WO2012096478A2 - 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인 - Google Patents

마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인 Download PDF

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    • G01J5/20Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors using resistors, thermistors or semiconductors sensitive to radiation, e.g. photoconductive devices

Definitions

  • the present invention relates to a pixel design for increasing the fill factor in a microbolometer, and more particularly, to a microbolometer having four anchors in a microbolometer having four pixels sharing with each other and having a fill factor of 70% or more.
  • Infrared sensors can be divided into two types according to the principle of operation: cooling type, which obtains an electrical signal generated by the interaction of photons in the infrared with electrons in the material, and non-cooling type, which senses temperature changes generated by the absorption of infrared light into the material.
  • the cooling type is mainly made of semiconductor materials, has the advantage of low noise and fast response characteristics, but has the disadvantage of operating at liquid nitrogen temperature (-193 °C), whereas uncooled materials have a little performance compared to semiconductors. It has a merit that it operates at room temperature.
  • cooling materials that require cooling are mainly studied for military purposes, and uncooled materials are mainly used for civil purposes.
  • Uncooled infrared sensors can be broadly classified into three types: bolometer, thermocouple, and pyroelectric type. Pyroelectric sensors have good detection power but limited production, while bolometers and thermocouples have lower detection power than Pyroelectric type, but are produced monolithically on silicon wafers with detector circuitry, which is widely developed for civilian use because of their high productivity. Among them, the bolometer-type infrared sensor detects infrared rays by absorbing the infrared rays emitted from the object and using the change in electrical resistance due to the temperature rise when the thermal energy is converted into thermal energy.
  • Korean Patent Publication No. 2000-0007216, Korean Patent Publication No. 2000-0046517, Korean Patent Registration No. 10-0299642 and US Patent No. 6,448,557 disclose a three-layer bolometer-type infrared sensor having an infrared reflecting layer.
  • U.S. Patent No. 5,367,167 describes a cell array having a large conductive path
  • U.S. Patent No. 6,441,374 discloses an infrared sensor having a heat separation structure and a high absorption rate to increase the sensitivity and absorption area of an infrared sensor. Research is ongoing.
  • one pixel is connected to two anchors, but in the present invention, one anchor is shared by four pixels, and the purpose of the fill factor is 70% or more.
  • a pixel design for increasing the fill factor in the microbolometer including a reflective metal layer on the substrate; A cavity above the bottom layer; An upper layer comprising a bolometer layer over the cavity and a transmissive metal layer thereon; An insulating layer for insulating the lower layer and the upper layer; And an array of bolometer pixels each comprising an anchor supporting the top layer, wherein the four bolometer pixels share one of the anchors.
  • the bolometer layer is made of amorphous silicon and the transmission metal layer is a titanium or titanium compound (eg, titanium nitride, titanium oxide, etc.). Characterized in that consists of.
  • the upper layer is characterized in that a resistance line is formed by etching the transmissive metal layer into any one of a L-shaped, a straight, and a square.
  • the ballometer array is characterized by using a focal plane array.
  • the above design increases the fill factor of the microbolometer to increase the final output signal voltage value, which improves response and temperature resolution (NETD), which are important evaluation factors for the manufactured microbolometer. Let's do it.
  • the structural stability of the microbolometer is increased, and the chip size including the manufactured microbolometer is reduced, thereby improving productivity and lowering the manufacturing cost.
  • 1 and 2 show the design of a microbolometer with a pattern of r-shaped resistance lines in which one anchor shares four pixels.
  • FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating pixels of a microbolometer.
  • 5 is a design of a microbolometer with a pattern of square resistance lines.
  • the present invention relates to a pixel design for increasing the fill factor in the design of a microbolometer.
  • the incident infrared ray heats the bolometer layer 140 of the thermal isolation structure, and the ROIC connected to the microbolometer reads the resistance change of the bolometer layer 140 according to the temperature change and outputs the voltage value.
  • the ROIC connected to the microbolometer reads the resistance change of the bolometer layer 140 according to the temperature change and outputs the voltage value.
  • it In order to increase the efficiency of the microbolometer, it must be designed to have a high fill factor.
  • one anchor 160 is required for one pixel.
  • the area capable of absorbing infrared rays increases, so that a fill factor value can be obtained at 70% or more.
  • the microbolometer manufactured based on the above design increases the fill factor to increase the final output signal voltage value, which is an important evaluation factor of the manufactured microbolometer, responsivity and temperature resolution (NETD: Noise Equivalent Temperature). Improve Difference
  • the structural stability of the microbolometer increases, and the chip size including the manufactured microbolometer is reduced, thereby improving productivity and lowering the manufacturing cost.
  • 1 and 2 are 3D designs of microbolometers in which one anchor 160 shares four pixels. Each pixel is connected to the anchor 160 via a bridge.
  • the electrical signal processing relates to the metal layer of the bridge that is connected to the pixel, and the electrical signal is transmitted to the anchor 160 through the bridge where the metal remains.
  • 1 and 2 show a case where the pattern of the r-shaped resistance line is modified.
  • FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating pixels of a microbolometer.
  • the bolometer layer 140 is made of doped amorphous silicon, the thickness is preferably about 500 to 3000A.
  • the transmissive metal layer 150 is made of titanium as a layer that transmits infrared rays, and the thickness thereof is preferably about 20 to 100A.
  • the reflective metal layer 120 is made of aluminum or gold and allows infrared rays to be reflected.
  • the thickness of the cavity 130 is designed so that the distance from the bolometer layer 140 to the reflective metal layer 120 is ⁇ / 4 ( ⁇ : wavelength of infrared rays) so that infrared rays are resonance absorbed.

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Abstract

본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인은, 기판 상부의 반사 금속층을 포함하는 하부층; 상기 하부층 상부의 공동; 상기 공동 상부의 볼로미터층과 그 위의 투과 금속층을 포함하는 상부층; 상기 하부층 및 상기 상부층의 절연을 위한 절연층; 및 상기 상부층을 지지하는 앵커를 포함하는 각 볼로미터 픽셀들의 배열로 이루어진 볼로미터 어레이에 있어서, 상기 볼로미터 픽셀 네 개가 상기 앵커 하나를 공유하는 것을 특징으로 한다.

Description

마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인
본 발명은 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 마이크로 볼로미터에서 한 개의 앵커를 네 개의 픽셀이 서로 공유하여 필 팩터가 70% 이상인 특성을 가지는 마이크로 볼로미터에 관한 것이다.
적외선 센서는 작동 원리에 따라 크게 적외선의 광양자(photon)와 물질 내의 전자의 상호작용에 의해 생기는 전기적 신호를 얻어내는 냉각형과 적외선이 물질에 흡수되어 생성되는 온도 변화를 감지하는 비냉각형으로 나눌 수 있는데, 냉각형은 주로 반도체 재료가 사용되며 노이즈가 적으며 빠른 응답 특성을 보이는 장점이 있으나 액체 질소 온도(-193℃)에서 작용한다는 단점이 있는 반면에, 비냉각형 재료들은 반도체에 비해 성능은 다소 떨어지지만 상온에서 동작한다는 장점이 있다.
따라서 냉각이 필요한 냉각형 재료들은 주로 군수용의 목적으로 연구되고 있으며, 비냉각형 재료들은 민수용으로 주로 사용되고 있다.
비냉각형 적외선 센서는 크게 볼로미터(Bolometer), 열전쌍(Thermocouple), 초전기(Pyroelectric)형의 3가지 형태로 나눌 수 있다. 초전기 센서는 검출력은 좋지만 생산량이 제한적이고, 볼로미터와 열전쌍은 초전기형보다는 검출력이 낮지만 검출기 회로와 함께 실리콘 웨이퍼 상에 모노리틱(Monolithic)으로 제조되므로 생산성이 좋기 때문에 민수용으로 널리 개발되고 있다. 이 중에서 볼로미터형 적외선 센서는 물체에서 방사되는 적외선을 흡수하여 열에너지로 바뀔 때 그로 인한 온도 상승으로 전기저항이 변화하는 것을 이용하여 적외선을 검출한다.
종래의 볼로미터는 미국특허 제5,300,915호에 도시된 것과 같이 통상적으로 부상된 검출레벨과 이를 지지하는 지지레벨 및 하부레벨로 이루어져 있다. 그러나 검출레벨에 지지역할을 하는 지지레벨이 함께 형성되어 있어서 적외선을 흡수하는 전체면적이 줄어들게 되므로 최대의 흡수면적(fill factor)을 얻을 수 없었다.
이에 따라 한국공개특허 제2000-0007216호, 한국공개특허 제2000-0046517호, 한국등록특허 제10-0299642호 및 미국특허 제6,448,557호에서는 적외선 반사층이 존재하는 3층 구조의 볼로미터형 적외선 센서를 개시하였고, 미국특허 제5,367,167호에서는 큰 도전 통로를 가지는 셀 어레이를 기술하였으며, 미국특허 제6,441,374호에서는 열 분리 구조를 가지며 흡수율이 높은 적외선 센서에 대해 개시하는 등 적외선 센서의 감도 및 흡수면적을 높이기 위한 연구가 계속 진행되고 있다.
픽셀의 크기가 줄어듬에 따라 레그와 앵커가 차지하는 면적이 상대적으로 커지게 되고 이로 인해 필 팩터가 낮아지게 된다. 따라서 필 팩터를 높일 수 있는 디자인 및 방법이 필요하다. 기존에는 두 개의 앵커에 한 개의 픽셀이 연결되는 구조를 가지고 있으나 본 발명에서는 한 개의 앵커를 네 개의 픽셀이 공유하여 필 팩터가 70% 이상인 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 이루고 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인은, 기판상부의 반사 금속층을 포함하는 하부층; 상기 하부층 상부의 공동; 상기 공동 상부의 볼로미터층과 그 위의 투과 금속층을 포함하는 상부층; 상기 하부층 및 상기 상부층의 절연을 위한 절연층; 및 상기 상부층을 지지하는 앵커를 포함하는 각 볼로미터 픽셀들의 배열로 이루어진 볼로미터 어레이에 있어서, 상기 볼로미터 픽셀 네 개가 상기 앵커 하나를 공유하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인에서 상기 볼로미터층은 비정질 실리콘으로 이루어지고 상기 투과 금속층은 티타늄 또는 티타늄 화합물(예를 들어, 티타늄 질화물, 티타늄 산화물 등)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인에서 상기 상부층에는 상기 투과 금속층을 ㄹ자형, 일자형, 및 사각형 중 어느 하나로 에칭한 저항 노선이 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 볼로미터에서 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인에서 상기 볼로미터 어레이는 포컬 플레인 어레이를 사용하는 것을 특징으로 한다.
기존 마이크로 볼로미터는 하나의 픽셀에 두 개의 앵커를 가지고 있으나 본 발명에서는 한 개의 앵커를 네 개의 픽셀이 공유하여 640×480 포컬 플레인 어레이(Focal Plane Array; FPA)를 적용하게 되면 한 개의 픽셀에 한 개의 앵커가 필요하도록 디자인하였다.
위와 같은 디자인은 마이크로 볼로미터의 필 팩터를 증가시켜서 최종 출력 신호인 전압값을 높이게 되고 이는 제작되어지는 마이크로 볼로미터의 중요한 평가요소인 응답도(Responsivity) 및 온도분해능(NETD:Noise Equivalent Temperature Difference)을 향상시킨다.
또한, 하나의 앵커를 네 개의 픽셀이 공유함으로써 마이크로 볼로미터의 구조적인 안정성이 높아지게 되고 제작되어지는 마이크로 볼로미터를 포함하는 칩(chip) 사이즈가 줄어들어 생산성이 향상되고 제작 단가를 낮출 수 있다.
도 1 및 도 2는 한 개의 앵커가 네 개의 픽셀을 공유하는 ㄹ자형의 저항 노선의 패턴을 가진 마이크로 볼로미터의 디자인.
도 3은 마이크로 볼로미터의 픽셀을 나타낸 개념도.
도 4는 일자형의 저항 노선의 패턴을 가진 마이크로 볼로미터의 디자인.
도 5는 사각형의 저항 노선의 패턴을 가진 마이크로 볼로미터의 디자인.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
본 발명은 마이크로 볼로미터의 디자인 시에 필 팩터를 높이기 위한 픽셀 디자인에 관한 발명이다. 입사되어진 적외선이 열적 고립 구조의 볼로미터층(140)을 가열시키고, 마이크로 볼로미터와 연결된 ROIC는 온도 변화에 따른 볼로미터층(140)의 저항 변화를 읽어내어 전압값으로 출력하게 된다. 이 때 마이크로 볼로미터의 효율성을 증가시키기 위해서는 높은 필 팩터를 가지도록 디자인해야 한다.
마이크로 볼로미터의 픽셀 디자인에서 한 개의 앵커(160)를 네 개의 픽셀이 공유하여 640x480 FPA(Focal Plane Array)를 적용하게 되면 한 개의 픽셀에 한 개의 앵커(160)가 필요하게 된다. 픽셀을 지지하는 앵커(160)의 수가 줄어듬에 따라서 적외선을 흡수할 수 있는 면적이 늘어나게 되어 필 팩터의 값은 70% 이상 획득 가능하다.
위의 디자인을 바탕으로 제작되어진 마이크로 볼로미터는 필 팩터를 증가되어 최종 출력 신호인 전압값을 높이게 되고 이는 제작되어지는 마이크로 볼로미터의 중요한 평가 요소인 응답도(Responsivity) 및 온도분해능(NETD:Noise Equivalent Temperature Difference)을 향상시킨다.
또한 하나의 앵커(160)를 네 개의 픽셀이 공유함으로써 마이크로 볼로미터의 구조적인 안정성이 높아지게 되고, 제작되어지는 마이크로 볼로미터를 포함하는 칩(chip) 사이즈가 줄어들어 생산성이 향상되고 제작 단가를 낮출 수 있다.
도 1 및 도 2는 한 개의 앵커(160)가 네 개의 픽셀을 공유하는 마이크로 볼로미터의 3D 디자인이다. 각 픽셀은 다리를 통해 앵커(160)와 연결이 된다. 전기적 신호처리는 픽셀과 연결되어 있는 다리의 금속층과 관계있으며, 전기적 신호는 금속이 남아 있는 다리를 통해서 앵커(160)로 전달된다. 도 1 및 도 2는 ㄹ자형의 저항 노선의 패턴이 변형된 경우를 나타낸 것이다.
도 4 및 도 5는 일자형 및 사각형의 저항 노선의 패턴을 나타낸 것이다.
도 3은 마이크로 볼로미터의 픽셀을 나타낸 개념도이다.
볼로미터층(140)은 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어지며 그 두께는 500 내지 3000A 정도가 바람직하다. 그리고 투과 금속층(150)은 적외선을 투과하는 층으로서 티타늄으로 이루어지며 그 두께는 20 내지 100A 정도가 바람직하다.
CMOS 기판과 같은 기판(110)의 상부에는 반사 금속층(120)이 있다. 반사 금속층(120)은 알루미늄 또는 금으로 이루어지며 적외선이 반사되도록 한다. 볼로미터층(140)에서 반사 금속층(120)까지의 거리가 λ/4(λ: 적외선의 파장)가 되도록 공동(130)의 두께를 설계하여 적외선이 공명 흡수되도록 한다.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (4)

  1. 기판 상부의 반사 금속층을 포함하는 하부층; 상기 하부층 상부의 공동; 상기 공동 상부의 볼로미터층과 그 위의 투과 금속층을 포함하는 상부층; 상기 하부층 및 상기 상부층을 절연하기 위한 절연층; 및 상기 상부층을 지지하는 앵커를 포함하는 각 볼로미터 픽셀들의 배열로 이루어진 볼로미터 어레이에 있어서, 상기 볼로미터 픽셀 네 개가 상기 앵커 하나를 공유하는 것을 특징으로 하는 볼로미터 어레이.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 볼로미터층은 비정질 실리콘으로 이루어지고 상기 투과 금속층은 티타늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 볼로미터 어레이.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 상부층에는 상기 투과 금속층을 ㄹ자형, 일자형, 및 사각형 중 어느 하나로 에칭한 저항 노선이 형성되는 것을 특징으로 하는 볼로미터 어레이.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 볼로미터 어레이는 포컬 플레인 어레이를 사용하는 것을 특징으로 하는 볼로미터 어레이.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114088209A (zh) * 2021-03-26 2022-02-25 北京北方高业科技有限公司 基于cmos工艺的红外探测器

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101551094B1 (ko) 2014-05-29 2015-09-07 현대자동차주식회사 패널이 없는 카고스크린 및 그것을 구비한 차량
KR102046086B1 (ko) 2018-09-13 2019-12-02 세종공업 주식회사 경사진 마이크로 볼로미터 어레이
KR20240110722A (ko) 2023-01-06 2024-07-16 삼성전자주식회사 나노 구조를 채용한 적외선 센서

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4922116A (en) * 1988-08-04 1990-05-01 Hughes Aircraft Company Flicker free infrared simulator with resistor bridges
DE68923589T2 (de) * 1988-08-12 1996-01-18 Texas Instruments Inc Infrarot-Detektor.
US5288649A (en) * 1991-09-30 1994-02-22 Texas Instruments Incorporated Method for forming uncooled infrared detector
JP3377041B2 (ja) 2000-03-10 2003-02-17 日本電気株式会社 熱分離構造を有する熱型赤外線検出器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114088209A (zh) * 2021-03-26 2022-02-25 北京北方高业科技有限公司 基于cmos工艺的红外探测器

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