WO2009012605A2 - Verfahren zur kalibrierung und zum betrieb einer messzellenanordnung - Google Patents

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WO2009012605A2
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vacuum
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Christian Berg
Carsten Strietzel
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Inficon Gmbh
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    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L27/00—Testing or calibrating of apparatus for measuring fluid pressure
    • G01L27/002—Calibrating, i.e. establishing true relation between transducer output value and value to be measured, zeroing, linearising or span error determination
    • G01L27/005—Apparatus for calibrating pressure sensors
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L21/00—Vacuum gauges

Definitions

  • the invention relates to a method for calibrating a vacuum cell arrangement according to the features of patent claim 1, and to a method for operating a calibrated measuring cell arrangement according to the preamble of claim 8.
  • the calibration of measuring cells For the calibration of measuring cells, at least three methods are known and possible. While the methods with static and dynamic expansion are common within the metrology of state standard institutes such as the Federal Physical Institute (PTB, Germany), the method of comparison with a transfer standard is preferably used in the industrial production of measuring cells. The main reasons for this are the complexity of the structures for the expansion process and, above all, the necessary time to calibrate with these methods. However, the calibration method of the comparison with a transfer standard also requires consideration of certain boundary conditions, as laid down in the standards DIN 28418 and DKD-R 6-2 or ISO / TS 3567: 2005. The calibration of vacuum measuring cells is described, for example, in the reference Wutz-Adam-Walcher (Verlag Vieweg, ISBN 3-528-04884-0) in chapter 11.8 Calibration of vacuum meters.
  • a known and suitable method to measure the deflection of such membranes is that the membrane assembly is formed as a variable electrical capacity, which is evaluated via a measuring electronics in a known manner, the capacitance change, which correlates with the pressure change.
  • the capacitance is formed by arranging the thin, flexible membrane surface at a small distance from another surface and coating both surfaces facing one another with an electrically conductive coating or from electrically conductive material. When pressure is applied to the diaphragm, the deflection changes the distance between the two electrodes, resulting in an evaluable change in the capacitance of the arrangement. leads. Sensors of this type are produced in large numbers from silicon.
  • Both the flat base body and the membrane often consist completely of silicon material.
  • the sensors can be produced inexpensively. Pressure sensors of this type can generally only be used for higher pressure ranges in the range from about 10 "1 mbar to a few bar.High resolution at lower pressures from about 10 " 1 mbar are only partially feasible with the material silicon.
  • sensors of this type are only partially suitable. Among other things, this is due to the fact that the silicon on the surface reacts with the environment and thus the sensitive sensor characteristic is disturbed. Already water vapor, which is contained in normal atmospheric air, leads to corresponding reactions on the surfaces. The problem is exacerbated when the sensor is used in chemically aggressive atmospheres, which is increasingly common in today's reactive vacuum plasma processes.
  • vacuum sensors An important application of vacuum sensors in general are processes in the semiconductor industry. For example, semiconductors are made there using, among other things, the following techniques: chemical vapor deposition (CVD), physical vapor deposition (PVD), implantation, and (dry) etching processes.
  • CVD chemical vapor deposition
  • PVD physical vapor deposition
  • Typical pressure ranges for the processes in the semiconductor industry and pressures from vacuum measuring cells typically operate in the range of 10 "4 to 10 mbar.
  • Typical process measuring cells for the applications are capacitive membrane measuring cells are particularly aggressive media, in particular in such processes, such as for example in vacuum, such as fluorine.
  • the known silicon pressure sensors and membrane measuring cells with metallic membrane can only be used to a limited extent because of such corrosion and resistance problems.
  • the measuring cell in hot To operate process environment and / or condensates in the measuring cell as possible to avoid and this with high corrosion resistance.
  • ALD Atomic Layer Deposition
  • a preferred membrane measuring cell for these applications is the capacitive membrane measuring cell (CDG).
  • CDG capacitive membrane measuring cell
  • a capacitive membrane measuring cell also known as Capacitive Diaphragm Gauge (CDG)
  • CDG Capacitive Diaphragm Gauge
  • Metallic electrodes are mounted in the gap region on the membrane and on the base body which lies opposite the membrane. These two metal electrodes form a capacitor capacitance. The capacity change is thus a measure of the pressure change.
  • This measuring principle is gas type independent.
  • the patent US Pat. No. 6,591,687 B1 describes a capacitive vacuum measuring cell (CDG) which is constructed substantially entirely of ceramic and thus highly corrosion-resistant.
  • CDG capacitive vacuum measuring cell
  • the content of this patent is hereby declared an integral part of the present invention description.
  • a very thin ceramic membrane of 25 ⁇ m to 100 ⁇ m thickness, which is arranged substantially symmetrically in a ceramic housing.
  • membrane thicknesses up to 950 ⁇ m are preferably used.
  • This membrane-based vacuum cell is very successful commercially and represents a significant advance in corrosion resistance.
  • a further preferred membrane measuring cell arrangement is based on the above-mentioned measuring cell made of Al 2 O 3 and uses a similar construction, wherein the degree of deflection of the membrane in this case takes place by means of optical means.
  • an optical diaphragm measuring cell also known as optical diaphragm gauging (ODG)
  • ODG optical diaphragm gauging
  • the pressure-dependent deflection of the diaphragm in the sensor is measured by means of an optical system wherein the measured signal is transported with an optical fiber to the optical signal conditioning unit, which subsequently produces the optical signal converted into an electrical signal.
  • the coupling of the necessary light takes place via correspondingly transparent areas on the housing of the sensor directly to the membrane. From there, the light is reflected back.
  • the arrangement forms part of an interferometric Fabry-Perot system.
  • the signal evaluation measures the degree of diaphragm deflection, which is the measure for the existing vacuum pressure to be measured.
  • the optical windows are advantageously made of sapphire, so that at least parts of the housing of the vacuum membrane measuring cell contain sapphire. It is also advantageous if the membrane itself is made of sapphire.
  • the optical signal can, for example, be transported over long distances (even kilometers) with very little attenuation and without distortions due to surrounding disturbances, such as mainly electromagnetic disturbances, vibrations and changes in the ambient temperature. Also, such a measuring cell can be operated particularly well as a heated measuring cell.
  • ODG optical vacuum membrane measuring cell
  • heated measuring cells are preferably used in processes with aggressive gases, with particularly high demands on measuring accuracy and long-term stability. This allows, for example, condensate deposits to be reduced or avoided in areas within the measuring cell exposed to the process environment. Precise stabilization of the measuring cell temperature also compensates for instabilities caused by temperature effects. For this purpose, a correspondingly high level of effort is required.
  • heating jackets are arranged around the measuring cell, such as foil heating elements or heating strips, which in turn are laboriously insulated.
  • the necessary measuring electronics must again be protected from these temperatures, for example by distanced arrangement and by additional cooling measures, such as with fans and heatsink.
  • additional heating elements such as heating tapes are used to heat the tubular supply line to the measuring cell.
  • the temperatures are adjusted to fixed graded values, such as 45 ° C, 100 0 C, 160 0 C and 200 ° C, depending on the application for the processes to be measured.
  • a particularly suitable for heated vacuum diaphragm cells arrangement with a heating system is described in the CH - Patent Application CH 00985/07 of the same applicant.
  • a vacuum membrane measuring cell is in this case arranged within a thermo container which forms a heating arrangement and thereby the measuring cell on the desired temperature heats up, wherein the measuring cell connection for the vacuum pressure measurement is passed through the thermal container and formed in this region of the thermal container as a thermal body in which a heating source is arranged.
  • the thermal container is surrounded by an insulating jacket to isolate the heated thermal body against the environment and thereby guarantee lowest possible temperature gradients in the thermal container with low heat loss. This allows a homogeneous temperature distribution at the measuring cell with a compact design.
  • the content of this patent application is hereby declared an integral part of the present invention description.
  • Membrane cells of the aforementioned type provide a very small electrical output signal which must be prepared accordingly carefully. These measuring cells are also very sensitive, especially to temperature changes. During production, deviations occur at each measuring cell and in particular during operation with different elevated temperature values. The more accurately the pressure measurement is to be performed, the more such deviations fall into the weight and must be taken into account accordingly.
  • the measuring cells are therefore calibrated during manufacture, specifically at the operating points for which specified working use the measuring cell is provided. Calibration refers to the measurement of a test object against a normal or against a reference. The condition is only determined, but not set, for example, the test specimen to a standard state. This setting takes place with a separate step and is referred to as adjustment. This adjustment process means the adjustment of the DUT to a standard condition.
  • This activity should then preferably be followed by another calibration. It is therefore important to distinguish between calibration and adjustment between the two procedures.
  • a calibration device the following steps are usually carried out, as defined above: measurement of the test object against a standard, storage of the data, calculation of the compensation values, adjustment of the test object, calibration of the test object with simultaneous preparation of the calibration report.
  • each measuring cell must also be calibrated to the corresponding intended measuring cell temperature.
  • the calibration process consists, as mentioned, in a comparative measurement of the test cell to be tested against a normal, ie one against a reference measuring cell. The condition is determined and the deviations recorded for the desired measuring range. The determined deviations can then be used to correspondingly correct or adjust the measurement signals generated by the measuring cell.
  • Such measuring cells can thus always be operated only at this precisely defined temperature for which it has been adjusted.
  • a specially calibrated measuring cell must be used by the user at the vacuum processing unit. If a different operating temperature of the measuring cell is required, depending on the process used and the requirements, a different measuring cell has to be used which has been specially calibrated. This increases the effort considerably and it can not be simply changed in the field at the user operating temperature of the measuring cell.
  • the present invention has the object to realize a method for operating and calibrating a compact vacuum membrane measuring cell arrangement with an integrated heating and measuring electronics, which can be operated stably over a wider temperature range and at different temperature values, wherein the same measuring cell at the user for different selected temperature values can be used.
  • a measuring cell arrangement with a heatable vacuum membrane measuring cell is calibrated after manufacture by applying it against a reference renzmesszelle at least one, preferably at least two pressure points and at least two temperature values of the work area is measured, which are stored from the detected deviations balance values that are stored in a calibration data in the measuring cell array and can be retrieved there for adjusting the vacuum diaphragm measuring cell as needed for the desired Working area.
  • the stored compensation values from the calibration data memory can be called up by the user according to the desired field of use at the measuring cell arrangement in order to adjust the measuring cell arrangement locally to optimum values and this at different desired operating temperatures. With a single measuring cell arrangement, a wide variety of applications can therefore be covered at different operating temperatures.
  • a measuring cell arrangement is advantageously used in which a vacuum membrane measuring cell is arranged inside a thermo container which forms a heating arrangement.
  • the measuring cell is heated to the desired temperature, wherein the measuring cell connection for the vacuum pressure measurement is passed through the thermal container and formed in this region of the thermal container as a thermal body in which a heat source is arranged.
  • the thermo container is surrounded by an insulating jacket to isolate the heated thermo-body from the environment and thereby guarantee the lowest possible temperature gradients in the thermo-container with low heat losses.
  • FIG. 1 shows schematically a measuring cell arrangement with a calibration device, for the representation of a calibration process factory
  • FIG. 2 schematically shows a measuring cell arrangement with a process control, as used for example by the user at a process plant
  • FIG. 3 schematically shows a measuring cell arrangement, as can be used by the user as another example, for example, by selecting and calling up specific compensation values for the adjustment on the measuring cell itself, FIG.
  • a measuring cell arrangement 1 is particularly suitable, which as a pressure sensor contains a vacuum membrane measuring cell 2 of the type described above.
  • An arrangement for calibrating such a measuring cell is shown schematically in FIG.
  • the vacuum membrane measuring cell 2 has a supply line with a measuring connection 5, which can be connected, for example, with a flange to a vacuum volume 58, 30.
  • the vacuum volume 58, 30 can be part of a calibration device 10 and, during measuring operation, the vacuum chamber of a process plant 30.
  • a connection is established between the membrane of the measuring cell and the vacuum volume at which the pressure is to be measured via this measuring connection.
  • the vacuum ummembranmesszelle 2 is electrically connected to a measuring cell electronics 4, which has a measuring cell data memory 6, a measuring cell control 7 and a measuring cell interface 8 for exchanging data with peripheral devices.
  • the sensitive signal from the vacuum membrane measuring cell 2 is detected and processed in this measuring cell electronics.
  • the measuring cell arrangement 1 further comprises a programmable heater 3 for heating the vacuum membrane measuring cell 2 to a predeterminable temperature, with a heating arrangement 3 which preferably completely encloses the vacuum measuring cell 2 and is surrounded by an insulating jacket, as has already been described above.
  • the measuring cell arrangement 1 is connected via the measuring cell interface 8 with a signal line 20 to the outside world.
  • the measured pressure signal can be output and utilized and, on the other hand, data can also be read into the measuring cell arrangement 1 in order to control and / or program it and, for example, calibrate it with the aid of the measuring cell electronics 4.
  • 1 shows a measuring cell arrangement 1 is shown schematically which is connected via the signal line 20 with a calibrating device 10. This arrangement is used at the factory to calibrate a measuring cell arrangement 1.
  • the calibration device 10 contains a calibration device 12 and a calibration electronics 11.
  • the calibration device contains a vacuum volume 58 to which the measurement cell arrangement 1 is connected via its measurement connection 5.
  • the vacuum volume is also connected to a reference measuring cell whose signals can be compared with those of the measuring cell arrangement 1 to be calibrated.
  • a heating arrangement 63 preferably a heating chamber
  • the one or more measuring cell arrangement 1 can be brought to a desired predeterminable constant temperature in order to generate defined conditions at different temperature operating points.
  • the calibration process takes place within a predefinable time interval 65.
  • the calibration sequence controller 11 includes a Calibration data memory 13, a calibration control 14, which contains, for example, a processor and a calibration interface 15 to which the measuring cell arrangement 1 is connected to the signal line 20.
  • a preferred sequence for the calibration process comprises the following steps: a) Connection of the measuring cell arrangement 1 with a calibration device 10, preferably by placing in a heating chamber 63, connecting the measuring connection 5 to a vacuum volume 58 and connecting the measuring cell interface 8 via a signal line 20 to a calibration - flow control 11, and turn on the measuring cell array 1; b) setting a first heating temperature at the measuring cell arrangement to a predetermined constant value; c) carrying out a first calibration step of the measuring cell arrangement 1 by generating at least one, preferably at least two different predetermined pressures in the vacuum volume
  • the aforementioned embodiment of a measuring cell arrangement 1 with its measuring cell electronics 4 and the above-mentioned construction with diaphragm measuring cell 2 and heating 3 makes it possible, together with the inventive method steps, to store a set of compensation values which have been detected during the calibration process within the measuring cell arrangement 1 in such a way that these to Demand for different desired applications with different operating points can be easily retrieved and thus the measuring cell assembly 1 is always set to optimum accuracy.
  • the very sensitive system of the membrane measuring cell technology can be used optimally and a high, reproducible measuring accuracy can be achieved over large work areas with high efficiency.
  • interpolation methods can also be used between the detected measuring points in order to further increase the accuracy and / or to expand the measuring range.
  • a particularly suitable for carrying out calibration device 10 is shown schematically in Figure 4.
  • One, preferably a plurality of measuring cell arrangements 1, 61 are connected to a calibrating vacuum chamber with the vacuum volume 58, and preferably at least two reference measuring cells 60. At least one reference measuring cell 60 is connected to the same vacuum volume 58. All measuring cells are electrically connected to a calibration sequence controller 11 for presetting setting values and for recording and processing the measured values.
  • a heating chamber 63 surrounds this calibration vacuum chamber 59 with the measuring cells 60, 61 for the uniform heating of the arrangement to a preferably constant temperature value at which the calibration is to take place.
  • the heating chamber 63 is heated with heating elements 64, which are advantageously Peltier elements.
  • the heating chamber can additionally be provided with an insulation 62 in order to achieve the lowest possible temperature losses and a uniform temperature distribution.
  • the vacuum volume 58 is evacuated with a conventional pumping system which includes a roughing pump 54, a pre-vacuum valve 53, a pre-vacuum metering cell 52, and a downstream high-vacuum pump 56.
  • a calibration gas 50 for example nitrogen, is introduced into the vacuum volume 58 via a control valve 51 and the gas inlet 57 with orifice and the desired pressure at which a calibration step is to take place.
  • the vacuum volume 58 of the calibration device 10 should preferably be pumped out before the calibration process to a base pressure which is 5 decades below the upper measuring range end of the measuring cell arrangement 1 to be calibrated.
  • the measuring cell arrangement 1 should preferably detect a vacuum pressure measuring range of at least 2 to 4 decades. It is favorable if at least two differently predetermined vacuum pressures of step c) are applied to the final scale value and to the initial scale value of the measuring cell arrangement 1. The detection of the measured values at more than two pressure points increases the accuracy of the measuring cell arrangement 1, 61 to be calibrated after the adjustment step, thereby also increasing the calibration effort.
  • step c) At least 2 to 5 predefined pressure values are detected, preferably 5 to 10, and these are set within the desired measuring range of the measuring cell arrangement 1 to be detected.
  • step f) it is advantageous to carry out at least one further calibration step f) repeatedly for at least one further pressure, analogous to the first step c), whereby this serves as a control step and that possible ascertained value deviations between the values of the measuring cell arrangement 1 and the reference measuring cell 60 to the preceding measurement in a memory are held for further evaluation.
  • the method makes it possible to carry out steps a) to e), preferably a) to f), for at least one further value of the heating temperature, preferably for 3 to 6 different heating temperature values.
  • steps a) to e), preferably a) to f) for at least one further value of the heating temperature, preferably for 3 to 6 different heating temperature values.
  • the measuring cell arrangement 1 is used for vacuum pressure measurement, in particular on process systems for monitoring the vacuum at the corresponding vacuum chambers or vacuum generation systems.
  • a vacuum control unit 21 is advantageously used, which is connected to a measuring cell arrangement 1 or more, communicating for the exchange of data, as shown schematically in Figure 2.
  • Such a vacuum control unit 21 again contains a data memory 13 ', a control processor 14' and an interface 15 'which communicates with the measuring cell interface 8 via the signal line 20.
  • Such a vacuum control unit 21 may also be part of a process control of a vacuum processing system.
  • an additional control device 22 or a process control may also be connected in a higher-order manner to the vacuum control unit 21.
  • These control units in turn allow, depending on the required operating points or areas, to retrieve the desired data sets with the compensation values at the correct time at the measuring cell arrangement and to make the necessary adjustments or to load new data sets into the data memory 6 of the measuring cell arrangement 1.
  • a further application of a measuring cell arrangement 1 is to use them without external controls 21, 22 and to retrieve the desired compensation data directly at the measuring cell arrangement 1 via a control switch 23 in order to carry out the adjustment of the measuring cell, as shown schematically in FIG.
  • a preferred sequence for the operation of a measuring cell arrangement 1 for pressure measurement at the user consists of the following steps:
  • the measuring cell arrangement is connected to a vacuum volume 30 of a vacuum processing system; - The temperature of the vacuum measuring cell 2 is set with the heater 3 to a constant predetermined value;
  • the pressure signal emitted by the vacuum measuring cell 2 is processed in the measuring cell electronics 4 in such a way that the compensating values for a reference measuring cell 60 previously stored in a measuring cell data memory 6 are used to correct the pressure signal with the aid of the measuring cell control 7; the thus corrected pressure signal is forwarded via the measuring cell interface 8 to peripheral devices 21, 22 for further use.

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Abstract

Zur Kalibrierung einer Vakuummesszellenanordnung wird folgender Verfahrensaablauf vorgeschlagen: a) Verbindung der Messzellenanordnung (1) mit einer Kalibriereinrichtung (10), mit anschliessen des Messanschlusses (5) an ein Vakuumvolumen (58) und anschliessen des Messzelleninterface (8) über eine Signalleitung (20) an eine Kalibrierablaufsteuerung (11); b) Einstellung einer ersten Heiztemperatur an der Messzellenanordnung auf einen vorgegebenen konstanten Wert; c) Durchführung eines ersten Kalibrationsschrittes der Messzellenanordnung (1) durch Erzeugung von mindestens einem vorgegebenen Druck im Vakuumvolumen (58) bei gleichzeitiger Erfassung der Vakuummessignale der Messzellenanordnung (1) und mindestens einer Referenzmesszelle (6), sowie Speicherung der erfassten Druckwerte in einem Kalibrierdatenspeicher (13), d) Ermittlung von Ausgleichswerten mit einem Kalibrierprozessor (14) aus den ermittelten Differenzwerten der Messzellenanordnung (1) und der Referenzmesszelle (6), sowie Zwischenspeicherung dieser Differenzwerte in einem Kalibrierdatenspeicher (13) der Kalibrierablaufsteuerung (11). e) Justage der Messzellenanordnung (1) durch Übertragung der ermittelten Ausgleichswerte zum Messzellendatenspeicher (6) für die bei den verschiedenen vorgegebenen Arbeitspunkte ermittelten abweichenden Werte für Drücke und Temperatur in Bezug zur Referenzmesszelle (60).

Description

Verfahren zur Kalibrierung und zum Betrieb einer Messzellenanordnung
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Kalibrierung einer Vakuummess- zellenanordnung gemäss den Merkmalen des Patentanspruches 1 , sowie auf ein Verfahren zum Betreiben einer kalibrierten Messzellenanordnung gemäss dem Oberbegriff des Anspruches 8.
Für die Kalibration von Messzellen sind mindestens drei Verfahren bekannt und möglich. Während innerhalb der Metrologie staatlicher Norminstitute wie beispielsweise der Physikalischen Bundesanstalt (PTB, Deutschland) die Verfahren mit statischer und dynamischer Expansion gebräuchlich sind, wird in der industriellen Fertigung von Messzellen die Methode des Vergleiches mit einem Transferstandard bevorzugt angewendet. Gründe hierfür liegen vor allem in der Komplexität der Aufbauten für die Expansionsverfahren und vor allem in der notwendigen Zeit eine Kalibration mit diesen Methoden durchzuführen. Aber auch die Kalibrati- onsmethode des Vergleiches mit einem Transferstandard bedarf der Beachtung einiger Randbedingungen, wie sie in den Normen DIN 28418 und DKD-R 6-2 oder ISO/TS 3567:2005 niedergelegt sind. Das Kalibrieren von Vakuummesszellen ist beispielsweise beschrieben in der Literaturstelle Wutz-Adam-Walcher (Verlag Vieweg, ISBN 3-528-04884-0) im Kapitel 11.8 Kalibrieren von Vakuummetem.
Es ist bekannt, Drücke bzw. Druckdifferenzen dadurch zu messen, indem eine dünne Membran druckbeaufschlagt wird und ihre Durchbiegung gemessen wird. Eine bekannte und geeignete Methode, die Durchbiegung solcher Membranen zu messen besteht darin, dass die Membrananordnung als variable elektrische Ka- pazität ausgebildet wird, wobei über eine Messelektronik in bekannter Weise die Kapazitätsänderung ausgewertet wird, welche mit der Druckänderung korreliert. Die Kapazität wird ausgebildet, indem die dünne, biegsame Membranfläche in geringem Abstand gegenüber einer weiteren Fläche angeordnet ist und beide einander gegenüberliegenden Oberflächen mit einem elektrisch leitenden Belag be- schichtet oder aus elektrisch leitfähigem Material sind. Bei Druckbeaufschlagung der Membran verändert sich durch die Durchbiegung der Abstand zwischen den beiden Elektroden, was zu einer auswertbaren Kapazitätsänderung der Anord- nung führt. Sensoren dieser Art werden in grossen Stückzahlen aus Silizium hergestellt. Sowohl der flächige Grundkörper wie auch die Membran bestehen hierbei oft vollständig aus Silizium - Material. Es gibt auch Ausführungen mit kombinierter Materialzusammensetzung z.B. Silizium mit Glasunterlage. Die Sensoren lassen sich dadurch kostengünstig herstellen. Drucksensoren dieser Art sind in der Regel nur für höhere Druckbereiche im Bereich von ca. 10"1 mbar bis einige bar einsetzbar. Hohe Auflösung bei tieferen Drücken ab etwa 10"1 mbar sind mit dem Werkstoff Silizium nur bedingt realisierbar. Für typische Vakuumanwendungen sind Sensoren dieser Art nur bedingt geeignet. Unter anderem rührt dies daher, dass das Silizium an der Oberfläche mit der Umgebung reagiert und so die empfindliche Sensorcharakteristik gestört wird. Bereits Wasserdampf, der in normaler atmosphärischer Luft enthalten ist, führt zu entsprechenden Reaktionen an den Oberflächen. Das Problem wird zusätzlich verschärft, wenn der Sensor in chemisch aggressiven Atmosphären eingesetzt wird, was bei den heutigen reaktiven Vaku- umplasmaprozessen vermehrt üblich ist.
Ein wichtiges Anwendungsgebiet von Vakuumsensoren im allgemeinen sind Prozesse in der Halbleiterindustrie. Es werden dort beispielsweise Halbleiter hergestellt unter anderem unter Verwendung von folgenden Techniken: Chemical Vapor Deposition (CVD), Physical Vapor Deposition (PVD), Implantieren und (trocken) Ätz - Prozesse. Typische Druckbereiche für die Prozesse in der Halbleiterindustrie und Druckbereiche von Vakuummesszellen arbeiten typischerweise im Bereich von 10"4 bis 10 mbar. Typische Prozessmesszellen für die Anwendungen sind kapazitive Membranmesszellen. Es werden insbesondere bei derartigen Prozessen, wie beispielsweise bei Vakuumätzverfahren besonders aggressive Medien, wie Fluor, Bromsäure und deren Verbindungen, eingesetzt. Die bekannten Silizium - Drucksensoren und Membranmesszellen mit metallischer Membran lassen sich auch wegen derartigen Korrosions- und Beständigkeitsproblemen nur bedingt einsetzen.
Für derartige Anwendungen wird vermehrt gefordert die Membranmesszelle bei erhöhter Temperatur betreiben zu können, um einerseits die Messzelle in heisser Prozessumgebung betreiben zu können und / oder Kondensate in der Messzelle möglichst zu vermeiden und dies bei hoher Korrosionsfestigkeit.
Es wird erwartet, dass die Marktnachfrage nach Hochtemperatur Membran- messzellen in den nächsten Jahren ansteigt, beispielsweise aufgrund der Einführung von Atomic Layer Deposition (ALD) in Halbleiterherstellungsprozessen, welche Druckmessungen bei Temperaturen bis zu 300 0C oder sogar höher in bestimmten Anwendungen benötigen. Der Geräteaufbau für ALD Prozesse ist sehr ähnlich zu dem von Low Pressure CVD (LPCVD) oder CVD Geräten, welche heutzutage die bedeutendsten Abnehmer sind von Messzellen, die bei erhöhter Temperatur betrieben werden.
Eine für diese Anwendungen bevorzugte Membranmesszelle ist die kapazitive Membranmesszelle (CDG). Eine kapazitive Membranmesszelle, auch Capacitan- ce Diaphragm Gauge (CDG) genannt, basiert auf der elastischen Deformation einer dünnen Membran, welche über einem massiven, flächigen Körper aufgehängt ist und somit zwei Räume voneinander trennt. Eine Druckänderung in diesen Räumen veranlasst die Membran sich zu bewegen. Die Distanz zwischen dem Gehäuse und der Membran verändert sich. Bei hohen Drücken wird die Membra- ne stärker ausgelenkt als bei niedrigen Drücken. Metallische Elektroden sind im Spaltbereich an der Membran und am Grundkörper welcher der Membran gegenüber liegt angebracht. Diese beiden Metallelektroden formen eine Kondensator - Kapazität. Die Kapazitätsänderung ist somit ein Mass für die Druckänderung. Dieses Messprinzip ist Gasart unabhängig.
Es wurde deshalb vorgeschlagen, Messzellen für die Vakuumdruckmessung aus korrosionsfesten Materialien wie AI2O3 herzustellen. In dem Patent US 6,591 ,687 B1 wird eine kapazitive Vakuummesszelle (CDG), welche im wesentlichen vollständig aus Keramik aufgebaut und somit in hohem Masse korrosionsfest ist, be- schrieben. Der Inhalt dieses Patentes wird hiermit zum integrierenden Bestandteil der vorliegenden Erfindungsbeschreibung erklärt. Um beispielsweise sehr tiefe Drücke bis 10~6 mbar bei hoher Genauigkeit messen zu können, wird vorzugswei- se eine sehr dünne Keramikmembran von 25μm bis 100μm Dicke verwendet, welche im wesentlichen symmetrisch in einem Keramikgehäuse angeordnet ist. Für die Anwendung bei höheren Vakuumdrücken bis in den Bereich von einigen 100 mbar werden beispielsweise Membrandicken bis 950μm bevorzugt verwendet. Diese Membran basierte Vakuummesszelle ist kommerziell sehr erfolgreich und bedeutet einen wesentlichen Fortschritt in Bezug auf Korrosionsbeständigkeit.
Eine weitere bevorzugte Membranmesszellenanordnung basiert auf der vorerwähnten Messzelle aus AI2O3 und verwendet einen ähnlichen Aufbau, wobei der Grad der Auslenkung der Membran in diesem Fall mit Hilfe von optischen Mitteln erfolgt. Bei einer Optischen Membran Messzelle, auch Optical Diaphragm Gauge (ODG) genannt, wird die druckabhängige Auslenkung der Membrane im Sensor mit Hilfe eines optischen Systems gemessen wobei das gemessene Signal mit einer optischen Faser transportiert wird zur optischen Signalaufbereitungseinheit, welche in der Folge das optische Signal in ein elektrisches Signal umwandelt. Die Einkopplung des dazu notwendigen Lichtes erfolgt über entsprechend lichtdurchlässige Bereiche am Gehäuse des Sensors direkt auf die Membrane. Von dort wird das Licht zurück reflektiert. Die Anordnung bildet Teil eines interferometri- schen Fabry-Perot Systems. Im zugehörigen Interferometer wird durch die Signalauswertung der Grad der Membranauslenkung gemessen, welche das Mass ist für den vorhandenen zu messenden Vakuumdruck. Die optischen Fenster werden mit Vorteil aus Saphir hergestellt, so dass mindestens Teile des Gehäuses der Vakuummembranmesszelle Saphir enthalten. Es ist auch vorteilhaft wenn die Membran selbst aus Saphir besteht. Das optische Signal kann bei- spielsweise über grosse Distanzen (sogar Kilometer) transportiert werden mit sehr geringer Abschwächung und ohne Verfälschungen durch umgebende Störungen, wie hauptsächlich elektromagnetische Störungen, Vibrationen und Veränderungen der Umgebungstemperatur. Auch kann eine derartige Messzelle besonders gut als beheizte Messzelle betrieben werden. Eine bevorzugte Anordnung einer Optische Vakuummembranmesszelle (ODG) ist in der Patentanmeldung US 2007 0089524 A1 beschrieben worden. Der Inhalt dieser Patentanmeldung wird hiermit zum integrierenden Bestandteil der vorliegenden Erfindungsbeschreibung erklärt. Eine weitere Verbesserung für die Lebensdauer derartiger Membranmesszellen besteht darin, dass die Verbindungsbereiche zwischen Membran und Gehäuse, sowie der Verbindungsbereich für den Anschlusstutzen und gegebenenfalls der Anschlussstutzen selbst beim Einsatz in aggressiver Prozessumgebung, die beispielsweise Säuren, Halogene wie Chlor und Fluor etc. enthalten, zusätzlich mit einer dünnen, korrosionsfesten Schicht abgedeckt und geschützt wird. Die Abscheidung einer solchen Schutzschicht, vorzugsweise aus einem Metalloxid, erfolgt vorteilhaft mit Hilfe eines ALD - Verfahrens, wie dies in der Patentanmeldung CH 01817/06 vorgeschlagen wird. Der Inhalt dieser Patentanmeldung wird hiermit zum integrierenden Bestandteil der vorliegenden Erfindungsbeschreibung erklärt.
Wie bereits erwähnt werden bei Prozessen mit aggressiven Gasen, bei besonders hohen Anforderungen an die Messgenauigkeit und Langzeitstabilität, vorzugswei- se beheizte Messzellen verwendet. Dadurch können, beispielsweise Kondensat - Abscheidungen verringert oder vermieden werden in Bereichen innerhalb der Messzelle, welche der Prozessumgebung ausgesetzt sind. Durch eine präzise Stabilisierung der Messzellentemperatur können auch Instabilitäten durch Temperatureffekte kompensiert werden. Zu diesem Zweck wird entsprechend hoher Auf- wand getrieben. Es werden beispielsweise Heizungsmäntel um die Messzelle angeordnet, wie Folienheizelemente oder Heizbänder, die wiederum aufwändig isoliert werden. Die notwendige Messelektronik muss wiederum vor diesen Temperaturen geschützt werden, beispielsweise durch distanzierte Anordnung und durch zusätzliche Kühlmassnahmen, wie mit Ventilatoren und Kühlkörper. Oft werden auch zusätzliche Heizelemente, wie Heizbänder verwendet, zur Beheizung der rohrförmigen Zuleitung zur Messzelle. Die Temperaturen werden auf fest abgestufte Werte eingestellt, wie beispielsweise 45°C, 1000C, 1600C und 200°C, je nach Einsatzbereich für die zu messenden Prozesse. Eine für geheizte Vakuum- membranmesszellen besonders geeignete Anordnung mit einem Heizsystem ist in der CH - Patentanmeldung CH 00985/07 des gleichen Anmelders beschrieben. Eine Vakuummembranmesszelle wird hierbei innerhalb eines Thermobehälters angeordnet, der eine Heizanordnung bildet und dadurch die Messzelle auf die gewünschte Temperatur aufheizt, wobei der Messzellenanschluss für die Vakuumdruckmessung durch den Thermobehälter hindurch geführt wird und in diesem Bereich der Thermobehälter als Thermokörper ausgebildet ist in welchem eine Heizquelle angeordnet ist. Der Thermobehälter wird von einem Isolationsmantel umgeben, um den geheizten Thermokörper gegen die Umgebung zu isolieren und dadurch geringste mögliche Temperaturgradienten im Thermobehälter zu garantieren bei geringen Wärmeverlusten. Hierdurch wird eine homogene Temperaturverteilung an der Messzelle ermöglicht bei kompakter Bauweise. Der Inhalt dieser Patentanmeldung wird hiermit zum integrierenden Bestandteil der vorliegenden Erfindungsbeschreibung erklärt.
Membranmesszellen der vorerwähnten Art liefern ein sehr kleines elektrisches Ausgangssignal welches entsprechend sorgfältig aufbereitet werden muss. Diese Messzellen sind auch sehr empfindlich, insbesondere auf Temperaturänderungen. Bei der Herstellung treten bei jeder Messzelle Abweichungen auf und insbesondere beim Betrieb mit verschiedenen erhöhten Temperaturwerten. Je genauer die Druckmessung durchgeführt werden soll, um so stärker fallen derartige Abweichungen ins Gewicht und müssen entsprechend berücksichtigt werden. Die Messzellen werden deshalb bei der Herstellung kalibriert und zwar jeweils in den Arbeitspunkten für welchen spezifizierten Arbeitseinsatz die Messzelle vorgesehen ist. Kalibration bezeichnet die Messung eines Prüflings gegen ein Normal bzw. gegen eine Referenz. Dabei wird der Zustand lediglich festgestellt, nicht jedoch beispielsweise am Prüfling auf einen Normzustand hin eingestellt. Dieses Einstellen erfolgt mit einem separaten Schritt und wird als Justage be- zeichnet. Diese Justagevorgang bedeutet die Einstellung des Prüflings auf einen Normzustand. Dieser Tätigkeit sollte sich dann bevorzugt eine weitere Kalibration anschliessen. Es ist somit wichtig, zwischen den beiden Vorgängen Kalibration und Justage zu unterscheiden. In einer Kalibriereinrichtung werden üblicherweise, nach obiger Definition, die fol- genden Schritte durchgeführt: Vermessen des Prüflings gegen ein Normal, Abspeichern der Daten, Berechnung der Ausgleichswerte, Justage des Prüflings, Kalibration des Prüflings mit gleichzeitiger Erstellung des Kalibrationsberichtes. Jede Messzelle muss insbesondere auch auf die entsprechende vorgesehene Messzellentemperatur kalibriert werden. Der Kalibriervorgang besteht, wie erwähnt, in einer Vergleichsmessung der zu prüfenden Messzelle gegen ein Normal, also eine gegen eine Referenzmesszelle. Hierbei wird der Zustand festgestellt und die Abweichungen für den gewünschten Messbereich festgehalten. Die ermittelten Abweichungen können dann verwendet werden, um die von der Messzelle erzeugten Messsignale entsprechend zu korrigieren bzw. zu justieren. Derartige Messzellen können somit immer nur bei dieser genau festgelegten Temperatur betrieben werden für welche sie justiert wurde. Für jeden Wert einer gewünschten Messzellentemperatur muss jeweils eine speziell darauf kalibrierte Messzelle beim Anwender an der Vakuumprozessanlage verwendet werden. Wenn eine andere Arbeitstemperatur der Messzelle erforderlich ist, abhängig vom angewendeten Prozess und den Erfordernissen, muss jeweils eine andere Mess- zelle eingesetzt werden die eigens darauf kalibriert wurde. Dies erhöht den Aufwand beträchtlich und es kann nicht einfach im Feld beim Anwender die Betriebstemperatur der Messzelle gewechselt werden.
Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Nachteile des Standes der Technik zu beseitigen. Insbesondere stellt sich die vorliegende Erfindung die Aufgabe, ein Verfahren zum Betrieb und zur Kalibrierung einer kompakten Vakuum- membranmesszellenanordnung mit einer integrierten Heizung und Messelektronik zu realisieren, welche über einen grosseren Temperaturbereich und bei verschiedenen Temperaturwerten stabil betrieben werden kann, wobei dieselbe Messzelle beim Anwender für verschiedene gewählte Temperaturwerte eingesetzt werden kann.
Die Aufgabe wird bei den vorgestellten Verfahren gemäss den Merkmalen der Patentansprüche 1 und 8 gelöst. Die abhängigen Patentansprüche beziehen sich auf vorteilhafte weitere Verfahrensschritte der Erfindung.
Erfindungsgemäss wird eine Messzellenanordnung mit einer heizbaren Vakuum- membranmesszelle nach der Herstellung kalibriert indem diese gegen eine Refe- renzmesszelle an mindestens einem, vorzugsweise mindestens zwei Druckpunkten und mindestens zwei Temperaturwerten des Arbeitsbereiches vermessen wird, wobei aus den festgestellten Abweichungen Ausgleichswerte ermittelt werden, die in einem Kalibrierdatenspeicher in der Messzellenanordnung abgelegt werden und dort zur Justage der Vakuummembranmesszelle nach Bedarf abgerufen werden können für die gewünschten Arbeitsbereiche. Im Messbetrieb können an der Messzellenanordnung die abgespeicherten Ausgleichswerte aus dem Kalibrierdatenspeicher entsprechend dem gewünschten Einsatzbereich vom Anwender abgerufen werden, um die Messzellenanordnung vor Ort auf optimale Werte zu justieren und dies bei verschiedenen gewünschten Einsatztemperaturen. Mit einer einzelnen Messzellenanordnung können somit verschiedenste Anwendungen bei verschiedenen Einsatztemperaturen abgedeckt werden. Es somit nicht mehr notwendig für jeden gewählten Arbeitspunkt oder Einsatzbereich eine separate, im Herstellerwerk, darauf eingestellte Messzellen- anordnung zu verwenden. Dies ermöglicht nicht nur eine hohe Messpräzision bei guter Reproduzierbarkeit zu realisieren sondern auch eine hohe Flexibilität und Kosteneinsparung des Anwenders. Zusätzlich ermöglicht dies auch dem Hersteller einen grossen Anwendungsbereich mit nur einer einzelnen Messzellenanordnung abzudecken, wodurch die Abwicklung von Aufträgen und die Lagerhaltung we- sentlich vereinfacht wird. Dadurch werden auch mögliche Lieferungsprobleme wesentlich verringert.
Zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahren wird mit Vorteil eine Messzellenanordnung verwendet, bei welcher eine Vakuummembranmesszelle inner- halb eines Thermobehälters angeordnet ist, der eine Heizanordnung bildet. Dadurch wird die Messzelle auf die gewünschte Temperatur aufgeheizt, wobei der Messzellenanschluss für die Vakuumdruckmessung durch den Thermobehälter hindurch geführt wird und in diesem Bereich der Thermobehälter als Thermokör- per ausgebildet ist in welchem eine Heizquelle angeordnet ist. Der Thermobehäl- ter wird von einem Isolationsmantel umgeben, um den geheizten Thermokörper gegen die Umgebung zu isolieren und dadurch geringste mögliche Temperaturgradienten im Thermobehälter zu garantieren bei geringen Wärmeverlusten. Hier- durch wird eine homogene Temperaturverteilung an der Messzelle ermöglicht bei kompakter Bauweise.
Die Erfindung wird nun anhand von Figuren schematisch und beispielsweise be- schrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 schematisch eine Messzellenanordnung mit einer Kalibriereinrichtung, zur Darstellung eines Kalibriervorganges werkseitig,
Fig. 2 schematisch eine Messzellenanordnung mit einer Prozessteuerung, wie dies beispielsweise beim Anwender an einer Prozessanlage eingesetzt wird,
Fig. 3 schematisch eine Messzellenanordnung, wie dies beispielsweise beim Anwender als weiteres Beispiel eingesetzt werden kann durch Auswahl und Abruf von bestimmten Ausgleichswerten für die Justage an der Mess- zelle selbst,
Fig. 4 schematisch und im Querschnitt eine Kalibriereinrichtung, wie sie beispielsweise mit Vorteil werkseitig eingesetzt werden kann,
Für das Verfahren gemäss vorliegender Erfindung zur Kalibrierung einer Mess- zellenanordnung 1 ist eine Messzellenanordnung 1 besonders geeignet, welche als Drucksensor eine Vakuummembranmesszelle 2 enthält, von der Art wie sie zuvor beschrieben worden ist. Eine Anordnung zur Kalibrierung einer derartigen Messzelle ist in der Figur 1 schematisch dargestellt. Die Vakuummembranmesszelle 2 weist eine Zuleitung auf mit einem Messanschluss 5, welche beispielswei- se mit einem Flansch an ein Vakuumvolumen 58, 30 angeschlossen werden kann. Das Vakuumvolumen 58, 30 kann Teil einer Kalibriereinrichtung 10 sein und im Messbetrieb die Vakuumkammer einer Prozessanlage 30. Über diesen Messanschluss wird eine Verbindung hergestellt zwischen der Membran der Messzelle und Vakuumvolumen bei welchem der Druck gemessen werden soll. Die Vaku- ummembranmesszelle 2 ist elektrisch, die mit einer Messzellenelektronik 4 verbunden, welche einen Messzellendatenspeicher 6, eine Messzellensteuerung 7 und ein Messzelleninterface 8 zum Austausch von Daten mit peripheren Geräten aufweist. Das empfindliche Signal von der Vakuummembranmesszelle 2 wird in dieser Messzellenelektronik erfasst und aufbereitet. Die Messzellenanordnung 1 umfasst ausserdem eine programmierbare Heizung 3 zur Heizung der Vakuummembranmesszelle 2 auf eine vorgebbare Temperatur, mit einer Heizanordnung 3 welche vorzugsweise die Vakuummesszelle 2 möglichst vollständig umschliesst und von einem Isolationsmantel umgeben wird, wie die zuvor schon beschrieben worden ist. Diese Elemente werden mit Vorteil alle innerhalb eines Gehäuse angeordnet, derart dass die Messzellenanordnung 1 ein eigenständiges Geräteteil bildet.
Die Messzellenanordnung 1 wird über das Messzelleninterface 8 mit einer Signalleitung 20 mit der Aussenwelt verbunden. Mit dieser Signalleitung 20 kann einerseits das gemessene Drucksignal ausgegeben und verwertet werden und andererseits können auch Daten in die Messzellenanordnung 1 eingelesen werden um diese mit Hilfe der Messzellenelektronik 4 entsprechend den gewünschten Erfordernissen zu steuern und / oder zu programmieren und beispielsweise zu kalibrieren. In Figur 1 ist eine Messzellenanordnung 1 schematisch dargestellt welche über die Signalleitung 20 mit einer Kalibriereinrichtung 10 verbunden ist. Diese Anordnung wird werkseitig verwendet, um eine Messzellenanordnung 1 zu kalibrieren.
Die Kalibriereinrichtung 10 enthält ein Kalibriergerät 12 und eine Kalibrierelektronik 11. Das Kalibriergerät enthält ein Vakuumvolumen 58 an welches die Messzel- lenanordnung 1 über ihren Messanschluss 5 angeschlossen ist. Das Vakuumvolumen ist 58 ist auch mit einer Referenzmesszelle verbunden dessen Signale mit denjenigen der zu kalibrierenden Messzellenanordnung 1 verglichen werden können. Mit einer Heizanordnung 63, vorzugsweise einer Heizkammer, kann die oder mehrere Messzellenanordnung 1 auf eine gewünschte vorgebbare konstante Temperatur gebracht werden, um definierte Verhältnisse zu erzeugen bei verschiedenen Temperaturarbeitspunkten. Der Kalibriervorgang läuft innerhalb eines vorgebbaren Zeitablaufes 65 ab. Die Kalibrierablaufsteuerung 11 enthält einen Kalibrierdatenspeicher 13, eine Kalibriersteuerung 14, die beispielsweise einen Prozessor enthält und ein Kalibrierinterface 15 an welchem die Messzellenanordnung 1 mit der Signalleitung 20 angeschlossen ist.
Ein bevorzugter Ablauf für den Kalibriervorgang umfasst folgende Schritte: a) Verbindung der Messzellenanordnung 1 mit einer Kalibriereinrichtung 10, vorzugsweise durch platzieren in einer Heizkammer 63, mit anschliessen des Messanschlusses 5 an ein Vakuumvolumen 58 und anschliessen des Messzelleninterface 8 über eine Signalleitung 20 an eine Kalibrier- ablaufsteuerung 11 , sowie einschalten der Messzellenanordnung 1 ; b) Einstellung einer ersten Heiztemperatur an der Messzellenanordnung auf einen vorgegebenen konstanten Wert; c) Durchführung eines ersten Kalibrationsschrittes der Messzellenanordnung 1 durch Erzeugung von mindestens einem, vorzugsweise minde- stens zwei verschiedenen vorgegebenen Drücken im Vakuumvolumen
58 bei gleichzeitiger Erfassung der Vakuummessignale der Messzellenanordnung 1 und mindestens einer Referenzmesszelle 6, sowie Speicherung der erfassten Druckwerte in einem Kalibrierdatenspeicher 13, d) Ermittlung von Ausgleichswerten mit einem Kalibrierprozessor 14 aus den ermittelten Differenzwerten der Messzellenanordnung 1 und der
Referenzmesszelle 6, sowie Zwischenspeicherung dieser Differenzwerte in einem Kalibrierdatenspeicher 13 der Kalibrierablaufsteuerung 11 , e) Justage der Messzellenanordnung 1 durch Übertragung der ermittelten Ausgleichswerte zum Messzellendatenspeicher 6 für die bei den ver- schiedenen vorgegebenen Arbeitspunkte ermittelten abweichenden
Werte für Drücke und Temperatur in Bezug zur Referenzmesszelle 60.
Die vorerwähnte Ausbildung einer Messzellenanordnung 1 mit ihrer Messzellenelektronik 4 und dem vorerwähnten Aufbau mit Membranmesszelle 2 und Heizung 3 ermöglicht es zusammen mit den erfindungsgemässen Verfahrensschritten einen Satz an Ausgleichswerten, die beim Kalibriervorgang erfasst worden sind, innerhalb der Messzellenanordnung 1 ab zu speichern derart, dass diese nach Bedarf für verschiedene gewünschte Anendungen mit unterschiedlichen Arbeitspunkten einfach abgerufen werden können und dadurch die Messzellenanordnung 1 immer auf optimale Genauigkeit eingestellt ist. Dadurch kann das sehr sensitive System der Membranmesszellentechnik optimal genutzt werden und bei hoher Wirtschaftlichkeit eine sehr hohe, reproduzierbare Messgenauigkeit über grosse Arbeitsbereiche erzielt werden. Zusätzlich können mit Hilfe der vorhandenen Messzellenelektronik 4 auch zwischen den erfassten Messpunkten Interpolationsverfahren eingesetzt werden, um die Genauigkeit weiter zu erhöhen und / oder den Messbereich zu erweitern.
Eine für die Durchführung besonders geeignete Kalibriereinrichtung 10 ist schematisch in der Figur 4 gezeigt. An eine Kalibriervakuumkammer mit dem Vakuumvolumen 58 ist eine, vorzugsweise mehrere Messzellenanordnungen 1 , 61 angeschlossen und vorzugsweise mindestens zwei Referenzmesszellen 60. An das- selbe Vakuumvolumen 58 ist mindestens eine Referenzmesszelle 60 angeschlossen. Alle Messzellen sind elektrisch an eine Kalibrierablaufsteuerung 11 angeschlossen zur Vorgabe von Einstellwerten und zur Erfassung und Verarbeitung der gemessenen Werte. Eine Heizkammer 63 umgibt diese Kalibriervakuumkammer 59 mit den Messzellen 60, 61 zum gleichmässigen Aufheizen der Anordnung auf einen vorzugsweise konstanten Temperaturwert, bei welchem die Kalibrierung erfolgen soll. Die Heizkammer 63 wird mit Heizelementen 64 geheizt, welches mit Vorteil Peltier - Elemente sind. Die Heizkammer kann zusätzlich mit einer Isolation 62 versehen werden, um möglichst geringe Temperaturverluste und eine gleich- massige Temperaturverteilung zu erzielen. Das Vakuumvolumen 58 wird mit ei- nem üblichen Pumpsystem evakuiert, welches eine Vorvakuumpumpe 54, ein Vorvakuumventil 53, eine Vorvakuummesszelle 52 und eine nachgeschaltete Hochvakuumpumpe 56 enthält. Nach dem Abpumpen auf einen tiefen Druckwert wird ein Kalibriergas 50, beispielsweise Stickstoff, über ein Regelventil 51 und den Gaseinlass 57 mit Blende in das Vakuumvolumen 58 eingelassen und der ge- wünschte Druck bei dem ein Kalibrierschritt erfolgen soll eingestellt. Das Vakuumvolumen 58 der Kalibriereinrichtung 10 sollte vorzugsweise vor dem Kalibriervorgang auf einen Basisdruck abgepumpt werden der 5 Dekaden unter dem oberen Messbereichsende der zu kalibrierenden Messzellenanordnung 1 liegt. Die Messzellenanordnung 1 soll vorzugsweise einen Vakuumdruckmessbe- reich von mindestens 2 bis 4 Dekaden erfassen. Es ist günstig wenn mindestens zwei verschieden vorgegebene Vakuumdrücke des Schrittes c) an den Skale- nendwert und an den Skalenanfangswert der Messzellenanordnung 1 gelegt werden. Die Erfassung der Messwerte bei mehr als zwei Druckpunkten erhöht die Genauigkeit der zu kalibrierenden Messzellenanordnung 1 , 61 nach dem Justage- schritt, wobei damit auch der Kalibrierungsaufwand grösser wird. Günstige Bedingungen werden erzielt wenn bei der Durchführung des Schrittes c) mindestens 2 bis 5 vorgegebene Druckwerte erfasst werden, vorzugsweise 5 bis 10 und diese innerhalb des gewünschten zu erfassenden Messbereiches der Messzellenanordnung 1 gelegt werden. Oft ist es vorteilhaft mindestens ein weiterer Kalibrationsschritt f) wiederholt durchzuführen für mindestens einen weiteren Druck, analog dem ersten Schritt c), wobei dieser als Kontrollschritt dient und dass mögliche ermittelte Wertabweichungen zwischen den Werten der Messzellenanordnung 1 und der Referenzmesszelle 60 zu der vorhergehenden Messung in einem Speicher festgehalten werden für die weitere Auswertung.
Das Verfahren ermöglicht die Schritte a) bis e), vorzugsweise a) bis f) für mindestens einen weiteren Wert der Heiztemperatur durchzuführen, vorzugsweise für 3 bis 6 verschiedene Heiztemperaturwerte. Hierdurch kann die gleiche Messzellenanordnung 1 vom Anwender auch bei verschiedenen Messzellentemperaturen mit hoher Genauigkeit eingesetzt werden durch einfaches Abrufen der gespeicherten Kalibrierdatensätze mit anschliessender automatischer Justierung.
Auf der Anwenderseite wird die Messzellenanordnung 1 zur Vakuumdruckmessung eingesetzt, insbesondere an Prozessanlagen zur Überwachung des Vaku- ums an den entsprechenden Vakuumkammern oder Vakuumerzeugungssystemen. An einer Vakuumprozessanlage müssen oft verschiedene Prozessbereiche überwacht werden und es werden oft mehrere Messzellenanordnungen 1 verwen- det. In solchen Fällen werden mit Vorteil eine Vakuumsteuerungseinheit 21 eingesetzt, die mit einer Messzellenanordnung 1 oder mehreren, für den Datenaustausch kommunizierend verbunden ist, wie dies in Figur 2 schematisch dargestellt ist. Eine derartige Vakuumsteuerungseinheit 21 enthält wiederum einen Daten- Speicher 13', einen Steuerungsprozessor 14' und ein Interface 15' welches über die Signalleitung 20 mit dem Messzelleninterface 8 kommuniziert. Eine derartige Vakuumsteuerungseinheit 21 kann auch Teil einer Prozessteuerung einer Vakuumprozessanlage sein. Es kann aber auch ein Zusatzsteuergerät 22 oder eine Prozesssteuerung übergeordnet mit der Vakuumsteuerungseinheit 21 verbunden sein. Diese Steuerungseinheiten ermöglichen wiederum, abhängig von den erforderlichen Arbeitspunkten oder Bereichen, die gewünschten Datensätze mit den Ausgleichswerten im richtigen Zeitpunkt an der Messzellenanordnung abzurufen und die dazu notwendigen Justierungen vorzunehmen oder aber auch neue Datensätze in den Datenspeicher 6 der Messzellenanordnung 1 zu laden. Ein weiter Anwendungsfall einer Messzellenanordnung 1 besteht darin diese ohne externe Steuerungen 21 , 22 einzusetzen und direkt an der Messzellenanordnung 1 über einen Steuerschalter 23 die gewünschten Ausgleichsdaten abzurufen zur Vornahme der Justage der Messzelle, wie dies in der Figur 3 schematisch dargestellt ist.
Ein bevorzugter Ablauf für den Betrieb einer Messzellenanordnung 1 zur Druckmessung beim Anwender besteht in folgenden Schritten:
- Die Messzellenanordnung wird mit einem Vakuumvolumen 30 einer Vakuumprozessanlage verbunden; - die Temperatur der Vakuummesszelle 2 wird mit der Heizung 3 auf einen konstanten vorgegebenen Wert eingestellt;
- das von der Vakuummesszelle 2 abgegebene Drucksignal wird in der Messzellenelektronik 4 derart verarbeitet, dass die in einem Messzellendatenspeicher 6 abgelegten zuvor in einem Kalibriervorgang ermittelten Ausgleichswerte zu ei- ner Referenzmesszelle 60 verwendet werden zur Korrektur des Drucksignales mit Hilfe der Messzellensteuerung 7; das derart korrigierte Drucksignal wird über das Messzelleninterface 8 an periphere Geräte 21 ,22 weitergeleitet zur weiteren Verwendung.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Kalibrierung einer Messzellenanordnung (1), wobei diese enthält: eine Vakuummembranmesszelle (2) mit einem Messanschluss (5), die mit einer Messzellenelektronik (4) verbunden ist, welche einen Messzellendatenspeicher (6), eine Messzellensteuerung (7) und ein Messzelleninterface (8) zum Austausch von Daten mit peripheren Geräten aufweist und eine programmierbare Heizung (3) zur Heizung der Vakuummembranmesszelle (2) auf eine vorgebbare Temperatur, wobei der Kalibriervorgang folgende Schritte umfasst: a) Verbindung der Messzellenanordnung (1) mit einer Kalibriereinrichtung (10) mit anschliessen des Messanschlusses (5) an ein Vakuumvolumen (58) und anschliessen des Messzelleninterface (8) über eine Signalleitung (20) an eine Kalibrierablaufsteuerung (11), sowie einschalten der Mess- zellenanordnung (1); b) Einstellung einer ersten Heiztemperatur an der Messzellenanordnung auf einen vorgegebenen konstanten Wert; c) Durchführung eines ersten Kalibrationsschrittes der Messzellenanordnung (1) durch Erzeugung von mindestens einem vorgegebenen Druck im Vakuumvolumen (58) bei gleichzeitiger Erfassung der Vakuummes- signale der Messzellenanordnung (1) und mindestens einer Referenzmesszelle (6), sowie Speicherung der erfassten Druckwerte in einem Kalibrierdatenspeicher (13), d) Ermittlung von Ausgleichswerten mit einem Kalibrierprozessor (14) aus den ermittelten Differenzwerten der Messzellenanordnung (1) und der
Referenzmesszelle (6), sowie Zwischenspeicherung dieser Differenzwerte in einem Kalibrierdatenspeicher (13) der Kalibrierablaufsteuerung
(11 ), e) Justage der Messzellenanordnung (1) durch Übertragung der ermittelten Ausgleichswerte zum Messzellendatenspeicher (6) für die bei den verschiedenen vorgegebenen Arbeitspunkte ermittelten abweichenden Werte für Drücke und Temperatur in Bezug zur Referenzmesszelle (60).
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Messzellenanordnung (1) einen Vakuumdruckmessbereich von mindestens 2 bis 4 Dekaden erfasst.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens zwei verschiedene vorgegebenen Vakuumdrücke des Schrittes c) erfasst werden und an den Skalenendwert und an den Skalenanfangswert der Messzellenanordnung (1) gelegt werden.
4. Verfahren nach einem der vorhergenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Schritt c) mindestens 2, vorzugsweise mindestens 2 bis 5 vorgegebene Druckwerte erfasst werden, vorzugsweise 5 bis 10 und diese innerhalb des gewünschten zu erfassenden Messbereiches der Messzellenanordnung (1) gelegt werden.
5. Verfahren nach einem der vorhergenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein weiterer Kalibrationsschritt f) wiederholt durchgeführt wird für mindestens einen weiteren Druck, analog dem ersten Schritt c), wobei dieser als Kontrollschritt dient und dass mögliche ermittelte Wertabweichungen zwischen den Werten der Messzellenanordnung (1) und der Referenzmesszelle (60) zu der vorhergehenden Messung in einem Speicher festgehalten werden für die weitere Auswertung.
6. Verfahren nach einem der vorhergenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass die Schritte a) bis e), vorzugsweise a) bis f) für mindestens einen weiteren Wert der Heiztemperatur durchgeführt wird, vorzugsweise für 3 bis 6 verschiedene Heiztemperaturen.
7. Verfahren nach einem der vorhergenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass in der Kalibriereinrichtung (10) mindestens zwei Messzellenanordnungen (1) gleichzeitig kalibriert werden und dass vorzugsweise mindestens zwei Referenzmesszellen (60) verwendet werden.
8. Verfahren zum Betreiben einer kalibrierten Messzellenanordnung (1), wobei diese enthält: eine Vakuummembranmesszelle (2) mit einem Messanschluss (5), die mit einer Messzellenelektronik (4) verbunden ist, welche einen Mess- Zellendatenspeicher (6), eine Messzellensteuerung (7) und ein Messzelleninterface (8) zum Austausch von Daten mit peripheren Geräten aufweist, und eine programmierbare Heizung (3) zur Heizung der Vakuummembranmesszelle (2) auf eine vorgebbare Temperatur wobei der Messanschluss mit einem Vakuumvolumen (30) einer Vakuumprozessanlage verbunden wird zur Erfassung des Vakuumdruckes, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur der Vakuummesszelle (2) mit der Heizung (3) auf einen konstanten vorgegebenen Wert eingestellt wird und das von der Vakuummesszelle (2) abgegebene Drucksignal in der Messzellenelektronik (4) derart verarbeitet wird, dass die in einem Messzellendatenspeicher (6) abgelegten zuvor in ei- nem Kalibriervorgang ermittelten Ausgleichswerte zu einer Referenzmesszelle (60) verwendet werden zur Korrektur des Drucksignales mit Hilfe der Messzellensteuerung (7) und dass das derart korrigierte Drucksignal über das Messzelleninterface (8) an periphere Geräte weitergeleitet wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausgleichswerte für mehr als ein Arbeitspunkt, vorzugsweise für verschiedene gewählte und eingestellte Temperaturen der Vakuummembranmesszelle (2) aus dem Messzellendatenspeicher (6) abgerufen und von der Messzellensteuerung (7) verarbeitet und korrigiert werden können und dadurch die Ka- librierungswerte für verschiedene gewünschte Arbeitspunkte der Messzellenanordnung (1) unmittelbar an dieser selbst abgerufen werden können.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass das abrufen der Ausgleichswerte für den gewählten Arbeitspunkt der Messzel- lenanordnung unmittelbar an dieser selbst vorgenommen wird durch einen daran angeordneten Steuerschalter.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass das abrufen der Ausgleichswerte für den gewählten Arbeitspunkt der Messzellenanordnung (1) von extern über das Messzelleninterface (8) erfolgt, vorzugsweise von einer Vakuumsteuerungseinheit (21 , 22), vorzugs- weise von einer Prozessteuerung (21 , 22) einer Vakuumprozessanlage (30).
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vakuummembranmesszelle (2) als eine kapazitive Membranmesszelle (2) oder als eine optisch auslesbare Membranmesszelle (2), wie nach einem Fabry Perot Verfahren, ausgebildet wird.
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Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/669,740 US8423311B2 (en) 2007-07-23 2008-06-09 Method for calibrating and operating a measuring cell arrangement
JP2010517246A JP5524055B2 (ja) 2007-07-23 2008-06-09 測定セル構造を較正する方法、および作動させる方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103808457A (zh) * 2013-12-24 2014-05-21 兰州空间技术物理研究所 低温下真空校准装置及方法
CN114486062A (zh) * 2022-03-31 2022-05-13 季华实验室 一种消除薄膜应力的电容薄膜真空计

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100233353A1 (en) * 2009-03-16 2010-09-16 Applied Materials, Inc. Evaporator, coating installation, and method for use thereof
JP2013040914A (ja) * 2011-08-15 2013-02-28 Toyo Denshi Kenkyusho:Kk 校正機能付き冷陰極形電離真空計
US8997576B2 (en) 2013-01-18 2015-04-07 Reno Technologies, Inc. Method and system for monitoring gas pressure for reference cavity of capacitance diaphragm gauge
US8997548B2 (en) 2013-01-29 2015-04-07 Reno Technologies, Inc. Apparatus and method for automatic detection of diaphragm coating or surface contamination for capacitance diaphragm gauges
US8862420B2 (en) 2013-02-05 2014-10-14 Reno Sub-Sustems Canada Incorporated Multi-axis tilt sensor for correcting gravitational effects on the measurement of pressure by a capacitance diaphragm gauge
US8965725B2 (en) * 2013-02-05 2015-02-24 Reno Technologies, Inc. Automatic calibration adjustment of capacitance diaphragm gauges to compensate for errors due to changes in atmospheric pressure
US8997575B2 (en) 2013-02-13 2015-04-07 Reno Technologies, Inc. Method and apparatus for damping diaphragm vibration in capacitance diaphragm gauges
CN103557991B (zh) * 2013-11-11 2015-12-30 姚文利 一种用于压力测量的真空计校准方法及其装置
US9285289B2 (en) * 2013-12-06 2016-03-15 Freescale Semiconductor, Inc. Pressure sensor with built-in calibration capability
CN104316260B (zh) * 2014-11-14 2017-02-22 陕西电器研究所 适用于高温环境微压力传感器的校准系统
US20170097181A1 (en) * 2015-10-05 2017-04-06 Dunan Microstaq, Inc. Method and Apparatus For Calibrating And Testing Multiple Superheat Controllers
KR102010498B1 (ko) * 2017-02-14 2019-08-27 연세대학교 원주산학협력단 압력 센서 교정 관리 시스템
CN107560786B (zh) * 2017-09-08 2019-12-31 成都倍特科技有限责任公司 真空度在线检测及其补偿系统
DE102018203419A1 (de) * 2018-03-07 2019-09-12 Infineon Technologies Ag Vorrichtung und verfahren zum kalibrieren einer druckerfassungseinrichtung
CN114544104A (zh) * 2022-02-22 2022-05-27 佛山市美的清湖净水设备有限公司 真空气检设备及其膜元件检测方法、装置及存储介质
CN115060414B (zh) * 2022-08-17 2022-11-25 成都凯天电子股份有限公司 一种提供高精度压力标准的装置及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2617305A (en) * 1947-12-16 1952-11-11 Socony Vacuum Oil Co Inc Barometer preheater
US4866640A (en) * 1987-08-20 1989-09-12 Granville-Phillips Company Temperature compensation for pressure gauge
US5311452A (en) * 1990-11-28 1994-05-10 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus using capacitance manometer and pressure control method thereof
US6035721A (en) * 1995-09-04 2000-03-14 Siemens Ag Process for compensating for the incorrect operation of measuring devices caused by external influences

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5307683A (en) * 1992-08-05 1994-05-03 Marathon Oil Company Transient temperature compensation for pressure gauges
JPH0687841U (ja) * 1993-06-04 1994-12-22 石川島播磨重工業株式会社 圧力計測センサ用較正装置
US6910381B2 (en) * 2002-05-31 2005-06-28 Mykrolis Corporation System and method of operation of an embedded system for a digital capacitance diaphragm gauge
JP2004273682A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp 処理装置
KR100739821B1 (ko) * 2005-06-24 2007-07-13 한국표준과학연구원 1토르, 10토르, 100토르 겸용 진공게이지 교정장치
KR101292929B1 (ko) * 2005-08-12 2013-08-02 인피콘 게엠베하 광학 간섭계 압력 센서
KR100724092B1 (ko) * 2005-10-27 2007-06-04 한국표준과학연구원 Ｉｎ ―ｓｉｔｕ법에 의한 진공게이지의 절대교정 및 비교교정 장치 및 방법
US7577539B2 (en) * 2006-01-12 2009-08-18 Zmd America Inc. Sensor interface and sensor calibration technique
EP1987463A1 (de) * 2006-02-21 2008-11-05 WEISS, Kenneth P. Verfahren und vorrichtung für zahlung mit sicherem zugang und identifizierung

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2617305A (en) * 1947-12-16 1952-11-11 Socony Vacuum Oil Co Inc Barometer preheater
US4866640A (en) * 1987-08-20 1989-09-12 Granville-Phillips Company Temperature compensation for pressure gauge
US5311452A (en) * 1990-11-28 1994-05-10 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus using capacitance manometer and pressure control method thereof
US6035721A (en) * 1995-09-04 2000-03-14 Siemens Ag Process for compensating for the incorrect operation of measuring devices caused by external influences

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103808457A (zh) * 2013-12-24 2014-05-21 兰州空间技术物理研究所 低温下真空校准装置及方法
CN103808457B (zh) * 2013-12-24 2016-01-13 兰州空间技术物理研究所 低温下真空校准装置及方法
CN114486062A (zh) * 2022-03-31 2022-05-13 季华实验室 一种消除薄膜应力的电容薄膜真空计

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