WO2008110159A3 - Procédé et dispositif permettant de déterminer une rupture dans une matière cristalline - Google Patents

Procédé et dispositif permettant de déterminer une rupture dans une matière cristalline Download PDF

Info

Publication number
WO2008110159A3
WO2008110159A3 PCT/DE2008/000439 DE2008000439W WO2008110159A3 WO 2008110159 A3 WO2008110159 A3 WO 2008110159A3 DE 2008000439 W DE2008000439 W DE 2008000439W WO 2008110159 A3 WO2008110159 A3 WO 2008110159A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
fracture
determining
crystalline material
fractures
transmitted light
Prior art date
Application number
PCT/DE2008/000439
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
WO2008110159A2 (fr
Inventor
Marc Hemsendorf
Christian Probst
Original Assignee
Gp Solar Gmbh
Marc Hemsendorf
Christian Probst
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gp Solar Gmbh, Marc Hemsendorf, Christian Probst filed Critical Gp Solar Gmbh
Priority to DE112008001330T priority Critical patent/DE112008001330A5/de
Publication of WO2008110159A2 publication Critical patent/WO2008110159A2/fr
Publication of WO2008110159A3 publication Critical patent/WO2008110159A3/fr

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/9501—Semiconductor wafers
    • G01N21/9505—Wafer internal defects, e.g. microcracks
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004—Industrial image inspection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108—Industrial image inspection
    • G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)

Abstract

La présente invention concerne un procédé permettant de déterminer une rupture (18) dans une matière cristalline. Selon cette invention, une fonction de lieu de la luminosité d'une image transparente (16) est obtenue à partir d'une image transparente (16) de la matière et une information de fréquence de la fonction de lieu est obtenue à partir de celle-ci. On déduit ensuite la présence d'une rupture (18) si des fréquences caractéristiques de ruptures (18) sont présentes. Il est ainsi possible de détecter dans une plaquette des ruptures (18) qui ne sont pas visibles de l'extérieur et de différencier de manière fiable les joints des grains (20) des ruptures (18).
PCT/DE2008/000439 2007-03-15 2008-03-15 Procédé et dispositif permettant de déterminer une rupture dans une matière cristalline WO2008110159A2 (fr)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE112008001330T DE112008001330A5 (de) 2007-03-15 2008-03-15 Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen eines Bruchs in kristallinem Material

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007012525.0 2007-03-15
DE102007012525 2007-03-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2008110159A2 WO2008110159A2 (fr) 2008-09-18
WO2008110159A3 true WO2008110159A3 (fr) 2008-11-20

Family

ID=39710976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/DE2008/000439 WO2008110159A2 (fr) 2007-03-15 2008-03-15 Procédé et dispositif permettant de déterminer une rupture dans une matière cristalline

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE112008001330A5 (fr)
WO (1) WO2008110159A2 (fr)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108878307B (zh) * 2017-05-11 2020-12-08 北京北方华创微电子装备有限公司 晶片检测系统和晶片检测方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0309758A2 (fr) * 1987-09-23 1989-04-05 Isotopen-Technik Dr. Sauerwein Gmbh Procédé et dispositif pour constater et évaluer des fissures superficielles sur des pièces à usiner
WO1999001985A1 (fr) * 1997-07-03 1999-01-14 Neopath, Inc. Procede et appareil destines a l'inspection de plaquettes a semiconducteurs et de dispositifs afficheurs a cristaux liquides et faisant appel a la decomposition et a la synthese d'images multidimensionnelles
WO2002040970A1 (fr) * 2000-11-15 2002-05-23 Real Time Metrology, Inc. Procédé et dispositif optique d'examen d'objets plans de grande superficie
US20060278831A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Infrared inspection apparatus, infrared inspecting method and manufacturing method of semiconductor wafer
EP1801569A2 (fr) * 2005-12-23 2007-06-27 Basler Aktiengesellschaft Procédé et dispositif destinés à la reconnaissance de fissures dans des tranches de silicium

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0309758A2 (fr) * 1987-09-23 1989-04-05 Isotopen-Technik Dr. Sauerwein Gmbh Procédé et dispositif pour constater et évaluer des fissures superficielles sur des pièces à usiner
WO1999001985A1 (fr) * 1997-07-03 1999-01-14 Neopath, Inc. Procede et appareil destines a l'inspection de plaquettes a semiconducteurs et de dispositifs afficheurs a cristaux liquides et faisant appel a la decomposition et a la synthese d'images multidimensionnelles
WO2002040970A1 (fr) * 2000-11-15 2002-05-23 Real Time Metrology, Inc. Procédé et dispositif optique d'examen d'objets plans de grande superficie
US20060278831A1 (en) * 2005-06-14 2006-12-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Infrared inspection apparatus, infrared inspecting method and manufacturing method of semiconductor wafer
EP1801569A2 (fr) * 2005-12-23 2007-06-27 Basler Aktiengesellschaft Procédé et dispositif destinés à la reconnaissance de fissures dans des tranches de silicium

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ZIKUAN CHEN ET AL: "Subband correlation of Daubechies wavelet representations", OPTICAL ENGINEERING, SOC. OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS. BELLINGHAM, vol. 40, no. 3, 1 March 2001 (2001-03-01), pages 362 - 371, XP002458776, ISSN: 0091-3286 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE112008001330A5 (de) 2010-02-18
WO2008110159A2 (fr) 2008-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007072376A3 (fr) Correspondance de couleur destinée à un système de présentation pour magasins
WO2006067620A3 (fr) Indication d'un contenu hors d'une zone d'affichage
WO2006072896A3 (fr) Procede et dispositif electronique destines a detecter un objet graphique
WO2009114433A3 (fr) Dispositif et procédé pour quantifier la propreté d'une surface
AUPS114702A0 (en) Enhancement of sensors for airborne operation
WO2007098184A3 (fr) Méthodes et compositions pour détection d'analytes
ATE402605T1 (de) Vorrichtung zum ernten von obst und gemüse
WO2008083984A8 (fr) Dispositif de navigation et procédé pour améliorer un temps afin d'identifier l'emplacement d'un dispositif de navigation
WO2009040871A1 (fr) Dispositif et procédé de synthèse d'images
WO2007086840A3 (fr) Système et procédé de résonance magnétique pour détecter et confirmer des analytes
WO2009006975A3 (fr) Outil d'évaluation de formation en fond de trou
TW200644623A (en) Image capture device capable of flicker detection
TW200725545A (en) An apparatus and method for adjusting display-related setting of an electronic device
WO2007003766A8 (fr) Dispositif de comptage des rotations d'un objet dans un referentiel et procede de commande d'un tel dispositif
WO2008011170A3 (fr) Procédé pour détecter la présence de répétitions étendues de cgg dans la région non traduite en 5' du gène fmr1
AU2003248756A1 (en) Microparticle based signal amplification for the detection of analytes
WO2007079076A3 (fr) Determination d'un positionnement optimal de dispositifs ophtalmologiques par l'emploi de techniques de traitement d'images et de mise au point automatique
WO2006109064A8 (fr) Appareil et procede de mesure oculaire
FR2906398B1 (fr) Procede et dispositif d'attenuation de reponse en frequence de resonnance
WO2007092953A3 (fr) Proxy de moniteur sans fil
WO2006130489A3 (fr) Procede et dispositif permettant de determiner une caracteristique de capteur in vivo
WO2004002427A3 (fr) Procedes pour le traitement ou la prevention de l'obesite
GB2441675B (en) Method and apparatus for sensing the envelope of high level multi frequency band rf signals
WO2004022006A3 (fr) Procede de diagnostic du cancer du col de l'uterus
AU2003261132A1 (en) Adjusting target size of display images based on input device detection

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08734379

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1120080013306

Country of ref document: DE

REF Corresponds to

Ref document number: 112008001330

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20100218

Kind code of ref document: P

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08734379

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2