WO2012103897A1 - Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen Download PDF

Info

Publication number
WO2012103897A1
WO2012103897A1 PCT/EP2011/000419 EP2011000419W WO2012103897A1 WO 2012103897 A1 WO2012103897 A1 WO 2012103897A1 EP 2011000419 W EP2011000419 W EP 2011000419W WO 2012103897 A1 WO2012103897 A1 WO 2012103897A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
thin layer
optical properties
intensities
determining optical
Prior art date
Application number
PCT/EP2011/000419
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Günther PROLL
Florian PRÖLL
Original Assignee
Biametrics Marken Und Rechte Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Biametrics Marken Und Rechte Gmbh filed Critical Biametrics Marken Und Rechte Gmbh
Priority to PCT/EP2011/000419 priority Critical patent/WO2012103897A1/de
Priority to EP11706152.3A priority patent/EP2671044A1/de
Priority to JP2013550759A priority patent/JP2014508921A/ja
Priority to US13/982,896 priority patent/US9733063B2/en
Publication of WO2012103897A1 publication Critical patent/WO2012103897A1/de

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02015Interferometers characterised by the beam path configuration
    • G01B9/02024Measuring in transmission, i.e. light traverses the object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung optischer Eigenschaften durch Messen von Intensitäten an einer dünnen Schicht (15), bei dem Licht in die dünne Schicht (15) eingestrahlt wird, wobei das Licht zunächst einen Strahlenteiler (7) passiert, der einen Teil des Lichts auf die dünne Schicht (15) und einen weiteren Teil des Lichts auf einen hochauflösenden Referenzdetektor (19') leitet, Interferenzen an der zumindest einen dünnen Schicht (15) über einen hochauflösenden Detektor (19) erfaßt und an eine Auswerteeinheit weitergeleitet werden, welche die Reflexions- und/oder Transmissionskoeffizienten bestimmt, die dabei mit der optischen Schichtdicke unter Abgleich mit zumindest einer in der Auswerteeinheit hinterlegten Datenbank korreliert werden, so daß sich die optische Schichtdicke über eine Grauwertanalyse und einen in der zumindest einen Datenbank hinterlegten Umrechnungsfaktor als Grauwertänderung ergibt. Die Erfindung betrifft ebenso eine entsprechende Vorrichtung und bevorzugte Verwendungen.
PCT/EP2011/000419 2011-01-31 2011-01-31 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen WO2012103897A1 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2011/000419 WO2012103897A1 (de) 2011-01-31 2011-01-31 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen
EP11706152.3A EP2671044A1 (de) 2011-01-31 2011-01-31 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen
JP2013550759A JP2014508921A (ja) 2011-01-31 2011-01-31 複数の波長の光を用いて薄膜層における強度を同時に測定することによって光学特性を決定する方法及び装置
US13/982,896 US9733063B2 (en) 2011-01-31 2011-01-31 Method and device for determining optical properties by simultaneous measurement of intensities at thin layers using light of several wavelengths

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2011/000419 WO2012103897A1 (de) 2011-01-31 2011-01-31 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012103897A1 true WO2012103897A1 (de) 2012-08-09

Family

ID=44625266

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2011/000419 WO2012103897A1 (de) 2011-01-31 2011-01-31 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9733063B2 (de)
EP (1) EP2671044A1 (de)
JP (1) JP2014508921A (de)
WO (1) WO2012103897A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9987604B2 (en) 2013-03-27 2018-06-05 Nanotemper Technologies Gmbh Method and apparatus for contactless mixing of liquids

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10914037B2 (en) 2012-10-09 2021-02-09 Michael Gorden Yankee dryer profiler and control
KR102287272B1 (ko) 2014-12-04 2021-08-06 삼성전자주식회사 검사장치 및 그 제어 방법
EP3139147B1 (de) * 2015-09-02 2020-11-25 Trioptics GmbH Vorrichtung und verfahren zur messung einer wellenlängenabhängigen optischen kenngrösse eines optischen systems
EP3299799A1 (de) * 2016-09-27 2018-03-28 Berthold Technologies GmbH & Co. KG Verfahren und messsystem zur messung molekularer interaktionen an einer dünnen schicht
JP6766995B2 (ja) * 2016-11-09 2020-10-14 株式会社ミツトヨ 位相シフト干渉計
KR102515833B1 (ko) * 2018-08-01 2023-03-29 삼성전자주식회사 대상체의 성분 분석 장치 및 방법과, 이미지 센서
CN113534129B (zh) * 2021-06-29 2022-07-08 中国人民解放军93209部队 评估地基宽带雷达的高速目标探测性能的方法和系统
CN114487046A (zh) * 2022-01-29 2022-05-13 中国科学技术大学 测定二维材料表面电荷密度分布的成像方法
CN115046921B (zh) * 2022-08-11 2022-12-02 四川至臻光电有限公司 一种表征塑料光学元件膜层附着力的测试方法及测试装置
DE102022134504A1 (de) 2022-12-22 2024-06-27 Technische Universität Dresden, Körperschaft des öffentlichen Rechts Verfahren und gerät zur schichtdickenbestimmung histologischer schnittpräparate und konzentrationsbestimmung von biologischen substanzen in histologischen präparaten

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0598341A1 (de) 1992-11-17 1994-05-25 Hoechst Aktiengesellschaft Optischer Sensor zur Detektion von chemischen Spezien
WO1997040366A1 (de) 1996-04-19 1997-10-30 Carl Zeiss Jena Gmbh Verfahren und einrichtung zum nachweis physikalischer, chemischer, biologischer oder biochemischer reaktionen und wechselwirkungen
US6248988B1 (en) * 1998-05-05 2001-06-19 Kla-Tencor Corporation Conventional and confocal multi-spot scanning optical microscope
WO2006131225A1 (de) 2005-06-10 2006-12-14 Universität Tübingen Verfahren und vorrichtung zur quantitativen bestimmung von analyten in flüssigen proben
WO2008067528A2 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Purdue Research Foundation Molecular interferometric imaging process and apparatus
WO2010127843A2 (de) * 2009-05-05 2010-11-11 Biametrics Marken Und Rechte Gmbh Verfahren und vorrichtung zur bestimmung von reflexionskoeffizienten an filteranordnungen mit dünnen schichten

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01132935A (ja) * 1987-11-18 1989-05-25 Kawasaki Steel Corp 被膜の分析方法及び装置
JPH01132936A (ja) * 1987-11-18 1989-05-25 Kawasaki Steel Corp 被膜の分析方法及び装置
US5220403A (en) * 1991-03-11 1993-06-15 International Business Machines Corporation Apparatus and a method for high numerical aperture microscopic examination of materials
JP3001357B2 (ja) * 1992-11-17 2000-01-24 アヴェンティス・リサーチ・ウント・テクノロジーズ・ゲーエムベーハー・ウント・コー・カーゲー 化学物質検知用光学センサ
DE4410603C1 (de) * 1994-03-26 1995-06-14 Jenoptik Technologie Gmbh Verfahren zur Erkennung von Fehlern bei der Inspektion von strukturierten Oberflächen
JPH09189525A (ja) * 1996-01-09 1997-07-22 Olympus Optical Co Ltd 偏光解析装置
JPH09269296A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Ishizuka Glass Co Ltd シートのコーティング欠陥検査装置
JPH1047926A (ja) * 1996-08-07 1998-02-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 膜厚測定装置および膜厚測定方法
US6236459B1 (en) * 1998-11-05 2001-05-22 University Of Miami Thin film measuring device and method
US6049506A (en) * 1999-01-29 2000-04-11 Lucent Technology Inc. Optical fiber Sagnac interferometer which identifies harmonically related nulls in the detected spectrum
EP1176431B1 (de) * 1999-03-09 2008-01-02 Central Research Institute Of Electric Power Industry Messverfahren und -gerät zur radioaktivität, radioaktive konzentration und radioaktivität an oberflächen
US7324214B2 (en) * 2003-03-06 2008-01-29 Zygo Corporation Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features
WO2006093800A1 (en) * 2005-02-25 2006-09-08 Nanometrics Incorporated Apparatus and method for enhanced critical dimension scatterometry
US7391520B2 (en) * 2005-07-01 2008-06-24 Carl Zeiss Meditec, Inc. Fourier domain optical coherence tomography employing a swept multi-wavelength laser and a multi-channel receiver
JP2008139065A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Nikon Corp 膜評価装置及び膜評価方法
JP2009075044A (ja) * 2007-09-25 2009-04-09 Toppan Printing Co Ltd 有機elパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置及びそれを用いた膜厚不良検査方法
US8989890B2 (en) * 2008-11-07 2015-03-24 Applied Materials, Inc. GST film thickness monitoring
DE102009019476A1 (de) 2009-05-04 2010-11-11 Biametrics Marken Und Rechte Gmbh Wiedererkennbarer Träger für optische Meßverfahren
WO2012040554A2 (en) * 2010-09-23 2012-03-29 Stryker Corporation Video monitoring system

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0598341A1 (de) 1992-11-17 1994-05-25 Hoechst Aktiengesellschaft Optischer Sensor zur Detektion von chemischen Spezien
WO1997040366A1 (de) 1996-04-19 1997-10-30 Carl Zeiss Jena Gmbh Verfahren und einrichtung zum nachweis physikalischer, chemischer, biologischer oder biochemischer reaktionen und wechselwirkungen
US6248988B1 (en) * 1998-05-05 2001-06-19 Kla-Tencor Corporation Conventional and confocal multi-spot scanning optical microscope
WO2006131225A1 (de) 2005-06-10 2006-12-14 Universität Tübingen Verfahren und vorrichtung zur quantitativen bestimmung von analyten in flüssigen proben
WO2008067528A2 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Purdue Research Foundation Molecular interferometric imaging process and apparatus
WO2010127843A2 (de) * 2009-05-05 2010-11-11 Biametrics Marken Und Rechte Gmbh Verfahren und vorrichtung zur bestimmung von reflexionskoeffizienten an filteranordnungen mit dünnen schichten

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2671044A1

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9987604B2 (en) 2013-03-27 2018-06-05 Nanotemper Technologies Gmbh Method and apparatus for contactless mixing of liquids

Also Published As

Publication number Publication date
US20130314712A1 (en) 2013-11-28
US9733063B2 (en) 2017-08-15
EP2671044A1 (de) 2013-12-11
JP2014508921A (ja) 2014-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012103897A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur bestimmung optischer eigenschaften durch gleichzeitiges messen von intensitäten an dünnen schichten mit licht von mehreren wellenlängen
EP4325205A3 (de) Verfahren und system zur messung der beschichtungsdicke
WO2010135453A3 (en) Quantum efficiency measurement system and methods of use
GB2460573A (en) A method and apparatus for estimating a property of a fluid downhole
TW200730796A (en) Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features
TW200722712A (en) Sensor and external turbulence measuring method using the same
WO2010069509A8 (de) Verfahren und vorrichtung zur prüfung von bei der herstellung und/oder verpackung von zigaretten zu prüfenden objekten
WO2010011578A3 (en) Computer-implemented methods for inspecting and/or classifying a wafer
JP2012063321A5 (de)
JP2010002327A5 (de)
WO2009016551A3 (en) Vehicle positioning measurement system and method
TW200951396A (en) Position measurement apparatus, position measurement method, and exposure apparatus
WO2007005519A3 (en) System and methods for improving signal/noise ratio for signal detectors
WO2007120996A3 (en) Method and apparatus for compact spectrometer for detecting hazardous agents
WO2008129073A3 (de) Messanordnung sowie verfahren zum dreidimensionalen messen eines objekts
TW200707088A (en) Metrology apparatus, lithographic apparatus, process apparatus metrology method and device manufacturing method
WO2009049834A3 (en) Optical sensor device
EP2228621A3 (de) Optische Interferenzmessvorrichtung
WO2010014867A3 (en) Time domain spectroscopy (tds)-based method and system for obtaining coincident sheet material parameters
KR20140064989A (ko) 막두께 측정방법
JP2010169496A5 (de)
IN2014KN02807A (de)
TWI266870B (en) A method of determining physical properties of an optical layer or layer system
WO2007101279A3 (en) Method and apparatus for compact spectrometer with fiber array spectral translator
WO2007056772A3 (en) Modulation cancellation method in laser spectroscopy

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11706152

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013550759

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13982896

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011706152

Country of ref document: EP