WO2007017025A1 - Mikroskop und mikroskopierverfahren - Google Patents

Mikroskop und mikroskopierverfahren Download PDF

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Dieter Huhse
Ralf Netz
Jörg PACHOLIK
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Carl Zeiss Microimaging Gmbh
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    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
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    • G02B21/06Means for illuminating specimens

Definitions

  • the invention relates to a microscope with a beam source module which generates an electromagnetic beam for acting on a sample to be examined, a
  • Optics module that directs the beam to the sample
  • detection module that detects radiation coming from the applied sample. Furthermore, the invention relates to a
  • Microscopy method in which an electromagnetic beam for applying a sample to be examined is generated and directed to the sample and a sample radiation caused by the application is detected.
  • the object is achieved in a microscope of the type mentioned in that the beam source module as a beam source having a surface-emitting semiconductor laser with a vertical resonance space.
  • Such lasers are often referred to as VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) and are characterized by the fact that they produce a laser beam with an excellent round beam profile and At the same time they are extremely compact and small.
  • correction optics or other beamforming methods no longer need to be provided so that the number of optical elements can be reduced, and at the same time, the VCSEL is extremely compact, so that the size of the microscope as a whole can be reduced.
  • the VCSEL including its electrical contact can have a size that corresponds approximately to a cube with the edge length of 1 cm.
  • the microscope can be designed, in particular, as a laser scanning microscope or as a confocal laser scanning microscope.
  • high beam quality for example, a very round and Gaussian beam profile
  • the microscope is a fluorescence microscope.
  • the optical module preferably has a scanner, with which the beam can be guided or scanned over the sample.
  • the scanner performs a distraction in two spatial directions with a point-like focus. If there is a line-shaped focus, the scanner can also perform only a deflection transverse to the linear extent of the focus.
  • the beam source module and the scanner can be embodied as a scan head closed outwards.
  • the scan head may also include the detection module.
  • neither the beam source module nor the optical module changes the beam shape of the beam emitted by the laser. It is only the cross-sectional area and, where appropriate, the divergence of the laser beam changed, but not the shape. Thus, a circular beam cross section is maintained, it is only the circle diameter changed.
  • This beam-forming optical elements can be avoided, whereby the microscope can be made compact and inexpensive.
  • the beam source module and / or the optical module may include a beam-shaping optical system, which changes the cross-sectional shape of the beam from, for example, a circular beam cross section into, for example, a linear beam cross section. Even in this case, however, it is possible to dispense with further optics which have hitherto been necessary for improving the beam quality.
  • the beam source module and / or the optical module the size of the Change beam cross section while maintaining its shape, for example, to achieve the desired focus in or on the sample.
  • diffraction-limited focusing in the case of a linear beam cross-section in a direction transverse to the longitudinal direction
  • diffraction-limited focusing in the case of a linear beam cross-section in a direction transverse to the longitudinal direction
  • the laser may be followed by a non-linear optical element to change the wavelength of the generated beam. For example, a frequency doubling can be performed. It is also possible that the laser is followed by an optical unit to make a pulsed laser beam, for example, from a continuous wave laser beam. For this purpose, suitable optical switches can be used, as are customary in laser scanning microscopy.
  • the object is further achieved in a microscopy method according to the type mentioned above in that the electromagnetic beam is generated by means of a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL).
  • VCSEL vertical cavity surface emitting laser
  • the generation of the laser beam with a VCSEL provides a laser beam with excellent beam quality, which achieves the desired resolution.
  • the VCSEL is extremely compact, so that the microscope for performing the microscopy method can be made small and compact.
  • the beam can be focused on the sample and guided over the sample, wherein sample radiation generated in the focus is detected by the application.
  • a laser scanning method can be performed.
  • the focal plane can be changed in particular within the sample, so that deep-discriminated optical sections can be generated.
  • the beam shape of the laser beam generated by the laser for the application of the sample can not be changed.
  • beam-forming optics can advantageously be dispensed with.
  • Under beam-forming optics are not understood here such optics that change the divergence of the laser beam while maintaining its cross-sectional shape.
  • an optic that makes a parallel laser beam from a divergent laser beam while maintaining its cross-sectional shape eg, circular, whereby the circular area can be changed
  • Such a divergence, while maintaining the cross-sectional shape-changing optics can be used both in the microscope according to the invention and in the microscopy method according to the invention. The invention will be explained in more detail with reference to the drawings by way of example. It shows:
  • Fig. 1 is a schematic view of an embodiment of the microscope according to the invention.
  • the microscope according to the invention is designed as a laser scanning microscope, which essentially comprises a beam source module 1, a scanning module 2, a microscope module 3 and a detection module 4.
  • the beam source module 1 generates a laser beam, which is directed via a beam splitter 5 connected between the beam source module 1 and the scanning module 2 to the scanning module 2, which deflects the beam in two spatial directions so that the beam focuses on a sample 6 to be examined via the microscope module 3 and passed over the sample 6.
  • the position of the focus is chosen so that the beam is focused on or in the sample, wherein the beam of the beam source module 1 has a circular cross-section and is focused as a diffraction-limited point.
  • the focused beam causes in each case in its focus the generation of sample radiation, which passes through the microscope module 3 to the scan module 2, so that the sample radiation behind the scan module 2 (ie between scan module 2 and beam splitter 5) is present as a stationary beam. It is therefore also known that the scanning module 2 descares the sample radiation.
  • the beam splitter 5 is designed so that it transmits the sample radiation so that it strikes the detection module 4.
  • the detection module 4 is preferably designed as a confocal detection unit. In this way, pointwise (always in the appropriate focus of focused on or in the sample
  • the necessary image information for generating the desired image can be obtained.
  • the sample radiation is fluorescent radiation, it generally has a greater wavelength than the applied laser radiation, so that the
  • Beam splitter 5 can be formed in this case as a wavelength-selective filter.
  • the focal plane of the laser beam can be obtained with this microscope deeply discriminated optical sections, which, if desired, can be assembled into a three-dimensional image.
  • the beam source module 1 comprises a laser beam source 7 and an optics 8 arranged downstream of the laser beam source.
  • VCSEL Vertical Cavity Surface Bounding Laser
  • Such VCSELs are distinguished by the fact that the light is radiated perpendicular to the plane of the semiconductor chip, in contrast to a conventional edge emitter the light comes out on one or two flanks of the chip.
  • the laser resonator can be formed, for example, by two DBR mirrors (distributed Bragg reflectors) arranged parallel to the plane of the wafer, between which an active zone (for example two-dimensional quantum wells) for the generation of the laser light is embedded.
  • the DBR mirrors are composed of alternating low and high refractive index layers, each one quarter of the laser wavelength in the material.
  • the VCSEL may be optically or electrically pumped.
  • the VCSEL has the advantage compared to previously used semiconductor lasers and laser diodes, that the generated laser radiation has an excellent round beam profile. In a punctiform illumination of the sample 6 can therefore be dispensed beam-forming optics, so that the optical structure of the microscope is simplified. Furthermore, the VCSEL is an extremely compact and compact laser. The entire laser can only have the size of a transistor package, that is about the size of a cube with an edge length of about 1 cm. Therefore, it is possible to form the beam source module 1, the beam splitter 5 and the scanning module 2 as a compact scan head 9. The scan head 9 can then be formed, for example, as an outwardly closed unit. In particular, the detection module 4 may also be part of the scan head 9.
  • Such a scan head can be placed as a unit on a conventional light microscope, in which the eyepiece has been removed.
  • the optics 8 is provided here to adjust the desired size of the beam cross-sectional area of the output from the laser beam source 7 illumination beam. Beam-forming properties, the optics 8 not on.
  • the optic 8 may also have jet-forming properties. For example, it can be formed so that the sample 6 is no longer illuminated with a point-like focus but with a line focus.
  • a further optical unit 10 may be interposed.
  • the optical unit 10 may serve as a light switch, for example. If the laser beam source 7 is a continuous wave source, by means of the light switch 10, the beam from the desired beam path can be temporarily directed or shaded, so that a pulsed beam hits the optics 8 and thus a pulsed illumination is possible.
  • a light switch for example, an AOTF (acousto-optical tunable filter) can be used.
  • the further optical unit 10 contains at least one nonlinear optical element. This at least one non-linear optical element can serve to change the wavelength of the laser beam emitted by the laser beam source 7. For example, a frequency doubling (ie a halving of the wavelength) can be performed.
  • the VCSEL can emit a laser beam having a wavelength in the range of 340 nm to 650 nm or up to 1400 nm or even at an even longer wavelength (for example, up to 2000 nm). Continuous powers of 1/10 - 1/100 mW and 5 - 10 mW or even higher powers are possible.

Abstract

Es wird bereitgestellt ein Mikroskop mit einem Strahlquellenmodul (1), das einen elektromagnetischen Strahl zur Beaufschlagung einer zu untersuchenden Probe (6) erzeugt, einem Optikmodul (2), das den Strahl auf die Probe (6) lenkt, sowie einem Detektionsmodul (4), das von der beaufschlagten Probe kommende Strahlung detektiert, wobei das Strahlquellenmodul (1) als Strahlquelle einen oberflächen-emittierenden Halbleiterlaser (7) mit vertikalem Resonanzraum aufweist.

Description

MIKROSKOP UND MIKROSKOPIERVERFAHREN
Die Erfindung betrifft ein Mikroskop mit einem Strahlquellenmodul, das einen elektromagnetischen Strahl zur Beaufschlagung einer zu untersuchenden Probe erzeugt, einem
Optikmodul, das den Strahl auf die Probe lenkt, sowie einem Detektionsmodul, das von der beaufschlagten Probe kommende Strahlung detektiert. Ferner betrifft die Erfindung ein
Mikroskopierverfahren, bei dem ein elektromagnetischer Strahl zur Beaufschlagung einer zu untersuchenden Probe erzeugt und auf die Probe gelenkt wird sowie eine durch die Beaufschlagung bewirkte Probenstrahlung detektiert wird.
Der Einsatz eines solchen Mikroskops bzw. eines solchen Mikroskopierverfahrens bei fluoreszierenden Proben erfordert einen Strahl mit hoher Strahlqualität, um eine optimale Auflösung erzielen zu können. Gleichzeitig wird eine äußerst kompakte und kleine Bauform des Mikroskops gewünscht, was durch Verwendung von Halbleiterlasern oder Laserdioden als Strahlquelle des Strahlmoduls erreicht werden kann. Der Laserstrahl von bisher verwendeten Halbleiterlasern und Laserdioden weist jedoch für hohe Auflösungen eine zu geringe Strahlqualität auf. Dies erfordert dann teilweise sehr aufwendige Strahlkorrekturmaßnahmen, wodurch die gewünschte Kompaktheit des Mikroskops nicht mehr erreicht werden kann und das Mikroskop teurer wird.
Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der Erfindung, ein Mikroskop und ein Mikroskopierverfahren der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, daß sowohl eine sehr hohe Strahlqualität als auch ein kompakter Aufbau des Mikroskops ermöglicht wird.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe bei einem Mikroskop der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß das Strahlquellenmodul als Strahlquelle einen oberflächen-emittierenden Halbleiterlaser mit vertikalem Resonanzraum aufweist. Solche Laser werden häufig auch als VCSEL (Vertical-Cavity Surface Emitting Laser) bezeichnet und zeichnen sich dadurch aus, daß sie einen Laserstrahl mit einem hervorragenden runden Strahlprofil erzeugen und gleichzeitig äußerst kompakt und klein sind. Damit müssen keine Korrekturoptiken oder andere Verfahren zur Strahlformung mehr vorgesehen werden, so daß die Anzahl der optischen Elemente verringert werden kann, und gleichzeitig ist der VCSEL äußerst kompakt, so daß die Größe des Mikroskops insgesamt verringert werden kann. So kann der VCSEL inkl. seiner elektrischen Kontaktierung eine Größe aufweisen, die etwa einem Würfel mit der Kantenlänge von 1 cm entspricht.
Das Mikroskop kann insbesondere als Laser-Scanning-Mikroskop oder als konfokales Laser- Scanning-Mikroskop ausgebildet werden. In diesem Fall ist eine hohe Strahlqualität (beispielsweise ein sehr rundes und gaußförmiges Strahlprofil) notwendig, um die häufig gewünschte beugungsbegrenzte Fokussierung auf bzw. in der Probe durchführen zu können, die für eine hohe Auflösung voteilhaft ist. Insbesondere ist das Mikroskop ein Fluoreszenzmikroskop.
Wenn das Mikroskop als Laser-Scanning-Mikroskop ausgebildet ist, weist das Optikmodul bevorzugt einen Scanner auf, mit dem der Strahl über die Probe geführt bzw. gescannt werden kann. Der Scanner führt bei einem punktförmigen Fokus eine Ablenkung in zwei Raumrichtungen durch. Wenn ein linienförmiger Fokus vorliegt, kann der Scanner auch nur eine Ablenkung quer zur linienförmigen Ausdehnung des Fokus durchführen.
Insbesondere kann das Strahlquellenmodul und der Scanner als nach außen abgeschlossener Scankopf ausgebildet sein. Der Scankopf kann auch noch das Detektionsmodul umfassen. Damit wird durch den Einsatz des VCSEL eine äußerst kompakte Ausbildung des Mikroskops möglich.
In einer Weiterbildung des erfindungsgemäßen Mikroskops ändert weder das Strahlquellenmodul noch das Optikmodul die Strahlform des vom Laser abgegebenen Strahls. Es wird lediglich die Querschnittsfläche und gegebenenfalls die Divergenz des Laserstrahls verändert, nicht jedoch die Form. So bleibt ein kreisrunder Strahlquerschnitt erhalten, es wird lediglich der Kreisdurchmesser verändert. Damit können strahlformende Optikelemente vermieden werden, wodurch das Mikroskop kompakt und preisgünstig ausgebildet werden kann.
Alternativ kann das Strahlquellenmodul und/oder das Optikmodul eine strahlformende Optik enthalten, die die Querschnittsform des Strahls von z.B. einem kreisrunden Strahlquerschnitt in z.B. einen linienförmigen Strahlquerschnitt ändert. Auch in diesem Fall kann jedoch auf weitere Optiken verzichtet werden, die bisher zur Verbesserung der Strahlqualität notwendig sind. Natürlich können das Strahlquellenmodul und/oder das Optikmodul die Größe des Strahlquerschnitts unter Beibehaltung seiner Form ändern, um z.B. die gewünschte Fokussierung in bzw. auf der Probe zu erreichen. Insbesondere kann eine beugungsbegrenzte Fokussierung (bei einem linienförmigen Strahlquerschnitt in eine Richtung quer zur Längsrichtung) vorliegen.
Bei dem Mikroskop kann dem Laser ein nichtlineares optisches Element nachgeschaltet sein, um die Wellenlänge des erzeugten Strahls zu ändern. So kann beispielsweise eine Frequenzverdopplung durchgeführt werden. Es ist ferner möglich, daß dem Laser eine Optikeinheit nachgeschaltet wird, um beispielsweise aus einem Dauerstrich-Laserstrahl einen gepulsten Laserstrahl zu machen. Dafür können geeignete optische Schalter eingesetzt werden, wie sie in der Laser-Scanning-Mikroskopie üblich sind.
Die Aufgabe wird ferner bei einem Mikroskopierverfahren gemäß der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß der elektromagnetische Strahl mit einem oberflächen-emittierenden Laser mit vertikalem Resonanzraum (VCSEL) erzeugt wird. Durch die Erzeugung des Laserstrahls mit einem VCSEL wird ein Laserstrahl mit ausgezeichneter Strahlqualität bereitgestellt, mit dem die gewünschte Auflösung erreicht wird. Gleichzeitig ist der VCSEL äußerst kompakt, so daß das Mikroskop zur Durchführung des Mikroskopierverfahrens klein und kompakt ausgebildet werden kann.
Insbesondere kann bei dem Mikroskopierverfahren der Strahl auf die Probe fokussiert und über die Probe geführt werden, wobei im Fokus durch die Beaufschlagung erzeugte Probenstrahlung detektiert wird. Es kann somit ein Laser-Scanning-Verfahren durchgeführt werden. Die Fokusebene kann insbesondere innerhalb der Probe verändert werden, so daß tiefendiskriminierte optische Schnitte erzeugt werden können.
Bei dem Mikroskopierverfahren kann die Strahlform des mittels dem Laser erzeugten Laserstrahls für die Beaufschlagung der Probe nicht verändert werden. In diesem Fall kann vorteilhaft auf strahlformende Optiken verzichtet werden. Unter strahlformende Optiken werden hier solche Optiken nicht verstanden, die die Divergenz des Laserstrahls unter Beibehaltung seiner Querschnittsform ändern. So ist insbesondere eine Optik, die aus einem divergenten Laserstrahl einen parallelen Laserstrahl unter Beibehaltung seiner Querschnittsform (z.B. kreisförmig, wobei die Kreisfläche verändert sein kann) macht, keine strahlformende Optik im hier verstandenen Sinne. Eine solche, die Divergenz unter Beibehaltung der Querschnittsform ändernde Optik, kann sowohl beim erfindungsgemäßen Mikroskop als auch beim erfindungsgemäßen Mikroskopierverfahren eingesetzt werden. Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung beispielhalber noch näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 eine schematische Ansicht einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskops.
Bei der in Fig. 1 schematisch dargestellten Ausführungsform ist das erfindungsgemäße Mikroskop als Laser-Scanning-Mikroskop ausgebildet, das im wesentlichen ein Strahlquellenmodul 1 , ein Scanmodul 2, ein Mikroskopmodul 3 sowie ein Detektionsmodul 4 umfaßt. Das Strahlquellenmodul 1 erzeugt einen Laserstrahl, der über einen zwischen dem Strahlquellenmodul 1 und dem Scanmodul 2 geschalteten Strahlteiler 5 zum Scanmodul 2 gelenkt wird, das den Strahl in zwei Raumrichtungen so ablenkt, daß der Strahl über das Mikroskopmodul 3 auf eine zu untersuchende Probe 6 fokussiert und über die Probe 6 geführt wird. Die Lage des Fokus wird dabei so gewählt, daß der Strahl auf oder in die Probe fokussiert ist, wobei der Strahl des Strahlquellenmoduls 1 einen kreisförmigen Querschnitt aufweist und als beugungsbegrenzter Punkt fokussiert wird.
Der fokussierte Strahl bewirkt jeweils in seinem Fokus die Erzeugung von Probenstrahlung, die über das Mikroskopmodul 3 zum Scanmodul 2 gelangt, so daß die Probenstrahlung hinter dem Scanmodul 2 (also zwischen Scanmodul 2 und Strahlteiler 5) als ruhender Strahl vorliegt. Man spricht deshalb auch davon, daß das Scanmodul 2 die Probenstrahlung descannt. Der Strahlteiler 5 ist so ausgebildet, daß er die Probenstrahlung transmittiert, so daß diese auf das Detektionsmodul 4 trifft.
Das Detektionsmodul 4 ist bevorzugt als konfokale Detektionseinheit ausgebildet. In dieser Art kann punktweise (immer im entsprechenden Fokus des auf bzw. in die Probe fokussierten
Strahls) die notwendige Bildinformation zur Erzeugung des gewünschten Bildes gewonnen werden. Wenn es sich bei der Probenstrahlung um Fluoreszenzstrahlung handelt, weist diese in der Regel eine größere Wellenlänge auf als die beaufschlagte Laserstrahlung, so daß der
Strahlteiler 5 in diesem Fall als wellenlängenselektiver Filter ausgebildet werden kann. Durch geeignete Wahl der Fokusebene des Laserstrahls können mit diesem Mikroskop tiefendiskriminierte optische Schnitte gewonnen werden, die, wenn gewünscht, zu einem dreidimensionalen Bild zusammengesetzt werden können.
Das Strahlquellenmodul 1 umfaßt eine Laserstrahlquelle 7 sowie eine der Laserstrahlquelle nachgeordnete Optik 8. Als Laserstrahlquelle 7 wird ein oberflächen-emittierender Laser mit vertikalem Resonanzraum (VCSEL = Vertical-Cavity Surface Bnitting Laser) eingesetzt. Solche VCSEL zeichnen sich dadurch aus, daß bei ihnen das Licht senkrecht zur Ebene des Halbleiterchips abgestrahlt wird, im Gegensatz zu einem herkömmlichen Kantenemitter, bei dem das Licht an einer oder zwei Flanken des Chips austreten. Der Laserresonator kann beispielsweise durch zwei parallel zur Ebene des Wafers angeordnete DBR-Spiegel (distributed Bragg-Reflector) gebildet sein, zwischen denen eine aktive Zone (beispielsweise zweidimensionale Quantentöpfe) für die Erzeugung des Laserlichts eingebettet ist. Die DBR- Spiegel sind aus Schichten mit abwechselnd niedrigem und hohem Brechungsindex aufgebaut, die jeweils eine Dicke von einem Viertel der Laserwellenlänge im Material haben. Der VCSEL kann optisch oder elektrisch gepumpt sein.
Der VCSEL weist im Vergleich zu bisher benutzten Halbleiterlasern und Laserdioden den Vorteil auf, daß die erzeugte Laserstrahlung ein hervorragendes rundes Strahlprofil aufweist. Bei einer punktförmigen Beleuchtung der Probe 6 kann daher auf strahlformende Optiken verzichtet werden, so daß der optische Aufbau des Mikroskops vereinfacht ist. Ferner ist der VCSEL ein äußerst kompakter und klein gebauter Laser. Der gesamte Laser kann lediglich die Größe eines Transistorgehäuses aufweisen, also etwa die Größe eine Würfels mit einer Kantenlänge von ca. 1 cm. Daher ist es möglich, das Strahlquellenmodul 1 , den Strahlteiler 5 und das Scanmodul 2 als kompakten Scankopf 9 auszubilden. Der Scankopf 9 kann dann beispielsweise als nach außen geschlossene Einheit ausgebildet werden. Insbesondere kann das Detektionsmodul 4 auch Bestandteil des Scankopfs 9 sein.
Ein solcher Scankopf kann als Einheit auf ein herkömmliches Lichtmikroskop gesetzt werden, bei dem das Okular entfernt wurde.
Die Optik 8 ist hier vorgesehen, um die gewünschte Größe der Strahlquerschnittsfläche des von der Laserstrahlquelle 7 abgegebenen Beleuchtungsstrahles einzustellen. Strahlformende Eigenschaften weist die Optik 8 nicht auf.
In einer alternativen Ausführungsform kann die Optik 8 auch strahlformende Eigenschaften aufweisen. Beispielsweise kann sie so ausgebildet werden, daß die Probe 6 nicht mehr mit einem punktförmigen Fokus sondern mit einem Linienfokus beleuchtet wird.
Zwischen der Laserstrahlquelle 7 und der Optik 8 kann noch, wie in Fig. 1 gestrichelt eingezeichnet ist, eine weitere Optikeinheit 10 zwischengeschaltet sein. Die Optikeinheit 10 kann beispielsweise als Lichtschalter dienen. Wenn die Laserstrahlquelle 7 eine Dauerstrich- Quelle ist, kann mittels dem Lichtschalter 10 zeitweise der Strahl aus dem gewünschten Strahlengang gelenkt oder abgeschattet werden, so daß ein gepulster Strahl auf die Optik 8 trifft und somit eine gepulste Beleuchtung möglich ist. Als Lichtschalter kann beispielsweise ein AOTF (acousto-optical tunable filter) eingesetzt werden. Ferner ist es möglich, daß die weitere Optikeinheit 10 zumindest ein nichtlineares optisches Element enthält. Dieses zumindest eine nichtlineare optische Element kann dazu dienen, die Wellenlänge des von der Laserstrahlquelle 7 abgegebenen Laserstrahles zu ändern. So kann beispielsweise eine Frequenzverdopplung (also eine Halbierung der Wellenlänge) durchgeführt werden.
Der VCSEL kann einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge im Bereich von 340 nm bis 650 nm oder bis 1400 nm oder sogar mit einer noch größeren Wellenlänge (z.B. bis 2000 nm) abgeben. Dauerstrichleistungen von 1/10 - 1/100 mW und von 5 - 10 mW oder sogar noch höhere Leistungen sind möglich.

Claims

Patentansprüche
1. Mikroskop mit einem Strahlquellenmodul (1), das einen elektromagnetischen Strahl zur Beaufschlagung einer zu untersuchenden Probe (6) erzeugt, einem Optikmodul (2), das den Strahl auf die Probe (6) lenkt, sowie einem Detektionsmodul (4), das von der beaufschlagten Probe kommende Strahlung detektiert, dadurch gekennzeichnet, daß das Strahlquellenmodul (1 ) als Strahlquelle einen oberflächenemittierenden Halbleiterlaser (7) mit vertikalem Resonanzraum aufweist.
2. Mikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Mikroskop als Laser- Scanning-Mikroskop, insbesondere als konfokales Laser-Scanning-Mikroskop ausgebildet ist.
3. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Optikmodul (2) einen Scanner umfaßt, mit dem der Strahl über die Probe (6) geführt werden kann.
4. Mikroskop nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Strahlquellenmodul (1 ) und der Scanner (7) als nach außen abgeschlossener Scankopf (9) ausgebildet sind.
5. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß weder das Strahlquellenmodul (1 ) noch das Optikmodul (2) die Strahlform des vom Laser abgegebenen Strahls ändern.
6. Mikroskop nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß dem Laser ein nichtlineares optisches Element nachgeschaltet ist, um die Wellenlänge des erzeugten Strahls zu ändern.
7. Mikroskopierverfahren, bei dem ein elektromagnetischer Strahl zur Beaufschlagung einer zu untersuchenden Probe erzeugt und auf die Probe gelenkt wird sowie eine durch die Beaufschlagung bewirkte Probenstrahlung detektiert wird, dadurch gekennzeichnet, daß der elektromagnetische Strahl mit einem oberflächen-emittierenden Laser mit vertikalem Resonanzraum erzeugt wird.
8. Mikroskopierverfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl auf die Probe fokussiert und über die Probe geführt wird und im Fokus durch die Beaufschlagung erzeugte Probenstrahlung detektiert wird.
9. Mikroskopierverfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlform des mit dem Laser erzeugten Strahls für die Beaufschlagung der Probe nicht verändert wird.
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