WO2007077849A1 - Semiconductor chip and semiconductor integrated circuit - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor chip and a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor chip mounted on an interposer and a semiconductor integrated circuit using the same.
  • Semiconductor integrated circuits which are chips (SOC: system-on-chip) on which arbitrary main circuits of a computer such as a microprocessor, a chip set, a video chip, and a DRAM are integrated, are provided.
  • SOC system-on-chip
  • Such a semiconductor integrated circuit can drastically reduce the area required for mounting, and can further reduce power consumption compared to a system with multiple chips having equivalent circuits.
  • tests such as operation of each main circuit and connection relation between terminals of the main circuit are performed.
  • test apparatus for an MPU-mounted printed board that enables testing of all buses and other functions of the printed board including the MPU and that can easily determine the final failure location.
  • Patent Document 3. The technology of Patent Document 3 is an external device.
  • Printed circuit board connection means connected to the connection means, test ROM storing a test program for testing, test execution means for executing a control program for MPU test, and MPU operation control according to the control program on the printed board
  • test control means for performing the test of the printed circuit board through the external device connection means by causing the MPU to execute a test program.
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 10-55287
  • the distance between electrodes of the semiconductor integrated circuit is required to be 100 m or less. As a result, a very large number of electrodes (for example, microbumps) are formed.
  • Patent Document 1 can determine the quality of the bump shape, there is a problem that it cannot be confirmed whether the main circuit actually operates correctly.
  • Patent Document 2 In the technology, it is necessary to provide test data generation means for generating test data for connection test in the first semiconductor integrated circuit device mounted on the printed board, and there is a problem that hinders high integration.
  • the signal pins of the semiconductor integrated circuit inspection device need to be limited to 512 pins or less in practice. For example, assuming a memory chip having a bit width of 256 bits, 512 pins are required only for input / output bits. In addition, if the address pin and mode control pin are considered, the 512 pin limit will be exceeded.
  • Patent Documents 3 and 4 require the connection of a printed board to an external device.
  • a semiconductor integrated circuit is highly integrated to 512 bits or more, the number of electrodes becomes 512 or more, and it is virtually impossible to connect all these electrodes to an external device.
  • the present invention has been proposed to solve the above-described problems, and provides a semiconductor chip and a semiconductor integrated circuit that can efficiently and reliably inspect a highly integrated semiconductor integrated circuit. For the purpose.
  • the semiconductor chip according to the present invention is a semiconductor chip that can be mounted on an interposer, and has a minimum pitch interval of 100 m or less, and a plurality of electrodes that connect the wiring in the interposer and the wiring in the semiconductor chip.
  • a plurality of probe electrodes connected to a part of the plurality of electrodes, and a test signal input to the probe electrode, and a wiring in the semiconductor chip connected to the plurality of electrodes And a signal processing means for performing predetermined signal processing based on the test signal divided by the dividing means.
  • the above invention is connected to each electrode even when it has a multi-bit width electrode. Since a test signal can be supplied to the connected wiring, inspection can be performed efficiently and reliably.
  • a semiconductor chip according to the present invention is a semiconductor chip that can be mounted on an interposer, and is connected to the signal processing means for performing predetermined signal processing and the signal processing means with a minimum pitch interval of 100 m or less.
  • the above invention can perform a predetermined calculation using the test signal of the wiring force connected to each electrode even in the case of having a multi-bit width electrode. An inspection can be surely performed.
  • FIG. 1 is a plan view of a semiconductor integrated circuit.
  • FIG. 7 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip.
  • FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the input side of the memory chip.
  • FIG. 14 is a truth table showing input / output of the selector.
  • FIG. 15 is a diagram showing a test signal flow in a test mode.
  • FIG. 16 is a diagram showing another configuration of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIG. 1 is a plan view of a semiconductor integrated circuit.
  • the semiconductor integrated circuit is interposer 1 and
  • the ASIC chip 80 is not shown in the figure!
  • the ASIC (specific logic circuit) is connected to the wiring in the ASIC chip 80 and the wiring of the interposer 1 with a minimum pitch of 100 ⁇ m or less.
  • a plurality of micro bumps 81 and a plurality of probe pads 82 are arranged.
  • FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the input side of the memory chip 10.
  • the memory chip 10 includes a latch circuit 22A to 22N that latches a signal input via the microphone bump 11A to L1N, and a latch circuit 22X that latches a test signal input via the microbump 11.
  • the probe is applied to probe pad 12 and probe pad 12
  • the flip-flop circuits 64A to 64N are connected in series via the selectors 63B to 61N. Therefore, the flip-flop circuits 64A to 64N shift the signal output from the buffer circuit 61A by one clock at a time so that the buffer circuit 65Y and the probe pad 12
  • FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention.
  • the semiconductor integrated circuit includes an interposer 100, and an ASIC chip 200 and a memory chip 300 mounted on the interposer 100.
  • the A and B terminals as input terminals and the output terminal
  • FIG. 13 is a logic circuit showing the configuration of selector 232.
  • FIG. 14 is a truth table showing the input / output of the selector 232.
  • Selector 232 consists of two NAND circuits 35, 36 and three NO
  • the microbump 101 is an electrode to which a test signal is input, and is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 212 via the latch circuit 201 of the ASIC chip 200.
  • the micro bump 102 is an electrode to which a clock for logic (ASIC chip 200) is input, and is connected to the clock input terminals of the flip-flop circuits 212, 222, 235, and 245 via the latch circuit 202.
  • the micro bump 103 is an electrode to which a mode signal for logic (ASIC chip 200) is input, and is connected to the S terminals of the selectors 234 and 244 via the latch circuit 203.
  • the A terminal of the selector 213 is connected to the buffer circuit 211, and its B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 212.
  • the Y terminal of the selector 213 is connected to the memory chip 300 via a notch circuit 214 and micro bumps 110 and 124.
  • the A terminal of the selector 223 is connected to the buffer circuit 221, and the B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 222.
  • the input terminal of the flip-flop circuit 222 The child is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 212.
  • the Y terminal of the selector 223 is connected to the memory chip 300 via the buffer circuit 224 and the micro bumps 111 and 125.
  • the A terminal of the selector 232 is connected to the memory chip 300 via the latch circuit 231 and the micro bumps 112 and 126.
  • the Y0 terminal of selector 232 is connected to buffer circuit 233, and its Y1 terminal is connected to the B terminal of selector 234.
  • the A terminal of the selector 234 is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 222, and its Y terminal is connected to the input terminal of the flip-flop circuit.
  • the selector 213 of the ASIC chip 200 when the test enable signal TEN is input to the micro bump 106!, NA! /, (When the test enable signal is at the TEN power level), the selector 213 of the ASIC chip 200, The 223 is in a state where the signal input to the A terminal outputs the Y terminal output as it is. In addition, the selectors 232 and 242 enter a state in which the signal input to the A terminal is output from the YO terminal. Similarly, the selectors 310 and 320 of the ASIC chip 200 are in a state of outputting the signal input to the A terminal from the YO terminal. In addition, the selectors 343 and 353 are in a state of outputting the signal input to the A terminal as it is from the Y terminal.
  • the test signal held in the flip-flop circuit 341 includes the selector 343, the micro-nops 126 and 112, and the selector 232. , 234, the flip-flop circuit 235 is held.
  • the test signal held in the flip-flop circuit 351 is held in the flip-flop circuit 245 via the selector 353, the micro amplifiers 127 and 113, and the selectors 242 and 244 (arrow D).
  • FIG. 16 is a diagram showing another configuration of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. is there.
  • the same circuits as those in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and different points from FIG. 12 will be mainly described.
  • the ASIC chip 200 sequentially scan-shifts the test signals held in the flip-flop circuit, and after the scan-shift of the test signals, the ASIC chip 200 performs the operations shown in FIGS.
  • the test signal is transferred to the ASIC chip 200 in the same manner as described above.
  • the wafer test (first and second embodiments) of the semiconductor chips connected by micro bumps via the interposer and the test after assembly (third embodiment) are efficiently executed. can do.
  • the number of probe pads is not particularly limited, and may be less than the number of micro bumps.

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Abstract

Provided is a semiconductor chip which can be mounted on an interposer. The semiconductor chip has a minimum pitch interval of 100μm or less. The semiconductor chip is provided with a plurality of electrodes for connecting a wiring in the interposer with a wiring in the semiconductor chip; a plurality of probe electrodes connected to a part of the electrodes; a dividing means for dividing a test signal inputted to the probe electrodes and supplying the divided signals to the wiring which is in the semiconductor chip and connected with the electrodes; and a signal processing means for performing prescribed signal processing based on the test signal divided by the dividing means.

Description

明 細 書  Specification
半導体チップ及び半導体集積回路  Semiconductor chip and semiconductor integrated circuit
技術分野  Technical field
[0001] 本発明は、半導体チップ及び半導体集積回路に係り、特にインターポーザに実装 される半導体チップ、及びそれを用いた半導体集積回路に関する。  TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a semiconductor chip and a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor chip mounted on an interposer and a semiconductor integrated circuit using the same.
背景技術  Background art
[0002] マイクロプロセッサ、チップセット、ビデオチップ、 DRAMなどのコンピュータの任意 の主要回路が集積されたチップ (SOC:システム ·オン ·チップ)である半導体集積回 路が提供されている。このような半導体集積回路は、実装に必要な面積を劇的に縮 小することができ、さらに、同等の回路を持つ複数チップによるシステムと比べて、消 費電力を格段に抑制することができる。また、上記半導体集積回路は、通常、出荷さ れる前に、各主要回路の動作、主要回路の端子間の接続関係などの試験が行われ る。  [0002] Semiconductor integrated circuits, which are chips (SOC: system-on-chip) on which arbitrary main circuits of a computer such as a microprocessor, a chip set, a video chip, and a DRAM are integrated, are provided. Such a semiconductor integrated circuit can drastically reduce the area required for mounting, and can further reduce power consumption compared to a system with multiple chips having equivalent circuits. . In addition, before the semiconductor integrated circuit is shipped, tests such as operation of each main circuit and connection relation between terminals of the main circuit are performed.
[0003] バンプ結合によって実装された半導体集積回路に対して、 X線を用いた透視によつ てチップの陰に隠れたバンプの状態を検査するバンプ検査装置が開示されている( 特許文献 1を参照。;)。特許文献 1の技術は、 X線を用いてバンプの中心位置を検出 し、その中心位置に基づいて基準バンプを設定し、基準バンプと検査対象となるバン プ形状とを比較することによりバンプ形状の良否を判定する。  [0003] A bump inspection apparatus that inspects the state of a bump hidden behind a chip by X-ray fluoroscopy with respect to a semiconductor integrated circuit mounted by bump bonding is disclosed (Patent Document 1). See;). The technique of Patent Document 1 detects the center position of a bump using X-rays, sets a reference bump based on the center position, and compares the reference bump with the bump shape to be inspected. Judge the quality of the.
[0004] また、プリント板に実装された第 1の半導体集積回路装置の端子と第 2の半導体集 積回路装置の端子との間の接続試験を行う技術が開示されている (特許文献 2を参 照。 ) o特許文献 2の技術は、第 2の半導体集積回路装置は、第 1の半導体集積回路 装置から出力されるテストデータを取り込んで保持するテストデータ取込保持手段を 具備し、テストデータ取込保持手段の出力が所定の値になっているかどうかを確認し て該第 1および第 2の半導体集積回路装置の端子間の接続試験を行う。  [0004] Further, a technique for performing a connection test between a terminal of a first semiconductor integrated circuit device mounted on a printed board and a terminal of a second semiconductor integrated circuit device is disclosed (Patent Document 2). O) The technology of Patent Document 2 is that the second semiconductor integrated circuit device includes a test data fetching and holding means for fetching and holding test data output from the first semiconductor integrated circuit device. A connection test between the terminals of the first and second semiconductor integrated circuit devices is performed by checking whether the output of the data fetching and holding means is a predetermined value.
[0005] さらに、 MPUを含めプリント板の全てのバスやその他の機能全体の試験ができるよ うにし、かつ最終的な障害箇所を容易に判別することができる MPU搭載プリント板用 試験装置が開示されている (特許文献 3を参照。 )0特許文献 3の技術は、外部機器 接続手段に接続するプリント板接続手段と、試験用のテストプログラムが記憶された テスト用 ROMと、 MPUの試験用の制御プログラムを実行する試験実行手段と、制御 プログラムに従い MPUの動作制御をプリント板接続手段を介して行う試験制御手段 と、を有し、 MPUにテストプログラムを実行させることによりプリント板の試験を外部機 器接続手段を介して行う。 [0005] Furthermore, a test apparatus for an MPU-mounted printed board that enables testing of all buses and other functions of the printed board including the MPU and that can easily determine the final failure location is disclosed. (See Patent Document 3.) 0 The technology of Patent Document 3 is an external device. Printed circuit board connection means connected to the connection means, test ROM storing a test program for testing, test execution means for executing a control program for MPU test, and MPU operation control according to the control program on the printed board And a test control means for performing the test of the printed circuit board through the external device connection means by causing the MPU to execute a test program.
[0006] また、複数のコネクタや電子部品が実装されたプリント回路板の品質試験を行うプリ ント回路板の試験方法が開示されている (特許文献 4を参照。 ) 0特許文献 4の技術 は、試験すべきプリント回路板のコネクタにインターフェイスボードを挿入して、プリン ト回路板を試験機本体に接続し、かつプリント板の接続内容を自動的に割り付けて 試験機本体に表示させる。そして、表示された画面よりプリント回路板の接続内容の 修正や、変更、追加などの試験情報を入力すると、試験機本体はプリント回路板の回 路網パターンより試験回路プログラムを読み取って、試験情報に合わせた整合性の とれる試験回路と試験プログラムを作成し、かつ試験プログラムを実行して、プリント 回路板の試験を行う。 [0006] Further, (see Patent Document 4.) That print circuit test method is disclosed plate to conduct a quality test of the plurality of connectors and electronic components printed circuit board mounted 0 the technique of Patent Document 4 Then, insert the interface board into the connector of the printed circuit board to be tested, connect the printed circuit board to the main body of the tester, and automatically assign the connection contents of the printed circuit board to display on the main body of the tester. When test information such as correction, change, or addition of the printed circuit board connection contents is input from the displayed screen, the tester body reads the test circuit program from the circuit pattern on the printed circuit board, and displays test information. Create a test circuit and a test program that can be matched to each other, and execute the test program to test the printed circuit board.
特許文献 1 :特開平 5— 251535号公報  Patent Document 1: JP-A-5-251535
特許文献 2 :特開平 6— 279919号公報  Patent Document 2: JP-A-6-279919
特許文献 3:特開平 10— 55287号公報  Patent Document 3: Japanese Patent Laid-Open No. 10-55287
特許文献 4:特開 2002— 71756号公報  Patent Document 4: Japanese Patent Laid-Open No. 2002-71756
発明の開示  Disclosure of the invention
発明が解決しょうとする課題  Problems to be solved by the invention
[0007] 半導体集積回路の大規模化、高集積ィ匕が進み、半導体集積回路の電極の間隔が 100 m以下まで要求されている。その結果、非常に多くの電極 (例えばマイクロバ ンプ)が形成される。 [0007] As semiconductor integrated circuits have become larger and more highly integrated, the distance between electrodes of the semiconductor integrated circuit is required to be 100 m or less. As a result, a very large number of electrodes (for example, microbumps) are formed.
[0008] そして、半導体集積回路の検査の際、マイクロバンプの形成前に半導体チップにプ ローブを接触させて検査することが考えられる。しかし、プローブカードの針によって バンプ形成用金属パッドに傷を付けてしまう問題がある。  [0008] Then, when inspecting a semiconductor integrated circuit, it is conceivable to inspect the semiconductor chip by contacting the probe before forming the micro bumps. However, there is a problem that the bump forming metal pad is scratched by the probe card needle.
[0009] これに対して、特許文献 1の技術は、バンプ形状の良否を判定できるものの、実際 に主要回路が正しく動作するかを確認することができない問題がある。特許文献 2の 技術は、プリント板に実装された第 1の半導体集積回路装置内に接続試験用のテス トデータを生成するテストデータ生成手段を設ける必要があり、高集積ィ匕を妨げる問 題がある。 [0009] On the other hand, although the technique of Patent Document 1 can determine the quality of the bump shape, there is a problem that it cannot be confirmed whether the main circuit actually operates correctly. Patent Document 2 In the technology, it is necessary to provide test data generation means for generating test data for connection test in the first semiconductor integrated circuit device mounted on the printed board, and there is a problem that hinders high integration.
[0010] また、半導体集積回路の検査装置の信号ピンは、現実的には 512ピン以下に抑え る必要がある。例えば、 256ビットのビット幅を有するメモリチップを想定すると、入出 力のビット用だけで 512ピン必要になる。その他、アドレス端子、モード制御端子を考 慮すると、 512ピンの制約を超えてしまう。  [0010] In addition, the signal pins of the semiconductor integrated circuit inspection device need to be limited to 512 pins or less in practice. For example, assuming a memory chip having a bit width of 256 bits, 512 pins are required only for input / output bits. In addition, if the address pin and mode control pin are considered, the 512 pin limit will be exceeded.
[0011] これに対して、特許文献 3及び 4の技術は、プリント板を外部機器に接続する必要 力ある。しかし、例えば 512ビット以上に半導体集積回路が高集積化されると、電極 が 512本以上になり、これらのすべての電極を外部機器に接続することは事実上不 可能である。  [0011] On the other hand, the techniques of Patent Documents 3 and 4 require the connection of a printed board to an external device. However, for example, if a semiconductor integrated circuit is highly integrated to 512 bits or more, the number of electrodes becomes 512 or more, and it is virtually impossible to connect all these electrodes to an external device.
[0012] 本発明は、上述した課題を解決するために提案されたものであり、高集積化された 半導体集積回路に対して効率的かつ確実に検査できる半導体チップ及び半導体集 積回路を提供することを目的とする。  The present invention has been proposed to solve the above-described problems, and provides a semiconductor chip and a semiconductor integrated circuit that can efficiently and reliably inspect a highly integrated semiconductor integrated circuit. For the purpose.
課題を解決するための手段  Means for solving the problem
[0013] 本発明に係る半導体チップは、インターポーザに実装可能な半導体チップであつ て、最小ピッチ間隔が 100 m以下で、前記インターポーザ内の配線と前記半導体 チップ内の配線とを接続する複数の電極と、前記複数の電極の一部に接続された複 数のプローブ電極と、前記プローブ電極に入力されるテスト信号を分割して、前記半 導体チップ内の配線であって前記複数の電極に接続された配線に供給する分割手 段と、前記分割手段により分割されたテスト信号に基づ ヽて所定の信号処理を行う信 号処理手段と、を備えている。  [0013] The semiconductor chip according to the present invention is a semiconductor chip that can be mounted on an interposer, and has a minimum pitch interval of 100 m or less, and a plurality of electrodes that connect the wiring in the interposer and the wiring in the semiconductor chip. A plurality of probe electrodes connected to a part of the plurality of electrodes, and a test signal input to the probe electrode, and a wiring in the semiconductor chip connected to the plurality of electrodes And a signal processing means for performing predetermined signal processing based on the test signal divided by the dividing means.
[0014] 半導体チップは、最小ピッチ間隔が 100 μ m以下の電極を介して、インターポーザ に実装されている。プローブ電極は、この電極一部に接続されている。そして、分割 手段は、プローブ電極に入力されるテスト信号を分割して、半導体チップ内の配線で あって複数の電極に接続された配線に供給する。そして、信号処理手段は、分割さ れたテスト信号に基づ!/、て所定の信号処理を行う。  The semiconductor chip is mounted on the interposer via electrodes having a minimum pitch interval of 100 μm or less. The probe electrode is connected to a part of this electrode. Then, the dividing means divides the test signal input to the probe electrode and supplies it to the wiring in the semiconductor chip that is connected to the plurality of electrodes. Then, the signal processing means performs predetermined signal processing based on the divided test signals.
[0015] よって、上記発明は、多ビット幅の電極を有する場合であっても、各電極に接続され た配線にテスト信号を供給することができるので、効率的にかつ確実に検査を行うこ とがでさる。 [0015] Therefore, the above invention is connected to each electrode even when it has a multi-bit width electrode. Since a test signal can be supplied to the connected wiring, inspection can be performed efficiently and reliably.
[0016] 本発明に係る半導体チップは、インターポーザに実装可能な半導体チップであつ て、所定の信号処理を行う信号処理手段と、最小ピッチ間隔が 100 m以下で、前 記信号処理手段に接続された配線と前記インターポーザ内の配線とを接続する複数 の電極と、前記複数の電極に各々接続されて 、る配線力ものテスト信号に基づ 、て 所定の演算処理を行う演算処理手段と、前記演算処理手段の演算結果が出力され るプローブ電極と、を備えている。  A semiconductor chip according to the present invention is a semiconductor chip that can be mounted on an interposer, and is connected to the signal processing means for performing predetermined signal processing and the signal processing means with a minimum pitch interval of 100 m or less. A plurality of electrodes for connecting the interconnected wiring and the wiring in the interposer, arithmetic processing means connected to each of the plurality of electrodes and performing predetermined arithmetic processing based on a test signal having a wiring strength, And a probe electrode for outputting a calculation result of the calculation processing means.
[0017] よって、上記発明は、多ビット幅の電極を有する場合であっても、各電極に接続され た配線力 のテスト信号を用いて所定の演算を行うことができるので、効率的にかつ 確実に検査を行うことができる。  [0017] Therefore, the above invention can perform a predetermined calculation using the test signal of the wiring force connected to each electrode even in the case of having a multi-bit width electrode. An inspection can be surely performed.
[0018] 本発明に係る半導体集積回路は、第 1及び第 2の半導体チップが 100 m以下の 最小ピッチ間隔の電極を介してインターポーザに実装された半導体集積回路であつ て、前記第 1の半導体チップは、信号を入力する入力手段と、前記入力手段に入力 された信号を、前記ピッチ間隔の電極を介して第 2の半導体チップに転送する第 1の 転送手段と、前記第 2の半導体チップから転送された信号を受信する第 1の受信手 段と、前記受信手段で受信された信号を出力する出力電極と、を備え、前記第 2の半 導体チップは、前記第 1の半導体チップから転送された信号を受信する第 2の受信 手段と、前記第 2の受信手段で受信された信号を、前記ピッチ間隔の電極を介して 前記第 1の半導体チップに転送する第 2の転送手段と、を備えたことを特徴とする。  [0018] The semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit in which the first and second semiconductor chips are mounted on an interposer via electrodes having a minimum pitch interval of 100 m or less, and the first semiconductor chip The chip includes an input means for inputting a signal, a first transfer means for transferring a signal input to the input means to a second semiconductor chip via the electrodes having the pitch interval, and the second semiconductor chip. A first receiving means for receiving a signal transferred from the output means, and an output electrode for outputting the signal received by the receiving means, wherein the second semiconductor chip is derived from the first semiconductor chip. Second receiving means for receiving the transferred signal; and second transferring means for transferring the signal received by the second receiving means to the first semiconductor chip via the electrodes of the pitch interval; It is characterized by having
[0019] したがって、上記発明は、第 1の半導体チップに入力された信号を、第 1の半導体 チップ力も電極を介して第 2の半導体チップに転送し、第 2の半導体チップ力も電極 を介して第 1の半導体チップに転送した後、出力電極力 出力するので、第 1及び第 2の半導体チップ内の配線状況、及び電極間の配線状況を効率的かつ確実に検査 することができる。  Therefore, in the above invention, the signal input to the first semiconductor chip is transferred to the second semiconductor chip via the first semiconductor chip force and the electrode, and the second semiconductor chip force is also transferred via the electrode. Since the output electrode force is output after the transfer to the first semiconductor chip, the wiring situation in the first and second semiconductor chips and the wiring situation between the electrodes can be inspected efficiently and reliably.
発明の効果  The invention's effect
[0020] 本発明は、多ビット幅の電極を有する半導体集積回路に対して効率的かつ確実に 検査する。 図面の簡単な説明 The present invention efficiently and reliably inspects a semiconductor integrated circuit having a multi-bit width electrode. Brief Description of Drawings
[0021] [図 1]半導体集積回路の平面図である。  FIG. 1 is a plan view of a semiconductor integrated circuit.
[図 2]図 1の I I間の断面図である。  FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line I I in FIG.
[図 3]メモリチップの構成を示すブロック図である。  FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a memory chip.
[図 4]メモリチップの入力側の構成を示す図である。  FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an input side of a memory chip.
[図 5]セレクタの構成を示す論理回路である。  FIG. 5 is a logic circuit showing the configuration of the selector.
[図 6]セレクタの入出力を示す真理値表である。  FIG. 6 is a truth table showing selector inputs and outputs.
[図 7]メモリチップの出力側の構成を示す図である。  FIG. 7 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip.
[図 8]メモリチップの入力側の構成を示す図である。  FIG. 8 is a diagram showing a configuration of an input side of a memory chip.
[図 9]メモリチップの入力側の構成を示す図である。  FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the input side of the memory chip.
[図 10]メモリチップ 10の出力側の構成を示す図である。  FIG. 10 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip 10.
[図 11]メモリチップ 10の出力側の構成を示す図である。  FIG. 11 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip 10.
[図 12]本発明の第 3の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。  FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.
[図 13]セレクタの構成を示す論理回路である。  FIG. 13 is a logic circuit showing the configuration of the selector.
[図 14]セレクタの入出力を示す真理値表である。  FIG. 14 is a truth table showing input / output of the selector.
[図 15]テストモードにおけるテスト信号の流れを示す図である。  FIG. 15 is a diagram showing a test signal flow in a test mode.
[図 16]本発明の第 3の実施形態に係る半導体集積回路の他の構成を示す図である。 発明を実施するための最良の形態  FIG. 16 is a diagram showing another configuration of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0022] 以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明するHereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
。なお、同一構成の回路には同一の符号 (数字)を付し、更に必要に応じて添え字( アルファベット)を付するものとする。また、以下の実施形態は本発明の一例に過ぎず. In addition, the same code | symbol (number) is attached | subjected to the circuit of the same structure, and also a subscript (alphabet) shall be attached | subjected as needed. The following embodiments are merely examples of the present invention.
、発明の範囲を逸脱しない限り、適宜設計変更可能である。 The design can be changed as appropriate without departing from the scope of the invention.
[0023] [第 1の実施形態] [First Embodiment]
図 1は、半導体集積回路の平面図である。半導体集積回路は、インターポーザ 1と FIG. 1 is a plan view of a semiconductor integrated circuit. The semiconductor integrated circuit is interposer 1 and
、このインターポーザ 1に実装されたメモリチップ 10及び ASICチップ 80と、を備えて いる。インターポーザ 1には、複数のプローブパット 2が設けられている。 The memory chip 10 and the ASIC chip 80 mounted on the interposer 1 are provided. The interposer 1 is provided with a plurality of probe pads 2.
[0024] メモリチップ 10は、後述する DRAM21と、メモリチップ 10内の配線とインターポー ザ 1の配線とを接続するものであって 100 μ m以下の最小ピッチで配置された複数の マイクロバンプ 11と、複数のプローブパット 12と、を有している。 [0024] The memory chip 10 connects a DRAM 21, which will be described later, to the wiring in the memory chip 10 and the wiring of the interposer 1, and includes a plurality of memory chips 10 arranged at a minimum pitch of 100 μm or less. A micro bump 11 and a plurality of probe pads 12 are provided.
[0025] ASICチップ 80は、図示しな!、ASIC (特定用理論回路)と、 ASICチップ 80内の配 線とインターポーザ 1の配線とを接続するものであって 100 μ m以下の最小ピッチで 配置された複数のマイクロバンプ 81と、複数のプローブパット 82と、を有している。  [0025] The ASIC chip 80 is not shown in the figure! The ASIC (specific logic circuit) is connected to the wiring in the ASIC chip 80 and the wiring of the interposer 1 with a minimum pitch of 100 μm or less. A plurality of micro bumps 81 and a plurality of probe pads 82 are arranged.
[0026] 図 2は、図 1の I I間の断面図である。インターポーザ 1の上面(メモリチップ 10、 A SICチップ 80に対向する面)には、金属膜 3及びバイァメタル膜 4力もなる金属配線 パターン 5が形成されて 、る。  FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line I I in FIG. On the upper surface of the interposer 1 (the surface facing the memory chip 10 and the ASIC chip 80), a metal wiring pattern 5 having a metal film 3 and a via metal film 4 is formed.
[0027] 一方、メモリチップ 10及び ASICチップ 80の下面(インターポーザ 1と相対する面) には、それぞれ金属配線パターン 13及び 83が形成されている。メモリチップ 10の金 属配線パターン 13は、マイクロバンプ 11を介して、インターポーザ 1の金属配線パタ ーン 3に接続されている。 ASICチップ 80の金属配線パターン 83は、マイクロバンプ 81を介して、インターポーザ 1の金属配線パターン 3に接続されている。このように、メ モリチップ 10及び ASICチップ 80は、それぞれマイクロバンプ 11、 81を介して、イン ターポーザ 1にフェイスダウン実装されて 、る。  On the other hand, metal wiring patterns 13 and 83 are formed on the lower surfaces (surfaces facing the interposer 1) of the memory chip 10 and the ASIC chip 80, respectively. The metal wiring pattern 13 of the memory chip 10 is connected to the metal wiring pattern 3 of the interposer 1 through the micro bumps 11. The metal wiring pattern 83 of the ASIC chip 80 is connected to the metal wiring pattern 3 of the interposer 1 through the micro bumps 81. As described above, the memory chip 10 and the ASIC chip 80 are mounted face-down on the interposer 1 via the micro bumps 11 and 81, respectively.
[0028] 図 3は、メモリチップ 10の構成を示すブロック図である。メモリチップ 10は、マイクロ バンプ 11及びプローブパット 12に入力された信号のいずれかを選択して出力する 選択回路 14と、 DRAM21を含むメモリ回路 20と、メモリ回路 20から供給される信号 の出力先をマイクロバンプ 11又はプローブパット 12に切り換える選択回路 15と、を 備えている。  FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the memory chip 10. The memory chip 10 selects and outputs one of the signals input to the micro bump 11 and the probe pad 12, a memory circuit 20 including the DRAM 21, and an output destination of a signal supplied from the memory circuit 20. And a selection circuit 15 for switching to a microbump 11 or a probe pad 12.
[0029] 選択回路 14は、テストイネーブル信号 TEN力 レベルのときはマイクロバンプ 11に 入力される信号を選択し、テストイネーブル信号 TENが Hレベルのときはプローブパ ット 12に入力されるテスト信号を選択する。なお、図 3に示す A領域の選択回路 14は 1つのマイクロバンプ 11に接続され、 B領域の選択回路 14は複数のマイクロバンプ 1 1に接続されている。  [0029] The selection circuit 14 selects a signal input to the microbump 11 when the test enable signal TEN is at the TEN power level, and selects a test signal input to the probe pad 12 when the test enable signal TEN is at the H level. select. Note that the A region selection circuit 14 shown in FIG. 3 is connected to one micro bump 11, and the B region selection circuit 14 is connected to a plurality of micro bumps 11.
[0030] 選択回路 15は、テストイネ一ブル信号 TEN力 レベルのときは信号の出力先として マイクロバンプ 11を選択し、テストイネーブル信号 TENが Hレベルのときは信号の出 力先としてプローブパット 12を選択する。なお、図 3に示す C領域の選択回路 15は 1 つのマイクロバンプ 11に接続され、 D領域の選択回路 15は複数のマイクロバンプ 11 に接続されている。 [0030] When the test enable signal TEN is at the TEN power level, the selection circuit 15 selects the micro bump 11 as the signal output destination, and when the test enable signal TEN is at the H level, the selection circuit 15 selects the probe pad 12 as the signal output destination. select. In addition, the selection circuit 15 in the C region shown in FIG. 3 is connected to one micro bump 11, and the selection circuit 15 in the D region includes a plurality of micro bumps 11. It is connected to the.
[0031] [入力側の構成例 1:パラレルモード]  [0031] [Configuration example on input side 1: Parallel mode]
図 4は、メモリチップ 10の入力側の構成を示す図である。メモリチップ 10は、マイク 口バンプ 11A〜: L 1Nを介して入力された信号をラッチするラッチ回路 22A〜22N と、マイクロバンプ 11 を介して入力されるテスト信号をラッチするラッチ回路 22X  FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the input side of the memory chip 10. The memory chip 10 includes a latch circuit 22A to 22N that latches a signal input via the microphone bump 11A to L1N, and a latch circuit 22X that latches a test signal input via the microbump 11.
SDATA  SDATA
と、テストイネ一ブル信号 TENをバッファリングするバッファ回路 23と、テスト信号を選 択するセレクタ 24Aと、マイクロバンプ 11を介して入力された信号又はテスト信号を 選択するセレクタ 27A〜27Nと、バッファ回路 28A〜28Nと、を備えている。  A buffer circuit 23 for buffering the test enable signal TEN, a selector 24A for selecting the test signal, a selector 27A to 27N for selecting the signal or the test signal input via the microbump 11, and a buffer circuit 28A to 28N.
[0032] ラッチ回路 22A〜22N、 22X及びバッファ回路 23は、図示しない第 1の電源回路 力 電圧 VDDQが供給される。また、セレクタ 24A、 27A〜27N、バッファ回路 28A 〜28Nは、図示しない第 2の電源回路力も電圧 VDDが供給される。ここで、セレクタ 24A及び 27A〜27Nは同一の構成であるので、セレクタ 24Aを例に挙げてその構 成を説明する。 The latch circuits 22A to 22N, 22X and the buffer circuit 23 are supplied with a first power supply circuit power voltage VDDQ (not shown). The selectors 24A, 27A to 27N and the buffer circuits 28A to 28N are also supplied with the voltage VDD by the second power supply circuit (not shown). Here, since the selectors 24A and 27A to 27N have the same configuration, the configuration will be described by taking the selector 24A as an example.
[0033] 図 5は、セレクタ 24Aの構成を示す論理回路である。図 6は、セレクタ 24Aの入出力 を示す真理値表である。セレクタ 24Aは、 3つの NAND回路 31、 32、 34と、 NOT回 路 33と、を備えている。  FIG. 5 is a logic circuit showing the configuration of the selector 24A. FIG. 6 is a truth table showing the input / output of the selector 24A. The selector 24A includes three NAND circuits 31, 32, and 34, and a NOT circuit 33.
[0034] NAND回路 32は、 B端子及び S端子に入力された二値データの NAND (否定積) を演算して、二値データ N2を出力する。否定回路 33は、 S端子に入力されたニ値デ ータの NOT (否定)を演算して、二値データ SBを出力する。  The NAND circuit 32 calculates a NAND (negative product) of binary data input to the B terminal and the S terminal, and outputs binary data N2. The negation circuit 33 calculates NOT of the binary data input to the S terminal, and outputs binary data SB.
[0035] NAND回路 31は、 A端子に入力された二値データと二値データ SBとの NANDを 演算し、二値データ N1を出力する。 NAND回路 34は、二値データ N1及び N2の N ANDを演算して、 Y端子から二値データを出力する。よって、セレクタ 24Aは、図 6 に示すように、 S端子に入力される二値データが Lの場合は、 A端子に入力された二 値データをそのまま出力し、 S端子に入力される二値データが Hの場合は、 B端子に 入力された二値データをそのまま出力する。  The NAND circuit 31 calculates a NAND of the binary data input to the A terminal and the binary data SB, and outputs binary data N1. The NAND circuit 34 calculates a NAND of the binary data N1 and N2, and outputs binary data from the Y terminal. Therefore, as shown in Fig. 6, when the binary data input to the S terminal is L, the selector 24A outputs the binary data input to the A terminal as it is and the binary data input to the S terminal. When the data is H, the binary data input to the B terminal is output as it is.
[0036] (通常モード)  [0036] (Normal mode)
以上のように構成されたメモリチップ 10において、マイクロバンプ 11 、プローブ  In the memory chip 10 configured as described above, the micro bump 11 and the probe
TEN"in ノット 12 の!、ずれにもテストイネーブル信号 TENが入力されて!、な!/、場合 (テス トイネーブル信号 TEN力 レベルの場合)、セレクタ 24A、 27A〜27Nは、 A端子に 入力される信号を Y端子力もそのまま出力する状態になる。よって、各々のマイクロバ ンプ 11A〜: L 1N に入力された信号は、ラッチ回路 22A〜22N、セレクタ 27A〜27 in in TEN "in knot 12 !, even if the test enable signal TEN is input! Enable signal TEN force level), the selectors 24A, 27A to 27N are in a state to output the signal input to the A terminal as it is to the Y terminal force. Therefore, the signals input to each microbump 11A ~: L 1N are latch circuits 22A ~ 22N, selectors 27A ~ 27 in in
N、バッファ回路 28A〜28Nを介して、 DRAM21の各々の端子に供給される。  N, supplied to each terminal of the DRAM 21 via the buffer circuits 28A to 28N.
[0037] (テストモード)  [0037] (Test mode)
テストモードでは、プローブパット 12 にプローブが当てられ、プローブパット 12  In test mode, the probe is applied to probe pad 12 and probe pad 12
TEN- in T に Ηレベルのテストイネーブル信号 TENが入力される。このとき、セレクタ 24A、 2 イ ネ ー ブ ル level test enable signal TEN is input to TEN-in T. At this time, selector 24A, 2
EN— in EN—in
7A〜27Nは、 B端子に入力される信号を Y端子力もそのまま出力する状態になる。  7A to 27N are in a state where the signal input to the B terminal outputs the Y terminal force as it is.
[0038] そして、プローブパット 12 にプローブ力ものテスト信号が入力されると、このテ  [0038] When a test signal having a probe strength is input to the probe pad 12, this test is performed.
SDATA-in  SDATA-in
スト信号は、セレクタ 24Aを介して、セレクタ 27A〜27Nの各々にパラレルに分配さ れ、各々のバッファ回路 28A〜28Nを介して、 DRAM21の各々の端子に入力され る。  The strike signal is distributed in parallel to each of the selectors 27A to 27N via the selector 24A, and is input to each terminal of the DRAM 21 via each buffer circuit 28A to 28N.
[0039] よって、メモリチップ 10は、テスト信号をパラレルに分配して、各々のテスト信号をマ イク口バンプ 11A〜: L IB に接続されている配線に供給する。よって、メモリチップ 1 in in  Therefore, the memory chip 10 distributes the test signals in parallel and supplies each test signal to the wiring connected to the microphone opening bumps 11A to 11B. Therefore, memory chip 1 in in
0は、単一のローブパット 12 に入力されたテスト信号を、 DRAM21の端子の各  0 indicates that the test signal input to the single lobe pad 12 is
SDATA-in  SDATA-in
々に同時に入力させることができる。  Can be input simultaneously.
[0040] [出力側の構成例 1:パラレルモード]  [0040] [Configuration example on output side 1: Parallel mode]
図 7は、メモリチップ 10の出力側の構成を示す図である。メモリチップ 10は、 DRA M21の各々の端子から出力された信号をバッファリングするバッファ回路 61A〜61 Nと、各バッファ回路 61 A〜61Nから出力された信号に基づ 、て所定の演算を行う 演算回路 62と、各バッファ回路 61A〜61Nから出力された信号をバッファリングする バッファ回路 65A〜65Nと、演算回路 62から出力された信号をバッファリングするバ ッファ回路 65Xと、を備えている。  FIG. 7 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip 10. The memory chip 10 performs a predetermined operation based on the buffer circuits 61A to 61N that buffer the signals output from the respective terminals of the DRA M21 and the signals output from the buffer circuits 61A to 61N. An arithmetic circuit 62, buffer circuits 65A to 65N for buffering signals output from the buffer circuits 61A to 61N, and a buffer circuit 65X for buffering signals output from the arithmetic circuit 62 are provided.
[0041] 演算回路 62は、ノ ッファ回路 61A〜61Nから出力された信号に基づいてメモリチ ップ 10内を検査する回路であり、例えば AND回路、 OR回路、 XOR (排他的論理和 )回路など、特に限定されるものではない。  [0041] The arithmetic circuit 62 is a circuit that inspects the inside of the memory chip 10 based on signals output from the nother circuits 61A to 61N. For example, an AND circuit, an OR circuit, an XOR (exclusive OR) circuit, etc. There is no particular limitation.
[0042] (通常モード)  [0042] (Normal mode)
以上のように構成されたメモリチップ 10において、マイクロバンプ 11 、プロ  In the memory chip 10 configured as described above, the micro bump 11 and the pro
TEN-out 一 ブパット 12 の!、ずれにもテストイネーブル信号 TENが入力されて!、な!/、場合(TEN-out If the test enable signal TEN is input to!
TEN- out TEN-out
テストイネーブル信号 TENが Lレベルの場合)、 DRAM21の各々の端子から出力さ れた信号は、バッファ回路 61A〜61N、マイクロバンプ 11A 〜: L 1N を介して、ィ  When the test enable signal TEN is at the L level), the signals output from the respective terminals of the DRAM 21 are passed through the buffer circuits 61A to 61N and the micro bumps 11A to L1N.
out out  out out
ンターポーザ 1に出力される。  Output to the interposer 1.
[0043] (テストモード) [0043] (Test mode)
入力側でテストが実行されると、 DRAM21の各々の端子力 テスト信号を反映した 信号が出力される。これらの信号は、各々のバッファ回路 61A〜61Nを介して、演算 回路 62に供給される。演算回路 62は、バッファ回路 61A〜61N力も供給された信 号に基づいて所定の演算を行って、その演算結果をバッファ回路 65X、プローブパ ット 12 (又はマイクロバンプ 11 )を介して出力する。  When a test is executed on the input side, a signal reflecting each terminal force test signal of DRAM 21 is output. These signals are supplied to the arithmetic circuit 62 via the respective buffer circuits 61A to 61N. The arithmetic circuit 62 performs a predetermined calculation based on the signal supplied with the buffer circuits 61A to 61N, and outputs the calculation result via the buffer circuit 65X and the probe pad 12 (or the micro bump 11).
CKl-out CKl-out  CKl-out CKl-out
[0044] したがって、メモリチップ 10は、プローブパット 12 にプローブを当てて、プロ  Therefore, the memory chip 10 applies the probe to the probe pad 12 to
CK1-OUT 一 ブパット 12 力も出力された信号をチェックするだけで、非常に多くの端子を有  CK1-OUT 1 Bupput 12 There are so many terminals just by checking the output signal.
CK1-OUT  CK1-OUT
する DRAM21内蔵のメモリチップ 10の状態を検査することができる。  The state of the memory chip 10 with the built-in DRAM 21 can be inspected.
[0045] [第 2の実施形態] [0045] [Second Embodiment]
つぎに、本発明の第 2の実施形態について説明する。なお、第 1の実施形態と同一 の回路には同一の符号を付し、主に第 1の実施形態と異なる回路について説明する 。第 2の実施形態では、メモリチップ 10の入力側及び出力側の他の構成例について 説明する。  Next, a second embodiment of the present invention will be described. The same circuits as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and circuits different from those in the first embodiment will be mainly described. In the second embodiment, another configuration example of the input side and the output side of the memory chip 10 will be described.
[0046] [入力側の構成例 2:シリアルモード]  [0046] [Configuration example 2: input side serial mode]
図 8は、メモリチップ 10の入力側の構成を示す図である。メモリチップ 10は、図 4に 示す構成に加えて、マイクロバンプ 11 を介して入力されるクロックをラッチするラ  FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the input side of the memory chip 10. In addition to the configuration shown in FIG. 4, the memory chip 10 latches a clock that latches a clock input through the micro bump 11.
SCLK-in  SCLK-in
ツチ回路 22Yと、マイクロバンプ 11 〖こ入力されたクロック、プローブパット 12  Touch circuit 22Y and micro bump 11 Clock input, probe pad 12
SCLK-in SCLK-i に入力されたクロックの 、ずれかを選択するセレクタ 24Bと、選択されたテスト信号を 1クロックずつ遅延させるフリップフロップ回路 25A〜25Nと、を更に備えている。  SCLK-in SCLK-i further includes a selector 24B for selecting a shift of the clock input to SCLK-i, and flip-flop circuits 25A to 25N for delaying the selected test signal by one clock.
[0047] フリップフロップ回路 25A〜25Nは、直列に接続されていると共に、セレクタ 24Bか ら供給されるクロックに同期する。そして、フリップフロップ回路 25B〜25Nは、このク ロックに同期して、テスト信号をセレクタ 27B〜27Nに供給すると共に、このテスト信 号を次の段のフリップフロップ回路に供給する。なお、フリップフロップ回路 25Aは、 次の段のフリップフロップ回路がないので、クロックに同期してテスト信号をセレクタセ レクタ 27Aに供給する。 The flip-flop circuits 25A to 25N are connected in series and synchronized with the clock supplied from the selector 24B. Then, the flip-flop circuits 25B to 25N supply the test signal to the selectors 27B to 27N in synchronization with the clock, and supply the test signal to the flip-flop circuit of the next stage. Note that the flip-flop circuit 25A Since there is no flip-flop circuit in the next stage, a test signal is supplied to the selector selector 27A in synchronization with the clock.
[0048] (通常モード)  [0048] (Normal mode)
以上のように構成されたメモリチップ 10において、マイクロバンプ 11 、プローブ  In the memory chip 10 configured as described above, the micro bump 11 and the probe
TEN"in  TEN "in
ノ ット 12 の!、ずれにもテストイネーブル信号 TENが入力されて!、な!/、場合 (テス If the test enable signal TEN is input to the!
TEN-in TEN-in
トイネーブル信号 TENが Lレベルの場合)、セレクタ 24A、 24B、 27A〜27Nは、 A 端子に入力される信号を Y端子力もそのまま出力する状態になる。よって、各々のマ イク口バンプ 11に入力された信号は、ラッチ回路 22Α〜22Ν、セレクタ 27Α〜27Ν、 バッファ回路 28Α〜28Νを介して、 DRAM21の各々の端子に供給される。  Selector enable signal TEN is at L level), selectors 24A, 24B, and 27A to 27N are in a state to output the signal that is input to the A terminal as it is to the Y terminal. Therefore, the signal input to each microphone opening bump 11 is supplied to each terminal of the DRAM 21 via the latch circuits 22 to 22, the selectors 27 to 27, and the buffer circuits 28 to 28.
[0049] (テストモード)  [0049] (Test mode)
テストモードでは、プローブパット 12 にプローブが当てられ、プローブパット 12  In test mode, the probe is applied to probe pad 12 and probe pad 12
TEN-in T に Hレベルのテストイネーブル信号 TENが入力される。このとき、セレクタ 24A、 2 H level test enable signal TEN is input to TEN-in T. At this time, selector 24A, 2
EN- in EN- in
7A〜27Nは、 B端子に入力される信号を Y端子力もそのまま出力する状態になる。  7A to 27N are in a state where the signal input to the B terminal outputs the Y terminal force as it is.
[0050] そして、プローブパット 12 にプローブからのテスト信号が入力されると、セレク  [0050] When a test signal from the probe is input to the probe pad 12,
SDATA-in  SDATA-in
タ 24Aは、テスト信号をフリップフロップ回路 25Nに供給する。  The data 24A supplies the test signal to the flip-flop circuit 25N.
[0051] フリップフロップ回路 25Nは、マイクロバンプ 11 、ラッチ回路 22Y、セレクタ 24  [0051] The flip-flop circuit 25N includes a micro bump 11, a latch circuit 22Y, and a selector 24.
SCLK-in  SCLK-in
Bを介して供給されるクロックに同期して、セレクタ 24Aカゝら供給されるテスト信号をセ レクタ 27Nに供給すると共に、そのテスト信号を次の段のフリップフロップ回路に供給 する。同様に、フリップフロップ回路 25Bは、マイクロバンプ 11 、ラッチ回路 22Y  In synchronization with the clock supplied via B, the test signal supplied from the selector 24A is supplied to the selector 27N, and the test signal is supplied to the flip-flop circuit in the next stage. Similarly, the flip-flop circuit 25B includes a micro bump 11 and a latch circuit 22Y.
SCLK-in  SCLK-in
、セレクタ 24Bを介して供給されるクロックに同期して、前の段のフリップフロップ回路 力も供給されるテスト信号をセレクタ 27Bに供給すると共に、そのテスト信号を次の段 のフリップフロップ回路 25Aに供給する。  In synchronization with the clock supplied via the selector 24B, the test signal to which the previous stage flip-flop circuit power is also supplied is supplied to the selector 27B, and the test signal is supplied to the next stage flip-flop circuit 25A. To do.
[0052] この結果、セレクタ 27A〜27Nには、それぞれ 1クロックずつ遅延したテスト信号が 供給される。これらのテスト信号は、セレクタ 27A〜27N、バッファ回路 28A〜28Nを 介して、 DRAM21へ供給される。  As a result, a test signal delayed by one clock is supplied to each of the selectors 27A to 27N. These test signals are supplied to the DRAM 21 via the selectors 27A to 27N and the buffer circuits 28A to 28N.
[0053] 以上のように、メモリチップ 10は、プローブパット 12 にテスト信号が入力される  As described above, in the memory chip 10, the test signal is input to the probe pad 12.
SDATA-in  SDATA-in
と、テスト信号を 1クロックずつずらして、 1クロックずつずれたテスト信号をマイクロバ ンプ 11A〜: L IB に接続されている配線の各々に供給する。これにより、メモリチッ プ 10は、単一のプローブパット 12 にテスト信号を入力するだけで、複数の配線 Then, the test signal is shifted by one clock, and the test signal shifted by one clock is supplied to each of the wirings connected to the microbumps 11A to LIB. As a result, the memory chip 10 can be used for multiple wiring by simply inputting a test signal to a single probe pad 12.
SDATA-in  SDATA-in
に 1クロックずつずれたテスト信号を供給することができる。  Test signals that are shifted by one clock at a time can be supplied.
[入力側の構成例 3:パラレル Zシリアル併用モード]  [Configuration example on input side 3: Parallel Z-serial combination mode]
図 9は、メモリチップ 10の入力側の構成を示す図である。メモリチップ 10は、図 8に 示す構成に加えて、マイクロバンプ 11 を介して入力されるモード信号をラッチ  FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the input side of the memory chip 10. In addition to the configuration shown in FIG. 8, the memory chip 10 latches a mode signal input via the micro bump 11.
S ODE-in  S ODE-in
するラッチ回路 22Zと、マイクロバンプ 11 に入力されたモード信号、プローブ  Mode circuit and probe input to latch circuit 22Z and micro bump 11
SMODE-in  SMODE-in
ノ ット 12 に入力されたモード信号のいずれかを選択するセレクタ 24Cと、モー A selector 24C that selects one of the mode signals input to the knot 12 and a mode
SMODE-in SMODE-in
ド信号に応じて出力すべき信号を切り換えるセレクタ 26A〜26Nと、を更に備えて!/ヽ る。  Selectors 26A to 26N for switching signals to be output in response to the control signal.
[0054] モード信号とは、テスト信号を各配線にパラレルに分配するか (パラレルモード)、 1 クロックずつずれたテスト信号を各配線にシリアルに分配するか (シリアルモード)を 決定する信号である。例えば、モード信号力 レベルのときはパラレルモードになり、 モード信号が Hレベルのときはシリアルモードになる。  [0054] The mode signal is a signal that determines whether the test signal is distributed in parallel to each wiring (parallel mode) or whether the test signal shifted by one clock is serially distributed to each wiring (serial mode). . For example, when the mode signal level is high, the parallel mode is selected. When the mode signal is high level, the serial mode is selected.
[0055] セレクタ 26A〜26Nの A端子は、いずれもセレクタ 24Bの Y端子に接続されている 。セレクタ 26A〜26Nの B端子は、フリップフロップ回路 25A〜25Nの出力端子に接 続されている。セレクタ 26A〜26Nの S端子は、セレクタ 24Cの Y端子に接続されて いる。 [0055] The A terminals of the selectors 26A to 26N are all connected to the Y terminal of the selector 24B. The B terminals of the selectors 26A to 26N are connected to the output terminals of the flip-flop circuits 25A to 25N. The S terminals of selectors 26A to 26N are connected to the Y terminal of selector 24C.
[0056] (通常モード)  [0056] (Normal mode)
以上のように構成されたメモリチップ 10において、マイクロバンプ 11 、プローブ  In the memory chip 10 configured as described above, the micro bump 11 and the probe
TEN"in ノ ット 12 の!、ずれにもテストイネーブル信号 TENが入力されて!、な!/、場合 (テス TEN "in knot 12 !, even if the test enable signal TEN is input!
TEN-in TEN-in
トイネーブル信号 TEN力 レベルの場合)、セレクタ 24A〜24C、 27A〜27Nは、 A 端子に入力される信号を Y端子力もそのまま出力する状態になる。よって、各々のマ イク口バンプ 11A〜: L 1N に入力された信号は、ラッチ回路 22Α〜22Ν、セレクタ 2 Enable signal TEN force level), selectors 24A to 24C and 27A to 27N are in a state to output the signal input to the A terminal with the Y terminal force as it is. Therefore, the signals input to the respective microphone opening bumps 11A to L1N are latch circuits 22 to 22 and selector 2
7A〜27N、バッファ回路 28A〜28Nを介して、 DRAM21の各々端子に供給される 7A to 27N and buffer circuit 28A to 28N are supplied to each terminal of DRAM21
[0057] (テストモード) [0057] (Test mode)
テストモードでは、プローブパット 12 にプローブが当てられ、プローブパット 12  In test mode, the probe is applied to probe pad 12 and probe pad 12
TEN-in T に Hレベルのテストイネーブル信号 TENが入力される。このとき、セレクタ 24A〜 H level test enable signal TEN is input to TEN-in T. At this time, the selector 24A ~
EN— in 24C、 27A〜27Nは、 B端子に入力される信号を Y端子力もそのまま出力する状態 になる。また、セレクタ 24Cは、プローブパット 12SMODEに入力されるモード信号を セレクタ 26A〜26Nの各々の S端子に供給する。 EN—in 24C and 27A to 27N are in a state where the signal input to the B terminal outputs the Y terminal force as it is. The selector 24C supplies the mode signal input to the probe pad 12SMODE to the S terminals of the selectors 26A to 26N.
[0058] ここで、モード信号力 レベルの場合、セレクタ 26A〜26Nは、 A端子に入力される 信号をそれぞれセレクタ 27A〜27Nに出力する状態になる。そして、プローブパット 12 にプローブ力ものテスト信号が入力されると、このテスト信号は、セレクタ 24[0058] Here, in the case of the mode signal power level, the selectors 26A to 26N are in a state of outputting the signals input to the A terminal to the selectors 27A to 27N, respectively. When a test signal having a probe force is input to the probe pad 12, the test signal is sent to the selector 24.
SDATA-in SDATA-in
Aを介して、セレクタ 27A〜27Nの各々にパラレルに分配され、各々のバッファ回路 28A〜28Nを介して、 DRAM21の各々の端子に入力される。  A is distributed in parallel to each of the selectors 27A to 27N via A, and is input to each terminal of the DRAM 21 via each buffer circuit 28A to 28N.
[0059] 一方、モード信号が Lレベルの場合、セレクタ 26A〜26Nは、 B端子に入力される 信号をそれぞれセレクタ 27A〜27Nに出力する状態になる。そして、プローブパット 12 にプローブ力ものテスト信号が入力されると、セレクタ 24Aは、テスト信号をOn the other hand, when the mode signal is at the L level, the selectors 26A to 26N are in a state of outputting the signals input to the B terminal to the selectors 27A to 27N, respectively. When a test signal having a probe force is input to the probe pad 12, the selector 24A selects the test signal.
SDATA-in SDATA-in
フリップフロップ回路 25Nに供給する。  Supply to the flip-flop circuit 25N.
[0060] フリップフロップ回路 25Nは、マイクロバンプ 11 、ラッチ回路 22Y、セレクタ 24 [0060] The flip-flop circuit 25N includes a micro bump 11, a latch circuit 22Y, and a selector 24.
SCLK-in  SCLK-in
Bを介して供給されるクロックに同期して、セレクタ 24Aカゝら供給されるテスト信号をセ レクタ 27Nに供給すると共に、そのテスト信号を次の段のフリップフロップ回路に供給 する。同様に、フリップフロップ回路 25Bは、マイクロバンプ 11 、ラッチ回路 22Y  In synchronization with the clock supplied via B, the test signal supplied from the selector 24A is supplied to the selector 27N, and the test signal is supplied to the flip-flop circuit in the next stage. Similarly, the flip-flop circuit 25B includes a micro bump 11 and a latch circuit 22Y.
SCLK-in  SCLK-in
、セレクタ 24Bを介して供給されるクロックに同期して、前の段のフリップフロップ回路 力も供給されるテスト信号をセレクタ 27Bに供給すると共に、そのテスト信号を次の段 のフリップフロップ回路 25Aに供給する。  In synchronization with the clock supplied via the selector 24B, the test signal to which the previous stage flip-flop circuit power is also supplied is supplied to the selector 27B, and the test signal is supplied to the next stage flip-flop circuit 25A. To do.
[0061] この結果、セレクタ 27A〜27Nには、それぞれ 1クロックずつ遅延したテスト信号が 供給される。これらのテスト信号は、セレクタ 27A〜27N、バッファ回路 28A〜28Nを 介して、 DRAM21へ供給される。 As a result, a test signal delayed by one clock is supplied to each of the selectors 27A to 27N. These test signals are supplied to the DRAM 21 via the selectors 27A to 27N and the buffer circuits 28A to 28N.
[0062] 以上のように、メモリチップ 10は、各マイクロバンプ 11A〜: L 1N に接続されている [0062] As described above, the memory chip 10 is connected to each of the micro bumps 11A to L1N.
in in  in in
各々の配線に対して、モード信号に応じて、ノラレルに配分されたテスト信号を供給 し、又はシリアルに配分されたテスト信号を供給することができる。  Depending on the mode signal, the test signal allocated to the normal can be supplied to each wiring, or the test signal distributed serially can be supplied.
[0063] [出力側の構成例 2:シリアルモード] [0063] [Configuration example on output side 2: Serial mode]
図 10は、メモリチップ 10の出力側の構成を示す図である。メモリチップ 10は、所定 の信号をそれぞれラッチするラッチ回路 51 A、 5 IBと、テストイネーブル信号 TENを バッファリングするバッファ回路 52と、セレクタ 53A、 53Bと、を備えている。 FIG. 10 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip 10. The memory chip 10 includes latch circuits 51 A and 5 IB that latch predetermined signals, and a test enable signal TEN. A buffer circuit 52 for buffering and selectors 53A and 53B are provided.
[0064] ラッチ回路 51Aは、マイクロバンプ 11 を介して入力されるクロックをラッチして  [0064] The latch circuit 51A latches the clock input via the micro bump 11.
SCLK-out  SCLK-out
、このクロックをセレクタ 53Aの A端子に供給する。ラッチ回路 51Bは、マイクロバンプ 11 を介して入力されるモード信号をラッチして、このモード信号をセレクタ 53 This clock is supplied to the A terminal of the selector 53A. The latch circuit 51B latches the mode signal input via the micro bump 11 and outputs the mode signal to the selector 53.
S ODE-out S ODE-out
Bの A端子に供給する。ノ ッファ回路 52は、マイクロバンプ 11 又はプローブパッ  Supply to the A terminal of B. The noffer circuit 52 is connected to the micro bump 11 or the probe pad.
TEN-out  TEN-out
ト 12 に入力されたテストイネーブル信号 TENをバッファリングして、このテストイ Buffer the test enable signal TEN input to
TEN-out TEN-out
ネーブル信号 TENをセレクタ 53A、 53Bの S端子に供給する。  Supply enable signal TEN to S terminal of selector 53A, 53B.
[0065] セレクタ 53Aは、 A端子又は B端子に入力されたクロックをフリップフロップ回路 64 A〜64Nにそれぞれ供給する。セレクタ 53Bは、 A端子又は B端子に入力されたモ ード信号をセレクタ 63B〜64Nにそれぞれ供給する。  The selector 53A supplies the clock input to the A terminal or B terminal to the flip-flop circuits 64A to 64N, respectively. The selector 53B supplies the mode signal input to the A terminal or the B terminal to the selectors 63B to 64N, respectively.
[0066] さらに、メモリチップ 10は、 DRAM21の各々の端子から出力された信号をバッファ リングするバッファ回路 61A〜61Nと、セレクタ 63B〜63Nと、フリップフロップ回路 6 4A〜64Nと、各バッファ回路 61A〜61Nから出力された信号をバッファリングするバ ッファ回路 65A〜65Nと、フリップフロップ回路 64Nから出力された信号をバッファリ ングするバッファ回路 65Yと、を備えている。  Further, the memory chip 10 includes buffer circuits 61A to 61N for buffering signals output from the respective terminals of the DRAM 21, selectors 63B to 63N, flip-flop circuits 64A to 64N, and buffer circuits 61A. Buffer circuits 65A to 65N for buffering signals output from ˜61N, and a buffer circuit 65Y for buffering signals output from flip-flop circuit 64N.
[0067] セレクタ 63Bの A端子はバッファ回路 61Bに接続され、その B端子はフリップフロッ プ回路 64Aの出力端子に接続され、その Y端子はフリップフロップ回路 64Bの入力 端子に接続されている。なお、フリップフロップ回路 64Aの入力端子は、バッファ回路 61 Aに接続されている。  [0067] The A terminal of the selector 63B is connected to the buffer circuit 61B, its B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 64A, and its Y terminal is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 64B. Note that the input terminal of the flip-flop circuit 64A is connected to the buffer circuit 61A.
[0068] 同様に、セレクタ 63Nの A端子はバッファ回路 61Nに接続され、その B端子はフリツ プフロップ回路 64Nの前段のフリップフロップ回路の出力端子に接続され、その Y端 子はフリップフロップ回路 64Nの入力端子に接続されている。なお、フリップフロップ 回路 64Aの入力端子は、バッファ回路 61 Aに接続されている。  [0068] Similarly, the A terminal of selector 63N is connected to buffer circuit 61N, its B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit in the preceding stage of flip-flop circuit 64N, and its Y terminal is connected to flip-flop circuit 64N. Connected to the input terminal. Note that the input terminal of the flip-flop circuit 64A is connected to the buffer circuit 61A.
[0069] よって、フリップフロップ回路 64A〜64Nは、セレクタ 63B〜61Nを介して直列に接 続されている。このため、フリップフロップ回路 64A〜64Nは、バッファ回路 61Aから 出力された信号を 1クロックずつシフトして、バッファ回路 65Y、プローブパット 12  Thus, the flip-flop circuits 64A to 64N are connected in series via the selectors 63B to 61N. Therefore, the flip-flop circuits 64A to 64N shift the signal output from the buffer circuit 61A by one clock at a time so that the buffer circuit 65Y and the probe pad 12
CKl-o CKl-o
(又はマイクロバンプ 11 )を介して出力するシフトレジスタとして機能する。 It functions as a shift register that outputs via (or micro bump 11).
[0070] (通常モード) 以上のように構成されたメモリチップ 10において、マイクロバンプ 11 、プロ [0070] (Normal mode) In the memory chip 10 configured as described above, the micro bump 11 and the pro
TEN-out 一 ブパット 12 の!、ずれにもテストイネーブル信号 TENが入力されて!、な!/、場合(  TEN-out 1 Bupat 12 !, even if the test enable signal TEN is input to the gap!
TEN-out  TEN-out
テストイネーブル信号 TENが Lレベルの場合)、 DRAM21の各々の端子から出力さ れた信号は、バッファ回路 61A〜61N、マイクロバンプ 11A 〜: L 1N を介して、ィ out out  When the test enable signal TEN is at the L level), the signals output from the respective terminals of the DRAM 21 are output out through the buffer circuits 61A to 61N and the micro bumps 11A to L1N.
ンターポーザ 1に出力される。  Output to the interposer 1.
[0071] (テストモード) [0071] (Test mode)
テストモードでは、プローブパット 12 にプローブが当てられ、プローブパット 12  In test mode, the probe is applied to probe pad 12 and probe pad 12
TEN-out  TEN-out
に Hレベルのテストイネーブル信号 TENが入力される。また、 DRAM21の各 H level test enable signal TEN is input. Each DRAM21
TEN-out TEN-out
々の端子力 テスト信号を反映した信号が出力される。  A signal reflecting the various terminal force test signals is output.
[0072] このとき、セレクタ 53Aは、 B端子に入力されるクロックをそのまま Y端子から出力す る状態になる。セレクタ 53Bは、 B端子に入力されるモード信号をそのまま Y端子から 出力する状態になる。 [0072] At this time, the selector 53A is in a state of outputting the clock input to the B terminal as it is from the Y terminal. The selector 53B is in a state of outputting the mode signal input to the B terminal as it is from the Y terminal.
[0073] ここで、モード信号力 レベルの場合、セレクタ 63B〜63Nは A端子に入力される 信号を出力する。このため、フリップフロップ回路 64A〜64Nには、バッファ回路 61 A〜61Nから出力された信号が保持される。次に、モード信号が Hレベルになると、 フリップフロップ回路 64A〜64Nはシフトレジスタとして機能する。このため、フリップ フロップ回路 64A〜64Nに保持された信号は、クロックに同期して、バッファ回路 65 γ、プローブパット 12 を介して出力される。  Here, in the case of the mode signal power level, the selectors 63B to 63N output a signal input to the A terminal. For this reason, the flip-flop circuits 64A to 64N hold the signals output from the buffer circuits 61A to 61N. Next, when the mode signal becomes H level, the flip-flop circuits 64A to 64N function as shift registers. Therefore, the signals held in the flip-flop circuits 64A to 64N are output via the buffer circuit 65γ and the probe pad 12 in synchronization with the clock.
CK2-out  CK2-out
[0074] 以上のように、メモリチップ 10は、バッファ回路 61A〜61Nから出力された信号をシ リアルに変換して、プローブパット 12 を介して出力する。これにより、プローブパ  As described above, the memory chip 10 converts the signals output from the buffer circuits 61A to 61N to serial and outputs the signals via the probe pad 12. As a result, the probe
CK2-out  CK2-out
ット 12 力 出力される信号をチェックするだけで、非常に多くの端子を有する D D 12 has a large number of terminals just by checking the output signal
CK2-out CK2-out
RAM21の状態を容易に検査することができる。  The state of the RAM 21 can be easily inspected.
[0075] [出力側の構成例 2:シリアル Zパラレル併用モード] [0075] [Configuration example on output side 2: Serial Z parallel use mode]
図 11は、メモリチップ 10の出力側の構成を示す図である。図 11に示すメモリチップ 10は、図 7及び図 10に示す構成を組み合わせたものである。したがって、メモリチッ プ 10は、プローブパット 12 又は 12 力 出力された信号をチェックするだ  FIG. 11 is a diagram showing a configuration on the output side of the memory chip 10. A memory chip 10 shown in FIG. 11 is a combination of the configurations shown in FIGS. Therefore, the memory chip 10 checks the signal output by the probe pad 12 or 12 force.
CK1-OUT CK1-OUT  CK1-OUT CK1-OUT
けで、非常に多くの端子を有する DRAM21内蔵のメモリチップ 10の状態を検査する ことができる。 [0076] なお、第 1及び第 2の実施形態では、メモリチップ 10の入力側及び出力側の様々な 構成を示した力 入力側の構成と出力側の構成は任意に組み合わせ可能である。例 えば、入力側では構成例 1、出力側では構成例 2又は 3を用いてもよい。さらに、 ASI Cチップ 80の入力側及び出力側の構成についても、第 1及び第 2の実施形態と同様 にすることができる。 Therefore, the state of the memory chip 10 with a built-in DRAM 21 having a large number of terminals can be inspected. In the first and second embodiments, the force input side configuration and the output side configuration showing various configurations on the input side and output side of the memory chip 10 can be arbitrarily combined. For example, configuration example 1 may be used on the input side, and configuration example 2 or 3 may be used on the output side. Furthermore, the configuration of the input side and the output side of the ASI C chip 80 can be made the same as in the first and second embodiments.
[0077] [第 3の実施形態]  [0077] [Third Embodiment]
図 12は、本発明の第 3の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す図である。 半導体集積回路は、インターポーザ 100と、インターポーザ 100に実装された ASIC チップ 200及びメモリチップ 300と、を備えて!/ヽる。  FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. The semiconductor integrated circuit includes an interposer 100, and an ASIC chip 200 and a memory chip 300 mounted on the interposer 100.
[0078] インターポーザ 100の各々の配線は、マイクロバンプ 101〜114を介して、 ASICチ ップ 200の各々の配線に接続されている。インターポーザ 100の各々の配線は、マイ クロバンプ 121〜127を介して、メモリチップ 300の各々の配線に接続されている。  [0078] Each wiring of the interposer 100 is connected to each wiring of the ASIC chip 200 via the micro bumps 101 to 114. Each wiring of the interposer 100 is connected to each wiring of the memory chip 300 via the micro bumps 121 to 127.
[0079] ASICチップ 200は、ラッチ回路 201〜205、 231、 241、ノ ッファ回路 206〜209 、 211、 214、 221、 224、 233、 243、 246と、フリップフロップ回路 212、 222、 235 、 245と、セレクタ 213、 223、 232、 234、 242、 244を備えて! /、る。  [0079] The ASIC chip 200 includes latch circuits 201 to 205, 231 and 241, nother circuits 206 to 209, 211, 214, 221, 224, 233, 243 and 246, and flip-flop circuits 212, 222, 235 and 245. And selectors 213, 223, 232, 234, 242 and 244!
[0080] メモリチップ 300は、ラッチ回路 301〜305、セレクタ 310、 320、 343、 353、ノ ッフ ァ回路 311、 321、 342、 344、 352、 354、フリップフロップ回路 312、 333、 341、 3 51を備えている。  [0080] The memory chip 300 includes latch circuits 301 to 305, selectors 310, 320, 343, 353, notfer circuits 311, 321, 342, 344, 352, 354, flip-flop circuits 312, 333, 341, 3 51.
[0081] ここで、例えばセレクタ 213のように、入力端子として A及び B端子、出力端子として Here, for example, as in the selector 213, the A and B terminals as input terminals and the output terminal
Y端子を有するセレクタは、図 5と同様に構成されている。また例えばセレクタ 232の ように、入力端子として A端子、出力端子として Y0及び Y1端子を有するセレクタは次 のように構成されている。 The selector having the Y terminal is configured in the same manner as in FIG. For example, a selector having an A terminal as an input terminal and Y0 and Y1 terminals as output terminals, such as the selector 232, is configured as follows.
[0082] 図 13は、セレクタ 232の構成を示す論理回路である。図 14は、セレクタ 232の入出 力を示す真理値表である。セレクタ 232は、 2つの NAND回路 35、 36と、 3つの NOFIG. 13 is a logic circuit showing the configuration of selector 232. FIG. 14 is a truth table showing the input / output of the selector 232. Selector 232 consists of two NAND circuits 35, 36 and three NO
T回路 37、 38、 39と、を備えて ヽる。 T-circuits 37, 38, and 39 are provided.
[0083] NAND回路 36は、 A端子及び S端子に入力された二値データの NAND (否定積) を演算して、二値データ N2を出力する。否定回路 37は、 S端子に入力されたニ値デ ータの NOT (否定)を演算して、二値データ SBを出力する。 [0084] NAND回路 35は、 A端子に入力された二値データと二値データ SBとの NANDを 演算し、二値データ N1を出力する。 NOT回路 38は、二値データ N1の NOTを演算 して、 Y0端子を介して、二値データを出力する。 NOT回路 39は、二値データ N2の NOTを演算して、 Y1端子を介して、二値データを出力する。 The NAND circuit 36 calculates a NAND (negative product) of the binary data input to the A terminal and the S terminal, and outputs binary data N2. The negation circuit 37 calculates NOT of the binary data input to the S terminal and outputs binary data SB. The NAND circuit 35 calculates NAND of the binary data input to the A terminal and the binary data SB, and outputs binary data N1. The NOT circuit 38 calculates the NOT of the binary data N1 and outputs the binary data via the Y0 terminal. The NOT circuit 39 calculates the NOT of the binary data N2 and outputs the binary data via the Y1 terminal.
[0085] よって、セレクタ 232は、図 14に示すように、 S端子に入力される二値データが の 場合は、 A端子に入力された二値データを Y0端子力 出力し、 S端子に入力される 二値データが Hの場合は、 A端子に入力された二値データを Y1端子力 出力する。  Accordingly, as shown in FIG. 14, when the binary data input to the S terminal is, the selector 232 outputs the binary data input to the A terminal to the Y0 terminal and inputs to the S terminal. If the binary data is H, the binary data input to the A terminal is output as the Y1 terminal force.
[0086] また、図 12に示すインターポーザ 100側では、マイクロバンプ 101は、テスト信号が 入力される電極であり、 ASICチップ 200のラッチ回路 201を介して、フリップフロップ 回路 212の入力端子に接続されている。マイクロバンプ 102は、ロジック (ASICチッ プ 200)用クロックが入力される電極であり、ラッチ回路 202を介して、フリップフロップ 回路 212、 222、 235、 245のクロック入力端子に接続されている。マイクロバンプ 10 3は、ロジック (ASICチップ 200)用モード信号が入力される電極であり、ラッチ回路 2 03を介して、セレクタ 234、 244の S端子に接続されている。  Further, on the interposer 100 side shown in FIG. 12, the microbump 101 is an electrode to which a test signal is input, and is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 212 via the latch circuit 201 of the ASIC chip 200. ing. The micro bump 102 is an electrode to which a clock for logic (ASIC chip 200) is input, and is connected to the clock input terminals of the flip-flop circuits 212, 222, 235, and 245 via the latch circuit 202. The micro bump 103 is an electrode to which a mode signal for logic (ASIC chip 200) is input, and is connected to the S terminals of the selectors 234 and 244 via the latch circuit 203.
[0087] マイクロバンプ 104は、メモリ用クロックが入力される電極であり、ラッチ回路 204、 バッファ回路 209、マイクロバンプ 109、 123を介して、メモリチップ 300に接続されて いる。マイクロバンプ 105は、メモリ用モード信号が入力される電極であり、ラッチ回路 205、ノ ソファ回路 208、マイクロノ ンプ 108、 122を介して、メモジチップ 300に接続 されている。  The micro bump 104 is an electrode to which a memory clock is input, and is connected to the memory chip 300 via the latch circuit 204, the buffer circuit 209, and the micro bumps 109 and 123. The micro bump 105 is an electrode to which a memory mode signal is input, and is connected to the memory chip 300 via the latch circuit 205, the sofa circuit 208, and the micro amplifiers 108 and 122.
[0088] マイクロバンプ 106は、テストイネーブル信号 TENが入力される電極であり、バッフ ァ回路 206を介して、セレクタ 213、 223、 232、 242の各々の S端子【こ接続されて!ヽ る。さらに、マイクロノくンプ 106は、ノ ッファ回路 206、 207、マイクロノくンプ 107、 121 を介して、メモリチップ 300に接続されている。  The micro bump 106 is an electrode to which the test enable signal TEN is input, and is connected to the S terminals of the selectors 213, 223, 232, and 242 via the buffer circuit 206. Further, the micro amplifier 106 is connected to the memory chip 300 via notch circuits 206 and 207 and micro amplifiers 107 and 121.
[0089] セレクタ 213の A端子はバッファ回路 211に接続され、その B端子はフリップフロッ プ回路 212の出力端子に接続されている。セレクタ 213の Y端子は、ノ ッファ回路 21 4、マイクロバンプ 110、 124を介してメモリチップ 300に接続されている。  The A terminal of the selector 213 is connected to the buffer circuit 211, and its B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 212. The Y terminal of the selector 213 is connected to the memory chip 300 via a notch circuit 214 and micro bumps 110 and 124.
[0090] セレクタ 223の A端子はバッファ回路 221に接続され、その B端子はフリップフロッ プ回路 222の出力端子に接続されている。なお、フリップフロップ回路 222の入力端 子は、フリップフロップ回路 212の出力端子に接続されている。また、セレクタ 223の Y端子は、バッファ回路 224、マイクロバンプ 111、 125を介してメモリチップ 300に接 続されている。 The A terminal of the selector 223 is connected to the buffer circuit 221, and the B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 222. The input terminal of the flip-flop circuit 222 The child is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 212. The Y terminal of the selector 223 is connected to the memory chip 300 via the buffer circuit 224 and the micro bumps 111 and 125.
[0091] セレクタ 232の A端子は、ラッチ回路 231、マイクロバンプ 112、 126を介して、メモ リチップ 300に接続されている。セレクタ 232の Y0端子はバッファ回路 233に接続さ れ、その Y1端子はセレクタ 234の B端子に接続されている。セレクタ 234の A端子は フリップフロップ回路 222の出力端子に接続され、その Y端子はフリップフロップ回路 の入力端子に接続されて 、る。  The A terminal of the selector 232 is connected to the memory chip 300 via the latch circuit 231 and the micro bumps 112 and 126. The Y0 terminal of selector 232 is connected to buffer circuit 233, and its Y1 terminal is connected to the B terminal of selector 234. The A terminal of the selector 234 is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 222, and its Y terminal is connected to the input terminal of the flip-flop circuit.
[0092] 同様に、セレクタ 242の A端子は、ラッチ回路 241、マイクロバンプ 113、 127を介し て、メモリチップ 300に接続されている。セレクタ 242の YO端子はバッファ回路 243に 接続され、その Y1端子はセレクタ 244の B端子に接続されている。セレクタ 244の A 端子は前段のフリップフロップ回路の出力端子に接続され、その Y端子はフリップフ ロップ回路 245の入力端子に接続されている。フリップフロップ回路 245の出力端子 は、バッファ回路 246を介して、マイクロバンプ 114に接続されている。  Similarly, the A terminal of the selector 242 is connected to the memory chip 300 via the latch circuit 241 and the micro bumps 113 and 127. The YO terminal of the selector 242 is connected to the buffer circuit 243, and its Y1 terminal is connected to the B terminal of the selector 244. The A terminal of the selector 244 is connected to the output terminal of the preceding flip-flop circuit, and its Y terminal is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 245. The output terminal of the flip-flop circuit 245 is connected to the micro bump 114 via the buffer circuit 246.
[0093] 一方、メモリチップ 300側では、マイクロバンプ 121は、ラッチ回路 301を介して、セ レクタ 310、 320、 343、 353の各々の S端子【こ接続されて!ヽる。マイクロノ ンプ 122 は、ラッチ回路 302を介して、フリップフロップ回路 312、 333、 341、 351の各々のク ロック入力端子に接続されている。マイクロバンプ 123は、ラッチ回路 303を介して、 セレクタ 322の S端子に接続されて 、る。  On the other hand, on the memory chip 300 side, the micro bump 121 is connected to the S terminals of the selectors 310, 320, 343, and 353 via the latch circuit 301. The micro amplifier 122 is connected to the clock input terminals of the flip-flop circuits 312, 333, 341, and 351 via the latch circuit 302. The micro bump 123 is connected to the S terminal of the selector 322 via the latch circuit 303.
[0094] マイクロバンプ 124、 125は、それぞれラッチ回路 304、 305を介して、セレクタ 310 、 320の各々の A端子に接続されている。マイクロバンプ 126、 127は、それぞれバッ ファ回路 344、 354を介して、セレクタ 343、 353の各々の Y端子に接続されている。  Micro bumps 124 and 125 are connected to A terminals of selectors 310 and 320 via latch circuits 304 and 305, respectively. The micro bumps 126 and 127 are connected to the Y terminals of the selectors 343 and 353 via buffer circuits 344 and 354, respectively.
[0095] セレクタ 310の Y0端子はバッファ回路 311に接続され、その Y1端子はフリップフロ ップ回路 312の入力端子に接続されている。フリップフロップ回路 312の出力端子は セレクタ 322の A端子に接続されて 、る。  The Y0 terminal of the selector 310 is connected to the buffer circuit 311, and the Y1 terminal is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 312. The output terminal of the flip-flop circuit 312 is connected to the A terminal of the selector 322.
[0096] セレクタ 320の Y0端子はバッファ回路 321に接続され、その Y1端子はフリップフロ ップ回路 322の入力端子に接続されている。フリップフロップ回路 322の出力端子は フリップフロップ回路 333の入力端子に接続されている。 [0097] セレクタ 343の A端子はバッファ回路 342に接続され、その B端子はフリップフロッ プ回路 341の出力端子に接続されている。同様に、セレクタ 353の A端子はバッファ 回路 352に接続され、その B端子はフリップフロップ回路 351の出力端子に接続され ている。 The Y0 terminal of the selector 320 is connected to the buffer circuit 321 and the Y1 terminal is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 322. The output terminal of the flip-flop circuit 322 is connected to the input terminal of the flip-flop circuit 333. The A terminal of the selector 343 is connected to the buffer circuit 342, and its B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 341. Similarly, the A terminal of the selector 353 is connected to the buffer circuit 352, and its B terminal is connected to the output terminal of the flip-flop circuit 351.
[0098] (通常モード)  [0098] (Normal mode)
以上のように構成された半導体集積回路において、マイクロバンプ 106にテストイネ 一ブル信号 TENが入力されて!、な!/、場合(テストイネーブル信号 TEN力 レベルの 場合)、 ASICチップ 200のセレクタ 213、 223は、 A端子に入力される信号を Y端子 力もそのまま出力する状態になる。また、セレクタ 232、 242は、 A端子に入力される 信号を YO端子から出力する状態になる。同様に、 ASICチップ 200のセレクタ 310、 320は、 A端子に入力される信号を YO端子から出力する状態になる。また、セレクタ 343、 353は、 A端子に入力される信号をそのまま Y端子から出力する状態になる。  In the semiconductor integrated circuit configured as described above, when the test enable signal TEN is input to the micro bump 106!, NA! /, (When the test enable signal is at the TEN power level), the selector 213 of the ASIC chip 200, The 223 is in a state where the signal input to the A terminal outputs the Y terminal output as it is. In addition, the selectors 232 and 242 enter a state in which the signal input to the A terminal is output from the YO terminal. Similarly, the selectors 310 and 320 of the ASIC chip 200 are in a state of outputting the signal input to the A terminal from the YO terminal. In addition, the selectors 343 and 353 are in a state of outputting the signal input to the A terminal as it is from the Y terminal.
[0099] このため、 ASICチップ 200の図示しない ASICから出力された信号は、バッファ回  [0099] Therefore, the signal output from the ASIC (not shown) of the ASIC chip 200 is buffered.
211、セレクタ 213、 ノ ッフ: Γ回 214、マイク Pノ ンプ 110、 124、ラッチ回 304 、セレクタ 310、バッファ回路 311を介して、メモリチップ 300の図示しない DRAMに 供給される。  211, selector 213, knot: Γ-times 214, microphone P-nops 110 and 124, latch-times 304, selector 310, and buffer circuit 311, supplied to DRAM (not shown) of the memory chip 300.
[0100] また、メモリチップ 300の DRAMから読み出された信号は、バッファ回路 342、セレ クタ 343、 ノ ッフ: Γ回 344、マイク Pノ ンプ 126、 112、ラッチ回 231、セレクタ 23 2、バッファ回路 333を介して、 ASICチップ 200の ASICに供給される。  [0100] The signal read from the DRAM of the memory chip 300 includes a buffer circuit 342, a selector 343, a knot: Γ times 344, a microphone P amplifier 126, 112, a latch times 231, a selector 23 2, The data is supplied to the ASIC of the ASIC chip 200 via the buffer circuit 333.
[0101] (テストモード)  [0101] (Test mode)
図 15は、テストモードにおけるテスト信号の流れを示す図である。テストモードでは 、マイクロバンプ 106に Hレベルのテストイネーブル信号 TENが入力される。なお、マ イク口バンプ 102、 104には、所定のクロックが供給されているものとする。  FIG. 15 is a diagram showing the flow of test signals in the test mode. In the test mode, the H level test enable signal TEN is input to the micro bump 106. It is assumed that a predetermined clock is supplied to the microphone opening bumps 102 and 104.
[0102] ASICチップ 200のセレクタ 213、 223は、 B端子に入力される信号を Y端子からそ のまま出力する状態になる。また、セレクタ 232、 242は、 A端子に入力される信号を Y1端子から出力する状態になる。同様に、 ASICチップ 200のセレクタ 310、 320は 、 A端子に入力される信号を Y1端子から出力する状態になる。また、セレクタ 343、 3 53は、 B端子に入力される信号をそのまま Y端子力 出力する状態になる。 [0103] そして、マイクロバンプ 101にテスト信号が入力されると、フリップフロップ回路 212、 222にテスト信号が順次保持される (矢印 。 [0102] The selectors 213 and 223 of the ASIC chip 200 are in a state of outputting the signal input to the B terminal as it is from the Y terminal. In addition, the selectors 232 and 242 are in a state of outputting the signal input to the A terminal from the Y1 terminal. Similarly, the selectors 310 and 320 of the ASIC chip 200 are in a state of outputting the signal input to the A terminal from the Y1 terminal. In addition, the selectors 343 and 353 are in a state in which the signal input to the B terminal is output as it is from the Y terminal. [0103] When a test signal is input to the microbump 101, the test signal is sequentially held in the flip-flop circuits 212 and 222 (arrows).
[0104] つぎに、マイクロバンプ 105に Hレベルのメモリ用モード信号が入力されると、フリツ プフロップ回路 212に保持されていたテスト信号は、セレクタ 213、マイクロバンプ 11 0、 124、セレクタ 310を介して、フリップフロップ回路 312に保持される。同様に、フリ ップフロップ回路 222に保持されていたテスト信号は、セレクタ 223、マイクロバンプ 1 11、 125、セレクタ 320、 322を介して、フリップフロップ回路 333に保持される(矢印 B)。  Next, when an H-level memory mode signal is input to the microbump 105, the test signal held in the flip-flop circuit 212 passes through the selector 213, the microbumps 110 and 124, and the selector 310. And held in the flip-flop circuit 312. Similarly, the test signal held in the flip-flop circuit 222 is held in the flip-flop circuit 333 via the selector 223, the micro bumps 111 and 125, and the selectors 320 and 322 (arrow B).
[0105] つぎに、マイクロバンプ 105に Lレベルのメモリ用モード信号が入力されると、セレク タ 322は、フリップフロップ回路 312に保持されたテスト信号をフリップフロップ回路 3 33に供給する。すなわち、フリップフロップ回路 312、 333に保持されたテスト信号は 、次の出力先のフリップフロップ回路にシフトする(矢印 C)。  Next, when an L-level memory mode signal is input to the microbump 105, the selector 322 supplies the test signal held in the flip-flop circuit 312 to the flip-flop circuit 333. That is, the test signal held in the flip-flop circuits 312 and 333 is shifted to the next output destination flip-flop circuit (arrow C).
[0106] つぎに、マイクロバンプ 103に Hレベルのロジック用モード信号が入力されると、例 えばフリップフロップ回路 341に保持されていたテスト信号は、セレクタ 343、マイクロ ノ ンプ 126、 112、セレクタ 232、 234を介して、フリップフロップ回路 235【こ保持され る。また、フリップフロップ回路 351に保持されていたテスト信号は、セレクタ 353、マ イクロノくンプ 127、 113、セレクタ 242、 244を介して、フリップフロップ回路 245に保 持される (矢印 D)。  Next, when an H-level logic mode signal is input to the microbump 103, for example, the test signal held in the flip-flop circuit 341 includes the selector 343, the micro-nops 126 and 112, and the selector 232. , 234, the flip-flop circuit 235 is held. The test signal held in the flip-flop circuit 351 is held in the flip-flop circuit 245 via the selector 353, the micro amplifiers 127 and 113, and the selectors 242 and 244 (arrow D).
[0107] つぎに、マイクロバンプ 103に Lレベルのロジック用モード信号が入力されると、セレ クタ 234、 244は、 A端子に入力される信号を Y端子から出力する状態になる。よって 、フリップフロップ回路 235、 245に保持されていたテスト信号は、次の段のフリップフ ロップ回路に順次シフトする。この結果、フリップフロップ回路 245から、出力されたテ スト信号力 ノッファ回路 246、マイクロバンプ 114を介して出力される(矢印 E)。  Next, when an L-level logic mode signal is input to the microbump 103, the selectors 234 and 244 enter a state in which the signal input to the A terminal is output from the Y terminal. Therefore, the test signals held in the flip-flop circuits 235 and 245 are sequentially shifted to the flip-flop circuit in the next stage. As a result, the signal is output from the flip-flop circuit 245 via the output test signal force notch circuit 246 and the micro bump 114 (arrow E).
[0108] したがって、図示しない検査装置がマイクロバンプ 114から出力されたテスト信号を 調べることによって、 ASICチップ 200及びメモリチップ 300内の配線状況だけでなく 、マイクロバンプ間の配線状況を検査することができる。  Therefore, an inspection device (not shown) can inspect not only the wiring state in the ASIC chip 200 and the memory chip 300 but also the wiring state between the micro bumps by examining the test signal output from the micro bump 114. it can.
[0109] [その他の構成]  [0109] [Other configurations]
図 16は、本発明の第 3の実施形態に係る半導体集積回路の他の構成を示す図で ある。なお、図 12と同一の回路には同一の符号を付し、主に図 12と異なる箇所につ いて説明する。 FIG. 16 is a diagram showing another configuration of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. is there. The same circuits as those in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and different points from FIG. 12 will be mainly described.
[0110] インターポーザ 100は、図 12に示すマイクロバンプ 106の代わりに、マイクロバンプ 106a, 106bを備えている。マイクロバンプ 106aは、メモリ用テストイネーブル信号 T ENが入力される電極であり、ラッチ回路 210、バッファ回路 209、マイクロバンプ 109 を介して、マイクロバンプ 123に接続されている。マイクロバンプ 106bは、ロジック用 テストイネーブル信号 TENが入力される電極であり、バッファ回路 206を介して、セレ クタ 213、 223、 232、 242の各々の S端子【こ接続されて!/、る。よって、図 16【こ示す A SICチップ 200は、図 12及び図 15と比較すると、入力されるテストイネ一ブル信号 T ENの数が異なっているものの、その他の処理は同じである。  [0110] The interposer 100 includes micro bumps 106a and 106b instead of the micro bumps 106 shown in FIG. The microbump 106a is an electrode to which a memory test enable signal TEN is input, and is connected to the microbump 123 via the latch circuit 210, the buffer circuit 209, and the microbump 109. The micro bump 106b is an electrode to which the logic test enable signal TEN is input, and is connected to the S terminals of the selectors 213, 223, 232, and 242 via the buffer circuit 206. Therefore, the A SIC chip 200 shown in FIG. 16 is different from FIG. 12 and FIG. 15 in that the number of input test enable signals TEN is different, but the other processes are the same.
[0111] 一方、メモリチップ 300側では、マイクロバンプ 121は、ラッチ回路 301を介して、セ レクタ 322の S端子に接続されている。マイクロバンプ 123は、バッファ回路 307を介 して、セレクタ 310、 320、 343、 353の S端子【こ接続されて!/、る。  On the other hand, on the memory chip 300 side, the micro bump 121 is connected to the S terminal of the selector 322 via the latch circuit 301. The micro bump 123 is connected to the S terminals of the selectors 310, 320, 343, and 353 via the buffer circuit 307.
[0112] (テストモード)  [0112] (Test mode)
マイクロバンプ 106aに Hレベルのメモリ用テストイネーブル信号 TENが入力される と、セレクタ 310、 320は、 A端子に入力された信号を Y1端子から出力する状態にな る。また、セレクタ 343、 353は、 B端子に入力された信号を Y端子から出力する状態 になる。  When the H level memory test enable signal TEN is input to the micro bump 106a, the selectors 310 and 320 are in a state of outputting the signal input to the A terminal from the Y1 terminal. The selectors 343 and 353 are in a state of outputting the signal input to the B terminal from the Y terminal.
[0113] このとき、フリップフロップ回路 212に保持されているテスト信号は、マイクロバンプ 1 10、 124、セレクタ 310を介して、フリップフロップ回路 312に保持される。同様に、フ リップフロップ回路 222に保持されているテスト信号は、マイクロバンプ 111、 125を 介して、フリップフロップ回路 333に保持される。  At this time, the test signal held in the flip-flop circuit 212 is held in the flip-flop circuit 312 via the micro bumps 110 and 124 and the selector 310. Similarly, the test signal held in the flip-flop circuit 222 is held in the flip-flop circuit 333 via the micro bumps 111 and 125.
[0114] さらに、マイクロバンプ 105に Hレベルのロジック用モード信号が入力されると、セレ クタ 322は、 B端子に入力される信号を出力する状態になる。このとき、フリップフロッ プ回路 312、 333に保持されたテスト信号は、次の出力先のフリップフロップ回路に シフトする。  Furthermore, when an H-level logic mode signal is input to microbump 105, selector 322 enters a state of outputting a signal input to the B terminal. At this time, the test signals held in the flip-flop circuits 312 and 333 are shifted to the next output destination flip-flop circuit.
[0115] 以上のようにして、 ASICチップ 200は、フリップフロップ回路に保持されているテス ト信号を順次スキャンシフトし、テスト信号のスキャンシフト後は、図 12及び図 15の場 合と同様にして、テスト信号を ASICチップ 200に転送する。 [0115] As described above, the ASIC chip 200 sequentially scan-shifts the test signals held in the flip-flop circuit, and after the scan-shift of the test signals, the ASIC chip 200 performs the operations shown in FIGS. The test signal is transferred to the ASIC chip 200 in the same manner as described above.
[0116] 以上のように、第 3の実施形態に係る半導体集積回路は、テスト信号を、 ASICチッ プ 200内でスキャンシフトし、マイクロバンプを介してメモリチップ 300に転送する。さ らに、上記半導体集積回路は、そのテスト信号を、メモリチップ 300内でスキャンシフ トし、マイクロバンプを介して ASICチップ 200に転送した後、 ASICチップ 200内で 再度スキャンシフトした後、マイクロバンプ 114を介して外部に出力する。よって、マイ クロバンプ 114から出力されたテスト信号を検査することによって、マイクロバンプ間 の接続状況を含めた全体の配線状況を検査することができる。  As described above, the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment scan-shifts the test signal within the ASIC chip 200 and transfers it to the memory chip 300 via the micro bumps. Further, the semiconductor integrated circuit scan-shifts the test signal in the memory chip 300, transfers the test signal to the ASIC chip 200 via the micro bump, and then scan-shifts again in the ASIC chip 200. Output to the outside via the bump 114. Therefore, by inspecting the test signal output from the micro bump 114, the entire wiring state including the connection state between the micro bumps can be inspected.
[0117] 以上のように、インターポーザを介してマイクロバンプで接続される半導体チップの ウェハテスト (第 1及び第 2の実施形態)と、組み立て後のテスト (第 3の実施形態)を 効率よく実行することができる。特に多ビット幅を有する半導体チップを実装する半導 体集積回路を効率よくテストすることができる。  [0117] As described above, the wafer test (first and second embodiments) of the semiconductor chips connected by micro bumps via the interposer and the test after assembly (third embodiment) are efficiently executed. can do. In particular, it is possible to efficiently test a semiconductor integrated circuit on which a semiconductor chip having a multi-bit width is mounted.
[0118] なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなぐ特許請求の範囲 に記載された範囲内で設計上の変更をされたものにも適用可能であるのは勿論であ る。 [0118] It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be applied to those modified in design within the scope described in the claims. is there.
[0119] 例えば、第 3の実施形態では、テストイネーブル信号 TEN、モード信号、クロックは [0119] For example, in the third embodiment, the test enable signal TEN, the mode signal, and the clock are
ASICチップ 200に入力されて!、たが、メモリチップ 300に入力するようにしてもよ!、。 It is input to the ASIC chip 200! However, it may be input to the memory chip 300!
[0120] また、第 1から第 3の実施形態において、プローブパットの数は特に限定されるもの ではなぐマイクロバンプの数より少なければよい。 [0120] In the first to third embodiments, the number of probe pads is not particularly limited, and may be less than the number of micro bumps.
符号の説明  Explanation of symbols
[0121] 1, 100 インターポーザ [0121] 1, 100 interposer
10, 300 メモジチップ  10, 300 meage chip
11 マイクロバンプ  11 Micro bump
12 プローブパット  12 Probe pad
80, 200 ASICチップ  80, 200 ASIC chip

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
[1] インターポーザに実装可能な半導体チップであって、  [1] A semiconductor chip that can be mounted on an interposer,
最小ピッチ間隔が 100 m以下で、前記インターポーザ内の配線と前記半導体チ ップ内の配線とを接続する複数の電極と、  A plurality of electrodes having a minimum pitch interval of 100 m or less and connecting the wiring in the interposer and the wiring in the semiconductor chip;
前記複数の電極の一部に接続された複数のプローブ電極と、  A plurality of probe electrodes connected to a part of the plurality of electrodes;
前記プローブ電極に入力されるテスト信号を分割して、前記半導体チップ内の配線 であって前記複数の電極に接続された配線に供給する分割手段と、  Dividing means for dividing a test signal input to the probe electrode and supplying the divided test signal to a wiring connected to the plurality of electrodes in the semiconductor chip;
前記分割手段により分割されたテスト信号に基づいて所定の信号処理を行う信号 処理手段と、  Signal processing means for performing predetermined signal processing based on the test signal divided by the dividing means;
を備えた半導体チップ。  A semiconductor chip comprising:
[2] 前記分割手段は、前記プローブ電極に入力されるテスト信号を分割し、分割した各 々のテスト信号を前記半導体チップ内の配線であって前記複数の電極に接続された 配線にパラレルに供給する [2] The dividing means divides the test signal input to the probe electrode, and the divided test signals are connected in parallel to wirings in the semiconductor chip and connected to the plurality of electrodes. Supply
請求項 1に記載の半導体チップ。  The semiconductor chip according to claim 1.
[3] 前記分配手段は、前記プローブ電極に入力されるテスト信号を遅延時間が各々異 なるテスト信号に分割し、分割した各々のテスト信号を前記半導体チップ内の配線で あって前記複数の電極に接続された配線にシリアルに供給する [3] The distribution unit divides the test signal input to the probe electrode into test signals having different delay times, and each of the divided test signals is a wiring in the semiconductor chip and includes the plurality of electrodes. Supply serially to the wiring connected to
請求項 1に記載の半導体チップ。  The semiconductor chip according to claim 1.
[4] 前記分割手段は、前記プローブ電極に入力されるテスト信号を分割し、分割した各 々のテスト信号を前記半導体チップ内の配線であって前記複数の電極に接続された 配線にパラレルに供給する第 1のモードと、前記プローブ電極に入力されるテスト信 号を遅延時間が各々異なるテスト信号に分割し、分割した各々のテスト信号を前記 半導体チップ内の配線であって前記複数の電極に接続された配線にシリアルに供 給する第 2のモードと、を切り換え可能である [4] The dividing means divides the test signal input to the probe electrode, and each divided test signal is connected in parallel to the wiring in the semiconductor chip and connected to the plurality of electrodes. A first mode to be supplied and a test signal input to the probe electrode are divided into test signals having different delay times, and each of the divided test signals is a wiring in the semiconductor chip, and the plurality of electrodes It is possible to switch between the second mode of supplying serially to the wiring connected to
請求項 1に記載の半導体チップ。  The semiconductor chip according to claim 1.
[5] インターポーザに実装可能な半導体チップであって、 [5] A semiconductor chip that can be mounted on an interposer,
所定の信号処理を行う信号処理手段と、  Signal processing means for performing predetermined signal processing;
最小ピッチ間隔が 100 m以下で、前記信号処理手段に接続された配線と前記ィ ンターポーザ内の配線とを接続する複数の電極と、 The minimum pitch interval is 100 m or less, the wiring connected to the signal processing means and the A plurality of electrodes connecting the wiring in the interposer,
前記複数の電極に各々接続されて 、る配線力 のテスト信号に基づ 、て所定の演 算処理を行う演算処理手段と、  Arithmetic processing means connected to each of the plurality of electrodes and performing a predetermined arithmetic processing based on a wiring force test signal;
前記演算処理手段の演算結果が出力されるプローブ電極と、  A probe electrode from which the calculation result of the calculation processing means is output;
を備えた半導体チップ。  A semiconductor chip comprising:
[6] インターポーザに実装可能な半導体チップであって、  [6] A semiconductor chip that can be mounted on an interposer,
所定の信号処理を行う信号処理手段と、  Signal processing means for performing predetermined signal processing;
最小ピッチ間隔が 100 m以下で、前記信号処理手段に接続された配線と前記ィ ンターポーザ内の配線とを接続する複数の電極と、  A plurality of electrodes that connect the wiring connected to the signal processing means and the wiring in the interposer with a minimum pitch interval of 100 m or less;
前記複数の電極に各々接続されて ヽる配線力ゝらのテスト信号をシリアル信号に変 換する信号変換手段と、  Signal conversion means for converting a test signal of the wiring force connected to each of the plurality of electrodes into a serial signal;
前記信号変換手段の変換結果が出力されるプローブ電極と、  A probe electrode from which the conversion result of the signal conversion means is output;
を備えた半導体チップ。  A semiconductor chip comprising:
[7] インターポーザに実装可能な半導体チップであって、 [7] A semiconductor chip that can be mounted on an interposer,
所定の信号処理を行う信号処理手段と、  Signal processing means for performing predetermined signal processing;
最小ピッチ間隔が 100 m以下で、前記信号処理手段に接続された配線と前記ィ ンターポーザ内の配線とを接続する複数の電極と、  A plurality of electrodes that connect the wiring connected to the signal processing means and the wiring in the interposer with a minimum pitch interval of 100 m or less;
前記複数の電極に各々接続されて 、る配線力 のテスト信号に基づ 、て所定の演 算処理を行う演算処理手段と、  Arithmetic processing means connected to each of the plurality of electrodes and performing a predetermined arithmetic processing based on a wiring force test signal;
前記演算処理手段の演算結果が出力される第 1のプローブ電極と、  A first probe electrode that outputs a calculation result of the calculation processing means;
前記複数の電極に各々接続されて ヽる配線力ゝらのテスト信号をシリアル信号に変 換する信号変換手段と、  Signal conversion means for converting a test signal of the wiring force connected to each of the plurality of electrodes into a serial signal;
前記信号変換手段の変換結果が出力される第 2のプローブ電極と、  A second probe electrode from which the conversion result of the signal conversion means is output;
を備えた半導体チップ。  A semiconductor chip comprising:
[8] 前記信号処理手段は、記憶回路又は特定用途用理論回路である [8] The signal processing means is a memory circuit or a theoretical circuit for specific applications.
請求項 1から請求項 7のいずれ力 1項に記載の半導体チップ。  The semiconductor chip according to claim 1, wherein the force is any one of claims 1 to 7.
[9] 第 1及び第 2の半導体チップが 100 μ m以下の最小ピッチ間隔の電極を介してイン ターポーザに実装された半導体集積回路であって、 前記第 1の半導体チップは、信号を入力する入力手段と、前記入力手段に入力さ れた信号を、前記ピッチ間隔の電極を介して第 2の半導体チップに転送する第 1の転 送手段と、前記第 2の半導体チップから転送された信号を受信する第 1の受信手段と 、前記受信手段で受信された信号を出力する出力電極と、を備え、 [9] A semiconductor integrated circuit in which first and second semiconductor chips are mounted on an interposer via electrodes having a minimum pitch interval of 100 μm or less, The first semiconductor chip includes input means for inputting a signal, and first transfer means for transferring the signal input to the input means to the second semiconductor chip via the electrodes having the pitch interval. A first receiving means for receiving a signal transferred from the second semiconductor chip, and an output electrode for outputting the signal received by the receiving means,
前記第 2の半導体チップは、前記第 1の半導体チップから転送された信号を受信す る第 2の受信手段と、前記第 2の受信手段で受信された信号を、前記ピッチ間隔の電 極を介して前記第 1の半導体チップに転送する第 2の転送手段と、を備えたこと を特徴とする半導体集積回路。  The second semiconductor chip includes a second receiving means for receiving a signal transferred from the first semiconductor chip, and a signal received by the second receiving means with an electrode at the pitch interval. And a second transfer means for transferring to the first semiconductor chip through the semiconductor integrated circuit.
前記入力手段に入力される信号は、テスト信号、前記第 1の半導体チップの動作を 制御する第 1のモード信号、前記第 2の半導体チップの動作を制御する第 2のモード 信号の少なくとも 1つであること  The signal input to the input means is at least one of a test signal, a first mode signal for controlling the operation of the first semiconductor chip, and a second mode signal for controlling the operation of the second semiconductor chip. Be
を特徴とする請求項 9に記載の半導体集積回路。  The semiconductor integrated circuit according to claim 9.
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