JP2510860B2 - Process for producing new β-lactam derivative - Google Patents

Process for producing new β-lactam derivative

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JP2510860B2
JP2510860B2 JP62020586A JP2058687A JP2510860B2 JP 2510860 B2 JP2510860 B2 JP 2510860B2 JP 62020586 A JP62020586 A JP 62020586A JP 2058687 A JP2058687 A JP 2058687A JP 2510860 B2 JP2510860 B2 JP 2510860B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(I) 〔式中、R1は水酸基の保護基を示し、R6はカルボキシ
ル基の保護基を示し、R8は水素原子、低級アルキル基、
低級アルケニル基あるいは置換又は無置換のベンジル基
を示す〕 で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention has the general formula (I) [In the formula, R 1 represents a hydroxyl-protecting group, R 6 represents a carboxyl-protecting group, R 8 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group,
Which represents a lower alkenyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group].

カルバペネム骨格の1位メチレン基が、アルキル基で
置換された化合物、特に1−メチルカルバペネム化合物
は、例えば生体内安定性において従来の1位無置換カル
バペネム化合物に比べすぐれており、抗菌剤として極め
て有用であることが報告されている(D.H.Shih等Heteyo
cycles.,21,29(1984))。
A compound in which the methylene group at the 1-position of the carbapenem skeleton is substituted with an alkyl group, particularly a 1-methylcarbapenem compound, is superior in stability in vivo to conventional 1-position unsubstituted carbapenem compounds and is extremely useful as an antibacterial agent. (DH Shih et al., Heteyo
cycles., 21 , 29 (1984)).

本発明者らは、1−メチルカルバペネムの製造におい
て有用な中間体である一般式(I)で表わされるβ−ラ
クタム化合物を立体選択的に得る製造方法を見出し、本
発明を完成した。
The present inventors have found a production method for stereoselectively obtaining a β-lactam compound represented by the general formula (I), which is an intermediate useful in the production of 1-methylcarbapenem, and completed the present invention.

前記一般式(I)においてR1で表わされる水酸基の保
護基としては、水酸基を保護する目的で一般的に用いら
れている保護基を適用することができ、例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシ
リル、t−ブチルジフエニルシリルのようなトリアルキ
ルシリル基、例えば、メトキシメチル、メチルチオメチ
ル、ベンジルオキシメチル、t−ブトキシメチル、2−
メトキシエトキシメチルのようなアルコキシあるいはア
ラルコキシ置換メチル基、例えば、テトラヒドロピラニ
ル基、例えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、2,4
−ジメトキシベンジル、o−ニトロベンジル、p−ニト
ロベンジル等の置換あるいは無置換のモノアリールメチ
ル基、例えば、トリフエニルメチル、p−メトキシフエ
ニルジフエニルメチル、ビス(p−メトキシフエニル)
フエニルメチル等の置換あるいは無置換のトリアリール
メチル基、例えば、アセチル、ベンゾイル等のアシル
基、例えば、ベンジルオキシカルボニル、p−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル等のようなアルコキシカルボニル基等を挙げ
ることができる。
As the hydroxyl-protecting group represented by R 1 in the general formula (I), a protecting group generally used for protecting the hydroxyl group can be applied, and examples thereof include trimethylsilyl, triethylsilyl, t- Trialkylsilyl groups such as butyldimethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, eg methoxymethyl, methylthiomethyl, benzyloxymethyl, t-butoxymethyl, 2-
Alkoxy- or aralkoxy-substituted methyl groups such as methoxyethoxymethyl, eg tetrahydropyranyl groups, eg benzyl, p-methoxybenzyl, 2,4
-Substituted or unsubstituted monoarylmethyl group such as dimethoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-nitrobenzyl, etc., for example, triphenylmethyl, p-methoxyphenyldiphenylmethyl, bis (p-methoxyphenyl)
Substituted or unsubstituted triarylmethyl group such as phenylmethyl, acyl group such as acetyl, benzoyl, etc., alkoxycarbonyl group such as benzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, etc. Can be mentioned.

R6で表わされるカルボキシル基の保護基は、一般的に
用いられるもので可能であるが、好適には、例えば、メ
チル、エチル、イソプロピル、tert−ブチルのような炭
素数1〜5の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級アルキル
基、例えば、2−ヨウ化エチル、2,2,2−トリクロロエ
チルのような炭素数1〜5のハロゲノ低級アルキル基、
例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、イソブトキ
シメチルのような炭素数1〜5の低級アルコキシメチル
基、例えば、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメ
チル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル
のような低級脂肪族アシルオキシメチル基、例えば、1
−メトキシカルボニルオキシエチル、1−エトキシカル
ボニルオキシエチルのような炭素数1〜5の1−低級ア
ルコキシカルボニルオキシエチル基、例えば、アリル、
2−メチルアリル、3−メチルアリル、3−フエニルア
リルのような炭素数3〜7の置換または無置換の低級ア
ルケニル基、例えば、ベンジル、p−メトキシベンジ
ル、2,4−ジメトキシベンジル、o−ニトロベンジル、
p−ニトロベンジル、p−クロロベンジルのような置換
あるいは無置換のモノアリールアルキル基、例えば、ジ
フエニルメチル、ジ−p−アニシルメチルのような置換
あるいは無置換のジアリールアルキル基、例えば、フエ
ニル、p−クロロフエニル、2,4,5−トリクロロフエニ
ル、p−ニトロフエニル、o−ニトロフエニル、p−メ
トキシフエニルのような置換あるいは無置換のアリール
基、例えば、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジ
ル、2−ピリミジル、2−(4,6−ジメチル)ピリミジ
ルのようなヘテロアリール基、およびフタリジル基等を
挙げることができる。
The protecting group for the carboxyl group represented by R 6 may be a commonly used one, but is preferably a straight chain having 1 to 5 carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl and tert-butyl. Or branched lower alkyl groups, for example, halogeno lower alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms such as 2-ethyl iodide and 2,2,2-trichloroethyl,
For example, a lower alkoxymethyl group having 1 to 5 carbon atoms such as methoxymethyl, ethoxymethyl and isobutoxymethyl, for example, lower aliphatic such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl and pivaloyloxymethyl. Acyloxymethyl group, eg 1
-C1-C5 1-lower alkoxycarbonyloxyethyl groups such as methoxycarbonyloxyethyl and 1-ethoxycarbonyloxyethyl, for example, allyl,
A substituted or unsubstituted lower alkenyl group having 3 to 7 carbon atoms such as 2-methylallyl, 3-methylallyl, and 3-phenylallyl, for example, benzyl, p-methoxybenzyl, 2,4-dimethoxybenzyl, o-nitrobenzyl,
Substituted or unsubstituted monoarylalkyl group such as p-nitrobenzyl, p-chlorobenzyl, for example, substituted or unsubstituted diarylalkyl group such as diphenylmethyl, di-p-anisylmethyl, for example, phenyl, p-chlorophenyl A substituted or unsubstituted aryl group such as, 2,4,5-trichlorophenyl, p-nitrophenyl, o-nitrophenyl, p-methoxyphenyl, for example, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, 2 Examples thereof include a heteroaryl group such as -pyrimidyl and 2- (4,6-dimethyl) pyrimidyl, and a phthalidyl group.

R8において、低級アルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、n−プロピル、t−ブチル等のC1〜C5のア
ルキル基が挙げられる。低級アルケニル基としては、例
えば、アリル、2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニ
ル等のC3〜C7の低級アルケニル基が挙げられる。置換又
は無置換のベンジル基としては、例えば、ベンジル基、
p−ニトロベンジル基、p−メトキシベンジル基等のC1
〜C4の低級アルキル基、C1〜C4の低級アルコキシ基、ニ
トロ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよいベンジ
ル基を挙げることができる。
Examples of the lower alkyl group for R 8 include C 1 to C 5 alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl and t-butyl. Examples of the lower alkenyl group include C 3 -C 7 lower alkenyl groups such as allyl, 2-butenyl, 3-methyl-2-butenyl and the like. Examples of the substituted or unsubstituted benzyl group include a benzyl group,
C 1 such as p-nitrobenzyl group and p-methoxybenzyl group
-C 4 lower alkyl groups, lower alkoxy groups C 1 -C 4, and a nitro group, a benzyl group which may be substituted with a halogen atom or the like.

以下に本発明の方法の詳細について述べる。 The details of the method of the present invention are described below.

(1)一般式(II) 〔式中、R1は前述と同じ意味を有し、Lは脱離基を示
す〕 で表わされるβ−ラクタム誘導体と、不活性溶媒中、亜
鉛末の存在下、一般式(III) 〔式中、Xはハロゲン原子を示し、R2、R3、R4、R5
同一でも異つていてもよく、水素原子、低級アルキル
基、アラルキル基またはアリール基を示すか、R2とR3
一緒になつてC2〜C6のアルキレン鎖を示し、同時にある
いは別個にR4とR5が一緒になつてC2〜C6のアルキレン鎖
を示す。あるいは、R2、R3、R4、R5が一緒になつてo−
フエニレン基を示し、Yは酸素原子あるいはアルキル基
またはアリール基で置換された窒素原子を示す〕 で表わされる化合物と反応させ、一般式(IV) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5及びYは前述と同じ意味
を有する〕 で表わされる化合物を得ることができる。
(1) General formula (II) [Wherein R 1 has the same meaning as described above and L represents a leaving group] and a β-lactam derivative represented by the general formula (III) in the presence of zinc dust in an inert solvent. [In the formula, X represents a halogen atom, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aralkyl group or an aryl group, or R 2 And R 3 together represent a C 2 -C 6 alkylene chain, and simultaneously or separately R 4 and R 5 together represent a C 2 -C 6 alkylene chain. Alternatively, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are joined together o-
Represents a phenylene group, Y represents an oxygen atom or a nitrogen atom substituted with an alkyl group or an aryl group], and is reacted with a compound represented by the general formula (IV) [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Y have the same meanings as described above] can be obtained.

前記一般式(II)におけるLは脱離基を示すが、特に
求核剤によつて容易に置換されうる脱離基を示し、アシ
ルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールス
ルホニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、アリールチオ基、あるいはハロゲン原子を
示し、アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ、
モノクロロアセトキシ、トリクロロアセトキシ、トリフ
ロロアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ
のような置換または無置換のC1〜C5低級アルキルカルボ
ニルオキシ基、例えば、ベンゾイルオキシ、p−クロロ
ベンゾイル、p−ニトロベンゾイルオキシのような置換
または無置換のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ
る。アルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、メ
タンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリ
フロロメタンスルホニルオキシのような置換または無置
換のC1〜C5低級アルキルスルホニルオキシ基が挙げら
れ、アリールスルホニルオキシ基としては、例えば、ベ
ンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキ
シ、p−クロロベンゼンスルホニルオキシのような置換
または無置換のアリールスルホニルオキシ基が挙げられ
る。
L in the general formula (II) represents a leaving group, and particularly represents a leaving group which can be easily substituted by a nucleophile, such as an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, an alkylsulfonyl group. , An arylsulfonyl group, an arylthio group, or a halogen atom, and examples of the acyloxy group include acetoxy,
A substituted or unsubstituted C 1 -C 5 lower alkylcarbonyloxy group such as monochloroacetoxy, trichloroacetoxy, trifluoroacetoxy, propionyloxy, butyryloxy, such as benzoyloxy, p-chlorobenzoyl, p-nitrobenzoyloxy. And a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group. Examples of the alkylsulfonyloxy group include a substituted or unsubstituted C 1 to C 5 lower alkylsulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, and the arylsulfonyloxy group. , And substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy groups such as benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, p-chlorobenzenesulfonyloxy.

アルキルスルホニル基としては、例えば、メタンスル
ホニル、エタンスルホニルのようなC1〜C5低級アルキル
スルホニル基が挙げられ、アリールスルホニル基として
は、例えば、ベンゼンスルホニル、p−クロロベンゼン
スルホニル、トルエンスルホニルのような置換または無
置換のアリールスルホニル基が挙げられる。アリールチ
オ基としては例えばフエニルチオ基が挙げられる。
Examples of the alkylsulfonyl group include C 1 to C 5 lower alkylsulfonyl groups such as methanesulfonyl and ethanesulfonyl, and examples of the arylsulfonyl group include benzenesulfonyl, p-chlorobenzenesulfonyl and toluenesulfonyl. A substituted or unsubstituted arylsulfonyl group is mentioned. Examples of the arylthio group include a phenylthio group.

ハロゲン原子としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素
のようなハロゲン原子を挙げることができる。
Examples of the halogen atom include halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine.

Yは、酸素原子、あるいはアルキル基またはアリール
基で置換された窒素原子であり、ここでアルキル基は、
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、ペンチル基等のC1〜C5の低級アル
キル基を表わし、アリール基は、例えば、フエニル基、
p−クロロフエニル基、p−メトキシフエニル基等の置
換又は無置換のフエニル基を表わす。
Y is an oxygen atom or a nitrogen atom substituted with an alkyl group or an aryl group, wherein the alkyl group is
For example, a C 1 to C 5 lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and a pentyl group is represented, and an aryl group is, for example, a phenyl group,
It represents a substituted or unsubstituted phenyl group such as a p-chlorophenyl group and a p-methoxyphenyl group.

公知の方法により得られ、本工程に用いられる一般式
(II)で表わされるβ−ラクタム誘導体としては、例え
等を挙げることができる。
Examples of the β-lactam derivative represented by the general formula (II) obtained by a known method and used in this step include Etc. can be mentioned.

前記一般式(III)におけるXが表わすハロゲン原子
としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素などを挙げるこ
とができる。
Examples of the halogen atom represented by X in the general formula (III) include chlorine, bromine, iodine and the like.

また、R2、R3、R4、R5は同一でも異なつていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アラルキル基またはア
リール基を示すか、R2とR3が一緒になつてC2〜C6のアル
キレン鎖を示し、同時にまたは別個に、R4とR5が一緒に
なつて、C2〜C6のアルキレン鎖を示すか、あるいは、
R2、R3、R4、R5が一緒になつてo−フエニレンを示す。
低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基等のC1〜C5アルキル基を挙げることができ
る。アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、p−
メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル基、p
−クロルベンジル基、ジフエニルメチル基等の置換又は
無置換のモノアリール低級アルキル基、またはジアリー
ル低級アルキル基を挙げることができる。
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aralkyl group or an aryl group, or R 2 and R 3 together form C. 2 represents an alkylene chain of -C 6, simultaneously or separately, R 4 and R 5 together such connexion, or an alkylene chain of C 2 -C 6, or,
R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are taken together to represent o-phenylene.
Examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group,
It can be mentioned C 1 -C 5 alkyl group such as isobutyl. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and p-
Methoxybenzyl group, 2,4-dimethoxybenzyl group, p
Examples thereof include a substituted or unsubstituted monoaryl lower alkyl group such as a chlorobenzyl group and a diphenylmethyl group, or a diaryl lower alkyl group.

R2とR3が一緒になつてC2〜C6のアルキレン鎖を示し、
同時にあるいは別個に、R4とR5が一緒になつてC2〜C6
アルキレン鎖を示す場合には、該アルキレン鎖は、オキ
サゾリジン−2−オン骨格の炭素原子と結合して、例え
ば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、
シクロヘキサン、シクロヘプタン等の3〜7員環を形成
するものを挙げることができる。
R 2 and R 3 together represent a C 2 -C 6 alkylene chain,
Simultaneously or separately, when R 4 and R 5 are taken together to represent a C 2 to C 6 alkylene chain, the alkylene chain is bonded to a carbon atom of the oxazolidin-2-one skeleton, and, for example, Cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane,
Examples thereof include those that form a 3- to 7-membered ring such as cyclohexane and cycloheptane.

好適なものとしては、R2、R3、R4、R5は同一でも異な
つていてもよく、水素原子、低級アルキル基またはアラ
ルキル基を示すか、R2とR3あるいはR4とR5が一緒になつ
てアルキレン鎖を示すものを挙げることができる。
It is preferable that R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or an aralkyl group, or R 2 and R 3 or R 4 and R Mention may be made of those in which 5 together represents an alkylene chain.

特に好適なものとしては、R2およびR3は同一でも異な
つていてもよく、低級アルキル基またはアラルキル基で
あるか、R2とR3が一緒になつてアルキレン鎖を示し、R4
およびR5は同一でも異なつていてもよく、水素原子、低
級アルキル基であるか、R4とR5が一緒になつてアルキレ
ン鎖を示し、Yが酸素原子あるいはアルキル基で置換さ
れた窒素原子を示すものを挙げることができる。
Particularly preferably, R 2 and R 3, which may be the same or different, are a lower alkyl group or an aralkyl group, or R 2 and R 3 together represent an alkylene chain, and R 4
And R 5 may be the same or different and each is a hydrogen atom or a lower alkyl group, or R 4 and R 5 together represent an alkylene chain, and Y is a nitrogen atom substituted with an oxygen atom or an alkyl group. Mention may be made of those that represent an atom.

またR2、R3、R4、R5が一緒になつてo−フエニレンを
示すとは、以下のベンゾオキサゾリジン−2−オン骨格
を示すことを云う。
R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 together to represent o-phenylene means that the following benzooxazolidin-2-one skeleton is represented.

〔式中、Xは前述と同じ意味を表わす〕 反応は不活性溶媒中で行われるが、その溶媒としては、
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホス
ホリツクトリアミドなどの極性非プロトン性溶媒などを
挙げることができ、好適にはテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンお
よびN,N−ジメチルホルムアミドを挙げることができ
る。
[In the formula, X represents the same meaning as described above.] The reaction is carried out in an inert solvent.
Diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ether solvents such as 1,2-dimethoxyethane, benzene, toluene, hexane, hydrocarbon solvents such as cyclohexane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, A polar aprotic solvent such as hexamethylphosphoric triamide can be mentioned, and preferably tetrahydrofuran, diethyl ether, dioxane, 1,2-dimethoxyethane and N, N-dimethylformamide can be mentioned.

亜鉛末及び一般式(III)で表わされる本発明の化合
物は、一般式(II)で表わされるβ−ラクタム誘導体に
対して反応が充分に進行するだけの量が必要であり、大
過剰量用いることもできるが、通常亜鉛末は一般式(I
I)のβ−ラクタム誘導体に対して2〜5当量を用いて
行うことができ、一般式(III)の化合物は一般式(I
I)のβ−ラクタム誘導体に対して通常1〜3当量用い
て行うことができる。
The zinc powder and the compound of the present invention represented by the general formula (III) are required in amounts sufficient for the reaction to proceed sufficiently with respect to the β-lactam derivative represented by the general formula (II), and are used in a large excess amount. However, zinc powder is usually represented by the general formula (I
The compound of the general formula (III) can be prepared by using 2 to 5 equivalents relative to the β-lactam derivative of the general formula (I).
It can be carried out usually in an amount of 1 to 3 equivalents relative to the β-lactam derivative of I).

反応は冷却または加熱することにより抑制または促進
させることができ、−50℃から150℃の範囲の温度で行
うことが可能であるが、好ましい反応温度は0℃から10
0℃の範囲である。
The reaction can be suppressed or promoted by cooling or heating and can be carried out at a temperature in the range of -50 ° C to 150 ° C, but a preferable reaction temperature is 0 ° C to 10 ° C.
It is in the range of 0 ° C.

なお本工程ではR2、R3、R4、R5の置換基および反応条
件を種々選択することにより、β−ラクタム誘導体の製
造に有利となる1″R体の化合物を優先して得ることが
できる。
In this step, by preferentially selecting a substituent of R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 and reaction conditions, it is possible to preferentially obtain a 1 ″ R compound that is advantageous for the production of β-lactam derivatives. You can

1″R体と1″S体の化合物は再結晶またはカラムク
ロマトグラフイーなどの通常の分離操作によつて分離す
ることも可能であるが、混合物のまま次の反応工程に用
いることもできる。
The 1 ″ R and 1 ″ S compounds can be separated by a conventional separation operation such as recrystallization or column chromatography, but they can be used as they are in the next reaction step.

(2)一般式(IV) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびYは前述と同じ意
味を有する〕 で表わされる化合物と、一般式(V) M−CH2−COOR6 (V) 〔式中、Mは水酸基の活性エステルあるいはハロゲン
原子を示し、R6は前述と同じ意味を有する〕 で表わされる酢酸誘導体とを不活性溶媒中塩基の存在下
で反応させることによつて一般式(VI) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびYは前述と同じ意
味を有する〕 で表わされる化合物とすることができる。
(2) General formula (IV) [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Y have the same meanings as described above] and a compound of the general formula (V) M-CH 2 —COOR 6 (V) [ In the formula, M represents an active ester of a hydroxyl group or a halogen atom, and R 6 has the same meaning as described above], and is reacted with an acetic acid derivative represented by the general formula ( VI) [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Y have the same meanings as described above].

前記一般式(V)において、水酸基の活性エステルで
あるMの好適なものとしては、例えば、メシレート、ト
シレート等のスルホニルエステルを挙げることができ、
ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等を挙げることができる。
In the general formula (V), preferable examples of M, which is an active ester of a hydroxyl group, include sulfonyl esters such as mesylate and tosylate.
Examples of the halogen atom include chlorine atom, bromine atom, iodine atom and the like.

本N−アルキル化反応に用いられる不活性溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサメチルホスホリツクトリアミド(HM
PT)、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、ジクロロ
エタン、t−ブタノール、水等の単一または混合溶媒を
好適なものとして挙げることができる。また好適な塩基
としては、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデ
セン(DBU)等の有機塩基、水素化ナトリウム、水素化
カリウム等の水素化アルカリ金属類、ソジウムアミド、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメ
チルシリル)アミド等のアミン類の金属塩、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等の各種の塩基を挙げることができる。
As the inert solvent used in the present N-alkylation reaction, benzene, toluene, tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, acetonitrile, dimethylformamide, hexamethylphosphoric triamide (HM
Preferable examples include single or mixed solvents such as PT), dimethyl sulfoxide, methylene chloride, dichloroethane, t-butanol, and water. Examples of suitable bases include organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU), alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, sodium amide,
Examples thereof include metal salts of amines such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and various bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate.

塩基の量は、反応が充分に進行するだけの量を用いる
ことが望ましく、また適宜冷却または加熱することによ
り反応を抑制または促進することができる。
The amount of the base is preferably such that the reaction proceeds sufficiently, and the reaction can be suppressed or promoted by appropriately cooling or heating.

一般式(VI)で表わされる化合物は文献未記載の新規
化合物であり、以下に述べるようにその1位メチレン基
が低級アルキル基で置換したカルバペネム誘導体を製造
する上で極めて有用な化合物である。
The compound represented by the general formula (VI) is a novel compound which has not been described in the literature, and is a very useful compound for producing a carbapenem derivative in which the methylene group at the 1-position is substituted with a lower alkyl group as described below.

(3)一般式(VI) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびYは前述と同
じ意味を有する〕 で表わされる化合物を、一般式 M′−O−R7 〔式中、M′は金属カチオンを示し、R7は低級アルキ
ル基、低級アルケニル基あるいは置換又は無置換のベン
ジル基を示す〕 で表わされる化合物とを不活性溶媒中で反応させ、一般
〔式中、R1、R6およびR8は前述と同じ意味を有する〕 で表わされる化合物とすることができる。
(3) General formula (VI) [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and Y have the same meanings as described above], a compound represented by the general formula M′-O—R 7 [wherein M'represents a metal cation, R 7 represents a lower alkyl group, a lower alkenyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group] in an inert solvent to give a compound of the general formula [Wherein R 1 , R 6 and R 8 have the same meanings as described above].

R7において、低級アルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基等のC1〜C5の低級アルキル基をあげることが
でき、低級アルケニル基としては、例えば、アリル基、
2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基等のC3
C7の低級アルケニル基を挙げることができる。
Examples of the lower alkyl group for R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and n.
Examples of the lower alkenyl group include a C 1 to C 5 lower alkyl group such as a butyl group.
2-butenyl group, C 3 ~, such as 3-methyl-2-butenyl group
A C 7 lower alkenyl group may be mentioned.

置換ベンジルアルコールの置換基としては、例えば、
メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピ
ルオキシ等の低級アルコキシ基、メチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル等のC1〜C4の低級アルキル基、
ニトロ基、ハロゲン原子を挙げることができる。
As the substituent of the substituted benzyl alcohol, for example,
Lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, methyl, ethyl, n-
C 1 -C 4 lower alkyl groups such as propyl and isopropyl,
A nitro group and a halogen atom can be mentioned.

M′としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属、カチオン、マグネシウム等のア
ルカリ土類金属カチオンを挙げることができる。
Examples of M ′ include an alkali metal such as lithium, sodium and potassium, a cation, and an alkaline earth metal cation such as magnesium.

反応に用いられる不活性溶媒としては、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメト
キシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホリツクトリアミドなどの非プロ
トン性極性溶媒などの溶媒を挙げることができ、これら
の混合溶媒を用いることもできる。反応は−20℃から50
℃の間の温度で行われる。
The inert solvent used in the reaction, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ether solvents such as 1,2-dimethoxyethane, benzene, toluene, hexane, hydrocarbon solvents such as cyclohexane,
Solvents such as aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and hexamethylphosphoric triamide can be mentioned, and mixed solvents thereof can also be used. Reaction is from -20 ℃ to 50
It is carried out at a temperature between ° C.

本反応の特筆すべき特徴として、一般式(VI)で表わ
される化合物の1″位(カルバペネム骨格の1位に対応
する)のジアステレオマー間で反応試剤との反応速度が
異なるということがあげられる。すなわち、1″R体と
1″S体の混合物を原料として用いた場合、生成物の
1″R体/1″S体の生成比が原料に比べて増大する。す
なわち、反応条件を適宜選択することにより、より純度
の高い1″R体の(VII)を得ることができる。
A notable feature of this reaction is that the reaction rate with the reaction reagent differs between the diastereomers at the 1 ″ position (corresponding to the 1 position of the carbapenem skeleton) of the compound represented by general formula (VI). That is, when a mixture of 1 ″ R isomer and 1 ″ S isomer is used as a raw material, the production ratio of 1 ″ R isomer / 1 ″ S isomer of the product is increased as compared with the raw material. By selecting appropriately, it is possible to obtain a highly pure 1 ″ R form (VII).

(4)一般式(VII) 〔式中、R1、R6あるいはR8は前述と同じ意味を有す
る〕 で表わされる化合物のR8を選択的に脱保護することによ
り、一般式 〔式中、R1及びR6は前述と同じ意味を有する〕 で表わされる化合物を得ることができる。
(4) General formula (VII) [Wherein R 1 , R 6 or R 8 has the same meaning as described above], by selectively deprotecting R 8 of the compound represented by the general formula [Wherein, R 1 and R 6 have the same meanings as described above] can be obtained.

保護基R8の除去方法は保護基の種類によつて異なる
が、それ自体公知の一般的手法、例えば、加水分解、接
触還元法、酸または塩基等による処理あるいは還元的手
法等により実施することができる。R8のみを選択的に除
去するためには、そのような選択的反応が可能となるよ
う、あらかじめR6とR8の組み合せを選んでおけばよい。
The method for removing the protecting group R 8 differs depending on the kind of the protecting group, but it should be carried out by a general method known per se, for example, hydrolysis, catalytic reduction method, treatment with acid or base or a reducing method. You can In order to selectively remove R 8 only, a combination of R 6 and R 8 may be selected in advance so that such a selective reaction is possible.

例えば、その一例としてここで、式(VII)の化合物
においてR8がベンジル基で、R6が水添条件で切れない保
護基である場合の、緩和な反応条件で行える水添反応に
よるR8の脱保護反応について詳細に説明する。触媒とし
ては、炭素上に担持したパラジウム、白金、ロジウムな
どが用いられる。また加水素分解溶媒としては酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸アミルなどの酢酸エステル類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,
2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水
素系溶媒が用いられる。反応は常圧の水素気流下−20℃
から100℃の間で円滑に進行する。
For example, here, as an example, in the compound of the formula (VII), when R 8 is a benzyl group and R 6 is a protecting group that does not cleave under hydrogenation conditions, R 8 by hydrogenation reaction that can be performed under mild reaction conditions The deprotection reaction of is described in detail. As the catalyst, palladium, platinum, rhodium or the like supported on carbon is used. As the hydrogenolysis solvent, acetic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate and amyl acetate, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, 1,
An ether solvent such as 2-dimethoxyethane or a hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, hexane or cyclohexane is used. The reaction is under normal pressure hydrogen flow at -20 ℃
It progresses smoothly between 100 ℃ and 100 ℃.

以上のようにして得られる化合物(VIII)は、後述す
るように1−メチルカルバペネム化合物を製造するため
の中間体として有用である。
The compound (VIII) obtained as described above is useful as an intermediate for producing a 1-methylcarbapenem compound as described later.

例えば、前述のようにして得られる化合物(VIII)は
一般式(IX) 〔式中、R1およびR6は前述と同じ意味を有し、COZは
カルボキシル基の活性エステルもしくは活性酸無水物、
チオールカルボキシル基の保護基で保護されたチオール
カルボキシル基、置換アリールオキシカルボニル基、ま
たはヘテロアリールオキシカルボニル基を示す〕 で表わされるβ−ラクタム化合物に、容易に誘導するこ
とができる。
For example, the compound (VIII) obtained as described above has the general formula (IX) [In the formula, R 1 and R 6 have the same meanings as described above, COZ is an active ester of a carboxyl group or an active acid anhydride,
A thiol carboxyl group protected by a thiol carboxyl group protecting group, a substituted aryloxycarbonyl group, or a heteroaryloxycarbonyl group] can be easily derived to the β-lactam compound.

一般式(IX)で表わされる化合物において、COZはカ
ルボキシル基の活性エステル、カルボキシル基の活性酸
無水物、チオールカルボキシル基の保護基で保護された
チオールカルボキシル基、置換アリールオキシカルボニ
ル基またはヘテロアリールオキシカルボニル基を示す
が、COZがカルボキシル基の活性エステルまたは活性酸
無水物である場合には、Z基としては、例えば、塩素、
臭素、ヨウ素のようなハロゲン原子、例えばエトキシカ
ルボニルオキシ、イソプロピルオキシカルボニルオキ
シ、sec−ブチルオキシカルボニルオキシのような低級
アルキルオキシカルボニルオキシ基、例えば、メタンス
ルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基、例えば、p−トルエンスルホニルオキシのようなア
リールスルホニルオキシ基、例えば、ジメチルホスホリ
ルオキシ、ジエチルホスホリルオキシのようなジ(低級
アルキル)ホスホリルオキシ基、例えば、ジ(フエニ
ル)ホスホリルオキシのようなジアリールホスホリルオ
キシ基、例えば、N−サクシイミドオキシ、N−フタル
イミドオキシのような環状イミドオキシ基、イミダゾー
ル、トリアゾールのようなヘテロアリール基、例えば、
3−(2−チオキソ)−チアゾリジニルのようなヘテロ
シクロアルキル基等を挙げることができる。またCOZが
チオールカルボキシル基の保護基で保護されたチオール
カルボキシル基の保護基としては、例えば、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基等のC1〜C5
の低級アルキル基、フエニル基、p−ニトロフエニル
基、p−クロロフエニル基、p−メチルフェニル基等の
置換又は無置換のフエニル基、ナフチル基等の置換又は
無置換のアリール基、例えば、ジメチルホスホリル、ジ
エチルホスホリルのようなジ(低級アルキル)ホスホリ
ル基、例えば、ジ(フエニル)ホスホリルのようなジア
リールホスホリル基、例えば、N−サクシイミドオキ
シ、N−フタルイミドオキシのような環状イミド基を挙
げることができる。
In the compound represented by the general formula (IX), COZ is an active ester of a carboxyl group, an active acid anhydride of a carboxyl group, a thiol carboxyl group protected by a protecting group of a thiol carboxyl group, a substituted aryloxycarbonyl group or a heteroaryloxy group. A carbonyl group is shown, and when COZ is an active ester of a carboxyl group or an active acid anhydride, examples of the Z group include chlorine,
Halogen atoms such as bromine and iodine, for example, lower alkyloxycarbonyloxy groups such as ethoxycarbonyloxy, isopropyloxycarbonyloxy, sec-butyloxycarbonyloxy, for example lower alkanesulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy, for example , An arylsulfonyloxy group such as p-toluenesulfonyloxy, for example, a di (lower alkyl) phosphoryloxy group such as dimethylphosphoryloxy, diethylphosphoryloxy, and a diarylphosphoryloxy group such as di (phenyl) phosphoryloxy group. , For example, cyclic imidooxy groups such as N-succinimidooxy and N-phthalimidooxy, heteroaryl groups such as imidazole and triazole, for example,
Heterocycloalkyl groups such as 3- (2-thioxo) -thiazolidinyl can be mentioned. Further, as the protecting group for the thiol carboxyl group in which COZ is protected with the protecting group for the thiol carboxyl group, for example, a methyl group,
C 1 -C 5, such as an ethyl group, an isopropyl group, sec- butyl group
A lower alkyl group, a phenyl group, a p-nitrophenyl group, a p-chlorophenyl group, a substituted or unsubstituted phenyl group such as p-methylphenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group such as a naphthyl group, for example, dimethylphosphoryl, Examples thereof include di (lower alkyl) phosphoryl groups such as diethylphosphoryl, for example, diarylphosphoryl groups such as di (phenyl) phosphoryl, and cyclic imide groups such as N-succinimidooxy and N-phthalimidooxy. .

COZが置換アリールオキシカルボニル基の場合の置換
アリール基としては、例えば、p−ニトロフエニル基、
p−クロルフエニル基、p−メトキシフエニル基、0−
ニトロフエニル、2,4,5−トリクロロフエニル基、ある
いは、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられ
る。
When COZ is a substituted aryloxycarbonyl group, examples of the substituted aryl group include p-nitrophenyl group,
p-chlorophenyl group, p-methoxyphenyl group, 0-
Examples thereof include nitrophenyl, 2,4,5-trichlorophenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like.

また、ヘテロアリールオキシカルボニル基のヘテロア
リール基としては、例えば、2−ピリジル、3−ピリジ
ル、4−ピリジル、2−ピリミジル、2−(4,6−ジメ
チル)ピリミジル基等を挙げることができる。
Examples of the heteroaryl group of the heteroaryloxycarbonyl group include 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, 2-pyrimidyl, 2- (4,6-dimethyl) pyrimidyl group and the like.

一般式(IX)で表わされる化合物の製造は一般式(VI
II)で表わされる化合物を用いて、例えば、次のように
して実施することができる。
The compound represented by the general formula (IX) can be produced by the general formula (VI
It can be carried out, for example, as follows using the compound represented by II).

(イ)例えば、オキザリルクロリド、塩化チオニル等の
ハロゲン化剤をそのままあるいは塩基の存在下で反応さ
せて酸ハライドを製造することができる。
(A) For example, an acid halide can be produced by reacting a halogenating agent such as oxalyl chloride or thionyl chloride as it is or in the presence of a base.

(ロ)例えば、クロルギ酸エチル等のクロロホーメート
エステルを塩基の存在下で用いて混合酸無水物を製造す
ることができる。
(B) For example, a mixed acid anhydride can be produced by using a chloroformate ester such as ethyl chloroformate in the presence of a base.

(ハ)1,1′−カルボニルジイミダゾールで処理するこ
とによりアシルイミダゾール誘導体を製造することがで
きる。
(C) An acylimidazole derivative can be produced by treating with 1,1′-carbonyldiimidazole.

(ニ)チアゾリジン−2−チオンをジシクロヘキシルカ
ルボジイミド(DCC)等の脱水剤の存在下で反応させて
アシルチアゾリジン−2−チオン誘導体を製造すること
ができる。
(D) Thiazolidine-2-thione can be reacted in the presence of a dehydrating agent such as dicyclohexylcarbodiimide (DCC) to produce an acylthiazolidine-2-thione derivative.

(ホ)置換あるいは無置換のチオフエニール、4,6−ジ
メチル−2−メルカプトピリミジン、2−メルカプトピ
リジン等を、DCC等の脱水剤を用いて縮合させるか、前
述の酸ハライド、混合酸無水物あるいはアシルイミダゾ
ール誘導体等の活性エステルと反応させる等、通常のメ
ルカプタンのアシル化反応に付すことによりチオールエ
ステルを製造することができる。
(E) Substituted or unsubstituted thiophene, 4,6-dimethyl-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyridine, etc. are condensed with a dehydrating agent such as DCC, or the aforementioned acid halide, mixed acid anhydride or The thiol ester can be produced by subjecting it to an ordinary acylation reaction of mercaptan such as reaction with an active ester such as an acylimidazole derivative.

(ヘ)N−ヒドロキシサクシイミド、N−ヒドロキシフ
タルイミド、置換あるいは無置換のフエノール類、2−
ピリドン類と、前述のチオールエステルを製造する場合
と同様の処理に付すことにより活性エステルを製造する
ことができる。
(F) N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, substituted or unsubstituted phenols, 2-
An active ester can be produced by subjecting a pyridone and a thiol ester to the same treatment as in the production of the above-mentioned thiol ester.

前記一般式(IX)で表わされる化合物は、EP−018881
6(特願昭60−290480号)に開示されている様に(下記
のスキーム参照)、不活性溶媒中塩基で処理し、化合物
(X)とし次に単離することなく種々のアシル化剤、あ
るいは、ハロゲン化剤等と処理して化合物(XI)とし、
抗菌力を有するカルバペネム化合物(XII)へ導くこと
ができる。
The compound represented by the above general formula (IX) is EP-018881.
6 (Japanese Patent Application No. 60-290480) (see scheme below), various acylating agents can be obtained by treating with a base in an inert solvent to give compound (X) and then without isolation. Alternatively, it is treated with a halogenating agent or the like to give compound (XI),
It can lead to a carbapenem compound (XII) having antibacterial activity.

〔式中、R1、R6およびZは前記と同じ意味を有し、
M″は塩基ま金属カチオンを示し、L′は水酸基の反応
性エステル基あるいはハロゲン原子を示し、R0は有機基
を示す〕 ここでL′で示される水酸基の反応性エステルとは、
例えば、置換もしくは無置換アリールスルホン酸エステ
ル、低級アルカンスルホン酸エステル、ハロゲノ低級ア
ルカンスルホン酸エステルまたはジアリールホスホリツ
クアシツドエステルを示す。さらに置換もしくは無置換
アリールスルホン酸エステルとしては、例えば、ベンゼ
ンスルホン酸エステル、p−トルエンスルホン酸エステ
ル、p−ニトロベンゼンスルホン酸エステル、p−ブロ
モベンゼンスルホン酸エステルなどを、低級アルカンス
ルホン酸エステルとしては、例えば、メタンスルホン酸
エステル、エタンスルホン酸エステルなどを、ハロゲノ
低級アルカンスルホン酸エステルとしては、例えば、ト
リフルオロメタンスルホン酸エステルなどを、ジアリー
ルホスホリツクアシツドエステルとしては、例えば、ジ
フエニルホスホリツクアシツドエステルなどを挙げるこ
とができる。このようなアルコールの反応性エステルの
中で好適なものとしては、p−トルエンスルホン酸エス
テル、メタンスルホン酸エステル、ジフエニルホスホリ
ツクアシツドエステルを挙げることができる。またハロ
ゲン原子としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素化物な
どを挙げることができる。
[Wherein R 1 , R 6 and Z have the same meanings as described above,
M ″ represents a base or metal cation, L ′ represents a reactive ester group of a hydroxyl group or a halogen atom, and R 0 represents an organic group. Here, the reactive ester of a hydroxyl group represented by L ′ is
For example, a substituted or unsubstituted aryl sulfonic acid ester, a lower alkane sulfonic acid ester, a halogeno lower alkane sulfonic acid ester or a diaryl phosphoric acid ester is shown. Further, as the substituted or unsubstituted aryl sulfonic acid ester, for example, benzene sulfonic acid ester, p-toluene sulfonic acid ester, p-nitrobenzene sulfonic acid ester, p-bromobenzene sulfonic acid ester, and the like can be used as the lower alkane sulfonic acid ester. For example, methanesulfonic acid ester, ethanesulfonic acid ester, etc., halogeno lower alkanesulfonic acid ester, for example, trifluoromethanesulfonic acid ester, etc., diarylphosphoric acid ester, for example, diphenylphosphoric acid ester, etc. Examples include citrate esters. Preferable examples of the reactive ester of alcohol include p-toluenesulfonic acid ester, methanesulfonic acid ester, and diphenylphosphoric acid ester. Examples of the halogen atom include chlorine, bromine, and iodide.

M″としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属カチオン、あるいは、マグネシウ
ム等のアルカリ土類金属カチオンを挙げることができ
る。
Examples of M ″ include alkali metal cations such as lithium, sodium and potassium, and alkaline earth metal cations such as magnesium.

以上に述べた如く、本発明の方法によりその1位に低
級アルキル基が置換したカルバペネム誘導体を製造する
上での重要中間体、またはその原料化合物として極めて
有用な化合物である一般式(VIII)で表わされる化合物
を製造することができる。
As described above, the compound of formula (VIII), which is an extremely useful intermediate as a key intermediate for producing a carbapenem derivative in which a lower alkyl group is substituted at the 1-position by the method of the present invention, is a very useful compound. The compounds represented can be prepared.

前記一般式(I)で示される本発明化合物の3位、4
位の炭素原子、4位の置換基内のβ−ラクタム環と結合
する炭素原子、あるいは3位の置換基内のβ−ラクタム
環と結合する炭素原子はいずれも不斉炭素である。従つ
て一般式(I)で示される化合物には不斉炭素に基く光
学異性体および立体異性体が存在し、これらの異性体が
すべて単一の式で示されているが、これによつて本発明
の記載の範囲は限定されるものではない。しかしなが
ら、好適には、下記の配置を有する化合物(XIII)を挙
げることができる。
The 3-position, 4-position of the compound of the present invention represented by the general formula (I)
The carbon atom at the 4-position, the carbon atom bonded to the β-lactam ring in the substituent at the 4-position, or the carbon atom bonded to the β-lactam ring in the substituent at the 3-position are all asymmetric carbons. Therefore, the compound represented by the general formula (I) has optical isomers and stereoisomers based on an asymmetric carbon, and these isomers are all represented by a single formula. The scope of the description of the present invention is not limited. However, preferably, the compound (XIII) having the following arrangement can be mentioned.

〔式中、R1、R6およびR8は前述と同じ意味を表わす〕 本化合物(XIII)を用いて、上記の立体を保持したま
まで、前述の如く化合物(IX)に誘導することができ、
同様に立体を保持したままで、化合物(X)、(XI)、
及び(XII)に誘導することができる。
[Wherein R 1 , R 6 and R 8 have the same meanings as described above] The compound (XIII) can be used to induce a compound (IX) as described above while retaining the above-mentioned steric structure. You can
Similarly, the compound (X), (XI),
And (XII).

次に実施例、参考例をあげて本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はもちろんこれらによつて限定され
るものではない。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Reference Examples, but the present invention is not limited to these.

なお、略号の意味は次の通りである。 The abbreviations have the following meanings.

Me;メチル基 TBDMS;t−ブチルジメチルシリル基 Ac;アセチル基 THF;テトラヒドロフラン DME;1,2−ジメトキシエタン Et;エチル基 DMF;ジメチルホルムアミド Pr;プロピル基 Ph;フエニル基 Bu;ブチル基 Bn;ベンジル基 参考例1 亜鉛末(2.04g、31.21mM)、THF(10.7g)のけんだく
液を加熱還流しておき、3−(2′−ブロモプロピオニ
ル)−4,4−ジメチルオキサゾリジン−2−オン(5.74
g、22.95mM)と(1′R,3R,4R)−3−〔1′−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−アセトキ
シアゼチジン−2−オン(3g、10.44mM)のTHF(16.0
g)溶液を滴下し、30分還流した。THFを18.7gだけ濃縮
し、冷却して酢酸(0.63g)を加え、30分攪拌した。ジ
クロロメタンを加えて不溶物を去し、ジクロロメタン
抽出液を希塩酸、水、5%炭酸水素ナトリウム、水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒濃縮した。残
渣にn−ヘプタンを加えて結晶化後過し、(1′R,
1″R,3S,4R)および(1′R,1″S,3S,4R)−3−〔1′
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−
〔1″−(4−4−ジメチルオキサゾリジン−2
−オン−3−カルボニル)エチル〕−アゼチジン−2
−オンの混合物(3.95g,95%収率)を無色固体として得
た。NMRスペクトルより求めた.1″R体および1″S体
の生成比は81:19であつた。
Me; methyl group TBDMS; t-butyldimethylsilyl group Ac; acetyl group THF; tetrahydrofuran DME; 1,2-dimethoxyethane Et; ethyl group DMF; dimethylformamide Pr; propyl group Ph; phenyl group Bu; butyl group Bn; benzyl Group Reference Example 1 A solution of zinc powder (2.04 g, 31.21 mM) and THF (10.7 g) was heated under reflux to give 3- (2'-bromopropionyl) -4,4-dimethyloxazolidin-2-one. (5.74
g, 22.95 mM) and (1'R, 3R, 4R) -3- [1 '-(t-
Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-acetoxyazetidin-2-one (3 g, 10.44 mM) in THF (16.0
g) The solution was added dropwise and refluxed for 30 minutes. THF was concentrated by 18.7 g, cooled, acetic acid (0.63 g) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Dichloromethane was added to remove the insoluble matter, and the dichloromethane extract was washed successively with diluted hydrochloric acid, water, 5% sodium hydrogen carbonate and water, dried over magnesium sulfate and concentrated in a solvent. N-Heptane was added to the residue and the mixture was crystallized and filtered (1'R,
1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1" S, 3S, 4R) -3- [1 '
-(T-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
[1 ″-(4-4-dimethyloxazolidine-2
-One-3-carbonyl) ethyl] -azetidine-2
A mixture of -ones (3.95 g, 95% yield) was obtained as a colorless solid. The production ratio of the .1 "R isomer and the 1" S isomer determined from the NMR spectrum was 81:19.

IR(KBr):2950、1762、1713、1460、1380、1310、122
7、1184、1096、1051、840、780cm-1; H−NMR(CDCl3)δ=0.06(6H,s)、0.86(9H,s)、2.
79(0.19H※1,dd,J=5.3,1.1Hz)、3.00(0.81H※2,
m)、4.00(2H,s)、5.90(1H,bs)。
IR (KBr): 2950, 1762, 1713, 1460, 1380, 1310, 122
7, 1184, 1096, 1051, 840, 780 cm -1 ; H-NMR (CDCl 3 ) δ = 0.06 (6H, s), 0.86 (9H, s), 2.
79 (0.19H * 1 , dd, J = 5.3,1.1Hz), 3.00 (0.81H * 2 ,
m), 4.00 (2H, s), 5.90 (1H, bs).

※1 1″S体のシグナル ※2 1″R体のシグナル 参考例2 参考例1と同様にして、β−ラクタム誘導体の混合物
(1′R,1″R,3S,4R)体および(1′R,1″S,3S,4R)体
を得た。結果を下記の表に示す。
* 1 Signal of 1 "S body * 2 Signal of 1" R body Reference example 2 In the same manner as in Reference Example 1, a mixture of β-lactam derivatives (1′R, 1 ″ R, 3S, 4R) body and (1′R, 1 ″ S, 3S, 4R) body were obtained. The results are shown in the table below.

さらに、参考例1と同様にして反応を行い、前記と同様
の結果を得た。結果を下記の表に示す。
Further, the reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1, and the same results as above were obtained. The results are shown in the table below.

参考例3 60%油性水素化ナトリウム(0.33g、8.25mM)、THF
(4g)のけんだく液に、25〜30℃にて(1′R,1″R,3S,
4R)および(1′R,1″S,3S,4R)−3−〔1′−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−〔1″−
(4,4−ジメチルオキサゾリジン−2−オン−3
−カルボニル)エチル〕−アゼチジン−2−オンの混
合物(3.0g,7.53mM)とt−ブチルブロモアセテート
(1.62g,8.31mM)のTHF(20g)溶液を滴下し、1時間攪
拌することにより(1′R,1″R,3S,4R)および(1′R,
1″S,3S,4R)−1−t−ブチルオキシカルボニルメチル
−3−〔1′−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エ
チル〕−4−〔1″−(4,4−ジメチルオキサゾリ
ジン−2−オン−3−カルボニル)エチル〕−アゼ
チジン−2−オンの混合物を得た。
Reference Example 3 60% oily sodium hydride (0.33g, 8.25mM), THF
Add (4g) to the liquid at 25-30 ℃ (1'R, 1 "R, 3S,
4R) and (1'R, 1 "S, 3S, 4R) -3- [1 '-(t-
Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4- [1 ″-
(4,4-dimethyloxazolidin-2-one-3
-Carbonyl) ethyl] -azetidin-2-one mixture (3.0 g, 7.53 mM) and t-butyl bromoacetate (1.62 g, 8.31 mM) in THF (20 g) was added dropwise and the mixture was stirred for 1 hour ( 1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R,
1 "S, 3S, 4R) -1-t-Butyloxycarbonylmethyl-3- [1 '-(t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4- [1"-(4,4-dimethyloxazolidine-2 A mixture of -one-3-carbonyl) ethyl] -azetidin-2-one was obtained.

分取後の物性データは以下のとおりである。 The physical property data after preparative collection are as follows.

IR(neat):1770、1750、1695、1460、1365、1302、122
5、1090、833、775、765cm-1; H−NMR(CDCl3):δ=0.05(3H,s)、0.08(3H,s)、
0.86(9H,s)、1.21(3H,d,J=6.97Hz)、1.27(3H,d,J
=6.27Hz)、1.46(9H,s)、1.55(6H,s)、3.07(1H,d
d,J=2.31Hz,J=6.60Hz)、3.81(1H,d,J=17.82Hz)、
4.02(2H,s)、4.08(1H,d,J=17.82Hz)、4.10〜4.25
(3H,m)。
IR (neat): 1770, 1750, 1695, 1460, 1365, 1302, 122
5, 1090, 833, 775, 765 cm −1 ; H-NMR (CDCl 3 ): δ = 0.05 (3H, s), 0.08 (3H, s),
0.86 (9H, s), 1.21 (3H, d, J = 6.97Hz), 1.27 (3H, d, J
= 6.27Hz), 1.46 (9H, s), 1.55 (6H, s), 3.07 (1H, d)
d, J = 2.31Hz, J = 6.60Hz), 3.81 (1H, d, J = 17.82Hz),
4.02 (2H, s), 4.08 (1H, d, J = 17.82Hz), 4.10 to 4.25
(3H, m).

参考例4 実施例1で得られた(1′R,1″R,3S,4R)および
(1′R,1″S,3S,4R)−1−t−ブチルオキシカルボニ
ルメチル−3−〔1′−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔1″−(ベンジルオキシカルボ
ニル)エチル〕−アゼチジン−2−オンのTHF溶液に50
%含水の10%Pd−C(0.13g)を加えて水素添加した。
約2時間後水素ガスの吸収が停止した時点で触媒を去
し、液を濃縮した。残渣にn−ヘプタン、2.5%炭酸
ソーダ水溶液を加えて分液した。水層を塩酸でpH〜3と
し、ジクロロメタンで抽出し、水洗後硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去して(1′R,1″R,3S,4R)お
よび(1′R,1″S,3S,4R)−1−t−ブチルオキシカル
ボニルメチル−3−〔1′−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル〕−4−〔1″−カルボキシエチル)
−アゼチジン−2−オンの混合物(2.63g,84%収率)を
無色固体として得た。(1′R,1″R,3S,4R)体および
(1′R,1″S,3S,4R)体の生成比は93:7であつた。
Reference example 4 (1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1" S, 3S, 4R) -1-t-butyloxycarbonylmethyl-3- [1'- obtained in Example 1 50% of (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4- [1 ″-(benzyloxycarbonyl) ethyl] -azetidin-2-one in THF.
% Water containing 10% Pd-C (0.13 g) was added and hydrogenated.
After about 2 hours, when the absorption of hydrogen gas stopped, the catalyst was removed and the liquid was concentrated. To the residue were added n-heptane and a 2.5% sodium carbonate aqueous solution, and the layers were separated. The aqueous layer was adjusted to pH ~ 3 with hydrochloric acid, extracted with dichloromethane, washed with water and dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off (1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1"). S, 3S, 4R) -1-t-Butyloxycarbonylmethyl-3- [1 ′-(t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4- [1 ″ -carboxyethyl)
A mixture of -azetidin-2-one (2.63 g, 84% yield) was obtained as a colorless solid. The production ratio of the (1′R, 1 ″ R, 3S, 4R) body and the (1′R, 1 ″ S, 3S, 4R) body was 93: 7.

IR(neat):1760、1740、1730、1455、1360、1245、122
4、1150、830、770、745cm-1; H−NMR(CDCl3):δ=0.06(3H,s)、0.08(3H,s)、
0.87(9H,s)、1.24(3H,d,J=6.3Hz)、1.25(3H,d,J
=7.3Hz)、1.48(9H,s)、2.94(1H,8d,J=7.1Hz,3H
z)、3.04(1H,dd,J=2.3Hz,5.5Hz)、3.98(2H,m)、
4.00(1H,m)、4.21(1H,m)。
IR (neat): 1760, 1740, 1730, 1455, 1360, 1245, 122
4, 1150, 830, 770, 745 cm −1 ; H-NMR (CDCl 3 ): δ = 0.06 (3H, s), 0.08 (3H, s),
0.87 (9H, s), 1.24 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.25 (3H, d, J
= 7.3Hz), 1.48 (9H, s), 2.94 (1H, 8d, J = 7.1Hz, 3H
z), 3.04 (1H, dd, J = 2.3Hz, 5.5Hz), 3.98 (2H, m),
4.00 (1H, m), 4.21 (1H, m).

実施例1 参考例3に示す方法によつて得られた(1′R,1″R,3
S,4R)および(1′R,1″S,3S,4R)−1−t−ブチルオ
キシカルボニルメチル−3−〔1′−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔1″−(4,4
−ジメチルオキサゾリジン−2−オン−3−カルボ
ニル)エチル〕−アゼチジン−2−オンの混合物の溶液
を−10〜−5℃に冷却し、リチウムベンジルアルコキシ
ドの0.5MTHF溶液(15.1ml,7.55mM)を滴下し、同温度に
1時間攪拌した。反応液に酢酸を加えて不溶物を去
し、(1′R,1″R,3S,4R)および(1′R,1″S,3S,4R)
−1−t−ブチルオキシカルボニルメチル−3−〔1′
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−
〔1″−(ベンジルオキシカルボニル)エチル〕−アゼ
チジン−2−オンの混合物をTHF溶液として得た。
Example 1 Obtained by the method shown in Reference Example 3 (1′R, 1 ″ R, 3
S, 4R) and (1'R, 1 "S, 3S, 4R) -1-t-butyloxycarbonylmethyl-3- [1 '-(t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4- [1" -(4,4
A solution of a mixture of -dimethyloxazolidin-2-one-3-carbonyl) ethyl] -azetidin-2-one was cooled to -10 to -5 ° C and a solution of lithium benzyl alkoxide in 0.5 M THF (15.1 ml, 7.55 mM) was added. The mixture was added dropwise and stirred at the same temperature for 1 hour. Acetic acid was added to the reaction solution to remove insoluble matter, and (1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1" S, 3S, 4R)
-1-t-butyloxycarbonylmethyl-3- [1 '
-(T-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
A mixture of [1 ″-(benzyloxycarbonyl) ethyl] -azetidin-2-one was obtained as a THF solution.

分取後の物性値は以下のとおりである。 The physical property values after fractionation are as follows.

IR(neat):1755,1730,1450,1400,1380,1360,1242,122
0,1150,830,765,740,685cm-1; H−NMR(CDCl3):δ=0.04(3H,s)、0.07(3H,s)、
0.85(9H,s)、1.23(3H,d,J=6.3Hz)、1.24(3H,d,J
=6.9Hz)、1.44(9H,s)、2.90(1H,qd,J=6.9Hz,3.6H
z)、2.99(1H,dd,J=2.0Hz,6.6Hz)、3.83(2H,m)、
5.10(2H,s)、7.35(5H,s)。
IR (neat): 1755,1730,1450,1400,1380,1360,1242,122
0,1150,830,765,740,685 cm −1 ; H-NMR (CDCl 3 ): δ = 0.04 (3H, s), 0.07 (3H, s),
0.85 (9H, s), 1.23 (3H, d, J = 6.3Hz), 1.24 (3H, d, J
= 6.9Hz), 1.44 (9H, s), 2.90 (1H, qd, J = 6.9Hz, 3.6H
z), 2.99 (1H, dd, J = 2.0Hz, 6.6Hz), 3.83 (2H, m),
5.10 (2H, s), 7.35 (5H, s).

実施例2 実施例1と同様にして(1′R,1″R,3S,4R)および
(1′R,1″S,3S,4R)−3−〔1′−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔1″−(4,4
−ジメチルオキサゾリジン−2−オン−3−カルボ
ニル)エチル〕−アゼチジン−2−オンの混合物より
(1′R,1″R,3S,4R)および(1′R,1″S,3S,4R)−1
−t−ブチルオキシカルボニルメチル−3−〔1′−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−
〔1″−(4,4−ジメチルオキサゾリジン−2−
オン−3−カルボニル)エチル〕−アゼチジン−2−
オンの混合物を経由して、(1′R,1″R,3S,4R)および
(1′R,1″S,3S,4R)−1−t−ブチルオキシカルボニ
ルメチル−3−〔1′−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔1″−(ベンジルオキシカルボ
ニル)エチル〕−アゼチジン−2−オンの混合物を得
た。反応条件および結果を下記の表に示す。
Example 2 (1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1" S, 3S, 4R) -3- [1 '-(t-butyldimethylsilyloxy) ethyl in the same manner as in Example 1. ] -4- [1 ″-(4,4
-Dimethyloxazolidin-2-one-3-carbonyl) ethyl] -azetidin-2-one mixture (1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1" S, 3S, 4R) -1
-T-butyloxycarbonylmethyl-3- [1'-
(T-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
[1 ″-(4,4-dimethyloxazolidine-2-
On-3-carbonyl) ethyl] -azetidine-2-
Via a mixture of ones, (1'R, 1 "R, 3S, 4R) and (1'R, 1" S, 3S, 4R) -1-t-butyloxycarbonylmethyl-3- [1 ' A mixture of-(t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4- [1 "-(benzyloxycarbonyl) ethyl] -azetidin-2-one was obtained. The reaction conditions and results are shown in the table below.

実施例3 実施例1と同様にして、4−〔1″−(ベンジルオキ
シカルボニル)エチル〕体を得た。結果を下記の表に示
す。
Example 3 A 4- [1 ″-(benzyloxycarbonyl) ethyl] compound was obtained in the same manner as in Example 1. The results are shown in the table below.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 芳雄 相模原市西大沼4−4−1 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yoshio Ito 4-4-1 Nishionuma, Sagamihara-shi

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 〔式中、R1は水酸基の保護基を示し、 R2、R3、R4、R5は同一でも異なつていてもよく、水素原
子、C1〜C5の低級アルキル基、アラルキル基またはアリ
ール基を示すか、R2とR3が一緒になつてC2〜C6のアルキ
レン鎖を示し、同時にあるいは別個にR4とR5が一緒にな
つてC2〜C6のアルキレン鎖を示すか、あるいは、R2
R3、R4、R5が一緒になつてo−フエニレン基を示し、 R6はカルボキシル基の保護基を示し、 Yは酸素原子あるいはアルキル基またはアリール基で置
換された窒素原子を示す〕 で表わされる化合物と、一般式 M′−O−R7′ 〔式中、M′は金属カチオンを示し、R7′はC1〜C5の低
級アルキル基、C3〜C7の低級アルケニル基あるいは置換
又は無置換のベンジル基を示す〕で表わされる化合物と
反応させ、必要に応じて部分的に脱保護を行なうことを
特徴とする一般式 〔式中、R1は前述と同じ意味を有し、R8は水素原子C1
C5の低級アルキル基、C3〜C7の低級アルケニル基あるい
は置換又は無置換のベンジル基を示す〕 で表わされるβ−ラクタム化合物の製造方法。
1. A general formula [In the formula, R 1 represents a hydroxyl-protecting group, R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a C 1 to C 5 lower alkyl group, and an aralkyl group. Or an aryl group, or R 2 and R 3 together represent a C 2 to C 6 alkylene chain, and R 4 and R 5 together or separately represent a C 2 to C 6 alkylene chain Or R 2 ,
R 3 , R 4 and R 5 are taken together to represent an o-phenylene group, R 6 is a carboxyl group-protecting group, and Y is a nitrogen atom substituted with an oxygen atom or an alkyl or aryl group. And a compound of the general formula M′-O—R 7 ′ [wherein M ′ represents a metal cation, R 7 ′ is a C 1 to C 5 lower alkyl group, C 3 to C 7 lower alkenyl. A group or a substituted or unsubstituted benzyl group], and a partial deprotection is carried out if necessary. [In the formula, R 1 has the same meaning as described above, and R 8 represents a hydrogen atom C 1 to
A lower alkyl group of C 5, a lower alkenyl group of C 3 to C 7 , or a substituted or unsubstituted benzyl group].
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