WO2004086833A1 - Printed wiring board, its manufacturing method, and curing resin molded article with support - Google Patents

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Yasuhiro Wakisaka
Kazuyuki Onishi
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Definitions

  • the thickness of the curable resin molded body may be arbitrarily designed according to the required electric insulating layer and the method of laminating the curable resin molded body, and is usually from 0.05 to 300 ⁇ , preferably from 0. 1 to 200 ⁇ , more preferably 1.0 to: 100 ⁇ . Further, the thickness of the multilayered curable resin molded body used in the above-described bulk laminating method is usually 0.1 to 200. ⁇ , preferably :! ⁇ 150111, more preferably 10 ⁇ : I0 ⁇ . A solvent is used for the varnish used for forming the curable resin layer.
  • the multi-layer substrate obtained in this way was prepared using Sulcup PRX-1-A (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) at 15 Oml / liter and Sulcup PRX-11B (Kamineo Kogyo Co., Ltd.) at 10 Oml / liter.
  • Sulcup PRX—I—C (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) is immersed in an electroless plating solution at 25 ° C adjusted to 20 mlZ liter for 15 minutes while blowing air to perform electroless plating. went.

Abstract

A printed wiring board in which at least a first conductive layer (2), an electrical insulating layer (3), and a second conductive layer (4) are laminated in order of mention on an inner layer sheet (1), and the electrical insulating layer satisfies the conditions (1) to (3) below. (1) The surface roughness Ra of the surface in contact with the second conductive layer is 300 nm or less. (2) The electrical insulating layer contains a filler. (3) Letting the thickness of the electrical insulating layer in the cross section drawn when the printed wiring board is cut vertically be h1, the distance between the conductive layers in the cross section be h2, the region from the surface of the inner layer sheet to 80% of h1 toward the second conductive layer be region A, the region from the surface of electrical insulating layer in contact with the second conductive layer to 5% of h2 toward the inner layer sheet be region B, and the region between region A and region B be region C, a≥c>b and 0.1>(b/a)≥0 where a, b, and c are the specific surfaces of the filler having diameters of 50 nm or more contained per unit area in regions A, B, C, repetitively. According to the invention, a printed wiring board having a high adhesion between an electrical insulating layer and a conductive layer is provided.

Description

明 細 書 プリント配線板、 その製造方法及び支持体付き硬化性樹脂成形体 技 術 分 野  Description Printed wiring board, method for manufacturing the same, and curable resin molded body with support
本発明は、 プリント配線板、 その製造方法、 及びこのプリント配線板に利用可 能な支持体付き硬化性樹脂成形体に関する。 背 景 技 術  The present invention relates to a printed wiring board, a method for manufacturing the same, and a curable resin molded article with a support that can be used for the printed wiring board. Background technology
現在の多層プリント配線板は、 導体パターンを有する導体層と電気絶縁性重合 体等の有機材料からなる電気絶縁層とを交互に積み上げる、 いわゆるビルドアッ プ法によって高密度化されている。  Current multilayer printed wiring boards have been densified by a so-called build-up method in which a conductor layer having a conductor pattern and an electric insulating layer made of an organic material such as an electric insulating polymer are alternately stacked.
かかるプリント配線板には、 半導体デバイスの薄型化や小型化による低熱膨張 化やハロゲンフリー難燃化、 キャパシタ機能を有するための高誘電ィヒ等様々な特 性向上が求められている。 そして、 これらの特性向上を目的として、 (a ) 電気 絶縁層に電気絶縁性の無機フィラーを含有させ熱膨張を低減させること (特開平 1 1 - 4 6 0 6 7号公報)、 ( b ) 難燃化機能を有するフィラーを含有させ難燃性 を発現させること (特開 2 0 0 2—1 2 9 0 0 6号公報)、 ( c ) 高誘電体フイラ 一を含有させて電気絶縁層にキャパシタ機能を付与させること (特開平 1 1一 6 8 3 1 9号公報) 等が提案されている。  Such printed wiring boards are required to have various improvements in characteristics such as low thermal expansion and halogen-free flame retardancy due to thinning and miniaturization of semiconductor devices, and high dielectric strength for having a capacitor function. For the purpose of improving these properties, (a) reducing the thermal expansion by adding an electrically insulating inorganic filler to the electric insulating layer (Japanese Patent Laid-Open No. 11-46067), (b) Incorporating a filler having a flame retarding function to exhibit flame retardancy (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-2012), and (c) an electric insulating layer containing a high dielectric filler. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-163819) has been proposed.
しかしながら、 上記 (a ) 〜 (c ) において、 表面にフィラーを含む樹脂層が 形成された銅箔を用いてプリント配線板を製造すると、 めっき法による導体パタ ーン形成時に導体間隙等にめっきが異常析出する場合があり、 問題となっていた。 そこで、 この問題を解決するため、 特開 2 0 0 1— 1 1 9 1 5 0号公報には、 金属箔の粗ィヒ面にフィラーの一種である電気絶縁性ウイスカを含まない樹脂層と 電気絶縁性ウイスカを含む樹脂層とを形成し、 この二層の樹脂層を有する金属箔 を、 内層基板上に積層し、 次いで金属箔をエッチング除去して電気絶縁層を形成 した後、 第二の導体層を形成する技術が開示されている。 図面の簡単な説明  However, in the above (a) to (c), when a printed wiring board is manufactured using a copper foil having a resin layer containing a filler formed on the surface, plating is applied to a conductor gap or the like when a conductor pattern is formed by a plating method. In some cases, abnormal deposition occurred, which was a problem. In order to solve this problem, Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2001-119150 discloses that a resin layer not containing an electrically insulating whisker, which is a kind of filler, is provided on a rough surface of a metal foil. Forming a resin layer containing an electrically insulating whisker, laminating a metal foil having the two resin layers on an inner layer substrate, and then removing the metal foil by etching to form an electric insulating layer; A technique for forming a conductive layer is disclosed. BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
第 1図は、 本発明に係わるプリント配線板の模式図である。 図中、 1は内層基 板、 2は第一の導体層、 3は電気絶縁層、 4は第二の導体層、 1^は電気絶縁層 の最大高さ、 h 2は電気絶縁層の最小高さ、 Aは内層基板表面から第二の導体層 側に向かって h iの 8 0 %までの領域 (領域 A)、 Bは電気絶縁層表面から内層 基板側に向かって h 2の 5 %までの領域 (領域 B)、 Cは領域 Aと領域 Bの間の 領域 (領域 C) をそれぞれ表す。 発 明 の 開 示 FIG. 1 is a schematic view of a printed wiring board according to the present invention. In the figure, 1 is the inner layer board, the 2 first conductor layer, 3 is an electrical insulating layer, the second conductive layer 4, 1 ^ the smallest electrically insulating layer up to the height, h 2 is electrically insulating layer Height, A is the region from the inner substrate surface to the second conductor layer side up to 80% of hi (region A), B is the inner layer from the surface of the electrically insulating layer Region of up to 5% of h 2 toward the substrate side (area B), C represents respectively region (region C) between the regions A and B. Disclosure of the invention
かかる従来技術の下、 本発明者らが、 特開 2 0 0 1— 1 1 9 1 5 0号公報の実 施例に記載された金属箔を実際に作成し、 プリント配線板を製造したところ、 確 かにめつきの異常析出は生じなかったものの、 電気絶縁層とこの上に形成される 第二の導体層との間の密着性が部分的に不十分であり、 しかも微細パターンのパ ターニング性に劣ることがわかった。 部分的な密着性の低下は、 微細な導体パタ ーン形成が求められる高密度配線基板においては、 大きな問題となる。  Under the conventional technology, the present inventors actually produced the metal foil described in the embodiment of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-119501 and manufactured a printed wiring board. However, although abnormal deposition of adhesion did not occur, the adhesion between the electrical insulating layer and the second conductor layer formed thereon was partially insufficient, and the patterning of the fine pattern was also performed. It turned out to be inferior. Partial decrease in adhesion is a serious problem in high-density wiring boards that require formation of fine conductor patterns.
本発明者らは、 得られたプリント配線板を精査した。 その結果、 電気絶縁層の フィラーを含まない層が部分的に極端に薄くなつていることが判明した。 そして、 この原因の一つは、 粗化された金属箔を用いることであり、 別の一つは導電層を 形成するために電気絶縁層を粗ィヒすることであると推定された。 即ち、 二層の榭 脂層を有する金属箔を製造するときに、 粗化された金属箔表面の凸部がフイラ一 を含まない樹脂層表面に入り込み、 電気絶縁層のうちフィラーを含まない樹脂層 が部分的に薄くなつている上、 電気絶縁層を粗化する際に、 このフィラーを含ま ない樹脂層の薄くなった部分まで粗ィ匕されるため、 フィラーを含まない層が部分 的に極端に薄くなるのである。  The present inventors scrutinized the obtained printed wiring board. As a result, it was found that the filler-free layer of the electrical insulating layer was partly extremely thin. It was presumed that one of the causes was to use a roughened metal foil, and another was to roughen an electrical insulating layer to form a conductive layer. That is, when producing a metal foil having two resin layers, the roughened metal foil surface convex portions enter the resin layer surface not including the filler, and the resin layer of the electrical insulating layer containing no filler. In addition to the fact that the layer is partially thinned and that when the electrical insulating layer is roughened, the resin-containing layer without filler is roughened to the thinned portion, so that the layer without filler is partially removed. It becomes extremely thin.
本発明はこれらの知見に基づいてなされたものであり、 電気絶縁層と導体層と の間に高い密着性が確保されたプリント配線板、 その製造方法、 及びこのプリン ト配線板に利用可能な支持体付き硬化性樹脂成形体を提供することを課題とする 本発明者らは、 上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、 表面が平滑な電気絶 縁層を形成し、 かつ、 電気絶縁層表面近傍のフィラー量を一定量以下に制御する ことで、 電気絶縁層と導体層との間に高い密着性が確保され、 し力、も、 微細なパ ターンの形成が容易なプリント配線板が得られることを見い出し、 本発明を完成 するに至った。  The present invention has been made based on these findings, and is applicable to a printed wiring board having high adhesion between an electric insulating layer and a conductive layer, a method for manufacturing the same, and the printed wiring board. Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have formed an electric insulating layer having a smooth surface, and have provided an electric insulating layer. By controlling the amount of filler near the surface to a certain level or less, high adhesion between the electrical insulating layer and the conductor layer is ensured, and the printed wiring board that can easily form fine patterns with low force The inventors have found that the present invention can be obtained, and have completed the present invention.
力べして本発明の第 1によれば、 内層基板の表面に、 第一の導体層、 電気絶縁 層及び第二の導体層がこの 1頃で積層されてなるプリント配線板であって、 前記電 気絶縁層が、 以下の (1 ) 〜 (3 ) の要件を満たすものであることを特徴とする プリント配線板が提供される。  According to a first aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board in which a first conductor layer, an electric insulation layer and a second conductor layer are laminated on the surface of an inner substrate around the first time, A printed wiring board is provided, wherein the electrical insulating layer satisfies the following requirements (1) to (3).
( 1 ) 第二の導体層と接する面の表面粗さ R aが 3 0 0 n m以下である。  (1) The surface roughness Ra of the surface in contact with the second conductor layer is 300 nm or less.
( 2 )フィラーを含有する。 (3) プリント配線板を垂直に切った断面の、 電気絶縁層厚さを 1^、 導体層間 距離を h 2としたとき、 内層基板表面から第二の導体層側に向かって h iの 8 0%までの領域を領域 A、 電気絶縁層表面の第二の導体層と接する面から内層基 板側に向かって h 2の 5 %までの領域を領域 B、 及ぴ領域 Aと Bの間の領域を領 域 Cと表し、 領域 A、 B、 及び Cのそれぞれの単位面積当たりに含まれる、 直径 50 nm以上のブイラ一の占める面積比率を a、 b、 及び cと表したとき、 a≥ c >bであり、 かつ、 0. 1 > (bZa) ≥0である。 (2) Contains a filler. (3) of the section cut the printed wiring board in a vertical, electrically insulating layer thickness of 1 ^, when the conductor interlayer distance was h 2, 8 of hi from the inner layer substrate surface toward the second conductor layer side 0 region an area a of up to%, the second area an area B from the surface in contact with the conductive layer up to 5% of h 2 toward the inner layer base plate side of the electrically insulating layer surface, between及Pi region a and B The area is expressed as area C, and the area ratio of a boiler with a diameter of 50 nm or more contained in each unit area of areas A, B, and C is expressed as a, b, and c. c> b, and 0.1> (bZa) ≥0.
本発明のプリント配線板においては、 前記電気絶縁層が、 フィラーと重量平均 分子量 10, 000〜1, 000, 000の成分とからなるものであるのが好ま しい。  In the printed wiring board of the present invention, it is preferable that the electric insulating layer is composed of a filler and a component having a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000.
本発明のプリント配線板においては、 前記電気絶縁層が、 ブイラ一を含有する 絶縁性樹脂層 (1) とフイラ一を含有しない絶縁性樹脂層 (2) とからなるもの であるのが好ましい。  In the printed wiring board according to the present invention, it is preferable that the electric insulating layer comprises an insulating resin layer (1) containing a filler and an insulating resin layer (2) not containing a filler.
本発明の第 2によれば、 内層基板上に第一の導体層を形成した後、 表面粗さ R aが 300 nm以下の支持体上に、 フィラーを含有しない硬化性樹脂層 (2) と フィラーを含有する硬化性樹脂層 (1) とがこの順で積層されてなる支持体付き 硬化性樹脂成形体を、 前記第一の導体層に、 硬化性樹脂層 (1) が接するように 積層した後、 前記支持体を除去し、 次いで前記硬化性樹脂層 (1) 及び硬化性樹 脂層 (2) を加熱することにより電気絶縁層を形成し、 その後第二の導体層を形 成することを特徴とする本発明のプリント配線板の製造方法が提供される。  According to the second aspect of the present invention, after forming the first conductor layer on the inner layer substrate, a filler-free curable resin layer (2) is formed on a support having a surface roughness Ra of 300 nm or less. A curable resin molded body with a support, in which a curable resin layer (1) containing a filler is laminated in this order, is laminated such that the curable resin layer (1) is in contact with the first conductor layer. After that, the support is removed, and then the curable resin layer (1) and the curable resin layer (2) are heated to form an electric insulating layer, and then a second conductor layer is formed. A method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is provided.
本発明のプリント配線板の製造方法においては、 内層基板上に第一の導体層を 形成した後、 フィラーを含有する硬化性樹脂層 (1) を積層し、 次いで、 フイラ 一を含有しない硬化性榭脂層 (2) を積層した後、 硬化性樹脂層 (1) 及び硬化 性樹脂層 (2) を加熱して電気絶縁層を形成し、 その後第二の導体層を形成する ことが好ましい。  In the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention, after forming a first conductive layer on an inner layer substrate, a curable resin layer (1) containing a filler is laminated, and then a curable resin layer containing no filler is formed. After laminating the resin layer (2), it is preferable to heat the curable resin layer (1) and the curable resin layer (2) to form an electric insulating layer, and then to form a second conductor layer.
本発明の第 3によれば、 表面粗さ R aが 300 nm以下の支持体上に、 ブイラ 一を含有しない硬化性樹脂層 (1) とフイラ一を含有する硬化性樹月旨層 (2) と がこの順で積層されてなる支持体付き硬化性樹脂成形体が提供される。  According to the third aspect of the present invention, on a support having a surface roughness Ra of 300 nm or less, a curable resin layer containing no boiler (1) and a curable luster layer containing a boiler (2). ) And a curable resin molded article with a support in which are laminated in this order.
本発明の支持体付き硬化性樹脂成形体においては、 前記硬化性樹脂層 (2) が、 フィラーと重量平均分子量 10, 000〜1, 000, 000の成分とからなる ものであるのが好ましい。  In the curable resin molded article with a support of the present invention, the curable resin layer (2) is preferably composed of a filler and a component having a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000.
本発明の支持体付き硬化性樹脂成形体においては、 前記硬化性樹脂層 (1) と 硬化性樹脂層 (2) を構成する成分として、 同一の電気絶縁性重合体が含まれて いることが好ましい。 また、 本発明の支持体付き硬化性樹脂成形体においては、 前記支持体が樹脂フ イルムであるのが好ましい。 発明を実施するための最良の形態 In the curable resin molded article with a support of the present invention, the same electrically insulating polymer may be contained as a component constituting the curable resin layer (1) and the curable resin layer (2). preferable. In the curable resin molded article with a support of the present invention, the support is preferably a resin film. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
以下、 本発明のプリント配線板、 その製造方法、 及びこのプリント配線板に利 用可能な支持体付き硬化性樹脂成形体について詳細に説明する。  Hereinafter, the printed wiring board of the present invention, a method for producing the same, and a curable resin molded article with a support that can be used for the printed wiring board will be described in detail.
本発明のプリント配線板は、 内層基板の表面に、 第一の導体層、 電気絶縁層及 び第二の導体層がこの順で積層されてなるプリント配線板であって、 前記電気絶 縁層が、 前記 (1 ) 〜 (3 ) の要件を満たすものであることを特徴とする。 本発明に用いる内層基板は、 電気絶縁体からなるものであり、 その内部に 1以 上の導体層を有しているものであってもよい。 また、 內層基板は、 強度向上のた めにガラス繊維、 樹脂繊維等を含有させたものであってもよい。 このような内層 基板の具体例としては、 プリント配線基板や絶縁基板等が挙げられる。  The printed wiring board of the present invention is a printed wiring board in which a first conductor layer, an electric insulation layer, and a second conductor layer are laminated in this order on a surface of an inner layer substrate, wherein the electric insulation layer Satisfies the requirements (1) to (3). The inner layer substrate used in the present invention is made of an electric insulator, and may have one or more conductor layers therein. Further, the single-layer substrate may contain glass fiber, resin fiber, or the like for improving strength. Specific examples of such an inner layer substrate include a printed wiring board and an insulating substrate.
内層基板を構成する電気絶縁体としては、 酸ィヒケィ素ゃアルミナ等の無機ィ匕合 物;脂環式ォレフイン重合体、 エポキシ樹脂、 マレイミ ド樹脂、 (メタ) アタリ ル樹脂、 ジァリルフタレート樹脂、 トリアジン榭脂、 芳香族ポリエーテル重合体 、 シァネートエステル重合体、 ポリイミド等の絶縁性重合体等の有機化合物;が 例示される。  Examples of the electric insulator constituting the inner layer substrate include inorganic compounds such as acid hydride and alumina; alicyclic olefin polymer, epoxy resin, maleimide resin, (meth) acrylyl resin, and diaryl phthalate resin. Organic compounds such as triazine resin, aromatic polyether polymer, cyanate ester polymer, and insulating polymer such as polyimide.
内層基板の厚みは、 通常 5 0 μ mから 2 mm、 好ましくは 6 0 μ mから 1 . 6 mm、 より好ましくは 1 0 0 μ mから 1 mmである。  The thickness of the inner layer substrate is usually 50 μm to 2 mm, preferably 60 μm to 1.6 mm, and more preferably 100 μm to 1 mm.
第一の導体層 (以下、 「導体層 1」 という) は、 この内層基板上に、 銅ゃニッ ケル等の導電性金属等の導電体をパターン状に積層して形成されるものである。 導体層 1を形成する方法に格別な制限はなく、 無電解めつき法、 電解めつき法 、 スパッタリング法、 真空蒸着法等の公知の方法が採用できる。 また導体層 1は 、 これらの方法の 2種類以上を組み合わせて形成されてもよレ、。 例えば、 無電解 めっき法により、 内層基板や電気絶縁層上に金属薄膜を形成し、 次いで、 この金 属薄膜にめっき用レジストパターンを形成し、 金属薄膜を利用して電解めつき法 により導体パターンを成長させた後、 レジストを除去し、 次いで金属をエツチン グすることにより金属薄膜を除去して、 導体層 1を形成することができる。 なお、 電気絶縁層を形成する場合には、 予め、 導体層 1の表面と必要に応じて 内層基板表面とを前処理することで、 電気絶縁層と内層基板上に形成されている 導体層 1との密着性を向上させることができる。  The first conductor layer (hereinafter referred to as “conductor layer 1”) is formed by laminating a conductor such as a conductive metal such as copper nickel on the inner layer substrate in a pattern. The method for forming the conductor layer 1 is not particularly limited, and a known method such as an electroless plating method, an electrolytic plating method, a sputtering method, or a vacuum deposition method can be employed. Also, the conductor layer 1 may be formed by combining two or more of these methods. For example, a metal thin film is formed on an inner substrate or an electrical insulating layer by electroless plating, a resist pattern for plating is formed on the metal thin film, and a conductive pattern is formed by electroplating using the metal thin film. After growing the resist, the resist is removed, and then the metal thin film is removed by etching the metal, whereby the conductor layer 1 can be formed. When the electric insulating layer is formed, the surface of the conductive layer 1 and, if necessary, the surface of the inner substrate are pre-treated so that the electric insulating layer and the conductive layer 1 formed on the inner substrate are formed. And the adhesiveness with the adhesive can be improved.
前処理の方法としては、 特に限定されず常法により行えばよい。 例えば、 導体 層 1が銅からなるものであれば、 過硫酸ナトリゥムのような過酸の強アルカリ塩 の水溶液を内層基板表面に接触させて、 導体層 1の表面に房状の酸化銅の層を形 成して粗化する酸化処理方法、 導体層 1の表面を先の方法で酸化した後に水素化 ホウ素ナトリウム、 ホルマリン等で還元する方法、 導体層 1にめつきを析出させ 粗化する方法、 有機酸と接触させて、 導体層 1の銅の粒界を溶出して粗ィヒする方 法、 チオール化合物ゃシラン化合物等によりプライマー層を形成する方法等を採 用できる。 これらの中でも、 微細で良好な配線パターンを得やすい観点から、 有 機酸と接触させて導体層 1の銅の粒界を溶出して粗化する方法、 チオール化合物 ゃシラン化合物等によりプライマー層を形成する方法が好ましい。 The method of pretreatment is not particularly limited, and may be performed by a conventional method. For example, if the conductor layer 1 is made of copper, a strong alkali salt of peracid such as sodium persulfate An aqueous solution of copper oxide on the surface of the inner layer substrate to form a tufted copper oxide layer on the surface of the conductor layer 1 and roughen it. Reduction method with sodium borohydride, formalin, etc .; method of depositing and roughening the conductive layer 1; and method of contacting with an organic acid to elute the copper grain boundaries of the conductive layer 1 and roughen it. And a method of forming a primer layer using a thiol compound / a silane compound or the like. Among these, from the viewpoint of easily obtaining a fine and good wiring pattern, a method of contacting with an organic acid to elute and roughen the copper grain boundaries of the conductor layer 1; a method of forming the primer layer with a thiol compound or a silane compound; The forming method is preferred.
電気絶縁層は、 第二の導体層 (以下、 「導体層 2」 という) を支持するととも に、 導体層 1と導体層 2の間を絶縁する機能を有する。  The electrically insulating layer has a function of supporting the second conductor layer (hereinafter, referred to as “conductor layer 2”) and insulating between the conductor layers 1 and 2.
電気絶縁層は、 絶縁性重合体とフイラ一とからなる。  The electric insulating layer is composed of an insulating polymer and a filler.
絶縁性重合体としては、 一般にプリント配線板の電気絶縁層を形成するのに用 いられている絶縁性重合体を用いることができる。 例えば、 エポキシ樹脂、 マレ イミド榭脂、 (メタ) アクリル樹脂、 ジァリルフタレート樹脂、 トリアジン榭脂 、 脂環式ォレフイン重合体、 芳香族ポリエーテル重合体、 ベンゾシクロブテン重 合体、 シァネートエステル重合体、 液晶ポリマー、 ポリイミド等が挙げられる。 これらの中でも、 脂環式ォレフイン重合体、 芳香族ポリエーテル重合体、 ベン ゾシク口ブテン重合体、 シァネートエステル重合体又はポリイミドが好ましく、 脂環式ォレフィン重合体又は芳香族ポリエーテル重合体がより好ましく、 脂環式 ォレフィン重合体が特に好ましい。  As the insulating polymer, an insulating polymer generally used for forming an electric insulating layer of a printed wiring board can be used. For example, epoxy resin, maleimide resin, (meth) acrylic resin, diaryl phthalate resin, triazine resin, alicyclic olefin polymer, aromatic polyether polymer, benzocyclobutene polymer, cyanate ester polymer Coalescence, liquid crystal polymer, polyimide and the like. Among these, an alicyclic olefin polymer, an aromatic polyether polymer, a benzocyclobutene polymer, a cyanate ester polymer or a polyimide is preferable, and an alicyclic olefin polymer or an aromatic polyether polymer is more preferable. Preferred are alicyclic olefin polymers.
脂環式ォレフイン重合体としては、 8—ェチルーテトラシクロ [ 4 . 4 . 0 . 1 2' 5. I 7' 1 0] ドデカー 3—ェン等のノルボルネン系単量体の開環重合体及 ぴその水素添加物、 ノルボルネン系単量体の付加重合体、 ノルボルネン系単量体 とビュルィヒ合物との付加重合体、 単環シクロアルケン重合体、 脂環式共役ジェン 重合体、 ビュル系脂環式炭化水素重合体及びその水素添加物、 芳香族ォレフイン 重合体の芳香環水素添、加物等が挙げられる。 The alicyclic Orefuin polymer, 8 E Chiru tetracyclo [4. 4. 0. 1 2 '5. I 7' 1 0] Dodeka 3 E norbornene monomer ring-opening polymer of such emissions And hydrogenated products thereof, addition polymers of norbornene-based monomers, addition polymers of norbornene-based monomers and Bürich compounds, monocyclic cycloalkene polymers, alicyclic conjugated diene polymers, and bur-based fats Examples include cyclic hydrocarbon polymers and hydrogenated products thereof, aromatic hydrogenated aromatic aromatic polymers, and adducts thereof.
なかでも、 ノルボルネン系単量体の開環重合体及びその水素添加物、 ノノレポノレ ネン系単量体の付加重合体、 ノルボルネン系単量体とビュル化合物との付加重合 体、 芳香族ォレフイン重合体の芳香環水素添加物が好ましく、 特にノルポルネン 系単量体の開環重合体の水素添加物が好ましい。  Among them, ring-opened polymers of norbornene-based monomers and hydrogenated products thereof, addition polymers of nonoleponolene-based monomers, addition polymers of norbornene-based monomers and bur compounds, and aromatic olefin polymers An aromatic ring hydrogenated product is preferred, and a hydrogenated product of a ring-opened polymer of a norportene-based monomer is particularly preferred.
電気絶縁層に含まれるフイラ一は、 電気絶縁層内で偏在していることが必要で ある。 具体的には、 フイラ一は導体層 2の近傍に少なく、 導体層 1の周辺には多 く存在することが必要である。 導体層 2付近にフィラーが多く存在すると、 電気 絶縁層表面が粗くなり、 微細な導体パターンの形成が困難になる上、 電気ノイズ の影響を受けやすくなる傾向にあり、 更に導体層 2と電気絶縁層との間の密着性 が低下するため好ましくない。 また、 フィラーを偏在させることにより、 電気絶 縁層表面の粗さを小さくすることができる。 The filler included in the electrical insulation layer must be unevenly distributed in the electrical insulation layer. Specifically, it is necessary that the number of the fillers is small near the conductor layer 2 and many around the conductor layer 1. If a large amount of filler is present near the conductor layer 2, the surface of the electrical insulation layer becomes rough, making it difficult to form a fine conductor pattern and causing electrical noise. And the adhesiveness between the conductor layer 2 and the electrical insulating layer is undesirably reduced. By unevenly distributing the filler, the surface roughness of the electric insulating layer can be reduced.
これらの観点力ゝら、 本発明においては、 電気絶縁層のフィラーの偏在の程度を 次の通りに規定する。  From these viewpoints, in the present invention, the degree of uneven distribution of the filler in the electric insulating layer is defined as follows.
プリント配線板を垂直に切った断面の、 電気絶縁層厚さを hい 導体層間距離 を h2としたとき、 内層基板表面から導体層 2側に向かって 1^の 80%までの 領域を領域 A、 電気絶縁層表面から内層基板側に向かって h 2の 5 %までの領域 を領域 B、 及び領域 Aと Bの間の領域を領域 Cと表し、 領域 A、 B、 及ぴ Cのそ れぞれの単位面積当たりに含まれる、 直径 5 Onm以上のブイラ一の占める面積 比率を a、 b、 及び cと表したとき、 a≥c>bであり、 かつ、 0. 1 > (b/ a) ≥0である (図 1参照)。 (b/a) の好ましい範囲は、 0. 01 > (b/ a) ≥0である。 The section cut the printed wiring board in the vertical, when h have the conductor layer distance electrically insulating layer thickness was h 2, region a region up to 80% of the 1 ^ towards the inner surface of the substrate on the conductor layer 2 side a, represents an electrically insulating layer surface region an area B up to 5% of h 2 towards the inner substrate side, and the area between the regions a and B and region C, the region a, B,及Pi C Noso When the area ratio of a boiler with a diameter of 5 Onm or more included in each unit area is represented by a, b, and c, a≥c> b, and 0.1> (b / a) ≥0 (see Fig. 1). The preferred range of (b / a) is 0.01> (b / a) ≥0.
フイラ一は、 絶縁性重合体に混合可能であって、 ワニス (後述) 中で固体の物 質であれば特に制限はない。  The filler is not particularly limited as long as it can be mixed with the insulating polymer and is a solid substance in the varnish (described later).
用いるフイラ一としては、 タノレク、 焼成タルク、 クレー、 カオリン、 酸化チタ ン、 シリカ、 シリカバルーン、 炭酸カルシウム、 ベントナイ ト、 マイ力、 アルミ ナ、 ホウ酸アルミニウム、 ホウ酸マグネシウム、 ウォラスナイ ト、 チタン酸カリ ゥム、 塩基性硫酸マグネシウム、 窒化珪素、 α—アルミナ、 水酸化アルミニウム、 水酸化マグネシウム、 モリブデン酸亜鉛、 モリブデン酸カルシウム、 モリブデン 酸カルシウム亜鉛、 チタン酸亜鉛、 チタン酸カルシウム、 五酸化アンチモン、 三 酸化アンチモン、 スズ酸亜鉛、 ホウ酸亜鉛、 赤燐、 二酸化チタン系セラミック、 チタン酸ストロンチウム系セラミック、 チタン酸カルシウム系セラミック、 Μη —Ζη系フェライト、 N i— Ζη系フェライ ト、 N i— C u— Ζ η系フェライ ト、 鉄、 F e— N i合金、 F e— S i合金等の無機フイラ一;塩基性窒素化合物とリ ン酸との (複) 塩であるポリリン酸アンモニゥム塩、 ポリリン酸メラミン塩、 ポ リリン酸メレム塩、 ポリリン酸メラム塩、 ポリリン酸メラムメラミン複塩、 ポリ リン酸メラムメレム複塩等の有機フィラー;等が挙げられる。  The fillers used are tanolek, calcined talc, clay, kaolin, titanium oxide, silica, silica balloon, calcium carbonate, bentonite, myriki, alumina, aluminum borate, magnesium borate, wollastonite, potassium titanate. Aluminum, basic magnesium sulfate, silicon nitride, α-alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc molybdate, calcium molybdate, calcium zinc molybdate, zinc titanate, calcium titanate, antimony pentoxide, trioxide Antimony, Zinc stannate, Zinc borate, Red phosphorus, Titanium dioxide-based ceramic, Strontium titanate-based ceramic, Calcium titanate-based ceramic, Μη-Ζη-type ferrite, Ni-Ζη-type ferrite, Ni-Cu- Ζ η blowjob Inorganic fillers such as it, iron, Fe—Ni alloy, Fe—Si alloy, etc .; ammonium polyphosphate, melamine polyphosphate, which is a (double) salt of a basic nitrogen compound and phosphoric acid; Organic fillers such as melem polyphosphate, melam polyphosphate, melam melamine polyphosphate double salt, and melam melam polyphosphate double salt; and the like.
無機ブイラ一は、 通常、 プリント配線板の電気絶縁層には、 熱時応力による微 細配線の断絶や、 埋め込み受動態部品や薄型半導体の破損を防止するため、 樹脂 の線膨張係数を下げる目的で添カ卩されたり、 電気絶縁層にコンデンサーゃィンダ クタの機能を付与する目的で添加される。 有機ブイラ一は、 通常、 難燃性を向上 させる難燃剤として添加される。  Inorganic boilers usually have an electrical insulating layer on a printed wiring board with the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the resin in order to prevent breakage of fine wiring due to thermal stress and damage to embedded passive components and thin semiconductors. It is added for the purpose of adding the function of a capacitor inductor to an electric insulation layer. Organic boilers are usually added as flame retardants to improve flame retardancy.
用いるブイラ一の粒径は、 通常 5 Onm以上、 好ましくは 50 nm〜: L 0 μιη 、 より好ましくは 5 0 n m〜l である。 ここで、 フィラーの粒径は、 電界放 出型走査電子顕微鏡観察により観察される各粒子の最大長さである。 The particle size of the boiler used is usually 5 Onm or more, preferably 50 nm or more: L 0 μιη And more preferably 50 nm to l. Here, the particle diameter of the filler is the maximum length of each particle observed by an electric field emission scanning electron microscope.
ブイラ一の含有量は、 フィラーの目的に応じて任意に設定すればよいが、 例え ば、 難燃剤としてフィラーを添加する場合、 絶縁性重合体 1 0 0重量部に対して 、 通常 0 . 1〜6 0重量部、 好ましくは 1〜4 0重量部である。  The content of the boiler may be arbitrarily set according to the purpose of the filler. For example, when the filler is added as a flame retardant, the content of the filler is usually 0.1 to 100 parts by weight of the insulating polymer. 660 parts by weight, preferably 1 to 40 parts by weight.
本発明において電気絶縁層は、 フィラーの濃度を考慮しながら下記方法を応用 して形成することができる。  In the present invention, the electric insulating layer can be formed by applying the following method while considering the concentration of the filler.
一般に、 プリント配線板に電気絶縁層を形成する方法としては、 絶縁性重合体 からなるドライフィルムのような硬化性樹脂成形体を、 導体層 1が積層された内 層基板上に積層した後、 必要に応じて硬化させる方法 (ドライフィルム積層法) や、 絶縁性重合体を任意の溶剤に溶解したワニスを、 導体層 1が積層された内層 基板上に、 塗布、 乾燥し、 必要に応じて硬化する方法 (ワニス塗布法) 等が挙げ られる。  In general, as a method for forming an electric insulating layer on a printed wiring board, a curable resin molded body such as a dry film made of an insulating polymer is laminated on an inner substrate on which the conductor layer 1 is laminated, A method of curing as required (dry film lamination method) or a varnish in which an insulating polymer is dissolved in an arbitrary solvent is applied and dried on the inner layer substrate on which the conductor layer 1 is laminated, and if necessary, Curing method (varnish coating method) and the like.
前記ドライフィルム積層法を応用する電気絶縁層の形成方法としては、 例えば 、 次の ( i )、 (ii)に示す方法が挙げられる。  Examples of the method for forming the electrical insulating layer using the dry film laminating method include the following methods (i) and (ii).
( i ) 硬化性樹脂成形体としてフィラーと絶縁性重合体とを有する硬化性樹脂層 1の下に、 当該硬化性樹脂層 1よりも少ない量のフィラーと絶縁性重合体とを有 する樹脂層が、 フィラー含有量が順次少なくなるように 1層以上形成されてなる 多層構造の硬化性樹脂成形体を、 硬化性樹脂層 1が導体層 1が積層された内層基 板に接するように積層して、 硬化性樹脂層を一回で形成する方法 (一括積層法) (ii) 硬化性樹脂成形体としてフィラーと絶縁性重合体とを有する硬化性樹脂成 形体 1を、 導体層 1が積層された内層基板上に積層して硬化性樹脂層 1を形成し た後、 当該硬化性榭脂成形体 1よりも少ない量のフィラーと絶縁性重合体とを有 する硬化性樹脂成形体を、 フィラー含有量が順次少なくなるように 1層以上積層 して硬化性樹脂層を形成する方法 (順次積層法)  (i) Under the curable resin layer 1 having a filler and an insulating polymer as a curable resin molded body, a resin layer having a smaller amount of filler and an insulating polymer than the curable resin layer 1 However, a multi-layered curable resin molded article having at least one layer formed so that the filler content is sequentially reduced is laminated such that the curable resin layer 1 is in contact with the inner layer substrate on which the conductor layer 1 is laminated. Method of forming curable resin layer at one time (batch lamination method) (ii) Curable resin molded body 1 having a filler and an insulating polymer as curable resin molded body, and conductor layer 1 laminated After forming the curable resin layer 1 by laminating on the inner substrate, the curable resin molded body having a smaller amount of the filler and the insulating polymer than the curable resin molded body 1 is filled with the filler. Laminate one or more layers so that the curable resin layer decreases in order. How to formed (sequential lamination method)
前記ワニス塗布法を応用する電気絶縁層の形成方法としては、 例えば、 ワニス として、 フィラー濃度の異なる 2種類以上のヮ-スを調製し、 フィラー濃度の高 いものから順に塗布、 乾燥し、 硬化性樹脂層を形成する方法が挙げられる。 また本発明においては、 電気絶縁層を形成する方法として、 ドライフィルム積 層法によりフイラ一を含む硬化性樹脂成形体を内層基板上に積層した後、 ワニス 塗布法によりブイラ一含量の少ない (又は含有しない) 硬化性樹脂層を形成する 方法を採用することもできる。  As a method of forming the electrical insulating layer by applying the varnish coating method, for example, as a varnish, two or more kinds of base materials having different filler concentrations are prepared, and the varnish is applied in order from the one with the highest filler concentration, dried, and cured. A method of forming a conductive resin layer. Further, in the present invention, as a method of forming an electric insulating layer, a curable resin molded article including a filler is laminated on an inner layer substrate by a dry film laminating method, and then the content of the boiler is reduced by a varnish coating method (or (Not included) A method of forming a curable resin layer can also be employed.
これらの中でも、 電気絶縁層中のフィラーの偏在を高度に制御し、 電気絶縁層 の表面の粗さを小さくすることが容易であることから、 ドライフィルム積層法を 応用する方法が好ましく、 生産性に優れる観点から、 前記 (i ) の一括積層法が 特に好ましい。 Among these, the dry film laminating method is used because it is easy to control the uneven distribution of the filler in the electric insulating layer and to reduce the surface roughness of the electric insulating layer easily. The method of application is preferable, and from the viewpoint of excellent productivity, the batch lamination method (i) is particularly preferable.
ドライフィルム積層法を応用する方法を採用する場合には、 硬化性樹脂成形体 を製造する必要がある。 硬化性樹脂成形体は、 例えば、 上述した絶縁性重合体と 溶剤と必要に応じて上述したフィラーとを含有するワニスを、 支持体に塗布、 乾 燥することで、 支持体上に形成することができる。  In the case of employing a method applying the dry film laminating method, it is necessary to manufacture a curable resin molded body. The curable resin molded body is formed on the support by, for example, applying a varnish containing the above-described insulating polymer, the solvent, and, if necessary, the above-described filler to the support and drying the varnish. Can be.
前記一括積層法に用いる硬化性樹脂成形体は、 硬化性樹脂層を 2層以上有する 。 例えば、 2層の樹脂層を有する硬化性樹脂成形体を得るには、 フィラー含有量 の少ないワニス (r 2 ) を支持体に塗布し、 必要に応じて乾燥した後、 フィラー 含有量の少ない樹脂層 2を形成し、 必要に応じて硬化させた後、 当該樹脂層 2の 上にワニス (r 2 ) よりもフィラー含有量の多いワニス (r l ) を塗布乾燥して 硬化性樹脂層 1を形成してもよレ、。  The curable resin molded body used in the batch lamination method has two or more curable resin layers. For example, in order to obtain a curable resin molded body having two resin layers, a varnish (r 2) having a low filler content is applied to a support, dried if necessary, and then a resin having a low filler content is obtained. After forming the layer 2 and curing as required, a varnish (rl) having a filler content larger than that of the varnish (r 2) is applied on the resin layer 2 and dried to form a curable resin layer 1 You can.
また、 ワニス (r 2 ) を支持体上に塗布し、 必要に応じてワニス (r 2 ) を乾 燥した後、 次いでその上にワニス (r 1 ) を塗布し、 ワニスを乾燥して樹脂層 1 を形成してもよい。 尚、 ワニス (r 2 ) を完全に乾燥させないうちにワニス (r 1 ) を塗布する場合には、 ワニス (r 1 ) の乾燥の際、 同時にワニス (r 2 ) も 乾燥させればよい。 ワニス (r l ) と (r 2 ) とを同時に乾燥する方法は生産性 に優れるため、 好ましい。 Also, a varnish ( r2 ) is applied on the support, and the varnish (r2) is dried if necessary. Then, a varnish (r1) is applied thereon, and the varnish is dried to form a resin layer. 1 may be formed. When the varnish (r1) is applied before the varnish (r2) is completely dried, the varnish (r2) may be dried at the same time as the varnish (r1) is dried. The method of simultaneously drying the varnishes (rl) and (r 2) is preferable because of excellent productivity.
先に規定したようなフィラーの偏在を容易に制御するためには、 ワニス (r 2 ) 中に含まれるフィラー量は、 ワニス (r 1 ) のフイラ一量に対して、 通常 1 0 重量%以下、 好ましくは 5重量%以下、 より好ましくは 3重量%以下であり、 特 に好ましくは実質的にフィラーを含有しない (0重量%) ことが望まれる。 本発明においては、 樹脂層 1と樹脂層 2との間に更に樹脂層を形成し、 3層以 上の樹脂層から硬化性樹脂成形体を得ることも、 もちろん可能であるが、 生産性 の観点から、 樹脂層の数が 2〜 3である硬化性樹脂成形体であるのが好ましい。 また、 各樹脂層を構成する絶縁性重合体が同じ重合体であると、 良好な密着性を 確保しやすいので好ましい。  In order to easily control the uneven distribution of the filler as defined above, the amount of the filler contained in the varnish (r 2) is usually 10% by weight or less based on the amount of the varnish (r 1) filler. Preferably, it is at most 5% by weight, more preferably at most 3% by weight, and particularly preferably, it is substantially free of filler (0% by weight). In the present invention, it is of course possible to further form a resin layer between the resin layer 1 and the resin layer 2 and obtain a curable resin molded body from three or more resin layers. From the viewpoint, it is preferable that the curable resin molded product has two to three resin layers. Further, it is preferable that the insulating polymers constituting the respective resin layers are the same polymer, because it is easy to secure good adhesion.
前記順次積層法に用いる硬化性樹脂成形体は、 硬化性樹脂層を少なくとも 1層 有していればよいが、 多層構造を有する硬化性樹脂成形体の製造に用いるワニス と同様に、 ブイラ一の量が調整されたワニスを用いて製造されたものを用いるの が良い。 また、 同じ絶縁性重合体を含む硬化性樹脂成形体を使用するのが、 密着 性の観点から好ましい。  The curable resin molded body used in the sequential laminating method may have at least one curable resin layer, but like the varnish used for producing the curable resin molded body having a multilayer structure, the same as the varnish is used. It is better to use one manufactured using a varnish whose amount has been adjusted. It is preferable to use a curable resin molded article containing the same insulating polymer from the viewpoint of adhesion.
硬化性樹脂成形体の厚みは、 必要な電気絶縁層や硬化性樹脂成形体の積層方法 に応じて任意に設計すればよいが、 通常 0 . 0 5〜3 0 0 μ πι、 好ましくは 0 . 1〜2 0 0 μ πι、 より好ましくは 1. 0〜: 1 0 0 μπχである。 また、 前述した一 括積層法で用いる、 多層構造の硬化性樹脂成形体の厚みは、 通常 0. 1〜2 0 0 .ηι, 好ましくは:!〜 1 5 0 111、 より好ましくは 1 0〜: I 0 0 μπιである。 硬化性樹脂層の形成に用いるワニスには溶剤が用いられる。 用いる溶剤として は、 例えば、 トルエン、 キシレン、 ェチルベンゼン、 トリメチルベンゼン等の芳 香族炭化水素系有機溶剤; η—ペンタン、 η—へキサン、 η—ヘプタン等の脂肪 族炭化水素系有機溶剤;シクロペンタン、 シクロへキサン等の脂環式炭化水素系 有機溶剤;クロロベンゼン、 ジク口口ベンゼン、 トリクロ口ベンゼン等のハロゲ ン化炭化水素系有機溶剤;メチルェチルケトン、 メチルイソブチルケトン、 シク 口ペンタノン、 シクロへキサノン等のケトン系有機溶剤;等を挙げることができ る。 これらの有機溶剤は一種単独で、 あるいは二種以上を組み合わせて用いるこ とができる。 The thickness of the curable resin molded body may be arbitrarily designed according to the required electric insulating layer and the method of laminating the curable resin molded body, and is usually from 0.05 to 300 μπι, preferably from 0. 1 to 200 μπι, more preferably 1.0 to: 100 μπχ. Further, the thickness of the multilayered curable resin molded body used in the above-described bulk laminating method is usually 0.1 to 200.ηι, preferably :! ~ 150111, more preferably 10 ~: I0μπι. A solvent is used for the varnish used for forming the curable resin layer. Examples of the solvent used include aromatic hydrocarbon-based organic solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, and trimethylbenzene; aliphatic hydrocarbon-based organic solvents such as η-pentane, η-hexane, and η-heptane; cyclopentane Alicyclic hydrocarbon-based organic solvents such as cyclohexane and cyclohexane; halogenated hydrocarbon-based organic solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene; methylethylketone, methylisobutylketone, cyclopentanone, cyclohexane And ketone-based organic solvents such as hexanone. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
ワニスには、 硬化剤を添加することができる。 硬化剤としては、 イオン性硬化 剤、 ラジカル性硬化剤又はィオン性とラジカル性とを兼ね備えた硬化剤等、 一般 的なものを用いることができる。 なかでも、 ビスフエノール Αビス (プロピレン グリコールグリシジルエーテル) エーテルのようなグリシジノレエーテノレ型ェポキ シ化合物、 脂環式エポキシ化合物、 グリシジルエステル型エポキシ化合物等多価 エポキシ化合物が好ましい。  A curing agent can be added to the varnish. As the curing agent, a general one such as an ionic curing agent, a radical curing agent, or a curing agent having both ionizing and radical properties can be used. Of these, polyhydric epoxy compounds such as glycidinoleatene epoxy compounds such as bisphenol-bis (propylene glycol glycidyl ether) ether, alicyclic epoxy compounds, and glycidyl ester type epoxy compounds are preferred.
また、 例えば硬化剤として多価エポキシ化合物を用いた場合には、 硬化反応を 促進させるために、 第 3級ァミン系化合物や三弗化ホウ素錯化合物等の硬化促進 剤や硬化助剤を併用することができる。  For example, when a polyvalent epoxy compound is used as a curing agent, a curing accelerator or a curing aid such as a tertiary amine compound or a boron trifluoride complex compound is used in combination to accelerate the curing reaction. be able to.
更にワニスには、 所望に応じて、 軟質重合体、 耐熱安定剤、 耐候安定剤、 老化 防止剤、 レべリング剤、 帯電防止剤、 スリップ剤、 防曇剤、 滑剤、 染料、 顔料、 天然油、 合成油、 ワックス、 乳剤、 紫外線吸収剤等、 ワニス中に溶解するその他 の成分を添加することができる。  The varnish may further contain a soft polymer, a heat stabilizer, a weather stabilizer, an anti-aging agent, a leveling agent, an antistatic agent, a slip agent, an anti-fogging agent, a lubricant, a dye, a pigment, a natural oil, if desired. Other components that dissolve in the varnish, such as synthetic oils, waxes, emulsions, and ultraviolet absorbers, can be added.
電気絶縁層を構成する成分の中で、 重量平均分子量が 1 0, 00 0〜1 , 0 0 0, 0 0 0である成分の含有量は、 フィラーを除く成分全量の 3 0重量%〜1 0 0重量%、 好ましくは 4 0重量%〜 1 0 0重量%、 より好ましくは 4 5重量%〜 1 0 0重量%である。 重量平均分子量が 1 0, 0 0 0〜1 , 0 0 0, 0 0 0であ る成分の含有量がこの範囲であると、 操作性及ぴ電気絶縁層表面の粗化防止性に 優れ、 また高温高湿下においても配線間にマイグレーションを生じな!/、、 安定な プリント配 II板を容易に与えることができる。  Among the components constituting the electrical insulating layer, the content of the component having a weight average molecular weight of 100,000 to 1,000,000 is 30% by weight to 1% of the total amount of the components excluding the filler. It is preferably from 0.0 to 100% by weight, more preferably from 45 to 100% by weight, more preferably from 45 to 100% by weight. When the content of the component having a weight-average molecular weight of 100,000 to 1,000,000 is within this range, excellent operability and anti-roughening property of the surface of the electrical insulating layer are obtained. Also, no migration occurs between wires even under high temperature and high humidity! /, A stable printed circuit board can be easily provided.
ワニスは、 攪拌子とマグネチックスターラーを使用した攪拌、 高速ホモジナイ ザ一、 デイスパージヨン、 遊星攪拌機、 二軸攪拌機、 ボールミル、 三本ロール等 を使用して、 各成分を混合 '攪拌して調製することができる。 The varnish is agitated using a stirrer and a magnetic stirrer, a high-speed homogenizer, a displacer, a planetary stirrer, a twin-screw stirrer, a ball mill, three rolls, etc. The components can be prepared by mixing and stirring.
ワニスの固形分濃度は、 支持体への塗布方法や必要な硬化性樹脂層の厚みに応 じて任意に設計できるが、 重量平均分子量が 1 0, 0 0 0〜1, 0 0 0 , 0 0 0 である成分の含有量が上述の割合である電気絶縁層を得る場合は、 ワニスの固形 分濃度を 5重量%〜5 0重量%の範囲にするのが、 膜厚制御性と操作性の観点か ら好ましい。  The solid content of the varnish can be arbitrarily designed according to the method of coating on the support and the required thickness of the curable resin layer, but the weight-average molecular weight is from 10,000 to 1,000,000. In order to obtain an electrical insulating layer having the above-mentioned ratio of the components, the solid content of the varnish should be in the range of 5% by weight to 50% by weight. It is preferable from the viewpoint of.
ヮエスを塗布する支持体としては、 金属箔ゃ樹脂フィルム (キャリアフィルム ) 等が挙げられる。  支持 Supports on which S is coated include metal foil ゃ resin films (carrier films).
用いる金属箔としては、 銅箔やアルミ箔等が挙げられる。  Examples of the metal foil used include a copper foil and an aluminum foil.
樹脂フィルムとしては、 通常、 熱可塑性榭脂フィルムが用いられ、 具体的には 、 ポリエチレンテレフタレートフイノレム、 ポリプロピレンフイノレム、 ポリエチレ ンフイノレム、 ポリカーポネィ トフイノレム、 ポリエチレンナフタレートフイノレム、 ポリアリ レートフイルム、 ナイロンフィルム等が挙げられる。 これらの中でも、 耐熱性ゃ耐薬品性、 積層後の剥離性等の観点から、 ポリエチレンテレフタレート フィルム、 ポリエチレンナフタレートフィルム等の樹脂フィルムが好ましい。 支持体の厚みは特に制限されないが、 作業性等の観点から、 通常 1 μ ιη〜1 5 0 μ m、 好ましくは 2 μ π!〜 1 0 0 μ m、 より好ましくは 3 μ η!〜 5 0 mであ る。  As the resin film, a thermoplastic resin film is generally used, and specifically, polyethylene terephthalate phenol, polypropylene phenol, polyethylene phenol, polypropylene phenol, polyethylene naphthalate phenol, polyethylene phthalate, nylon Films and the like. Among these, resin films such as polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film are preferred from the viewpoints of heat resistance, chemical resistance, and peelability after lamination. The thickness of the support is not particularly limited, but is usually 1 μιη to 150 μm, preferably 2 μπ! ~ 100 μm, more preferably 3 μη! ~ 50 m.
また支持体の表面粗さ R aは、 通常 3 0 0 n m以下、 好ましくは 1 5 0 n m以 下、 より好ましくは 1 0 0 n m以下である。 支持体の表面粗さ R aが大きすぎる と、 電気絶縁層の表面粗さ R aが大きくなり、 微細な導体パターンの形成が困難 になったり、 電気絶縁層のフイラ一の偏在制御が困難となるおそれがある。 支持体や支持体上に形成された 1層以上の硬化性樹脂層にワニスを塗布する方 法としては、 特に制限されず、 ディップコート法、 ロールコート法、 カーテンコ ート法、 ダイコート法、 スリッ トコート法、 グラビアコート法、 スピンコート法 The surface roughness Ra of the support is usually at most 300 nm, preferably at most 150 nm, more preferably at most 100 nm. If the surface roughness Ra of the support is too large, the surface roughness Ra of the electrical insulating layer becomes large, making it difficult to form a fine conductor pattern, and it is difficult to control uneven distribution of the filler in the electrical insulating layer. Could be. The method for applying the varnish to the support or one or more curable resin layers formed on the support is not particularly limited, and may be a dip coating method, a roll coating method, a curtain coating method, a die coating method, a slip coating method, or the like. Top coat method, gravure coat method, spin coat method
、 スプレイコート法等の公知の塗工方法を採用できる。 A known coating method such as a spray coating method can be employed.
有機溶剤の除去乾燥の条件は、 有機溶剤の種類により適宜選択されるものであ るが、 乾燥温度は、 通常 2 0〜 3 0 0 °C、 好ましくは 3 0〜 2 0 0 °Cであり、 乾 燥時間は、 通常 3 0秒〜 1時間、 好ましくは 1分〜 3 0分である。  The conditions for removing and drying the organic solvent are appropriately selected depending on the type of the organic solvent, and the drying temperature is usually 20 to 300 ° C, preferably 30 to 200 ° C. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.
上述した支持体付き硬化性榭脂成形体を用いて、 導体層 1を有する内層基板上 に電気絶縁層を形成する。  Using the above-described curable resin molded body with a support, an electrical insulating layer is formed on the inner substrate having the conductor layer 1.
まず支持体付き硬化性樹脂成形体を、 当該成形体が導体層 1と接するように内 層基板上に積層する。 積層する方法に格別な制限はなく、 例えば加圧及び/又は 加熱が挙げられる。 加圧及び/又は加熱の方法は、 加熱圧着 (ラミネーシヨン) が一般的である。 First, a curable resin molded body with a support is laminated on an inner substrate so that the molded body comes into contact with the conductor layer 1. There is no particular limitation on the method of laminating, and examples include pressurization and / or heating. The method of pressurization and / or heating is thermocompression bonding (lamination) Is common.
加熱及び加圧は、 例えば多層のプリント配線板を得る場合には、 配線埋め込み 性を向上させ、 気泡等の発生を抑える観点から、 減圧環境で行うのが好ましい。 加熱及び加圧に用いる装置としては、 加圧ラミネータ装置、 真空ラミネータ装置 、 真空プレス装置、 ロールラミネータ装置等の加圧機が挙げられる。 加圧機には 、 通常耐熱ゴム性プレス板や金属製プレス板等のプレス板が設置され、 このプレ ス板を介して基板と成形物とを加熱及び加圧する。 成形体の性質に応じて、 耐熱 ゴム性プレス板や金属製プレス板をどちらか一方だけ用いても、 両者を組み合わ せて用いてもよい。  Heating and pressurizing are preferably performed in a reduced pressure environment, for example, when obtaining a multilayer printed wiring board, from the viewpoint of improving the wiring embedding property and suppressing the generation of bubbles and the like. Examples of the apparatus used for heating and pressurizing include pressurizing machines such as a pressurizing laminator, a vacuum laminator, a vacuum press, and a roll laminator. The press is usually provided with a press plate such as a heat-resistant rubber press plate or a metal press plate, and heats and presses the substrate and the molded product via the press plate. Depending on the properties of the compact, either a heat-resistant rubber press plate or a metal press plate may be used, or both may be used in combination.
加熱及び加圧時のプレス板の温度は、 通常 30〜250°C、 好ましくは 70〜 200。C、 圧着力は、 通常 10 k P a〜2 OMP a、 好ましくは 10 O k P a〜 10 MP a、 圧着時間は、 通常 30秒〜 5時間、 好ましくは 1分〜 3時間である 。 加熱及び加圧を、 減圧環境で行う場合、 通常 100 kP a〜l P a、 好ましく は 40kP a〜10 Paに雰囲気を減圧する。 '  The temperature of the press plate during heating and pressurization is usually 30 to 250 ° C, preferably 70 to 200. C, The crimping force is usually 10 kPa to 2 OMPa, preferably 10 kPa to 10 MPa, and the crimping time is usually 30 seconds to 5 hours, preferably 1 minute to 3 hours. When heating and pressurizing are performed in a reduced pressure environment, the pressure of the atmosphere is usually reduced to 100 kPa to 1 Pa, preferably 40 kPa to 10 Pa. '
支持体を硬化性樹脂成形体から剥離するのは、 この加熱及び加圧前でも後でも よいが、 平滑な電気絶縁層を容易に得られる観点から、 加熱及び加圧後に支持体 を剥離するのがよい。 加熱及び加圧前に支持体を剥離した場合は、 粗さ Ra 30 0 nm以下の加熱板や加圧板を用いるのが良い。  The support may be peeled off from the curable resin molded body before or after the heating and pressurizing. However, from the viewpoint of easily obtaining a smooth electric insulating layer, the support is peeled off after the heating and pressurizing. Is good. When the support is peeled off before heating and pressing, it is preferable to use a heating plate or a pressing plate having a roughness Ra of 300 nm or less.
このようにして硬化性樹脂成形体を積層し、 必要に応じて前処理を施した後、 硬化させることにより、 電気絶縁層を形成することができる。  The electric insulating layer can be formed by laminating the curable resin molded bodies in this way, performing pretreatment as needed, and then curing.
硬化の方法は、 硬化性樹脂成形体を構成する硬化剤や絶縁性重合体等に応じて 任意に選択すれば良く、 例えば加熱や光照射等が挙げられる。 加熱により硬化性 樹脂成形体を硬化する方法に格別な制限はなく、 例えばオープン等を用いて行え ばよい。 加熱条件は、 加熱方法に応じて任意に設定できるが、 通常 30〜400 °C、 好ましくは 70〜 300 °C、 より好ましくは 100〜 200 °Cであり、 硬化 時間は、 通常 0. 1〜5時間、 好ましくは 0. 5〜3時間である。  The method of curing may be arbitrarily selected according to the curing agent, insulating polymer, and the like constituting the curable resin molded body, and includes, for example, heating and light irradiation. There is no particular limitation on the method of curing the curable resin molded article by heating, and it is sufficient to use, for example, an open method. The heating conditions can be arbitrarily set according to the heating method, but are usually 30 to 400 ° C, preferably 70 to 300 ° C, more preferably 100 to 200 ° C, and the curing time is usually 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours.
以上のようにして形成される電気絶縁層の表面粗さ R aは、 30 Onm以下、 好ましくは 20 Onm以下、 より好ましくは 15 Onm以下である。 表面粗さ R aが大きすぎると、 微細な導体パターンの形成が困難になる上、 電気ノイズの影 響を受けやすくなる傾向にあり好ましくない。  The surface roughness Ra of the electric insulating layer formed as described above is 30 Onm or less, preferably 20 Onm or less, and more preferably 15 Onm or less. If the surface roughness Ra is too large, it is difficult to form a fine conductor pattern, and it tends to be susceptible to electric noise, which is not preferable.
なお、 本発明においては、 電気絶縁層と、 以下に述べる導体層 2との密着性を 確保する目的で、 電気絶縁層表面を、 サンドマット処理のような粗化処理、 ブラ ズマ処理、 プライマー層形成処理、 酸化還元処理等の前処理を施すことができる 。 なかでも、 電気絶縁層の表面粗さ R aの範囲を前述の範囲に維持するために、 硬化する前の硬化性樹脂成形体に、 当該成形体表面に、 1一 (2—アミノエチル ) 一 2—メチルイミダゾールのようなイミダゾール化合物や、 ピラゾール化合物 、 トリァゾーノレ化合物等の金属配位能を有する化合物を接触させた後に硬化させ 、 次いで酸化処理やプラズマ処理を施した後、 導体層 2を形成する方法 (特願 2 0 0 1— 2 6 8 8 4 7号) 力 導体層 2を湿式めつき法により形成する場合に、 特に好適である。 In the present invention, for the purpose of ensuring the adhesion between the electric insulating layer and the conductor layer 2 described below, the surface of the electric insulating layer is subjected to a roughening treatment such as a sand mat treatment, a plasma treatment, and a primer layer. Pretreatments such as a formation treatment and an oxidation-reduction treatment can be performed. Above all, in order to maintain the range of the surface roughness Ra of the electrical insulating layer within the above range, The curable resin molded body before curing has metal coordination ability on the surface of the molded body, such as an imidazole compound such as 11- (2-aminoethyl) -12-methylimidazole, a pyrazole compound, and a triazonole compound. A method of forming a conductor layer 2 after curing after contacting the compound and then performing an oxidation treatment or a plasma treatment (Japanese Patent Application No. 2000-284 847) Wet the conductor layer 2 It is particularly suitable when formed by the attaching method.
導体層 2は、 導体層 1を覆うように積層された電気絶縁層上に、 同様に導電体 をパターン状に積層して形成されるものである。 導体層 2を形成する方法に格別 な制限はなく、 前記導体層 1と同様の方法により形成することができる。  The conductor layer 2 is formed by similarly laminating conductors in a pattern on an electric insulating layer laminated so as to cover the conductor layer 1. There is no particular limitation on the method of forming the conductor layer 2, and the conductor layer 2 can be formed by the same method as that of the conductor layer 1.
以上のようにして得られる本発明のプリント配線板は、 コンピューターや携帯 電話等の電子機器において、 C P Uやメモリ等の半導体素子、 その他の実装部品 を実装するためのプリント配線板として使用できる。 特に、 微細配線を有するも のは高密度プリント配線基板として、 高速コンピューターや、 高周波領域で使用 する携帯端末の配線基板として好適である。  The printed wiring board of the present invention obtained as described above can be used as a printed wiring board for mounting semiconductor elements such as CPUs and memories, and other mounted components in electronic devices such as computers and mobile phones. In particular, those having fine wiring are suitable as high-density printed wiring boards, and as wiring boards for high-speed computers and mobile terminals used in high-frequency regions.
(実施例)  (Example)
以下に、 実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。 なお、 実施 例中、 〔部〕 は、 特に断りのない限り質量基準である。  Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. In the examples, “parts” are based on mass unless otherwise specified.
本実施例において行った評価方法は以下のとおりである。  The evaluation method performed in this example is as follows.
( 1 ) 分子量  (1) Molecular weight
特に断りのない限り、 トルエンを溶媒とするゲル .パーミエーシヨン .クロマ トグラフィー (G P C) によるポリスチレン換算値として測定した。  Unless otherwise specified, the measurement was made as a polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography (GPC) using toluene as a solvent.
( 2 ) 水素化率及びマレイン酸基含有率  (2) Hydrogenation rate and maleic acid group content
水素添加前の重合体中の不飽和結合のモル数に対する水素添加率 (水素化率) 及ぴ重合体中の総モノマー単位数に対する (無水) マレイン酸残基のモル数の割 合 (カルボキシル基含有率) は、 — NMRスペクトルにより測定した。  Ratio of hydrogenation rate (hydrogenation rate) to mole number of unsaturated bond in polymer before hydrogenation and ratio of mole number of (anhydride) maleic acid residue to total number of monomer units in polymer (carboxyl group Content) was determined by —NMR spectrum.
( 3 ) ガラス転移温度 (T g )  (3) Glass transition temperature (T g)
示差走査熱量法 (D S C法) により測定した。  It was measured by the differential scanning calorimetry (DSC method).
( 4 ) 電気絶縁層のフィラー含有率  (4) Filler content of electrical insulation layer
電気絶縁層のフィラー含有率は、 評価対象のプリント配線板を垂直に切断し、 電気絶縁層の断面を電界放出型走査型電子顕微鏡にて観察し、 各領域の評価範囲 における、 直径が 5 0 n m以上の粒子状断面の占める面積を測定し、 フィラーの 占める面積比率を次式にて求めた。  The filler content of the electrical insulating layer was determined by cutting the printed wiring board to be evaluated vertically, observing the cross section of the electrical insulating layer with a field emission scanning electron microscope, and finding that the diameter of the evaluation area in each region was 50%. The area occupied by the particulate cross section of nm or more was measured, and the area ratio occupied by the filler was determined by the following equation.
ブイラ一の占める面積比率 (%) = (直径が 5 0 n m以上であるブイラ一の断 面積の合計/評価範囲の面積) X 1 0 0 ( 5 ) 硬化性樹脂成形体のフイラ一含有率 Ratio of area occupied by boiler (%) = (Total area of cross-section of boiler with diameter of 50 nm or more / area of evaluation range) X 100 (5) Filler content of curable resin molding
硬化性樹脂成形体のフィラー含有率は、 評価対象のドライフィルムを垂直に切 断し、 電気絶縁層の断面を電界放出型走査型電子顕微鏡にて観察して、 直径が、 5 0 nm以上の粒子状断面の占める面積を測定し、 フィラーの占める面積比率を次 式にて求めた。  The filler content of the curable resin molded product was determined by cutting the dry film to be evaluated vertically, observing the cross section of the electrical insulation layer with a field emission scanning electron microscope, and finding that the diameter was 50 nm or more. The area occupied by the particulate cross section was measured, and the area ratio occupied by the filler was determined by the following equation.
フィラーの占める面積比率 (%) = (直径が 50 nm以上であるフィラーの断 面積の合計ノ評価範囲の面積) 100  Filler area ratio (%) = (Area of evaluation area of total cross-sectional area of filler with diameter of 50 nm or more) 100
(6) 電気絶縁層表面の粗さ  (6) Surface roughness of electrical insulation layer
以下の実施例及び比較例において製造されたプリント配線板の電気絶縁層表面 について、 原子間力顕微鏡 (D i g i t a l I n s t r ume n t 製、 Na n o s c o p e 3 a) にて S i単結晶短冊型カンチレバー (バネ定数 = 2 ON /m、 長さ 125 μπι) を使用し、 大気中タッピングモードで測定した表面平均 粗さ R aである。  The surface of the electrical insulating layer of the printed wiring board manufactured in the following Examples and Comparative Examples was analyzed using an atomic force microscope (manufactured by Digital Instrument, Na noscope 3a) with a Si single crystal strip cantilever (spring). Using the constant = 2 ON / m and a length of 125 μπι), it is the surface average roughness Ra measured in the atmospheric tapping mode.
但し、 比較例 2については、 表面の粗れが激しく、 上記方法では表面粗さ R a を測定できなかった。 そのため、 非接触式である光学式表面形状測定装置 ((株 ) キーエンス製、 カラーレーザー顕微鏡 VK—8500) を用いて、 20 i m X 20 μπιの矩形領域について 5箇所測定を行い、 算出された平均値を電気絶縁 層表面の粗さとした。  However, in Comparative Example 2, the surface roughness was severe, and the surface roughness Ra could not be measured by the above method. For this reason, a non-contact optical surface shape measuring device (Keyence Corporation, color laser microscope VK-8500) was used to measure 5 points in a rectangular area of 20 im X 20 μπι, and the calculated average The value was defined as the surface roughness of the electrical insulation layer.
(7) パターユング性の評価  (7) Evaluation of putter Jung property
配線幅 20 μ m、 配線間距離 20 μ m、 配線長 5 c mで 100本の配線パター ンを形成し、 形状に乱れのあるものが全く観察されない場合を〇、 1本以上に形 状に乱れがあるが欠損のあるものが観察されない場合を△、 1本以上に欠損のあ るものが観察された場合を Xとして評価した。  When 100 wiring patterns are formed with a wiring width of 20 μm, a wiring distance of 20 μm, and a wiring length of 5 cm, and no deformation is observed at all, the shape is distorted to 1 or more. Was evaluated as △ when there was a defect but no defect was observed, and as X when one or more defects were observed.
(8) 金属配線層の密着性の評価  (8) Evaluation of adhesion of metal wiring layer
150 mm角の評価用多層基板の最外層に、 J I S C 501 2 8. 1に定 める長さ 80mmの導体引き剥がし強さの評価パターンを 4箇所、 合計 12本の パターンを形成した。  On the outermost layer of the 150 mm square multilayer substrate for evaluation, four evaluation patterns of conductor peeling strength with a length of 80 mm defined in JIS C 501 28.1. A total of 12 patterns were formed.
この多層基板を温度 25 °C相対湿度 65 %の雰囲気に 24時間放置した後、 J I S C 5012 8. 1に準じて導体引き剥がし強さの試験を 1本あたり長さ 50mmにわたり実施して、 合計 12本の引き剥がし強さの測定を行った。 評価の基準は以下通りである。  After leaving this multilayer board in an atmosphere of a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 65% for 24 hours, a conductor peeling strength test was performed over a length of 50 mm per piece according to JISC 50128.1, and a total of 12 The peel strength of the book was measured. The evaluation criteria are as follows.
〇: 12本全てについて、 0. 4 k NZm未満の領域が 4 mm以上発生せず、 引 き剥がし強さの平均が 0. 6 kN/mを超えるもの  〇: For all 12 rods, no area of less than 0.4 k NZm was generated for 4 mm or more, and the average peel strength exceeded 0.6 kN / m.
△ : 0. 4 kNZm未満の領域が 4 mm以上発生したものが 12本中 1本以上 3 本未満だが、 引き剥がし強さの平均が 0. 6 kNZinを超えるもの X: 0. 4 kNZni未満の領域が 4 mm以上発生したものが 1 2本中 1本以上 3 本未満で、 引き剥がし強さの平均が 0 · 4 k N/m超過 0. 6 k NZm未満であ るもの △: 1 or more out of 12 lines with an area of less than 0.4 kNZm occurred 4 mm or more 3 Less than one but with an average peel strength of more than 0.6 kNZin X: One or more of less than 3 and less than 0.4 kNZni with 4 mm or more With an average of more than 0.4 kN / m and less than 0.6 kNZm
不良: 0. 4 kN/m未満の領域が 4 mm以上発生したものが 12本中 3本以上 であるか、 引き剥がし強さの平均が 0. 4 k NZm以下のもの Poor: 3 or more out of 12 lines with an area of less than 0.4 kN / m 4 mm or more, or those with an average peel strength of 0.4 kNZm or less
(9) 難燃性の評価  (9) Evaluation of flame retardancy
コア材の両面に電気絶縁層がそれぞれ 1層積層された、 プリント配線板の導体 が無い部分を、 幅 1 3mm、 長さ 100 mmの短冊状に切断し、 試験片を作製し た。 メタンガスを管の口径 9. 5 mm, 管の長さ 100 mmのブンゼンパーナ一 にて燃焼させて高さ 1 9mmの炎に調整して、 得られた試験片に着火するまで接 炎した。 着火後直ちに炎を外し、 試験片が燃焼している時間を計測した。 試験片 が消炎後、 直ちに再度試験片に着火するまで接炎した。 2度目の着火後も直ちに 炎を外し、 試験片が燃焼している時間を計測した。 一度目の試験片の燃焼時間と 2度目の試験片の燃焼時間との合計が 5秒以内のものを〇、 5秒を超え 10秒以 内のものを△、 10秒を超えるものを Xとして評価した。  A portion of the printed wiring board without conductors, in which one layer of electrical insulation was laminated on both sides of the core material, was cut into a strip having a width of 13 mm and a length of 100 mm to prepare a test piece. Methane gas was burned in a Bunsempana with a tube diameter of 9.5 mm and a tube length of 100 mm to adjust the flame to a height of 19 mm, and the flame was ignited until the obtained test piece ignited. Immediately after ignition, the flame was removed and the time during which the test specimen was burning was measured. Immediately after the test piece extinguished, the flame was touched until the test piece ignited again. The flame was removed immediately after the second ignition and the time during which the specimen was burning was measured. The sum of the burning time of the first test piece and the burning time of the second test piece is 5 seconds or less, を more than 5 seconds and 10 seconds or less, and X is 10 seconds or more. evaluated.
(絶縁性重合体の製造)  (Production of insulating polymer)
公知の方法により、 8—ェチルーテトラシクロ [4. 4. 0. I 2' 5. I 7' 1 °] ドデカー 3—ェンを開環重合し、 次いで水素添加反応を行い、 数平均分子量According to a known method, 8-ethyl-tetracyclo [4.4.0. I 2 ' 5. I 7 ' 1 °] dodeca-3-ene is subjected to ring-opening polymerization, followed by a hydrogenation reaction to obtain a number average molecular weight.
(Mn) =3 1, 200、 重量平均分子量 (Mw) =55, 800、 T g =約 1 40 °Cの水素化重合体を得た。 得られたポリマーの水素化率は 99 %以上であつ た。 A hydrogenated polymer having (Mn) = 31,200, weight average molecular weight (Mw) = 55,800, and Tg = about 140 ° C. was obtained. The hydrogenation rate of the obtained polymer was 99% or more.
得られた重合体 100部、 無水マレイン酸 40部及ぴジクミルパーォキシド 5 部を t—プチルベンゼン 250部に溶解し、 140°Cで 6時間反応を行った。 得 られた反応生成物溶液を 1000部のィソプロピルアルコール中に注ぎ、 反応生 成物を凝固させマレイン酸変性水素化重合体を得た。 この変性水素化重合体を 1 00 °Cで 20時間真空乾燥した。 得られた変性水素化重合体は、 Mn = 33, 2 00、 Mw=68, 300、 T g = 1 70°Cであった。 マレイン酸基含有率は 2 5モノレ%であった。  100 parts of the obtained polymer, 40 parts of maleic anhydride and 5 parts of dicumyl peroxide were dissolved in 250 parts of t-butylbenzene and reacted at 140 ° C. for 6 hours. The obtained reaction product solution was poured into 1000 parts of isopropyl alcohol, and the reaction product was solidified to obtain a maleic acid-modified hydrogenated polymer. This modified hydrogenated polymer was vacuum dried at 100 ° C. for 20 hours. The resulting modified hydrogenated polymer had Mn = 33,200, Mw = 68,300, and Tg = 170 ° C. The maleic acid group content was 25 monole%.
(難燃剤スラリー製造)  (Flame retardant slurry production)
体積平均粒子径 2. 2 μπιのポリリン酸メラムメラミン複塩 300部をキシレ ン 1020部、 シクロペンタノン 680部の混合溶媒にて、 セパラブルフラスコ 中で 3枚羽根攪拌翼にて攪拌して、 15重量%のポリリン酸メラムメラミン複塩 のスラリー (難燃剤スラリー) を得た。 得られたスラリー 2 0 0 0部にビス (ジォクチルパイロホスフェート) ォキシ アセテートチタネートを 6部加えて攪拌して調製したスラリー液 2 0 0 0容量部 を、 0 . 4 mmのジルコユアビーズを 5 0 0容量部充填させた横型湿式分散機を 用いて滞留時間 1 8分で循環させながら 1 2 0分間粉砕処理を行い、 微粉化ポリ リン酸メラムメラミン複塩スラリ一 Aを得た。 300 parts of melammelamine polyphosphate having a volume average particle size of 2.2 μπι were stirred with a mixed solvent of 1020 parts of xylene and 680 parts of cyclopentanone in a separable flask with a 3-blade stirring blade. A slurry (flame retardant slurry) of 15 wt% melam melamine polyphosphate double salt was obtained. To 200 parts of the obtained slurry, 6 parts of bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate was added and stirred, and 200 parts by volume of a slurry liquid prepared was mixed with 0.4 mm zirconia beads. Using a horizontal wet disperser filled with 500 parts by volume, pulverization treatment was carried out for 120 minutes while circulating for a residence time of 18 minutes to obtain micronized melammelamine double phosphate polysulfate slurry A.
(フィラーを含まないワニス Aの調製)  (Preparation of varnish A without filler)
上記で得た変性水素化重合体 1 0 0部、 ビスフエノール Aビス (プロピレング リコールグリシジルエーテル) エーテル 4 0部、 2 _ [ 2—ヒ ドロキシー 3, 5 一ビス ( α , α—ジメチルべンジル) フェニル] ベンゾトリアゾール 5部及び 1 一べンジルー 2—フエ-ルイミダゾール 0 . 1部を、 キシレン 2 1 5部及ぴシク 口ペンタノン 5 4部からなる混合溶剤に溶解させ攪拌した後、 5 Ai mフィルター を用いてろ過して、 硬化性樹脂組成物のワニス Aを得た。  100 parts of the modified hydrogenated polymer obtained above, bisphenol A bis (propylene glycol glycidyl ether) ether 40 parts, 2_ [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) Phenyl) benzotriazole (5 parts) and 1-benzylidene 2-phenylimidazole (0.1 part) were dissolved in a mixed solvent consisting of xylene (215 parts) and cyclopentene pentanone (54 parts), and the mixture was stirred. The mixture was filtered using an m filter to obtain a varnish A of a curable resin composition.
(硬化性樹脂成形体 Aの製造)  (Production of curable resin molding A)
3 0 0 mm角の厚さ 4 0 m、 表面粗さ R a 8 0 n mのポリエチレンナフタレ 一トフイルム (支持体) に、 ダイコーターを用いて、 上記で得たワニス Aを塗工 し、 その後、 窒素置換されたオーブン中で 8 0 °Cで 1 0分間乾燥させ、 支持体上 に、 樹脂厚み 5 μ πιの硬化性樹脂成形体 Aを得た。 フィラーの占める面積比率を 評価したところ、 0 . 0 1 %以下であった。 尚、 ここで顕微鏡観察された粒子状 断面は、 樹脂層形成時に混入した異物である。  The varnish A obtained above was applied to a polyethylene naphthalene film (support) having a thickness of 400 mm square and a surface roughness of Ra 80 nm using a die coater. Then, it was dried at 80 ° C. for 10 minutes in an oven purged with nitrogen to obtain a curable resin molded product A having a resin thickness of 5 μπι on the support. When the area ratio of the filler was evaluated, it was 0.01% or less. Note that the particle-shaped cross section observed under a microscope is foreign matter mixed in at the time of forming the resin layer.
(フイラ一含量の多いワニス Bの調製)  (Preparation of Varnish B with High Filament Content)
上記で得た変性水素化重合体 1 0 0部、 ビスフエノール Aビス (プロピレング リコールグリシジルエーテル) エーテル 4 0部、 2— [ 2—ヒドロキシー 3, 5 一ビス ( α, ージメチルべンジル) フエニル] ベンゾトリアゾール 5部及び 1 一べンジルー 2—フエ二ルイミダゾール 0 . 1部、 上記で得た微粉化ポリリン酸 メラムメラミン複塩スラリー A 2 0 0部を、 キシレン 4 0部及ぴシクロペンタノ ン 2 5部からなる混合溶媒に溶解させた。 次いで、 このものを遊星式攪拌ミルに て 0 . 3 mm径のジルコユアビーズを用いて分散混合させた後、 ビーズを除去し 、 更に 5 μ ηιフィルターを用いてろ過して硬化性榭脂組成物のワニス Bを得た。  100 parts of the modified hydrogenated polymer obtained above, bisphenol A bis (propylene glycol glycidyl ether) ether 40 parts, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, -dimethylbenzyl) phenyl] 5 parts of benzotriazole and 0.1 part of 1-benzyl-2-imidazole, 200 parts of the finely divided melammelamine double salt slurry of polyphosphoric acid obtained above were mixed with 40 parts of xylene and 25 parts of cyclopentanone. Was dissolved in a mixed solvent consisting of Next, this was dispersed and mixed in a planetary stirring mill using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm, the beads were removed, and the mixture was further filtered using a 5 μηι filter to obtain a curable resin composition. Obtained varnish B.
(樹脂製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 1の製造)  (Production of curable resin molded product C1 with resin support)
上述した支持体上に形成された硬化性樹脂成形体 Α上に、 ダイコーターを用い てワニス Bを塗工し、 その後、 窒素置換されたオーブン中、 8 0 °Cで 1 0分間乾 燥させ、 樹脂厚み 5 0 μ πιの支持体付き硬化性樹脂成形体 C 1を得た。 支持体上 に形成された硬化性樹脂成形体 C 1の外側から厚み 8 0 %の範囲に占めるフイラ 一含有量 (I ) とキャリア側から厚み 5 %の範囲に占めるフィラー含有量 (I I ) の比 (I I ) / (I ) は約 0. 0005であった。 A varnish B is applied using a die coater on the curable resin molded product 形成 formed on the support described above, and then dried at 80 ° C. for 10 minutes in an oven purged with nitrogen. Thus, a curable resin molded article C1 with a support having a resin thickness of 50 μπι was obtained. The content of the filler (I) occupying a range of 80% in thickness from the outside of the curable resin molded body C1 formed on the support and the content of filler (II) occupying a range of 5% in thickness from the carrier side ) Ratio (II) / (I) was about 0.0005.
(樹脂製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 2の製造)  (Production of curable resin molded product C2 with resin support)
ワニス Bを、 ダイコーターを用いて、 30 Omm角の厚さ 40 μΐη、 表面粗さ R a 8 nmのポリエチレンナフタレートフィルム (支持体) に塗工し、 その後、 窒素置換されたオーブン中、 100°Cで 10分間乾燥させ、 樹脂厚み 50 μπιの 支持体付き硬化性樹脂成形体 C 2を得た。 支持体上に形成された硬化性樹脂成形 体 C 2の外側から厚み 80%の範囲に占めるフィラー含有量 (I) とキャリア側 から厚み 5%の範囲に占めるフィラー含有量 (I I) の比 (I I) / (I) は約 1であつ 7こ。  The varnish B was coated on a polyethylene naphthalate film (support) having a thickness of 30 Omm, a thickness of 40 μΐη, and a surface roughness Ra of 8 nm using a die coater, and then placed in a nitrogen-purged oven. It was dried at ° C for 10 minutes to obtain a curable resin molded product C2 with a support having a resin thickness of 50 µπι. The ratio of the filler content (I) occupying 80% of the thickness from the outside of the curable resin molded body C2 formed on the support to the filler content (II) occupying 5% of the thickness from the carrier side ( II) / (I) is about 1 and 7 pieces.
(銅箔製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 3の製造)  (Production of curable resin molded body C3 with copper foil support)
支持体として、 表面粗さ R aが 1. 05μιη、 厚み 18 mの粗ィ匕銅箔 G T S 一 MP (古河サーキットフオイル社製) を用いたこと以外は、 樹脂製支持体付き 硬化性樹脂成形体 C 1と同様の方法により銅箔製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 3を得た。  Curable resin molding with resin support, except that rough support copper foil GTS-1MP (Furukawa Circuit Oil Co., Ltd.) with a surface roughness Ra of 1.05μιη and a thickness of 18m was used as the support. A curable resin molded product C3 with a support made of copper foil was obtained in the same manner as in Product C1.
実施例 1 Example 1
配線幅及び配線間距離が 50 μ m、 導体厚みが 18 μ mで表面が有機酸でマイ クロエッチング処理された導体層を形成された厚さ 0. 8mmの内層基板 (ガラ スフィラー及びハ口ゲン不含エポキシ樹脂を含有するワニスをガラスクロスに含 浸させて得られたコア材) 上に、 前述の支持体付き硬化性樹脂成形体 C 1を、 硬 化性樹脂成形体面が第一の導体層と接するようにして内層基板の両面に重ね合わ せた。 これを、 一次プレスとして耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空積層装 置を用いて、 200 Paに減圧して、 温度 120°C、 圧力 IMP aで 60秒間加 熱圧着した。 次いで、 金属製プレス板で覆われた耐熱ゴム製プレス板を上下に備 えた真空積層装置を用いて、 2 O OP aに減圧して、 温度 140°C、 圧力 1. 0 MP aで 60秒間加熱圧着した。 そして、 ポリエチレンナフタレートフィルムの みを剥がし、 170°Cの窒素オーブン中に 120分間放置し、 内層基板の両面に 電気絶縁層を形成した。  A 0.8 mm thick inner layer substrate (glass filler and Haguchigen) with a conductor width of 50 μm, a conductor thickness of 18 μm, and a surface micro-etched with an organic acid on the surface. A core material obtained by impregnating a glass cloth with a varnish containing an epoxy resin containing no resin), the above-described curable resin molded product C1 with a support is placed on the surface of the first conductive material. It was superposed on both sides of the inner layer substrate so as to be in contact with the layer. This was pressure-compressed to 200 Pa using a vacuum laminating apparatus equipped with heat-resistant rubber press plates on the upper and lower sides as a primary press, and heated and pressed at a temperature of 120 ° C and a pressure of IMPa for 60 seconds. Then, using a vacuum laminator equipped with a heat-resistant rubber press plate covered with a metal press plate on the top and bottom, the pressure was reduced to 2 O OP a at a temperature of 140 ° C and a pressure of 1.0 MPa for 60 seconds. It was heated and pressed. Then, only the polyethylene naphthalate film was peeled off and left in a nitrogen oven at 170 ° C. for 120 minutes to form electric insulating layers on both surfaces of the inner substrate.
得られた電気絶縁層のそれぞれに、 UV— Y AGレーザを用いて直径 30 πι の層間接続のビアホールを形成した。 次いで、 このビアホールを形成した基板表 面に、 アルゴンガスと窒素ガスとの体積比が 50 : 50の混合ガスを用いて、 周 波数 13.56MHz、 出力 100W、 ガス圧 0.8 P aの処理条件でプラズマ処 理を行った。 処理時の温度は 25 °C、 処理時間は 5分間であった。  Via holes of 30 πι in diameter were formed in each of the obtained electric insulating layers using a UV-YAG laser. Next, on the surface of the substrate on which the via hole was formed, a plasma gas was used under a processing condition of a frequency of 13.56 MHz, an output of 100 W, and a gas pressure of 0.8 Pa using a mixed gas having a volume ratio of argon gas to nitrogen gas of 50:50. Processing was performed. The processing temperature was 25 ° C and the processing time was 5 minutes.
こうしてプラズマ処理された電気絶縁層表面に、 周波数 13. 56 MHz N 出 力 400W、 ガス圧 0. 8 P aの条件でアルゴン雰囲気下にて RFスパッタ法に より、 0 . 4 6 n m/秒のレートで厚さ 3 0 n mのクロム膜を形成させ、 次いで 0 . 9 1 n m_ 秒のレートで厚さ 3 0 0 n mの銅薄膜を形成させた。 The plasma-treated electrical insulating layer was subjected to RF sputtering under a 13.56 MHz N output, 400 W gas pressure, 0.8 Pa gas atmosphere in an argon atmosphere. As a result, a 30-nm-thick chromium film was formed at a rate of 0.46 nm / sec, and then a 300-nm-thick copper thin film was formed at a rate of 0.91 nm_sec.
この銅薄膜表面に市販の感光性ドライフィルムを熱圧着して貼り付け、 更に、 このドライフィルム上に所定のパターンのマスクを密着させ露光した後、 現像し てレジストパターンを得た。 次にレジスト非形成部分に電角军銅めつきを施し厚さ 1 2 μ πιの電解銅めつき膜を形成させた。 次いで、 レジストパターンを剥離液に て剥離除去し、 レジスト形成部分の下に隠れていたスパッタ銅薄膜を塩ィヒ第二銅 と塩酸混合溶液により除去して配線パターンを形成した。 そして、 最後に、 1 7 0 で 3 0分間ァニール処理をしてプリント配線板を得た。  A commercially available photosensitive dry film was bonded to the surface of the copper thin film by thermocompression bonding, and a mask having a predetermined pattern was brought into close contact with the dry film, exposed, and then developed to obtain a resist pattern. Next, electroless copper plating was applied to the non-resist-forming portions to form an electrolytic copper plating film having a thickness of 12 μππι. Next, the resist pattern was stripped and removed with a stripper, and the sputtered copper thin film hidden under the resist-formed portion was removed with a mixed solution of cupric chloride and hydrochloric acid to form a wiring pattern. Finally, annealing was performed at 170 for 30 minutes to obtain a printed wiring board.
得られたプリント配線板について電気絶縁層の、 フィラー含有率、 表面粗さ、 - 導体パターンのパターニング性の評価、 金属配線層の密着性及び難燃性の評価を 行った。 評価結果を第 1表に示す。  The obtained printed wiring board was evaluated for the filler content, surface roughness, patterning property of the conductive pattern, adhesion of the metal wiring layer, and flame retardancy of the electrical insulating layer. Table 1 shows the evaluation results.
実施例 2 Example 2
電気絶縁層の形成において、 内層基板に樹脂製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 2を積層し、 次いで支持体を剥がした後、 支持体と共に硬化性樹脂成形体 Αを積 層し、 当該支持体を剥がすこと以外は実施例 1と同様にしてプリント配線板を得 た。  In the formation of the electrical insulating layer, the curable resin molded body C2 with a resin support is laminated on the inner layer substrate, and after the support is peeled off, the curable resin molded body と 共 に is laminated with the support, and the support is formed. A printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the body was peeled off.
得られたプリント配線板について電気絶縁層の、 フィラー含有率、 表面粗さ、 導体パターンのパターニング性の評価、 金属配線層の密着性及び難燃性の評価を 行った。 評価結果を表 1に示す。  The obtained printed wiring board was evaluated for the filler content, surface roughness, patterning property of the conductor pattern, and adhesion and flame retardancy of the metal wiring layer of the electric insulating layer. Table 1 shows the evaluation results.
実施例 3 Example 3
実施例 1で支持体付き硬化性樹脂成形体 C 1を積層し支持体を剥がした。 そし て、 この基板の表面に、 1— ( 2—アミノエチル) _ 2—メチルイミダゾールが 0 . 3 %になるように調整した水溶液に 3 0 °Cにて 1 0分間浸漬した。 次いで 2 5 °Cの水に 1分間浸漬した後、 エアーナイフにて余分な溶液を除去した後、 これ を 1 7 0 °Cの窒素オーブン中に 6 0分間放置した。  In Example 1, the curable resin molded product C1 with a support was laminated and the support was peeled off. Then, the substrate was immersed in an aqueous solution adjusted so that 1- (2-aminoethyl) _2-methylimidazole was adjusted to 0.3% at 30 ° C. for 10 minutes. Then, after immersing in water at 25 ° C. for 1 minute, an excess solution was removed with an air knife, and then left in a nitrogen oven at 170 ° C. for 60 minutes.
得られた積層板の絶縁層部分に、 U V— Y A Gレーザ第 3高調波を用いて直径 3 0 mの層間接続のビアホールを形成しビアホールつき多層基板を得た。  Via holes of 30 m in diameter were formed in the insulating layer portion of the obtained laminate using the U-V-YAG laser third harmonic to obtain a multilayer substrate with via holes.
上述のビアホールつき多層基板を過マンガン酸濃度 6 0 g /リツトル、 水酸化 ナトリゥム濃度 2 8 g /リツトルになるように調整した 7 0 °Cの水溶液に 1 0分 間揺動浸漬した。 次いで、 基板を水槽に 1分間揺動浸漬し、 更に別の水槽に 1分 間揺動浸漬することにより、 基板を水洗した。 続いて硫酸ヒドロキシルァミン濃 度 1 7 0 g リットル、 硫酸 8 0 g /リットルになるように調整した 2 5 °Cの水 溶液に、 基板を 5分間浸漬し、 中和還元処理をした後、 水洗をし、 窒素を吹き付 けて水を除去した。 The above-described multilayer substrate with via holes was rock-immersed in an aqueous solution at 70 ° C. adjusted to a permanganic acid concentration of 60 g / liter and a sodium hydroxide concentration of 28 g / liter for 10 minutes. Next, the substrate was immersed in a water bath for 1 minute while rocking, and further immersed in another water bath for 1 minute to wash the substrate. Subsequently, the substrate was immersed in a 25 ° C aqueous solution adjusted to a hydroxylamine concentration of 170 g liter and sulfuric acid at 80 g / liter for 5 minutes to perform a neutralization reduction treatment. Rinse and spray with nitrogen Water was removed.
めっき前処理として、 水洗後の多層基板をァクチベータ MAT— 1一 A (上村 工業 (株) 製) が 20 Οπι 1ノリットル、 ァクチベータ MAT— 1—B (上村ェ 業 (株) 製) が 30m 1 /リットル、 水酸化ナトリゥムが 1 g/リツトルになる ように調整した 60°Cの P d塩含有めつき触媒溶液に 5分間浸漬した。 次いで、 上述と同じ方法で基板を水洗した後、 レデューサー MRD— 2— A (上村工業 ( 株) 製) が 18 m 1ノリットル、 レデューサー MR D— 2-C (上村工業 (株) 製) が 6 Oml/リットルになるように調整した溶液に 35°Cで、 5分間、 浸漬 し、 めっき触媒を還元処理した。  As a pre-plating treatment, activator MAT-11A (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) has a multilayer substrate of 20 基板 πι 1 liter, and activator MAT-1B (manufactured by Uemura Egyo Co., Ltd.) has a capacity of 30 m 1. Immersion for 5 minutes in a plating solution containing Pd salt at 60 ° C adjusted to 1 g / liter sodium hydroxide. Then, after washing the substrate in the same manner as described above, reducer MRD-2-A (Uemura Kogyo Co., Ltd.) was 18 m 1 liter and reducer MR D-2-C (Uemura Kogyo Co., Ltd.). It was immersed in a solution adjusted to 6 Oml / liter at 35 ° C for 5 minutes to reduce the plating catalyst.
こうして得られた多層基板を、 スルカップ PRX—1— A (上村工業 (株) 製 ) が 15 Oml/リッ トル、 スルカップ PRX— 1一 B (上ネオ工業 (株) 製) が 10 Oml /リットル、 スルカップ PRX— 1—C (上村工業 (株) 製) が 20 mlZリツトルになるように調整した 25°Cの無電解めつき液に空気を吹き込み ながら、 15分間浸漬して無電解めつき処理を行った。 無電解めつき処理により 金属薄膜層が形成された多層基板を更に上述と同様に水洗した後、 乾燥し、 防鲭 処理を施し、 無電解めつき皮膜が形成された多層基板を得た。  The multi-layer substrate obtained in this way was prepared using Sulcup PRX-1-A (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) at 15 Oml / liter and Sulcup PRX-11B (Kamineo Kogyo Co., Ltd.) at 10 Oml / liter. Sulcup PRX—I—C (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) is immersed in an electroless plating solution at 25 ° C adjusted to 20 mlZ liter for 15 minutes while blowing air to perform electroless plating. went. The multilayer substrate on which the metal thin film layer was formed by the electroless plating treatment was further washed with water in the same manner as described above, dried, and subjected to a heat-proof treatment to obtain a multilayer substrate having an electroless plating film formed thereon.
この防鲭処理が施された多層基板表面に、 市販の感光性レジストのドライフィ ルムを熱圧着して貼り付け、 更に、 このドライフィルム上に密着性評価用パター ンに対応するパターンのマスクを密着させ露光した後、 現像してレジストパター ンを得た。 次に硫酸 100 g /リツトルの溶液に 25 °Cで 1分間浸漬させ防鲭剤 を除去し、 レジスト非形成部分に電解銅めつきを施し厚さ 18 μπιの電解銅めつ 'き膜を形成させた。 次いで、 レジストパターンを剥離液にて剥離除去し、 塩ィ匕第 二銅と塩酸混合溶液によりエツチング処理を行うことにより、 前記金属薄膜及び 電解銅めっき膜からなる導体パターンを形成し両面 2層の多層基板を得た。 そし て、 最後に、 170°Cで 30分間ァニール処理をしてプリント配線板を得た。 得られたプリント配線板について電気絶縁層の、 フィラー含有率、 表面粗さ、 導体パターンのパター-ング性の評価、 及びめつき密着性の評価を行った。 評価 結果を第 1表に示す。  A dry film of a commercially available photosensitive resist is bonded by thermocompression bonding to the surface of the multilayer substrate that has been subjected to the heat-proofing treatment, and a mask having a pattern corresponding to an adhesion evaluation pattern is adhered onto the dry film. After exposure, development was performed to obtain a resist pattern. Next, immersion in a solution of 100 g / liter of sulfuric acid at 25 ° C for 1 minute to remove the protective agent, electrolytic copper plating on the non-resist-forming part, forming an electrolytic copper plating film with a thickness of 18 μπι I let it. Next, the resist pattern was stripped and removed with a stripping solution, and an etching treatment was performed with a mixed solution of copper chloride and hydrochloric acid, thereby forming a conductor pattern composed of the metal thin film and the electrolytic copper plating film. A multilayer substrate was obtained. Finally, annealing treatment was performed at 170 ° C. for 30 minutes to obtain a printed wiring board. The obtained printed wiring board was evaluated for the filler content, the surface roughness, the patterning property of the conductor pattern, and the plating adhesion of the electric insulating layer. Table 1 shows the evaluation results.
比較例 1 Comparative Example 1
樹脂製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 1を、 樹脂製支持体付き硬化性榭脂成形 体 C2に変えたこと以外は、 実施例 1と同様にしてプリント配線板を得た。  A printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1, except that the curable resin molded product C1 with a resin support was changed to the curable resin molded product C2 with a resin support.
得られたプリント配線板について電気絶縁層の、 フィラー含有率、 表面粗さ、 導体パターンのパターニング性の評価、 金属配線層の密着性及び難燃性の評価を 行った。 評価結果を第 1表に示す。 比較例 2 The obtained printed wiring board was evaluated for the filler content, surface roughness, patterning property of the conductor pattern, and adhesion and flame retardancy of the metal wiring layer of the electric insulating layer. Table 1 shows the evaluation results. Comparative Example 2
支持体付き硬化性樹脂成形体を、 樹脂製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 3に変 え、 支持体の剥離の方法を、 6 0 °Cの過硫酸ナトリウム水溶液 (濃度: 1モル Z リットル) に 3 0分間浸漬し、 次いで水洗する方法に変えたこと、 及び、 支持体 剥離後の基板表面に、 1— ( 2—アミノエチル) 一2—メチルイミダゾールを接 触する操作を行わないこと以外は実施例 3と同様にしてプリント配線板を得た。 得られたプリント配線板について電気絶縁層の、 ブイラ一含有率、 表面粗さ、 導体パターンのパターニング性の評価、 金属配線層の密着性及ぴ難燃性の評価を 行った。 評価結果を第 1表に示す。  The curable resin molded product with a support was changed to a curable resin molded product C3 with a resin support, and the method of peeling the support was changed to a sodium persulfate aqueous solution at 60 ° C (concentration: 1 mol Z liter). ) For 30 minutes, followed by washing with water, and do not contact the substrate surface after peeling the support with 1- (2-aminoethyl) 1-2-methylimidazole. Except for the above, a printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 3. The printed wiring board obtained was evaluated for the content of the electrical insulation layer, the surface roughness, the patterning property of the conductor pattern, and the adhesion and flame retardancy of the metal wiring layer. Table 1 shows the evaluation results.
第 1 表  Table 1
Figure imgf000021_0001
第 1表から、 表面が平滑な電気絶縁層を形成し、 かつ、 電気絶縁層表面近傍の フィラー量を一定量以下に制御し、 かつ表面粗さを小さくすると (実施例 1〜3 )、 パター-ング性と密着性に優れたプリント配線板が得られることがわかる。 一方、 外側から厚み 8 0 %の範囲に占めるフィラー含有量 (I ) とキャリア側か ら厚み 5 %の範囲に占めるフィラー含有量 (I I ) の比 (I I ) ノ (I ) は約 1 である樹脂製支持体付き硬化性樹脂成形体 C 2を使用した場合 (比較例 1 ) には 、 得られるプリント配線板はパターユング性にやや劣り、 金属配線層の密着性に 劣るものであった。 また、 表面粗さが 1 1 0 0 n mである銅箔製支持体付き硬化 性樹脂成形体 C 3を使用した場合 (比較例 2 ) では、 得られるプリント配線板は パターユング 'I生に劣り、 金属配線層の密着性にやや劣るものであった。
Figure imgf000021_0001
From Table 1, it can be seen that when an electric insulating layer with a smooth surface is formed, the amount of filler near the surface of the electric insulating layer is controlled to a certain amount or less, and the surface roughness is reduced (Examples 1-3), It can be seen that a printed wiring board having excellent abrasion resistance and adhesion can be obtained. On the other hand, the ratio of the filler content (I) in the range of 80% in thickness from the outside to the filler content (II) in the range of 5% in thickness from the carrier side (II) and (I) is about 1. When the curable resin molded product C2 with a resin support was used (Comparative Example 1), the resulting printed wiring board was slightly inferior in pattern jungling property and poor in adhesion to the metal wiring layer. In addition, when the curable resin molded product C3 with a support made of copper foil having a surface roughness of 110 nm was used (Comparative Example 2), the obtained printed wiring board was inferior to Putterjung'I raw However, the adhesion of the metal wiring layer was slightly inferior.

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1. 内層基板の表面に、 第一の導体層、 電気絶縁層および第二の導体層がこの順 で積層されてなるプリント配線'板であって、 前記電気絶縁層が、 以下の (1) 〜1. A printed wiring board in which a first conductor layer, an electric insulation layer, and a second conductor layer are laminated in this order on the surface of an inner substrate, wherein the electric insulation layer has the following (1) ~
(3) の要件を満たすものであることを特徴とするプリント配線板。 A printed wiring board which satisfies the requirement of (3).
(1) 第二の導体層と接する面の表面粗さ R aが 300 nm以下である。  (1) The surface roughness Ra of the surface in contact with the second conductor layer is 300 nm or less.
(2) フィラーを含有する。  (2) Contains a filler.
(3) プリント配線板を垂直に切った断面の、 電気絶縁層厚さを hい 導体層間 距離を h2としたとき、 内層基板表面から第二の導体層側に向かって 1^の 80% までの領域を領域 A、 電気絶縁層表面の第二の導体層と接する面から内層基板側 に向かって h 2の 5 %までの領域を領域 B、 及び領域 Aと Bの間の領域を領域 C と表し、 領域 A、 B、 及び Cのそれぞれの単位面積当たりに含まれる、 直径 50 nm以上のフィラーの占める面積比率を a、 b、 及び cと表したとき、 a c〉 bであり、 かつ、 0. 1 > (bZa) ≥0である。 (3) of the section cut the printed wiring board in the vertical, when the h have conductor layer distance electrically insulating layer thickness was h 2, from the inner layer substrate surface toward the second conductor layer side 1 ^ 80% region an area a to an area of the region from the second surface in contact with the conductive layer of the electrically insulating layer surface up to 5% of h 2 towards the inner substrate side B, and a region a region between the regions a and B C, and when the area ratio of the filler having a diameter of 50 nm or more included in each unit area of the regions A, B, and C is represented by a, b, and c, ac> b, and , 0.1> (bZa) ≥0.
2. 前記電気絶縁層が、 フィラーと重量平均分子量 10, 000〜1, 000, 000の成分とからなるものである請求項 1記載のプリント配線板。  2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the electric insulating layer comprises a filler and a component having a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000.
•3. 前記電気絶縁層が、 フィラーを含有する絶縁性樹脂層 (1) とフイラ一を含 有しない絶縁性榭脂層 (2) とからなるものである請求項 1記載のプリント配線 板。  3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the electric insulating layer comprises an insulating resin layer containing a filler and an insulating resin layer containing no filler.
4. 内層基板上に第一の導体層を形成した後、 表面粗さ Raが 30 Onm以下の 支持体上に、 フィラーを含有しない硬化性榭脂層 (2) とフイラ一を含有する硬 化性樹脂層 (1) とがこの順で積層されてなる支持体付き硬化性樹脂成形体を、 前記第一の導体層に、 硬化性樹脂層 (1) が接するように積層した後、 前記支持 体を除去し、 次いで前記硬化性樹脂層 (1) および硬化性樹脂層 (2) を加熱す ることにより電気絶縁層を形成し、 その後第二の導体層を形成することを特徴と する請求項 1記載のプリント配線板の製造方法。  4. After forming the first conductor layer on the inner substrate, on a support with a surface roughness Ra of 30 Onm or less, a curable resin layer without filler (2) and a hardener containing filler After a curable resin molded body with a support, in which the curable resin layer (1) and the curable resin layer (1) are laminated in this order, is laminated on the first conductor layer so that the curable resin layer (1) is in contact with the first conductive layer, Removing the body, and then heating the curable resin layer (1) and the curable resin layer (2) to form an electrical insulating layer, and then forming a second conductor layer. Item 1. The method for producing a printed wiring board according to Item 1.
5. 内層基板上に第一の導体層を形成した後、 フィラーを含有する硬化性樹脂層 (1) を積層し、 次いで、 ブイラ一を含有しない硬化性樹脂層 (2) を積層した 後、 硬化性榭脂層 (1) および硬化性樹脂層 (2) を加熱して電気絶縁層を形成 し、 その後第二の導体層を形成することを特徴とする請求項 1記載のプリント配 線板の製造方法。  5. After forming the first conductor layer on the inner substrate, laminating the curable resin layer (1) containing the filler, and then laminating the curable resin layer (2) containing no boiler, The printed wiring board according to claim 1, wherein the curable resin layer (1) and the curable resin layer (2) are heated to form an electrical insulating layer, and then a second conductor layer is formed. Manufacturing method.
6. 表面粗さ R aが 300 nm以下の支持体上に、 フィラーを含有しない硬化性 樹月旨層 (1) とフイラ一を含有する硬化性樹脂層 (2) とがこの順で積層されて なる支持体付き硬化性樹脂成形体。 6. On a support having a surface roughness Ra of 300 nm or less, a curable resin layer containing no filler (1) and a curable resin layer containing filler (2) are laminated in this order. Curable resin molded article with a support.
7. 前記硬化' 14樹脂層 (2) が、 フィラーと重量平均分子量 10, 000〜1, 000, 000の成分とからなるものである請求項 6記載の支持体付き硬化性榭 脂成形体。 7. The curable resin molded article with a support according to claim 6, wherein the cured resin layer (2) comprises a filler and a component having a weight average molecular weight of 10,000 to 1,000,000.
S. 前記硬化性樹脂層 (1) と硬化性樹脂層 (2) を構成する成分として、 同一 の電気絶緣性重合体が含まれていることを特徵とする請求項 6記載の支持体付き 硬化性樹脂成形体。  S. Curing with a support according to claim 6, wherein the same electrically insulating polymer is contained as a component constituting the curable resin layer (1) and the curable resin layer (2). Resin moldings.
9. 前記支持体が樹脂フィルムである請求項 6 IB載の支持体付き硬化性樹脂成形 体。  9. The curable resin molded article with a support according to claim 6 wherein the support is a resin film.
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