WO2005033120A1 - Method for producing carbapenem derivative - Google Patents

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WO2005033120A1
WO2005033120A1 PCT/JP2004/014877 JP2004014877W WO2005033120A1 WO 2005033120 A1 WO2005033120 A1 WO 2005033120A1 JP 2004014877 W JP2004014877 W JP 2004014877W WO 2005033120 A1 WO2005033120 A1 WO 2005033120A1
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WO
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group
carbon atoms
alkyl group
substituted
lower alkyl
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Application number
PCT/JP2004/014877
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French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Takaji Matsumoto
Mitsuhiko Fujiwhara
Hideki Nara
Shinya Yamada
Original Assignee
Takasago International Corporation
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D477/00Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
    • C07D477/02Preparation
    • C07D477/04Preparation by forming the ring or condensed ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1892Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6561Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing systems of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring or ring system, with or without other non-condensed hetero rings
    • C07F9/65611Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing systems of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring or ring system, with or without other non-condensed hetero rings containing the ring system (X = CH2, O, S, NH) optionally with an additional double bond and/or substituents, e.g. penicillins and analogs
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a novel method for producing a carbane derivative.
  • Non-patent Document 1 Non-patent Document 1; see below for literature
  • Power Since it was reported to have a broad antibacterial spectrum and strong antibacterial activity, various carbamates useful as antibacterial agents have been reported. Nem compounds have been reported. The power of the skeleton
  • Non-Patent Document 2 Compounds in which a methylene group is substituted by an alkyl group, particularly 1] 3 monomethylcarbamate Penem derivatives (Non-Patent Document 2) have been reported to be extremely useful as antibacterial agents because of their excellent stability against the renal enzyme, dehydropeptidase Z-I. There has been much interest in developing effective methods of producing penem compounds.
  • r 1 is a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group
  • R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 2 is a protecting group for a carboxy group
  • r 2 is a leaving group
  • the method of Reaction Scheme 3 is manufactured in a relatively short process, but requires the use of large quantities of ignitable reagents such as NaH, or a method such as LDA (lithium diisopropyramide). It is necessary to operate at a very low temperature of ° C, which is not an industrial method.
  • ignitable reagents such as NaH
  • LDA lithium diisopropyramide
  • Patent Document 1 JP-A-57-123 1 18 2
  • Patent Document 2 JP-A-6-321946
  • Patent Document 3 JP-A-62-103084
  • Non-Patent Document 1 J. Am. Chem. Soc., 100, 3 13 (1 978)
  • Non-Patent Document 2 Heterocycles., 21 1, 29 (1 984) In such a situation, A safe and suitable method for large-scale synthesis has been desired. Disclosure of the invention
  • the present inventors have conducted intensive studies on an industrially advantageous method for producing a carbazine compound represented by the above general formula (B), which is useful as an intermediate for the synthesis of a carbane compound, and consequently found the present invention. completed.
  • a azetidinone derivative represented by the following general formula (3) is reacted in the presence of a magnesium compound represented by the following general formula (7), and then treated with an active ester agent for a hydroxyl group.
  • R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
  • R 5 represents a protecting group for a carbonyl group.
  • Y represents an active ester group, an arylthio group optionally having a substituent, a heteroarylthio group optionally having a substituent, an aralkylthio group optionally having a substituent, represents the a good Ariruokishi group optionally terrorism ⁇ reel O carboxymethyl group into but it may also have a substituent or N (R a) group represented by S 0 2 R b,.
  • R a is an alkyl group, an alkenyl group, an organosilyl group, an aryl group optionally having a substituent, an aralkyl group optionally having a substituent, or an alicyclic group optionally having a substituent; Represents a formula group.
  • R b represents an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.
  • R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • 5- to 8-membered ring An alicyclic group of (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenol group which may be substituted with a halogen atom, (5) a carbon atom of 1 A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, ( 7) halogen atom, (8) methanesulfo-loxy group, (9) benzenesulfonoleoxy group, (10)
  • R 1 Represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent.
  • R 1 to R 5 are as defined above.
  • L represents an active ester group of a hydroxyl group.
  • R 1 and R 2 may be the same or different and each is a hydrogen atom or lower alkyl Represents a group.
  • R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
  • R 5 is a protecting group for a carboxyl group.
  • R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 1 ° represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a benzyl group which may have a substituent.
  • n and n are 0 or 1 and m ⁇ n.
  • the azetidinone derivative represented by the following general formula (3) is reacted in the presence of a magnesium compound represented by the following general formula (7), and the azetidinone derivative represented by the following general formula (4) is reacted.
  • R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkynole group.
  • R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
  • R 5 represents a carboxyl-protecting group.
  • Y represents an active ester group, an arylthio group optionally having a substituent, a heteroarylthio group optionally having a substituent, an aralkylthio group optionally having a substituent, Represents an aryloxy group which may be possessed, a heteroaryloxy group which may be substituted, or a group represented by N (R a ) S 0 2 R b .
  • R a is an alkyl group, an arylalkyl group, an organosilyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or an optionally substituted aliphatic group; Represents a cyclic group. .
  • R b represents an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.
  • R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 1 Represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent.
  • R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group
  • R 4 represents a protecting group for a hydroxyl group.
  • R 5 represents a carboxyl-protecting group.
  • R 8 represents (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms. (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted by a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1 to 4 carbon atoms A lower alkoxy group having 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom which are substituted.
  • a benzyl group, or (6) a dianolexy / reamino group substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R represents (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group optionally having 1 to 4 carbon atoms.
  • a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fuel group which may be substituted with a halogen atom, (5) a carbon atom.
  • R 1 ° represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a benzyl group which may have a substituent.
  • n and n are 0 or 1 and m ⁇ n.
  • the magnesium compound represented by the general formula (7) is methylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide, methylmagnesium moxide, methylmagnesium methanesulfonate, methylmagnesium tert. — Butoxide, ethynolemagnesium chloride, ethynolemagnesium bromide, ethynolemagnesium mozide, ethynolemagnesium methanesnolehonate, ethynolemagnesium te rt-butoxide,
  • the present invention provides a 1i3-methylcanolevanem derivative, which is suitably used for the production of a carpanem antibiotic useful as an antibacterial substance, under mild conditions and in a short process with high yield. It has a remarkable effect in that it provides a method of manufacturing.
  • the method of the present invention for producing a carbapenem compound is carried out, for example, according to the following reaction.
  • 1 and 12 may be the same or different and each is a hydrogen atom or a lower alkyl group;
  • R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group;
  • R 4 is a hydrogen atom
  • R 5 is a carboxyl-protecting group;
  • R 8 is (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted by a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms An alkoxy group, a phenyl group which may be substituted by a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom which may be substituted A benzy
  • L represents a hydroxyl group M and n are 0 or 1 and m ⁇ n. ]
  • a azetidinone derivative (3) obtained by reacting an azetidinone compound (1) with an acetate derivative (2) is cyclized with a magnesium compound (7) to produce a carbazinem derivative (4).
  • an active esterifying agent By treating it with an active esterifying agent, the compound of formula (5) is obtained.
  • R 1 and R 2 may be the same or different.
  • a hydrogen atom or a lower alkyl group include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a Examples thereof include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a butyl group and a tert-butyl group.
  • Preferred R 1 and R 2 include a hydrogen atom and a methyl group.
  • R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • the lower alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butynole group, isobutyl group, sec-butyl group And a tert-butynole group, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Preferred R 3 includes a hydrogen atom and a methyl group.
  • R 4 is a protecting group for a hydrogen atom or a hydroxyl group.
  • a protecting group for a hydroxyl group for example, those used in the fields of peptide chemistry and ratatum compounds can be used.
  • hydroxyl-protecting group examples include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a dimethylisopropylsilyl group, a dimethylisopropylsilyl group, a dimethyl (2,3-dimethyl-2-butynole) silyl group, and tert-butyl.
  • Di-carbon 1 to 6 alkylsilyl groups such as dimethylsilyl group and dimethylhexylsilyl group
  • di-carbon 1 to 6 alkyl alkyl groups such as dimethylcumylsilyl group—C 6 to 18 arylsilyl group, tert-butyldiphene 6 to 18 aryl carbons, such as -silyl group and diphenylmethylsilyl group, 1 to 6 aryl carbon atoms, 1 to 6 alkyl silyl groups, triphenylsilyl group, etc., 6 to 18 aryl carbon groups, tribenzylsilyl group , Tree p-xylylsilyl group, etc.
  • Tri-substituted silyl groups such as benzyl, 4-methoxybenzyl, 2-nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, etc.
  • C 1-4 alkoxy groups for example, methoxy, ethoxy, Etc.
  • 1 to 3 halogen atoms for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.
  • 1 to 4 alkylsilyl having a tree carbon number for example, trimethinolesilinole group, etc.
  • Alkyloxycarbonyl groups having 1 to 6 carbon atoms which may be mentioned, for example, benzyloxycarbinole group, 2-2 trobenzyloxycarbonyl group, 412-nitrobenzyloxycarbonyl group 1 to 4 alkoxy groups such as a 4-methoxypentinoleoxycanoleboninole group and a 3,4-dimethoxypentinoleoxycarbonyl group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.) Or 1 to 3 carbon atoms, which may be substituted with 1 to 3 nitro groups, 7 to 10 aralkyloxycarbonyl groups; for example, 2 to 6 alkenyl carbon atoms such as a buroxycarboenole group and an aryloxycarbol group Oxycarbonyl group; for example, formyl group, acetyl group, chloroacetyl group, dichloroacetyl group, trichloroacetyl group, trifluoroacetyl group, pro
  • R 4 is a C 7 to C 19 aralkyloxycarbol group (for example, a benzyloxycarbonyl group, a 4-to-12-port benzyloxycarbol group, etc.), a carbon number 2 Alkenyloxycarbonyl group (e.g., aryloxycarbonyl group, etc.), tri-C.sub.1-6 alkylsilyl group, etc., more preferably, tert-butyldimethylsilyl group, etc. .
  • aralkyloxycarbol group for example, a benzyloxycarbonyl group, a 4-to-12-port benzyloxycarbol group, etc.
  • a carbon number 2 Alkenyloxycarbonyl group e.g., aryloxycarbonyl group, etc.
  • tri-C.sub.1-6 alkylsilyl group etc., more preferably, tert-butyldimethylsilyl group, etc.
  • R 5 is a protecting group for a carboxyl group, and is generally used as a protecting group for a carboxy group.
  • the number of carbon atoms such as a methyl group, an ethylene group, an isopropyl group, and a t-butyl group
  • Lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as 2-hydroxyethyl group and 2,2,2-trichloroethyl group
  • lower aliphatic acetyl A substituted or unsubstituted lower alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, such as an aryl group, a 2-methylaryl group, a 3-methylaryl group, or a 3-phenylarinole group; a benzyl group, p- or o-diphenyl And substituted or unsubstituted monoarylalkyl groups such as benzyl group and p-hydroxybenzoyl group.
  • X is a halogen atom or an active ester group of a hydroxyl group; examples of the halogen atom include chlorine, bromine, and iodine; and examples of the active ester group of the hydroxyl group include benzene.
  • Substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy groups such as sulfonyloxy group, p-toluenesolephonyloxy group, p-toluene benzenesulfonyloxy group, ⁇ -promobenzensulfoeroxy group, methanesnoleonylo C1-C4 lower alkylsulfonyloxy such as xy group, ethanesulfonyloxy, etc.Halogeno lower alkenylsulfonyl C1-C4 such as methanesolephoninoleoxy, etc.
  • Xyl groups and the like can be mentioned.
  • Preferred X includes a halogen atom.
  • Y represents an active ester group, an arylthio group which may have a substituent, an arylarylthio group which may have a substituent, an aralkylthio group which may have a substituent, An aryloxy group which may have a group, a heteroaryloxy group which may have a substituent, or a group represented by N (R a ) S ⁇ 2 R b (R a is Alkyl group, alkyl group, organosilyl group, aryl group optionally having substituent (s), aralkyl group optionally having substituent (s), or alicyclic group optionally having substituent (s) R b is an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.).
  • Y is an active ester group
  • examples thereof include a heteroaryl group such as an imidazole group and a triazole group; an N-succiimidoxy group; Cyclic imidooxy groups such as a dooxy group and a benzotriazolyloxy group; and heterocyclic alkyl groups such as a 3- (2-thioxo) thiazolidyl group.
  • arylthio group which may have a substituent
  • examples thereof include a phenyl group, a halognofer group substituted with 1 to 3 halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine, p- or o-nitrophene. And p-methoxyphenyl group.
  • a heteroarylthio group which may have a substituent, for example, 2-, 3- or 4-pyridyl group, 2-pyrimidyl group, 2_ (4,6-dimethyl) pyrimidinole group, etc. No.
  • aralkylthio group which may have a substituent, for example, benzyl group, ⁇ -methoxybenzyl group, 2,4-dimethoxybenzyl group, p- or o-ethoxybenzyl group; And substituted or unsubstituted monoarylalkyl groups such as benzyl group.
  • aryloxy group which may have a substituent, for example, p- or o-ditropheninoleoxy group, 2,4-di-mouth phenoxy group, 1-3 chlorine, bromine, iodine And a halognophenyloxy group substituted with a halogen atom.
  • heteroaryloxycarboyl group which may have a substituent, examples thereof include a 2-, 3- or 4-pyridyloxy group.
  • R a is an alkyl group, a alkenyl group, an organosilyl group, an aryl group which may have a substituent
  • R b is an alkyl group which may have a substituent or an alicyclic group which may have a substituent; or an alicyclic group which may have a substituent
  • specific examples of Ra as an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a —Alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexinole, heptinole, octinole, no
  • phenol group examples include alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms, such as butyl, aryl, 1-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 2-methylaryl, and the like.
  • organosilyl group examples include, for example, trimethylsilyl group, triethylisopropylsilyl group, dimethyl (2,3-dimethyl-12-butyl) silyl group, tert-butyldimethylsilyl group, dimethylhexylsilyl group and the like.
  • 6 to 18 carbon atoms 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms, 6 to 18 carbon atoms, such as triphenylsilyl group, 6 to 18 carbon atoms, 6 to 18 reel silyl group, tribenzylsilyl group, tree; And trisubstituted silyl groups such as aralkylsilyl groups.
  • specific examples of the aryl group include a phenyl group, an a-naphthyl group, a -naphthyl group and a phenanthryl group.
  • substituents include a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propynole group, an isopropynole group, a butynole group, an isobutynole group, a sec-butynole group, and a tert-butyl group.
  • aralkyl group which may have a substituent
  • specific examples of the aralkyl group include a benzyl group, an a-phenylethyl group, a / 3-phenylethyl group, a phenylpropyl group, and a 3-phenylpropyl group.
  • examples thereof include an aralkyl group having 6 to 13 carbon atoms, such as a phenylpropyl group, a ⁇ -phenylpropyl group, and a naphthylmethyl group.
  • specific examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
  • alicyclic group in the alicyclic group which may have a substituent include a 5- to 8-membered alicyclic group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclootatyl group.
  • substituent include a cyclic group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • Examples of the lower alkyl group of the formulas 1 to 4 can be given.
  • Preferred Ra is a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a tert-butyl group; a benzyl group, a monophenyl group, and a naphthylethyl group.
  • Rb as an alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 11-pentyl group
  • alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as isopentyl group, neopentyl group, hexinole, heptyl, octyl, noel, decyl, pendecyl, dodecyl and the like.
  • aryl group which may have a substituent
  • specific examples of the aryl group include a phenyl group, an ⁇ -naphthyl group, a 3-naphthyl group, a phenanthryl group and the like.
  • substituents include a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group, Methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy
  • Examples thereof include a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as an xy group and a tert-butoxy group, a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine, and a nitro group.
  • R b is a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and a tert-butyl group; a substitution such as a phenyl group, a trinole group and a naphthyl group; Examples thereof include an aryl group having 5 to 10 carbon atoms which may have a group.
  • Suitable Y, active esters which may have a substituent Ariruchio force Ruponiru group, to which may have a substituent hetero arylthiocarbonyl group, with N (R a) S 0 2 R b And the groups represented.
  • the active ester group of a hydroxyl group represented by L is an ester group derived by a reaction between a hydroxyl group and an active esterifying agent, and specifically, a substituted or unsubstituted aryl sulfone.
  • Acid ester group substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy group
  • benzenesulfonic acid ester group for example, benzenesulfonic acid ester group, monotoluenesulfonic acid ester group, ⁇ -nitrobenzenesulfonic acid ester group, p-bromobenzenesulfonic acid ester group, etc.
  • Lower alkane sulfonate group lower alkane sulfo-loxy group
  • methane sulphonate group, ethane sulphonate group, etc. nodogeno lower alkane sulfonate group (halogen dialkane sulphonyloxy group) Group
  • Di-lower alkylphosphoric acid ester group di-lower alkylphosphoryloxy group
  • dimethylphosphoric acid ester group getyl
  • an active esterifying agent for a hydroxyl group is an agent which reacts with a carbane derivative (4) to produce an active ester as described above.
  • the active esterification reagents that can be specifically used include benzenesulfonuric oleide, p-tonolene snolephoninolek oleide, anhydrous p-tonoleensenolenoic acid, and nitrosone benzenesnolefonizolek Mouth lid, p-Promobenzenes-nolephoninolechloride, Methanesnolehoninolek mouth, Ethans-norehoninolek mouth, Trifnoreo mouth Methanesulfonylk mouth-lid, Methanesulfonic anhydride, Trifluoromethane anhydride Snorrephonic acid, dimethinolechlorophosphate, getinolechlorophosphate, di (trichloroethynole) chlorophosphate, diphenyl / lechlorophosphate, g-chlorophenyl
  • R 8 represents (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) An alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted with a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted by a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom An optionally substituted benzyl group, or (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 9 is (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group
  • R 8 examples include (1) methyl, ethyl, propyl, isopropynole, butynole, isobynole, sec-petitinole, tert-butynole, pentinole, hexyl, heptyl, octinole, noel, decyl, pendecyl, C1 to C12 alkynole groups such as dodecyl; (2) C2 to C4 alkynyl groups such as butyl, aryl, 1-propyl, isopropyl, 1-butyl, 2-butenyl, 2-methylaryl, etc.
  • Alkenyl group (3) 5- to 8-membered alicyclic group which may have a substituent, such as pentyl, cyclohexyl, cyclohexyl, cyclooctynole, etc.
  • a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methinole, ethyl, propyl, isopropynole, petitnole, isoptinole, sec-butyl, tert-butyl, etc.
  • the substituent means a group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isoptyl, sec-butynole, tert-butynole, etc.
  • a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a lower alkyl group such as methoxy, ethoxy, propoxy, is
  • R 9 is (1) methyl, Echiru, propyl, isopropyl, Petit Honoré, Isobuchinore, sec Buchinore, tert- Puchinore, pentyl, hexyl, heptyl, Okuchiru, Noel, decyl, Undeshiru, such as dodecyl
  • An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (2) an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms such as butyl, arinole, 1-produle, isopropyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 2-methylaryl, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may have a substituent such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl (where the substituent is methinole, ethyl, propyl, A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
  • a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom
  • (8) a methanesulfonyloxy group
  • a benzenesulfo-oxy group 10
  • p-toluenesulfonyloxy group (11) trifluoromethanesulfonyloxy group
  • Optionally substituted acetoxy group (specific examples are ⁇ -fluoroacetoxy, ⁇ -chloroacetoxy, hy-promoacetoxy, ⁇ -odoacetoxy, a, diphenylenoacetoxy, ⁇ , ⁇ -dichloroacetate A halogen atom such as xy, cyanoacetoxy, etc., or an acetooxy group which may be substituted by a cyano group.), (13) OR 10 group (here, specific examples of R 10 include methyl, ethyl, Lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as propyl, isopropyl, butyl, isopropyl, sec-butynole, tert-butyl, etc .; a phenyl group which may have a substituent; or a benzyl group which may have a substituent.
  • the substituents include methyl, ethanol, propynole, isopropynole, petitnole, isopti / le, sec-butynole, tert-butyl, etc.
  • a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec_butoxy, tert-butoxy, a fluorine atom, a chlorine atom, And halogen atoms such as a bromine atom and an iodine atom.
  • magnesium compound represented by the general formula (7) examples include methylmagnesium chloride, meth / remagnesium bromide, methinoremagnesium methoxide, methinolemagnesium methanesulfonate, and methinolemagnesium ⁇ — / Reensnore Honate, Methylmagnesium methoxide, Methynoremagnesium ethoxide, Methynoremagnesium tert-butoxide, Methynoremagnesium phenoxide, Etinole magnesium oxide lid, Etinole magnesium bromide, Etch / Lemagnesium roside, ethinolesmagnesium methanesolephonate, ethinolesmagnesium ⁇ -north / rehonate, ethizolemagnesium methoxide, ethinolesmagnesium ethoxide, ethynolemagnesium tert-butoxid
  • Sec-Petinoremac Nesium p-toluenesolephonate sec-butylmagne Sium methoxide, sec-butinolemagnesium ethoxide, sec-butylmagnesium tert-butoxide, sec-butynolemagnesium phenoxide, iso-butynolemagnesium chloride, iso-butynolemagnesium bromide, iso-butynolemagnesium methane Snorehonate, iso-p-inolemagnesium p-tonolene snorehonate, iso-butinolemagnesium methoxide, iso-butinolemagnesium ethoxide, iso-poutinolemagnesium tert-butoxide, iso-butylinolemagnesium phenoxide Tert-butynolemagnesium chloride, tert-butynolemagnesium chloride,
  • preferred magnesium compounds represented by the general formula (7) include methyl magnesium chloride, methyl magnesium bromide, methyl magnesium bromide, methinolesmagnesium methanesulfonate, methyl Noremagnesium tert butoxide, ethinole magnesium chloride, ethinole magnesium bromide, ethinoremagnesium moside, ethinole magnesium methanesnolehonate, ethinolema Gnesium tert-butoxide, propylmagnesium chloride, propylmagnesium bromide, propylmagnesium methoxide, propylmagnesium methance / rephonate, propinole magnesium tert-butoxide, iso-propynolemagnesium chloride , Iso-propylmagnesium bromide, iso-propynolemagnesium oxide, iso_propynolemagnesium methanesulfonate,
  • the method for producing the magnesium compound (7) is not particularly limited, and examples thereof include a method described in DA Shirley; Org. React., Vol. 8, pp. 28-58 (1954). Can be synthesized by a similar method. Also, commercially available products may be used.
  • magnesium compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the method for producing the azetidinone derivative of the general formula (3) is not particularly limited, but it can be produced by the method described in JP-A-9-31055 or a method analogous thereto. For example, it can be produced according to the following reaction formula.
  • R 1 to R 5 , X and Y are as defined above.
  • the reaction of the azetidinone compound (1) with the esterinole acetate derivative (2) can be carried out in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen, in an organic solvent, in the presence of a base. .
  • the solvent may be any inert solvent that does not participate in the reaction, for example, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; chlorine solvents such as methylene chloride and chloroform; benzene; Organic solvents such as aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, etc., organic solvents such as getyl ether, diisopropinoether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 1,3-dioxolan, and dioxane, or a mixed solvent thereof. Can be suitably used.
  • hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane
  • chlorine solvents such as methylene chloride and chloroform
  • benzene Organic solvents such as aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, etc., organic solvents such as getyl ether, diisopropinoether, t
  • the base examples include organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] _7-indene (DBU), alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, sodium amide, lithium diisopropylamide , Lithium hexamethi Examples thereof include metal salts of amines such as rudisilazide, and various bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and potassium t-butoxide.
  • organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] _7-indene (DBU)
  • alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride
  • sodium amide lithium diisopropylamide
  • Lithium hexamethi examples thereof include metal salts of amines such as rudisilazide
  • various bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and potassium t-butoxide.
  • the reaction is carried out at a temperature of from 150 to 80 ° C, preferably from 120 to 60 ° C, for a reaction time of 60 to 180 minutes.
  • the molar ratio of the reaction is such that the acetate derivative represented by the general formula (2) is about 1 to 2 mol, preferably about 1.2 to 1 mol per mol of the azetidinone compound represented by the general formula (1).
  • the base is equimolar to the ester acetate derivative in about 5 moles.
  • the method for producing the azetidinone derivative represented by the general formula (1) as a raw material is not particularly limited, but it can be produced by the method described in JP-A-2000-44538 or a method analogous thereto.
  • the azetidinone derivative of the general formula (3) is reacted with the magnesium compound of the general formula (7) in an organic solvent under an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen.
  • an inert gas such as argon or nitrogen.
  • the compound is then treated with an active esterifying agent for a hydroxyl group, whereby a carbanemene compound represented by the general formula (5) can be produced. . ⁇ .
  • the azetidinone derivative (3) was dissolved in the organic solvent in a solution in which the magnesium compound was dissolved or suspended in the organic solvent.
  • a method in which a solution is dropped and reacted is preferably employed.
  • the ratio of the azetidinone derivative (3) and the magnesium compound (7) used is preferably about 1 to 8 mol of the magnesium compound (7) per 1 mol of the azetidinone derivative (3). More preferably, it is 5 mol.
  • the magnesium compound (7) include the compounds described above, and one or more of these compounds may be used.
  • the organic solvent an organic solvent that does not adversely affect the cyclization reaction of the azetidinone derivative (3) with the magnesium compound (7) is used.
  • hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, methylene chloride, Chlorinated solvents such as chloroform, aromatic solvents such as benzene, benzene, toluene, xylene, etc.
  • ether solvents such as 5-butyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 1,3-dioxolan, and dioxane, and one or more of them can be used.
  • tetrahydrofuran and / or toluene are preferably used because they have good operability and are economically inexpensive.
  • the amount of the organic solvent used is preferably about 0.5 to 20 times by volume, and more preferably about 1 to L0 times by volume, relative to 1 part by mass of the azetidinone compound (3). Les, more preferred to be.
  • the azetidinone derivative (3) was dissolved in the organic solvent.
  • the dropping time of the solution is usually preferably about;! To 5180 minutes, more preferably about 5 to 60 minutes.
  • the temperature of the cyclization reaction is preferably about 150 to 150 ° C, more preferably about 120 to 80 ° C, and the azetidinone derivative (3)
  • the carpanem derivative (4) can be produced smoothly by reacting for about 0.5 to 15 hours, preferably about 1 to 5 hours after the completion of the dropwise addition of the solution in which-is dissolved in the organic solvent. .
  • the potassium salt derivative (4) which is a magnesium salt obtained by the above-mentioned cyclization reaction, is a novel compound which has not been known before, and is stably present in the mixed solution of the above-mentioned cyclization reaction for several hours. However, during long-term storage, it is converted from a phenolic form to a ketone form under the influence of water. Therefore, after the carbane derivative (4) obtained by the cyclization reaction is cooled, if necessary, it is subjected to the next active esterification of a hydroxyl group without post-treatment such as purification. (Step A;). Alternatively, the forceba obtained by the cyclization reaction
  • the penem derivative (4) may be immediately post-treated at a low temperature (under ice cooling) and used in the next treatment step with an activated ester of a hydroxyl group (step).
  • step A the magnesium salt obtained by the above-described cyclization reaction is treated with an active ester agent having a hydroxyl group, followed by treating the magnesium salt (4) with the active compound represented by the general formula (5).
  • Penem compound (5) the magnesium salt obtained by the above-described cyclization reaction is treated with an active ester agent having a hydroxyl group, followed by treating the magnesium salt (4) with the active compound represented by the general formula (5).
  • the amount of the active esterifying agent is required to be sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and it can be carried out using 1 to 2.5 equivalents to the compound represented by the general formula (3). it can.
  • the reaction can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating. Usually, the reaction is carried out at a temperature in the range of 50 ° C to 50 ° C, preferably in the range of 120 ° C to 20 ° C.
  • the product can be removed by ordinary organic chemical means.
  • the force obtained by reacting the compound represented by the general formula (3) in an inert solvent in the presence of the magnesium compound (7), the lubadenem derivative (4) is converted to the starting compound (3) under production conditions.
  • the present reaction yields the compound of formula (5) without formation of an epimer.
  • the magnesium salt obtained by the above-mentioned cyclization reaction i.e., the magnesium salt (4)
  • the magnesium salt (4) is immediately post-treated at a low temperature (under ice-cooling), and then in an organic solvent and a base.
  • the post-treatment of the magnesium salt obtained by the cyclization reaction a well-known post-treatment method is used.
  • the post-treatment is carried out at a relatively low temperature (about 1%). (5 to 20 ° C) in a short time (within 1 hour). It is desirable that the product be used in the next step without purification.
  • the base is treated with an active esterifying agent for the hydroxyl group, and the product obtained by the above post-treatment is treated under an inert gas atmosphere such as argon-nitrogen.
  • an active esterifying agent for a hydroxyl group and a base are added dropwise to a solution dissolved or suspended in an organic solvent and reacted therewith is preferably employed.
  • Bases used in this reaction include tertiary amines and pyridines.
  • the base is a tertiary amine, specifically, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, triisopropylamine, diisopropylmethylamine, disopropylethylamine, tri-n-butylamine, triethylamine
  • Benzylamine N-methinoleviperidine, N-ethylpiperidine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholin, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] —5_nonene, 1,8_ Diazabicyclo [5.4.0] —7-indene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] otatan, N, N, N, N, N-tetramethylethylenediamine, N, N, N, N-tetramethyl 1,3-propanediamine, dimethylaniline, getylaniline and the like can be
  • the base is a pyridine, specifically, pyridine, ⁇ -picoline,] 3-picolin, y-picoline, 2,6-lutidine, 2-ethynolepyridine, 3-ethynolepyridine, 4-ethylethylpyridine, N, N-dimethylaminopyridine, quinoline, isoquinoline and the like can be mentioned.
  • a commercially available product can be used as it is, or it can be purified and used.
  • the proportion of the base used is preferably about 1 to 8 mol, more preferably about 1 to 2 mol, per 1 mol of the azetidinone derivative (3).
  • the organic solvent an organic solvent that does not adversely affect the reaction is used. Examples thereof include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; chlorine solvents such as methylene chloride and chloroform; benzene; , Toluene, xylene and the like; and ether solvents such as getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 1,3-dioxolan, dioxane, etc., and one or more of them.
  • the amount of the organic solvent used is preferably about 0.5 to 20 times by volume, and more preferably about 1 to 10 times by volume with respect to 1 part by mass of the azetidinone compound (3). Is more preferred.
  • the amount of the active esterifying agent in the active ester reaction of the hydroxyl group is required to be sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and it can be carried out using 1 to 5 equivalents of the compound represented by the general formula (3).
  • the dropping time of the active esterifying agent and the base is as follows. Usually, it is preferably about 1 to 180 minutes, more preferably about 5 to 60 minutes.
  • the temperature of the cyclization reaction is preferably about -50 to 50 ° C, more preferably about 120 to 30 ° C.
  • the desired product can be isolated by performing ordinary post-treatments.
  • R 1 to R 5 have the same meanings as described above; R represents an organic group.
  • the apparatus used for the measurement of the physical properties in each example is as follows.
  • Comparative Example 1 As Comparative Example 1, the same treatment as in Example 1 was performed, except that calcium hydride was used instead of tert-butylmagnesium chloride in Example 1. _ As a result, the reaction only recovered the raw material without any progress.
  • Example 1 in Example 1 using a magnesium compound, the desired product could be obtained in a favorable yield, but calcium hydride, which is a hydride of an alkaline earth metal, was obtained.
  • Comparative Example 1 which used the same method, the target product could not be obtained only by collecting the raw materials.

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Abstract

A method for producing a carbapenem compound which comprises treating an azetidinone derivative with a magnesium compound to form a carbapenem derivative, and then reacting the resultant reaction product with an active ester agent for a hydroxyl group. The method is free from problems associated with conventional methods and can be employed for producing a carbapenem compound useful as an intermediate for synthesizing a carbapenem based compound, under mild conditions with a short process in good yield.

Description

力ルバぺネム誘導体の製造方法 技術分野  Technical Field of the Invention
本発明は力ルバぺネム誘導体の新規の製造方法に関する。 背景技術 明  TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for producing a carbane derivative. Background art
天然から発見されたチェナマイシン(非特許文献 1;文献については後述)力 幅広い抗菌スぺク トルと強力な抗菌活性を有食することが報告されて以来、 抗菌剤 として有用な種々のカルバぺネム化合物が報告されてきた。 力ルバぺネム骨格の Chenamycin found in nature (Non-patent Document 1; see below for literature) Power Since it was reported to have a broad antibacterial spectrum and strong antibacterial activity, various carbamates useful as antibacterial agents have been reported. Nem compounds have been reported. The power of the skeleton
1位 (慣用的な番号付け (下記式 A参照) によるもの;本発明の記載の番号付け でいう 4位に相当する。)メチレン基がアルキル基で置換された化合物、特に 1 ]3 一メチルカルバぺネム誘導体 (非特許文献 2 ) は腎の酵素、デヒドロぺプチター ゼー Iに対する安定性に優れていることから、 抗菌剤として極めて有用であるこ とが報告され、 それにともない 1 ]3—アルキル力ルバぺネム化合物の有効な製造 方法の開発に多くの関心がもたれてきた。 1-position (according to conventional numbering (see formula A below; corresponding to 4-position in numbering in the description of the present invention)) Compounds in which a methylene group is substituted by an alkyl group, particularly 1] 3 monomethylcarbamate Penem derivatives (Non-Patent Document 2) have been reported to be extremely useful as antibacterial agents because of their excellent stability against the renal enzyme, dehydropeptidase Z-I. There has been much interest in developing effective methods of producing penem compounds.
Figure imgf000002_0001
力ルバぺネム系化合物合成中間体として、 一般式 (B )
Figure imgf000003_0001
Figure imgf000002_0001
As an intermediate for synthesizing a compound of the general formula (B)
Figure imgf000003_0001
(式中、 r 1は、 水素原子または水酸基の保護基であり ; R 1は、 水素原子または アルキル基であり; R 2は、カルボキシ基の保護基であり; r 2は、脱離基である。) で表される力ルバぺネム化合物の重要性は広く認識されている。 (Wherein, r 1 is a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group; R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group; R 2 is a protecting group for a carboxy group; r 2 is a leaving group The importance of the compound represented by is widely recognized.
この力ルバぺネム化合物の製造方法としては、 たとえば特許文献 1に記載の下 記反応スキーム 1 :  The production method of this compound is described in, for example, the following reaction scheme 1 described in Patent Document 1:
Figure imgf000003_0002
で示される製造法、 特許文献 2に記載の下記反応スキーム 2 :
Figure imgf000003_0002
The following reaction scheme 2 described in Patent Document 2 shown below:
Figure imgf000004_0001
Figure imgf000004_0001
Figure imgf000004_0002
Figure imgf000004_0002
で示される製造法、 および特許文献 3に記載の下記反応スキーム 3 : And the following reaction scheme 3 described in Patent Document 3:
Figure imgf000004_0003
で示される製造法などが知られている。
Figure imgf000004_0003
Are known.
しかしながら、 これらの製造方法は、 何れも、 それぞれ以下のような問題点を 有しており、 十分に満足の行くものとは言えなかった。  However, each of these manufacturing methods has the following problems, and cannot be said to be sufficiently satisfactory.
即ち、 反応スキーム 1および反応スキーム 2の方法では、 高価な出発原料を用 い、 且つ工程数が多いため操作が煩雑になり、 収率の面のみならず価格の面でも 決して望ましいものではない。 That is, in the methods of Reaction Scheme 1 and Reaction Scheme 2, expensive starting materials are used. And the number of steps makes the operation complicated, which is not desirable not only in terms of yield but also in terms of price.
また、 反応スキーム 3の方法は、 比較的短工程で製造しているが、 NaHのよ うな発火性を伴う試薬を大量に使用する力、 もしくは LDA (リチウムジイソプ 口ピルァミド) のように一 50 °Cと極低温下で操作を行う必要があり、 工業的な 方法とは言い難い。  In addition, the method of Reaction Scheme 3 is manufactured in a relatively short process, but requires the use of large quantities of ignitable reagents such as NaH, or a method such as LDA (lithium diisopropyramide). It is necessary to operate at a very low temperature of ° C, which is not an industrial method.
特許文献 1 特開昭 5 7— 1 23 1 8 2号  Patent Document 1 JP-A-57-123 1 18 2
特許文献 2 特開平 6— 3 2 1 946号  Patent Document 2 JP-A-6-321946
特許文献 3 特開昭 6 2— 1 03084号  Patent Document 3 JP-A-62-103084
非特許文献 1 J. Am. Ch em. S o c., 100, 3 1 3 (1 9 78) 非特許文献 2 He t e r o c y c l e s ., 2 1, 29 (1 984) このような状況のなかで、安全でさらに大量合成に適した方法が望まれていた。 発明の開示  Non-Patent Document 1 J. Am. Chem. Soc., 100, 3 13 (1 978) Non-Patent Document 2 Heterocycles., 21 1, 29 (1 984) In such a situation, A safe and suitable method for large-scale synthesis has been desired. Disclosure of the invention
本発明者らは、力ルバぺネム系化合物合成中間体として有用な上記一般式(B) で表されるカルバぺネム化合物の工業的に有利な製造法について鋭意研究した結 果、 本発明を完成した。  The present inventors have conducted intensive studies on an industrially advantageous method for producing a carbazine compound represented by the above general formula (B), which is useful as an intermediate for the synthesis of a carbane compound, and consequently found the present invention. completed.
すなわち、 本発明は次の通り _である。 ― „ ― That is, the present invention is as follows. ― „―
1. 下記一般式 (3) で表されるァゼチジノン誘導体を、 下記一般式 (7) で表されるマグネシウム化合物の存在下で反応させた後、 水酸基の活性エステル 剤で処理することを特徴とする下記一般式 (5) で表される力ルバぺネム化合物 の製造方法。 1. A azetidinone derivative represented by the following general formula (3) is reacted in the presence of a magnesium compound represented by the following general formula (7), and then treated with an active ester agent for a hydroxyl group. A method for producing a compound of formula (5) represented by the following general formula (5).
Figure imgf000005_0001
式中、
Figure imgf000005_0001
Where
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級アルキル 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 4は、 水素原子または水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 力ルポキシル基の保護基を表す。 R 5 represents a protecting group for a carbonyl group.
Yは、 活性エステル基、 置換基を有していてもよいァリールチオ基、 置換基を 有していてもよいへテロアリールチオ基、 置換基を有していてもよいァラルキル チォ基、 置換基を有していてもよいァリールォキシ基、 置換基を有していてもよ いへテロァリールォキシ基、 または N (Ra) S 0 2 Rbで表される基を表す。 Y represents an active ester group, an arylthio group optionally having a substituent, a heteroarylthio group optionally having a substituent, an aralkylthio group optionally having a substituent, represents the a good Ariruokishi group optionally terrorism § reel O carboxymethyl group into but it may also have a substituent or N (R a) group represented by S 0 2 R b,.
Raは、 アルキル基、 アルケニル基、 オルガノシリル基、 置換基を有していても よいァリール基、 置換基を有していてもよいァラルキル基、 または置換基を有し ていてもよい脂環式基を表す。 R a is an alkyl group, an alkenyl group, an organosilyl group, an aryl group optionally having a substituent, an aralkyl group optionally having a substituent, or an alicyclic group optionally having a substituent; Represents a formula group.
Rbは、 アルキル基または置換基を有していてもよいァリ一ル基を表す。 R b represents an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.
M g R 8 R 9 ( 7 ) M g R 8 R 9 (7)
式中、 ― .— Where-.
R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ- ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ二ノレ基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換した ジアルキルァミノ基を表す。 R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, ( 5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by a halogen atom, or (6) a substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Represents a dialkylamino group.
R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ-ノレ基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホ-ルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスノレホエノレオキシ基、 (10) p -トルエンスルホニルォキシ基、 (11) トリフノレ ォロメタンスルホエルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基を表す。 R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. 5- to 8-membered ring An alicyclic group of (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenol group which may be substituted with a halogen atom, (5) a carbon atom of 1 A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, ( 7) halogen atom, (8) methanesulfo-loxy group, (9) benzenesulfonoleoxy group, (10) p-toluenesulfonyloxy group, (11) trifonolomethanesulfonyloxy group, (12) a halogen atom, a Shiano group which may be substituted Asetokishi group or (13) oR 1 0 group.
R 1。は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエ-ル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 1. Represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent.
Figure imgf000007_0001
式中、
Figure imgf000007_0001
Where
R 1乃至 R 5は、 前記と同義である。 ― R 1 to R 5 are as defined above. -
Lは、 水酸基の活性エステル基を表す。  L represents an active ester group of a hydroxyl group.
2 . 一般式 (4 ) で表される力ルバぺネム誘導体。  2. A carbane derivative represented by the general formula (4).
Figure imgf000007_0002
式中、
Figure imgf000007_0002
Where
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級アルキル 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and each is a hydrogen atom or lower alkyl Represents a group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 4は、 水素原子または水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 カルボキシル基の保護基である。 R 5 is a protecting group for a carboxyl group.
R 8は、 (1)炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2)炭素数 2乃至 5のアルケニル 基、(3)炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環の脂 環式基、 (4)炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ 基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4の低級 アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換していて もよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基を表す。 R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. An 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted by a halogen atom, (5) a 1 carbon atom A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, or (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Represent.
R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエュル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基、.(7)ノ、ロゲン原子、バ 8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスルホ-ルォキシ基、 (10) p—トルエンスルホニルォキシ基、 (11) トリフノレ ォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基を表す。 R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fuel group which may be substituted with a halogen atom, (5) A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by a halogen atom, (6) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms 8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) p-toluenesulfonyloxy group, (11) triflorenomethanesulfonylo group A xy group, (12) an acetyl group which may be substituted by a halogen atom or a cyano group, or 13) represents a OR 1 0 group.
R 1 °は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエニル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 1 ° represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a benzyl group which may have a substituent.
mおよび nは 0または 1であり、 m≠nである。  m and n are 0 or 1 and m ≠ n.
3 . 下記一般式 (3 ) で表されるァゼチジノン誘導体を、 下記一般式 (7 ) で表されるマグネシゥム化合物の存在下で反応させることを特徴とする一般式 ( 4 ) で表される力ルバぺネム誘導体の製造方法。
Figure imgf000009_0001
3. The azetidinone derivative represented by the following general formula (3) is reacted in the presence of a magnesium compound represented by the following general formula (7), and the azetidinone derivative represented by the following general formula (4) is reacted. A method for producing a nem derivative.
Figure imgf000009_0001
式中、 Where:
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、水素原子または低級アルキノレ 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkynole group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 4は、 水素原子または水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 カルボキシル基の保護基を表す。 R 5 represents a carboxyl-protecting group.
Yは、 活性エステル基、 置換基を有していてもよいァリールチオ基、 置換基を 有していてもよいへテロアリールチオ基、 置換基を有していてもよいァラルキル チォ基、 置換基を有していてもよいァリーノレォキシ基、 置換基を有していてもよ いへテロァリールォキシ基、 または N (R a) S 0 2 R bで表される基を表す。 Y represents an active ester group, an arylthio group optionally having a substituent, a heteroarylthio group optionally having a substituent, an aralkylthio group optionally having a substituent, Represents an aryloxy group which may be possessed, a heteroaryloxy group which may be substituted, or a group represented by N (R a ) S 0 2 R b .
R aは、 アルキル基、 ァルケエル基、 オルガノシリル基、 置換基を有していて もよぃァリール基、 置換基を有していてもよいァラルキル基、 または置換基を有 していてもよい脂環式基を表す。 . R a is an alkyl group, an arylalkyl group, an organosilyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or an optionally substituted aliphatic group; Represents a cyclic group. .
R bは、 アルキル基または置換基を有していてもよいァリール基を表す。
Figure imgf000009_0002
式中、
R b represents an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.
Figure imgf000009_0002
Where
R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換した ジアルキルァミノ基を表す。 R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) 1 to 4 carbon atoms Represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, or (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. .
R 9は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ-ル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスルホニルォキシ基、 (10) p—トルエンスルホニルォキシ基、 (11) トリフノレ ォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基を表す。 R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, 5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Substituted dialkylamino group, (7) halogen atom, (8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) p-toluenesulfonyloxy group, (11) triflorenomethanesulfonylo A xy group, (12) an acetoxy group which may be substituted by a halogen atom or a cyano group, or (13) OR Represents 10 groups.
R 1。は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエ-ル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 1. Represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent.
Figure imgf000010_0001
式中、
Figure imgf000010_0001
Where
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級アルキル 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group
R 4は、 水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 カルボキシル基の保護基を表す。 R 5 represents a carboxyl-protecting group.
R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ノレ基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換した ジァノレキ /レアミノ基を表す。 R 8 represents (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms. (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted by a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1 to 4 carbon atoms A lower alkoxy group having 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom which are substituted. A benzyl group, or (6) a dianolexy / reamino group substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
R は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエエル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスノレホニノレォキシ基、 (10) 一トルエンスルホエルォキシ基、 (11) トリフル ォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基を表す。 R represents (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group optionally having 1 to 4 carbon atoms. To an 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fuel group which may be substituted with a halogen atom, (5) a carbon atom. A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) a dial substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Killamino group, (7) halogen atom, (8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) monotoluenesulfoeroxy group, (11) trifluoromethanesulfonyloxy Group, (12) an acetyl group which may be substituted by a halogen atom or a cyano group, or (1 3) represents an OR 10 group.
R 1 °は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエニル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 1 ° represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a benzyl group which may have a substituent.
mおよび nは 0または 1であり、 m≠nである。  m and n are 0 or 1 and m ≠ n.
4 . 前記一般式(3 ) で表されるァゼチジノン誘導体において、 Y力 N (R a ) S 02 R b で表される基 (R aおよび R bは、 前記と同義である。) である前記 1または 3に記載の製造方法。 4. In the azetidinone derivative represented by the general formula (3), a group represented by a Y force N (R a ) S 0 2 R b (R a and R b are as defined above). 4. The production method according to the above 1 or 3.
5 . 前記一般式 ( 7 ) で表されるマグネシゥム化合物が、 メチルマグネシゥ ムクロリ ド、 メチルマグネシゥムプロミド、 メチルマグネシゥムョージド、 メチ ノレマグネシゥムメタンスルホナート、メチルマグネシゥム t e r t—ブトキシド、 ェチノレマグネシウムクロリ ド、 ェチノレマグネシウムプロミド、 ェチノレマグネシゥ ムョージド、 ェチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 ェチレマグネシゥム t e r t一ブトキシド、 5. The magnesium compound represented by the general formula (7) is methylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide, methylmagnesium moxide, methylmagnesium methanesulfonate, methylmagnesium tert. — Butoxide, ethynolemagnesium chloride, ethynolemagnesium bromide, ethynolemagnesium mozide, ethynolemagnesium methanesnolehonate, ethynolemagnesium te rt-butoxide,
ミ ド、 プロピルマグネシゥムョージド Mid, propyl magnesium
ト、 プロピノレマグネシウム t e r t一ブトキシド、 i s o—プロピノレマグネシゥ ムク口リ ド、 i s o—プロピゾレマグネシウムブロミド、 i s o—プロピノレマグネ プロピノレマグネシウム t e r t—プトキシド、 n—ブチノレマグネシウムク口リ ド、 n -プチルマグネシゥムプロミド、 n -プチノレマグネシゥムョージド、 n—プチ ノレマグネシウムメタンスノレホナート、 n—プチノレマグネシウム t e r tープトキ シド、 s e cーブチノレマグネシウムク口リ ド、 s e c一プチノレマグネシウムプロ ミ ド、 s e c—プチノレマグネシウムョージド、 s e c _プチノレマグネシウムメタ ンスルホナート、 s e c -プチルマグネシゥム t e r t—プトキシド、 i s o— ブチルマグネシクムクロリ ド、 i s o—ブチルマグネシウムプロミド、 i s o— ブチノレマグネシゥムョージド、 i s o—プチノレマグネシゥムメタンスノレホナート、 i s o一プチ/レマグネシゥム t e r t—ブトキシド、 t e r t一プチノレマグネシ クムクロリ ド、 t e r t—プチズレマグネシウムブロミド、 t e r t—プチノレマグ ネシゥムョージド、 t e r t一プチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 t e r t一ブチルマグネシウム t e r t—プトキシド、フエ-ルマグネシウムク口リ ド、 フェ二ノレマグネシゥムプロミ ド、 フエ二ノレマグネシゥムョージド、 フエニノレマグ ネシゥムメタンスノレホナー ト、 フエエノレマグネシウム t e r t—プトキシド、 ρ —トリノレマグネシウムク口リ ド、 : —トリノレマグネシウムプロミド、 p—トリノレ マグネシゥムョージド、 p—トリノレマグネシウムメタンスノレホナート、 ρ— トリ ノレマグネシウム t e r tーブトキシド、 ベンジノレマグネシウムクロリ ド、 べンジ ノレマグネシウムブロミ ド、 ベンジ /レマグネシウムョージド、 ベンジノレマグネシゥ ムメタンスノレホナート、 およびべンジノレマグネシウム t e r t—ブトキシドから なる群から選択される一つである前記 1、 3または 4記載に製造方法。  G-propynolemagnesium tert-butoxide, iso-propynolemagnesium chloride, iso-propizolemagnesium bromide, iso-propynolemagne propynolemagnesium tert-butoxide, n-butynolemagnesium chloride, n- Butylmagnesium bromide, n-butylinoleum magnesium, n-butylinolemagnesium methanesulfonate, n-butylinolemagnesium tert-peptoxide, sec-butylinolemagnesium chloride, sec-butylinoleum Magnesium bromide, sec-butynolemagnesium oxide, sec_butylinolemagnesium methanesulfonate, sec-butylmagnesium tert-butoxide, iso-butylmagnesium chloride, iso-butylmagnesium chloride, iso-butylmagnesium Noremagnesi Mozide, iso-butyl magnesium methanesulphonate, iso-l-butyl / l-magnesium tert-butoxide, tert-l-butyl magnesium chloride, tert-butyl magnesium bromide, tert-l-butyl magnesium methane sulphonate Tert-butylmagnesium tert-butoxide, phenylmagnesium oxide lid, feninolemagnesium promide, feninolemagnesium methoxide, feninolemagnesium methanesulfonate, phenenomagnesium tert —Putoxide, ρ—Torinolemagnesium chloride, : —Torinolemagnesium bromide, p-Torinolemagnesium moxide, p-Torinolemagnesium methanesorephonate, ρ—Torinolemagnesium Um-tert-butoxide, benzinolemagnesium chloride, benzinolemagnesium bromide, benzine / lemagnesium oxide, benzinolemagnesium methanesulphonate, and benzinolemagnesium tert-butoxide 5. The production method according to 1, 3, or 4, which is one of the above.
本発明は、 抗菌物質として有用なカルパぺネム系抗生物質の製造に好適に用い られる 1 i3—メチルカノレバぺネム誘導体を、 温和な条件で、 短工程で収率良く製 造する方法を提供するものである点に顕著な効果を奏する。 発明を実施するための最良の形態 The present invention provides a 1i3-methylcanolevanem derivative, which is suitably used for the production of a carpanem antibiotic useful as an antibacterial substance, under mild conditions and in a short process with high yield. It has a remarkable effect in that it provides a method of manufacturing. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
以下に本発明について詳細に説明する。  Hereinafter, the present invention will be described in detail.
カルバぺネム化合物を製造するための本発明の方法は、 たとえば以下に示され る反応にしたがって行われる。  The method of the present invention for producing a carbapenem compound is carried out, for example, according to the following reaction.
Figure imgf000013_0001
[式中、 1^ぉょぴ1 2は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級ァ ルキル基であり ; R 3は、 水素原子または低級アルキル基であり ; R 4は、 水素原 子または水酸基の保護基であり; R 5は、カルボキシル基の保護基であり; R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、(2) 炭素数 2乃至 5のアルケニル基、(3) 炭 素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ ロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4の低級アルキ ル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよい ベンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアルキルァ ミノ基であり ; R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ-ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭 素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン 原子が置換していてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置 换したジアルキルアミノ基、(7) ハロゲン原子、(8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼンスルホ-ルォキシ基、 (10) p—トルエンスルホ-ルォキシ基、 (11) トリフルォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換し ていてもよいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基(R 1 0は炭素数 1乃至 4の低 級アルキル基、 置換基を有していてもよいフエニル基、 または置換基を有してい てもよいべンジル基である。) であり ;Xは、 ハロゲン原子または水酸基の活性ェ ステル基であり ; Yは、 活性エステル基、 置換基を有していてもよいァリールチ ォ基、 置換基を有していてもよいへテロアリールチオ基、 置換基を有していても よいァラルキルチォ基、 置換基を有していてもよいァリールォキシ基、 置換基を 有していてもよいへテロアリールォキシ基、 または N (R a) S 02 R b で表され る基 (R aは、 アルキル基、 アルケニル基、 オルガノシリル基、 脣換基を有して いてもよいァリール基、 置換基を有していてもよいァラルキル基、 または置換基 を有していてもよい脂環式基であり ; R bは、 アルキル基または置換基を有して いてもよいァリール基である。) であり ; Lは、水酸基の活性エステル基であり ; mおよび nは 0または 1であり、 m≠nである。]
Figure imgf000013_0001
[Wherein, 1 and 12 may be the same or different and each is a hydrogen atom or a lower alkyl group; R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group; R 4 is a hydrogen atom R 5 is a carboxyl-protecting group; R 8 is (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted by a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms An alkoxy group, a phenyl group which may be substituted by a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom which may be substituted A benzyl group, or (6) a dialkylamino group substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 9 is: (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted by a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, carbon A lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom substituted A benzyl group, (6) a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (7) a halogen atom, (8) a methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfo- (10) p-toluenesulfo-loxy group, (11) trifluoromethanesulfonyloxy Shi group has (12) a halogen atom, Shiano group substituted with optionally also be Asetokishi group or (13) OR 1 0 group (R 1 0 is lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, the substituents X is a halogen atom or an active ester group of a hydroxyl group; Y is an active ester group or a substituted phenyl group which may be substituted or a benzyl group which may be substituted. Aryloxy group which may have a group, heteroarylthio group which may have a substituent, aralkyl group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent , to which may have a substituent heteroarylalkyl O alkoxy group, or N (R a) S 0 2 R b in the depicted Ru group (R a, an alkyl group, an alkenyl group, organosilyl group,脣換An aryl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent There Ararukiru group or substituted be also good alicyclic group,; R b is an alkyl group or an optionally substituted Ariru group be);. L represents a hydroxyl group M and n are 0 or 1 and m ≠ n. ]
すなわち、 ァゼチジノン化合物 ( 1 ) と酢酸エステル誘導体 (2 ) とを反応さ せて得られるァゼチジノン誘導体 (3 ) を、 マグネシウム化合物 ( 7 ) によって 環化して、 カルパぺネム誘導体 (4 ) を製造し、 それを活性エステル化剤で処理 することによって力ルバぺネム化合物 (5 ) が得られる。  That is, a azetidinone derivative (3) obtained by reacting an azetidinone compound (1) with an acetate derivative (2) is cyclized with a magnesium compound (7) to produce a carbazinem derivative (4). By treating it with an active esterifying agent, the compound of formula (5) is obtained.
本発明の製造方法において、 R 1および R 2としては、 同一であっても異なって いてもよく、 水素原子または低級アルキル基であり、 低級アルキル基の具体例と しては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 イソプロピル基、 n— プチル基、 イソプチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—ブチル基、 等の炭素数 1〜4のアルキル基が挙げられる。 In the production method of the present invention, R 1 and R 2 may be the same or different. And a hydrogen atom or a lower alkyl group. Specific examples of the lower alkyl group include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a Examples thereof include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a butyl group and a tert-butyl group.
好ましい R 1および R 2としては、 水素原子およびメチル基が挙げられる。Preferred R 1 and R 2 include a hydrogen atom and a methyl group.
R 3としては、 水素原子または低級アルキル基であり、 低級アルキル基の具体 例としては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 イソプロピル基、 n—ブチノレ基、 イソブチル基、 s e c一プチル基、 t e r t一プチノレ基、 等の炭 素数 1〜 4のアルキル基が挙げられる。 R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. Specific examples of the lower alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butynole group, isobutyl group, sec-butyl group And a tert-butynole group, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
好ましい R 3としては、 水素原子およびメチル基が挙げられる。 Preferred R 3 includes a hydrogen atom and a methyl group.
R 4としては、 水素原子または水酸基の保護基であり、 このような水酸基の保 護基としては、 たとえばペプチド化学、 —ラタタム化合物の分野で用いられる もの等を用いることができる。 R 4 is a protecting group for a hydrogen atom or a hydroxyl group. As such a protecting group for a hydroxyl group, for example, those used in the fields of peptide chemistry and ratatum compounds can be used.
水酸基の保護基として、 具体的には、 トリメチルシリル基、 トリェチルシリル 基、 トリイソプロビルシリル基、 ジメチルイソプロビルシリル基、 ジェチルイソ プロビルシリル基、 ジメチル (2, 3—ジメチルー 2—プチノレ) シリル基、 t e r t一プチルジメチルシリル基、 ジメチルへキシルシリル基などのトリ一炭素数 1〜 6アルキルシリル基、 ジメチルクミルシリル基などのジ一炭素敢 1〜 6アル キル—炭素数 6〜 1 8ァリールシリル基、 t e r t—プチルジフエ-ルシリル基、 ジフエ-ルメチルシリル基などのジー炭素数 6〜 1 8ァリール一炭素数 1〜 6ァ ルキルシリル基、 トリフエニルシリル基などのトリ一炭素数 6〜 1 8ァリールシ リル基、 トリベンジルシリル基、 トリー p—キシリルシリル基などのトリー炭素 数 7〜 1 9ァラルキルシリル基等のトリ置換シリル基;例えば、 ベンジル基、 4 —メ トキシベンジル基、 2—二トロべンジル基、 4—ニトロべンジル基、 ジフエ ニルメチル基、 トリフエエルメチル基等の炭素数 1〜4アルコキシ基 (例えば、 メ トキシ基、 エトキシ基、 等) またはニトロ基で 1〜 3個置換されていてもよい 炭素数 7〜1 9ァラルキル基;例えば、 メ トキシカルボ二ル基、 エトキシカルボ エル基、 t e r t—プトキシカルボニル基、 2, 2, 2—トリクロ口エトキシカ ルポニル基、 2—トリメチルシリルェトキシカルポ-ル基等の炭素数 1〜 4アル コキシ基 (例えば、 メトキシ基、 エトキシ基、 等)、 ハロゲン原子 (例えば、 フッ 素、 塩素、 臭素、 ヨウ素、 等) またはトリー炭素数 1〜4アルキルシリル (例え ば、 トリメチノレシリノレ基、 等) 等で 1〜3個置換されていてもよい炭素数 1〜6 のアルキルォキシカルボ-ル基;例えば、 ベンジルォキシカルボ二ノレ基、 2—二 トロべンジルォキシカルボュノレ基、 4一二ト口べンジルォキシカルボニル基、 4 ーメ トキシペンジノレオキシカノレボニノレ基、 3, 4ージメトキシペンジノレオキシカ ルポニル基等の炭素数 1〜4アルコキシ基 (例えば、 メトキシ基、 エトキシ基、 等) またはニトロ基で 1〜3個置換されていてもよい炭素数 7〜1 0ァラルキル ォキシカルポニル基;例えば、 ビュルォキシカルボエノレ基、 ァリルォキシカルボ -ル基等の炭素数 2〜 6アルケニルォキシカルボニル基;例えば、 ホルミル基、 ァセチル基、 クロロアセチル基、 ジクロロアセチル基、 トリクロロアセチル基、 トリフルォロアセチル基、 プロピオ二ノレ基、 ブチリル基、 ベンゾィル基、 4ート ルオイル基、 4ーァェソィル基、 4一二トロベンゾィル基等のハロゲン原子 (例 えば、 フッ素、 塩素、 臭素、 ヨウ素、 等) またはニトロ等で 1〜 3個置換されて いてもよいァシル基;例えば、 テトラヒドロビラ二ノレ基などが用いられる。 好ましい R 4としては、 炭素数 7〜1 9ァラルキルォキシカルボ-ル基 (例え ば、ベンジルォキシカルポニル基、 4一二ト口ベンジルォキシカルポ-ル基、等)、 炭素数 2〜 6ァルケ-ルォキシカルポ二ノレ基 (例えば、 ァリルォキシカルボニル 基、 等)、 トリ—炭素数 1〜6アルキルシリル基等が用いられ、 より好ましくは、 t e r tーブチルジメチルシリル基等が用いられる。 Specific examples of the hydroxyl-protecting group include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a dimethylisopropylsilyl group, a dimethylisopropylsilyl group, a dimethyl (2,3-dimethyl-2-butynole) silyl group, and tert-butyl. Di-carbon 1 to 6 alkylsilyl groups such as dimethylsilyl group and dimethylhexylsilyl group, and di-carbon 1 to 6 alkyl alkyl groups such as dimethylcumylsilyl group—C 6 to 18 arylsilyl group, tert-butyldiphene 6 to 18 aryl carbons, such as -silyl group and diphenylmethylsilyl group, 1 to 6 aryl carbon atoms, 1 to 6 alkyl silyl groups, triphenylsilyl group, etc., 6 to 18 aryl carbon groups, tribenzylsilyl group , Tree p-xylylsilyl group, etc. Tree carbon number 7-19 aralkylsilyl group, etc. Tri-substituted silyl groups such as benzyl, 4-methoxybenzyl, 2-nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, etc. Group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.) or 1 to 3 nitro groups, which may be substituted with 7 to 19 carbon atoms; aralkyl group; for example, methoxycarbyl group, ethoxycarbo L-, tert-butoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2-trimethylsilylethoxycarbol, etc. C 1-4 alkoxy groups (for example, methoxy, ethoxy, Etc.), 1 to 3 halogen atoms (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.) or 1 to 4 alkylsilyl having a tree carbon number (for example, trimethinolesilinole group, etc.). Alkyloxycarbonyl groups having 1 to 6 carbon atoms which may be mentioned, for example, benzyloxycarbinole group, 2-2 trobenzyloxycarbonyl group, 412-nitrobenzyloxycarbonyl group 1 to 4 alkoxy groups such as a 4-methoxypentinoleoxycanoleboninole group and a 3,4-dimethoxypentinoleoxycarbonyl group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.) Or 1 to 3 carbon atoms, which may be substituted with 1 to 3 nitro groups, 7 to 10 aralkyloxycarbonyl groups; for example, 2 to 6 alkenyl carbon atoms such as a buroxycarboenole group and an aryloxycarbol group Oxycarbonyl group; for example, formyl group, acetyl group, chloroacetyl group, dichloroacetyl group, trichloroacetyl group, trifluoroacetyl group, propioninole group, butyryl group, benzoyl group, 4-toluoyl group, 4-azeoyl , A halogen group such as 412 trobenzoyl group (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.) or an acyl group which may be substituted with 1 to 3 nitro groups; for example, a tetrahydrovinylinole group, etc. Is used. Preferable R 4 is a C 7 to C 19 aralkyloxycarbol group (for example, a benzyloxycarbonyl group, a 4-to-12-port benzyloxycarbol group, etc.), a carbon number 2 Alkenyloxycarbonyl group (e.g., aryloxycarbonyl group, etc.), tri-C.sub.1-6 alkylsilyl group, etc., more preferably, tert-butyldimethylsilyl group, etc. .
R 5は、 カルボキシル基の保護基であり、 カルボキシ機の保護基としては一般 的に用いられるもので可能である力 例えば、 メチル基、 ェチノレ基、 イソプロピ ル基、 t一プチル基などの炭素数 1〜 4の低級アルキル基; 2—ョゥ化工チル基、 2, 2, 2—トリクロ口ェチル基などの炭素数 1〜 4のハ口ゲノ低級アルキル基; メ トキシメチル基、 エトキシメチル基、 イソプトキシメチル基などの (炭素数 1 ~ 4の低級ァ/レコキシ) メチル基;ァセトキシメチル基、 プロピオニルォキシメ チル基、 プチリルォキシメチル基、 ピバロィルォキシメチル基などの (炭素数 1 〜 5の低級脂肪族ァシル) ォキシメチル基;ァリル基、 2—メチルァリル基、 3 一メチルァリル基、 3 _フエニルァリノレ基などの炭素数 3〜 1 0の置換または無 置換の低級ァルケ-ル基;ベンジル基、 p—または o—二ト口べンジル基、 p— ク口口べンジル基などの置換または無置換のモノアリールアルキル基が挙げられ る。 R 5 is a protecting group for a carboxyl group, and is generally used as a protecting group for a carboxy group.For example, the number of carbon atoms such as a methyl group, an ethylene group, an isopropyl group, and a t-butyl group Lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms; lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as 2-hydroxyethyl group and 2,2,2-trichloroethyl group; methoxymethyl group, ethoxymethyl group, isoprene; (C 1 (Lower α / recoxy) methyl group; acetyloxymethyl, propionyloxymethyl, ptyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, etc. (lower aliphatic acetyl) A substituted or unsubstituted lower alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, such as an aryl group, a 2-methylaryl group, a 3-methylaryl group, or a 3-phenylarinole group; a benzyl group, p- or o-diphenyl And substituted or unsubstituted monoarylalkyl groups such as benzyl group and p-hydroxybenzoyl group.
Xは、 ハロゲン原子または水酸基の活性エステ/レ基であり、 ハロゲン原子とし ては、 例えば、 塩素、 臭素、 ヨウ素などを挙げることができ ;また、 水酸基の活 性エステル基としては、 例えば、 ベンゼンスルホニルォキシ基、 p一トルエンス ノレホニルォキシ基、 p—二ト口ベンゼンスルホニルォキシ基、 ρ—プロモベンゼ ンスルホエルォキシ基などの置換もしくは無置換ァリ一ルスルホニルォキシ基、 メタンスノレホニルォキシ基、 エタンスルホニルォキシ基などの炭素数 1 ~ 4の低 級アル力ンスルホニルォキシ基、 トリフノレオ口メタンスノレホニノレォキシ基などの 炭素数 1〜 4のハロゲノ低級アル力ンスルホニルォキシ基などを挙げることがで さる。  X is a halogen atom or an active ester group of a hydroxyl group; examples of the halogen atom include chlorine, bromine, and iodine; and examples of the active ester group of the hydroxyl group include benzene. Substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy groups such as sulfonyloxy group, p-toluenesolephonyloxy group, p-toluene benzenesulfonyloxy group, ρ-promobenzensulfoeroxy group, methanesnoleonylo C1-C4 lower alkylsulfonyloxy such as xy group, ethanesulfonyloxy, etc.Halogeno lower alkenylsulfonyl C1-C4 such as methanesolephoninoleoxy, etc. Xyl groups and the like can be mentioned.
好ましい Xとしては、 ハロゲン原子を挙げることができる。  Preferred X includes a halogen atom.
Yは、 活性エステル基、 置換基を有していてもよいァリールチオ基、 置換基を 有していてもょレヽへテロアリ一ルチオ基、 置換基を有していてもよ 、ァラルキル チォ基、 置換基を有していてもよいァリールォキシ基、 置換基を有していてもよ いへテロァリールォキシ基、 または N (R a) S〇2 R bで表される基 (R aは、 ァ ルキル基、 アルケュル基、 オルガノシリル基、 置換基を有していてもよいァリー ル基、 置換基を有していてもよいァラルキル基、 または置換基を有していてもよ い脂環式基であり ; R bは、 アルキル基または置換基を有していてもよいァリー ル基である。) である。 Y represents an active ester group, an arylthio group which may have a substituent, an arylarylthio group which may have a substituent, an aralkylthio group which may have a substituent, An aryloxy group which may have a group, a heteroaryloxy group which may have a substituent, or a group represented by N (R a ) S〇 2 R b (R a is Alkyl group, alkyl group, organosilyl group, aryl group optionally having substituent (s), aralkyl group optionally having substituent (s), or alicyclic group optionally having substituent (s) R b is an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.).
ここで、 Yが活性エステル基である場合、 例えば、 イミダゾール基、 トリァゾ ール基のようなヘテロァリール基; N—サクシイミドォキシ基、 N—フタルイミ ドォキシ基、ベンズトリアゾリルォキシ基のような環状ィミ ドォキシ基; 3—( 2 ーチォキソ) チアゾリジ-ル基のようなへテ口シク口アルキル基などを挙げるこ とができる。 Here, when Y is an active ester group, examples thereof include a heteroaryl group such as an imidazole group and a triazole group; an N-succiimidoxy group; Cyclic imidooxy groups such as a dooxy group and a benzotriazolyloxy group; and heterocyclic alkyl groups such as a 3- (2-thioxo) thiazolidyl group.
置換基を有していてもよいァリールチオ基である場合、 例えば、 フエニル基、 1〜3個の塩素、 臭素、 ヨウ素等のハロゲン原子で置換されたハログノフェ-ル 基、 p—または o—二トロフエ-ル、 p—メトキシフエニル基等が挙げられる。 置換基を有していてもよいへテロアリールチオ基である場合、 例えば、 2—、 3 一または 4一ピリジル基、 2—ピリミジル基、 2 _ ( 4, 6—ジメチル) ピリミ ジノレ基等が挙げられる。  In the case of an arylthio group which may have a substituent, examples thereof include a phenyl group, a halognofer group substituted with 1 to 3 halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine, p- or o-nitrophene. And p-methoxyphenyl group. In the case of a heteroarylthio group which may have a substituent, for example, 2-, 3- or 4-pyridyl group, 2-pyrimidyl group, 2_ (4,6-dimethyl) pyrimidinole group, etc. No.
置換基を有していてもよいァラルキルチオ基である場合、例えば、ベンジル基、 ρ—メトキシベンジル基、 2 , 4—ジメトキシベンジル基、 p—または o—エト 口べンジル基、 ; —クロ口べンジル基のような置換または無置換のモノアリール アルキル基を挙げることができる。 置換基を有していてもよいァリールォキシ基 である場合、 例えば、 p—または o—二トロフエニノレオキシ基、 2 , 4—ジ-ト 口フエエルォキシ基、 1〜 3個の塩素、 臭素、 ヨウ素等のハロゲン原子で置換さ れたハログノフェニルォキシ基等が挙げられる。 置換基を有していてもよいへテ ロアリールォキシカルボエル基である場合、 例えば、 2—、 3—または 4 _ピリ ジルォキシ基などが挙げられる。  When it is an aralkylthio group which may have a substituent, for example, benzyl group, ρ-methoxybenzyl group, 2,4-dimethoxybenzyl group, p- or o-ethoxybenzyl group; And substituted or unsubstituted monoarylalkyl groups such as benzyl group. When it is an aryloxy group which may have a substituent, for example, p- or o-ditropheninoleoxy group, 2,4-di-mouth phenoxy group, 1-3 chlorine, bromine, iodine And a halognophenyloxy group substituted with a halogen atom. When it is a heteroaryloxycarboyl group which may have a substituent, examples thereof include a 2-, 3- or 4-pyridyloxy group.
Yが N (R a) S〇2 R bで表される基である場合、 R aは、 アルキル基、 ァルケ -ル基、 オルガノシリル基、 置換基を有していてもよいァリール基、 置換基を有 していてもよいァラルキル基、 または置換基を有していてもよい脂環式基であ り ; R bは、 アルキル基または置換基を有していてもよいァリール基である。 ここで、 R aがアルキル基の具体例としては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 イソプロピル基、 n—ブチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチ ル基、 t e r t—ブチル基、 n—ペンチル基、ィソペンチル基、ネオペンチル基、 へキシノレ、 へプチノレ、 ォクチノレ、 ノエル、 デシノレ、 ゥンデシノレ、 ドデシノレ、 等の 炭素数 1 ~ 1 2のアルキル基が挙げられる。 ァノレケュル基の具体例としては、 例えば、 ビュル、 ァリル、 1 -プロぺニル、 ィ ソプロぺニル、 1ーブテュル、 2—ブテニル、 2—メチルァリル、 等の炭素数 2 乃至 5のアルケニル基が挙げられる。 When Y is a group represented by N (R a ) S〇 2 R b , R a is an alkyl group, a alkenyl group, an organosilyl group, an aryl group which may have a substituent, R b is an alkyl group which may have a substituent or an alicyclic group which may have a substituent; or an alicyclic group which may have a substituent; Here, specific examples of Ra as an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a —Alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexinole, heptinole, octinole, noel, desinole, pendecinole, dodecinole and the like. Specific examples of the phenol group include alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms, such as butyl, aryl, 1-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 2-methylaryl, and the like.
オルガノシリル基の具体例としては、 例えば、 トリメチルシリル基、 トリェチ チルイソプロビルシリル基、 ジメチル (2, 3—ジメチル一 2—プチル) シリル 基、 t e r t—プチルジメチルシリル基、 ジメチルへキシルシリル基などのトリ —炭素数 1〜 6アルキルシリル基;ジメチルクミルシリル基などのジー炭素数 1 〜 6アルキル一炭素数 6〜 1 8ァリールシリル基; t e r t—ブチルジフエ-ル シリル基、 ジフェニルメチルシリル基などのジ—炭素数 6〜 1 8ァリ一ルー炭素 数 1〜 6ァノレキルシリル基; トリフエニルシリル基などのトリ一炭素数 6〜 1 8 リールシリル基; トリベンジルシリル基、 トリー; —キシリルシリル基などの トリ一炭素数 7 ~ 1 9ァラルキルシリル基等のトリ置換シリル基が挙げられる。 置換基を有していてもよいァリール基において、ァリール基の具体例としては、 フエニル基、 a—ナフチル基、 —ナフチル基、 フエナンスリル基などを例示す ることができる。 ここで置換基の具体例としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピ ノレ基、 イソプロピノレ基、 ブチノレ基、 イソブチノレ基、 s e c—ブチノレ基、 t e r t —ブチル基などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 メトキシ基、 ェトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c—ブト キシ基、 t e r t—ブトキシ基などの炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 フッ 素、 塩素、 臭素、 ヨウ素などのハロゲン原子、 ニトロ基などを例示することがで さる。  Specific examples of the organosilyl group include, for example, trimethylsilyl group, triethylisopropylsilyl group, dimethyl (2,3-dimethyl-12-butyl) silyl group, tert-butyldimethylsilyl group, dimethylhexylsilyl group and the like. —C1-6 alkylsilyl group; dimethylcumylsilyl group, etc., dicarbon number 1-6 alkyl / carbon C6-18 arylsilyl group; tert-butyldiphenylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, etc. 6 to 18 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms, 6 to 18 carbon atoms, such as triphenylsilyl group, 6 to 18 carbon atoms, 6 to 18 reel silyl group, tribenzylsilyl group, tree; And trisubstituted silyl groups such as aralkylsilyl groups. In the aryl group which may have a substituent, specific examples of the aryl group include a phenyl group, an a-naphthyl group, a -naphthyl group and a phenanthryl group. Specific examples of the substituent include a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propynole group, an isopropynole group, a butynole group, an isobutynole group, a sec-butynole group, and a tert-butyl group. Methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy and other lower alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, fluorine, chlorine, bromine, iodine And a nitro group.
置換基を有していてもよいァラルキル基において、 ァラルキル基の具体例とし ては、 ベンジル基、 a -フエニルェチル基、 /3 -フエ-ルェチル基、 ひ-フエ-ルプ 口ピル基、 ]3 -フエニルプロピル基、 γ -フエニルプロピル基、 ナフチルメチル基 などの炭素数 6乃至 1 3のァラルキル基が例示することができる。 ここで置換基 の具体例としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 プチル 基、 イソプチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t一プチル基などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ 基、 ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c—プトキシ基、 t e r t—プトキシ基 などの炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 フッ素、 塩素、 臭素、 ヨウ素などの ハロゲン原子、 ニトロ基などを例示することができる。 In the aralkyl group which may have a substituent, specific examples of the aralkyl group include a benzyl group, an a-phenylethyl group, a / 3-phenylethyl group, a phenylpropyl group, and a 3-phenylpropyl group. Examples thereof include an aralkyl group having 6 to 13 carbon atoms, such as a phenylpropyl group, a γ-phenylpropyl group, and a naphthylmethyl group. Here, specific examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group. Group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and other lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group And lower alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, such as tert-butoxy group, halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine, and nitro group.
置換基を有していてもよい脂環式基において脂環式基の具体例としては、 シク 口ペンチル基、 シクロへキシル基、 シクロへプチル基、 シクロオタチル基などの 5乃至 8員環の脂環式基が例示することができ、ここで置換基の具体例としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 プチル基、 イソプチル基、 s e c一プチル基、 t e r t—プチル基などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基 を例示することができる。  Specific examples of the alicyclic group in the alicyclic group which may have a substituent include a 5- to 8-membered alicyclic group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclootatyl group. Examples of the substituent include a cyclic group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples of the lower alkyl group of the formulas 1 to 4 can be given.
好ましい R aとしては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 t e r t—ブチル基などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基;ベンジ ル基、 一フエ-ルェチル基、 ひ一ナフチルェチル基などの置換基を有していて もよ 、炭素数 6〜 1 3のァラルキル基; ビエル基、 ァリル基などの炭素数 2〜 5 のァルケエル基等を例示することができる。 Preferred Ra is a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a tert-butyl group; a benzyl group, a monophenyl group, and a naphthylethyl group. A aralkyl group having 6 to 13 carbon atoms; an aralkyl group having 2 to 5 carbon atoms such as a bier group or an aryl group, which may have a substituent such as a group.
R bがアルキル基の具体例としては、 例えば、 メチル基、 ェチル基、 n—プロ ピル基、 イソプロピル基、 n—ブチル基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t一ブチル基、 11—ペンチル基、 イソペンチル基、 ネオペンチル基、 へキシ ノレ、 ヘプチル、 ォクチル、 ノエル、 デシル、 ゥンデシル、 ドデシル、 等の炭素数 1〜 1 2のアルキル基が挙げられる。 Specific examples of Rb as an alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 11-pentyl group And alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms such as isopentyl group, neopentyl group, hexinole, heptyl, octyl, noel, decyl, pendecyl, dodecyl and the like.
置換基を有していてもよいァリール基において、ァリール基の具体例としては、 フエニル基、 α—ナフチル基、 ]3—ナフチル基、 フエナンスリル基などを例示す ることができる。 ここで置換基の具体例としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピ ル基、 イソプロピル基、 プチノレ基、 イソブチル基、 s e c一プチノレ基、 t e r t 一プチル基などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 メトキシ基、 ェトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c—ブト キシ基、 t e r t—ブトキシ基などの炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 フッ 素、 塩素、 臭素、 ョゥ素などのハロゲン原子、 ニトロ基などを例示することがで さる。 In the aryl group which may have a substituent, specific examples of the aryl group include a phenyl group, an α-naphthyl group, a 3-naphthyl group, a phenanthryl group and the like. Here, specific examples of the substituent include a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group, Methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy Examples thereof include a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as an xy group and a tert-butoxy group, a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine, and a nitro group.
好ましい R bとしては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 ブチル基、 t e r t—プチル基などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基;フエ- ル基、 トリノレ基、 ナフチル基などの置換基を有していてもよい炭素数 5〜1 0の ァリ一ル基等を例示することができる。 Preferred R b is a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and a tert-butyl group; a substitution such as a phenyl group, a trinole group and a naphthyl group; Examples thereof include an aryl group having 5 to 10 carbon atoms which may have a group.
好適な Yとしては、 活性エステル、 置換基を有していてもよいァリールチオ力 ルポニル基、置換基を有していてもよいへテロアリールチオカルボニル基、 N (R a ) S 0 2 R b で表される基、 などを挙げることができる。 Suitable Y, active esters, which may have a substituent Ariruchio force Ruponiru group, to which may have a substituent hetero arylthiocarbonyl group, with N (R a) S 0 2 R b And the groups represented.
本発明において Lで表される水酸基の活性エステル基とは、 水酸基と活性エス テル化剤との反応によって誘導されるエステル基であり、 具体的には、 置換もし くは無置換ァリ一ルスルホン酸エステル基 (置換もしくは無置換ァリ一ルスルホ ニルォキシ基)、 (例えばべンゼンスルホン酸エステル基、 一トルエンスルホン 酸エステル基、 ρ—ニトロベンゼンスルホン酸エステル基、 p—ブロモベンゼン スルホン酸エステル基など)、低級アルカンスル'ホン酸エステル基(低級アルカン スルホ-ルォキシ基)、 (例えばメタンスルホン酸エステル基、 エタンスルホン酸 エステル基など)、 ノヽロゲノ低級アル力ンスルホン酸エステル基(ハロゲノ舰ァ ルカンスルホニルォキシ基)、 (例えばトリフルォロメタンスルホン酸エステル基 など)、ジー低級アルキルホスホリックァシッドエステル基(ジ低級アルキルホス ホリルォキシ基)、 (例えばジメチルホスホリックァシッドエステル基、 ジェチル ホスホリックァシッドエステル基など)、ジーハロゲノ低級アルキルホスホリック アシッドエステル基 (ジ (ハロゲノ低級アルキル) ホスホリルォキシ基)、 (例え ばジ (トリクロロェチノレ) ホスホリックァシッドエステノレ基など)、 ジ (置換もし くは無置換ァリ一ノレ) ホスホリックァシッドエステル基 (ジ (置換または無置換 ァリーノレ) ホスホリルォキシ基)、 (例えばジフエ;^/レホスホリックアシッドエス テノレ基、 ジ一 p—クロ口フエ二ノレホスホリックアシッドエステノレ基、 ジトリノレホ スホリックァシッドエステル基など) を挙げることができる。 In the present invention, the active ester group of a hydroxyl group represented by L is an ester group derived by a reaction between a hydroxyl group and an active esterifying agent, and specifically, a substituted or unsubstituted aryl sulfone. Acid ester group (substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy group), (for example, benzenesulfonic acid ester group, monotoluenesulfonic acid ester group, ρ-nitrobenzenesulfonic acid ester group, p-bromobenzenesulfonic acid ester group, etc.) , Lower alkane sulfonate group (lower alkane sulfo-loxy group), (for example, methane sulphonate group, ethane sulphonate group, etc.), nodogeno lower alkane sulfonate group (halogen dialkane sulphonyloxy group) Group), (for example, trifluoromethanesulfonic acid ester group, etc.) , Di-lower alkylphosphoric acid ester group (di-lower alkylphosphoryloxy group), (for example, dimethylphosphoric acid ester group, getyl phosphoric acid ester group, etc.), dihalogeno lower alkylphosphoric acid ester group (di (halogeno group) (Lower alkyl) phosphoryloxy group), (for example, di (trichloroethynole) phosphoric acid ester group), di (substituted or unsubstituted aryl) phosphoric acid ester group (di (Substituted or unsubstituted arylene) phosphoryloxy group), (for example, diphenyl; ^ / lephosphonic acid ester group, di-p-chloro phenolic acid ester group, ditrinolejo A sholic acid ester group).
このようなアルコールの活性エステル基の中で好適なものとしては、 p—トノレ エンスルホン酸エステル基、 メタンスルホン酸エステル基、 ジフエニルホスホリ ックアシッドエステル基を挙げることができる。 従って、 水酸基の活性エステル 化剤とは力ルバぺネム誘導体 (4 ) と反応して上述のような活性エステルを生成 する試剤である。 具体的に使用されうる活性エステル化試剤は、 ベンゼンスルホ ユルク口リ ド、 p -トノレエンスノレホニノレク口リ ド、 無水一 p一トノレエンスノレホン 酸、 一二ト口ベンゼンスノレホニゾレク口リ ド、 p—プロモベンゼンスノレホニノレク ロリ ド、 メタンスノレホニノレク口リ ド、 エタンスノレホニノレク口リ ド、 トリフノレオ口 メタンスルホニルク口リド、 無水メタンスルホン酸、 無水トリフルォロメタンス ノレホン酸、 ジメチノレクロ口ホスフェート、 ジェチノレクロロホスフェート、 ジ (ト リクロロェチノレ) クロロホスフェート、 ジフエ二/レクロロホスフェート、 ジー ークロロフエニノレクロロホスフェート、 ジトリノレクロロホスフエ一トなどを挙げ ることができる。  Preferable examples of such an active ester group of an alcohol include a p-tonolenesulfonic acid ester group, a methanesulfonic acid ester group, and a diphenylphosphoric acid ester group. Therefore, an active esterifying agent for a hydroxyl group is an agent which reacts with a carbane derivative (4) to produce an active ester as described above. The active esterification reagents that can be specifically used include benzenesulfonuric oleide, p-tonolene snolephoninolek oleide, anhydrous p-tonoleensenolenoic acid, and nitrosone benzenesnolefonizolek Mouth lid, p-Promobenzenes-nolephoninolechloride, Methanesnolehoninolek mouth, Ethans-norehoninolek mouth, Trifnoreo mouth Methanesulfonylk mouth-lid, Methanesulfonic anhydride, Trifluoromethane anhydride Snorrephonic acid, dimethinolechlorophosphate, getinolechlorophosphate, di (trichloroethynole) chlorophosphate, diphenyl / lechlorophosphate, g-chlorophenylenolechlorophosphate, ditrinolechlorophosphate, etc. Can be.
本発明の一般式 (7 ) のマグネシウム化合物おょぴ一般式 (4 ) のカルバぺネ ム誘導体において、 R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2 乃至 5のアルケニル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していても よい 5乃至 8員環の脂環式基、 .(4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1 乃至 4の低級アルコキシ基、ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲ ン原子が置換していてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキ ル基が置換したジアルキルアミノ基であり ; R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のァ ルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のアルケニル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アル キル基が置換していてもよい 5乃至 8員環の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低 級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換してい てもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の 低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアルキルアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホニノレオキシ基、 (9) ベンゼンスノレホニノレォキシ基、 (10) p—トノレエ ンスルホニルォキシ基、 (11) トリフルォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハ ロゲン原子、 シァノ基が置換していてもよいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基 (R 1 0は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 置換基を有していてもよいフエ二 ル基、 または置換基を有していてもよいべンジル基である。) である。 In the magnesium compound of the general formula (7) of the present invention and the carbamine derivative of the general formula (4), R 8 represents (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) An alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may be substituted with a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted by a halogen atom, (5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom An optionally substituted benzyl group, or (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 9 is (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, (3) lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with 5 to 8 An alicyclic group of a ring, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) a 1 to 4 carbon atom A lower alkyl group having 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) a carbon number A dialkylamino group substituted with an alkyl group of 1 to 12; (7) a halogen atom; (8) a methanesulfoninoleoxy group; (9) a benzenesnorhononoleoxy group; and (10) p-tonolenesulfonyloxy (11) a trifluoromethanesulfonyloxy group, (12) an acetoxy group which may be substituted by a halogen atom or a cyano group, or (13) an OR 10 group (R 10 is a group having 1 to 4 carbon atoms. A lower alkyl group, a phenyl group optionally having a substituent, or a benzyl group optionally having a substituent.).
ここで、 R 8の具体例としては、 (1) メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピ ノレ、 ブチノレ、 ィソブチノレ、 s e c—プチノレ、 t e r tーブチノレ、 ペンチノレ、 へキ シル、 ヘプチル、 ォクチノレ、 ノエル、 デシル、 ゥンデシル、 ドデシルなどの炭素 数 1乃至 1 2のアルキノレ基、 (2) ビュル、 ァリル、 1-プロぺエル、 イソプロぺニ ル、 1 -プテュル、 2-ブテエル、 2-メチルァリルなどの炭素数 2乃至 4のァルケ二 ル基、 (3) シク口ペンチル、 シクロへキシル、 シク口へプチノレ、 シクロォクチノレ などの置換基を有していてもよい 5乃至 8員環の脂環式基 (ここで置換基とは、 メチノレ、 ェチル、 プロピル、 イソプロピノレ、 プチノレ、 イソプチノレ、 s e c—プチ ル、 t e r t _ブチルなどの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基である。)、 (4) 置 換基を有していてもよいフエニル基 (ここで置換基とは、 メチル、 ェチル、 プロ ピル、 イソプロピル、 プチル、 イソプチル、 s e c一プチノレ、 t e r t一プチノレ などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 メ トキシ、 エトキシ、 プロポキシ、 ィ ソプロボキシ、 プトキシ、 イソブトキシ、 s e c—ブトキシ、 t e r t—ブトキ シなどの炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、 ョゥ素原子などのハロゲン原子である。)、(5)置換基を有していてもよいべンジノレ 基 (ここで置換基とは、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチル、 ィ ソブチル、 s e c一プチル、 t e r t—ブチルなどの炭素数 1乃至 4の低級アル キル基、 メ トキシ、 エトキシ、 プロボキシ、 イソプロポキシ、 ブトキシ、 イソプ トキシ、 s e c—ブトキシ、 t e r t—ブトキシなどの炭素数 1乃至 4の低級ァ ルコキシ基、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子などのハロゲン原子 である。)、 (6) ジェチルァミノ、 ジイソプロピルァミノ、 ピペリジル、 ピロリジ ルなどの炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアルキルァミノ基を例示す ることができる。 Here, specific examples of R 8 include (1) methyl, ethyl, propyl, isopropynole, butynole, isobynole, sec-petitinole, tert-butynole, pentinole, hexyl, heptyl, octinole, noel, decyl, pendecyl, C1 to C12 alkynole groups such as dodecyl; (2) C2 to C4 alkynyl groups such as butyl, aryl, 1-propyl, isopropyl, 1-butyl, 2-butenyl, 2-methylaryl, etc. Alkenyl group, (3) 5- to 8-membered alicyclic group which may have a substituent, such as pentyl, cyclohexyl, cyclohexyl, cyclooctynole, etc. A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methinole, ethyl, propyl, isopropynole, petitnole, isoptinole, sec-butyl, tert-butyl, etc.), (4) a phenyl group which may have a substituent (here, the substituent means a group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isoptyl, sec-butynole, tert-butynole, etc.) A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a lower alkyl group such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, A halogen atom such as an elemental atom), (5) a benzyl group which may have a substituent (substituents are methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl) C 1 -C 4 lower alkyl groups such as tert-butyl, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isotoki A lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, such as cis, sec-butoxy, tert-butoxy, etc., and a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom.), (6) getylamino, diisopropylamino , Piperidyl, pyrrolidi Examples thereof include a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as an alkyl group.
R 9の具体例としては、 (1) メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチ ノレ、 イソブチノレ、 s e cーブチノレ、 t e r t—プチノレ、 ペンチル、 へキシル、 へ プチル、 ォクチル、 ノエル、 デシル、 ゥンデシル、 ドデシルなどの炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) ビュル、 ァリノレ、 1 -プロぺエル、 イソプロぺニル、 1 -ブ テニル、 2-ブテュル、 2-メチルァリルなどの炭素数 2乃至 4のアルケニル基、 (3) シクロペンチル、 シクロへキシル、 シクロへプチル、 シクロォクチルなどの置換 基を有していてもよい 5乃至 8員環の脂環式基 (ここで置換基とは、 メチノレ、 ェ チル、 プロピル、 イソプロピル、 ブチル、 イソブチル、 s e c一プチル、 t e r t一ブチルなどの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基である。)、 (4) 置換基を有し ていてもよいフエニル基 (ここで置換基とは、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソ プロピノレ、 プチノレ、 イソプチノレ、 s e c—プチ/レ、 t e r t—プチノレなどの炭素 数 1乃至 4の低級アルキル基、 メ トキシ、 エトキシ、 プロボキシ、 イソプロポキ シ、 ブトキシ、 イソブトキシ、 s e cープトキシ、 t e r t—ブトキシなどの炭 素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原 子などのハロゲン原子である。)、 (5)置換基を有していてもよいベンジル基(ここ で置換基とは、 メチル、ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチル、イソプチル、 s e cーブチル、 t e r t一ブチルなどの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 メ トキシ、 エトキシ、 プロポキシ、 イソプロポキシ、 ブトキシ、 イソブトキシ、 s e c—ブトキシ、 t e r t _ブトキシなどの炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 フッ素原子、塩素原子、臭素原子、 ヨウ素原子などのハロゲン原子である。)、 (6) ジェチルァミノ、 ジイソプロピルァミノ、 ピペリジル、 ピロリジルなどの炭素数Specific examples of R 9 is (1) methyl, Echiru, propyl, isopropyl, Petit Honoré, Isobuchinore, sec Buchinore, tert- Puchinore, pentyl, hexyl, heptyl, Okuchiru, Noel, decyl, Undeshiru, such as dodecyl An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms such as butyl, arinole, 1-produle, isopropyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 2-methylaryl, (3) a 5- to 8-membered alicyclic group which may have a substituent such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl (where the substituent is methinole, ethyl, propyl, A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, etc.), (4) having a substituent A phenyl group (where the substituent means a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropinole, petitinole, isoptinole, sec-petit / re, tert-butylinole, methoxy, ethoxy) , A lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, such as propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, and a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.), ( 5) a benzyl group which may have a substituent (where the substituent means a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isoptyl, sec-butyl, tert-butyl, etc.) , Methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, t a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, such as ert_butoxy, and a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.), (6) carbon atoms such as getylamino, diisopropylamino, piperidyl, and pyrrolidyl. number
1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアルキルアミノ基、 (7) フッ素原子、 塩素 原子、 臭素原子、 ヨウ素原子などのハロゲン原子、 (8) メタンスルホニルォキシ 基、 (9) ベンゼンスルホ-ルォキシ基、 (10) p—トルエンスルホ-ルォキシ基、 (11) トリフルォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、 シァノ基が 置換していてもよいァセトキシ基 (ここで、 具体例としては α—フルォロアセト キシ、 α—クロロアセトキシ、 ひ一プロモアセトキシ、 α—ョードアセトキシ、 a , 一ジフノレオロアセトキシ、 α , α—ジクロロァセトキシ、 ひーシァノアセ トキシなどのハロゲン原子、 シァノ基が置換していてもよいァセトキシ基であ る。)、 (13) O R 1 0基 (ここで、 R 1 0 の具体例としてはメチル、 ェチル、 プロ ピル、 イソプロピル、 ブチル、 イソプチル、 s e cーブチノレ、 t e r t一ブチル などの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 置換基を有していてもよいフエニル基 または置換基を有していてもよいベンジル基 (ここで置換基とは、 メチル、 ェチ ノレ、 プロピノレ、 イソプロピノレ、 プチノレ、 イソプチ/レ、 s e c—ブチノレ、 t e r t —プチルなどの炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 メトキシ、 エトキシ、 プロボ キシ、 イソプロポキシ、 ブトキシ、 イソブトキシ、 s e c _ブトキシ、 t e r t —ブトキシなどの炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子などのハロゲン原子である。) が例示される。) などを例示 することができる。 A dialkylamino group substituted by an alkyl group of 1 to 12; (7) a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom; (8) a methanesulfonyloxy group; and (9) a benzenesulfo-oxy group (10) p-toluenesulfonyloxy group, (11) trifluoromethanesulfonyloxy group, (12) halogen atom and cyano group. Optionally substituted acetoxy group (specific examples are α-fluoroacetoxy, α-chloroacetoxy, hy-promoacetoxy, α-odoacetoxy, a, diphenylenoacetoxy, α, α -dichloroacetate A halogen atom such as xy, cyanoacetoxy, etc., or an acetooxy group which may be substituted by a cyano group.), (13) OR 10 group (here, specific examples of R 10 include methyl, ethyl, Lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as propyl, isopropyl, butyl, isopropyl, sec-butynole, tert-butyl, etc .; a phenyl group which may have a substituent; or a benzyl group which may have a substituent. (Here, the substituents include methyl, ethanol, propynole, isopropynole, petitnole, isopti / le, sec-butynole, tert-butyl, etc. A lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec_butoxy, tert-butoxy, a fluorine atom, a chlorine atom, And halogen atoms such as a bromine atom and an iodine atom.) Are exemplified.) And the like.
一般式 ( 7 ) で表されるマグネシゥム化合物の具体例としては、 メチルマグネ シゥムクロリ ド、 メチ /レマグネシウムブロミド、 メチノレマグネシゥムョージド、 メチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 メチノレマグネシウム ρ—ト /レエンスノレ ホナート、 メチルマグネシゥムメ トキシド、 メチノレマグネシゥムエトキシド、 メ チノレマグネシウム t e r tーブトキシド、 メチノレマグネシウムフエノキシド、 ェ チノレマグネシウムク口リ ド、 ェチノレマグネシウムプロミド、 ェチ /レマグネシウム ョージド、 ェチノレマグネシウムメタンスゾレホナート、 ェチノレマグネシウム ρ—ト ノレエンス/レホナート、 ェチゾレマグネシウムメトキシド、 ェチノレマグネシウムエト キシド、 ェチノレマグネシウム t e r tーブトキシド、 ェチノレマグネシウムフエノ キシド、 プロピルマグネシウムクロリ ド、 プロピルマグネシウムプロミ ド、 プロ ピルマグネシウムョージド、 プロピルマグネシウムメタンスルホナート、 プロピ ルマグネシゥム p—トルェンスルホナート、 プロピルマグネシゥムメトキシド、 プロピルマグネシウムェトキシド、プロピルマグネシウム t e r t—プトキシド、 プロピノレマグネシウムフエノキシド、 i s o—プロピノレマグネシウムク口 リ ド、 i s o—プロピノレマグネシウムプロミ ド、 i s o—プロピノレマグネシウムョージ ド、 i s o—プロピ /レマグネシゥムメタンスノレホナ一ト、 i s o—プロピゾレマグ ネシゥム p—トノレエンスノレホナート、 i s o—プロピ /レマグネシウムメ トキシド、 i s o—プロピルマグネシウムエトキシド、 i s o—プロピルマグネシウム t e r tープトキシド、 i s o一プロピノレマグネシウムフエノキシド、 n—プチノレマ グネシゥムクロリ ド、 n—ブチノレマグネシゥムプロミ ド、 n—プチノレマグネシゥ ムョージド、 n -ブチルマグネシゥムメタンスルホナート、 n一プチノレマグネシ ゥム p—トルェンスルホナート、 n _プチルマグネシゥムメ トキシド、 n _プチ ルマグネシウムエトキシド、 n—ブチノレマグネシウム t e r t—プトキシド、 n 一プチノレマグネシゥムフエノキシド、 i s o—プチノレマグネシゥムクロリ ド、 i s o-プチノレマグネシゥムブロミド、 i s o—プチノレマグネシゥムョージド、 i s o—ブチノレマグネシウムメタンス /レホナ一ト、 i s o—プチノレマグネシウム p ー トノレエンスノレホナート、 i s o—ブチノレマグネシウムメ トキシド、 i s o—ブ チノレマグネシウムエトキシド、 i s o—プチノレマグネシウム t e r t一ブトキシ ド、 i s o—ブチルマグネシゥムフエノキシド、 s e c—プチノレマグネシゥムク 口リ ド、 s e c—ブチノレマグネシウムブロミド、 s e c—プチノレマグネシウムョ ージド、. s e c—プチノレマグネシウムメタンスノレホナ一...ト、 s e c一プチノレマク ネシゥム p—トルエンスノレホナート、 s e c—ブチルマグネシウムメ トキシド、 s e c一プチノレマグネシウムェトキシド、 s e c -ブチルマグネシゥム t e r t —プトキシド、 s e c—プチノレマグネシウムフエノキシド、 i s o—ブチノレマグ ネシゥムクロリ ド、 i s o—プチノレマグネシウムブロミド、 i s o—ブチノレマグ ネシゥムメタンスノレホナー ト、 i s o—プチノレマグネシウム p—トノレエンスノレホ ナー ト、 i s o—ブチノレマグネシウムメ トキシド、 i s o—プチノレマグネシウム ェトキシド、 i s o—プチノレマグネシウム t e r t—プトキシド、 i s o—プチ ノレマグネシウムフエノキシド、 t e r t—ブチノレマグネシウムクロリ ド、 t e r t一ブチノレマグネシゥムブ口ミド、 t e r t—ブチノレマグネシゥムョージド、 t e r t—プチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 t e r t一ブチルマグネシゥ ム ρ—トノレエンスノレホナート、 t e r t—ブチノレマグネシウムメ トキシド、 t e r t一プチノレマグネシウムェトキシド、 t e r t—プチノレマグネシウム t e r t —プトキシド、 t e r t—プチノレマグネシウムフエノキシド、 シク口ペンチノレマ グネシゥムクロリ ド、 シクロペンチノレマグネシウムブロミド、 シクロペンチノレマ グネシゥムョージド、 シク口ペンチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 シク口 ペンチノレマグネシウム ρ— トノレエンスノレホナート、 シク口ペンチノレマグネシウム メ トキシド、 シク口ペンチルマグネシウムェトキシド、 シク口ペンチルマグネシ ゥム t e r tーブトキシド、 シクロペンチノレマグネシウムフエノキシド、 シクロ へキシノレマグネシウムク口リ ド、 シクロへキシノレマグネシウムプロミド、 シクロ へキシグレマグネシウムョージド、 シク口へキシノレマグネシウムメタンスノレホナー ト、 シク口へキシノレマグネシウム ― トノレエンスノレホナート、 シク口へキシノレマ グネシゥムメトキシド、 シクロへキシノレマグネシウムエトキシド、 シクロへキシ ノレマグネシウム t e r t一ブトキシド、 シクロへキシノレマグネシウムフエノキシ ド、 フエ二ノレマグネシウムクロリ ド、 フエ二ノレマグネシウムプロミ ド、 フエ-ノレ マグネシウムョージド、 フエ二ノレマグネシウムメタンスノレホナート、 フエ二ノレマ グネシゥム t e r t—ブトキシド、 : —トリルマグネシウムク口リ ド、 p—トリ ルマグネシウムブ pミド、 ρ—トリルマグネシウムョージド> ρ—トリルマグネ シゥムメタンスルホナート、 p—ト リルマグネシウム p—トルエンスルホナート、 ρ—トリノレマグネシウムメ トキシド、 : —トリノレマグネシウムェトキシド、 p— トリノレマグネシウム t e r tープトキシド、 p— ト リノレマグネシウムフエノキシ ドを例示することができる。 Specific examples of the magnesium compound represented by the general formula (7) include methylmagnesium chloride, meth / remagnesium bromide, methinoremagnesium methoxide, methinolemagnesium methanesulfonate, and methinolemagnesium ρ— / Reensnore Honate, Methylmagnesium methoxide, Methynoremagnesium ethoxide, Methynoremagnesium tert-butoxide, Methynoremagnesium phenoxide, Etinole magnesium oxide lid, Etinole magnesium bromide, Etch / Lemagnesium roside, ethinolesmagnesium methanesolephonate, ethinolesmagnesium ρ-north / rehonate, ethizolemagnesium methoxide, ethinolesmagnesium ethoxide, ethynolemagnesium tert-butoxide Ethynolemagnesium phenoxide, propylmagnesium chloride, propylmagnesium bromide, propylmagnesium chloride, propylmagnesium methanesulfonate, propylmagnesium p-toluenesulfonate, propylmagnesiummethoxide, propylmagnesiumethoxy Cid, propylmagnesium tert-butoxide, Propinole magnesium phenoxide, iso-propynolemagnesium chloride, iso-propynolemagnesium bromide, iso-propynolemagnesium oxide, iso-propine / lemagnesium methanesulfonate, iso —Propizolemagnesium p—tonoreensenolephonate, iso—propy / lemagnesium methoxide, iso—propylmagnesium ethoxide, iso—propylmagnesium tert-butoxide, iso-propinolemagnesium phenoxide, n—ptinolemagnesium chloride, n —Butinoremagnesium promide, n-butylinomagnesium moxide, n-butylmagnesium methanesulfonate, n-butylinomagnesium p-toluenesulfonate, n_butylethylmagnesium methoxide, n_petite Lemagnesium ethoxy , N-butynolemagnesium tert-butoxide, n-butynolemagnesium phenoxide, iso-butynolemagnesium chloride, iso-butynolemagnesium bromide, iso-butynolemagnesium bromide , Iso-butynolemagnesium methanes / lefonate, iso-butynolemagnesium p-tonorenesnorefonate, iso-butynolemagnesium methoxide, iso-butynolemagnesium ethoxide, iso-butynolemagnesium tert- Butoxide, iso-butylmagnesium phenoxide, sec-butynolemagnesium mouth lid, sec-butynolemagnesium bromide, sec-butynolemagnesium chloride, sec-petitinolemagnesium methanesnorreona .. , Sec-Petinoremac Nesium p-toluenesolephonate, sec-butylmagne Sium methoxide, sec-butinolemagnesium ethoxide, sec-butylmagnesium tert-butoxide, sec-butynolemagnesium phenoxide, iso-butynolemagnesium chloride, iso-butynolemagnesium bromide, iso-butynolemagnesium methane Snorehonate, iso-p-inolemagnesium p-tonolene snorehonate, iso-butinolemagnesium methoxide, iso-butinolemagnesium ethoxide, iso-poutinolemagnesium tert-butoxide, iso-butylinolemagnesium phenoxide Tert-butynolemagnesium chloride, tert-butynolemagnesium chloride, tert-butynolemagnesium chloride, t ert-ptinolemagnesium methanesulfonate, tert-butylmagnesium ρ-tonolenesnolephonate, tert-butynolemagnesium methoxide, tert-butynolemagnesium ethoxide, tert-butyltinolemagnesium tert-butoxide, tert —Ptinolemagnesium phenoxide, pentopenere magnesium chloride, cyclopentinolemagnesium bromide, cyclopentinolemagnesium mosidide, pentopenolemagnesium methanesnolehonate, syrup mouth pentinolemagnesium ρ—tonolenesnorre Hornate, pen mouth magnesium methoxide, pentyl magnesium ethoxide head, pentyl magnesium tert-butoxide, cyclopentinole magnesium phenoxide, cyclohexyl Noremagnesium chloride, cyclohexinolemagnesium bromide, cyclohexiguremagnesium chloride, cyclohexenemagnesium methanesorephonate, cyclohexenemagnesolephonate magnesium Hexinolemagnesium methoxide, cyclohexynolemagnesium ethoxide, cyclohexynolemagnesium tert-butoxide, cyclohexynolemagnesium phenoxide, fenanolene magnesium chloride, feninolemagnesium promide, phe -Nomagnesium oxide, feninolemagnesium methanesulfonate, feninolemagnesium tert-butoxide, : -tolylmagnesium chloride, p-tolylmagnesiumbutamide, ρ-tolylmagnesium oxide > ρ-tolylmagnesium methanesulfonate, p-tolylmagnesium p-toluenesulfonate, ρ-torinolemagnesium methoxide,: —torinolemagnesium ethoxide, p-torinolemagnesium tert-butoxide, p-torinole An example is magnesium phenoxide.
好ましい一般式 (7 ) で表されるマグネシウム化合物の具体例としては、 メチ ノレマグネシゥムクロリ ド、 メチルマグネシゥムプロミド、 メチノレマグネシゥムョ —ジド、 メチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 メチノレマグネシウム t e r t ーブトキシド、 ェチノレマグネシウムクロリ ド、 ェチノレマグネシウムブロミド、 ェ チノレマグネシゥムョージド、 ェチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 ェチノレマ グネシゥム t e r t—ブトキシド、 プロピルマグネシウムク口リ ド、 プロピルマ グネシゥムプロミド、 プロピルマグネシゥムョ一ジド、 プロピルマグネシゥムメ タンス/レホナート、 プロピノレマグネシウム t e r tーブトキシド、 i s o—プロ ピノレマグネシウムク口リ ド、 i s o—プロピルマグネシウムプロミド、 i s o— プロピノレマグネシウムョージド、 i s o _プロピノレマグネシウムメタンスノレホナ ート、 i s o—プロピルマグネシウム t e r t—プトキシド、 n—プチルマグネ シゥムクロリ ド、 n—プチノレマグネシゥムブロミ ド、 n _プチノレマグネシゥムョ 一ジド、 n—ブチルマグネシゥムメタンスルホナート、 n—ブチルマグネシゥム t e r t—プトキシド、 s e c—プチノレマグネシウムクロリ ド、 s e c—プチノレ マグネシウムプロミド、 s e c—ブチノレマグネシウムョージド、 s e c—ブチノレ マグネシウムメタンスノレホナート、 s e c—ブチノレマグネシウム t e r t—ブト キシド、 i s o—プチノレマグネシウムクロリ ド、 i s o—プチノレマグネシウムブ 口ミ ド、 i s o—プチノレマグネシウムョージド、 i s o—プチノレマグネシウムメ タンスノレホナート、 i s o—プチノレマグネシウム t e r t—プトキシド、 t e r t—プチノレマグネシウムク口 リ ド、 t e r t—プチノレマグネシウムプロミ ド、 t e r t一プチノレマグネシウムョージド、 t e r t—プチノレマグネシウムメタンス ノレホナート、 t e r t—プチノレマグネシウム t e r tーブトキシド、 フエ二ノレマ グネシゥムクロリ ド、 フエ二ノレマグネシゥムプロミド、 フエ二ノレマグネシゥムョ ージド、 フエエノレマグネシゥムメタンス/レホナート、 フエ二/レマグネシゥム t e r t—ブトキシド、 p—トリルマグネシウムク口リ ド、 p—トリルマグネシウム ブロミ ド、 p—ト リノレマグネシウムョージド、 p—ト リノレマグネシウムメタンス ノレホナート、 p—トリノレマグネシウム t e r t _ブトキシド、 ベンジノレマグネシ ゥムクロリ ド、ベンジルマグネシウムブロミド、ベンジルマグネシウムョージド、 ベンジ /レマグネシウムメタンスノレホナート、 ベンジノレマグネシウム t e r t—ブ トキシドなどが挙げられる。 Specific examples of preferred magnesium compounds represented by the general formula (7) include methyl magnesium chloride, methyl magnesium bromide, methyl magnesium bromide, methinolesmagnesium methanesulfonate, methyl Noremagnesium tert butoxide, ethinole magnesium chloride, ethinole magnesium bromide, ethinoremagnesium moside, ethinole magnesium methanesnolehonate, ethinolema Gnesium tert-butoxide, propylmagnesium chloride, propylmagnesium bromide, propylmagnesium methoxide, propylmagnesium methance / rephonate, propinole magnesium tert-butoxide, iso-propynolemagnesium chloride , Iso-propylmagnesium bromide, iso-propynolemagnesium oxide, iso_propynolemagnesium methanesulfonate, iso-propylmagnesium tert-butoxide, n-butylmagnesium chloride, n-butyltinmagnesium bromide N-butyltin magnesium methanesulfonate, n-butylmagnesium methanesulfonate, n-butylmagnesium tert-butoxide, sec-butylinolemagnesium chloride, sec-butylinolemagnesium bromide, sec-butylinole Magnesium oxide, sec-butynolemagnesium methanesulfonate, sec-butynolemagnesium tert-butoxide, iso-butynolemagnesium chloride, iso-butynolemagnesium chloride, iso-butynolemagnesium chloride , Iso-Ptino-le-magnesium methanolephonate, iso-p-t-in-le-magnesium tert-poxide, tert-p-in-le-magnesium chloride, tert-p-in-le-magnesium bromide, tert-p-in-le-magnesium oxide, tert- Petinolemagnesium methanes olefonate, tert-butyltinmagnesium tert-butoxide, feninolemagnesium chloride, feninolemagnesium bromide, feninolemagnesium methoxide, phenenomagnesium methanes / rehonate, fenin / Remagnesi Pem tert-butoxide, p-tolylmagnesium chloride, p-tolylmagnesium bromide, p-tolynomagnesium oxide, p-tolynomagnesium methanes norefonate, p-tolynomagnesium tert_butoxide Benzinolemagnesium chloride, benzylmagnesium bromide, benzylmagnesium oxide, benzine / lemagnesium methanesulfonate, benzinolemagnesium tert-butoxide and the like.
マグネシウム化合物 ( 7 ) の製造方法としては特に制限されないが、 例えば、 D. A. Shirley ; Org. React. , Vol. 8, pp. 28 〜58 (1954) に記載の方法あるい はこれは準ずる方法により合成することができる。 また、 市販品を使用してもよ い。 The method for producing the magnesium compound (7) is not particularly limited, and examples thereof include a method described in DA Shirley; Org. React., Vol. 8, pp. 28-58 (1954). Can be synthesized by a similar method. Also, commercially available products may be used.
これらのマグネシウム化合物は、 単独用いても、 また二種以上を適宜祖合わせ て用いてもよい。  These magnesium compounds may be used alone or in combination of two or more.
一般式 (3 ) のァゼチジノン誘導体の製造方法としては特に制限されないが、 特開平 9— 3 1 0 5 5号公報に記載の方法あるいはこれに準ずる方法により製造 することができる。 例えば、 下記反応式に従って製造することができる。  The method for producing the azetidinone derivative of the general formula (3) is not particularly limited, but it can be produced by the method described in JP-A-9-31055 or a method analogous thereto. For example, it can be produced according to the following reaction formula.
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(式中、 R 1乃至 R 5、 Xおよび Yは、 前記と同義である。) (In the formula, R 1 to R 5 , X and Y are as defined above.)
ァゼチジノン化合物 ( 1 ) と酢酸エステノレ誘導体 (2 ) との反応は、 アルゴン や窒素のような不活性ガスの雰囲気下、 有機溶媒中、 塩基の存在下に実施するこ とができる。 . .  The reaction of the azetidinone compound (1) with the esterinole acetate derivative (2) can be carried out in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen, in an organic solvent, in the presence of a base. .
溶媒としては、 反応に関与しない不活性な溶媒であればよく、 例えば、 ペンタ ン、 へキサン、 ヘプタン等の炭化水素系溶媒、 塩化メチレン、 クロ口ホルム等の 塩素系溶媒、ベンゼン、クロ口ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族系溶媒、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピノレエ一テル、 テトラヒ ドロフラン、 ジメ トキシ ェタン、 1, 3-ジォキソラン、 ジォキサン等のエーテル系溶媒の有機溶媒或いはそ れら混合溶媒を好適に用いることができる。  The solvent may be any inert solvent that does not participate in the reaction, for example, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; chlorine solvents such as methylene chloride and chloroform; benzene; Organic solvents such as aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, etc., organic solvents such as getyl ether, diisopropinoether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 1,3-dioxolan, and dioxane, or a mixed solvent thereof. Can be suitably used.
塩基としては、 1 , 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ] _ 7—ゥンデセン (D B U) 等の有機塩基、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム等の水素化アルカリ金 属類、 ナトリウムアミド、 リチウムジイソプロピルアミド、 リチウムへキサメチ ルジシラジド等のアミン類の金属塩、 水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム、 炭酸 ナトリウム、 炭酸カリウム、 カリウム t一ブトキシド等の各種の塩基を挙げるこ とができる。 Examples of the base include organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] _7-indene (DBU), alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, sodium amide, lithium diisopropylamide , Lithium hexamethi Examples thereof include metal salts of amines such as rudisilazide, and various bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and potassium t-butoxide.
反応温度は、 塩基を一 50〜 80 °C好ましくは一 20〜 60 °Cで滴下し、 反応 時間は、 60分〜 180分で行なう。 反応のモル比は、 一般式 (1) で表わされ るァゼチジノン化合物 1モルに対し、 一般式 (2) で表わされる酢酸エステル誘 導体を約 1〜 2モル程度、 好ましく約 1. 2〜1. 5モル程度、 塩基は酢酸エス テル誘導体と等モルである。 反応終了後は通常の後処理を行なうことにより、 目 的物を単離することができる。  The reaction is carried out at a temperature of from 150 to 80 ° C, preferably from 120 to 60 ° C, for a reaction time of 60 to 180 minutes. The molar ratio of the reaction is such that the acetate derivative represented by the general formula (2) is about 1 to 2 mol, preferably about 1.2 to 1 mol per mol of the azetidinone compound represented by the general formula (1). The base is equimolar to the ester acetate derivative in about 5 moles. After completion of the reaction, the target substance can be isolated by performing ordinary post-treatment.
また、 原料の一般式 (1) で表されるァゼチジノン誘導体の製造方法としては 特に制限されないが、 特開 2000— 44538号公報に記載の方法あるいはこ れに準ずる方法により製造することができる。  The method for producing the azetidinone derivative represented by the general formula (1) as a raw material is not particularly limited, but it can be produced by the method described in JP-A-2000-44538 or a method analogous thereto.
以下に、 本発明の製造方法について具体的に説明する。  Hereinafter, the production method of the present invention will be specifically described.
本発明の製造方法を実施するには、 たとえば、 アルゴンや窒素のような不活性 ガス雰囲気下、 有機溶媒中、 一般式 (3) のァゼチジノン誘導体と一般式 (7) のマグネシゥム化合物とを反応させ環化し、 マグネシゥム塩であるカルバぺネム 誘導体 (4) を生成させた後、 次いで水酸基の活性エステル化剤で処理すること により、 一般式 (5) の力ルバぺネム化合物を製造することができる。 ― . ァゼチジノン誘導体 (3) のマグネシウム化合物 (7) による環化反応に当た つては、 マグネシウム化合物を有機溶媒に溶解または懸濁させた溶液に、 ァゼチ ジノン誘導体 (3) を有機溶媒に溶解した溶液を滴下して反応させる方法が好ま しく採用される。  In order to carry out the production method of the present invention, for example, the azetidinone derivative of the general formula (3) is reacted with the magnesium compound of the general formula (7) in an organic solvent under an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen. After cyclization to produce a carbanemine derivative (4), which is a magnesium salt, the compound is then treated with an active esterifying agent for a hydroxyl group, whereby a carbanemene compound represented by the general formula (5) can be produced. . ―. In the cyclization reaction of the azetidinone derivative (3) with the magnesium compound (7), the azetidinone derivative (3) was dissolved in the organic solvent in a solution in which the magnesium compound was dissolved or suspended in the organic solvent. A method in which a solution is dropped and reacted is preferably employed.
ァゼチジノン誘導体 (3) とマグネシウム化合物 (7) との使用割合は、 ァゼ チジノン誘導体 (3) の 1モルに対し、 マグネシウム化合物 (7) が約 1〜8モ ルであるのが好ましく、 約 2~ 5モルであるのがより好ましい。  The ratio of the azetidinone derivative (3) and the magnesium compound (7) used is preferably about 1 to 8 mol of the magnesium compound (7) per 1 mol of the azetidinone derivative (3). More preferably, it is 5 mol.
マグネシウム化合物 (7) の具体例としては、 前述した化合物などを挙げるこ とができ、 これらの 1種または 2種以上を用いることができる。 有機溶媒としては、 ァゼチジノン誘導体 (3 ) のマグネシウム化合物 ( 7 ) に よる環化反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒が用いられ、 例えば、 ペンタン、 へ キサン、 ヘプタン等の炭化水素系溶媒、 塩化メチレン、 クロ ホルム等の塩素系 溶媒、 ベンゼン、 クロ口ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族系溶媒、 ジェSpecific examples of the magnesium compound (7) include the compounds described above, and one or more of these compounds may be used. As the organic solvent, an organic solvent that does not adversely affect the cyclization reaction of the azetidinone derivative (3) with the magnesium compound (7) is used. For example, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, methylene chloride, Chlorinated solvents such as chloroform, aromatic solvents such as benzene, benzene, toluene, xylene, etc.
5 チルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジメ トキシエタ ン、 1, 3—ジォキソラン、 ジォキサン等のエーテル系溶媒などを挙げることが でき、 それらの 1種または 2種以上を用いることができる。 それらのうちでも、 テトラヒドロフランおよび /またはトルエンが操作性が良好で且つ経済的に安価 である点から好ましく用いられる。 有機溶媒の使用量は、 通常、 ァゼチジノン化 0 合物(3 )の 1質量部に対して、約 0 . 5〜 2 0倍容量部であることが好ましく、 約 1〜; L 0倍容量部であることがより好ましレ、。 Examples thereof include ether solvents such as 5-butyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 1,3-dioxolan, and dioxane, and one or more of them can be used. Among them, tetrahydrofuran and / or toluene are preferably used because they have good operability and are economically inexpensive. Usually, the amount of the organic solvent used is preferably about 0.5 to 20 times by volume, and more preferably about 1 to L0 times by volume, relative to 1 part by mass of the azetidinone compound (3). Les, more preferred to be.
マグネシウム化合物を有機溶媒に溶解または懸濁させた溶液に、 ァゼチジノン 誘導体( 3 )を有機溶媒に溶解した溶液を滴下して環化反応を行うに当たっては、 ァゼチジノン誘導体 (3 ) を有機溶媒に溶解した溶液の滴下時間は、 通常約;!〜 5 1 80分間とすることが好ましく、 約 5 ~ 6 0分間とすることがより好ましい。  In performing a cyclization reaction by dropping a solution in which the azetidinone derivative (3) was dissolved in an organic solvent to a solution in which the magnesium compound was dissolved or suspended in the organic solvent, the azetidinone derivative (3) was dissolved in the organic solvent. The dropping time of the solution is usually preferably about;! To 5180 minutes, more preferably about 5 to 60 minutes.
環化反応の温度としては、 好ましくは約一 5 0〜 1 5 0 °C、 より好ましくは約一 2 0 - 8 0 °Cの温度が採用され、前記温度を保ちながらァゼチジノン誘導体( 3 ) The temperature of the cyclization reaction is preferably about 150 to 150 ° C, more preferably about 120 to 80 ° C, and the azetidinone derivative (3)
― - を有機溶媒に溶解した溶液の滴下終了後に約 0 . 5〜 1 5時間、 好ましくは約 1 〜 5時間反応させることによってカルパぺネム誘導体 (4 ) を円滑に製造するこ 0 とができる。 The carpanem derivative (4) can be produced smoothly by reacting for about 0.5 to 15 hours, preferably about 1 to 5 hours after the completion of the dropwise addition of the solution in which-is dissolved in the organic solvent. .
前記した環化反応により得られるマグネシゥム塩である力ルバぺネム誘導体 ( 4 ) は、 従来にない新規の化合物であり、 前記環化反応の混合溶液中において 数時間の間は安定に存在する。 しかしながら長期の保存においては、 水等の影響 を受け、 ェノール体からケトン体へと変換する。 そのため、 前記環化反応によつ 5 て得られる力ルバぺネム誘導体 (4 ) を、 必要に応じて冷却した後、 精製などの 後処理を施すことなく、 そのまま次の水酸基の活性エステル化剤による処理工程 に直接使用してもよい(工程 A;)。或いは、前記環化反応によって得られる力ルバ ぺネム誘導体 (4 ) を、 低温 (氷冷下) で速やかに後処理を行い、 次の水酸基の 活性エステル化剤による処理工程に使用してもよい (工程 。 The potassium salt derivative (4), which is a magnesium salt obtained by the above-mentioned cyclization reaction, is a novel compound which has not been known before, and is stably present in the mixed solution of the above-mentioned cyclization reaction for several hours. However, during long-term storage, it is converted from a phenolic form to a ketone form under the influence of water. Therefore, after the carbane derivative (4) obtained by the cyclization reaction is cooled, if necessary, it is subjected to the next active esterification of a hydroxyl group without post-treatment such as purification. (Step A;). Alternatively, the forceba obtained by the cyclization reaction The penem derivative (4) may be immediately post-treated at a low temperature (under ice cooling) and used in the next treatment step with an activated ester of a hydroxyl group (step).
工程 Aについては、 前記した環化反応により得られるマグネシウム塩である力 ルバぺネム誘導体 (4 ) に、 ひきつづき水酸基の活性エステル剤と処理すること により、 一般式 ( 5 ) で表される力ルバぺネム化合物 ( 5 ) へ誘導することがで さる。  In step A, the magnesium salt obtained by the above-described cyclization reaction is treated with an active ester agent having a hydroxyl group, followed by treating the magnesium salt (4) with the active compound represented by the general formula (5). Penem compound (5).
水酸基の活性エステル化反応における活性エステル化剤は反応が十分に進行す るだけの量が必要であり、 一般式 (3 ) で表わされる化合物に対して 1〜 2. 5 当量用いて行うことができる。 反応は適宜冷却または加熱することにより抑制ま たは促進することができる。 通常、 反応温度は一 5 0 °C〜 5 0 °Cの範囲で行われ るが、 一 2 0 °C〜2 0 °Cの範囲が好適である。 なお、 反応終了後は通常の有機化 学的手段によって成績体を取り出すことができる。 一般式 (3 ) で表わされる化 合物を不活性溶媒中、 マグネシム化合物 ( 7 ) の存在下で反応させて得られる力 ルバぺネム誘導体 (4 ) は生成条件下において原料化合物 (3 ) の不斉炭素 (C 5位) に基づく立体をそのまま保持しており、 力ルバぺネム化合物 ( 5 ) に誘導 後も原料化合物の R 3 のアルキル基の立体を保持したものが得られる。 すなわち、 本反応によってェピマー化することなく、力ルバぺネム化合物(5 )が得られる。 また、 工程 Bについては、 前記した環化反応により得られるマグネシウム塩で ある力ルバぺネム誘導体 (4 ) を低温 (氷冷下) で速やかに後処理を行い、 次い で有機溶媒中、 塩基を用いて水酸基の活性エステル化剤による処理を行うことに より、 一般式 (5 ) で表されるカノレバぺネム化合物へ誘導することができる。 環化反応により得られるマグネシウム塩である力ルバぺネム誘導体 (4 ) の後 処理は、 公知の後処置方法が採用され、 但し、 生成物の安定性を考慮して比較的 低温下(約一 5〜 2 0 °C)において短時間( 1時間以内)で行うことが望ましい。 また、 生成物は精製することなく次工程に用いることが望ましい。 In the active esterification reaction of the hydroxyl group, the amount of the active esterifying agent is required to be sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and it can be carried out using 1 to 2.5 equivalents to the compound represented by the general formula (3). it can. The reaction can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating. Usually, the reaction is carried out at a temperature in the range of 50 ° C to 50 ° C, preferably in the range of 120 ° C to 20 ° C. After completion of the reaction, the product can be removed by ordinary organic chemical means. The force obtained by reacting the compound represented by the general formula (3) in an inert solvent in the presence of the magnesium compound (7), the lubadenem derivative (4) is converted to the starting compound (3) under production conditions. It retains the steric structure based on the asymmetric carbon (C 5 position), and retains the steric structure of the alkyl group of R 3 of the starting compound even after derivation to the compound. That is, the present reaction yields the compound of formula (5) without formation of an epimer. In the step B, the magnesium salt obtained by the above-mentioned cyclization reaction, i.e., the magnesium salt (4), is immediately post-treated at a low temperature (under ice-cooling), and then in an organic solvent and a base. By treating the compound with an active esterifying agent for a hydroxyl group, the compound can be derived into a canolevanedene compound represented by the general formula (5). For the post-treatment of the magnesium salt obtained by the cyclization reaction, a well-known post-treatment method is used. However, in consideration of the stability of the product, the post-treatment is carried out at a relatively low temperature (about 1%). (5 to 20 ° C) in a short time (within 1 hour). It is desirable that the product be used in the next step without purification.
次工程の塩基を用レ、て水酸基の活性エステル化剤による処理に当たっては、 ァ ルゴンゃ窒素のような不活性ガス雰囲気下、 前記後処理により得られた生成物を 有機溶媒に溶解または懸濁させた溶液に、 ここに水酸基の活性エステル化剤およ ぴ塩基を滴下して反応させる方法が好ましく採用される。 In the next step, the base is treated with an active esterifying agent for the hydroxyl group, and the product obtained by the above post-treatment is treated under an inert gas atmosphere such as argon-nitrogen. A method in which an active esterifying agent for a hydroxyl group and a base are added dropwise to a solution dissolved or suspended in an organic solvent and reacted therewith is preferably employed.
本反応で用いられる塩基としては、第 3級ァミンまたはピリジン類などである。 塩基が、 第 3級ァミンの場合、 具体的には、 トリメチルァミン、 トリェチルァ ミン、 トリプロピルァミン、 トリイソプロピルアミン、 ジイソプロピルメチルァ ミン、ジィソプロピルェチルァミン、 トリ n -ブチルァミン、 トリベンジルァミン, N -メチノレビペリジン, N -ェチルピペリジン, N -メチルモルフォリン, N-ェチルモ ルフォリン, 1, 5-ジァザビシクロ [4. 3. 0]— 5_ノネン, 1, 8_ジァザ ビシクロ [5. 4. 0]— 7—ゥンデセン, 1, 4-ジァザビシクロ [2. 2. 2] オタタン, N, N, N, N -テトラメチルェチレンジァミン, N, N, N, N -テトラメチル 1, 3 - プロパンジァミン, ジメチルァ二リン、 ジェチルァニリンなどを挙げることがで さる。  Bases used in this reaction include tertiary amines and pyridines. When the base is a tertiary amine, specifically, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, triisopropylamine, diisopropylmethylamine, disopropylethylamine, tri-n-butylamine, triethylamine Benzylamine, N-methinoleviperidine, N-ethylpiperidine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholin, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] —5_nonene, 1,8_ Diazabicyclo [5.4.0] —7-indene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] otatan, N, N, N, N-tetramethylethylenediamine, N, N, N, N-tetramethyl 1,3-propanediamine, dimethylaniline, getylaniline and the like can be mentioned.
塩基が、 ピリジン類の場合、 具体的には、 ピリジン、 α—ピコリン、 ]3—ピコ リン、 y—ピコリン、 2, 6—ルチジン、 2—ェチノレピリジン、 3—ェチノレピリ ジン、 4—ェチルピリジン、 N,N -ジメチルァミノピリジン, キノリン、 イソキノ リンなどを挙げることができる。  When the base is a pyridine, specifically, pyridine, α-picoline,] 3-picolin, y-picoline, 2,6-lutidine, 2-ethynolepyridine, 3-ethynolepyridine, 4-ethylethylpyridine, N, N-dimethylaminopyridine, quinoline, isoquinoline and the like can be mentioned.
好ましぐは、 トリェチルァミン、 トリ n -プチルァミン、 ジィソプロピルェチル ァミン、 N-メチルピペリジン, N -ェチルビペリジン, N -メチルモルフォリン, N - ェチルモルフォリン, 1, 5-ジァザビシク口 [4. 3. 0]— 5—ノネン, 1 , 8 -ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7—ゥンデセン, 1, 4-ジァザビシクロ [2. 2. 2 ]オクタン, N, N -ジメチルァミノピリジン, など力 汎用性があり、反応の選択 性および収率が高いことからより好ましい。  Preferable are triethylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, N-methylpiperidine, N-ethylbutylperidine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [4. 3. 0] — 5-Nonene, 1,8-diazabicyclo [5. 4. 0] -7-undecene, 1, 4-diazabicyclo [2.2.2] octane, N, N-dimethylaminopyridine, etc. It is more preferable because of its versatility and high reaction selectivity and yield.
これらは単独で用いても、 また二種以上を混合して用いてもよい。  These may be used alone or as a mixture of two or more.
本発明で用いられる塩基は市販品をそのまま用いることもできるし、 精製して 用いることもできる。  As the base used in the present invention, a commercially available product can be used as it is, or it can be purified and used.
塩基の使用割合は、 ァゼチジノン誘導体 (3) の 1モルに対し、 塩基が約 1〜 8モルであるのが好ましく、 約 1~2モルであるのがより好ましレ、。 有機溶媒としては、 反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒が用いられ、 例えば、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン等の炭化水素系溶媒、 塩化メチレン、 クロ口ホル ム等の塩素系溶媒、 ベンゼン、 クロ口ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族 系溶媒、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジ メトキシェタン、 1, 3—ジォキソラン、 ジォキサン等のエーテル系溶媒などを 挙げることができ、 それらの 1種または 2種以上を用いることができる。 それら のうちでも、 テトラヒドロフランおよび Zまたはトルェンが操作性が良好で且つ 経済的に安価である点から好ましく用いられる。 有機溶媒の使用量は、 通常、 ァ ゼチジノン化合物 ( 3 ) の 1質量部に対して、 約 0. 5〜 2 0倍容量部であるこ とが好ましく、 約 1〜1 0倍容量部であることがより好ましい。 The proportion of the base used is preferably about 1 to 8 mol, more preferably about 1 to 2 mol, per 1 mol of the azetidinone derivative (3). As the organic solvent, an organic solvent that does not adversely affect the reaction is used. Examples thereof include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; chlorine solvents such as methylene chloride and chloroform; benzene; , Toluene, xylene and the like; and ether solvents such as getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 1,3-dioxolan, dioxane, etc., and one or more of them. Can be used. Among them, tetrahydrofuran and Z or toluene are preferably used because they have good operability and are economically inexpensive. Usually, the amount of the organic solvent used is preferably about 0.5 to 20 times by volume, and more preferably about 1 to 10 times by volume with respect to 1 part by mass of the azetidinone compound (3). Is more preferred.
水酸基の活性エステルィヒ反応における活性エステル化剤は反応が十分に進行す るだけの量が必要であり、 一般式 (3 ) で表わされる化合物に対して 1 ~ 5当量 用いて行うことができる。  The amount of the active esterifying agent in the active ester reaction of the hydroxyl group is required to be sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and it can be carried out using 1 to 5 equivalents of the compound represented by the general formula (3).
前記環化反応生成物を有機溶媒に溶解または懸濁させた溶液に、 ここに活性ェ ステル化剤および塩基を滴下して反応を行うに当たっては、 活性エステル化剤お ょぴ塩基の滴下時間は、 通常約 1 ~ 1 8 0分間とすることが好ましく、 約 5〜6 0分間とすることがより好ましい。 環化反応の温度としては、 好ましくは約 _ 5 0〜 5 0 °C、 より好ましくは約一 2 0〜 3 0 °Cの温度が採用され、 前記温度を保 ちながら活性エステル化剤および塩基の滴下終了後に約 0. 5〜 1 5時間、 好ま しくは約 1〜5時間反応させることによって力ルバぺネム誘導体 (5 ) を円滑に 製造することができる。  In carrying out the reaction by dropping the active esterifying agent and the base into a solution in which the cyclization reaction product is dissolved or suspended in an organic solvent, the dropping time of the active esterifying agent and the base is as follows. Usually, it is preferably about 1 to 180 minutes, more preferably about 5 to 60 minutes. The temperature of the cyclization reaction is preferably about -50 to 50 ° C, more preferably about 120 to 30 ° C. By reacting for about 0.5 to 15 hours, preferably for about 1 to 5 hours after the completion of the dropwise addition, the carbane derivative (5) can be produced smoothly.
反応終了後は通常の後処理を行なうことにより、 目的物を単離することができ る。  After completion of the reaction, the desired product can be isolated by performing ordinary post-treatments.
また、 本発明により得られる力ルバぺネム化合物 ( 5 ) は、 下記スキーム : Further, the compound of the present invention (5) obtained by the present invention is represented by the following scheme:
Figure imgf000035_0001
Figure imgf000035_0001
(式中、 R1乃至 R5は、 前記と同義であり ; Rは、 有機基を示す。) (Wherein, R 1 to R 5 have the same meanings as described above; R represents an organic group.)
に示される製造方法により、 各種の力/レバぺネム系化合物 (6) に導くことが可 能である。 実施例 According to the production method described in (1), it is possible to lead to various kinds of force / levanemine compounds (6). Example
以下に実施例を挙げ、 本努明を詳細に説明するが、 本発明はこれらによってな んら限定されるものでなく、 また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させても よい。  Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto and may be changed without departing from the scope of the present invention.
なお、 各実施例における物性の測定に用いた装置は次の通りである。  In addition, the apparatus used for the measurement of the physical properties in each example is as follows.
核磁気共鳴スぺク トル (¾- NMR) : AM-400型 (400MHz、 プルッカ一社製)、 Gemini-2000 (200MHz、 Varian社製) Nuclear magnetic resonance scan Bae-vector (¾- NMR): AM-400 (manufactured by 4 00MHz, Purukka one company), Gemini-2000 (200MHz, manufactured by Varian Inc.)
また、 各実施例中の略号は以下の通りである。 _ TBSO : t e r t—プチルジメチルシリルォキシ基  Abbreviations in the examples are as follows. _ TBSO: t e r t-butyldimethylsilyloxy group
T s : ρ -トノレエンスノレホニノレ基 T s: ρ-Tonorenensorehoninole group
[合成例 1] 3— {(2R) 一 2 - [(3 S, 4R) 一 3— [(1R) - 1- t e r tープチノレジメチ /レシリノレオキシェチノレ] 一 1一 ( t e r t一ブチゾレオキシカ ルポニルメチル) 一 2—ォキソァゼチジン一 4一ィル]プロピオ二ルー N— (R) —フエ二ルェチルー!)一トルエンスルホンアミ ドの製造 [Synthesis Example 1] 3-{(2R) -1-2-((3S, 4R) -13-[(1R) -1-tert-tert-peptinoresimeti / resilinoleoxyethinole] 1-1- (tert-butizoleoxycarbonylmethyl) ) 1 2-Oxosezetidine 1-4 1] Propioniru N-(R)-Hueneruechiru! ) Manufacture of toluenesulfonamide
Figure imgf000036_0001
窒素気流下において、 3— {(2R) -2- [(3 S, 4R) —3— [(1 R) - 1 - t e r tーブチルジメチルシリルォキシェチル] 一 2—ォキソァゼチジン一 4一ィル] プロピオ二ルー N— (R) —フエ二ルェチルー: —トルエンスノレホン アミ ド (化合物 1) (559mg、 1. 0 mm o 1 ) のテトラヒドロフラン (2m L) 溶液を 0°Cに冷却し、 1. Omo 1ZL塩ィ匕 t一ブチルマグネシウムテトラ ヒドロフラン溶液 (1. lmo l) を滴下した。 30分撹拌した後、 プロモ酢酸 t—プチノレエステノレ (215mg、 1. lmmo 1 ) のテトラヒドロフラン (1 mL) 溶液を滴下した。 氷浴をはずし、 室温で 2時間、 さらに 50°Cで 2時間撹 拌した。 5%塩酸水で反応を停止し、 トルエンで抽出し、 無水硫酸マグネシウム で乾燥した後、 減圧下濃縮を行って粗生物を得た。 シリカゲルカラムクロマトグ ラフ (溶離液:へキサン Z酢酸ェチル = 3/1) により精製を行つて、 表記化合 物 (化合物 2) を 350 m g得た。 収率 52 %。
Figure imgf000036_0001
Under a stream of nitrogen, 3-{(2R) -2-[(3S, 4R) —3 -— [(1R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyxetyl] -1-2-oxoazetidine-14- ] Propionyl N— (R) — phenyleluate: — toluenesnorefone amide (Compound 1) (559 mg, 1.0 mmo 1) in tetrahydrofuran (2 mL) was cooled to 0 ° C, 1. Omo 1ZL salt butyl magnesium tetrahydrofuran solution (1. lmol) was added dropwise. After stirring for 30 minutes, a tetrahydrofuran (1 mL) solution of t-peptinoleestenolate acetic acid (215 mg, 1. lmmo 1) was added dropwise. The ice bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours and further at 50 ° C for 2 hours. The reaction was stopped with 5% hydrochloric acid, extracted with toluene, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Purification was performed using a silica gel column chromatography (eluent: hexane Z-ethyl acetate = 3/1) to obtain 350 mg of the title compound (Compound 2). Yield 52%.
I実施例 1] (4R, 5 R, 6 S)_—6— [(1R)——1— t e r t—ブチルジ メチルシリルォキシェチル] 一 3—ジフエニルホスホリルォキシ一4—メチル一 7—ォキソ一 1ーァザビシクロ [3. 2. 0] ヘプトー 2—ェンー 2_カルボン 酸- t e r t—ブチルエステルの製法  I Example 1] (4R, 5R, 6S) _- 6 — [(1R) —— 1—tert-butyldimethylsilyloxoxethyl] 1-3-diphenylphosphoryloxy-14-methyl-17 —Oxo-1 1-azabicyclo [3. 2. 0] Preparation of hepto-2-ene-2-carboxylic acid-tert-butyl ester
Figure imgf000036_0002
窒素気流下において、 1. Omo lZLの塩化 t e r t—ブチルマグネシウム のテトラヒドロフラン溶液(3. OmL) を氷冷し、合成例 1で得た 3— {(2 R) 一 2— [(3 S, 4R) — 3— [(1R) _ 1— t e r t—プチルジメチルシリル ォキシェチノレ] 一 1一 (t e r tーブチノレオキシカルボ-ノレメチノレ) 一 2—ォキ ソァゼチジン一 4 _ィル] プロピオ二ルー N— (R) 一フエ二ルェチルー!)ート ルエンスルホンアミド (化合物 2) (673mg、 1. 0 mm o 1 ) のテトラヒド 口フラン (2mL) 溶液を滴下した。 反応混合物をそのまま 3時間撹拌した。 原 料の消失を確認した後、 トルエン一水に撹拌しながら注いだ。 有機層を分液し、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、 濃縮した。 粗生成物をァセトニトリル (5mL)に溶かし、氷冷した。ジフエニルホスホリルクロライド(537mg、 2. Ommo 1 ) を加えた後、ジィソプロピルェチルァミン(0. 35mL、 2. Ommo 1 ) を滴下した。 反応混合物をそのまま 2時間撹拌した。 トルエン一塩 酸水に撹拌しながら注いだ。 有機層を分液し、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で 洗浄し、 濃縮した。 粗生成物をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィー (溶離液: へキサン:酢酸ェチル =3 : 1) にて精製し、 表記化合物 (化合物 3) を 327 mg得た。 収率 52%。
Figure imgf000036_0002
Under a nitrogen stream, 1. a solution of OmolZL in tert-butylmagnesium chloride in tetrahydrofuran (3. OmL) was cooled on ice, and the 3 -— ((2R) 1-2 — [(3S, 4R) obtained in Synthesis Example 1 was obtained. ) — 3— [(1R) _ 1— tert-butyldimethylsilyl oxetchinole] 1-11 (tert-butynoleoxycarbo-noremetinole) 1-2-oxosazetidine 14 _yl] propionyl N— (R ) One funeru le roux! ) A solution of toluene sulphonamide (compound 2) (673 mg, 1.0 mmol) in tetrahydrofuran (2 mL) was added dropwise. The reaction mixture was stirred as it was for 3 hours. After confirming that the raw materials had disappeared, the mixture was poured into toluene and water while stirring. The organic layer was separated, washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and concentrated. The crude product was dissolved in acetonitrile (5 mL) and cooled on ice. After addition of diphenylphosphoryl chloride (537 mg, 2.Ommo 1), diisopropylethylamine (0.35 mL, 2.Ommo 1) was added dropwise. The reaction mixture was stirred as it was for 2 hours. The mixture was poured into aqueous toluene monohydrochloride with stirring. The organic layer was separated, washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and concentrated. The crude product was purified by silica gel gel chromatography (eluent: hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain 327 mg of the title compound (Compound 3). Yield 52%.
[比較例 1 ] 比較例 1として、 実施例 1で塩化 t e r t—プチルマグネシウム に代えて、 水素化カルシウムを用い、 他は実施例 1と同様に処理した。 _ その結果、 反応は全く進行せずに原料を回収するのみであった。  Comparative Example 1 As Comparative Example 1, the same treatment as in Example 1 was performed, except that calcium hydride was used instead of tert-butylmagnesium chloride in Example 1. _ As a result, the reaction only recovered the raw material without any progress.
実施例 1および比較例 1から明らかなようにマグネシウム化合物を用いた実施 例 1においては、 好ましい収率で目的物を得ることができたが、 アルカリ土類金 属の水素化物である水素化カルシウムも用いた比較例 1では原料を回収するのみ で目的物を得ることはできなかった。  As is clear from Example 1 and Comparative Example 1, in Example 1 using a magnesium compound, the desired product could be obtained in a favorable yield, but calcium hydride, which is a hydride of an alkaline earth metal, was obtained. In Comparative Example 1, which used the same method, the target product could not be obtained only by collecting the raw materials.
[実施例 2] (4R, 5R, 6 S) — 6— [(1 R) — 1一 t e r t—プチルジ メチルシリルォキシェチル] 一 3 _ォキソ一 4—メチルー 7—ォキソ一 1—ァザ ビシクロ [3. 2. 0] ヘプト一 2—ェンー 2—力ルボン酸 · t e r t—プチル エステル 塩化マグネシム塩の製法 [Example 2] (4R, 5R, 6S) — 6 — [(1R) — 11-tert-butyldimethylsilyloxyxethyl] 13-oxo-1 4-methyl-7-oxo-1 1-aza Bicyclo [3. 2. 0] Hept-2-ene-2-carboxylic acid tert-butyl ester Preparation of magnesium chloride salt
Figure imgf000038_0001
Figure imgf000038_0001
窒素気流下において、 1. Omo 1ZLの塩化 t e r t一プチ ^/マグネシウム の重テトラヒドロフラン溶液 (0. 3mL) を氷冷し、 合成例 1で得た 3— {(2 R) - 2- [(3 S, 4 R) — 3— [( 1 R) — 1— t e r t—プチルジメチルシ リルォキシェチル] — 1一 ( t e r t一ブチノレオキシカノレボニノレメチル) — 2 _ ォキソァゼチジン一 4ーィノレ] プロピオニノレー N— (R) 一フエニノレエチノレー; p ートノレエンスノレホンアミ ド (ィ匕合物 2) (67. 3mg、 0. 1 mm o 1 ) の重テ トラヒドロフラン (0. 5mL) 溶液を滴下した。 反応混合物をそのまま 3時間 撹拌した。 原料の消失を確認した後、 反応混合物をそのまま NMR測定した。 ^-NMR δ [THF d8]: 1.00 (3H, d, J=7.2Hz), 1.13 (3H, d, 6Hz), 2.87 (1H, dm, J=5.4Hz, 1-H)。 Under a nitrogen stream, 1. Omo 1ZL solution of tert-peptide ^ / magnesium chloride in heavy tetrahydrofuran (0.3 mL) was cooled on ice, and the 3 -— ((2R)-2-[(3 S, 4 R) — 3— [(1 R) — 1— tert-butyldimethylsilyloxyschityl] — 1- (tert-butynoleoxycanoleboninolemethyl) — 2 _ oxoazetidine-1-inole] propioninole N— (R A solution of 6-mg (0.1 mmo1) of heavy ethanol (0.5 ml) in tetrahydrofuran (0.5 mL) was added dropwise. The reaction mixture was stirred as it was for 3 hours. After confirming the disappearance of the raw materials, the reaction mixture was directly subjected to NMR measurement. ^ -NMR δ [THF d 8 ]: 1.00 (3H, d, J = 7.2 Hz), 1.13 (3H, d, 6 Hz), 2.87 (1H, dm, J = 5.4 Hz, 1-H).
この反応液を 3時間室温放置後の1 H— NMRのスペクトルは ーメチル体の ままであること.を示した。 . _ . After the reaction solution was left at room temperature for 3 hours, the 1 H-NMR spectrum showed that the methyl form remained as it was. .

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1. 下記一般式 (3) で表されるァゼチジノン誘導体を、 下記一般式 (7) で 表されるマグネシゥム化合物の存在下で反応させた後、 水酸基の活性エステル剤 で処理することを特徴とする下記一般式 (5) で表される力ルバぺネム化合物の 製造方法。 1. A azetidinone derivative represented by the following general formula (3) is reacted in the presence of a magnesium compound represented by the following general formula (7), and then treated with a hydroxyl group active ester agent. A method for producing a compound represented by the following general formula (5).
Figure imgf000039_0001
式中、
Figure imgf000039_0001
Where
!^ぉょび!^は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級アルキル 基を表す。  ! ^^ ^ May be the same or different and represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R4は、 水素原子または水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
R5は、 カルボキシル基の保護基を表す。 R 5 represents a carboxyl-protecting group.
Yは、 活性エステル基、 置換基を有していてもよいァリールチオ基、 _置換基を 有していてもよいへテロアリールチオ基、 置換基を有していてもよいァラルキル チォ基、 置換基を有していてもよいァリールォキシ基、 置換基を有していてもよ いへテロァリールォキシ基、 または N (Ra) S〇2Rbで表される基を表す。 Y is an active ester group, an arylthio group optionally having a substituent, a heteroarylthio group optionally having a substituent, an aralkylthio group optionally having a substituent, a substituent Represents an aryloxy group which may have a substituent, a heteroaryloxy group which may have a substituent, or a group represented by N (R a ) S〇 2 R b .
Raは、 アルキル基、 アルケニル基、 オルガノシリル基、置換基を有していても よいァリール基、 置換基を有していてもよいァラルキル基、 または置換基を有し ていてもよ!/、脂環式基を表す。 Ra may be an alkyl group, an alkenyl group, an organosilyl group, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a substituent! / Represents an alicyclic group.
Rbは、 アルキル基または置換基を有していてもよぃァリ一ル基を表す。 R b represents an alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
MgR8R9 (7) 式中、 MgR 8 R 9 (7) Where
R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ-ル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換した ジアルキルァミノ基を表す。 R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, 5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by a halogen atom, or (6) a substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Represents a dialkylamino group.
R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ- ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルァミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスノレホニノレォキシ基、 (10) 一トルエンスルホニルォキシ基、 (11) トリフノレ ォロメタンス /レホニノレォキシ基、 (1¾ ハロゲン原子、シァノ ¾が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基を表す。 R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by a halogen atom, (6) a dialkylamino substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Group, (7) halogen atom, (8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) monotoluenesulfonyloxy group, (11) triflorenomethans / levoninoleoxy group, (1¾ A halogen atom, an acetoxy group which may be substituted by cyano, or (13) represents an OR 1 0 group.
R 1 0は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエニル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 10 represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a benzyl group which may have a substituent.
Figure imgf000040_0001
式中、
Figure imgf000040_0001
Where
1乃至1 5は、 前記と同義である。 1 to 15 are as defined above.
Lは、 水酸基の活性エステル基を表す。  L represents an active ester group of a hydroxyl group.
2 . 一般式 (4 ) で表される力ルバぺネム誘導体。 2. A carbane derivative represented by the general formula (4).
Figure imgf000041_0001
式中、
Figure imgf000041_0001
Where
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級アルキル 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 4は、 水素原子または水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 カルボキシル基の保護基である。 R 5 is a protecting group for a carboxyl group.
R 8は、 (1)炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2)炭素数 2乃至 5のアルケニル 基、(3)炭素数 1乃至 4 C 低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環の脂 環式基、 (4)炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ 基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ-ル基、 (5) 炭素数 1乃至 4の低級 アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換していて もよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基を表す。 R 8 is (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with 5 to An 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted by a halogen atom, ( 5 ) a carbon atom A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, or (6) a dialkylamino substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Represents a group.
R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスルホ-ルォキシ基、 (10) p—トルエンスルホ-ルォキシ基、 (11) トリフノレ ォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基である。 R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) 1 to 4 carbon atoms A lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (7) Halogen atom, (8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) p-toluenesulfonyloxy group, (11) triflorenomethanesulfonyloxy group, (12) halogen atom, cyano group is which may be substituted Asetokishi group or (13) oR 1 0 group.
R 1 Gは炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエニル 基、 または置換基を有していてもよいべンジル基である。 R 1 G is a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a benzyl group which may have a substituent.
mおよび nは 0または 1であり、 m≠nである。  m and n are 0 or 1 and m ≠ n.
3 . 下記一般式 (3 ) で表されるァゼチジノン誘導体を、 下記一般式 ( 7 ) で 表されるマグネシウム化合物の存在下で反応させることを特徴とする一般式(4 ) で表される力ルバぺネム誘導体の製造方法。 3. An azetidinone derivative represented by the following general formula (3) is reacted in the presence of a magnesium compound represented by the following general formula (7): A method for producing a nem derivative.
Figure imgf000042_0001
式中、
Figure imgf000042_0001
Where
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、水素原子または低級アルキル 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す。 R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 4は、 水素原子または水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 カルボキシル基の保護基を表す。 R 5 represents a carboxyl-protecting group.
Yは、 活性エステル基、 置換基を有していてもよいァリールチオ基、 置換基を 有していてもよいへテロアリールチオ基、 置換基を有していてもよいァラルキル チォ基、 置換基を有していてもよいァリールォキシ基、 置換基を有していてもよ いへテロァリールォキシ基、 または N (R a) S 0 2 R bで表される基である。Y represents an active ester group, an arylthio group optionally having a substituent, a heteroarylthio group optionally having a substituent, an aralkylthio group optionally having a substituent, Aryloxy group which may have a substituent Terrorism § reel O carboxymethyl group to have a or N group represented by (R a) S 0 2 R b,.
R aは、 アルキル基、 アルケニル基、 オルガノシリル基、 置換基を有していて もよぃァリール基、 置換基を有していてもよいァラルキル基、 または置換基を有 していてもよい脂環式基を表す。 Ra is an alkyl group, an alkenyl group, an organosilyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or an optionally substituted aliphatic group. Represents a cyclic group.
R bは、 アルキル基または置換基を有していてもよいァリール基を表す。 R b represents an alkyl group or an aryl group which may have a substituent.
M g R 8 R 9 ( 7 ) 式中、 M g R 8 R 9 (7)
R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ-ノレ基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換した ジァノレキノレアミノ基を表す。 R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenol group which may be substituted with a halogen atom, 5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by a halogen atom, or (6) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Represents a substituted dianolequinoleamino group.
R 9は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ノレ基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい5乃至8員獰 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ二ノレ基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キノレアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンス ホニ ォキシ基、 (9) ベンゼ ンスルホニルォキシ基、 (10) ρ—トルエンスルホニルォキシ基、 (11) トリフル ォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) O R 1 0 基を表す。 R 9 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkoxy group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8- membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, 5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, (6) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Substituted dialkynoleamino group, (7) halogen atom, (8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) ρ-toluenesulfonyloxy group, (11) trifluoromethanesulfonyloxy group A (12) halogen atom, an acetyloxy group which may be substituted by a cyano group, or (13 ) OR 10 represents a group.
R 1 0は炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエニル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 10 is a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, phenyl which may have a substituent Represents a group or a benzyl group which may have a substituent.
Figure imgf000044_0001
式中、
Figure imgf000044_0001
Where
R 1および R 2は、 同一でも異なっていてもよく、 水素原子または低級アルキル 基を表す。 R 1 and R 2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a lower alkyl group.
R 3は、 水素原子または低級アルキル基を表す R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group
R 4は、 水酸基の保護基を表す。 R 4 represents a protecting group for a hydroxyl group.
R 5は、 カルボキシル基の保護基を表す。 R 5 represents a carboxyl-protecting group.
R 8 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエニル基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハ口ゲン原子が置換し - ていてもよいべンジル基、 または (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換した. ジアルキルァミノ基を表す。 R 8 may be substituted by (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, (5) a lower alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, substituted with c port Gen atoms - optionally base may be Njiru group or (6) an alkyl group of 1 to 1 2 carbon atoms, Represents a substituted dialkylamino group.
R 9 は、 (1) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基、 (2) 炭素数 2乃至 5のァルケ二 ル基、 (3) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基が置換していてもよい 5乃至 8員環 の脂環式基、 (4) 炭素数 1乃至 4の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アル コキシ基、 ハロゲン原子が置換していてもよいフエ二ノレ基、 (5) 炭素数 1乃至 4 の低級アルキル基、 炭素数 1乃至 4の低級アルコキシ基、 ハロゲン原子が置換し ていてもよいべンジル基、 (6) 炭素数 1乃至 1 2のアルキル基が置換したジアル キルアミノ基、 (7) ハロゲン原子、 (8) メタンスルホニルォキシ基、 (9) ベンゼ ンスルホニルォキシ基、 (10) p—トルエンスルホ-ルォキシ基、 (11) トリフル ォロメタンスルホニルォキシ基、 (12) ハロゲン原子、シァノ基が置換していても よいァセトキシ基、 または(13) OR10 基を表す。 R 9 may be substituted with (1) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (2) an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and (3) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A 5- to 8-membered alicyclic group, (4) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, 5) a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by a halogen atom, (6) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms Dialkylamino group, (7) halogen atom, (8) methanesulfonyloxy group, (9) benzenesulfonyloxy group, (10) p-toluenesulfonyloxy group, (11) trifur O b methanesulfonyl O alkoxy group, (12) a halogen atom, may be Shiano group substituted Asetokishi group or (13) OR 10 group,.
R 10は炭素数 1乃至4の低級アルキル基、置換基を有していてもよいフエ-ル 基、 または置換基を有していてもよいベンジル基を表す。 R 10 represents a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent or a benzyl group which may have a substituent.
mおよび nは 0または 1であり、 m≠nである。  m and n are 0 or 1 and m ≠ n.
4. 前記一般式 (3) で表されるァゼチジノン誘導体において、 Yが、 N (R a) S02Rb で表される基 (Raおよび Rbは、 前記と同義である。) である請求 項 1または 3に記載の製造方法。 4. In the azetidinone derivative represented by the general formula (3), Y is a group represented by N (R a ) S 0 2 R b (R a and R b are as defined above). The production method according to claim 1 or 3.
5. 前記一般式 (7) で表されるマグネシゥム化合物が、 メチルマグネシウム クロリ ド、 メチルマグネシゥムプロミ ド、 メチルマグネシゥムョージド、 メチル マグネシウムメタンスノレホナート、 メチ /レマグネシゥム t e r t—ブトキシド、 ェチ/レマグネシウムク口リ ド、 ェチノレマグネシウムプロミド、 ェチルマグネシゥ ムョージド、 ェチノレマグネシウムメタンスノレホナート、 ェチノレマグネシウム t e r t一ブトキシド、 プロピノレマグネシウムク口リ ド、 プロピノレマグネシウムプロ ミド、 プロピルマグネシウムョージド、 プロピルマグネシウムメタンスルホナー ト、 プロピルマグネシウム t e r t—ブトキシド、 i s o—プロピルマグネシゥ ムクロリ ド、 i s o—プロピノレマグネシウムプロミ ド、 i s o—プロピノレマグネ シゥムョージド、 i s 'ο—プロピノレマグネシウムメタンスノレホナート、 i s o— プロピノレマグネシウム t e r t—ブトキシド、 n—ブチノレマグネシウムク口リ ド、 n一ブチノレマグネシゥムブロミ ド、 n—プチノレマグネシゥムョージド、 n—プチ ノレマグネシゥムメタンスノレホナート、 n—プチノレマグネシゥム t e r t—ブトキ シド、 s e c—ブチノレマグネシウムク口リ ド、 s e c—プチノレマグネシウムプロ ミ ド、 s e c—ブチノレマグネシウムョージド、 s e c—ブチノレマグネシウムメタ ンスノレホナート、 s e c—プチノレマグネシウム t e r t—ブトキシド、 i s o— プチノレマグネシウムクロリ ド、 i s o—ブチノレマグネシウムプロミド、 i s o— プチノレマグネシゥムョージド、 i s o—ブチノレマグネシゥムメタンス /レホナート、 i s oーブチノレマグネシウム t e r t—ブトキシド、 t e r t—ブチノレマグネシ ゥムク口リ ド、 t e r t—プチノレマグネシウムプロミド、 t e r t—ブチノレマグ ネシゥムョージド、 t e r t—ブチノレマグネシウムメタンスノレホナ^ "ト、 t e r tーブチノレマグネシウム t e r t—ブトキシド、フエ二ノレマグネシウムク口リ ド、 フェ二ノレマグネシゥムブロミ ド、 フエ二ノレマグネシゥムョージド、 フエ二ノレマグ ネシゥムメタンスレホナ一ト、 フエ二ノレマグネシウム t e r t—ブトキシド、 一トリノレマグネシウムクロリ ド、 p—トリノレマグネシウムプロミド、 ρ—トリノレ マグネシウムョージド、 ρ—トリノレマグネシウムメタンスルホナート、 p—トリ ノレマグネシウム t e r t—ブトキシド、 ベンジノレマグネシウムクロリ ド、 べンジ ノレマグネシゥムブ口ミド、 ベンジノレマグネシゥムョージド、 ベンジノレマグネシゥ ムメタンスノレホナート、 およびべンジノレマグネシウム t e r t—ブトキシドから なる群から選択される一つである請求項 1、 3または 4記載に製造方法。 5. When the magnesium compound represented by the general formula (7) is methylmagnesium chloride, methylmagnesium bromide, methylmagnesium hydroxide, methylmagnesium methanesulfonate, methyl / remagnesium tert-butoxide, Ethylene / magnesium chloride, ethinolemagnesium bromide, ethylmagnesium mozide, ethinolemagnesium methanesulfonate, ethinolemagnesium tert-butoxide, propynolemagnesium mouthride, propinole magnesium bromide, Propyl magnesium oxide, propyl magnesium methanesulfonate, propyl magnesium tert-butoxide, iso-propyl magnesium chloride, iso-propynolemagnesium promide, iso-propynolemagnesium , Is'ο-propynolemagnesium methanesulfonate, iso-propynolemagnesium tert-butoxide, n-butynolemagnesium chloride, n-butynolemagnesium bromide, n-butynolemagnesium bromide Azide, n-butyl magnesium methanesulfonate, n-butyl magnesium tert-butoxide, sec-butyl magnesium chloride, sec-butyl magnesium bromide, sec-butyl magnesium Magnesium oxide, sec-butynolemagnesium metal salt, sec-butynolemagnesium tert-butoxide, iso-butynolemagnesium chloride, iso-butynolemagnesium bromide, iso- Petinoremagnesium, iso-butinoremagnesium methanes / lefonate, isobutinoremagnesium tert-butoxide, tert-butinoremagnesium mouth lid, tert-butinoremagnesium bromide, tert-butinoremagnesium bromide, tert-butinoremagnesium —Butynolemagnesium methanesulfonate, tert-butynolemagnesium tert-butoxide, feninolemagnesium chloride, feninolemagnesium bromide, feninolemagnesium bromide, feninolemagnesium Nesium methanesulfonate, feninolemagnesium tert-butoxide, monolinolemagnesium chloride, p-trinolemagnesium bromide, ρ-trinolemagnesium chloride, ρ-trinolemagnesium methanesulfonate, p —Tori no Magnesium selected from the group consisting of tert-butoxide, benzinolemagnesium chloride, benzinolemagnesium carbamide, benzinolemagnesium moxide, benzinolemagnesium methanesulfonate, and benzinolemagnesium tert-butoxide The manufacturing method according to claim 1, 3 or 4, which is one of the methods.
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AL Designated countries for regional patents

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121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
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