DE102014105734A1 - Optoelectronic semiconductor component and method for producing an optoelectronic semiconductor component - Google Patents

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Abstract

Es umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) einen Träger (2). Der Träger (2) beinhaltet einen Mikrocontroller (26) zu einer elektrischen Adressierung und Ansteuerung des Halbleiterbauteils (1). Mindestens ein optoelektronischer Halbleiterchip (3), der zur Erzeugung von Licht eingerichtet ist, ist an einer Trägeroberseite (23) des Trägers (2) angebracht und mit dem Mikrocontroller (26) elektrisch verbunden. Das Halbleiterbauteil (1) weist wenigstens drei elektrische Kontaktstellen (4) auf, wobei zumindest zwei der Kontaktstellen (4) mit dem Mikrocontroller (26) verbunden sind. Wenigstens ein Optikkörper (5) zu einer geometrischen und/oder Spektralen Strahlformung befindet sich direkt oder indirekt an der Trägeroberseite (23).The optoelectronic semiconductor component (1) comprises a carrier (2). The carrier (2) includes a microcontroller (26) for electrical addressing and control of the semiconductor device (1). At least one optoelectronic semiconductor chip (3), which is set up to generate light, is attached to a carrier top side (23) of the carrier (2) and electrically connected to the microcontroller (26). The semiconductor device (1) has at least three electrical contact points (4), wherein at least two of the contact points (4) are connected to the microcontroller (26). At least one optical body (5) for geometrical and / or spectral beam shaping is located directly or indirectly on the carrier top side (23).

Description

Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil angegeben. Darüber hinaus wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils angegeben.An optoelectronic semiconductor component is specified. In addition, a method for producing an optoelectronic semiconductor device is specified.

Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, ein optoelektronisches Halbleiterbauteil anzugeben, das effizient elektrisch verschaltbar ist.An object to be solved is to specify an optoelectronic semiconductor component which can be electrically connected electrically.

Diese Aufgabe wird unter anderem durch ein optoelektronisches Halbleiterbauteil und durch ein Verfahren mit den Merkmalen der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Bevorzugte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved inter alia by an optoelectronic semiconductor component and by a method having the features of the independent patent claims. Preferred developments are the subject of the dependent claims.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist das Halbleiterbauteil einen oder mehrere Träger auf. Der mindestens eine Träger weist einen Mikrocontroller auf. Bevorzugt weist jeder der Träger einen oder mehrere Mikrocontroller auf. Mittels des Mikrocontrollers ist eine elektrische Adressierung und elektrische Ansteuerung des Halbleiterbauteils und/oder einzelner Komponenten des Halbleiterbauteils möglich.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor component has one or more carriers. The at least one carrier has a microcontroller. Preferably, each of the carriers has one or more microcontrollers. By means of the microcontroller electrical addressing and electrical control of the semiconductor device and / or individual components of the semiconductor device is possible.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform beinhaltet das Halbleiterbauteil einen oder mehrere optoelektronische Halbleiterchips. Bei dem mindestens einen Halbleiterchip handelt es sich beispielsweise um eine Leuchtdiode oder um eine Laserdiode. Mit anderen Worten ist der wenigstens eine optoelektronische Halbleiterchip im Betrieb des Halbleiterbauteils zeitweise oder dauerhaft zur Erzeugung von Licht, insbesondere von sichtbarem Licht, eingerichtet. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor component includes one or more optoelectronic semiconductor chips. The at least one semiconductor chip is, for example, a light-emitting diode or a laser diode. In other words, the at least one optoelectronic semiconductor chip is temporarily or permanently set up to produce light, in particular visible light, during operation of the semiconductor component.

Der optoelektronische Halbleiterchip weist dabei eine Halbleiterschichtenfolge mit mindestens einer aktiven Zone auf. Die Halbleiterschichtenfolge basiert bevorzugt auf einem III-V-Verbindungshalbleitermaterial. Bei dem Halbleitermaterial handelt es sich zum Beispiel um ein Nitrid-Verbindungshalbleitermaterial wie AlnIn1-n-mGamN oder um ein Phosphid-Verbindungshalbleitermaterial wie AlnIn1-n-mGamP oder auch um ein Arsenid-Verbindungshalbleitermaterial wie AlnIn1-n-mGamAs, wobei jeweils 0 ≤ n ≤ 1, 0 ≤ m ≤ 1 und n + m ≤ 1 ist. Dabei kann die Halbleiterschichtenfolge Dotierstoffe sowie zusätzliche Bestandteile aufweisen. Der Einfachheit halber sind jedoch nur die wesentlichen Bestandteile des Kristallgitters der Halbleiterschichtenfolge, also Al, As, Ga, In, N oder P, angegeben, auch wenn diese teilweise durch geringe Mengen weiterer Stoffe ersetzt und/oder ergänzt sein können. The optoelectronic semiconductor chip has a semiconductor layer sequence with at least one active zone. The semiconductor layer sequence is preferably based on a III-V compound semiconductor material. The semiconductor material is, for example, a nitride compound semiconductor material such as Al n In 1 nm Ga m N or a phosphide compound semiconductor material such as Al n In 1 nm Ga m P or an arsenide compound semiconductor material such as Al n In 1-nm Ga m As, where 0 ≦ n ≦ 1, 0 ≦ m ≦ 1 and n + m ≦ 1, respectively. In this case, the semiconductor layer sequence may have dopants and additional constituents. For the sake of simplicity, however, only the essential constituents of the crystal lattice of the semiconductor layer sequence, that is to say Al, As, Ga, In, N or P, are indicated, even if these may be partially replaced and / or supplemented by small amounts of further substances.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der mindestens eine Halbleiterchip an einer Trägeroberseite des Trägers angebracht. Sind mehrere Halbleiterchips und mehrere Träger vorhanden, so gilt dies bevorzugt für alle Halbleiterchips. In accordance with at least one embodiment, the at least one semiconductor chip is attached to a carrier top side of the carrier. If a plurality of semiconductor chips and a plurality of carriers are present, this is preferably true for all semiconductor chips.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der oder sind die Halbleiterchips mit dem Mikrocontroller elektrisch verbunden. Insbesondere ist der oder sind die Halbleiterchips über den Mikrocontroller gezielt einzeln elektrisch adressierbar und elektrisch ansteuerbar. In accordance with at least one embodiment, the one or more semiconductor chips are electrically connected to the microcontroller. In particular, the one or more semiconductor chips are specifically individually addressable and electrically controllable via the microcontroller.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Halbleiterbauteil zwei, drei oder mehr als drei elektrische Kontaktstellen. Die mindestens zwei oder mindestens drei elektrischen Kontaktstellen sind zu einer externen elektrischen Kontaktierung des Halbleiterbauteils eingerichtet. Bei den Kontaktstellen handelt es sich bevorzugt um einen Kontakt für eine Spannungsversorgung, um einen Massekontakt sowie um einen Kontakt für eine Datenleitung.According to at least one embodiment, the semiconductor device comprises two, three or more than three electrical contact points. The at least two or at least three electrical contact points are set up for external electrical contacting of the semiconductor component. The contact points are preferably a contact for a power supply, a ground contact and a contact for a data line.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist mindestens eine oder sind mindestens zwei der Kontaktstellen mit dem Mikrocontroller elektrisch verbunden. Hierdurch ist eine Kontrolle eines Stromflusses zu dem zugeordneten Halbleiterchip möglich sowie eine Aufnahme und ein Verarbeiten von externen Steuersignalen. In accordance with at least one embodiment, at least one or at least two of the contact points are electrically connected to the microcontroller. As a result, a control of a current flow to the associated semiconductor chip is possible as well as a recording and processing of external control signals.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist das Halbleiterbauteil mindestens einen Optikkörper auf. Der eine oder die mehreren Optikkörper sind zu einer geometrischen und/oder zu einer spektralen Strahlformung des von dem wenigstens einen Halbleiterchip im Betrieb erzeugten Lichts eingerichtet. Beispielsweise wird eine Winkelverteilung der emittierten Strahlung durch den Optikkörper beeinflusst oder mittels des Optikkörpers werden spektrale Komponenten aus dem in dem Halbleiterchip erzeugten Licht entfernt und/oder hinzugefügt.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor component has at least one optical body. The one or more optical bodies are set up for geometrical and / or spectral beam shaping of the light generated by the at least one semiconductor chip during operation. For example, an angular distribution of the emitted radiation is influenced by the optical body or by means of the optical body, spectral components are removed from the light generated in the semiconductor chip and / or added.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform befindet sich der mindestens eine Optikkörper an der Trägeroberseite. Der Optikkörper kann auf die Trägeroberseite beschränkt sein. Es ist der Optikkörper mittelbar, also mit Hilfe weiterer Komponenten, oder unmittelbar, also in direktem physischen Kontakt, an der Trägeroberseite angebracht. In accordance with at least one embodiment, the at least one optical body is located on the carrier top side. The optical body may be limited to the carrier top. It is the optic body indirectly, so with the help of other components, or directly, so in direct physical contact, attached to the carrier top.

In mindestens einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil einen Träger. Der Träger beinhaltet einen Mikrocontroller zu einer elektrischen Adressierung und Ansteuerung des Halbleiterbauteils. Mindestens ein optoelektronischer Halbleiterchip, der zur Erzeugung von Licht eingerichtet ist, ist an einer Trägeroberseite des Trägers angebracht und mit dem Mikrocontroller elektrisch verbunden. Das Halbleiterbauteil weist wenigstens drei elektrische Kontaktstellen auf, wobei zumindest zwei der Kontaktstellen mit dem Mikrocontroller verbunden sind. Wenigstens ein Optikkörper zu einer geometrischen und/oder Spektralen Strahlformung befindet sich direkt oder indirekt an der Trägeroberseite des Trägers.In at least one embodiment, the optoelectronic semiconductor device comprises a carrier. The carrier includes a microcontroller for electrical addressing and control of the semiconductor device. At least one optoelectronic semiconductor chip, which is set up to generate light, is mounted on a carrier top side of the carrier and is electrically connected to the microcontroller. The semiconductor device has at least three electrical contact points, wherein at least two of the contact points are connected to the microcontroller. At least one optic body too a geometric and / or spectral beam shaping is located directly or indirectly on the carrier top side of the carrier.

Insbesondere in Fahrzeugen wie Automobilen ist ein Trend zu immer höheren Auflösungen speziell bei adaptiven Frontscheinwerfersystemen zu beobachten. Werden dabei einzelne Halbleiterchips wie Leuchtdioden je mit zwei Anschlüssen, für eine Anode sowie für eine Kathode, matrixartig angeordnet, so ist ein Verschaltungsaufwand relativ hoch aufgrund der großen Anzahl erforderlicher elektrischer Leitungen. Weiterhin ist eine Anordnung einer Vielzahl solcher Halbleiterchips fehleranfällig bei der Montage. Durch den benötigten Platz für die große Anzahl von Leiterbahnen, nämlich zwei pro Halbleiterchip, ist außerdem eine Anordnungsdichte beschränkt. Eine Größe der Leiterbahnen ist zudem aufgrund des relativ hohen Strombedarfs der Halbleiterchips dabei nach unten hin begrenzt. Die Leiterbahnen müssen also einen vergleichsweise großen Querschnitt aufweisen. Particularly in vehicles such as automobiles, a trend towards ever higher resolutions, especially with adaptive headlight systems, can be observed. If individual semiconductor chips such as light-emitting diodes each with two terminals, for an anode and for a cathode, arranged in a matrix, so is a Verschaltungsaufwand relatively high due to the large number of required electrical lines. Furthermore, an arrangement of a plurality of such semiconductor chips is prone to error during assembly. Due to the space required for the large number of interconnects, namely two per semiconductor chip, an arrangement density is also limited. A size of the tracks is also limited due to the relatively high power requirements of the semiconductor chips down. The printed conductors must therefore have a comparatively large cross section.

Bei dem hier beschriebenen Halbleiterbauteil ist eine Anzahl der elektrischen Leitungen aufgrund der Adressierung und Ansteuerung durch die in den Trägern integrierten Mikrocontroller vereinfacht. Hierdurch ist auch eine dichtere Anordnung der Halbleiterchips realisierbar, einhergehend mit einer höheren möglichen Flächenleuchtdichte.In the case of the semiconductor device described here, a number of the electrical lines are simplified due to the addressing and control by the microcontroller integrated in the carriers. As a result, a denser arrangement of the semiconductor chips can be realized, along with a higher possible surface luminance.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind mehrere der Träger in einem Trägerverbund mechanisch integriert. Beispielsweise sind die Träger durch einen Kunststoffkörper, hergestellt beispielsweise mittels Pressen oder Spritzen, fest miteinander verbunden. Dies bedeutet, dass sich die Träger im bestimmungsgemäßen Gebrauch des Halbleiterbauteils nicht voneinander lösen und nicht in ihrer relativen Position zueinander ändern. Bevorzugt befinden sich alle Träger in einer gemeinsamen Ebene. In diesem Fall ist der Trägerverbund bevorzugt eben und planar gestaltet.In accordance with at least one embodiment, a plurality of the carriers are mechanically integrated in a carrier assembly. For example, the carrier by a plastic body, made for example by means of pressing or spraying, firmly connected. This means that the carriers do not separate from each other in the intended use of the semiconductor device and do not change in their relative position to each other. Preferably, all carriers are in a common plane. In this case, the carrier composite is preferably planar and planar.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist ein Teil der Halbleiterchips oder sind alle Halbleiterchips auf dem Trägerverbund aufgebracht. Dabei weisen Trägeroberseiten der Träger bevorzugt allesamt in dieselbe Richtung und die Halbleiterchips sind an den Trägeroberseiten angebracht. Weiterhin ist es möglich, dass sich die Halbleiterchips in einer weiteren gemeinsamen Ebene, insbesondere parallel zu den Trägeroberseiten, befinden.In accordance with at least one embodiment, a part of the semiconductor chips or all semiconductor chips are applied to the carrier assembly. Carrier tops of the carriers preferably all have the same direction, and the semiconductor chips are attached to the carrier tops. Furthermore, it is possible for the semiconductor chips to be located in a further common plane, in particular parallel to the carrier top sides.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Halbleiterbauteil eine oder mehrere optische Abschirmungen. Die mindestens eine optische Abschirmung ist strahlungsundurchlässig für im Betrieb des Halbleiterbauteils erzeugtes Licht. Durch die Abschirmung sind benachbarte Halbleiterchips bevorzugt optisch voneinander isolierbar. Hierdurch ist ein hoher Kontrast zwischen benachbarten Halbleiterchips erzielbar.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor device comprises one or more optical shields. The at least one optical shield is radiopaque for light generated during operation of the semiconductor device. By the shield adjacent semiconductor chips are preferably optically isolated from each other. As a result, a high contrast between adjacent semiconductor chips can be achieved.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die Abschirmungen zwischen benachbarten Halbleiterchips jeweils derart angebracht, dass innerhalb des Halbleiterbauteils kein Lichtpfad zwischen benachbarten Halbleiterchips vorliegt. Mit anderen Worten kann dann aufgrund der Abschirmungen und eventuell aufgrund weiterer Komponenten innerhalb des Halbleiterbauteils kein Licht von einem der Halbleiterchips zu einem anderen Halbleiterchip gelangen. Innerhalb des Halbleiterbauteils meint, dass hierbei nur Wegstrecken oder mögliche Wegstrecken berücksichtigt werden, die vollständig in einem Inneren des Halbleiterbauteils verlaufen. Etwa Rückstreuung aufgrund äußerer, externer Komponenten, die nicht zu dem Halbleiterbauteil gehören, bleibt hierbei also unberücksichtigt.In accordance with at least one embodiment, the shields between adjacent semiconductor chips are respectively mounted such that there is no light path between adjacent semiconductor chips within the semiconductor device. In other words, due to the shields and possibly due to further components within the semiconductor device, no light can pass from one of the semiconductor chips to another semiconductor chip. Within the semiconductor device means that only distances or possible distances are taken into account, which run completely in an interior of the semiconductor device. For example, backscatter due to external, external components that do not belong to the semiconductor component remains disregarded.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind mehrere der Halbleiterchips einem der Träger zugeordnet oder umgekehrt. Zum Beispiel sind zwei, drei, vier oder mehr als vier der Halbleiterchips einem der Träger bevorzugt eindeutig zugeordnet. In accordance with at least one embodiment, a plurality of the semiconductor chips are assigned to one of the carriers or vice versa. For example, two, three, four or more than four of the semiconductor chips are preferably uniquely assigned to one of the carriers.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform liegen die Halbleiterchips und die Träger in einer Eins-zu-Eins-Anordnung vor. Die Halbleiterchips und die Träger sind somit einander eineindeutig zugeordnet.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chips and the carriers are in a one-to-one arrangement. The semiconductor chips and the carriers are thus uniquely associated with each other.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das Halbleiterbauteil ein oder mehrere Vergussmaterialien. Das mindestens eine Vergussmaterial ist bevorzugt strahlungsundurchlässig für von den Halbleiterchips erzeugtes Licht. Bei dem Vergussmaterial kann es sich um ein einem Beobachter weiß oder schwarz oder farbig erscheinendes Material handeln. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor component comprises one or more potting materials. The at least one potting material is preferably radiopaque for light generated by the semiconductor chips. The potting material may be an observer white or black or colored appearing material.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die Halbleiterchips jeweils ringsum von dem Vergussmaterial umgeben. Die Halbleiterchips können in direktem Kontakt zu dem Vergussmaterial stehen. Weiterhin kann das Vergussmaterial die Trägeroberseite berühren.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chips are surrounded in each case by the potting material. The semiconductor chips may be in direct contact with the potting material. Furthermore, the potting material can touch the carrier top.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weisen die Halbleiterchips jeweils eine Strahlungshauptseite auf. Über die Strahlungshauptseite wird der überwiegende Anteil der in den Halbleiterchips erzeugten Strahlung aus den Halbleiterchips heraus emittiert. Bevorzugt reicht das Vergussmaterial, in Richtung weg von der zugehörigen Trägeroberseite, bis hin zu der Strahlungshauptseite. Es ist möglich, dass das Vergussmaterial bündig mit der Strahlungshauptseite abschließt oder auch die Strahlungshauptseite in Richtung weg von dem Träger überragt. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chips each have a main radiation side. The predominant portion of the radiation generated in the semiconductor chips is emitted out of the semiconductor chips via the main radiation side. Preferably, the potting material, in the direction away from the associated carrier top, extends to the main radiation side. It is possible that the potting material is flush with the main radiation side or also projects beyond the radiation main side in the direction away from the carrier.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform beinhaltet das Halbleiterbauteil ein oder mehrere Konversionsmittel. Das mindestens eine Konversionsmittel ist zu einer teilweisen oder vollständigen Umwandlung des von dem mindestens einen Halbleiterchip emittierten Lichts in eine Strahlung einer anderen, insbesondere größeren Wellenlänge eingerichtet. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor device includes one or more conversion means. The at least one conversion means is set up for a partial or complete conversion of the light emitted by the at least one semiconductor chip into a radiation of another, in particular larger, wavelength.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist das mindestens eine Konversionsmittel in Richtung weg von der Trägeroberseite dem zugehörigen Halbleiterchip und optional auch dem zugehörigen Vergussmaterial nachgeordnet. Das Konversionsmittel überdeckt den zugehörigen Halbleiterchip bevorzugt vollständig, in Draufsicht auf die Strahlungshauptseite gesehen. In accordance with at least one embodiment, the at least one conversion means in the direction away from the carrier top side is arranged downstream of the associated semiconductor chip and optionally also the associated potting material. The conversion means preferably covers the associated semiconductor chip completely, as seen in plan view of the main radiation side.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Optikkörper mindestens durch das Vergussmaterial und durch das Konversionsmittel gebildet. Ferner kann der Optikkörper eine weitere Komponente wie ein Streumittel aufweisen. Der Optikkörper kann also mehrere Komponenten umfassen. Die verschiedenen Komponenten des Optikkörpers können durch unterschiedliche Materialien gebildet sein. Bevorzugt berühren sich die verschiedenen Komponenten des Optikkörpers. Insbesondere ist der Optikkörper durch ein zusammenhängendes Materialgebiet gestaltet. Der Optikkörper kann eine mechanische Einheit darstellen. Optional ist der Optikkörper separat von anderen Komponenten des Halbleiterbauteils handhabbar. In accordance with at least one embodiment, the optical body is formed at least by the potting material and by the conversion means. Furthermore, the optical body can have a further component, such as a scattering agent. The optical body can therefore comprise several components. The various components of the optic body may be formed by different materials. The different components of the optic body preferably touch each other. In particular, the optical body is designed by a coherent material area. The optic body can be a mechanical unit. Optionally, the optical body can be handled separately from other components of the semiconductor device.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform befindet sich zwischen dem Vergussmaterial und dem Konversionsmittel sowie zwischen der Strahlungshauptseite und dem Konversionsmittel das Streumittel. Das Streumittel ist bevorzugt schichtförmig und strahlungsdurchlässig eingerichtet. Zum Beispiel umfasst das Streumittel ein Matrixmaterial, das transparent ist, sowie in das Matrixmaterial eingebrachte, Lichtstreuende Partikel. Das Streumittel ist bevorzugt zu einer Strahlungsaufweitung in Richtung parallel zu der wenigstens einen Trägeroberseite eingerichtet. Durch das Streumittel ist beispielsweise eine gleichmäßige Ausleuchtung des Konversionsmittels möglich.According to at least one embodiment, the scattering means is located between the potting material and the conversion means and between the main radiation side and the conversion means. The scattering agent is preferably arranged in a layered and radiation-permeable manner. For example, the scattering agent comprises a matrix material which is transparent and light-scattering particles introduced into the matrix material. The scattering means is preferably set up for a radiation expansion in the direction parallel to the at least one carrier top side. By the scattering agent, for example, a uniform illumination of the conversion agent is possible.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform bedeckt das Streumittel den Halbleiterchip und das Vergussmaterial vollständig, in Draufsicht auf die Strahlungshauptseite gesehen. Insbesondere erstreckt sich das Streumittel vollständig zwischen dem Konversionsmittel einerseits und dem Vergussmaterial sowie dem Halbleiterchip andererseits, so dass diese Komponenten voneinander durch das Streumittel voneinander separiert sind. In accordance with at least one embodiment, the scattering means completely covers the semiconductor chip and the potting material, as seen in plan view on the main radiation side. In particular, the scattering means extends completely between the conversion means on the one hand and the potting material and the semiconductor chip on the other hand, so that these components are separated from one another by the scattering means.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist das optoelektronische Halbleiterbauteil elektrische Leitungen auf. Die elektrischen Leitungen sind zu einer elektrischen Verschaltung innerhalb des Halbleiterbauteils eingerichtet. Insbesondere erstrecken sich die elektrischen Leitungen zwischen den elektrischen Kontaktflächen, dem Mikrocontroller und/oder dem mindestens einen Halbleiterchip. In accordance with at least one embodiment, the optoelectronic semiconductor component has electrical lines. The electrical lines are set up for an electrical connection within the semiconductor component. In particular, the electrical lines extend between the electrical contact surfaces, the microcontroller and / or the at least one semiconductor chip.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform befindet sich wenigstens ein Teil der elektrischen Leitungen zwischen dem Vergussmaterial und dem Konversionsmittel. In diesem Fall ist der mindestens eine Halbleiterchip bevorzugt bonddrahtfrei über die elektrischen Leitungen in Verbindung mit Durchkontaktierungen, insbesondere durch das Vergussmaterial und/oder durch den Träger hindurch, elektrisch kontaktiert. Es reicht bevorzugt mindestens eine der elektrischen Leitungen an die Strahlungshauptseite des mindestens einen Halbleiterchips heran. Alternativ ist es möglich, dass der Halbleiterchip an der Strahlungshauptseite mittels eines Bonddrahts kontaktiert ist. Der Bonddraht kann vollständig oder teilweise in das Vergussmaterial und/oder das Streumittel und/oder das Konversionsmittel eingebettet sein.According to at least one embodiment, at least a part of the electrical leads is located between the potting material and the conversion means. In this case, the at least one semiconductor chip is preferably contacted with bonding wire via the electrical leads in connection with plated-through holes, in particular through the casting material and / or through the support. At least one of the electrical lines preferably reaches the main radiation side of the at least one semiconductor chip. Alternatively, it is possible that the semiconductor chip is contacted on the main radiation side by means of a bonding wire. The bonding wire can be completely or partially embedded in the potting material and / or the scattering agent and / or the conversion agent.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform befinden sich weitere elektrische Leitungen zwischen dem Trägerverbund und dem Vergussmaterial. Diese elektrischen Leitungen sind beispielsweise an der mindestens einen Trägeroberseite sowie an einer Oberseite des Trägerverbunds, an der sich die Halbleiterchips befinden, aufgebracht. Alternativ oder zusätzlich ist es möglich, dass sich elektrische Leitungen auch an einer den Halbleiterchips abgewandten Unterseite des Trägerverbunds befinden. According to at least one embodiment, there are further electrical lines between the carrier composite and the potting material. These electrical lines are applied, for example, to the at least one carrier top side and to an upper side of the carrier network on which the semiconductor chips are located. Alternatively or additionally, it is possible for electrical lines to also be located on an underside of the carrier composite facing away from the semiconductor chips.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform erstreckt sich die mindestens eine Abschirmung in das Vergussmaterial hinein oder durch das Vergussmaterial hindurch. Dabei ist es möglich, dass die Abschirmungen auf den elektrischen Leitungen an der Oberseite des Trägerverbunds aufliegt und mit diesen Leitungen in Kontakt steht. Alternativ kann die Abschirmung auf das Vergussmaterial aufgesetzt sein.In accordance with at least one embodiment, the at least one shield extends into the potting material or through the potting material. It is possible that the shields rests on the electrical lines at the top of the carrier assembly and is in contact with these lines. Alternatively, the shield can be placed on the potting material.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die mindestens eine Abschirmung aus einem elektrisch isolierenden Material geformt. Alternativ oder zusätzlich weist die Abschirmung eine Beschichtung aus einem elektrisch isolierenden Material auf. Die Abschirmung kann auch vollständig oder teilweise aus einem Metall oder einer Metalllegierung hergestellt sein, beispielsweise mittels Galvanisierung.In accordance with at least one embodiment, the at least one shield is formed from an electrically insulating material. Alternatively or additionally, the shield has a coating of an electrically insulating material. The shield may also be made entirely or partially of a metal or a metal alloy, for example by electroplating.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umgeben die Abschirmungen den jeweils zugehörigen Halbleiterchip rahmenförmig und ringsum vollständig, insbesondere in Draufsicht auf die Strahlungshauptseite gesehen. Die Abschirmungen können dabei rund, oval, sechseckig, rechteckig oder quadratisch gestaltet sein, in Draufsicht gesehen.In accordance with at least one embodiment, the shields completely surround the respective associated semiconductor chip in the shape of a frame and all around, in particular seen in plan view on the main radiation side. The shields can be designed round, oval, hexagonal, rectangular or square, seen in plan view.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind alle Abschirmungen des Halbleiterbauteils als ein einziges Stück ausgeführt und hängen zusammen. Die Abschirmungen bilden dann eine Art Raster, das auf den Trägerverbund aufgesetzt sein kann.According to at least one embodiment, all the shields of the semiconductor device are designed as a single piece and hang together. The shields then form a kind of grid, which can be placed on the carrier composite.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform befinden sich alle elektrischen Kontaktflächen zu einer externen elektrischen Kontaktierung des Halbleiterbauteils an derselben Seite des Trägerverbunds, also an der Oberseite oder an der Unterseite des Trägerverbunds. Alternativ können die elektrischen Kontaktflächen aufgeteilt sein und sich beiderseits des Trägerverbunds, also an der Oberseite und an der Unterseite, befinden. In accordance with at least one embodiment, all the electrical contact surfaces for external electrical contacting of the semiconductor component are located on the same side of the carrier assembly, that is to say on the upper side or on the underside of the carrier assembly. Alternatively, the electrical contact surfaces can be divided and located on both sides of the carrier composite, ie at the top and at the bottom.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die elektrischen Kontaktflächen von den optischen Abschirmungen nicht umgeben oder umrandet. Mit anderen Worten liegen dann die Kontaktflächen nicht innerhalb der Abschirmungen.In accordance with at least one embodiment, the electrical contact surfaces are not surrounded or bordered by the optical shields. In other words, then the contact surfaces are not within the shields.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weisen die Halbleiterchips einen gemeinsamen Massekontakt und/oder eine gemeinsame Versorgungsspannungsleitung auf. Es ist also möglich, dass sich alle Halbleiterchips zumindest eine elektrische Kontaktfläche und zumindest eine Leiterbahn teilen und/oder parallel zu dieser Leiterbahn und diesem Kontakt geschaltet sind und/oder elektrisch unmittelbar mit dieser Leiterbahn und diesem Kontakt verbunden sind.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chips have a common ground contact and / or a common supply voltage line. It is thus possible for all the semiconductor chips to share at least one electrical contact surface and at least one conductor track and / or to be connected in parallel to this conductor track and this contact and / or to be electrically connected directly to this conductor track and this contact.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist das Halbleiterbauteil oberflächenmontierbar. Das heißt, das Halbleiterbauteil kann mittels Oberflächenmontage, kurz SMT, an einem externen Träger angebracht werden. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor device is surface mountable. That is, the semiconductor device can be mounted on an external support by surface mounting, SMT for short.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist mindestens einer der Halbleiterchips samt dem zugehörigen Optikkörper zur Abstrahlung von blauem Licht und/oder mindestens einer der Halbleiterchips samt dem zugehörigen Optikkörper zur Abstrahlung von grünem Licht und/oder mindestens einer der Halbleiterchips samt dem zugehörigen Optikkörper zur Abstrahlung von rotem Licht eingerichtet. Es ist dabei möglich, dass die jeweiligen Halbleiterchips unmittelbar blaues, rotes oder grünes Licht erzeugen. Ebenso ist es möglich, dass den Halbleiterchips oder zumindest einem Teil der Halbleiterchips eines oder mehrere Konversionsmittel zu einer Wellenlängenumwandlung nachgeordnet sind, beispielsweise zur Erzeugung von grünem Licht.According to at least one embodiment, at least one of the semiconductor chips together with the associated optical body for emitting blue light and / or at least one of the semiconductor chips together with the associated optical body for emitting green light and / or at least one of the semiconductor chips together with the associated optical body for emitting red light set up. It is possible that the respective semiconductor chips directly produce blue, red or green light. It is likewise possible for one or more conversion means to be arranged downstream of the semiconductor chips or at least a part of the semiconductor chips for a wavelength conversion, for example for the generation of green light.

Ebenso kann durch die Halbleiterchips samt dem zugehörigen Optikkörper auch andersfarbiges Licht, beispielsweise cyanfarbiges oder gelbes Licht, erzeugt werden. Bei den Halbleiterchips kann es sich also um verschiedenartig aufgebaute Halbleiterchips, die beispielsweise auf unterschiedlichen Halbleitermaterialien basieren, handeln. Ebenso ist es möglich, dass die Halbleiterchips allesamt baugleich sind und beispielsweise zur Erzeugung von blauem Licht eingerichtet sind. Das Halbleiterbauteil kann eine Mischstrahlung emittieren, etwa weißes Licht. Die Mischstrahlung ist dann zusammengesetzt aus dem Licht der mehreren Halbleiterchips.Likewise, differently colored light, for example cyan or yellow light, can be generated by the semiconductor chips together with the associated optical body. The semiconductor chips can thus be differently constructed semiconductor chips, which are based for example on different semiconductor materials. It is also possible that the semiconductor chips are all identical in construction and, for example, are set up to produce blue light. The semiconductor device may emit mixed radiation, such as white light. The mixed radiation is then composed of the light of the plurality of semiconductor chips.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist das Halbleiterbauteil eine Lichtaustrittsfläche auf. An der Lichtaustrittsfläche werden an verschiedenen Stellen verschiedene Farben des in dem Halbleiterbauteil erzeugten Lichts emittiert. Die Aufteilung in unterschiedlich farbiges Licht emittierende Bereiche ist insbesondere durch die optische Abschirmung erreicht. Die Lichtaustrittsfläche kann planar oder gekrümmt gestaltet sein. Außerhalb des Halbleiterbauteils kann dann eine Lichtmischung stattfinden.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor component has a light exit surface. At the light exit surface, different colors of the light generated in the semiconductor device are emitted at different locations. The division into differently colored light-emitting regions is achieved in particular by the optical shielding. The light exit surface can be designed planar or curved. Outside the semiconductor component, a light mixture can then take place.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform liegt ein mittlerer Abstand zwischen benachbarten Halbleiterchips bei mindestens 3 % oder 5 % oder 7 % einer mittleren Kantenlänge der Halbleiterchips. Alternativ oder zusätzlich liegt dieser Abstand bei höchstens 30 % oder 20 % oder 15 % oder 10 % der mittleren Kantenlänge. Insbesondere liegt der mittlere Abstand bei mindestens 10 µm oder 20 µm oder 40 µm und/oder bei höchstens 150 µm oder 100 µm oder 65 µm. Die mittlere Kantenlänge der Halbleiterchips kann bei mindestens 200 µm oder 400 µm oder 600 µm und/oder bei höchstens 1200 µm oder 800 µm oder 600 µm oder 300 µm liegen. According to at least one embodiment, an average distance between adjacent semiconductor chips is at least 3% or 5% or 7% of a mean edge length of the semiconductor chips. Alternatively or additionally, this distance is at most 30% or 20% or 15% or 10% of the mean edge length. In particular, the average spacing is at least 10 μm or 20 μm or 40 μm and / or at most 150 μm or 100 μm or 65 μm. The average edge length of the semiconductor chips may be at least 200 μm or 400 μm or 600 μm and / or at most 1200 μm or 800 μm or 600 μm or 300 μm.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind mehrere der Halbleiterchips zu einer Gruppe, insbesondere zu einem Pixel, zusammengefasst. Das Pixel weist dabei bevorzugt vergleichsweise große Abmessungen auf. Beispielsweise liegt eine mittlere Kantenlänge des Pixels bei mindestens 400 µm oder 600 µm oder 800 µm, in Draufsicht gesehen. Durch die Verwendung derartiger relativ großer Pixel und vergleichsweise großer Halbleiterchips ist eine hohe Flächenleuchtdichte erzielbar. In accordance with at least one embodiment, a plurality of the semiconductor chips are combined to form a group, in particular to a pixel. The pixel preferably has comparatively large dimensions. For example, an average edge length of the pixel is at least 400 .mu.m or 600 .mu.m or 800 .mu.m, seen in plan view. By using such relatively large pixels and comparatively large semiconductor chips, a high surface luminance is achievable.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform verfügen alle Mikrocontroller über eine gemeinsame Versorgungsspannung und/oder über einen gemeinsamen Massenanschluss. Alternativ oder zusätzlich ist es möglich, dass alle Mikrocontroller an einer gemeinsamen Datenleitung angebracht sind. Dabei kann die gemeinsame Datenleitung durch die Mikrocontroller hindurch geschleift sein. Die jeweiligen Mikrocontroller weisen dann einen Dateneingang und einen Datenausgang auf, wobei ein Datenausgang eines vorangehenden Mikrocontrollers bevorzugt mit einem Dateneingang eines nachfolgenden Mikrocontrollers verbunden ist.In accordance with at least one embodiment, all the microcontrollers have a common supply voltage and / or a common ground connection. Alternatively or additionally, it is possible that all microcontrollers are mounted on a common data line. In this case, the common data line can be looped through the microcontroller. The respective microcontroller then have a data input and a data output, wherein a data output of a preceding microcontroller preferably with a data input of a subsequent microcontroller is connected.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform sind die Halbleiterchips in einer zweidimensionalen Matrix angeordnet. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chips are arranged in a two-dimensional matrix.

Das heißt, die Halbleiterchips können zweidimensional regelmäßig angeordnet sein, in Draufsicht insbesondere auf die Strahlungshauptseiten gesehen. That is, the semiconductor chips may be arranged regularly two-dimensionally, seen in plan view in particular on the main radiation sides.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weisen die Halbleiterchips eine von dem zugehörigen Träger abweichende Grundfläche und/oder Grundriss auf, in Draufsicht insbesondere auf die Strahlungshauptseite gesehen. Die Halbleiterchips können also den zugehörigen Träger stellenweise oder ringsum überragen. Die Halbleiterchips können dabei größer oder auch kleiner als die zugehörigen Träger sein. Alternativ ist es möglich, dass die Halbleiterchips deckungsgleich zu den jeweils zugehörigen Trägern gestaltet sind. Ferner ist es möglich, dass einer oder mehrere der Halbleiterchips den zugehörigen Träger überragen, in Draufsicht gesehen.In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chips have a base area deviating from the associated carrier and / or floor plan, viewed in plan view, in particular, on the main radiation side. The semiconductor chips can therefore project beyond the associated carrier in places or all around. The semiconductor chips may be larger or smaller than the associated carrier. Alternatively, it is possible for the semiconductor chips to be congruent with the respectively associated carriers. Furthermore, it is possible for one or more of the semiconductor chips to project beyond the associated carrier, as seen in plan view.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform schließt die Abschirmung, in Richtung weg von dem Träger, bündig mit dem Optikkörper ab. Ferner kann die Abschirmung bündig mit der Lichtaustrittsfläche des Halbleiterbauteils abschließen und einen Teil der Lichtaustrittsfläche darstellen. In accordance with at least one embodiment, the shield terminates flush with the optic body in the direction away from the carrier. Furthermore, the shield can be flush with the light exit surface of the semiconductor device and form part of the light exit surface.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform überlappen die Abschirmungen nicht mit dem Halbleiterchip, in Draufsicht auf die Strahlungshauptseite gesehen. Das heißt, die Halbleiterchips sind von der strahlungsdurchlässigen Abschirmung bevorzugt nicht überdeckt.According to at least one embodiment, the shields do not overlap with the semiconductor chip, seen in plan view of the main radiation side. That is, the semiconductor chips are preferably not covered by the radiation-transmissive shielding.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die Abschirmung von den zugehörigen Trägern und/oder von den zugehörigen Halbleiterchips beabstandet. Das heißt, die Abschirmung berührt dann die Träger und/oder die Halbleiterchips nicht. In accordance with at least one embodiment, the shield is spaced from the associated carriers and / or from the associated semiconductor chips. That is, the shield then does not touch the carriers and / or the semiconductor chips.

Darüber hinaus wird ein Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen angegeben. Insbesondere wird mittels des Verfahrens ein Halbleiterbauteil hergestellt, wie in Verbindung mit einer oder mehrerer der oben genannten Ausführungsformen angegeben. Merkmale des Verfahrens sind daher auch für das Halbleiterbauteil offenbart und umgekehrt.In addition, a method for the production of optoelectronic semiconductor devices is specified. In particular, by means of the method, a semiconductor component is produced, as indicated in connection with one or more of the abovementioned embodiments. Features of the method are therefore also disclosed for the semiconductor device and vice versa.

In mindestens einer Ausführungsform weist das Verfahren wenigstens die folgenden Schritte auf, bevorzugt in der angegebenen Reihenfolge:

  • – Bereitstellen einer Vielzahl von Trägern und einer Vielzahl von Halbleiterchips,
  • – Anbringen der Halbleiterchips an den Trägeroberseiten,
  • – elektrisches Verschalten der Halbleiterchips mit den Mikrocontrollern der Träger, und
  • – Fertigstellen der Halbleiterbauteile.
In at least one embodiment, the method comprises at least the following steps, preferably in the order given:
  • Providing a plurality of carriers and a plurality of semiconductor chips,
  • Attaching the semiconductor chips to the carrier tops,
  • - electrically interconnecting the semiconductor chips with the microcontrollers of the carriers, and
  • - Completing the semiconductor devices.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens umfasst der Schritt des Bereitstellens der Träger das eindimensionale oder zweidimensionale oder dreidimensionale Anordnen der Träger. Anschließend werden die Träger mit einer Trägerformmasse umformt, etwa mittels Spritzpressen oder Spritzgießen. Bei diesem Umformen bleiben Oberseiten und Unterseiten der Träger bevorzugt frei von der Trägerformmasse. Durch dieses Umformen werden die Träger bevorzugt mechanisch fest in den Trägerverbund integriert und der Trägerverbund wird gebildet.In accordance with at least one embodiment of the method, the step of providing the carriers comprises the one-dimensional or two-dimensional or three-dimensional arrangement of the carriers. Subsequently, the carriers are formed with a carrier molding compound, such as by means of injection molding or injection molding. In this forming, top sides and undersides of the carriers preferably remain free of the carrier molding compound. As a result of this shaping, the carriers are preferably mechanically firmly integrated into the carrier composite and the carrier composite is formed.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst der Schritt des Bereitstellens der Träger das Ausbilden von Leiterbahnen auf einer oder auf beiden Seiten des Trägerverbunds. Die Leiterbahnen werden beispielsweise mittels Galvanisieren oder Aufdampfen erzeugt. In accordance with at least one embodiment, the step of providing the carriers comprises the formation of conductor tracks on one or both sides of the carrier assembly. The conductor tracks are produced for example by means of electroplating or vapor deposition.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Schritt des Bereitstellens der Halbleiterchips den Schritt des Umformens der eindimensional, zweidimensional oder dreidimensional angeordneten Halbleiterchips mit einer Umformmasse auf. Bei der Umformmasse handelt es sich bevorzugt um einen Kunststoff wie ein Silikon oder ein Epoxid. Durch das Umformen werden die Halbleiterchips mechanisch, insbesondere mechanisch fest, in einem Rahmenverbund integriert und der Rahmenverbund wird gebildet. Elektrische Kontaktflächen der Halbleiterchips und die Strahlungshauptseite bleiben dabei bevorzugt frei von der Umformmasse. Mechanisch fest bedeutet hierbei insbesondere, dass sich die Halbleiterchips im bestimmungsgemäßen Gebrauch des Halbleiterbauteils nicht aus dem Rahmenverbund lösen. Es ist möglich, dass sich zwischen der Umformmasse und/oder der Trägerformmasse und den Halbleiterchips jeweils eine optische Isolierung befindet, sodass verhindert wird, dass in den Halbleiterchips erzeugte Strahlung unmittelbar an die Umformmasse und/oder an die Trägerformmasse gelangt.In accordance with at least one embodiment, the step of providing the semiconductor chips comprises the step of reshaping the one-dimensionally, two-dimensionally or three-dimensionally arranged semiconductor chips with a forming compound. The molding compound is preferably a plastic such as a silicone or an epoxy. By forming the semiconductor chips are mechanically, in particular mechanically fixed, integrated in a frame assembly and the frame assembly is formed. Electrical contact surfaces of the semiconductor chips and the main radiation side preferably remain free of the forming material. In this case, mechanically fixed means in particular that the semiconductor chips do not come loose from the frame assembly in the intended use of the semiconductor component. It is possible that in each case an optical insulation is located between the forming material and / or the carrier molding compound and the semiconductor chips, so that prevents radiation generated in the semiconductor chips passes directly to the forming material and / or to the carrier molding composition.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform wird der Rahmenverbund auf den Trägerverbund angebracht. Dabei erfolgt bevorzugt eine eineindeutige Zuordnung der Halbleiterchips zu den Trägern. Der Rahmenverbund kann mit dem Trägerverbund deckungsgleich sein oder es können auch mehrere nebeneinander oder übereinander angeordnete Rahmenverbünde auf einen einzigen Trägerverbund aufgebracht werden oder umgekehrt. According to at least one embodiment, the frame assembly is mounted on the carrier assembly. In this case, an unambiguous assignment of the semiconductor chips to the carriers preferably takes place. The frame composite can be congruent with the carrier composite or it can also be several side by side or superimposed frame composites are applied to a single carrier composite or vice versa.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform wird der Trägerverbund, der mit dem Rahmenverbund zusammengefügt ist, zu den Halbleiterbauteilen vereinzelt oder konfektioniert. Nach dem Vereinzeln weist dabei jedes der Halbleiterbauteile je einen oder mehrere der Halbleiterchips und/oder der Träger auf. In accordance with at least one embodiment, the carrier composite, which is joined together with the frame composite, is singulated or assembled into the semiconductor components. After singulation, each of the semiconductor components has one or more of the semiconductor chips and / or the carrier.

Alternativ zum Ausbilden eines Rahmenverbunds können die Halbleiterchips auch einzeln auf den Trägerverbund aufgebracht werden. In diesem Fall werden die Halbleiterchips bevorzugt nach dem Aufbringen auf den Trägerverbund etwa mit dem Vergussmaterial, dem Streumittel und/oder dem Konversionsmittel teilweise oder vollständig umformt, beispielsweise durch Gießen oder Spritzen oder Pressen. Vor, in oder nach diesem Verfahrensschritt kann auch das Erzeugen der optischen Abschirmung erfolgen.As an alternative to forming a frame composite, the semiconductor chips can also be applied individually to the carrier composite. In this case, the semiconductor chips are preferably partially or completely formed, for example by casting or spraying or pressing, after application to the carrier composite, for example with the potting material, the scattering agent and / or the conversion agent. Before, in or after this process step, the generation of the optical shield can also take place.

Nachfolgend werden ein hier beschriebenes optoelektronisches Halbleiterbauteil sowie ein hier beschriebenes Verfahren unter Bezugnahme auf die Zeichnung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. Gleiche Bezugszeichen geben dabei gleiche Elemente in den einzelnen Figuren an. Es sind dabei jedoch keine maßstäblichen Bezüge dargestellt, vielmehr können einzelne Elemente zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.Hereinafter, an optoelectronic semiconductor device described herein and a method described herein with reference to the drawings using exemplary embodiments will be explained in more detail. The same reference numerals indicate the same elements in the individual figures. However, there are no scale relationships shown, but individual elements can be shown exaggerated for better understanding.

Es zeigen: 1, 3, 6, 7, 8, 11, 12 und 13 bis 18 schematische Darstellungen von Ausführungsbeispielen von hier beschriebenen optoelektronischen Halbleiterbauteilen, undShow it: 1 . 3 . 6 . 7 . 8th . 11 . 12 and 13 to 18 schematic representations of embodiments of optoelectronic semiconductor devices described herein, and

2, 4, 5, 9 und 10 schematische Darstellungen von Ausführungsbeispielen von Verfahren zur Herstellung von hier beschriebenen optoelektronischen Halbleiterbauteilen. 2 . 4 . 5 . 9 and 10 schematic representations of embodiments of methods for producing optoelectronic semiconductor devices described herein.

In 1A ist in einer Schnittdarstellung entlang der Linie A-A der Draufsicht in 1B ein Ausführungsbeispiel eines optoelektronischen Halbleiterbauteils 1 dargestellt.In 1A is in a sectional view taken along the line AA of the plan view in FIG 1B an embodiment of an optoelectronic semiconductor device 1 shown.

Das Halbleiterbauteil 1 weist einen Trägerverbund 20 auf. Der Trägerverbund 20 ist durch mehrere Träger 2 gebildet, die durch eine Trägerformmasse 28 mechanisch miteinander verbunden sind. An einer Unterseite des Trägerverbunds 20, an der sich auch Unterseiten 24 der Träger 2 befinden, ist eine Metallisierung 9 angebracht. Über die Metallisierung 9 ist das Halbleiterbauteil 1 an einem externen, nicht dargestellten Träger befestigbar, beispielsweise mittels Löten. The semiconductor device 1 has a carrier composite 20 on. The carrier network 20 is by several carriers 2 formed by a carrier molding compound 28 mechanically interconnected. At a bottom of the carrier composite 20 , which also contains subpages 24 the carrier 2 is a metallization 9 appropriate. About the metallization 9 is the semiconductor device 1 attachable to an external carrier, not shown, for example by means of soldering.

An Trägeroberseiten 23 der Träger 2 befindet sich jeweils ein optoelektronischer Halbleiterchip 3. Die Halbleiterchips 3 sind insbesondere je Leuchtdioden, kurz LEDs. Die Halbleiterchips 3 sind an den Trägeroberseiten 23 befestigt. Strahlungshauptseiten 30 der Halbleiterchips 3 sind den Trägern 2 jeweils abgewandt. Zu einer elektrischen Kontaktierung reicht ein Bonddraht 75 von der Trägeroberseite 23 bis an die Strahlungshauptseite 30. On vehicle tops 23 the carrier 2 there is in each case an optoelectronic semiconductor chip 3 , The semiconductor chips 3 are in particular each light-emitting diodes, short LEDs. The semiconductor chips 3 are at the vehicle tops 23 attached. Radiation main sides 30 the semiconductor chips 3 are the carriers 2 respectively turned away. For an electrical contacting extends a bonding wire 75 from the carrier top 23 to the main radiation side 30 ,

Zu einer elektrischen externen Kontaktierung sind an einer Oberseite des Trägerverbunds 20 mehrere elektrische Kontaktstellen 4 angebracht. Die Kontaktstellen 4 sind über elektrische Leitungen 7 mit den Trägern 2 sowie mit den Halbleiterchips 3 elektrisch leitend verbunden. Bei den elektrischen Leitungen 7 handelt es sich beispielsweise um Metallbahnen.To an electrical external contacting are on an upper side of the carrier composite 20 several electrical contact points 4 appropriate. The contact points 4 are via electrical lines 7 with the carriers 2 as well as with the semiconductor chips 3 electrically connected. At the electrical wires 7 For example, these are metal tracks.

Die Träger 2 beinhalten jeweils einen Mikrocontroller 26. Der Mikrocontroller 26 ist in oder an einem Trägersubstrat 27 der Träger 2 gebildet. Beispielsweise basiert der Träger 2 auf Silizium und der Mikrocontroller 26 ist durch eine oder mehrere rekristallisierte Siliziumschichten gebildet oder umfasst zumindest eine solche Schicht. Über den Mikrocontroller 26 sind die einzelnen Halbleiterchips 3 adressierbar und gezielt ansteuerbar, insbesondere einzeln ansteuerbar. The carriers 2 each contain a microcontroller 26 , The microcontroller 26 is in or on a carrier substrate 27 the carrier 2 educated. For example, the carrier is based 2 on silicon and the microcontroller 26 is formed by one or more recrystallized silicon layers or comprises at least one such layer. About the microcontroller 26 are the individual semiconductor chips 3 addressable and selectively controllable, in particular individually controllable.

Der Mikrocontroller 26 ist bevorzugt monolithisch in dem Träger 2 integriert. Insbesondere kann der Mikrocontroller 26 ein Register wie ein Schieberegister, Transistoren und/oder Schalter umfassen. Bevorzugt ist der Mikrocontroller 26 in Siliziumtechnologie hergestellt. Anstelle von Silizium kann der Träger 2 jedoch auch auf einem anderen Halbleitermaterial wie Germanium basieren.The microcontroller 26 is preferably monolithic in the carrier 2 integrated. In particular, the microcontroller 26 a register such as a shift register, transistors and / or switches. The microcontroller is preferred 26 manufactured in silicon technology. Instead of silicon, the carrier can 2 but also based on another semiconductor material such as germanium.

Ferner weist das Halbleiterbauteil 1 optische Abschirmungen 6 auf. Die Abschirmungen 6 befinden sich jeweils zwischen benachbarten Halbleiterchips 3 und erstrecken sich von der Oberseite des Trägerverbunds ausgehend bis an eine Lichtaustrittsfläche 10 des Halbleiterbauteils 1. Durch die Abschirmungen 6 ist bevorzugt verhindert, dass in einem der Halbleiterchips 3 erzeugtes Licht innerhalb des Halbleiterbauteils 1 zu benachbarten Halbleiterchips 3 gelangt. Die Abschirmungen 6 sind damit strahlungsundurchlässig für im Betrieb des Halbleiterbauteils erzeugtes Licht. Furthermore, the semiconductor device has 1 optical shields 6 on. The shields 6 are each located between adjacent semiconductor chips 3 and extending from the top of the carrier composite starting up to a light exit surface 10 of the semiconductor device 1 , Through the shields 6 is preferably prevented in one of the semiconductor chips 3 generated light within the semiconductor device 1 to adjacent semiconductor chips 3 arrives. The shields 6 are thus radiopaque for light generated during operation of the semiconductor device.

An den Trägeroberseiten 23 befindet sich jeweils ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial 51. Von den Trägern 2 her reicht das Vergussmaterial 51 bis an die Strahlungshauptseiten 30 heran. Das Vergussmaterial 51 ist durch die Abschirmungen 6 in mehrere voneinander getrennte Bereiche unterteilt.At the carrier tops 23 each is a radiation-permeable potting material 51 , From the carriers 2 The casting material is sufficient 51 to the main radiation sides 30 approach. The potting material 51 is through the shields 6 divided into several separate areas.

Dem Vergussmaterial 51 folgt in Richtung weg von den Trägern 2 ein Konversionsmittel 53 nach. Beispielsweise ist das Konversionsmittel 53 dazu eingerichtet, einen Teil eines blauen Lichts, das in den Halbleiterchips 3 im Betrieb erzeugt wird, zu absorbieren und etwa in gelbes Licht umzuwandeln. Auf diese Weise kann mit dem Konversionsmittel und mit den Halbleiterchips 3 beispielsweise weißes Licht oder farbiges Licht erzeugt werden.The potting material 51 follows towards the porters 2 a conversion agent 53 to. For example, the conversion agent 53 set up a part of a blue light that is in the semiconductor chips 3 is generated during operation, too absorbing and converting it into yellow light. In this way, with the conversion means and with the semiconductor chips 3 For example, white light or colored light can be generated.

Die Abschirmungen 6 reichen jeweils durch das Vergussmaterial 51 hindurch und grenzen das Vergussmaterial 51 sowie die Konversionsmittel 53 zu einzelnen, optisch separierten Einheiten ab. Das Vergussmaterial 51 zusammen mit dem Konversionsmittel 53 füllt dabei die Abschirmungen 6 bevorzugt vollständig aus. Die Lichtaustrittsfläche 10 des Halbleiterbauteils 1 ist dabei durch die Abschirmungen 6 zusammen mit den Konversionsmitteln 53 gebildet. Die Lichtaustrittsfläche 10 ist planar und eben gestaltet. Optional kann auf die Lichtaustrittsfläche 10 eine Schutzschicht oder eine weitere Optik wie eine nicht dargestellte Linse aufgebracht sein.The shields 6 each pass through the potting material 51 through and border the potting material 51 as well as the conversion agent 53 to individual, optically separated units. The potting material 51 together with the conversion agent 53 fills the shields 6 preferably completely off. The light exit surface 10 of the semiconductor device 1 is through the shields 6 together with the conversion means 53 educated. The light exit surface 10 is planar and flat. Optionally, on the light exit surface 10 a protective layer or other optics such as a lens, not shown, be applied.

In 2 ist in Schnittdarstellungen und in Draufsichten ein Herstellungsverfahren für ein weiteres Ausführungsbeispiel des optoelektronischen Halbleiterbauteils angegeben. Die Figurenteile A1, B1, C1 und so weiter bezeichnen dabei jeweils Schnittdarstellungen und die Figurenteile A2, B2, C2 und so weiter beziehen sich jeweils auf Draufsichten.In 2 is given in sectional views and in plan views a manufacturing method for a further embodiment of the optoelectronic semiconductor device. The figure parts A1, B1, C1 and so on each denote sectional views, and the figure parts A2, B2, C2 and so on each relate to plan views.

In 2A ist dargestellt, dass mehrere der Träger 2 mit den Mikrocontrollern 26 und den Trägersubstraten 27 auf einen temporären Hilfsträger 8 aufgebracht werden. Die Träger 2 verfügen bereits über elektrische Kontaktstellen 4 zu einer elektrischen Kontaktierung der Träger 2. Abweichend von der Darstellung ist es auch möglich, dass sich der Mikrocontroller 26 näher an der Trägerunterseite 24 befindet als an der Trägeroberseite 23. Es können alle Träger 2 baugleich oder auch voneinander verschieden sein.In 2A is shown that several of the carriers 2 with the microcontrollers 26 and the carrier substrates 27 on a temporary subcarrier 8th be applied. The carriers 2 already have electrical contact points 4 to an electrical contacting of the carrier 2 , Deviating from the illustration, it is also possible that the microcontroller 26 closer to the underside of the carrier 24 is located as on the carrier top 23 , It can all carriers 2 be identical or different.

Die Träger 2 weisen, in Draufsicht gesehen, jeweils eine große Kontaktfläche 4 auf, die zur Anbringung des Halbleiterchips 3 eingerichtet ist, vergleiche auch 2D. Ferner sind jeweils vier kleinere elektrische Kontaktstellen 4 pro Träger 2 vorgesehen. The carriers 2 show, seen in plan view, each have a large contact area 4 on, for mounting the semiconductor chip 3 is set up, compare also 2D , Furthermore, four smaller electrical contact points 4 per carrier 2 intended.

In 2B ist dargestellt, dass die Träger 2 an dem Hilfsträger 8 mit einer Trägerformmasse 28 umgeben werden. Hierdurch werden die einzelnen Träger 2 zu dem Trägerverbund 20 zusammengefasst. Im bestimmungsgemäßen Gebrauch des Halbleiterbauteils 1 ist der Trägerverbund 20 mechanisch stabil, sodass die Träger 2 relativ zueinander unbeweglich gelagert sind. Bevorzugt ist der Trägerverbund 20 eben gestaltet. Abweichend von der Darstellung gemäß 2 kann der Trägerverbund 20 aber auch eine gewölbte Oberseite aufweisen. In 2 B is shown that the carrier 2 at the subcarrier 8th with a carrier molding compound 28 be surrounded. As a result, the individual carriers 2 to the carrier network 20 summarized. In the intended use of the semiconductor device 1 is the carrier composite 20 mechanically stable, so that the carrier 2 are immovably mounted relative to each other. The carrier composite is preferred 20 just designed. Deviating from the illustration according to 2 can the carrier composite 20 but also have a curved top.

In 2C ist dargestellt, dass an den Unterseiten 24 sowie an den Oberseiten 23 die elektrischen Leitungen 7, weitere elektrische Kontaktstellen 4 sowie die Metallisierung 9 aufgebracht werden, beispielsweise mittels Galvanisierung und/oder mittels Aufdampfen. Über die elektrischen Leitungen 7 sind die Kontaktstellen 4 an den jeweiligen Trägern 2 und auch zwischen den Trägern 2 elektrisch miteinander verschaltet. Die durchgehende Metallisierung 9 an den Unterseiten 24 dient bevorzugt lediglich zu einer Befestigung des Trägerverbunds 20 und zu einer thermischen Kontaktierung des Trägerverbunds 20. Gemäß 2C ist der Hilfsträger 8 entfernt.In 2C is shown on the bottoms 24 as well as on the topsides 23 the electrical wires 7 , further electrical contact points 4 as well as the metallization 9 be applied, for example by means of electroplating and / or by vapor deposition. About the electrical wires 7 are the contact points 4 at the respective carriers 2 and also between the carriers 2 electrically interconnected. The continuous metallization 9 at the bottoms 24 preferably serves only for attachment of the carrier composite 20 and to a thermal contacting of the carrier composite 20 , According to 2C is the subcarrier 8th away.

In dem Verfahrensschritt, wie in 2D gezeigt, werden an den größeren Kontaktflächen der Träger 2 jeweils die Halbleiterchips 3 angebracht, beispielsweise mittels Kleben oder mittels Löten. Die Halbleiterchips 3 überragen dabei bevorzugt die elektrischen Leitungen 7 in Richtung weg von dem Trägerverbund 20. Zu einer elektrischen Kontaktierung weisen die Halbleiterchips 3 jeweils eine elektrische Kontaktstelle 4 an der Strahlungshauptseite 30 auf. Abweichend hiervon ist es auch möglich, dass es sich bei den Halbleiterchips 3 um Flipchips handelt, deren Kontaktstellen dann entweder dem Trägerverbund 20 zugewandt oder dem Trägerverbund 20 abgewandt sind, wie dies auch in allen anderen Ausführungsbeispielen möglich ist. In the process step, as in 2D shown, at the larger contact surfaces of the carrier 2 in each case the semiconductor chips 3 attached, for example by gluing or by soldering. The semiconductor chips 3 In this case, preferably project beyond the electrical lines 7 towards the carrier network 20 , For an electrical contact, the semiconductor chips 3 one electrical contact point each 4 at the main radiation side 30 on. Notwithstanding this, it is also possible that it is the semiconductor chips 3 is flipchips whose contact points then either the carrier composite 20 facing or the carrier composite 20 are turned away, as is possible in all other embodiments.

Zu einer externen elektrischen Kontaktierung weist das Halbleiterbauteil 1, wie in 2D gezeigt, die vier randständigen, kleineren Kontaktstellen 4 auf. Eine der Kontaktstellen ist als Massekontakt GND gestaltet und ist über die elektrischen Leitungen 7 mit allen der Träger 2 sowie Mikrocontroller 26 verbunden. Weiterhin ist eine Versorgungsspannung VCC an alle Träger 2 geführt. Über die Versorgungsspannung VCC werden bevorzugt die Kontaktstellen 4 der Halbleiterchips 3 an der Strahlungshauptseite 30 angeschlossen. To an external electrical contact, the semiconductor device 1 , as in 2D shown, the four marginal, smaller contact points 4 on. One of the contact points is designed as a ground contact GND and is on the electrical lines 7 with all the carriers 2 as well as microcontroller 26 connected. Furthermore, a supply voltage VCC to all carriers 2 guided. About the supply voltage VCC are preferably the contact points 4 the semiconductor chips 3 at the main radiation side 30 connected.

Ferner ist eine Kontaktstelle für einen Dateneingang Din sowie für einen Datenausgang Dout vorgesehen. Die jeweiligen Dateneingänge Din der Träger 2 sind zu den jeweiligen Mikrocontrollern geführt und durchschleifend über den jeweiligen Datenausgang Dout zu dem nachfolgenden Träger 2 geführt. Damit ist jeweils ein Dateneingang Dout von einem Träger 2 mit einem Datenausgang Din eines nachfolgenden Trägers 2 elektrisch verbunden. Furthermore, a contact point for a data input Din and for a data output Dout is provided. The respective data inputs Din the carrier 2 are routed to the respective microcontrollers and looped through the respective data output Dout to the subsequent carrier 2 guided. Thus, in each case one data input Dout from a carrier 2 with a data output Din of a subsequent carrier 2 electrically connected.

Anders als in den Figuren dargestellt, ist es jeweils auch möglich, eine abweichende Anzahl von Datenleitungen und elektrischen Kontaktstellen 4 zur externen Kontaktierung vorzusehen. Beispielsweise kann eine separate Leitung für einen Dateneingang, für einen Datenausgang sowie für ein Zeitsignal, englisch clock, vorgesehen sein. Abweichend von der Darstellung ist es auch möglich, dass das Datensignal etwa über eine Aufmodulierung zusammen mit der Versorgungsspannung transportiert wird, so dass dann nur zwei externe Anschlüsse zur Ansteuerung der Halbleiterchips 3 erforderlich sind. Unlike in the figures, it is also possible in each case, a different number of data lines and electrical contact points 4 to provide for external contact. For example, a separate line for a data input, for a data output and for a time signal, English clock, be provided. In a departure from the illustration, it is also possible for the data signal to be transported together with the supply voltage, for example via a modulating-on, so that then only two external connections for controlling the semiconductor chips 3 required are.

In einem weiteren Verfahrensschritt, wie in 2E dargestellt, wird ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial 51 um die Leuchtdiodenchips 3 herum angebracht. Das Vergussmaterial 51 bedeckt dabei die Leiterbahnen 7 an der Oberseite des Trägerverbunds 20. Es ist das Vergussmaterial 51 auf die Oberseite des Trägerverbunds 20 beschränkt. Die elektrischen Kontaktstellen 4 an den Strahlungshauptseiten 30 bleiben bevorzugt frei von dem Vergussmaterial 51. In a further process step, as in 2E is shown, a radiation-permeable potting material 51 around the LED chips 3 attached around. The potting material 51 covers the tracks 7 at the top of the carrier composite 20 , It is the potting material 51 on the top of the carrier composite 20 limited. The electrical contact points 4 at the radiation main sides 30 preferably remain free of the potting material 51 ,

In 2F ist gezeigt, dass durch das Vergussmaterial 51 hindurch Durchkontaktierungen 73 geformt werden. Diese Durchkontaktierungen 73 sind beispielsweise durch Löcher gebildet, die mit einem Metall vollständig oder teilweise aufgefüllt werden. An die Durchkontaktierungen 73 schließen sich die elektrischen Leitungen 7 an einer dem Trägerverbund 20 abgewandten Seite des Vergussmaterials 51 an. Über diese elektrischen Leitungen 7 sind die Strahlungshauptseiten 30 der Halbleiterchips 3 elektrisch kontaktiert. In 2F is shown by the potting material 51 through vias 73 be formed. These vias 73 are formed for example by holes that are filled with a metal completely or partially. To the vias 73 close the electrical wires 7 at one of the carrier composite 20 opposite side of the potting material 51 at. About these electrical wires 7 are the main radiation sides 30 the semiconductor chips 3 electrically contacted.

Gemäß 2G werden auf das Vergussmaterial 51 die Abschirmungen 6 aufgebracht. Die Abschirmungen 6 sind dabei in einem einzigen Materialstück integriert. Die Abschirmungen 6 überdecken die Halbleiterchips 3 nicht, in Draufsicht gesehen. Durch die Abschirmungen 6 sind Kavitäten in Richtung weg von dem Trägerverbund 20 oberhalb der Halbleiterchips 3 definiert. According to 2G be on the potting material 51 the shields 6 applied. The shields 6 are integrated in a single piece of material. The shields 6 cover the semiconductor chips 3 not, seen in plan view. Through the shields 6 are cavities in the direction away from the carrier composite 20 above the semiconductor chips 3 Are defined.

In 2H ist dargestellt, dass die durch die Abschirmungen 6 definierten Kavitäten mit dem Konversionsmittel 53 aufgefüllt werden. Bevorzugt befindet sich, wie auch in allen anderen Ausführungsbeispielen, zwischen dem Vergussmaterial 51 und den Konversionsmitteln 53 jeweils ein Streumittel 52. Über das Streumittel 52 ist eine laterale Aufweitung der von den Halbleiterchips 3 im Betrieb emittierten Strahlung möglich, so dass das Konversionsmittel 53 bevorzugt jeweils gleichmäßig von den Halbleiterchips 3 her beleuchtet wird. Das Streumittel 52 sowie das Konversionsmittel 53 sind insbesondere als gleichmäßig dicke Schicht aufgebracht und überragen die Abschirmungen 6 nicht, in Richtung weg von den Halbleiterchips 3. In 2H is shown that through the shields 6 defined cavities with the conversion agent 53 be filled. Preferably, as in all other embodiments, is located between the potting material 51 and the conversion means 53 one scattering agent each 52 , About the spreading agent 52 is a lateral expansion of the semiconductor chips 3 Radiation emitted during operation is possible, so that the conversion agent 53 preferably in each case uniformly from the semiconductor chips 3 is illuminated. The scattering agent 52 as well as the conversion agent 53 are applied in particular as a uniformly thick layer and extend beyond the shields 6 not, away from the semiconductor chips 3 ,

Anders als in 1, handelt es sich gemäß 2 bei dem Vergussmaterial 51 um eine einzige, zusammenhängende Schicht. Die Abschirmungen 6 sind auf das Vergussmaterial 51 aufgesetzt und durchdringen das Vergussmaterial 51 nicht, anders als gemäß 1. Durch die Abschirmungen 6 sind die einzelnen Streumittel 52 und Konversionsmittel 53 voneinander separiert. Unlike in 1 , it acts according to 2 at the potting material 51 around a single, coherent layer. The shields 6 are on the potting material 51 put on and penetrate the potting material 51 not, other than according to 1 , Through the shields 6 are the individual scattering agents 52 and conversion agents 53 separated from each other.

Bei dem Bauteil gemäß 2 erfolgt eine Kontaktierung der Halbleiterchips 3 bonddrahtfrei über die elektrischen Leitungen 7, die sich teilweise zwischen dem Vergussmaterial 51 und dem Streumittel 52 befinden. Die elektrischen Kontaktstellen 4 zur externen elektrischen Kontaktierung des Halbleiterbauteils 1 befinden sich an derselben Seite wie die Metallisierung 9 und somit an der den Halbleiterchips 3 gegenüber liegenden Unterseite des Trägerverbunds 20. Die Kontaktstellen 4 sind über die Durchkontaktierungen 73 durch den Trägerverbund 20 hindurch mit den elektrischen Leitungen 7 an der Oberseite des Trägerverbunds 20 verbunden. In the component according to 2 a contacting of the semiconductor chips takes place 3 Bond wire free over the electrical wires 7 that is partly between the potting material 51 and the scattering agent 52 are located. The electrical contact points 4 for external electrical contacting of the semiconductor device 1 are on the same side as the metallization 9 and thus at the semiconductor chips 3 opposite underside of the carrier composite 20 , The contact points 4 are over the vias 73 through the carrier network 20 through with the electrical wires 7 at the top of the carrier composite 20 connected.

Das Herstellungsverfahren, wie in 2 beschrieben, lässt sich auch auf optoelektronische Halbleiterbauteile 1, wie etwa in Verbindung mit den 1 oder 3 dargestellt, übertragen. The manufacturing process, as in 2 described, can also be applied to optoelectronic semiconductor devices 1 , as in connection with the 1 or 3 represented, transmitted.

In 3A ist in einer Schnittdarstellung und in 3B in einer Draufsicht ein weiteres Ausführungsbeispiel des Halbleiterbauteils 1 gezeigt. Abweichend von der Darstellung gemäß 2H befinden sich die Kontaktstellen 4 zur externen elektrischen Kontaktierung an derselben Seite des Trägerverbunds 20 wie die Halbleiterchips 3 und somit an der Oberseite. Deshalb sind weitere Durchkontaktierungen 73 hin zu diesen Kontaktstellen 4 durch das Vergussmaterial 51 geformt. Somit sind die Träger 2 sowie der Trägerverbund 20 frei von elektrischen Durchkontaktierungen, wie dies auch in Verbindung mit 1 dargestellt ist. In 3A is in a sectional view and in 3B in a plan view, another embodiment of the semiconductor device 1 shown. Deviating from the illustration according to 2H are the contact points 4 for external electrical contacting on the same side of the carrier composite 20 like the semiconductor chips 3 and thus at the top. That's why there are more vias 73 towards these contact points 4 through the potting material 51 shaped. Thus, the carriers 2 as well as the carrier network 20 free of electrical vias, as well as in connection with 1 is shown.

Laut 3A überragt das Streumittel 52, wie bevorzugt auch in allen anderen Ausführungsbeispielen, die Halbleiterchips 3 jeweils seitlich, also in Richtung parallel zu den Trägeroberseiten 23. Hierdurch ist eine Ausleuchtung des Konversionsmittels 53 auch in Bereichen möglich, die nicht unmittelbar über der Strahlungshauptseite 30 liegen, in Richtung weg von dem Trägerverbund 20. Ein lichtabstrahlender Bereich an der Lichtaustrittsfläche 10 ist somit bevorzugt durch den kompletten, von dem Konversionsmittel 53 bedeckten Bereich gegeben.Loud 3A towers over the scattering agent 52 , as preferred in all other embodiments, the semiconductor chips 3 each side, so in the direction parallel to the carrier tops 23 , As a result, an illumination of the conversion agent 53 also possible in areas that are not directly above the main radiation side 30 lie, in the direction away from the carrier network 20 , A light-emitting area at the light exit surface 10 is thus preferred by the complete, by the conversion agent 53 given area covered.

Lediglich in den schmalen Bereichen, in denen die Lichtaustrittsfläche 10 durch die Abschirmungen 6 gebildet ist, wird kein Licht an der Lichtaustrittsfläche 10 emittiert. Eine Breite sowie eine Fläche dieser sehr schmalen Bereiche, die durch die Abschirmungen 6 gebildet sind, ist allerdings vernachlässigbar. Zum Beispiel liegt diese Breite bei höchstens 60 µm oder 30 µm oder 15 µm oder 10 µm. Daher ist auf eine nachgeordnete Optik zu einem Kaschieren der nicht Lichtabstrahlenden Bereiche der Lichtaustrittsfläche 10 verzichtbar. Für einen Betrachter erscheint daher die Lichtaustrittsfläche 10 bevorzugt in eingeschaltetem Zustand als durchgehend leuchtend, mit oder ohne nachgeordneter Optik. Wird eine nachgeordnete Optik verwendet, so ist bevorzugt auf zusätzlichen Aufwand zu einem optischen Verwischen der Abschirmungen 6 verzichtbar, aufgrund der nur sehr schmalen, nichtleuchtenden Bereiche.Only in the narrow areas where the light exit surface 10 through the shields 6 is formed, no light is at the light exit surface 10 emitted. A width as well as an area of these very narrow areas, through the shields 6 are formed, however, is negligible. For example, this width is at most 60 μm or 30 μm or 15 μm or 10 μm. Therefore, to a downstream optics for laminating the non-light-emitting regions of the light exit surface 10 dispensable. For a viewer, therefore, the light exit surface appears 10 preferably in the on state as continuously lit, with or without downstream optics. If a downstream optics is used, it is preferred additional effort to optically blur the shields 6 dispensable, due to the very narrow, non-luminous areas.

In 4 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Herstellungsverfahrens gezeigt. Gemäß 4A wird der Trägerverbund 20 mit den Trägern 2, miteinander verbunden über die Trägerformmasse 28, bereitgestellt. An dem Trägerverbund 20 sind bereits die Metallisierung 9, die elektrischen Leitungen 7 sowie die elektrischen Kontaktstellen 4 zur externen Kontaktierung angebracht.In 4 a further embodiment of a manufacturing method is shown. According to 4A becomes the carrier composite 20 with the carriers 2 , connected together via the carrier molding compound 28 , provided. On the carrier composite 20 are already the metallization 9 , the electrical wires 7 as well as the electrical contact points 4 attached for external contacting.

Gemäß 4B wird ein Rahmenverbund 33 bereitgestellt. In dem Rahmenverbund 33 sind die einzelnen Halbleiterchips 3 zusammengefasst. Die Halbleiterchips 3 sind über eine Umformmasse 38 mechanisch miteinander verbunden. An den Strahlungshauptseiten 30 sind in dem Rahmenverbund 33 bereits die elektrischen Leitungen 7 geformt. Ferner weist der Rahmenverbund 33 die Durchkontaktierungen 73 auf. According to 4B becomes a frame composite 33 provided. In the frame network 33 are the individual semiconductor chips 3 summarized. The semiconductor chips 3 are about a forming material 38 mechanically interconnected. At the radiation main sides 30 are in the frame network 33 already the electrical wires 7 shaped. Furthermore, the frame composite 33 the vias 73 on.

In 4C ist gezeigt, dass der Rahmenverbund 33 auf den Trägerverbund 20 aufgebracht wird. Dabei erfolgt eine Eins-zu-Eins-Zuordnung der Halbleiterchips 3 zu den Trägern 2. In 4C is shown that the frame composite 33 on the carrier network 20 is applied. In this case, a one-to-one assignment of the semiconductor chips takes place 3 to the carriers 2 ,

Das Herstellungsverfahren, wie in den 5A und 5B gezeigt, entspricht dem Herstellungsverfahren gemäß 4. Jedoch weist der Rahmenverbund 33 zusätzliche Durchkontaktierungen 73 auf, so dass alle elektrischen Kontaktstellen 4 zu einer externen elektrischen Kontaktierung des Halbleiterbauteils 1 sich an einer dem Trägerverbund 20 abgewandten Oberseite des Rahmenverbunds 33 befinden. Die Kontaktstellen 4 liegen damit im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene mit den Strahlungshauptseiten 30 der Halbleiterchips 3. Gemäß 5B wird der Rahmenverbund 33 auf dem Trägerverbund 20 aufgebracht, wobei die elektrischen Leitungen, Durchkontaktierungen und Kontaktstellen miteinander in Kontakt gebracht werden. The manufacturing process, as in the 5A and 5B shown corresponds to the manufacturing method according to 4 , However, the frame composite 33 additional vias 73 on, leaving all electrical contact points 4 to an external electrical contacting of the semiconductor device 1 at a carrier network 20 facing away from the top of the frame composite 33 are located. The contact points 4 are thus essentially in a common plane with the main radiation sides 30 the semiconductor chips 3 , According to 5B becomes the frame composite 33 on the carrier composite 20 applied, wherein the electrical leads, vias and pads are brought into contact with each other.

In 6 sind schematische Draufsichten auf weitere Ausführungsbeispiele von hier beschriebenen Halbleiterbauteilen 1 gezeigt. In 6A ist eine größere, zweidimensionale Anordnung der Halbleiterchips 3 an dem Trägerverbund 20 dargestellt. Die Halbleiterchips 3 sind dabei gruppiert. Zwischen benachbarten Gruppen sind optional Separationsbereiche S angebracht. Bei den Separationsbereichen S handelt es sich beispielsweise um Sägestraßen, entlang derer der Trägerverbund 20 zu Halbleiterbauteilen 1 mit einer geringeren Anzahl an Halbleiterchips 3 vereinzelt werden kann.In 6 are schematic plan views of further embodiments of semiconductor devices described herein 1 shown. In 6A is a larger, two-dimensional arrangement of the semiconductor chips 3 on the carrier composite 20 shown. The semiconductor chips 3 are grouped. Separation areas S are optionally mounted between adjacent groups. The separation areas S are, for example, sawing streets, along which the carrier composite 20 to semiconductor devices 1 with a smaller number of semiconductor chips 3 can be isolated.

Gemäß 6B sind jeweils drei der Halbleiterchips 3 zu einer Gruppe zusammengefasst. Jede der Gruppen mit drei der Halbleiterchips 3 weist vier der Kontaktstellen 4 und nur eine geringe Anzahl von Leiterbahnen auf. Die Gruppen 3 können spiegelsymmetrisch zu einem optional vorhandenen Separationsbereich S zwischen den Gruppen angeordnet sein. According to 6B are each three of the semiconductor chips 3 grouped together. Each of the groups of three of the semiconductor chips 3 has four of the contact points 4 and only a small number of tracks on. The groups 3 may be arranged mirror-symmetrically to an optionally existing separation region S between the groups.

In 6C ist in der linken Bildhälfte eine Gruppierung der Halbleiterchips 3 und Verschaltung der Halbleiterchips 3 analog zu 6B gezeigt. In der rechten Bildhälfte ist dem gegenüber eine Verschaltung illustriert, wobei mehrere der Gruppen über entsprechend geführte elektrische Leitungen 7 hintereinander geschaltet sind. Für die beispielsweise fünf Dreiergruppen in der rechten Bildhälfte der 6C sind damit insgesamt beispielsweise nur vier der elektrischen Kontaktstellen 4 zur externen elektrischen Kontaktierung erforderlich. Dabei ist es nicht zwingend erforderlich, dass alle der Leitungen 7 in einer Ebene verlaufen. Zu einer Optimierung der Verschaltung können auch Leiterbrücken vorhanden sein, so dass ein dreidimensionales Netzwerk an Leitungen entsteht. Die Halbleiterchips 3 sind dabei mittels der Mikrocontroller einzeln elektrisch ansteuerbar.In 6C is a grouping of the semiconductor chips in the left half of the picture 3 and interconnection of the semiconductor chips 3 analogous to 6B shown. An interconnection is illustrated in the right-hand half of the figure, with several of the groups being connected via correspondingly guided electrical lines 7 are connected in series. For example, for the five threes in the right half of the 6C For a total of only four of the electrical contact points 4 required for external electrical contact. It is not absolutely necessary that all of the lines 7 run in a plane. For optimizing the interconnection, it is also possible for conductor bridges to be present, so that a three-dimensional network of lines is created. The semiconductor chips 3 are individually electrically controlled by means of the microcontroller.

In der Draufsicht gemäß 7A ist ein Halbleiterbauteil 1 auf einer externen Montageplatte E, beispielsweise einer Metallplatte mit oder ohne Leiterbahnen angebracht. Das Halbleiterbauteil 1 weist eine Matrix aus 25 × 6 regelmäßig angeordneten Halbleiterchips auf. Zum elektrischen Anschließen und Ansteuern des Halbleiterbauteils 1 sind bevorzugt nur drei Leiterbahnen, also für einen Masseanschluss, eine Versorgungsspannung und eine Datenleitung, erforderlich.In the plan view according to 7A is a semiconductor device 1 mounted on an external mounting plate E, for example a metal plate with or without tracks. The semiconductor device 1 has a matrix of 25 × 6 regularly arranged semiconductor chips. For electrical connection and activation of the semiconductor device 1 are preferably only three tracks, so for a ground terminal, a supply voltage and a data line required.

Gemäß 7B sind auf den externen Träger E 50 der Halbleiterbauteile 1 angebracht. Dabei sind jeweils 25 der Halbleiterbauteile 1 in einer Reihe angeordnet. Jedes der Halbleiterbauteile 1 weist beispielsweise drei Halbleiterchips 3 auf. Zum Anschließen und Ansteuern dieser Halbleiterbauteile 1 werden bevorzugt ebenso nur drei Leiterbahnen an der Montageplatte E benötigt.According to 7B are on the external carrier E 50 of the semiconductor devices 1 appropriate. In each case 25 of the semiconductor components 1 arranged in a row. Each of the semiconductor components 1 has, for example, three semiconductor chips 3 on. For connecting and controlling these semiconductor components 1 are preferably also required only three tracks on the mounting plate E.

Solche Halbleiterbauteile 1, wie in Verbindung mit 7B verwendet, können aufgebaut sein, wie in der Draufsicht gemäß 8 dargestellt. Dabei können die nur schematisch dargestellten elektrischen Leitungen und elektrischen Kontakte ausgeführt sein, wie etwa in Verbindung mit den 1 bis 3 gezeigt. Such semiconductor devices 1 , as in connection with 7B may be constructed as shown in plan view 8th shown. In this case, the only schematically illustrated electrical lines and electrical contacts can be performed, such as in connection with the 1 to 3 shown.

Das Halbleiterbauteil 1 in 8 weist eine Einheit R zur Emission von rotem Licht, eine Einheit G zur Emission von grünem Licht und eine weitere Einheit B zur Emission von blauem Licht auf. Die entsprechenden Wellenlängen können unmittelbar in den jeweiligen Halbleiterchips erzeugt werden oder auch erst in Kombination mit einem Konversionsmittel entstehen. The semiconductor device 1 in 8th has a red light emitting unit R, a green light emitting unit G and a blue light emitting unit B. The corresponding wavelengths can be generated directly in the respective semiconductor chips or also arise only in combination with a conversion agent.

In 9 ist ein Herstellungsverfahren für Halbleiterbauteile dargestellt, die je nur einen Träger 2 und einen Halbleiterchip 3 aufweisen. Gemäß 9A wird ein Halbleiterchip 3 bereitgestellt. Ferner wird ein Träger 2 mit den Kontaktstellen 4, Durchkontaktierungen 73 sowie elektrischen Leitungen 7 bereitgestellt. Gemäß 9B ist der Halbleiterchip 3 auf dem Träger 2 mit dem Mikrocontroller 26 aufgebracht. In 9 is a manufacturing method for semiconductor devices shown, each only a carrier 2 and a semiconductor chip 3 exhibit. According to 9A becomes a semiconductor chip 3 provided. Further, a carrier 2 with the contact points 4 , Vias 73 as well as electrical lines 7 provided. According to 9B is the semiconductor chip 3 on the carrier 2 with the microcontroller 26 applied.

In 9C ist zu sehen, dass die Strahlungshauptseite 30 des Halbleiterchips 3 mittels eines Bonddrahts 75 mit dem Träger 2 kontaktiert wird. Alle externen elektrischen Kontaktstellen 4 befinden sich gemäß 9C an der Trägerunterseite 24, siehe die Unteransicht gemäß 9C3.In 9C you can see that the main radiation side 30 of the semiconductor chip 3 by means of a bonding wire 75 with the carrier 2 will be contacted. All external electrical contact points 4 are according to 9C at the carrier base 24 , see the bottom view according to 9C3 ,

Ferner wird, siehe 9D, der Halbleiterchip 3 in lateraler Richtung ringsum von dem strahlungsundurchlässigen und reflektierenden Vergussmaterial 51 umgeben. Beispielsweise weist das Vergussmaterial 51, wie dies auch in allen anderen Ausführungsbeispielen möglich ist, ein Silikon als Matrixmaterial auf, in das reflektierende Partikel etwa aus Titandioxid oder alternativ absorbierende Partikel etwa aus Ruß eingebracht sind. Auf das Vergussmaterial 51 wird schließlich das Konversionsmittel 53 aufgebracht, so dass der Optikkörper 5 vollständig gebildet wird und das Halbleiterbauteil 1 fertig gestellt wird.Further, see 9D , the semiconductor chip 3 in a lateral direction around the radiopaque and reflective potting material 51 surround. For example, the potting material 51 , as is also possible in all other embodiments, a silicone as a matrix material in which reflective particles such as titanium dioxide or alternatively absorbent particles are introduced about from soot. On the potting material 51 eventually becomes the conversion agent 53 applied so that the optic body 5 is completely formed and the semiconductor device 1 is finished.

Die Verfahrensschritte des Herstellungsverfahrens, wie in den 10A und 10B gezeigt, entsprechen den Verfahrensschritten gemäß der 9A und 9B. Abweichend von 9 wird jedoch, siehe 10C, nach dem Anbringen des Halbleiterchips 3 das Vergussmaterial 51 angebracht. The process steps of the manufacturing process, as in the 10A and 10B shown correspond to the method steps according to the 9A and 9B , Deviating from 9 will, however, see 10C after mounting the semiconductor chip 3 the potting material 51 appropriate.

Anschließend wird eine Öffnung 77 in dem Vergussmaterial 51 erzeugt, siehe 10D. Nachfolgend wird die Öffnung 77 aufgefüllt durch eine Metallisierung 9, so dass die Durchkontaktierung 73 von dem Träger 2 durch das Vergussmaterial 51 sowie die elektrische Leitung 7 hin zu der Strahlungshauptseite 30 erzeugt wird. Anschließend wird, analog zu 9D, das Konversionsmittel 53 aufgebracht, vergleiche 10F. Subsequently, an opening 77 in the potting material 51 generated, see 10D , Below is the opening 77 filled by a metallization 9 so that the via 73 from the carrier 2 through the potting material 51 as well as the electrical line 7 towards the main radiation side 30 is produced. Subsequently, analogously to 9D , the conversion agent 53 Applied, compare 10F ,

Insbesondere für Halbleiterbauteile, wie in Verbindung mit den 9 und 10 hergestellt, sind in 11 weitere mögliche Gestaltungen der Kontaktstellen 4 in Unteransichten dargestellt.In particular, for semiconductor devices, as in connection with the 9 and 10 made in, are 11 further possible designs of the contact points 4 shown in subviews.

Gemäß 11A befinden sich die Kontaktstellen für einen Dateneingang Din und für einen Datenausgang Dout zwischen den Kontaktstellen 4 für den Massekontakt GND und die Versorgungsspannung VCC. Letztere Kontaktstellen sind dabei größer gestaltet. Abweichend hiervon sind in 11B die Kontaktstellen 4 für den Dateneingang Din und für den Datenausgang Dout an einen Rand des Trägers 2 angebracht. According to 11A are the contact points for a data input Din and for a data output Dout between the contact points 4 for the ground contact GND and the supply voltage VCC. The latter contact points are made larger. Deviating from this are in 11B the contact points 4 for the data input Din and for the data output Dout to an edge of the carrier 2 appropriate.

Entsprechende Anordnungsschemata der Kontaktstellen 4, wie für einen einzelnen Träger 2 gezeigt, können analog für einen Trägerverbund 20 mit einer Vielzahl von Trägern 2 verwendet werden. Die Anordnungsschemata der 11 sind damit insbesondere auf die Ausführungsbeispiele, etwa wie in Verbindung mit den 1 bis 3 dargestellt, übertragbar. Corresponding arrangement schemes of the contact points 4 as for a single wearer 2 can be shown analogously for a carrier composite 20 with a variety of straps 2 be used. The arrangement schemes of 11 are thus in particular to the embodiments, as in connection with the 1 to 3 represented, transferable.

In 12 sind schematische Draufsichten auf Lichtaustrittsflächen 10 von weiteren Ausführungsbeispielen von Halbleiterbauteilen 1 illustriert. Gemäß 12 ist zur Vereinfachung der Darstellung jeweils nur eine Gruppe von Halbleiterchips dargestellt, die beispielsweise zu einem einzigen Pixel zusammengefasst sind. In 12 are schematic plan views of light exit surfaces 10 of further embodiments of semiconductor devices 1 illustrated. According to 12 In order to simplify the illustration, only one group of semiconductor chips is shown, which are combined into a single pixel, for example.

In 12A ist gezeigt, dass ein einziger lichtemittierender Bereich vorhanden ist, der beispielsweise durch ein Konversionsmittel 53 gebildet ist. Dieser Bereich emittiert beispielsweise weißes Licht und stellt somit ein weiß emittierendes Gebiet W dar.In 12A It is shown that a single light-emitting region is present, for example, by a conversion agent 53 is formed. This area emits, for example, white light and thus represents a white-emitting area W.

Gemäß 12B ist ein rot emittierender Bereich R, ein blau emittierender Bereich B sowie ein grün emittierender Bereich G vorhanden. Abweichend hiervon sind gemäß 12C zwei kleinere, rot emittierende Bereiche R vorhanden. Entsprechende Anordnungen, wie insbesondere in Verbindung mit den 12B und 12C gezeigt, können bei Halbleiterbauteilen 1, etwa wie in Verbindung mit 8 dargestellt, alternativ Verwendung finden. Entsprechende Gruppierungen und Draufsichten auf Pixel können auch bei den Halbleiterbauteilen 1 aus den 7A und 7B in analoger Weise umgesetzt werden.According to 12B is a red emitting area R, a blue emitting area B and a green emitting area G present. Deviating from this are according to 12C two smaller, red emitting areas R present. Corresponding arrangements, in particular in connection with the 12B and 12C can be shown in semiconductor devices 1 , as in connection with 8th shown, alternatively find use. Corresponding groupings and top views of pixels can also be used in semiconductor devices 1 from the 7A and 7B be implemented in an analogous manner.

Weitere Schaltungskonzepte für hier beschriebene Halbleiterbauteile sind der Druckschrift DE 10 2012 111 247 A1 zu entnehmen. Der Offenbarungsgehalt dieser Druckschrift wird durch Rückbezug mit aufgenommen.Further circuit concepts for semiconductor components described here are the document DE 10 2012 111 247 A1 refer to. The disclosure of this document is incorporated by reference.

Alternativ zur Aufbringung separater Halbleiterchips auf den Träger mit dem Mikrocontroller ist es auch anders als gezeigt möglich, die Halbeiterchips direkt auf den Trägern aufzuwachsen oder umgekehrt. Entsprechende Halbleiterchips und Träger sind in Verbindung mit den Druckschriften DE 10 2012 109 460 A1 sowie DE 10 2012 112 302 A1 angegeben. Der Offenbarungsgehalt dieser Druckschriften hinsichtlich eines Verbindens der Träger und der Halbleiterchips wird durch Rückbezug mit aufgenommen.As an alternative to applying separate semiconductor chips to the carrier with the microcontroller, it is also possible, unlike shown, to grow the semiconductor chips directly on the carriers or vice versa. Corresponding semiconductor chips and carriers are in connection with the publications DE 10 2012 109 460 A1 such as DE 10 2012 112 302 A1 specified. The disclosure of these documents with regard to connecting the carrier and the semiconductor chips is included by reference back.

Bei den hier beschriebenen Halbleiterbauteilen ist insbesondere ein geringer Platzbedarf durch die Ausformung der Durchkontaktierungen, elektrischen Kontaktstellen und elektrischen Leitungen gegeben. Hierdurch können benachbarte Gruppen oder Pixel enger angeordnet werden. Insbesondere durch den Träger mit dem Mikrocontroller ist es möglich, mit nur wenigen externen elektrischen Kontaktstellen das Halbleiterbauteil anzuschließen und anzusteuern und über nur wenige elektrische Leitungen eine große Anzahl von Halbleiterchips anzusteuern. In the case of the semiconductor components described here, in particular a small space requirement is given by the formation of the plated-through holes, electrical contact points and electrical leads. As a result, adjacent groups or pixels can be arranged closer. In particular, by the carrier with the microcontroller, it is possible to connect and control the semiconductor device with only a few external electrical contact points and to control a large number of semiconductor chips via only a few electrical lines.

Anordnungen mit nur wenigen elektrischen Leitungen 7, über die mehrere der Halbleiterchips 3 verschaltet sind, sind in den 13A und 13B gezeigt. Gemäß 3 sind die Halbleiterchips 3 jeweils entlang von Strängen mit je drei Leitungen angeordnet. Zur Vereinfachung der Darstellung sind entlang jeden Strangs nur drei der Halbleiterchips 3 illustriert.Arrangements with only a few electrical wires 7 over which several of the semiconductor chips 3 are interconnected in the 13A and 13B shown. According to 3 are the semiconductor chips 3 each arranged along strands with three lines. For ease of illustration, only three of the semiconductor chips are along each strand 3 illustrated.

Gemäß 13B ist eine Anzahl der elektrischen Leitungen 7 weiter reduziert, wobei die elektrischen Leitungen 7 nur vereinfacht gezeichnet sind. Brücken zwischen benachbarten Zeilen sind durch Pfeile symbolisiert.According to 13B is a number of electrical wires 7 further reduced, with the electrical wires 7 are drawn only simplified. Bridges between adjacent lines are symbolized by arrows.

Beim Ausführungsbeispiel, wie in der Draufsicht in 14A und in der Schnittdarstellung in 14B illustriert, sind mehrere der Halbleiterchips 3 auf einem einzigen Träger 2 angebracht. Über den in dem Träger 2 integrierten Mikrocontroller sind die Halbleiterchips 3 bevorzugt unabhängig voneinander elektrisch betreibbar. Im Übrigen entspricht das Ausführungsbeispiel gemäß 14 dem Ausführungsbeispiel in 1.In the embodiment, as in the plan view in 14A and in the sectional view in 14B Illustrated are several of the semiconductor chips 3 on a single carrier 2 appropriate. About in the carrier 2 integrated microcontroller are the semiconductor chips 3 preferably independently operable electrically. Incidentally, the embodiment corresponds to 14 the embodiment in 1 ,

Gemäß der Draufsicht des Ausführungsbeispiels des Halbleiterbauteils 1, wie in 16 dargestellt, sind die drei unabhängig voneinander elektrisch ansteuerbaren Halbleiterchips 3 in einer Dreieckformation auf dem Träger 2 angebracht. Die weiteren Komponenten des Halbleiterbauteils 1 wie die Abschirmung oder der Optikkörper sind zur Vereinfachung der Darstellung nicht gezeichnet.According to the plan view of the embodiment of the semiconductor device 1 , as in 16 are shown, the three independently controllable semiconductor chips 3 in a triangle formation on the carrier 2 appropriate. The other components of the semiconductor device 1 as the shield or the optical body are not drawn to simplify the illustration.

In 16 ist in einer Draufsicht ein weiteres Ausführungsbeispiel des Halbleiterbauteils 1 gezeigt. Auf dem Träger 2 ist ein blaues Licht emittierender Halbleiterchip 3B, ein grünes Licht emittierender Halbleiterchip 3G und ein rotes Licht emittierender Halbleiterchip 3G aufgebracht, die sich alle innerhalb der einzigen Abschirmung 6 befinden. Die Abschirmung 6 kann dabei direkt auf dem Träger 2 aufgebracht sein, wobei die Abschirmung 6 den Träger 2 nicht überragt, in Draufsicht gesehen, anders als dies zum Beispiel in 14 der Fall ist.In 16 is a plan view of another embodiment of the semiconductor device 1 shown. On the carrier 2 is a blue light emitting semiconductor chip 3B , a green light emitting semiconductor chip 3G and a red light emitting semiconductor chip 3G applied, all within the single shield 6 are located. The shield 6 Can do it directly on the carrier 2 be applied, with the shield 6 the carrier 2 not towered over, seen in plan view, unlike this example in 14 the case is.

Optional kann, wie auch in allen anderen Ausführungsbeispielen, ein Testkontakt 4t insbesondere zu einem Testen des Halbleiterbauteils 1, etwa vor einem Anbringen des Optikkörpers 5, vorhanden sein.Optionally, as in all other embodiments, a test contact 4t in particular for testing the semiconductor device 1 , such as before attaching the optic body 5 , to be available.

Gemäß 17 weist das Halbleiterbauteil 1 drei Halbleiterchips 3B, 3G, 3R auf, wie in Verbindung mit 16 beschrieben. Ferner ist an dem Träger 2 ein vierter Halbleiterchip 3B angebracht, der von dem Konversionsmittel 53 bedeckt ist und der zusammen mit dem Konversionsmittel 53 zur Erzeugung von mischfarbigem Licht, bevorzugt zur Erzeugung von weißem Licht, eingerichtet ist. Das Konversionsmittel 53 ist durch die Abschirmung 6b von den übrigen, nicht dem Konversionsmittel 53 zugeordneten Halbleiterchips 3B, 3G, 3R optisch getrennt. According to 17 has the semiconductor device 1 three semiconductor chips 3B . 3G . 3R on, as in connection with 16 described. Further, on the carrier 2 a fourth semiconductor chip 3B attached, that of the conversion agent 53 is covered and that together with the conversion agent 53 for producing mixed-colored light, preferably for generating white light. The conversion agent 53 is through the shield 6b from the rest, not the conversion agent 53 associated semiconductor chips 3B . 3G . 3R visually separated.

Die Abschirmung 6a umrandet den Träger 2 ringsum und liegt, in Draufsicht gesehen, neben dem Träger 2. Entsprechende Konfigurationen der Abschirmung relativ zum Träger 2, wie in Verbindung mit den 16 und 17 gezeigt, können auch in allen anderen Ausführungsbeispielen vorliegen.The shield 6a surrounds the carrier 2 around and lies, seen in plan view, next to the carrier 2 , Corresponding configurations of the shield relative to the carrier 2 , as in connection with the 16 and 17 can also be present in all other embodiments.

Bei den Ausführungsbeispielen gemäß der 14 bis 17 ist je nur ein Träger 2 in dem Trägerverbund 20 vorhanden. Ebenso können jeweils auch eine Vielzahl von Trägern 2 samt den zugehörigen Halbleiterchips 3 in dem Trägerverbund 20 integriert sein, analog etwa zu dem Ausführungsbeispielen gemäß der 1 bis 8.In the embodiments according to the 14 to 17 is ever just a carrier 2 in the carrier composite 20 available. Likewise, each can also have a variety of carriers 2 including the associated semiconductor chips 3 in the carrier composite 20 be integrated, analogous to about the embodiments according to the 1 to 8th ,

In den bislang gezeigten Ausführungsbeispielen sind die Halbleiterchips 3 jeweils auf einen Träger 2 beschränkt, in Draufsicht gesehen. Gemäß 18 überragen die Halbleiterchips 3 den Träger 2, in Draufsicht gesehen. Eine entsprechende Anordnung der Halbleiterchips 3 an dem Träger 2 kann auch in allen anderen Ausführungsbeispielen vorliegen, auch mit einer abweichenden Anzahl von Halbleiterchips 3.In the embodiments shown so far, the semiconductor chips 3 each on a support 2 limited, seen in plan view. According to 18 overhang the semiconductor chips 3 the carrier 2 , seen in top view. A corresponding arrangement of the semiconductor chips 3 on the carrier 2 can also be present in all other embodiments, even with a different number of semiconductor chips 3 ,

Aufgrund der optischen Abschirmungen sowie der bevorzugt vorhandenen Streumittel zu einer Homogenisierung der Abstrahlung ist ein Array aus Halbleiterchips aufbaubar, das nur vernachlässigbare optische Lücken aufweist. Insbesondere ist eine Lichtaustrittsfläche ganzflächig lichtabstrahlend, mit Ausnahme von schmalen Bereichen, in denen die Abschirmungen angebracht sind. Eine Breite der Abschirmungen liegt dabei bevorzugt bei höchstens 1 % oder 3 % oder 5 % oder 10 % oder einer mittleren Ausdehnung der lichtabstrahlenden Bereiche, in Draufsicht gesehen. Zusätzliche Optiken zu einem Kaschieren der nicht lichtabstrahlenden Bereiche sind daher entbehrbar, da die nicht lichtabstrahlenden Bereiche an den Abschirmungen vernachlässigbar klein sind.Due to the optical shields and the preferably existing scattering means for homogenizing the radiation, an array of semiconductor chips can be built up which has only negligible optical gaps. In particular, a light exit surface is lichtabstrahlend the whole surface, with the exception of narrow areas in which the shields are mounted. A width of the shields is preferably at most 1% or 3% or 5% or 10% or a mean extent of the light-emitting regions, seen in plan view. Additional optics for laminating the non-light-emitting regions are therefore unnecessary, since the non-light-emitting regions on the shields are negligibly small.

Ferner können relativ große Ablagetoleranzen hinsichtlich der Halbleiterchips auf den Trägern aufgrund des Streumittels, das als Homogenisierungsschicht dient, akzeptiert werden. Außerdem ist bevorzugt eine genaue Lage des optischen Rasters, aufgrund der Abschirmungen, von untergeordneter Wichtigkeit. Die übereinander liegende Anordnung der Halbleiterchips und der Träger mit den Mikrocontrollern erlaubt zusätzlich eine Struktur mit einem engeren Raster und damit mit einer höheren Leuchtdichte.Furthermore, relatively large tray tolerances with respect to the semiconductor chips on the carriers due to the scattering means, as Homogenization layer serves to be accepted. In addition, a precise position of the optical grid, due to the shields, is of minor importance. The stacked arrangement of the semiconductor chips and the carrier with the microcontrollers also allows a structure with a narrower grid and thus with a higher luminance.

Durch die Integration mehrerer funktioneller Einheiten auf Wafer-Ebene, siehe insbesondere die 4 und 5, ergibt sich ein kompakter und flacher Aufbau des Halbleiterbauteils. Durch diesen Aufbau können Standardhalbleiterchips wie Standardleuchtdioden verwendet werden und verschiedene Chipgrößen können in einem einzigen Halbleiterbauteil effizient miteinander kombiniert werden.By integrating several functional units at the wafer level, see in particular the 4 and 5 , results in a compact and flat structure of the semiconductor device. With this structure, standard semiconductor chips such as standard light emitting diodes can be used, and various chip sizes can be efficiently combined with each other in a single semiconductor device.

Hier beschriebene Halbleiterbauteile sind beispielsweise in adaptiven Frontscheinwerfern von Kraftfahrzeugen einsetzbar. Ebenso sind hier beschriebene Halbleiterbauteile in Projektoren oder in der Allgemeinbeleuchtung oder als so genannte Spotlights verwendbar. Auch ist ein Einsatz in der Umgebungsbeleuchtung oder ambienten Beleuchtung möglich, etwa im Automobilbereich die Beleuchtung eines Kfz-Himmels oder als Szeneriebeleuchtung in einem Wohnbereich und/oder in einem Geschäftsbereich.Semiconductor components described here can be used, for example, in adaptive headlights of motor vehicles. Likewise, semiconductor components described here can be used in projectors or in general lighting or as so-called spotlights. A use in ambient lighting or ambient lighting is also possible, for example in the automotive sector, the illumination of a car sky or as scene lighting in a living area and / or in a business area.

Die hier beschriebene Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. The invention described here is not limited by the description based on the embodiments. Rather, the invention encompasses any novel feature as well as any combination of features, including in particular any combination of features in the claims, even if this feature or combination itself is not explicitly stated in the claims or exemplary embodiments.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
optoelektronisches Halbleiterbauteil optoelectronic semiconductor device
1010
Lichtaustrittsfläche des Halbleiterbauteils Light exit surface of the semiconductor device
22
Träger carrier
2020
Trägerverbund carrier assembly
2323
Trägeroberseite Carrier top
2424
Trägerunterseite Carrier base
2626
Mikrocontroller microcontroller
2727
Trägersubstrat carrier substrate
2828
Trägerformmasse Carrier molding compound
33
optoelektronischer Halbleiterchip optoelectronic semiconductor chip
3030
Strahlungshauptseite Radiation main page
3333
Rahmenverbund frame joining
3838
Umformmasse Umformmasse
44
elektrische Kontaktstelle electrical contact point
55
Optikkörper optical body
5151
strahlungsundurchlässiges Vergussmaterial radiopaque potting material
5252
Streumittel spreading material
5353
Konversionsmittel conversion means
66
optische Abschirmung optical shielding
77
elektrische Leitung electrical line
7373
elektrische Durchkontaktierung electrical via
7575
Bonddraht bonding wire
7777
Öffnung opening
88th
Hilfsträger subcarrier
99
Metallisierung metallization
DinDin
Dateneingangsleitung /-anschluss Data input line / connection
Doutdout
Datenausgangsleitung /-anschluss Data output line / connection
GNDGND
Masseleitung /-anschluss Ground line / connection
VccVcc
Versorgungsspannungsleitung /-anschluss Supply voltage line / connection
R, G, B, WR, G, B, W
verschiedenfarbig emittierende Bereiche different colored emitting areas
Ee
externer Träger external carrier
SS
Separationsbereich separation area

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102012111247 A1 [0115] DE 102012111247 A1 [0115]
  • DE 102012109460 A1 [0116] DE 102012109460 A1 [0116]
  • DE 102012112302 A1 [0116] DE 102012112302 A1 [0116]

Claims (15)

Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) mit – einem Träger (2), der zumindest einen Mikrocontroller zu einer elektrischen Adressierung und Ansteuerung des Halbleiterbauteils (1) umfasst, – mindestens einem optoelektronischen Halbleiterchip (3), der zur Erzeugung von Licht eingerichtet ist und der an einer Trägeroberseite (23) des Trägers (2) angebracht und mit dem Mikrocontroller elektrisch verbunden ist, – mindestens drei elektrischen Kontaktstellen (4), wobei zumindest zwei der Kontaktstellen (4) mit dem Mikrocontroller verbunden sind, und – mindestens einem Optikkörper (5) zu einer geometrischen und/oder spektralen Strahlformung, der sich an der Trägeroberseite (23) befindet.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) with a support ( 2 ), the at least one microcontroller for electrical addressing and control of the semiconductor device ( 1 ), - at least one optoelectronic semiconductor chip ( 3 ), which is set up to generate light and which is mounted on a carrier top ( 23 ) of the carrier ( 2 ) and is electrically connected to the microcontroller, - at least three electrical contact points ( 4 ), wherein at least two of the contact points ( 4 ) are connected to the microcontroller, and - at least one optical body ( 5 ) to a geometric and / or spectral beam shaping, which at the carrier top ( 23 ) is located. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach dem vorhergehenden Anspruch, das mehrere der Träger (2) und mehrere der Halbleiterchips (3) sowie mehrere lichtundurchlässige, optische Abschirmungen (6) umfasst, wobei – alle Träger (2) in einem Trägerverbund (20) mechanisch integriert sind und sich in einer gemeinsamen Ebene befinden, – alle Halbleiterchips (3) auf den Trägerverbund (20) aufgebracht sind und sich in einer weiteren gemeinsamen Ebene an den Trägeroberseiten (23) befinden, – die Abschirmungen (6) jeweils zwischen benachbarten Halbleiterchips (3) derart angebracht sind, dass innerhalb des Halbleiterbauteils (1) kein Lichtpfad zwischen benachbarten Halbleiterchips (3) vorliegt, – je zumindest zwei der Halbleiterchips (3) auf einem der Träger (2) angebracht und elektrisch unabhängig voneinander betreibbar sind, – die Halbleiterchips (3) jeweils innerhalb einer der Abschirmungen (6) bis zu einer dem zugehörigen Träger (2) abgewandten Strahlungshauptseite (30) der Halbeiterchips (3), in Richtung weg von der zugehörigen Trägeroberseite (23), von einem strahlungsundurchlässigen Vergussmaterial (51) ringsum umgeben sind, – dem Vergussmaterial (51) in Richtung weg von der zugehörigen Trägeroberseite (23) bei wenigstens einem Teil der Halbleiterchips (3) ein Konversionsmittel (52) zu einer mindestens teilweisen Wellenlängenkonversion einer von dem zugehörigen Halbleiterchip (3) emittierten Strahlung nachgeordnet ist, und – der Optikkörper (5) mindestens durch das Vergussmaterial (51) und das Konversionsmittel (53) gebildet ist.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to the preceding claim, which comprises several of the carriers ( 2 ) and a plurality of the semiconductor chips ( 3 ) and several opaque optical shields ( 6 ), where - all the carriers ( 2 ) in a carrier composite ( 20 ) are mechanically integrated and located in a common plane, - all semiconductor chips ( 3 ) on the carrier network ( 20 ) are applied and in a further common plane on the carrier tops ( 23 ), - the shields ( 6 ) in each case between adjacent semiconductor chips ( 3 ) are mounted such that within the semiconductor device ( 1 ) no light path between adjacent semiconductor chips ( 3 ), in each case at least two of the semiconductor chips ( 3 ) on one of the supports ( 2 ) and are electrically independently operable, - the semiconductor chips ( 3 ) within each of the shields ( 6 ) to an associated carrier ( 2 ) facing away from the radiation main side ( 30 ) of the semiconductor chips ( 3 ), away from the associated carrier top ( 23 ), of a radiopaque potting material ( 51 ) are surrounded all around, - the potting material ( 51 ) in the direction away from the associated carrier top ( 23 ) at least a part of the semiconductor chips ( 3 ) a conversion means ( 52 ) to an at least partial wavelength conversion of one of the associated semiconductor chip ( 3 ) emitted radiation downstream, and - the optical body ( 5 ) at least through the potting material ( 51 ) and the conversion agent ( 53 ) is formed. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach dem vorhergehenden Anspruch, bei dem sich zwischen dem Vergussmaterial (51) und dem Konversionsmittel (53) als weiterer Bestandteil des Optikkörpers (5) ein schichtförmiges, strahlungsdurchlässiges Streumittel (52) zu einer Streuung der von dem zugehörigen Halbleiterchip (3) emittierten Strahlung befindet, wobei das Streumittel (52) den Halbleiterchip (3) und das Vergussmaterial (51) vollständig bedeckt.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to the preceding claim, in which between the potting material ( 51 ) and the conversion means ( 53 ) as a further component of the optic body ( 5 ) a layered, radiation-permeable scattering agent ( 52 ) to a scattering of the associated semiconductor chip ( 3 ) emitted radiation, wherein the scattering agent ( 52 ) the semiconductor chip ( 3 ) and the potting material ( 51 completely covered. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach Anspruch 2 oder 3, das ferner elektrische Leitungen (7) aufweist, wobei sich ein Teil der elektrischen Leitungen (7) zwischen dem Vergussmaterial (51) und dem Konversionsmittel (53) befinden und die Halbleiterchips (3) an der Strahlungshauptseite (30) elektrisch kontaktieren, und wobei sich weitere elektrische Leitungen (7) zwischen dem Trägerverbund (20) und dem Vergussmaterial (51) befinden.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to claim 2 or 3, further comprising electrical lines ( 7 ), wherein a part of the electrical lines ( 7 ) between the potting material ( 51 ) and the conversion means ( 53 ) and the semiconductor chips ( 3 ) on the main radiation side ( 30 ), and wherein further electrical lines ( 7 ) between the carrier network ( 20 ) and the potting material ( 51 ) are located. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei dem die Abschirmungen (6) sich durch das Vergussmaterial (51) hindurch erstrecken und aus einem elektrisch isolierenden Material geformt sind oder mit einem solchen Material beschichtet sind, wobei die Abschirmungen (6) jeweils den zugehörigen Halbleiterchip (3) rahmenförmig umgeben, in Draufsicht gesehen, und wobei die Abschirmungen (6) in einem einzigen Stück und zusammenhängend geformt sind.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of claims 2 to 4, in which the shields ( 6 ) through the potting material ( 51 extend) and are formed of an electrically insulating material or coated with such a material, wherein the shields ( 6 ) each the associated semiconductor chip ( 3 ) surrounded like a frame, seen in plan view, and wherein the shields ( 6 ) are formed in a single piece and coherently. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche 2 bis 5, bei dem sich alle Kontaktflächen (4) an derselben Seite des Trägerverbunds (20) befinden wie die Halbleiterchips (3) und von den Abschirmungen (6) nicht umrandet sind, wobei alle Halbleiterchips (3) über einen gemeinsamen Massekontakt (GND) verfügen, und wobei das Halbleiterbauteil (1) oberflächenmontierbar ist. Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of the preceding claims 2 to 5, in which all contact surfaces ( 4 ) on the same side of the carrier network ( 20 ) are like the semiconductor chips ( 3 ) and the shields ( 6 ) are not bordered, with all semiconductor chips ( 3 ) have a common ground contact (GND), and wherein the semiconductor device ( 1 ) is surface mountable. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem sich alle elektrischen Kontaktstellen (4) an der mindestens einen Trägerunterseite (23) befinden, wobei der Träger (2) oder der Trägerverbund (20) wenigstens eine elektrische Durchkontaktierung (73) umfasst.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of claims 1 to 5, in which all electrical contact points ( 4 ) on the at least one carrier underside ( 23 ), the carrier ( 2 ) or the carrier network ( 20 ) at least one electrical feedthrough ( 73 ). Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zumindest einer der Halbleiterchips (3) samt dem zugehörigen Optikkörper (5) zur Abstrahlung von blauem Licht, zumindest einer der Halbleiterchips (3) samt dem zugehörigen Optikkörper (5) zur Abstrahlung von grünem Licht und zumindest einer der Halbleiterchips (3) samt dem zugehörigen Optikkörper (5) zur Abstrahlung von rotem Licht eingerichtet ist, wobei die verschiedenen Farben an verschiedenen Stellen einer Lichtaustrittsfläche (10) des Halbleiterbauteils (1) emittiert werden. Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which at least one of the semiconductor chips ( 3 ) together with the associated optic body ( 5 ) for emitting blue light, at least one of the semiconductor chips ( 3 ) together with the associated optic body ( 5 ) for emitting green light and at least one of the semiconductor chips ( 3 ) together with the associated optic body ( 5 ) is arranged for the emission of red light, wherein the different colors at different locations of a light exit surface ( 10 ) of the semiconductor device ( 1 ) are emitted. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, umfassend mehrere der Halbleiterchips (3), wobei ein mittlerer Abstand zwischen benachbarten Halbleiterchips (3) zwischen einschließlich 3 % und 20 % einer mittleren Kantenlänge der Halbleiterchips (3) beträgt.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of the preceding claims, comprising a plurality of the semiconductor chips ( 3 ), wherein an average distance between adjacent semiconductor chips ( 3 between 3% and 20% of a mean edge length of the semiconductor chips ( 3 ) is. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem alle Mikrocontroller über eine gemeinsame Versorgungsspannung (Vcc) verfügen, wobei alle Mikrocontroller an einer gemeinsamen Datenleitung (Din) angebracht sind und die gemeinsame Datenleitung (Din) durch die Mikrocontroller geschleift ist.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which all microcontrollers have a common supply voltage (Vcc), all microcontrollers being mounted on a common data line (Din) and the common data line (Din) being looped through the microcontrollers. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, umfassend mehrere der Halbleiterchips (3), wobei die Halbleiterchips (3) in einer zweidimensionalen Matrix angeordnet sind, in Draufsicht gesehen, und wobei die Halbleiterchips (3) den zugehörigen Träger (2) wenigstens stellenweise überragen, in Draufsicht gesehen.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of the preceding claims, comprising a plurality of the semiconductor chips ( 3 ), wherein the semiconductor chips ( 3 ) are arranged in a two-dimensional matrix, seen in plan view, and wherein the semiconductor chips ( 3 ) the associated carrier ( 2 ) Surpass at least in places, seen in plan view. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Abschirmung (6), in Richtung weg von dem Träger (2), bündig mit dem Optikkörper (5) abschließt, wobei die Abschirmung (6), in Draufsicht gesehen, nicht mit dem Halbleiterchip (3) überlappt, und wobei die Abschirmung (6) weder den Träger (2) noch den Halbleiterchip (3) berührt.Optoelectronic semiconductor component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the shielding ( 6 ), away from the carrier ( 2 ), flush with the optic body ( 5 ), wherein the shield ( 6 ), seen in plan view, not with the semiconductor chip ( 3 ) overlaps, and wherein the shield ( 6 ) neither the carrier ( 2 ) nor the semiconductor chip ( 3 ) touched. Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit den folgenden Schritten: – Bereitstellen eine Vielzahl der Träger (2) und der Halbleiterchips (3), – Anbringen der Halbleiterchips (3) an den Trägeroberseiten (23), – elektrisches Verschalten der Halbleiterchips (3) mit den Mikrocontrollern der Träger (2), und – Fertigstellen der Halbleiterbauteile (1). Method for producing optoelectronic semiconductor components ( 1 ) according to any one of the preceding claims, comprising the following steps: - providing a plurality of the carriers ( 2 ) and the semiconductor chips ( 3 ), - attaching the semiconductor chips ( 3 ) on the carrier tops ( 23 ), - electrical interconnection of the semiconductor chips ( 3 ) with the microcontrollers of the carriers ( 2 ), and - finishing the semiconductor components ( 1 ). Verfahren nach dem vorhergehenden Anspruch, bei dem das Bereitstellen der Träger (2) beinhaltet: – Umformen der zweidimensional angeordneten Träger (2) mit einer Trägerformmasse (28), sodass die Träger (2) in einem Trägerverbund (20) mechanisch integriert werden, und – Ausbilden von Leiterbahnen (7) auf zumindest einer Seite des Trägerverbunds (20).Method according to the preceding claim, in which the provision of the supports ( 2 ) includes: - forming the two-dimensionally arranged carrier ( 2 ) with a carrier molding compound ( 28 ), so that the carriers ( 2 ) in a carrier composite ( 20 ) are mechanically integrated, and - forming printed conductors ( 7 ) on at least one side of the carrier network ( 20 ). Verfahren nach Anspruch 14, bei dem das Bereitstellen der Halbleiterchips (3) beinhaltet: – Umformen der zweidimensional angeordneten Halbleiterchips (3) mit einer Umformmasse (38), sodass die Halbleiterchips (3) in einem Rahmenverbund (33) mechanisch integriert werden, wobei nachfolgend der Rahmenverbund (33) auf dem Trägerverbund (20) angebracht wird, sodass die Träger (2) den Halbleiterchips (3) eineindeutig zugeordnet werden, und wobei nachfolgend der mit dem Trägerverbund (20) zusammengefügte Rahmenverbund (33) zu den Halbleiterbauteilen (1) vereinzelt wird, sodass die Halbleiterbauteile (1) je einen oder mehrere der Halbleiterchips (3) aufweisen.The method of claim 14, wherein providing the semiconductor chips ( 3 ) includes: - forming the two-dimensionally arranged semiconductor chips ( 3 ) with a molding compound ( 38 ), so that the semiconductor chips ( 3 ) in a framework ( 33 ) are integrated mechanically, wherein subsequently the frame composite ( 33 ) on the carrier composite ( 20 ) so that the beams ( 2 ) the semiconductor chips ( 3 ) are uniquely assigned, and wherein the following with the carrier composite ( 20 ) interconnected framework ( 33 ) to the semiconductor components ( 1 ) is singulated so that the semiconductor components ( 1 ) one or more of the semiconductor chips ( 3 ) exhibit.
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