WO2008087827A1 - Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif - Google Patents

Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif Download PDF

Info

Publication number
WO2008087827A1
WO2008087827A1 PCT/JP2007/074376 JP2007074376W WO2008087827A1 WO 2008087827 A1 WO2008087827 A1 WO 2008087827A1 JP 2007074376 W JP2007074376 W JP 2007074376W WO 2008087827 A1 WO2008087827 A1 WO 2008087827A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
image forming
optical system
conjugate position
conjugate
forming optical
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/074376
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Youhei Fujishima
Original Assignee
Nikon Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corporation filed Critical Nikon Corporation
Publication of WO2008087827A1 publication Critical patent/WO2008087827A1/fr

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

L'invention concerne un système optique de formation d'image qui possède une région de formation d'image efficace avec une forme appropriée pour un dispositif d'exposition de type collectif, par exemple, et qui est un type réfractant réfléchissant avec une faible valeur absolue d'un grossissement de formation d'image et une ouverture numérique élevée. Le système optique de formation d'image forme une image d'une première surface (R) sur une seconde surface (W) et comporte un premier système de formation d'image (G1) disposé entre la première surface et une première position conjuguée, conjuguée optiquement avec la première surface, un second système de formation d'image (G2) disposé entre une seconde position conjuguée, conjuguée optiquement avec la première position conjuguée, et la première position conjuguée, et un troisième système de formation d'image (G3) disposé entre la seconde position conjuguée et la seconde surface. Si les grossissements de formation d'image des premier, second et troisième systèmes de formation d'image sont respectivement M1, M2 et M3, les conditions suivantes sont satisfaites : 0.8< | M1 | <2, 0.8< | M2 | <2 et 0.03< | M3 | <2.
PCT/JP2007/074376 2007-01-16 2007-12-19 Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif WO2008087827A1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007006844 2007-01-16
JP2007-006844 2007-01-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2008087827A1 true WO2008087827A1 (fr) 2008-07-24

Family

ID=39635832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2007/074376 WO2008087827A1 (fr) 2007-01-16 2007-12-19 Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW200844677A (fr)
WO (1) WO2008087827A1 (fr)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103278912A (zh) * 2013-06-19 2013-09-04 中国科学院光电技术研究所 一种折反式紫外光刻物镜
CN104111515A (zh) * 2014-07-11 2014-10-22 中国科学院光电技术研究所 一种大数值孔径浸没式投影物镜
US8908269B2 (en) 2004-01-14 2014-12-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images
US8913316B2 (en) 2004-05-17 2014-12-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with intermediate images
US9772478B2 (en) 2004-01-14 2017-09-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002277742A (ja) * 2000-10-23 2002-09-25 Nikon Corp 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置
WO2005059654A1 (fr) * 2003-12-15 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Objectif utilise comme objectif de projection pour microlithographie dote d'au moins une lentille liquide
WO2006005547A1 (fr) * 2004-07-14 2006-01-19 Carl Zeiss Smt Ag Objectif de projection catadioptrique
JP2007298984A (ja) * 2006-05-05 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag 高ｎａ投影対物レンズ
JP2008046641A (ja) * 2006-08-15 2008-02-28 Carl Zeiss Smt Ag マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002277742A (ja) * 2000-10-23 2002-09-25 Nikon Corp 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置
WO2005059654A1 (fr) * 2003-12-15 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Objectif utilise comme objectif de projection pour microlithographie dote d'au moins une lentille liquide
WO2006005547A1 (fr) * 2004-07-14 2006-01-19 Carl Zeiss Smt Ag Objectif de projection catadioptrique
JP2007298984A (ja) * 2006-05-05 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag 高ｎａ投影対物レンズ
JP2008046641A (ja) * 2006-08-15 2008-02-28 Carl Zeiss Smt Ag マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8908269B2 (en) 2004-01-14 2014-12-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images
US9772478B2 (en) 2004-01-14 2017-09-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes
US8913316B2 (en) 2004-05-17 2014-12-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with intermediate images
US9019596B2 (en) 2004-05-17 2015-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with intermediate images
US9134618B2 (en) 2004-05-17 2015-09-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with intermediate images
US9726979B2 (en) 2004-05-17 2017-08-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with intermediate images
CN103278912A (zh) * 2013-06-19 2013-09-04 中国科学院光电技术研究所 一种折反式紫外光刻物镜
CN103278912B (zh) * 2013-06-19 2015-07-08 中国科学院光电技术研究所 一种折反式紫外光刻物镜
CN104111515A (zh) * 2014-07-11 2014-10-22 中国科学院光电技术研究所 一种大数值孔径浸没式投影物镜
CN104111515B (zh) * 2014-07-11 2016-09-28 中国科学院光电技术研究所 一种大数值孔径浸没式投影物镜

Also Published As

Publication number Publication date
TW200844677A (en) 2008-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007016075A3 (fr) Systeme d&#39;objectif zoom
KR101757101B1 (ko) 소형 망원 렌즈 조립체
CN103518153B (zh) 可变放大倍率光学系统和成像设备
EP1712944A3 (fr) Lentille d&#39;imagerie
DE602009001009D1 (de) Kompaktes Teleobjektiv mit vier Einzellinsen und mit einer Eintrittspupille
WO2006081411A3 (fr) Telescope a systeme de grossissement ameliore
DE60308191D1 (de) Zoom mit ultrahohem vergrösserungsverhältnis
TW200502713A (en) Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
TW200736690A (en) Imaging lens
WO2009004965A1 (fr) Lentilles d&#39;imagerie, dispositif d&#39;imagerie, et terminal mobile
WO2012034995A3 (fr) Système optique de formation d&#39;image
CN105842828A (zh) 光学成像系统
EP1245984A3 (fr) Système de projection optique et appareil et méthode d&#39;exposition par projection
TW200802185A (en) Optics for an extended depth of field
WO2008087827A1 (fr) Système optique de formation d&#39;image, équipement d&#39;exposition et procédé de fabrication du dispositif
JP2008292800A (ja) アナモルフィックレンズ、撮像装置及び監視装置
EP3392707A1 (fr) Dispositif de formation d&#39;images
JP2011118372A (ja) レンズシステム
CN105988190A (zh) 光学成像系统
EP1983362A4 (fr) système d&#39;imagerie catadioptrique, dispositif d&#39;exposition, et procédé de fabrication de dispositif
US20200209524A1 (en) Optical imaging lens
EP1980890A4 (fr) Systeme de prise d images catadioptrique, dispositif d exposition et procede de fabrication de dispositif
KR101290518B1 (ko) 적외선 광학 렌즈계
TW200632373A (en) Optical projection system, exposure apparatus and method of fabricating devices
US20150370052A1 (en) Zoom lens system

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07850849

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 07850849

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP