprosium oxide, holmium oxide, erbium oxide, thulium oxide, ytterbium oxide, lutetium oxide, and ITO (in Um - tin composite oxide), ATO (antimony - or tin composite oxide) composite metal oxides such as titanium nitride, and metal nitrides such as chromium nitride acid.
 紫外線吸収部材用組成物を調製するにあたり、分散機を使用する場合には、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、SCミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機を使用することができる。 When preparing a composition for an ultraviolet absorbing member, when using a disperser, for example, paint shaker, ball mill, nano mill, attritor, basket mill, sand mill, sand grinder, dyno mill, disper mat, SC mill, spike mill Media type dispersers such as an agitator mill, and medialess dispersers such as an ultrasonic homogenizer, a high pressure homogenizer, a nanomizer, a resolver, a disper, and a high-speed impeller disperser can be used.
 メディア型分散機を用いる場合、使用できる分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、WC等の超硬ビーズ等が挙げられる。そのビーズ径は0.03~1.5mmφの範囲が好ましい。 When using a media-type disperser, the dispersion media that can be used include steel ball beads such as stainless steel and steel, alumina, steatite, zirconia, zircon, silica, depending on the material in the dispersion chamber of the disperser used. Examples thereof include ceramic beads such as silicon carbide and silicon nitride, glass beads such as soda glass and high bee, and carbide beads such as WC. The bead diameter is preferably in the range of 0.03 to 1.5 mmφ.
《紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材》
 かくして得られた紫外線吸収部材用組成物を基材に配合することより、基材中に式(1)で表される金属錯体を含有する紫外線吸収部材、および紫外線吸収部材用組成物を基材上にコーティングした後、焼成することにより、基材上に式(1)で表される金属錯体を含有するコーティング膜を有する紫外線吸収部材を作製することができる。
 前記のコーティング膜を有する紫外線吸収部材の作製方法を以下に詳述する。
<< Ultraviolet absorbing member produced using composition for ultraviolet absorbing member >>
By mixing the composition for an ultraviolet absorbing member thus obtained with a base material, the ultraviolet absorbing member containing the metal complex represented by the formula (1) in the base material and the composition for the ultraviolet absorbing member are used as the base material. By coating and baking, an ultraviolet absorbing member having a coating film containing the metal complex represented by the formula (1) on the substrate can be produced.
A method for producing the ultraviolet absorbing member having the coating film will be described in detail below.
 前記紫外線吸収部材用組成物を基材にコーティングする方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の方法が挙げられる。
 基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス等の無機系基材や、ポリ(シクロ)オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ(シクロ)オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。
The method for coating the base material with the composition for ultraviolet absorbing member is not particularly limited. For example, dip coating, spin coating, flow coating, roll coating, gravure coating, flexographic printing, screen printing And known methods such as an ink jet printing method, a bar coating method, a spray method, and a reverse coating method.
The substrate may be a film or a board as desired, and the shape is not limited. The material is not particularly limited, and can be appropriately selected and used according to the application. For example, inorganic base materials such as glass, poly (cyclo) olefin resin, polycarbonate resin, (meth) acrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, epoxy resin, polyvinyl chloride resin, polychlorinated resin Vinylidene resin, polyacetal resin, polyamide resin, polyimide resin, fluorine resin, silicone resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyetherketone resin, polyetheretherketone resin, polyphenylene sulfide resin And organic base materials such as Among these, from the viewpoint of transparency, glass, poly (cyclo) olefin resin, polycarbonate resin, (meth) acrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, epoxy resin, polyamide resin, polyimide resin, polysulfone Of these, a resin based on a resin, a polyether sulfone resin, a polyether ketone resin, and a polyphenylene sulfide resin are preferred.
 また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、コーティング前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、UV洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎおよび乾燥を行う。 Also, the surface of the substrate may be washed before coating for the purpose of preventing delamination and coating unevenness. It does not specifically limit as a washing | cleaning method, According to the kind of base material, it can select suitably and can implement. Usually, ultrasonic cleaning, UV cleaning, seric powder cleaning, acid cleaning, alkali cleaning, surfactant cleaning, organic solvent cleaning and the like can be performed alone or in combination. After the cleaning is completed, rinsing and drying are performed so that no cleaning agent remains.
 最終的に得られる紫外線吸収部材のコーティング膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常0.01~100μm、好ましくは0.01~50μm、より好ましくは0.01~30μmである。0.01μm未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、100μmを超えると、乾燥、焼成時に溶媒等の低分子成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。 The film thickness of the coating film of the finally obtained ultraviolet absorbing member is not particularly limited and can be appropriately adjusted according to the use, but is usually 0.01 to 100 μm, preferably 0.01 to 50 μm, More preferably, the thickness is 0.01 to 30 μm. If the thickness is less than 0.01 μm, there is a possibility that sufficient ultraviolet light absorbing ability may not be obtained. If the thickness exceeds 100 μm, low molecular components such as a solvent evaporate from the inside of the film during drying and baking, resulting in unevenness on the film surface or cracks. May occur.
 焼成温度は80~500℃、好ましくは90~400℃、より好ましくは100~300℃である。80℃未満では、シランカップリング剤や別途必要に応じて併用するシリコンアルコキシドや金属アルコキシド(ゾル体等)の重縮合が進行しにくく十分な膜強度が得られないおそれがあり、500℃を超えると式(1)で表される金属錯体の分解が始まり、紫外線吸収能が低下するおそれがある。 Calcination temperature is 80 to 500 ° C, preferably 90 to 400 ° C, more preferably 100 to 300 ° C. If the temperature is lower than 80 ° C, polycondensation of a silane coupling agent or a silicon alkoxide or metal alkoxide (sol body, etc.) used in combination separately as necessary may not proceed sufficiently, and sufficient film strength may not be obtained. And the decomposition of the metal complex represented by the formula (1) starts, and there is a possibility that the ultraviolet absorbing ability is lowered.
 焼成時間は、通常、10分間~5時間、好ましくは30分間~3時間である。10分間より短いとシランカップリング剤や別途必要に応じて併用する無機系重合性モノマー、無機系高分子材料の重縮合が進行せず十分な膜強度が得られないおそれがあり、5時間より長いと時間に見合う効果が得られず経済的でない。 Calcination time is usually 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours. If it is shorter than 10 minutes, polycondensation of the silane coupling agent, an inorganic polymerizable monomer that is used in combination separately as required, or an inorganic polymer material does not proceed and sufficient film strength may not be obtained. If the length is too long, the effect corresponding to the time cannot be obtained and it is not economical.
 前記紫外線吸収部材用組成物中に溶媒等の非重合性の低分子揮発成分を含む場合、前記焼成工程の前に乾燥工程を設けてもよく、その乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。 When the composition for an ultraviolet absorbing member contains a non-polymerizable low-molecular volatile component such as a solvent, a drying step may be provided before the firing step, and the drying temperature and drying time depend on the type of solvent used. Can be set as appropriate.
 以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
製造例1
 フェノール18.8g(0.2モル)を50℃まで加熱し溶融させ、ここに2-アミノベンゾチアゾール45.1g(0.3モル)を加えた後、さらに180℃まで加熱し、20時間保温した。その後、反応液を80℃まで冷却し、エタノール60gを滴下し、さらに1時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別し、エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として白色の2,2’-イミノビスベンゾチアゾール(L1:下記表1参照)32.1gを得た。収率は2-アミノベンゾチアゾールに対して75.5%であった。
Production Example 1
18.8 g (0.2 mol) of phenol was heated to 50 ° C. and melted, and 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole was added thereto, and then further heated to 180 ° C. and kept for 20 hours. did. Thereafter, the reaction solution was cooled to 80 ° C., 60 g of ethanol was added dropwise, and the temperature was further kept for 1 hour. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, the precipitate was filtered off, washed with ethanol and dried to obtain 32.1 g of white 2,2′-iminobisbenzothiazole (L1: see Table 1 below) as a ligand. It was. The yield was 75.5% based on 2-aminobenzothiazole.
製造例2
 製造例1において2-アミノベンゾチアゾール45.1g(0.3モル)に代えて2-アミノ-5,6-ジメチルベンゾチアゾール53.5g(0.3モル)を用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色の2,2’-イミノビス(5,6-ジメチルベンゾチアゾール)(L2:下記表1参照)42.1gを得た。収率は2-アミノ-5,6-ジメチルベンゾチアゾールに対して82.7%であった。
Production Example 2
In Production Example 1, except that 53.5 g (0.3 mol) of 2-amino-5,6-dimethylbenzothiazole was used instead of 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole, Similarly, 42.1 g of white 2,2′-iminobis (5,6-dimethylbenzothiazole) (L2: see Table 1 below) was obtained as a ligand. The yield was 82.7% based on 2-amino-5,6-dimethylbenzothiazole.
製造例3
 製造例1において2-アミノベンゾチアゾール45.1g(0.3モル)に代えて2-アミノ-6-クロロベンゾチアゾール55.4g(0.3モル)を用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色の2,2’-イミノビス(6-クロロベンゾチアゾール)(L3:下記表1参照)37.2gを得た。収率は2-アミノ-6-クロロベンゾチアゾールに対して70.4%であった。
Production Example 3
In the same manner as in Production Example 1, except that 55.4 g (0.3 mol) of 2-amino-6-chlorobenzothiazole was used instead of 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole in Production Example 1. As a ligand, 37.2 g of white 2,2′-iminobis (6-chlorobenzothiazole) (L3: see Table 1 below) was obtained. The yield was 70.4% based on 2-amino-6-chlorobenzothiazole.
製造例4
 製造例1において2-アミノベンゾチアゾール45.1g(0.3モル)に代えて2-アミノ-6-メトキシベンゾチアゾール54.1g(0.3モル)を用いた以外は製造例1と同様にして、配位子として、白色の2,2’-イミノビス(6-メトキシベンゾチアゾール)(L4:下記表1参照)41.7gを得た。収率は2-アミノ-6-メトキシベンゾチアゾールに対して81.0%であった。
Production Example 4
In the same manner as in Production Example 1, except that 54.1 g (0.3 mol) of 2-amino-6-methoxybenzothiazole was used instead of 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole in Production Example 1. As a ligand, 41.7 g of white 2,2′-iminobis (6-methoxybenzothiazole) (L4: see Table 1 below) was obtained. The yield was 81.0% based on 2-amino-6-methoxybenzothiazole.
製造例5
 2-アミノベンゾチアゾール90.1g(0.60モル)をDMF566gに溶解させ、氷浴下で20モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液36mL(水酸化ナトリウム0.72モル相当)を滴下し、次いで二硫化炭素91.4g(1.2モル)を滴下し、さらに20モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液36mL(水酸化ナトリウム0.72モル相当)を滴下した後に、ヨウ化メチル178.8g(1.26モル)を滴下した。室温で2時間攪拌した後に、この反応液を水3000gの中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、S,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)カルボンイミドジチオエート107.2gを得た。収率は2-アミノベンゾチアゾールに対して70.2%であった。
Production Example 5
90.1 g (0.60 mol) of 2-aminobenzothiazole was dissolved in 566 g of DMF, and 36 mL of a 20 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (corresponding to 0.72 mol of sodium hydroxide) was added dropwise in an ice bath. After 91.4 g (1.2 mol) of carbon sulfide was added dropwise and 36 mL of a 20 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (corresponding to 0.72 mol of sodium hydroxide) was added dropwise, 178.8 g of methyl iodide (1. 26 mol) was added dropwise. After stirring at room temperature for 2 hours, the reaction solution was dropped into 3000 g of water. The precipitate was separated by filtration, washed with water and dried to obtain 107.2 g of S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) carbonimidodithioate. The yield was 70.2% based on 2-aminobenzothiazole.
 2-アミノフェノール21.8g(0.20モル)をDMF944gに溶解させ、ここに5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液40mL(水酸化ナトリウム0.20モル相当)を加え、室温で30分間攪拌し、次いでここに前記の得られたS,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)カルボンイミドジチオエート50.9g(0.20モル)をDMF1416gに溶解させた溶液を滴下した。次いで153℃まで昇温し、窒素雰囲気下で6時間還流させた後、室温まで冷却し、この反応液を水2000g中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、2-(2-ベンゾチアゾリルアミノ)ベンゾオキサゾール(L5:下記表1参照)30.0gを得た。収率は2-アミノフェノールに対して56.1%であった。 21.8 g (0.20 mol) of 2-aminophenol was dissolved in 944 g of DMF, 40 mL of a 5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution (corresponding to 0.20 mol of sodium hydroxide) was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Then, a solution prepared by dissolving 50.9 g (0.20 mol) of the obtained S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) carbonimide dithioate in 1416 g of DMF was added dropwise thereto. Next, the temperature was raised to 153 ° C., and the mixture was refluxed for 6 hours under a nitrogen atmosphere, then cooled to room temperature, and this reaction solution was dropped into 2000 g of water. The precipitate was separated by filtration, washed with water and dried to obtain 30.0 g of 2- (2-benzothiazolylamino) benzoxazole (L5: see Table 1 below). The yield was 56.1% based on 2-aminophenol.
製造例6
 製造例5において2-アミノベンゾチアゾール90.1g(0.60モル)に代えて、2-アミノ-6-メチルベンゾチアゾール98.5g(0.60モル)を用いた以外は製造例5と同様にして、S,S’-ジメチル-N-[2-(6-メチルベンゾチアゾリル)]カルボンイミドジチオエート114.2gを得た。収率は2-アミノ-6-メチルベンゾチアゾールに対して70.9%であった。
Production Example 6
In the same manner as in Production Example 5, except that 98.5 g (0.60 mol) of 2-amino-6-methylbenzothiazole was used instead of 90.1 g (0.60 mol) of 2-aminobenzothiazole in Production Example 5. As a result, 114.2 g of S, S′-dimethyl-N- [2- (6-methylbenzothiazolyl)] carbonimide dithioate was obtained. The yield was 70.9% based on 2-amino-6-methylbenzothiazole.
 次いで、製造例5においてS,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)カルボンイミドジチオエート50.9g(0.20モル)に代えて、ここで得られたS,S’-ジメチル-N-[2-(6-メチルベンゾチアゾリル)]カルボンイミドジチオエート53.7g(0.20モル)を用いた以外は製造例5と同様にして、2-[2-(6-メチルベンゾチアゾリル)アミノ]ベンゾオキサゾール(L6:下記表1参照)29.4gを得た。収率はS,S’-ジメチル-N-[2-(6-メチルベンゾチアゾリル)]カルボンイミドジチオエートに対して52.3%であった。 Subsequently, instead of 50.9 g (0.20 mol) of S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) carbonimidodithioate in Production Example 5, S, S′-dimethyl-N obtained here was used. 2- [2- (6-Methylbenzothiazolyl)] 2- [2- (6-methylbenzothiazolyl)] was prepared in the same manner as in Production Example 5 except that 53.7 g (0.20 mol) of carbonimidodithioate was used. 29.4 g of thiazolyl) amino] benzoxazole (L6: see Table 1 below) was obtained. The yield was 52.3% based on S, S'-dimethyl-N- [2- (6-methylbenzothiazolyl)] carbonimidodithioate.
製造例7
 製造例5において2-アミノフェノール21.8g(0.20モル)に代えて、2-アミノ-4-クロロフェノール28.7g(0.20モル)を用いた以外は製造例5と同様にして、5-クロロ-2-(2-ベンゾチアゾリルアミノ)ベンゾオキサゾール(L7:下記表1参照)32.4gを得た。収率は2-アミノ-4-クロロフェノールに対して53.7%であった。
Production Example 7
In the same manner as in Production Example 5, except that 28.7 g (0.20 mol) of 2-amino-4-chlorophenol was used instead of 21.8 g (0.20 mol) of 2-aminophenol in Production Example 5. Thus, 32.4 g of 5-chloro-2- (2-benzothiazolylamino) benzoxazole (L7: see Table 1 below) was obtained. The yield was 53.7% based on 2-amino-4-chlorophenol.
製造例8
 o-フェニレンジアミン21.6g(0.2モル)をDMF944gに溶解させ、ここにS,S’-ジメチル-N-(2-ベンゾチアゾリル)-カルボンイミドジチオエート50.9g(0.20モル)をDMF1258gに溶解させた溶液を滴下した。次いで153℃まで昇温し、窒素雰囲気下で13時間還流させた後、0℃まで冷却した。ここに水2000gを滴下し、析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、2-(2-ベンゾチアゾリルアミノ)ベンゾイミダゾール(L8:下記表1参照)32.0gを得た。収率はo-フェニレンジアミンに対して60.1%であった。
Production Example 8
21.6 g (0.2 mol) of o-phenylenediamine was dissolved in 944 g of DMF, and 50.9 g (0.20 mol) of S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) -carbonimidodithioate was added thereto. A solution dissolved in 1258 g of DMF was added dropwise. Next, the temperature was raised to 153 ° C., refluxed for 13 hours in a nitrogen atmosphere, and then cooled to 0 ° C. To this was added 2000 g of water dropwise, and the precipitate was filtered off, washed with water and dried to obtain 32.0 g of 2- (2-benzothiazolylamino) benzimidazole (L8: see Table 1 below). . The yield was 60.1% with respect to o-phenylenediamine.
製造例9
 エチルシアノアセテート101.8g(0.90モル)と2-アミノチオフェノール112.7g(0.90モル)を混合し、窒素雰囲気下において120℃で2時間保温した。この反応液を室温まで冷却した後、黄色のオイルとしてエチル-2-ベンゾチアゾリルアセテート185.7gを得た。収率は2-アミノチオフェノールに対して93.2%であった。
Production Example 9
101.8 g (0.90 mol) of ethyl cyanoacetate and 112.7 g (0.90 mol) of 2-aminothiophenol were mixed and kept at 120 ° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction solution was cooled to room temperature, 185.7 g of ethyl-2-benzothiazolylacetate was obtained as a yellow oil. The yield was 93.2% based on 2-aminothiophenol.
 N-メチル-o-フェニレンジアミン73.3g(0.60モル)と、前で得られたエチル-2-ベンゾチアゾリルアセテート132.8g(0.60モル)を混合し、窒素雰囲気下において160℃で6時間還流した。このとき副生するエタノールを留去しながら還流した。反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテル900gを加え、析出した黄色の固体を濾別した。濾別した黄色固体に20%塩酸1500gを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で30分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がpH=8になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し中和したところ、沈殿物が得られた。これを濾別し、水600g、クロロホルム600gを加え、攪拌し、分液処理によりクロロホルム層を取り出した。クロロホルムを留去し、さらに乾燥することで、微黄色の(2-ベンゾチアゾリル)(2-(N-メチルベンゾイミダゾリル)メタン(L9:下記表1参照)36.9gを得た。収率はN-メチル-o-フェニレンジアミンに対して22.0%であった。 N-methyl-o-phenylenediamine (73.3 g, 0.60 mol) and the ethyl-2-benzothiazolylacetate (132.8 g, 0.60 mol) obtained above were mixed and mixed under a nitrogen atmosphere. The mixture was refluxed at 160 ° C. for 6 hours. At this time, the ethanol by-produced was refluxed while being distilled off. The reaction solution was cooled to room temperature, 900 g of diethyl ether was added, and the precipitated yellow solid was separated by filtration. To the yellow solid separated by filtration, 1500 g of 20% hydrochloric acid was added and dissolved. Activated carbon was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and then filtered. A sodium bicarbonate aqueous solution was added dropwise to neutralize the obtained filtrate until pH = 8, whereby a precipitate was obtained. This was separated by filtration, 600 g of water and 600 g of chloroform were added and stirred, and the chloroform layer was taken out by liquid separation treatment. Chloroform was distilled off and further dried to obtain 36.9 g of slightly yellow (2-benzothiazolyl) (2- (N-methylbenzimidazolyl) methane (L9: see Table 1 below). It was 22.0% with respect to methyl-o-phenylenediamine.
製造例10
 2-アミノフェノール32.7g(0.30モル)とマロン酸15.6g(0.15モル)を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸390g中に70℃に保温しながら加える。次にこの反応液を150℃まで昇温し、3時間保温した後、室温まで冷却した後に水を滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、ビス(2-ベンゾオキサゾリル)メタン(L10:下記表1参照)25.3gを得た。収率は2-アミノフェノールに対して67.4%であった。
Production Example 10
22.7 g (0.30 mol) of 2-aminophenol and 15.6 g (0.15 mol) of malonic acid are mixed, and this mixed solution is added to 390 g of stirred polyphosphoric acid while keeping the temperature at 70 ° C. Next, the temperature of the reaction solution was raised to 150 ° C., kept warm for 3 hours, cooled to room temperature, and then water was added dropwise. The precipitate was filtered off, washed with water and dried to obtain 25.3 g of bis (2-benzoxazolyl) methane (L10: see Table 1 below). The yield was 67.4% based on 2-aminophenol.
製造例11
 製造例10において2-アミノフェノール32.7g(0.30モル)に代えて、2-アミノチオフェノール37.6g(0.30モル)を用いた以外は製造例10と同様にして、ビス(2-ベンゾチアゾリル)メタン(L11:下記表1参照)38.2gを得た。収率は2-アミノチオフェノールに対して90.2%であった。
Production Example 11
In the same manner as in Production Example 10 except that 37.6 g (0.30 mol) of 2-aminothiophenol was used instead of 32.7 g (0.30 mol) of 2-aminophenol in Production Example 10, bis ( 28.2 g of 2-benzothiazolyl) methane (L11: see Table 1 below) was obtained. The yield was 90.2% based on 2-aminothiophenol.
製造例12
 N-メチル-o-フェニレンジアミン110.0g(0.90モル)とマロン酸ジエチル72.1g(0.45モル)を混合し、この混合液を窒素雰囲気下において155℃で11時間還流した。析出物を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄後、20%塩酸900mLを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で30分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がpH=8になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下したところ、沈殿を生じた。これを濾別し灰色固体を得た。この灰色固体をIPAから再結晶することにより精製し、乾燥することで、白色のビス[2-(N-メチルベンゾイミダゾリル)]メタン(L12:下記表1参照)38.1gを得た。収率はN-メチル-o-フェニレンジアミンに対して30.6%であった。
Production Example 12
110.0 g (0.90 mol) of N-methyl-o-phenylenediamine and 72.1 g (0.45 mol) of diethyl malonate were mixed, and the mixture was refluxed at 155 ° C. for 11 hours in a nitrogen atmosphere. The precipitate was separated by filtration, washed with diethyl ether, and dissolved by adding 900 mL of 20% hydrochloric acid. Activated carbon was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and then filtered. A sodium hydrogen carbonate aqueous solution was dropped until the obtained filtrate had a pH of 8, resulting in precipitation. This was filtered off to obtain a gray solid. The gray solid was purified by recrystallization from IPA and dried to obtain 38.1 g of white bis [2- (N-methylbenzimidazolyl)] methane (L12: see Table 1 below). The yield was 30.6% based on N-methyl-o-phenylenediamine.
製造例13
 製造例1で得られた2,2’-イミノビスベンゾチアゾール(L1:下記表1参照)10g(0.035モル)をクロロスルホン酸70.1g(0.602モル)に添加し、混合物を室温で18時間攪拌した。さらに塩化チオニル10g(0.084モル)を添加し50℃で1時間攪拌した後室温まで冷却した。この混合物を400gの氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒にジイソブチルアミン13.1g(0.101モル)と即座に攪拌した。室温まで暖めた後、約1mLの50重量%の水酸化ナトリウム溶液によって混合物をアルカリ性にした。固体を吸引ろ過し、水で洗浄後、乾燥することで薄黄色の2,2’-イミノビス[6-(N,N-ジイソブチルアミノスルホニル)ベンゾチアゾール](L13:下記表1参照)18.6gを得た。収率は2,2’-イミノビスベンゾチアゾールに対して80.0%であった。
Production Example 13
10 g (0.035 mol) of 2,2′-iminobisbenzothiazole (L1: see Table 1 below) obtained in Production Example 1 was added to 70.1 g (0.602 mol) of chlorosulfonic acid, and the mixture was added. Stir at room temperature for 18 hours. Further, 10 g (0.084 mol) of thionyl chloride was added and stirred at 50 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature. The mixture was poured onto 400 g of ice and stirred immediately with 13.1 g (0.101 mol) of diisobutylamine together with the ice which had been suction filtered. After warming to room temperature, the mixture was made alkaline with about 1 mL of 50 wt% sodium hydroxide solution. The solid was filtered off with suction, washed with water, and dried to give pale yellow 2,2′-iminobis [6- (N, N-diisobutylaminosulfonyl) benzothiazole] (L13: see Table 1 below) 18.6 g Got. The yield was 80.0% with respect to 2,2′-iminobisbenzothiazole.
製造例14
 製造例13においてジイソブチルアミン13.1g(0.101モル)に代えて、モルホリン8.8g(0.101モル)を用いた以外は製造例13と同様にして、2,2’-イミノビス(6-モルホリノスルホニルベンゾチアゾール)(L14:下記表1参照)15.4gを得た。収率は2,2’-イミノビスベンゾチアゾールに対して75.5%であった。
Production Example 14
In the same manner as in Production Example 13 except that 8.8 g (0.101 mol) of morpholine was used instead of 13.1 g (0.101 mol) of diisobutylamine in Production Example 13, 2,2′-iminobis (6 -Morpholinosulfonylbenzothiazole) (L14: see Table 1 below) 15.4 g was obtained. The yield was 75.5% based on 2,2′-iminobisbenzothiazole.
 得られた各配位子の構造式を表1に示す。 Table 1 shows the structural formulas of the obtained ligands.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
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製造例15
 製造例1で得られた配位子(L1)28.3g(0.1モル)を温メタノール2250g(60℃)に溶解させ、ここに酢酸コバルト・4水和物12.5g(0.05モル)を温メタノール400gに溶解させた溶液を滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体(C1-Co)28.5gを得た。収率は配位子(L1)に対して91.4%であった。
Production Example 15
28.3 g (0.1 mol) of the ligand (L1) obtained in Production Example 1 was dissolved in 2250 g (60 ° C.) of hot methanol, and 12.5 g (0.05) of cobalt acetate tetrahydrate was added thereto. Mol) was dissolved dropwise in 400 g of warm methanol. The resulting precipitate was filtered off, washed with methanol, and dried to obtain 28.5 g of an orange cobalt complex (C1-Co). The yield was 91.4% based on the ligand (L1).
製造例16 
 製造例15において酢酸コバルト・4水和物12.5g(0.05モル)に代えて、酢酸ニッケル・4水和物12.4g(0.05モル)を用いた以外は製造例15と同様にして、赤紫色のニッケル錯体(C1-Ni)23.5gを得た。収率は配位子(L1)に対して75.4%であった。
Production Example 16
Similar to Production Example 15 except that 12.4 g (0.05 mol) of nickel acetate tetrahydrate was used instead of 12.5 g (0.05 mol) of cobalt acetate tetrahydrate in Production Example 15. As a result, 23.5 g of a reddish purple nickel complex (C1-Ni) was obtained. The yield was 75.4% based on the ligand (L1).
製造例17
 製造例15において酢酸コバルト・4水和物12.5g(0.05モル)に代えて、酢酸銅・1水和物10.0g(0.05モル)を用いた以外は製造例15と同様にして、灰緑色の銅錯体(C1-Cu)24.8gを得た。収率は配位子(L1)に対して78.9%であった。
Production Example 17
Similar to Production Example 15 except that 10.0 g (0.05 mol) of copper acetate monohydrate was used instead of 12.5 g (0.05 mol) of cobalt acetate tetrahydrate in Production Example 15. As a result, 24.8 g of a grey-green copper complex (C1-Cu) was obtained. The yield was 78.9% based on the ligand (L1).
製造例18
 製造例15において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L2)33.9g(0.1モル)を用いた以外は製造例15と同様にして、橙色のコバルト錯体(C2-Co)32.3gを得た。収率は配位子(L2)に対して87.8%であった。
Production Example 18
In the same manner as in Production Example 15, except that 33.9 g (0.1 mol) of ligand (L2) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. As a result, 32.3 g of an orange cobalt complex (C2-Co) was obtained. The yield was 87.8% based on the ligand (L2).
製造例19
 製造例16において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L3)35.2g(0.1モル)を用いた以外は製造例16と同様にして、赤紫色のニッケル錯体(C3-Ni)28.0gを得た。収率は配位子(L3)に対して73.6%であった。
Production Example 19
In the same manner as in Production Example 16, except that 35.2 g (0.1 mol) of ligand (L3) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 16. As a result, 28.0 g of a reddish purple nickel complex (C3-Ni) was obtained. The yield was 73.6% based on the ligand (L3).
製造例20
 製造例17において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L4)34.3g(0.1モル)を用いた以外は製造例17と同様にして、灰緑色の銅錯体(C4-Cu)26.2gを得た。収率は配位子(L4)に対して70.0%であった。
Production Example 20
In the same manner as in Production Example 17, except that 34.3 g (0.1 mol) of ligand (L4) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 17. As a result, 26.2 g of a grey-green copper complex (C4-Cu) was obtained. The yield was 70.0% based on the ligand (L4).
製造例21
 製造例16において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L5)26.7g(0.1モル)を用いた以外は製造例16と同様にして、赤褐色のニッケル錯体(C5-Ni)25.2gを得た。収率は配位子(L5)に対して85.2%であった。
Production Example 21
In the same manner as in Production Example 16, except that 26.7 g (0.1 mol) of ligand (L5) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 16. As a result, 25.2 g of a reddish brown nickel complex (C5-Ni) was obtained. The yield was 85.2% based on the ligand (L5).
製造例22
 製造例15において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L6)28.1g(0.1モル)を用いた以外は製造例15と同様にして、橙色のコバルト錯体(C6-Co)16.3gを得た。収率は配位子(L6)に対して52.6%であった。
Production Example 22
In the same manner as in Production Example 15, except that 28.1 g (0.1 mol) of ligand (L6) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. 16.3 g of an orange cobalt complex (C6-Co) was obtained. The yield was 52.6% based on the ligand (L6).
製造例23
 製造例16において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L7)30.2g(0.1モル)を用いた以外は製造例16と同様にして、赤紫色のニッケル錯体(C7-Ni)22.5gを得た。収率は配位子(L7)に対して68.2%であった。
Production Example 23
In the same manner as in Production Example 16, except that 30.2 g (0.1 mol) of ligand (L7) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 16. As a result, 22.5 g of a reddish purple nickel complex (C7-Ni) was obtained. The yield was 68.2% based on the ligand (L7).
製造例24
 製造例17において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L8)26.6g(0.1モル)を用いた以外は製造例17と同様にして、緑色の銅錯体(C8-Cu)16.6gを得た。収率は配位子(L8)に対して55.9%であった。
Production Example 24
In the same manner as in Production Example 17, except that 26.6 g (0.1 mol) of ligand (L8) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 17. As a result, 16.6 g of a green copper complex (C8-Cu) was obtained. The yield was 55.9% based on the ligand (L8).
製造例25
 製造例16において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L9)27.9g(0.1モル)を用いた以外は製造例16と同様にして、赤褐色のニッケル錯体(C9-Ni)24.4gを得た。収率は配位子(L9)に対して79.3%であった。
Production Example 25
In the same manner as in Production Example 16, except that 27.9 g (0.1 mol) of ligand (L9) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 16. As a result, 24.4 g of a reddish brown nickel complex (C9-Ni) was obtained. The yield was 79.3% based on the ligand (L9).
製造例26
 製造例15において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L10)25.0g(0.1モル)を用いた以外は製造例15と同様にして、赤色のコバルト錯体(C10-Co)20.3gを得た。収率は配位子(L10)に対して72.8%であった。
Production Example 26
In the same manner as in Production Example 15, except that 25.0 g (0.1 mol) of ligand (L10) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. As a result, 20.3 g of a red cobalt complex (C10-Co) was obtained. The yield was 72.8% based on the ligand (L10).
製造例27
 製造例15において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L11)28.2g(0.1モル)を用いた以外は製造例15と同様にして、紫色のコバルト錯体(C11-Co)22.1gを得た。収率は配位子(L11)に対して71.1%であった。
Production Example 27
In the same manner as in Production Example 15, except that 28.2 g (0.1 mol) of ligand (L11) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. To obtain 22.1 g of a purple cobalt complex (C11-Co). The yield was 71.1% based on the ligand (L11).
製造例28
 製造例16において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L11)28.2g(0.1モル)を用いた以外は製造例16と同様にして、黒緑色のニッケル錯体(C11-Ni)13.5gを得た。収率は配位子(L11)に対して43.4%であった。
Production Example 28
In the same manner as in Production Example 16, except that 28.2 g (0.1 mol) of the ligand (L11) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of the ligand (L1) in Production Example 16. 13.5 g of a black-green nickel complex (C11-Ni) was obtained. The yield was 43.4% based on the ligand (L11).
製造例29
 製造例17において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L11)28.2g(0.1モル)を用いた以外は製造例17と同様にして、緑色の銅錯体(C11-Cu)18.6gを得た。収率は配位子(L11)に対して59.4%であった。
Production Example 29
In the same manner as in Production Example 17, except that 28.2 g (0.1 mol) of ligand (L11) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 17. As a result, 18.6 g of a green copper complex (C11-Cu) was obtained. The yield was 59.4% based on the ligand (L11).
製造例30
 製造例16において配位子(L1)28.3g(0.1モル)に代えて、配位子(L12)27.6g(0.1モル)を用いた以外は製造例16と同様にして、灰色のニッケル錯体(C12-Ni)20.8gを得た。収率は配位子(L12)に対して68.3%であった。
Production Example 30
In the same manner as in Production Example 16, except that 27.6 g (0.1 mol) of ligand (L12) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 16. 20.8 g of a gray nickel complex (C12-Ni) was obtained. The yield was 68.3% based on the ligand (L12).
製造例31
 製造例13で得られた配位子(L13)4.00g(0.006モル)を温DMF24g(70℃)に溶解させ、ここに酢酸ニッケル・4水和物0.75g(0.003モル)を添加した。この混合物を70℃で1時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール20gを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄緑色のニッケル錯体(C13-Ni)3.58gを得た。収率は配位子(L13)に対して85.9%であった。 
Production Example 31
4.00 g (0.006 mol) of the ligand (L13) obtained in Production Example 13 was dissolved in 24 g (70 ° C.) of warm DMF, and 0.75 g (0.003 mol) of nickel acetate tetrahydrate was dissolved therein. ) Was added. The mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, and 20 g of methanol was added dropwise. The resulting precipitate was filtered off, washed with methanol, and dried to obtain 3.58 g of a yellowish green nickel complex (C13-Ni). The yield was 85.9% based on the ligand (L13).
製造例32
 製造例14で得られた配位子(L14)3.49g(0.006モル)を温DMF24g(70℃)に溶解させ、ここに酢酸コバルト・4水和物0.75g(0.003モル)を添加した。この混合物を70℃で1時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール20gを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄色のコバルト錯体(C14-Co)3.14gを得た。収率は配位子(L14)に対して85.8%であった。
Production Example 32
3.49 g (0.006 mol) of the ligand (L14) obtained in Production Example 14 was dissolved in 24 g (70 ° C.) of warm DMF, and 0.75 g (0.003 mol) of cobalt acetate tetrahydrate was dissolved therein. ) Was added. The mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, and 20 g of methanol was added dropwise. The resulting precipitate was filtered off, washed with methanol, and dried to obtain 3.14 g of a yellow cobalt complex (C14-Co). The yield was 85.8% based on the ligand (L14).
 得られた各金属錯体の構造式を表2に示す。 Table 2 shows the structural formulas of the obtained metal complexes.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
(紫外線吸収部材用組成物の調製)
 製造例15~32で得られた金属錯体を用いて、以下の表3に示す組成比率において紫外線吸収部材用組成物を得た。尚、表3中のアクリル系樹脂としては、アクリル酸メチル-メタクリル酸エチル共重合体(ローム・アンド・ハース社製の商品名;パラロイド B-72)を用いた。また、表3中のPGMEAはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称である。
[分散機の使用]
 有・・・各成分および0.1mmφのジルコニアボールを粉砕容器(フリッチュ社製の商品名:premium line用粉砕容器(内装ジルコニア製))に加え、遊星型ボールミル(フリッチュ社製の商品名:premium line P-7)を用いて600rpmで5分間分散した後、10分間冷却し、さらに1100rpmで5分間分散処理した。
 無・・・各成分およびスターラーピースをガラス製サンプル瓶に加え、マグネティックスターラーを用いて20分間攪拌した。
[着色度]
 着色度の評価は目視で行った。比較例1~3は、チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有するシランカップリング剤を含まない系であり、これらの系の着色度を△と設定し、これを基準に比較評価した。
  ◎・・・着色が非常に小さい
  〇・・・着色が小さい
  △・・・着色が比較的大きい
(Preparation of composition for ultraviolet absorbing member)
Using the metal complexes obtained in Production Examples 15 to 32, compositions for ultraviolet absorbing members were obtained at the composition ratios shown in Table 3 below. The acrylic resin in Table 3 was a methyl acrylate-ethyl methacrylate copolymer (trade name; Paraloid B-72, manufactured by Rohm and Haas). PGMEA in Table 3 is an abbreviation for propylene glycol monomethyl ether acetate.
[Use of disperser]
Existence: Each component and 0.1 mmφ zirconia balls are added to a pulverization container (product name manufactured by Fritsch: premium line pulverization vessel (made by interior zirconia)), and a planetary ball mill (product name manufactured by Fritsch: premium) line P-7) for 5 minutes at 600 rpm, cooled for 10 minutes, and further dispersed at 1100 rpm for 5 minutes.
None: Each component and stirrer piece were added to a glass sample bottle and stirred for 20 minutes using a magnetic stirrer.
[Coloring degree]
The degree of coloring was evaluated visually. Comparative Examples 1 to 3 are systems that do not contain a silane coupling agent having one or more functional groups selected from the group consisting of thiol groups, amino groups, ureido groups, and isocyanate groups. △ was set, and comparative evaluation was made based on this.
◎ ・ ・ ・ Coloring is very small 〇 ・ ・ ・ Coloring is small △ ・ ・ ・ Coloring is relatively large
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
 比較例1~4は、チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有するシランカップリング剤を含まない系である。後述の紫外線吸収部材を作製するにあたり、実施例1~20では、含有される該シランカップリング剤が焼成工程で加水分解および重縮合反応を起こし、マトリックスを形成することで該金属錯体のバインダーとして働く。比較例1~4ではこのようなマトリックス前駆体を含まないため、別途アクリル系樹脂を添加した。
 結果、実施例1~20の該シランカップリング剤を含む系では、明らかに比較例1~4よりも着色が低減されている。
Comparative Examples 1 to 4 are systems that do not contain a silane coupling agent having one or more functional groups selected from the group consisting of thiol groups, amino groups, ureido groups, and isocyanate groups. In the production of the ultraviolet absorbing member described later, in Examples 1 to 20, the contained silane coupling agent undergoes hydrolysis and polycondensation reaction in the firing step to form a matrix, thereby serving as a binder for the metal complex. work. Since Comparative Examples 1 to 4 did not contain such a matrix precursor, an acrylic resin was added separately.
As a result, in the systems containing the silane coupling agents of Examples 1 to 20, the coloring is clearly reduced as compared with Comparative Examples 1 to 4.
(紫外線吸収部材の作製)
 実施例1~20、比較例1~4で得られた紫外線吸収部材用組成物を用いて紫外線吸収部材を作製した。
(Preparation of UV absorbing member)
Ultraviolet absorbing members were produced using the compositions for ultraviolet absorbing members obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 4.
[作製方法]
 紫外線吸収部材用組成物を、スピンコーターを用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において10分間予備乾燥させた後に200℃で1時間焼成し、紫外線吸収部材を得た。
 尚、実施例39および比較例8ではソーダライムガラスに代えてポリカーボネート基材(住友ベークライト製、商品名:ポリカエースECK-100)を使用し、焼成条件を120℃/1時間とした。
[Production method]
The composition for ultraviolet absorbing member was applied on a soda lime glass substrate using a spin coater, and then preliminarily dried at room temperature in a nitrogen atmosphere for 10 minutes and then baked at 200 ° C. for 1 hour to obtain an ultraviolet absorbing member. Obtained.
In Example 39 and Comparative Example 8, a polycarbonate base material (manufactured by Sumitomo Bakelite, trade name: Polycaace ECK-100) was used instead of soda lime glass, and the firing conditions were 120 ° C./1 hour.
[紫外線吸収部材の評価]
(1)着色度
 着色度の評価は目視で行った。下記の通り比較例5~7の着色度を△と設定し、これを基準に比較評価した。
  ◎・・・着色が非常に小さい
  〇・・・着色が小さい
  △・・・着色が比較的大きい
  ×・・・着色が非常に大きい(濁りがある)
[Evaluation of UV absorbing member]
(1) Coloring degree The degree of coloring was evaluated visually. As shown below, the coloring degree of Comparative Examples 5 to 7 was set as Δ, and comparative evaluation was performed based on this.
◎ ・ ・ ・ Coloring is very small ○ ・ ・ ・ Coloring is small △ ・ ・ ・ Coloring is relatively large × ・ ・ ・ Coloring is very large (has turbidity)
(2)耐光性
 紫外線吸収部材について分光光度計(株式会社日立製作所製、型番:U-4100)を用いてλ=380nmにおける吸光度を測定した後、キセノンウェザーメーター(スガ試験機株式会社製、型番:X25)を用いて、これら紫外線吸収部材に放射強度60W/m(λ=300~400nm域における積算)の光を1000時間照射した。光照射後の紫外線吸収部材について、再度λ=380nmにおける吸光度を測定し、光照射による紫外線吸収能の変化を吸収残存率として算出し、評価した。
 吸収残存率は以下の式によって算出した。
(2) Light resistance After measuring the absorbance at λ = 380 nm using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., model number: U-4100), the xenon weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., model number) X25) was used to irradiate these ultraviolet absorbing members with light having a radiation intensity of 60 W / m 2 (integration in the region of λ = 300 to 400 nm) for 1000 hours. About the ultraviolet absorption member after light irradiation, the light absorbency in (lambda) = 380nm was measured again, and the change of the ultraviolet absorptivity by light irradiation was computed and evaluated as a residual absorption rate.
The residual absorption rate was calculated by the following formula.
 吸収残存率(%)=(光照射後のλ=380nmにおける吸光度/光照射前のλ=380nmにおける吸光度)×100 Absorption residual ratio (%) = (Absorbance at λ = 380 nm after light irradiation / Absorbance at λ = 380 nm before light irradiation) × 100
結果を以下の表4に示す。 The results are shown in Table 4 below.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
 実施例21~40で得られた紫外線吸収部材は、比較例5~8で得られた紫外線吸収部材よりも明らかに着色が低減されている。加えて、実施例21~40のいずれについても、該シランカップリング剤を含まない比較例5~8と比べて同等レベルの耐光性を有している。
 すなわち本発明によれば、該金属錯体と該シランカップリング剤を組み合わせることで、該金属錯体の長所である優れた耐光性や、380~400nm域の紫外線の十分な遮蔽等を長時間維持したまま、短所であった着色のみを低減することができる。
 また、ポリカーボネート基材上にコーティングを施した実施例39と比較例8を比べると、比較例8ではDMFによってポリカーボネートが侵され白濁したが、実施例39ではポリカーボネートの侵食は観測されず、ガラス基材上にコーティングした際と変わりなく良好な膜が得られた。
 近年、窓ガラス等のガラス代替材料として注目されているポリカーボネートであるが、耐薬品性が乏しいという大きな欠点をもっている。本発明における紫外線吸収部材用組成物を利用すれば、ポリカーボネートを侵食することなく、低着色かつ高紫外線吸収能を有するコーティング膜を形成することができる。さらに、該シランカップリング剤により形成されるポリシロキサン膜は耐薬品性だけでなく、高度な機械強度を有するため、ハードコート特性の付与にも効果的であることは想像に難くない。
The ultraviolet absorbing members obtained in Examples 21 to 40 are clearly less colored than the ultraviolet absorbing members obtained in Comparative Examples 5 to 8. In addition, any of Examples 21 to 40 has the same level of light resistance as Comparative Examples 5 to 8 not containing the silane coupling agent.
That is, according to the present invention, by combining the metal complex and the silane coupling agent, excellent light resistance, which is an advantage of the metal complex, and sufficient shielding of ultraviolet rays in the range of 380 to 400 nm are maintained for a long time. As it is, only coloring which was a disadvantage can be reduced.
Further, comparing Example 39 with a coating on a polycarbonate substrate and Comparative Example 8, in Comparative Example 8, the polycarbonate was invaded and clouded by DMF, but in Example 39, no erosion of the polycarbonate was observed. A good film was obtained as in the case of coating on the material.
In recent years, polycarbonate has attracted attention as a glass substitute material for window glass and the like, but has a major drawback of poor chemical resistance. If the composition for ultraviolet absorbing members in the present invention is used, a coating film having low coloring and high ultraviolet absorbing ability can be formed without eroding the polycarbonate. Further, since the polysiloxane film formed by the silane coupling agent has not only chemical resistance but also high mechanical strength, it is not difficult to imagine that it is effective for imparting hard coat characteristics.
 本発明によれば、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であった380~400nm域の紫外線を十分に遮蔽することができ、かつ着色を低減した紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いて作製される紫外線吸収部材を提供できる。 According to the present invention, it is possible to sufficiently shield ultraviolet rays in the region of 380 to 400 nm, which has been difficult to shield while maintaining excellent light resistance for a long period of time and maintaining a high visible light transmittance. And the composition for ultraviolet absorbers which reduced coloring, and the ultraviolet absorber produced using this can be provided.

Claims (4)

  1.  式(1):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式中、Y、Y、YおよびYはそれぞれ互いに独立して、NH、NR、酸素原子または硫黄原子であり、
     Y、Y、YまたはYに帰属されるNRのRは、炭素数1~8のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数6~15のアリール基である。尚、Y、Y、YおよびYのうち少なくとも2つがNRで表される場合、これらNRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
     また、ZおよびZはそれぞれ互いに独立して、窒素原子、CHまたはCRであり、
     ZまたはZに帰属されるCRのRは、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数4~12のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数5~12のヘテロアラルキル基または炭素数7~15のアラルキル基を示す。尚、ZおよびZがともにCRで表される場合、これらCRのRはそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
     R、R、RおよびRの各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、1つのベンゼン環の6個の炭素原子のうち5員環と共有された2個の炭素原子を除いた4個の炭素原子に結合する4個の水素原子のうち1ないし4個を置換することができ、4個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、
     Mは金属原子を示す。)
    で表される少なくとも1種類の金属錯体と、
     チオール基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基からなる群より選ばれる1個以上の官能基を有する、少なくとも1種類のシランカップリング剤とを含む紫外線吸収部材用組成物。
    Formula (1):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    Wherein Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each independently NH, NR 5 , an oxygen atom or a sulfur atom,
    R 5 of NR 5 belonging to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent. Incidentally, Y 1, Y 2, when Y 3 and at least two of Y 4 is represented by NR 5, the R 5 of NR 5 represent a substituent independent of each other, respectively.
    Z 1 and Z 2 are each independently a nitrogen atom, CH or CR 6 ;
    R 6 of CR 6 assigned to Z 1 or Z 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or optionally substituted aryl having 6 to 15 carbon atoms. And a heteroaryl group having 4 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a heteroaralkyl group having 5 to 12 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent. . Incidentally, a substituent case, R 6 of CR 6 is that each independently of one another that Z 1 and Z 2 are both represented by CR 6.
    Each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, represents two carbon atoms shared with a 5-membered ring of the six carbon atoms of one benzene ring. 1 to 4 of the 4 hydrogen atoms bonded to the removed 4 carbon atoms can be substituted, and all of the substituents substituted with 4 hydrogen atoms of the benzene ring are independent of each other. An optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, halogeno group, and optionally having 1 to 8 carbon atoms An alkylaminosulfonyl group, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, a pyrrolidinosulfonyl group which may have a substituent, a substituent You may have A morpholinosulfonyl group, or may have a substituent group piperazino sulfonyl group,
    M represents a metal atom. )
    At least one metal complex represented by:
    A composition for an ultraviolet absorbing member, comprising at least one silane coupling agent having at least one functional group selected from the group consisting of a thiol group, an amino group, a ureido group, and an isocyanate group.
  2.  式(1)における金属原子Mが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である請求項1に記載の紫外線吸収部材用組成物。 The composition for ultraviolet absorbing members according to claim 1, wherein the metal atom M in the formula (1) is a cobalt atom, a nickel atom, or a copper atom.
  3.  請求項1または2に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。 An ultraviolet absorbing member produced by using the composition for ultraviolet absorbing member according to claim 1 or 2.
  4.  紫外線吸収部材用組成物が、有機系または無機系基材上にコーティングされる請求項3に記載の紫外線吸収部材。 The ultraviolet absorbing member according to claim 3, wherein the composition for an ultraviolet absorbing member is coated on an organic or inorganic substrate.
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