WO2010140814A3 - 척의 능동적 기울기 제어가 가능한 웨이퍼 프로브 스테이션 및 그 제어방법 - Google Patents
척의 능동적 기울기 제어가 가능한 웨이퍼 프로브 스테이션 및 그 제어방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 웨이퍼프로브스테이션에 관한 것이다. 상기 웨이퍼프로브스테이션은, 다수개의 압력센서; 다수 개의 액추에이터, 각 액추에이터에 인접하게 대응되는 위치에 각각 설치되는 다수 개의 변위 센서 및 마이컴으로 이루어지는 기울기 보정 장치; 및 사전에 설정된 오버 드라이빙 량만큼 Z축 스테이지를 상승시켜 웨이퍼와 프로버 카드를 접촉시킨 후, 상기 압력 센서들로부터 각 설치 위치에 대한 압력값들을 추출하고, 척에 균일한 하중이 인가되도록 상기 압력값들을 이용하여 상기 기울기 보정 장치의 각 액추에이터에 대한 구동량을 계산하고, 척의 기울기 변화에 따라 x방향 및 y 방향으로 발생하는 변위값(w)을 계산하고, 상기 Z축 스테이지를 하강시킨 후 상기 구동량에 따라 상기 기울기 보정 장치의 각 액추에이터를 구동시켜 척의 편심하중을 보정하고, 상기 x 방향 및 y 방향으로 발생하는 변위값(w)을 이용하여 XY 축 스테이지의 이동을 제어하는 제어 장치;를 구비한다. 이에 의해, 본 발명은 오버드라이빙 수행시 발생하는 편심하중을 정확하게 감지하고, 이를 이용하여 척의 기울기를 조정함으로써, 편심하중에 대비한 초기설정을 신속하고 정확하게 할 수 있어, 검사공정의 리드타임을 줄일 수 있다.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13/375,583 US8810270B2 (en) | 2009-06-03 | 2010-06-01 | Wafer probe station capable of actively controlling tilt of chuck and controlling method thereof |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2009-0049047 | 2009-06-03 | ||
| KR20090049047 | 2009-06-03 | ||
| KR1020090105304A KR101090333B1 (ko) | 2009-06-03 | 2009-11-03 | 척의 능동적 기울기 제어가 가능한 웨이퍼 프로브 스테이션 및 그 제어방법 |
| KR10-2009-0105304 | 2009-11-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2010140814A2 WO2010140814A2 (ko) | 2010-12-09 |
| WO2010140814A3 true WO2010140814A3 (ko) | 2011-02-17 |
Family
ID=43298299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/KR2010/003500 WO2010140814A2 (ko) | 2009-06-03 | 2010-06-01 | 척의 능동적 기울기 제어가 가능한 웨이퍼 프로브 스테이션 및 그 제어방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| WO (1) | WO2010140814A2 (ko) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5923585B2 (ja) | 2014-10-17 | 2016-05-24 | 日本写真印刷株式会社 | 圧力検出装置、圧力検出装置の制御方法、及びプログラム |
| CN111146103B (zh) * | 2018-11-06 | 2024-06-21 | 长鑫存储技术有限公司 | 晶圆的检测方法及检测设备 |
| CN113488404B (zh) * | 2021-05-30 | 2023-01-13 | 深圳市嘉伟亿科技有限公司 | 一种硅片激光退火定位设备及其使用方法 |
| CN116608785B (zh) * | 2023-05-19 | 2023-11-21 | 山东普瑞而机械制造有限公司 | 一种基于内齿轮沿竖向平面转动的圆度检测及纠偏方法 |
| CN116705670B (zh) * | 2023-08-07 | 2024-01-02 | 拉普拉斯新能源科技股份有限公司 | 一种高温舟的抓取方法和装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR19990001118U (ko) * | 1997-06-17 | 1999-01-15 | 문정환 | 웨이퍼 프로빙장치용 프로브카드 |
| KR20000002612A (ko) * | 1998-06-22 | 2000-01-15 | 윤종용 | 프로브 카드의 수평 유지 장치 |
| KR100282737B1 (ko) * | 1995-07-14 | 2001-03-02 | 히가시 데쓰로 | 프로브장치에 이용되는 프로브카드디바이스(probe card device used in probing apparatus) |
-
2010
- 2010-06-01 WO PCT/KR2010/003500 patent/WO2010140814A2/ko active Application Filing
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| KR20000002612A (ko) * | 1998-06-22 | 2000-01-15 | 윤종용 | 프로브 카드의 수평 유지 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2010140814A2 (ko) | 2010-12-09 |
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| JP2011053685A5 (ko) |
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|---|---|---|---|
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|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
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|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 10783563 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A2 |