WO2004025349A1 - Katadioptrisches projektionsobjektiv sowie verfahren zur kompensation der intrinsischen doppelbrechung in einem solchen - Google Patents

Katadioptrisches projektionsobjektiv sowie verfahren zur kompensation der intrinsischen doppelbrechung in einem solchen Download PDF

Info

Publication number
WO2004025349A1
WO2004025349A1 PCT/EP2003/007917 EP0307917W WO2004025349A1 WO 2004025349 A1 WO2004025349 A1 WO 2004025349A1 EP 0307917 W EP0307917 W EP 0307917W WO 2004025349 A1 WO2004025349 A1 WO 2004025349A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
catadioptric
lens
dioptric
adjacent
angle
Prior art date
Application number
PCT/EP2003/007917
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Michael Albert
Vladimir Kamenov
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Smt Ag filed Critical Carl Zeiss Smt Ag
Priority to EP03794838A priority Critical patent/EP1537449A1/de
Priority to AU2003254550A priority patent/AU2003254550A1/en
Publication of WO2004025349A1 publication Critical patent/WO2004025349A1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
    • G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
    • G03F7/70966—Birefringence

Definitions

  • the invention relates to a catadioptric projection lens, in particular for use in a microlithographic projection exposure system, according to the preamble of claim 1 and to a method for compensating for the intrinsic birefringence in a projection lens according to the preamble of claim 11.
  • the indication (110) direction denotes the crystal direction ⁇ 110> and the crystal directions equivalent to this.
  • the indication (111) characterizes net both the crystal direction ⁇ 111> and the equivalent crystal directions in the cubic crystal.
  • the intrinsic birefringence in calcium fluoride has a maximum effect on a beam which passes through a refractive optical component along an (110) crystal direction.
  • calcium fluoride has no intrinsic birefringence, as is also predicted by the theory.
  • the literature does not focus on a difference between a projection lens working exclusively with refractive optical elements and a catadioptric projection lens when compensating for intrinsic birefringence.
  • the object of the present invention is to design a catadioptric projection lens of the type mentioned in the preamble of claim 1 in such a way that it is optimized with regard to its intrinsically birefringent properties.
  • the basis of the present invention is the knowledge that the polarization-sensitive reflective layer contained in the catadioptric part of the catadioptric projection objective decouples the catadioptric objective part from the dioptric part adjacent to the image plane in terms of polarization.
  • an imperfect compensation of the intrinsic birefringence in the catadioptric objective part only has an effect on the light intensity in the image plane, but not on the relative phase position of the two mutually orthogonal polarization components in " the image plane.
  • the aim of compensating for the intrinsic birefringence in the catadioptric objective part is not only to minimize the loss of intensity, but also to keep the antisymmetric portion of the apodization associated with the loss of intensity as small as possible.
  • the symmetrization of the apodization minimizes the telecentricity error.
  • a rotationally symmetrical apodization in particular can be easily corrected by means of a corresponding gray filter.
  • an uncompensated intrinsic birefringence leads to a phase difference in the dioptric lens part adjacent to the image plane Polarization components of light in the image plane and not a loss of intensity.
  • the degree of compensation for the intrinsic birefringence in the dioptric part adjacent to the image plane can therefore best be described as the phase difference between the polarization components. Ideally, this should also be zero.
  • the dioptric part adjacent to the object plane is also compensated for birefringence separately from the catadioptric part and from the dioptric part adjacent to the image plane.
  • the refractive optical elements consist of fluoride, in particular calcium or barium fluoride.
  • the catadioptric part can contain another lens made of birefringent material.
  • this case 35 have the specified in claims 11 to 14 crystallographic orientations proved to be favorable.
  • the dioptric part of the projection lens adjacent to the object plane can generally be compensated for in terms of its intrinsic birefringence by the (100) direction running parallel to the optical axis in the optical elements there. This way of compensation is feasible because the maximum opening angle of the beams, ie the maximum angle of the beam in relation to the optical axis of the element, is also very small in this area.
  • beam deflection devices In addition to geometric beam deflection devices, in which the reflecting surface reflects essentially metallic or due to dielectric layer structures, beam deflection devices have been used more and more recently, which consist of two prisms made of birefringent material, in particular calcium fluoride, between which a polarization-sensitive beam splitter layer is arranged as a reflecting layer.
  • a beam splitter layer of this type is distinguished in that a polarization component of the incident light essentially reflects, while the polarization component perpendicular thereto is essentially transmitted.
  • This beam splitter layer therefore has a strongly polarizing effect, with the result of a particularly strong polarization-specific decoupling between those parts of the projection objective which are on opposite sides of the beam splitter layer.
  • the two prisms of this beam deflection device also consist of crystalline fluoride material and are therefore also birefringent. This birefringence also requires compensation. This is in the catadioptric Part of the prism facing the projection lens is not without problems, since it is traversed by bundles of rays, the main rays of which cannot generally be oriented both before and after the reflection parallel to a crystal direction in which the intrinsic birefringence is low or zero " . Here so compromises are made:
  • a first compromise of this type is such that in the prism facing the catadioptric part the (100) direction runs parallel to the optical axis of the catadioptric part. This takes into account the fact that this prism is passed twice by a light bundle approximately parallel to the optical axis of the cathodic part, while the light bundle that comes from the object passes through this prism only once.
  • Another advantage of this arrangement is that both prisms of the beam deflecting device can be cut from a single cuboid made of (100) material without significant material loss occurring.
  • the second, less preferred option is that in the prism facing the catadioptric part, a (100) direction with the optical axis of the objective part lying in front of the beam splitter layer is the same
  • Angle encloses like a (possibly other) (100) direction with the optical axis of the catadioptric part.
  • the compensation of the intrinsic birefringence in the prism, which faces the dioptric part adjacent to the image plane, expediently consists in that the (100) direction runs parallel to the optical axis of the catadioptric part.
  • the object of the present invention is also a Specify methods for compensation of intrinsic birefringence in a catadioptric projection lens.
  • the projection lens is identified overall by the reference symbol 1 in the figure. It serves to reproduce a pattern of a reticle arranged in an object plane 2 in an image plane 3 lying parallel to the object plane 2 on a reduced scale, for example in a ratio of 4: 1.
  • the projection objective 1 has, adjacent to the object plane 2, a dioptric part 4, which contains exclusively refractive optical elements 8, 9, a beam deflection device 7, a catadioptric part 5 with a concave mirror 6 and a plurality of refractive optical elements 13 to 16 and one the catadioptric objective part 5 following, the image plane 3 adjacent dioptric part 18, which also contains exclusively refractive optical elements 20 to 34.
  • the first dioptric part 4 of the projection objective 1 contains a lambda / plate 8, the meaning of which will be discussed further below, and a plano-convex Lens 9.
  • the beam deflection device 7 is designed as a beam splitter cube and is composed of two prisms 7a, 7b which are triangular in cross section. Between them there is a polarization-selective beam splitter layer 10, which is designed as a so-called “S-P layer”. Ideally, this means that the beam splitter layer 10 reflects 100% of the component (S component) of the electric field which is perpendicular to the plane of incidence of light, while it transmits the component (P component) of the electric field which is parallel to the plane of incidence.
  • Real beam splitter layers 10 of the S-P type come very close to these ideal values.
  • the beam splitter layer 10 is inclined against the optical axis 11 of the first dioptric lens part 4, such that the deflection angle is slightly more than 90 °, for example 103 ° to 105 °.
  • the lambda / 4 r plate 8 contained in the first dioptric objective part 4 ensures that the light emanating from the object hits the beam splitter layer 10 with the S polarization required for reflection.
  • the light reflected on the beam splitter layer 10 first strikes a relatively thin negative meniscus lens 13 in the catadioptric part 5 of the projection objective 1 and then a further lambda / 4 plate 14.
  • the lambda / 4 plate 14 removes the radiation from the beam splitter layer 10 incoming light circularly polarized. It thus passes through two further negative meniscus lenses 15, 16 and is then reflected on the concave mirror 6.
  • the light then passes through the diffractive optical Elements 16, 15, 14, 13 of the catadioptric part 5 of the projection lens 1 in the opposite direction.
  • the circularly polarized light is converted again into light with linear polarization, which now strikes the beam splitter layer 10 with P polarization during the second " passage and is therefore transmitted by the latter.
  • the light passing through the beam splitter layer 10 strikes a flat deflecting mirror 17, which is oriented such that the optical axis 19 of the second dioptric part 18 of the projection objective 1 runs parallel to the optical axis 11 of the first dioptric part 4.
  • the second dioptric lens part 18 comprises a total of fifteen refractive optical elements, of which thirteen, which are provided with the reference numerals 20 to 32, are lenses, one which is provided with the reference number 33, is a further lambda / plate and the last before the image plane 3 is a plane-parallel end plate.
  • the described projection objective 1 is intended for use with light in the far ultraviolet range, in particular with a wavelength of 157 nm, all refractive optical components consist of calcium fluoride.
  • the intrinsic birefringence associated with these refractive optical elements require compensation.
  • the polarization-selective beam splitter layer 10 decouples the dioptric objective part 4 adjacent to the object plane 2 from the catadioptric objective part 5 and this in turn from the dioptric objective part 18 adjacent to the image plane 3.
  • the birefringence of the elements 8, 9 causes a change in the polarization state of the light before reflection on the beam splitter layer 10. This is now not exclusively S-polarized and is therefore not completely reflected. Light that reaches the wrong polarization state due to intrinsic birefringence is absorbed or transmitted in the radiation egg layer 10. There is therefore a reduction in the intensity of the light entering the catadioptric part 5 of the projection lens 1.
  • the intrinsic birefringence in the first dioptric part 4 thus does not essentially influence the phase position in the image plane 3 but only changes the light intensity there.
  • the light receives an undesired S-polarization component which is either reflected or absorbed at the beam splitter layer 10 instead of being transmitted, so that this light is ultimately also missing in the image plane 3.
  • This effect can be over a ten percent Lead intensity change and also affect the image quality. For example, the linearity of the structures shown or the telecentricity suffer,
  • the refractive optical elements 20 to 34 in the dioptric objective part 18 adjacent to the image plane 3 likewise cause a change in the polarization state.
  • the refractive optical elements 20 to 34 in the dioptric objective part 18 adjacent to the image plane 3 likewise cause a change in the polarization state.
  • the polarization-related decoupling of the different parts 4, 5 and 18 of the projection objective 1 now has the consequence that the intrinsic birefringence in each of these parts 4, 5, 18 has to be compensated for.
  • a “reference direction” is used to define the rotational position of an optical element. This The reference direction is vertical on the drawing plane of the figure and points towards the viewer.
  • the quality of the compensation in the dioptric part (4) adjacent to the object plane (2) and in the catadioptric part (5) is characterized by a "loss of interity". This is the maximum loss of the intensity of a light bundle emanating from the object plane between the object plane 2 and the image plane 3, which is caused by the optical elements under consideration.
  • An "antisymmetric portion" of the apodization is used as a further parameter for the quality of the compensation in the dioptric part 4 adjacent to the object plane 2 and in the catadioptric part 5. This parameter is defined as the maximum value of
  • ⁇ nti [I ( V - I ( - : - ] / 2 'where I (xp,' y J p) the intensity at a point in the
  • the intrinsic birefringence in the dioptric part 4 adjacent to the object plane 2 is essentially compensated for by the following measures:
  • both the lambda / 4 plate 8 and the lens 9 can be made from (100) - or made of (111) material with any rotational position to each other.
  • the crystallographic orientation of the first prism 7a of the beam deflection device 7 is selected such that a (100) crystal direction with the optical axis (11) of the dioptric objective part 4 encloses the same angle as a second (100) -Crystal direction with the optical axis 12 of the catadioptric lens part 5.
  • the intensity loss for that originating from the axis point is selected such that a (100) crystal direction with the optical axis (11) of the dioptric objective part 4 encloses the same angle as a second (100) -Crystal direction with the optical axis 12 of the catadioptric lens part 5.
  • the catadioptric part 5 of the projection objective 1 contains only relatively few refractive elements, in particular only three lenses 13, 15, 16, it is not possible, according to the prior art mentioned at the outset, to combine several lenses with their axes oriented according to groups and mutual rotation within the groups and the groups against each other to a very good compensation of the intri- . birefringence. Under these difficult conditions, the solution is sought taking into account the maximum opening angle prevailing in the refractive element under consideration.
  • the axes of both lenses (15, 16) run in the (110) direction.
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of one lens 15 and the reference direction is 0 °
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of the other lens 16 and the reference direction is 90 °.
  • the intensity loss is 3.15%
  • the antisymmetric portion of the apodization is 0.62%.
  • the axes of both lenses (15, 16 " ) run in the (110) direction.
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of the one lens 15 and the reference direction is 90 °
  • the crystal direction of the other lens 16 and the reference direction is 0 °
  • the loss of intensity occurring here is 3.02%
  • the antisymmetric portion of the apodization is 0.54%.
  • the axes of both lenses (15, 16) run in the (111) direction.
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of one lens 15 and the reference direction is 0 °
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of the other lens 16 and the reference direction is 60 °.
  • the intensity loss that occurs is 13.63%
  • the antisymmetric portion of the apodization is 5.95%.
  • the axes of both lenses (15, 16) run in the (111) direction.
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of one lens 15 and the reference direction is 30 °
  • the angle of rotation between the [1-10] crystal direction of the other lens 16 and the reference direction is 90 °.
  • the loss of intensity that occurs is 8.02%
  • the antisymmetric portion of the apodization is 3.21%.
  • Example 5 The axes of both lenses (15, 16) run in the (100) direction.
  • the angle of rotation between the [010] crystal direction of one lens 15 and the reference direction is 0 °
  • the angle of rotation between the [010] crystal direction of the other lens 16 and the reference direction is 45 °.
  • the loss of intensity that occurs is 11/36%
  • the antisymmetric portion of the apodization is 4.29%.
  • the axes of both lenses (15, 16) run in the (100) direction.
  • the angle of rotation between the [010] crystal direction of one lens 15 and the reference direction is 45 °
  • the angle of rotation between the [010] crystal direction of the other lens 16 and the reference direction is 90 °.
  • the intensity loss that occurs is 15.96%
  • the antisymmetric portion of the apodization is 6.52%.
  • the maximum beam opening angle is 14 °.
  • the axis of the lens 13 is in the (100) crystal direction.
  • the angle that the [010] crystal direction forms with the reference direction is 0 °.
  • the axis of the lens 13 is located in 'the (100) -direction.
  • the angle that the [010] crystal direction makes with the reference direction is 45 °.
  • the axis of the lens 13 is in the (111) crystal direction.
  • the angle that the [1-10] crystal direction makes with the reference direction is 30 °.
  • the axis of the lens 13 is in the (111) crystal direction.
  • the angle that the [1-10] crystal direction makes with the reference direction is 90 °.
  • the compensation of the intrinsic birefringence within the second prism 7b of the beam deflection device 7 is done by placing the crystallographic (100) direction parallel to the optical axis 12 of the catadioptric lens part 5.
  • the compensation of the intrinsic birefringence within the dioptric lens part 18 adjacent to the image plane 3 can finally take place, since there are sufficient refractive optical elements available, according to one of the methods described in detail in the prior art, for example by the simultaneous use of calcium - And barium fluoride or through the simultaneous use of twisted lenses made of fluoride crystal, the lens axis of which point in the (100) or in the (111) crystal direction. This will not be discussed in more detail here.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv (1), das insbesondere zur Verwendung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtsanlage bestimmt ist, umfasst sowohl in einem katadioptrischen Teil (5) als auch in einem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) eine Mehrzahl refraktiver, intrinsische Doppelbrechung aufweisender optischer Elemente. Da diese refraktiven optischen Elemente in dem katadioptrischen Teil (5) und dem dioptrischen Teil (18) durch eine polarisations sensitive reflektierende Schicht (10) voneinander polarisationsmässig entkoppelt sind, sind der katadioptrische Teil (5) und der dioptrische Teil (18) getrennt voneinander hinsichtlich der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert.

Description

Katadioptrisches Projektionsobjektiv sowie Verfahren zur Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in einem solchen
Die Erfindung betrifft ein katadioptrisches Projektionsobjektiv, insbesondere zur Verwendung in einer mikrolitho- graphischen Projektionsbelichtungsanlage, nach dem Oberbegriff des Anspruches 1 sowie ein Verfahren zur Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in einem Projektionsobjektiv nach dem Oberbegriff des Anspruches 11.
Projektionsobjektive und Mikrolithographie-Projektionsbe- lichtungsanlagen der oben genannten Art sind beispielsweise in der WO 01/50 171 AI beschrieben. Wegen der eingesetzten Betriebswellenlänge von 193 nm bzw. 157 nm wird als Material der refraktiven optischen Komponenten, insbesondere also der Linsen, Kalz-iumfluorid eingesetzt. Aus dem Artikel "Intrinsic birefringence in calcium fluoride and barium fluoride" von J. Burnett et al . (Physical Review B, volume 64 (2001) , Seiten 241102-1 bis 241102-4) ist bekannt, daß Linsen aus Fluoridkri- stallen intrinsische Doppelbrechung aufweisen. Diese ist stark von der Materialorientierung der Fluoridkristall- Linse und der Strahlrichtung abhängig.
Wenn nachfolgend von einer Kristallrichtung (100) die Rede ist, so sind hiermit die Hauptkristallrichtung <100> sowie die aufgrund der Symmetrieeigenschaften der kubischen Kristalle hierzu äquivalenten Kristallrichtungen gemeint . Ensprechend bezeichnet die Angabe (110) -Richtung die Kristallrichtung <110> sowie die hierzu äquivalenten Kristallrichtungen. Die Angabe (111) schließlich kennzeich- net sowohl die Kristallrichtung <111> als auch die hiermit äquivalenten Kristallrichtungen im kubischen Kristall.
Die intrinsische Doppelbrechung in Kalziumfluorid wirkt sich maximal auf einen Strahl aus, welcher eine refraktive optische Komponente entlang eine'r (110) -Kristallrichtung passiert. Bei einer Strahlausbreitung in (100) -Kristallrichtung und in (111) -Kristallrichtung weist Kalziumfluorid dagegen keine intrinsische Doppelbrechung auf, wie dies auch von der Theorie vorhergesagt wird.
In dem Artikel "The Trouble with Calcium Fluoride" von J. Burnett et al . (spie's Oemagazine, March 2002, Seiten 23 bis 25, http://oemagazine.com/from the magazine/mar 02/biref .html) wird die Winkelabhängigkeit der intrinsischen Doppelbrechung im Fluoridkristall mit kubischer Kristallstruktur ausführlich erläutert. Die intrinsische Doppelbrechung eines Strahls ist danach sowohl vom Öffnungswinkel als auch vom Azimutwinkel eines Strahls abhängig. Dabei liegen im oben genannen Artikel im einzelnen dargelegte Symmetrien vor, wenn die Linsenachse in (100)-, in (111)- oder auch in (110) -Richtung zeigt. Durch den gleichzeitigen Einsatz von mehreren Linsen mit unterschiedlicher kristallographischer Orientierung der Linsen- achse und ggfs. durch Verdrehung dieser Linsen gegeneinander kann der optische Wegunterschied für zwei orthogonale Polarisationszustände des durchtretenden Lichtes in einem Projektionsobjektiv reduziert werden.
In der Literatur wird dabei auf einen Unterschied zwischen einem ausschließlich mit refraktiven optischen Elementen arbeitenden Projektionsobjektiv und einem katadioptrischen Projektionsobjektiv bei der Kompensation der intrinsischen Spannungsdoppelbrechung nicht abgestellt. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein katadioptrischen Projektionsobjektiv der im Oberbegriff des Anspruches 1 genannten Art so auszugestalten, daß es hinsichtlich seiner intrinsisch doppelbrechenden Eigen- Schäften optimiert ist.
Diese Aufabe wird durch die im Anspruch 1 angegebene Erfindung gelöst.
Grundlage der vorliegenden Erfindung ist die Erkenntnis, daß die im katadioptrischen Teil des katadioptrischen Projektionsobjektives enthaltende polarisationssensitive reflektierende Schicht den katadioptrischen Objektivteil von dem der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil polarisationsmäßig abkoppelt. Tatsächlich hat eine unvollkommene Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in dem katadioptrischen Objektivteil nur Auswirkungen auf die Lichtintensität in der Bildebene, nicht jedoch auf die relative Phasenlage der beiden zu einander ortho- gonalen Polarisationskomponenten in" der Bildebene.
Ziel bei der Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung im katadioptrischen Objektivteil ist es nicht nur, den Intensitätsverlust zu minimieren, sondern darüber hinaus den antisymmetrischen Anteil der mit dem Intensitätsverlust verbundenen Apodisierung so klein wie möglich zu halten. Die Symmetrisierung der Apodisierung minimiert den Telezentriefehler. Außerdem läßt sich eine insbesondere rotationssymmetrische Apodisierung leicht durch ein entsprechendes Graufilter korrigieren.
Anders als in dem katadioptrischen Teil des Projektions- objektives führt eine nicht kompensierte intrinsische Doppelbrechung in dem der Bildebene benachbarten diop- trischen Objektivteil zu einen Phasenunterschied der Polarisationskomponenten des Lichts in der Bildebene und nicht zu einem Intensitätsverlust. Der Grad der Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in dem der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil läßt sich daher am besten als Phasenunterschied zwischen den Polarisationskomponenten beschreiben. Auch dieser sollte idealerweise Null sein.
Die beschriebene polarisationsmäßige Entkopplung des katadioptrischen Objektivteiles und des der Bildebene benachbarten dioptrischen Objektivteil führt nun dazu, daß refraktive optische Elemente in dem katadioptrischen Objektivteil nicht zur Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in dem der Bildebene benachbarten diop- trischen Objektivteil herangezogen werden können. Vielmehr muß die intrinsische Doppelbrechung in beiden Objektivteilen getrennt voneinander minimiert werden. Nur dann ergibt sich sowohl ein minimaler Intensitätsverlust als auch ein minimaler Gangunterschied der beiden Pola- risierungskomponenten in der Bildebene und somit eine optimale Abbildungsqualität .
Die meisten katadioptrischen Projektionsobjektive weisen neben dem der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil auch einen der Objektebene benachbarten dioptrischen Teil auf, mit dem das von dem Objekt ausgehende Licht auf die Strahlumlenkeinrichtung geführt wird. In diesem Falle gibt es erfindungsgemäß zwei Alternativen, die intrinsische Doppelbrechung zu kompensieren:
Bei der ersten Alternative ist auch der der Objekt- ebene benachbarte dioptrische Teil getrennt von dem katadioptrischen Teil und von dem der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil hinsichtlich der Doppelbrechung kom- pensiert. Günstiger ist es jedoch im Blick auf eine optimale Gestaltung der Apodisierung, wenn der der Objektebene benachbarte dioptrische Teil und der katadi- optrische Teil gemeinsam, jedoch getrennt von dem der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil hinsichtlich 05. der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert sind.
Der Grund hierfür ist darin zu sehen, daß eine nicht auskompensierte intrinsische Doppelbrechung auch in dem der Objektebene benachbarten dioptrischen Teil nicht zu einem 10 Phasenunterschied sondern, ähnlich wie in dem katadioptrischen Teil des. Projektionsobjektives, nur zu einer Inten- sitätsVeränderung und Apodisierung in der Bildebene führt .
15 Bei der für das Projektionsobjektiv hauptsächlich in
Betracht gezogenen Betriebswellenlänge von 157 nm kommt praktisch nur in Frage, daß die refraktiven optischen Elemente aus Fluorid, insbesonder Kalzium- oder Barium- fluorid, bestehen.
20
Die getrennte Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung im katadioptrischen Teil des Projektionsobjektives ist deshalb erschwert, weil sich in diesem Teil nur verhältnismäßig wenig refraktive optische
25 Elemente, insbesondere Linsen, befinden. Eine ausreichend gute kompensierende Wirkung wird bei denjenigen Ausgestaltung der Erfindung erzielt, die Gegenstände der Ansprüche 4 bis 10 sind. Dabei wird von der Tatsache Gebrauch gemacht, daß die im katadioptrischen Teil liegenden
30 Linsen nur mit verhältnismäßig kleinem maximalem Offnungs- winkel vom Licht durchtreten werden.
Der katadioptrische Teil kann eine weitere Linse aus doppelbrechendem Material enthalten. In diesem Falle 35 haben sich die in den Ansprüchen 11 bis 14 angegebenen kristallographischen Orientierungen als günstig erwiesen.
Der der Objektebene benachbarte dioptrische Teil des Projektionsobjektives läßt sich im allgemeinen dadurch hinsichtlich seiner intrinsischen Doppelbrechung kompensieren, daß in den dortigen optischen Elementen die (100) -Richtung parallel zur optischen Achse verläuft. Dieser Weg zur Kompensation ist deshalb gangbar, weil in diesem Bereich der maximale Öffnungswinkel der Strahlen, also der maximale Winkel des Strahls bezogen auf die optische Achse des Elements, ebenfalls sehr gering ist.
Neben geometrischen Strahlumlenkeinrichtungen, bei denen die reflektierende Fläche im wesentlichen metallisch oder aufgrund dielektrischer SchichtStrukturen reflektiert, werden in jüngster Zeit zunehmend Strahlumlenkeinrichtungen eingesetzt, die aus zwei Prismen aus doppelbrechendem Material, insbesondere Kalziumfluorid, bestehen, zwischen denen eine polarisationssensitive Strahlteilerschicht als reflektierende Schicht angeordnet ist. Wie weiter unten näher erläutert wird, zeichnet sich eine derartige Strahlteilerschicht dadurch aus, daß eine Polarisationskomponente des auftreffenden Lichtes im wesentlichen reflektiert, wärend die hierzu senkrechte Polarisationskomponente im wesentlichen transmittiert wird. Diese Strahlteilerschicht hat also eine stark polarisierende Wirkung mit der Folge einer besonders starken polarisationsmäßigen Entkopplung zwischen denjenigen Teilen des Projektionsobjektives, die auf gegenüberliegenden Seiten der Strahlteilerschicht lie- gen .
Die beiden Prismen dieser Strahlumlenkeinrichtung bestehen ebenfalls aus kristallinem Fluoridmaterial und sind daher ebenfalls doppelbrechend. Auch diese Doppelbrechung bedarf einer Kompensation. Dies ist in dem dem katadioptrischen Teil des Projektionsobjektiv zugewandten Prisma nicht unproblematisch, da dieses von Strahlenbündeln durchlaufen wird, deren Hauptstrahlen im allgemeinen nicht sowohl vor als auch nach der Reflexion parallel zu einer Kristall- richtung orientiert werden können, in der die intrinsische Doppelbrechung niedrig oder null" ist . Hier müssen also Kompromisse getroffen werden:
Ein erster derartiger Kompromiß sieht so aus, daß in dem dem katadioptrischen Teil zugewandten Prisma die (100) -Richtung parallel zur optischen Achse des katadioptrischen Teils verläuft. Damit wird der Tatsache Rechnung getragen, daß dieses Prisma zwei Mal von einem Lichtbündel etwa parallel zur optischen Achse des kata- dioptrischen Teiles durchtreten wird, während das Licht- bündel, das von dem Objekt kommt, dieses Prisma nur ein Mal durchläuft. Ein weiterer Vorteil dieser Anordnung ist, daß beide Prismen der Strahlumlenkeinrichtung aus einem einzigen Quader aus (100) -Material geschnitten werden können, ohne daß nennenswerter Materialverlust eintritt.
Die zweite, weniger bevorzugte Möglichkeit besteht darin, daß in dem dem katadioptrischen Teil zugewandten Prisma eine (100) -Richtung mit der optischen Achse des vor der Strahlteilerschicht liegenden Objektivteils denselben
Winkel einschließt wie eine (ggfs. andere) (100) -Richtung mit der optischen Achse des katadioptrischen Teils .
Die Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in dem Prisma, welches dem der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil zugewandt ist, besteht zweckmäßigerweise darin, daß die (100) -Richtung parallel zur optischen Achse des katadioptrischen Teils verläuft .
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es ferner, ein Verfahren zur Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in einem katadioptrischen Projektionsobjektiv anzugebe .
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 20 angegebene Erfindung gelöst. Die Vorteile dieses erfindungsgemäßen Verfahrens entsprechen ebenso wie diejenigen der zweckmäßigen, in den Ansprüchen 21 und 22 angegebenen Ausführungsformen den oben geschilderten Vorteilen des erfin- dungsgemäßen katadioptrischen Projektionsobjektivs.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert; die einzige Figur zeigt den Linsenschnitt eines katadioptrischen Projek- tionsobjektivs, welches in einer Mikrolithographie-Pro- jektionsbelichtungsanlage Verwendung findet.
Das Projektionsobjektiv ist in der Figur insgesamt mit dem Bezugszeichen 1 gekennzeichnet. Es dient dazu, ein in einer Objektebene 2 angeordnetes Muster eines Retikels in eine parallel zur Objektebene 2 liegende Bildebene 3 in reduziertem Maßstab abzubilden, beispielsweise im Verhältnis 4:1. Das Projektionsobjektiv 1 hat der Objektebene 2 benachbart einen dioptrischen Teil 4, der aus- schließlich refraktive optische Elementen 8, 9 enthält, eine Strahlumlenkeinrichtung 7, einen katadioptrischen Teil 5 mit einem Konkavspiegel 6 und mehreren refraktiven optischen Elementen 13 bis 16 und einen dem katadioptrischen Objektivteil 5 folgenden, der Bildebene 3 benachbar- ten dioptrischen Teil 18, der ebenfalls ausschließlich refraktive optische Elemente 20 bis 34 enthält.
Der erste dioptrische Teil 4 des Projektionsobjektives 1 enthält eine Lambda/ -Platte 8, auf deren Bedeutung weiter unten eingegangen wird, sowie eine plankonvexe Linse 9 .
Die Strahlumlenkeinrichtung 7 ist als Strahlteilerwürfel ausgebildet und aus zwei im Querschnitt dreieckigen Prismen 7a, 7b zusammengesetzt. Zwischen diesen befindet sich eine polatisationsselektive Strahlteilerschicht 10, die als sog. "S-P-Schicht" ausgebildet ist. Dies bedeutet idealerweise, daß die Strahlteilerschicht 10 die bezüglich der Einfallsebene des Lichtes senkrechte Komponente (S-Komponente) des elektrischen Feldes zu 100 % reflektiert, während sie die zur Einfallsebene parallele Komponente (P-Komponente) des elektrischen Feldes zu 100 % transmittiert. Reale Strahlteilerschichten 10 des S-P- Types kommen diesen idealen Werten recht nahe .
Die Strahlteilerschicht 10 ist gegen die optische Achse 11 des ersten dioptrischen Objektivteiles 4 schräg angestellt, derart, daß der Umlenkwinkel etwas mehr als 90°, beispielsweise 103° bis 105° beträgt. Durch die im ersten dioptrischen Objektivteil 4 enthaltene Lambda/4r Platte 8 wird dafür gesorgt, daß das von dem Objekt ausgehende Licht mit der zur Reflexion erforderlichen S-Polarisation auf die Strahlteilerschicht 10 trifft.
Das an der Strahlteilerschicht 10 reflektierte Licht trifft im katadioptrischen Teil 5 des Projektionsobjektives 1 zunächst auf eine verhältnismäßig dünne Negativ- Meniskuslinse 13 und sodann auf eine weitere Lambda/4- Platte 14. Durch die Lambda/4-Platte 14 wird das von der Strahlteilerschicht 10 kommende Licht zirkulär polarisiert. Es durchtritt so zwei weitere Negativ-Meniskuslinsen 15 , 16 und wird dann an dem Konkavspiegel 6 reflektiert .
Das Licht durchtritt dann die diffraktiven optischen Elemente 16, 15, 14, 13 des katadioptrischen Teils 5 des Projektionsobjektives 1 in entgegengesetzter Richtung. Beim zweiten Durchtritt durch die Lambda/4-Platte 14 wird das zirkulär polarisierte Licht wieder in Licht mit linearer Polarisation umgewandelt, das nunmehr aber mit P-Polarisation beim zweiten "Durchgang auf die Strahlteilerschicht 10 trifft und deshalb von dieser transmittiert wird.
Das die Strahlteilerschicht 10 durchtretende Licht trifft auf einen ebenen Umlenkspiegel 17, der so ausgerichtet ist, daß die optische Achse 19 des zweiten dioptrischen Teiles 18 des Projektionsobjektives 1 parallel zur optischen Achse 11 des ersten dioptrischen Teiles 4 verläuft . Dies ist gleichbedeutend mit der Aussage, daß sich die Bildebene 3 parallel zur Objektebene 2 erstreckt. Der zweite dioptrische Objektivteil 18 umfasst insgesamt fünfzehn refraktive optische Elemente, von denen dreizehn, die mit den Bezugszeichen 20 bis 32 versehen sind, Linsen sind, eines, das mit dem Bezugszeichen 33 versehen ist, eine weitere Lambda/ -Platte ist und das letzte vor der Bildebene 3 eine planparallele Abschlußplatte ist .
Da das beschriebene Projektionsobjektiv 1 zur Verwendung mit Licht im fernen Ultraviolettbereich, insbesondere mit einer Wellenlänge von 157 nm, bestimmt ist, bestehen alle refraktiven optischen Komponenten aus Kalziumfluorid. Die hiermit verbundene intrinsische Doppelbrechung dieser refraktiven optischen Elemente bedürfen einer Kompensation. Aufgrund der besonderen Ausgestaltung des Projektionsobjektives 1 als katadioptrisches mit der polarisationsselektiven Strahlteilerfläche 10 ergeben sich in diesem Zusammenhang Besonderheiten, auf die nachfolgend näher eingegangen wird: Die polarisationsselektive Strahlteilerschicht 10 entkoppelt den der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Objektivteil 4 von dem katadioptrischen Objektivteil 5 und diesen wiederum von dem der Bildebene 3 benachbarten dioptrischen Objektivteil 18.
Dies sei zunächst für den dioptrischen Objektivteil 4 erklärt: Ohne entsprechende Kompensation bewirkt die Doppelbrechung der Elemente 8, 9 vor der Reflexion an der Strahlteilerschicht 10 eine Änderung des Polarisationszustandes des Lichts. Dieses ist nunmehr nicht ausschließlich S-polarisiert und wird daher nicht vollständig reflektiert . Licht, das durch intrinsische Doppelbrechung in den falschen Polarisationszustand gelangt, wird in der Strahl- teierschicht 10 absorbiert oder transmittiert. Es findet also eine Reduzierung der Intensität des in den katadioptrischen Teil 5 des Pro ektionsobjektives 1 eintretenden Lichtes statt. Die intrinsische Doppelbrechung im ersten dioptrischen Teil 4 beeinflusst somit in der Bildebene 3 die Phasenlage im wesentlichen nicht sondern verändert dort ausschließlich die Lichtintensität.
Ähnliches gilt für die Verhältnisse innerhalb des katadioptrischen Objektivteiles 5: Eine intrinsische Doppel- brechung in den refaktiven optischen Elementen 13, 14,
15, 16, die nach der Reflexion an der Strahlteilerschicht 10 doppelt durchlaufen werden, führt zu einer Änderung des Polarisationszustandes des zum zweiten Mal auf die Strahlteilerschicht 10 auftreffenden Lichtes, sofern hiergegen keine besonderen Maßnahmen ergriffen werden.
Das Licht erhält dabei eine unerwünschte S-Polarisations- komponente, die an der Strahlteilerschicht 10 entweder reflektiert oder absorbiert statt transmittiert wird, so daß auch dieses Licht letztendlich in der Bildebene 3 fehlt. Dieser Effekt kann zu einer über zehnprozentigen Intensitätsänderung führen und außerdem die Abbildungsqualität beeinträchtigen. Beispielsweise leiden die Linearität der abgebildeten Strukturen oder die Telezentrie ,
Die refraktiven optischen Elemente 20 bis 34 im der Bildebene 3 benachbarten dioptrischen Objektivteil 18 bewirken aufgrund ihrer intrinsischen Doppelbrechung ebenfalls eine Änderung des Polarisationszustandes. Hier folgt jedoch, anders als im der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Objektivteil 4 und im katadioptrischen
Objektivteil 5, keine polarisationssensitive Schicht mehr. Dies führt dazu, daß die Änderung des Polarisationszustandes in der Bildebene 3 in einem Phasenunterschied der Polarisationskomponenten und nicht in einer Intensitäts- Veränderung resultiert.
Die geschilderte polarisationsmäßige Entkoppelung der verschiedenen Teile 4, 5 und 18 des Projektionsobjektives 1 hat nun zur Folge, daß die intrinsische Doppel- brechung in jedem dieser Teile 4, 5, 18 für sich kompensiert werden muß. Es ist also insbesondere nicht möglich, in die Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung des der Bildebene 3 benachbarten dioptrischen Teiles 18 des Projektionsobjektives 1 refraktive Elemente aus dem der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Teil 4 und dem katadioptrischen Teil 5 einzubeziehen.
Bei der nachfolgenden Beschreibung der Art und Weise, wie in den verschiedenen Teilen des Projektionsobjektivs 1 die intrinsische Doppelbrechung kompensiert wird, werden verschiedene Begriffe verwendet, die nachfolgend definiert werden.
Zur Definition der Drehstellung eines optischen Elements wird auf eine "Bezugsrichtung" zurückgegriffen. Diese Bezugsrichtung steht auf der Zeichenebene der Figur senkrecht und zeigt auf den Betrachter zu.
Die Qualität der Kompensation im der Objektebene (2) benachbarten dioptrischen Teil (4) und im katadioptrischen Teil (5) wird durch einen "Interisitätsverlust" charakterisiert. Dabei handelt es sich um den maximalen Verlust der Intensität eines von der Objektebene ausgehenden Licht- bündeis zwischen der Objektebene 2 und der Bildebene 3, die von den jeweils betrachteten optischen Elementen verursacht wird.
Als weitere Kenngröße für die Qualität der Kompensation im der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Teil 4 und im katadioptrischen Teil 5 wird ein "antisymmetrischer Anteil" der Apodisierung verwendet. Dies Kenngröße ist definiert als der maximale Wert von
^nti = [I(V - I(- :- ]/2' wobei I (xp,' y Jp) die Intensität an einem Punkt in der
Pupille mit den Koordinaten x , y ist.
Die intrinsische Doppelbrechung in dem der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Teil 4 wird im wesentlichen mit folgenden Maßnahmen kompensiert :
Da der maximale Öffnungswinkel des vom Achspunkt ausgehenden Strahlenbündels in dem ersten dioptrischen Objektivteil 4 verhältnismäßig klein ist (beim konkret dargestellten Ausführungsbeispiel nur 8,3°), können sowohl die Lambda/ 4-Platte 8 als auch die Linse 9 aus (100) - oder aus (111) -Material mit beliebiger Drehposition zueinander hergestellt werden. Zur Minimierung der intrinsischen Doppelbrechung im ersten Prisma 7a der Strahlumlenkeinrichtung 7b gibt es zwei bevorzugte Möglichkeiten:
Aufgrund des von 90° abweichenden Umlenkwinkels zwischen dem der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Teil 4 und dem katadioptrischen Teil 5 des Projektionsobjektives 1 ist es nicht möglich, eine (100) -Kristallrichtung sowohl parallel zur optischen Achse 11 des dioptrischen Teiles 4 als auch parallel zur optischen Achse 12 des katadioptrischen Teils 5 auszurichten.
In einem ersten möglichen Kompromiss wird die kristallo- graphische Orientierung des ersten Prismas 7a der Strahl- umlenkeinrichtung 7 so gewählt, daß eine (100) -Kristallrichtung mit der optischen Achse (11) des dioptrischen Objektivteiles 4 denselben Winkel einschließt wie eine zweite (100) -Kristallrichtung mit der optischen Achse 12 des katadioptrischen Objektivteiles 5. In diesem Falle beträgt der Intensitätsverlust für das vom Achspunkt ausgehende
Strahlenbündel in der Bildebene 3 %, der nicht antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 0,68 %.
Alternativ ist es möglich, die (100) -Kristallrichtung parallel zur optischen Achse 12 des katadioptrischen Objektivteiles 5 zu legen. Dabei wird berücksichtigt, daß die aus dem dioptrischen Teil 4 des Projektionsobjektives 1 kommenden Lichtstrahlen das erste Prisma 7a nur ein Mal, die den katadioptrischen Teil 5 durchlaufenden Lichtstrahlen das erste Prisma 7a der Strahlumlenkeinrichtung 7 dagegen zwei Mal durchtreten. Die Veränderung der Intensität in der Bildebene 3 beträgt in diesem Falle 2, 15 %. Der nicht rotationssymmetrische Anteil der Apodisierung ist 0,04 . Diese zweite Lösung ist auch aus Material- gründen besser: Die beiden Prismen 7a und 7b können aus einem Würfel ohne Materialverluste ausgeschnitten werden.
Beide Lösungen sind dann äquivalent, wenn der Winkel zwischen der optischen Achse 11 des der Objektebene 2 benachbarten dioptrischen Teiles 4 und der optischen Achse 12 des katadioptrischen Teiles 5" anders als beim dargestellten Ausführungsbeispiel 90° beträgt.
Die Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung innerhalb des katadioptrischen Teiles 5 des Projektionsobjektives 1 gibt es erneut verschiedene Optionen.
Da der katadioptrische Teil 5 des Projektionsobjektives 1 nur verhältnismäßig wenig refraktive Elemente, insbeson- dere nur drei Linsen 13, 15, 16 enthält, ist es nicht möglich, entsprechend dem eingangs genannten Stand der Technik durch Zusammenfassung mehrerer entsprechend mit ihren Achsen orientierter Linsen zu Gruppen und gegenseitige Verdrehung innerhalb der Gruppen und der Gruppen gegeneinander zu einer sehr guten Kompensation der intri-. nsischen Doppelbrechung zu gelangen. Unter diesen erschwerten Bedingungen wird die Lösung unter Berücksichtigung des in dem jeweils betrachteten refraktiven Element vorherrschenden maximalen Öffnungswinkel gesucht .
Für die Kompensation der Meniskuslinsen 15, 16 des katadioptrischen Teils 5 gibt es verschiedene Möglichkeiten:
Beispiel 1 :
Die Achsen beider Linsen (15, 16) verlaufen in (110) -Richtung. Der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der einen Linse 15 und der Bezugsrichtung ist 0°, der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der anderen Linse 16 und der Bezugsrichtung ist 90°. Der dabei eintre- tende Intensitätsverlust ist 3,15%, der antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 0,62%.
Beispiel 2
Die Achsen beider Linsen (15, 16") verlaufen in (110) -Richtung. Der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der einen Linse 15 und der Bezugsrichtung ist 90°, der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der anderen Linse 16 und der Bezugsrichtung ist 0°. Der dabei eintretende Intensitätsverlust ist 3,02%, der antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 0,54%.
Beispiel 3 :
Die Achsen beider Linsen (15, 16) verlaufen in (111) -Richtung. Der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der einen Linse 15 und der Bezugsrichtung ist 0°, der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der anderen Linse 16 und der Bezugsrichtung ist 60°. Der dabei eintretende Intensitätsverlust ist 13,63%, der antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 5,95%.
Beispiel 4
Die Achsen beider Linsen (15, 16) verlaufen in (111) -Richtung. Der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der einen Linse 15 und der Bezugsrichtung ist 30°, der Drehwinkel zwischen der [1-10] -Kristallrichtung der anderen Linse 16 und der Bezugsrichtung ist 90°. Der dabei eintretende Intensitätsverlust ist 8,02%, der antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 3,21%.
Beispiel 5 Die Achsen beider Linsen (15, 16) verlaufen in (100) -Richtung. Der Drehwinkel zwischen der [010] -Kristallrichtung der einen Linse 15 und der Bezugsrichtung ist 0°, der Drehwinkel zwischen der [010] -Kristallrichtung der anderen Linse 16 und der Bezugsrichtung ist 45°. Der dabei eintretende Intensitätsverlust ist 11/36%, der antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 4,29%.
Beispiel 6
Die Achsen beider Linsen (15, 16) verlaufen in (100) -Richtung. Der Drehwinkel zwischen der [010] -Kristallrichtung der einen Linse 15 und der Bezugsrichtung ist 45°, der Drehwinkel zwischen der [010] -Kristallrichtung der anderen Linse 16 und der Bezugsrichtung ist 90°. Der dabei eintretende Intensitätsverlust ist 15,96%, der antisymmetrische Anteil der Apodisierung ist 6,52%.
In der ersten Meniskuslinse 13 des katadioptrischen Teils 5 ist der maximale Strahlöffungswinkel 14°. Erneut gibt es verschiedene Möglichkeiten, im Zusammenspiel mit den obigen Beispielen 1 bis 6 die störene Wirkung der durch diese Linse 13 bewirkten intrinsischen Doppelbrechung zu reduzieren:
Beispiel 6 :
Die Achse der Linse 13 liegt in der (100) -Kristallrichtung. Der Winkel, den die [010] -Kristallrichtung mit der Bezugs- richtung einschließt, beträgt 0°. Bei der in dem obigen Beispiel 2 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 2,43% sowie ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 0,60%. Bei der in dem obigen Beispiel 4 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 6,35% und ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 2,48%.
Beispiel 7 :
Die Achse der Linse 13 liegt in 'der (100) -Kristallrichtung. Der Winkel, den die [010] -Kristallrichtung mit der Bezugsrichtung einschließt, beträgt 45°. Bei der in dem obigen Beispiel 2 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von
2,30% sowie ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 0,60%. Bei der in dem obigen Beispiel 4 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 5,92% und ein anti- symmetrischer Anteil der Apodisierung von 2,21%.
Beispiel 8 :
Die Achse der Linse 13 liegt in der (111) -Kristallrichtung. Der Winkel, den die [1-10] -Kristallrichtung mit der Bezugsrichtung einschließt, beträgt 30°. Bei der in dem obigen Beispiel 2 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 3,63% sowie ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 1,20%. Bei der in dem obigen Beispiel 4 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 3,99% und ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 0,87%.
Beispiel 9:
Die Achse der Linse 13 liegt in der (111) -Kristallrichtung. Der Winkel, den die [1-10] -Kristallrichtung mit der Bezugsrichtung einschließt, beträgt 90°. Bei der in dem obigen Beispiel 2 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 4,83% sowie ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 1,99%. Bei der in dem obigen Beispiel 4 genannten Orientierung der Meniskuslinsen 15, 16 ergeben sich insgesamt ein Intensitätsverlust von 12,65% und ein antisymmetrischer Anteil der Apodisierung von 5,04%.
Die Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung innerhalb des zweiten Prismas 7b der Strahlumlenkeinrichtung 7 geschieht dadurch, daß die kristallographische (100)- Richtung parallel zur optischen Achse 12 des katadioptrischen Objektivteiles 5 gelegt wird.
Die Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung inner- halb des der Bildebene 3 benachbarten dioptrischen Objektivteiles 18 schließlich kann, da dort ausreichend refraktive optische Elemente zur Verfügung stehen, nach einem der im Stande der Technik ausführlich beschriebenen Verfahren stattfinden, beispielsweise durch den gleichzei- tigen Einsatz von Kalzium- und Bariümfluorid oder durch den gleichzeitigen Einsatz von gegeneinander verdrehten Linsen aus Fluoridkristall, deren Linsenachse in die (100)- oder in die (111) -Kristallrichtung weisen. Hierauf wird hier nicht näher eingegangen.

Claims

Patentansprüche
1. Katadioptrisches Projektionsobjektiv, insbesondere zur Verwendung in einer mikrolithographischen Pro- jektionsbelichtungsanlage, zum Abbilden eines in einer
Objektebene angeordneten Objekts in eine Bildebene mit
a) einem katadioptrischen Teil, der eine Mehrzahl refrak- tiver, zwei Mal von den Lichtstrahlen durchlaufener optischer Elemente und einen abbildenden Spiegel umfasst ;
b) einen der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil, der eine Mehrzahl ausschließlich refraktiver optischer Elemente umfasst;
c) einer Strahlumlenkeinrichtung,"" welche die von einem in der Objektebene befindlichen Objektpunkt ausgehenden Lichtstrahlen in den katadioptrischen Teil einleitet und eine polarisationssensitive reflektierende Schicht aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß
d) mindestens ein Teil der refraktiven optischen Elemente in dem katadioptrischen Teil (5) und in dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) aus einem Material besteht, das intrinsische Doppelbrechung aufweist,
e) durch Wahl der kristallographischen Orientierung des Materials und/oder des Materials und/oder Kompen- sationsbeschichtungen für mindestens einen Teil der doppelbrechenden refraktiven optischen Elemente der störende Teil der intrinsichen Doppelbrechung zumindest teilweise reduziert ist,
wobei
f) der katadioptrische Teil (5) und der dioptrische Teil (18) getrennt voneinander hinsichtlich der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert sind.
2. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, welches einen der Objektebene benachbarten dioptrischen Teil enthält, dadurch gekennzeichnet, daß der der Objektebene (2) benachbarte dioptrische Teil (4) getrennt von dem katadioptrischen Teil (5) und von dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) hinsichtlich der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert ist.
3. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 1, welches einen der Objektebene benachbarten dioptrischen Teil enthält, dadurch gekennzeichnet, daß der der Objektebene (2) benachbarte dioptrische Teil (4) und der katadioptrische Teil (5) gemeinsam, jedoch getrennt von dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) hinsichtlich der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert sind.
4. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die doppelbrechenden refraktiven optischen Elemente aus Fluorid, insbesondere Kalzium- oder Bariumfluorid, bestehen.
5. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische
Teil (5) zwei Linsen (15, 16) enthält, deren Achsen parallel zur (110) -Richtung verlaufen, wobei die [1-10] - Richtung der ersten Linse (15) einen Winkel von 0° und die [1-10] -Richtung der zweiten "Linse (16) einen Winkel von 90° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
6. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische
Teil (5) zwei Linsen (15, 16) enthält, deren Achsen parallel zur (110) -Richtung verlaufen, wobei die [1-10] - Richtung der ersten Linse (15) einen Winkel von 90° und die [1-10] -Richtung der zweiten Linse (16) einen Winkel von 0° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
7. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische
Teil (5) zwei Linsen (15, 16) enthält, deren Achsen parallel zur (111) -Richtung verlaufen, wobei die [1-10] - Richtung der ersten Linse (15) einen Winkel von 0° und die [1-10] -Richtung der zweiten Linse (16) einen Winkel von 60° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
8. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische
Teil (5) zwei Linsen (15, 16) enthält, deren Achsen parallel zur (111) -Richtung verlaufen, wobei die [1-10] - Richtung der ersten Linse (15) einen Winkel von 30° und die [1-10] -Richtung der zweiten Linse (16) einen Winkel von 90° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
9. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische
Teil (5) zwei Linsen (15, 16) enthält, deren Achsen parallel zur (100) -Richtung verlaufen, wobei die [010]- Richtung der ersten Linse (15) einen Winkel von 0° und die [010] -Richtung der zweiten Linse (16) einen Winkel von 45° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
10. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische
Teil (5) zwei Linsen (15, 16) enthält, deren Achsen parallel zur (100) -Richtung verlaufen, wobei die [010]- Richtung der ersten Linse (15) einen Winkel von 45° und die [010] -Richtung der zweiten Linse (16) einen Winkel von 90° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
11. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische Teil (5) eine weitere Linse (13) enthält, deren Achse parallel zur (100) -Richtung verläuft, wobei die [010] -Richtung der weiteren Linse (13) einen Winkel von 0° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
12. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische Teil (5) eine weitere Linse (13) enthält, deren Achse parallel zur (100) -Richtung verläuft, wobei die [010] -Richtung der weiteren Linse (13) einen Winkel von 45° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt.
13. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische Teil (5) eine weitere Linse (13) enthält, deren Achse parallel zur (111) -Richtung verläuft, wobei die [1-10] -Richtung der weiteren Linse (13) einen Winkel von 30° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrachter zeigt .
14. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der katadioptrische Teil (5) eine weitere Linse (13) enthält, deren Achse parallel zur (111) -Richtung verläuft, wobei die [1-10] -Richtung der weiteren Linse (13) einen Winkel von 90° mit einer Bezugsrichtung einschließt, die auf der Zeichenebene der Figur senkrecht steht und auf den Betrach- ter zeigt.
15. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in den refraktiven optischen Elementen (8, 9) des der Objektebene (2) benachbarten dioptrischen Teil (4) die
(100) -Richtung parallel zur optischen Achse (11) verläuft.
16. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlumlenkeinrichtung (7) aus zwei Prismen (7a, 7b) aus doppelbrechendem Material, insbesondere Fluorid, besteht, zwischen denen eine polarisationssensitive Strahlteilerschicht (10) als reflektierende Schicht angeordnet ist .
17. Katadioptrisches Projektions'objektiv nach Anspruch
16, dadurch gekennzeichnet, daß in dem dem katadioptrischen Teil (5) zugewandten Prisma (7a) die (100) -Richtung parallel zur optischen Achse (12) des katadioptrischen Teils (5) verläuft.
18. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß in dem dem katadioptrischen Teil (5) zugewandten Prisma (7a) eine (100)- Richtung mit der optischen Achse (11) des der Objektebene (2) benachbarten Objektivteils (4) denselben Winkel einschließt wie eine (100) -Richtung mit der optischen Achse (12) des katadioptrischen Teils (5) .
19. Katadioptrisches Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Prisma (7b) , welches dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) zugewandt ist, die (100)- Richtung parallel zur optischen Achse des katadioptrischen Teils (5) verläuft.
20. Verfahren zur Kompensation der intrinsischen Doppelbrechung in einem Projektionsobjektiv, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, welches aufweist:
a) einen katadioptrischen Teil, der eine Mehrzahl refrak- tiver, zwei Mal von der Lichtquelle durchlaufener optischer Elemente sowie einen abbildenden Spiegel umfasst; b) einen der Bildebene benachbarten dioptrischen Teil, der eine Mehrzahl ausschließlich refraktiver optischer Elemente umfasst ;
c) einer Strahlumlenkeinrichtuήg, welche die von einem in der Objektebene befindlichen Objektpunkt ausgehenden Lichtstrahlen in den katadioptrischen Teil einleitet und eine polarisationssensitive reflektie- rende Schicht aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß
d) der störende Einfluß der intrinsische Doppelbrechung durch Wahl der kristallographischen Orientierung des
Materials und/oder des Materials und/oder Kompensa- tionsbeschichtungen in mindestens einem Teil der doppelbrechenden refraktiven Elemente in dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) getrennt von dem katadioptrischen Teil (5) reduziert wird.
21. Verfahren nach Anspruch 20, bei welchem das Projektionsobjektiv zusätzlich einen der Objektebene be- nachbarten dioptrischen Teil aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß der der Objektebene (2) benachbarte dioptrische Teil (4) getrennt von dem katadioptrischen Teil (5) und von dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) hinsichtlich der intrinsischen Doppel- brechung kompensiert wird.
22. Verfahren nach Anspruch 20, bei welchem das Projektionsobjektiv zusätzlich einen der Objektebene benachbarten dioptrischen Teil aufweist, dadurch gekenn- zeichnet, daß der der Objektebene (2) benachbarte diop- trische Teil (4) und der katadioptrische Teil (5) gemeinsam, jedoch getrennt von dem der Bildebene (3) benachbarten dioptrischen Teil (18) hinsichtlich der intrinsischen Doppelbrechung kompensiert wird.
PCT/EP2003/007917 2002-09-09 2003-07-21 Katadioptrisches projektionsobjektiv sowie verfahren zur kompensation der intrinsischen doppelbrechung in einem solchen WO2004025349A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP03794838A EP1537449A1 (de) 2002-09-09 2003-07-21 Katadioptrisches projektionsobjektiv sowie verfahren zur kompensation der intrinsischen doppelbrechung in einem solchen
AU2003254550A AU2003254550A1 (en) 2002-09-09 2003-07-21 Catadioptric projection lens and method for compensating the intrinsic birefringence in a lens of this type

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US40925502P 2002-09-09 2002-09-09
US60/409,255 2002-09-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004025349A1 true WO2004025349A1 (de) 2004-03-25

Family

ID=31993957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2003/007917 WO2004025349A1 (de) 2002-09-09 2003-07-21 Katadioptrisches projektionsobjektiv sowie verfahren zur kompensation der intrinsischen doppelbrechung in einem solchen

Country Status (4)

Country Link
US (2) US20040227988A1 (de)
EP (1) EP1537449A1 (de)
AU (1) AU2003254550A1 (de)
WO (1) WO2004025349A1 (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040218271A1 (en) * 2001-07-18 2004-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Retardation element made from cubic crystal and an optical system therewith
WO2004063777A1 (en) * 2003-01-16 2004-07-29 Carl Zeiss Smt Ag Retardation plate
EP1614007A1 (de) * 2003-04-17 2006-01-11 Carl Zeiss SMT AG Optisches system, verfahren zum ändern der optischen verzögerung in diesem system und photolithographisches gerät
WO2008110501A1 (de) 2007-03-13 2008-09-18 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102018218064B4 (de) * 2018-10-22 2024-01-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030021026A1 (en) * 2001-07-18 2003-01-30 Allan Douglas C. Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures
WO2003027747A1 (en) * 2001-09-20 2003-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens
WO2003036361A1 (fr) * 2001-10-19 2003-05-01 Nikon Corporation Systeme optique de projection et appareil d'exposition possedant ledit systeme

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0964307A3 (de) * 1998-06-08 2001-09-05 Nikon Corporation Vorrichtung und Verfahren zur Projektionsbelichtung
DE50012452D1 (de) * 1999-12-29 2006-05-11 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen
US6683710B2 (en) * 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
US20030011893A1 (en) * 2001-06-20 2003-01-16 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus equipped with the optical system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030021026A1 (en) * 2001-07-18 2003-01-30 Allan Douglas C. Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures
WO2003027747A1 (en) * 2001-09-20 2003-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens
WO2003036361A1 (fr) * 2001-10-19 2003-05-01 Nikon Corporation Systeme optique de projection et appareil d'exposition possedant ledit systeme

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J BURNETT ET AL.: "Intrinsic birefringence in calcium fluoride forces optical engineers to use sopthisiticated design techniques for 157-nm lithography objectives", OE-MAGAZINE, March 2002 (2002-03-01), pages 1 - 3, XP002257384, Retrieved from the Internet <URL:oemagazine.com/fromTheMagazine/mar02/biref.html> [retrieved on 20031010] *
J.BURNETT ET AL.: "Intrinsic birefringence in calcium fluoride and barium fluoride", PHYSICAL REVIEW B, vol. 64, 29 November 2001 (2001-11-29), pages 241102-1 - 241102-4, XP002257383, Retrieved from the Internet <URL:http://physics.nist.gov/Divisions/Div842/Gp3/DUVMatChar/PDF/IntBiref.pdf> [retrieved on 20031010] *

Also Published As

Publication number Publication date
AU2003254550A1 (en) 2004-04-30
US20050270659A1 (en) 2005-12-08
EP1537449A1 (de) 2005-06-08
US20040227988A1 (en) 2004-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1343051B1 (de) Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit radial-polarisations-drehender optischer Anordnung
DE10123725A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren
EP1697797A2 (de) Polarisationsoptisch wirksame verzögerungsanordnung für eine projektionsbelichtungsanlage der mikrolithografie
DE3212809C2 (de) Meßeinrichtung für die Stabilisierung von Lasern
EP1258780A2 (de) Optisches Abbildungssystem mit Polarisationsmitteln und Quarzkristallplatte hierfür
DE102006030757A1 (de) Polarisationsoptimiertes Beleuchtungssystem
WO2005017620A2 (de) Beleuchtungseinrichtung sowie polarisator für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage
DE10133841A1 (de) Objektiv mit Kristall-Linsen
EP1474726A2 (de) Polarisationsoptimiertes beleuchtungssystem
DE10355725A1 (de) Optisches System sowie Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauteile
DE102008040058B4 (de) Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente
DE10210782A1 (de) Objektiv mit Kristall-Linsen
EP1532490B1 (de) Optisches abbildungssystem, insbesondere katadioptrisches reduktionsobjektiv
DE10113612A1 (de) Teilobjektiv in einem Beleuchtungssystem
EP1537449A1 (de) Katadioptrisches projektionsobjektiv sowie verfahren zur kompensation der intrinsischen doppelbrechung in einem solchen
EP1754111A1 (de) Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE19851749A1 (de) Polarisationsoptisch kompensiertes Objektiv
WO2004001480A2 (de) Katadioptrisches reduktionsobjektiv
DE102018218064B4 (de) Optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie
DE102017209162A1 (de) Retardierungselement, sowie optisches System
DE102012203947A1 (de) Optisches System einer Waferinspektionsanlage, sowie Verfahren zum Betreiben einer Waferinspektionsanlage
DE10127320A1 (de) Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen
EP1726994A2 (de) Lichtintegrator für ein Beleuchtungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE10338983A1 (de) Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie
DE102005023939A1 (de) Abbildungssystem, insbesondere Objektiv oder Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2003794838

Country of ref document: EP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 2003794838

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2003794838

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: JP