WO2011104171A1 - Appareil lithographique et procédé associé de fabrication d'un dispositif - Google Patents

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Pieter De Jager
Johannes Onvlee
Erwin Van Zwet
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Asml Netherlands B.V.
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Abstract

L'invention concerne un appareil lithographique comportant une colonne optique qui permet de créer un motif sur une partie cible d'un substrat. Cette colonne optique comporte un dispositif programmable de formation de motifs conçu pour obtenir une pluralité de faisceaux de rayonnement et un système de projection conçu pour projeter ladite pluralité de faisceaux sur le substrat. Cet appareil peut comporter un actionneur pour déplacer la colonne optique, ou une partie de celle-ci, par rapport au substrat. La colonne optique peut être agencée pour projeter au moins deux de la pluralité de faisceaux sur la partie cible du substrat, par une même lentille d'une pluralité de lentilles du système de projection.
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