WO2006002859A2 - Beleuchtungsquelle, wellenfrontvermessungsvorrichtung und mikrolithografie-projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Beleuchtungsquelle, wellenfrontvermessungsvorrichtung und mikrolithografie-projektionsbelichtungsanlage Download PDF

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WO2006002859A2
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mask
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Markus Goeppert
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Markus Mengel
Paul Kaufmann
Dagmar Schuhmacher
Ulrich Wegmann
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    • G03F7/70591—Testing optical components
    • G03F7/706—Aberration measurement

Definitions

  • Illumination source wavefront measurement device and microlithography projection exposure device
  • the invention relates to an illumination source capable of providing spatially structured illumination radiation, in particular in the EUV wavelength range, to a device for optical wavefront measurement of a test object making use of such an illumination source and to a microlithography device equipped therewith. projection exposure system.
  • the usual types are proposed, such as those which operate on the principle of lateral shear interferometry, the point diffraction interferometry and the Shack-Hartmann principle.
  • a possible EUV light source for the wave front surveying apparatus a synchrotron radiation source, a laser plasma irradiation source, an electric discharge based plasma irradiation source and an X-ray laser are cited.
  • the same measurement techniques using the same EUV radiation sources are also used to measure EUV imaging systems, in particular EUV microlithography projection objectives, equipped with such mirrors and operating in normal operation at the same wavelength as the wavefront measurement. be measured device.
  • the EUV illumination source is designed, if necessary using a condenser arrangement, to completely illuminate the mirror surface to be tested or to provide full-field illumination for measuring the optical system.
  • the patent US Pat. No. 6,559,952 B1 discloses a wavefront measuring device in the form of a phase-shifting point diffraction interferometer of a parallelized type, which is set up for measurement in the EUV wavelength range and designed such that it also performs distortion measurements on a microlithography projection objective, for example to let.
  • a synchrotron radiation source is proposed for measurement as an EUV illumination source, while a laser plasma radiation source is preferably used for the normal exposure operation of the microlithography projection exposure apparatus.
  • the use of synchrotron radiation sources and plasma radiation sources with full-field illumination with sufficient radiation intensity requires a relatively high outlay on equipment.
  • a technical problem is the provision of an illumination source, by means of which a spatially structured illumination radiation, in particular in the EUV wavelength range, can be provided with relatively little effort, a wavefront measurement device equipped with such an illumination source and a corresponding one Based on microlithography projection exposure equipment.
  • the invention solves this problem by providing a lighting source having the features of claim 1 or 3, a wavefront measuring apparatus having the features of claim 7 or 8 and a microlithography projection exposure apparatus having the features of claim 16.
  • the illumination source according to claim 1 includes a particle beam source and an illumination mask.
  • the structure is formed on the illumination mask using a target material which emits the illumination radiation when bombarded by the particle beam. Consequently, the illumination radiation is emitted by the illumination mask in the event of particle bombardment with a corresponding, desired spatial structure.
  • the particle beam source and the target material are suitably selected from the conventional types known for this purpose.
  • the illumination mask can be acted on by the particle beam, for example, over its entire surface or against the screen in order to cause the illumination mask structure to emit the illumination radiation.
  • the illumination source includes a particle beam guidance unit for directing the particle beam generated by the particle beam source onto a structure of the illumination mask.
  • the illumination source according to claim 3 includes a Sectionchenstrahl ⁇ source and an illumination mask with an unstructureddorfn ⁇ occupancy of a target material that emits the illumination radiation in the desired wavelength range when bombarded with a particle beam generated by the particle beam source, including Detail ⁇ chenstrahlttle and target material suitable the known types are selected.
  • a particle beam guidance unit is designed such that it guides the particle beam over the illumination mask in accordance with a predeterminable impact structure, i. ensures a corresponding relative movement of the particle beam and the illumination mask. Since, therefore, the particle beam strikes the target material of the illumination mask only along this structure, it selectively emits only in the area of the impact structure.
  • the illumination radiation is provided with the desired wavelength and the desired spatial structure.
  • the particle beam guidance unit is configured in accordance with claim 4 for directing the particle beam onto the illumination mask during time-offset illumination processes with a predefinable spatial displacement of the impact structure.
  • a shift in the structural areas emitting the illumination radiation can be achieved for successive illumination processes, without the illumination mask having to be moved for this purpose. This can be exploited, for example, for wavefront surveying operations, where such a structural shift is used for phase shift purposes.
  • the illumination source is designed to provide spatially structured illumination radiation in the EUV wavelength range. Silicon is the target material for the EUV wavelength range of 13.4 nm.
  • the particle beam is of any conventional type by which an associated target material emits the illumination radiation in the desired wavelength range upon bombardment.
  • this may in particular be an electron beam.
  • the particle beam source can correspond to a conventional X-ray source in which the customary anode is replaced by the illumination mask acting as an anode, which carries the target material emitted by electron beam bombardment in structured or unstructured form.
  • the inventive wavefront measuring device is suitable for optical wavefront measurement of any desired test objects, in particular of optical elements and optical systems, such as imaging systems, and is equipped with an inventive illumination source according to the invention as an associated wavefront source according to one of claims 1 to 6.
  • the wavefront measuring device is likewise suitable for the optical wavefront measurement of any desired test objects and includes an illumination source for providing a spatially structured illumination radiation, in particular in the EUV wavelength range, as measuring radiation.
  • the illumination source comprises an illumination beam source, an illumination mask functioning as a measurement mask with a measurement structure reflecting or transmitting the illumination radiation, and an illumination beam guidance unit for deflecting an illumination beam delivered by the illumination radiation source in one or two non-parallel directions over the measurement structure respectively.
  • the measurement structure may include a single checkerboard pattern or a plurality of checkerboard patterns arranged side-by-side over the measurement mask, each of which represents a field point.
  • Such an arrangement of mask patterns has the advantage that the measuring structure carrier does not have to be moved if different field points are to be measured. This has particular advantages in the measurement of distortion and image shell. For a displacement movement can lead to positioning errors, in Ver ⁇ drawing mainly in the xy direction, with image shell mainly in the z direction.
  • illumination beam sources can be used which provide an illumination beam with a comparatively small beam diameter and sufficient beam spot intensity on the measurement structure, the beam spot being e.g. is guided over the measuring structure in a linear or two-dimensional scanning motion.
  • the illumination beam guidance unit is designed to direct the illumination beam to the illumination mask defocused as substantially coherent radiation or focused as substantially incoherent radiation.
  • the test specimen may be an optical imaging system, such as a projection objective of a microlithography projection exposure apparatus.
  • the test specimen to be measured and / or the illumination / particle beam source are arranged to be rotatable relative to one another about an optical system axis.
  • the test object or only the illumination / particle beam source or both components can be actively rotatably arranged by corresponding means.
  • This rotation can be used, for example, in the measurement of an optical imaging system, such as a microlithography projection objective, in combination with one or more other degrees of freedom of movement for the test object, for the illumination / particle beam source or for illumination / particle beam deflection to realize a full field measurement.
  • an optical imaging system such as a microlithography projection objective
  • the illumination or Ambientstrahl Installations- unit includes one or two rotatable Ablenkaptiseren to deflect the illumination or particle beam in one or two non-parallel directions.
  • the degree of freedom or degrees of movement given thereby for the illumination or particle beam alone or in combination with further degrees of freedom of movement of the system, such as the mentioned rotation of the test object or the illumination / particle beam source, makes it possible to guide the illumination or particle beam over the object Illumination mask or the measurement structure and, if required, a full-field measurement of the test object.
  • a displacement of the illumination / particle radiation source relative to the test object is provided with a directional component perpendicular to an optical system axis.
  • the wave front measuring device is set up to measure at least one or more imaging aberrations and / or image shells, wherein for individual cases with multiple measuring channels, the individual measuring channels for the different field points are calibrated to each other.
  • the wavefront measuring device is designed as a lateral shear interferometer or point diffraction interferometer.
  • the invention comprises a microlithography projection exposure apparatus, e.g. of the scanner type, in which an inventive illumination source and / or a wavefront measuring device according to the invention is integrated.
  • the wavefront measuring device may be part of a control loop for adjusting a projection objective and / or the illumination source of the microlithography layer.
  • FIG. 1 shows a schematic side view of a wavefront measuring device based on lateral shear interferometry with an EUV illumination source in the manner of an X-ray tube with a beam deflection mirror for measuring an EUV imaging system
  • FIG. 2 shows a view corresponding to FIG. 1, but for a variant of the wavefront measuring device based on point diffraction interferometry
  • FIG. 3 shows a schematic side view of a further wavefront measuring device for an EUV imaging system, which includes an illumination source with electron beam source and illumination mask with a structure of an anode target material,
  • FIG. 4 shows a schematic side view of a further wavefront measuring device for an EUV objective in which the illumination source is linearly movable and the objective is rotatably mounted,
  • FIG. 5 shows a schematic side view of a further wavefront measuring device for an EUV objective in which the particle beam source and the illumination mask of the illumination source are arranged in a rotationally movable manner and a single deflection mirror is provided,
  • FIG. 6 shows a schematic side view of a further wavefront measuring device for an EUV imaging system, in which the illumination source comprises two deflection mirrors for particle beam deflection in two perpendicular directions, and
  • FIG. 7 shows a schematic side view of another wavefront measuring device in the manner of FIG. 6, but with additional rotational mobility of the particle beam source.
  • the wavefront measuring device shown schematically in FIG. 1 with its components of interest here operates on the principle of lateral shear interferometry and is used to measure a projection objective 1, as used in microlithography projection exposure systems, for example, from the scanner or stepper type to semiconductor wafer structuring comes.
  • the measuring device has an illumination source acting as a so-called wavefront source with an illumination beam source 2 constructed in the manner of an X-ray tube, ie. it includes a cathode and a Wehneltzylinder for electron beam generation and an anode, on which the electron beam is directed.
  • the anode is covered with a target material that is selected so that it emits a measuring radiation in the desired wavelength range by the electron beam bombardment.
  • silicon is used as the target material.
  • measuring radiation can be generated in a desired other EUV wavelength range or in any other wavelength range.
  • the illumination source has an illumination mask 4 and a focusing deflection mirror unit 5.
  • An illumination beam 3 delivered by the illumination beam source 2 is directed by the deflection mirror unit 5 onto the illumination mask 4, more precisely onto a measurement structure 8a which is located on one side of the illumination mask 4 and has a reflective effect on the measurement radiation used .
  • the illumination mask 4 on the relevant side is provided with a reflection layer, structured according to the desired measurement structure 8a, of a material that is reflective for the measurement radiation, for example in the EUV region of 13.5 nm, while the illumination mask 4 is otherwise reflective is largely absorbent for the measuring radiation.
  • suitable materials are known per se and require no further mention here.
  • the illumination beam source 2, the deflection mirror unit 5 and the illumination mask 4 thus form an illumination source, which supplies a lighting beam 3 a structurally spatially structured in accordance with the measurement structure 8 a.
  • This measurement beam 3a can be used for wavefront measurement of the objective 1 by a lateral shear interferometry technique, for which the illumination mask 4 functioning as a measurement mask is preferably positioned with its measurement structure 8a in the object plane of the objective 1, while on the image side a diffraction grating 6, preferably in the image plane of the objective 1 and a detector unit 7 are positioned.
  • Possible realizations and the Wir ⁇ kunglus of these other surveying components are known in the field of lateral shear interferometry and therefore need no further explanation.
  • the surveying process includes a lateral relative displacement of illumination mask 4 or measuring structure 8a on the one hand and diffraction gratings 6 or the associated diffraction grating structure on the other hand.
  • the resulting interferograms are detected and evaluated, for example, by a CCD array of the detector unit 7. This includes, for example, the determination of the wave front derivatives from the interferograms and from this the reconstruction of the wavefront in a pupil plane of the objective 1.
  • the extent of the measurement structure 8a to be imaged is greater than the diameter of the illumination beam 3 impinging on the illumination mask 4.
  • the illumination beam 3 is guided over the measurement structure 8a in a scanning manner, for example by appropriate rotation the deflection mirror unit 5 in one or two non-parallel, preferably orthogonal scan directions. Suitable scanning mirror arrangements and deflection control means for realizing such a lighting beam guidance are known per se and require no further explanation here.
  • the lateral shear interferometry one over the Means substantially incoherent illumination across the measurement structure 8a, which can be realized here by the fact that the illumination beam 3 is focused on the measurement structure 8a. If the extent of the measuring structure to be imaged is smaller than that of the illuminating beam, as an alternative to the scanning of the illuminating beam over the measuring structure, full surface loading of the measuring structure with the illuminating beam can be provided.
  • FIG. 2 schematically shows a system according to FIG. 1, with the difference that the wavefront measuring device is designed as a point diffraction interferometer, identical reference symbols being selected for identical or functionally equivalent elements for the sake of clarity.
  • the wavefront measuring device of FIG. 2 comprises an illumination mask 4b with a reflective measuring structure 8b in the form of a suitable, reflective pinhole emitter for generating an illumination beam 3a from the incident illumination beam 3 and a beam-splitting diffraction grating 9 between the illumination mask 4b and lens 1 to be measured.
  • the same illuminating beam source 2 and the same deflecting mirror unit 5 can be used as in the example of FIG. 1 for the device of FIG. 2.
  • a point diffraction interferometer in particular a suitable shadow mask 10 with one or more pinholes and one or more passage openings of larger diameter, are located in the usual way on the image side of the measured objective 1.
  • the shadow mask 10 is preferably arranged in the image plane of the objective 1
  • the point diffraction interferometry technique requires substantially coherent illumination of the pinhole mask pattern 8b, which in this case can be realized by directing the beam 3 defocused by the deflection mirror unit 5 onto the illumination mask 4b. If, as mentioned above, a type of X-ray source is used for EUV radiation for the wavefront surveying devices of FIGS.
  • the radiation emission power is lower in comparison to typical plasma radiation sources, for example in the range of up to approximately 100 ⁇ W, however, by imaging the anode source spot on a small area of the illumination mask, the intensity necessary for a lateral shear interferometry measurement or point diffraction interferometry measurement can still be provided.
  • Fig. 3 shows a further variant of a wavefront measuring device, e.g. for the EUV wavelength range with specialflects ⁇ source.
  • the illumination source comprises an electron beam source 11, which is e.g. can be formed by a cathode assembly of a commercially available X-ray tube, a conventional electron beam deflection unit 12 and an illumination mask 4c, which acts as the anode of the electron beam source 11 and is provided for this purpose with a suitable anode target material layer 8c.
  • the target material of this layer 8c is selected such that it emits measuring radiation in the desired wavelength range as a measuring beam 3a when bombarded with an electron beam 13 delivered by the electron beam source 11 and the deflecting unit 12.
  • a coating with silicon is suitable for this purpose.
  • An aperture 14 ensures a beam angle limitation of the measuring beam 3a and for a shielding of disturbing scattered radiation.
  • the anode target material layer 8c there are two substantially different possibilities.
  • it is used as a structured layer in the form of the desired measurement structure
  • a second, alternative realization of the target material coating 8c is to provide it over the whole area, ie homogeneously without structuring, on the illumination mask 4c and to write the desired measurement structure through the electron beam 13 into this unstructured planar target material layer 8c.
  • the deflection unit 12 controls the electron beam 13 on the basis of, for example, digitally present measurement structure data such that it impinges on the whole-area target material coating 8c in an impact structure corresponding to the desired measurement structure, ie the incident beam spot moves along those areas of the desired measurement structure which is to emit the measuring radiation.
  • this lighting mode of operation can also be referred to as maskless lighting mode.
  • the same materials as the target materials mentioned above for the other exemplary embodiments are suitable.
  • This realization with homogeneous target material coating is practically free from thermal problems, since the mask structure is defined solely by the electron beam 13 and its deflecting guidance by the deflection unit 12.
  • a particular advantage of the last-mentioned variant with homogeneous anode-target material coating of the illumination mask 4c is that the radiation-emitting measurement structure can be displaced laterally, ie in a plane perpendicular to an optical axis 15 of the system indicated by dashed lines in FIG Parts, in particular the illumination mask 4 c, must be moved.
  • the measuring structure shift can be accomplished solely by the deflecting unit 12 driving the electron beam 13 for the correspondingly offset writing of the impingement structure, ie the electron beam 13 writes a correspondingly displaced measuring structure onto the homogeneous target material coating 8c.
  • This can be exploited, in particular, to realize a lateral measurement structure shift for phase shifting during the frontal wave measurement, for example by lateral shear interferometry.
  • the otherwise necessary active displacement of the mask bearing the measurement structure, such as the illumination mask 4c, can thereby be reduced.
  • the electron beam source 11 is accommodated together with the deflection unit 12 and the objective 1 in a common ultra-high vacuum chamber 16 and can thus also be integrated into a microlithography projection exposure apparatus.
  • the illumination mask 4c is then located in a conventional reticle stage, while on the image side of the projection objective 1 the UHV chamber 16 is followed by a customary wafer stage 17.
  • one or more image-side components of the wavefront measuring device can be arranged on the wafer stage 17, for example a diffraction grating and / or a detector unit.
  • a full-field measurement of a specimen for example the microlithography projection objective 1, which is representative of other possible specimens in the examples shown, is desired.
  • the illumination source according to the invention which is based on a bombardment of a suitable target material by a particle beam, such as an electron or ion beam, suitable degrees of freedom of movement for the test object, for the illumination or particle beam source and / or for be provided other components of the illumination source to guide the measuring beam successively over the entire field.
  • a particle beam such as an electron or ion beam
  • suitable degrees of freedom of movement for the test object for the illumination or particle beam source and / or for be provided other components of the illumination source to guide the measuring beam successively over the entire field.
  • FIGS. 4 to 7 show various possibilities for implementing the degrees of freedom of movement required for full-field measurements on the basis of corresponding exemplary embodiments, the same reference numbers being used for the sake of clarity for identical or functionally equivalent elements.
  • Fig. 4 shows an embodiment in which the specimen 1 is rotatably supported about a parallel to its optical axis of rotation 18 by an associated holder 19, as symbolized by a rotation arrow D1.
  • the entire illumination source of the associated wavefront measuring device is arranged on a carriage mount 20 linearly displaceable in a lateral direction, ie perpendicular to the test object rotation axis 18, as symbolized by a shift arrow T1.
  • the wavefront measuring device may, for example, correspond to that of FIG. 1, the illumination beam source or x-ray tube 2, the illumination mask 4a and the deflection mirror unit 5 being suitably Neten, only partially schematically shown supporting elements are held on the verfahr ⁇ Baren carriage holder 20.
  • the measuring beam 3a delivered by it can be guided in the radial direction over the test object field.
  • the desired full field measurement is achieved, ie the measurement at all field points.
  • the associated additional surveying components such as diffraction gratings 6 and detector unit 7 are located.
  • the test object 1 is fixed in a holder 21 in a stationary manner.
  • the illumination beam source 2, the deflection mirror unit 5 and the illumination mask 4a of a illumination source of the associated wavefront measurement device are rotatably held about a first rotation axis 18a parallel to the optical axis of the test object 1 on a rotary support 22, as symbolized by a rotation arrow D2.
  • the measuring beam 3a can be guided in the direction of rotation over the educalingsfeld.
  • the Ablenkaptrik 5 is additionally arranged rotatably about a second axis of rotation 18a perpendicular to the first axis of rotation 18b rotatably, as indicated by a rotation arrow D3. Otherwise, the wavefront measuring device of FIG. 5 corresponds to that of FIG. 4.
  • Fig. 6 shows an embodiment in which the specimen 1 fixed to the holder 21 and also the illumination beam source 2 and the illumination mask 4a are held stationary.
  • two deflecting mirror units operating in a beam-deflecting manner in orthogonal directions are provided.
  • the deflecting mirror unit 5 is rotatably mounted about the axis of rotation 18b perpendicular to the optical axis of the test object 1 as a scanning mirror unit. assigns.
  • the illuminating beam 3 is reflected onto a second deflecting mirror unit 5a, which is rotatably arranged about an axis of rotation 18c parallel to the optical axis of the test object 1, as symbolized by a rotary arrow D4.
  • the measuring beam 3a can thereby be guided in a scanning manner in two mutually perpendicular directions over the test object field.
  • the wavefront measuring apparatus of FIG. 6 shown corresponds to that of FIG. 5.
  • Fig. 7 shows a variant of the embodiment of Fig. 6, which differs from this in that the illumination beam source 2 is not fixed, but is held rotatably about an axis parallel to the optical axis of the specimen 1 axis of rotation 18d, as symbolized by a three-headed arrow D5.
  • the provision of this additional degree of freedom of movement has the effect that for the two scanning mirror units 5, 5a a reduced deflection stroke, i. a smaller swing angle range, sufficient.
  • a full field measurement of a test object can be achieved in different ways, independently of the respective measuring method, eg by rotating the test object in combination with a linear displacement of the illumination source. by rotating the illumination / particle beam source about an axis of rotation parallel to the optical axis of the test object in combination with a rotation of a scanning mirror about an orthogonal axis, by using an arrangement with two scanning mirrors for two vertical or generally non-parallel scanning directions or through two Such scanning mirror with reduced pivot angle range in combination with a rotatable An ⁇ order of the illumination / particle beam source and / or the specimen.
  • the wavefront measurement devices shown and described are suitable, in addition to determining other aberrations, in particular also for determining the image shell and distortion of a microlithography projection objective.
  • the measurement of image shell and distortion can, for example, be attributed to a measurement of the Zernike coefficients Z2, Z3 and / or Z4 for the individual field points and a calibration of these field points.
  • the calibration comprises a measurement of the relative movement during displacement or turning of the movable system components and a measurement of the distance between structural elements of the measurement structure, eg between the pinholes of a pinhole structure for point diffraction interferometry or between structural elements of a measurement structure for lateral shear interferometry.
  • the invention is not only suitable for wavefront survey devices that use lateral shear interferometry or point diffraction interferometry, but also for those based on another conventional wavefront survey principle, e.g. the Shack-Hartmann principle.
  • the measurement can be carried out with a measuring radiation which, in its wavelength range, corresponds to the working or useful radiation with which the measured test object works in its normal functional application or with a different measuring radiation.
  • the invention is also suitable for wavefront measurement of optical imaging systems for lithography systems in the EUV wavelength range.

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Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsquelle zur Bereitstellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, und auf eine damit ausgerüstete Wellenfrontvermessungsvorrichtung und auf eine entsprechende Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage. Die Erfindung schlägt eine Beleuchtungsquelle mit einer Teilchenstrahlquelle (11), einer Beleuchtungsmaske (4c), die mit einem strukturierten oder unstrukturierten Targetmaterial (8c) belegt ist, das bei Beschuss durch einen von der Teilchenstrahlquelle emittierten Teilchenstrahl (13) die Beleuchtungsstrahlung (a) emittiert. Verwendung z.B. zur Wellenfrontvermessung optischer Abbildungssysteme von Mikrolithografiesystemen, die im EUV-Wellenlängenbereich arbeiten, bei deren Betriebswellenlänge.

Description

Beleuchtungsquelle, Wellenfrontvermessungsvorrichtung und Mikrolithografie-Proiektionsbelichtungsanlage
Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsquelle, die in der Lage ist, eine räumlich strukturierte Beleuchtungsstrahlung bereitzustellen, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, auf eine Vorrichtung zur optischen Wellenfrontvermessung eines Prüflings, die von einer solchen Beleuchtungsquelle Gebrauch macht, und auf eine damit ausgerüstete Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage.
Ein wichtiges Anwendungsgebiet solcher Beleuchtungsquellen und Wellenfrontvermessungsvorrichtungen ist die Mikrolithografie zur HaIb- leiterwaferstrukturierung. Auf diesem Gebiet wächst das Interesse am Einsatz von Beleuchtungsstrahlung bei sehr niedrigen Wellenlängen, insbesondere im fernen bzw. extremen UV-Bereich (EUV-Bereich) und im nahen, weichen Röntgenstrahlungsbereich. Speziell besteht gegen¬ wärtig Interesse am EUV-Wellenlängenbereich bei 10 nm bis 20 nm, z.B. bei der Wellenlänge von 13,4 nm, für die es geeignete Materialien, wie Mo und Si, mit relativ hohem Reflexionsvermögen z.B. zur Her¬ stellung von reflektierenden Spiegeln gibt. In der Offenlegungsschrift EP 1 306 698 A1 sind derartige reflektierende Mehrschichtspiegel für den EUV-Bereich und verschiedene Wellenfront- vermessungsvorrichtungen zur Vermessung solcher Spiegel offenbart. Als Wellenfrontvermessungsvorrichtungen werden die üblichen Typen vorgeschlagen, wie solche, die nach dem Prinzip der lateralen Scher- interferometrie, der Punktbeugungsinterferometrie und nach dem Shack- Hartmann-Prinzip arbeiten. Als mögliche EUV-Lichtquelle für die Wellen- frontvermessungsvorrichtung sind eine Synchrotronstrahlungsquelle, eine Laserplasmastrahlungsquelle, eine auf elektrischer Entladung basierende Plasmastrahlungsquelle und ein Röntgenstrahllaser genannt. Mit den gleichen Messtechniken unter Verwendung der gleichen EUV- Strahlungsquellen werden auch EUV-Abbildungssysteme, insbesondere Projektionsobjektive für die EUV-Mikrolithografie, vermessen, die mit derartigen Spiegeln ausgerüstet sind und im normalen Betrieb mit der gleichen Wellenlänge arbeiten, mit der sie durch die Wellenfrontvermes- sungsvorrichtung vermessen werden. Die EUV-Beleuchtungsquelle ist so ausgelegt, bei Bedarf unter Verwendung einer Kondensoranordnung, dass sie die zu prüfende Spiegeloberfläche vollständig ausleuchtet bzw. eine Vollfeldbeleuchtung zur Vermessung des optischen Systems bereitstellt.
In der Patentschrift US 6,559,952 B1 ist eine Wellenfrontvermessungs- vorrichtung in Form eines phasenschiebenden Punktbeugungsinterfero- meters von einem parallelisierten Typ offenbart, das zur Vermessung im EUV-Wellenlängenbereich eingerichtet und so ausgelegt ist, dass sich mit ihm auch Verzeichnungsmessungen z.B. an einem Mikrolithografie- Projektionsobjektiv durchführen lassen. Als EUV-Beleuchtungsquelle wird zur Vermessung eine Synchrotronstrahlungsquelle vorgeschlagen, während für den normalen Belichtungsbetrieb der Mikrolithografie-Pro- jektionsbelichtungsanlage vorzugsweise eine Laserplasmastrahlungs¬ quelle verwendet wird. Der Einsatz von Synchrotronstrahlungsquellen und Plasmastrahlungs¬ quellen mit Vollfeldausleuchtung bei ausreichender Strahlungsintensität erfordert einen relativ hohen apparativen Aufwand.
Der Erfindung liegt als technisches Problem die Bereitstellung einer Beleuchtungsquelle, durch die mit relativ geringem Aufwand eine räum¬ lich strukturierte Beleuchtungsstrahlung, insbesondere im EUV-Wellen- längenbereich, zur Verfügung gestellt werden kann, einer mit einer solchen Beleuchtungsquelle ausgerüsteten Wellenfrontvermessungs- Vorrichtung und einer entsprechenden Mikrolithografie-Projektionsbelich- tungsanlage zugrunde.
Die Erfindung löst dieses Problem durch die Bereitstellung einer Beleuchtungsquelle mit den Merkmalen des Anspruchs 1 oder 3, einer Wellenfrontvermessungsvorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 7 oder 8 und einer Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 16.
Die Beleuchtungsquelle nach Anspruch 1 beinhaltet eine Teilchenstrahl- quelle und eine Beleuchtungsmaske. Die Struktur ist auf der Beleuch¬ tungsmaske unter Verwendung eines Targetmaterials gebildet, das bei Beschuss durch den Teilchenstrahl die Beleuchtungsstrahlung emittiert. Folglich wird von der Beleuchtungsmaske bei Teilchenbeschuss die Beleuchtungsstrahlung mit einer entsprechenden, gewünschten räumli- chen Struktur emittiert. Je nach gewünschter Wellenlänge der Beleuch¬ tungsstrahlung sind die Teilchenstrahlquelle und das Targetmaterial aus den hierzu bekannten herkömmlichen Typen geeignet ausgewählt. Je nach Anwendung kann die Beleuchtungsmaske vom Teilchenstrahl z.B. vollflächig oder abrastemd beaufschlagt werden, um die Beleuch- tungsmaskenstruktur zur Emission der Beleuchtungsstrahlung zu veran¬ lassen. In Ausgestaltung der Erfindung beinhaltet die Beleuchtungsquelle eine Teilchenstrahlführungseinheit, um den von der Teilchenstrahlquelle erzeugten Teilchenstrahl auf eine Struktur der Beleuchtungsmaske zu richten.
Die Beleuchtungsquelle nach Anspruch 3 beinhaltet eine Teilchenstrahl¬ quelle und eine Beleuchtungsmaske mit einer unstrukturierten Flächen¬ belegung aus einem Targetmaterial, das bei Beschuss mit einem von der Teilchenstrahlquelle erzeugten Teilchenstrahl die Beleuchtungs- Strahlung im gewünschten Wellenlängenbereich emittiert, wozu Teil¬ chenstrahlquelle und Targetmaterial geeignet aus den hierzu bekannten Typen ausgewählt werden. Eine Teilchenstrahlführungseinheit ist so ausgelegt, dass sie den Teilchenstrahl gemäß einer vorgebbaren Auf¬ treffstruktur über die Beleuchtungsmaske führt, d.h. für eine entspre- chende Relativbewegung von Teilchenstrahl und Beleuchtungsmaske sorgt. Da somit der Teilchenstrahl nur längs dieser Struktur auf das Targetmaterial der Beleuchtungsmaske auftrifft, emittiert dieses selektiv nur im Auftreffstrukturbereich. Damit wird die Beleuchtungsstrahlung mit der gewünschten Wellenlänge und der gewünschten räumlichen Struktur zur Verfügung gestellt.
In Ausgestaltung dieser Beleuchtungsquelle ist gemäß Anspruch 4 die Teilchenstrahlführungseinheit dafür eingerichtet, den Teilchenstrahl während zeitlich versetzter Beleuchtungsvorgänge mit vorgebbarer räumlicher Verschiebung der Auftreffstruktur auf die Beleuchtungsmaske zu richten. Damit kann eine Verschiebung der die Beleuchtungsstrah¬ lung emittierenden Strukturbereiche für aufeinander folgende Beleuch¬ tungsvorgänge erzielt werden, ohne dass zu diesem Zweck die Beleuch¬ tungsmaske verschoben werden muss. Dies lässt sich beispielsweise für Wellenfrontvermessungsvorgänge ausnutzen, bei denen eine derartige Strukturverschiebung zu Phasenschiebezwecken verwendet wird. In einer Weiterbildung der Erfindung nach Anspruch 5 ist die Beleuch¬ tungsquelle zur Bereitstellung von räumlich strukturierter Beleuchtungs¬ strahlung im EUV-Wellenlängenbereich ausgelegt. Für den EUV-Wellen- längenbereich um 13,4 nm eignet sich z.B. Silizium als Targetmaterial. Der Teilchenstrahl ist von einem beliebigen herkömmlichen Typ, durch den ein zugehöriges Targetmaterial bei Beschuss die Beleuchtungs¬ strahlung im gewünschten Wellenlängenbereich emittiert. In einer Aus¬ gestaltung der Erfindung nach Anspruch 6 kann dies insbesondere ein Elektronenstrahl sein. Die Teilchenstrahlquelle kann hierbei einer her- kömmlichen Röntgenstrahlquelle entsprechen, bei der die übliche Anode durch die als Anode fungierende Beleuchtungsmaske ersetzt ist, die das durch Elektronenstrahlbeschuss Strahlungsemittierende Targetmaterial in strukturierter oder unstrukturierter Form trägt.
Die erfindungsgemäße Wellenfrontvermessungsvorrichtung nach An¬ spruch 7 eignet sich zur optischen Wellenfrontvermessung beliebiger Prüflinge, insbesondere von optischen Elementen und optischen Sys¬ temen, wie Abbildungssystemen, und ist mit einer erfindungsgemäßen, als zugehörige Wellenfrontquelle fungierenden erfindungsgemäßen Beleuchtungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 6 ausgerüstet.
Die erfindungsgemäße Wellenfrontvermessungsvorrichtuhg nach An¬ spruch 8 ist gleichfalls zur optischen Wellenfrontvermessung beliebiger Prüflinge geeignet und beinhaltet eine Beleuchtungsquelle zur Bereit- Stellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, insbeson¬ dere im EUV-Wellenlängenbereich, als Messstrahlung. Dazu umfasst die Beleuchtungsquelle eine Beleuchtungsstrahlquelle, eine als Mess- maske fungierende Beleuchtungsmaske mit einer die Beleuchtungs¬ strahlung reflektierenden oder transmittierenden Messstruktur und eine Beleuchtungsstrahlführungseinheit, um einen von der Beleuchtungs¬ strahlquelle gelieferten Beleuchtungsstrahl in einer oder in zwei nicht¬ parallelen Richtungen ablenkbar über die Messstruktur zu führen. Die Messstruktur kann z.B. ein einzelnes Schachbrettmuster oder mehrere Schachbrettmuster beinhalten, die nebeneinander über die Messmaske verteilt angeordnet sind und von denen jedes einzelne einen Feldpunkt repräsentiert. Eine solche Anordnung von Maskenmustern hat den Vorteil, dass der Messstrukturträger nicht bewegt werden muss, wenn verschiedene Feldpunkte vermessen werden sollen. Dies hat insbeson¬ dere Vorteile bei der Messung von Verzeichnung und Bildschale. Denn eine Verschiebebewegung kann zu Positionierfehlern führen, bei Ver¬ zeichnung hauptsächlich in x-y-Richtung, bei Bildschale hauptsächlich in z-Richtung.
Indem der Beleuchtungsstrahl solchermaßen ablenkbar über die Mess¬ struktur geführt werden kann, braucht sein Strahldurchmesser nicht die Größe der Messstruktur haben oder auf diese aufgeweitet werden. Daher können Beleuchtungsstrahlquellen verwendet werden, die einen Beleuchtungsstrahl mit vergleichsweise kleinem Strahldurchmesser und ausreichender Strahlfleckintensität auf der Messstruktur liefern, wobei der Strahlfleck z.B. in einer linearen oder zweidimensional abrasternden Bewegung über die Messstruktur geführt wird.
In einer Ausgestaltung dieser Wellenfrontvermessungsvorrichtung ist nach Anspruch 9 die Beleuchtungsstrahlführungseinheit darauf ausge¬ legt, den Beleuchtungsstrahl defokussiert als im Wesentlichen kohärente Strahlung oder fokussiert als im Wesentlichen inkohärente Strahlung auf die Beleuchtungsmaske zu richten.
Bei dem Prüfling kann es sich gemäß einer Weiterbildung der Erfindung nach Anspruch 10 insbesondere um ein optisches Abbildungssystem, wie ein Projektionsobjektiv einer Mikrolithografie-Projektionsbelichtungs- anläge, handeln. In einer Weiterbildung der Erfindung nach Anspruch 11 sind der zu vermessende Prüfling und/oder die Beleuchtungs-/Teilchenstrahlquelle um eine optische Systemachse relativ zueinander verdrehbar angeord¬ net. Dazu können je nach Anwendungsfall nur der Prüfling oder nur die Beleuchtungs-/Teilchenstrahlquelle oder beide Komponenten durch entsprechende Mittel aktiv drehbar angeordnet sein. Diese Drehbarkeit lässt sich z.B. bei der Vermessung eines optischen Abbildungssystems, wie eines Mikrolithografie-Projektionsobjektivs, dazu nutzen, in Kombi¬ nation mit einem oder mehreren anderen Bewegungsfreiheitsgraden für den Prüfling, für die Beleuchtungs-/Teiichenstrahlquelle oder für die Be- Ieuchtungs~/Teilchenstrahlablenkung eine Vollfeldvermessung zu rea¬ lisieren.
In einer Weiterbildung der Wellenfrontvermessungsvorrichtung nach Anspruch 12 beinhaltet die Beleuchtungs- oder Teilchenstrahlführungs- einheit einen oder zwei drehbare Ablenkspiegeleinheiten, um den Beleuchtungs- bzw. Teilchenstrahl in einer oder zwei nicht-parallelen Richtungen abzulenken. Der oder die dadurch gegebenen Bewegungs¬ freiheitsgrade für den Beleuchtungs- bzw. Teilchenstrahl ermöglichen allein oder in Kombination mit weiteren Bewegungsfreiheitsgraden des Systems, wie der erwähnten Drehbarkeit von Prüfling oder Beleuch- tungs-/Teilchenstrahlquelle, das geforderte Führen des Beleuchtungs¬ oder Teilchenstrahls über die Beleuchtungsmaske bzw. die Messstruktur hinweg und bei Bedarf eine Vollfeldvermessung des Prüflings.
Als ein weiterer, hierzu nutzbringend einsetzbarer Bewegungsfreiheits¬ grad ist in einer Ausgestaltung der Erfindung nach Anspruch 13 eine Verschiebbarkeit der Beleuchtungs-/Teilchenstrahlungsquelle relativ zum Prüfling mit einer zu einer optischen Systemachse senkrechten Richtungskomponente vorgesehen. In einer vorteilhaften Weiterbildung nach Anspruch 14 ist die Wellen- frontvermessungsvorrichtung zur Messung wenigstens des oder der Abbildungsfehler Verzeichnung und/oder Bildschale eingerichtet, wobei für Fälle mit mehreren Messkanälen die einzelnen Messkanäle für die verschiedenen Feldpunkte geeignet zueinander kalibriert sind.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung nach Anspruch 15 ist die Wellenfrontvermessungsvorrichtung als laterales Scherinterfero- meter oder Punktbeugungsinterferometer ausgelegt.
In einem weiteren Aspekt umfasst die Erfindung eine Mikrolithografie- Projektionsbelichtungsanlage, z.B. vom Scanner-Typ, in die eine er¬ findungsgemäße Beleuchtungsquelle und/oder eine erfindungsgemäße Wellenfrontvermessungsvorrichtung integriert ist. In einer vorteilhaften Ausgestaltung kann die Wellenfrontvermessungsvorrichtung Teil eines Regelkreises zur Einregelung eines Projektionsobjektivs und/oder der Beleuchtungsquelle der Mikrolithografienlage sein.
Vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden nachfolgend beschrieben. Hierbei zeigen:
Fig. 1 eine schematische Seitenansicht einer auf lateraler Scherinter- ferometrie basierenden Wellenfrontvermessungsvorrichtung mit einer EUV-Beleuchtungsquelle nach Art einer Röntgenröhre mit Strahlablenkspiegel zur Vermessung eines EUV-Abbildungs- systems,
Fig. 2 eine Ansicht entsprechend Fig. 1 , jedoch für eine auf Punkt- beugungsinterferometrie basierende Variante der Wellenfront- Vermessungsvorrichtung, Fig. 3 eine schematische Seitenansicht einer weiteren Wellenfrontver- messungsvorrichtung für ein EUV-Abbildungssystem, die eine Beleuchtungsquelle mit Elektronenstrahlquelle und Beleuch¬ tungsmaske mit einer Struktur aus einem Anodentargetmaterial beinhaltet,
Fig. 4 eine schematische Seitenansicht einer weiteren Wellenfrontver- messungsvorrichtung für ein EUV-Objektiv, bei der die Beleuch¬ tungsquelle linear beweglich und das Objektiv drehbeweglich angeordnet sind,
Fig. 5 eine schematische Seitenansicht einer weiteren Wellenfrontver- messungsvorrichtung für ein EUV-Objektiv, bei der die Teilchen¬ strahlquelle und die Beleuchtungsmaske der Beleuchtungsquelle drehbeweglich angeordnet sind und ein einzelner Ablenkspiegel vorgesehen ist,
Fig. 6 eine schematische Seitenansicht einer weiteren Wellenfrontver- messungsvorrichtung für ein EUV-Abbildungssystem, bei der die Beleuchtungsquelle zwei Ablenkspiegel zur Teilchenstrahl¬ ablenkung in zwei senkrechten Richtungen umfasst, und
Fig. 7 eine schematische Seitenansicht einer weiteren Wellenfrontver- messungsvorrichtung nach Art von Fig. 6 jedoch mit zusätzlicher Drehbeweglichkeit der Teilchenstrahlquelle.
Die in Fig. 1 schematisch mit ihren hier interessierenden Komponenten gezeigte Wellenfrontvermessungsvorrichtung arbeitet nach dem Prinzip der lateralen Scherinterferometrie und dient zur Vermessung eines Projektionsobjektivs 1 , wie es in Mikrolithografie-Projektionsbelichtungs- anlagen z.B. vom Scanner- oder Stepper-Typ zur Halbleiterwaferstruk- turierung zum Einsatz kommt. Alternativ ist die Wellenfrontvermessungs- Vorrichtung zur Wellenfrontvermessung beliebiger anderer optischer Abbildungssysteme und allgemeiner von beliebigen optischen Systemen und anderen Prüflingen einsetzbar.
Die Vermessungsvorrichtung weist eine als sogenannte Wellenfront- quelle fungierende Beleuchtungsquelle mit einer Beleuchtungsstrahl¬ quelle 2 auf, die nach Art einer Röntgenröhre aufgebaut ist, d.h. sie beinhaltet eine Kathode und einen Wehneltzylinder zur Elektronen- strahlerzeugung und eine Anode, auf die der Elektronenstrahl gerichtet wird. Die Anode ist mit einem Targetmaterial belegt, das so ausgewählt ist, dass es durch den Elektronenstrahlbeschuss eine Messstrahlung im gewünschten Wellenlängenbereich emittiert. In einer vorteilhaften Rea¬ lisierung wird als Targetmaterial Silizium verwendet. Silizium emittiert unter geeignetem Beschuss EUV-Strahlung mit einer Schwerpunkt- weilenlänge von 13,5 nm. Je nach Wahl des Anodentargetmaterials und der Parameter für den Elektronenstrahlbeschuss kann Messstrahlung in einem gewünschten anderen EUV-Wellenlängenbereich oder in irgend einem anderen Wellenlängenbereich erzeugt werden.
Des weiteren weist die Beleuchtungsquelle eine Beleuchtungsmaske 4 und eine fokussierende Ablenkspiegeleinheit 5 auf. Ein von der Beleuch¬ tungsstrahlquelle 2 gelieferter Beleuchtungsstrahl 3 wird von der Ab¬ lenkspiegeleinheit 5 auf die Beleuchtungsmaske 4 gerichtet, genauer gesagt auf eine Messstruktur 8a, die sich auf einer Seite der Beleuch- tungsmaske 4 befindet und für die verwendete Messstrahlung reflek¬ tierend wirkt. Dazu ist die Beleuchtungsmaske 4 auf der betreffenden Seite mit einer gemäß der gewünschten Messstruktur 8a strukturierten Reflexionsschicht aus einem Material versehen, das für die Messstrah¬ lung, z.B. im EUV-Bereich von 13,5 nm, reflektierend ist, während die Beleuchtungsmaske 4 im übrigen für die Messstrahlung weitestgehend absorbierend ist. Hierfür verwendbare, geeignete Materialien sind an sich bekannt und bedürfen hier keiner näheren Erwähnung. Die Beleuchtungsstrahlquelle 2, die Ablenkspiegeleinheit 5 und die Beleuchtungsmaske 4 bilden somit eine Beleuchtungsquelle, die einen entsprechend der Messstruktur 8a räumlich strukturierten Beleuchtungs- strahl 3a liefert. Dieser Messstrahl 3a kann zur Wellenfrontvermessung des Objektivs 1 durch eine laterale Scherinterferometrietechnik benutzt werden, wozu die als Messmaske fungierende Beleuchtungsmaske 4 mit ihrer Messstruktur 8a vorzugsweise in der Objektebene des Objektivs 1 positioniert wird, während bildseitig ein Beugungsgitter 6, vorzugsweise in der Bildebene des Objektives 1 , und eine Detektor¬ einheit 7 positioniert werden. Mögliche Realisierungen und die Wir¬ kungsweise dieser weiteren Vermessungskomponenten sind auf dem Gebiet der lateralen Scherinterferometrietechnik bekannt und bedürfen daher hier keiner näheren Erläuterung. Der Vermessungsvorgang beinhaltet eine laterale Relativverschiebung von Beleuchtungsmaske 4 bzw. Messstruktur 8a einerseits und Beugungsgitter 6 bzw. der zuge¬ hörigen Beugungsgitterstruktur andererseits. Die entstehenden Inter- ferogramme werden z.B. von einem CCD-Array der Detektoreinheit 7 erfasst und ausgewertet. Dies umfasst z.B. die Bestimmung der Wellen- frontableitungen aus den Interferogrammen und daraus die Rekon¬ struktion der Wellenfront in einer Pupillenebene des Objektives 1.
In den meisten Fällen ist die Ausdehnung der abzubildenden Mess¬ struktur 8a größer als der Durchmesser des auf die Beleuchtungsmaske 4 auftreffenden Beleuchtungsstrahls 3. Um die gesamte Messstruktur 8a abzubilden, wird der Beleuchtungsstrahl 3 abrasternd über die Mess¬ struktur 8a hinweggeführt, z.B. durch entsprechendes Verdrehen der Ablenkspiegeleinheit 5 in einer oder in zwei nicht-parallelen, vorzugs¬ weise orthogonalen Scanrichtungen. Geeignete Scanspiegelanordnungen und Ablenksteuermittel zur Realisierung einer solchen Beleuchtungs¬ strahlführung sind an sich bekannt und bedürfen hier keiner näheren Erläuterung. Für die laterale Scherinterferometrie ist eine über die Messstruktur 8a hinweg im Wesentlichen inkohärente Beleuchtung gefordert, die sich hier dadurch realisieren lässt, dass der Beleuch¬ tungsstrahl 3 fokussiert auf die Messstruktur 8a gerichtet wird. Wenn die Ausdehnung der abzubildenden Messstruktur kleiner als diejenige des Beleuchtungsstrahls ist, kann alternativ zum abrastemden Führen des Beleuchtungsstrahls über die Messstruktur eine vollflächige Beaufschla¬ gung der Messstruktur mit dem Beleuchtungsstrahl vorgesehen sein.
Fig. 2 zeigt schematisch ein System entsprechend Fig. 1 , mit dem Unterschied, dass die Wellenfrontvermessungsvorrichtung als Punkt- beugungsinterferometer ausgelegt ist, wobei für identische oder funktionell äquivalente Elemente der Übersichtlichkeit halber gleiche Bezugszeichen gewählt sind. Entsprechend der Auslegung als Punkt- beugungsinterferometer umfasst die Wellenfrontvermessungsvorrich- tung von Fig. 2 eine Beleuchtungsmaske 4b mit einer reflektierenden Messstruktur 8b in Form eines geeigneten, reflektierenden Pinholemus¬ ters zur Erzeugung eines Beleuchtungsstrahls 3a aus dem auftreffenden Beleuchtungsstrahl 3 sowie ein strahlaufteilendes Beugungsgitter 9 zwischen Beleuchtungsmaske 4b und zu vermessendem Objektiv 1. Im übrigen sind für die Vorrichtung von Fig. 2 die gleiche Beleuchtungs¬ strahlquelle 2 und die gleiche Ablenkspiegeleinheit 5 wie im Beispiel von Fig. 1 verwendbar. Auf der Bildseite des vermessenen Objektives 1 befinden sich in üblicher Weise die weiteren Komponenten eines Punktbeugungsinterferometers, speziell eine geeignete Lochmaske 10 mit einer oder mehreren Pinholes und einer oder mehreren Durchlass¬ öffnungen größeren Durchmessers, wobei die Lochmaske 10 bevorzugt in der Bildebene des Objektives 1 angeordnet ist, gefolgt von der bildaufnehmenden Detektoreinheit 7. Die Punktbeugungsinterferometrie- technik benötigt eine im Wesentlichen kohärente Beleuchtung der Pinhole-Maskenstruktur 8b, was in diesem Fall dadurch realisiert werden kann, dass der Strahl 3 durch die Ablenkspiegeleinheit 5 defokussiert auf die Beleuchtungsmaske 4b gerichtet wird. Wenn wie oben erwähnt für die Wellenfrontvermessungsvorrichtungen der Figuren 1 und 2 als Beleuchtungsstrahlquelle 2 eine Art Röntgen¬ quelle für EUV-Strahlung verwendet wird, ist die Strahlungsemissions- leistung zwar im Vergleich zu typischen Plasmastrahlungsquellen geringer, z.B. im Bereich von bis ca. 100 μW, durch Abbilden des Anodenquellspotts auf eine kleine Fläche der Beleuchtungsmaske kann aber dennoch die für eine laterale Scherinterferometriemessung oder Punktbeugungsinterferometriemessung nötige Intensität bereitgestellt werden.
Fig. 3 zeigt eine weitere Variante einer Wellenfrontvermessungsvorrich- tung z.B. für den EUV-Wellenlängenbereich mit spezieller Beleuchtungs¬ quelle. Bei dieser Vermessungsvorrichtung umfasst die Beleuchtungs- quelle eine Elektronenstrahlquelle 11 , die z.B. von einer Kathoden- Baugruppe einer kommerziell erhältlichen Röntgenröhre gebildet sein kann, eine herkömmliche Elektronenstrahl-Ablenkeinheit 12 und eine Beleuchtungsmaske 4c, die als Anode der Elektronenstrahlquelle 11 fungiert und zu diesem Zweck mit einer geeigneten Anoden-Target- materialschicht 8c versehen ist. Das Targetmaterial dieser Schicht 8c ist so gewählt, dass es bei Beschuss mit einem von der Elektronen¬ strahlquelle 11 und der Ablenkeinheit 12 gelieferten Elektronenstrahl 13 Messstrahlung im gewünschten Wellenlängenbereich als Messstrahl 3a emittiert. Zur Bereitstellung von Messstrahlung im Bereich von 13,5 nm eignet sich dazu beispielsweise eine Beschichtung mit Silizium. Eine Blende 14 sorgt für eine Strahlwinkelbegrenzung des Messstrahls 3a und für eine Abschirmung von störender Streustrahlung.
Für die Realisierung der Anoden-Targetmaterialschicht 8c gibt es zwei wesentlich unterschiedliche Möglichkeiten. In einer ersten Variante ist sie als strukturierte Schicht in Form der gewünschten Messstruktur zur
Durchführung der gewählten Wellenfrontvermessung des Objektivs 1 auf die Beleuchtungsmaske 4c aufgebracht. Diejenigen Strukturbereiche, welche die Messstrahlung emittieren sollen, sind mit dem entsprechen¬ den Anodenmaterial, z.B. Silizium für EUV-Strahlung 13,5 nm, belegt, während die übrigen Bereiche aus einem Material bestehen, das im Wellenlängenbereich der Messstrahlung nicht emittiert. Das ist auf zwei inverse Weisen im Sinne eines Positiv- bzw. Negativbildes möglich. Für das Material, welches die Messstrahlung nicht emittiert, ist es günstig, wenn es innerhalb des gesamten Reflexionsbandes von Spiegelschich¬ ten nicht emittiert, mit denen in einem Objektiv für EUV-Strahlung üblicherweise vorhandene Spiegel belegt sind. Zur Verdeutlichung ist in Fig. 3 ein solcher herkömmlicher Spiegelaufbau für das zu vermessende Objektiv 1 schematisch gezeigt.
Eine zweite, alternative Realisierung der Targetmaterialbeschichtung 8c besteht darin, sie ganzflächig, d.h. homogen ohne Strukturierung, auf der Beleuchtungsmaske 4c vorzusehen und die gewünschte Mess¬ struktur durch den Elektronenstrahl 13 in diese unstrukturiert flächige Targetmaterialschicht 8c zu schreiben. In diesem Fall steuert die Ablenkeinheit 12 den Elektronenstrahl 13 anhand von z.B. digital vorlie- genden Messstrukturdaten so an, dass er in einer der gewünschten Messstruktur entsprechenden Auftreffstruktur auf die ganzflächige Targetmaterialbeschichtung 8c auftrifft, d.h. der auftreffende Strahlfleck bewegt sich gezielt entlang derjenigen Bereiche der gewünschten Messstruktur, welche die Messstrahlung emittieren soll. In diesem Sinn kann dieser Beleuchtungsbetriebsmodus auch als maskenlose Beleuch¬ tungsart bezeichnet werden. Für die homogene Anoden-Targetmaterial- beschichtung eignen sich die gleichen Materialien wie die oben zu den anderen Ausführungsbeispielen genannten Targetmaterialien. Diese Realisierung mit homogener Targetmaterialbeschichtung ist praktisch frei von thermischen Problemen, da die Maskenstruktur allein durch den Elektronenstrahl 13 und dessen ablenkender Führung durch die Ablenkeinheit 12 definiert ist. Ein besonderer Vorteil der letztgenannten Variante mit homogener Anoden-Targetmaterialbeschichtung der Beleuchtungsmaske 4c liegt darin, dass die Strahlungsemittierende Messstruktur lateral, d.h. in einer Ebene senkrecht zu einer in Fig. 3 gestrichelt angedeuteten optischen Achse 15 des Systems, verschoben werden kann, ohne dass dazu mechanische Teile, insbesondere die Beleuchtungsmaske 4c, bewegt werden müssen. Vielmehr kann die Messstrukturverschiebung allein dadurch bewerkstelligt werden, dass die Ablenkeinheit 12 den Elektronenstrahl 13 zum entsprechend versetzten Schreiben der Auf¬ treffstruktur ansteuert, d.h. der Elektronenstrahl 13 schreibt eine ent- sprechend verschobene Messstruktur auf die homogene Targetmaterial- beschichtung 8c. Dies lässt sich insbesondere dazu ausnutzen, eine laterale Messstrukturverschiebung zum Phasenschieben bei der Wellen- frontvermessung z.B. durch laterale Scherinterferometrie zu realisieren. Die ansonsten notwendige aktive Verschiebung der die Messstruktur tragenden Maske, wie der Beleuchtungsmaske 4c, kann dadurch ent¬ fallen.
Wie in Fig. 3 des weiteren angedeutet, ist die Elektronenstrahlquelle 11 zusammen mit der Ablenkeinheit 12 und dem Objektiv 1 in einer gemeinsamen Ultrahochvakuumkammer 16 untergebracht und kann auf diese Weise auch in eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage integriert sein. Die Beleuchtungsmaske 4c befindet sich dann in einer üblichen Retikelstage, während auf der Bildseite des Projektionsob¬ jektivs 1 an die UHV-Kammer 16 eine übliche Waferstage 17 anschließt. Für Wellenfrontmessungen können eine oder mehrere bildseitige Komponenten der Wellenfrontvermessungsvorrichtung auf der Wafer¬ stage 17 angeordnet werden, z.B. ein Beugungsgitter und/oder eine Detektoreinheit. In vielen Fällen ist eine Vollfeldvermessung eines Prüflings, z.B. des in den gezeigten Beispielen stellvertretend für andere mögliche Prüflinge betrachten Mikrolithografie-Projektionsobjektivs 1 , gewünscht. Um dies mit der erfindungsgemäßen Beleuchtungsquelle zu ermöglichen, die auf einem Beschuss eines geeigneten Targetmaterials durch einen Teil¬ chenstrahl, wie einen Elektronen- oder lonenstrahl, basiert, können geeignete Bewegungsfreiheitsgrade für den Prüfling, für die Beleuch- tungs- oder Teilchenstrahlquelle und/oder für andere Komponenten der Beleuchtungsquelle vorgesehen sein, um den Messstrahl sukzessive über das gesamte Feld hinweg zu führen. Dies vermeidet eine inten- sitätsschwächende Aufweitung des Messstrahls, der bei diesem Mess- strahlerzeugungsprinzip typischerweise einen relativ kleinen Durch¬ messer hat. Auf diese Weise sind auch Strahlquellen mit relativ geringer Strahlungsleistung verwendbar, insbesondere auch solche, die auf einem konventionellen Röntgenröhrenprinzip basieren.
In den Figuren 4 bis 7 sind verschiedene Möglichkeiten zur Realisierung der für Vollfeldmessungen erforderlichen Bewegungsfreiheitsgrade anhand entsprechender Ausführungsbeispiele gezeigt, wobei der Über- sichtlichkeit halber für identische oder funktionell äquivalente Elemente gleiche Bezugszeichen verwendet sind.
Fig. 4 zeigt ein Ausführungsbeispiel, bei dem der Prüfling 1 um eine zu seiner optischen Achse parallele Drehachse 18 von einer zugehörigen Halterung 19 drehbeweglich gehalten ist, wie durch einen Drehpfeil D1 symbolisiert. Die gesamte Beleuchtungsquelle der zugeordneten WeI- lenfrontvermessungsvorrichtung ist auf einer Schlittenhalterung 20 linear in einer lateralen, d.h. zur Prüflingsdrehachse 18 senkrechten Richtung verfahrbar angeordnet, wie durch einen Verschiebepfeil T1 symbolisiert. Die Wellenfrontvermessungsvorrichtung kann z.B. derjenigen von Fig. 1 entsprechen, wobei die Beleuchtungsstrahlquelle bzw. Röntgenröhre 2, die Beleuchtungsmaske 4a und die Ablenkspiegeleinheit 5 durch geeig- nete, nur teilweise schematisch gezeigte Tragelemente an der verfahr¬ baren Schlittenhalterung 20 gehalten sind. Durch lineares Verfahren der Beleuchtungsquelle kann der von ihr gelieferte Messstrahl 3a in radialer Richtung über das Prüflingsfeld geführt werden. In Kombination mit dem Drehen des Prüflings 1 wird die gewünschte Vollfeldmessung erzielt, d.h. die Messung an allen Feldpunkten. Bildseitig befinden sich die zugehörigen weiteren Vermessungskomponenten wie Beugungsgitter 6 und Detektoreinheit 7.
Im Ausführungsbeispiel von Fig. 5 ist der Prüfling 1 ortsfest in einer Halterung 21 fixiert. Hingegen sind die Beleuchtungsstrahlquelle 2, die Ablenkspiegeleinheit 5 und die Beleuchtungsmaske 4a einer Beleuch¬ tungsquelle der zugehörigen Wellenfrontvermessungsvorrichtung dreh¬ beweglich um eine zur optischen Achse des Prüflings 1 parallele, erste Drehachse 18a an einer Drehhalterung 22 gehalten, wie durch einen Drehpfeil D2 symbolisiert. Damit kann der Messstrahl 3a in Drehrichtung über das Prüflingsfeld geführt werden. Die für eine Vollfeldmessung noch fehlende radiale Führung des Messstrahls 3a über das Prüflings¬ feld wird dadurch bewerkstelligt, dass die Ablenkspiegeleinheit 5 zusätzlich um eine zur ersten Drehachse 18a senkrechte, zweite Drehachse 18b drehbeweglich angeordnet ist, wie durch einen Drehpfeil D3 angedeutet. Im übrigen entspricht die Wellenfrontvermessungs- vorrichtung von Fig. 5 derjenigen von Fig. 4.
Fig. 6 zeigt ein Ausführungsbeispiel, bei dem der Prüfling 1 an der Halterung 21 fixiert und zudem auch die Beleuchtungsstrahlquelle 2 und die Beleuchtungsmaske 4a ortsfest gehalten sind. Um den Messstrahl 3a über das volle Prüflingsfeld zu führen, sind in diesem Fall zwei in orthogonalen Richtungen strahlablenkend arbeitende Ablenkspiegel- einheiten vorgesehen. Dazu ist die Ablenkspiegeleinheit 5 wie im Beispiel von Fig. 5 als eine Scanspiegeleinheit um die Drehachse 18b senkrecht zur optischen Achse des Prüflings 1 drehbeweglich ange- ordnet. Von dieser Ablenkspiegeleinheit 5 wird der Beleuchtungsstrahl 3 auf eine zweite Ablenkspiegeleinheit 5a reflektiert, die um eine zur optischen Achse des Prüflings 1 parallele Drehachse 18c drehbeweglich angeordnet ist, wie durch einen Drehpfeil D4 symbolisiert. Insgesamt kann dadurch der Messstrahl 3a abrasternd in zwei zueinander senk¬ rechten Richtungen über das Prüflingsfeld geführt werden. Im übrigen entspricht die gezeigte Wellenfrontvermessungsvorrichtung von Fig. 6 derjenigen von Fig. 5.
Fig. 7 zeigt eine Variante des Ausführungsbeispiels von Fig. 6, die sich von diesem darin unterscheidet, dass die Beleuchtungsstrahlquelle 2 nicht ortsfest, sondern um eine zur optischen Achse des Prüflings 1 parallele Drehachse 18d drehbeweglich gehalten ist, wie mit einem Drepfeil D5 symbolisiert. Die Bereitstellung dieses zusätzlichen Bewegungsfreiheitsgrades hat den Effekt, dass für die beiden Scan¬ spiegeleinheiten 5, 5a ein verringerter Ablenkhub, d.h. ein geringerer Schwenkwinkelbereich, ausreicht.
Wie aus den obigen, beispielhaft erläuterten Ausführungsformen der Figuren 4 bis 7 deutlich wird, kann erfindungsgemäß eine Vollfeld¬ vermessung eines Prüflings unabhängig vom jeweiligen Messverfahren auf unterschiedliche Weise erzielt werden, z.B. durch Drehen des Prüflings in Kombination mit einem linearen Verschieben der Beleuch¬ tungsquelle, durch Drehen der Beleuchtungs-/Teilchenstrahlquelle um eine zur optischen Achse des Prüflings parallele Drehachse in Kombination mit einer Drehung eines Scanspiegels um eine dazu orthogonale Achse, durch Verwenden einer Anordnung mit zwei Scanspiegeln für zwei senkrechte oder allgemein nicht-parallele Scan¬ richtungen oder durch zwei derartige Scanspiegel mit verringertem Schwenkwinkelbereich in Kombination mit einer drehbeweglichen An¬ ordnung der Beleuchtungs-/Teilchenstrahlquelle und/oder des Prüflings. Die gezeigten und beschriebenen Wellenfrontvermessungsvorrichtun- gen eignen sich außer zur Bestimmung anderer Abbildungsfehler insbesondere auch zur Bestimmung von Bildschale und Verzeichnung eines Mikrolithografie-Projektionsobjektivs. Die Messung von Bildschale und Verzeichnung kann z.B. auf eine Messung der Zernike-Koeffizienten Z2, Z3 und/oder Z4 für die einzelnen Feldpunkte und eine Kalibrierung dieser Feldpunkte zurückgeführt werden. Die Kalibrierung umfasst eine Messung der Relativbewegung beim Verschieben bzw. Drehen der be¬ weglichen Systemkomponenten und eine Messung des Abstands zwi- sehen Strukturelementen der Messstruktur, z.B. zwischen den Pinholes einer Pinhole-Struktur für Punktbeugungsinterferometrie oder zwischen Strukturelementen einer Messstruktur für laterale Scherinterferometrie.
Es versteht sich, dass es bei sämtlichen oben genannten Bewegungen und Bewegungsfreiheitsgraden jeweils nur auf die relative Bewegung der beteiligten Komponenten ankommt, d.h. es können je nach Bedarf nur die eine oder nur die andere oder beide Komponenten aktiv bewegt werden. Des weiteren versteht sich, dass sich die Erfindung nicht nur für Wellenfrontvermessungsvorrichtungen eignet, die mit lateraler Scher- interferometrie oder Punktbeugungsinterferometrie arbeiten, sondern auch für solche, die auf einem anderen herkömmlichen Wellenfront- vermessungsprinzip basieren, z.B. dem Shack-Hartmann-Prinzip. Dabei kann je nach Wunsch die Vermessung mit einer Messstrahlung, die in ihrem Wellenlängenbereich der Arbeits- bzw. Nutzstrahlung entspricht, mit welcher der vermessene Prüfling in seinem normalen Funktions¬ einsatz arbeitet, oder mit einer davon verschiedenen Messstrahlung erfolgen. Speziell ist die Erfindung auch zur Wellenfrontvermessung von optischen Abbildungssystemen für Lithografiesysteme im EUV-Wellen- längenbereich geeignet.

Claims

Patentansprüche
1. Beleuchtungsquelle zur Bereitstellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, mit folgenden Merkmalen:
- einer Teilchenstrahlquelle (11 ) zur Erzeugung eines Teilstrahls (13) und
- einer Beleuchtungsmaske (4c) mit einer Struktur aus einem Targetmaterial (8c), das bei Teilchenbeschuss durch den Teilchenstrahl die Beleuchtungsstrahlung emittiert.
2. Beleuchtungsquelle nach Anspruch 1 , weiter gekennzeichnet durch eine Teilchenstrahlführungseinheit (12) zum Führen des Teilchen¬ strahls über die Targetmaterialstruktur der Beleuchtungsmaske.
3. Beleuchtungsquelle zur Bereitstellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, mit folgenden Merkmalen:
- einer Teilchenstrahlquelle (11) zur Erzeugung eines Teilchen¬ strahls (13),
- einer Beleuchtungsmaske (4c) mit einer unstrukturierten Flächenbelegung aus einem Targetmaterial (8c), das bei Beschuss mit dem Teilchenstrahl die Beleuchtungsstrahlung emittiert, und
- einer Teilchenstrahlführungseinheit (12) zum Führen des Teil¬ chenstrahls über die Beleuchtungsmaske gemäß einer vorgeb¬ baren Auftreffstruktur.
4. Beleuchtungsquelle nach Anspruch 3, weiter dadurch gekennzeich¬ net, dass die Teilchenstrahlführungseinheit dafür eingerichtet ist, den Teilchenstrahl während zeitlich versetzter Beleuchtungsvor- gänge mit vorgebbarer räumlicher Verschiebung der Auftreffstruktur auf die Beleuchtungsmaske zu richten.
5. Beleuchtungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 4, weiter dadurch gekennzeichnet, dass das Targetmaterial die Beleuch¬ tungsstrahlung im EUV-Wellenlängenbereich emittiert.
6. Beleuchtungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 5, weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Teilchenstrahlquelle eine Elek- tronenstrahlquelle ist.
7. Vorrichtung zur optischen Wellenfrontvermessung eines Prüflings (1), insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, mit einer Beleuch¬ tungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur Bereitstellung räumlich strukturierter Beleuchtungsstrahlung als Messstrahlung.
8. Vorrichtung zur optischen Wellenfrontvermessung eines Prüflings (1), mit einer Beleuchtungsquelle zur Bereitstellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, die als Messstrahlung fungiert, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, wobei die Beleuch¬ tungsquelle folgende Komponenten beinhaltet:
- eine Beleuchtungsstrahlquelle (2) zur Bereitstellung eines Beleuchtungsstrahls (3),
- eine Beleuchtungsmaske (4a), die eine für die Beleuchtungs¬ strahlung reflektive oder transmittive Messstruktur (8a) auf¬ weist, und
- eine Beleuchtungsstrahlführungseinheit (5), um den Beleuch¬ tungsstrahl in einer oder in zwei nicht-parallelen Richtungen ablenkbar über die Messstruktur zu führen.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Beleuchtungsstrahlführungseinheit darauf ausgelegt ist, den Beleuchtungsstrahl (3) als im Wesentlichen kohärente Strahlung defokussiert oder als im Wesentlichen inkohärente Strahlung fokus- siert auf die Beleuchtungsmaske zu richten.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass sie zur optischen Wellenfrontvermessung eines optischen Abbildungssystems, insbesondere eines Mikrolithografie- Projektionsobjektivs, eingerichtet ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass eine Einrichtung zur drehbeweglichen Halterung des Prüflings und/oder der Beleuchtungs-/Teilchenstrahlquelle um eine optische Systemachse (18) vorgesehen ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11 , dadurch gekenn¬ zeichnet, dass die Beleuchtungs-/Teilchenstrahlführungseinheit einen oder zwei drehbewegliche Ablenkspiegeleinheiten (5, 5a) beinhaltet, um den Beleuchtungs- oder Teilchenstrahl in einer oder zwei nicht-parallelen Richtungen abzulenken.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass die Beleuchtungs- oder Teilchenstrahlquelle relativ zum Prüfling mit einer zu einer optischen Systemachse (18) senk¬ rechten Richtungskomponente (T1) verschiebbar ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass sie zur Messung wenigstens eines der Abbildungs¬ fehler Verzeichnung und Bildschale eingerichtet ist, wobei die Messungen für verschiedene Feldpunkte zueinander kalibriert werden.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 14, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass sie zur Wellenfrontvermessung des Prüflings mit einer lateralen Scherinterferometrietechnik oder einer Punktbeu- gungsinterferometrietechnik eingerichtet ist.
16. Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem Beleuch¬ tungssystem und einem Projektionsobjektiv, dadurch gekennzeichnet, dass
— die Beleuchtungsquelle eine solche nach einem der Ansprüche 1 bis 6 ist und/oder
- eine Wellenfrontvermessungsvorrichtung nach einem der An¬ sprüche 7 bis 15 in die Projektionsbelichtungsanlage integriert ist.
17. Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die integrierte Wellenfrontvermes- sungsvorrichtung Teil eines Regelkreises zur Einregelung des Projektionsobjektivs und/oder der Beleuchtungsquelle ist.
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