WO2008087827A1 - Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif - Google Patents
Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif Download PDFInfo
- Publication number
- WO2008087827A1 WO2008087827A1 PCT/JP2007/074376 JP2007074376W WO2008087827A1 WO 2008087827 A1 WO2008087827 A1 WO 2008087827A1 JP 2007074376 W JP2007074376 W JP 2007074376W WO 2008087827 A1 WO2008087827 A1 WO 2008087827A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- image forming
- optical system
- conjugate position
- conjugate
- forming optical
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
L'invention concerne un système optique de formation d'image qui possède une région de formation d'image efficace avec une forme appropriée pour un dispositif d'exposition de type collectif, par exemple, et qui est un type réfractant réfléchissant avec une faible valeur absolue d'un grossissement de formation d'image et une ouverture numérique élevée. Le système optique de formation d'image forme une image d'une première surface (R) sur une seconde surface (W) et comporte un premier système de formation d'image (G1) disposé entre la première surface et une première position conjuguée, conjuguée optiquement avec la première surface, un second système de formation d'image (G2) disposé entre une seconde position conjuguée, conjuguée optiquement avec la première position conjuguée, et la première position conjuguée, et un troisième système de formation d'image (G3) disposé entre la seconde position conjuguée et la seconde surface. Si les grossissements de formation d'image des premier, second et troisième systèmes de formation d'image sont respectivement M1, M2 et M3, les conditions suivantes sont satisfaites : 0.8< | M1 | <2, 0.8< | M2 | <2 et 0.03< | M3 | <2.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007006844 | 2007-01-16 | ||
JP2007-006844 | 2007-01-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2008087827A1 true WO2008087827A1 (fr) | 2008-07-24 |
Family
ID=39635832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2007/074376 WO2008087827A1 (fr) | 2007-01-16 | 2007-12-19 | Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW200844677A (fr) |
WO (1) | WO2008087827A1 (fr) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103278912A (zh) * | 2013-06-19 | 2013-09-04 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种折反式紫外光刻物镜 |
CN104111515A (zh) * | 2014-07-11 | 2014-10-22 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种大数值孔径浸没式投影物镜 |
US8908269B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-12-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images |
US8913316B2 (en) | 2004-05-17 | 2014-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US9772478B2 (en) | 2004-01-14 | 2017-09-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002277742A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-09-25 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
WO2005059654A1 (fr) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Objectif utilise comme objectif de projection pour microlithographie dote d'au moins une lentille liquide |
WO2006005547A1 (fr) * | 2004-07-14 | 2006-01-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Objectif de projection catadioptrique |
JP2007298984A (ja) * | 2006-05-05 | 2007-11-15 | Carl Zeiss Smt Ag | 高na投影対物レンズ |
JP2008046641A (ja) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Carl Zeiss Smt Ag | マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ |
-
2007
- 2007-12-19 WO PCT/JP2007/074376 patent/WO2008087827A1/fr active Application Filing
-
2008
- 2008-01-15 TW TW097101424A patent/TW200844677A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002277742A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-09-25 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
WO2005059654A1 (fr) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Objectif utilise comme objectif de projection pour microlithographie dote d'au moins une lentille liquide |
WO2006005547A1 (fr) * | 2004-07-14 | 2006-01-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Objectif de projection catadioptrique |
JP2007298984A (ja) * | 2006-05-05 | 2007-11-15 | Carl Zeiss Smt Ag | 高na投影対物レンズ |
JP2008046641A (ja) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Carl Zeiss Smt Ag | マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8908269B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-12-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Immersion catadioptric projection objective having two intermediate images |
US9772478B2 (en) | 2004-01-14 | 2017-09-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes |
US8913316B2 (en) | 2004-05-17 | 2014-12-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US9019596B2 (en) | 2004-05-17 | 2015-04-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US9134618B2 (en) | 2004-05-17 | 2015-09-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
US9726979B2 (en) | 2004-05-17 | 2017-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with intermediate images |
CN103278912A (zh) * | 2013-06-19 | 2013-09-04 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种折反式紫外光刻物镜 |
CN103278912B (zh) * | 2013-06-19 | 2015-07-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种折反式紫外光刻物镜 |
CN104111515A (zh) * | 2014-07-11 | 2014-10-22 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种大数值孔径浸没式投影物镜 |
CN104111515B (zh) * | 2014-07-11 | 2016-09-28 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种大数值孔径浸没式投影物镜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200844677A (en) | 2008-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2007016075A3 (fr) | Systeme d'objectif zoom | |
KR101757101B1 (ko) | 소형 망원 렌즈 조립체 | |
CN103518153B (zh) | 可变放大倍率光学系统和成像设备 | |
TWI263797B (en) | Zoom lens system | |
EP1712944A3 (fr) | Lentille d'imagerie | |
DE602009001009D1 (de) | Kompaktes Teleobjektiv mit vier Einzellinsen und mit einer Eintrittspupille | |
WO2006081411A3 (fr) | Telescope a systeme de grossissement ameliore | |
TW200502713A (en) | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
TW200736690A (en) | Imaging lens | |
WO2009004965A1 (fr) | Lentilles d'imagerie, dispositif d'imagerie, et terminal mobile | |
WO2012034995A3 (fr) | Système optique de formation d'image | |
CN105842828A (zh) | 光学成像系统 | |
EP1245984A3 (fr) | Système de projection optique et appareil et méthode d'exposition par projection | |
US20200209524A1 (en) | Optical imaging lens | |
JP2008292800A (ja) | アナモルフィックレンズ、撮像装置及び監視装置 | |
EP3392707A1 (fr) | Dispositif de formation d'images | |
WO2008087827A1 (fr) | Système optique de formation d'image, équipement d'exposition et procédé de fabrication du dispositif | |
CN105842820A (zh) | 光学成像系统 | |
EP1983362A4 (fr) | système d'imagerie catadioptrique, dispositif d'exposition, et procédé de fabrication de dispositif | |
JP2000338397A5 (fr) | ||
EP1980890A4 (fr) | Systeme de prise d images catadioptrique, dispositif d exposition et procede de fabrication de dispositif | |
TW200604566A (en) | Optical projection system, exposuring device, and exposuring method | |
KR101290518B1 (ko) | 적외선 광학 렌즈계 | |
EP3428706A3 (fr) | Lentille de zoom et appareil optique équipé de cette lentille de zoom | |
TWM356118U (en) | Photographing optics system and photographing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 07850849 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 07850849 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |