WO2008053547A1 - Pattern transferring stamper, method for manufacturing magnetic recording medium using the pattern transferring stamper, and the magnetic recording medium - Google Patents

Pattern transferring stamper, method for manufacturing magnetic recording medium using the pattern transferring stamper, and the magnetic recording medium Download PDF

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Takahiro Umada
Mineo Moribe
Yasuo Hosoda
Kazunobu Hashimoto
Masahiro Katsumura
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Fujitsu Limited
Pioneer Corporation
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    • G11B5/74Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/743Patterned record carriers, wherein the magnetic recording layer is patterned into magnetic isolated data islands, e.g. discrete tracks

Definitions

  • the pattern transfer stamper according to the present invention is disposed at a position where the concave portion extending along the radial direction communicates with or sufficiently close to the concave portion formed in the concave / convex pattern portion corresponding to the data area.
  • FIG. 1 is a perspective view of a main part showing an example of a pattern transfer stamper according to the present invention.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing a magnetic disk.
  • FIG. 9 is an external view of a magnetic disk.
  • the uneven surface 10 of the stamper 1 includes a guard band pattern portion 11 and a servo pattern portion 12 as shown in FIG.
  • the guard band pattern portion 11 corresponds to the data area 81 of the magnetic disk D and has an uneven pattern in the radial direction.
  • the servo pattern portion 12 corresponds to the servo area 82 of the magnetic recording medium D and has an uneven pattern in the circumferential direction.
  • Concavities and convexities The concavity and convexities of the surface 10 have a pitch P of, for example, about lOOnm and a depth H of about 50 nm.
  • the guard band pattern portion 11 has a plurality of convex portions 11a extending in the circumferential direction. It is made.
  • the servo pattern portion 12 is formed with a plurality of convex portions 12a extending in the radial direction.
  • a concave portion 13 extending in the radial direction is formed in a portion where the guard band pattern portion 11 and the servo pattern portion 12 are adjacent or close to each other, that is, in the vicinity of the right end portion of the servo pattern portion 12.
  • the recess 13 is arranged at a position communicating or sufficiently close to the plurality of recesses 14 formed along the circumferential direction of the guard band pattern portion 11.
  • the pattern transfer device 20 is installed inside the work chamber 21, for example.
  • the pattern transfer device 20 includes a stamper 1, an upper fixing member 24, a lower panel 25, a lower lifting member 26, and a drive motor 27.
  • the upper fixing member 24 holds the stamper 1 and the upper panel 22 horizontally and holds the upper unit 23.
  • the lower panel 25 holds the upper fixing member 24 and the magnetic disk D horizontally.
  • the lower elevating member 26 can move up and down while holding the lower panel 25.
  • the drive motor 27 moves the lower lift member 26 up and down.
  • the work chamber 21 is provided with a vacuum pump 28 for reducing the pressure in the work chamber 21.
  • the vacuum pump 28 has a capability of reducing the pressure in the working chamber 21 to, for example, about lTorr.
  • FIG. 5 and FIG. 6 are diagrams showing the manufacturing process of the magnetic disk D.
  • the stamper 1 and the magnetic disk D shown in FIGS. 5 and 6 have the concavo-convex pattern enlarged so that the concavo-convex pattern becomes clearer.
  • a magnetic disk D of the size shown in Fig. 9 is installed.
  • a base substrate of a magnetic disk D as shown in FIG. 5A is prepared.
  • the base substrate is, for example, one in which a magnetic film 32 is formed on one surface of a glass substrate 31 and a resin layer 33 is formed on the surface of the magnetic film 32.
  • the resin layer 33 is used as a mask in the manufacturing process (described later).
  • the resin layer 33 is formed by spin coating or the like.
  • the resin layer 33 is made of a thermoplastic resin such as polymethyl methacrylate resin (PMMA).
  • PMMA polymethyl methacrylate resin
  • the vacuum state of the working chamber 21 is released.
  • the uneven surface 10 of the stamper 1 is separated from the resin layer 33 as shown in FIG. 5C. That As a result, the resin layer 33 is in a state where the uneven pattern corresponding to the uneven surface 10 is transferred and cured.
  • the uneven pattern of the resin layer 33 is used as an etching mask as will be described later.
  • the non-magnetic material 35 is fixed to the magnetic film 32 so as to cover the whole while filling the recess 34.
  • the surfaces of the magnetic film 32 and the nonmagnetic material 35 are polished.
  • the magnetic film 32 is separated by the nonmagnetic material 35 embedded in the recess 34.
  • a protective film and a lubricating film are formed on these surfaces, thereby completing the magnetic disk D as a discrete track medium.
  • a deformable resin substrate can be used as a base material for the magnetic disk D. 36 is prepared.
  • the uneven surface 10 of the stamper 1 is brought into direct contact with the surface of the resin substrate 36.

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Abstract

A pattern transferring stamper (1) is provided for transferring a prescribed uneven pattern onto a deformable surface of a member to be a base for manufacturing a disc-like magnetic recording medium (D). The disc-like magnetic recording medium is provided with a data area (81) and a servo area (82) adjacent to the data area (81) in the circumference direction. The pattern transferring stamper (1) is provided with a guard band pattern section (11) that corresponds to the data area (81) of the disc-like magnetic recording medium (D), and a servo pattern section (12) that corresponds to the servo area (82) of the disc-like magnetic recording medium (D). At a portion where the guard band pattern section (11) and the servo pattern section (12) are adjacent to or close to each other, a recessed section (13) extending in the diameter direction is formed.

Description

ノ、。ターン転写用スタンパおよびそれを用いた磁気記録媒体の製造方法な らびにその磁気記録媒体  No. TURN TRANSFER STAMPER, MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING THE SAME, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
技術分野  Technical field
[0001] 本発明は、磁気記録媒体 (たとえば磁気ディスク)の製造にぉ 、て微細な凹凸バタ ーンを磁気ディスクに転写するためのパターン転写用スタンパに関する。本発明は、 また、パターン転写用スタンパを用いた磁気記録媒体の製造方法およびその磁気記 録媒体に関する。  TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a pattern transfer stamper for transferring a fine uneven pattern onto a magnetic disk in the manufacture of a magnetic recording medium (for example, a magnetic disk). The present invention also relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium using a pattern transfer stamper and the magnetic recording medium.
背景技術  Background art
[0002] たとえば磁気ディスクは、図 9に示すように、その表面にデータ領域 81とサーボ領 域 82とを有している。データ領域 81には、複数の同心状のトラックが設けられている 。データ領域 81には、複数のトラック間を分離するために、磁気ディスク Dの周方向 に沿って複数のガードバンド(図示略)が設けられている。サーボ領域 82は、データ 領域 81に周方向に隣接するように設けられ、各トラックを検出するためのものである。 サーボ領域 82の領域内には、各トラックの位置情報などを示すサーボ情報を表すサ ーボパターン(図示略)が設けられて 、る。  For example, as shown in FIG. 9, a magnetic disk has a data area 81 and a servo area 82 on the surface thereof. In the data area 81, a plurality of concentric tracks are provided. In the data area 81, a plurality of guard bands (not shown) are provided along the circumferential direction of the magnetic disk D in order to separate a plurality of tracks. The servo area 82 is provided adjacent to the data area 81 in the circumferential direction, and is used for detecting each track. In the servo area 82, a servo pattern (not shown) representing servo information indicating the position information of each track is provided.
[0003] ところで、高密度の磁気ディスク Dの製造にぉ 、ては、たとえば特許文献 1に示すよ うに、ナノインプリント法と呼称される転写方法が提案されている。ナノインプリント法と は、パターン転写用スタンパ(以下、単に「スタンパ」という)を、ベースとなる基板の上 に形成される榭脂層に対して押圧することにより、榭脂層の表面に凹凸パターンを転 写する技術である。スタンパは、ナノメートル単位のピッチで微細な凹凸面を有してい る。凹凸パターンは、トラックやサーボパターンなどを表すものである。  By the way, for the production of a high-density magnetic disk D, a transfer method called a nanoimprint method has been proposed as shown in Patent Document 1, for example. In the nanoimprint method, a pattern transfer stamper (hereinafter simply referred to as a “stamper”) is pressed against the resin layer formed on the base substrate, thereby forming an uneven pattern on the surface of the resin layer. This is a technique for transferring. The stamper has a fine uneven surface at a pitch of nanometers. The uneven pattern represents a track, a servo pattern, or the like.
特許文献 1:特開 2005— 286222号公報 上記ナイノインプント法を用いて磁気ディ スク Dを製造する場合、微細な凹凸パターンを榭脂層上に形成する必要があるため、 スタンパを高精度に押圧する技術が要求される。し力しながら、スタンパにおける榭 脂層との接触面の形状によっては、榭脂層の押圧時に、たとえば榭脂の充填不足が 生じることがある。そのため、精度よくかつ良好な凹凸パターンを転写することが困難 なことがある。 Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2005-286222 When manufacturing the magnetic disk D using the above-described Nino Impunt method, it is necessary to form a fine uneven pattern on the resin layer. A pressing technique is required. However, depending on the shape of the contact surface of the stamper with the resin layer, for example, insufficient filling of the resin may occur when the resin layer is pressed. For this reason, it is difficult to transfer an accurate and good uneven pattern. There is something wrong.
発明の開示  Disclosure of the invention
[0004] 本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものである。そこで、本発明は、精度 よくかつ良好な凹凸パターンの転写を行うことのできるパターン転写用スタンパを提 供することをその課題としている。また、本発明は、上記パターン転写用スタンパを用 いた磁気記録媒体の製造方法を提供することを、その課題としている。また、本発明 は、上記製造方法を用いて製造された磁気記録媒体を提供することを、その課題とし ている。  [0004] The present invention has been conceived under the circumstances described above. Accordingly, an object of the present invention is to provide a pattern transfer stamper capable of transferring a concave / convex pattern with good accuracy. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium using the pattern transfer stamper. Another object of the present invention is to provide a magnetic recording medium manufactured using the above manufacturing method.
[0005] 本発明の第 1の側面によって提供されるパターン転写用スタンパは、データ領域と 、このデータ領域に周方向に隣接するサーボ領域と、を有するディスク状磁気記録 媒体を製造するためのベースとなる部材の変形可能な表面に対して、所定の凹凸パ ターンを転写するためのパターン転写用スタンパであって、前記ディスク状磁気記録 媒体の前記データ領域に対応するデータ領域対応凹凸パターン部と、前記ディスク 状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸パターン部と、 を備えており、前記データ領域対応凹凸パターン部と前記サーボ領域対応凹凸バタ ーン部とが隣接または近接する部分に、径方向に沿って延びる凹部が形成されてい ることを特徴としている。  [0005] A pattern transfer stamper provided by the first aspect of the present invention is a base for manufacturing a disk-shaped magnetic recording medium having a data area and a servo area circumferentially adjacent to the data area. A pattern transfer stamper for transferring a predetermined concavo-convex pattern to a deformable surface of a member to be a data area corresponding concavo-convex pattern portion corresponding to the data area of the disk-shaped magnetic recording medium; A servo area corresponding uneven pattern portion corresponding to the servo area of the disk-shaped magnetic recording medium, and the data area corresponding uneven pattern portion and the servo area corresponding uneven pattern portion are adjacent or close to each other. A concave portion extending in the radial direction is formed in the portion.
[0006] 好ましくは、本発明のパターン転写用スタンパは、前記径方向に沿って延びる凹部 力 前記データ領域対応凹凸パターン部に形成された凹部に連通または充分に近 い位置に配置されている。  [0006] Preferably, the pattern transfer stamper according to the present invention is disposed at a position where the concave portion extending along the radial direction communicates with or sufficiently close to the concave portion formed in the concave / convex pattern portion corresponding to the data area.
[0007] 本発明の第 2の側面によれば、磁気記録媒体の製造方法が提供される。この製造 方法は、前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる基板上に磁性体層を形成し、 前記磁性体層の表面に榭脂層を形成し、前記榭脂層に対して、本発明の第 1の側 面によって提供されるパターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによつ て前記榭脂層に前記パターン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記磁性体 層の表面の前記榭脂層をマスクとして、露出した前記磁性体層にエッチング処理を 施すことにより、凹凸のパターンを形成することを特徴としている。  [0007] According to a second aspect of the present invention, a method of manufacturing a magnetic recording medium is provided. In this manufacturing method, a magnetic layer is formed on a substrate serving as a base of the disk-shaped magnetic recording medium, a resin layer is formed on the surface of the magnetic layer, and the present invention is applied to the resin layer. By pressing the concave / convex surface of the pattern transfer stamper provided by the first side surface, the concave / convex pattern of the pattern transfer stamper is transferred to the resin layer, and the surface of the magnetic layer is Using the oil layer as a mask, the exposed magnetic layer is etched to form a concavo-convex pattern.
[0008] 本発明の第 3の側面によれば、磁気記録媒体の製造方法が提供される。この製造 方法は、前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる変形可能な基板に対して、本 発明の第 1の側面によって提供されるノターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し 付けることによって前記変形可能基板に前記パターン転写用スタンパの凹凸パター ンを転写し、前記凹凸パターンの凹部に磁性体層を形成することにより、磁性体の有 無のパターンを形成することを特徴として 、る。 [0008] According to a third aspect of the present invention, a method of manufacturing a magnetic recording medium is provided. This manufacture According to the method, the deformable substrate is pressed onto the deformable substrate by pressing the uneven surface of the stamper for noturn transfer provided by the first aspect of the present invention against the deformable substrate serving as a base of the disk-shaped magnetic recording medium. A pattern with or without a magnetic material is formed by transferring the concavo-convex pattern of the pattern transfer stamper and forming a magnetic layer in the concave portion of the concavo-convex pattern.
[0009] 本発明の第 4の側面によって提供される磁気記録媒体は、本発明の第 2または第 3 の側面によって提供される磁気記録媒体の製造方法を用いて作製されたことを特徴 としている。  [0009] A magnetic recording medium provided by the fourth aspect of the present invention is manufactured using the method for manufacturing a magnetic recording medium provided by the second or third aspect of the present invention. .
図面の簡単な説明  Brief Description of Drawings
[0010] [図 1]本発明に係るパターン転写用スタンパの一例を示す要部斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view of a main part showing an example of a pattern transfer stamper according to the present invention.
[図 2]磁気ディスクの表面を示す図である。  FIG. 2 is a diagram showing the surface of a magnetic disk.
[図 3]パターン転写用スタンパによって押圧された後の磁気ディスクの表面形状を示 す図である。  FIG. 3 is a diagram showing a surface shape of a magnetic disk after being pressed by a pattern transfer stamper.
[図 4]パターン転写装置の構成を示す図である。  FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a pattern transfer apparatus.
[図 5]磁気ディスクの製造方法を説明するための説明図である。  FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing a magnetic disk.
[図 6]磁気ディスクの製造方法を説明するための説明図である。  FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing a magnetic disk.
[図 7]磁気ディスクの他の製造方法を説明するための説明図である。  FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining another method of manufacturing a magnetic disk.
[図 8]磁気ディスクの他の製造方法を説明するための説明図である。  FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining another method of manufacturing a magnetic disk.
[図 9]磁気ディスクの外観図である。  FIG. 9 is an external view of a magnetic disk.
発明を実施するための最良の形態  BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0011] 以下、本発明の実施例につき、図面を参照して具体的に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
[0012] 図 1は、本発明に係るパターン転写用スタンパの一例を示す要部斜視図である。こ のパターン転写用スタンパ 1 (以下、単に「スタンパ 1」という。)は、たとえばディスクリ ートトラックメディアと呼称される磁気記録媒体としての磁気ディスク Dが製造される際 に用いられる。スタンパ 1は、いわゆるナノインプリント法によって磁気ディスク Dに対 して微細な凹凸パターンの転写を行うためのものである。 FIG. 1 is a perspective view of a main part showing an example of a pattern transfer stamper according to the present invention. This pattern transfer stamper 1 (hereinafter simply referred to as “stamper 1”) is used, for example, when a magnetic disk D as a magnetic recording medium called a discrete track medium is manufactured. The stamper 1 is for transferring a fine uneven pattern onto the magnetic disk D by a so-called nanoimprint method.
[0013] 磁気ディスク Dは、背景技術の欄で説明した図 9に示したように、円盤状に形成され ている。磁気ディスク Dは、その片面にデータ領域 81とサーボ領域 82とを有している 。データ領域 81には、同心状の複数のトラック(図示略)が形成されている。サーボ領 域 82は、データ領域 81に周方向に隣接するように設けられ、各トラックを検出するた めのものである。 [0013] As shown in FIG. 9 described in the background art section, the magnetic disk D is formed in a disk shape. The magnetic disk D has a data area 81 and a servo area 82 on one side. . In the data area 81, a plurality of concentric tracks (not shown) are formed. The servo area 82 is provided adjacent to the data area 81 in the circumferential direction, and is used for detecting each track.
[0014] 図 2は、磁気ディスク Dのデータ領域 81およびサーボ領域 82を示す斜視図である 。同図を参照すると、データ領域 81には、複数のトラック 3 (周方向に沿う斜線部参照 )と、複数のガードバンド 2とが設けられている。ガードバンド 2は、複数のトラック 3間 において、それらを分離する。サーボ領域 82には、トラック 3の位置情報などのサー ボ情報が記憶されるサーボパターンが設けられている。なお、後述するように、トラッ ク 3やサーボパターンの一部 (斜線部参照)は、たとえば磁性体によって形成されて いる。ガードバンド 2やサーボパターンの斜線部以外の部分は、たとえば非磁性体に よって形成されている。  FIG. 2 is a perspective view showing a data area 81 and a servo area 82 of the magnetic disk D. Referring to the figure, the data area 81 is provided with a plurality of tracks 3 (see the hatched portion along the circumferential direction) and a plurality of guard bands 2. The guard band 2 separates the plurality of tracks 3. The servo area 82 is provided with a servo pattern in which servo information such as track 3 position information is stored. As will be described later, the track 3 and a part of the servo pattern (see the shaded area) are made of, for example, a magnetic material. The portions other than the guard band 2 and the hatched portion of the servo pattern are formed of, for example, a nonmagnetic material.
[0015] トラック 3およびサーボパターンは、上記スタンパ 1によって凹凸パターンが転写され ることに基づいて作製される。すなわち、上記磁気ディスク Dを作製する際には、スタ ンパ 1を磁気ディスク Dのベース部材 (たとえば榭脂層)に密接させ、押圧させる。これ により、トラック 3やサーボパターンに応じた微細な凹凸パターンが転写されて形成さ れる。そのため、スタンパ 1は、トラック 3やサーボパターンに応じた凹凸パターンに対 応した凹凸面 10 (図 1参照)を有している。  The track 3 and the servo pattern are produced based on the concavo-convex pattern transferred by the stamper 1. That is, when the magnetic disk D is manufactured, the stamper 1 is brought into close contact with the base member (for example, a resin layer) of the magnetic disk D and pressed. As a result, a fine uneven pattern corresponding to the track 3 and the servo pattern is transferred and formed. Therefore, the stamper 1 has an uneven surface 10 (see FIG. 1) corresponding to the uneven pattern corresponding to the track 3 and the servo pattern.
[0016] スタンパ 1は、 Ni基板または SiO基板カゝらなる。スタンパ 1は、その凹凸面 10が磁  The stamper 1 is a Ni substrate or a SiO substrate. The stamper 1 has an uneven surface 10
2  2
気ディスク Dの盤面とほぼ同じ大きさを有する。スタンパ 1は、別途用意された原盤の 片面にレジストの塗布、電子ビームによる露光、現像、およびメツキ処理またはエッチ ングなどが施されることにより作製される。  It has almost the same size as the surface of Ki disk D. The stamper 1 is manufactured by applying a resist, exposing with an electron beam, developing, and a plating process or etching on one surface of a separately prepared master.
[0017] スタンパ 1の凹凸面 10は、図 1に示すように、ガードバンドパターン部 11とサーボパ ターン部 12とを有している。ガードバンドパターン部 11は、磁気ディスク Dのデータ 領域 81に対応し、径方向に凹凸パターンを有している。サーボパターン部 12は、磁 気記録媒体 Dのサーボ領域 82に対応し、周方向に凹凸パターンを有している。凹凸 面 10の凹凸は、そのピッチ Pがたとえば lOOnm程度であり、その深さ Hは 50nm程 度である。 The uneven surface 10 of the stamper 1 includes a guard band pattern portion 11 and a servo pattern portion 12 as shown in FIG. The guard band pattern portion 11 corresponds to the data area 81 of the magnetic disk D and has an uneven pattern in the radial direction. The servo pattern portion 12 corresponds to the servo area 82 of the magnetic recording medium D and has an uneven pattern in the circumferential direction. Concavities and convexities The concavity and convexity of the surface 10 have a pitch P of, for example, about lOOnm and a depth H of about 50 nm.
[0018] より詳細には、ガードバンドパターン部 11には、周方向に延びた凸部 11aが複数形 成されている。サーボパターン部 12には、径方向に延びた凸部 12aが複数形成され ている。スタンパ 1は、ガードバンドパターン部 11とサーボパターン部 12とが隣接また は近接する部分、すなわちサーボパターン部 12の右端部近傍に、径方向に沿って 延びる凹部 13が形成されている。凹部 13は、ガードバンドパターン部 11の周方向に 沿って形成される複数の凹部 14に連通または充分に近い位置に配置されている。 More specifically, the guard band pattern portion 11 has a plurality of convex portions 11a extending in the circumferential direction. It is made. The servo pattern portion 12 is formed with a plurality of convex portions 12a extending in the radial direction. In the stamper 1, a concave portion 13 extending in the radial direction is formed in a portion where the guard band pattern portion 11 and the servo pattern portion 12 are adjacent or close to each other, that is, in the vicinity of the right end portion of the servo pattern portion 12. The recess 13 is arranged at a position communicating or sufficiently close to the plurality of recesses 14 formed along the circumferential direction of the guard band pattern portion 11.
[0019] なお、サーボパターン部 12の左端部近傍には、ガードバンドパターン部 11との隣 接または近接部分に、径方向に沿って延びる凹部 15が形成されている。  In the vicinity of the left end portion of the servo pattern portion 12, a recess 15 extending in the radial direction is formed adjacent to or in the vicinity of the guard band pattern portion 11.
[0020] 図 3は、上記スタンパ 1によって押圧された後の磁気ディスク Dのベース基材の表面 形状を示す要部斜視図である。磁気ディスク Dのベース基材は、図 3に示すように、 たとえばガラス基板 31と、磁性膜 32と、榭脂層 33とによって構成される。磁性膜 32 は、ガラス基板 32上に形成されている。榭脂層 33は、磁性膜 32上に形成されている  FIG. 3 is a perspective view of the main part showing the surface shape of the base substrate of the magnetic disk D after being pressed by the stamper 1. As shown in FIG. 3, the base material of the magnetic disk D is composed of, for example, a glass substrate 31, a magnetic film 32, and a resin layer 33. The magnetic film 32 is formed on the glass substrate 32. The resin layer 33 is formed on the magnetic film 32.
[0021] 上記のように、榭脂層 33には、図 3に示すように、スタンパ 1によってその凹凸面 10 に応じた微細な凹凸パターンが形成される。すなわち、スタンパ 1によって榭脂層 33 が押し付けられると、サーボパターン部 12の凸部 12aにおける榭脂は、サーボパター ン部 12の凹部 18に流れ込む。また、サーボパターン部 12の凸部 12aにおける榭脂 は、サーボパターン部 12とガードバンドパターン部 11との間の凹部 13に流れ込む。 一方、ガードバンドパターン部 11の凸部 11aにおける榭脂は、ガードバンドパターン 部 11の凹部 14に流れ込む。凹部 13と凹部 14とが連通されている場合には、ガード バンドパターン部 11の凸部 1 laにおける榭脂は、凹部 13にも流れ込む。 As described above, a fine concavo-convex pattern corresponding to the concavo-convex surface 10 is formed by the stamper 1 in the resin layer 33 as shown in FIG. That is, when the resin layer 33 is pressed by the stamper 1, the resin in the convex part 12 a of the servo pattern part 12 flows into the concave part 18 of the servo pattern part 12. Further, the grease on the convex portion 12 a of the servo pattern portion 12 flows into the concave portion 13 between the servo pattern portion 12 and the guard band pattern portion 11. On the other hand, the grease in the convex portion 11 a of the guard band pattern portion 11 flows into the concave portion 14 of the guard band pattern portion 11. When the recess 13 and the recess 14 are communicated with each other, the grease in the protrusion 1 la of the guard band pattern portion 11 also flows into the recess 13.
[0022] そのため、凹部 13および凹部 14によって、榭脂層 33には、図 3に示すように、凸部 16と凸部 17とが形成される。凹部 13と凹部 14とが連通されていない場合には、ガー ドバンドパターン部 11と凹部 13との間の凸部における榭脂も凹部 13と凹部 14とに流 れ込む。ガードバンドパターン部 11と凹部 13との間の凸部の面積が広いと、凹部 13 と凹部 14とに流れ込む榭脂が過剰になってしまい、凹凸パターンの良好な転写を阻 害してしまう。したがって、凹部 13は、転写に影響を与えない範囲で凹部 14と充分に 近い位置に配置されているのが望ましい。ここで、凸部 16は、径方向に延びている。 凸部 17は、凸部 16の側面に連続または近接しかつ周方向に延びている。この場合 、凸部 16および凸部 17は、たとえば略直方体形状の適正な形状に形成される。 Therefore, as shown in FIG. 3, the concave portion 13 and the concave portion 14 form the convex portion 16 and the convex portion 17 in the resin layer 33. When the recess 13 and the recess 14 are not in communication, the grease on the protrusion between the guard band pattern portion 11 and the recess 13 also flows into the recess 13 and the recess 14. If the area of the convex portion between the guard band pattern portion 11 and the concave portion 13 is large, the grease flowing into the concave portion 13 and the concave portion 14 becomes excessive, and good transfer of the concave / convex pattern is obstructed. Therefore, it is desirable that the recess 13 is disposed at a position sufficiently close to the recess 14 within a range that does not affect the transfer. Here, the convex portion 16 extends in the radial direction. The convex portion 17 is continuous or close to the side surface of the convex portion 16 and extends in the circumferential direction. in this case The convex portion 16 and the convex portion 17 are formed in an appropriate shape having, for example, a substantially rectangular parallelepiped shape.
[0023] すなわち、本実施形態では、スタンパ 1の凹部 13および凹部 14によって、榭脂層 3 3に適正な形状の凸部 16および凸部 17が形成され、凹凸パターンを良好にかつ精 度よく転写することができる。榭脂層 33は、後述するように、エッチング用のマスクとし て用 、られるが、凸部 16および凸部 17によってそのエッチング処理を精度よく行うこ とができ、ひいてはトラック 3やサーボパターンを適切に形成することができる。  In other words, in the present embodiment, the concave portion 13 and the concave portion 14 of the stamper 1 form the convex portion 16 and the convex portion 17 having an appropriate shape on the resin layer 33, and the concave / convex pattern is excellent and accurate. Can be transferred. As will be described later, the resin layer 33 is used as a mask for etching, but the etching process can be accurately performed by the convex portions 16 and 17, so that the track 3 and the servo pattern can be appropriately used. Can be formed.
[0024] なお、凹部 13の幅および深さは、榭脂層 33の榭脂が適切に流れ込むことができる ものであれば、特に限定されるものではない。  [0024] The width and depth of the recess 13 are not particularly limited as long as the resin of the resin layer 33 can flow appropriately.
[0025] 次に、上記スタンパ 1を用いた磁気ディスク Dの製造方法について説明する。磁気 記録媒体 Dの製造において、スタンパ 1を用いてナノインプリント法によって凹凸パタ ーンを転写するには、たとえば図 4に示すようなパターン転写装置 20が用いられる。  Next, a method for manufacturing the magnetic disk D using the stamper 1 will be described. In the production of the magnetic recording medium D, for example, a pattern transfer apparatus 20 as shown in FIG. 4 is used to transfer the concavo-convex pattern using the stamper 1 by the nanoimprint method.
[0026] このパターン転写装置 20は、たとえば作業室 21の内部に設置されている。パター ン転写装置 20は、スタンパ 1、上側固定部材 24、下側パネル 25、下側昇降部材 26 、および駆動モータ 27を備えて構成されている。上側固定部材 24は、スタンパ 1や 上側パネル 22を水平に保持するとともに、上部ユニット 23を保持する。下側パネル 2 5は、上側固定部材 24、磁気ディスク Dを水平に保持する。下側昇降部材 26は、下 側パネル 25を保持して上下方向に昇降可能である。駆動モータ 27は、下側昇降部 材 26を昇降動作させる。作業室 21には、作業室 21内の圧力を減圧するための真空 ポンプ 28が備えられている。真空ポンプ 28は、作業室 21内の圧力をたとえば lTorr 程度まで減圧する能力を有する。  The pattern transfer device 20 is installed inside the work chamber 21, for example. The pattern transfer device 20 includes a stamper 1, an upper fixing member 24, a lower panel 25, a lower lifting member 26, and a drive motor 27. The upper fixing member 24 holds the stamper 1 and the upper panel 22 horizontally and holds the upper unit 23. The lower panel 25 holds the upper fixing member 24 and the magnetic disk D horizontally. The lower elevating member 26 can move up and down while holding the lower panel 25. The drive motor 27 moves the lower lift member 26 up and down. The work chamber 21 is provided with a vacuum pump 28 for reducing the pressure in the work chamber 21. The vacuum pump 28 has a capability of reducing the pressure in the working chamber 21 to, for example, about lTorr.
[0027] 上側パネル 22は、たとえば石英ガラス力もなり、位置決め用の光を透過する役割を 果たす。上部ユニット 23の内部には、所定の機構 (たとえば光照射器や光検出器)が 設けられている(図示略)。所定の機構は、水平面内においてスタンパ 1を磁気デイス ク Dに対して位置決めするためのものである。そのため、スタンパ 1としては、光透過 性をもつ SiO基板力もなるものが好ましい。  [0027] The upper panel 22 is also made of, for example, quartz glass and plays a role of transmitting positioning light. A predetermined mechanism (for example, a light irradiator and a light detector) is provided inside the upper unit 23 (not shown). The predetermined mechanism is for positioning the stamper 1 with respect to the magnetic disk D in the horizontal plane. Therefore, it is preferable that the stamper 1 has a light-transmitting SiO substrate power.
2  2
[0028] 下側パネル 25には、スタンパ 1および磁気ディスク Dに接した状態でこれらに熱を 伝えるヒータ 29が内装されている。上側パネル 25の内部には、スタンパ 1および磁気 ディスク Dに熱を伝えるヒータが設けられていてもよい。下側パネル 25は、駆動モー タ 27によって下側昇降部材 26が昇降させられるのに伴い、これと一体になつて上下 方向に移動する。すなわち、下側パネル 25によって水平に保持された磁気ディスク Dは、床面力 一定の高さに保持されたスタンパ 1に対して接近あるいは離隔させら れる。スタンパ 1の凹凸面 10に密接させられた状態で、スタンパ 1と磁気記録媒体 Dと が押圧される。 [0028] The lower panel 25 includes a heater 29 that transfers heat to the stamper 1 and the magnetic disk D while being in contact with them. Inside the upper panel 25, a heater for transferring heat to the stamper 1 and the magnetic disk D may be provided. The lower panel 25 As the lower elevating member 26 is moved up and down by the slider 27, the lower elevating member 26 moves up and down integrally therewith. That is, the magnetic disk D held horizontally by the lower panel 25 is moved closer to or away from the stamper 1 held at a constant floor force. The stamper 1 and the magnetic recording medium D are pressed while being in close contact with the uneven surface 10 of the stamper 1.
[0029] 図 5および図 6は、磁気ディスク Dの製造過程を示す図である。図 5および図 6に示 すスタンパ 1および磁気ディスク Dは、凹凸パターンがより明瞭となるように凹凸バタ ーンを拡大して記載している。実際には図 9に示す大きさの磁気ディスク Dが装着さ れる。  FIG. 5 and FIG. 6 are diagrams showing the manufacturing process of the magnetic disk D. The stamper 1 and the magnetic disk D shown in FIGS. 5 and 6 have the concavo-convex pattern enlarged so that the concavo-convex pattern becomes clearer. Actually, a magnetic disk D of the size shown in Fig. 9 is installed.
[0030] まず、この製造過程では、図 5Aに示すような磁気ディスク Dのベース基材が準備さ れる。ベース基材は、たとえばガラス基板 31の片面に磁性膜 32が形成され、磁性膜 32の表面に榭脂層 33が形成されたものである。榭脂層 33は、製造過程においてマ スクとして用いる(後述)ためのものである。榭脂層 33は、スピンコートなどによって形 成される。榭脂層 33は、たとえばポリメタクリル酸メチル榭脂(PMMA)といった熱可 塑性榭脂からなる。榭脂層 33は、ガラス転移点が 100°C前後である。  [0030] First, in this manufacturing process, a base substrate of a magnetic disk D as shown in FIG. 5A is prepared. The base substrate is, for example, one in which a magnetic film 32 is formed on one surface of a glass substrate 31 and a resin layer 33 is formed on the surface of the magnetic film 32. The resin layer 33 is used as a mask in the manufacturing process (described later). The resin layer 33 is formed by spin coating or the like. The resin layer 33 is made of a thermoplastic resin such as polymethyl methacrylate resin (PMMA). The resin layer 33 has a glass transition point of around 100 ° C.
[0031] この榭脂層 33の表面に、図 5Aに示すように、スタンパ 1の凹凸面 10が密接させら れる。スタンパ 1の凹凸面 10を榭脂層 33に密接させる際には、真空ポンプ 28 (同図 においては図示略)が作動される。これにより、作業室 21を達成真空度が lTorr程度 の真空状態にされる。  As shown in FIG. 5A, the uneven surface 10 of the stamper 1 is brought into close contact with the surface of the resin layer 33. When bringing the uneven surface 10 of the stamper 1 into close contact with the resin layer 33, the vacuum pump 28 (not shown in the figure) is operated. As a result, the work chamber 21 is brought into a vacuum state where the degree of vacuum achieved is about lTorr.
[0032] 次いで、スタンパ 1の凹凸面 10および榭脂層 33には、真空下における加圧処理お よび加熱処理が行われる。すなわち、スタンパ 1および磁気ディスク Dは、図 5Bに示 すように、押圧面 10と榭脂層 33とが接した状態で上側パネル 22と下側パネル 25と の間に挟み込まれる。スタンパ 1および磁気ディスク Dは、上側パネル 22および下側 パネル 25によってたとえば 2500kgf程度の押圧力 Fで押圧させられる。スタンパ 1お よび磁気ディスク Dは、ヒータ 29によって榭脂層 33のガラス転移点以上となる 135°C 程度まで加熱される。  Next, the uneven surface 10 and the resin layer 33 of the stamper 1 are subjected to pressure treatment and heat treatment under vacuum. That is, as shown in FIG. 5B, the stamper 1 and the magnetic disk D are sandwiched between the upper panel 22 and the lower panel 25 in a state where the pressing surface 10 and the resin layer 33 are in contact with each other. The stamper 1 and the magnetic disk D are pressed by the upper panel 22 and the lower panel 25 with a pressing force F of about 2500 kgf, for example. The stamper 1 and the magnetic disk D are heated by the heater 29 to about 135 ° C., which is equal to or higher than the glass transition point of the resin layer 33.
[0033] そして、所要の冷却期間を経た後、作業室 21の真空状態が解除される。次いで、 スタンパ 1の凹凸面 10は、図 5Cに示すように、榭脂層 33から離隔させられる。その 結果、榭脂層 33は、凹凸面 10に応じた凹凸パターンが転写されて硬化した状態とな る。榭脂層 33の凹凸パターンは、後述するようにエッチング用マスクとして用いられる [0033] After a required cooling period, the vacuum state of the working chamber 21 is released. Next, the uneven surface 10 of the stamper 1 is separated from the resin layer 33 as shown in FIG. 5C. That As a result, the resin layer 33 is in a state where the uneven pattern corresponding to the uneven surface 10 is transferred and cured. The uneven pattern of the resin layer 33 is used as an etching mask as will be described later.
[0034] このように、榭脂層 33には、スタンパ 1の凹凸面 10に応じた凹凸パターンが転写さ れる。この場合、スタンパ 1のサーボパターン部 11とガードバンドパターン部 12とが隣 接または近接する部分には、凹部 13が形成されている。そのため、榭脂層 33に形成 された凹凸パターンは、凹凸面 10に応じた転写欠陥のないパターンとなる。すなわ ち、榭脂層 33に精密な凹凸パターンを転写することができる。 As described above, the uneven pattern corresponding to the uneven surface 10 of the stamper 1 is transferred to the resin layer 33. In this case, a concave portion 13 is formed in a portion where the servo pattern portion 11 and the guard band pattern portion 12 of the stamper 1 are adjacent or close to each other. Therefore, the concavo-convex pattern formed on the resin layer 33 is a pattern having no transfer defect according to the concavo-convex surface 10. That is, a precise uneven pattern can be transferred to the resin layer 33.
[0035] 凹凸パターンが転写された直後の榭脂層 33には、マスクとして不要な残渣部分が 存在するため、図 5Dに示すように、榭脂層 33の残渣部分が除去される。これにより、 榭脂層 33の凹部の底部は、磁性膜 32が露出した状態となる。  [0035] Since the resin layer 33 immediately after the concavo-convex pattern is transferred has a residue portion unnecessary as a mask, the residue portion of the resin layer 33 is removed as shown in FIG. 5D. Thereby, the magnetic film 32 is exposed at the bottom of the concave portion of the resin layer 33.
[0036] この榭脂層 33をマスクとして磁性膜 32にエッチング処理を行う。その後、残った榭 脂層 33を除去することにより、図 6Aに示すように、磁性膜 32には、凹部 34が形成さ れる。  The magnetic film 32 is etched using the resin layer 33 as a mask. Thereafter, the remaining resin layer 33 is removed, whereby a recess 34 is formed in the magnetic film 32 as shown in FIG. 6A.
[0037] その後、図 6Bに示すように、磁性膜 32には、凹部 34を埋めながら全体を覆うように 非磁性材料 35が定着させられる。そして、図 6Cに示すように、磁性膜 32および非磁 性材料 35の表面が研磨される。その結果、磁性膜 32は、凹部 34に埋め込まれた非 磁性材料 35によって分離された状態となる。さらに、これらの表面に、たとえば保護 膜および潤滑膜 (ともに図示略)が形成されることにより、ディスクリートトラックメディア としての磁気ディスク Dが完成する。  Thereafter, as shown in FIG. 6B, the non-magnetic material 35 is fixed to the magnetic film 32 so as to cover the whole while filling the recess 34. Then, as shown in FIG. 6C, the surfaces of the magnetic film 32 and the nonmagnetic material 35 are polished. As a result, the magnetic film 32 is separated by the nonmagnetic material 35 embedded in the recess 34. Further, for example, a protective film and a lubricating film (both not shown) are formed on these surfaces, thereby completing the magnetic disk D as a discrete track medium.
[0038] 図 7および図 8は、磁気ディスク Dの他の製造方法を示す図である。図 7および図 8 に示すスタンパ 1および磁気ディスク Dは、凹凸パターンがより明瞭となるように凹凸 ノターンを拡大して記載している。実際には図 9に示す大きさの磁気ディスク Dが装 着される。この他の製造方法は、ガラス基板 31に代えて榭脂基板 36が用いられる点 で上記した製造方法と異なる。この他の製造方法は、ガラス基板 31の表面に予め磁 性膜 32を形成するのではなぐ榭脂スタンパ 1による押圧が行われた後で、磁性膜 3 2を形成する点で上記した製造方法と異なる。  7 and 8 are diagrams showing another manufacturing method of the magnetic disk D. FIG. The stamper 1 and the magnetic disk D shown in FIGS. 7 and 8 have the concavo-convex pattern enlarged so that the concavo-convex pattern becomes clearer. Actually, a magnetic disk D of the size shown in Fig. 9 is installed. This other manufacturing method is different from the manufacturing method described above in that a resin substrate 36 is used instead of the glass substrate 31. The other manufacturing method is the above-described manufacturing method in that the magnetic film 32 is formed after the pressing with the resin stamper 1 which does not form the magnetic film 32 on the surface of the glass substrate 31 in advance. And different.
[0039] まず、この製造過程では、磁気ディスク Dのベース基材として変形可能な榭脂基板 36が準備される。この他の製造方法では、図 7Aに示すように、作業室 21が真空状 態にされた後、榭脂基板 36の表面に、スタンパ 1の凹凸面 10が直接的に密接させら れる。 [0039] First, in this manufacturing process, a deformable resin substrate can be used as a base material for the magnetic disk D. 36 is prepared. In another manufacturing method, as shown in FIG. 7A, after the working chamber 21 is evacuated, the uneven surface 10 of the stamper 1 is brought into direct contact with the surface of the resin substrate 36.
[0040] 次いで、凹凸面 10ゃ榭脂基板 36には、真空下における加圧処理および加熱処理 が行われる。すなわち、スタンパ 1および榭脂基板 36は、図 7Bに示すように、凹凸面 10と榭脂基板 36とが接した状態で上側パネル 22と下側パネル 25との間に挟み込ま れる。スタンパ 1および榭脂基板 36は、押圧力 Fで押圧させられる。その後、スタンパ 1および榭脂基板 36は、ヒータ 29によって加熱される。  [0040] Next, the concavo-convex surface 10 of the resin substrate 36 is subjected to pressure treatment and heat treatment under vacuum. That is, the stamper 1 and the resin substrate 36 are sandwiched between the upper panel 22 and the lower panel 25 in a state where the uneven surface 10 and the resin substrate 36 are in contact with each other, as shown in FIG. 7B. The stamper 1 and the resin substrate 36 are pressed with a pressing force F. Thereafter, the stamper 1 and the resin substrate 36 are heated by the heater 29.
[0041] そして、所要の冷却期間を経た後、作業室 21の真空状態が解除される。スタンパ 1 の凹凸面 10は、図 7Cに示すように、榭脂基板 36から離隔させられる。その結果、榭 脂基板 36は、図 7Dに示すように、凹凸面 10に応じた凹凸パターンが転写されて硬 化した状態となる。  [0041] After a required cooling period, the vacuum state of the working chamber 21 is released. The uneven surface 10 of the stamper 1 is separated from the resin substrate 36 as shown in FIG. 7C. As a result, as shown in FIG. 7D, the resin substrate 36 is in a state where the uneven pattern corresponding to the uneven surface 10 is transferred and hardened.
[0042] その後、図 8Aに示すように、榭脂基板 36には、全体を覆うように磁性膜 37が定着 させられる。そして、図 8Bに示すように、磁性膜 37の表面が研磨され、ベース基材の 表面において、磁性膜 37は榭脂基板 36と分離された状態となる。これにより、デイス クリートトラックメディアとしての磁気ディスク Dが完成する。  Thereafter, as shown in FIG. 8A, a magnetic film 37 is fixed to the resin substrate 36 so as to cover the whole. 8B, the surface of the magnetic film 37 is polished, and the magnetic film 37 is separated from the resin substrate 36 on the surface of the base substrate. As a result, the magnetic disk D as the disc track medium is completed.
[0043] なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではない。たとえば凹凸パター ンを転写する対象物としては、ディスクリートトラックメディアに限らず、所望とする微細 な凹凸パターンを必要とするものであれば、上記実施形態によるスタンパ 1を適用す ることがでさる。  Note that the present invention is not limited to the above embodiments. For example, the object to which the concavo-convex pattern is transferred is not limited to the discrete track medium, and the stamper 1 according to the above embodiment can be applied if a desired fine concavo-convex pattern is required.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
[1] データ領域と、このデータ領域に周方向に隣接するサーボ領域と、を有するデイス ク状磁気記録媒体を製造するためのベースとなる部材の変形可能な表面に対して、 所定の凹凸パターンを転写するためのパターン転写用スタンパであって、  [1] A predetermined uneven pattern on a deformable surface of a base member for manufacturing a disk-shaped magnetic recording medium having a data area and a servo area adjacent to the data area in the circumferential direction. A pattern transfer stamper for transferring
前記ディスク状磁気記録媒体の前記データ領域に対応するデータ領域対応凹凸 パターン部と、  Data area corresponding uneven pattern portion corresponding to the data area of the disk-shaped magnetic recording medium,
前記ディスク状磁気記録媒体の前記サーボ領域に対応するサーボ領域対応凹凸 パターン部と、を備えており、  A servo area corresponding uneven pattern portion corresponding to the servo area of the disk-shaped magnetic recording medium,
前記データ領域対応凹凸パターン部と前記サーボ領域対応凹凸パターン部とが隣 接または近接する部分に、径方向に沿って延びる凹部が形成されていることを特徴と する、パターン転写用スタンパ。  A pattern transfer stamper, wherein a concave portion extending in the radial direction is formed in a portion where the concave / convex pattern portion corresponding to the data region and the concave / convex pattern portion corresponding to the servo region are adjacent to or close to each other.
[2] 前記径方向に沿って延びる凹部は、  [2] The recess extending along the radial direction is
前記データ領域対応凹凸パターン部に形成された凹部と連通されている、請求項 1に記載のパターン転写用スタンパ。  The pattern transfer stamper according to claim 1, wherein the pattern transfer stamper is in communication with a recess formed in the uneven pattern portion corresponding to the data area.
[3] 前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる基板上に磁性体層を形成し、前記磁 性体層の表面に榭脂層を形成し、前記榭脂層に対して、請求項 1に記載の前記バタ ーン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによって前記榭脂層に前記バタ ーン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記磁性体層の表面の前記榭脂層を マスクとして、露出した前記磁性体層にエッチング処理を施すことにより、凹凸のパタ ーンを形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。  [3] The magnetic material layer is formed on a substrate serving as a base of the disk-shaped magnetic recording medium, and a resin layer is formed on the surface of the magnetic material layer. The uneven pattern of the pattern transfer stamper is transferred to the resin layer by pressing the uneven surface of the pattern transfer stamper described above, and the resin layer on the surface of the magnetic layer is used as a mask. A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein an uneven pattern is formed by performing an etching process on the exposed magnetic layer.
[4] 前記ディスク状磁気記録媒体のベースとなる変形可能な基板に対して、請求項 1に 記載の前記パターン転写用スタンパの前記凹凸面を押し付けることによって前記変 形可能基板に前記パターン転写用スタンパの凹凸パターンを転写し、前記凹凸バタ 一ンの凹部に磁性体層を形成することにより、磁性体の有無のパターンを形成するこ とを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。  [4] The pattern transfer substrate is applied to the deformable substrate by pressing the uneven surface of the pattern transfer stamper according to claim 1 against a deformable substrate serving as a base of the disk-shaped magnetic recording medium. A method for producing a magnetic recording medium, wherein a pattern of presence / absence of a magnetic material is formed by transferring a concave / convex pattern of a stamper and forming a magnetic layer in a concave portion of the concave / convex pattern.
[5] 請求項 3または 4に記載の磁気記録媒体の製造方法を用いて作製されたことを特 徴とする、磁気記録媒体。  [5] A magnetic recording medium produced using the method for producing a magnetic recording medium according to claim 3 or 4.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005293730A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Toshiba Corp Magnetic recording medium, manufacturing method therefor, and magnetic recording and reproducing device
JP2006277869A (en) * 2005-03-30 2006-10-12 Toshiba Corp Magnetic recording medium, reticle for electron beam reduced projection drawing and manufacturing method for magnetic recording medium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005293730A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Toshiba Corp Magnetic recording medium, manufacturing method therefor, and magnetic recording and reproducing device
JP2006277869A (en) * 2005-03-30 2006-10-12 Toshiba Corp Magnetic recording medium, reticle for electron beam reduced projection drawing and manufacturing method for magnetic recording medium

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