WO2012060567A9 - 폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용하는 전반사형 광 스위치 및 그의 제조 방법 - Google Patents

폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용하는 전반사형 광 스위치 및 그의 제조 방법 Download PDF

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    • G02F1/0151—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction modulating the refractive index
    • G02F1/0154—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction modulating the refractive index using electro-optic effects, e.g. linear electro optic [LEO], Pockels, quadratic electro optical [QEO] or Kerr effect

Definitions

  • the present invention relates to an optical switch. More specifically, the present invention relates to a total reflection type optical switch using a polymer embedded silica optical waveguide and a manufacturing method thereof.
  • Optical devices used in optical communication network systems generally use Planar Lightwave Circuits (PLC) devices.
  • PLC Planar Lightwave Circuits
  • PLC flat-panel optical circuit
  • PLC flat panel optical circuit
  • a typical polymer total reflection optical switch installs a heater in the center portion of an optical waveguide crossing each other.
  • the heater heats part of the optical waveguide. Due to the change in the temperature of the optical waveguide, the refractive index of the optical waveguide material changes, causing total reflection.
  • the silica optical waveguide has a positive thermo-optic coefficient.
  • the change of the refractive index by the heater occurs in the positive direction. Therefore, the total reflection phenomenon is unlikely to occur.
  • the silica optical waveguide has a very low thermo-optic coefficient so that the change in refractive index according to the heater temperature change is too small. Therefore, it is almost impossible to manufacture a total reflection type optical switch using a silica optical waveguide.
  • optical switch In addition, the structure and characteristics of the optical switch are very important in an optical matrix switch using a plurality of total reflection type optical switches.
  • An object of the present invention is to provide an optical switch excellent in total reflection characteristics and a method of manufacturing the same.
  • Another object of the present invention is to provide a total reflection type optical switch using a polymer embedded silica optical waveguide and a manufacturing method thereof.
  • Still another object of the present invention is to provide a total reflection type optical switch that can be used as a variable optical attenuator and a method of manufacturing the same.
  • the total reflection type optical switch of the present invention for achieving the above objects is characterized by inserting the polymer at the position where the silica optical waveguides having different optical paths cross each other.
  • Such a total reflection type optical switch may improve the total reflection characteristic in response to a change in refractive index of the polymer.
  • a total reflection type optical switch of the present invention includes a substrate; A silica optical waveguide formed on the substrate and intersecting to have different optical paths; And a switching member inserted into the cross section of the silica optical waveguide so that a cross section of the silica optical waveguide penetrates up and down, and switches to change the optical path of the optical signal input to the silica optical waveguide.
  • the total reflection optical switch further comprises a heater for heating the switching member.
  • the switching member is provided with a thermo-optic polymer that transmits the optical signal if it is not heated by the heater, and has a low refractive index when heated by the heater to totally reflect the optical signal.
  • the total reflection optical switch In another embodiment, the total reflection optical switch;
  • the upper and lower electrodes are respectively provided on the upper and lower sides of the switching member, and further includes upper and lower electrodes for forming an electric field in the switching member by receiving power.
  • the switching member is provided with an electro-optic polymer that transmits the optical signal when no electric field is formed and lowers the regulation rate when the electric field is formed, thereby totally reflecting the optical signal.
  • the total reflection optical switch can be used as a variable optical attenuator for controlling the intensity of the optical signal by adjusting the power applied to the heater or the upper and lower electrodes.
  • the switching member has a bottom surface positioned between the substrate and the silica optical waveguide.
  • the switching member has a negative thermo-optic coefficient value and is made of the same refractive index as the silica optical waveguide.
  • a heater-type total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch is provided.
  • the total reflection type optical switch of the present invention uses a thermo-optic polymer to switch the optical signal.
  • the total reflection type optical switch of this feature comprises a first silica optical waveguide formed on a substrate and connecting an input port and a first output port, and a second silica optical crossover with the first silica optical waveguide and connected to a second output port.
  • a heater for heating the thermo-optic polymer wherein the thermo-optic polymer transmits the optical signal through the heater to the first output port or totally reflects to the second output port.
  • the total reflection optical switch can be used as a variable optical attenuator for controlling the intensity of the optical signal by adjusting the power applied to the heater.
  • the third silica optical waveguides are arranged in the direction of the input port and the output port with respect to the crossing position to have a symmetrical structure.
  • the third silica optical waveguides are provided to be narrower toward the input port and the output port with respect to the crossing position.
  • an electric field-type total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch is provided.
  • the total reflection type optical switch of the present invention can switch an optical signal at high speed using an electro-optic polymer.
  • the total reflection type optical switch of this feature comprises a first silica optical waveguide formed on a substrate and connecting an input port and a first output port, and a second silica optical crossover with the first silica optical waveguide and connected to a second output port.
  • An electro-optic polymer provided at a position where the first and second silica optical waveguides cross each other and switching to output an optical signal input to the input port to the first silica optical waveguide or the second silica optical waveguide; It is provided on the upper and lower sides of the electro-optic polymer, respectively, and includes upper and lower electrodes that receive power to form an electric field in the electro-optic polymer.
  • the electro-optic polymer transmits the optical signal to the first output port when no electric field is formed, and when the electric field is formed, the regulation rate is lowered to totally reflect the optical signal to the second output port.
  • the total reflection optical switch can be used as a variable optical attenuator for controlling the intensity of the optical signal by adjusting the power applied to the upper and lower electrodes.
  • the third silica optical waveguides are arranged in the direction of the input port and the output port with respect to the crossing position to have a symmetrical structure.
  • the third silica optical waveguides are provided to be narrower toward the input port and the output port with respect to the crossing position.
  • a method of manufacturing a total reflection optical switch using a polymer embedded silica optical waveguide After performing the manufacturing process of the normal silica optical waveguide of a flat plate optical circuit, a trench is formed and a polymer is inserted in a trench.
  • a lower clad is laminated on a silica substrate.
  • the lower clad forms an intersecting silica core to have different optical paths.
  • the upper clad is laminated on the lower clad on which the silica core is formed.
  • the trench is vertically penetrated from the upper cladding to the silica core so that a bottom surface is located between the substrate and the silica core.
  • the polymer is then inserted into the trench.
  • the method comprises; Forming a heater on top of the polymer.
  • the polymer is made of a thermo-optic polymer material for switching the optical signal input to the silica core by the heater.
  • the method; And forming a lower electrode before the lower clad is deposited on the silica substrate, and forming an upper electrode on the polymer.
  • the polymer is formed of an electro-optic polymer material that totally reflects an optical signal input to the silica core by the upper and lower electrodes.
  • the step of forming the silica core A first silica core forming a first optical path, a second silica core intersecting the first silica core and forming a second optical path, and a longitudinal direction of the polymer from the first and second silica cores
  • a plurality of branches which are generally perpendicular to each other and are symmetrically arranged on both sides about an intersection point at which the first and second silica cores intersect with each other, and become narrower toward both sides about the intersection point It is formed by including a third silica core.
  • the polymer has a negative thermo-optic coefficient value and has the same refractive index as the silica core.
  • the total reflection type optical switch of the present invention inserts the polymer at the position where the silica optical waveguide crosses. Accordingly, the total reflection type optical switch of the present invention can switch the path of the optical signal by changing the refractive index of the polymer by the heater or the electric field.
  • the total reflection type optical switch of the present invention is excellent in loss and reproducibility, and is capable of small size, low loss, low power consumption, and high speed operation.
  • the total reflection type optical switch of the present invention uses a substrate made of silica. Accordingly, the total reflection type optical switch of the present invention can implement a flat type passive device using a silica material, for example, an optical device for various uses such as a wavelength multiplexer and a light splitter.
  • the total reflection type optical switch of the present invention utilizes thermo-optic or electro-optic polymers. Accordingly, the total reflection type optical switch of the present invention can be used as a variable optical attenuator by adjusting a power supply (current or voltage) applied to a thermo-optic or electro-optic polymer.
  • FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of a total reflection type optical switch according to the present invention.
  • FIG. 2 and 3 are cross-sectional views showing the configuration of the total reflection type optical switch shown in FIG.
  • FIG. 4 and 5 are diagrams illustrating computer simulation results according to operating states of a heater in the total reflection type optical switch shown in FIG. 1.
  • 6 and 7 are views showing the output power change according to the refractive index change of the polymer according to the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the configuration of a total reflection type optical switch according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a view showing the configuration of a total reflection type 1x2 optical switch using the total reflection type optical switch structure of the present invention.
  • 10A to 10C are diagrams showing computer simulation results of the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch shown in FIG. 9.
  • 11A to 11E are views illustrating a manufacturing process of the total reflection optical switch according to the present invention.
  • FIGS. 12 and 13 are views illustrating a configuration of a total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch using a total reflection type optical switch structure according to another embodiment of the present invention.
  • 14A and 14B are diagrams showing computer simulation results of the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch shown in FIG. 12.
  • 15 and 16 are diagrams illustrating a change in refractive index and output power of a polymer in the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch shown in FIG. 12.
  • Embodiments of the invention may be modified in various forms.
  • the scope of the invention should not be construed as limited by the embodiments set forth below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the components in the drawings, etc. have been exaggerated to emphasize a more clear description.
  • FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of a total reflection type optical switch according to the present invention
  • Figures 2 and 3 are cross-sectional views showing the configuration of the total reflection type optical switch shown in FIG.
  • the total reflection type optical switch 100 of the present invention inserts the polymer 130 at a position where the silica optical waveguide 110 intersects to improve the total reflection characteristics.
  • the heater 140 is provided on the polymer 130.
  • the polymer 130 switches the light path by the heater 140.
  • the total reflection type optical switch 100 forms a silica optical waveguide 110 with a cross-sectional size and a refractive index difference similar to that of an optical fiber, thereby fabricating a single mode optical device. Meanwhile, the total reflection type optical switch 100 may be manufactured as an optical device suitable for multiple modes by extending the width of the intersection portion of the silica optical waveguide 110.
  • the total reflection type optical switch 100 includes a silica substrate 102, lower and upper clads 104: 104a and 104b, silica optical waveguides 110: 112 and 114, a polymer 130 and a heater ( 140).
  • the silica waveguide 110 is a silica core.
  • the silica optical waveguide 110 is formed on the silica substrate 102.
  • the periphery of the silica optical waveguide 110 is entirely surrounded by a silica clad 104.
  • the silica optical waveguide 110 is provided in a Y-shape in which two different optical paths 112 and 114 cross each other.
  • the polymer 130 is inserted such that the cross section of the silica optical waveguide 110 penetrates up and down.
  • the silica optical waveguide 110 has a cross-sectional size of single mode or multiple modes.
  • the silica optical waveguide 110 when the silica optical waveguide 110 is a single mode, the silica optical waveguide 110 has a width of about 5 to 10 ⁇ m. When the silica optical waveguide 110 is a multi-mode, it has a width of about 20 ⁇ 60 ⁇ m. In addition, the silica optical waveguide 110 may adjust its width in consideration of the difference in refractive index with the silica clad 104.
  • the optical paths 112 and 114 cross the first optical path 112 and transmit the optical signal from the input port (INPUT in FIG. 3) to the first output port OUTPUT1, and cross the first optical path 112. And a second optical path 114 for transmitting the optical signal to the second output port OUTPUT2.
  • the polymer 130 is provided as a switching member for switching the optical path of the optical signal input to the silica optical waveguide 110.
  • the polymer 130 has a generally cuboidal shape for accurate switching operation at the intersection of the silica optical waveguide 110.
  • the polymer 130 is inserted under conditions (for example, refractive index, etc.) capable of total reflection of the optical signal input at the intersection of the silica optical waveguide 110.
  • the total reflection type optical switch 100 forms a trench (132 in FIG. 11B) after the typical silica optical waveguide manufacturing process using the silica substrate 102 is completed. At this time, the bottom surface 132a of the trench 132 is located between the silica optical waveguide 110 and the silica substrate 102, as shown in FIG.
  • the polymer 130 is disposed at a totally reflectable angle between the first and second optical paths 112 and 114 of the silica optical waveguide 110.
  • the polymer 130 extends long from the output port side in the length direction of the input port side to sufficiently cover the intersection point of the silica optical waveguide 110.
  • the polymer 130 has the same refractive index as the silica optical waveguide 110.
  • the polymer 130 has a different refractive index than the silica clad 104.
  • the polymer 130 is made of a material having a large value of negative thermo-optic coefficient. Therefore, the refractive index of the polymer 130 is determined according to the difference in refractive index between the silica optical waveguide (silica core) 110 and the silica clad 104. For example, the refractive index of the polymer 130 is determined by calculating the refractive index by the usable temperature rather than the refractive index of the silica clad 104.
  • the polymer 130 has the advantage of fast response speed and low power consumption.
  • the polymer 130 is provided long enough to correspond to the length of the integrated optical device.
  • the width of the polymer 130 is adjustable at about 5 ⁇ 30 ⁇ m in consideration of the optical loss of the optical device. Widths less than about 5 ⁇ m are difficult to form trenches, and widths above about 30 ⁇ m may affect the loss characteristics of the optical device.
  • the heater 140 is made of, for example, a metal material.
  • the heater 140 is provided on top of the polymer 130.
  • the heater 140 has a width and a length sufficient to sufficiently cover the intersection point of the silica optical waveguide 110. That is, the size of the heater is determined in consideration of the upper region of the polymer 130.
  • the heater 140 has a plurality of terminals 142 and 144 to which power is applied.
  • the heater 140 heats the polymer 130 in response to a temperature range in which the polymer 130 satisfies a condition capable of total reflection. When the polymer 130 is heated, the refractive index of the polymer 130 is lowered to operate the total reflection type optical switch 100 in an on-state.
  • the heater 140 When the heater 140 is not powered, that is, does not heat, the total reflection does not occur in the polymer 130 to operate the total reflection type optical switch 100 in an off-state.
  • the total reflection type optical switch 100 When the total reflection type optical switch 100 is turned off, the input optical signal is transmitted through the polymer 130 to the first optical path 112.
  • the total reflection type optical switch 100 When the total reflection type optical switch 100 is turned on, the optical signal is totally reflected by the polymer 130 and transmitted to the second optical path 114.
  • FIG. 4 and 5 are diagrams illustrating computer simulation results according to operating states of a heater in the total reflection type optical switch shown in FIG. 1.
  • the computer simulation results are obtained using the BPM (Beam Propagation Method).
  • 4 and 5 show a change in the path of the optical signal in which the incident optical signal travels along the Z axis (Propagation axis) from left to right.
  • the optical signal is transmitted to the first optical path 112 in the off state in which the heater 140 does not heat the polymer 130.
  • FIG. 5 when the heater 140 heats the polymer 130, an optical signal is totally reflected by the polymer 130 and transmitted to the second optical path 114.
  • the units of the X axis are expressed in millimeters (mm) and the units of the Z axis are expressed in meters (m). Therefore, the unit intervals of the Z axis are all expressed as 0.0 in comparison to the millimeter (mm) scale of the X axis.
  • 6 and 7 are views showing the output power change according to the refractive index change of the polymer according to the present invention.
  • FIG. 6 and 7 illustrate first and second output ports (Pass Main port, Reflective port) OUTPUT1 and OUTPUT2 according to the change in the refractive index (Polymer RI) of the polymer 130 inserted into the trench of the total reflection type optical switch 100 ) Shows the change of optical signal power.
  • Polymer RI refractive index
  • the abscissa represents the refractive index (RI) of the polymer.
  • the vertical axis represents the output ratio of the optical signal that is output when the intensity of the optical signal is input as an absolute value of '1' according to the refractive index (RI) of the polymer.
  • RI refractive index
  • a value of '0.9' represents an output strength of '90% 'relative to the intensity of the input optical signal.
  • the total reflection type optical switch 100 of the present invention may determine the optimal condition under which total reflection can be made in the polymer 130 by adjusting the refractive index of the polymer 130.
  • the refractive index of the polymer 130 may vary depending on the refractive index difference between the silica substrate 102 and the silica clad 104, the size of the cross-sectional area of the silica optical waveguide (silica core) 110 according to the single mode and the multiple mode, and the size of the heater 140. It is determined according to various conditions such as the heating temperature range and the intensity of the output optical signal.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the configuration of a total reflection type optical switch according to another embodiment of the present invention.
  • the configuration and operation distinguished from the total reflection type optical switch 100 of FIG. 1 will be described in detail, and detailed descriptions of the components having the same function will be omitted.
  • the total reflection type optical switch 100a of FIG. 8 has a structure using an electric field instead of a heater.
  • the total reflection optical switch 100a forms the lower electrode 106 on the silica substrate 102.
  • the silica clad 104, the silica optical waveguide 110 and the trench are formed on the lower electrode 106.
  • the electro-optic polymer 130a is polled.
  • the upper electrode 108 is formed on the electro-optic polymer 130a.
  • the total reflection light switch 100a may replace the lower electrode 106 using a substrate that is electrically conductive.
  • the upper and lower electrodes 106 and 108 receive power to cause an electric field to be formed in the electro-optic polymer 130a.
  • the electro-optic polymer 130a handles the same function as the thermo-optic polymer 130. That is, the electro-optic polymer 130a is used as a switching member for switching the optical path of the optical signal input to the silica optical waveguide 110.
  • the electro-optic polymer 130a has total reflection due to a change in refractive index when power is applied to the upper and lower electrodes 106 and 108.
  • the total reflection type optical switch 100a applies power to the upper and lower electrodes 106 and 108 to control the switch operation of the electro-optic polymer 130a.
  • the total reflection type optical switch 100a is capable of high speed switching having a nano-class speed as compared with the thermo-optic total reflection type optical switch 100 of FIG. 1. Thereby, the high speed total reflection type optical switch 100a can be implemented.
  • the total reflection type optical switch 100, 100a of the present invention described above is not limited to the use of the optical switch.
  • the total reflection type optical switch 100, 100a of the present invention is a variable optical attenuator (VOA) according to the adjustment of current or voltage applied to the heater 140 or the upper and lower electrodes 106 and 108. Also available as).
  • VOA variable optical attenuator
  • FIG. 9 is a view showing the configuration of a total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch using the total reflection type optical switch structure of the present invention
  • FIGS. 10A to 10C are computer simulation results of the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch shown in FIG. 9. It is a figure which shows.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 is an integrated optical device module having a structure of a thermooptic total reflection type optical switch 100.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 includes one silica input optical waveguide 202 connected to an input port INPUT, and first and second signals connected to each of the first and second output ports OUTPUT1 and OUTPUT2.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 is disposed above the switching member 230 and the switching member 230 provided at the intersection of the silica optical waveguides 202 to 206 to heat the switching member 230.
  • the switching member 230 is made of a thermo-optic polymer or an electro-optic polymer material.
  • the computer simulation results of this embodiment show the total reflection type 1 when the refractive index of the polymer 230 is changed by 0.0015 in the single mode silica optical waveguides 202 to 206 having a refractive index difference of 0.4%. It shows that the optical switch 200 is operated.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 transmits the optical signal input to the silica input optical waveguide 202 in the off state without applying power to the heater 240. Permeate at As a result, the optical signal is output OUTPUT1 to the first silica output optical waveguide 204.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 transmits an optical signal input to the silica input optical waveguide 202 from the polymer 230 as shown in FIG. 10C when the power is supplied to the heater 240. Total reflection. As a result, the optical signal is output OUTPUT2 to the second silica output optical waveguide 206.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 may have a structure of the electro-optical total reflection type optical switch 100a.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 controls the switch operation of the polymer 130a using an electric field. This enables high speed switching.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 of the present invention inserts the thermo- or electro-optic polymer 130 or 130a at the intersection of the silica optical waveguides.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 of the present invention adjusts the current and voltage of the power applied to the heater 140 or the electrodes 106 and 108.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 of the present invention can be used as a variable optical attenuator (VOA) for adjusting the intensity of the optical signal.
  • VOA variable optical attenuator
  • FIGS. 11A to 11E are views illustrating a manufacturing process of the total reflection optical switch according to the present invention. This embodiment describes a method of manufacturing a total reflection optical switch using a thermo-optic polymer.
  • the total reflection type optical switch 100 uses a general silica optical waveguide manufacturing process of a planar lightwave circuit. That is, the lower clad 104a is laminated on the silica substrate 102. The stacked lower clad 104a forms a silica core 110 in which different optical paths cross each other. The upper clad 104b is laminated on the lower clad 104a on which the silica core 110 is formed.
  • a trench 132 is formed in the silica substrate 102 on which the lower clad 104a, the silica core 110, and the upper clad 104b are stacked.
  • the trench 132 is formed by vertically penetrating the upper clad 104b, the silica core 110, and the lower clad 104a.
  • the trench 132 is formed using an etching process, a photolithography process or a dicing process.
  • the trench 132 has a lower depth than the silica core 110. That is, the bottom surface 132a of the trench 132 is located between the top of the silica substrate 102 and the bottom of the silica core 110.
  • the trench 132 is formed such that the bottom surface 132a is positioned between the silica substrate 102 and the silica core 110.
  • the trench 132 is formed such that the bottom surface 132a is in contact with the top surface of the silica substrate 102.
  • the trench 130 is coated with the polymer 130 to fill the trench 130 with the polymer 130.
  • the polymer 130 is provided as a material having a negative thermo-optic coefficient by using a spin coating process or a blade coating process.
  • the refractive index of the polymer 130 is calculated according to the usable temperature by calculating the thermo-optic coefficient.
  • the upper polymer 130 is removed using a polishing process or a plasma etching process. At this time, the upper polymer 130 is removed so that the upper clad 104b is exposed.
  • the metal heater 140 is formed on the upper end of the polymer 130 inserted into the trench 132 using a patterning process or the like.
  • a method of manufacturing the total reflection optical switch 100a using the electro-optic polymer 130a is as follows. As shown in FIG. 8, the lower electrode 106 is formed before the lower clad 104a is stacked on the silica substrate 102. Subsequently, the lower clad 104a, the silica core 110, and the upper clad 104b are sequentially stacked to form the trench 132. After the polymer 130a is inserted into the trench 132, the polymer 130a is polled to cause an electro-optic effect. An upper electrode 108 is then formed on top of the polled polymer 130a. In this embodiment, of course, an electrically conductive substrate may be used to replace the lower electrode 106.
  • the total reflection type optical switch 100 or 100a of the present invention inserts the thermo-optic or electro-optic polymer 130 or 130a at the intersection of the silica optical waveguide 110 where the different optical paths intersect. .
  • the total reflection type optical switch 100 or 100a of the present invention transmits or totally reflects an optical signal due to a difference in refractive index between the silica optical waveguide 110 and the polymer 130 or 130a.
  • 12 and 13 are views illustrating a configuration of a total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch using a total reflection type optical switch structure according to another embodiment of the present invention.
  • 14A and 14B are diagrams showing computer simulation results of the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch shown in FIG. 12.
  • 15 and 16 are diagrams illustrating a change in refractive index and output power of a polymer in the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch shown in FIG. 12.
  • a configuration that is different from the total reflection type optical switch 200 of FIGS. 9 and 10 will be described in detail, and descriptions of components having the same function will be omitted.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a of FIGS. 12 and 13 has a polymer insertion type silica optical waveguide structure according to the present invention.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a forms a single mode based silica optical waveguide 202 to 206.
  • the silica optical waveguides 202 to 206 may include first and second silica optical waveguides 202 to 206 that cross each other, and a plurality of third silica optical waveguides that branch from the first and second silica optical waveguides 202 to 206. (210: 212-216).
  • a plurality of third silica optical waveguides 210 are formed at positions where the first and second silica optical waveguides 202 to 206 intersect with each other.
  • the third silica optical waveguides 210 are not substantially parallel to the direction of travel of the optical signal input to the first silica optical waveguides 202 and 204 at the position where the first and second silica optical waveguides 202 to 206 intersect. Branching in the direction.
  • the third silica optical waveguides 210 branch generally perpendicular to the longitudinal direction of the switching member, ie, the polymer 230.
  • the third silica optical waveguides 210 are maintained at a constant distance from each other.
  • the third silica optical waveguides 210 have a structure in which the third silica optical waveguides 210 are symmetrically arranged at both sides of the input port and the output port direction within a predetermined range around the crossing position.
  • the third silica optical waveguides 210: 212 to 216 have a shape that decreases toward both sides with respect to the position where the width is gradually crossed. That is, the third silica optical waveguides 212 and 216 disposed on the input / output port side are provided to have a smaller width than the third silica optical waveguide 214 disposed at the crossing position.
  • the third silica optical waveguides 210: 212-216 are disposed at a width within a range of about 10-50 ⁇ m at the intersection. The reason for limiting the width of the third silica optical waveguides 210 is insufficient in the width of less than about 10 ⁇ m.
  • a multi-mode may occur because a wide portion of the width becomes long in the optical waveguide direction. If the multi-mode is suddenly generated, problems such as a large increase in light loss may occur.
  • the optical signal is transmitted. Dispersion can be prevented from generating some loss.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a gradually increases the width of the third silica optical waveguides 210: 212 to 216 from the input port side to the position where they cross, and gradually decreases the cross section from the input position to the output port side. Let's do it. Thereby, stabilization can be attained by minimizing light loss during optical transmission.
  • the total reflection type 1x2 optical switch 200a when the total reflection type 1x2 optical switch 200a is applied to an optical communication element, input / output ports are divided. However, the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a can actually perform bidirectional communication. As a result, the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a is implemented to be symmetrical in both directions of the input / output port with respect to the position where the third silica optical waveguides 210 cross so that the direction of the input / output port can be changed.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a uses the third silica optical waveguides 210 to prevent light loss in the optical waveguide mode. Accordingly, the optical switch function can be improved by improving the characteristics of the optical waveguide modes of the first and second silica optical waveguides 202 to 206 than the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 of FIG. 9. As shown in FIG. 16, the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a has a gain at an optical transmission loss of about 2% over the structure of the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200 shown in FIGS. 9 and 10. have.
  • the total reflection type optical switch 200a includes first and second output ports (Pass port and Reflective port) OUTPUT-1 and OUTPUT according to a change in the refractive index (Polymer RI) of the polymer 230.
  • the optical signal power of -2) can be adjusted. Accordingly, the total reflection type optical switch 200a may determine the optimal condition under which total reflection may occur in the polymer 230 by adjusting the refractive index of the polymer 230.
  • the computer simulation of this embodiment is measured under the same conditions as the computer simulation of FIG. That is, the total reflection type 1 ⁇ 1 optical switch 200 is operated when the refractive index of the polymer 230 is changed by 0.0015 in the single mode silica optical waveguides 202 to 206 having a refractive index difference of 0.4%.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a does not apply power to the heater (240 in FIG. 9) or the upper and lower electrodes (106 and 108 in FIG. 8).
  • the optical signal input to INPUT is transmitted through the polymer 230. Accordingly, the optical signal is transmitted to the first output port OUTPUT-1.
  • the total reflection type 1 ⁇ 2 optical switch 200a transmits the input optical signal to the polymer 230 as shown in FIG. 14B in a state where power is supplied to the heater 240 or the upper and lower electrodes 106 and 108. Total reflection. Accordingly, the optical signal is transmitted to the second output port OUTPUT-2.

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Abstract

본 발명은 폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용한 전반사형 광 스위치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 전반사형 광 스위치는 두 개의 광 경로를 갖는 실리카 광도파로의 교차점에 트렌치를 형성하고, 트렌치에 폴리머를 삽입한다. 전반사형 광 스위치는 폴리머를 가열하는 히터를 구비한다. 폴리머는 열광학 재질로 구비되어, 히터에 의해 가열되면 굴절률이 낮아져서 광신호를 전반사한다. 또 폴리머는 히터가 가열하지 않으면 광신호를 투과한다. 폴리머가 전기광학 재질인 경우, 전반사형 광 스위치는 히터를 대신하여 폴리머에 전계를 인가하기 위한 상부 및 하부 전극을 구비할 수 있다. 이 경우, 전반사형 광 스위치는 고속 스위칭이 가능하며, 광 스위치의 용도에 국한되지 않고, 인가되는 전압 및 전류를 조절하여 가변 광 감쇄기로도 이용될 수 있다. 본 발명에 의하면, 온도 변화에 따른 실리카 광도파로와 폴리머의 굴절률 차이를 이용하여, 폴리머의 굴절률 변화에 따라 광신호를 투과하거나 전반사함으로써, 광신호의 손실 특성을 향상시킬 수 있다.

Description

폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용하는 전반사형 광 스위치 및 그의 제조 방법
본 발명은 광 스위치에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용하는 전반사형 광 스위치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
광통신 네트워크 시스템에 사용되는 광소자는 일반적으로 평판 광회로(Planar Lightwave Circuits : PLC) 소자를 이용한다.
평판 광회로(PLC) 소자의 주요 특징 중의 하나는 전송 및 접속 기능과, 루팅, 스위칭, 감쇄 및 프로그램 가능한 필터링 등과 같은 선택 가능한 기능들과 더불어 집적화할 수 있다는 점이다.
이러한 평판 광회로(PLC) 소자는 우수한 손실 특성을 갖는 광도파로를 위해 실리카(silica)로 불리우는 이산화규소(SiO2)를 이용한다.
일반적인 폴리머 전반사형 광 스위치는 서로 교차하는 광도파로의 중앙 부분에 히터를 설치한다. 히터는 광도파로의 일부를 가열한다. 광도파로의 온도 변화로 인해 광도파로 물질의 굴절율이 변화하여 전반사 현상을 발생시킨다.
그러나, 실리카 광도파로는 열광학 계수가 양의 값을 가진다. 실리카 광도파는 히터에 의한 굴절율 변화가 양의 방향으로 일어난다. 그래서, 전반사 현상이 발생하기 어렵다.
또한, 실리카 광도파로는 열광학 계수가 매우 낮아서 히터 온도 변화에 따른 굴절률 변화가 너무 작다. 그래서, 실리카 광도파로를 이용하여 전반사형 광 스위치를 제작하는 것이 거의 불가능하다.
또한, 다수의 전반사형 광 스위치들을 사용하는 광 매트릭스 스위치(Optical Matrix Switch)에서는 광 스위치의 구조 및 특성이 매우 중요하다.
본 발명의 목적은 전반사 특성이 우수한 광 스위치 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용한 전반사형 광 스위치 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 가변 광 감쇄기로 사용 가능한 전반사형 광 스위치 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 전반사형 광 스위치는 서로 다른 광 경로를 갖는 실리카 광도파로가 교차되는 위치에 폴리머를 삽입함에 특징이 있다. 이와 같은 전반사형 광 스위치는 폴리머의 굴절률 변화에 대응하여 전반사 특성이 향상될 수 있다.
이 특징에 따른 본 발명의 전반사형 광 스위치는, 기판과; 상기 기판에 형성되어 서로 다른 광 경로를 갖도록 교차되는 실리카 광도파로 및; 상기 실리카 광도파로의 교차되는 위치에 상기 실리카 광도파로의 단면이 상하로 관통되게 삽입되고, 상기 실리카 광도파로에 입력된 광신호의 상기 광 경로를 변경하도록 스위칭하는 스위칭 부재를 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 전반사형 광 스위치는 상기 스위칭 부재를 가열하는 히터를 더 포함한다. 여기서 상기 스위칭 부재는 상기 히터에 의해 가열되지 않으면 상기 광신호를 투과하고 상기 히터에 의해 가열되면 굴절률이 낮아져서 상기 광신호를 전반사하는 열광학 폴리머로 구비된다.
다른 실시예에 있어서, 상기 전반사형 광 스위치는; 상기 스위칭 부재의 상하 양측에 각각 설치되고, 전원을 공급받아서 상기 스위칭 부재에 전계를 형성하는 상부 및 하부 전극들을 더 포함한다. 여기서 상기 스위칭 부재는 전계가 형성되지 않으면 상기 광신호를 투과하고 상기 전계가 형성되면 귤절률이 낮아져서 상기 광신호를 전반사하는 전기광학 폴리머로 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 전반사형 광 스위치는; 상기 히터 또는 상기 상부 및 상기 하부 전극들로 인가되는 전원을 조절하여 상기 광신호의 세기를 조절하는 가변 광감쇄기로 사용 가능하다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 스위칭 부재는 하부면이 상기 기판과 상기 실리카 광도파로 사이에 위치된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 스위칭 부재는 음의 열광학 계수 값을 갖고, 상기 실리카 광도파로와 굴절률이 동일한 재질로 구비된다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 히터형의 전반사형 1×2 광 스위치가 제공된다. 이와 같은 본 발명의 전반사형 광 스위치는 열광학 폴리머를 이용하여 광신호를 스위칭한다.
이 특징의 전반사형 광 스위치는, 기판에 형성되어 입력 포트와 제 1 출력 포트를 연결하는 제 1 실리카 광도파로와, 상기 제 1 실리카 광도파로와 교차되고 제 2 출력 포트에 연결되는 제 2 실리카 광도파로를 구비하는 실리카 광도파로와; 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로가 교차되는 위치에 제공되며, 상기 입력 포트로 입력되는 광신호를 상기 제 1 실리카 광도파로 또는 상기 제 2 실리카 광도파로로 출력하도록 스위칭하는 열광학 폴리머 및; 상기 열광학 폴리머를 가열하는 히터를 포함한다. 여기서 상기 열광학 폴리머는 상기 히터에 의해 상기 광신호를 상기 제 1 출력 포트로 투과하거나 상기 제 2 출력 포트로 전반사한다.
한 실시예에 있어서, 상기 전반사형 광 스위치는; 상기 히터로 인가되는 전원을 조절하여 상기 광신호의 세기를 조절하는 가변 광감쇄기로 사용 가능하다.
다른 실시예에 있어서, 상기 실리카 광도파로는; 상기 교차되는 위치에 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로에서 상기 열광학 폴리머 또는 상기 전기광학 폴리머의 길이 방향에 대체로 수직하게 분기되고 상호 일정 간격이 유지되는 복수 개의 제 3 실리카 광도파로를 더 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 3 실리카 광도파로들은 상기 교차되는 위치를 중심으로 상기 입력 포트와 상기 출력 포트 방향으로 배열되어 대칭 구조를 갖는다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 3 실리카 광도파로들은 상기 교차되는 위치를 중심으로 하여 상기 입력 포트와 상기 출력 포트 방향으로 갈수록 폭이 좁아지게 제공된다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 전계형의 전반사형 1×2 광 스위치가 제공된다. 이와 같은 본 발명의 전반사형 광 스위치는 전기광학 폴리머를 이용하여 광신호를 고속으로 스위칭할 수 있다.
이 특징의 전반사형 광 스위치는, 기판에 형성되어 입력 포트와 제 1 출력 포트를 연결하는 제 1 실리카 광도파로와, 상기 제 1 실리카 광도파로와 교차되고 제 2 출력 포트에 연결되는 제 2 실리카 광도파로를 구비하는 실리카 광도파로와; 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로가 교차되는 위치에 제공되며, 상기 입력 포트로 입력되는 광신호를 상기 제 1 실리카 광도파로 또는 상기 제 2 실리카 광도파로로 출력하도록 스위칭하는 전기광학 폴리머 및; 상기 전기광학 폴리머의 상하 양측에 각각 설치되고, 전원을 공급받아서 상기 전기광학 폴리머에 전계를 형성하는 상부 및 하부 전극들을 포함한다. 여기서 상기 전기광학 폴리머는 전계가 형성되지 않으면 상기 광신호를 상기 제 1 출력 포트로 투과하고 전계가 형성되면 귤절률이 낮아져서 상기 광신호를 상기 제 2 출력 포트로 전반사한다.
한 실시예에 있어서, 상기 전반사형 광 스위치는; 상기 상부 및 하부 전극들로 인가되는 전원을 조절하여 상기 광신호의 세기를 조절하는 가변 광감쇄기로 사용 가능하다.
다른 실시예에 있어서, 상기 실리카 광도파로는; 상기 교차되는 위치에 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로에서 상기 열광학 폴리머 또는 상기 전기광학 폴리머의 길이 방향에 대체로 수직하게 분기되고 상호 일정 간격이 유지되는 복수 개의 제 3 실리카 광도파로를 더 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 3 실리카 광도파로들은 상기 교차되는 위치를 중심으로 상기 입력 포트와 상기 출력 포트 방향으로 배열되어 대칭 구조를 갖는다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 3 실리카 광도파로들은 상기 교차되는 위치를 중심으로 하여 상기 입력 포트와 상기 출력 포트 방향으로 갈수록 폭이 좁아지게 제공된다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 폴리머 삽입형 실리카 광도파로를 이용한 전반사형 광 스위치의 제조 방법이 제공된다. 이 방법에 의하면, 평판 광회로의 일반적인 실리카 광도파로 제조 공정을 실시한 후, 트렌치를 형성하고, 트렌치에 폴리머를 삽입한다.
이 특징에 따른 전반사형 광 스위치의 제조 방법은, 실리카 기판 상에 하부 클래드를 적층한다. 상기 하부 클래드에 서로 다른 광 경로를 갖도록 교차하는 실리카 코어를 형성한다. 상기 실리카 코어가 형성된 상기 하부 클래드 상에 상부 클래드를 적층한다. 바닥면이 상기 기판과 상기 실리카 코어 사이에 위치되도록 상기 상부 클래드로부터 상기 실리카 코어로 수직 관통하여 트렌치를 형성한다. 이어서 상기 트렌치에 폴리머를 삽입한다.
한 실시예에 있어서, 상기 방법은; 상기 폴리머의 상부에 히터를 형성하는 단계를 더 포함한다. 여기서 상기 폴리머는 상기 히터에 의해 상기 실리카 코어에 입력된 광신호를 스위칭하는 열광학 폴리머 재질로 구비된다.
다른 실시예에 있어서, 상기 방법은; 상기 실리카 기판 상에 상기 하부 클래드가 적층되기 전에 하부 전극을 형성하고, 상기 폴리머의 상부에 상부 전극을 형성하는 단계를 더 포함한다. 여기서 상기 폴리머는 상기 상부 및 상기 하부 전극들에 의해 상기 실리카 코어에 입력된 광신호를 전반사하는 전기광학 폴리머 재질로 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 실리카 코어를 형성하는 단계는; 제 1 광 경로를 형성하는 제 1 실리카 코어와, 상기 제 1 실리카 코어에 교차하고 제 2 광 경로를 형성하는 제 2 실리카 코어 및, 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 코어들로부터 상기 폴리머의 길이 방향에 대해 대체로 수직하게 복수 개가 분기되고, 상기 제 1 및 제 2 실리카 코어가 교차되는 교차점을 중심으로 하여 양측으로 상호 이격되어 대칭되게 배열되고, 상기 교차점을 중심으로 상기 양측으로 갈수록 폭이 좁아지게 제공되는 제 3 실리카 코어를 포함하여 형성한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 폴리머는 음의 열광학 계수 값을 갖고, 상기 실리카 코어와 동일한 굴절률을 갖는다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 전반사형 광 스위치는 실리카 광도파로가 교차되는 위치에 폴리머를 삽입한다. 그에 따라, 본 발명의 전반사형 광 스위치는 히터 또는 전계에 의한 폴리머의 굴절률 변화로 광신호의 경로를 전환할 수 있다. 이러한 본 발명의 전반사형 광 스위치는 손실과 재현성이 우수하고, 초소형 크기, 저손실, 저전력 소모 및 고속 동작이 가능하다.
또 본 발명의 전반사형 광 스위치는 실리카 재질의 기판을 이용한다. 그에 따라, 본 발명의 전반사형 광 스위치는 실리카 재질을 사용하는 평판형 수동 소자 예를 들어, 파장 다중화기, 광 분배기 등 다양한 용도의 광소자를 구현할 수 있다.
특히, 본 발명의 전반사형 광 스위치는 열광학 또는 전기광학 폴리머를 이용한다. 그에 따라, 본 발명의 전반사형 광 스위치는 열광학 또는 전기광학 폴리머로 인가하는 전원(전류 또는 전압)을 조절하여 가변 광 감쇄기로도 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 전반사형 광 스위치의 구성을 도시한 사시도이다.
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 전반사형 광 스위치의 구성을 나타내는 단면도들이다.
도 4 및 도 5는 도 1에 도시된 전반사형 광 스위치에서 히터의 동작 상태에 따른 전산 모사 결과를 나타내는 도면들이다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 폴리머의 굴절률 변화에 따른 출력 파워 변화를 나타내는 도면들이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전반사형 광 스위치의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 9는 본 발명의 전반사형 광 스위치 구조를 이용한 전반사형 1×2 광 스위치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 10a 내지 도 10c는 도 9에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치의 전산 모사 결과를 나타내는 도면들이다.
도 11a 내지 도 11e는 본 발명에 따른 전반사형 광 스위치의 제조 과정을 도시한 도면들이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전반사형 광 스위치 구조를 이용한 전반사형 1×2 광 스위치의 구성을 나타내는 도면들이다.
도 14a 및 도 14b는 도 12에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치의 전산 모사 결과를 나타내는 도면들이다.
도 15 및 도 16은 도 12에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치에서 폴리머의 굴절률 변화 및 출력 파워 변화를 나타내는 도면들이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있다. 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하 첨부된 도 1 내지 도 11을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 전반사형 광 스위치의 구성을 도시한 사시도이고, 도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 전반사형 광 스위치의 구성을 나타내는 단면도들이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 전반사형 광 스위치(100)는 전반사 특성을 우수하게 하기 위해, 실리카 광도파로(110)가 교차되는 위치에 폴리머(130)를 삽입한다. 폴리머(130)의 상부에는 히터(140)를 구비한다. 폴리머(130)는 히터(140)에 의해 광 경로를 스위칭한다. 전반사형 광 스위치(100)는 실리카 광도파로(110)를 광섬유와 유사한 단면 크기와 굴절률 차이로 형성하여 단일 모드의 광소자로 제작된다. 한편, 전반사형 광 스위치(100)는 실리카 광도파로(110)의 교차점 부분의 폭을 확장하여 다중 모드에 적합한 광소자로도 제작될 수 있다.
구체적으로, 전반사형 광 스위치(100)는 실리카 기판(102)과, 하부 및 상부 클래드(104 : 104a, 104b)와, 실리카 광도파로(110 : 112, 114)와, 폴리머(130) 및 히터(140)를 포함한다.
실리카 광도파로(silica waveguide)(110)는 실리카 코어(silica core)이다. 실리카 광도파로(110)는 실리카 기판(102) 상에 형성된다. 실리카 광도파로(110)의 주변은 전체적으로 실리카 클래드(silica clad)(104)에 둘러 쌓인다. 실리카 광도파로(110)는 서로 다른 2 개의 광 경로(112, 114)가 교차된 Y 자 형태로 제공된다. 실리카 광도파로(110)가 교차되는 위치(교차점)에는 실리카 광도파로(110)의 단면이 상하로 관통되게 폴리머(130)가 삽입된다. 실리카 광도파로(110)는 단일 모드 또는 다중 모드의 단면 크기를 갖는다. 예를 들어, 실리카 광도파로(110)가 단일 모드인 경우에는 약 5 ~ 10 ㎛ 정도의 폭을 가진다. 실리카 광도파로(110)가 다중 모드인 경우에는 약 20 ~ 60 ㎛ 정도의 폭을 갖는다. 또 실리카 광도파로(110)는 실리카 클래드(104)와의 굴절률 차이를 고려하여 그 폭을 조절할 수 있다.
광 경로(112, 114)들은 입력 포트(도 3의 INPUT)로부터 제 1 출력 포트(OUTPUT1)로 광신호를 전송하는 제 1 광 경로(112)와, 제 1 광 경로(112)와 교차되고 제 2 출력 포트(OUTPUT2)로 광신호를 전송하는 제 2 광 경로(114)를 포함한다.
폴리머(polymer)(130)는 실리카 광도파로(110)에 입력된 광신호의 광 경로를 전환하는 스위칭 부재로 제공된다. 폴리머(130)는 실리카 광도파로(110)의 교차점에서 정확한 스위칭 동작을 위해, 대체로 직육면체의 형상을 갖는다. 폴리머(130)는 실리카 광도파로(110)의 교차점에서 입력된 광신호를 전반사할 수 있는 조건(예를 들어, 굴절률 등)으로 삽입된다. 이를 위해 전반사형 광 스위치(100)는 실리카 기판(102)을 이용한 전형적인 실리카 광도파로 제조 공정이 완료된 후, 트렌치(trench)(도 11b의 132)를 형성한다. 이 때, 트렌치(132)의 바닥면(132a)은 도 2에 도시된 바와 같이, 실리카 광도파로(110)와 실리카 기판(102) 사이에 위치된다.
폴리머(130)는 실리카 광도파로(110)의 제 1 및 제 2 광 경로(112, 114) 사이에서 전반사 가능한 각도로 배치된다. 또 폴리머(130)는 실리카 광도파로(110)의 교차점을 충분히 커버할 수 있도록 출력 포트 측으로부터 입력 포트 측 길이 방향으로 길게 연장된다.
폴리머(130)는 실리카 광도파로(110)와 동일한 굴절률을 갖는다. 폴리머(130)는 실리카 클래드(104)와는 상이한 굴절률을 갖는다. 폴리머(130)는 음의 열광학 계수의 값이 큰 물질로 구비된다. 따라서 폴리머(130)의 굴절률은 실리카 광도파로(실리카 코어)(110)와 실리카 클래드(104)의 굴절률 차이에 따라 결정된다. 예를 들어, 폴리머(130)의 굴절률은 실리카 클래드(104)의 굴절률보다 사용 가능한 온도 만큼의 굴절률을 계산하여 결정한다. 폴리머(130)는 응답 속도가 빠르고 소비 전력이 낮은 장점을 가진다.
폴리머(130)는 집적화된 광소자의 길이에 대응하여 충분히 길게 제공된다. 폴리머(130)의 폭은 광소자의 광학적 손실을 고려하여 약 5 ~ 30 ㎛ 정도에서 조절 가능하다. 약 5 ㎛ 미만의 폭은 트렌치를 형성하기가 어렵고, 약 30 ㎛를 초과하는 폭은 광소자의 손실 특성에 영향을 줄 수 있기 때문이다.
그리고 히터(140)는 예를 들어, 금속 재질로 구성된다. 히터(140)는 폴리머(130)의 상부에 제공된다. 히터(140)는 실리카 광도파로(110)의 교차점을 충분히 커버할 수 있는 정도의 폭과 길이를 갖는다. 즉, 히터는 폴리머(130)의 상부 영역을 고려하여 그 크기가 결정된다. 히터(140)는 전원을 인가받는 복수 개의 단자(142, 144)들을 갖는다. 히터(140)는 폴리머(130)가 전반사 가능한 조건을 만족하는 온도 범위에 대응하여 폴리머(130)를 가열한다. 폴리머(130)가 가열되면 폴리머(130)의 굴절률이 낮아져서 전반사형 광 스위치(100)를 온 상태(On-state)로 동작시킨다. 히터(140)는 전원을 공급받지 않은 경우 즉, 가열하지 않은 경우에 폴리머(130)에서 전반사가 일어나지 않게 되어 전반사형 광 스위치(100)를 오프 상태(Off-state)로 동작시킨다. 전반사형 광 스위치(100)가 오프 상태이면 입력된 광신호는 폴리머(130)를 투과하여 제 1 광 경로(112)로 전송된다. 전반사형 광 스위치(100)가 온 상태이면 광신호는 폴리머(130)에서 전반사되어 제 2 광 경로(114)로 전송된다.
도 4 및 도 5는 도 1에 도시된 전반사형 광 스위치에서 히터의 동작 상태에 따른 전산 모사 결과를 나타내는 도면들이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 이 전산 모사 결과는 BPM(Beam Propagation Method)를 이용한 것이다. 도 4 및 도 5는 입사된 광신호가 왼쪽에서 오른쪽 방향으로 Z 축(Propagation 축)을 따라 진행되는 광신호의 경로 변화를 보여준다. 도 4에 도시된 바와 같이, 히터(140)가 폴리머(130)를 가열하지 않은 오프 상태에서 광신호는 제 1 광 경로(112)로 전송된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 히터(140)가 폴리머(130)를 가열한 온 상태에서는 광신호가 폴리머(130)에서 전반사되어 제 2 광 경로(114)로 전송된다. 여기서 사용된 전산 모사 프로그램의 특성상의 이유로, X 축의 단위는 미리미터(mm)로 표시되고, Z 축의 단위는 미터(m)로 표시된다. 그러므로, X 축의 미리미터(mm) 스케일에 대비하여 Z 축의 단위 간격이 모두 0.0으로 표시된다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 폴리머의 굴절률 변화에 따른 출력 파워 변화를 나타내는 도면들이다.
도 6 및 도 7은 전반사형 광 스위치(100)의 트렌치에 삽입된 폴리머(130)의 굴절률(Polymer RI) 변화에 따른 제 1 및 제 2 출력 포트(Pass Main port, Reflective port)(OUTPUT1, OUTPUT2)의 광신호 파워 변화를 보여준다.
도 7의 그래프에서, 가로축은 폴리머의 굴절률(RI : Reflactive Index)을 나타낸다. 세로축은 폴리머의 굴절률(RI)에 따라 광신호의 세기를 '1'이라는 절대값의 크기로 입력하였을 때 출력되는 광신호의 출력 비율을 나타낸다. 예를 들어, '0.9' 값은 입력된 광신호의 세기에 대해 '90 %'의 출력 세기를 나타낸다.
따라서 본 발명의 전반사형 광 스위치(100)는 폴리머(130)의 굴절률을 조절하여, 폴리머(130)에서 전반사가 이루어질 수 있는 최적의 조건을 결정할 수 있다. 예컨대, 폴리머(130)의 굴절률은 실리카 기판(102)와 실리카 클래드(104)의 굴절률 차이, 단일 모드 및 다중 모드에 따른 실리카 광도파로(실리카 코어)(110)의 단면적 크기, 히터(140)의 가열 온도 범위 및, 출력 광신호의 세기 등 여러 가지 조건에 따라 결정된다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 전반사형 광 스위치의 구성을 나타내는 단면도이다. 여기서 도 1의 전반사형 광 스위치(100)와 구분되는 구성 및 작용에 대해서는 구체적으로 설명하고, 동일한 기능의 구성 요소들에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
도 8의 전반사형 광 스위치(100a)는 히터가 아닌 전계를 이용한 구조를 갖는다. 전반사형 광 스위치(100a)는 실리카 기판(102) 위에 하부 전극(106)을 형성한다. 그 하부 전극(106) 위에 실리카 클래드(104), 실리카 광도파로(110) 및 트렌치를 형성한다. 트렌치에 전기광학 폴리머(130a)를 삽입한 다음에 전기광학 폴리머에 폴링(polling) 공정을 거친다. 이후, 전기광학 폴리머(130a)의 상측에 상부 전극(108)을 형성한다. 물론, 전반사 광 스위치(100a)는 전기 전도가 가능한 기판을 사용하여 하부 전극(106)을 대신할 수도 있다.
상부 및 하부 전극(106, 108)들은 전원을 받아서 전기광학 폴리머(130a)에 전계가 형성되도록 한다.
전기광학 폴리머(130a)는 열광학 폴리머(130)와 동일한 기능을 처리한다. 즉, 전기광학 폴리머(130a)는 실리카 광도파로(110)에 입력된 광신호의 광 경로를 전환하는 스위칭 부재로 사용된다. 전기광학 폴리머(130a)는 상부 및 하부 전극(106, 108)에 전원이 인가될 경우 굴절률이 변화하여 전반사가 이루어진다.
따라서, 전반사형 광 스위치(100a)는 상부 및 하부 전극(106, 108)에 전원을 인가하여 전기광학 폴리머(130a)의 스위치 동작을 조절한다. 이러한 전반사형 광 스위치(100a)는 도 1의 열광학 전반사형 광 스위치(100)에 비하여 나노급 속도를 갖는 고속 스위칭이 가능하다. 이에 의해, 고속의 전반사형 광 스위치(100a)의 구현이 가능하다.
뿐만 아니라, 상술한 본 발명의 전반사형 광 스위치(100, 100a)는 광 스위치의 용도에 국한되지 않는다. 예를 들어, 본 발명의 전반사형 광 스위치(100, 100a)는 히터(140) 또는 상부 및 하부 전극(106, 108)에 인가되는 전류나 전압의 조절에 따라 가변 광 감쇄기(Variable Optical Attenuator : VOA)로도 사용 가능하다.
도 9 내지 도 10을 이용하여 본 발명에 따른 전반사형 1×2 광 스위치에 대한 구성 및 동작을 설명한다.
도 9는 본 발명의 전반사형 광 스위치 구조를 이용한 전반사형 1×2 광 스위치의 구성을 나타내는 도면이고, 도 10a 내지 도 10c는 도 9에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치의 전산 모사 결과를 나타내는 도면들이다.
도 9를 참조하면, 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 열광학 전반사형 광 스위치(100)의 구조를 구비하여 집적화된 광소자 모듈이다. 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 입력 포트(INPUT)에 연결되는 하나의 실리카 입력 광도파로(202)와, 제 1 및 제 2 출력 포트(OUTPUT1, OUTPUT2) 각각에 연결되는 제 1 및 제 2 실리카 출력 광도파로(204, 206)를 포함한다. 또 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 실리카 광도파로(202 ~ 206)의 교차점에 설치되는 스위칭 부재(230)와, 스위칭 부재(230)의 상측에 배치되어 스위칭 부재(230)를 가열하는 히터(240)를 포함한다. 스위칭 부재(230)는 열광학 폴리머 또는 전기광학 폴리머 재질로 구비된다.
도 10a 내지 도 10c를 참조하면, 이 실시예의 전산 모사 결과는 0.4 %의 굴절률 차이를 갖는 단일 모드 실리카 광도파로(202 ~ 206)에서 폴리머(230)의 굴절률을 0.0015 크기 변화시켰을 때의 전반사형 1×1 광 스위치(200)가 동작되는 것을 나타낸 것이다.
따라서 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 도 10b에 도시된 바와 같이, 히터(240)에 전원을 인가하지 않는 오프 상태에서 실리카 입력 광도파로(202)에 입력된 광신호를 폴리머(230)에서 투과시킨다. 그에 따라, 광신호는 제 1 실리카 출력 광도파로(204)로 출력(OUTPUT1)된다.
또 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 히터(240)에 전원을 인가한 온 상태에서는 도 10c에 도시된 바와 같이, 실리카 입력 광도파로(202)로 입력된 광신호를 폴리머(230)에서 전반사시킨다. 그에 따라, 광신호는 제 2 실리카 출력 광도파로(206)로 출력(OUTPUT2)된다.
다른 실시예로서, 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 전기광학 전반사형 광 스위치(100a)의 구조를 구비할 수 있다. 이러한 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 전계를 이용하여 폴리머(130a)의 스위치 동작을 조절한다. 이에 의해 고속 스위칭이 가능하다.
이러한 본 발명의 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 열광학 또는 전기광학 폴리머(130 또는 130a)를 실리카 광도파로의 교차점에 삽입한다. 그리고, 이러한 본 발명의 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 히터(140) 또는 전극(106, 108)들에 인가되는 전원의 전류 및 전압을 조절한다. 이에 의해, 본 발명의 전반사형 1×2 광 스위치(200)는 광신호의 세기를 조절하는 가변 광 감쇄기(VOA)로도 사용 가능하다.
도 11a 내지 도 11e는 본 발명에 따른 전반사형 광 스위치의 제조 과정을 도시한 도면들이다. 이 실시예에서는 열광학 폴리머를 이용하는 전반사형 광 스위치의 제조 방법을 설명한다.
도 11a를 참조하면, 전반사형 광 스위치(100)는 평판 광회로 소자(Planer Lightwave Circuit)의 일반적인 실리카 광도파로 제조 공정을 이용한다. 즉, 실리카 기판(102)에는 하부 클래드(104a)를 적층한다. 적층된 하부 클래드(104a)에는 서로 다른 광 경로가 교차하는 실리카 코어(110)를 형성한다. 실리카 코어(110)가 형성된 하부 클래드(104a)의 상부에는 상부 클래드(104b)를 적층한다.
도 11b를 참조하면, 하부 클래드(104a), 실리카 코어(110) 및 상부 클래드(104b)가 적층된 실리카 기판(102)에 트렌치(132)를 형성한다. 트렌치(132)는 상부 클래드(104b), 실리카 코어(110) 및 하부 클래드(104a)를 수직 관통하여 형성된다. 트렌치(132)는 식각 공정, 포토리소그라피(photolithography) 공정 또는 다이싱(Dicing) 공정 등을 이용하여 형성된다. 이 때, 트렌치(132)는 실리카 코어(110)보다 아래쪽 깊이를 갖는다. 즉, 트렌치(132)의 바닥면(132a)은 실리카 기판(102)의 상부와 실리카 코어(110) 하부 사이에 위치된다. 예를 들어, 전반사형 광 스위치(100)가 열광학 폴리머(130)를 이용하는 경우에는 트렌치(132)는 실리카 기판(102)과 실리카 코어(110) 사이에 바닥면(132a)이 위치되도록 형성된다. 전반사형 광 스위치(100)가 전기광학 폴리머(130a)를 이용하는 경우에는 트렌치(132)는 바닥면(132a)이 실리카 기판(102)의 상부면에 접하게 형성된다.
트렌치(132)가 형성된 상부에 도 11c 내지 도 11d에 도시된 바와 같이, 폴리머(130)를 코팅하여 트렌치(132)에 폴리머(130)를 채운다. 폴리머(130)는 스핀 코팅 공정 또는 블레이드 코팅 공정 등을 이용하여 음의 열광학 계수를 가진 재질로 제공된다. 또 폴리머(130)의 굴절률은 열광학 계수를 계산하여 사용 가능 온도에 맞게 적용한다. 이어서 상부의 폴리머(130)를 연마 공정 또는 플라즈마 식각 공정 등을 이용하여 제거한다. 이 때, 상부의 폴리머(130)는 상부 클래드(104b)가 노출되게 제거한다. 이어서 도 11e에 도시된 바와 같이, 트렌치(132)에 삽입된 폴리머(130)의 상단에 패터닝 공정 등을 이용하여 금속 히터(140)를 형성한다.
다른 실시예로서, 전기광학 폴리머(130a)를 이용하는 전반사형 광 스위치(100a)를 제조하는 방법은 다음과 같다. 도 8에 도시된 바와 같이, 실리카 기판(102) 상에 하부 클래드(104a)가 적층되기 전에 하부 전극(106)을 형성한다. 이어, 하부 클래드(104a), 실리카 코어(110) 및 상부 클래드(104b)를 순차적으로 적층하여 트렌치(132)를 형성한다. 폴리머(130a)가 트렌치(132)에 삽입된 다음에는 전기광학 효과를 유발하기 위하여 폴리머(130a)를 폴링(polling)한다. 이어서 폴링된 폴리머(130a)의 상부에 상부 전극(108)을 형성한다. 물론 이 실시예에서 전기 전도가 가능한 기판을 사용하여 하부 전극(106)을 대신할 수도 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 전반사형 광 스위치(100 또는 100a)는 서로 다른 광 경로가 교차되는 실리카 광도파로(110)의 교차되는 위치에 열광학 또는 전기광학 폴리머(130 또는 130a)를 삽입한다. 이에 의해, 본 발명의 전반사형 광 스위치(100 또는 100a)는 실리카 광도파로(110)와 폴리머(130 또는 130a)의 굴절률 차이로 인해 광신호를 투과 또는 전반사한다.
이번에는, 도 12 내지 도 16을 이용하여 또 다른 실시예를 설명한다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전반사형 광 스위치 구조를 이용한 전반사형 1×2 광 스위치의 구성을 나타내는 도면들이다. 도 14a 및 도 14b는 도 12에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치의 전산 모사 결과를 나타내는 도면들이다. 도 15 및 도 16은 도 12에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치에서 폴리머의 굴절률 변화 및 출력 파워 변화를 나타내는 도면들이다. 여기서 도 9 및 도 10의 전반사형 광 스위치(200)와 구분되는 구성에 대해서는 구체적으로 설명하고, 동일한 기능의 구성 요소들에 대한 설명은 생략한다.
먼저, 도 12 및 도 13의 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 본 발명에 따른 폴리머 삽입형 실리카 광도파로 구조를 갖는다.
전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 단일 모드 기반의 실리카 광도파로(202 ~ 206)를 형성한다. 실리카 광도파로(202 ~ 206)는 서로 교차하는 제 1 및 제 2 실리카 광도파로(202 ~ 206)와, 제 1 및 제 2 실리카 광도파로(202 ~ 206)로부터 분기되는 복수 개의 제 3 실리카 광도파로(210 : 212 ~ 216)들을 포함한다.
구체적으로, 제 3 실리카 광도파로(210)는 제 1 및 제 2 실리카 광도파로(202 ~ 206)가 교차되는 위치에서 복수 개가 형성된다. 제 3 실리카 광도파로(210)들은 제 1 및 제 2 실리카 광도파로(202 ~ 206)가 교차되는 위치에서 제 1 실리카 광도파로(202, 204)로 입력되는 광 신호의 진행 방향과 대체로 나란하지 않은 방향으로 분기된다. 예를 들어, 제 3 실리카 광도파로(210)들은 스위칭 부재 즉, 폴리머(230)의 길이 방향에 대체로 수직하게 분기된다.
또 제 3 실리카 광도파로(210)들은 상호 일정 간격이 유지된다. 제 3 실리카 광도파로(210)들은 교차되는 위치를 중심으로 일정 범위 내에서 입력 포트와 출력 포트 방향 양측으로 대칭되게 배열되는 구조를 갖는다.
또 제 3 실리카 광도파로(210 : 212 ~ 216)들은 그 폭이 점차적으로 교차되는 위치를 중심으로 양측 방향으로 갈수록 감소하는 형상을 갖는다. 즉, 입출력 포트 측에 배치되는 제 3 실리카 광도파로(212, 216)들은 교차되는 위치에 배치되는 제 3 실리카 광도파로(214)보다 그 폭이 좁게 제공된다. 예를 들어, 제 3 실리카 광도파로(210 : 212 ~ 216)들은 교차되는 위치에서 약 10 ~ 50 ㎛ 범위 내의 폭으로 배치된다. 여기서 제 3 실리카 광도파로(210)들의 폭을 제한하는 이유는 약 10 ㎛ 미만의 폭에서는 그 특성이 미비하다. 한편, 약 50 ㎛를 초과하는 폭에서는 광도파 방향에서 폭의 넓은 부분이 길어지기 때문에 멀티 모드가 발생될 수 있다. 멀티 모드가 급격하게 발생되면 광손실이 크게 증가하는 등의 문제점이 생길 수 있다.
이러한 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 제 3 실리카 광도파로(210 : 212 ~ 216)들에 의해 입력 포트로 입사되는 광 신호가 교차되는 위치에 삽입된 폴리머 영역을 지나게 되면, 광 신호가 분산되어 약간의 손실이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또, 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 제 3 실리카 광도파로(210 : 212 ~ 216)들을 입력 포트 측으로부터 교차되는 위치까지 폭을 점진적으로 증가시키고, 교차되는 위치에서 출력 포트 측으로 점차 감소시킨다. 이에 의해, 광전송시 광손실을 최소화하여 안정화를 도모할 수 있다.
또 전반사형 1×2 광 스위치(200a)를 광통신 소자에 적용되었을 경우에는 입출력 포트가 구분되어 있다. 그러나, 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 실제로 양방향 통신이 가능하다. 이에 의해, 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 입출력 포트의 방향이 변경될 수 있도록 제 3 실리카 광도파로(210)들을 교차되는 위치를 중심으로 입출력 포트 양측 방향으로 대칭되는 구조로 구현된다.
그러므로 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 제 3 실리카 광도파로(210)들을 이용하여 광도파 모드에서의 광손실을 방지한다. 그에 따라, 도 9의 전반사형 1×2 광 스위치(200) 보다 제 1 및 제 2 실리카 광도파로(202 ~ 206)의 광도파 모드의 특성을 향상시켜서 광 스위치 기능을 개선할 수 있다. 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 도 16에 도시된 바와 같이, 도 9 및 도 10에 도시된 전반사형 1×2 광 스위치(200)의 구조보다 약 2 % 정도의 광전송 손실에서 이득이 있다.
또한 전반사형 광 스위치(200a)는 도 15에 도시된 바와 같이, 폴리머(230)의 굴절률(Polymer RI) 변화에 따른 제 1 및 제 2 출력 포트(Pass port, Reflective port)(OUTPUT-1, OUTPUT-2)의 광신호 파워를 조절할 수 있다. 따라서, 전반사형 광 스위치(200a)는 폴리머(230)의 굴절률을 조절하여 폴리머(230)에서 전반사가 이루어질 수 있는 최적의 조건을 결정할 수 있다.
도 14a 내지 도 14b를 참조하면, 이 실시예의 전산 모사는 도 10의 전산 모사와 동일한 조건으로 측정한다. 즉, 0.4 %의 굴절률 차이를 갖는 단일 모드 실리카 광도파로(202 ~ 206)에서 폴리머(230)의 굴절률을 0.0015 크기 변화시켰을 때의 전반사형 1×1 광 스위치(200)가 동작되는 것을 나타낸 것이다.
따라서 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 도 14a에 도시된 바와 같이, 히터(도 9의 240) 또는 상하부 전극(도 8의 106, 108)에 전원을 인가하지 않는 오프 상태에서 입력 포트(INPUT)로 입력된 광신호를 폴리머(230)에서 투과시킨다. 그에 따라, 광신호는 제 1 출력 포트(OUTPUT-1)로 전송된다. 또 전반사형 1×2 광 스위치(200a)는 히터(240) 또는 상하부 전극(106, 108)에 전원을 인가한 온 상태에서는 도 14b에 도시된 바와 같이, 입력된 광신호를 폴리머(230)에서 전반사시킨다. 그에 따라, 광신호는 제 2 출력 포트(OUTPUT-2)로 전송된다.
이상에서, 본 발명에 따른 전반사형 광 스위치의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였다. 이는 실시예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.

Claims (17)

  1. 전반사형 광 스위치에 있어서:
    기판과;
    상기 기판에 형성되어 서로 다른 광 경로를 갖도록 교차되는 실리카 광도파로 및;
    상기 실리카 광도파로의 교차되는 위치에 상기 실리카 광도파로의 단면이 관통되게 삽입되고, 상기 실리카 광도파로에 입력된 광신호의 상기 광 경로를 변경하도록 스위칭하는 스위칭 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전반사형 광 스위치는 상기 스위칭 부재를 가열하는 히터를 더 포함하되;
    상기 스위칭 부재는 상기 히터에 의해 가열되지 않으면 상기 광신호를 투과하고, 상기 히터에 의해 가열되면 굴절률이 낮아져서 상기 광신호를 전반사하는 열광학 폴리머로 구비되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 전반사형 광 스위치는;
    상기 스위칭 부재의 상하 양측에 각각 설치되고, 전원을 공급받아서 상기 스위칭 부재에 전계를 형성하는 상부 및 하부 전극들을 더 포함하되;
    상기 스위칭 부재는 전계가 형성되지 않으면 상기 광신호를 투과하고, 상기 상부 및 상기 하부 전극들에 의해 전계가 형성되면 귤절률이 낮아져서 상기 광신호를 전반사하는 전기광학 폴리머로 구비되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 전반사형 광 스위치는;
    상기 히터 또는 상기 상부 및 상기 하부 전극들로 인가되는 전원을 조절하여 상기 광신호의 세기를 조절하는 가변 광감쇄기로 사용 가능한 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  5. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 스위칭 부재는 하부면이 상기 기판과 상기 실리카 광도파로 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스위칭 부재는 음의 열광학 계수 값을 갖고, 상기 실리카 광도파로와 굴절률이 동일한 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  7. 전반사형 광 스위치에 있어서:
    기판에 형성되어 입력 포트와 제 1 출력 포트를 연결하는 제 1 실리카 광도파로와, 상기 제 1 실리카 광도파로와 교차되고 제 2 출력 포트에 연결되는 제 2 실리카 광도파로를 구비하는 실리카 광도파로와;
    상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로가 교차되는 위치에 제공되며, 상기 입력 포트로 입력되는 광신호를 상기 제 1 실리카 광도파로 또는 상기 제 2 실리카 광도파로로 출력하도록 스위칭하는 열광학 폴리머 및;
    상기 열광학 폴리머를 가열하는 히터를 포함하되;
    상기 열광학 폴리머는 상기 히터에 의해 상기 광신호를 상기 제 1 출력 포트로 투과하거나 상기 제 2 출력 포트로 전반사하는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  8. 전반사형 광 스위치에 있어서:
    기판에 형성되어 입력 포트와 제 1 출력 포트를 연결하는 제 1 실리카 광도파로와, 상기 제 1 실리카 광도파로와 교차되고 제 2 출력 포트에 연결되는 제 2 실리카 광도파로를 구비하는 실리카 광도파로와;
    상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로가 교차되는 위치에 제공되며, 상기 입력 포트로 입력되는 광신호를 상기 제 1 실리카 광도파로 또는 상기 제 2 실리카 광도파로로 출력하도록 스위칭하는 전기광학 폴리머 및;
    상기 전기광학 폴리머의 상하 양측에 각각 설치되고, 전원을 공급받아서 상기 전기광학 폴리머에 전계를 형성하는 상부 및 하부 전극들을 포함하되;
    상기 전기광학 폴리머는 전계가 형성되지 않으면 상기 광신호를 상기 제 1 출력 포트로 투과하고, 상기 상부 및 상기 하부 전극들에 의해 전계가 형성되면 귤절률이 낮아져서 상기 광신호를 상기 제 2 출력 포트로 전반사하는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 전반사형 광 스위치는;
    상기 히터 또는 상기 상부 및 하부 전극들로 인가되는 전원을 조절하여 상기 광신호의 세기를 조절하는 가변 광감쇄기로 사용 가능한 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  10. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 실리카 광도파로는;
    상기 교차되는 위치에 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 광도파로에서 상기 열광학 폴리머 또는 상기 전기광학 폴리머의 길이 방향에 대체로 수직하게 분기되고, 상호 일정 간격이 유지되는 복수 개의 제 3 실리카 광도파로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 3 실리카 광도파로들은 상기 교차되는 위치를 중심으로 상기 입력 포트와 상기 출력 포트 방향으로 배열되어 대칭 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 3 실리카 광도파로들은 상기 교차되는 위치를 중심으로 하여 상기 입력 포트와 상기 출력 포트 방향으로 갈수록 폭이 좁아지게 제공되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치.
  13. 전반사형 광 스위치의 제조 방법에 있어서:
    실리카 기판에 하부 클래드를 적층하고;
    상기 하부 클래드에 서로 다른 광 경로가 교차하는 실리카 코어를 형성하고;
    상기 실리카 코어가 형성된 상기 하부 클래드 상에 상부 클래드를 적층하고;
    바닥면이 상기 기판과 상기 실리카 코어 사이에 위치되도록 상기 상부 클래드로부터 상기 실리카 코어로 수직 관통하여 트렌치를 형성하고; 이어서
    상기 트렌치에 폴리머를 삽입하는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 방법은;
    상기 폴리머의 상부에 히터를 형성하는 것을 더 포함하되;
    상기 폴리머는 상기 히터에 의해 상기 실리카 코어에 입력된 광신호를 스위칭하는 열광학 폴리머 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치의 제조 방법.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 방법은;
    상기 실리카 기판 상에 상기 하부 클래드가 적층되기 전에 하부 전극을 형성하고, 상기 폴리머의 상부에 상부 전극을 형성하는 것을 더 포함하되;
    상기 폴리머는 상기 상부 및 상기 하부 전극들에 의해 상기 실리카 코어에 입력된 광신호를 전반사하는 전기광학 폴리머 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치의 제조 방법.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 실리카 코어를 형성하는 것은;
    제 1 광 경로를 형성하는 제 1 실리카 코어와, 상기 제 1 실리카 코어에 교차하고 제 2 광 경로를 형성하는 제 2 실리카 코어 및, 상기 제 1 및 상기 제 2 실리카 코어들로부터 상기 폴리머의 길이 방향에 대해 대체로 수직하게 복수 개가 분기되고, 상기 제 1 및 제 2 실리카 코어가 교차되는 교차점을 중심으로 하여 양측으로 상호 이격되어 대칭되게 배열되고, 그리고 상기 교차점을 중심으로 상기 양측으로 갈수록 폭이 좁아지게 제공되는 제 3 실리카 코어를 포함하여 형성하는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치의 제조 방법.
  17. 제 13 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리머는 음의 열광학 계수 값을 갖고, 상기 실리카 코어와 동일한 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 전반사형 광 스위치의 제조 방법.
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