WO2011080058A1 - Radiation emitting light-guiding device for illumination, module having a radiation emitting light-guiding device and method for producing a radiation emitting light-guiding device - Google Patents

Radiation emitting light-guiding device for illumination, module having a radiation emitting light-guiding device and method for producing a radiation emitting light-guiding device Download PDF

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WO2011080058A1
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light guide
support plate
semiconductor
emitting
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Siegfried Herrmann
Stefan Illek
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Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • G02B6/0081Mechanical or electrical aspects of the light guide and light source in the lighting device peculiar to the adaptation to planar light guides, e.g. concerning packaging
    • G02B6/0083Details of electrical connections of light sources to drivers, circuit boards, or the like

Definitions

  • the present invention relates to a
  • a radiation-emitting device having a light guide and a support plate on which a radiation-emitting
  • the invention relates to a method for producing such
  • a radiation-emitting device and a module with a plurality of such radiation-emitting devices are provided.
  • Radiation-emitting devices are used, for example, for the backlighting of lighting modules, such as flat screens. These are always smaller device dimensions, such as the
  • Lighting modules desired a homogeneous radiation characteristic of the devices.
  • the invention is based on the object
  • a radiation-emitting device is provided with a light guide and at least one support plate, wherein the support plate forms a main plane and has at least one partial region that is at an angle to the main plane.
  • the portion and the support plate are integrally formed.
  • On the subarea is a
  • the light guide is arranged on the carrier plate and has at least one cavity in which the partial region is arranged.
  • the carrier plate and the light guide are
  • Part of the support plate and the cavity of the light guide within the device occupy the same area of the device, so that the light guide and the support plate directly can be mechanically connected to each other, without causing a distance between the support plate and the
  • the size of the cavity of the light guide is preferably to the size of the sub-area including the
  • the optical waveguide thus completely surrounds the subarea and the radiation-emitting semiconductor component arranged thereon, wherein preferably only one distance, which is necessary for mounting the optical waveguide on the carrier plate, is arranged between the subarea and the subarea
  • Light guide is formed.
  • the light guide is preferably provided with a main surface of
  • Carrier plate mechanically connected more preferably, the mechanical connection is positive and non-positive.
  • the cavity of the light guide preferably forms a
  • the cavity is arranged in particular on the side facing the carrier plate of the light guide.
  • the side facing away from the carrier plate side of the light guide thus preferably has no cavity and is thus formed over the entire surface.
  • radiation-emitting device having an optical waveguide, at least one carrier plate, which forms a main plane, and at least one radiation-emitting
  • the carrier plate has at least one opening.
  • the radiation-emitting Semiconductor component has a lateral expansion plane, which is at an angle to the main plane, and is guided at least partially through the opening of the carrier plate.
  • the light guide is on the
  • Radiation-emitting semiconductor device facing side of the carrier plate arranged.
  • the lateral expansion plane is to be understood in particular as the plane of the semiconductor component which is perpendicular to a main emission direction of the component.
  • the breakthrough of the carrier plate preferably has a rectangular or prismatic shape.
  • prismatic or rectangular breakthrough is preferably the semiconductor device, preferably also in
  • a radiation-emitting surface of the semiconductor component is preferably arranged above the carrier plate.
  • the semiconductor device is thus vertical to
  • Main plane of the support plate mounted, and is integrated with an extended electrical connection area in the opening of the support plate. For electrical contacting takes place a conductor passage through the
  • the light guide can be arranged directly on the support plate.
  • the optical fiber has at least one Cavity, in which the semiconductor device is arranged.
  • the light guide is a glass plate or a casting plate.
  • the light guide may alternatively be a light guide foil, for example a diffuser foil.
  • the optical fiber does not necessarily have to have a cavity.
  • the light guide can be arranged on the side facing away from the carrier plate side of the semiconductor device.
  • Such a device designed is advantageously formed particularly flat.
  • the semiconductor component emits radiation preferably along the main plane of the carrier plate.
  • the semiconductor device has a small lateral extent of at most 100 ⁇ , which are advantageously barely perceptible by an observer with the naked eye.
  • the heat element can by the breakthrough of
  • the semiconductor device and / or the heat element can thereby electrically by means of metallic spring contacts
  • the carrier plate has a plurality of openings.
  • the device comprises a plurality of semiconductor devices, each of which is passed through an aperture.
  • a radiation-emitting surface of the semiconductor components is in each case preferably arranged above the carrier plate, wherein the radiation-emitting surfaces are each preferably directed in the same direction.
  • the radiation-emitting semiconductor component preferably has an active layer for generation
  • the active layer preferably has a pn junction for generating radiation.
  • the semiconductor component is preferably designed as a "substrateless semiconductor component.” As "substrateless
  • the growth substrate on which a semiconductor layer sequence for example epitaxially grown
  • substrateless components preferably have no carrier.
  • Substrate-less components are for example in the
  • Substrate-free semiconductor components preferably have a p-doped semiconductor layer and an n-doped one
  • the semiconductor device preferably emits light in two main emission directions. there is the emission in both main emission directions
  • Arsenide compound semiconductor Based on nitride, phosphide or arsenide compound semiconductors means in
  • the height of the individual substrateless components is preferably less than 50 ym.
  • the semiconductor component may further be formed as a flip-chip component.
  • both of the semiconductor component may further be formed as a flip-chip component.
  • Light exit surface of the device is electrically isolated from each other isolated (flip-chip technology), so that the device can be mounted directly without further connecting wires with the contacting side to the support plate.
  • a light-emitting diode which is electrically contacted by flip-chip technology, and a method for the production thereof, for example, from
  • the carrier plate preferably has a metal, particularly preferably the carrier plate is a metal foil or a metal plastic composite foil.
  • the portions are formed in the support plate, wherein the portions are then bent out of the main plane of the support plate so that they are at an angle to the main plane.
  • the main plane of the carrier plate preferably tensions an x-y plane and thus has no z-component.
  • Semiconductor device preferably protrudes from the x-y plane, so preferably has an x-component, a y-component and a z-component.
  • the angle is in a range between 45 and 95 ° inclusive inclusive.
  • the angle is in a range between 85 ° and 95 ° inclusive.
  • the subregion is perpendicular to the main plane of the carrier plate.
  • Semiconductor device preferably runs perpendicular to the extension of the subregion. If the angle is therefore about 90 °, the main emission direction of the
  • the light guide preferably leads the light emitted by the semiconductor component Radiation along a main extension direction of the
  • the light guide on scattering particles.
  • the radiation emitted by the semiconductor component can be scattered homogeneously in all spatial directions. This will be in the
  • the light guide has a glass or one for the radiation emitted by the semiconductor component
  • transparent film for example, a glass sheet.
  • the light guide is a diffuser.
  • a diffusing screen is inter alia a light guide to be understood with scattering particles contained, in which the of the active layer of the semiconductor device
  • the device preferably has a
  • the radiation decoupling surface of the device may be formed, for example, on a side surface of the light guide. In this case, the
  • the radiation decoupling surface of the device from the surface facing away from the carrier plate of the
  • the device has a thickness in a range between 0.75 mm and 1.25 mm. More preferably, the thickness is less than or equal to 1 mm.
  • miniaturized device in particular for
  • Backlighting different lighting modules can be used, can be achieved with advantage.
  • Optical fiber on the carrier plate facing surface and / or the side surfaces on a mirror layer.
  • Support plate facing surface of the light guide with a metallic coating such as a
  • the carrier plate as a mirror layer
  • Radiation exit surface of the device are coupled out. If the side surfaces of the optical waveguide are mirrored, the radiation exit surface is arranged on the surface of the optical waveguide facing away from the carrier plate.
  • the radiation decoupling structures are in particular at the surface provided for the radiation decoupling
  • Support plate extends.
  • the light guide is designed as a horizontal cylinder, wherein a lateral surface of the light guide
  • a cavity is partially arranged, in which the portion of the support plate
  • the expansion of the cavity is preferably adapted to the size of the partial area. This means that the depth of the cavity preferably corresponds to the height of the subregion, which preferably extends perpendicular to the main plane of the carrier plate. In a further preferred embodiment, the
  • Support plate shaped so that it rests completely on the lateral surface of the light guide.
  • the support plate is therefore itself as a lateral surface
  • the lateral surface of the light guide is not completely enclosed by the carrier plate. In particular, only at a portion of the lateral surface of the light guide is the
  • the remaining portion of the lateral surface preferably forms the radiation output surface of the
  • the clamp is preferably a copper clamp.
  • the clamp is in direct contact with the molded carrier plate.
  • the carrier plate is preferably designed to be electrically conductive.
  • the device is by means of two terminals, in particular Copper terminals, mechanically fastened, wherein the terminals are preferably arranged on two opposite edge regions of the light guide.
  • the terminals are preferably arranged on two opposite edge regions of the light guide.
  • a radiation-emitting semiconductor component is arranged, on which in each case a radiation-emitting semiconductor component is arranged.
  • Semiconductor device is preferably in each case
  • the carrier plates are preferably mechanically connected to one another with an electrically insulating layer.
  • the carrier plates preferably have one another
  • Semiconductor components are arranged such that their emitted radiation is coupled into the optical waveguide and guided therein.
  • the semiconductor components are on two opposite sides of the light guide
  • Radiation characteristic of the device is achieved.
  • the radiation outcoupling side of the device is located in this case on the side remote from the carrier plate side of the light guide.
  • the light guide in this case has a plurality of cavities, in each of which a partial region of a carrier plate is arranged, on each of which a radiation-emitting semiconductor component is arranged.
  • the support plates are in this embodiment advantageously not mirror-symmetrical, but congruent and arranged in series.
  • Support plates are covered by a common light guide, which has a respective cavity corresponding to the formed partial regions.
  • Each carrier plate preferably has a partial region on which a respective radiation-emitting semiconductor component is arranged, wherein the radiation-emitting elements
  • Semiconductor devices are preferably connected in series.
  • Component is guided to an adjacent support plate, said electrical contact is electrically isolated from the own support plate by means of an electrically insulating layer.
  • a second contact of the respective semiconductor component is preferably guided over the respective own carrier plate.
  • connection contacts preferably metal contacts, on. These may preferably be designed as heat sinks.
  • the light guide is transparent to the radiation emitted by the semiconductor components.
  • the optical fiber has glass or a transparent plastic.
  • the conversion plate preferably converts a radiation of one wavelength emitted by the semiconductor component into radiation of a different wavelength.
  • an effective color mixing in the light guide can advantageously be achieved, in the event that a plurality of semiconductor components are used which emit radiation of different wavelengths in each case.
  • a module according to the invention preferably has a plurality of radiation-emitting devices according to the invention, which are preferably arranged side by side in a row or as a matrix, particularly preferably adjacent ones
  • Devices are mechanically interconnected.
  • the optical fibers of the individual device are in direct contact with adjacent optical fibers.
  • Adjacent carrier plates are particularly preferably connected to one another mechanically by means of an electrically insulating layer.
  • Such modules are particularly advantageous for the backlighting of lighting units, such as flat screens or LCDs (LCD: "Liquid Crystal Display”).
  • a module can be achieved with advantage, which has a low module height and at the same time a
  • a method for producing a radiation-emitting device comprises the following method steps:
  • insulating material for example plastic
  • conductor tracks are applied to the electrically insulating material, which serve for electrical contacting of the semiconductor component.
  • the semiconductor device is by means of a
  • the subregions are mechanically deformed such that a desired emission angle of the
  • the device is integrated into a lighting unit.
  • the support plate is in an injection mold for applying the light guide
  • the optical fiber is produced by means of an injection molding process.
  • a casting method for producing the optical fiber is used.
  • a cylindrical optical waveguide can be produced, wherein the subregions and the radiation-emitting semiconductor components disposed thereon are directly encapsulated or encapsulated with material of the optical waveguide, so that no distance between material of the optical waveguide
  • Fiber optic and sub-area and / or semiconductor device is formed.
  • the device is potted with a plastic.
  • Figure 2 is a schematic diagram of another
  • Figures 6, 15C each show a schematic representation of a
  • Embodiment of a radiation-emitting semiconductor device which in a
  • Figures 7, 18A, 18B each show a schematic representation of an embodiment of a light guide for a device according to the invention. Identical or equivalent components are each provided with the same reference numerals. The illustrated
  • FIG. 1 shows a schematic view of a
  • a radiation-emitting device comprising a
  • the support plate 1 forms a main plane 11 and has a portion 12 on.
  • the portion 12 and the support plate 1 are integrally formed.
  • the main plane 11 lies, for example, in an x-y plane, thus has a horizontal course and points
  • the partial region 12 is at an angle to the main plane of the carrier plate 1, so that the partial region protrudes from the x-y plane, ie has an x component, a y component and a z component.
  • the portion 12 is substantially perpendicular to the main plane eleventh
  • the carrier plate 1 is a metal plate, a metal foil or a metal plastic composite foil. By means of a punching or etching process are doing in the
  • Support plate 1 the portion 12 formed and formed by mechanical deformation such that the portion 12 is at the angle to the main plane 11.
  • the carrier plate 1 thus has an area in the main plane
  • the light guide 2 On a surface of the support plate 1, the light guide 2 is arranged, in particular positively and non-positively connected to a surface of the support plate 1.
  • the light guide 2 is arranged on the side of the support plate 1, on which the portion 12 is formed.
  • the light guide 2 preferably has a cavity 21 (not shown), in which the partial area 12 is arranged, in particular protrudes.
  • Semiconductor device 3 is arranged, which has a
  • the radiation-emitting surface 32 of the radiation-emitting semiconductor component 3 extends along the plane of extent of the partial region 12.
  • portion 12 is therefore substantially perpendicular to the main plane 11 of the support plate 1, so is the
  • the radiation emitted by the radiation-emitting semiconductor component runs essentially along
  • the radiation-emitting semiconductor device 3 is
  • a semiconductor body for example an LED or an LED chip, which has an active layer.
  • the active layer is in particular designed such that it is suitable for generating radiation.
  • the semiconductor component is preferably a light-emitting diode chip, which is designed in particular as a substrateless chip. As a substrateless chip is considered in the context of the application, a chip during its production, the growth substrate, on the one
  • Semiconductor layer sequence comprising the semiconductor body, for example epitaxially grown, has been completely detached and has no carrier.
  • the chip is composed of an n-doped semiconductor layer and a p-doped semiconductor layer, wherein an active, for
  • Radiation generation is formed suitable pn junction.
  • the semiconductor layers preferably comprise a III / V compound semiconductor material.
  • a III / V compound semiconductor material comprises at least one element of the third main group such as Al, Ga, In, and a fifth main group element such as
  • Term I I I / V compound semiconductor material is the group of binary, ternary and quaternary compounds which
  • Such a binary, ternary and quaternary compound may also contain, for example, one or more dopants and additional constituents
  • a converter plate 34 may be arranged, which is the one of the
  • Wavelength is converted into radiation of a second wavelength, so that the device comprises mixed radiation comprising
  • the cavity of the light guide 2 is preferably formed in the region of the partial region 12 of the carrier plate 1.
  • the size of the cavity is related to the size of the cavity
  • Support plate 1 connects.
  • the light guide 2 does not protrude laterally beyond the support plate 1 in a plan view of the device.
  • the light guide 2 preferably has scattering particles on which the radiation emitted by the semiconductor component and / or the converted radiation are homogeneously scattered in all spatial directions. This can be an efficient
  • Support plate 1 are electrical connection contacts. 6
  • connection contacts 6 an electrically insulating layer is arranged, which electrically isolated from the carrier plate and the terminal contacts from each other (not shown).
  • Layer are preferably two openings, so-called “via", out, are guided by the conductor tracks, which the radiation-emitting semiconductor device 3 with the
  • Connecting contacts 6 electrically connect with each other (not shown). These are the tracks on the of the
  • connection contacts remote surface of the support plate 1 and guided on the portion 12 to the semiconductor device 3 and electrically connected, wherein an electrical insulation, for example, an electrically insulating layer is provided between the conductor tracks, the support plate and the subregion.
  • connection contacts 6 Connected laterally to the connection contacts 6 is an electrically insulating layer 5, which can serve, for example, to connect the device shown in FIG. 1 in series to further devices, as shown for example in FIG. 1, and to connect them mechanically.
  • the device has a main emission direction 4, which in the present exemplary embodiment is formed laterally of the device and by means of an arrow in FIG. 1
  • the device of the embodiment of Figure 1 is thus a side emitter, a so-called
  • Radiation decoupling 24 arranged, which provides a homogeneous radiation over the entire
  • the radiation decoupling surface 22 has a roughening or
  • three-dimensional structures such as pyramids or domes, for light extraction.
  • Mirror layer 23 for example, a silver layer, so that the of the semiconductor device 3
  • the support plate 1 and the light guide 2 are in the
  • Embodiment of Figure 1 each rectangular in shape.
  • the light guide 2 is for example a
  • Light distribution plate such as a glass plate or a plastic plate, for those of the
  • the carrier plate is a metal foil and the light guide is a plastic light guide.
  • the composite plastic and metal is an effective heat sink, so that the heat generated during operation of the device can be effectively dissipated from the semiconductor device to the outside. Furthermore, this composite technique is advantageously inexpensive.
  • the entire structure of the device is advantageously very flat and essentially determined by the dimensions of the light guide 2.
  • Such devices are for example due to the large radiation decoupling surface 22 and the flat design for the backlighting of flat screens and LCDs suitable.
  • the device is designed in particular as a surface-mountable component which can be installed in an electronics-compatible manner (SMT components: "Surface Mounted Technology”) .
  • SMT components "Surface Mounted Technology"
  • the device is distinguished by a cost-effective design and by a cost-effective production method.
  • FIG. 2 shows a schematic diagram of an exemplary embodiment of a device which has a plurality of
  • Radiation-emitting semiconductor devices 3 has.
  • the light guide of the device is in the
  • the device of FIG. 2 has four radiation-emitting semiconductor components 3, which are preferably substrateless light-emitting diode chips. Such light-emitting diode chips are known to the person skilled in the art, for example, from the document DE 10 2007 004 304, the disclosure content of which is hereby explicitly incorporated by reference.
  • the semiconductor devices 3 each have
  • Radiation emitting surfaces 32 from which the emitted radiation from the semiconductor devices exits from these and is coupled into the optical waveguide.
  • two semiconductor devices 3 are arranged on opposite sides of the carrier plate 1.
  • the radiation-emitting surfaces 32 of the respective opposing semiconductor components 3 are arranged such that they are emitted by the respective semiconductor components Radiation is directed in the direction of the opposite semiconductor device 3.
  • the radiation emitted by the individual semiconductor components 3 is thus guided into the optical waveguide, where it is preferably scattered due to scattering particles in such a way that it is homogeneous
  • Distribution of the radiation takes place in the light guide.
  • the radiation output surface of the device is formed in the embodiment of Figure 2 on the side remote from the carrier plate surface of the light guide.
  • Device of Figure 2 is therefore a surface emitter or a vertical emitter.
  • the main emission direction 4 of the device and the
  • Radiation over the entire radiation output surface 22 can be achieved.
  • semiconductor devices are used, each having radiation in another
  • Wavelength range and therefore emit in another color locus, through the light guide and the therein
  • an efficient light mixture can be achieved, resulting in a total of a homogeneously colored radiation decoupling surface, in particular luminous surface results.
  • an efficient color mixing takes place in the light guide.
  • FIG. 1 Views of a device shown, which in particular has two radiation-emitting semiconductor devices 3.
  • the semiconductor devices 3 are arranged according to the principle shown in Figure 2, that is the
  • Semiconductor devices 3 are each aligned such that the radiation emitted by the devices 3 in
  • Light guide arranged scattering particles is homogeneously distributed.
  • the devices are arranged mirror-inverted to each other.
  • the mirror plane is arranged perpendicular to the carrier plate 1 in the region of the electrically insulating layer 5.
  • the light guide 2 of the device expands over the two radiation-emitting semiconductor components.
  • the light guide 2 is formed in one piece and closes the device from one side.
  • the extension of the light guide preferably corresponds to the sum of
  • the light guide has two cavities, which have been produced for example by means of a sandblasting process.
  • the cavities of the light guide 2 are in accordance with the respective sub-areas and the radiation-emitting
  • the electrical contacting of the semiconductor components is formed by conductor tracks, wherein the radiation-emitting semiconductor components are connected in series.
  • the semiconductor components by means of a conductor track directly
  • Semiconductor devices 3 serve, are guided by means of openings through the respective support plate 1 and through an electrically insulating layer to terminal contacts 6, which on the opposite side of the optical fiber of the
  • connection contacts 6 are preferably metal contacts.
  • Figure 3A is thus a surface emitter.
  • the optical waveguide 3 may preferably have mirrored side surfaces and a mirrored surface facing the carrier plate 1, so that the radiation generated in operation for the
  • Radiation decoupling surface is directed out of the device.
  • FIG. 3A is identical to the embodiment of FIG.
  • Figure 3B is a schematic cross section of a
  • FIG. 3B the semiconductor devices 3 are not as in FIG.
  • the support plate 1 four openings, so-called vias, on, wherein in each case an electrical connection of a semiconductor device 3 is guided by a respective conductor track through an opening and on the side facing away from the light guide 2 side
  • connection contacts 6 in particular metal contacts, externally electrically contacted.
  • the terminal contacts 6 are for this purpose by means of a distance from each other electrically isolated from each other to a
  • the thickness D of the device is preferably in a range between 0.8 mm and 1.5 mm, more preferably between 0.9 mm and 1.1 mm.
  • the length L of the device is preferably in the centimeter range.
  • FIG. 3C is a schematic exploded view of FIG.
  • the carrier plates 1 of the individual devices are mechanical by means of an electrically insulating layer 5
  • connecting contacts 6 are arranged, which are separated from the carrier plates by means of a further electrically insulating layer are electrically isolated (not shown).
  • Support plate 1 a light guide 2 is placed, each having a cavity in the region of the semiconductor devices.
  • the light guide 2 can thus be plugged onto the carrier plate 1, wherein the semiconductor components find space in the respective cavity.
  • the remaining area of the light guide takes place between the support plate 1 and the
  • Optical fiber 2 a positive mechanical connection instead.
  • FIGS. 3B and 3C correspond to the exemplary embodiment of FIG. 3A.
  • FIGS. 4A to 4C each show a device
  • the carrier plates 1 have no mirror symmetry but are each designed and arranged identically to one another.
  • the device is prior to the method step of deforming the partial regions 12 of the carrier plates 1
  • Support plate 1 is a semiconductor device 3, respectively
  • the semiconductor devices are each about
  • FIG. 4B shows the method step of applying the
  • the subregions 12 of the respective carrier plates 1 are already shaped such that they are substantially perpendicular to the respective main plane of the carrier plates 1.
  • the light guide 3 has a plurality of cavities 21, which are formed for example by means of a sandblasting process. In this case, the cavities 21 are each arranged in regions of the optical waveguide 3 which coincide with the subregions 12 of the carrier plates 1.
  • the light guide 2 can so on the
  • Carrier plates 1 are arranged directly and mechanically connected to these. The sections and the ones on it
  • arranged radiation-emitting semiconductor devices 3 are arranged in each case a cavity 21 of the light guide 2 or the subregions 12 and the
  • the light guide 2 is preferably made of an electrically insulating and radiation-permeable or transparent material.
  • the support plates 1 facing surface of the light guide 2 a are preferably made of an electrically insulating and radiation-permeable or transparent material.
  • the mirror layer 23 is preferably electrically insulated from the carrier plates 1, for example by means of an electrically insulating layer.
  • FIG. 4C shows the electrical contacting of the semiconductor components in greater detail. In particular, in the embodiment of Figure 4C is the
  • the semiconductor devices 3 are in series with each other
  • FIGS. 4A to 4C corresponds to the embodiment of FIGS. 3A to 3C.
  • Radiation-emitting semiconductor devices 3 has. Although the representation of the embodiment of Figure 5 differs from the representation of the embodiment of Figure 3A in part, these embodiments are in the
  • the individual semiconductor components 3 are each arranged on different sides of the device, wherein the radiation-emitting surface 32 of the individual
  • Radiation-emitting semiconductor devices 3 are directed into the interior of the light guide 2.
  • the semiconductor components preferably emit at least partially radiation in different wavelength ranges. The of the
  • Light guide 2 is coupled and guided and scattered in this so that a homogeneous light mixture of the individual emitted from the semiconductor devices radiations results. This can be a homogeneous with advantage
  • Radiation decoupling surface 22 of the device can be achieved.
  • LCDs Liquid Crystal Display
  • the device is achieved with advantage that the light of the individual radiation-emitting semiconductor devices 3 is generated directly in the light guide 2 and fanned out there.
  • the radiation-emitting semiconductor components are integrated in the optical waveguide 2 by means of the cavities formed in the optical waveguide 2. This arrangement
  • the device is advantageously particularly flat and inexpensive to produce.
  • Semiconductor component 3 shown, for example, for a device of the embodiments of Figures 1 to 5 suitable is.
  • the radiation-emitting semiconductor component 3 has semiconductor layers 33 which are suitable for generating electromagnetic radiation.
  • Semiconductor layers 33 have a radiation-emitting surface 32, on which a converter plate 34 for the conversion of the generated by the semiconductor layers
  • the semiconductor component 3 has a first and a second contact, by means of which the semiconductor layers are electrically contactable.
  • the first and the second contact are electrically connected externally by means of conductor tracks.
  • the first contact, the second contact and the semiconductor layers are arranged on a common carrier 35 which
  • FIGS. 7A and 7B show views of a light guide 2 which can be used, for example, for a device according to the exemplary embodiment of FIG. 4B.
  • FIG. 7A shows a plan view of a light guide 2.
  • the light guide 2 is particularly suitable for a device which has a plurality of radiation-emitting elements
  • Optical fiber 2 a plurality of cavities 21, the
  • the light guide 2 may, for example, round or
  • the symmetry of the disposed cavities 21 is a mirror symmetry and / or axis symmetry.
  • the diameter of the light guide 2 is for example about 100 mm, preferably in a range between 99 mm and 100 mm.
  • the thickness is for example about 1 mm.
  • the distances Di of the individual cavities 21 to one another are, for example, in a range between 9 mm and 11 mm inclusive, preferably 10 mm, whereby in this case the respective centers of the cavities are taken as reference.
  • the cavities 21 each have spacings D 2 relative to one another, which lies in a range of between 19 mm and 21 mm, for example 20 mm.
  • the distance D3 is preferably in a range between 39 mm and 41 mm inclusive, for example 40 mm.
  • the cavities have a preferred width Bi of from 0.1 to 0.5 mm, for example 0.3 mm.
  • FIG. 7B shows a section through the light guide 2, which lies in particular in a region between the markings A, A from the embodiment of FIG. 7A.
  • the cavities 21 run funnel-shaped, the width Bi being in a preferred range between 0.1 mm and 0.5 mm, for example 0.3 mm, and the width B 2 in a preferred range between 0.4 mm and 0 inclusive , 8 mm, for example 0.6 mm.
  • FIG. 8 shows a schematic view of a device which has a plurality of radiation-emitting elements
  • Semiconductor devices 3 on a support plate 1 shows.
  • the semiconductor components 3 each have a common
  • Main emission direction 31 wherein the radiation is coupled in each case in the light guide 2 and there in such a way
  • Semiconductor devices can be connected in parallel or separately electrically connected separately.
  • the light guide 2 preferably has one each
  • Mirror layer preferably a silver mirror
  • the sides of the semiconductor components which lie opposite the radiation-emitting surface, have a mirror layer 23. This is the advantage of the individual components
  • Support plate 1 opposite surface of the light guide 2 is formed.
  • the radiation decoupling surface 22 on a roughening, so that the
  • the semiconductor components 3 preferably each have a converter plate 34 on the radiation-emitting
  • Semiconductor device for example, about 6 ym thin, and the converter plate, which is for example about 20 ym thin, further amplified.
  • Semiconductor devices 3 preferably blue radiation passing through a converter plate in radiation in the yellow
  • Cavities 21 in the light guide 2 are made possible.
  • the additional cavities 21 are potted with a converter compound, wherein the desired white point through this
  • the beam path is set by adjusting the distance between converter plates and
  • FIG. 8 shows a surface emitter which is used, in particular, for the backlighting of displays.
  • FIGS. 9 and 10 each show an exemplary embodiment of a device in which the light guide
  • the light guide 2 has a main extension direction 25 which extends along the
  • Main plane 11 of the support plate 1 extends.
  • the light guide 2 is thus a horizontal cylinder, directly on the
  • Support plate 1 rests.
  • the support plate 1 is not shown in the embodiment of Figure 9A for clarity.
  • On the side facing away from the carrier plate side of the light guide 2 is
  • Device is used, for example, as a surface-mountable radiation body, which can be used in particular as a flash.
  • the embodiment of Figure 9A coincides otherwise with the embodiment of Figure 3A.
  • FIG. 9B is a section through a device of FIG.
  • the radiation-emitting semiconductor device 3 is integrated, wherein on the
  • Semiconductor component preferably a converter plate 34 is arranged.
  • Converter plates are preferably parallel to
  • Radiation decoupling surface 22 of the device As a result, it is advantageously possible to achieve homogenization of the emitted light, in particular of the white light emitted. Furthermore, a yellow impression, by the
  • Converter plate 34 may occur, advantageously reduced, which is particularly advantageous in flash lights.
  • the support plate 1 is, as shown in the embodiment of Figure 9B, shaped such that the support plate 1 completely on the outer surface 26 of the light guide. 2
  • the carrier body 1 can on a
  • Heat sink 8 may be arranged, through which the heat generated during operation can be selectively dissipated from the semiconductor device 3 to the outside.
  • the embodiment of FIG. 10A corresponds to FIG.
  • the light guide 2 also has a mirror layer 23, preferably one, in contrast to the exemplary embodiment of FIG. 9A
  • the radiation emitted by the semiconductor components, which is guided in the direction of the carrier body 1, can be specifically directed in the direction of the radiation coupling-out surface 22.
  • FIG. 10B shows a plan view of a device according to the exemplary embodiment of FIG. 10A. Since the
  • Optical fiber 2 is designed to be transparent to radiation, the mirror layer 23 is visible in supervision of the device.
  • the device has a length L which is preferably in a range of between 0.9 cm and
  • the width B of the device is preferably in a range between 0.9 mm inclusive and 1.1 mm inclusive, for example 1 mm.
  • the semiconductor device has a thickness of about 0.1 mm together with the converter plate.
  • FIGS. 1A to 11E each embodiment of a device in different stages of the method are shown.
  • the production of a light guide 3, which is designed as a transverse cylindrical radiator, is shown in FIGS. 1A to 11E.
  • FIG. 11A shows a plan view of a carrier plate 1, in which partial regions 12 are formed.
  • Subregions 12 are produced, for example, by means of a stamping or an etching process.
  • the stamping or an etching process Preferably, the
  • Support plate 1 a punched metal sheet or a Metal plastic composite foil.
  • the carrier plate forms a main plane, which lies in the drawing plane in FIG. 11A.
  • FIG. IIB shows a cross section through the carrier plate 1 of the embodiment of FIG. IIA.
  • the subregions 12 are still in the main plane of the support plate 1. Subsections 12 are then each one
  • Radiation-emitting semiconductor device mounted and electrically connected (not shown).
  • the portions 12 of the support plate 1 is rotated from its original position, wherein the axis of rotation in this example passes through the semiconductor device center line.
  • the semiconductor components 3 are electrically contacted such that in each case one electrical connection of a semiconductor component 3 via a conductor track 7 to an adjacent electrical connection of an adjacent one
  • Semiconductor device 3 is electrically connected to each other.
  • the electrical connections of a semiconductor component 3 are in each case electrically insulated from one another by means of a spacing and / or an electrically insulating layer in order to prevent a short circuit.
  • Figure HD a cross section of the support plate of Figure HC is shown.
  • a 90 ° rotation of the subregions takes place, so that the subregions 12 are substantially perpendicular to the main plane 11.
  • the carrier plate 1 shown in Figure HC is
  • a plurality of optical fibers 2 is then by means of a molding technique or a
  • UV-resistant material such as silicone molded.
  • such a module is produced, which has a multiplicity of molded optical waveguides 2, which are designed in particular as cylindrical radiators.
  • the electrical connections of the semiconductor devices 3 are led out of the optical fibers 2, so that the
  • Semiconductor devices 3 are electrically connected externally.
  • the individual light guides 2 can be singulated, wherein the contacts are thereby formed by means of a cut or a bending such that the
  • the light guide 2 can then in a
  • the base body 10 is a Kunststoffverguss having a cylindrical recess. On the base body 10 are on the of the
  • metal terminals arranged, with which the led out of the light guide 2 electrical connections of the semiconductor devices 3 can be electrically connected.
  • the recess of the main body 10 preferably has a mirror layer, for example a silver mirror layer, so that emitted from the semiconductor devices
  • Radiation targeted to the radiation decoupling surface 22 can be directed out.
  • aspherical transverse cylindrical radiators can also be advantageously produced as light guides 2, which are used in particular for near and far field flashlights.
  • light guides 2 which are used in particular for near and far field flashlights.
  • Aspherical transverse cylindrical radiator as a light guide is shown in the embodiment of Figure 13.
  • FIG. 13 is the same as the embodiment of FIG. 9B.
  • Figs. 14A to 14E are respectively schematic
  • the light guides 2 are each on one
  • Support plate 1 is arranged.
  • the device of the embodiment of Figure 14A has a plurality of radiation emitters
  • cylindrical light guide 2 are enclosed.
  • the cylindrical light guide 2 has cavities in which the semiconductor components are arranged.
  • the light guide 2 is directly connected to the carrier plate 1
  • FIG. 14A shows a view of an exemplary embodiment of a device in which the carrier plate 1
  • the carrier plate 1 is only in a region of the lateral surface 26 of the light guide second
  • Optical fiber 2 preferably mirrored, for example by means of a silver mirror.
  • the radiation output surface 22, however, preferably has radiation coupling-out structures, such as a roughening or
  • Radiation decoupling surface 22 opposite side of the device terminal contacts 6 are arranged, the
  • the radiation decoupling is shown by arrows in the embodiment of FIG. 4C.
  • FIG. 14C is the same as the embodiment of FIG. 3A.
  • semiconductor devices 3 are not arranged mirror-symmetrically to each other.
  • the arrangement of the individual semiconductor components of the exemplary embodiment of FIG. 14D coincides with the arrangement of the semiconductor components of the exemplary embodiment of FIGS. 4B and 4C.
  • FIG. 14B essentially the device of FIG.
  • Copper terminals mechanically mountable.
  • the device by means of these two terminals 11 mechanically, electrically and thermally connectable.
  • the copper terminals 11 are formed band-shaped.
  • FIG. 14E shows a cross section of the embodiment of the device from FIG. 14B.
  • Embodiment of Figure 14E differs from the embodiment of Figure 9B essentially in that the mechanical connection is ensured by means of a terminal 11, in particular a copper terminal.
  • FIG. 14F a module is shown, which consists of a
  • the module therefore has a plurality of transversal
  • Cylinder radiators 2 wherein a plurality of
  • Semiconductor devices 3 is used. As a result, it is possible in particular to produce a module which is particularly suitable for the backlighting of, for example, flat-panel displays, radiation sources for general lighting or for
  • the main emission direction 4 of the device and the
  • Principal emission directions 31 of the semiconductor components are shown as arrows in FIG. 14F.
  • the individual devices can be mounted in the module and thereby electrically
  • FIG. 15A shows a device which has a
  • Support plate 1 which contains a plurality of openings 14.
  • the support plate 1 is for example a
  • the carrier plate forms a
  • Main level 11 which lies in the xy plane.
  • a breakthrough is in particular a recess of the support plate 1 to understand in which no support plate material is arranged, in particular is completely removed.
  • the subregion of the carrier plate for example the
  • Support plate material in the region of a breakthrough thus not only bent out of the main plane 11, but completely removed.
  • the device further comprises a plurality of
  • the radiation-emitting semiconductor components 3 have a lateral expansion plane in the yz plane.
  • the semiconductor devices 3 are arranged vertically to the carrier plate 1. For example, stand the
  • Semiconductor devices 3 are each guided at least partially through an opening 14 of the support plate 1.
  • Support plate 1 is arranged. An electrical contacting of the semiconductor components takes place below the respective
  • the semiconductor components are each mounted vertically to the main plane 11 of the carrier plate 1 and are each provided with an extended electrical connection region 36 in each case in an opening 14 of the carrier plate 1
  • FIG. 15A shows the device before the process step of applying a light guide.
  • a trained according to the embodiment of Figure 15A device is advantageously formed particularly flat.
  • the device thus has an overall height of less than 2 mm.
  • the semiconductor components each emit radiation along the main plane 11 of the carrier plate 1.
  • the semiconductor components In a plan view of the device, the
  • Semiconductor devices 3 each have a small lateral
  • FIG. 15B shows a cross section of the exemplary embodiment of FIG. 15A.
  • the height H T of the support plate 1 is in a range between 0.2 mm and 1 mm.
  • a heat element 8 for example a metal plate, for
  • the heat element 8 is guided through the opening 14 of the support plate 1 and angularly connected to the underside of the support plate 1.
  • the semiconductor device 3 with the heat element 8 and / or the heat element 8 can thereby by means of metallic
  • the spring contacts are introduced in the opening 14 of the support plate 1.
  • the semiconductor devices may be heat coupled to the insides of the apertures of the carrier plate by means of a carrier.
  • the support plate for example, an Alu groundplatte with electrically insulated openings.
  • electrical insulation and electrical contacting find, for example, Kunststofftechniksein algorithms.
  • a multilayer ceramic with integrated conductors and functionalities can be used as a carrier plate.
  • Semiconductor device 3 shown, for example, for a device of the embodiments of Figures 15A and 15B is suitable.
  • Semiconductor device 3 has semiconductor layers 33 which are suitable for generating electromagnetic radiation.
  • the semiconductor layers 33 have a
  • Semiconductor component 3 has a first and a second contact, by means of which the semiconductor layers are electrically contactable.
  • the first and the second contact by means of printed conductors externally become electrically
  • the first contact, the second contact and the semiconductor layers are arranged on a common carrier 35, which in particular consists of an electric
  • insulating material contains, for example, silicon.
  • On a side facing away from the semiconductor layers 33 side of the carrier 35 can be integrated, for example, an angle-shaped metal reinforcement (not shown), the mechanical attachment to the contact of the
  • one conductor track 7 leads from the first contact and the second contact of the semiconductor component 3 to an underside of the carrier plate 1 and along the underside of the carrier plate 1.
  • Figure 16A is a schematic plan view of the
  • FIG. 16B shows a bottom view of the device according to FIG. 15A.
  • the first and the second contact of the semiconductor components are in this case by means of conductor tracks 7 externally connected electrically, which are guided on the underside of the carrier plate 1.
  • an electrical contact of a semiconductor device 3 is connected via a conductor track 7 with an electrical contact of an adjacent
  • a device is shown, for example, according to the exemplary embodiment of FIG. 15A, which additionally comprises a light guide 2.
  • the light guide 2 is designed as a light guide foil, for example as a diffuser foil.
  • the light guide 2 has no cavity for receiving the
  • silicone be executed (not shown).
  • the light guide is directly on the
  • Carrier plate arranged and envelops the individual components completely.
  • FIG. 17B is a cross section of an apparatus of FIG.
  • Embodiment of Figure 17A shown.
  • beam paths of the radiation emitted by the semiconductor components are shown by means of arrows. Due to the
  • Diffuser film 2 the radiation between the support plate 1 and diffuser film 2 are performed.
  • the radiation between the support plate 1 and diffuser film 2 are performed.
  • FIGS. 18A and 18B show views of a carrier plate 1 which can be used, for example, for a device according to the exemplary embodiment of FIG. 17A.
  • FIG. 18A shows a plan view of the carrier plate 1.
  • the carrier plate 1 is in particular for a device
  • Support plate on a plurality of openings, which lead through the support plate 1 and in particular are arranged symmetrically in the support plate 1.
  • the openings lead through the semiconductor components.
  • the support plate 1 may be rectangular, for example
  • Semiconductor devices 3 is a mirror symmetry and / or axis symmetry.
  • the thickness of the carrier plate 1 is for example about 0.5 mm.
  • the semiconductor components 21 each have, for example, a length Li of about 1.2 mm, preferably in a range between 1.1 mm and 1.3 mm.
  • the distances Di of the individual components 3 in the lateral direction to each other are approximately 20 mm. In the vertical direction, the
  • Semiconductor devices each have distances D2 to each other, which are for example about 10 mm.
  • the distance D3 is preferably in a range between 39 mm and 41 mm inclusive, for example 40 mm.
  • FIG. 18B shows a detail of the carrier plate 1, which is in particular in a region A marked by a dashed circle in the exemplary embodiment of FIG. 18A lies.
  • the semiconductor devices have a preferred
  • the conductor tracks 7 on the underside of the carrier plate 1 each have a width D 4 of about 0.4 mm and are arranged to each other at a distance A b of about 0.3 mm.
  • the invention is not limited by the description based on the embodiments of these, but includes each new feature and any combination of features, which in particular any combination of features in the

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Abstract

The invention relates to a radiation emitting device having a light guide (2) and at least one carrier plate (1). The carrier plate (1) forms a primary plane (11). According to the invention, at least one radiation emitting semiconductor element (3) is arranged in or on a bent part of the carrier plate (1), wherein a radiation emitting surface (32) of the semiconductor element (3) is at an angle α to the primary plane (11) of the carrier plate (1). The light guide (2) is arranged on the side of the carrier plate (1) facing the semiconductor element (3). The invention further relates to a module having a radiation emitting device and to method for producing a radiation emitting device.

Description

Beschreibung description
STRAHLUNGSEMITTIERENDE LICHTLEITERVORRICHTUNG FÜR DIE BELEUCHTUNG, MODUL MIT EINER SOLCHEN VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SOLCHEN RADIATION-EMITTING LIGHTING DEVICE FOR LIGHTING, MODULE WITH SUCH A DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING SUCH A LIGHTING DEVICE
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 10 2009 060 759.5, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird. This patent application claims the priority of German Patent Application 10 2009 060 759.5, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine The present invention relates to a
Strahlungsemittierende Vorrichtung mit einem Lichtleiter und einer Trägerplatte, auf der ein Strahlungsemittierendes  A radiation-emitting device having a light guide and a support plate on which a radiation-emitting
Halbleiterbauelement angeordnet ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Semiconductor component is arranged. Furthermore, the invention relates to a method for producing such
Strahlungsemittierenden Vorrichtung und ein Modul mit einer Mehrzahl derartiger strahlungsemittierender Vorrichtungen.  A radiation-emitting device and a module with a plurality of such radiation-emitting devices.
Strahlungsemittierende Vorrichtungen finden beispielsweise Verwendung zur Hinterleuchtung von Beleuchtungsmodulen, wie beispielsweise Flachbildschirmen. Hierzu sind immer geringere Vorrichtungsabmessungen, wie beispielsweise die Radiation-emitting devices are used, for example, for the backlighting of lighting modules, such as flat screens. These are always smaller device dimensions, such as the
Vorrichtungshöhe, erwünscht. Zudem ist bei derartigen Device height, desired. In addition, in such
Beleuchtungsmodulen eine homogene Abstrahlcharakteristik der Vorrichtungen erwünscht. Lighting modules desired a homogeneous radiation characteristic of the devices.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine The invention is based on the object
Strahlungsemittierende Vorrichtung bereitzustellen, die eine geringe Vorrichtungshöhe und gleichzeitig eine homogene To provide a radiation-emitting device, the low device height and at the same time a homogeneous
Abstrahlcharakteristik aufweist. Ferner ist es eine weitere Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen strahlungsemittierenden Vorrichtung anzugeben, das sich insbesondere durch ein kostengünstiges Herstellungsverfahren auszeichnet. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Modul mit einer Mehrzahl von derartigen Strahlungsemittierenden Vorrichtungen anzugeben. Diese Aufgaben werden durch eine strahlungsemittierende Has emission characteristic. Furthermore, it is a further object of the invention to provide a method for producing such a radiation-emitting device, which is characterized in particular by a cost-effective Manufacturing process distinguished. Another object of the invention is to provide a module with a plurality of such radiation-emitting devices. These tasks are performed by a radiation-emitting
Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, eine Device with the features of claim 1, a
strahlungsemittierende Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 2, ein Modul mit den Merkmalen des Anspruchs 14 und ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit den radiation-emitting device having the features of claim 2, a module having the features of claim 14 and a method for producing a device with the
Merkmalen des Anspruchs 15 gelöst. Vorteilhafte Characteristics of claim 15 solved. advantageous
Ausführungsformen und bevorzugte Weiterbildungen der  Embodiments and preferred developments of
Vorrichtung, des Moduls und des Herstellungsverfahrens sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche. Erfindungsgemäß ist eine strahlungsemittierende Vorrichtung mit einem Lichtleiter und zumindest einer Trägerplatte vorgesehen, wobei die Trägerplatte eine Hauptebene ausbildet und zumindest einen Teilbereich aufweist, der in einem Winkel zur Hauptebene steht. Der Teilbereich und die Trägerplatte sind einstückig ausgebildet. Auf dem Teilbereich ist einDevice, the module and the manufacturing process are the subject of the dependent claims. According to the invention, a radiation-emitting device is provided with a light guide and at least one support plate, wherein the support plate forms a main plane and has at least one partial region that is at an angle to the main plane. The portion and the support plate are integrally formed. On the subarea is a
Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angeordnet. Der Lichtleiter ist auf der Trägerplatte angeordnet und weist zumindest eine Kavität auf, in der der Teilbereich angeordnet ist . Radiation-emitting semiconductor device arranged. The light guide is arranged on the carrier plate and has at least one cavity in which the partial region is arranged.
Der Teilbereich der Trägerplatte ragt demnach aus der The portion of the support plate thus protrudes from the
Hauptebene der Trägerplatte heraus. Insbesondere ragt der Teilbereich der Trägerplatte in die Kavität des Lichtleiters hinein. Die Trägerplatte und der Lichtleiter sind Main plane of the support plate out. In particular, the portion of the support plate protrudes into the cavity of the light guide. The carrier plate and the light guide are
vorzugsweise derart aufeinander abgestimmt, dass der preferably coordinated such that the
Teilbereich der Trägerplatte und die Kavität des Lichtleiters innerhalb der Vorrichtung denselben Bereich der Vorrichtung einnehmen, sodass der Lichtleiter und die Trägerplatte direkt mechanisch miteinander verbunden werden können, ohne dass dabei ein Abstand zwischen der Trägerplatte und dem Part of the support plate and the cavity of the light guide within the device occupy the same area of the device, so that the light guide and the support plate directly can be mechanically connected to each other, without causing a distance between the support plate and the
Lichtleiter notwendig ist. Die Größe der Kavität des Lichtleiters ist vorzugsweise an die Größe des Teilbereichs einschließlich des Optical fiber is necessary. The size of the cavity of the light guide is preferably to the size of the sub-area including the
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements angepasst. Der Lichtleiter umschließt somit den Teilbereich und das darauf angeordnete strahlungsemittierende Halbleiterbauelement vollständig, wobei vorzugsweise lediglich ein zum Montieren des Lichtleiters auf der Trägerplatte notwendiger Abstand zwischen dem Teilbereich mit dem darauf angeordneten  Radiation-emitting semiconductor device adapted. The optical waveguide thus completely surrounds the subarea and the radiation-emitting semiconductor component arranged thereon, wherein preferably only one distance, which is necessary for mounting the optical waveguide on the carrier plate, is arranged between the subarea and the subarea
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement und dem Radiation-emitting semiconductor device and the
Lichtleiter ausgebildet ist. Light guide is formed.
Der Lichtleiter ist bevorzugt mit einer Hauptfläche der The light guide is preferably provided with a main surface of
Trägerplatte mechanisch verbunden, besonders bevorzugt ist die mechanische Verbindung form- und kraftschlüssig. Die Kavität des Lichtleiters bildet vorzugsweise eine Carrier plate mechanically connected, more preferably, the mechanical connection is positive and non-positive. The cavity of the light guide preferably forms a
rechteckförmige Ausnehmung aus, wobei die Ausnehmung den Lichtleiter nicht vollständig durchdringt. Die Kavität ist insbesondere auf der der Trägerplatte zugewandten Seite des Lichtleiters angeordnet. Die von der Trägerplatte abgewandte Seite des Lichtleiters weist somit vorzugsweise keine Kavität auf und ist demnach vollflächig ausgebildet. rectangular recess, wherein the recess does not completely penetrate the light guide. The cavity is arranged in particular on the side facing the carrier plate of the light guide. The side facing away from the carrier plate side of the light guide thus preferably has no cavity and is thus formed over the entire surface.
In einer alternativen Ausgestaltung ist eine In an alternative embodiment is a
strahlungsemittierende Vorrichtung mit einem Lichtleiter, zumindest einer Trägerplatte, die eine Hauptebene ausbildet, und zumindest einem strahlungsemittierenden radiation-emitting device having an optical waveguide, at least one carrier plate, which forms a main plane, and at least one radiation-emitting
Halbleiterbauelement vorgesehen. Die Trägerplatte weist zumindest einen Durchbruch auf. Das strahlungsemittierende Halbleiterbauelement weist eine laterale Ausdehnungsebene auf, die in einem Winkel zur Hauptebene steht, und ist zumindest bereichsweise durch den Durchbruch der Trägerplatte geführt. Der Lichtleiter ist auf der dem Semiconductor device provided. The carrier plate has at least one opening. The radiation-emitting Semiconductor component has a lateral expansion plane, which is at an angle to the main plane, and is guided at least partially through the opening of the carrier plate. The light guide is on the
Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement zugewandten Seite der Trägerplatte angeordnet. Radiation-emitting semiconductor device facing side of the carrier plate arranged.
Als laterale Ausdehnungsebene ist dabei insbesondere die Ebene des Halbleiterbauelements zu verstehen, die zu einer Hauptabstrahlrichtung des Bauelements senkrecht steht. The lateral expansion plane is to be understood in particular as the plane of the semiconductor component which is perpendicular to a main emission direction of the component.
Insbesondere ist darunter die Ebene senkrecht zu einer In particular, underneath is the plane perpendicular to one
Aufwachsrichtung von Halbleiterschichten des Bauelements zu verstehen . Der Durchbruch der Trägerplatte weist vorzugsweise eine rechteckartige oder prismatische Form auf. In diesen Growth direction of semiconductor layers of the device to understand. The breakthrough of the carrier plate preferably has a rectangular or prismatic shape. In these
prismatischen oder rechteckförmigen Durchbruch ist bevorzugt das Halbleiterbauelement, vorzugsweise ebenfalls in prismatic or rectangular breakthrough is preferably the semiconductor device, preferably also in
prismatischer Form, eingebracht. Eine Strahlungsemittierende Oberfläche des Halbleiterbauelements ist dabei bevorzugt oberhalb der Trägerplatte angeordnet. Eine elektrische prismatic form, introduced. A radiation-emitting surface of the semiconductor component is preferably arranged above the carrier plate. An electric
Kontaktierung des Halbleiterbauelements dagegen erfolgt bevorzugt unterhalb der Trägerplatte. Das Halbleiterbauelement ist dabei also vertikal zur Contacting of the semiconductor device, however, preferably takes place below the carrier plate. The semiconductor device is thus vertical to
Hauptebene der Trägerplatte montiert, und ist dabei mit einem verlängerten elektrischen Anschlussbereich in den Durchbruch der Trägerplatte integriert. Zur elektrischen Kontaktierung erfolgt dabei eine Leiterbahnendurchführung durch den  Main plane of the support plate mounted, and is integrated with an extended electrical connection area in the opening of the support plate. For electrical contacting takes place a conductor passage through the
Durchbruch der Trägerplatte. Breakthrough of the carrier plate.
Der Lichtleiter kann direkt auf der Trägerplatte angeordnet sein. In diesem Fall weist der Lichtleiter zumindest eine Kavität auf, in die das Halbleiterbauelement angeordnet ist. Beispielsweise ist der Lichtleiter eine Glasplatte oder eine Vergussplatte . Der Lichtleiter kann alternativ eine Lichtführungsfolie sein, beispielsweise eine Diffusorfolie . In diesem Fall muss der Lichtleiter nicht notwendigerweise eine Kavität aufweisen. Der Lichtleiter kann dabei auf der von der Trägerplatte abgewandten Seite des Halbleiterbauelements angeordnet sein. The light guide can be arranged directly on the support plate. In this case, the optical fiber has at least one Cavity, in which the semiconductor device is arranged. For example, the light guide is a glass plate or a casting plate. The light guide may alternatively be a light guide foil, for example a diffuser foil. In this case, the optical fiber does not necessarily have to have a cavity. The light guide can be arranged on the side facing away from the carrier plate side of the semiconductor device.
Eine derartig ausgebildete Vorrichtung ist mit Vorteil besonders flächig ausgebildet. Beispielsweise weist die Such a device designed is advantageously formed particularly flat. For example, the
Vorrichtung so eine Gesamthöhe von kleiner 2 mm auf. Das Halbleiterbauelement emittiert dabei Strahlung vorzugsweise entlang der Hauptebene der Trägerplatte. In Aufsicht auf die Vorrichtung weist das Halbleiterbauelement eine geringe laterale Ausdehnung von höchstens einigen 100 μιη auf, die vorteilhafterweise von einem Beobachter mit bloßem Auge kaum wahrnehmbar sind. Device so a total height of less than 2 mm. The semiconductor component emits radiation preferably along the main plane of the carrier plate. In plan view of the device, the semiconductor device has a small lateral extent of at most 100 μιη, which are advantageously barely perceptible by an observer with the naked eye.
In einer Weiterbildung ist an einer der In a further education is at one of the
strahlungsemittierenden Oberfläche des Halbleiterbauelements gegenüberliegenden Seite ein Wärmeelement, beispielsweise eine Metallplatte, zur verbesserten Wärmeabfuhr angeordnet. Das Wärmeelement kann dabei durch den Durchbruch der radiation-emitting surface of the semiconductor device opposite side a heat element, such as a metal plate, arranged for improved heat dissipation. The heat element can by the breakthrough of
Trägerplatte geführt sein und winkelförmig mit einer Be guided and angle-shaped with a support plate
Unterseite der Trägerplatte verbunden sein. Be connected underside of the support plate.
Das Halbleiterbauelement und/der das Wärmeelement können dabei mittels metallischen Federkontakten elektrisch The semiconductor device and / or the heat element can thereby electrically by means of metallic spring contacts
kontaktiert sein. Die Federkontakte sind dabei im Durchbruch der Trägerplatte eingebracht. In einer Weiterbildung weist die Trägerplatte eine Mehrzahl von Durchbrüchen auf. In diesem Fall umfasst die Vorrichtung eine Mehrzahl von Halbleiterbauelementen, die jeweils durch einen Durchbruch geführt sind. Eine Strahlungsemittierende Oberfläche der Halbleiterbauelemente ist dabei jeweils bevorzugt oberhalb der Trägerplatte angeordnet, wobei die Strahlungsemittierenden Oberflächen jeweils vorzugsweise in die gleiche Richtung gerichtet sind. Das Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement weist vorzugsweise eine aktive Schicht zur Erzeugung be contacted. The spring contacts are introduced in the breakthrough of the carrier plate. In a development, the carrier plate has a plurality of openings. In this case, the device comprises a plurality of semiconductor devices, each of which is passed through an aperture. A radiation-emitting surface of the semiconductor components is in each case preferably arranged above the carrier plate, wherein the radiation-emitting surfaces are each preferably directed in the same direction. The radiation-emitting semiconductor component preferably has an active layer for generation
elektromagnetischer Strahlung auf. Die aktive Schicht weist vorzugsweise einen pn-Übergang zur Strahlungserzeugung auf. Das Halbleiterbauelement ist vorzugsweise als „substratloses Halbleiterbauelement" ausgebildet. Als „substratloses electromagnetic radiation. The active layer preferably has a pn junction for generating radiation. The semiconductor component is preferably designed as a "substrateless semiconductor component." As "substrateless
Halbleiterbauelement" wird im Rahmen der Anmeldung ein Semiconductor device "is in the context of the application
Halbleiterbauelement angesehen, während dessen Herstellung das Aufwachssubstrat , auf den eine Halbleiterschichtenfolge, beispielsweise epitaktisch, aufgewachsen worden ist, Semiconductor device considered during its production, the growth substrate on which a semiconductor layer sequence, for example epitaxially grown,
vollständig abgelöst worden ist. Ferner weisen substratlose Bauelemente bevorzugt keinen Träger auf. Derartige has been completely replaced. Furthermore, substrateless components preferably have no carrier. such
substratlose Bauelemente sind beispielsweise in der Substrate-less components are for example in the
Patentschrift DE 10 2007 004 304 AI beschrieben, deren Patent DE 10 2007 004 304 AI described, whose
Offenbarungsgehalt hiermit explizit mittels Rückbezug aufgenommen wird. The disclosure is hereby explicitly incorporated by reference.
Substratlose Halbleiterbauelemente weisen vorzugsweise eine p-dotierte Halbleiterschicht und eine n-dotierte Substrate-free semiconductor components preferably have a p-doped semiconductor layer and an n-doped one
Halbleiterschicht auf, die eine Licht emittierende Semiconductor layer, which is a light-emitting
Schichtenfolge bilden. Das Halbleiterbauelement sendet bevorzugt in zwei Hauptabstrahlrichtungen Licht aus. Dabei ist die Abstrahlung in beide Hauptabstrahlrichtungen Layer sequence form. The semiconductor device preferably emits light in two main emission directions. there is the emission in both main emission directions
vorzugsweise symmetrisch. preferably symmetrical.
Bevorzugt basieren die Halbleiterschichten des Preferably, the semiconductor layers of the
Halbleiterbauelements auf einem Nitrid-, Phosphid- oder Semiconductor device on a nitride, phosphide or
Arsenidverbindungshalbleiter . Auf Nitrid-, Phosphid- oder Arsenidverbindungshalbleitern basierend bedeutet im Arsenide compound semiconductor. Based on nitride, phosphide or arsenide compound semiconductors means in
vorliegenden Zusammenhang, dass die aktive present context that the active
Epitaxieschichtenfolge oder zumindest eine Schicht davon ein I I I /V-Halbleitermaterial mit der Zusammensetzung  Epitaxial layer sequence or at least one layer thereof, an I I I / V semiconductor material having the composition
InxGayAl]__x_yP, InxGayAl]__x_yN oder InxGayAl]__x_yAs, jeweils 0 < x, y < 1 und x + y < 1, umfasst. In x GayAl ] __ x _yP, In x GayAl ] __ x _yN or In x GayAl ] __ x _yAs, each 0 <x, y <1 and x + y <1.
Die Höhe der einzelnen substratlosen Bauelemente beträgt vorzugsweise weniger als 50 ym. The height of the individual substrateless components is preferably less than 50 ym.
Das Halbleiterbauelement kann weiter als Flip-Chip-Bauelement ausgebildet sein. Bei dieser Ausgestaltung sind beide The semiconductor component may further be formed as a flip-chip component. In this embodiment, both
elektrischen Anschlussbereiche des Bauelements auf einer gemeinsamen Oberfläche, die bevorzugt gegenüber einer electrical connection areas of the device on a common surface, which preferably compared to a
Lichtaustrittsfläche des Bauelements liegt, elektrisch voneinander isoliert angeordnet (Flip-Chip-Technologie) , sodass das Bauelement direkt ohne weitere Anschlussdrähte mit der Kontaktierungsseite zur Trägerplatte montiert werden kann. Eine Licht emittierende Diode, die mittels Flip-Chip- Technologie elektrisch kontaktiert ist, und ein Verfahren zu deren Herstellung ist beispielsweise aus der Light exit surface of the device is electrically isolated from each other isolated (flip-chip technology), so that the device can be mounted directly without further connecting wires with the contacting side to the support plate. A light-emitting diode, which is electrically contacted by flip-chip technology, and a method for the production thereof, for example, from
Offenlegungsschrift DE 10 2006 019 373 AI bekannt, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird. Publication DE 10 2006 019 373 AI known, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.
Die Trägerplatte weist vorzugsweise ein Metall auf, besonders bevorzugt ist die Trägerplatte eine Metallfolie oder eine Metallkunststoffverbundfolie . Mittels eines Stanz- oder Ätzprozesses werden die Teilbereiche in der Trägerplatte ausgebildet, wobei die Teilbereiche anschließend aus der Hauptebene der Trägerplatte herausgebogen werden, sodass diese in einem Winkel zur Hauptebene stehen. The carrier plate preferably has a metal, particularly preferably the carrier plate is a metal foil or a metal plastic composite foil. By means of a punching or Etching process, the portions are formed in the support plate, wherein the portions are then bent out of the main plane of the support plate so that they are at an angle to the main plane.
Die Hauptebene der Trägerplatte spannt vorzugsweise eine x-y- Ebene auf und weist somit keine z-Komponente auf. Die The main plane of the carrier plate preferably tensions an x-y plane and thus has no z-component. The
Ausdehnungsebene des Teilbereichs und/oder des Extension plane of the subarea and / or the
Halbleiterbauelements ragt vorzugsweise aus der x-y-Ebene heraus, weist also bevorzugt eine x-Komponente, eine y- Komponente und eine z-Komponente auf. Semiconductor device preferably protrudes from the x-y plane, so preferably has an x-component, a y-component and a z-component.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung liegt der Winkel in einem Bereich zwischen einschließlich 45 und einschließlich 95°. Bevorzugt liegt der Winkel in einem Bereich zwischen 85° und einschließlich 95°. Besonders bevorzugt steht der Teilbereich senkrecht zur Hauptebene der Trägerplatte. In a preferred embodiment, the angle is in a range between 45 and 95 ° inclusive inclusive. Preferably, the angle is in a range between 85 ° and 95 ° inclusive. Particularly preferably, the subregion is perpendicular to the main plane of the carrier plate.
Die Hauptabstrahlrichtung des strahlungsemittierenden The main emission direction of the radiation-emitting
Halbleiterbauelements verläuft vorzugsweise senkrecht zur Ausdehnung des Teilbereichs. Beträgt der Winkel demnach etwa 90°, verläuft die Hauptabstrahlrichtung des Semiconductor device preferably runs perpendicular to the extension of the subregion. If the angle is therefore about 90 °, the main emission direction of the
Halbleiterbauelements parallel zur Hauptebene der Semiconductor device parallel to the main plane of the
Trägerplatte . Carrier plate.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung verläuft die Hauptabstrahlrichtung des strahlungsemittierenden In a further preferred embodiment, the main emission direction of the radiation-emitting
Halbleiterbauelements in einem Winkel ß zwischen -30° und 30° zur Hauptebene der Trägerplatte. Die Hauptabstrahlrichtung des Halbleiterbauelements verläuft demnach im Wesentlichen parallel zur Hauptebene der Trägerplatte. Bevorzugt führt der Lichtleiter dabei die von dem Halbleiterbauelement emittierte Strahlung entlang einer Haupterstreckungsrichtung des Semiconductor device at an angle ß between -30 ° and 30 ° to the main plane of the support plate. The main emission direction of the semiconductor component therefore runs essentially parallel to the main plane of the carrier plate. In this case, the light guide preferably leads the light emitted by the semiconductor component Radiation along a main extension direction of the
Lichtleiters . Optical fiber.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung weist der Lichtleiter Streupartikel auf. An den Streupartikeln kann die von dem Halbleiterbauelement emittierte Strahlung homogen in alle Raumrichtungen gestreut werden. Dadurch wird die in dem In a preferred embodiment, the light guide on scattering particles. At the scattering particles, the radiation emitted by the semiconductor component can be scattered homogeneously in all spatial directions. This will be in the
Lichtleiter geführte Strahlung homogen in dem Lichtleiter verteilt, sodass sich mit Vorteil eine homogene Light guide guided radiation homogeneously distributed in the light guide, so that advantageously a homogeneous
Abstrahlcharakteristik der Vorrichtung ergibt, insbesondere eine homogene Leuchtfläche des Lichtleiters. Abstrahlcharakteristik the device results, in particular a homogeneous luminous surface of the light guide.
Beispielsweise weist der Lichtleiter ein Glas oder eine für die von dem Halbleiterbauelement emittierte Strahlung For example, the light guide has a glass or one for the radiation emitted by the semiconductor component
transparente Folie auf, beispielsweise eine Glasfolie. transparent film, for example, a glass sheet.
Besonders bevorzugt ist der Lichtleiter eine Streuscheibe. Unter einer Streuscheibe ist unter anderem ein Lichtleiter mit darin enthaltenen Streupartikeln zu verstehen, an denen die von der aktiven Schicht des Halbleiterbauelements  Particularly preferably, the light guide is a diffuser. Under a diffusing screen is inter alia a light guide to be understood with scattering particles contained, in which the of the active layer of the semiconductor device
emittierte Strahlung vorzugsweise ungerichtet in alle emitted radiation preferably undirected in all
Raumrichtungen gestreut wird. Bevorzugt sind die Spaces is scattered. Preferred are the
Streupartikel gleichmäßig in dem Lichtleiter verteilt, sodass sich die Streustrahlung gleichmäßig ausbreitet. Dadurch lassen sich Farbinhomogenitäten über dem Abstrahlwinkel verringern. Eine homogene Abstrahlcharakteristik der von der Vorrichtung emittierten Strahlung wird mit Vorteil erzielt. Evenly distributed scattering particles in the light guide, so that the scattered radiation spreads evenly. As a result, color inhomogeneities over the emission angle can be reduced. A homogeneous radiation characteristic of the radiation emitted by the device is achieved with advantage.
Die Vorrichtung weist vorzugsweise eine The device preferably has a
Strahlungsauskoppelfläche auf. Die Strahlungsauskoppelfläche der Vorrichtung kann beispielsweise an einer Seitenfläche des Lichtleiters ausgebildet sein. In diesem Fall ist die  Radiation decoupling surface on. The radiation decoupling surface of the device may be formed, for example, on a side surface of the light guide. In this case, the
Vorrichtung ein so genannter „Sidelooker" , also eine seitlich emittierende Vorrichtung. „Sidelooker" sind dem Fachmann bekannt und werden daher an dieser Stelle nicht näher Device a so-called "sidelooker", so a laterally emitting device. "Sidelooker" are the expert are known and therefore will not be closer at this point
erörtert . discussed.
Alternativ kann die Strahlungsauskoppelfläche der Vorrichtung von der von der Trägerplatte abgewandten Fläche des Alternatively, the radiation decoupling surface of the device from the surface facing away from the carrier plate of the
Lichtleiters gebildet sein. In diesem Fall ist die Be formed light guide. In this case, the
Vorrichtung ein so genannter „Oberflächenemitter" oder „Vertikalemitter". Auch diese sind dem Fachmann bekannt und werden daher an dieser Stelle nicht näher erörtert. Device a so-called "surface emitter" or "vertical emitter". These too are known to the person skilled in the art and will therefore not be discussed further here.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung weist die Vorrichtung eine Dicke in einem Bereich zwischen 0,75 mm und 1,25 mm auf. Besonders bevorzugt ist die Dicke geringer oder gleich 1 mm. Durch Integration der Teilbereiche der Trägerplatte in den Lichtleiter mittels der Kavität können mit Vorteil flache Vorrichtungen realisiert werden, deren Höhe im Wesentlichen durch die Höhe des Lichtleiters bestimmt ist. Eine In a preferred embodiment, the device has a thickness in a range between 0.75 mm and 1.25 mm. More preferably, the thickness is less than or equal to 1 mm. By integration of the subregions of the carrier plate into the light guide by means of the cavity, flat devices can advantageously be realized whose height is determined essentially by the height of the light guide. A
miniaturisierte Vorrichtung, die insbesondere zur miniaturized device, in particular for
Hinterleuchtung verschiedener Beleuchtungsmodule Verwendung finden kann, kann so mit Vorteil erzielt werden. Backlighting different lighting modules can be used, can be achieved with advantage.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung weist der In a further preferred embodiment, the
Lichtleiter an der der Trägerplatte zugewandten Fläche und/oder den Seitenflächen eine Spiegelschicht auf. Optical fiber on the carrier plate facing surface and / or the side surfaces on a mirror layer.
Beispielsweise sind die Seitenflächen und die der For example, the side surfaces and the
Trägerplatte zugewandte Fläche des Lichtleiters mit einer metallischen Beschichtung, beispielsweise einem Support plate facing surface of the light guide with a metallic coating, such as a
Silberspiegel, versehen. Silver mirror, provided.
Alternativ kann die Trägerplatte als Spiegelschicht Alternatively, the carrier plate as a mirror layer
ausgebildet sein. Durch die Spiegelschichten kann die aus dem be educated. Through the mirror layers can from the
Halbleiterbauelement emittierte Strahlung gezielt in dem Lichtleiter geführt und anschließend an der Led radiation emitted selectively in the optical waveguide and then at the
Strahlungsaustrittsfläche der Vorrichtung ausgekoppelt werden. Sind die Seitenflächen des Lichtleiters verspiegelt, ist die Strahlungsaustrittsfläche an der von der Trägerplatte abgewandten Fläche des Lichtleiters angeordnet. Radiation exit surface of the device are coupled out. If the side surfaces of the optical waveguide are mirrored, the radiation exit surface is arranged on the surface of the optical waveguide facing away from the carrier plate.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung weist der In a further preferred embodiment, the
Lichtleiter an der von der Trägerplatte abgewandten Fläche und/oder den Seitenflächen Strahlungsauskoppelstrukturen auf. Beispielsweise sind die von der Trägerplatte abgewandte Light guide on the side facing away from the support plate surface and / or the side surfaces of radiation extraction on. For example, they are facing away from the carrier plate
Fläche und/oder die Seitenflächen des Lichtleiters aufgeraut oder weisen Erhebungen, beispielsweise in Form von Pyramiden oder Kuppeln, auf. Surface roughened and / or the side surfaces of the light guide or have surveys, for example in the form of pyramids or domes on.
Die Strahlungsauskoppelstrukturen sind insbesondere an der für die Strahlungsauskopplung vorgesehenen Fläche der The radiation decoupling structures are in particular at the surface provided for the radiation decoupling
Vorrichtung angeordnet. Dadurch kann mit Vorteil eine Device arranged. This can with advantage a
homogene Abstrahlcharakteristik der Vorrichtung erzielt werden . homogeneous radiation characteristic of the device can be achieved.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist der In a further preferred embodiment of the
Lichtleiter zylinderförmig ausgebildet, wobei sich dessen Haupterstreckungsrichtung entlang der Hauptebene der Optical waveguide cylindrically shaped, wherein the main extension direction along the main plane of the
Trägerplatte erstreckt. Support plate extends.
Insbesondere ist der Lichtleiter als liegender Zylinder ausgebildet, wobei eine Mantelfläche des Lichtleiters In particular, the light guide is designed as a horizontal cylinder, wherein a lateral surface of the light guide
bereichsweise auf der Trägerplatte aufliegt. Die Mantelfläche des Lichtleiters und die Trägerplatte sind demnach partially rests on the support plate. The lateral surface of the light guide and the support plate are accordingly
bereichsweise formschlüssig und kraftschlüssig mechanisch miteinander verbunden. An der Mantelfläche ist bereichsweise eine Kavität angeordnet, in der der Teilbereich der Trägerplatte partially positively and non-positively mechanically interconnected. On the lateral surface, a cavity is partially arranged, in which the portion of the support plate
angeordnet ist. Bevorzugt ist die Ausdehnung der Kavität an die Größe des Teilbereichs angepasst. Das bedeutet, dass die Tiefe der Kavität vorzugsweise der Höhe des Teilbereichs, die sich vorzugsweise senkrecht zur Hauptebene der Trägerplatte erstreckt, entspricht. Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist die is arranged. The expansion of the cavity is preferably adapted to the size of the partial area. This means that the depth of the cavity preferably corresponds to the height of the subregion, which preferably extends perpendicular to the main plane of the carrier plate. In a further preferred embodiment, the
Trägerplatte derart geformt, dass diese vollständig an der Mantelfläche des Lichtleiters anliegt.  Support plate shaped so that it rests completely on the lateral surface of the light guide.
Die Trägerplatte ist demnach selbst als Mantelfläche The support plate is therefore itself as a lateral surface
ausgebildet, wobei sich die Biegung der Trägerplatte nach der Biegung der Mantelfläche des Lichtleiters bestimmt. Dabei ist jedoch die Mantelfläche des Lichtleiters nicht vollständig von der Trägerplatte umschlossen. Insbesondere liegt nur an einem Teilbereich der Mantelfläche des Lichtleiters die formed, wherein the bending of the support plate determined after the bending of the lateral surface of the light guide. However, the lateral surface of the light guide is not completely enclosed by the carrier plate. In particular, only at a portion of the lateral surface of the light guide is the
Trägerplatte auf. Der restliche Teilbereich der Mantelfläche bildet vorzugsweise die Strahlungsauskoppelfläche des Carrier plate on. The remaining portion of the lateral surface preferably forms the radiation output surface of the
Lichtleiters . Optical fiber.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist die In a further preferred embodiment, the
Vorrichtung mittels zumindest einer Klemme mechanisch Device by means of at least one terminal mechanically
elektrisch und/oder thermisch angeschlossen. electrically and / or thermally connected.
Die Klemme ist vorzugsweise eine Kupferklemme. Bevorzugt steht die Klemme in direktem Kontakt mit der geformten Trägerplatte. In diesem Fall ist die Trägerplatte vorzugsweise elektrisch leitend ausgebildet. Vorzugsweise ist die Vorrichtung mittels zweier Klemmen, insbesondere Kupferklemmen, mechanisch befestigt, wobei die Klemmen bevorzugt an zwei sich gegenüberliegenden Randbereichen des Lichtleiters angeordnet sind. Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung weist die The clamp is preferably a copper clamp. Preferably, the clamp is in direct contact with the molded carrier plate. In this case, the carrier plate is preferably designed to be electrically conductive. Preferably, the device is by means of two terminals, in particular Copper terminals, mechanically fastened, wherein the terminals are preferably arranged on two opposite edge regions of the light guide. In a further preferred embodiment, the
Vorrichtung zwei Trägerplatten und der Lichtleiter zwei an zwei gegenüberliegenden Seiten angeordnete Kavitäten auf, wobei in den zwei Kavitäten jeweils ein Teilbereich  Device two carrier plates and the light guide two on two opposite sides arranged cavities, wherein in the two cavities in each case a partial area
angeordnet ist, auf dem jeweils ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angeordnet ist. Die is arranged, on which in each case a radiation-emitting semiconductor component is arranged. The
Hauptabstrahlrichtung des einen Strahlungsemittierenden  Main emission of the one radiation emitting
Halbleiterbauelements verläuft jeweils vorzugsweise in Semiconductor device is preferably in each case
Richtung des anderen Strahlungsemittierenden Direction of the other radiation-emitting
Halbleiterbauelements . Semiconductor device.
Die Trägerplatten sind vorzugsweise mit einer elektrisch isolierenden Schicht mechanisch miteinander verbunden. Die Trägerplatten weisen bevorzugt zueinander eine The carrier plates are preferably mechanically connected to one another with an electrically insulating layer. The carrier plates preferably have one another
spiegelsymmetrische Anordnung auf, wobei die Spiegelachse im Bereich der elektrisch isolierenden Schicht liegt. Die mirror-symmetrical arrangement, wherein the mirror axis is in the region of the electrically insulating layer. The
Halbleiterbauelemente sind dabei derart angeordnet, dass ihre emittierte Strahlung in den Lichtleiter eingekoppelt und in diesem geführt wird. Dabei sind die Halbleiterbauelemente an zwei sich gegenüberliegenden Seiten des Lichtleiters  Semiconductor components are arranged such that their emitted radiation is coupled into the optical waveguide and guided therein. In this case, the semiconductor components are on two opposite sides of the light guide
angeordnet, sodass eine mit Vorteil homogene arranged so that a homogeneous with advantage
Abstrahlcharakteristik der Vorrichtung erzielt wird. Die Strahlungsauskoppelseite der Vorrichtung befindet sich in diesem Fall auf der von der Trägerplatte abgewandten Seite des Lichtleiters.  Radiation characteristic of the device is achieved. The radiation outcoupling side of the device is located in this case on the side remote from the carrier plate side of the light guide.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung weist die In a further preferred embodiment, the
Vorrichtung eine Mehrzahl von Trägerplatten auf, die jeweils mit einer elektrisch isolierenden Schicht mechanisch miteinander verbunden sind, wobei bevorzugt die Trägerplatten in Reihe nacheinander angeordnet sind. Der Lichtleiter weist hierbei eine Mehrzahl von Kavitäten auf, in denen jeweils ein Teilbereich einer Trägerplatte angeordnet ist, auf dem jeweils ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angeordnet ist. Device on a plurality of carrier plates, each with an electrically insulating layer mechanically are interconnected, wherein preferably the carrier plates are arranged in series one after the other. The light guide in this case has a plurality of cavities, in each of which a partial region of a carrier plate is arranged, on each of which a radiation-emitting semiconductor component is arranged.
Die Trägerplatten sind bei dieser Ausgestaltung mit Vorteil nicht spiegelsymmetrisch, sondern deckungsgleich ausgebildet und in Reihe angeordnet. Die miteinander verbundenen The support plates are in this embodiment advantageously not mirror-symmetrical, but congruent and arranged in series. The interconnected
Trägerplatten werden dabei von einem gemeinsamen Lichtleiter bedeckt, der entsprechend der ausgebildeten Teilbereiche jeweils eine Kavität aufweist. Bevorzugt weist jede Trägerplatte einen Teilbereich auf, auf dem jeweils ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angeordnet ist, wobei die Strahlungsemittierenden  Support plates are covered by a common light guide, which has a respective cavity corresponding to the formed partial regions. Each carrier plate preferably has a partial region on which a respective radiation-emitting semiconductor component is arranged, wherein the radiation-emitting elements
Halbleiterbauelemente dabei vorzugsweise in Reihe geschaltet sind . Semiconductor devices are preferably connected in series.
Ein Kontakt des jeweiligen Strahlungsemittierenden A contact of the respective radiation-emitting
Bauelements ist dabei zu einer benachbarten Trägerplatte geführt, wobei dieser elektrische Kontakt von der eigenen Trägerplatte mittels einer elektrisch isolierenden Schicht elektrisch isoliert ist. Ein zweiter Kontakt des jeweiligen Halbleiterbauelements wird bevorzugt über die jeweilige eigene Trägerplatte geführt. Component is guided to an adjacent support plate, said electrical contact is electrically isolated from the own support plate by means of an electrically insulating layer. A second contact of the respective semiconductor component is preferably guided over the respective own carrier plate.
Zum externen Anschluss weist die von dem Lichtleiter For external connection points that of the light guide
abgewandte Seite der Trägerplatte zwei externe opposite side of the carrier plate two external
Anschlusskontakte, vorzugsweise Metallkontakte, auf. Diese können bevorzugt als Wärmesenken ausgebildet sein. Dadurch kann mit Vorteil die in den Halbleiterbauelementen im Betrieb erzeugte Wärme hinreichend von den Halbleiterbauelementen abgeführt werden, sodass sich die Gefahr einer Schädigung der Halbleiterbauelemente verringert . Bei einer bevorzugten Ausgestaltung ist der Lichtleiter für die von den Halbleiterbauelementen emittierte Strahlung transparent. Beispielsweise weist der Lichtleiter Glas oder einen transparenten Kunststoff auf. Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist auf der von dem Teilbereich der Trägerplatte abgewandten Seite des Connection contacts, preferably metal contacts, on. These may preferably be designed as heat sinks. As a result, in the semiconductor devices in operation with advantage generated heat can be dissipated sufficiently from the semiconductor devices, so that reduces the risk of damage to the semiconductor devices. In a preferred embodiment, the light guide is transparent to the radiation emitted by the semiconductor components. For example, the optical fiber has glass or a transparent plastic. In a further preferred embodiment, on the side facing away from the portion of the carrier plate side of the
Halbleiterbauelements ein Konversionsplättchen angeordnet. Das Konversionsplättchen wandelt vorzugsweise eine von dem Halbleiterbauelement emittierte Strahlung einer Wellenlänge in Strahlung einer anderen Wellenlänge um. Dadurch können abhängig von der jeweiligen Anforderung unterschiedlich farbige Halbleiterbauelemente in der Vorrichtung Verwendung finden, wobei sich mittels des speziellen Aufbaus der Semiconductor device arranged a conversion plate. The conversion plate preferably converts a radiation of one wavelength emitted by the semiconductor component into radiation of a different wavelength. As a result, differently colored semiconductor components can be used in the device, depending on the respective requirement, whereby the special design of the
Vorrichtung mit Vorteil eine homogen farbige Device with advantage a homogeneously colored
Strahlungsauskoppelfläche ergibt. Radiation coupling surface results.
Mittels der in dem Lichtleiter angeordneten Streupartikel kann dabei mit Vorteil eine effektive Farbmischung in dem Lichtleiter erzielt werden, für den Fall, dass eine Mehrzahl von Halbleiterbauelementen verwendet werden, die jeweils Strahlung unterschiedlicher Wellenlängen emittieren. By means of the scattering particles arranged in the light guide, an effective color mixing in the light guide can advantageously be achieved, in the event that a plurality of semiconductor components are used which emit radiation of different wavelengths in each case.
Ein erfindungsgemäßes Modul weist vorzugsweise eine Mehrzahl von erfindungsgemäßen Strahlungsemittierenden Vorrichtungen auf, die bevorzugt nebeneinander in Reihe oder als Matrix angeordnet sind, wobei besonders bevorzugt benachbarte A module according to the invention preferably has a plurality of radiation-emitting devices according to the invention, which are preferably arranged side by side in a row or as a matrix, particularly preferably adjacent ones
Vorrichtungen mechanisch miteinander verbunden sind. Vorzugsweise stehen die Lichtleiter der einzelnen Vorrichtung in direktem Kontakt zu benachbarten Lichtleitern. Benachbarte Trägerplatten sind besonders bevorzugt mechanisch mittels einer elektrisch isolierenden Schicht miteinander verbunden. Derartige Module sind insbesondere zur Hinterleuchtung von Beleuchtungseinheiten, wie beispielsweise Flachbildschirmen oder LCDs (LCD: „Liquid Crystal Display") von Vorteil. Devices are mechanically interconnected. Preferably, the optical fibers of the individual device are in direct contact with adjacent optical fibers. Adjacent carrier plates are particularly preferably connected to one another mechanically by means of an electrically insulating layer. Such modules are particularly advantageous for the backlighting of lighting units, such as flat screens or LCDs (LCD: "Liquid Crystal Display").
Insbesondere kann mit Vorteil ein Modul erzielt werden, das eine geringe Modulhöhe aufweist und gleichzeitig eine In particular, a module can be achieved with advantage, which has a low module height and at the same time a
homogene Abstrahlcharakteristik ermöglicht. Weiter ergibt sich durch ein derartiges Modul eine verbesserte Farbmischung der von den einzelnen Halbleiterbauelementen emittierten Strahlung . homogeneous radiation characteristic allows. Furthermore, such a module results in improved color mixing of the radiation emitted by the individual semiconductor components.
Ein Verfahren zur Herstellung einer Strahlungsemittierenden Vorrichtung umfasst folgende Verfahrensschritte: A method for producing a radiation-emitting device comprises the following method steps:
- Bereitstellen einer Trägerplatte aufweisend eine  - Providing a support plate having a
Hauptebene, Main level,
- Ausstanzen oder Ätzen zumindest eines Teilbereichs in die Trägerplatte, Punching out or etching at least one subregion into the carrier plate,
- Aufbringen und Kontaktieren eines Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements auf dem Teilbereich,  Applying and contacting a radiation-emitting semiconductor component on the subarea,
- mechanisches Verformen des Teilbereichs derart, dass der Teilbereich in einen Winkel zur Hauptebene steht, und  - Mechanical deformation of the portion such that the portion is at an angle to the main plane, and
- Aufbringen eines Lichtleiters aufweisend zumindest eine Kavität auf die Trägerplatte derart, dass der Teilbereich in der Kavität angeordnet wird. Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens ergeben sich analog zu den vorteilhaften Ausgestaltungen der Vorrichtung und umgekehrt. Mittels des Verfahrens ist insbesondere eine hier beschriebene Vorrichtung und/oder ein hier beschriebenes Modul herstellbar. - Applying a light guide having at least one cavity on the support plate such that the portion is disposed in the cavity. Advantageous embodiments of the method are analogous to the advantageous embodiments of the device and vice versa. By means of the method is in particular a here described device and / or a module described here produced.
Bevorzugt wird vor Aufbringen des Halbleiterbauelements bereichsweise die Trägerplatte mit einem elektrisch Preference is given before applying the semiconductor device region, the carrier plate with an electrical
isolierenden Material, beispielsweise Kunststoff, insulating material, for example plastic,
beschichtet. Besonders bevorzugt werden auf dem elektrisch isolierenden Material Leiterbahnen aufgebracht, die zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterbauelements dienen. coated. Particularly preferably, conductor tracks are applied to the electrically insulating material, which serve for electrical contacting of the semiconductor component.
Bevorzugt wird das Halbleiterbauelement mittels eines Preferably, the semiconductor device is by means of a
Druckprozesses auf dem Teilbereich aufgebracht und mechanisch und/oder elektrisch kontaktiert. Bevorzugt werden die Teilbereiche derart mechanisch verformt, dass ein gewünschter Abstrahlwinkel der von dem Applied printing process on the sub-area and contacted mechanically and / or electrically. Preferably, the subregions are mechanically deformed such that a desired emission angle of the
Halbleiterbauelement emittierten Strahlung ermöglicht wird. Semiconductor device emitted radiation is enabled.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung des Verfahrens wird die Vorrichtung in eine Beleuchtungseinheit integriert. In a preferred embodiment of the method, the device is integrated into a lighting unit.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung wird zum Aufbringen des Lichtleiters die Trägerplatte in einer Spritzgussform In a preferred embodiment, the support plate is in an injection mold for applying the light guide
angeordnet, wobei anschließend der Lichtleiter mittels eines Spritzgussverfahrens hergestellt wird. Alternativ findet ein Gießverfahren zur Herstellung des Lichtleiters Verwendung. Dadurch kann beispielsweise ein zylinderförmiger Lichtleiter hergestellt werden, wobei die Teilbereiche und die darauf angeordneten Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente direkt mit Material des Lichtleiters umgössen oder umspritzt werden, sodass kein Abstand zwischen Material des arranged, wherein subsequently the optical fiber is produced by means of an injection molding process. Alternatively, a casting method for producing the optical fiber is used. As a result, for example, a cylindrical optical waveguide can be produced, wherein the subregions and the radiation-emitting semiconductor components disposed thereon are directly encapsulated or encapsulated with material of the optical waveguide, so that no distance between material of the optical waveguide
Lichtleiters und Teilbereich und/oder Halbleiterbauelement entsteht . Bei einer bevorzugten Ausgestaltung wird die Vorrichtung mit einem Kunststoff vergossen. Fiber optic and sub-area and / or semiconductor device is formed. In a preferred embodiment, the device is potted with a plastic.
Weitere Merkmale, Vorteile, bevorzugte Ausgestaltungen und Zweckmäßigkeiten der Vorrichtung, des Moduls und des Further features, advantages, preferred embodiments and expediencies of the device, the module and the
Herstellungsverfahrens ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit den Figuren 1 bis 14 erläuterten Manufacturing process result from the below explained in connection with Figures 1 to 14
Ausführungsbeispielen. Es zeigen: Embodiments. Show it:
Figuren 1, 3, 5, 8 bis 10, 12 bis 14, 17A jeweils eine Figures 1, 3, 5, 8 to 10, 12 to 14, 17A each one
schematische Ansicht eines Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Moduls oder einer erfindungsgemäßen Vorrichtung,  schematic view of an embodiment of a module according to the invention or a device according to the invention,
Figur 2 eine Prinzipskizze eines weiteren Figure 2 is a schematic diagram of another
Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen  Embodiment of an inventive
Vorrichtung, Figuren 4, 11, 15A, 15B, 15D, 16A, 16B, 17B jeweils  Device, Figures 4, 11, 15A, 15B, 15D, 16A, 16B, 17B respectively
schematische Darstellungen weiterer  schematic representations of others
Ausführungsbeispiele einer erfindungsgemäßen  Embodiments of an inventive
Vorrichtung in verschiedenen Verfahrensstadien, Figuren 6, 15C jeweils eine schematische Darstellung eines  Device in different stages of the method, Figures 6, 15C each show a schematic representation of a
Ausführungsbeispiels eines Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements, das in einer  Embodiment of a radiation-emitting semiconductor device, which in a
erfindungsgemäßen Vorrichtung Verwendung findet, und  Device according to the invention is used, and
Figuren 7, 18A, 18B jeweils eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels eines Lichtleiters für eine erfindungsgemäße Vorrichtung. Gleiche oder gleich wirkende Bestandteile sind jeweils mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Die dargestellten Figures 7, 18A, 18B each show a schematic representation of an embodiment of a light guide for a device according to the invention. Identical or equivalent components are each provided with the same reference numerals. The illustrated
Bestandteile sowie die Größenverhältnisse der Bestandteile untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen. Components as well as the proportions of the components among each other are not to be regarded as true to scale.
Figur 1 zeigt eine schematische Ansicht einer FIG. 1 shows a schematic view of a
Strahlungsemittierenden Vorrichtung aufweisend eine A radiation-emitting device comprising a
Trägerplatte 1 und einen Lichtleiter 2. Die Trägerplatte 1 bildet eine Hauptebene 11 aus und weist einen Teilbereich 12 auf. Der Teilbereich 12 und die Trägerplatte 1 sind dabei einstückig ausgebildet. Support plate 1 and a light guide 2. The support plate 1 forms a main plane 11 and has a portion 12 on. The portion 12 and the support plate 1 are integrally formed.
Die Hauptebene 11 liegt beispielsweise in einer x-y-Ebene, weist somit einen horizontalen Verlauf auf und weist The main plane 11 lies, for example, in an x-y plane, thus has a horizontal course and points
insbesondere eine x-Komponente und eine y-Komponente, nicht jedoch eine z-Komponente auf. Der Teilbereich 12 steht in einem Winkel zur Hauptebene der Trägerplatte 1, sodass der Teilbereich aus der x-y-Ebene herausragt, also eine x- Komponente, eine y-Komponente und eine z-Komponente aufweist. in particular an x-component and a y-component, but not a z-component. The partial region 12 is at an angle to the main plane of the carrier plate 1, so that the partial region protrudes from the x-y plane, ie has an x component, a y component and a z component.
Vorzugsweise liegt der Winkel , den der Teilbereich 12 zur Hauptebene 11 aufweist, in einem Bereich zwischen Preferably, the angle that the portion 12 has to the main plane 11, in an area between
einschließlich 85° und einschließlich 95°. Besonders including 85 ° and 95 ° inclusive. Especially
bevorzugt steht der Teilbereich 12 im Wesentlichen senkrecht zur Hauptebene 11. Preferably, the portion 12 is substantially perpendicular to the main plane eleventh
Beispielsweise ist die Trägerplatte 1 eine Metallplatte, eine Metallfolie oder eine Metallkunststoffverbundfolie . Mittels eines Stanz- oder Ätzprozesses werden dabei in der For example, the carrier plate 1 is a metal plate, a metal foil or a metal plastic composite foil. By means of a punching or etching process are doing in the
Trägerplatte 1 die Teilbereich 12 ausgebildet und mittels mechanischen Verformens derart geformt, dass der Teilbereich 12 in dem Winkel zur Hauptebene 11 steht. Die Trägerplatte 1 weist somit in einem Bereich in der Hauptebene eine Support plate 1, the portion 12 formed and formed by mechanical deformation such that the portion 12 is at the angle to the main plane 11. The carrier plate 1 thus has an area in the main plane
Ausnehmung 13 auf, die der Größe des Teilbereichs 12 Recess 13, the size of the portion 12th
entspricht . Auf einer Oberfläche der Trägerplatte 1 ist der Lichtleiter 2 angeordnet, insbesondere form- und kraftschlüssig mit einer Oberfläche der Trägerplatte 1 verbunden. Der Lichtleiter 2 ist dabei auf der Seite der Trägerplatte 1 angeordnet, auf der der Teilbereich 12 ausgebildet ist. Der Lichtleiter 2 weist vorzugsweise eine Kavität 21 auf (nicht dargestellt) , in der der Teilbereich 12 angeordnet ist, insbesondere hineinragt . corresponds. On a surface of the support plate 1, the light guide 2 is arranged, in particular positively and non-positively connected to a surface of the support plate 1. The light guide 2 is arranged on the side of the support plate 1, on which the portion 12 is formed. The light guide 2 preferably has a cavity 21 (not shown), in which the partial area 12 is arranged, in particular protrudes.
Auf dem Teilbereich 2 ist ein Strahlungsemittierendes On the portion 2 is a radiation-emitting
Halbleiterbauelement 3 angeordnet, das eine Semiconductor device 3 is arranged, which has a
Strahlungsemittierende Oberfläche 32 aufweist, durch die im Has radiation emitting surface 32 through which in
Betrieb des Halbleiterbauelements die in dem Operation of the semiconductor device in the
Halbleiterbauelement erzeugte elektromagnetische Strahlung emittiert wird. Die Strahlungsemittierende Oberfläche 32 des strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements 3 erstreckt sich dabei entlang der Ausdehnungsebene des Teilbereichs 12. Semiconductor device generated electromagnetic radiation is emitted. The radiation-emitting surface 32 of the radiation-emitting semiconductor component 3 extends along the plane of extent of the partial region 12.
Steht der Teilbereich 12 demnach im Wesentlichen senkrecht zur Hauptebene 11 der Trägerplatte 1, so steht auch die If the portion 12 is therefore substantially perpendicular to the main plane 11 of the support plate 1, so is the
Strahlungsemittierende Oberfläche 32 des  Radiation emitting surface 32 of the
strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements 3 im radiation-emitting semiconductor device 3 in
Wesentlichen senkrecht zur Hauptebene 11 der Trägerplatte 1. Essentially perpendicular to the main plane 11 of the support plate. 1
Die Hauptabstrahlrichtung 31 der von dem The main emission direction 31 of the
strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement emittierten Strahlung verläuft demnach im Wesentlichen entlang Accordingly, the radiation emitted by the radiation-emitting semiconductor component runs essentially along
beziehungsweise parallel zur Hauptebene 11 der Trägerplatte 1. Das Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement 3 ist or parallel to the main plane 11 of the support plate. 1 The radiation-emitting semiconductor device 3 is
vorzugsweise ein Halbleiterkörper, beispielsweise eine LED oder ein LED-Chip, der eine aktive Schicht aufweist. Die aktive Schicht ist insbesondere derart ausgebildet, dass diese zur Strahlungserzeugung geeignet ist. Bevorzugt ist das Halbleiterbauelement ein Leuchtdiodenchip, der insbesondere als substratloser Chip ausgebildet ist. Als substratloser Chip wird im Rahmen der Anmeldung ein Chip angesehen, während dessen Herstellung das Aufwachssubstrat , auf den eine preferably a semiconductor body, for example an LED or an LED chip, which has an active layer. The active layer is in particular designed such that it is suitable for generating radiation. The semiconductor component is preferably a light-emitting diode chip, which is designed in particular as a substrateless chip. As a substrateless chip is considered in the context of the application, a chip during its production, the growth substrate, on the one
Halbleiterschichtenfolge, die den Halbleiterkörper umfasst, beispielsweise epitaktisch aufgewachsen wurde, vollständig abgelöst worden ist und keinen Träger aufweist. Semiconductor layer sequence comprising the semiconductor body, for example epitaxially grown, has been completely detached and has no carrier.
Beispielsweise setzt sich der Chip aus einer n-dotierten Halbleiterschicht und einer p-dotierten Halbleiterschicht zusammen, wobei zwischen den Schichten ein aktiver, zur For example, the chip is composed of an n-doped semiconductor layer and a p-doped semiconductor layer, wherein an active, for
Strahlungserzeugung geeigneter pn-Übergang ausgebildet ist.  Radiation generation is formed suitable pn junction.
Die Halbleiterschichten weisen vorzugsweise ein III/V- Verbindungshalbleitermaterial auf. Ein III/V- Verbindungshalbleitermaterial weist wenigstens ein Element aus der dritten Hauptgruppe, wie beispielsweise AI, Ga, In, und ein Element aus der fünften Hauptgruppe, wie The semiconductor layers preferably comprise a III / V compound semiconductor material. A III / V compound semiconductor material comprises at least one element of the third main group such as Al, Ga, In, and a fifth main group element such as
beispielsweise N, P, As, auf. Insbesondere umfasst der for example, N, P, As. In particular, the
Begriff I I I /V-Verbindungshalbleitermaterial die Gruppe der binären, ternären und quaternären Verbindungen, die Term I I I / V compound semiconductor material is the group of binary, ternary and quaternary compounds which
wenigstens ein Element aus der dritten Hauptgruppe und wenigstens ein Element aus der fünften Hauptgruppe enthalten, insbesondere Nitrid-, Arsenid- und Phosphid- Verbindungshalbleiter . Eine solche binäre, ternäre und quaternäre Verbindung kann zudem beispielsweise einen oder mehrere Dotierstoffe sowie zusätzliche Bestandteile at least one element from the third main group and at least one element from the fifth main group, in particular nitride, arsenide and phosphide compound semiconductors. Such a binary, ternary and quaternary compound may also contain, for example, one or more dopants and additional constituents
aufweisen . Auf der strahlungsemittierenden Oberfläche 32 des Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements 3 kann ein Konverterplättchen 34 angeordnet sein, das die von dem exhibit . On the radiation-emitting surface 32 of the radiation-emitting semiconductor component 3, a converter plate 34 may be arranged, which is the one of the
Halbleiterbauelement emittierte Strahlung einer ersten Semiconductor device emitted radiation of a first
Wellenlänge in Strahlung einer zweiten Wellenlänge umwandelt, sodass die Vorrichtung Mischstrahlung aufweisend die Wavelength is converted into radiation of a second wavelength, so that the device comprises mixed radiation comprising
Strahlung der ersten Wellenlänge und die Strahlung der zweiten Wellenlänge emittiert. Die Kavität des Lichtleiters 2 ist vorzugsweise im Bereich des Teilbereichs 12 der Trägerplatte 1 ausgebildet. Radiation of the first wavelength and the radiation of the second wavelength emitted. The cavity of the light guide 2 is preferably formed in the region of the partial region 12 of the carrier plate 1.
Insbesondere ist die Größe der Kavität an die Größe des In particular, the size of the cavity is related to the size of the cavity
Teilbereichs und des strahlungsemittierenden Subrange and the radiation-emitting
Halbleiterbauelements angepasst, sodass der Teilbereich 12 und das Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement 3 in der Kavität des Lichtleiters angeordnet werden können, wobei der Lichtleiter 2 formschlüssig an die Hauptebene 11 der Semiconductor component adapted so that the portion 12 and the radiation-emitting semiconductor device 3 can be arranged in the cavity of the light guide, wherein the optical waveguide 2 form-fitting manner to the main plane 11 of
Trägerplatte 1 anschließt. Vorzugsweise ragt der Lichtleiter 2 nicht lateral über die Trägerplatte 1 in Aufsicht auf die Vorrichtung heraus. Support plate 1 connects. Preferably, the light guide 2 does not protrude laterally beyond the support plate 1 in a plan view of the device.
Der Lichtleiter 2 weist vorzugsweise Streupartikel auf, an denen die von dem Halbleiterbauelement emittierte Strahlung und/oder die konvertierte Strahlung in alle Raumrichtungen homogen gestreut werden. Dadurch kann eine effiziente The light guide 2 preferably has scattering particles on which the radiation emitted by the semiconductor component and / or the converted radiation are homogeneously scattered in all spatial directions. This can be an efficient
Farbmischung in dem Lichtleiter 2 der konvertierten Strahlung und der von dem Halbleiterbauelement emittierten Strahlung erzielt werden. Auf der von dem Lichtleiter 3 abgewandten Seite der  Color mixing in the optical waveguide 2 of the converted radiation and the radiation emitted by the semiconductor device radiation can be achieved. On the side facing away from the light guide 3 side of
Trägerplatte 1 sind elektrische Anschlusskontakte 6 Support plate 1 are electrical connection contacts. 6
angeordnet, die insbesondere zur elektrischen Kontaktierung des strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements 3 vorgesehen sind. Zwischen der Trägerplatte 1 und den arranged, in particular for the electrical contacting of the radiation-emitting semiconductor component. 3 are provided. Between the support plate 1 and the
Anschlusskontakten 6 ist eine elektrisch isolierende Schicht angeordnet, die die Trägerplatte und die Anschlusskontakte elektrisch voneinander isoliert (nicht dargestellt) . Durch die Trägerplatte 1 und durch die elektrisch isolierende Connection contacts 6, an electrically insulating layer is arranged, which electrically isolated from the carrier plate and the terminal contacts from each other (not shown). Through the support plate 1 and through the electrically insulating
Schicht sind vorzugsweise zwei Durchbrüche, so genannte „Via", geführt, durch die Leiterbahnen geführt sind, die das Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement 3 mit den Layer are preferably two openings, so-called "via", out, are guided by the conductor tracks, which the radiation-emitting semiconductor device 3 with the
Anschlusskontakten 6 elektrisch miteinander verbinden (nicht dargestellt) . Dazu sind die Leiterbahnen auf der von denConnecting contacts 6 electrically connect with each other (not shown). These are the tracks on the of the
Anschlusskontakten abgewandten Oberfläche der Trägerplatte 1 und auf dem Teilbereich 12 bis zum Halbleiterbauelement 3 geführt und elektrisch angeschlossen, wobei zwischen den Leiterbahnen, der Trägerplatte und dem Teilbereich eine elektrische Isolierung, beispielsweise eine elektrisch isolierende Schicht, vorgesehen ist. Connection contacts remote surface of the support plate 1 and guided on the portion 12 to the semiconductor device 3 and electrically connected, wherein an electrical insulation, for example, an electrically insulating layer is provided between the conductor tracks, the support plate and the subregion.
Seitlich an den Anschlusskontakten 6 schließt eine elektrisch isolierende Schicht 5 an, die beispielsweise dazu dienen kann, die in Figur 1 dargestellte Vorrichtung in Reihe an weitere Vorrichtungen, wie sie beispielsweise in Figur 1 dargestellt sind, anzuschließen und mechanisch mit diesen zu verbinden . Die Vorrichtung weist eine Hauptabstrahlrichtung 4 auf, die im vorliegenden Ausführungsbeispiel seitlich der Vorrichtung ausgebildet ist und mittels eines Pfeils in Figur 1 Connected laterally to the connection contacts 6 is an electrically insulating layer 5, which can serve, for example, to connect the device shown in FIG. 1 in series to further devices, as shown for example in FIG. 1, and to connect them mechanically. The device has a main emission direction 4, which in the present exemplary embodiment is formed laterally of the device and by means of an arrow in FIG. 1
dargestellt ist. Die Vorrichtung des Ausführungsbeispiels der Figur 1 ist somit ein Seitenemitter, ein so genannter is shown. The device of the embodiment of Figure 1 is thus a side emitter, a so-called
„Sidelooker" . Die Strahlungsauskoppelfläche 22 der "Sidelooker". The radiation decoupling surface 22 of the
Vorrichtung ist somit an einer Seitenfläche oder durch die Seitenfläche des Lichtleiters 2 gebildet. Vorzugsweise sind auf der Strahlungsauskoppelfläche 22 Device is thus formed on a side surface or by the side surface of the light guide 2. Preferably, on the radiation decoupling surface 22nd
Strahlungsauskoppelstrukturen 24 angeordnet, die eine homogene Abstrahlung über die gesamte Radiation decoupling 24 arranged, which provides a homogeneous radiation over the entire
Strahlungsauskoppelfläche erzeugen. Beispielsweise weist die Strahlungsauskoppelfläche 22 eine Aufrauung oder  Generate radiation decoupling surface. For example, the radiation decoupling surface 22 has a roughening or
dreidimensionale Strukturen, wie beispielsweise Pyramiden oder Kuppeln, zur Lichtauskopplung auf. three-dimensional structures, such as pyramids or domes, for light extraction.
Die restlichen Flächen des Lichtleiters 2 können eine The remaining surfaces of the light guide 2, a
Spiegelschicht 23, beispielsweise eine Silberschicht, aufweisen, sodass die von dem Halbleiterbauelement 3 Mirror layer 23, for example, a silver layer, so that the of the semiconductor device 3
emittierte Strahlung zur Strahlungsauskoppelfläche geführt und dort ausgekoppelt wird (nicht dargestellt) . Die Trägerplatte 1 und der Lichtleiter 2 sind in dem emitted radiation is guided to the radiation decoupling surface and coupled out there (not shown). The support plate 1 and the light guide 2 are in the
Ausführungsbeispiel der Figur 1 jeweils rechteckförmig ausgebildet. Der Lichtleiter 2 ist beispielsweise eine  Embodiment of Figure 1 each rectangular in shape. The light guide 2 is for example a
Lichtverteilungsplatte, beispielsweise eine Glasplatte oder eine Kunststoffplatte, die für die von dem Light distribution plate, such as a glass plate or a plastic plate, for those of the
Halbleiterbauelement emittierte Strahlung Semiconductor device emitted radiation
strahlungsdurchlässige Eigenschaften aufweist. has radiation-permeable properties.
Vorzugsweise ist die Trägerplatte eine Metallfolie und der Lichtleiter ein Kunststoff-Lichtleiter . Mit Vorteil stellt die Verbundtechnik Kunststoff und Metall eine effektive Wärmesenke dar, sodass die im Betrieb der Vorrichtung erzeugte Wärme effektiv vom Halbleiterbauelement nach außen abgeleitet werden kann. Ferner ist diese Verbundtechnik mit Vorteil kostengünstig. Preferably, the carrier plate is a metal foil and the light guide is a plastic light guide. Advantageously, the composite plastic and metal is an effective heat sink, so that the heat generated during operation of the device can be effectively dissipated from the semiconductor device to the outside. Furthermore, this composite technique is advantageously inexpensive.
Der gesamte Aufbau der Vorrichtung ist mit Vorteil sehr flach und im Wesentlichen durch die Abmessungen des Lichtleiters 2 bestimmt. Derartige Vorrichtungen sind beispielsweise aufgrund der großen Strahlungsauskoppelfläche 22 und der flachen Bauweise zur Hinterleuchtung von Flachbildschirmen und LCDs geeignet. Die Vorrichtung ist insbesondere als oberflächenmontierbares Bauelement ausgebildet, welches elektronikkompatibel verbaut werden kann ( SMT-Bauteile : „Surface Mounted Technology"). Die Vorrichtung zeichnet sich durch einen kostengünstigen Aufbau sowie durch ein kostengünstiges Herstellungsverfahren aus. The entire structure of the device is advantageously very flat and essentially determined by the dimensions of the light guide 2. Such devices are for example due to the large radiation decoupling surface 22 and the flat design for the backlighting of flat screens and LCDs suitable. The device is designed in particular as a surface-mountable component which can be installed in an electronics-compatible manner (SMT components: "Surface Mounted Technology") .The device is distinguished by a cost-effective design and by a cost-effective production method.
In Figur 2 ist eine Prinzipskizze eines Ausführungsbeispiels einer Vorrichtung dargestellt, die eine Mehrzahl von FIG. 2 shows a schematic diagram of an exemplary embodiment of a device which has a plurality of
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen 3 aufweist. Der Lichtleiter der Vorrichtung ist in dem Radiation-emitting semiconductor devices 3 has. The light guide of the device is in the
Ausführungsbeispiel der Figur 2 der Übersicht halber nicht dargestellt . Embodiment of Figure 2 for the sake of clarity not shown.
Die Vorrichtung der Figur 2 weist vier Strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 3 auf, die vorzugsweise substratlose Leuchtdiodenchips sind. Derartige Leuchtdiodenchips sind dem Fachmann beispielsweise aus der Druckschrift DE 10 2007 004 304 bekannt, deren Offenbarungsgehalt hiermit explizit mittels Rückbezug aufgenommen wird. Die Halbleiterbauelemente 3 weisen jeweils The device of FIG. 2 has four radiation-emitting semiconductor components 3, which are preferably substrateless light-emitting diode chips. Such light-emitting diode chips are known to the person skilled in the art, for example, from the document DE 10 2007 004 304, the disclosure content of which is hereby explicitly incorporated by reference. The semiconductor devices 3 each have
Strahlungsemittierende Oberflächen 32 auf, aus denen die von den Halbleiterbauelementen emittierte Strahlung aus diesen austritt und in den Lichtleiter eingekoppelt wird. Jeweils zwei Halbleiterbauelemente 3 sind auf gegenüberliegenden Seiten der Trägerplatte 1 angeordnet. Insbesondere sind die Strahlungsemittierenden Oberflächen 32 der jeweils sich gegenüberliegenden Halbleiterbauelemente 3 derart angeordnet, dass die von den jeweiligen Halbleiterbauelementen emittierte Strahlung in Richtung des sich gegenüberliegenden Halbleiterbauelements 3 geleitet wird. Die von den einzelnen Halbleiterbauelementen 3 emittierte Strahlung wird somit in den Lichtleiter hineingeführt und dort vorzugsweise aufgrund von Streupartikeln derart gestreut, dass eine homogene Radiation emitting surfaces 32, from which the emitted radiation from the semiconductor devices exits from these and is coupled into the optical waveguide. In each case two semiconductor devices 3 are arranged on opposite sides of the carrier plate 1. In particular, the radiation-emitting surfaces 32 of the respective opposing semiconductor components 3 are arranged such that they are emitted by the respective semiconductor components Radiation is directed in the direction of the opposite semiconductor device 3. The radiation emitted by the individual semiconductor components 3 is thus guided into the optical waveguide, where it is preferably scattered due to scattering particles in such a way that it is homogeneous
Verteilung der Strahlung im Lichtleiter erfolgt. Distribution of the radiation takes place in the light guide.
Die Strahlungsauskoppelfläche der Vorrichtung ist in dem Ausführungsbeispiel der Figur 2 auf der von der Trägerplatte abgewandten Oberfläche des Lichtleiters gebildet. Die The radiation output surface of the device is formed in the embodiment of Figure 2 on the side remote from the carrier plate surface of the light guide. The
Vorrichtung der Figur 2 ist demnach ein Oberflächenemitter oder ein Vertikalemitter.  Device of Figure 2 is therefore a surface emitter or a vertical emitter.
Die Hauptabstrahlrichtung 4 der Vorrichtung sowie die The main emission direction 4 of the device and the
Hauptabstrahlrichtung 31 der Halbleiterbauelemente sind in Figur 2 als Pfeile dargestellt. Hauptabstrahlrichtung 31 of the semiconductor devices are shown in Figure 2 as arrows.
Durch die homogene Verteilung der Strahlung der einzelnen Halbleiterbauelemente im Lichtleiter kann eine homogene Due to the homogeneous distribution of the radiation of the individual semiconductor components in the light guide can be a homogeneous
Abstrahlung über die gesamte Strahlungsauskoppelfläche 22 erzielt werden. Werden insbesondere Halbleiterbauelemente verwendet, die jeweils Strahlung in einem anderen Radiation over the entire radiation output surface 22 can be achieved. In particular, semiconductor devices are used, each having radiation in another
Wellenlängenbereich und demnach in einem anderen Farbort emittieren, kann durch den Lichtleiter und den darin Wavelength range and therefore emit in another color locus, through the light guide and the therein
enthaltenen Streupartikeln eine effiziente Lichtmischung erzielt werden, wobei sich insgesamt eine homogen farbige Strahlungsauskoppelfläche, insbesondere Leuchtfläche, ergibt. Insbesondere erfolgt so eine effiziente Farbmischung in dem Lichtleiter . contained scattering particles an efficient light mixture can be achieved, resulting in a total of a homogeneously colored radiation decoupling surface, in particular luminous surface results. In particular, such an efficient color mixing takes place in the light guide.
Im Übrigen stimmt das Ausführungsbeispiel der Figur 2 mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 1 überein, auch wenn die Incidentally, the embodiment of Figure 2 is consistent with the embodiment of Figure 1, even if the
Darstellung der einzelnen Komponenten der Vorrichtung der Figur 2 von dem Ausführungsbeispiel der Figur 1 zum Teil abweicht . Representation of the individual components of the device Figure 2 differs from the embodiment of Figure 1 in part.
In den Figuren 3A bis 3C sind jeweils unterschiedliche In the figures 3A to 3C are each different
Ansichten einer Vorrichtung dargestellt, die insbesondere zwei Strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 3 aufweist. Die Halbleiterbauelemente 3 sind entsprechend dem in Figur 2 dargestellten Prinzip angeordnet, das heißt die Views of a device shown, which in particular has two radiation-emitting semiconductor devices 3. The semiconductor devices 3 are arranged according to the principle shown in Figure 2, that is the
Strahlungsemittierenden Oberflächen 32 der Radiation emitting surfaces 32 of the
Halbleiterbauelemente 3 sind jeweils derart ausgerichtet, dass die von den Bauelementen 3 emittierte Strahlung in Semiconductor devices 3 are each aligned such that the radiation emitted by the devices 3 in
Richtung des jeweiligen anderen Bauelements gerichtet ist und so in den Lichtleiter 2 geführt und dort durch die im Direction of the respective other device is directed and so guided in the light guide 2 and there by the im
Lichtleiter angeordneten Streupartikel homogen verteilt wird. Light guide arranged scattering particles is homogeneously distributed.
Die Vorrichtung des Beispiels der Figur 3A setzt sich The device of the example of Figure 3A sits down
insbesondere durch zwei Vorrichtungen, wie sie in Figur 1 dargestellt ist, zusammen, wobei hierbei die Vorrichtungen spiegelverkehrt zueinander angeordnet sind. Insbesondere ist die Spiegelebene senkrecht zur Trägerplatte 1 im Bereich der elektrisch isolierenden Schicht 5 angeordnet. in particular by two devices, as shown in Figure 1, together, in which case the devices are arranged mirror-inverted to each other. In particular, the mirror plane is arranged perpendicular to the carrier plate 1 in the region of the electrically insulating layer 5.
Der Lichtleiter 2 der Vorrichtung dehnt sich dabei über die beiden Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente aus. Insbesondere ist der Lichtleiter 2 einstückig ausgebildet und schließt die Vorrichtung von einer Seite ab. Die Ausdehnung des Lichtleiters entspricht bevorzugt der Summe der The light guide 2 of the device expands over the two radiation-emitting semiconductor components. In particular, the light guide 2 is formed in one piece and closes the device from one side. The extension of the light guide preferably corresponds to the sum of
Ausdehnungen der zwei Trägerplatten. Der Lichtleiter weist zwei Kavitäten auf, die beispielsweise mittels eines Sandstrahlprozesses erzeugt worden sind. Die Kavitäten des Lichtleiters 2 sind dabei entsprechend der jeweiligen Teilbereiche und der Strahlungsemittierenden Extentions of the two carrier plates. The light guide has two cavities, which have been produced for example by means of a sandblasting process. The cavities of the light guide 2 are in accordance with the respective sub-areas and the radiation-emitting
Halbleiterbauelemente ausgebildet . Semiconductor devices formed.
Die elektrische Kontaktierung der Halbleiterbauelemente ist über Leiterbahnen gebildet, wobei die Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente in Reihe geschaltet sind. Dazu sind die Halbleiterbauelemente mittels einer Leiterbahn direkt The electrical contacting of the semiconductor components is formed by conductor tracks, wherein the radiation-emitting semiconductor components are connected in series. For this purpose, the semiconductor components by means of a conductor track directly
elektrisch miteinander verbunden. Jeweils eine weitere electrically connected to each other. One more each
Leiterbahn, die zur elektrischen Kontaktierung der Conductor, the electrical contact of the
Halbleiterbauelemente 3 dienen, sind mittels Durchbrüche durch die jeweilige Trägerplatte 1 und durch eine elektrisch isolierende Schicht zu Anschlusskontakten 6 geführt, die auf der von dem Lichtleiter gegenüberliegenden Seite der Semiconductor devices 3 serve, are guided by means of openings through the respective support plate 1 and through an electrically insulating layer to terminal contacts 6, which on the opposite side of the optical fiber of the
Trägerplatte angeordnet sind. Die Anschlusskontakte 6 sind vorzugsweise Metallkontakte. Support plate are arranged. The connection contacts 6 are preferably metal contacts.
Im Unterschied zu dem in Figur 1 dargestellten In contrast to that shown in Figure 1
Ausführungsbeispiel ist die Strahlungsauskoppelfläche der Vorrichtung durch die von der Trägerplatte abgewandte Embodiment is the radiation outcoupling surface of the device by the remote from the carrier plate
Oberfläche des Lichtleiters 2 gebildet. Die Vorrichtung derSurface of the light guide 2 is formed. The device of
Figur 3A ist folglich ein Oberflächenemitter. Der Lichtleiter 3 kann vorzugsweise verspiegelte Seitenflächen und eine der Trägerplatte 1 zugewandte verspiegelte Oberfläche aufweisen, sodass die im Betrieb erzeugte Strahlung zur Figure 3A is thus a surface emitter. The optical waveguide 3 may preferably have mirrored side surfaces and a mirrored surface facing the carrier plate 1, so that the radiation generated in operation for the
Strahlungsauskoppelfläche aus der Vorrichtung gelenkt wird. Radiation decoupling surface is directed out of the device.
Im Übrigen stimmt das Ausführungsbeispiel der Figur 3A mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 1 überein. In Figur 3B ist ein schematischer Querschnitt einer Incidentally, the embodiment of FIG. 3A is identical to the embodiment of FIG. In Figure 3B is a schematic cross section of a
Vorrichtung dargestellt, die dem prinzipiellen Aufbau des Ausführungsbeispiels der Figur 3A entspricht. Die Ausführungsbeispiele der Figuren 3A und 3B unterscheiden sich lediglich in der elektrischen Kontaktierung . In Figur 3B sind die Halbleiterbauelemente 3 nicht, wie in dem Device, which corresponds to the basic structure of the embodiment of Figure 3A. The embodiments of Figures 3A and 3B differ only in the electrical contact. In FIG. 3B, the semiconductor devices 3 are not as in FIG
Ausführungsbeispiel der Figur 3A, in Reihe elektrisch Embodiment of Figure 3A, in series electrically
miteinander verschaltet, sondern jedes Bauelement ist einzeln elektrisch kontaktierbar . Hierzu weist die Trägerplatte 1 vier Durchbrüche, so genannte Vias, auf, wobei jeweils ein elektrischer Anschluss eines Halbleiterbauelements 3 mittels jeweils einer Leiterbahn durch einen Durchbruch geführt ist und auf der von dem Lichtleiter 2 abgewandten Seite der interconnected with each other, but each component is individually electrically contacted. For this purpose, the support plate 1 four openings, so-called vias, on, wherein in each case an electrical connection of a semiconductor device 3 is guided by a respective conductor track through an opening and on the side facing away from the light guide 2 side
Trägerplatte 1 mittels Anschlusskontakte 6, insbesondere Metallkontakte, extern elektrisch kontaktierbar ist. Die Anschlusskontakte 6 sind hierzu mittels eines Abstands zueinander elektrisch voneinander isoliert, um einen Support plate 1 by means of connection contacts 6, in particular metal contacts, externally electrically contacted. The terminal contacts 6 are for this purpose by means of a distance from each other electrically isolated from each other to a
Kurzschluss zu vermeiden. Short circuit to avoid.
Die Dicke D der Vorrichtung liegt dabei vorzugsweise in einem Bereich zwischen 0,8 mm und 1,5 mm, besonders bevorzugt zwischen 0,9 mm und 1,1 mm. Die Länge L der Vorrichtung liegt vorzugsweise im Zentimeterbereich. Bevorzugt weist die The thickness D of the device is preferably in a range between 0.8 mm and 1.5 mm, more preferably between 0.9 mm and 1.1 mm. The length L of the device is preferably in the centimeter range. Preferably, the
Vorrichtung eine Länge L in einem Bereich zwischen 0,8 cm und 1 , 2 cm auf .  Device a length L in a range between 0.8 cm and 1, 2 cm.
In Figur 3C ist eine schematische Explosionsskizze der FIG. 3C is a schematic exploded view of FIG
Vorrichtung aus Figur 3A dargestellt. Hierbei sind die einzelnen Komponenten der Vorrichtung der Übersicht halber voneinander getrennt dargestellt. Device shown in Figure 3A. Here, the individual components of the device for clarity are shown separated from each other.
Die Trägerplatten 1 der einzelnen Vorrichtungen sind mittels einer elektrisch isolierenden Schicht 5 mechanisch The carrier plates 1 of the individual devices are mechanical by means of an electrically insulating layer 5
miteinander verbunden. Unterhalb der Trägerplatten 1 sind Anschlusskontakte 6 angeordnet, die von den Trägerplatten mittels einer weiteren elektrisch isolierenden Schicht elektrisch isoliert sind (nicht dargestellt) . Auf der connected with each other. Below the carrier plates 1, connecting contacts 6 are arranged, which are separated from the carrier plates by means of a further electrically insulating layer are electrically isolated (not shown). On the
Trägerplatte 1 wird ein Lichtleiter 2 aufgesetzt, der im Bereich der Halbleiterbauelemente jeweils eine Kavität aufweist. Der Lichtleiter 2 kann somit auf der Trägerplatte 1 aufgesteckt werden, wobei die Halbleiterbauelemente in der jeweiligen Kavität Platz finden. Im restlichen Bereich des Lichtleiters findet zwischen der Trägerplatte 1 und dem Support plate 1, a light guide 2 is placed, each having a cavity in the region of the semiconductor devices. The light guide 2 can thus be plugged onto the carrier plate 1, wherein the semiconductor components find space in the respective cavity. In the remaining area of the light guide takes place between the support plate 1 and the
Lichtleiter 2 eine formschlüssige mechanische Verbindung statt . Optical fiber 2 a positive mechanical connection instead.
Im Übrigen stimmen die Ausführungsbeispiele der Figuren 3B und 3C mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 3A überein. Incidentally, the exemplary embodiments of FIGS. 3B and 3C correspond to the exemplary embodiment of FIG. 3A.
In den Figuren 4A bis 4C ist jeweils eine Vorrichtung FIGS. 4A to 4C each show a device
dargestellt, die eine Mehrzahl von Trägerplatten 1 aufweist, die jeweils mit einer elektrisch isolierenden Schicht 5 mechanisch miteinander verbunden sind. Im Gegensatz zu dem in den Figuren 3A bis 3C dargestellten Ausführungsbeispielen weisen die Trägerplatten 1 keine Spiegelsymmetrie auf, sondern sind jeweils identisch zueinander ausgebildet und angeordnet . represented, which has a plurality of carrier plates 1, which are mechanically connected to each other with an electrically insulating layer 5. Die Trägerplatte 1 ist an der Trägerplatte 1 befestigt. In contrast to the exemplary embodiments illustrated in FIGS. 3A to 3C, the carrier plates 1 have no mirror symmetry but are each designed and arranged identically to one another.
In Figur 4A ist die Vorrichtung vor dem Verfahrensschritt des Verformens der Teilbereiche 12 der Trägerplatten 1 In FIG. 4A, the device is prior to the method step of deforming the partial regions 12 of the carrier plates 1
dargestellt. Auf jeweils einem Teilbereich 12 einer shown. On in each case a partial area 12 of a
Trägerplatte 1 ist jeweils ein Halbleiterbauelement 3  Support plate 1 is a semiconductor device 3, respectively
angeordnet. Die Halbleiterbauelemente sind jeweils über arranged. The semiconductor devices are each about
Leiterbahnen elektrisch in Reihe miteinander verschaltet, wobei die Leiterbahnen auf einer elektrisch isolierenden Schicht geführt sind. Dabei führt jeweils eine Leiterbahn von einem ersten Kontakt des jeweiligen Halbleiterbauelements auf der elektrisch isolierenden Schicht, beispielsweise eine KunststoffIsolierung, zu einer benachbarten Trägerplatte 1. Der zweite Kontakt des Halbleiterbauelements kann mittels eines Durchbruchs über eine Unterseite der Trägerplatte 1 elektrisch kontaktierbar sein (nicht dargestellt) . Figur 4B zeigt den Verfahrensschritt des Aufbringens desConductors electrically connected in series with each other, wherein the conductor tracks are guided on an electrically insulating layer. In each case, a conductor track leads from a first contact of the respective semiconductor component on the electrically insulating layer, for example a plastic insulation, to an adjacent carrier plate 1. The second contact of the semiconductor component may be electrically contactable by means of an opening on a lower side of the carrier plate 1 (not shown). FIG. 4B shows the method step of applying the
Lichtleiters 2 auf den Trägerplatten 1. Die Teilbereiche 12 der jeweiligen Trägerplatten 1 sind dabei bereits derart geformt, dass sie im Wesentlichen senkrecht zur jeweiligen Hauptebene der Trägerplatten 1 stehen. Der Lichtleiter 3 weist eine Mehrzahl von Kavitäten 21 auf, die beispielsweise mittels eines Sandstrahlprozesses ausgebildet sind. Dabei sind die Kavitäten 21 jeweils in Bereichen des Lichtleiters 3 angeordnet, die mit den Teilbereichen 12 der Trägerplatten 1 übereinstimmen. Der Lichtleiter 2 kann so auf den Optical waveguide 2 on the carrier plates 1. The subregions 12 of the respective carrier plates 1 are already shaped such that they are substantially perpendicular to the respective main plane of the carrier plates 1. The light guide 3 has a plurality of cavities 21, which are formed for example by means of a sandblasting process. In this case, the cavities 21 are each arranged in regions of the optical waveguide 3 which coincide with the subregions 12 of the carrier plates 1. The light guide 2 can so on the
Trägerplatten 1 direkt angeordnet und mechanisch mit diesen verbunden werden. Die Teilbereiche und die darauf Carrier plates 1 are arranged directly and mechanically connected to these. The sections and the ones on it
angeordneten Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente 3 sind dabei in jeweils einer Kavität 21 des Lichtleiters 2 angeordnet beziehungsweise die Teilbereiche 12 und die arranged radiation-emitting semiconductor devices 3 are arranged in each case a cavity 21 of the light guide 2 or the subregions 12 and the
Halbleiterbauelemente 3 erstrecken sich jeweils in die Semiconductor devices 3 each extend into the
Kavitäten 21 des Lichtleiters 2. Cavities 21 of the light guide 2.
Der Lichtleiters 2 ist vorzugsweise aus einem elektrisch isolierenden und strahlungsdurchlässigen beziehungsweise transparenten Material. Zusätzlich kann die den Trägerplatten 1 zugewandte Oberfläche des Lichtleiters 2 eine The light guide 2 is preferably made of an electrically insulating and radiation-permeable or transparent material. In addition, the support plates 1 facing surface of the light guide 2 a
Spiegelschicht 23 aufweisen, die die von den Mirror layer 23 having the of the
Halbleiterbauelementen 3 emittierte Strahlung in Richtung der Strahlungsauskoppelfläche 22 lenkt, wodurch sich die  Semiconductor devices 3 emitted radiation in the direction of the radiation decoupling surface 22, whereby the
Auskoppeleffizienz der Vorrichtung mit Vorteil erhöht. In diesem Fall ist vorzugsweise die Spiegelschicht 23 von den Trägerplatten 1 elektrisch isoliert, beispielsweise mittels einer elektrisch isolierenden Schicht. In Figur 4C ist die elektrische Kontaktierung der Halbleiterbauelemente näher dargestellt. Insbesondere ist in dem Ausführungsbeispiel der Figur 4C das Coupling efficiency of the device advantageously increased. In this case, the mirror layer 23 is preferably electrically insulated from the carrier plates 1, for example by means of an electrically insulating layer. FIG. 4C shows the electrical contacting of the semiconductor components in greater detail. In particular, in the embodiment of Figure 4C is the
Herstellungsverfahren der Vorrichtung bereits abgeschlossen. Die Halbleiterbauelemente 3 sind in Reihe miteinander Manufacturing process of the device already completed. The semiconductor devices 3 are in series with each other
elektrisch verschaltet, wobei jeweils ein electrically interconnected, with one each
Halbleiterbauelement in elektrischem Kontakt zu einer Semiconductor device in electrical contact with a
benachbarten Trägerplatte steht. adjacent support plate is.
Im Übrigen stimmt das Ausführungsbeispiel der Figuren 4A bis 4C mit dem Ausführungsbeispiel der Figuren 3A bis 3C überein. Incidentally, the embodiment of FIGS. 4A to 4C corresponds to the embodiment of FIGS. 3A to 3C.
In Figur 5 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer In Figure 5 is another embodiment of a
Vorrichtung dargestellt, die insbesondere drei Device shown in particular three
Strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 3 aufweist. Auch wenn die Darstellung des Ausführungsbeispiels der Figur 5 von der Darstellung des Ausführungsbeispiels der Figur 3A zum Teil abweicht, stimmen diese Ausführungsbeispiele im  Radiation-emitting semiconductor devices 3 has. Although the representation of the embodiment of Figure 5 differs from the representation of the embodiment of Figure 3A in part, these embodiments are in the
Wesentlichen bis auf das dritte Halbleiterbauelement 3 überein . Substantially to the third semiconductor device 3 match.
Die einzelnen Halbleiterbauelemente 3 sind jeweils auf verschiedenen Seiten der Vorrichtung angeordnet, wobei die Strahlungsemittierende Oberfläche 32 der einzelnen The individual semiconductor components 3 are each arranged on different sides of the device, wherein the radiation-emitting surface 32 of the individual
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente 3 in das Innere des Lichtleiters 2 gerichtet sind. Bevorzugt emittieren die Halbleiterbauelemente zumindest teilweise Strahlung in unterschiedlichen Wellenlängenbereichen. Die von den  Radiation-emitting semiconductor devices 3 are directed into the interior of the light guide 2. The semiconductor components preferably emit at least partially radiation in different wavelength ranges. The of the
Halbleiterbauelementen 3 emittierte Strahlung wird in denSemiconductor devices 3 emitted radiation is in the
Lichtleiter 2 eingekoppelt und in diesem derart geführt und gestreut, dass sich eine homogene Lichtmischung der einzelnen von den Halbleiterbauelementen emittierten Strahlungen ergibt. Dadurch kann mit Vorteil eine homogene Light guide 2 is coupled and guided and scattered in this so that a homogeneous light mixture of the individual emitted from the semiconductor devices radiations results. This can be a homogeneous with advantage
Strahlungsauskoppelfläche 22 der Vorrichtung erzielt werden. Radiation decoupling surface 22 of the device can be achieved.
Die Vorrichtung eignet sich so mit Vorteil als The device is thus advantageously as
Hintergrundbeleuchtung von Beleuchtungseinheiten, wie Backlight of lighting units, like
beispielsweise LCDs (Liquid Crystal Display) . Eine For example, LCDs (Liquid Crystal Display). A
großflächige oberflächenmontierbare Vorrichtung kann so erzielt werden, die insbesondere eine gute Farbmischung und eine gleichförmige Abstrahlung im Gesamteindruck der large surface mount device can be achieved, in particular, a good color mixing and a uniform radiation in the overall impression of
Vorrichtung ermöglicht. Device allows.
Mit der Vorrichtung wird mit Vorteil erreicht, dass das Licht der einzelnen Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente 3 direkt in dem Lichtleiter 2 erzeugt und dort aufgefächert wird. Die Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente sind dabei in dem Lichtleiter 2 mittels der in dem Lichtleiter 2 ausgebildeten Kavitäten integriert. Diese Anordnung With the device is achieved with advantage that the light of the individual radiation-emitting semiconductor devices 3 is generated directly in the light guide 2 and fanned out there. The radiation-emitting semiconductor components are integrated in the optical waveguide 2 by means of the cavities formed in the optical waveguide 2. This arrangement
ermöglicht es, das Licht einer großen Anzahl von allows the light of a large number of
Halbleiterbauelementen aufzufächern, wobei es zudem möglich ist, unterschiedliche Farben der Halbleiterbauelemente effizient zu mischen. Die im Betrieb der Vorrichtung To fan out semiconductor devices, wherein it is also possible to mix different colors of the semiconductor devices efficiently. The operation of the device
entstandene Wärme kann dabei mittels einer gezielten resulting heat can by means of a targeted
Verbundkombination von Metall und Kunststoff nach außen abgeleitet werden, sodass die Entstehung von so genannten „Hot Spots" vermieden werden kann, die beispielsweise durch Addition der Wärmeleistung der einzelnen Combined combination of metal and plastic are derived to the outside, so that the emergence of so-called "hot spots" can be avoided, for example by adding the heat output of the individual
Halbleiterbauelemente entstehen kann. Insbesondere ist die Vorrichtung mit Vorteil besonders flach und kostengünstig herstellbar .  Semiconductor devices can arise. In particular, the device is advantageously particularly flat and inexpensive to produce.
In Figur 6 ist ein Strahlungsemittierendes In Fig. 6, a radiation-emitting
Halbleiterbauelement 3 dargestellt, das beispielsweise für eine Vorrichtung der Ausführungsbeispiele der Figuren 1 bis 5 geeignet ist. Das Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement 3 weist Halbleiterschichten 33 auf, die zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung geeignet sind. Die Semiconductor component 3 shown, for example, for a device of the embodiments of Figures 1 to 5 suitable is. The radiation-emitting semiconductor component 3 has semiconductor layers 33 which are suitable for generating electromagnetic radiation. The
Halbleiterschichten 33 weisen eine Strahlungsemittierende Oberfläche 32 auf, auf der ein Konverterplättchen 34 zur Konversion der von den Halbleiterschichten erzeugten Semiconductor layers 33 have a radiation-emitting surface 32, on which a converter plate 34 for the conversion of the generated by the semiconductor layers
Strahlung angeordnet sein kann. Das Halbleiterbauelement 3 weist einen ersten und einen zweiten Kontakt auf, mittels derer die Halbleiterschichten elektrisch kontaktierbar sind. Beispielsweise werden der erste und der zweite Kontakt mittels Leiterbahnen extern elektrisch angeschlossen. Der erste Kontakt, der zweite Kontakt und die Halbleiterschichten sind auf einem gemeinsamen Träger 35 angeordnet, der Radiation can be arranged. The semiconductor component 3 has a first and a second contact, by means of which the semiconductor layers are electrically contactable. For example, the first and the second contact are electrically connected externally by means of conductor tracks. The first contact, the second contact and the semiconductor layers are arranged on a common carrier 35 which
insbesondere aus einem elektrisch isolierenden Material besteht. in particular consists of an electrically insulating material.
In den Figuren 7A und 7B sind Ansichten eines Lichtleiters 2 dargestellt, der beispielsweise für eine Vorrichtung gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 4B Anwendung finden kann. FIGS. 7A and 7B show views of a light guide 2 which can be used, for example, for a device according to the exemplary embodiment of FIG. 4B.
Figur 7A zeigt eine Aufsicht auf einen Lichtleiter 2. Der Lichtleiter 2 ist insbesondere für eine Vorrichtung geeignet, die eine Mehrzahl von Strahlungsemittierenden FIG. 7A shows a plan view of a light guide 2. The light guide 2 is particularly suitable for a device which has a plurality of radiation-emitting elements
Halbleiterbauelementen aufweist. Demnach weist der Having semiconductor devices. Accordingly, the
Lichtleiter 2 eine Mehrzahl von Kavitäten 21 auf, die Optical fiber 2 a plurality of cavities 21, the
insbesondere in dem Lichtleiter 2 symmetrisch angeordnet sind. Der Lichtleiter 2 kann beispielsweise rund oder are arranged symmetrically in particular in the light guide 2. The light guide 2 may, for example, round or
rechteckförmig ausgebildet sein, wobei die Symmetrie der angeordneten Kavitäten 21 eine Spiegelsymmetrie und/oder eine Achssymmetrie ist. be formed rectangular, wherein the symmetry of the disposed cavities 21 is a mirror symmetry and / or axis symmetry.
Der Durchmesser des Lichtleiters 2 beträgt beispielsweise etwa 100 mm, liegt bevorzugt in einem Bereich zwischen 99 mm und 100 mm. Die Dicke beträgt beispielsweise etwa 1 mm. Die Kavitäten 21 weisen beispielsweise jeweils eine Länge Li von etwa 1,2 mm auf, liegen bevorzugt in einem Bereich zwischen 1,1 mm und 1,3 mm. Die Abstände Di der einzelnen Kavitäten 21 zueinander liegen beispielsweise in einem Bereich zwischen einschließlich 9 mm und 11 mm, vorzugsweise 10 mm, wobei hierbei die jeweiligen Mittelpunkte der Kavitäten als Bezug genommen werden. In die andere Richtung weisen die Kavitäten 21 beispielsweise jeweils Abstände D2 zueinander auf, die in einem Bereich zwischen einschließlich 19 mm und 21 mm, beispielsweise 20 mm liegt. Der Abstand D3 liegt bevorzugt in einem Bereich zwischen einschließlich 39 mm und 41 mm, beispielsweise 40 mm. Die Kavitäten weisen eine bevorzugte Breite Bi von einschließlich 0,1 bis 0,5 mm, beispielsweise 0,3 mm, auf . The diameter of the light guide 2 is for example about 100 mm, preferably in a range between 99 mm and 100 mm. The thickness is for example about 1 mm. The cavities 21, for example, each have a length Li of about 1.2 mm, preferably in a range between 1.1 mm and 1.3 mm. The distances Di of the individual cavities 21 to one another are, for example, in a range between 9 mm and 11 mm inclusive, preferably 10 mm, whereby in this case the respective centers of the cavities are taken as reference. In the other direction, for example, the cavities 21 each have spacings D 2 relative to one another, which lies in a range of between 19 mm and 21 mm, for example 20 mm. The distance D3 is preferably in a range between 39 mm and 41 mm inclusive, for example 40 mm. The cavities have a preferred width Bi of from 0.1 to 0.5 mm, for example 0.3 mm.
In Figur 7B ist ein Schnitt durch den Lichtleiter 2 gezeigt, der insbesondere in einem Bereich zwischen den Markierungen A, A aus dem Ausführungsbeispiel der Figur 7A liegt. Die Kavitäten 21 verlaufen dabei trichterförmig, wobei die Breite Bi in einem bevorzugten Bereich zwischen 0,1 mm und 0,5 mm, beispielsweise 0,3 mm, und die Breite B2 in einem bevorzugten Bereich zwischen einschließlich 0,4 mm und einschließlich 0,8 mm, beispielsweise 0,6 mm, liegt. FIG. 7B shows a section through the light guide 2, which lies in particular in a region between the markings A, A from the embodiment of FIG. 7A. The cavities 21 run funnel-shaped, the width Bi being in a preferred range between 0.1 mm and 0.5 mm, for example 0.3 mm, and the width B 2 in a preferred range between 0.4 mm and 0 inclusive , 8 mm, for example 0.6 mm.
In Figur 8 ist eine schematische Ansicht einer Vorrichtung gezeigt, die eine Mehrzahl von Strahlungsemittierenden FIG. 8 shows a schematic view of a device which has a plurality of radiation-emitting elements
Halbleiterbauelementen 3 auf einer Trägerplatte 1 zeigt. Die Halbleiterbauelemente 3 weisen jeweils eine gemeinsame Semiconductor devices 3 on a support plate 1 shows. The semiconductor components 3 each have a common
Hauptabstrahlrichtung 31 auf, wobei die Strahlung jeweils in den Lichtleiter 2 eingekoppelt wird und dort derart Main emission direction 31, wherein the radiation is coupled in each case in the light guide 2 and there in such a way
durchmischt wird, dass Farbortabweichungen zwischen der is mixed, that chromaticity deviations between the
Strahlung der einzelnen Halbleiterbauelemente nicht so stark auffallen wie bei einer direkten Abstrahlung. Dadurch kann mit Vorteil eine homogene Abstrahlcharakteristik der Radiation of the individual semiconductor devices not so strong stand out as with a direct radiation. As a result, a homogeneous radiation characteristic of the
Vorrichtung erzielt werden. Die Anordnung und die Ausgestaltungen der einzelnen Device can be achieved. The arrangement and the configurations of the individual
Komponenten der Vorrichtung aus Figur 8 entsprechen im  Components of the device from FIG. 8 correspond to FIG
Wesentlichen denen des Ausführungsbeispiels der Figur 4C. Im Unterschied zu dem in Figur 4C dargestellten Essentially those of the embodiment of Figure 4C. In contrast to that shown in Figure 4C
Ausführungsbeispiel weist die Vorrichtung der Figur 8 eine größere Anzahl an Halbleiterbauelementen auf, wobei die Embodiment, the device of Figure 8, a larger number of semiconductor devices, wherein the
Halbleiterbauelemente in der Vorrichtung matrixartig Semiconductor devices in the device like a matrix
angeordnet sind. Dabei sind die in derselben Reihe are arranged. They are in the same row
angeordneten Halbleiterbauelemente in Reihe miteinander elektrisch verbunden. Die einzelnen Reihen der arranged semiconductor devices in series with each other electrically connected. The individual rows of
Halbleiterbauelemente können dabei parallel geschaltet sein oder jeweils separat extern elektrisch angeschlossen werden. Semiconductor devices can be connected in parallel or separately electrically connected separately.
Der Lichtleiter 2 weist vorzugsweise jeweils eine The light guide 2 preferably has one each
Spiegelschicht, bevorzugt einen Silberspiegel, auf Mirror layer, preferably a silver mirror, on
Seitenflächen und auf der der Trägerplatte 1 zugewandtenSide surfaces and on the support plate 1 facing
Oberfläche auf. Ferner weisen jeweils vorzugsweise die Seiten der Halbleiterbauelemente, die der Strahlungsemittierenden Oberfläche gegenüberliegen, eine Spiegelschicht 23 auf. So wird mit Vorteil das von den einzelnen Bauelementen Surface on. Furthermore, in each case, preferably, the sides of the semiconductor components, which lie opposite the radiation-emitting surface, have a mirror layer 23. This is the advantage of the individual components
emittierte Licht nicht von benachbarten emitted light not from neighboring
Halbleiterbauelementen absorbiert, sondern in Richtung einer Strahlungsauskoppelfläche 22 geleitet, die von der der  Absorbs semiconductor devices, but directed in the direction of a radiation decoupling surface 22, which of the
Trägerplatte 1 gegenüberliegenden Oberfläche des Lichtleiters 2 gebildet ist. Bevorzugt weist die Strahlungsauskoppelfläche 22 eine Aufrauung auf, sodass sich die Support plate 1 opposite surface of the light guide 2 is formed. Preferably, the radiation decoupling surface 22 on a roughening, so that the
Strahlungsauskoppleffizienz erhöht. Eine strahlungseffiziente Vorrichtung ermöglicht sich so mit Vorteil. Die Halbleiterbauelemente 3 weisen vorzugsweise jeweils ein Konverterplättchen 34 auf der Strahlungsemittierenden Radiation decoupling efficiency increased. A radiation-efficient device is thus possible with advantage. The semiconductor components 3 preferably each have a converter plate 34 on the radiation-emitting
Oberfläche 32 auf. Diese können herkömmlicherweise zu einem Gelbeindruck im stromlosen Zustand der Vorrichtung führen, was jedoch bei manchen Anwendungen, wie beispielsweise in Handys, von externen Betrachtern als störend wahrgenommen wird. Durch die spezielle Integration der Surface 32 on. These can traditionally lead to a yellow impression in the de-energized state of the device, which is perceived in some applications, such as in mobile phones, from external observers as disturbing. Due to the special integration of the
Halbleiterbauelemente 3 in dem Lichtleiter 2, bei der die Halbleiterbauelemente 3 und das Konverterplättchen 34  Semiconductor devices 3 in the light guide 2, in which the semiconductor devices 3 and the converter plate 34th
parallel zur Strahlungsaustrittsfläche 22 stehen, werden die Konverterplättchen und damit der verbundene Gelbeindruck mit bloßem Auge nicht oder nur unwesentlich wahrgenommen. Dieser Effekt wird durch die sehr dünne Ausgestaltung des are parallel to the radiation exit surface 22, the converter plates and thus the associated yellowness are not or only slightly perceived by the naked eye. This effect is due to the very thin design of the
Halbleiterbauelements, das beispielsweise etwa 6 ym dünn ist, und des Konverterplättchens , das beispielsweise etwa 20 ym dünn ist, weiter verstärkt. Semiconductor device, for example, about 6 ym thin, and the converter plate, which is for example about 20 ym thin, further amplified.
Ist für die vorgesehene Anwendung der Vorrichtung Strahlung im weißen Farbortbereich gewünscht, emittieren die Is desired for the intended use of the device radiation in the white Farbortbereich emit the
Halbleiterbauelemente 3 vorzugsweise blaue Strahlung, die durch ein Konverterplättchen in Strahlung im gelben Semiconductor devices 3 preferably blue radiation passing through a converter plate in radiation in the yellow
Farbortbereich umgewandelt wird. Durch eine effiziente Color locus is converted. Through an efficient
Farbmischung entsteht so weißes Licht, wobei durch die Color mixing thus creates white light, whereby through the
Überlagerungen der einzelnen Strahlungen in dem Lichtleiter 2 Farbortabweichungen mit Vorteil reduziert werden können, sodass diese mit bloßem Auge nicht oder kaum mehr auffallen. Overlays of the individual radiations in the light guide 2 Farbortabweichungen can be reduced with advantage, so that they are not or barely noticeable to the naked eye.
Zudem kann eine Farborteinstellung mittels zusätzlicher In addition, a color locus setting by means of additional
Kavitäten 21 im Lichtleiter 2 ermöglicht werden. Hierzu werden die zusätzlichen Kavitäten 21 mit einer Konvertermasse vergossen, wobei der gewünschte Weißpunkt durch dieses Cavities 21 in the light guide 2 are made possible. For this purpose, the additional cavities 21 are potted with a converter compound, wherein the desired white point through this
Befüllen der zusätzlichen Kavitäten für jedes Fill the additional wells for each
Halbleiterbauelement eingestellt werden kann. In den zusätzlichen Kavitäten 21 sind insbesondere keine weiterenSemiconductor device can be adjusted. In the additional cavities 21 are in particular no further
Halbleiterbauelemente und/oder Teilbereiche angeordnet. Semiconductor devices and / or subranges arranged.
Durch die Integration einer Vielzahl von By integrating a variety of
Halbleiterbauelementen in dem Lichtleiter 2 wird mit Vorteil eine hohe Leuchtdichte erzielt. Der Strahlengang wird durch Einstellen des Abstands zwischen Konverterplättchen und Semiconductor devices in the light guide 2 is achieved with high brightness advantageously. The beam path is set by adjusting the distance between converter plates and
Halbleiterbauelement eingestellt, sodass die Lichtverteilung in der Vorrichtung optimiert werden kann. Semiconductor device set so that the light distribution in the device can be optimized.
In Figur 8 ist ein Oberflächenemitter dargestellt, der insbesondere zur Hinterleuchtung von Displays, FIG. 8 shows a surface emitter which is used, in particular, for the backlighting of displays.
Flachbildschirmen oder zur Allgemeinbeleuchtung Anwendung finden kann. Flat screens or general lighting can be used.
In den Figuren 9 und 10 ist jeweils ein Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung gezeigt, bei der der Lichtleiter FIGS. 9 and 10 each show an exemplary embodiment of a device in which the light guide
zylinderförmig ausgebildet ist. Der Lichtleiter 2 weist eine Haupterstreckungsrichtung 25 auf, die sich entlang der is cylindrical. The light guide 2 has a main extension direction 25 which extends along the
Hauptebene 11 der Trägerplatte 1 erstreckt. Der Lichtleiter 2 ist somit ein liegender Zylinder, der direkt auf der Main plane 11 of the support plate 1 extends. The light guide 2 is thus a horizontal cylinder, directly on the
Trägerplatte 1 aufliegt. Support plate 1 rests.
Die Trägerplatte 1 ist in dem Ausführungsbeispiel der Figur 9A der Übersicht halber nicht dargestellt. Auf der von der Trägerplatte abgewandten Seite des Lichtleiters 2 ist The support plate 1 is not shown in the embodiment of Figure 9A for clarity. On the side facing away from the carrier plate side of the light guide 2 is
bereichsweise eine Spiegelschicht angeordnet, sodass die Strahlungsauskoppelung aus der Vorrichtung lediglich in einem dafür vorgesehenen Bereich S ermöglicht wird. Diese arranged in regions a mirror layer, so that the radiation decoupling from the device is only possible in a designated area S. These
Vorrichtung findet beispielsweise als oberflächenmontierbarer Strahlungskörper Verwendung, der insbesondere als Blitzlicht Anwendung finden kann. Das Ausführungsbeispiel der Figur 9A stimmt im Übrigen mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 3A überein. Device is used, for example, as a surface-mountable radiation body, which can be used in particular as a flash. The embodiment of Figure 9A coincides otherwise with the embodiment of Figure 3A.
In Figur 9B ist ein Schnitt durch eine Vorrichtung des FIG. 9B is a section through a device of FIG
Ausführungsbeispiels der Figur 9A dargestellt. In dem Embodiment of Figure 9A shown. By doing
zylinderförmigen Lichtleiter 2 ist das Strahlungsemittierende Halbleiterbauelement 3 integriert, wobei auf dem cylindrical light guide 2, the radiation-emitting semiconductor device 3 is integrated, wherein on the
Halbleiterbauelement vorzugsweise ein Konverterplättchen 34 angeordnet ist. Die Hauptabstrahlrichtung des Semiconductor component preferably a converter plate 34 is arranged. The main radiation direction of the
Halbleiterbauelements sowie die Ausrichtung des Semiconductor device as well as the orientation of the
Konverterplättchens stehen vorzugsweise parallel zur  Converter plates are preferably parallel to
Strahlungsauskoppelfläche 22 der Vorrichtung. Dadurch kann mit Vorteil eine Homogenisierung des abgestrahlten Lichts, insbesondere des weiß abgestrahlten Lichts, erzielt werden. Ferner wird ein Gelbeindruck, der durch das Radiation decoupling surface 22 of the device. As a result, it is advantageously possible to achieve homogenization of the emitted light, in particular of the white light emitted. Furthermore, a yellow impression, by the
Konverterplättchen 34 auftreten kann, mit Vorteil reduziert, was insbesondere bei Blitzlichtern von Vorteil ist.  Converter plate 34 may occur, advantageously reduced, which is particularly advantageous in flash lights.
Die Trägerplatte 1 ist, wie in dem Ausführungsbeispiel der Figur 9B dargestellt, derart geformt, dass die Trägerplatte 1 vollständig an der Mantelfläche 26 des Lichtleiters 2 The support plate 1 is, as shown in the embodiment of Figure 9B, shaped such that the support plate 1 completely on the outer surface 26 of the light guide. 2
anliegt. Dabei wird jedoch ein Bereich der Mantelfläche 26 des Lichtleiters 2 nicht von der Trägerplatte 1 umgeben, sodass in diesem Bereich eine Strahlungsauskopplung is applied. In this case, however, an area of the lateral surface 26 of the light guide 2 is not surrounded by the support plate 1, so that in this area a radiation extraction
gewährleistet wird. Der Trägerkörper 1 kann auf einer is guaranteed. The carrier body 1 can on a
Wärmesenke 8 angeordnet sein, durch die die im Betrieb erzeugte Wärme gezielt von dem Halbleiterbauelement 3 nach außen abgeführt werden kann. Das Ausführungsbeispiel der Figur 10A entspricht im Heat sink 8 may be arranged, through which the heat generated during operation can be selectively dissipated from the semiconductor device 3 to the outside. The embodiment of FIG. 10A corresponds to FIG
Wesentlichen dem Ausführungsbeispiel der Figur 9A, wobei der Übersicht halber die Kontaktanschlüsse 6 nicht dargestellt sind, jedoch der Trägerkörper 1 gezeigt ist. Der Lichtleiter 2 weist ferner im Unterschied zu dem Ausführungsbeispiel der Figur 9A eine Spiegelschicht 23, vorzugsweise einen Essentially the embodiment of Figure 9A, wherein the sake of clarity, the contact terminals 6 are not shown, but the carrier body 1 is shown. The light guide 2 also has a mirror layer 23, preferably one, in contrast to the exemplary embodiment of FIG. 9A
Silberspiegel, auf der der Trägerplatte zugewandten Seite des Lichtleiters 3 oder direkt auf der Trägerplatte 1 auf. So kann gezielt die von den Halbleiterbauelementen emittierte Strahlung, die in Richtung Trägerkörper 1 geführt wird, in Richtung Strahlungsauskoppelfläche 22 gelenkt werden. Silver mirror on the carrier plate facing side of the light guide 3 or directly on the support plate 1 on. Thus, the radiation emitted by the semiconductor components, which is guided in the direction of the carrier body 1, can be specifically directed in the direction of the radiation coupling-out surface 22.
In Figur 10B ist eine Aufsicht auf eine Vorrichtung gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 10A dargestellt. Da der FIG. 10B shows a plan view of a device according to the exemplary embodiment of FIG. 10A. Since the
Lichtleiter 2 strahlungsdurchlässig ausgebildet ist, ist in Aufsicht auf die Vorrichtung die Spiegelschicht 23 sichtbar.  Optical fiber 2 is designed to be transparent to radiation, the mirror layer 23 is visible in supervision of the device.
Die Vorrichtung weist eine Länge L auf, die vorzugsweise in einem Bereich zwischen einschließlich 0,9 cm und The device has a length L which is preferably in a range of between 0.9 cm and
einschließlich 1,1 cm liegt, beispielsweise 1 cm beträgt. Die Breite B der Vorrichtung liegt vorzugsweise in einem Bereich zwischen einschließlich 0,9 mm und einschließlich 1,1 mm, beträgt beispielsweise 1 mm. Das Halbleiterbauelement weist zusammen mit dem Konverterplättchen eine Dicke von etwa 0 , 1 mm auf . including 1.1 cm, for example, is 1 cm. The width B of the device is preferably in a range between 0.9 mm inclusive and 1.1 mm inclusive, for example 1 mm. The semiconductor device has a thickness of about 0.1 mm together with the converter plate.
In den Figuren I IA bis 11E sind jeweils Ausführungsbeispiele einer Vorrichtung in verschiedenen Verfahrensstadien gezeigt. Insbesondere wird in den Figuren I IA bis 11E die Herstellung eines Lichtleiters 3, der als transversaler Zylinderstrahler ausgebildet ist, dargestellt. In the figures I IA to 11E each embodiment of a device in different stages of the method are shown. In particular, the production of a light guide 3, which is designed as a transverse cylindrical radiator, is shown in FIGS. 1A to 11E.
In Figur I IA ist eine Aufsicht auf eine Trägerplatte 1 dargestellt, in der Teilbereiche 12 ausgebildet sind. DieFIG. 11A shows a plan view of a carrier plate 1, in which partial regions 12 are formed. The
Teilbereiche 12 sind beispielsweise mittels eines Stanz- oder eines Ätzprozesses hergestellt. Vorzugsweise ist die Subregions 12 are produced, for example, by means of a stamping or an etching process. Preferably, the
Trägerplatte 1 ein gestanztes Metallblech oder eine Metallkunststoff erbundfolie . Die Trägerplatte bildet eine Hauptebene aus, die in Figur IIA in der Zeichenebene liegt. Support plate 1 a punched metal sheet or a Metal plastic composite foil. The carrier plate forms a main plane, which lies in the drawing plane in FIG. 11A.
In Figur IIB ist ein Querschnitt durch die Trägerplatte 1 des Ausführungsbeispiels der Figur IIA gezeigt. Die Teilbereiche 12 liegen hierbei noch in der Hauptebene der Trägerplatte 1. Auf die Teilbereiche 12 werden anschließend jeweils ein FIG. IIB shows a cross section through the carrier plate 1 of the embodiment of FIG. IIA. The subregions 12 are still in the main plane of the support plate 1. Subsections 12 are then each one
Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement montiert und elektrisch angeschlossen (nicht dargestellt) . Radiation-emitting semiconductor device mounted and electrically connected (not shown).
Anschließend werden, wie in den Figuren HC und HD Then, as in the figures HC and HD
dargestellt, die Teilbereiche 12 der Trägerplatte 1 aus ihrer ursprünglichen Position gedreht, wobei die Drehachse in diesem Beispiel durch die Halbleiterbauelement-Mittellinie verläuft. shown, the portions 12 of the support plate 1 is rotated from its original position, wherein the axis of rotation in this example passes through the semiconductor device center line.
Die Halbleiterbauelemente sind 3 dabei derart elektrisch kontaktiert, dass jeweils ein elektrischer Anschluss eines Halbleiterbauelements 3 über eine Leiterbahn 7 mit einem benachbarten elektrischen Anschluss eines benachbarten In this case, the semiconductor components 3 are electrically contacted such that in each case one electrical connection of a semiconductor component 3 via a conductor track 7 to an adjacent electrical connection of an adjacent one
Halbleiterbauelements 3 elektrisch miteinander verbunden ist. Die elektrischen Anschlüsse eines Halbleiterbauelements 3 sind dabei jeweils mittels eines Abstands und/oder einer elektrisch isolierenden Schicht voneinander elektrisch isoliert, um einen Kurzschluss zu unterbinden.  Semiconductor device 3 is electrically connected to each other. The electrical connections of a semiconductor component 3 are in each case electrically insulated from one another by means of a spacing and / or an electrically insulating layer in order to prevent a short circuit.
In Figur HD ist ein Querschnitt der Trägerplatte aus Figur HC dargestellt. Vorzugsweise findet eine 90°-Drehung der Teilbereiche statt, sodass die Teilbereiche 12 zur Hauptebene 11 im Wesentlichen senkrecht stehen. In Figure HD, a cross section of the support plate of Figure HC is shown. Preferably, a 90 ° rotation of the subregions takes place, so that the subregions 12 are substantially perpendicular to the main plane 11.
Die in Figur HC dargestellte Trägerplatte 1 wird The carrier plate 1 shown in Figure HC is
anschließend, wie in Figur HE dargestellt, in einer Spritzgussform 9 angeordnet. Eine Mehrzahl von Lichtleitern 2 wird anschließend mittels einer Moldtechnik oder einer then, as shown in Figure HE, in a Injection mold 9 arranged. A plurality of optical fibers 2 is then by means of a molding technique or a
Gießtechnik aus einem strahlungsdurchlässigen und Casting technique of a radiation-permeable and
vorzugsweise UV-beständigen Material, wie beispielsweise Silikon, geformt. Insbesondere wird so ein Modul erzeugt, das eine Vielzahl von gemoldeten Lichtleitern 2 aufweist, die insbesondere als Zylinderstrahler ausgebildet sind. preferably UV-resistant material, such as silicone molded. In particular, such a module is produced, which has a multiplicity of molded optical waveguides 2, which are designed in particular as cylindrical radiators.
Die elektrischen Anschlüsse der Halbleiterbauelemente 3 sind dabei aus den Lichtleitern 2 herausgeführt, sodass die The electrical connections of the semiconductor devices 3 are led out of the optical fibers 2, so that the
Halbleiterbauelemente 3 extern elektrisch anschließbar sind.  Semiconductor devices 3 are electrically connected externally.
Anschließend können die einzelnen Lichtleiter 2 vereinzelt werden, wobei die Kontakte dabei mittels eines Schnittes oder eines Biegens derart geformt werden, dass die Subsequently, the individual light guides 2 can be singulated, wherein the contacts are thereby formed by means of a cut or a bending such that the
Halbleiterbauelemente auch weiterhin elektrisch von extern kontaktierbar sind (nicht dargestellt) .  Semiconductor devices continue to be electrically contacted from external (not shown).
Die Lichtleiter 2 können anschließend in einem The light guide 2 can then in a
oberflächenmontierbaren Grundkörper 10 angeordnet werden, wie in Figur 12 gezeigt. Hierzu weist der Grundkörper 10 surface mountable body 10 are arranged, as shown in Figure 12. For this purpose, the main body 10th
vorzugsweise eine zylinderförmige Aufnahme für den preferably a cylindrical receptacle for the
Lichtleiter 2 auf. Beispielsweise ist der Grundkörper 10 ein Kunststoffverguss , der eine zylinderförmige Ausnehmung aufweist. An dem Grundkörper 10 sind auf der von dem Light guide 2 on. For example, the base body 10 is a Kunststoffverguss having a cylindrical recess. On the base body 10 are on the of the
Lichtleiter 2 abgewandten Seite Kontaktanschlüsse 6, Light guide 2 opposite side contact terminals 6,
insbesondere Metallanschlüsse, angeordnet, mit denen die aus dem Lichtleiter 2 herausgeführten elektrischen Anschlüsse der Halbleiterbauelemente 3 elektrisch leitend verbunden werden können. In particular, metal terminals, arranged, with which the led out of the light guide 2 electrical connections of the semiconductor devices 3 can be electrically connected.
Die Ausnehmung des Grundkörpers 10 weist vorzugsweise eine Spiegelschicht auf, beispielsweise eine Silberspiegelschicht, sodass die von den Halbleiterbauelementen emittierte The recess of the main body 10 preferably has a mirror layer, for example a silver mirror layer, so that emitted from the semiconductor devices
Strahlung gezielt zur Strahlungsauskoppelfläche 22 hin gelenkt werden kann. Durch ein wie in den Figuren IIA bis 11E und 12 gezeigten Herstellungsverfahren können mit Vorteil auch asphärische transversale Zylinderstrahler als Lichtleiter 2 hergestellt werden, die insbesondere Anwendung finden bei Blitzlichtern für Nah- und Fernfeld. Ein derartiges Beispiel eines Radiation targeted to the radiation decoupling surface 22 can be directed out. By means of a production method as shown in FIGS. 11A to 11E and 12, aspherical transverse cylindrical radiators can also be advantageously produced as light guides 2, which are used in particular for near and far field flashlights. Such an example of a
asphärischen transversalen Zylinderstrahlers als Lichtleiter ist in dem Ausführungsbeispiel der Figur 13 dargestellt. Aspherical transverse cylindrical radiator as a light guide is shown in the embodiment of Figure 13.
Im Übrigen stimmt das Ausführungsbeispiel der Figur 13 mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 9B überein. Incidentally, the embodiment of FIG. 13 is the same as the embodiment of FIG. 9B.
In den Figuren 14A bis 14E sind jeweils schematische In Figs. 14A to 14E are respectively schematic
Ansichten von Ausführungsbeispielen von Vorrichtungen Views of embodiments of devices
gezeigt, die jeweils einen zylinderförmigen Lichtleiter 2 aufweisen. Die Lichtleiter 2 sind jeweils auf einer shown, each having a cylindrical light guide 2. The light guides 2 are each on one
Trägerplatte 1 angeordnet. Support plate 1 is arranged.
Die Vorrichtung des Ausführungsbeispiels der Figur 14A weist eine Mehrzahl von Strahlungsemittierenden The device of the embodiment of Figure 14A has a plurality of radiation emitters
Halbleiterbauelementen 3 auf, die mittels des Semiconductor devices 3, which by means of
zylinderförmigen Lichtleiters 2 umschlossen sind. Hierzu weist der zylinderförmige Lichtleiter 2 Kavitäten auf, in denen die Halbleiterbauelemente angeordnet sind. Insbesondere ist der Lichtleiter 2 direkt mit der Trägerplatte 1 cylindrical light guide 2 are enclosed. For this purpose, the cylindrical light guide 2 has cavities in which the semiconductor components are arranged. In particular, the light guide 2 is directly connected to the carrier plate 1
mechanisch verbunden. mechanically connected.
Im Übrigen stimmt das Ausführungsbeispiel der Figur 14A mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 4C überein. In Figur 14C ist eine Ansicht eines Ausführungsbeispiels einer Vorrichtung gezeigt, bei der die Trägerplatte 1 Incidentally, the embodiment of FIG. 14A is identical to the embodiment of FIG. 4C. FIG. 14C shows a view of an exemplary embodiment of a device in which the carrier plate 1
entsprechend einer Mantelfläche 26 des Lichtleiters 2 geformt ist, sodass der Lichtleiter 2 in der geformten Trägerplatte 1 angeordnet ist. Dabei ist die Trägerplatte 1 jedoch nur in einem Bereich der Mantelfläche 26 des Lichtleiters 2 is formed according to a lateral surface 26 of the light guide 2, so that the light guide 2 is arranged in the shaped support plate 1. However, the carrier plate 1 is only in a region of the lateral surface 26 of the light guide second
angeordnet, sodass bereichsweise eine Strahlungsauskopplung der von den Halbleiterbauelementen emittierten Strahlung im Bereich S des Lichtleiters 2 gewährleistet werden kann. Im Bereich der Trägerplatte 1 ist die Mantelfläche 26 des arranged, so that in some areas a radiation extraction of the radiation emitted by the semiconductor devices radiation in the region S of the light guide 2 can be ensured. In the region of the support plate 1, the lateral surface 26 of the
Lichtleiters 2 vorzugsweise verspiegelt, beispielsweise mittels eines Silberspiegels. Die Strahlungsauskoppelfläche 22 dagegen weist vorzugsweise Strahlungsauskoppelstrukturen auf, wie beispielsweise eine Aufrauung oder Optical fiber 2 preferably mirrored, for example by means of a silver mirror. The radiation output surface 22, however, preferably has radiation coupling-out structures, such as a roughening or
Strahlungsauskoppelprismen. Auf der der Strahlungsauskoppelprismen. On the the
Strahlungsauskoppelfläche 22 gegenüberliegenden Seite der Vorrichtung sind Anschlusskontakte 6 angeordnet, die  Radiation decoupling surface 22 opposite side of the device terminal contacts 6 are arranged, the
gleichzeitig als Wärmesenke dienen können. Die Strahlungsauskopplung ist in dem Ausführungsbeispiel der Figur 4C durch Pfeile dargestellt. can simultaneously serve as a heat sink. The radiation decoupling is shown by arrows in the embodiment of FIG. 4C.
Im Übrigen stimmt das Ausführungsbeispiel der Figur 14C mit dem Ausführungsbeispiel der Figur 3A überein. Incidentally, the embodiment of FIG. 14C is the same as the embodiment of FIG. 3A.
Das Ausführungsbeispiel der Figur 14D unterscheidet sich von dem Ausführungsbeispiel der Figur 14C dadurch, dass die The embodiment of Figure 14D differs from the embodiment of Figure 14C in that the
Halbleiterbauelemente 3 nicht spiegelsymmetrisch zueinander angeordnet sind. Insbesondere stimmt die Anordnung der einzelnen Halbleiterbauelemente des Ausführungsbeispiels der Figur 14D mit der Anordnung der Halbleiterbauelemente des Ausführungsbeispiels der Figuren 4B und 4C überein. In Figur 14B ist im Wesentlichen die Vorrichtung des Semiconductor devices 3 are not arranged mirror-symmetrically to each other. In particular, the arrangement of the individual semiconductor components of the exemplary embodiment of FIG. 14D coincides with the arrangement of the semiconductor components of the exemplary embodiment of FIGS. 4B and 4C. In FIG. 14B, essentially the device of FIG
Ausführungsbeispiels der Figur 14C dargestellt, wobei die Vorrichtung mittels zweier Klemmen 11, vorzugsweise Embodiment of Figure 14C, wherein the device by means of two terminals 11, preferably
Kupferklemmen, mechanisch montierbar ist. Insbesondere ist die Vorrichtung mittels dieser zwei Klemmen 11 mechanisch, elektrisch und thermisch anschließbar. Vorzugsweise sind die Kupferklemmen 11 bänderförmig ausgebildet. Copper terminals, mechanically mountable. In particular, the device by means of these two terminals 11 mechanically, electrically and thermally connectable. Preferably, the copper terminals 11 are formed band-shaped.
In Figur 14E ist ein Querschnitt des Ausführungsbeispiels der Vorrichtung aus Figur 14B dargestellt. Das FIG. 14E shows a cross section of the embodiment of the device from FIG. 14B. The
Ausführungsbeispiel der Figur 14E unterscheidet sich von dem Ausführungsbeispiel der Figur 9B im Wesentlichen dadurch, dass die mechanische Anbindung mittels einer Klemme 11, insbesondere einer Kupferklemme, gewährleistet wird.  Embodiment of Figure 14E differs from the embodiment of Figure 9B essentially in that the mechanical connection is ensured by means of a terminal 11, in particular a copper terminal.
In Figur 14F ist ein Modul gezeigt, das sich aus einer In FIG. 14F a module is shown, which consists of a
Mehrzahl von strahlungsemittierenden Vorrichtungen gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 14B zusammensetzt. Das Modul weist demnach eine Mehrzahl von transversalen A plurality of radiation-emitting devices according to the embodiment of Figure 14B composed. The module therefore has a plurality of transversal
Zylinderstrahlern 2 auf, wobei eine Mehrzahl von Cylinder radiators 2, wherein a plurality of
Halbleiterbauelementen 3 Verwendung findet. Dadurch kann insbesondere ein Modul erzeugt werden, das sich insbesondere zur Hinterleuchtung von beispielsweise Flachbildschirmen, Strahlungsquellen für Allgemeinbeleuchtung oder zur  Semiconductor devices 3 is used. As a result, it is possible in particular to produce a module which is particularly suitable for the backlighting of, for example, flat-panel displays, radiation sources for general lighting or for
Integration in Halogenfluter-Ersatzanwendungen eignet. Integration in halogen replacement applications is suitable.
Die Hauptabstrahlrichtung 4 der Vorrichtung sowie die The main emission direction 4 of the device and the
Hauptabstrahlrichtungen 31 der Halbleiterbauelemente sind in Figur 14F als Pfeile dargestellt. Principal emission directions 31 of the semiconductor components are shown as arrows in FIG. 14F.
Durch die Kupferklemmen 11 sind die einzelnen Vorrichtungen in dem Modul montierbar und können dadurch elektrisch Through the copper terminals 11, the individual devices can be mounted in the module and thereby electrically
kontaktiert werden, wobei gleichzeitig die im Betrieb entstandene Wärme über die Kupferklemmen 11 effizient nach außen abgeleitet werden kann. be contacted, while at the same time in operation resulting heat over the copper terminals 11 can be efficiently dissipated to the outside.
In Figur 15A ist eine Vorrichtung dargestellt, die eine FIG. 15A shows a device which has a
Trägerplatte 1 aufweist, die eine Mehrzahl von Durchbrüchen 14 enthält. Die Trägerplatte 1 ist beispielsweise eine Support plate 1, which contains a plurality of openings 14. The support plate 1 is for example a
Kunstharzleiterplatte. Die Trägerplatte bildet eine Resin circuit board. The carrier plate forms a
Hauptebene 11 aus, die in der xy-Ebene liegt. Als Durchbruch ist insbesondere eine Aussparung der Trägerplatte 1 zu verstehen, in der kein Trägerplattenmaterial angeordnet ist, insbesondere vollständig entfernt ist. Im Unterschied zu dem Teilbereich der Trägerplatte beispielsweise des Main level 11, which lies in the xy plane. As a breakthrough is in particular a recess of the support plate 1 to understand in which no support plate material is arranged, in particular is completely removed. In contrast to the subregion of the carrier plate, for example the
Ausführungsbeispiels der Figur 1 ist das Embodiment of Figure 1 is the
Trägerplattenmaterial im Bereich eines Durchbruchs somit nicht lediglich aus der Hauptebene 11 herausgebogen, sondern vollständig entfernt.  Support plate material in the region of a breakthrough thus not only bent out of the main plane 11, but completely removed.
Die Vorrichtung weist weiter eine Mehrzahl von The device further comprises a plurality of
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen 3 auf. Die Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente 3 weisen dabei eine laterale Ausdehnungsebene in der yz-Ebene auf. Radiation-emitting semiconductor devices 3 on. In this case, the radiation-emitting semiconductor components 3 have a lateral expansion plane in the yz plane.
Insbesondere sind die Halbleiterbauelemente 3 vertikal zu der Trägerplatte 1 angeordnet. Beispielsweise stehen die In particular, the semiconductor devices 3 are arranged vertically to the carrier plate 1. For example, stand the
Halbleiterbauelemente 3 in einem Winkel von etwa 90 ° zur Hauptebene der Trägerplatte 1. Die StrahlungsemittierendenSemiconductor devices 3 at an angle of about 90 ° to the main plane of the support plate 1. The radiation-emitting
Halbleiterbauelemente 3 sind jeweils zumindest bereichsweise durch einen Durchbruch 14 der Trägerplatte 1 geführt. Eine Strahlungsemittierende Oberfläche 32 des Semiconductor devices 3 are each guided at least partially through an opening 14 of the support plate 1. A radiation emitting surface 32 of the
Halbleiterbauelements 3 ist dabei jeweils oberhalb der Semiconductor device 3 is in each case above the
Trägerplatte 1 angeordnet. Eine elektrische Kontaktierung der Halbleiterbauelemente erfolgt jeweils unterhalb der Support plate 1 is arranged. An electrical contacting of the semiconductor components takes place below the respective
Trägerplatte 1. Die Halbleiterbauelemente sind dabei also jeweils vertikal zur Hauptebene 11 der Trägerplatte 1 montiert und sind dabei jeweils mit einem verlängerten elektrischen Anschlussbereich 36 in jeweils einem Durchbruch 14 der Trägerplatte 1 Support plate 1. In this case, the semiconductor components are each mounted vertically to the main plane 11 of the carrier plate 1 and are each provided with an extended electrical connection region 36 in each case in an opening 14 of the carrier plate 1
integriert. Zur elektrischen Kontaktierung erfolgt dabei jeweils eine Leiterbahnendurchführung durch den Durchbruch 14 der Trägerplatte 1 mittels des verlängerten elektrischen Anschlussbereichs 36. In Figur 15A ist die Vorrichtung vor dem Verfahrensschritt des Aufbringens eines Lichtleiters dargestellt. integrated. In order to make electrical contact, in each case a printed conductor leadthrough takes place through the opening 14 of the carrier plate 1 by means of the extended electrical connection region 36. FIG. 15A shows the device before the process step of applying a light guide.
Eine gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 15A ausgebildete Vorrichtung ist mit Vorteil besonders flächig ausgebildet. Beispielsweise weist die Vorrichtung so eine Gesamthöhe von kleiner 2 mm auf. Die Halbleiterbauelemente emittieren dabei jeweils Strahlung entlang der Hauptebene 11 der Trägerplatte 1. In Aufsicht auf die Vorrichtung weisen die A trained according to the embodiment of Figure 15A device is advantageously formed particularly flat. For example, the device thus has an overall height of less than 2 mm. In this case, the semiconductor components each emit radiation along the main plane 11 of the carrier plate 1. In a plan view of the device, the
Halbleiterbauelemente 3 jeweils eine geringe laterale Semiconductor devices 3 each have a small lateral
Ausdehnung von höchstens einigen 100 μιη auf, und sind so vorteilhafterweise von einem Beobachter mit bloßem Auge kaum wahrnehmbar . Extension of at most a few 100 μιη, and are thus advantageously barely perceptible by an observer with the naked eye.
In Figur 15B ist ein Querschnitt des Ausführungsbeispiels zu Figur 15A dargestellt. Die Höhe HT der Trägerplatte 1 liegt dabei in einem Bereich zwischen einschließlich 0,2 mm und 1 mm. Die Höhe der Strahlungsemittierenden Oberflächen der Halbleiterbauelemente 3, also die Höhe Hs, die die FIG. 15B shows a cross section of the exemplary embodiment of FIG. 15A. The height H T of the support plate 1 is in a range between 0.2 mm and 1 mm. The height of the radiation-emitting surfaces of the semiconductor components 3, that is, the height H s that the
Halbleiterbauelemente über die Trägerplatte 1 hinausragen, liegt ebenfalls in einem Bereich zwischen einschließlich 0,2 mm und 1 mm. An einer der Strahlungsemittierenden Oberfläche 32 eines Halbleiterbauelements 3 gegenüberliegenden Seite ist ein Wärmeelement 8, beispielsweise eine Metallplatte, zur Semiconductor devices protrude beyond the support plate 1, is also in a range between 0.2 mm and 1 mm. On a side opposite to the radiation-emitting surface 32 of a semiconductor device 3 is a heat element 8, for example a metal plate, for
verbesserten Wärmeabfuhr angeordnet. Das Wärmeelement 8 ist dabei durch den Durchbruch 14 der Trägerplatte 1 geführt und winkelförmig mit der Unterseite der Trägerplatte 1 verbunden. arranged improved heat dissipation. The heat element 8 is guided through the opening 14 of the support plate 1 and angularly connected to the underside of the support plate 1.
Das Halbleiterbauelement 3 mit dem Wärmeelement 8 und/oder das Wärmeelement 8 können dabei mittels metallischen The semiconductor device 3 with the heat element 8 and / or the heat element 8 can thereby by means of metallic
Federkontakten elektrisch kontaktiert sein (nicht Spring contacts to be electrically contacted (not
dargestellt) . Die Federkontakte sind dabei im Durchbruch 14 der Trägerplatte 1 eingebracht. shown). The spring contacts are introduced in the opening 14 of the support plate 1.
Alternativ können die Halbleiterbauelemente mittels eines Trägers an die Innenseiten der Durchbrüche der Trägerplatte wärmeangekoppelt sein. In diesem Fall ist die Trägerplatte beispielsweise eine Alugrundplatte mit elektrisch isolierten Durchbrüchen. Zur elektrischen Isolation und elektrischen Kontaktierung finden beispielsweise Kontaktierungseinsätze Verwendung. Alternatively, the semiconductor devices may be heat coupled to the insides of the apertures of the carrier plate by means of a carrier. In this case, the support plate, for example, an Alugrundplatte with electrically insulated openings. For electrical insulation and electrical contacting find, for example, Kontaktierungseinsätze.
Alternativ kann eine Mehrschichtkeramik mit integrierten Leiterbahnen und Funktionalitäten als Trägerplatte Anwendung finden . Alternatively, a multilayer ceramic with integrated conductors and functionalities can be used as a carrier plate.
Die elektrische Kontaktierung der Halbleiterbauelemente 3 erfolgt jeweils unterhalb der Trägerplatte 1 mittels The electrical contacting of the semiconductor components 3 takes place in each case below the carrier plate 1 by means of
Leiterbahnen 7. Die elektrische Kontaktierung ist in den Figuren 15D und 16B näher erläutert. Conductor tracks 7. The electrical contacting is explained in more detail in FIGS. 15D and 16B.
In Figur 15C ist ein Strahlungsemittierendes In Fig. 15C, a radiation-emitting
Halbleiterbauelement 3 dargestellt, das beispielsweise für eine Vorrichtung der Ausführungsbeispiele der Figuren 15A und 15B geeignet ist. Das Strahlungsemittierende Semiconductor device 3 shown, for example, for a device of the embodiments of Figures 15A and 15B is suitable. The radiation-emitting
Halbleiterbauelement 3 weist Halbleiterschichten 33 auf, die zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung geeignet sind. Die Halbleiterschichten 33 weisen eine  Semiconductor device 3 has semiconductor layers 33 which are suitable for generating electromagnetic radiation. The semiconductor layers 33 have a
Strahlungsemittierende Oberfläche 32 auf. Das Radiation emitting surface 32 on. The
Halbleiterbauelement 3 weist einen ersten und einen zweiten Kontakt auf, mittels derer die Halbleiterschichten elektrisch kontaktierbar sind. Beispielsweise werden der erste und der zweite Kontakt mittels Leiterbahnen extern elektrisch  Semiconductor component 3 has a first and a second contact, by means of which the semiconductor layers are electrically contactable. For example, the first and the second contact by means of printed conductors externally become electrically
angeschlossen. Der erste Kontakt, der zweite Kontakt und die Halbleiterschichten sind auf einem gemeinsamen Träger 35 angeordnet, der insbesondere aus einem elektrisch connected. The first contact, the second contact and the semiconductor layers are arranged on a common carrier 35, which in particular consists of an electric
isolierenden Material besteht und beispielsweise Silizium enthält. Auf einer von den Halbleiterschichten 33 abgewandten Seite des Trägers 35 kann eine beispielsweise winkelförmige Metallverstärkung integriert sein (nicht dargestellt) , die zur mechanischen Befestigung Kontakt mit der von den insulating material and contains, for example, silicon. On a side facing away from the semiconductor layers 33 side of the carrier 35 can be integrated, for example, an angle-shaped metal reinforcement (not shown), the mechanical attachment to the contact of the
Halbleiterschichten 33 abgewandten Seite des Trägers 35 und der Trägerplatte hat. Semiconductor layers 33 facing away from the carrier 35 and the support plate has.
Wie in Figur 15D dargestellt führt von dem ersten Kontakt und dem zweiten Kontakt des Halbleiterbauelements 3 jeweils eine Leiterbahn 7 zu einer Unterseite der Trägerplatte 1 und an der Unterseite der Trägerplatte 1 entlang. Seitens der As shown in FIG. 15D, in each case one conductor track 7 leads from the first contact and the second contact of the semiconductor component 3 to an underside of the carrier plate 1 and along the underside of the carrier plate 1. On the part of the
Unterseite der Trägerplatte 1 kann so das Bottom of the support plate 1 can so the
Halbleiterbauelement extern elektrisch kontaktiert werden.  Semiconductor device externally contacted electrically.
In Figur 16A ist eine schematische Aufsicht auf die In Figure 16A is a schematic plan view of the
Vorrichtung gemäß der Figur 15A gezeigt. Device shown in Figure 15A.
In Figur 16B ist eine Unteransicht auf die Vorrichtung gemäß der Figur 15A gezeigt. Der erste und der zweite Kontakt der Halbleiterbauelemente sind dabei mittels Leiterbahnen 7 extern elektrisch angeschlossen, die an der Unterseite der Trägerplatte 1 geführt sind. Jeweils ein elektrischer Kontakt eines Halbleiterbauelements 3 ist über eine Leiterbahn 7 mit einem elektrischen Kontakt eines benachbarten FIG. 16B shows a bottom view of the device according to FIG. 15A. The first and the second contact of the semiconductor components are in this case by means of conductor tracks 7 externally connected electrically, which are guided on the underside of the carrier plate 1. In each case, an electrical contact of a semiconductor device 3 is connected via a conductor track 7 with an electrical contact of an adjacent
Halbleiterbauelements 3 elektrisch leitend verbunden. Die Halbleiterbauelemente 3 der Vorrichtung können so über eine Reihenschaltung miteinander elektrisch leitend verbunden sein . In dem Ausführungsbeispiel der Figur 17A ist eine Vorrichtung beispielsweise gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 15A gezeigt, die zusätzlich einen Lichtleiter 2 umfasst. Der Lichtleiter 2 ist als Lichtführungsfolie ausgebildet, beispielsweise als Diffusorfolie . Insbesondere weist der Lichtleiter 2 keine Kavität zur Aufnahme der Semiconductor device 3 electrically connected. The semiconductor components 3 of the device can thus be electrically conductively connected to one another via a series connection. In the exemplary embodiment of FIG. 17A, a device is shown, for example, according to the exemplary embodiment of FIG. 15A, which additionally comprises a light guide 2. The light guide 2 is designed as a light guide foil, for example as a diffuser foil. In particular, the light guide 2 has no cavity for receiving the
Halbleiterbauelemente 3 auf, sondern ist auf der von der Trägerplatte 1 abgewandten Seite der Halbleiterbauelemente angeordnet . Alternativ kann der Lichtleiter in Vergußform aus  Semiconductor devices 3, but is arranged on the side facing away from the support plate 1 side of the semiconductor devices. Alternatively, the light guide in casting mold
beispielsweise Silikon ausgeführt sein (nicht dargestellt) . In diesem Fall ist der Lichtleiter direkt auf der For example, silicone be executed (not shown). In this case, the light guide is directly on the
Trägerplatte angeordnet und umhüllt die einzelnen Bauelemente vollständig . Carrier plate arranged and envelops the individual components completely.
In Figur 17B ist ein Querschnitt einer Vorrichtung des FIG. 17B is a cross section of an apparatus of FIG
Ausführungsbeispiels der Figur 17A gezeigt. Hierbei sind Strahlengänge der von den Halbleiterbauelementen emittierten Strahlungen mittels Pfeilen dargestellt. Aufgrund der Embodiment of Figure 17A shown. In this case, beam paths of the radiation emitted by the semiconductor components are shown by means of arrows. Due to the
Diffusorfolie 2 kann die Strahlung zwischen Trägerplatte 1 und Diffusorfolie 2 geführt werden. Hierzu weist die Diffuser film 2, the radiation between the support plate 1 and diffuser film 2 are performed. For this purpose, the
Trägerplatte 1 auf der der Diffusorfolie zugewandten Seite eine Spiegelschicht 23 auf. In den Figuren 18A und 18B sind Ansichten einer Trägerplatte 1 dargestellt, die beispielsweise für eine Vorrichtung gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 17A Anwendung finden kann. Support plate 1 on the diffuser film side facing a mirror layer 23. FIGS. 18A and 18B show views of a carrier plate 1 which can be used, for example, for a device according to the exemplary embodiment of FIG. 17A.
Figur 18A zeigt eine Aufsicht auf die Trägerplatte 1. Die Trägerplatte 1 ist insbesondere für eine Vorrichtung FIG. 18A shows a plan view of the carrier plate 1. The carrier plate 1 is in particular for a device
geeignet, die eine Mehrzahl von Strahlungsemittierenden suitable, the plurality of radiation-emitting
Halbleiterbauelementen 3 aufweist. Demnach weist die Semiconductor devices 3 has. Accordingly, the
Trägerplatte eine Mehrzahl von Durchbrüchen auf, die durch die Trägerplatte 1 führen und insbesondere symmetrisch in der Trägerplatte 1 angeordnet sind. Durch die Durchbrüche sind die Halbleiterbauelemente geführt. Die Trägerplatte 1 kann beispielsweise rechteckförmig Support plate on a plurality of openings, which lead through the support plate 1 and in particular are arranged symmetrically in the support plate 1. The openings lead through the semiconductor components. The support plate 1 may be rectangular, for example
ausgebildet sein, wobei die Symmetrie der angeordneten be formed, the symmetry of the arranged
Halbleiterbauelemente 3 eine Spiegelsymmetrie und/oder eine Achssymmetrie ist. Die Dicke der Trägerplatte 1 beträgt beispielsweise etwa 0,5 mm. Die Halbleiterbauelemente 21 weisen beispielsweise jeweils eine Länge Li von etwa 1,2 mm auf, liegen bevorzugt in einem Bereich zwischen 1,1 mm und 1,3 mm. Die Abstände Di der einzelnen Bauelemente 3 in lateraler Richtung zueinander liegen etwa bei 20 mm. In vertikaler Richtung weisen dieSemiconductor devices 3 is a mirror symmetry and / or axis symmetry. The thickness of the carrier plate 1 is for example about 0.5 mm. The semiconductor components 21 each have, for example, a length Li of about 1.2 mm, preferably in a range between 1.1 mm and 1.3 mm. The distances Di of the individual components 3 in the lateral direction to each other are approximately 20 mm. In the vertical direction, the
Halbleiterbauelemente jeweils Abstände D2 zueinander auf, die beispielsweise bei etwa 10 mm liegen. Der Abstand D3 liegt bevorzugt in einem Bereich zwischen einschließlich 39 mm und 41 mm, beispielsweise 40 mm. Semiconductor devices each have distances D2 to each other, which are for example about 10 mm. The distance D3 is preferably in a range between 39 mm and 41 mm inclusive, for example 40 mm.
In Figur 18B ist ein Ausschnitt der Trägerplatte 1 gezeigt, der insbesondere in einem mittels eines gestrichelten Kreises markierten Bereich A des Ausführungsbeispiels der Figur 18A liegt. Die Halbleiterbauelemente weisen eine bevorzugte FIG. 18B shows a detail of the carrier plate 1, which is in particular in a region A marked by a dashed circle in the exemplary embodiment of FIG. 18A lies. The semiconductor devices have a preferred
Breite Bi von 0,2 mm und eine bevorzugte Länge Li von 1,2 mm auf. Die Leiterbahnen 7 auf der Unterseite der Trägerplatte 1 weisen jeweils eine Breite D4 von etwa 0,4 mm auf und sind zueinander in einem Abstand Ab von etwa 0,3 mm angeordnet. Width Bi of 0.2 mm and a preferred length Li of 1.2 mm. The conductor tracks 7 on the underside of the carrier plate 1 each have a width D 4 of about 0.4 mm and are arranged to each other at a distance A b of about 0.3 mm.
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt, sondern umfasst jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den The invention is not limited by the description based on the embodiments of these, but includes each new feature and any combination of features, which in particular any combination of features in the
Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den  Claims, even if this feature or this combination itself is not explicitly in the
Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. Claims or embodiments is given.

Claims

Patentansprüche claims
1. Strahlungsemittierende Vorrichtung mit einem Lichtleiter (2) und zumindest einer Trägerplatte (1), die eine Hauptebene (11) ausbildet und zumindest einen Teilbereich (12) aufweist, der in einem Winkel ( ) zur Hauptebene (11) steht, wobeiA radiation-emitting device having a light guide (2) and at least one support plate (1) forming a main plane (11) and having at least a portion (12) which is at an angle () to the main plane (11)
- der Teilbereich (12) und die Trägerplatte (1) einstückig ausgebildet sind, - The portion (12) and the support plate (1) are integrally formed,
- auf dem Teilbereich (12) ein Strahlungsemittierendes  - On the portion (12) a radiation-emitting
Halbleiterbauelement (3) angeordnet ist, Semiconductor device (3) is arranged,
- der Lichtleiter (2) auf der Trägerplatte (1) angeordnet ist, und  - The light guide (2) on the support plate (1) is arranged, and
- der Lichtleiter (2) zumindest eine Kavität (21) aufweist, in der der Teilbereich (12) angeordnet ist.  - The light guide (2) has at least one cavity (21), in which the partial region (12) is arranged.
2. Strahlungsemittierende Vorrichtung mit einem Lichtleiter (2), zumindest einer Trägerplatte (1), die eine Hauptebene (11) ausbildet, und zumindest einem Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement (3) , wobei 2. Radiation-emitting device having a light guide (2), at least one support plate (1), which forms a main plane (11), and at least one radiation-emitting semiconductor component (3), wherein
- die Trägerplatte (1) zumindest einen Durchbruch aufweist,- The support plate (1) has at least one breakthrough,
- das strahlungsemittierende Halbleiterbauelement (3) eine laterale Ausdehnungsebene aufweist, die in einem Winkel ( ) zur Hauptebene (11) steht, the radiation-emitting semiconductor component (3) has a lateral expansion plane that is at an angle (13) to the main plane (11),
- das strahlungsemittierende Halbleiterbauelement (3)  the radiation-emitting semiconductor component (3)
zumindest bereichsweise durch den Durchbruch der Trägerplatte (1) geführt ist, und at least partially by the breakthrough of the support plate (1) is guided, and
- der Lichtleiter (2) auf der dem Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement (3) zugewandten Seite der Trägerplatte (1) angeordnet ist.  - The light guide (2) on the radiation-emitting semiconductor device (3) facing side of the support plate (1) is arranged.
3. Vorrichtung gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei 3. A device according to claim 1 or 2, wherein
der Winkel ( ) in einem Bereich zwischen einschließlich 80° und einschließlich 90° liegt. the angle () is in a range between 80 ° and 90 ° inclusive.
4. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 4. Device according to one of the preceding claims, wherein
der Lichtleiter (2) Streupartikel aufweist. the light guide (2) has scattering particles.
5. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 5. Device according to one of the preceding claims, wherein
die Vorrichtung eine Dicke D in einem Bereich zwischen 1 mm und 1,5 mm aufweist. the device has a thickness D in a range between 1 mm and 1.5 mm.
6. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 6. Device according to one of the preceding claims, wherein
der Lichtleiter (2) an der der Trägerplatte (1) zugewandten Fläche und/oder den Seitenflächen eine Spiegelschicht (23) aufweist . the optical waveguide (2) has a mirror layer (23) on the surface facing the carrier plate (1) and / or the lateral surfaces.
7. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 7. Device according to one of the preceding claims, wherein
der Lichtleiter (2) an der von der Trägerplatte (1) the light guide (2) at the of the support plate (1)
abgewandten Fläche und/oder den Seitenflächen opposite surface and / or the side surfaces
Strahlungsauskoppelstrukturen aufweist . Having radiation extraction structures.
8. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 8. Device according to one of the preceding claims, wherein
der Lichtleiter (2) zylinderförmig ausgebildet ist, dessen Haupterstreckungsrichtung (25) sich entlang der Hauptebene (11) der Trägerplatte (1) erstreckt. the optical waveguide (2) is of cylindrical design, the main extension direction (25) of which extends along the main plane (11) of the carrier plate (1).
9. Vorrichtung gemäß Anspruch 8, wobei 9. Apparatus according to claim 8, wherein
die Trägerplatte (1) derart geformt ist, dass diese the carrier plate (1) is shaped such that these
vollständig an der Mantelfläche (26) des Lichtleiters (2) anliegt . completely against the lateral surface (26) of the light guide (2).
10. Vorrichtung gemäß Anspruch 9, wobei 10. Apparatus according to claim 9, wherein
die Vorrichtung mittels zumindest einer Klemme (110) the device by means of at least one clamp (110)
mechanisch, elektrisch und/oder thermisch angeschlossen ist. mechanically, electrically and / or thermally connected.
11. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 11. Device according to one of the preceding claims, wherein
- die Vorrichtung zwei Trägerplatten (1) und der Lichtleiter (2) zwei an zwei gegenüberliegenden Seiten angeordnete Kavitäten (21) aufweist, in denen jeweils ein Teilbereich (12) angeordnet ist, auf dem jeweils ein - The device two carrier plates (1) and the light guide (2) arranged two on two opposite sides Cavities (21), in each of which a partial area (12) is arranged, on each one
Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement (3) angeordnet ist, und  Radiation-emitting semiconductor device (3) is arranged, and
- jeweils die Hauptabstrahlrichtung (31) des einen - In each case the main emission direction (31) of the one
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements (3) in Richtung des anderen Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements (3) verläuft .  Radiation-emitting semiconductor device (3) in the direction of the other radiation-emitting semiconductor device (3).
12. Vorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 12. Device according to one of the preceding claims, wherein
- die Vorrichtung eine Mehrzahl von Trägerplatten (1)  the device has a plurality of carrier plates (1)
aufweist, die jeweils mit einer elektrisch isolierenden each having an electrically insulating
Schicht (5) mechanisch miteinander verbunden sind, und Layer (5) are mechanically connected to each other, and
- der Lichtleiter (2) eine Mehrzahl von Kavitäten (21) aufweist, in denen jeweils ein Teilbereich (12) einer - The light guide (2) has a plurality of cavities (21), in each of which a partial region (12) of a
Trägerplatte (1) angeordnet ist, auf dem jeweils ein Support plate (1) is arranged on the respective one
Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement (3) angeordnet ist . Radiation-emitting semiconductor component (3) is arranged.
13. Vorrichtung gemäß Anspruch 12, wobei, 13. Device according to claim 12, wherein
die Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente (3) in Reihe geschaltet sind. the radiation-emitting semiconductor components (3) are connected in series.
14. Modul mit einer Mehrzahl von Strahlungsemittierenden14. Module with a plurality of radiation emitting
Vorrichtungen gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 13. Devices according to one of the preceding claims 1 to 13.
15. Verfahren zur Herstellung einer Strahlungsemittierenden Vorrichtung, umfassend die Verfahrensschritte: 15. A method for producing a radiation-emitting device, comprising the method steps:
A) Bereitstellen einer Trägerplatte (1) aufweisend eine  A) providing a carrier plate (1) comprising a
Hauptebene (11),  Main level (11),
B) Ausstanzen oder Ätzen zumindest eines Teilbereichs (12) in die Trägerplatte (1),  B) punching or etching at least one subregion (12) into the carrier plate (1),
C) Aufbringen und Kontaktieren eines C) applying and contacting a
Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements (3) auf dem Teilbereich (12), D) Mechanisches Verformen des Teilbereichs (12) derart, dass der Teilbereich (12) in einem Winkel ( ) zur Radiation-emitting semiconductor component (3) on the subregion (12), D) mechanically deforming the partial region (12) such that the partial region (12) is at an angle (α) to
Hauptebene (11) steht, und  Main level (11) is, and
E) Aufbringen eines Lichtleiters (2) aufweisend zumindest eine Kavität (21) auf die Trägerplatte (1) derart, dass der Teilbereich (12) in der Kavität (21) angeordnet wird .  E) applying a light guide (2) comprising at least one cavity (21) on the support plate (1) such that the partial region (12) in the cavity (21) is arranged.
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