DE102016105491A1 - MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS - Google Patents

MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS Download PDF

Info

Publication number
DE102016105491A1
DE102016105491A1 DE102016105491.7A DE102016105491A DE102016105491A1 DE 102016105491 A1 DE102016105491 A1 DE 102016105491A1 DE 102016105491 A DE102016105491 A DE 102016105491A DE 102016105491 A1 DE102016105491 A1 DE 102016105491A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
conductor
semiconductor
carrier
sections
semiconductor chips
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102016105491.7A
Other languages
German (de)
Inventor
Luca Haiberger
Georg Bogner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ams Osram International GmbH
Original Assignee
Osram Opto Semiconductors GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Opto Semiconductors GmbH filed Critical Osram Opto Semiconductors GmbH
Priority to DE102016105491.7A priority Critical patent/DE102016105491A1/en
Priority to PCT/EP2017/056849 priority patent/WO2017162753A1/en
Publication of DE102016105491A1 publication Critical patent/DE102016105491A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/561Batch processing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • H01L23/49551Cross section geometry characterised by bent parts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/82Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/241Disposition
    • H01L2224/24151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/24221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/24225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/24226Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the HDI interconnect connecting to the same level of the item at which the semiconductor or solid-state body is mounted, e.g. the item being planar
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/244Connecting portions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/2499Auxiliary members for HDI interconnects, e.g. spacers, alignment aids
    • H01L2224/24996Auxiliary members for HDI interconnects, e.g. spacers, alignment aids being formed on an item to be connected not being a semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/24998Reinforcing structures, e.g. ramp-like support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48105Connecting bonding areas at different heights
    • H01L2224/48106Connecting bonding areas at different heights the connector being orthogonal to a side surface of the semiconductor or solid-state body, e.g. parallel layout
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/82Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
    • H01L2224/82009Pre-treatment of the connector or the bonding area
    • H01L2224/8203Reshaping, e.g. forming vias
    • H01L2224/82035Reshaping, e.g. forming vias by heating means
    • H01L2224/82039Reshaping, e.g. forming vias by heating means using a laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/82Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
    • H01L2224/821Forming a build-up interconnect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/25Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of a plurality of high density interconnect connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0066Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0075Processes relating to semiconductor body packages relating to heat extraction or cooling elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/483Containers
    • H01L33/486Containers adapted for surface mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/54Encapsulations having a particular shape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelementen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer metallischen Leiterstruktur, wobei die Leiterstruktur in einer ersten Ebene angeordnete vorderseitige Leiterabschnitte, in einer zweiten Ebene versetzt zur ersten Ebene angeordnete rückseitige Leiterabschnitte, sich zwischen den vorderseitigen und rückseitigen Leiterabschnitten erstreckende Zwischenabschnitte und die rückseitigen Leiterabschnitte verbindende Verbindungselemente aufweist. Weiter vorgesehen ist ein Umformen der Leiterstruktur mit einer Formmasse, so dass ein Träger mit einer Vorderseite und einer Rückseite bereitgestellt wird, wobei die vorderseitigen Leiterabschnitte an der Vorderseite und die rückseitigen Leiterabschnitte an der Rückseite des Trägers freiliegen. Das Verfahren umfasst ferner ein Anordnen von Halbleiterchips auf der Vorderseite des Trägers und ein Durchführen eines Vereinzelungsprozesses. Hierbei wird der Träger im Bereich der Verbindungselemente und der rückseitigen Leiterabschnitte durchtrennt und werden vereinzelte oberflächenmontierbare Halbleiterbauelemente gebildet. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein oberflächenmontierbares Halbleiterbauelement und eine Anzeigevorrichtung.The invention relates to a method for producing surface mount semiconductor devices. The method comprises providing a metallic conductor structure, the conductor structure having front-side conductor sections arranged in a first plane, rear-side conductor sections arranged in a second plane offset from the first plane, connecting elements connecting between the front-side and rear-side conductor sections, and connecting elements connecting the rear-side conductor sections. It is further provided a forming of the conductor pattern with a molding compound, so that a carrier is provided with a front and a back, wherein the front conductor portions at the front and the rear conductor portions at the back of the carrier are exposed. The method further comprises arranging semiconductor chips on the front side of the carrier and performing a singulation process. In this case, the carrier is severed in the region of the connecting elements and the rear conductor sections and isolated surface-mountable semiconductor components are formed. The invention further relates to a surface mountable semiconductor device and a display device.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelementen. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein oberflächenmontierbares Halbleiterbauelement und eine Anzeigevorrichtung.The present invention relates to a method of manufacturing surface mount semiconductor devices. The invention further relates to a surface mountable semiconductor device and a display device.

Bei Großveranstaltungen wie zum Beispiel Konzerten sowie auch in modernen Arenen und Stadien werden sogenannte Videowände eingesetzt. Hierbei handelt es sich um Anzeigeflächen, welche aus mehreren Anzeigemodulen aufgebaut sind. Ein Anzeigemodul weist eine Leiterplatte auf, auf welcher eine Mehrzahl an lichtemittierenden Halbleiterbauelementen angeordnet ist. Die Halbleiterbauelemente sind in Form von Leuchtdioden (LEDs, Light Emitting Diode) verwirklicht.At major events such as concerts as well as in modern arenas and stadiums so-called video walls are used. These are display surfaces, which are made up of several display modules. A display module has a printed circuit board on which a plurality of light-emitting semiconductor components is arranged. The semiconductor components are realized in the form of light emitting diodes (LEDs, light emitting diode).

Für Anwendungen im Outdoor-Bereich ist es erforderlich, die elektrischen Anschlüsse der lichtemittierenden Halbleiterbauelemente vor äußeren Umwelteinflüssen zu schützen. Eine übliche Maßnahme besteht darin, auf einer Leiterplatte eines Moduls ein schützendes Vergussmaterial in Bereichen zwischen den Halbleiterbauelementen anzuordnen (Potting). Derzeit sind Anzeigemodule von Videowänden hauptsächlich mit sogenannten Through-Hole-LEDs aufgebaut. Diese Bauelemente weisen einen Plastikkörper auf, aus welchem Anschlussbeinchen ragen. Der Plastikkörper kann eine Höhe von zum Beispiel mehr als 3mm aufweisen. Infolgedessen kann ein Verguss mit einer geforderten Dicke von zum Beispiel 2mm ausgebildet werden.For applications in the outdoor sector, it is necessary to protect the electrical connections of the light-emitting semiconductor components from external environmental influences. A common measure is to place a protective potting material in areas between the semiconductor devices on a printed circuit board of a module (potting). Currently, display modules of video walls are mainly constructed with so-called through-hole LEDs. These components have a plastic body from which project pins. The plastic body may have a height of, for example, more than 3mm. As a result, a potting of a required thickness of, for example, 2 mm can be formed.

LEDs, welche in Form von oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelementen (SMT-Bauelementen, Surface Mounting Technology) verwirklicht sind, weisen in der Regel einen Premold-Träger mit einem von einem Kunststoffgehäuse umgebenen Leiterrahmen auf. Das Gehäuse umfasst eine Kavität, innerhalb derer ein oder mehrere LED-Chips auf dem Leiterrahmen angeordnet sind. Derartige Bauelemente weisen eine geringe Bauhöhe auf. Beispielsweise liegt zwischen dem Leiterrahmen und einer Vorderseite des Gehäuses üblicherweise ein Abstand von höchstens 1mm vor. Bei dieser Bauform kann der Schutzverguss auf der Leiterplatte eines Anzeigemoduls folglich nicht in der gewünschten Dicke verwirklicht werden. Dies führt dazu, dass SMT-Produkte nur in Spezialfällen zum Einsatz kommen.LEDs, which are realized in the form of surface-mountable semiconductor components (SMT components, surface mounting technology), generally have a premolded carrier with a leadframe surrounded by a plastic housing. The housing includes a cavity within which one or more LED chips are disposed on the lead frame. Such components have a low overall height. For example, there is usually a distance of at most 1 mm between the leadframe and a front of the housing. In this design, the Schutzverguss on the circuit board of a display module can therefore not be realized in the desired thickness. As a result, SMT products are only used in special cases.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein verbessertes oberflächenmontierbares Halbleiterbauelement, ein dazugehöriges Herstellungsverfahren sowie eine Anzeigevorrichtung anzugeben.The object of the present invention is to provide an improved surface-mountable semiconductor device, an associated manufacturing method and a display device.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.This object is solved by the features of the independent claims. Further advantageous embodiments of the invention are specified in the dependent claims.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen von oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelementen vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer metallischen Leiterstruktur. Die Leiterstruktur weist in einer ersten Ebene angeordnete vorderseitige Leiterabschnitte, in einer zweiten Ebene versetzt zur ersten Ebene angeordnete rückseitige Leiterabschnitte, sich zwischen den vorderseitigen und rückseitigen Leiterabschnitten erstreckende Zwischenabschnitte und die rückseitigen Leiterabschnitte verbindende Verbindungselemente auf. Weiter vorgesehen ist ein Umformen der Leiterstruktur mit einer Formmasse, so dass ein Träger mit einer Vorderseite und einer Rückseite bereitgestellt wird. Hierbei liegen die vorderseitigen Leiterabschnitte an der Vorderseite und die rückseitigen Leiterabschnitte an der Rückseite des Trägers frei. Das Verfahren umfasst ferner ein Anordnen von Halbleiterchips auf der Vorderseite des Trägers und ein Durchführen eines Vereinzelungsprozesses. Bei diesem Prozess wird der Träger im Bereich der Verbindungselemente und der rückseitigen Leiterabschnitte durchtrennt, und werden vereinzelte oberflächenmontierbare Halbleiterbauelemente gebildet.According to one aspect of the invention, a method for producing surface mount semiconductor devices is proposed. The method includes providing a metallic conductor pattern. The conductor structure has front-side conductor sections arranged in a first plane, rear-side conductor sections arranged offset in a second plane to the first plane, connecting elements which connect between the front-side and rear-side conductor sections, and connecting elements connecting the rear-side conductor sections. Further provided is a forming of the conductor structure with a molding compound, so that a carrier is provided with a front side and a rear side. In this case, the front-side conductor sections on the front side and the rear-side conductor sections on the rear side of the carrier are exposed. The method further comprises arranging semiconductor chips on the front side of the carrier and performing a singulation process. In this process, the carrier is severed in the region of the connecting elements and the rear conductor sections, and isolated surface-mountable semiconductor components are formed.

Die bei dem Verfahren eingesetzte metallische Leiterstruktur weist vorder- und rückseitige Leiterabschnitte auf, welche in zueinander parallel versetzten Ebenen angeordnet und über Zwischenabschnitte verbunden sind. Hierbei können die Zwischenabschnitte jeweils mit einem vorderseitigen und mit einem rückseitigen Leiterabschnitt verbunden sein. Die rückseitigen Leiterabschnitte sind darüber hinaus über Verbindungselemente verbunden. Auf diese Weise kann die Leiterstruktur vor dem Umformen mit der Formmasse mechanisch zusammengehalten werden. In diesem Zustand können sämtliche vorder- und rückseitige Leiterabschnitte der Leiterstruktur elektrisch kurzgeschlossen sein.The metallic conductor structure used in the method has front and rear conductor sections, which are arranged in planes offset parallel to one another and connected via intermediate sections. In this case, the intermediate sections may each be connected to a front and a rear conductor section. The rear conductor sections are also connected via connecting elements. In this way, the conductor structure can be mechanically held together before forming with the molding compound. In this state, all front and back conductor portions of the conductor pattern may be electrically short-circuited.

Der Träger wird durch das Umformen der Leiterstruktur mit der Formmasse gebildet. Der Träger, welcher eben ausgebildet werden kann, weist eine Vorderseite und eine entgegengesetzte Rückseite auf. Auf der Vorderseite des Trägers werden Halbleiterchips montiert. Im Rahmen der Chipmontage können die Halbleiterchips in geeigneter Weise elektrisch mit vorderseitigen Leiterabschnitten verbunden werden. The carrier is formed by forming the conductor structure with the molding compound. The carrier, which can be formed flat, has a front side and an opposite rear side. On the front of the carrier semiconductor chips are mounted. As part of the chip assembly, the semiconductor chips can be suitably electrically connected to front conductor sections.

Durch Vereinzeln des mit den Halbleiterchips bestückten Trägers werden separate oberflächenmontierbare Halbleiterbauelemente erzeugt (SMT-Bauelemente). Hierbei wird der Träger im Bereich der rückseitigen Leiterabschnitte und im Bereich der Verbindungselemente durchtrennt. Bei diesem Vorgang können die Verbindungselemente, welche stegförmig ausgeführt sein können, entfernt, und können die Kurzschlussverbindungen unterbrochen werden. By separating the carrier equipped with the semiconductor chip, separate surface-mountable semiconductor components are produced (SMT components). Here, the carrier is severed in the region of the rear conductor sections and in the region of the connecting elements. In this process, the fasteners, which can be designed web-shaped, removed, and the short-circuit connections can be interrupted.

Die vereinzelten Halbleiterbauelemente können jeweils einen Teil des Trägers und wenigstens einen auf der Vorderseite des Trägers angeordneten Halbleiterchip aufweisen. An der Rückseite können die Halbleiterbauelemente mehrere durchtrennte rückseitige Leiterabschnitte aufweisen. Diese Leiterabschnitte können über Zwischenabschnitte mit vorderseitigen Leiterabschnitten verbunden sein. Mit Hilfe der rückseitigen Leiterabschnitte, welche als Anschlüsse dienen können, können die Halbleiterbauelemente im Rahmen einer Oberflächenmontage auf Gegenanschlüssen einer Trägervorrichtung wie zum Beispiel einer Leiterplatte montiert werden. Auf diese Weise ist es möglich, einem Halbleiterbauelement und damit dem wenigstens einen dazugehörigen und vorderseitig platzierten Halbleiterchip über die rückseitigen Leiterabschnitte elektrische Energie zuzuführen.The individual semiconductor components may each have a part of the carrier and at least one semiconductor chip arranged on the front side of the carrier. On the rear side, the semiconductor components may have a plurality of severed rear conductor sections. These conductor sections can be connected via intermediate sections with front conductor sections. With the aid of the rear conductor sections, which can serve as connections, the semiconductor components can be mounted as a surface mount on counter connections of a carrier device, such as a printed circuit board. In this way, it is possible to supply electrical energy to a semiconductor component and thus to the at least one associated and front-side placed semiconductor chip via the rear conductor sections.

Im Folgenden werden weitere mögliche Details und Ausführungsformen näher beschrieben, welche für das Verfahren und für die gemäß dem Verfahren hergestellten Halbleiterbauelemente in Betracht kommen können.In the following, further possible details and embodiments are described in more detail, which may be considered for the method and for the semiconductor components produced according to the method.

Es ist möglich, den Träger mit einer großen Dicke, und damit mit einem großen Abstand zwischen der Vorderseite und der als Montageseite bei den Halbleiterbauelementen dienenden Rückseite auszubilden. In entsprechender Weise können die Halbleiterbauelemente mit einer großen Dicke bzw. Bauhöhe gefertigt werden. Hierbei kann sich der wenigstens eine vorderseitig angeordnete Halbleiterchip in einem großen Abstand zur Montageseite befinden.It is possible to form the carrier with a large thickness, and thus with a large distance between the front side and the rear side serving as the mounting side in the semiconductor devices. In a corresponding manner, the semiconductor components can be manufactured with a large thickness or height. In this case, the at least one semiconductor chip arranged on the front side can be located at a large distance from the mounting side.

Dies kann sich als vorteilhaft erweisen, wenn mit Hilfe des Verfahrens strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente hergestellt werden. In einer solchen Ausführungsform kommen strahlungsemittierende Halbleiterchips zum Einsatz, welche auf der Vorderseite des Trägers angeordnet werden. Die strahlungsemittierenden Halbleiterchips können zum Beispiel Leuchtdiodenchips (LED-Chips) sein. This may prove to be advantageous if radiation-emitting semiconductor components are produced with the aid of the method. In such an embodiment, radiation-emitting semiconductor chips are used, which are arranged on the front side of the carrier. The radiation-emitting semiconductor chips may be, for example, light-emitting diode chips (LED chips).

Die gemäß dem Verfahren hergestellten strahlungsemittierenden Halbleiterbauelemente können zum Beispiel beim Aufbau einer Anzeigevorrichtung, beispielsweise eines Moduls für eine Videowand, eingesetzt werden. Hierbei können mehrere Halbleiterbauelemente auf einer Leiterplatte montiert werden, und kann auf der Leiterplatte in Bereichen neben und zwischen den Halbleiterbauelementen ein schützenden Vergussmaterial angeordnet werden. Die mit Hilfe des Verfahrens erzielbare große Bauhöhe der Halbleiterbauelemente macht es möglich, das Vergussmaterial mit einer großen Dicke auszubilden. Dadurch können die rückseitigen Leiterabschnitte der Halbleiterbauelemente zuverlässig abgedichtet und infolgedessen sicher vor äußeren Umwelteinflüssen geschützt werden. Des Weiteren kann sich die Anzeigevorrichtung aufgrund der vorderseitigen Anordnung der strahlungsemittierenden Halbleiterchips auf den Halbleiterbauelementen durch einen effizienten Leuchtbetrieb auszeichnen.The radiation-emitting semiconductor components produced according to the method can be used, for example, in the construction of a display device, for example a module for a video wall. In this case, a plurality of semiconductor components can be mounted on a printed circuit board, and can be arranged on the circuit board in areas next to and between the semiconductor devices, a protective potting material. The achievable by the method large height of the semiconductor devices makes it possible to form the potting material with a large thickness. As a result, the rear conductor sections of the semiconductor components can be reliably sealed and consequently protected from external environmental influences. Furthermore, due to the front-side arrangement of the radiation-emitting semiconductor chips on the semiconductor components, the display device can be distinguished by an efficient lighting operation.

Die Formmasse, mit welcher die Leiterstruktur umformt wird, kann ein isolierendes Kunststoffmaterial sein. In Bezug auf eine Herstellung von strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen kann es in Betracht kommen, als Formmasse ein nicht transparentes, zum Beispiel schwarzes Kunststoffmaterial einzusetzen. Dadurch ist ein Leuchtbetrieb mit hohem Kontrast möglich.The molding compound with which the conductor structure is formed may be an insulating plastic material. With regard to the production of radiation-emitting semiconductor components, it may be considered to use a non-transparent, for example black plastic material as the molding compound. As a result, a lighting operation with high contrast is possible.

In einer weiteren Ausführungsform verlaufen die Zwischenabschnitte der Leiterstruktur senkrecht zur ersten und zweiten Ebene, und damit senkrecht zur Vorder- und Rückseite des Trägers. In dieser Ausgestaltung kann die bereitgestellte Leiterstruktur im Querschnitt ein sich wiederholendes U-förmiges Profil aufweisen. Auf diese Weise können Halbleiterbauelemente mit geringen lateralen Abmessungen gefertigt werden.In a further embodiment, the intermediate sections of the conductor structure extend perpendicular to the first and second planes, and thus perpendicular to the front and back of the carrier. In this embodiment, the provided conductor structure in cross-section may have a repeating U-shaped profile. In this way, semiconductor devices can be manufactured with small lateral dimensions.

In einer weiteren Ausführungsform wird der Träger mit einer Dicke von wenigstens 2mm bereitgestellt. In entsprechender Weise können Halbleiterbauelemente mit einer Bauhöhe von wenigstens 2mm gefertigt werden. Durch diese Ausgestaltung kann der Einsatz der Halbleiterbauelemente bei einer Videowand begünstigt werden, um einen zuverlässigen Schutzverguss auszubilden.In a further embodiment, the carrier is provided with a thickness of at least 2mm. Similarly, semiconductor devices can be made with a height of at least 2mm. With this configuration, the use of the semiconductor devices can be promoted in a video wall to form a reliable Schutzverguss.

Die Leiterstruktur kann auf unterschiedliche Art und Weise bereitgestellt werden. Es ist zum Beispiel möglich, eine Metallschicht oder Metallfolie zu strukturieren, so dass eine sich zunächst noch in einer gemeinsamen Ebene erstreckende Ausgangsstruktur vorliegt, und diese Struktur anschließend zu biegen bzw. falten, um die gewünschte Ausprägung mit den in unterschiedlichen Ebenen angeordneten Leiterabschnitten zu erzeugen. Das Strukturieren kann zum Beispiel durch Ätzen oder durch einen mechanischen Prozess wie zum Beispiel Stanzen erfolgen.The ladder structure can be provided in different ways. For example, it is possible to structure a metal layer or metal foil so that an initial structure still extending in a common plane is present, and then to bend or fold this structure in order to produce the desired shape with the conductor sections arranged in different planes , The patterning can be done, for example, by etching or by a mechanical process such as stamping.

Alternativ ist es möglich, die Leiterstruktur mit den in unterschiedlichen Ebenen angeordneten Leiterabschnitten in direkter Weise durch Ätzen einer Metallschicht zu erzeugen. Des Weiteren kann die Leiterstruktur auch durch mechanische Zerspanung einer Metallschicht bereitgestellt werden.Alternatively, it is possible to directly produce the conductor pattern with the conductor portions arranged in different planes by etching a metal layer. Furthermore, the conductor structure can also be provided by mechanical cutting of a metal layer.

Darüber hinaus ist es möglich, die Leiterstruktur mit einer metallischen Beschichtung zu versehen. Dies kann zum Beispiel durch Elektroplattieren erfolgen. Das Beschichten kann vor oder auch nach dem Umformen der Leiterstruktur mit der Formmasse durchgeführt werden.In addition, it is possible to provide the conductor structure with a metallic coating. This can be done for example by electroplating. Coating may be before or after the forming of the conductor structure are carried out with the molding compound.

Die Leiterabschnitte und Zwischenabschnitte der Leiterstruktur können in größeren Einheiten bzw. Elementen zusammengefasst sein. In diesem Sinne weist die bereitgestellte Leiterstruktur in einer weiteren Ausführungsform Leiterelemente auf, wobei jedes Leiterelement zwei vorderseitige Leiterabschnitte, einen rückseitigen Leiterabschnitt und zwei den rückseitigen Leiterabschnitt mit den vorderseitigen Leiterabschnitten verbindende Zwischenabschnitte aufweist. Bei dem Vereinzelungsprozess werden die Leiterelemente im Bereich der rückseitigen Leiterabschnitte durchtrennt. Auf diese Weise kann ein Leiterelement jeweils auf zwei Halbleiterbauelemente verteilt werden. Ein nach der Vereinzelung vorliegendes durchtrenntes Leiterelement eines Halbleiterbauelements kann einen vorderseitigen Leiterabschnitt und einen über einen Zwischenabschnitt mit dem vorderseitigen Leiterabschnitt verbundenen durchtrennten rückseitigen Leiterabschnitt aufweisen.The conductor sections and intermediate sections of the conductor structure can be combined in larger units or elements. In this sense, the conductor structure provided has conductor elements in a further embodiment, wherein each conductor element has two front conductor sections, a rear conductor section and two intermediate sections connecting the rear conductor section to the front conductor sections. In the singulation process, the conductor elements are severed in the region of the rear conductor sections. In this way, a conductor element can be distributed in each case to two semiconductor components. A severed conductor element of a semiconductor device present after the isolation may have a front-side conductor section and a severed rear-side conductor section connected to the front-side conductor section via an intermediate section.

Die Leiterelemente können, von oben betrachtet, eine Streifenform aufweisen. Im Querschnitt können die Leiterelemente einen stufenförmigen Verlauf bzw. ein U-förmiges Profil besitzen. Des Weiteren kann die bereitgestellte Leiterstruktur mehrere parallel verlaufende Reihen aus in Längsrichtung nebeneinander angeordneten streifenförmigen Leiterelementen aufweisen. In den einzelnen Reihen können die vorderseitigen Leiterabschnitte benachbarter Leiterelemente nebeneinander bzw. gegenüberliegend angeordnet sein.The conductor elements can, viewed from above, have a strip shape. In cross section, the conductor elements may have a stepped course or a U-shaped profile. Furthermore, the provided conductor structure may have a plurality of parallel rows of strip-shaped conductor elements arranged side by side in the longitudinal direction. In the individual rows, the front-side conductor sections of adjacent conductor elements can be arranged next to one another or opposite one another.

In einer weiteren Ausführungsform wird der Vereinzelungsprozess derart durchgeführt, dass vereinzelte Halbleiterbauelemente gebildet werden, welche wenigstens zwei durchtrennte Leiterelemente bzw. wenigstens ein Paar aus zwei durchtrennten Leiterelementen aufweisen. Hierbei können die vorderseitigen Leiterabschnitte eines solchen Paars aus durchtrennten Leiterelementen gegenüberliegend angeordnet sein, und können die betreffenden Leiterelemente bei einer entsprechenden elektrischen Kontaktierung als Kathode und Anode für einen Halbleiterchip dienen.In a further embodiment, the singulation process is carried out in such a way that isolated semiconductor components are formed which have at least two severed conductor elements or at least one pair of two severed conductor elements. In this case, the front-side conductor sections of such a pair of severed conductor elements can be arranged opposite one another, and the relevant conductor elements can serve as a cathode and anode for a semiconductor chip in the case of a corresponding electrical contacting.

Mit Hilfe des Verfahrens können Einzelchip-Bauelemente hergestellt werden, welche lediglich einen Halbleiterchip bzw. lediglich einen strahlungsemittierenden Halbleiterchip aufweisen. Hierzu korrespondierend können die Halbleiterbauelemente mit lediglich einem als Kathode und Anode dienenden Paar aus zwei durchtrennten Leiterelementen gefertigt werden, mit welchen der Halbleiterchip elektrisch verbunden ist. With the aid of the method, single-chip components can be produced which have only one semiconductor chip or only one radiation-emitting semiconductor chip. Corresponding to this, the semiconductor components can be manufactured with only one cathode and anode serving pair of two severed conductor elements, with which the semiconductor chip is electrically connected.

Mit Hilfe des Verfahrens können ferner Multichip-Bauelemente gefertigt werden, welche mehrere Halbleiterchips bzw. mehrere strahlungsemittierende Halbleiterchips aufweisen. Die Multichip-Bauelemente können des Weiteren derart hergestellt werden, dass die mehreren Halbleiterchips separat angesteuert werden können.With the aid of the method, it is also possible to produce multichip components which have a plurality of semiconductor chips or a plurality of radiation-emitting semiconductor chips. The multi-chip components can furthermore be produced in such a way that the plurality of semiconductor chips can be driven separately.

Zu diesem Zweck können die Halbleiterbauelemente mit mehreren separaten Paaren aus zwei durchtrennten Leiterelementen gefertigt werden, wobei die Anzahl der Leiterelement-Paare mit der Anzahl der Halbleiterchips übereinstimmen kann. Sofern die Halbleiterchips elektrisch mit den einzelnen und als Kathode und Anode dienenden Leiterelement-Paare verbunden sind, ist es möglich, die Halbleiterchips unabhängig voneinander mit elektrischer Energie zu versorgen und dadurch separat voneinander anzusteuern.For this purpose, the semiconductor devices may be fabricated with a plurality of separate pairs of two severed conductor elements, wherein the number of the conductor element pairs may coincide with the number of semiconductor chips. If the semiconductor chips are electrically connected to the individual and serving as the cathode and anode conductor element pairs, it is possible to supply the semiconductor chips independently of each other with electrical energy and thereby to control each other separately.

Für Multichip-Bauelemente mit getrennt ansteuerbaren Halbleiterchips kann des Weiteren eine Bauform in Betracht kommen, in welcher statt separater Kathoden und Anoden eine gemeinsame Kathode und separate Anoden oder eine gemeinsame Anode und separate Kathoden vorliegen. Dies lässt sich mit geeignet ausgestalteten Leiterelementen der Leiterstruktur verwirklichen. Derartige Leiterelemente können zum Beispiel im Vergleich zu der oben beschriebene Ausgestaltung eines Leiterelements mit zwei vorderseitigen Leiterabschnitten, einem rückseitigen Leiterabschnitt und zwei Zwischenabschnitten eine größere Anzahl an Leiterabschnitten aufweisen. Des Weiteren können die Leiterelemente durch die Vereinzelung sowohl in separate und lediglich einzelnen Halbleiterchips zugeordnete bzw. mit einzelnen Halbleiterchips elektrisch verbundene Leiterelemente als auch in Leiterelemente unterteilt werden, welche mehreren Halbleiterchips gemeinsam zugeordnet sind und welche mit mehreren Halbleiterchips elektrisch verbunden sind. Hierbei können zum Beispiel mehrere Halbleiterchips auf einem vorderseitigen Leiterabschnitt eines solchen Leiterelements angeordnet sein. Furthermore, for multichip components with separately controllable semiconductor chips, a design can be considered in which, instead of separate cathodes and anodes, a common cathode and separate anodes or a common anode and separate cathodes are present. This can be realized with suitably designed conductor elements of the conductor structure. For example, such conductor elements may have a larger number of conductor portions compared with the above-described configuration of a conductor member having two front-side conductor portions, a back-side conductor portion, and two intermediate portions. Furthermore, the conductor elements can be subdivided by separation into separate conductor elements assigned to individual semiconductor chips or electrically connected to individual semiconductor chips, as well as into conductor elements which are jointly assigned to a plurality of semiconductor chips and which are electrically connected to a plurality of semiconductor chips. In this case, for example, a plurality of semiconductor chips may be arranged on a front-side conductor section of such a conductor element.

In Bezug auf Multichip-Bauelemente ist gemäß einer weiteren Ausführungsform vorgesehen, dass Halbleiterchips zum Erzeugen einer ersten Lichtstrahlung, Halbleiterchips zum Erzeugen einer zweiten Lichtstrahlung und Halbleiterchips zum Erzeugen einer dritten Lichtstrahlung auf dem Träger angeordnet werden. Im Rahmen des Vereinzelungsprozesses werden separate Halbleiterbauelemente gebildet, welche einen Halbleiterchip zum Erzeugen der ersten Lichtstrahlung, einen Halbleiterchip zum Erzeugen der zweiten Lichtstrahlung und einen Halbleiter- chip zum Erzeugen der dritten Lichtstrahlung aufweisen. Die Halbleiterbauelemente können wie vorstehend angegeben derart gefertigt werden, dass die unterschiedlichen Halbleiterchips separat angesteuert und dadurch unabhängig voneinander zur Abgabe ihrer jeweiligen Lichtstrahlung betrieben werden können. Auf diese Weise können die Halbleiterbauelemente als Pixel einer Anzeigevorrichtung eingesetzt werden, deren Farbe individuell einstellbar ist. With regard to multichip components, it is provided according to a further embodiment that semiconductor chips for generating a first light radiation, semiconductor chips for generating a second light radiation, and semiconductor chips for generating a third light radiation are arranged on the carrier. In the singulation process, separate semiconductor components are formed, which have a semiconductor chip for generating the first light radiation, a semiconductor chip for generating the second light radiation, and a semiconductor chip for generating the third light radiation. As described above, the semiconductor components can be manufactured such that the different semiconductor chips are separate can be driven and thereby independently operated to deliver their respective light radiation. In this way, the semiconductor devices can be used as pixels of a display device whose color is individually adjustable.

In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform kann es sich bei der ersten, zweiten und dritten Lichtstrahlung zum Beispiel um eine rote, eine grüne und eine blaue Lichtstrahlung handeln. Die auf diese Weise hergestellten Halbleiterbauelemente können infolgedessen als RGB-Pixel verwendet werden.With regard to the aforementioned embodiment, the first, second and third light radiation may, for example, be red, green and blue light radiation. As a result, the semiconductor devices manufactured in this way can be used as RGB pixels.

Wie oben angedeutet wurde, kann im Rahmen des Anordnens der Halbleiterchips auf dem Träger auch ein elektrisches Anschließen der Halbleiterchips an vorderseitige Leiterabschnitte der Leiterstruktur erfolgen. In diesem Zusammenhang können die im Folgenden erläuterten Ausführungsformen zur Anwendung kommen.As indicated above, in the context of arranging the semiconductor chips on the carrier, an electrical connection of the semiconductor chips to front-side conductor sections of the conductor structure can also take place. In this connection, the embodiments explained below can be used.

In einer weiteren Ausführungsform werden die Halbleiterchips jeweils auf einem vorderseitigen Leiterabschnitt angeordnet und über eine Kontaktstruktur elektrisch an einen benachbarten bzw. gegenüberliegenden vorderseitigen Leiterabschnitt angeschlossen. Bei dieser Ausgestaltung können Halbleiterchips mit einem Vorderseitenkontakt und einem Rückseitenkontakt eingesetzt werden. Über den Rückseitenkontakt und ein elektrisch leitfähiges Verbindungsmittel, zum Beispiel ein Lotmittel oder ein elektrisch leitfähiger Klebstoff, kann ein solcher Halbleiterchip elektrisch und mechanisch mit einem vorderseitigen Leiterabschnitt verbunden werden. Der Vorderseitenkontakt des Halbleiterchips kann über die Kontaktstruktur elektrisch mit einem benachbarten vorderseitigen Leiterabschnitt verbunden werden.In a further embodiment, the semiconductor chips are each arranged on a front-side conductor section and are electrically connected via a contact structure to an adjacent or opposite front-side conductor section. In this embodiment, semiconductor chips having a front-side contact and a back-side contact can be used. Via the rear-side contact and an electrically conductive connection means, for example a solder or an electrically conductive adhesive, such a semiconductor chip can be electrically and mechanically connected to a front-side conductor section. The front-side contact of the semiconductor chip can be electrically connected to an adjacent front-side conductor section via the contact structure.

Bei der verwendeten Kontaktstruktur kann es sich zum Beispiel um einen Bonddraht handeln. Alternativ existieren andere Anschlussmöglichkeiten, wie weiter unten noch näher erläutert wird.The contact structure used may be, for example, a bonding wire. Alternatively, there are other connection options, as will be explained in more detail below.

Auf der Vorderseite des Trägers kann zusätzlich eine an die Halbleiterchips angrenzende Schicht aus einem isolierenden Kunststoffmaterial ausgebildet werden, mit welcher die vorderseitigen Leiterabschnitte der Leiterstruktur abgedeckt werden können. Dadurch kann erzielt werden, dass bei den vereinzelten Halbleiterbauelementen lediglich die zur Oberflächenmontage eingesetzten rückseitigen Leiterabschnitte freiliegen und zugänglich sind. Die Zwischenabschnitte können in der Formmasse eingebettet sein, und die vorderseitigen Leiterabschnitte können von der vorderseitig aufgebrachten Schicht bedeckt sein. In Bezug auf die vorderseitige Schicht können folgende Ausführungsformen zur Anwendung kommen. In addition, a layer of insulating plastic material adjacent to the semiconductor chips can be formed on the front side of the carrier, with which the front conductor sections of the conductor structure can be covered. It can thereby be achieved that only the rear conductor sections used for surface mounting are exposed and accessible in the case of the isolated semiconductor components. The intermediate portions may be embedded in the molding compound, and the front conductor portions may be covered by the front-applied layer. With regard to the front-side layer, the following embodiments may be used.

In einer weiteren Ausführungsform wird eine die Halbleiterchips bedeckende Versiegelungsschicht auf der Vorderseite des Trägers ausgebildet. Mit Hilfe der Versiegelungsschicht können die Halbleiterchips vollständig eingekapselt werden. Im Hinblick auf die Herstellung strahlungsemittierender Halbleiterbauelemente kann die Versiegelungsschicht aus einem transparenten oder semitransparenten Kunststoffmaterial ausgebildet werden. Das Ausbilden der Versiegelungsschicht kann vor dem Vereinzelungsprozess durchgeführt werden.In a further embodiment, a sealing layer covering the semiconductor chips is formed on the front side of the carrier. With the aid of the sealing layer, the semiconductor chips can be completely encapsulated. With regard to the production of radiation-emitting semiconductor components, the sealing layer can be formed from a transparent or semitransparent plastic material. The formation of the sealant layer may be performed prior to the singulation process.

In einer weiteren Ausführungsform wird eine Einbettungsschicht auf der Vorderseite des Trägers ausgebildet, welche seitlich an die Halbleiterchips bzw. an deren Seitenflanken angrenzt, so dass Vorderseiten der Halbleiterchips freiliegen. Nachfolgend können Kontaktstrukturen ausgebildet werden, um die Halbleiterchips an vorderseitige Leiterabschnitte anzuschließen. Auch in dieser Ausführungsform können Halbleiterchips mit einem Vorderseitenkontakt und einem Rückseitenkontakt zur Anwendung kommen. Vor dem Ausbilden der Einbettungsschicht können die Halbleiterchips mit deren Rückseitenkontakten in der oben beschriebenen Art und Weise auf vorderseitigen Leiterabschnitten montiert werden. Durch das Herstellen der Kontaktstrukturen nach dem Ausbilden der Einbettungsschicht können die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips elektrisch mit benachbarten vorderseitigen Leiterabschnitten verbunden werden. Die Einbettungsschicht kann aus einem nicht transparentes Kunststoffmaterial ausgebildet werden. Das Ausbilden der Einbettungsschicht und das Ausbilden der Kontaktstrukturen kann vor dem Vereinzelungsprozess durchgeführt werden.In a further embodiment, an embedding layer is formed on the front side of the carrier, which laterally adjoins the semiconductor chips or on their side flanks, so that front sides of the semiconductor chips are exposed. Subsequently, contact structures may be formed to connect the semiconductor chips to front conductor sections. Also in this embodiment, semiconductor chips having a front-side contact and a back-side contact may be used. Before forming the embedding layer, the semiconductor chips can be mounted with their rear side contacts in the manner described above on front side conductor sections. By manufacturing the contact structures after forming the embedding layer, the front-side contacts of the semiconductor chips can be electrically connected to adjacent front-side conductor portions. The embedding layer may be formed of a non-transparent plastic material. The formation of the embedding layer and the formation of the contact structures can be carried out before the singulation process.

Die vorgenannte Ausführungsform erweist sich als günstig in Bezug auf die Herstellung von strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen. In dieser Ausgestaltung können die Vorderseiten der Halbleiterchips, über welche die Halbleiterchips eine Lichtstrahlung abgeben können, unbedeckt bleiben. Auf diese Weise ist eine effiziente Strahlungsemission ohne optische Fehler und Streueffekte möglich, und können sich die Halbleiterbauelemente durch eine hohe Helligkeit und einen hohen Kontrast auszeichnen. Ein hoher Kontrast kann begünstigt werden, wenn die Einbettungsschicht mit einer schwarzen Farbe bzw. aus einem schwarzen Kunststoffmaterial ausgebildet wird.The aforementioned embodiment proves to be favorable with respect to the production of radiation-emitting semiconductor components. In this embodiment, the front sides of the semiconductor chips, via which the semiconductor chips can emit a light radiation, remain uncovered. In this way, efficient radiation emission without optical errors and scattering effects is possible, and the semiconductor devices can excel in high brightness and high contrast. A high contrast can be favored if the embedding layer is formed with a black color or from a black plastic material.

In einer weiteren Ausführungsform wird nach dem Ausbilden der Kontaktstrukturen und vor der Vereinzelung eine Schutzschicht auf den Halbleiterchips bzw. auf deren freiliegenden Vorderseiten, auf den Kontaktstrukturen und auf der Einbettungsschicht ausgebildet. Auf diese Weise können die Halbleiterchips und die Kontaktstrukturen vor äußeren Einflüssen geschützt werden. Die Schutzschicht kann aus einem transparenten Kunststoffmaterial ausgebildet werden. In a further embodiment, after the formation of the contact structures and before the singulation, a protective layer is formed on the semiconductor chips or on their exposed front sides, on the contact structures and on the embedding layer. In this way, the semiconductor chips and the contact structures can be protected from external influences. The protective layer can be formed of a transparent plastic material.

In einer weiteren Ausführungsform werden die vorgenannten Kontaktstrukturen wie folgt ausgebildet. Für jede Kontaktstruktur wird eine Ausnehmung in der Einbettungsschicht zum Freilegen eines Teils eines vorderseitigen Leiterabschnitts erzeugt, und wird eine elektrisch leitfähige Kontaktschicht zum Verbinden eines Halbleiterchips bzw. eines Vorderseitenkontakts eines Halbleiterchips mit dem freigelegten Teil des vorderseitigen Leiterabschnitts ausgebildet. Auf diese Weise hergestellte Kontaktstrukturen können sogenannte planare Kontakte bzw. PI-Kontakte (Planar Interconnect), auch als PICOS-Kontakte bezeichnet, sein.In a further embodiment, the aforementioned contact structures are formed as follows. For each contact structure, a recess is formed in the embedding layer for exposing a part of a front side conductor portion, and an electrically conductive contact layer for connecting a semiconductor chip or a front side contact of a semiconductor chip to the exposed part of the front side conductor portion is formed. Contact structures produced in this way can be so-called planar contacts or PI contacts (planar interconnect), also referred to as PICOS contacts.

Die vorstehend beschriebene Vorgehensweise bietet die Möglichkeit, die Kontaktstrukturen möglichst klein auszubilden. Auch können die verwendeten Halbleiterchips kleine Vorderseitenkontakte aufweisen. Sofern strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente mit einer schwarzen Einbettungsschicht hergestellt werden, und aus diesen eine Anzeigevorrichtung aufgebaut wird, kann erreicht werden, dass die Anzeigevorrichtung im ausgeschalteten Zustand nahezu schwarz erscheint. Hierbei können lediglich die Halbleiterchips und die Kontaktstrukturen einen geringen reflektierenden Anteil besitzen.The procedure described above offers the possibility of making the contact structures as small as possible. Also, the semiconductor chips used may have small front side contacts. If radiation-emitting semiconductor components with a black embedding layer are produced, and from which a display device is constructed, it can be achieved that the display device appears almost black when switched off. In this case, only the semiconductor chips and the contact structures can have a low reflective component.

Hinsichtlich der in Form von Kontaktschichten verwirklichten Kontaktstrukturen kann es ferner in Betracht kommen, vor dem Ausbilden der Kontaktschichten an jedem Halbleiterchip eine isolierende Schicht auszubilden, welche den betreffenden Halbleiterchip vorderseitig am Rand bzw. im Bereich des Vorderseitenkontakts und einen Teil der Einbettungsschicht bedeckt. Auf diese Weise kann vermieden werden, dass die Seitenflanke und der Vorderseitenkontakt des Halbleiterchips über die nachfolgend erzeugte Kontaktschicht kurzgeschlossen werden. Die isolierende Schicht kann aus einem transparenten Kunststoffmaterial ausgebildet werden.With regard to the contact structures embodied in the form of contact layers, it may also be considered to form an insulating layer on each semiconductor chip before the contact layers are formed, which covers the relevant semiconductor chip on the front edge and in the region of the front side contact and a part of the embedding layer. In this way it can be avoided that the side edge and the front side contact of the semiconductor chip are short-circuited via the subsequently produced contact layer. The insulating layer may be formed of a transparent plastic material.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein oberflächenmontierbares Halbleiterbauelement vorgeschlagen. Das Halbleiterbauelement weist einen Träger mit einer Vorderseite und einer Rückseite und wenigstens einen auf der Vorderseite des Trägers angeordneten Halbleiterchip auf. Der Träger weist eine metallische Leiterstruktur und eine an die Leiterstruktur angrenzende Formmasse auf. Die Leiterstruktur weist in einer ersten Ebene angeordnete vorderseitige Leiterabschnitte, in einer zweiten Ebene versetzt zur ersten Ebene angeordnete rückseitige Leiterabschnitte und sich zwischen den vorderseitigen und rückseitigen Leiterabschnitten erstreckende Zwischenabschnitte auf. Die vorderseitigen Leiterabschnitte liegen an der Vorderseite des Trägers frei. Die rückseitigen Leiterabschnitte liegen an der Rückseite des Trägers frei.According to another aspect of the invention, a surface mount semiconductor device is proposed. The semiconductor component has a carrier with a front side and a rear side and at least one semiconductor chip arranged on the front side of the carrier. The carrier has a metallic conductor structure and a molding compound adjacent to the conductor structure. The conductor structure has front-side conductor sections arranged in a first plane, rear-side conductor sections arranged offset in a second plane to the first plane, and intermediate sections extending between the front-side and rear-side conductor sections. The front conductor sections are exposed at the front of the carrier. The rear conductor sections are exposed at the back of the carrier.

Das Halbleiterbauelement kann gemäß dem oben erläuterten Verfahren bzw. gemäß einer oder mehrerer der oben beschriebenen Ausführungsformen des Verfahrens hergestellt sein. Für das Halbleiterbauelement können dieselben Ausgestaltungen denkbar sein und können dieselben Vorteile in Betracht kommen, wie sie oben erläutert wurden. Beispielsweise kann das Halbleiterbauelement in Form eines strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements verwirklicht sein, indem der wenigstens eine Halbleiterchip ein strahlungsemittierender Halbleiterchip ist. Auch kann das Halbleiterbauelement eine große Bauhöhe von zum Beispiel wenigstens 2mm aufweisen. Dadurch eignet sich das Halbleiterbauelement für eine Verwendung bei einer Anzeigevorrichtung.The semiconductor component can be produced according to the method explained above or according to one or more of the embodiments of the method described above. For the semiconductor device, the same configurations may be conceivable and the same advantages may be considered as explained above. By way of example, the semiconductor component can be realized in the form of a radiation-emitting semiconductor component in that the at least one semiconductor chip is a radiation-emitting semiconductor chip. Also, the semiconductor device may have a large height of, for example, at least 2mm. As a result, the semiconductor device is suitable for use in a display device.

Des Weiteren können zum Beispiel einzelne oder mehrere der folgenden Ausgestaltungen vorliegen. Die Formmasse kann ein schwarzes Kunststoffmaterial aufweisen. Die Vorderseite des Trägers kann durch die vorderseitigen Leiterabschnitte und die Formmasse gebildet sein. Die Rückseite des Trägers kann durch die rückseitigen Leiterabschnitte und die Formmasse gebildet sein. Die Zwischenabschnitte der Leiterstruktur können senkrecht zur ersten und zweiten Ebene und damit senkrecht zur Vorder- und Rückseite des Trägers verlaufen. Des Weiteren können die Zwischenabschnitte jeweils mit einem vorderseitigen und mit einem rückseitigen Leiterabschnitt verbunden sein. Der wenigstens eine Halbleiterchip kann über einen Bonddraht an einen vorderseitigen Leiterabschnitt angeschlossen sein. Die Vorderseite des Trägers sowie der wenigstens eine Halbleiterchip können mit einer transparenten oder semitransparenten Versiegelungsschicht bedeckt sein. Furthermore, for example, one or more of the following configurations may be present. The molding compound may comprise a black plastic material. The front of the carrier may be formed by the front conductor portions and the molding compound. The back of the carrier may be formed by the back conductor portions and the molding compound. The intermediate sections of the conductor structure may be perpendicular to the first and second planes and thus perpendicular to the front and back of the carrier. Furthermore, the intermediate sections may each be connected to a front and a rear conductor section. The at least one semiconductor chip may be connected to a front conductor section via a bonding wire. The front side of the carrier as well as the at least one semiconductor chip may be covered with a transparent or semitransparent sealing layer.

Möglich ist es auch, dass auf der Vorderseite des Trägers eine Einbettungsschicht angeordnet ist, welche seitlich an den wenigstens einen Halbleiterchip angrenzt, so dass eine Vorderseite des wenigstens einen Halbleiterchips nicht mit der Einbettungsschicht bedeckt ist. Der betreffende Halbleiterchip kann ferner über eine Kontaktstruktur an einen vorderseitigen Leiterabschnitt angeschlossen sein. Hierbei kann die Einbettungsschicht eine Ausnehmung aufweisen, über welche ein Teil des vorderseitigen Leiterabschnitts freigelegt ist. Die Kontaktstruktur kann in Form einer Kontaktschicht verwirklicht sein, über welche der Halbleiterchip mit dem freigelegten Teil des vorderseitigen Leiterabschnitts elektrisch verbunden ist. Die Einbettungsschicht kann aus einem nicht transparenten, zum Beispiel schwarzen Kunststoffmaterial ausgebildet sein. Das Halbleiterbauelement kann gegebenenfalls eine zusätzliche Schutzschicht aus einem transparenten Kunststoffmaterial aufweisen, welche auf dem wenigstens einen Halbleiterchip, der Kontaktstruktur und der Einbettungsschicht angeordnet sein kann.It is also possible for an embedding layer to be arranged on the front side of the carrier which laterally adjoins the at least one semiconductor chip so that a front side of the at least one semiconductor chip is not covered by the embedding layer. The relevant semiconductor chip can also be connected via a contact structure to a front-side conductor section. In this case, the embedding layer may have a recess over which a part of the front-side conductor section is exposed. The contact structure may be realized in the form of a contact layer, via which the semiconductor chip is electrically connected to the exposed part of the front-side conductor section. The embedding layer may be formed of a non-transparent, for example, black plastic material. Optionally, the semiconductor device may comprise an additional protective layer of a transparent plastic material disposed on the at least one a semiconductor chip, the contact structure and the embedding layer may be arranged.

Darüber hinaus kann das Halbleiterbauelement als Multichip-Bauelement verwirklicht sein, und zum Beispiel drei strahlungsemittierende Halbleiterchips aufweisen. Die drei Halbleiterchips können zum Erzeugen von unterschiedlichen Lichtstrahlungen, beispielsweise einer roten, einen grünen und einer blauen Lichtstrahlung, ausgebildet sein.In addition, the semiconductor component can be implemented as a multi-chip component, and have, for example, three radiation-emitting semiconductor chips. The three semiconductor chips can be designed to generate different light radiations, for example red, green and blue light radiation.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Anzeigevorrichtung vorgeschlagen. Die Anzeigevorrichtung weist eine Leiterplatte, mehrere auf der Leiterplatte angeordnete Halbleiterbauelemente und ein Vergussmaterial auf. Das Vergussmaterial ist auf der Leiterplatte in Bereichen neben und zwischen den Halbleiterbauelementen angeordnet. Die Halbleiterbauelemente weisen den oben beschriebenen Aufbau bzw. einen Aufbau gemäß einer oder mehrerer der oben beschriebenen Ausführungsformen auf. Auch können die Halbleiterbauelemente gemäß dem oben erläuterten Verfahren bzw. gemäß einer oder mehrerer der oben beschriebenen Ausführungsformen des Verfahrens hergestellt sein. In Bezug auf den Einsatz bei der Anzeigevorrichtung sind die Halbleiterbauelemente strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente. Daher ist der wenigstens eine Halbleiterchip der Halbleiterbauelemente ein strahlungsemittierender Halbleiterchip.According to another aspect of the invention, a display device is proposed. The display device has a printed circuit board, a plurality of semiconductor components arranged on the printed circuit board and a potting material. The potting material is disposed on the circuit board in areas adjacent and between the semiconductor devices. The semiconductor devices have the structure described above or a structure according to one or more of the embodiments described above. The semiconductor components can also be produced according to the method explained above or according to one or more of the embodiments of the method described above. With respect to use in the display device, the semiconductor devices are radiation-emitting semiconductor devices. Therefore, the at least one semiconductor chip of the semiconductor components is a radiation-emitting semiconductor chip.

Wie oben angeben wurde, können die Halbleiterbauelemente eine große Bauhöhe von zum Beispiel wenigstens 2mm aufweisen. In entsprechender Weise kann das Vergussmaterial mit einer großen Dicke auf der Leiterplatte ausgebildet werden. Auf diese Weise können die rückseitigen Leiterabschnitte der Halbleiterbauelemente zuverlässig abgedichtet und damit sicher vor äußeren Umwelteinflüssen geschützt werden. Die vorderseitige Anordnung der strahlungsemittierenden Halbleiterchips auf den Halbleiterbauelementen ermöglicht darüber hinaus einen effizienten Leuchtbetrieb der Anzeigevorrichtung. Im Vergleich zur Verwendung herkömmlicher Halbleiterbauelemente ist eine Steigerung der Lichtausbeute von zum Beispiel bis zu 50% möglich.As stated above, the semiconductor devices may have a large overall height of, for example, at least 2mm. Similarly, the potting material can be formed with a large thickness on the circuit board. In this way, the back conductor sections of the semiconductor devices can be reliably sealed and thus safely protected from external environmental influences. The front-side arrangement of the radiation-emitting semiconductor chips on the semiconductor components also enables efficient lighting operation of the display device. Compared to the use of conventional semiconductor devices, an increase in the luminous efficacy of, for example, up to 50% is possible.

Für die Anzeigevorrichtung können einzelne oder mehrere der folgenden Ausgestaltungen vorliegen. Die Anzeigevorrichtung kann ein Modul für eine Videowand sein. Auch kann die Anzeigevorrichtung für eine Anwendung im Outdoor-Bereich geeignet sein. Die Halbleiterbauelemente können über die rückseitigen Leiterabschnitte und ein elektrisch leitfähiges Verbindungsmittel elektrisch und mechanisch mit Anschlüssen der Leiterplatte verbunden sein. Das Vergussmaterial kann ein Kunststoff- bzw. Silikonmaterial sein. Des Weiteren kann das Vergussmaterial nicht transparent sein und zum Beispiel eine schwarze Farbe aufweisen.For the display device, one or more of the following configurations may be present. The display device may be a module for a video wall. Also, the display device may be suitable for outdoor use. The semiconductor components may be electrically and mechanically connected to terminals of the circuit board via the rear conductor sections and an electrically conductive connection means. The potting material may be a plastic or silicone material. Furthermore, the potting material may not be transparent and, for example, have a black color.

Die vorstehend erläuterten und/oder in den Unteransprüchen wiedergegebenen vorteilhaften Aus- und Weiterbildungen der Erfindung können – außer zum Beispiel in Fällen eindeutiger Abhängigkeiten oder unvereinbare Alternativen – einzeln oder aber auch in beliebiger Kombination miteinander zur Anwendung kommen.The advantageous embodiments and further developments of the invention explained above and / or reproduced in the subclaims can be used individually or else in any desired combination with one another-except, for example, in cases of clear dependencies or incompatible alternatives.

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung, sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich in Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen, die im Zusammenhang mit den schematischen Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen:The above-described characteristics, features and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of exemplary embodiments, which are explained in more detail in connection with the schematic drawings. Show it:

1 bis 3 Aufsichtsdarstellungen und eine seitliche Darstellung einer bereitgestellten Leiterstruktur zum Herstellen von Multichip-Bauelementen; 1 to 3 Supervision diagrams and a side view of a provided conductor structure for producing multi-chip components;

4, 5 eine Aufsichtsdarstellung und eine seitliche Darstellung eines durch Umformen der Leiterstruktur mit einer Formmasse gebildeten Trägers; 4 . 5 a top view and a side view of a formed by forming the conductor structure with a molding material carrier;

6, 7 eine Aufsichtsdarstellung und eine seitliche Darstellung des Trägers nach einer Chipmontage und einem Ausbilden einer Versiegelungsschicht; 6 . 7 a top view and a side view of the carrier after a chip mounting and forming a sealing layer;

8, 9 eine Aufsichtsdarstellung und eine seitliche Darstellung eines vereinzelten Multichip-Bauelements; 8th . 9 a top view and a side view of an isolated multi-chip device;

10 eine seitliche Darstellung des Trägers nach einer alternativen Chipmontage unter Verwendung einer Einbettungsschicht; 10 a side view of the carrier according to an alternative chip mounting using an embedding layer;

11 eine seitliche Darstellung eines weiteren vereinzelten Multichip-Bauelements; 11 a side view of another isolated multichip device;

12 eine vergrößerte seitliche Darstellung des Trägers nach der alternativen Chipmontage mit der Einbettungsschicht und einem Ausbilden von weiteren Schichten; 12 an enlarged side view of the carrier after the alternative chip assembly with the embedding layer and forming further layers;

13 eine Aufsichtsdarstellung eines Trägers mit einer alternativen Leiterstruktur zum Herstellen von Multichip-Bauelementen; 13 a top view of a carrier with an alternative conductor structure for producing multi-chip components;

14 eine Aufsichtsdarstellung eines Trägers mit einer alternativen Leiterstruktur zum Herstellen von Einzelchip-Bauelementen; und 14 a top view of a carrier with an alternative conductor structure for producing single-chip components; and

15 eine seitliche Darstellung einer Anzeigevorrichtung. Anhand der folgenden schematischen Figuren werden mögliche Ausgestaltungen eines Verfahrens zum Herstellen von oberflächenmontierbaren strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen beschrieben. Die Halbleiterbauelemente können bei Anzeigevorrichtungen im Outdoor-Bereich zur Anwendung kommen. Bei dem Verfahren können aus der Halbleitertechnik und aus der Fertigung elektronischer und optoelektronischer Bauelemente bekannte Prozesse durchgeführt werden und können in diesen Gebieten übliche Materialien zum Einsatz kommen, so dass hierauf nur teilweise eingegangen wird. In gleicher Weise können zusätzlich zu gezeigten und beschriebenen Prozessen weitere Prozesse durchgeführt werden und können die Bauelemente zusätzlich zu gezeigten und beschriebenen Komponenten mit weiteren Komponenten und Strukturen gefertigt werden. Es wird ferner darauf hingewiesen, dass die Figuren lediglich schematischer Natur sind und nicht maßstabsgetreu sind. In diesem Sinne können in den Figuren gezeigte Komponenten und Strukturen zum besseren Verständnis übertrieben groß oder verkleinert dargestellt sein. 15 a side view of a display device. On the basis of the following schematic figures possible embodiments of a method for the manufacture of Surface-mountable radiation-emitting semiconductor devices described. The semiconductor devices may be used in outdoor display devices. In the method, known processes can be carried out from semiconductor technology and from the production of electronic and optoelectronic components, and conventional materials can be used in these areas, so that this is only partially discussed. In the same way, in addition to processes shown and described further processes can be carried out and the components can be manufactured in addition to components shown and described with other components and structures. It is further noted that the figures are merely schematic in nature and are not to scale. In this sense, components and structures shown in the figures may be exaggerated or oversized for clarity.

In den Figuren ist ergänzend anhand von mit x, y, z bezeichneten und rechtwinklig orientierten Achsen ein dreidimensionales orthogonales Koordinatensystem angedeutet. Dieses wird im Folgenden zum Teil zur Beschreibung geometrischer Gegebenheiten verwendet.In the figures, a three-dimensional orthogonal coordinate system is additionally indicated on the basis of x, y, z and oriented at right angles axes. This will be used in the following partly for the description of geometric conditions.

Die 1 bis 9 zeigen anhand von Aufsichtsdarstellungen und seitlichen Schnittdarstellungen ein mögliches Verfahren zum Herstellen von oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelementen 101. Hierbei handelt es sich um strahlungsemittierende Multichip-Bauelemente 101, welche drei getrennt ansteuerbare strahlungsemittierende Halbleiterchips 140 aufweisen. Die drei Halbleiterchips 140 können zum Erzeugen von unterschiedlichen Lichtstrahlungen, d.h. einer roten, einer grünen und einer blauen Lichtstrahlung ausgebildet sein. Dadurch können die Halbleiterbauelemente 101 als RGB-Pixel einer Anzeigevorrichtung eingesetzt werden. Diese Anwendung kann durch eine mit Hilfe des Verfahrens erzielbare große Bauhöhe der Halbleiterbauelemente 101 begünstigt werden.The 1 to 9 show on the basis of supervisory representations and side sectional views of a possible method for producing surface mount semiconductor devices 101 , These are radiation-emitting multichip components 101 which three separately controllable radiation-emitting semiconductor chips 140 exhibit. The three semiconductor chips 140 can be designed to generate different light radiation, ie a red, a green and a blue light radiation. This allows the semiconductor devices 101 be used as RGB pixels of a display device. This application can be achieved by a large height of the semiconductor components which can be achieved with the aid of the method 101 be favored.

Zu Beginn des Verfahrens wird eine metallische Leiterstruktur 110 bereitgestellt, welche ausschnittsweise in den 1, 2 in einer Aufsicht und in 3 im Querschnitt gezeigt ist. Die Leiterstruktur 110 weist eine Vielzahl an Leiterabschnitten 121, 122 auf, welche in einer ersten Ebene 171 angeordnet sind (vgl. 3). Entsprechend des Koordinatensystems handelt es sich um eine x-y-Ebene 171. Bei einem später erzeugten Träger 130 befinden sich die Leiterabschnitte 121, 122 an dessen Vorderseite 181 (vgl. 5). Daher werden die Leiterabschnitte 121, 122 im Folgenden auch als vorderseitige Leiterabschnitte 121, 122 bezeichnet. Die Leiterabschnitte 121 weisen eine größere Länge als die Leiterabschnitte 122 auf.At the beginning of the process becomes a metallic conductor structure 110 provided, which partially in the 1 . 2 in a supervision and in 3 shown in cross section. The ladder structure 110 has a variety of conductor sections 121 . 122 on which in a first level 171 are arranged (see. 3 ). According to the coordinate system, it is an xy plane 171 , In a later produced carrier 130 are the conductor sections 121 . 122 at the front 181 (see. 5 ). Therefore, the conductor sections become 121 . 122 in the following also as front conductor sections 121 . 122 designated. The conductor sections 121 have a greater length than the conductor sections 122 on.

Die Leiterstruktur 110 weist ferner eine Vielzahl an Leiterabschnitten 125 auf, welche in einer zur ersten Ebene 171 parallel versetzten zweiten x-y-Ebene 172 angeordnet sind (vgl. 3). Da sich die Leiterabschnitte 125 an einer Rückseite 182 des später erzeugten Trägers 130 befinden (vgl. 5), werden diese im Folgenden auch rückseitige Leiterabschnitte 125 genannt. In Bezug auf die oben erwähnte große Bauhöhe der Halbleiterbauelemente 101 kann die Leiterstruktur 110 mit einer Bauhöhe und damit einem Abstand der Ebenen 171, 172 von zum Beispiel wenigstens 2mm verwirklicht sein.The ladder structure 110 also has a plurality of conductor sections 125 on which one in the first level 171 parallel offset second xy plane 172 are arranged (see. 3 ). As the conductor sections 125 on a backside 182 of the later produced carrier 130 are located (cf. 5 ), these are also referred to as rear conductor sections 125 called. With respect to the above-mentioned large height of the semiconductor devices 101 can the ladder structure 110 with a height and thus a distance of the levels 171 . 172 of, for example, at least 2mm.

Die Leiterstruktur 110 weist des Weiteren sich zwischen den vorderseitigen und rückseitigen Leiterabschnitten 121, 122, 125 erstreckende Zwischenabschnitte 127 auf (vgl. 3). Die Zwischenabschnitte 127, welche jeweils mit einem vorderseitigen Leiterabschnitt 121 oder 122 und einem rückseitigen Leiterabschnitt 125 verbunden sind, verlaufen senkrecht zu den beiden Ebenen 171, 172 und damit in z-Richtung.The ladder structure 110 Further, between the front and back conductor sections 121 . 122 . 125 extending intermediate sections 127 on (cf. 3 ). The intermediate sections 127 , each with a front conductor section 121 or 122 and a back conductor section 125 are connected, perpendicular to the two planes 171 . 172 and thus in z-direction.

Wie anhand der 1 bis 3 deutlich wird, sind mehrere der Abschnitte 121, 122, 125, 127 zu größeren Einheiten 111 zusammengefasst, welche im Folgenden als Leiterelemente 111 bezeichnet werden. Die Leiterelemente 111, welche von oben betrachtet eine Streifenform aufweisen, umfassen jeweils zwei vorderseitige Leiterabschnitte 121, 122, einen dazwischen angeordneten rückseitigen Leiterabschnitt 125 und zwei Zwischenabschnitte 127 (vgl. 3). Über die beiden Zwischenabschnitte 127 ist der rückseitige Leiterabschnitt 125 mit jeweils einem der beiden vorderseitigen Leiterabschnitte 121, 122 verbunden.As based on the 1 to 3 becomes clear, are several of the sections 121 . 122 . 125 . 127 to larger units 111 summarized, which in the following as ladder elements 111 be designated. The ladder elements 111 , which have a strip shape when viewed from above, each comprise two front-side conductor sections 121 . 122 , a rear conductor portion disposed therebetween 125 and two intermediate sections 127 (see. 3 ). About the two intermediate sections 127 is the back ladder section 125 each with one of the two front conductor sections 121 . 122 connected.

Wie in den 1, 2 ferner dargestellt ist, sind die streifenförmigen Leiterelemente 111 in mehreren parallelen und in x-Richtung verlaufenden Reihen angeordnet. In jeder Reihe sind die Leiterelemente 111 derart positioniert, dass sich jeweils zwei vorderseitige Leiterabschnitte 121, 122 von benachbarten Leiterelementen 111 in einem Abstand gegenüberliegen. Hierbei sind die betreffenden Leiterabschnitte 121, 122 durch eine Unterbrechung voneinander getrennt. Im Querschnitt weisen die streifenförmigen Leiterelemente 111, wie in 3 gezeigt ist, ein U-förmiges Profil auf. In entsprechender Weise besitzt die Leiterstruktur 110 im Querschnitt ein sich wiederholendes U-Profil.As in the 1 . 2 is further shown, are the strip-shaped conductor elements 111 arranged in several parallel and running in the x-direction rows. In each row are the ladder elements 111 positioned such that in each case two front-side conductor sections 121 . 122 from adjacent conductor elements 111 at a distance opposite. Here are the relevant conductor sections 121 . 122 separated by an interruption. In cross section, the strip-shaped conductor elements 111 , as in 3 shown is a U-shaped profile. The conductor structure has the same way 110 in cross-section a repetitive U-profile.

Die Leiterstruktur 110 weist darüber hinaus, wie in den 1, 2 gezeigt ist, stegförmige Verbindungselemente 115, 116 auf, über welche die rückseitigen Leiterabschnitte 125 miteinander verbunden sind. Diese werden im Folgenden als Verbindungsstege 115, 116 bezeichnet. Mit Hilfe der Verbindungsstege 115, 116 wird die Leiterstruktur 110 mechanisch zusammengehalten. In diesem Zustand sind sämtliche Bestandteile der Leiterstruktur 110 elektrisch kurzgeschlossen.The ladder structure 110 moreover, as in the 1 . 2 is shown, web-shaped connecting elements 115 . 116 on which the rear conductor sections 125 connected to each other. These are referred to below as connecting bridges 115 . 116 designated. With the help of connecting bridges 115 . 116 becomes the ladder structure 110 held together mechanically. In this condition are all components of the ladder structure 110 electrically shorted.

Die Verbindungsstege 116, welche unmittelbar mit den rückseitigen Leiterabschnitten 125 verbunden sind und sich zwischen benachbarten Leiterabschnitten 125 erstrecken, verlaufen in y-Richtung in der zweiten Ebene 172. Die Verbindungsstege 116 sind ihrerseits zum Teil mit den Verbindungsstegen 115 verbunden. Die Verbindungsstege 115 besitzen, vergleichbar zu den Leiterelementen 111, ein U-förmiges Querschnittsprofil. Hierbei weisen die Verbindungsstege 115 sowohl in der ersten Ebene 171 als auch in der zweiten Ebene 172 in x-Richtung verlaufende Teilabschnitte auf, wie in den 1, 2 angedeutet ist. Derartige Teilabschnitte sind über nicht dargestellte und senkrecht hierzu bzw. in z-Richtung verlaufende Teilabschnitte der Verbindungsstege 115 verbunden.The connecting bridges 116 , which directly with the back conductor sections 125 are connected and between adjacent conductor sections 125 extend, extending in the y-direction in the second plane 172 , The connecting bridges 116 are in turn partly with the connecting bridges 115 connected. The connecting bridges 115 own, comparable to the ladder elements 111 , a U-shaped cross-sectional profile. Here are the connecting webs 115 both in the first level 171 as well as in the second level 172 in the x-direction extending sections, as in the 1 . 2 is indicated. Such sections are not shown and perpendicular thereto or in the z-direction extending portions of the connecting webs 115 connected.

Anhand von 1 wird weiter deutlich, dass bei der Leiterstruktur 110 jeweils drei Reihen aus Leiterelementen 111 nebeneinander angeordnet sind, und jeweils neben bzw. zwischen solchen Reihenanordnungen aus Leiterelementen 111 die Verbindungsstege 115 vorhanden sind. In 1 ist ferner anhand von gestrichelten Linien ein rechteckiger bzw. quadratischer Bauelementbereich 190 angedeutet, anhand dessen die geometrische Ausdehnung von einem der herzustellenden Halbleiterbauelemente 101 veranschaulicht ist. Der Bauelementbereich 190 ist von Verbindungsstegen 115, 116 umschlossen.Based on 1 it becomes clear that in the ladder structure 110 three rows of ladder elements each 111 are arranged side by side, and in each case adjacent to or between such rows of conductor elements 111 the connecting webs 115 available. In 1 is also on the basis of dashed lines a rectangular or square component area 190 indicated, on the basis of which the geometric extension of one of the semiconductor components to be produced 101 is illustrated. The component area 190 is of connecting bridges 115 . 116 enclosed.

Die Leiterstruktur 110 kann wie folgt hergestellt werden. Hierbei wird eine Metallfolie bereitgestellt und nachfolgend einer Strukturierung unterzogen, wodurch eine sich zunächst noch in einer gemeinsamen Ebene erstreckende Ausgangsstruktur vorliegt (nicht dargestellt). Das Strukturieren der Metallfolie kann zum Beispiel durch Ätzen oder durch einen mechanischen Prozess wie zum Beispiel Stanzen durchgeführt werden. Die Ausgangsstruktur wird anschließend gefaltet, um die in den 1 bis 3 gezeigte Ausprägung der Leiterstruktur 110 in Form eines Metallnetzes mit dem sich wiederholenden U-Profil zu erzeugen. Die bereitgestellte Metallfolie weist eine Dicke auf, welche sowohl ein einfaches Falten ermöglicht als auch der Metallfolie und damit der Leiterstruktur 110 eine ausreichende Steifigkeit verleiht. Dies kann zum Beispiel mit einer Dicke der Metallfolie im Bereich von 50µm bis 200µm erreicht werden.The ladder structure 110 can be made as follows. In this case, a metal foil is provided and subsequently subjected to structuring, as a result of which an initial structure which initially still extends in a common plane is present (not illustrated). The patterning of the metal foil may be carried out, for example, by etching or by a mechanical process such as stamping. The initial structure is then folded to fit into the 1 to 3 shown characteristic of the ladder structure 110 in the form of a metal net with the repeating U-profile. The provided metal foil has a thickness which allows both a simple folding and the metal foil and thus the conductor structure 110 gives sufficient rigidity. This can be achieved, for example, with a thickness of the metal foil in the range of 50 μm to 200 μm.

Nach dem Bereitstellen der Leiterstruktur 110 wird die Leiterstruktur 110, wie in 4 in der Aufsicht und in 5 im Querschnitt gezeigt ist, mit einer Formmasse 135 umformt. Auf diese Weise wird ein ebener plattenförmiger Träger 130 mit einer flachen Vorderseite 181 und einer hierzu entgegengesetzten flachen Rückseite 182 erzeugt. Die Vorderseite 181 des Trägers 130 wird durch die vorderseitigen Leiterabschnitte 121, 122 und die mit den Leiterabschnitten 121, 122 an dieser Stelle bündig abschließende Formmasse 135 gebildet. Infolgedessen sind die vorderseitigen Leiterabschnitte 121, 122 an der Vorderseite 181 freigestellt. In gleicher Weise wird die Rückseite 182 des Trägers 130 durch die rückseitigen Leiterabschnitte 125 und die mit den Leiterabschnitten 125 an dieser Stelle bündig abschließende Formmasse 135 gebildet. Infolgedessen liegen die rückseitigen Leiterabschnitte 125 an der Rückseite 182 frei. Entsprechend der oben erläuterten Ausgestaltung der Leiterstruktur 110 kann der Träger 130 eine Dicke von wenigstens 2mm aufweisen.After providing the conductor structure 110 becomes the ladder structure 110 , as in 4 in the supervision and in 5 shown in cross-section, with a molding compound 135 reshapes. In this way, a flat plate-shaped carrier 130 with a flat front 181 and a flat back opposite thereto 182 generated. The front 181 of the carrier 130 is through the front conductor sections 121 . 122 and the ones with the ladder sections 121 . 122 at this point flush final molding compound 135 educated. As a result, the front conductor sections are 121 . 122 on the front side 181 optional. In the same way, the back 182 of the carrier 130 through the back conductor sections 125 and the ones with the ladder sections 125 at this point flush final molding compound 135 educated. As a result, the back conductor sections lie 125 at the back 182 free. According to the embodiment of the conductor structure explained above 110 can the carrier 130 have a thickness of at least 2mm.

Das Umformen der Leiterstruktur 110 kann mit Hilfe eines Formprozesses (Molding) unter Verwendung eines nicht dargestellten Form- bzw. Moldwerkzeugs durchgeführt werden. Hierbei kann die Leiterstruktur 110 mit der Formmasse 135 umspritzt werden. Bei der Formmasse 135 kann es sich um ein Kunststoffmaterial, zum Beispiel um ein Duroplast oder Thermoplast, handeln. Um im Leuchtbetrieb der mit dem Verfahren hergestellten Halbleiterbauelemente 101 einen hohen Kontrast zu erzielen, kann die verwendete Formmasse 135 eine schwarze Farbe aufweisen.The reshaping of the ladder structure 110 can be performed by means of a molding process using a molding tool (not shown). Here, the conductor structure 110 with the molding compound 135 to be overmoulded. In the molding compound 135 it may be a plastic material, for example a thermoset or thermoplastic. In the luminous operation of the semiconductor devices produced by the method 101 To achieve a high contrast, the molding compound used 135 have a black color.

Anschließend werden weitere Prozesse durchgeführt, wie in 6 in der Aufsicht und in 7 im Querschnitt gezeigt ist. Zunächst werden auf der Vorderseite 181 der bereitgestellten Trägerplatte 130 strahlungsemittierende Halbleiterchips 140 montiert. Die Halbleiterchips 140 können zum Beispiel LED-Chips sein. Bei der Chipmontage werden die Halbleiterchips 140 auf den vorderseitigen Leiterabschnitten 121 der Leiterelemente 111 angeordnet sowie elektrisch mit diesen und mit den gegenüberliegenden vorderseitigen Leiterabschnitten 122 von benachbarten Leiterelementen 111 verbunden. Subsequently, further processes are carried out, as in 6 in the supervision and in 7 shown in cross section. First, be on the front 181 the provided carrier plate 130 radiation-emitting semiconductor chips 140 assembled. The semiconductor chips 140 can be, for example, LED chips. In chip mounting, the semiconductor chips become 140 on the front conductor sections 121 the conductor elements 111 arranged as well as electrically with these and with the opposite front-side conductor sections 122 from adjacent conductor elements 111 connected.

Die Halbleiterchips 140 weisen einen Vorderseitenkontakt und einen Rückseitenkontakt auf (jeweils nicht dargestellt). Mit den Rückseitenkontakten werden die Halbleiterchips 140 auf den Leiterabschnitten 121 angeordnet. An diesen Stellen wird eine elektrische und mechanische Verbindung mit Hilfe eines Verbindungsmittels wie zum Beispiel eines Lotmittels oder eines elektrisch leitfähigen Klebstoffs hergestellt (nicht dargestellt). Die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips 140 werden über Bonddrähte 150 an die jeweils benachbart zu den Leiterabschnitten 121 vorliegenden Leiterabschnitte 122 angeschlossen.The semiconductor chips 140 have a front-side contact and a back-side contact (not shown). With the backside contacts are the semiconductor chips 140 on the ladder sections 121 arranged. At these locations, an electrical and mechanical connection is made by means of a bonding means such as a solder or an electrically conductive adhesive (not shown). The front-side contacts of the semiconductor chips 140 Be about bonding wires 150 to each adjacent to the conductor sections 121 present conductor sections 122 connected.

Wie oben angedeutet wurde, können mit Hilfe des Verfahrens als RGB-Pixel dienende Halbleiterbauelemente 101 hergestellt werden. Für diese Ausgestaltung werden auf dem Träger 130 unterschiedliche lichtemittierende Halbleiterchips 140 angeordnet, welche zum Erzeugen einer roten, einer grünen und einer blauen Lichtstrahlung ausgebildet sind. Hierbei werden in den einzelnen Bauelementbereichen (vgl. den Bereich 190 in 1) jeweils ein rot emittierender, ein grün emittierender und ein blau emittierender Halbleiterchip 140 angeordnet. Von oben betrachtet sind diese drei Halbleiterchips 140 in y-Richtung nebeneinander angeordnet (vgl. 6).As indicated above, semiconductor devices serving as RGB pixels can be used with the method 101 getting produced. For this embodiment, on the carrier 130 different light-emitting semiconductor chips 140 arranged, which are designed to generate a red, a green and a blue light radiation. Here, in the individual component areas (cf., the area 190 in 1 ) each have a red emitting, a green emitting and a blue emitting semiconductor chip 140 arranged. Seen from above, these three semiconductor chips 140 arranged side by side in y-direction (cf. 6 ).

Nachfolgend wird eine Versiegelungsschicht 160 auf der Vorderseite 181 des Trägers 130 ausgebildet, mit welcher die Halbleiterchips 140 und die Bonddrähte 150 vollständig eingekapselt und die vorderseitigen Leiterabschnitte 121, 122 abgedeckt werden (vgl. 7). Die Versiegelungsschicht 160 kann aus einem transparenten Kunststoffmaterial ausgebildet sein. Um im Leuchtbetrieb der Halbleiterbauelemente 101 einen höheren Kontrast zu erzielen, kann die Versiegelungsschicht 160 auch aus einem semitransparenten geschwärzten Kunststoffmaterial gefertigt sein. Das Ausbilden der Versiegelungsschicht 160 kann zum Beispiel mit Hilfe eines Form- bzw. Moldprozesses durchgeführt werden. Möglich ist auch ein Vergießen von Material der Versiegelungsschicht 160 auf der Vorderseite 181 des Trägers 130.The following is a sealant layer 160 on the front side 181 of the carrier 130 formed, with which the semiconductor chips 140 and the bonding wires 150 completely encapsulated and the front conductor sections 121 . 122 be covered (see. 7 ). The sealing layer 160 may be formed of a transparent plastic material. In lighting operation of the semiconductor devices 101 To achieve a higher contrast, the sealing layer 160 also be made of a semi-transparent blackened plastic material. The formation of the sealing layer 160 can be carried out, for example, by means of a molding or molding process. It is also possible casting of material of the sealing layer 160 on the front side 181 of the carrier 130 ,

Anschließend wird ein Vereinzelungsprozess durchgeführt, in welchem der Verbund aus dem mit Halbleiterchips 140 bestückten und mit der Versiegelungsschicht 160 versehenen Träger 130 durchtrennt wird, so dass separate lichtemittierende Halbleiterbauelemente 101 gebildet werden. Das Durchtrennen erfolgt entlang von in den 6, 7 angedeuteten Trennspuren 195 im Bereich der rückseitigen Leiterabschnitte 125 und Verbindungsstege 115, 116. Bei diesem Prozess werden die Versiegelungsschicht 160 und die Formmasse 135 durchtrennt. Auch werden die Verbindungsstege 115, 116 entfernt, wodurch die Kurzschlussverbindungen unterbrochen werden. Des Weiteren werden die rückseitigen Leiterabschnitte 125 und die dazugehörigen Leiterelemente 111 durchtrennt, und damit jeweils auf zwei Halbleiterbauelemente 101 verteilt.Subsequently, a singulation process is carried out in which the composite of semiconductor chips 140 equipped and with the sealing layer 160 provided carrier 130 is severed, so that separate light emitting semiconductor devices 101 be formed. The cutting is done along in the 6 . 7 indicated separation marks 195 in the area of the rear conductor sections 125 and connecting bridges 115 . 116 , In this process, the sealing layer 160 and the molding material 135 severed. Also, the connecting bridges 115 . 116 removed, causing the short-circuit connections to break. Furthermore, the backside conductor sections become 125 and the associated ladder elements 111 severed, and thus each on two semiconductor devices 101 distributed.

Ein auf diese Weise hergestelltes strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement 101 ist in 8 in der Aufsicht und in 9 im Querschnitt gezeigt. Das als Multichip-Bauelement verwirklichte Halbleiterbauelement 101 besitzt eine quaderförmige Gestalt, und weist einen Teil des Trägers 130, einen Teil der Versieglungsschicht 160, drei Halbleiterchips 140 und drei dazugehörige Paare aus jeweils zwei durchtrennten Leiterelementen 111 auf. Die Leiterelement-Paare dienen als Kathode und Anode der Halbleiterchips 140, und ermöglichen es, die Halbleiterchips 140 unabhängig voneinander zu bestromen und dadurch separat voneinander zur Lichtemission anzusteuern. Die drei Halbleiterchips 140 können zum Erzeugen unterschiedlicher Lichtstrahlungen, d.h. einer roten, einer grünen und einer blauen Lichtstrahlung ausgebildet sein, so dass das Halbleiterbauelement 101 als RGB-Pixel einer Anzeigevorrichtung verwendet werden kann. Von den Leiterelementen 111 sind lediglich die rückseitigen Leiterabschnitte 125 freiliegend und damit zugänglich. Die Leiterabschnitte 125 können als rückseitige Anschlüsse bzw. Lötflächen des Halbleiterbauelements 101 verwendet werden. Das Halbleiterbauelement 101 kann eine relativ große Bauhöhe von zum Beispiel wenigstens 2mm aufweisen.A radiation-emitting semiconductor device produced in this way 101 is in 8th in the supervision and in 9 shown in cross section. The realized as a multi-chip device semiconductor device 101 has a cuboid shape, and has a part of the carrier 130 , a part of the sealing layer 160 , three semiconductor chips 140 and three associated pairs of two severed conductor elements 111 on. The conductor element pairs serve as the cathode and anode of the semiconductor chips 140 , and allow the semiconductor chips 140 energized independently of each other and thus separately to control the light emission. The three semiconductor chips 140 can be designed to generate different light radiations, ie a red, a green and a blue light radiation, so that the semiconductor device 101 can be used as an RGB pixel of a display device. From the ladder elements 111 are only the back conductor sections 125 exposed and thus accessible. The conductor sections 125 can as rear terminals or solder pads of the semiconductor device 101 be used. The semiconductor device 101 may have a relatively large height of, for example, at least 2mm.

Im Folgenden werden mögliche Varianten und Abwandlungen des anhand der 1 bis 9 erläuterten Verfahrensablaufs beschrieben. Übereinstimmende Verfahrensschritte und Merkmale sowie gleiche und gleich wirkende Komponenten werden im Folgenden nicht erneut detailliert beschrieben. Für Details hierzu wird stattdessen auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen. Des Weiteren können Aspekte und Details, welche in Bezug auf eine Verfahrensvariante genannt werden, auch in Bezug auf eine andere Verfahrensvariante zur Anwendung kommen und können Merkmale von zwei oder mehreren Ausgestaltungen miteinander kombiniert werden.The following are possible variants and modifications of the basis of the 1 to 9 described process flow described. Corresponding method steps and features as well as identical and identically acting components will not be described again in detail below. For details, reference is made to the above description instead. Furthermore, aspects and details mentioned with respect to one method variant may also be applied with respect to another method variant, and features of two or more embodiments may be combined with each other.

In einer möglichen Abwandlung des Verfahrens wird nach dem Bereitstellen des Trägers 130 eine alternative Chipmontage durchgeführt, wie in 10 im Querschnitt gezeigt ist. In dieser Ausgestaltung kommt statt der Versiegelungsschicht 160 eine Einbettungsschicht 165 zum Einsatz, und werden anstelle von Bonddrähten 150 andere Kontaktstrukturen 155 ausgebildet.In a possible modification of the method, after providing the carrier 130 an alternative chip assembly performed as in 10 shown in cross section. In this embodiment, instead of the sealing layer 160 an embedding layer 165 for use, and are used instead of bonding wires 150 other contact structures 155 educated.

Zum Verwirklichen des in 10 gezeigten Verbunds wird der Träger 130 in der oben beschriebenen Art und Weise hergestellt, und werden die strahlungsemittierenden Halbleiterchips 140 auf der Vorderseite 181 des Trägers 130 angeordnet. Wie oben beschrieben, können rot, grün und blau emittierende Halbleiterchips 140 zur Anwendung kommen. Hierbei können in jedem Bauelementbereich ein rot emittierender, ein grün emittierender und ein blau emittierender Halbleiterchip 140 platziert werden. Die Halbleiterchips 140 werden mit den Rückseitenkontakten und unter Verwendung eines elektrisch leitfähigen Verbindungsmittels auf den vorderseitigen Leiterabschnitten 121 angeordnet. To realize the in 10 shown composite is the carrier 130 manufactured in the manner described above, and the radiation-emitting semiconductor chips 140 on the front side 181 of the carrier 130 arranged. As described above, red, green and blue emitting semiconductor chips 140 come into use. In this case, in each component region, a red emitting, a green emitting and a blue emitting semiconductor chip 140 to be placed. The semiconductor chips 140 be with the rear side contacts and using an electrically conductive connection means on the front conductor sections 121 arranged.

Nachfolgend wird eine Einbettungsschicht 165 auf dem Träger 130 ausgebildet, welche seitlich an die Halbleiterchips 140 bzw. an deren Seitenflanken angrenzt und die Vorderseite 181 des Trägers 130 und damit die Leiterabschnitte 121, 122 seitlich der Halbleiterchips 140 bedeckt. Die Einbettungsschicht 165 reicht bis zu den Vorderseiten der Halbleiterchips 140, so dass die Vorderseiten der Halbleiterchips 140, über welche die Halbleiterchips 140 eine Lichtstrahlung emittieren können, freiliegen.The following is an embedding layer 165 on the carrier 130 formed, which laterally to the semiconductor chips 140 or adjacent to the side edges and the front 181 of the carrier 130 and thus the ladder sections 121 . 122 side of the semiconductor chips 140 covered. The embedding layer 165 extends to the front sides of the semiconductor chips 140 so that the fronts of the Semiconductor chips 140 over which the semiconductor chips 140 can emit light radiation, are exposed.

Die Einbettungsschicht 165 kann aus einem Kunststoffmaterial ausgebildet sein. Um im Leuchtbetrieb einen höheren Kontrast zu erzielen, kann ein schwarzes Kunststoffmaterial zum Einsatz kommen. Das Ausbilden der Einbettungsschicht 165 kann zum Beispiel mit Hilfe eines Form- bzw. Moldprozesses durchgeführt werden. Möglich ist auch ein Vergießprozess.The embedding layer 165 may be formed of a plastic material. In order to achieve a higher contrast in lighting operation, a black plastic material can be used. The formation of the embedding layer 165 can be carried out, for example, by means of a molding or molding process. Also possible is a potting process.

Anschließend werden Kontaktstrukturen 155 ausgebildet, über welche die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips 140 elektrisch mit den jeweils benachbart zu den Leiterabschnitten 121 vorliegenden Leiterabschnitten 122 verbunden sind. Dies kann wie folgt durchgeführt werden. Für jede Kontaktstruktur 155 wird eine Ausnehmung 166 in der Einbettungsschicht 165 ausgebildet, über welche ein Teil eines Leiterabschnitts 122 freigestellt wird, und wird eine elektrisch leitfähige bzw. metallische Kontaktschicht 157 ausgebildet, über welche der Vorderseitenkontakt eines Halbleiterchips 140 mit dem freigelegten Teil eines benachbarten Leiterabschnitts 122 verbunden ist. Das Ausbilden der Ausnehmungen 166 kann mit Hilfe eines Lasers durchgeführt werden. Das Ausbilden der Kontaktschichten 157 kann unter Einsatz einer fotolithographischen Technik erfolgen. Die Kontaktschichten 157, welche jeweils auf einem Halbleiterchip 140 im Bereich von dessen Vorderseitenkontakt, auf der Einbettungsschicht 165 und in einer Ausnehmung 166 auf einem Leiterabschnitt 122 angeordnet sein können, können linienförmig und mit einer geringen Breite ausgebildet werden.Subsequently, contact structures 155 formed over which the front side contacts of the semiconductor chips 140 electrically with each adjacent to the conductor sections 121 present conductor sections 122 are connected. This can be done as follows. For every contact structure 155 becomes a recess 166 in the embedding layer 165 formed over which a part of a conductor section 122 is released, and becomes an electrically conductive or metallic contact layer 157 formed, via which the front side contact of a semiconductor chip 140 with the exposed part of an adjacent conductor section 122 connected is. The formation of the recesses 166 can be done with the help of a laser. The formation of the contact layers 157 can be done using a photolithographic technique. The contact layers 157 , each on a semiconductor chip 140 in the area of its front side contact, on the embedding layer 165 and in a recess 166 on a ladder section 122 can be arranged, can be formed linear and with a small width.

Nach dem Ausbilden der Kontaktstrukturen 155, wodurch von oben betrachtet eine Gegebenheit vergleichbar zu 6 vorliegen kann, wird ein Vereinzelungsprozess durchgeführt. Hierbei wird der mit den lichtemittierenden Halbleiterchips 140 und der Einbettungsschicht 165 versehene Träger 130 entlang von Trennspuren 195 durchtrennt, so dass separate strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 102 gebildet werden. Bei diesem Prozess werden die Einbettungsschicht 165 und die Formmasse 135 durchtrennt, werden die Verbindungsstege 115, 116 entfernt, und werden die rückseitigen Leiterabschnitte 125 und die dazugehörigen Leiterelemente 111 durchtrennt und jeweils auf zwei Halbleiterbauelemente 102 verteilt.After forming the contact structures 155 , which, viewed from above, is comparable to a given situation 6 can be present, a singulation process is performed. Here, with the light-emitting semiconductor chips 140 and the embedding layer 165 provided carriers 130 along separation marks 195 severed, so that separate radiation-emitting semiconductor devices 102 be formed. In this process, the embedding layer 165 and the molding material 135 severed, become the connecting webs 115 . 116 removed, and become the back conductor sections 125 and the associated ladder elements 111 severed and each on two semiconductor devices 102 distributed.

Ein auf diese Weise hergestelltes lichtemittierendes Halbleiterbauelement 102 ist in 11 im Querschnitt gezeigt. Das Halbleiterbauelement 102 weist abgesehen von der Einbettungsschicht 165 und den Kontaktstrukturen 155 einen zu einem Halbleiterbauelement 101 vergleichbaren Aufbau mit drei separat ansteuerbaren Halbleiterchips 140 auf. Auch das Halbleiterbauelement 102 kann als RGB-Pixel einer Anzeigevorrichtung zur Anwendung kommen. A light-emitting semiconductor device manufactured in this way 102 is in 11 shown in cross section. The semiconductor device 102 indicates apart from the embedding layer 165 and the contact structures 155 one to a semiconductor device 101 comparable structure with three separately controllable semiconductor chips 140 on. Also the semiconductor device 102 can be used as the RGB pixel of a display device.

Im Rahmen der Herstellung der Halbleiterbauelemente 102 können neben der Einbettungsschicht 165 und den Kontaktschichten 157 weitere optionale Schichten ausgebildet werden. Zur Veranschaulichung zeigt 12 eine vergrößerte seitliche Darstellung des Trägers 130 im Bereich eines Halbleiterchips 140. Hier dargestellt ist auch der Vorderseitenkontakt 141 des Halbleiterchips 140. Es ist zum Beispiel möglich, vor dem Ausbilden der Kontaktschichten 157 im Bereich jedes Halbleiterchips 140 zusätzlich eine isolierende Schicht 156 auszubilden. Wie in 12 anhand des einen Halbleiterchips 140 gezeigt ist, kann die isolierende Schicht 156 den betreffenden Halbleiterchip 140 am Rand im Bereich des Vorderseitenkontakts 141 bedecken. Die isolierende Schicht 156, welche aus einem transparenten Kunststoffmaterial ausgebildet sein kann, kann eine Aussparung aufweisen, so dass ein Teil des Vorderseitenkontakts 141 freigestellt ist. Auch die Einbettungsschicht 165 kann neben dem Halbleiterchip 140 zum Teil mit der isolierenden Schicht 156 bedeckt sein. Bei dieser Ausgestaltung kann mit Hilfe der isolierenden Schicht 156 vermieden werden, dass die Seitenflanke und der Vorderseitenkontakt 141 des Halbleiterchips 140 über die nachfolgend erzeugte Kontaktschicht 157 kurzgeschlossen werden. In the context of the production of semiconductor devices 102 can be next to the embedding layer 165 and the contact layers 157 further optional layers are formed. To illustrate shows 12 an enlarged side view of the carrier 130 in the area of a semiconductor chip 140 , Shown here is also the front side contact 141 of the semiconductor chip 140 , It is possible, for example, before forming the contact layers 157 in the area of each semiconductor chip 140 in addition an insulating layer 156 train. As in 12 on the basis of the one semiconductor chip 140 can be shown, the insulating layer 156 the relevant semiconductor chip 140 at the edge in the area of the front side contact 141 cover. The insulating layer 156 , which may be formed of a transparent plastic material, may have a recess, so that a part of the front side contact 141 is released. Also the embedding layer 165 can next to the semiconductor chip 140 partly with the insulating layer 156 be covered. In this embodiment, with the aid of the insulating layer 156 avoid the side flank and the front side contact 141 of the semiconductor chip 140 via the subsequently produced contact layer 157 be shorted.

Durch das Ausbilden der Kontaktschichten 156 werden die Vorderseitenkontakte 141 der Halbleiterchips 140 elektrisch mit den über die Ausnehmungen 166 der Einbettungsschicht 165 zum Teil freigestellten Leiterabschnitte 122 verbunden. Wie in 12 anhand des einen Halbleiterchips 140 gezeigt ist, kann die Kontaktschicht 157 im Bereich des betreffenden Halbleiterchips 140 auf der isolierenden Schicht 156 angeordnet sein und den Vorderseitenkontakt 141 des Halbleiterchips 140 über die Aussparung der isolierenden Schicht 156 kontaktieren. Des Weiteren kann die Kontaktschicht 157 ausgehend von dem Vorderseitenkontakt 141 sich in der zugehörigen Ausnehmung 166 der Einbettungsschicht 165 nicht nur bis zu dem Leiterabschnitt 122 erstrecken, sondern zusätzlich auch wieder aus der Ausnehmung 166 heraus bis zu einer Vorderseite der Einbettungsschicht 165 verlaufen. By forming the contact layers 156 become the front side contacts 141 the semiconductor chips 140 electrically with the over the recesses 166 the embedding layer 165 partially detached conductor sections 122 connected. As in 12 on the basis of the one semiconductor chip 140 is shown, the contact layer 157 in the region of the relevant semiconductor chip 140 on the insulating layer 156 be arranged and the front side contact 141 of the semiconductor chip 140 over the recess of the insulating layer 156 to contact. Furthermore, the contact layer 157 starting from the front side contact 141 in the associated recess 166 the embedding layer 165 not just up to the ladder section 122 extend, but also again from the recess 166 out to a front of the embedding layer 165 run.

12 veranschaulicht des Weiteren die Möglichkeit, vor der Vereinzelung eine optionale Schutzschicht 169 aus einem transparenten Kunststoffmaterial auszubilden, mit welcher die Halbleiterchips 140 bzw. deren Vorderseiten, die Kontaktschichten 157 und die Einbettungsschicht 165 bedeckt werden. Auf diese Weise können die Halbleiterchips 140 und die Kontaktschichten 157 vor äußeren Einflüssen geschützt werden. Zuvor können, wie ebenfalls in 12 angedeutet ist, die mit den Kontaktschichten 157 versehenen Ausnehmungen 166 der Einbettungsschicht 165 jeweils mit einer optionalen Füllschicht 159 versehen werden, um in diesem Bereich eine plane Oberfläche zur Verfügung zu stellen. 12 further illustrates the possibility of an optional protective layer prior to singulation 169 from a transparent plastic material, with which the semiconductor chips 140 or their front sides, the contact layers 157 and the embedding layer 165 to be covered. In this way, the semiconductor chips 140 and the contact layers 157 be protected from external influences. Previously, as well as in 12 is implied that with the contact layers 157 provided recesses 166 the embedding layer 165 each with an optional filling layer 159 be provided in order to provide a flat surface in this area.

Die vorstehend erläuterten Multichip-Bauelemente 101, 102 weisen Paare aus separaten durchtrennten Leiterelementen 111 auf, welche als separate Kathoden und Anoden der Halbleiterchips 140 dienen. Es können jedoch auch Multichip-Bauelemente mit getrennt bestrombaren Halbleiterchips 140 verwirklicht werden, welche eine gemeinsame Kathode und separate Anoden oder eine gemeinsame Anode und separate Kathoden für die Halbleiterchips 140 aufweisen. Dies lässt sich durch eine Leiterstruktur 110 mit hierauf abgestimmten Formen von Leiterelementen 111 verwirklichen. Derartige Leiterelemente 111 können abweichend von der vorstehend beschriebenen in den 1, 2, 4, 6 gezeigten Ausgestaltung Leiterabschnitte mit größeren Abmessungen und/oder eine größere Anzahl an Leiterabschnitten aufweisen. Auf diese Weise können solche Leiterelemente 111 durch das Vereinzeln sowohl in separate und lediglich mit einzelnen Halbleiterchips 140 elektrisch verbundene Leiterelemente als auch in Leiterelemente unterteilt werden, welche mehreren bzw. drei Halbleiterchips 140 gemeinsam zugeordnet sind und welche mit den mehreren Halbleiterchips 140 elektrisch verbunden sind.The above-explained multichip components 101 . 102 show pairs of separate severed ladder elements 111 on which as separate cathodes and anodes of the semiconductor chips 140 serve. However, it is also possible to use multichip components with semiconductor chips which can be supplied with power separately 140 be realized, which has a common cathode and separate anodes or a common anode and separate cathodes for the semiconductor chips 140 exhibit. This can be achieved by a ladder structure 110 with coordinated forms of ladder elements 111 realize. Such conductor elements 111 may differ from those described above in the 1 . 2 . 4 . 6 having shown embodiment conductor sections with larger dimensions and / or a greater number of conductor sections. In this way, such conductor elements 111 by singulating both in separate and only with individual semiconductor chips 140 electrically connected conductor elements as well as into conductor elements are divided, which several or three semiconductor chips 140 are assigned together and which with the plurality of semiconductor chips 140 are electrically connected.

Zur beispielhaften Veranschaulichung ist in 13 eine mögliche Ausgestaltung eines mit strahlungsemittierenden Halbleiterchips 140 bestückten Trägers 130 mit einer in dieser Art und Weise ausgebildeten Leiterstruktur 110 in der Aufsicht gezeigt. Der Träger 130 kann wie oben beschrieben durch Umformen der Leiterstruktur 110 mit der Formmasse 135 gebildet werden. Die Leiterstruktur 110 umfasst Leiterelemente 111, welche jeweils einen flächigen vorderseitigen Leiterabschnitt 123 mit größeren lateralen Abmessungen, drei rückseitige Leiterabschnitte 125 und drei vorderseitige Leiterabschnitte 122 aufweisen. Der Leiterabschnitt 123 kann als zusammenhängende Ausgestaltung von drei Leiterabschnitten 121 (vgl. 2) aufgefasst werden. By way of example, FIG 13 a possible embodiment of a radiation-emitting semiconductor chip 140 equipped carrier 130 with a ladder structure formed in this manner 110 shown in the supervision. The carrier 130 can as described above by reshaping the conductor structure 110 with the molding compound 135 be formed. The ladder structure 110 includes ladder elements 111 , which each have a flat front conductor section 123 with larger lateral dimensions, three rear conductor sections 125 and three front conductor sections 122 exhibit. The ladder section 123 can as a coherent embodiment of three conductor sections 121 (see. 2 ).

Die Leiterelemente 111 der Leiterstruktur 110 von 12 weisen ferner nicht dargestellte, senkrecht zur Vorder- und Rückseite 181, 182 des Trägers 130 bzw. in z-Richtung verlaufende Zwischenabschnitte 127 auf, über welche die rückseitigen Leiterabschnitte 125 mit den vorderseitigen Leiterabschnitten 122, 123 verbunden sind. Daher besitzen die Leiterelemente 111 auch in dieser Ausgestaltung ein U-förmiges Querschnittsprofil, und kann der Träger 130 im Querschnitt einen 5 entsprechenden Aufbau aufweisen. The ladder elements 111 the ladder structure 110 from 12 also not shown, perpendicular to the front and back 181 . 182 of the carrier 130 or in the z-direction extending intermediate sections 127 on which the rear conductor sections 125 with the front conductor sections 122 . 123 are connected. Therefore, have the conductor elements 111 also in this embodiment, a U-shaped cross-sectional profile, and may be the carrier 130 in cross-section one 5 have appropriate structure.

Die Leiterstruktur 110 von 13 weist des Weiteren ebenfalls Verbindungsstege 115, 116 auf, über welche die rückseitigen Leiterabschnitte 125 verbunden sind. Die Leiterelemente 111 sind in mehreren und in x-Richtung verlaufenden Reihen angeordnet, von welchen in 13 lediglich ein Teil einer Reihe gezeigt ist. Jeweils neben bzw. zwischen den Reihen aus Leiterelementen 111 sind die Verbindungsstege 115 vorhanden.The ladder structure 110 from 13 also has connecting bars 115 . 116 on which the rear conductor sections 125 are connected. The ladder elements 111 are arranged in a plurality of rows extending in the x-direction, of which in 13 only part of a series is shown. In each case next to or between the rows of conductor elements 111 are the connecting bridges 115 available.

Die Chipmontage erfolgt gemäß der Ausgestaltung von 13 derart, dass auf den vorderseitigen Leiterabschnitten 123 der Leiterelemente 111 jeweils drei strahlungsemittierende Halbleiterchips 140 montiert werden. Hierbei werden die Halbleiterchips 140 mit den Rückseitenkontakten und unter Verwendung eines elektrisch leitfähigen Verbindungsmittels auf den Leiterabschnitten 123 angeordnet. Es können jeweils ein rot emittierender, ein grün emittierender und ein blau emittierender Halbleiterchip 140 auf einem Leiterabschnitt 123 platziert werden. Des Weiteren werden die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips 140 über Kontaktstrukturen, vorliegend Bonddrähte 150, an die jeweils gegenüberliegenden Leiterabschnitte 122 benachbarter Leiterelemente 111 angeschlossen.The chip assembly is carried out according to the embodiment of 13 such that on the front-side conductor sections 123 the conductor elements 111 in each case three radiation-emitting semiconductor chips 140 to be assembled. Here, the semiconductor chips 140 with the backside contacts and using an electrically conductive connection means on the conductor sections 123 arranged. In each case, a red emitting, a green emitting and a blue emitting semiconductor chip 140 on a ladder section 123 to be placed. Furthermore, the front side contacts of the semiconductor chips become 140 via contact structures, in this case bonding wires 150 , to the respective opposite conductor sections 122 adjacent conductor elements 111 connected.

Nach dem Ausbilden einer Versieglungsschicht 160, wodurch im Querschnitt eine Gegebenheit entsprechend 7 vorliegen kann, wird ein Vereinzelungsprozess durchgeführt. Hierbei erfolgt ein Durchtrennen des mit den Halbleiterchips 140 und der Versiegelungsschicht 160 versehenen Trägers 130 entlang von Trennspuren 195 im Bereich der Verbindungsstege 115, 116 und der rückseitigen Leiterabschnitte 125, und werden separate strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 103 gebildet. After forming a sealant layer 160 , whereby in cross section a given situation 7 can be present, a singulation process is performed. This is done by cutting the with the semiconductor chip 140 and the sealing layer 160 provided vehicle 130 along separation marks 195 in the area of the connecting webs 115 . 116 and the back conductor sections 125 , and become separate radiation-emitting semiconductor devices 103 educated.

Die Halbleiterbauelemente 103 unterscheiden sich von den Halbleiterbauelementen 101 durch die Leiterelemente 111.The semiconductor devices 103 differ from the semiconductor devices 101 through the conductor elements 111 ,

Ein Halbleiterbauelement 103 weist ein durchtrenntes Leiterelement 111 mit einem flächigen vorderseitigen und die drei Halbleiterchips 140 tragenden Leiterabschnitt 123 und drei rückseitigen Leiterabschnitten 125, sowie drei durchtrennte Leiterelemente 111 mit jeweils einem vorderseitigen Leiterabschnitt 122 und einem rückseitigen Leiterabschnitt 125 auf. In dieser Ausgestaltung kann das Leiterelement 111 mit dem Leiterabschnitt 123 als gemeinsame Kathode, und können die Leiterelemente 111 mit den Leiterabschnitten 122 als separate Anoden der Halbleiterchips 140 dienen.A semiconductor device 103 has a severed conductor element 111 with a flat front and the three semiconductor chips 140 carrying ladder section 123 and three back conductor sections 125 , as well as three severed conductor elements 111 each with a front conductor section 122 and a back conductor section 125 on. In this embodiment, the conductor element 111 with the ladder section 123 as a common cathode, and can be the conductor elements 111 with the conductor sections 122 as separate anodes of the semiconductor chips 140 serve.

Abweichend von 13 können auch andere Ausgestaltungen in Bezug auf die Kontaktstruktur 110 Betracht kommen. Ein Beispiel ist eine Ausgestaltung mit Leiterelementen 111, welche jeweils mehrere bzw. drei vorderseitige Leiterabschnitte zum Anordnen von jeweils einem Halbleiterchip 140 und einen flächigen vorderseitigen Leiterabschnitt mit größeren lateralen Abmessungen zum Anschließen von mehreren bzw. drei Bonddrähten 150 aufweisen. Denkbar sind auch Ausgestaltungen, bei welchen Leiterelemente 111 zusätzlich oder alternativ größere flächige Zwischenabschnitte und/oder größere flächige rückseitige Leiterabschnitte aufweisen.Deviating from 13 may also have other configurations with respect to the contact structure 110 To consider. An example is an embodiment with conductor elements 111 , which each have a plurality of or three front-side conductor sections for arranging each of a semiconductor chip 140 and a flat front conductor section with larger lateral dimensions for connecting several or three bonding wires 150 exhibit. Also conceivable are embodiments in which conductor elements 111 additionally or alternatively have larger area intermediate sections and / or larger area rear conductor sections.

In Bezug auf die vorgenannten Abwandlungen mit alternativen Formen der Leiterstruktur 110 wird darauf hingewiesen, dass diese nicht auf den Einsatz von Bonddrähten 150 und einer Versiegelungsschicht 160 beschränkt sind. Es können alternativ auch die anhand der 10, 11, 12 erläuterten Ausgestaltungen mit der Einbettungsschicht 165, den Kontaktstrukturen 155 sowie gegebenenfalls den weiteren Schichten 156, 159, 169 vorgesehen werden. Dies gilt in entsprechender Weise für die im Folgenden erläuterte Verfahrensvariante.With regard to the aforementioned modifications with alternative forms of the conductor structure 110 It is noted that these are not based on the use of bonding wires 150 and a sealing layer 160 are limited. Alternatively, the basis of the 10 . 11 . 12 explained embodiments with the embedding layer 165 , the contact structures 155 and optionally the other layers 156 . 159 . 169 be provided. This applies in a corresponding manner to the method variant explained below.

In einer weiteren Abwandlung des Verfahrens werden anstelle von Multichip-Bauelementen Einzelchip-Bauelemente hergestellt, welche lediglich einen einzelnen lichtemittierenden Halbleiterchip 140 aufweisen. Zur beispielhaften Veranschaulichung ist in 14 eine mögliche Ausgestaltung eines mit Halbleiterchips 140 bestückten Trägers 130 mit einer hierauf abgestimmten Leiterstruktur 110 in der Aufsicht gezeigt. Der Träger 130 kann wie oben beschrieben durch Umformen der Leiterstruktur 110 mit der Formmasse 135 gebildet werden. In a further modification of the method, instead of multi-chip components, individual-chip components are produced which only comprise a single light-emitting semiconductor chip 140 exhibit. By way of example, FIG 14 a possible embodiment of a semiconductor chip 140 equipped carrier 130 with a coordinated ladder structure 110 shown in the supervision. The carrier 130 can as described above by reshaping the conductor structure 110 with the molding compound 135 be formed.

Wie bei dem anhand der 1 bis 9 erläuterten Verfahrensablauf weist die Leiterstruktur 110 streifenförmige und im Querschnitt U-förmige Leiterelemente 111 mit zwei vorderseitigen Leiterabschnitten 121, 122, einem rückseitigen Leiterabschnitt 125 und zwei nicht dargestellten und senkrecht zur Vorder- und Rückseite 181, 182 des Trägers 130 bzw. in z-Richtung verlaufenden Zwischenabschnitten 127 auf. Im Querschnitt kann der Träger 130 einen 5 entsprechenden Aufbau besitzen.As with the basis of the 1 to 9 explained procedure has the ladder structure 110 strip-shaped and in cross-section U-shaped conductor elements 111 with two front conductor sections 121 . 122 , a back ladder section 125 and two not shown and perpendicular to the front and back 181 . 182 of the carrier 130 or in the z-direction extending intermediate sections 127 on. In cross section, the carrier 130 one 5 have appropriate structure.

Auch die Leiterstruktur 110 von 14 weist Verbindungsstege 115, 116 auf, über welche die rückseitigen Leiterabschnitte 125 verbunden sind. Die Leiterelemente 111 sind in mehreren und in x-Richtung verlaufenden Reihen angeordnet, von welchen in 14 lediglich ein Teil einer Reihe gezeigt ist. Jeweils neben bzw. zwischen den Reihen aus Leiterelementen 111 sind die Verbindungsstege 115 vorhanden.Also the ladder structure 110 from 14 has connecting webs 115 . 116 on which the rear conductor sections 125 are connected. The ladder elements 111 are arranged in a plurality of rows extending in the x-direction, of which in 14 only part of a series is shown. In each case next to or between the rows of conductor elements 111 are the connecting bridges 115 available.

Die Chipmontage erfolgt gemäß 14 derart, dass auf den vorderseitigen Leiterabschnitten 121 der Leiterelemente 111 jeweils ein strahlungsemittierende Halbleiterchip 140 montiert wird. Die Halbleiterchips 140 werden mit den Rückseitenkontakten und unter Verwendung eines elektrisch leitfähigen Verbindungsmittels auf den Leiterabschnitten 121 angeordnet. Ferner werden die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips 140 über Kontaktstrukturen, vorliegend Bonddrähte 150, an die jeweils gegenüberliegenden Leiterabschnitte 122 benachbarter Leiterelemente 111 angeschlossen.The chip assembly is done according to 14 such that on the front-side conductor sections 121 the conductor elements 111 in each case a radiation-emitting semiconductor chip 140 is mounted. The semiconductor chips 140 be used with the back contacts and using an electrically conductive lanyard on the conductor sections 121 arranged. Further, the front side contacts of the semiconductor chips become 140 via contact structures, in this case bonding wires 150 , to the respective opposite conductor sections 122 adjacent conductor elements 111 connected.

Nach dem Ausbilden einer Versieglungsschicht 160, wodurch im Querschnitt eine Gegebenheit entsprechend 7 vorliegen kann, wird ein Vereinzelungsprozess durchgeführt. Hierbei erfolgt ein Durchtrennen des mit den Halbleiterchips 140 und der Versiegelungsschicht 160 versehenen Trägers 130 entlang von Trennspuren 195 im Bereich der Verbindungsstege 115, 116 und der rückseitigen Leiterabschnitte 125, und werden separate strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 104 gebildet. Ein Halbleiterbauelement 104 weist einen einzelnen Halbleiterchip 140 und zwei durchtrennte Leiterelemente 111 auf, welche als Kathode und Anode zur Bestromung des Halbleiterchips 140 dienen.After forming a sealant layer 160 , whereby in cross section a given situation 7 can be present, a singulation process is performed. This is done by cutting the with the semiconductor chip 140 and the sealing layer 160 provided vehicle 130 along separation marks 195 in the area of the connecting webs 115 . 116 and the back conductor sections 125 , and become separate radiation-emitting semiconductor devices 104 educated. A semiconductor device 104 has a single semiconductor chip 140 and two severed conductor elements 111 on, which as the cathode and anode for energizing the semiconductor chip 140 serve.

Es ist möglich, aus mehreren der vorstehend beschriebenen Halbleiterbauelementen eine Anzeigevorrichtung aufzubauen. Zur beispielhaften Veranschaulichung ist in 15 eine solche Anzeigevorrichtung 200 ausschnittsweise im Querschnitt gezeigt. Die Anzeigevorrichtung 200 kann ein Modul einer Videowand sein. It is possible to construct a display device from a plurality of the semiconductor devices described above. By way of example, FIG 15 such a display device 200 partially shown in cross section. The display device 200 can be a module of a video wall.

Die Anzeigevorrichtung 200 weist eine Leiterplatte 210, mehrere auf der Leiterplatte 210 angeordnete strahlungsemittierende Halbleiterbauelemente 201 und ein Vergussmaterial 205 auf. Bei den Halbleiterbauelementen 201 kann es sich um Halbleiterbauelemente 101, 102, 103 oder 104 handeln. Das Vergussmaterial 205 befindet sich auf der Leiterplatte 210 in Bereichen neben und zwischen den Halbleiterbauelementen 201. Das Vergussmaterial 205, welches seitlich an die Halbleiterbauelemente 201 angrenzt, reicht (annähernd) bis zu den Vorderseiten der Halbleiterbauelemente 201, so dass die Vorderseiten der Halbleiterbauelemente 201 freiliegen. Das Vergussmaterial 205 kann ein Kunststoff- bzw. Silikonmaterial sein, und eine schwarze Farbe aufweisen. The display device 200 has a circuit board 210 , several on the circuit board 210 arranged radiation-emitting semiconductor devices 201 and a potting material 205 on. In the semiconductor devices 201 may be semiconductor devices 101 . 102 . 103 or 104 act. The potting material 205 is on the circuit board 210 in areas next to and between the semiconductor devices 201 , The potting material 205 , which laterally to the semiconductor devices 201 adjacent, extends (approximately) to the front sides of the semiconductor devices 201 so that the front sides of the semiconductor devices 201 exposed. The potting material 205 may be a plastic or silicone material, and have a black color.

Zur Herstellung der Anzeigevorrichtung 200 wird eine Oberflächenmontage durchgeführt, in welcher die Halbleiterbauelemente 201 über die rückseitigen Leiterabschnitte 125 und ein elektrisch leitfähiges Verbindungsmittel wie zum Beispiel ein Lotmittel elektrisch und mechanisch mit Anschlüssen der Leiterplatte 210 verbunden werden (nicht dargestellt). Nachfolgend wird das Vergussmaterial 205 neben und zwischen den Halbleiterbauelementen 210 auf die Leiterplatte 210 aufgebracht. For the production of the display device 200 a surface mounting is performed in which the semiconductor devices 201 over the back conductor sections 125 and an electrically conductive connection means such as a solder electrically and mechanically to terminals of the circuit board 210 be connected (not shown). The following is the casting material 205 beside and between the semiconductor devices 210 on the circuit board 210 applied.

Durch die große Bauhöhe der Halbleiterbauelemente 201 von zum Beispiel wenigstens 2mm ist es in entsprechender Weise möglich, das Vergussmaterial 205 mit einer Dicke von 2mm oder einer größeren Dicke auszubilden. Auf diese Weise können die rückseitigen Leiterabschnitte 125 der Halbleiterbauelemente 201 zuverlässig abgedichtet werden. Dadurch eignet sich die Anzeigevorrichtung 200 für eine Anwendung im Outdoor-Bereich. Da die strahlungsemittierenden Halbleiterchips 140 bei den Halbleiterbauelementen 201 vorderseitig bzw. nahe der Vorderseite angeordnet sind (vgl. die 9, 11), ist darüber hinaus ein effizienter Leuchtbetrieb möglich.Due to the large height of the semiconductor devices 201 of, for example, at least 2mm, it is possible in a similar way, the potting material 205 with a thickness of 2mm or one form greater thickness. In this way, the back conductor sections 125 the semiconductor devices 201 be reliably sealed. As a result, the display device is suitable 200 for an application in the outdoor area. As the radiation-emitting semiconductor chips 140 in the semiconductor devices 201 are arranged on the front side or close to the front side (cf. 9 . 11 ), an efficient lighting operation is also possible.

Dies kann begünstigt werden, wenn die Halbleiterbauelemente 201 die anhand der Halbleiterbauelemente 102 erläuterte Bauform mit der Einbettungsschicht 165 und den Kontaktstrukturen 155 aufweisen (vgl. 11). Da die Vorderseiten der Halbleiterchips 140 hierbei unbedeckt sein können, ist eine Emission von Lichtstrahlung ohne optische Fehler und Streueffekte, und dadurch mit einer hohen Effizienz, einer hohen Helligkeit und einem hohen Kontrast möglich. Das Vorliegen eines hohen Kontrasts kann durch eine mit einer schwarzen Farbe ausgebildete Einbettungsschicht 165 begünstigt werden.This can be favored when the semiconductor devices 201 the basis of the semiconductor devices 102 explained design with the embedding layer 165 and the contact structures 155 have (see. 11 ). Because the front sides of the semiconductor chips 140 can be uncovered, an emission of light radiation without optical errors and scattering effects, and thus with a high efficiency, high brightness and high contrast is possible. The presence of high contrast may be due to an embedding layer formed with a black color 165 be favored.

In diesem Zusammenhang ist es ferner möglich, die Kontaktstrukturen 155 der Halbleiterbauelemente 201 relativ klein zu verwirklichen. In entsprechender Weise können Halbleiterchips 140 mit relativ kleinen Vorderseitenkontakten zum Einsatz kommen. Auf diese Weise kann erreicht werden, dass die Anzeigevorrichtung 200 im ausgeschalteten Zustand nahezu vollständig schwarz erscheint. Lediglich die Halbleiterchips 140 und die Kontaktstrukturen 155 können eine geringe Reflexion von Umgebungslicht bewirken.In this context, it is also possible, the contact structures 155 the semiconductor devices 201 relatively small to realize. In a similar manner, semiconductor chips 140 come with relatively small front side contacts are used. In this way it can be achieved that the display device 200 when switched off appears almost completely black. Only the semiconductor chips 140 and the contact structures 155 can cause low reflection of ambient light.

Die anhand der Figuren erläuterten Ausführungsformen stellen bevorzugte bzw. beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung dar. Neben den beschriebenen und abgebildeten Ausführungsformen sind weitere Ausführungsformen vorstellbar, welche weitere Abwandlungen und/oder Kombinationen von Merkmalen umfassen können. The embodiments explained with reference to the figures represent preferred or exemplary embodiments of the invention. In addition to the described and illustrated embodiments, further embodiments are conceivable which may include further modifications and / or combinations of features.

Beispielsweise ist es möglich, eine Leiterstruktur 110, einen Träger 130 und Halbleiterbauelemente nicht mit der oben angegebenen Dicke von wenigstens 2mm, sondern mit einer anderen bzw. geringeren Dicke auszubilden. Dies kann in Betracht kommen, wenn die Halbleiterbauelemente nicht für den Einsatz bei Videowänden im Outdoor-Bereich, sondern für andere Anwendungen, zum Beispiel bei Videowänden im Indoor-Bereich, vorgesehen sind.For example, it is possible to have a ladder structure 110 , a carrier 130 and form semiconductor devices not with the above-stated thickness of at least 2 mm, but with a different or smaller thickness. This may be considered when the semiconductor devices are not intended for use in video walls in the outdoor area, but for other applications, for example, video walls in the indoor area.

Für eine Leiterstruktur 110 kann eine Ausgestaltung vorgesehen werden, in welcher eine zuverlässige Verbindung beispielsweise in Form einer Verzahnung mit einer Formmasse 135 erzielt werden kann. Zu diesem Zweck können Bestandteile der Leiterstruktur 110 wie Verbindungsstege 115, 116, Leiterelemente 111 und/oder einzelne Abschnitte der Leiterelemente 111 mit Strukturen wie zum Beispiel randseitigen Einschnitten, Löchern und/oder Quetschungen ausgebildet werden. Des Weiteren kann eine Leiterstruktur 110 mit zusätzlichen Stegen bzw. Hilfsstegen hergestellt werden. Solche Stege können Bestandteile der hergestellten Halbleiterbauelemente sein oder auch nicht.For a ladder structure 110 an embodiment may be provided in which a reliable connection, for example in the form of a toothing with a molding compound 135 can be achieved. For this purpose, components of the conductor structure 110 like connecting bridges 115 . 116 , Ladder elements 111 and / or individual sections of the conductor elements 111 be formed with structures such as marginal incisions, holes and / or bruises. Furthermore, a ladder structure 110 be manufactured with additional webs or auxiliary webs. Such webs may or may not be components of the fabricated semiconductor devices.

Neben der oben angegebenen Vorgehensweise kann eine Leiterstruktur 110 auf andere Art und Weise bereitgestellt werden. Es ist zum Beispiel möglich, eine Leiterstruktur 110 mit in unterschiedlichen Ebenen 171, 172 angeordneten Leiterabschnitten in direkter Weise durch Ätzen eine Metallschicht bereitzustellen. Eine alternative Methode ist eine Zerspanung einer Metallschicht.In addition to the above procedure can be a ladder structure 110 be provided in a different way. It is possible, for example, a ladder structure 110 with in different levels 171 . 172 arranged conductor portions in a direct manner by etching to provide a metal layer. An alternative method is to cut a metal layer.

Ein weiterer im Verlauf des Verfahrens in Bezug auf eine Leiterstruktur 110 durchführbarer Schritt ist ein metallisches Beschichten der Leiterstruktur 110 durch Elektroplattieren. Ein solcher Schritt kann vor oder auch nach dem Umformen der Leiterstruktur 110 mit einer Formmasse 135 durchgeführt werden.Another during the process in relation to a ladder structure 110 feasible step is a metallic coating of the conductor structure 110 by electroplating. Such a step may be before or even after the forming of the conductor structure 110 with a molding compound 135 be performed.

Anstelle von Halbleiterchips 140 mit einem vorderseitigen und einen rückseitigen Kontakt können andere Bauformen von Halbleiterchips eingesetzt werden. Hierzu gehören Halbleiterchips mit lediglich rückseitigen Kontakten. Solche Halbleiterchips können mit den rückseitigen Kontakten auf sich gegenüberliegenden vorderseitigen Leiterabschnitten benachbarter Leiterelemente angeordnet werden.Instead of semiconductor chips 140 With a front and a back contact, other types of semiconductor chips can be used. These include semiconductor chips with only rear contacts. Such semiconductor chips may be arranged with the backside contacts on opposite front side conductor portions of adjacent conductor elements.

In Bezug auf Halbleiterchips ist es ferner möglich, auf den Halbleiterchips bzw. auf zumindest einem Teil der Halbleiterchips eine Konversionsschicht zur Strahlungskonversion auszubilden.With respect to semiconductor chips, it is also possible to form a conversion layer for radiation conversion on the semiconductor chips or on at least part of the semiconductor chips.

Des Weiteren kann es in Betracht kommen, zusätzlich zu oder anstelle von strahlungsemittierenden Halbleiterchips andere Typen von Halbleiterchips auf einem Träger 130 anzuordnen, und infolgedessen Halbleiterbauelemente mit anderen Typen von Halbleiterchips herzustellen. Hierunter können zum Beispiel strahlungsempfangende Halbleiterchips fallen.Furthermore, it is possible to consider, in addition to or instead of radiation-emitting semiconductor chips, other types of semiconductor chips on a carrier 130 and, as a result, produce semiconductor devices with other types of semiconductor chips. This may include, for example, radiation-receiving semiconductor chips.

Obwohl die Erfindung im Detail durch bevorzugte Ausführungsbeispiele näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.While the invention has been further illustrated and described in detail by way of preferred embodiments, the invention is not limited by the disclosed examples, and other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

101, 102101, 102
Halbleiterbauelement Semiconductor device
103, 104103, 104
Halbleiterbauelement Semiconductor device
110110
Leiterstruktur conductor structure
111111
Leiterelement conductor element
115, 116115, 116
Verbindungssteg connecting web
121, 122121, 122
vorderseitiger Leiterabschnitt front conductor section
123123
vorderseitiger Leiterabschnitt front conductor section
125125
rückseitiger Leiterabschnitt back ladder section
127127
Zwischenabschnitt intermediate section
130130
Träger carrier
135135
Formmasse molding compound
140140
Halbleiterchip Semiconductor chip
141141
Vorderseitenkontakt Front contact
150150
Bonddraht bonding wire
155155
Kontaktstruktur Contact structure
156156
isolierende Schicht insulating layer
157157
Kontaktschicht contact layer
159159
Füllschicht filling layer
160160
Versiegelungsschicht sealing layer
165165
Einbettungsschicht buried layer
166166
Ausnehmung recess
169169
Schutzschicht protective layer
171, 172171, 172
Ebene level
181181
Vorderseite front
182182
Rückseite back
190190
Bauelementbereich component region
195195
Trennspur separating track
200200
Anzeigevorrichtung display device
201201
Halbleiterbauelement Semiconductor device
205205
Vergussmaterial grout
210210
Leiterplatte circuit board

Claims (14)

Verfahren zum Herstellen von oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelementen (101, 102, 103, 104), umfassend: Bereitstellen einer metallischen Leiterstruktur (110), wobei die Leiterstruktur (110) in einer ersten Ebene (171) angeordnete vorderseitige Leiterabschnitte (121, 122, 123), in einer zweiten Ebene (172) versetzt zur ersten Ebene (171) angeordnete rückseitige Leiterabschnitte (125), sich zwischen den vorderseitigen und rückseitigen Leiterabschnitten (121, 122, 123, 125) erstreckende Zwischenabschnitte (127) und die rückseitigen Leiterabschnitte (125) verbindende Verbindungselemente (115, 116) aufweist; Umformen der Leiterstruktur (110) mit einer Formmasse (135), so dass ein Träger (130) mit einer Vorderseite (181) und einer Rückseite (182) bereitgestellt wird, wobei die vorderseitigen Leiterabschnitte (121, 122, 123) an der Vorderseite (181) und die rückseitigen Leiterabschnitte (125) an der Rückseite (182) des Trägers (130) freiliegen; Anordnen von Halbleiterchips (140) auf der Vorderseite (181) des Trägers (130); und Durchführen eines Vereinzelungsprozesses, wobei der Träger (130) im Bereich der Verbindungselemente (115, 116) und der rückseitigen Leiterabschnitte (125) durchtrennt wird und vereinzelte oberflächenmontierbare Halbleiterbauelemente gebildet werden. Method for producing surface mount semiconductor devices ( 101 . 102 . 103 . 104 ), comprising: providing a metallic conductor structure ( 110 ), the conductor structure ( 110 ) in a first level ( 171 ) arranged front conductor sections ( 121 . 122 . 123 ), in a second level ( 172 ) moves to the first level ( 171 ) arranged rear conductor sections ( 125 ), between the front and rear conductor sections ( 121 . 122 . 123 . 125 ) extending intermediate sections ( 127 ) and the rear conductor sections ( 125 ) connecting connecting elements ( 115 . 116 ) having; Reshaping the ladder structure ( 110 ) with a molding compound ( 135 ), so that a carrier ( 130 ) with a front side ( 181 ) and a back ( 182 ), wherein the front conductor sections ( 121 . 122 . 123 ) on the front side ( 181 ) and the rear conductor sections ( 125 ) on the back ( 182 ) of the carrier ( 130 ) are exposed; Arranging semiconductor chips ( 140 ) on the front side ( 181 ) of the carrier ( 130 ); and performing a singulation process, wherein the carrier ( 130 ) in the region of the connecting elements ( 115 . 116 ) and the rear conductor sections ( 125 ) is cut and isolated surface mount semiconductor devices are formed. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Halbleiterchips (140) strahlungsemittierende Halbleiterchips sind. Method according to claim 1, wherein the semiconductor chips ( 140 ) are radiation-emitting semiconductor chips. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Zwischenabschnitte (127) senkrecht zur ersten und zweiten Ebene (171, 172) verlaufen.Method according to one of the preceding claims, wherein the intermediate sections ( 127 ) perpendicular to the first and second levels ( 171 . 172 ). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (130) eine Dicke von wenigstens 2mm aufweist.Method according to one of the preceding claims, wherein the carrier ( 130 ) has a thickness of at least 2mm. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Leiterstruktur (130) Leiterelemente (111) aufweist, welche zwei vorderseitige Leiterabschnitte (121, 122, 123), einen rückseitigen Leiterabschnitt (125) und zwei den rückseitigen Leiterabschnitt (125) mit den vorderseitigen Leiterabschnitten (121, 122, 123) verbindende Zwischenabschnitte (127) aufweisen, und wobei die Leiterelemente (111) bei dem Vereinzelungsprozess im Bereich der rückseitigen Leiterabschnitte (125) durchtrennt werden.Method according to one of the preceding claims, wherein the conductor structure ( 130 ) Conductor elements ( 111 ), which two front conductor sections ( 121 . 122 . 123 ), a rear conductor section ( 125 ) and two the rear conductor section ( 125 ) with the front conductor sections ( 121 . 122 . 123 ) connecting intermediate sections ( 127 ), and wherein the conductor elements ( 111 ) in the singulation process in the region of the rear conductor sections ( 125 ) are severed. Verfahren nach Anspruch 5, wobei vereinzelte Halbleiterbauelemente gebildet werden, welche wenigstes zwei durchtrennte Leiterelemente (111) aufweisen.Method according to Claim 5, in which individual semiconductor components are formed, which comprise at least two severed conductor elements ( 111 ) exhibit. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei Halbleiterchips (140) zum Erzeugen einer ersten Lichtstrahlung, Halbleiterchips (140) zum Erzeugen einer zweiten Lichtstrahlung und Halbleiterchips (140) zum Erzeugen einer dritten Lichtstrahlung auf dem Träger (130) angeordnet werden, und wobei vereinzelte Halbleiterbauelemente gebildet werden, welche einen Halbleiterchip (140) zum Erzeugen der ersten Lichtstrahlung, einen Halbleiterchip (140) zum Erzeugen der zweiten Lichtstrahlung und einen Halbleiterchip (140) zum Erzeugen der dritten Lichtstrahlung aufweisen. Method according to one of the preceding claims, wherein semiconductor chips ( 140 ) for generating a first light radiation, semiconductor chips ( 140 ) for generating a second light radiation and semiconductor chips ( 140 ) for generating a third light radiation on the carrier ( 130 ), and wherein isolated semiconductor devices are formed, which form a semiconductor chip ( 140 ) for generating the first light radiation, a semiconductor chip ( 140 ) for generating the second light radiation and a semiconductor chip ( 140 ) for generating the third light radiation. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Halbleiterchips (140) jeweils auf einem vorderseitigen Leiterabschnitt (121, 123) angeordnet und über eine Kontaktstruktur (150, 155) elektrisch an einen benachbarten vorderseitigen Leiterabschnitt (122) angeschlossen werden.Method according to one of the preceding claims, wherein the semiconductor chips ( 140 ) each on a front conductor section ( 121 . 123 ) and via a contact structure ( 150 . 155 ) electrically to an adjacent front conductor portion ( 122 ) are connected. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine die Halbleiterchips (140) bedeckende Versiegelungsschicht (160) auf der Vorderseite (181) des Trägers (130) ausgebildet wird.Method according to one of the preceding claims, wherein one of the semiconductor chips ( 140 ) covering sealing layer ( 160 ) on the Front side ( 181 ) of the carrier ( 130 ) is formed. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei eine Einbettungsschicht (165) auf der Vorderseite (181) des Trägers (130) ausgebildet wird, welche seitlich an die Halbleiterchips (140) angrenzt, so dass Vorderseiten der Halbleiterchips (140) freiliegen, und wobei nachfolgend Kontaktstrukturen (155) zum Anschließen der Halbleiterchips (140) an vorderseitige Leiterabschnitte (122) ausgebildet werden.Method according to one of claims 1 to 8, wherein an embedding layer ( 165 ) on the front side ( 181 ) of the carrier ( 130 ) formed laterally on the semiconductor chips ( 140 ) so that front sides of the semiconductor chips ( 140 ), and where contact structures ( 155 ) for connecting the semiconductor chips ( 140 ) to front conductor sections ( 122 ) be formed. Verfahren nach Anspruch 10, wobei das Ausbilden einer Kontaktstruktur (155) folgende Schritte umfasst: Ausbilden einer Ausnehmung (166) in der Einbettungsschicht (165) zum Freilegen eines Teils eines vorderseitigen Leiterabschnitts (122); und Ausbilden einer Kontaktschicht (157) zum Verbinden eines Halbleiterchips (140) mit dem freigelegten Teil des vorderseitigen Leiterabschnitts (122).The method of claim 10, wherein forming a contact structure ( 155 ) comprises the following steps: forming a recess ( 166 ) in the embedding layer ( 165 ) for exposing a part of a front-side conductor section ( 122 ); and forming a contact layer ( 157 ) for connecting a semiconductor chip ( 140 ) with the exposed part of the front conductor section ( 122 ). Oberflächenmontierbares Halbleiterbauelement (101, 102, 103, 104), aufweisend einen Träger (130) mit einer Vorderseite (181) und einer Rückseite (182) und wenigstens einen auf der Vorderseite (181) des Trägers (130) angeordneten Halbleiterchip (140), wobei der Träger (130) eine metallische Leiterstruktur und eine an die Leiterstruktur angrenzende Formmasse (135) aufweist, wobei die Leiterstruktur in einer ersten Ebene angeordnete vorderseitige Leiterabschnitte (121, 122, 123), in einer zweiten Ebene versetzt zur ersten Ebene angeordnete rückseitige Leiterabschnitte (125) und sich zwischen den vorderseitigen und rückseitigen Leiterabschnitten (121, 122, 123, 125) erstreckende Zwischenabschnitte (127) aufweist, und wobei die vorderseitigen Leiterabschnitte (121, 122, 123) an der Vorderseite (181) und die rückseitigen Leiterabschnitte (125) an der Rückseite (182) des Trägers (130) freiliegen.Surface mountable semiconductor device ( 101 . 102 . 103 . 104 ), comprising a carrier ( 130 ) with a front side ( 181 ) and a back ( 182 ) and at least one on the front ( 181 ) of the carrier ( 130 ) arranged semiconductor chip ( 140 ), the carrier ( 130 ) a metallic conductor structure and a molding compound adjacent to the conductor structure ( 135 ), wherein the conductor structure arranged in a first plane front-side conductor sections ( 121 . 122 . 123 ), in a second plane offset from the first level arranged rear conductor sections ( 125 ) and between the front and rear conductor sections ( 121 . 122 . 123 . 125 ) extending intermediate sections ( 127 ), and wherein the front conductor sections ( 121 . 122 . 123 ) on the front side ( 181 ) and the rear conductor sections ( 125 ) on the back ( 182 ) of the carrier ( 130 ). Halbleiterbauelement (102) nach Anspruch 12, wobei auf der Vorderseite (181) des Trägers (130) eine Einbettungsschicht (165) angeordnet ist, welche seitlich an den wenigstens einen Halbleiterchip (140) angrenzt, so dass eine Vorderseite des wenigstens einen Halbleiterchips (140) nicht mit der Einbettungsschicht (165) bedeckt ist, wobei die Einbettungsschicht (165) eine Ausnehmung (166) aufweist, über welche ein Teil eines vorderseitigen Leiterabschnitts (122) freigelegt ist, und wobei der wenigstens eine Halbleiterchip (140) über eine Kontaktschicht (157) mit dem freigelegten Teil des vorderseitigen Leiterabschnitts (122) verbunden ist.Semiconductor device ( 102 ) according to claim 12, wherein on the front side ( 181 ) of the carrier ( 130 ) an embedding layer ( 165 ) which is arranged laterally on the at least one semiconductor chip ( 140 ) so that a front side of the at least one semiconductor chip ( 140 ) not with the embedding layer ( 165 ), the embedding layer ( 165 ) a recess ( 166 ), over which a part of a front-side conductor section ( 122 ) is exposed, and wherein the at least one semiconductor chip ( 140 ) via a contact layer ( 157 ) with the exposed part of the front conductor section ( 122 ) connected is. Anzeigevorrichtung, aufweisend eine Leiterplatte (210), mehrere auf der Leiterplatte (210) angeordnete Halbleiterbauelemente (101, 102, 103, 104, 201) nach einem der Ansprüche 12 oder 13 und ein Vergussmaterial (205), wobei der wenigstens eine Halbleiterchip (140) der Halbleiterbauelemente ein strahlungsemittierender Halbleiterchip ist, und wobei das Vergussmaterial (205) auf der Leiterplatte (210) in Bereichen neben und zwischen den Halbleiterbauelementen angeordnet ist.Display device comprising a printed circuit board ( 210 ), several on the circuit board ( 210 ) arranged semiconductor components ( 101 . 102 . 103 . 104 . 201 ) according to one of claims 12 or 13 and a potting material ( 205 ), wherein the at least one semiconductor chip ( 140 ) of the semiconductor components is a radiation-emitting semiconductor chip, and wherein the potting material ( 205 ) on the printed circuit board ( 210 ) is arranged in areas next to and between the semiconductor devices.
DE102016105491.7A 2016-03-23 2016-03-23 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS Withdrawn DE102016105491A1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016105491.7A DE102016105491A1 (en) 2016-03-23 2016-03-23 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS
PCT/EP2017/056849 WO2017162753A1 (en) 2016-03-23 2017-03-22 Production of semiconductor components, semiconductor component, and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016105491.7A DE102016105491A1 (en) 2016-03-23 2016-03-23 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102016105491A1 true DE102016105491A1 (en) 2017-09-28

Family

ID=58398194

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102016105491.7A Withdrawn DE102016105491A1 (en) 2016-03-23 2016-03-23 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102016105491A1 (en)
WO (1) WO2017162753A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020227627A3 (en) * 2019-05-09 2020-12-10 Daktronics, Inc. Molded contrast mask for display module
WO2022002630A1 (en) * 2020-06-30 2022-01-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component and method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120056218A1 (en) * 2010-09-08 2012-03-08 Norfidathul Aizar Abdul Karim Lead frame package with multiple bends
DE102013112549A1 (en) * 2013-11-14 2015-05-21 Osram Opto Semiconductors Gmbh Process for the production of optoelectronic semiconductor components and optoelectronic semiconductor component

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6627482B2 (en) * 2001-02-09 2003-09-30 Harvatek Corporation Mass production technique for surface mount optical device with a focusing cup
US9831393B2 (en) * 2010-07-30 2017-11-28 Cree Hong Kong Limited Water resistant surface mount device package
DE102010045403A1 (en) * 2010-09-15 2012-03-15 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component
JP2013093418A (en) * 2011-10-25 2013-05-16 Japan Aviation Electronics Industry Ltd Semiconductor device package assembly, semiconductor device assembly, and method for manufacturing semiconductor device
JP5813467B2 (en) * 2011-11-07 2015-11-17 新光電気工業株式会社 Substrate, light emitting device, and method of manufacturing substrate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120056218A1 (en) * 2010-09-08 2012-03-08 Norfidathul Aizar Abdul Karim Lead frame package with multiple bends
DE102013112549A1 (en) * 2013-11-14 2015-05-21 Osram Opto Semiconductors Gmbh Process for the production of optoelectronic semiconductor components and optoelectronic semiconductor component

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020227627A3 (en) * 2019-05-09 2020-12-10 Daktronics, Inc. Molded contrast mask for display module
WO2022002630A1 (en) * 2020-06-30 2022-01-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component and method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017162753A1 (en) 2017-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112018005740B4 (en) Production of optoelectronic components and optoelectronic component
EP3360167B1 (en) Optoelectronic component having a lead frame having a stiffening structure
DE102014116133B4 (en) Optoelectronic component, method for producing an optoelectronic component and method for producing an optoelectronic arrangement
DE102015114292A1 (en) Laser component and method for its production
DE102014111106A1 (en) Electronic component, optoelectronic component, component arrangement and method for producing an electronic component
DE102015112556B4 (en) Video wall module and method for producing the same
DE102014119390A1 (en) Optoelectronic component and method for its production
DE102014113844B4 (en) Method for producing an optoelectronic component and optoelectronic component
DE102014105734A1 (en) Optoelectronic semiconductor component and method for producing an optoelectronic semiconductor component
DE102016105491A1 (en) MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS
DE102008059552A1 (en) Light-emitting diode module and light-emitting diode component
WO2019002098A1 (en) Optoelectronic semiconductor component and assembly having an optoelectronic semiconductor component
DE102014208960A1 (en) Surface-mountable optoelectronic component and method for producing a surface-mountable optoelectronic component
DE102013220960A1 (en) Optoelectronic component and method for its production
DE102017130764B4 (en) Device with semiconductor chips on a primary carrier and method for producing such a device
WO2016087360A1 (en) Method for producing optoelectronic modules and arrangement having a module of this type
WO2016110545A1 (en) Lead frame and method for producing a chip housing
DE112017007501T5 (en) PRODUCTION OF A CHIP MODULE
WO2017174647A1 (en) Production of a semiconductor component
DE102013218268A1 (en) Carrier and light device
DE102017113020B4 (en) Manufacture of semiconductor components
WO2022100976A1 (en) Optoelectronic semiconductor component and method for producing same
DE102014116080A1 (en) Optoelectronic component and method for its production
DE102015116263A1 (en) Production of an electronic component
DE102013212294A1 (en) Optoelectronic semiconductor chip

Legal Events

Date Code Title Description
R163 Identified publications notified
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee