明 細 書 ヒドロキサム酸誘導体およびそれを有効成分とする MM P阻害剤 技術分野
本発明は、 マトリックスメタロプロティナーゼ(Matrix Metalloproteinases: 以下 MMPと略記する。 )阻害作用を有するヒドロキサム酸誘導体、 並びに該ヒ ドロキサム酸誘導体を有効成分として含有する医薬に関する。 背景技術
MMPは、 例えば生殖、 増殖および分化等の様々な生理学的過程において重要 な役割を演じる蛋白質分解酵素である。 正常な生理的条件下では多くの MMPの 機能は生体組織内に存在する MM PP且害物質 (Tissue inhibitor of
metalloproteinase: TIMPs)により制御されている。
MMPは、 活性中心に金属(例えば亜鉛)を有しており、 MMPサブフアミリー は現在、 18®H(MMP - 1, MMP - 2, MMP— 3, MMP— 7, MMP -8, MMP - 9, MMP— 10, MMP— 11, MMP - 12, MMP— 13, MMP— 14, MMP— 15, MMP— 16, MMP— 17, MMP— 19, M MP- 20, MMP - 23, MMP— 24 )が知られている。
近年、 MMPの機能が異常に亢進すると、 生体に存在する T IMP sでは制御 できなくなり、 種々の疾患の原因となることが判つてきた。 例えば、 慢性関節リ ゥマチや変形性関節症等の骨 ·軟骨系の疾患の場合、 MMPの異常亢進により、 関節軟骨の糖蛋白質やコラーゲンが減少する(J. Trzaskos, et al. , Acta Onthopaedica Scandinavica, 66, 150 (1995))。 また、 MMPは動脈硬化の発現 や血管形成術後の再狭窄にも重要な役割を示していると言われている( M.
Dollery et al., Cric Res., 77, 863 (1995))。 また、 MMPは乳癌組織をはじ めいくつかの癌組織において高度に発現していることが知られており、 癌の増 殖 ·転移において重要な役割を果たしてレヽる可能性が強く指摘されている Μ.
P. Freije et al. , Journal of Biological Chemistry, Vol.269, 16766 - 16773,
1994)。 また、 MMPは、 炎症を起こした歯茎から単離された繊維芽細胞中でも 観察されている(J. Periodontal Res. , 16, 417-424 (1981) ) 0
更に、 炎症性疾患の増悪因子である T N Fひを潜伏型から発現型へ変換する酵 素、 T N F変換酵素(TACE) (Nature, 370, 555-557 (1994) )、 ァグリカナーゼ等 も MM Pの範疇である。
中でも、 MMP—1 3は、 関節の軟骨の主要構成成分であるァグリカンを切断 するァグリカナーゼとともに、 関節に局在する酵素であり、 軟骨のもう一つの主 要構成成分である II型コラーゲンに対して強い分解活性を有する酵素である。 M MP - 1 3は変形性関節症患者の軟骨に過剰発現されることが示されている (Mitchell, et al. , J. Clin. Invest. , 97, 761 (1996))。 また、 この過剰発現 は骨関節炎ゃリユーマチ性関節炎の患者の関節においても認められる。 従って、 MMP - 1 3は軟骨や骨吸収に関わる因子とされ、 これらを阻害する薬剤を用い た治療は原因療法となり得ると考えられている。
従って、 MMP—1 3を阻害する化合物は、 変形性関節症' リウマチをはじめ とする関節炎や各種細胞の転移、 浸潤もしくは増殖抑制剤などの疾患の治療剤お よび予防剤として有用であると考えられる。
一方で、 変形性関節症および慢性関節リウマチの治療には、 非ステロイ ド性抗 炎症剤(N S A I D)が広く用いられている。 し力 しながら、 このような薬剤によ る治療方法は対症療法であり、 疾患の進展を抑制する原因療法に用いられるよう な薬剤治療が求められている。
以上のように、 MMPの機能亢進が種々の疾患の原因となっており、 その活性 を抑制する MMP阻害剤は、 上記疾患の治療、 および予防に有効であると考えら れている。
具体的な MMP阻害剤としては、 ヒドロキサム酸を有するァリ一ルスルホンァ ミド誘導体等が報告されている。
例えば、 W〇 9 7 / 2 7 1 7 4パンフレットには、 ct—アミノ酸のヒドロキサ ム酸誘導体が開示されている。 また、 W〇 9 9 / 5 1 5 7 2パンフレット、 また は U S P a t e n t 6 1 0 7 3 3 7には、 フエノキシフエニル部分構造を有 する α—アミノ酸のヒドロキサム酸誘導体が開示されている。
しかしながら、 これまでに 4— ( 4一アルキルスルホニルフエノキシ)フエニル スルホンアミドを部分構造に有する化合物は知られていない。
MMP阻害剤については、 種々の化合物について、 癌、 慢性関節リウマチ、 変 形性関節炎等について、 臨床試験が行われた。 し力 し、 これまでの MMP阻害剤 の臨床試験報告では、 これらの化合物の多くが被験者に骨格筋や関節に対する痛 みなどの副作用を引き起こすことが報告されている。
この原因としては、 MMP— 1や MMP— 1 4 (MT 1— MMP)等の MMP阻 害が注目されている(現代医療, 32, 931 (2000)、 蛋白質核酸酵素, 45, 1083 (2000))。 また、 MMPノックアウトマウスでは MMP— 9、 MMP— 1 4ノッ クアウトマウスにともに骨形成異常が認められた。 特に MMP— 1 4ノックァゥ トマウスでは、 生後の発育で、 コラーゲンの分解能の低下あるいは喪失による結 合組織の代謝不全を原因とする表現型が現れたと考えられている(Kenn Holmbedk et al. , Cell, 99, 81-92 (1999) ) 。 つまり、 骨 '軟骨組織の組織リモデリング の際にコラーゲンの分解活性の低下や喪失が起こっていることが示唆されており、 副作用への関与が大いに考えられる。
したがって、 上記副作用を持たない、 MMP阻害剤の開発が求められていた。 発明の開示
本発明は、 MMP— 3、 および/または、 MMP— 1 3を選択的に阻害する化 合物、 並びに MMP— 3、 および/または MMP— 1 3を選択的に阻害し、 副作 用の軽減された MMP阻害剤を有効成分する医薬を提供することにある。
本発明者らは、 MMP— 3および/または MMP— 1 3と、 MMP— 1 4およ ぴ MM P— 1との阻害選択性、 更に MM P— 2および/または MM P _ 9との阻 害選択性を検討することにより、 主薬効と副作用との分離を大きくし、 副作用を 軽減できるのではないかと考えた。 特に、 骨格筋や関節に対する副作用の原因は、 MMP— 1 4を阻害することにあると考え、 該 MMP— 1 4を阻害しなレ、、 MM P— 1 3選択的阻害剤を得るべく、 $意検討を行った。 その結果、 下記一般式 ( 1 )で示される 4— ( 4—アルキルスルホユルフェノキシ)フエ二ル基を有する新 規なヒドロキサム酸誘導体が優れた MM P - 1 3阻害活性を示す一方、 MMP—
9や MMP - 1 4の阻害活性が著しく低いことを見出した。
また、 後記一般式(2 )で示される化合物が MM P阻害剤として公知 (WO 0 0 / 6 3 1 9 7パンフレツト)であるが、 MMP— 1および MMP— 1 4に対して非 選択的であることを見出した。
本発明は以上の知見により完成するに至った。
なお本明細書において、 「MMP— 1および/または MMP— 1 4に対して非 選択的」 とは、 該 MM P— 1および Zまたは MM P— 1 4に対して阻害活性が著 しく低いか、 あるいは阻害活性を示さないことを意味する。 具体的には化合物の MMP - 1、 および Zまたは MM P— 1 4に対する阻害率(IC5。値)もしくは K i 値が、 MMP—1 3、 および/または MM P - 3に対する 5 0 %阻害率(IC5。値) もしくは K i値に比べて極めて小さいことを意味する。
「MMP— 1 4に対して非選択的」 とは、 好ましくは MMP— 1 4に対する I C5。値 ZMMP - 1 3に対する I C5。値比が 5 0、 より好ましくは 1 0 0、 更に 好ましくは 3 0 0以上である。
また、 「MMP _ 1に対して非選択的」 とは、 好ましくは MMP— 1に対する I C5。値/ MMP— 1 3に対する I C5。値比が 1 0 0、 より好ましくは 5 0 0、 更に好ましくは 1 0 0 0以上である。 発明を実施するための最良の形態
[式中、 R1および R2は、 互いに独立して水素原子、 置換もしくは無置換の低級 アルキル基、 または低級ハロアルキル基を表わすか、 あるいは R1および R2は互 いに結合して、 炭素数 2〜 7の直鎖アルキレン基を表わすか、 または式一(C H 2) m—Y_ (CH2) q—で表わされる基を表わし(ただし、 Yは一 O—、 一 NR5_、 —S—、 一S O—、 または一 S〇2—を表わし、 mおよび qは、 互いに独立して 1〜5の整数を表わし、 かつ、 mと qとの和が 2〜6であり、 そして R5は、 水 素原子、 置換もしくは無置換の低級アルキル基、 置換もしくは無置換の低級アル
キルカルボ二ル基、 置換もしくは無置換の低級アルコキシカルボニル基、 置換も しくは無置換の低級アルキルスルホニル基、 置換もしくは無置換のスルファモイ ル基または置換もしくは無置換の力ルバモイル基を表わす。 )、 Xは、 メチレン 基または NR3を表わし(ただし、 R3が水素原子、 または置換もしくは無置換の 低級アルキル基を表わすか、 あるいは R3は R1と一緒になつて、 それらが結合す る N原子と炭素原子と共に、 置換もしくは無置換のへテロシクロアルカンを形成 してもよレ、。 )、 そして R4は、 炭素数 1〜4の低級アルキル基を表わす。 ]で表 されるヒドロキサム酸誘導体、 その薬学的に許容される塩、 またはそのプロドラ ッグに関する。
本発明において、 低級アルキル基とは、 炭素数 1〜 5の飽和の直鎖もしくは分 枝のアルキル基を意味し、 例えばメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 1一メチル ェチル基、 ブチル基、 1 _メチルプロピル基、 2—メチルプロピル基、 1 , 1 - ジメチルェチル基、 ペンチル基、 2, 2—ジメチルプロピル基などが挙げられる。 低級アルコキシ基とは、 前記の低級アルキル基に酸素原子が結合した基を意味 し、 例えばメトキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 1 _メチルエトキシ基、 プ トキシ基、 1一メチルプロポキシ基、 2—メチルプロポキシ基、 1 , 1一ジメチ ルェトキシ基、 ペンチルォキシ基、 2, 2—ジメチルプロポキシ基などが挙げら れる。
低級アルキルチォ基とは、 前記の低級アルキル基に硫黄原子が結合した基を意 味し、 例えばメチルチオ基、 ェチルチオ基、 プロピルチォ基、 1一メチルェチル チォ基、 ブチルチオ基、 1一メチルプロピルチオ基、 2—メチルプロピルチオ基、 1 , 1 -ジメチルェチルチオ基、 ペンチルチオ基、 2 , 2—ジメチルプロピルチオ 基などが挙げられる。
低級アルキルスルフィニル基とは、 前記の低級アルキル基にスルフィ二ルが結 合した基を意味し、 例えばメチルスルフィ二ノレ基、 ェチルスルフィエル基、 プロ ピルスノレフィニル基、 1—メチル工チルスルフィニル基、 プチルスルフィニル基、 1—メチルプロピルスルフィ -ル基、 2—メチルプロピルスルフィニル基、 1, 1一ジメチルェチルスルフィ-ル基、 ペンチルスルフィニル基、 2, 2—ジメチ ルプロピルスルフィニル基などが挙げられる。
低級アルキルスルホ-ル基とは、 前記の低級アルキル基にスルホニルが結合し た基を意味し、 例えばメチルスルホニル基、 ェチルスルホニル基、 プロピルスル ホニル基、 1 -メチルェチルスルホニル基、 プチルスルホニル基、 1—メチルプ 口ピルスルホエル基、 2—メチルプロピルスルホニル基、 1, 1ージメチルェチ ルスルホニノレ基、 ペンチノレスルホニル基、 2, 2—ジメチルプロピルスルホニル 基などが挙げられる。
低級アルキルカルボニル基とは、 前記の低級アルキル基にカルボニルが結合し た基を意味し、 例えばァセチル基、 プロパノィル基、 ブタノィル基、 2 _メチル プロパノィル基、 ペンタノィル基、 2, 2—ジメチルプロパノィル基などが挙げ られる。
低級アルキルカルボニルォキシ基とは、 前記の低級アルキルカルボニル基に酸 素原子が結合した基を意味し、 例えばァセチルォキシ基、 プロパノィルォキシ基、 プタノィルォキシ基、 2—メチルプ口パノィルォキシ基、 ペンタノィルォキシ基、 2 , 2—ジメチルプロノ ノィルォキシ基などが挙げられる。
低級アルコキシカルボニル基とは、 前記の低級アルコキシ基にカルボ二ルが結 合した基を意味し、 例えばメ トキシカルボニル基、 エトキシカルボニル基、 プロ ポキシカルボニル基、 1ーメチルェトキシカルボニル基、 ブトキシカルボ二ノレ基、 1ーメチルプロポキシカルボニル基、 2—メチルプロポキシカルボニル基、 1, 1ージメチルェトキシカルボニル基、 ペンチルォキシカルボニル基、 2 , 2—ジ メチルプロポキシカルボニル基などが挙げられる。
ハロゲン原子とは、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 またはヨウ素原子を意 味し、 好ましくはフッ素原子または塩素原子、 特に好ましくは、 フッ素原子であ る。
低級ハロアルキル基とは、 1〜 5個のハロゲン原子で置換された前記低級アル キル基を意味し、 例えばトリフルォロメチル基、 ペンタフルォロェチル基、 ジフ ルォロメチル基、 2, 2 , 2—トリフルォロェチル基、 2, 2—ジフルォロェチル 基などが挙げられる。
低級ハロアルコキシ基としては、 1〜 5個のハロゲン原子で置換された前記低 級アルコキシ基を意味し、 例えばトリフルォロメ トキシ基、 ペンタフルォロエト
キシ基、 ジフルォロメ トキシ基、 2 , 2, 2—トリフノレオ口エトキシ基、 2 , 2 - ジフルォロエトキシ基などが挙げられる。
炭素数 2〜 7の直鎖アルキレン基としては、 エチレン、 n—プロピレン、 テト ラメチレン、 ペンタメチレン、 へキサメチレン、 ヘプタメチレンなどが挙げられ る。
低級シクロアルキル基としては、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロ ペンチル基、 シク口へキシル基などが拳げられる。
低級シクロアルコキシ基としては、 前記の低級シクロアルキル基に酸素原子が 結合した基を意味し、 例えばシクロプロポキシ基、 シクロブトキシ基、 シクロべ ンチルォキシ基、 シクロへキシルォキシ基などが挙げられる。
ヘテロシクロアルカンとしては、 少なくとも 1個の窒素原子を含み、 その他に 1個の窒素原子、 1個の酸素原子、 または 1個の硫黄原子を含む 4〜 7員のへテ 口シク口アル力ンが挙げられる。 該へテロシクロアル力ンが硫黄原子を含む場合、 該硫黄原子は 1または 2個の酸素原子で酸ィ匕されていてもよレ、。
該ヘテロシクロアルカンとしては、 ァゼチジン、 ピロリジン、 ピぺリジン、 ピ ペラジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 チオモルホリンォキシド、 チオモルホ リンジォキシド、 パーヒドロアゼピンなどが挙げられる。
ァリール基としては、 フエ-ル基、 ナフチル基などが挙げられる。
了リ一/レオキシ基とは、 前記のァリール基に酸素原子が結合した基を意味し、 フエノキシ基、 1一ナフトキシ基、 2 -ナフトキシ基などが挙げられる。
ァリ一ルチオ基とは、 前記のァリール基に硫黄原子が結合した基を意味する。 了リ一ルスルホニル基とは、 前記のァリール基にスルホニルが結合した基を意 味する。
ァリールカルボニル基とは、 前記のァリール基にカルボニルが結合した基を意 眛する。
ァリ一ルカルバモイル基とは、 前記のァリール基に力ルバモイルが結合した基 を意味する。 ' ヘテロァリール基とは、 環内に 0〜 3個の窒素原子、 0もしくは 1個の酸素原 子、 0もしくは 1個の硫黄原子から選ばれる、 1〜 3個のへテロ原子を含む、 単
環または 2環のへテロアリール基であり、 例えばフリル基、 チェニル基、 ピロリ ル基、 ァゼピニル基、ピラゾリル基、 イミダゾリル基、 ォキサゾリル基、 イソォ キサゾリル基、 チアゾリル基、 イソチアゾリル基、 1, 2, 4ーチアジアゾリル基、 1 , 2 , 4—ォキサジァゾリル基、 トリアゾリル基、チアジァゾリル基、ビラ二ル基、 ピリジル基、 ピリダジニル基、 ピリミジル基、 ピラジュル基、 インドリル基、 ベ ンゾチェニル基、 ベンゾフリル基、 キノリル基、 イソキノリル基、 キナゾリル基、 キノキサリニル基などが挙げられる。
ヘテロァリールォキシ基とは、 前記のへテロアリール基の、 任意の炭素原子に 酸素原子が結合した基を意味する。
ヘテロァリールチオ基とは、 前記のへテロアリール基の、 任意の炭素原子に硫 黄原子が結合した基を意味する。
ヘテロァリ一ルスルホニル基とは、 前記のへテロアリール基の、 任意の炭素原 子にスルホニルが結合した基を意味する。
ヘテロァリールカルボニル基とは、 前記のへテロアリール基の、 任意の炭素原 子に力ルポニルが結合した基を意味する。
ヘテロァリール力ルバモイル基とは、 前記のへテロアリール基の、 任意の炭素 原子に力ルバモイルが結合した基を意味する。
本発明における、 ァリール基、 ァリールォキシ基、 ァリールチオ基、 ァリール カルボニル基、 ァリール力ルバモイル基、 ァリ一ルスルホニル基、 ヘテロァリー ル基、 ヘテロァリールォキシ基、 ヘテロァリールチオ基、 ヘテロァリールカルボ ニル基、 ヘテロァリール力ルバモイル基、 およびへテロァリールスルホニル基が 置換されている場合、 同一または異なる、 1〜 3個の置換基で置換されていても よく、 該置換基としては、 以下の a )〜f )が挙げられる。
a ) ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基、 低級ハロアルキル基、 低級ハロアルコキシ基。
b ) 低級アルコキシ基、 低級アルキルチオ基、 低級アルキルスルフィニル基、 低級アルキルスルホニル基、 低級シクロアルキル基、 低級アルコキシカルボニル c ) — C O N R
uR
12、 - S O„N R
nR
12
[式中、 R
11および R
12は、 互いに独立して、 水素原子、 低級アルキル基、 低級ァ ルコキシ基で置換されてもよい低級アルキル基を表わす力 - N R
nR
12は、 下記 の構造群から選ばれる 1つの構造を意味する。
(式中、 q aは 1または 2の整数を表わし、 rは 0〜2の整数を表し、 tは 0〜
2の整数を表わし、 R15は、 低級アルキル基、 低級アルキルカルボエル基、 低級 アルキルスルホニル基、 または低級アルコキシカルボ二ル基を表わし、 R16は、 カルボキシ基、 水酸基、 低級アルコキシ基、 低級アルキルカルボニルォキシ基、 低級アルキルカルボニル基、 低級アルコキシカルボニル基、 または 1〜2個の低 級アルキル基で置換されていてもよいカルパモイル基を表わす。 ) ]
d ) _ N R13C O R14、 一 N R13 S 02R14。
(式中、 R13および R14は、 互いに独立して、 水素原子、 または低級アルキル基を 表わす。 )
e ) 一 NR17R18。
(式中、 R17は、 水素原子または低級アルキル基を表わし、 R18は、 水素原子、 低 級アルキル基、 低級アルキルカルボニル基、 低級アルコキシカルボニル基、 また は低級アルキルスルホ二ル基を表わす。 )
f ) 無置換の低級アルキル基、 または下記の 1〜 3個の置換基で置換された低 級アルキル基。
[該置換基とは、 低級アルコキシ基、 低級アルキルチオ基、 低級アルキルスルフ ィニル基、 低級アルキルスルホニル基、 低級アルキルカルボニル基、 低級アルコ キシカルボニル基、 低級アルキルカルボニルォキシ基、 シァノ基、 カルボキシ基、 水酸基、 一N R17R18 (式中、 R17および R18は、 前記と同義である。 ;)、 一C〇N R"R12、 一 S〇2NR"R12 (式中、 R11および R12は、 前記と同義である。 )、 一 N R13C〇R14、 または一 N R13 S 02R14(式中、 R13および R14は、 前記と同義であ る。 )である。 ]
本明細書において、 R1および R2における、 低級アルキル基が置換されている 場合、 同一または異なる置換基が 1または複数個置換していてもよく、 該置換基
としては、 ハロゲン原子、 水酸基、 シァノ基、 低級アルコキシ基、 低級アルキル チォ基、 低級アルキルスルフィニル基、 低級アルキルスルホニル基、 低級シクロ アルキル基、 置換もしくは無置換のァリール基、 置換もしくは無置換のへテロア リール基、 置換もしくは無置換のァリールォキシ基、 置換もしくは無置換のへテ ロアリールォキシ基、 置換もしくは無置換のァリールチオ基、 置換もしくは無置 換のヘテロァリ一ルチオ基、 置換もしくは無置換のァリールスルホ-ル基、 置換 もしくは無置換のへテロアリールスルホニル基、 一N R17R18 (式中、 R17および R18は、 前記と同義である。 )などが挙げられる。
R3における低級アルキル基が置換されている場合、 同一または異なる、 1〜3 個の置換基で置換されていてもよく、 該置換基としては、 以下の a )〜f )が挙げ られる。
a ) カルボキシ基、 水酸基、 低級ハロアルキル基、 低級ハロアルコキシ基、 シ ァノ基。
b ) 低級アルキルカルボニル基、 低級アルキルカルボニルォキシ基、 低級アル コキシカルボニル基。
c ) — C O N RuR12基、 — S 02NRuR12基、 — NH C O N RuR12基。
(式中、 R11および R12は、 前記と同義である。 )
d ) 一 NR13C O R14、 一 N R13 S〇2R14。
(式中、 R13および R14は、 前記と同義である。 )
e ) それぞれ、 置換もしくは無置換の、 ァリール基、 ヘテロァリール基、 ァリ ールォキシ基、 ヘテロァリールォキシ基、 ァリールチオ基、 ァリールカルボニル 基、 ヘテロァリールカルボニル基、 ヘテロァリールチオ基、 ァリールスルホニル 基、 ヘテロァリールスルホ-ル基。 (前記へテロアリールとして、 好ましくはフ リル、 およびチェニルが挙げられる。 )
f ) それぞれ、 同一または異なる 1〜 3個の置換基で置換されていてもよい、 低級アルコキシ基、 低級アルキルチオ基、 低級アルキルスルフィニル基、 低級ァ ルキノレス/レホニル基。
(上記 f )における基が置換されている場合の置換基としては、 置換もしくは無 置換のァリール基、 置換もしくは無置換のへテロアリール基、 低級アルコキシ基、
1もしくは 2の低級アルキル基で置換された力ルバモイル基、 および低級シク口 アルキル基で置換された力ルバモイル基が挙げられる。 ここで、 ヘテロァリール として、 好ましくはフリル、 およびチェニルが挙げられる。 )
R3が R 1と一緒になつてそれらが結合する N原子およぴ炭素原子と共に形成す るへテロシクロアルカンが置換されている場合、 同一または異なる 1〜4個の置 換基で置換されていてもよく、 該置換基としては、 以下の a )または b )が挙げら れる。
a )置換基が炭素原子に結合している場合:
水酸基、 カルポキシ基、 低級アルキル基、 低級アルコキシ基、 低級アルコキシ力 ルポ二ル基。
b )置換基が窒素原子に結合している場合:
それぞれ置換もしくは無置換の低級アルキル基、 低級アルコキシカルボニル基、 低級アルキルカルボ二ル基、 低級アルキルスルホニル基(この群の基における置 換基としては、 低級ァノレコキシ基、 置換もしくは無置換のァリール基、 置換もし くは無置換のへテロアリール基が挙げられる。 ) ;
それぞれ置換もしくは無置換のァリールカルボニル基、 ヘテロァリールカルボ ニル基、 ァリール力ルバモイル基 (置換基としては、 前記ァリール基における置 換基と同じものが挙げられる。 ) ;
一 C O N RuR12、 - S 02NRnR12
[ここで、 R
uおよび R
12は、 互いに独立して、 水素原子、 低級アルキル基、 低級 アルコキシ基で置換されてもよい低級アルキル基を表わすか、 - N R
UR
12は、 下 記の構造群から選ばれる 1個の構造を意味する。
(式中、 q a、 r、 t、 R15および R16は前記と同義である。 )
前記へテロアリール基およびへテロアリールカルボニル基におけるへテロアリ ールとして、 好ましくはフリルまたはチェニルが挙げられる。
あるいは、 該ヘテロシクロアルカンの隣り合う 2個の炭素原子上の 2個の置換 基が結合して、 それぞれ置換もしくは無置換のベンゼン環、 または単環の芳香族
5 ~ 6員へテ口環を形成していてもよい。 ここで単環の芳香族 5〜 6員へテ口環 としては、 1〜 2個の窒素原子、 1個の酸素原子、 1個の硫黄原子から選ばれる 1〜 2個のへテロ原子を含む単環の芳香族 5〜 6員へテロ環が挙げられる。 具体 的にはピリジン環、 ピリミジン環、 チォフェン環およびフラン環が挙げられる。 前記ベンゼン環、 およぴ単環の芳香族へテロ環の置換基としては、 前記ァリーノレ 基における置換基と同じものが挙げられる。
R 5における低級アルキル基、 低級アルキルカルボ二ル基、 低級アルコキシ力 ルポニル基、 低級アルキルスルホ-ル基が置換されている場合、 同一または異な る、 1〜 3個の置換基で置換されていてもよく、 該置換基としては、 低級アルコ キシ基、 低級シクロアルコキシ基およびァリールォキシ基が挙げられる。
R
5におけるカルパモイル基およびスルファモイル基が置換されている場合、 同一または異なる 1〜 2の置換基で置換されていてもよく、 該置換基としては、 低級アルキル基および低級アルコキシ基が挙げられる。 または、 2個の置換基が 隣接する窒素原子とともに結合して、 下記の構造群:
(式中、 q a、 r、 t、 R15および R16は前記と同義である。 )
力 ら選ばれる 1個の構造を形成していてもよい。
本発明において、 一般式( 1 )における R1および R2の好ましい態様の 1つは、 互いに同一の基を表わし、 水素原子、 または低級アルキル基である。 更に好まし くは、 水素原子、 または炭素数 1〜 3の低級アルキル基である。
R1および R2が互いに結合して炭素数 3〜 5のアルキレン基を表わす力 \ ある いは R1および R2が結合して一(C H2) m— Y _ (C H2) q—を表わし、 mと qが 共に 2を表わすのもまた、 好ましい態様である。 また、 前記において、 Yがー S —または一 O—であるものが好ましい。
Yがー N R5—を表わす場合、 R5における、 低級アルキル基、 低級アルキル力 ルポニル基、 低級アルキルスルホニル基、 または低級アルコキシカルポニル基の 置換基としては、 前記 R3における低級アルキルの置換基と同じものが挙げられ る。 また、 前記 R5における置換力ルバモイル基の置換基としては、 前記一C O
NRUR12における R11および R12と同じものが挙げられる。
また R1および R2のうちの一方が水素原子の場合、 他方はェチル基、 1—メチ ルェチル基、 プロピル基、 2—メチルプロピル基などの低級アルキル基である場 合も好ましい態様の 1つであり、 このときの R1および R 2が結合する炭素原子の 立体配置は、 D体が好ましい(なお、 本明細書において、 D体とは F i s h e r 投影法に基づく表記に従う。 )。
R3は、 好ましくは水素原子、 炭素数 1〜4の低級アルキル基、 またはカルボ キシ基、 フエニル基 (該フエ-ル基は低級アルキル基、 低級アルコキシ基または ハロゲン原子で置換されていてもよい。 )、 2—ピリジル基、 3—ピリジル基、 4—ピリジル基 (該ピリジル基は低級アルキル基で置換されていてもよい。 ) , 炭 素数 1〜 5の低級アルコキシカルボニル基および低級アルコキシ基からなる群か ら選ばれる基で置換された炭素数 1〜 4の低級アルキル基であり、 具体的には、 水素原子、 メチル、 ェチル、 ィソブチル、 メ トキシェチル、 ィソプロポキシェチ ル、 ェトキシェチル、 メ トキシプロピル、 カルボキシメチル、 カルボキシェチル、 低級アルコキシカルボニルェチル、 低級アルコキシカルボニルメチルなどである。 また、 R 3が R 1と一緒になつてそれらがそれぞれ結合する N原子と炭素原子と 共に形成するへテロシクロアルカンは、 好ましくは、 ピロリジン、 ピぺリジン、 チオモルホリン、 ピぺラジンおよびモルホリンである。 該ヘテロシクロアルカン 上の炭素原子が置換されている場合の置換基として、 好ましくはメチル、 ェチル、 イソプロピル等の低級アルキル基が挙げられ、 同一もしくは異なって、 置換基が 1〜 3個置換していてもよレ、。 該ヘテロシクロアルカン上の窒素原子が置換され ている場合の置換基として、 好ましくは、 それぞれフエニル等のァリール基、 ま たはピリジル等のへテロアリール基で置換されていてもよい低級アルキルカルボ 二ノレ基、 アルコキシカルボエル基、 ヘテロァリーノレカルボ二ノレ基、 ァリール力ノレ ボニル基、 _ C O NRuR12 (Ru、 R12は、 好ましくは水素原子、 低級アルキルで ある力 R11と R12が N原子と共に環を形成し、 モルホリン、 ピぺリジン、 ピロ リジン、 N—低級アルキル力ルボニルピペラジン、 N—低級アルキルピぺラジン、 ピぺラジンを意味する。 )が挙げられる。 特に好ましくは、 ベンジルォキシカル ボニル基、 メチノレ基、 ェチル基、 イソプロピル基、 ベンジル基、 モルホリノ力ノレ
ボニル基、 1一ピロリジニルカルボニル基、 1一ピぺリジニルカルポニル基、 力 ルバモイル基、 N, N—ジメチルカルバモイル基、 2—ピリジルカルボニル基、 3—ピリジルカルボニル基、 4—ピリジルカルボエル基、 ァセチル基、 プロピオ ニル基、 2—フリルカルボニル基、 2—チェニルカルボニル基、 メタンスノレホニ ル基、 イソプロピルスルホ二ノレ基、 ベンゾィル基、 2—メ トキシベンゾィル基、
3—メ トキシベンゾィル基、 4ーメ トキシベンゾィル基、 2—メ トキシェチル基、 2—エトキシェチル基などが挙げられる。
ここで、 R1が結合する炭素原子の立体配置は、 D体が好ましい。
R4は、 好ましくは炭素数 1〜 3の低級アルキル基であり、 更に好ましくはメ チル基である。
R 5は、 好ましくは水素原子、 炭素数 1〜 4の低級アルキル基、 または低級ァ ルコキシ基もしくは低級シク口アルキル基で置換された炭素数:!〜 4の低級アル キノレ基である。
一般式(1 )において、 R1および R2が、 互いに独立して水素原子、 または炭素 数:!〜 3の低級アルキル基であり、 Xが NR3 (該 R3がフエニル、 ピリジル、 炭 素数 1〜 5の低級アルコキシカルボニル、 カルボキシ、 または炭素数 1〜 5の低 級アルコキシで置換されていてもよい炭素数 1〜 3の低級アルキル基である。 ) であり、 そして R4がメチル基であるヒドロキサム酸誘導体が好ましい化合物で ある。
また一般式(1 )において、 R1および R2が一緒になつて、 炭素数 3〜4の直鎖 アルキレンを表わすか、 式一(C H2) 2— O—(C H2) 2—を表わし、 Xは N— R3で あり、 該 R3が炭素数 1〜 4の低級アルコキシ基で置換されていてもよ!/、炭素数 1〜4の低級アルキル基であるヒドロキサム酸誘導体も好ましい化合物である。 以下に、 本発明化合物(1 )の製造方法を示す。
(製造法 1 :原料の製法)
4— (4一低級アルキルスルホニルフエノキシ)フエニルスルホユルクロリ ド
(式中、 R 4は前記と同義であり、 E 1はヨウ素原子または臭素原子を表わす。 ) 工程 1 :
式(1— 1 )の化合物に対して、 有機金属試薬を反応させた後、 ジスルフイドを 作用させ、 式(1一 2 )の化合物に導くことができる。 ここで、有機金属試薬とし ては、 例えば、 n—プチノレリチウム、 sec—プチ リチウム、 tert-ブチ Λ ^チウ ム、 メチルリチウム、 フエニルリチウム等の有機リチウム 薬、 イソプロピルマ グネシゥムプロミ ド、 ジィソプロピルマグネシウム等の有機マグネシウム試薬な どが挙げられる。 ジスルフィ ドとしては、 メチルジスルフィ ド、 ェチルジスルフ ィ ド、 プロピルジスルフィ ド、 イソプロピルジスルフィド、 ァリルジスノレフィド などが挙げられる。
溶媒としては、 反応を阻害せず、 出発物質をある程度溶解するものであれば特 に限定されないが、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラヒドロ フラン、 ジォキサン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族 炭化水素類、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 またはそれ らの混合溶媒を挙げることができる。
反応温度は、 一 1 0 0でから室温で行われるが、 好ましくは一 7 8でから 0 DC である。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料および溶媒等の条件によつ て異なるが、 通常 3 0分間から 2 4時間であり、 好ましくは 1時間から 2 4時間 である。
工程 2 :
化合物 ( 1 - 2 )の化合物は、 酸化剤で酸化することにより化合物( 1— 3 )の化 合物に導くことができる。 ここで用いられる酸化剤としては O X O N E (登録商 標)、 過酸化水素、 メタクロ口過安息香酸、 過酢酸などが挙げられる。
溶媒は、 通常酸化反応に用いられる溶媒であれば特に限定されるものではない
力 例えばジクロロメタン、 ジクロロェタン等のハロゲン化炭化水素類、 酢酸メ チル、 酢酸ェチル等のエステノレ類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭 化水素類、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 メタノール、 エタノール、 イソプロパノール、 ブタノール等のアルコール類、 または水等が挙 げられる。 また、 これらの混合溶媒を用いることもできる。 反応温度は通常一 1 0 °Cから 4 0 °Cが好ましい。 反応時間は 3 0分から 2 4時間が好ましい。
工程 3 :
式(1—3 )の化合物は、 クロロスルホニル化反応によって、 式(1—4 )の化合 物へ導くことができる。 クロロスルホニル化剤としては、 クロ口硫酸を用いるこ とができ、 必要に応じて塩化チォ -ル共存下に反応を行うことができる。 該クロ ロスルホニルイ匕反応は、 通常無溶媒で行われる力 S、反応を阻害せず、 出発物質を ある程度溶解するものであれば適当な溶媒を用いることもできる。
具体的な溶媒としては、 ジクロロメタン、 ジクロロェタン等のハロゲン化炭化 水素類などを用いることができる。
(製造法 2 )
(2-4) (2-5)
(式中、 R R2 R4は前記と同義であり、 E2はメチル、 ェチル、 ベンジル、 tert—プチルなどのカルボン酸の保護基を表わし、 E3は水素原子、 トリメチル シリル基、 t一プチルジメチルシリル基、 t一ブチル基、 ァリル基、 ベンジル基 等のヒドロキサム酸の保護基を表わす。 )
工程 1 :
カルボニル基が保護された、 式(2— 1 )の化合物と式(1—4 )で表わされるァ リールスルホニルクロライドから、 塩基存在下または非存在下に、 式(2— 2 )の
化合物に導くことができる。
使用される溶媒としては、 反応を阻害せず、 出発物質をある程度溶解するもの であれば特に限定されないが、 好ましくは、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 四 塩化炭素、 ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 ジィ ソプロピルエーテル、 テトラヒ ドロフラン、 ジォキサン等のエーテル類、 N, N ージメチルホルムアミ ド、 N, N—ジメチルァセトアミ ド、 N-メチル -2-ピロリ ジノン、 1, 3 -ジメチル- 2 -イミダゾリジノン、 ジメチルスルホキシド等の非プ 口トン性極性溶媒、 ァセトニトリル等の二トリル類、 酢酸メチル、 酢酸ェチル等 のエステル類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 ペンタン、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 またはそれらの混合溶媒を挙げられ る。
使用できる塩基としては、 通常、 アミ ドィ匕の反応に使用されるものであれば、 特に限定されないが、 好ましくは、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァ ミン、 トリブチノレアミン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3.0]ノナ一 5—ェン(D BN)、 1, 4ージァザビシクロ [2.2.2]オクタン(DAB CO)、 1, 8—ジァ ザビシクロ [5.4.0]ゥンデ力一 7—ェン(DBU)、 ピリジン、 ジメチルァミノ ピリジン、 ピコリン、 N—メチルモルホリン(NMM)等の含窒素有機塩基類、 炭 酸水素ナトリゥム、 炭酸水素力リゥム、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リゥム等の無機 塩基類などが挙げられる。
反応温度は、 一 20°Cから 150°Cの範囲で行われるが、 好ましくは 0°Cから
60°Cである。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料および溶媒等の条件 によって異なる力 S、 通常 30分間から 48時間であり、 好ましくは 30分間から 24時間である。
工程 2 :
本工程は、 式(2— 2)の化合物のエステル基の脱保護により、 式(2— 3)の化 合物へと導く工程である。 本工程を実施するには、 プロテクティブ'グループ ス .イン 'オーカニック ·シンセシス (Protective Groups in Organic
Synthesis), グリーン著、 ジョン . ワイリー 'アンド .サンズ .インコーポレイ テツド(John Wiley & Sons Inc. ) ( 1981年)に記載されている方法が挙げられ
る。
具体的には、 例えば以下のような方法で実施される。
( 1 ) E2がメチル基、 ェチル基等の低級アルキル基の場合、 アル力リ加水分解、 または酸加水分解によってカルボン酸へと導くことができる。 すなわち、 水酸ィ匕 ナトリゥム、 水酸化力リゥム、 水酸化リチウム、 水酸化マグネシウム等のアル力 リ金属またはアル力リ土類金属の水酸ィ匕物の存在下、 水とともに、 反応に影響を 与えないような溶媒、 例えばメタノール、 エタノール、 イソプロパノール、 ブタ ノール等のアルコール類、 ジェチルエーテノレ、 ジイソプロピルェ一テル、 テトラ ヒ ドロフラン、 ジォキサン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の 芳香族炭化水素類の共存または非共存下において、 通常、 室温から加熱還流の温 度範囲で、 3 0分間から 2日間反応させることにより、 式(2— 3 )の化合物を得 ることができる。
¾口水分解においては、 硫酸、 塩酸等の鉱酸、 トリフロロ酢酸、 トリフロロメ タンスルホン酸等の有機酸存在下に、 水中で通常室温から加熱還流下に、 3 0分 から 2日間反応させることにより、 式(2— 3 )のィ匕合物を得ることができる。
( 2 ) E2がべンジル基の場合、 パラジウム Zカーボン、 水酸化パラジウム、 ニッ ケル等の遷移金属触媒の存在下、 必要ならばギ酸ァンモニゥム等を添加して、 水 素ガス雰囲気下で攪拌することにより、 式(2— 3 )の化合物へと導くことができ る。
この際溶媒としては、 メタノール、 エタノール、 ィソプロパノール、 ブタノー ル等のアルコール類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラヒ ド 口フラン、 ジォキサン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香 族炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸メチル等のエステル類、 またはそれらの混合溶 媒を用いることができる。
( 3 ) E2が tert-ブチル基の場合、 塩酸、 ギ酸、 パラトルエンスルホン酸、 酢酸 - 臭化水素酸、 トリフロロ酢酸等の酸、 または、 三フッ化ホウ素等のルイス酸を用 いて式(2— 3 )に導くことができる。 この際溶媒としてァセトニトリル、 ジォキ サンなどを用いることもできる。
工程 3 :
本工程は、 式(2— 3 )の化合物のカルボキシル基を活性ィ匕した後、 ヒドロキシ ルァミンまたは保護されたヒドロキシルァミンと反応させて行うことができる。 ここで、 保護されたヒドロキシルァミンとして適当なものは N, O—ビス(トリメ チルシリル)ヒドロキシルァミン、 O—(トリメチルシリノレ)ヒドロキシルァミン などが挙げられる。
カルボキシ基の活性化方法としては、 カルボキシ基を酸無水物法、 混合酸無水 物法、 酸ハロゲン化物法、 活性エステル法、 または酸アジド法へ導く方法などが 挙げられ、 好ましくは酸ハロゲン化物法または混合酸無水物法である。
酸ハロゲン化物法を用いるときは、 式(2— 3 )の化合物と、 例えばオギザニル クロリ ド、 塩化チォニル等のハロゲンィ匕試薬を反応させて酸ハロゲン化物を調製 した後、 塩基の存在下でヒドロキシルァミンまたは保護されたヒドロキシルアミ ンと反応させ、 式(2— 4 )を得ることができる。
ここで、 塩基としては特に限定されないが、 好ましくは、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 1, 5—ジァザビシク口 [ 4. 3 . 0 ]ノナー 5—ェン(D B N)ゝ 1, 4ージァザビシクロ [ 2. 2. 2 ]オクタン(D
A B C O)、 1, 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ]ゥンデカー 7—ェン(D B U)ヽ ピ リジン、 ジメチルァミノピリジン、 ピコリン、 N—メチルモルホリン(NMM)等 の含窒素有機塩基類、 炭酸水素ナトリウム、 炭酸水素力リウム、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リゥム、 水酸化ナトリゥム、 水酸化力リゥム等の無機塩基類などが挙げら れる。
溶媒としてはジクロロメタン、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 ジクロロェタン等 のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラ ヒドロフラン、 ジォキサン等のエーテ/レ類、 ベンゼン、 トノレェン、 キシレン等の 芳香族炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸メチル等のエステル類、 水、 またはそれら の混合物が挙げられる。
反応温度は、 _ 8 0 °Cから 1 5 0 °Cで行われ、 好ましくは、 通常一 2 0 °Cから 8 0 °Cである。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料おょぴ溶媒等の条件 によつて異な 、 通常 1 0分間から 4 8時間であり、 好ましくは 3 0分間から 2 4時間である。
混合酸無水法を用いる場合は、 式(2— 3)のィ匕合物を、 塩基の存在下、 酸ハロ ゲン化物と反応させることによつて混合酸無水物とした後、 ヒドロキシルァミン または保護されたヒドロキシルァミンと反応させ、 式(2— 4)のィ匕合物に導くこ とができる。 ここで、 酸ハロゲン化物としてはメ トキシカルボエルクロリ ド、 ェ トキシカルボニノレク口リ ド、 ィソプロピルォキシカノレボエルク口リ ド、 ィソプチ ノレォキシカルボユルクロリ ド、 パラニトロフエノキシ力ルポユルクロリ ド、 t一 ブチルカルポニルクロリ ドなどが挙げられる。 塩基としては特に限定されなレ、が、 好ましくは、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 トリプチルアミ ン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0]ノナー5—ェン(DBN)、 1, 4—ジァザ ビシクロ [2. 2. 2]オクタン(DABC〇)、 1 , 8一ジァザビシク口 [ 5. 4. 0 ] ゥンデ力一 7—ェン(DBU)、 ピリジン、 ジメチルァミノピリジン、 ピコリン、 N—メチルモルホリン(NMM)等の含窒素有機塩基類、 炭酸水素ナトリウム、 炭 酸水素力リゥム、 炭酸ナトリゥム、 炭酸力リゥム等の無機塩基類などが挙げられ る。
溶媒としては、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 ジクロロエタン 等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テト ラヒドロフラン、 ジォキサン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等 の芳香族炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸メチル等のエステル類、 またはそれらの 混合溶媒が用いられる。
反応温度は、 通常一 40°Cから 80°Cであるが、 好ましくは、 一 20°Cから 3
0°Cである。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料おょぴ溶媒等の条件に よつて異なるが、 通常 30分間から 48時間であり、 好ましくは 30分間から 2 4時間である。
また、 式(2— 3)の化合物と保護されたヒドロキシルァミンを、 脱水縮合剤、 および塩基存在下または非存在下に反応させ、 式(2— 4)の化合物に導くことも できる。
ここで縮合剤としては、 ジフエニルホスホリルアジド(D P P A)、 ジェチルホ スホリルシアニド(DEPC)、 ジシクロへキシルカルボジイミ ド(D C C )、 カル ボニルジィミダゾール(CD I )、 1ーェチルー 3—( 3—ジメチルァミノプロピ
P T/JP02/13580
21 ル)カルポジィミ ド ·塩酸塩(EDC · HC 1 )、 O—(1 H—べンゾトリァゾーノレ — 1一ィル)一 1, 1, 3, 3—テトラメチルーゥロニゥム テトラヒドロボレイト (TBTU)、 O—(1 H—べンゾトリァゾールー 1—ィル)一 N, N, N' , N' ーテ トラメチル一ゥ口-ゥム へキサフロロホスフェイト (HBTU)、 (ベンゾトリ ァゾールー 1一ィルォキシ)トリス(ジメチルァミノ)ホスホニゥムへキサフルォ 口ホスフェートなどを用いることができる。
溶媒は、 特に限定されず、 本工程の反応条件で反応しない溶媒であれば使用で きる。 具体的にはジクロロメタン、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 ジクロロェタン 等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テト ラヒドロフラン、 ジォキサン等のエーテノレ類、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等 の芳香族炭化水素類、 酢酸ェチル、 酢酸メチル等のエステル類、 N,N—ジメチ ルホルムアミ ド、 N, N—ジメチルァセトアミ ド、 N—メチルー 2—ピロリジノ ン、 1, 3—ジメチルー 2—イミダゾリジノン、 ジメチルスルホキシド等の非プ 口トン性極十生溶媒、 水、 またはそれらの混合溶媒が用いられる。
塩基としては特に限定されないが、 好ましくは、 トリェチルァミン、 ジイソプ 口ピルェチルァミン、 トリブチルァミン、 1, 5—ジァザビシクロ [4.3.0]ノ ナ一 5—ェン(DBN)、 1, 4ージァザビシクロ [2.2.2]オクタン(DABC 0)、 1, 8—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデ力一 7—ェン(DBU)、 ピリジン、 ジメチルァミノピリジン、 ピコリン、 N—メチルモルホリン(NMM)等の含窒素 有機塩基類が挙げられる。
反応は、 通常一 10°Cから加熱還流下で行われるが、 一 20°Cから 80°Cで行 うことが好ましい。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料、 および溶媒等 の条件によって異なるが、 通常 30分間から 48時間であり、 好ましくは、 30 分間から 24時間である。
その他、 カルボン酸の活性化方法は、 WO 00/63197パンフレツト、
Comprehensive Organic Transformation (Larock, R. し., VCH Publishers, Inc. 1989)等に記載の方法に準じて実施される。
工程 4:
化合物(2— 4)において E 3がヒドロキサム酸の保護基を表わす場合、 本工程
により、 脱保護することによって式(2— 5 )の化合物へ導くことができる。 脱保 護方法としては、 それぞれの保護基に応じて、 プロテクティブ'グループス ·ィ ン ·オーカニック · 、ノンセンス (Protective Groups in Organic iyntnesis)、 グ リーン著、 ジョン 'ワイリー .アンド ·サンズ ·ィンコーポレイテッド (John Wiley & Sons Inc. ) ( 1 9 8 1年)に記載されている方法などが用いることができ る。 具体的には、 以下のような例を挙げることができる。 すなわち、 E3が t 一 プチルである場合は、 トリフルォロ酢酸または塩酸など強酸による処理、 E3が ベンジルである場合は、 パラジウム/カーボンを用いた水素化分解、 E3がァリル である場合は、 触媒としての塩ィ匕ビス(トリフエニルホスフィン)パラジウム(I I )の存在下で、 水素化トリプチルスズおよび酢酸による処理などが挙げられる。 また、 E3がトリメチルシリル基、 もしくは t—プチルジメチルシリル基である 場合は、 希塩酸等の酸性水溶液で処理することができる。
工程 5 :
式(2— 2 )の化合物は、 ヒドロキシルァミンと反応させることによって、 式 ( 2— 5 )の化合物へ導くことができる。
例えば、 ヒドロキシルァミン塩酸塩を、 エタノール、 プロパノ -ル、 メタノー ル等のアルコ一ル系溶媒中、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リウム、 ナトリウムメ トキシド、 ナトリウムエトキシド、 t-ブトキシカリウム等の塩基で処理すること によって、 遊離のヒドロキシルァミン溶液を調製し、 式(2— 2 )の化合物と反応 させる方法が挙げられる。
ここで、 反応温度は、 通常室温から 1 5 0 °Cである。 反応時間は、 主に反応温 度、 使用される原料および溶媒等の条件によって異なるが、 通常 1 0分間から 4 8時間であり、 好ましくは、 3 0分間から 2 4時間である。 該方法については W O 0 0 / 6 3 1 9 7パンフレットに記載されている。
(式中、 R R2、 R3および E2は前記と同義であり、 E4は塩素原子、 臭素原子ま たはヨウ素原子を表わす。 ) .
工程 1 :
式(3— 1 )の化合物と、 R3_ NH2もしくはその塩とを、 塩基存在下または非 存在下に反応させ、 式(3— 2 )の化合物に導くことができる。
ここで用いる塩基としては特に限定されないが、 好適には、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 トリブチノレアミン、 N—メチノレモノレホリン(NM M)等の含窒素有機塩基類が挙げられる。
溶媒としては、 メタノール、 エタノール、 ィソプロパノール、 ブタノール等の アルコール類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラヒドロフラ ン、 ジォキサン等のエーテル類、 および、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N,N 一ジメチノレアセトアミド、 N-メチル- 2 -ピロリジノン、 1 , 3—ジメチノレ- 2 -ィ ミダゾリジノン、 ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好ましい。 反応温度は、 一 1 0 から加熱還流下で行われるが、 好ましくは 0 から 8 o °cである。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料および溶媒等の条件に よつて異なるが、 通常 1時間から 4 8時間であり、 好ましくは 1時間から 2 4時 間である。
工程 2: - 工程 1と同様の方法で、 式(2— 1 )の化合物と、 R3—C 1、 R3_ B r、 また は R3— I等を用いて、 式(3— 2 )の化合物を得ることができる。
あるいは、 式(2— 1 )の化合物と、 アルデヒドまたはケトンから調製したィミ ンに対して、 ソディゥムシァノポロヒドリ ドゃソディゥムトリァセトキシボロヒ ドリドなどのヒドリ ド還元剤を反応させて、 式(3— 2 )の化合物に導くことがで
きる。
ここで、 溶媒としては酢酸、 プロパン酸等の有機酸、 エタノール、 メタノール などのアルコール、 ジクロロメタン、 ジクロロェタン等のハロゲン化炭化水素類、 ァセトニトリノレ等を用いることができる。
反応温度は、 一 1 0 °Cから加熱還流下で行われるが、 好ましくは 0 °Cから 5 0 °Cである。 反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料および溶媒等の条件に よつて異なるが、 通常 1時間から 4 8時間であり、 好ましくは 1時間から 2 4時 間である。
式(3— 2 )の化合物は、 製造例 2と同様の方法で、 本発明の化合物へ導くこと ができる。
(式中、 R R2 R3、 R4および E2は前記と同義である。 )
工程 1 :
式(2— 2 )の化合物に対して塩基を作用させた後、 R3— C l、 R3— B r、 R3 — I等のハロゲンィ匕物と反応させることにより、 式(4一 1 )に導くことができる。 ここで、 塩基としては炭酸力リゥム、 炭酸ナトリゥム等の無機塩基、 水素化ナ トリウム、 水素化リチウム等の水素化金属、 力リゥムへキサメチルジシラジド、 ナトリウムへキサメチルジシラジド、 ジイソプロピルアミドなどを用いることが できる。
溶媒としては、 ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テトラヒドロフ ラン、 ジォキサン等のエーテル類、 および、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミド、 N—メチル一2—ピロリジノン、 1, 3 -ジメチルー 2—イミダゾリジノン、 ジメチルスルホキシド等の極性溶媒が好ましい。
反応時間は、 主に反応温度、 使用される原料および溶媒等の条件によって異な るが、 好ましくは室温から加熱還流化下で、 3 0分間から 7 2時間撹拌すること ができる。
式(4—1 )の化合物は、 製造法 2と同様の方法で、 本発明の化合物へ導く と ができる。
(製造法 5 )
工程 1
►
(5-1)
(式中、 R R2および E2は前記と同義であり、 E5は、 E2と異なる方法で脱保護 可能なエステルの保護基を表し、 R51およぴ R52はそれぞれ前記 R11および R12と 同義であるか、 R11および R12に誘導可能な基を表わし、 wは 1〜 5の整数を意 味する。 )
工程 1 :
式(5— 1 )の化合物は、 製造法 3に記載された方法で製造することができる。 式(5— 1 )の化合物は、 製造法 2に示した方法を用いて式(5— 2 )の化合物へ導 くことができる。 ただし、 脱保護方法は、 エステル E2が脱保護されない条件を 選択する。 例えば、 E2がェチル基を表わし、 E 5がベンジル基を表わす場合、 接 触還元を用いて選択的に E5のみ脱保護することができる。 該方法については、 プロテクティブ · グループス ·イン 'オーガ二ック · シンセシス (Protective
Groups in Organic Synthesis) , グリーン著ヽ ジョン - ワイリー ·アンド -サン ズ ·インコーポレイテツド(John Wiley & Sons Inc. ) ( 1 9 8 1年)に記載されて いる。
工程 2 :
式(5— 3 )の化合物は、 式(5— 2 )のィ匕合物を塩基存在下、 混合酸無水物とし た後、ァミン: R51R52NHと反応させ、 式(5— 3 )のィ匕合物へ導くことができる。 混合酸無水物を用レヽた脱水縮合反応は、 製造法 2に示した方法で行うことができ
る。
あるいは、 式(5— 2 )の化合物に対して適切な縮合剤存在下に、 不活性溶媒中、 塩基を用いて、 ァミン: R51R52NHを通常 0 °Cから室温で 1時間から 4 8時間 反応させることにより、 式(5— 3 )の化合物に導くこともできる。
ここで縮合剤としては、 実験化学講座 (日本化学会編、 丸善) 2 2巻に表記され ているものなどが挙げられる。 例えば、 シァノリン酸ジェチル、 ジフエニルホス ホリルアジド等のリン酸エステル類、 1ーェチルー 3—( 3—ジメチルァミノブ 口ピル) -カルポジイミド '塩酸塩、 ジシクロへキシルカルポジイミド等のカルボ ジィミ ド類、 2, 2 ' —ジピリジルジスルフィ ド等のジスルフィ ド類とトリフエ 二ノレホスフィンのようなホスフィンの組合わせ、 N,N, 一ビス(2—才キソ一 3 一ォキサゾリジニル)ホスフィニッククロリ ド等のリンハラィド類、 ァゾジカル ボン酸ジェチル等のァゾジカルボン酸ジエステルとトリフエ二ノレホスフィン等の ホスフィンの組み合わせ、 2—クロロー 1ーメチルピリジニゥムョーダイド等の 2—ハロー 1 _低級アルキルピリジニゥムハライド類、 1 , 1, 一カルボ-ルジ イミダゾールなどが挙げられる。
不活性溶媒とは、 例えばテトラヒドロフラン、 ジェチルェ一テル、 ジォキサン、 1 , 2—ジメ トキシェタン等のエーテノレ類、 へキサン、 ヘプタン、 トノレェン、 ベ ンゼン、 キシレン等の炭化水素類、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 1 , 2—ジ クロロェタン等のハロゲンィ匕炭化水素類、 アセトン等のケトン類、 ァセトニトリ ル、 N, N—ジメチルホルムアミ ド、 N—メチルー 2—ピロリジノン、 1, 3—ジ メチル _ 2—イミダゾリジノン、 ジメチルスルホキシド、 へキサメチレンホスホ アミ ド等の極性有機溶媒、 またはこれらの混合溶媒等である。
塩基とは、 通常の反応において塩基として使用されるものであれば特に限定さ れないが、 例えば N—メチルモルホリン、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェ チノレアミン、 トリブチノレアミン、 D B U、 D B N、 D AB C〇、 ピリジン、 ジメ チルァミノピリジン、 ピコリン等の含窒素有機塩基類、 炭酸水素ナトリウム、 炭 酸水素力リゥム、 炭酸ナトリゥム、 炭酸力リゥム等の無機塩基類などである。 式(5— 3 )の化合物は、 製造法 2に記載された方法を用いて、 本発明の化合物 ( 1 )へ導くことができる。
(製造法 6 )
(式中、 R R2、 R4、 w、 E2および E5は前記と同義である。 )
工程 1 :
式( 6 _ 1 )の化合物は、 製造法 3に記載された方法を用いて製造することがで きる。 式(6— 1 )の化合物は、 製造法 2に示した方法を用いて式(6— 2 )の化合 物へ導くことができる。 ただし、 脱保護方法は、 エステル E5が脱保護されない 条件を選択する。 例えば、 E5がェチル基を表し、 E2がベンジル基を表わす場合、 接触還元を用いて選択的に E2のみ脱保護することができる。 該方法については、 プロテクティブ ·グループス 'イン 'オーガニック ·シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)、 ク ])ーン著、 v" aン ·ワイリ一 ·了、ノ K ·サン ズ.インコーポレイテツド(John Wiley & Sons Inc. ) ( 1 9 8 1年)に記載されて いる。 式(6— 2 )の化合物は、 製造法 2に記載された方法で、 本発明の化合物 ( 1 )へと導くことができる。 すなわち、 一 C O O E2基をヒドロキサム酸へ変換 することができる。 更に、 E5を脱保護し、 カルボキシ基へ変換することも可能 でめる。
(製造法 7 )
(式中、 R R2、 R4、 w、 E1および E2は前記と同義であり、 E6は、 tーブチ ルジメチルシリル基等の水酸基の保護基、 または置換されていてもよい低級アル キル基もしくは低級ハ口アルキル基を表わす。 )
工程 1 :
式(7— 1 )の化合物は、 製造法 2に記載された方法で、 製造すること'ができる。 式( 7— 1 )の化合物と式( 7— 2 )の化合物を、 製造法 3に記載された方法で反応 させることにより、 式(7— 3 )の化合物を製造することができる。
工程 2 :
E 6が水酸基の保護基の場合、 式(7— 3 )の化合物は、 E6を脱保護して、 アル コール体とした後、 水酸基を酸ィ匕することによって、 式(7— 4 )の化合物へ導く ことができる。
具体的には、 例えば E6が t一プチルジメチルシリル基である時、 三フッ化ホウ 素エーテル錯体を塩化メチレン、 クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒中で、 0 °Cから室温で、 約 1 5分から 6時間反応させて E6を脱保護し、中間体アルコー ルを形成させることができる。 次いでアセトン溶媒中、ジヨーンズ試薬を 0でか
ら室温で 1 5分から 3 0分間作用させることによって、 式(7— 4 )の化合物に導 くことができる。
式( 7— 4 )の化合物のカルボキシル基を適当な保護基で保護した後、 製造法 5 または 6に記載された方法を用いて、 本発明の化合物 ( 1 )を製造することができ る。 また、 式(7— 3 )の化合物より製造法 2と同様の方法を用いて、 エステル部 分をヒドロキサム酸へと変換し、 本発明の化合物(1 )へと導くことができる。 (製造法 8 )
(8-7) (8-8)
(式中、 mおよび nは前記と同義であり、 Y 3は _ C H 2— O—、 一N R 5—また は一 s o2—を表す。 )
工程 1 :
還元剤により式( 8— 1 )の化合物から式( 8 _ 2 )の化合物に導く工程である。 効果的な方法としては、 一方のエステル基のみをアルデヒドに還元し、更にアル コールまで還元する方法である。 一 2 0 °C以下の温度(好適には- 40°Cから- 20°C) にある( 8— 1 )の不活性溶媒溶液 (好適にはトルエンなど不活性芳香族溶媒)に適 度に弱い還元剤 (水素化ジィソプロピルアルミニウムなど)を作用させた後、メタ ノール、 エタノールなどを添加する。 更に、 水素化ホウ素ナトリゥムを加えて室 温まで昇温させることで、 (8— 2 )に導くことができる。
工程 2 :
エステルの加水分解工程である。 メタノール等のアルコール類と水の共溶媒中 の式(8— 2 )の化合物に、 必要であればテトラヒ ドロフラン等のエーテル類を添 加し,これに水酸化リチウムや水酸化ナトリゥム等の塩基を加えて、 5 0 °Cから 加熱還流下の温度で行うことができる。 これを酸性条件で処理することで式( 8 —3 )の化合物に導くことができる。
工程 3 :
式(8— 3 )の化合物に対して、 適当な脱水剤を作用させてラタトン体:式(8 - )の化合物に導く工程である。
ジェチルエーテル等の不活性溶媒中の式( 8— 3 )の化合物に対して、 塩基とし てトリェチルァミンなどの第 3級アミン存在下に、 トリフロロメタンスルホン酸 無水物ゃメタンスルホン酸無水物などの脱水剤を作用させる方法が挙げられる。 反応温度は氷冷下から室温が好ましく、 反応時間は通常 3 0分間から 1日間であ る。
工程 4 :
ラタトン:式(8— 4 )の化合物にチオール:式(8— 5 )の化合物のァニオンを 作用させ、式( 8— 6 )の化合物に導く工程である。
氷冷下から室温にあるジメチルホルムァミド等の非プロトン性極性溶媒ゃテト ラヒドロフラン等のエーテル中の式(8 _ 5 )の化合物に対して水素化ナトリウム や水素化カリウムなどの塩基を作用させる。 これに対して、 式(8—4 )の化合物 を加えることにより式(8— 6 )の化合物に導くことができる。
ラクトンを作用させる温度としては 0 °Cから 6 0 °Cが好ましく、 反応時間は通 常 3 0分から 1 2時間である。
工程 5 :
カルボン酸:式(8— 6 )の化合物からヒドロキサム酸:式(8— 7 )の化合物に 導く工程である。 該工程は製造法 2の工程 3と同様にして行うことができる。 好 ましくは酸ハロゲンィ匕法を用いる。
工程 6 :
スルフィド:式(8— 7 )の化合物から、 スルホン:式(8— 8 )の化合物への酸 化工程である。 該工程は製造法 1の工程 2と同様にして行うことができる。
(式中、 Y1は単結合、 ン、 酸素原子または硫黄原子を表し、 R 4および E2 は前記と同義である。 )
式(9一 1 )の化合物を原料に用いて、 製造法 2と同様にして、 式(9— 2 )の化 合物を合成することができる .で、 式(9— 1 )の化合物は、 公知の方法を用 いて製造することができる。
(製造法 1 0 )
工程 2
(式中、 R 4および E2は前記と同義であり、 E6は E2と異なる方法で脱保護可能な ァミノ基の保護基を表わす。 )
工程 1 :
式(1 0— 1 )を原料に用い、 製造法 2と同様にして、 式(1 0— 5 )の化合物を 合成することができる。 E 6がァミノ基の保護基を表す場合、 E6と E2の組み合わ せとしては、 例えば、ペンジル基とメチル基など低級アルキル基との組み合わせ、 t -ブトキシカルボニル基とメチル基など低級アルキル基との組合わせなどである 式( 1 0— 1 )の化合物は市販品を用いる力、 公知の方法で調製することができる 工程 2 :
前記プロテクティブ ·グループス 'イン 'オーガニック · シンセシス
(Protective Groups in Organic Synthesis)、 クリーン着、 シヨン ' シイリ一 · アンド 'サンズ ·ィンコーポレイテッド(John Wiley & Sons Inc. ) ( 1 9 8 1年) に記載された方法を用いて、 式(1 0— 2 )の化合物を脱保護することができる。 (製造法 1 1 )
(式中、 R4、 E2および E6は前記と同義であり、 R53は式(1 )において R3と が 一緒になつて形成するへテロシクロアルカンの置換基を表わす。 )
工程 1 :
製造法 1 0と同様にして合成した式(1 1 _ 1 )の化合物の保護基を脱保護する ことにより、 式(1 1— 2 )の化合物を合成することができる。 ここで脱保護条件 は、 エステルの保護基 E2が反応しなければ特に限定されない。 例えば、 E2がメ チル基、 ェチル基などの低級アルキル基で、 E 6がべンジルのとき、 製造法 2の 工程 2 ( 2 )に記載された方法を用いることができる。 また、 E6が t—プチルの場 合、 製造法 2の工程 2 ( 3 )に記載された方法を用いることができる。
工程 2 :
(R53が低級アルキルカルボ-ル基、 低級ァリールカルボ二ル基、 低級アルコキ シカルボニル基、 低級アルキルスルホニル基、 低級ァリールスルホニル基等で表 される場合)
不活性溶媒中、 トリェチルァミンなどの 3級ァミン、 ピリジンなどの含窒素塩 基または炭酸カリウム等の塩基存在下に、 ァシルクロリ ドなどァシルハライドを 式(1 1— 2 )の化合物に作用させる方法が挙げられる。 ここで、不活性溶媒とし てはジクロ口メタンなどハロゲン化炭化水素類、 テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類が好ましレ、。 反応温度は 0 から加熱還流下で行うことができ、 0 °cから室 温が好ましい。 また、 カルボン酸を用いたときには、 (製造法 5 )—工程 2と同様 にして合成することができる。
(R53が低級アルキル力ルバモイル基等で表される場合)
式( 1 1一 2 )の化合物に対してィソシァネートを必要ならば、 トリェチルアミ ンなどの 3級ァミン、 ピリジンなどの含窒素塩基、 不活性溶媒存在下に作用させ る方法が挙げられる。 または、 式(1 1— 2 )の化合物に対して、 不活性溶媒中、 クロ口ギ酸 4 -ニトロフエニルゃホスゲンなどを 3級ァミン存在下に反応させた 後、 1級または 2級のアミンを作用させる方法が挙げられる。 不活性溶媒として はジクロ口メタン等のハロゲン化炭化水素類、 テトラヒドロフラン等のエーテル 類、 トルエン等の芳香族炭化水素類が好ましい。 反応温度は o °cから加熱還流下 であり、 室温から加熱還流下が好ましい。
(R53が置換もしくは無置換の低級アルキル基等で表される場合)
製造法 3と同様の方法で合成することができる。
工程 3 :
製造法 2と同様の方法で合成することができる。
上記において説明した製造法において、 反応点以外の何れかの官能基が説明し た反応条件下で変化するか、 または説明した方法を実施するのに不適切な場合は、 反応点以外を保護し、 反応させた後、 脱保護することにより目的化合物を得るこ とができる。 保護基としては、 例えばプロテクティブ ·グループス 'イン ·ォ一 ガニック · シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis) グリーン著、 ジョン · ワイリー 'アンド ·サンズ ·ィンコーポレイテツド(John Wiley & Sons Inc. ) ( 1 9 8 1年)等に記載されているような通常の保護基を用いることができ、 更に具体的には、 ァミンの保護基としてはエトキシカルボニル、 t—ブトキシカ ルボニル、 ァセチル、 ベンジル等を、 また水酸基の保護基としてはトリ低級アル キルシリル、 ァセチル、 ベンジル等を挙げることができる。
保護基の導入および脱離は、 有機合成化学で常用される方法 [例えば、 上記の プロテクティブ . グノレープス 'イン 'オーガニック · シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis) 参照]、 あるいはそれらに準じた方法により行う
02 13580
34 ことができる。
また、 上記製造方法における、 中間体、 または最終生成物は、 その官能基を適 宜変換することによって、 本発明に含まれる別の化合物へ導くこともできる。 官 能基の変換は、 通常行われる一般的方法 [例えば、 コンプリへンシブ ·オーガ二 ック ' トフンスフォーメーションズ (Comprehensive Organic Transformations)、
R. C.ラロック(Larock)著(1 9 8 9年)等参照]によって行うことができる。
上記各製造法における中間体および目的化合物は、 有機合成化学で常用される 精製法、 例えば中和、 濾過、 抽出、 洗浄、 乾燥、 濃縮、 再結晶、 各種クロマトグ ラフィ一等に付して単離精製することができる。 また、 中間体においては、 特に 精製することなく次の反応に供することも可能である。
また、 光学異性体は前記製造法の適切な工程で、 光学活性カラムを用いた方法、 分別結晶化法などの公知の分離工程を実施することで分離することができる。 ま た、 出発原料として式( 1 0— 1 )の化合物の光学活性体を使用することもできる。 本発明の化合物(1 )が、 光学異性体、 立体異性体、 互変異性体、 および Zまた は幾何異性体を有する場合、 本発明の化合物(1 )は、 これらを含め、 全ての可能 な異性体およびそれらの混合物を包含する。
本発明の化合物(1 )に、 不斉炭素原子にもとづく 1個以上の立体異性体が存在 する場合、 該異性体およびそれらの混合物もまた、 本発明の範疇に含まれる。 本発明には、 本発明の化合物(1 )の薬学的に許容しうる塩もまた含まれる。 本 発明の化合物(1 )が、 カルボキシ基などの酸性基を有する場合、 その塩基塩を製 造するための物質として使用できる塩基は、 それらの化合物と無毒性の塩基塩を 形成するものである。 それら無毒性塩基塩には、 薬理学的に許容しうるカチオン、 例えばアル力リ金属塩 (例えば力リゥム塩およびナトリゥム塩)およびアル力リ土 類金属塩 (例えば力ルシゥム塩およびマグネシゥム塩)、 アンモニゥムまたは水溶 性ァミン付加塩、 例えば N—メチルダルカミン(メダルミン)、 薬剤学的に許容し うる有機ァミンの低級アルカノールアンモニゥム塩その他の塩基塩が含まれるが、 これらに限定されないし、 これらの水等の薬剤学的に許容しうる溶媒和物でもよ レ、。
本発明の化合物(1 )が、 ピリジルなどの塩基性基を有している場合、 その酸付
加塩を製造するために用いる酸は、 無毒性の酸付加塩、 すなわち薬理学的に許容 しうるァニオンを含有する塩類、 例えば塩酸塩、 臭化水素酸塩、 ヨウ化水素酸塩、 硝酸塩、 硫酸塩、 硫酸水素塩、 リン酸塩、 酸性リン酸塩、 酢酸塩、 乳酸塩、 タエ ン酸塩、 酸性クェン酸塩、 酒石酸塩、 酒石酸水素塩、 コハク酸塩、 マレイン酸塩、 フマル酸塩、 ダルコン酸塩、 サッカラート、 安息香酸塩、 メタンスルホン酸塩、 エタンスルホン酸塩、 ベンゼンスルホン酸塩、 パラトルエンスルホン酸塩、 パモ エート [ 1, 1 ' —メチレン一ビス _ ( 2—ヒ ドロキシ一 3 _ナフトエート)]など の塩類を形成する酸である。
本発明の化合物( 1 )の塩を取得したいとき、 本発明の化合物が塩の形で得られ る場合には、 そのまま精製すればよく、 また、 遊離の形で得られる場合には、 適 当な有機溶媒に溶解もしくは懸濁させ、 酸または塩基を加えて通常の方法により 塩を形成させればよい。
また、 本発明の化合物(1 )およびその薬理学的に許容される塩は、 水あるいは 各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、 これら付加物も本発明に包含 される。
本発明は、 本発明の化合物(1 )のプロドラッグも包含する。 遊離のアミノ基、 アミド基、 ヒドロキシ基またはカルボキシル基をもつ化合物は、 プロドラッグに 変換できる。 プロドラッグとしては、 アミノ酸残基、 または複数 (例えば 2〜 4 個)のァミノ酸残基を含むぺプチドが、 ぺプチド結合を介して遊離のァミノ基、 ヒドロキシ基またはカルボキシル基に共有結合した化合物が挙げられる。
ここで、 アミノ酸残基としては、 同一もしくは異なる任意のアミノ酸残基が挙 げられ、 例えば 2 0種類の天然アミノ酸、 4—ヒドロキシプロリン、 ヒドロキシ リジン、 デモシン、 ィソデモシン、 3一メチルヒスチジン、 ノノレバリン、 β—ァ ラニン、 γーァミノ酪酸、 シトルリン、 ホモシスティン、 ホモセリン、 オルニチ ン、 メチォニンスルホンなどが挙げられる。
また、 プロドラッグとしては、 ヒドロキサム酸基の酸素原子、 および/または 窒素原子に共有結合したカーボネート、 力ルバメート、 アミドおよび低級アルキ ルエステルも含まれる。
また、 本発明の化合物(1 )がカルボキシル基を有する場合、 例えば Chemistry
PC蘭 2/13580
36 and Industry, 1980, 435; Advanced Drug Discovery Reviews, 3, 39 (1989)に 記載のプロドラッグなどが挙げられる。 具体的には、 カルボン酸の、 ェチルエス テル等の低級アルキルエステル、 エトキシカルボニルォキシメチル基等の低級ァ ルコキシカルボニルォキシアルキルエステル、 シク口へキシルォキシカルボニノレ ォキシ(1ーメチル)メチル基等の低級シクロアルコキシカルボニルォキシアルキ ルエステノレ、 ァシロキシメチルエステル、 グリコレート、 ラクテート、 モルホリ ノエチルエステル等の生体内で分解されうるエステルが挙げられる。
また、 本発明の化合物 ( 1 )が水酸基を有する場合のプロドラッグとしては、 例 えばァセチル基等のエステルが挙げられる。
本発明の化合物(1 )、 その薬学的に許容される塩、 またはそれらのプロドラッ グは、 これを医薬として用いるにあたり、 経口的または非経口的 (例えば、 静脈 内、 皮下、 もしくは点滴剤、 筋肉内注射、 皮下注射、 鼻腔内服剤、 目薬、 坐剤、 経皮投与剤 (軟膏、 クリーム、 ローション等)として投与することができる。 経口 投与のための形体としては、 例えば、 §定剤、 カプセル剤、 丸剤、 顆粒剤、 散剤、 液剤、 シロップ剤、 懸濁剤などが挙げられ、 非経口投与のための形体としては、 例えば、 注射用水性剤もしくは油性剤、 軟膏剤、 クリーム剤、 ローション剤、 ェ ァロゾル剤、 坐剤、 貼付剤などが挙げられる。
これらの製剤は、 従来公知の技術を用いて調製され、 許容される通常の担体、 賦形剤、 結合剤、 安定剤、 滑沢剤、 崩壊剤などを含有することができる。 また、 注射剤形で用いる場合には許容される緩衝剤、 溶解補助剤、 等張剤などを添加す ることもできる。 また、 適宜矯味矯臭剤を用いることもできる。
矯味矯臭剤としては、 例えば、 通常使用される、 甘味料、 酸味料、 香料などを 挙げることができる。
賦形剤としては、 例えば、 乳糖、 白糖、 ぶどう糖、 マンニット、 ソルビット等 の糖誘導体; トウモロコシデンプン、 バレイショデンプン、 α—デンプン、 デキ ストリン、 カルボキシメチルデンプン等の澱粉誘導体;結晶セルロース、 低置換 度ヒドロキシプロピ/レセルロース、 ヒドロキシプロピルメチノレセルロース、 力ノレ ボキシメチルセルロース、 カルボキシメチルセルロースカルシウム、 内部架橋力 ルポキシメチルセルロースナトリゥム等のセルロース誘導体;アラビアゴム;デ
キストラン;プルランなどの有機系賦形剤;およぴ軽質無水珪酸、 合成珪酸アル ミニゥム、 メタ珪酸アルミン酸マグネシウム等の珪酸塩誘導体;燐酸カルシウム 等の燐酸塩;炭酸カルシウム等の炭酸塩;硫酸カルシウム等の硫酸塩;などの無 機系賦形剤を挙げることができる。
滑沢剤としては、 例えば、 ステアリン酸、 ステアリン酸カルシウム、 スチアリ ン酸マグネシウム等のステアリン酸金属塩;タルク ; コロイドシリカ ; ビーガム、 ゲイ蝶等のワックス類;硼酸:アジピン酸;硫酸ナトリゥム等の硫酸塩;グリコ ール;フマル酸;安息香酸ナトリウム; D L—口イシン;脂肪酸ナトリゥム塩; ラウリル硫酸ナトリウム、 ラウリル硫酸マグネシゥム等のラウリル硫酸塩;無水 珪酸、 珪酸水和物等の珪酸類;および、 上記澱粉誘導体などを挙げることができ る。
結合剤としては、 例えば、 ポリビュルピロリ ドン、 マクロゴール、 前記賦形剤 と同様の化合物を挙げることができる。
崩壌剤としては、 例えば、 前記賦形剤と同様の化合物およびクロスカルメロ一 スナトリゥム、 力 ポキシメチノレスターチナトリゥム、 架橋ポリビニノレピロリ ド ンなどの化学修飾されたデンプン ·セルロース類を挙げることができる。
安定剤としては、 例えば、 メチルパラベン、 プロピルパラベン等のパラォキシ 安息香酸エステノレ類;クロロブタノール、 ベンジルアルコール、 フエ-ルェチル アルコール等のアルコーノレ類;塩化ベンザルコニゥム ; フエノール、 クレゾール 等のフエエノール類;チメ口サール;デヒドロ酢酸;およびソルビン酸を挙げる ことができる。
経口投与用には、 賦形剤を含有する錠剤を、 種々の崩壊剤の他に、 造粒結合剤 と一緒に用いてよい。 また、 滑沢剤は、 しばしば錠剤成形用に極めて有用である。 同様の種類の固体組成物を、 ゼラチンカプセル中の充填剤として用いてもよい (ここで好ましい材料には、 ラタトースまたは乳糖、 高分子量ポリエチレンダリ コールも含まれる)。 経口投与用に水性懸濁剤おょぴ /またはエリキシル剤が望 まれる場合、 その活性成分は、 種々の甘味剤、 着香剤、 着色剤または染料と一緒 に、 そして必要に応じて、 乳化剤および/または懸濁化剤も、 希釈剤と共に組合 わせることができる。 該希釈剤としては、 水、 エタノール、 プロピレングリコー
ル、 グリセリン、 またはそれらの混合物が挙げられる。 動物の場合、 それらは、 動物用飼料または飲料水中に 5— 5 0 0 O pm, 好ましくは 2 5— 5 0 0 O ppmの 濃度で含まれる。
非経口投与用 (筋肉内、 腹腔内、 関節内、 皮下および静脈内使用)には、 通常、 活性成分の滅菌注射用溶液を製造する。 本発明の化合物のゴマ油もしくはラッカ セィ油中かまたは水性プロピレングリコール中溶液を用いることができる。 それ ら水溶液は、 必要ならば、 好ましくは 8より大の p Hで適当に調整され、 緩衝液 とすることができる。 また液体希釈剤で等張にすることが好ましい。 この水溶液 は、 静脈内注射用に適している。 それら油状溶液は、 関節内、 筋肉内おょぴ皮下 注射用に適している。 無菌条件下でのこれら全ての溶液の製造は、 当業者に周知 の標準的な製剤技術によつて容易に行われる。
鼻腔內投与または吸入による投与には、 活性ィ匕合物は、 患者が絞り出すもしく はポンプで放出するポンプスプレー容器からの溶液もしくは懸濁液の形で、 また はカロ圧式容器もしくはネプライザ一からのエアゾルスプレー状態として、 適当な 噴射剤、 例えば、 ジクロロジフルォロメタン、 トリクロ口フルォロメタン、 ジク ロロテトラフルォロェタン、 二酸ィ匕炭素または他の適当なガスを使用して、 供給 される。 加圧式エアゾルの場合、 投与単位は、 計量された一定量を供給するバル プを与えることによって決定ができる。 加圧式容器またはネプライザ一は、 活性 化合物の溶液または懸濁液を入れることができる。 吸入器または吹入器で用いる ためのカプセルおよびカートリッジ(例えば、 ゼラチンから製造される)は、 本発 明の化合物とラクトースまたはデンプンなどの適当な粉末基剤の粉末配合物を含 有する製剤とすることができる。
また本発明の化合物は、 カカオ脂または他のグリセリドなどの慣用的な坐剤基 材を含有する坐剤または停留浣腸剤などの肛門用組成物中で製剤化できる。 本発明の化合物(1 )、 その薬学的に許容される塩、 およびそれらのプロドラッ グを投与する場合、 その使用量は、 症状、 年齢、 投与方法等によって異なるが、 例えば、 経口投与の場合には、 成人に対して、 1日当たり、 下限として、 0 . 0 1 mg (好ましくは 1 mg)、 上限として、 5 0 0 0 mg (好ましくは 5 0 O mg)を、 1 回または数回に分けて、 症状に応じて投与することが望ましい。 静脈内投与の場
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合には、 成人に対して、 1日当たり、 下限として、 0 . 0 l mg (好ましくは 0. lmg;)、 上限として、 1 0 0 O mg (好ましくは 3 Omg)を、 1回または数回に分けて、 症状 に応じて投与することにより効果が期待される。
本発明の化合物(1 )、 そのプロドラッグ、 およびそれらの薬学的に許容される 塩はマトリックス金属プロテアーゼ阻害剤として有用である。 したがって、 過剰 のまたは望ましくないマトリックス金属プロテアーゼに関係する疾患を治療また は予防するのに使用される。
' 過剰のまたは望ましくないマトリックス金属プロテアーゼに関係する疾患とし ては、 関節炎 (例えば、 変形性関節症およびリウマチ様関節炎)、 炎症性腸疾患、 クローン病、 気腫、 急性呼吸困難症候群、 ぜん息、 慢性閉塞性疾患、 慢性気管支 炎、 気管支炎、 アルツハイ ー病、 器官移植片毒性、 悪液質、 アレルギー反応、 アレルギー性接触過敏症、 アレルギー性結膜炎、 アレルギー性鼻炎、 癌 (例えば 固形腫瘍癌、 例えば結腸癌、 乳癌、 肺癌おょぴ前立腺癌、 および造血悪性、 たと えば白血病おょぴリンパ腫)、 組織潰瘍、 再狭窄、 歯周病、 表皮水疱症、 骨粗鬆 症、 人工関節移植片の弛緩、 ァテローム硬化症 (例えば、 ァテローム硬化性局面 破裂、 ァテローム性斑裂開)、 大動脈瘤 (例えば、 腹部大動脈瘤および脳大動脈 瘤)、 うつ血性心不全、 心筋梗塞、 発作、 大脳虚血、 頭外傷、 脊髄損傷、 神経変 性疾患 (急性および慢性)、 自己免疫疾患、 ハンチントン病、 パーキンソン病、 片 頭痛、 うつ病、 末梢神経障害、 痛み、 大脳アミロイド血管障害、 ヌート口ピック または認識増強、 筋萎縮性側索硬化症、 多発性硬化症、 接眼レンズ脈管形成、 角 膜損傷、 黄斑変性、 異常創傷治癒、 熱傷、 糖尿病、 糖尿病性末梢神経障害、 糖尿 病性網膜症、 糖尿病性潰瘍、 腫瘍浸潤、 腫瘍増殖、 腫瘍転移、 角膜瘢痕、 強膜炎、 A I D S , 敗血症、 敗血性ショック、 ざ瘡、 急性感染、 アルコール中毒、 A L S、 過敏症、 狭心症、 血管線維腫、 食欲不振、 AR D S、 アスピリン非依存性抗血栓 症、 アトピー性皮膚炎、 良性増殖症、 出血、 骨折、 火傷、 悪液質、 心筋症、 大脳 出血、 大脳血管性痴呆、 C H F、 慢性皮膚創傷、 冠動脈血栓症、 のう胞性線維症、 褥瘡性潰瘍、 デュシェーヌ筋ジストロフィー、 気腫、 子宮内膜症、 表皮水疱症、 目艮病、 線維症、 胃炎、 糸球体病、 糸球体腎炎、 痛風、 移植拒絶反応、 歯茎炎、 G VHD、 橋本甲状腺炎、 頭部外傷、 頭痛、 血管腫、 肝炎、 多毛症、 高血圧、 イン
3580
40 シュリン抵抗性、 間隙性腎炎、 虚血、 虚血性心臓病、 力ポージ肉腫、 角質化、 角 膜炎、 腎不全、 リーシュマニア症、 らい病、 白血病、 白血球浸潤、 肝硬変、 マラ リァ、 下顎関節病、 記憶障害、 髄膜炎、 片頭痛、 流産、 多発脳梗塞性痴呆、 筋ジ ストロフィー、 筋肉痛、 重症筋無力症、 ミエニン分解症、 心筋梗塞、 近視、 血管 新生緑内障、 神経炎、 眼腫瘍、 視神経炎、 パジェット病、 疼痛、 膝炎、 パーキン ソン病、 歯周炎、 末梢血管病、 結節性多発動脈炎、 多発性軟骨炎、 早産、 胚膜早 期裂開、 プリオン病、 増殖性網膜症、 蛋白尿、 偽痛風、 乾癬、 翼状片、 肺気腫、 放射線障害、 ガラガラへビ咬傷、 ライター症候群、 腎線維症、 遠心咬合、 再発性 灌流障害、 再狭窄、 強膜炎、 硬皮症、 老年痴呆、 老化、 敗血症、 敗血症性ショッ ク、 シャープ症候群、 シエーダレン症候群、 S L E、 脊椎分離症、 狭窄症、 不妊 症、 発作、 鬱血性血栓症、 化学療法による中毒症、 中毒性ショック、 結核、 尿毒 症、 脈管炎、 心室拡張、 表皮水疱症およびメタ口プロティナーゼ発現により特徴 づけられる他の疾病。
特定の疾病の治療に本発明の化合物を用いる場合、 本発明の化合物はその疾病 のために使用される種々の存在する治療剤と組合わすことができる。 リウマチ様 関節炎または変形性関節症に対しては、 本発明の化合物は、 T N F a;阻害剤、 抗 T N Fモノクローナル抗体および T N F受容体免疫グ口プリン分子 (Enbrel登録 商標)、 低用量メ トトレキセート、 レフユミ ド、 ヒドロキシクロ口キン、 d -ベニ シラミン、 アウラノフィン、 標準的非ステロイド抗炎症剤、 例えばピロキシカム、 ジクロフエナク、 プロピオン酸類、 例えばナプロキセン、 フノレルビプロフェン、 フエノプロフェン、 ケトプロフェンおよびイブプロフェン、 フエナメート、 例え ばメフエナム酸、 インドメタシン、 スリンダク、 ァパゾン、 ピラゾロン類、 例え ばフヱニルブタゾン、 サリチル酸類、 例えばアスピリン、 シクロォキシゲナーゼ (C O X) 2阻害剤、 例えばメロキシカム ·セレコキシブおよび口フエコキシブ、 鎮痛剤おょぴ関節内治療剤、 例えばコルチコステロイ ド、 およびヒアルロン酸、 例えばヒアルガンおよびシンビクス等と組合わせて使用することができる。
本発明の化合物はまた、 抗癌剤、 例えばエンドスタチンおょぴアンジォスタチ ンまたは細胞毒'生薬物、 例えばアドリアマイシン、 ダウノマイシン、 シスプラチ ン、 エトポシド、 タキソール、 タキソテレおよびアルカロイド、 例えばビンクリ
スチン、 およぴ抗代謝物、 例えばメトトレキサートと組合しても使用され得る。 本発明の化合物はまた、 心臓血管剤、 例えばカルシウムチャネル遮断薬、 脂質低 下剤、 例えばスタチン、 フイブレート、 /3—遮断薬、 A C EP且害剤、 アンジォテ ンシン一 2受容体アンタゴニストおよび血小板凝集ィンヒビターと組合わせても 使用できる。
本発明のィ匕合物はまた、 中枢神経系薬剤、 例えば抗うつ剤 (例えばセルトラリ ン)、 抗パーキンソン薬剤(例えばデブレニル、 L一ドーパ、 レクイップ、 ミラテ ックス、 MAO Bインヒビター、 例えばセレジンおょぴラサギリン、 comP阻害剤、 例えば A— 2阻害剤、 ドパミン 摂取阻害剤、 NMD Aアンタゴニスト、 ニコチ ンァゴ-スト、 ドパミンァゴ-スト、 および神経酸化窒素合成阻害剤)、 および 抗アルツハイマー薬剤、 例えばァリセブト、 タクリン、 C O X 2阻害剤、 プロぺ ントフイリン(propentofylline)またはメトロフォネートと組合わせて使用でき る。
本発明の化合物はまた、 骨粗鬆症剤、 例えばドロロキシフェン、 フォソマック ス、 ェチドロネ一トおよび免疫抑制剤、 例えば F K— 5 0 6およびラパマイ と組合わせも使用し得る。
本発明はまた、 一般式(2 )
[式中、 環 Aは置換または無置換のベンゼン環または芳香族 5〜 6員へテロ環を 表わし、 R4'は炭素数 1〜4の低級アルキル基を表わし、 そして nは 0〜2の整 数を意味する。 ]
で表わされる化合物を有効成分とする MMP— 1および MMP— 1 4に対して非 選択的であることを特徴とする MMP - 3および/または MMP - 1 3阻害剤に 関する。
式(2 )において、 nは好ましくは 0であり、 R4'は好ましくは炭素数 1〜3の 低級アルキル基であり、 更に好ましくはメチル基である。
式(2 )中、 環 Aが置換されている場合、 1〜3の置換基で置換されていてもよ レ、。 環 Aの置換基としては、 前記ァリール基またはへテロアリール基における置 換基と同じものが挙げられる。 好ましくは環 Aの置換基としては、 カルボキシ基、 シァノ基、 ハロゲン原子、 水酸基、 低級アルキル基、 置換もしくは無置換の低級 アルキル基、 低級アルコキシカルボニル基、 低級アルコキシ基、 低級アルキルス ルホニル基、 低級アルキル基で置換されていてもよい力ルバモイル基、 低級アル キル基で置換されていてもよいスルファモイル基が挙げられる。 特に好ましくは、 カルボキシ基、 置換もしくは無置換の低級アルキル基が挙げられ、 該低級アルキ ル基の置換基としては、 水酸基、 低級アルコキシ基、 カルボキシ基、 低級アルキ ル基で置換されていてもよいカルパモイル基、 低級アルコキシカルボニル基など が挙げられる。
式(2 )中、 環 Aは好ましくは、 ベンゼン、 ピリジン、 チ才フェン、 ピラゾーノレ である。 式(2 )で表される化合物の好ましい態様として、 以下の式(3 )または式 ( 4 )で表される化合物が挙げられる。
(R4'は前記と同義であり、 R2Qおよび R21は環 Aにおける置換基と同義である。 ) 式(2 )で示される化合物は、 上記の化合物 ( 1 )の場合と同様にして投与される c なお、 式(2 )で示される化合物は公知であり、 WO 0 0 / 6 3 1 9
ットに記載の方法により製造することができる。
0
43 実施例
以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、 本発明はこれらに限定される ものではない。
以下の実施例は本発明化合物の製造を示す。 NMRデータは p p m ( δ )で報告 され、 試料溶媒からのジユウテリゥムのロック信号に対比したものである。 市販 の試薬はさらに精製せずに使用した。 室温または周囲温度は 2 0 °Cから 3 0 °Cを 表わす。 非水性反応はすべて窒素雰囲気下で行われた。 減圧下での濃縮は、 回転 蒸発器を用いたことを意味する。
得られた目的化合物は必要ならば、 例えば再結晶、 再沈殿、 または、 通常、 有 機ィ匕合物の分離精製に慣用されている方法、 例えば、 シリカゲル、 アルミナ、 マ グネシゥム一シリカゲル系のフロリジルのような担体を用 V、た吸着力ラムクロマ トグラフィ一法;セフアデックス L H— 2 0 (フアルマシア社製)、 アンバーライ ト XAD—l 1 (ローム 'アンド 'ハース社製)、 ダイヤイオン H P— 2 0 (三菱 化学社製)のような担体を用いた分配力ラムクロマトグラフィ一等の合成吸着剤 を使用する方法、 イオン交換クロマトを使用する方法、 または、 シリカゲルもし くは低級アルキル化シリ力ゲルによる順相 '逆相カラムクロマトグラフィー法 (好適には、 高速液体クロマトグラフィーである。 )を適宜組合せ、 適切な溶離剤 で溶出することによって分離、 精製することができる。 実施例 1
4一(4ーメチルスルホニルフエノキシ)フエニルスノレホニ/レク口リ ドの合成 工程 (i)
窒素雰囲気下の化合物 1 (69g)の TH F (350ml)溶液を内温一 7 0 °Cに冷却した。 これに n—ブチルリチウムのへキサン溶液(f =1. 56、 187ml)を内温一 6 5 °C以 下で滴下した。 全量滴下したのち、 1時間同温度で攪拌した。 次いで、 メチルジ スルフィド(26. 2ml)を内温一 6 0 °C以下で滴下した。 攪拌を続け、 ゆっくりと室 温に戻した。 一晩攪拌後、 反応系に水 (50ml)を滴下し、 反応を終了させた。 反応
系を減圧濃縮し、 塩ィ匕アンモニゥム溶液と酢酸ェチルから抽出した。 油層を水洗 後、 硫酸ナトリウムで脱水し、 減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムクロマト グラフィー (へキサン/酢酸ェチル = 9 / 1 )で精製し、 化合物 2 (61. 7g、 淡黄色 液体)を得た。
化合物 2 (20g)、 酢酸ェチル (250ml)、 メタノール (250ml)、 水(200ml)の混合溶 液に O X O N E (登録商標)(122g、 アルドリツチ社)を小分けして加えた。 3時間 攪拌後、 反応系に酢酸ェチル (200m l )を加え、 沈殿を濾別した。 濾液を減圧濃 縮後、 水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 油層を水洗後、 硫酸ナトリウムで脱水、 減圧濃縮した。 得られた白色固体を減圧乾燥した。 これを 2回繰り返し、 化合物 3 (46g)を得た。
3 4
窒素雰囲気下にしたク口口硫酸 (60g)を氷冷下で攪拌した。 これに化合物 3 (20 グラム)を加え、 自然に任せて室温に戻した。 一晩攪拌後、 反応系を氷水(500ml) に加えた。 生成した白色固体を濾取し、 水洗後、 減圧乾燥し、 白色固体化合物 4 (21g, 77%)を得た。
Ή-赚 (DMSO- D6) δ 3. 19 (s, 3H), 7. 09 (m, 2H), 7. 17 (m, 2H), 7. 67 (m, 2H) ,
7. 90 (m, 2Η)
実施例 2
N—ヒ ドロキシー 1— [ィソブチル({4一 [4— (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ 二ル}スルホニル)ァミノ]シクロペンタンカルボキサミ ドの合成
工程 )
化合物 I (37g)、 ジイソプロピルェチルァミン(35ml)、 ジメチルホルムァミ ド (400ml)を 0 °Cで攪拌した。 これに化合物 II (33g)を小分けにして加えた。 終夜攪 拌で室温まで昇温した。 塩酸水を加えた後、酢酸ェチルで抽出した。 油層を分離 し、 炭酸力リゥム溶液、 食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリゥムで脱水し、減圧濃縮 し、 化合物 III (37. 6g)を得た。
工程(ii)
化合物 III (37. 6g)にジメチルホルムアミド (200ml)、 塩化 β メタ] Jル(8.36g)、 炭酸カリウム(14. 72g)、 ヨウ化カリウム(1. 18g)を加えた後、 7 0 °Cで 1 4時間攪 拌した。 室温に戻して、 酢酸ェチルと水を加えて抽出した。 油層を食塩水で洗浄 し、 硫酸ナトリウムで脱水した後、 減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムクロ マトグラフィー (溶出溶媒:へキサン/酢酸ェチル =7/3から 6/4)で精製し、 化合 物 IV (38. 2g)を得た。
工程(iii)
化合物 IV (38. 2g)に酢酸ェチル (300ml)、 5 %パラジウム/炭素 (2g)を加え、 室 温、 常圧の水素雰囲気下で攪拌した。 8時間後、 触媒をセライト濾別し、 減圧濃 縮し、 化合物 V (32. 1g)を得た。
工程(iv)
化合物 V (32. lg)のジクロロメタン(400ml)溶液にジメチルホルムァミド(0. lg)
を加え、 0 °Cで攪拌した。 これにオギザリルクロリ ド(7.46ml)を加えた。 1時間 後、 室温にして 6時間攪拌した。 減圧濃縮後、残渣にテトラヒドロフラン (250ml) を加えた。 この溶液を、 0 °Cで攪拌したヒドロキシルァミン塩酸塩 (22.9g)、 炭 酸水素ナトリウム(38.8g)、 テトラヒドロフラン (200ml)、 水 (20ml)の混合溶液に 滴下した。 反応溶液を減圧濃縮後、 酢酸ェチルと塩酸水を加えて、 抽出した。 油 層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧濃縮した。 残渣をシリ力ゲル力ラムクロマト グラフィー (溶出溶媒:へキサン/酢酸ェチル =4/6から 3/7)で精製し、 化合物 VI (32.4g)を得た。
- NMR (DMS0- D6) δ 0.83 (d, J=6.4Hz, 6H) , 1. 7 (m, 2H) , 1.57 (m, 2H), 1.83 (m, 2H) , 1.95(m, 1H),2.29(m,2H), 3.18 (d, J=7.2Hz, 2H), 3.23 (s, 3H) , 7.24 - 7.33 (m, 4H), 7.84 (m, 2H), 7.97 (m, 2H) , 8.78 (s, 1H), 10.30 (s, 1H)
実施例 3
N1—ヒドロキシ- N2—(2—ィソプロボキシェチル)一 N2—({ 4— [4一(メチル スルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)グリシナミ ドの合成
XS( i )
2 -イソプロポキシェチルァミン(2.5g;)、 ジィソプロピルェチルァミン
(4.22ml)、 ジメチルホルムアミド(30ml)を 0°Cで攪拌し、ブロモ酢酸べンジル (3.3ml)を滴下した。 室温まで昇温し、 8時間後酢酸ェチルと食塩水から分液抽
出した。 油層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラ ムクロマトグラフィー (溶出溶媒:へキサン/酢酸ェチル = 1/4)で精製し、 化合物
I (4. 3 g )を得た。
工程(ii)
0 °Cの化合物 I (lg)、 ジィソプロピルェチルァミン(1. ½1)、 ジメチルホルム アミド(30ml)に対して、化合物 11 (1. ½)を小分けにして加えた。 室温として 1 2 時間後、 酢酸ェチルと塩酸水から分液抽出した。 油層を硫酸ナトリウムで脱水し、 減圧濃縮した。 残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー (溶出溶媒:へキサ ン /酉乍酸ェチル =1/1)で精製し、 化合物 III (1. 5g)を得た。
工程(iii)
化合物 111 (1. 47g)に酢酸ェチル (30ml)、 5%パラジウム/炭素(0. lg)を加えて、 室温、 常圧の水素雰囲気下で攪拌した。 8時間後、 触媒をセライト濾別し、 減圧 濃縮し、 化合物 IV (1. 2g)を得た。
工程 (iv)
化合物 IV (1. 19g)にジクロロメタン(20ml)、 ジメチルホルムアミ ド(10mg)を加 えた後、 0 °Cでオギザリルクロリ ド(0. 3ml)を加えた。 室温で 5時間攪拌後、減圧 濃縮した。 残澄にテトラヒドロフラン(15ml)を加えた。 この溶液を 0 °Cで攪拌し たヒドロキシルァミン塩酸塩 (0. 9g)、 炭酸水素ナトリウム(1. 5g)、 テトラヒドロ フラン (20ml)、 水 (5ml)の混合溶液に滴下した。 反応溶液を酢酸ェチルと塩酸水 を加えて、 抽出した。 油層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧濃縮した。 残渣をク ロロホルムから結晶化し、 化合物 V (0. 8g)を得た。
¾-NMR (DMSO- D6) δ 1. 02 (d, J=6. 0Hz, 6H) , 3. 23 (s, 3H) , 3. 33 (m, 2H), 3. 48 (m, 3H) , 3. 81 (m, 2H) , 7. 26-7. 33 (m,4H), 7. 90 (m, 2H) , 7. 98 (m, 2H) , 8. 90 (s, 1H) ,
10. 53 (s, 1H)
実施例 4
N— { 4一 [ (ヒ ドロキシァミノ)カルボニル]テトラヒ ドロー 2 H—ピラン一 4一 ィル }— N— ( { 4— [ 4— (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ -ル }スルホニル) 一 βーァラニンジメチルアミドの合成
3580
48
工程 )
化合物 I (4g)、 ジィソプロピルェチルァミン(5. 9ml)、 テトラヒドロフラン (100ml)を 0 °Cで攪拌し、これに化合物 II (6. 0g)を小分けにして加えた。 4時間後 反応系を減圧濃縮した。 残渣を酢酸ェチルと食塩水から抽出した。 油層を硫酸ナ トリウムで脱水し、 減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出溶 媒:へキサン/酢酸ェチル =2/1、 1/2)で精製し、 化合物 111 (3. 0g)を得た。
0 °Cで攪拌した化合物 III (3. 0g)のジメチルホルムァミ ド(50ml)溶液に、 力リ ゥムへキサメチルジシラジド(1. 5g)を加えた。 1 0分後、 室温とした。 更に 9 0 分後、 3—(tert—プチルジメチルシリル)ォキシ一 1ーョードプロパン(2. 12g)の ジメチルホルムァミド溶液 (5ml)を加えた。 2日間攪拌後、酢酸ェチルと食塩水か ら抽出した。 硫酸ナトリウムで脱水後、 減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィー (溶出溶媒:へキサン/酢酸ェチル =2/1、 1/2、 0/1)で精製し た。 化合物 IV (1. 2g)を得た。 また、 同時に化合物 IVの脱シリル体であるアルコー ル体(0. 6g)を得た。
工程 (iii)
化合物 IV (l, 17g)のジクロロメタン (50ml)溶液に対して、 0 °Cでトリフロロボラ ンジェチルエーテル錯体 (0. 43ml)を加えた。 2時間後、 0 . 5規定塩酸とクロロホ ルムで分液抽出した。 硫酸ナトリゥムで脱水後、減圧濃縮した。
この残渣に工程(ii)で得たアルコール体 (0. 6グラム)を加え、アセトン(40ml)を 加えた。 この溶液に、 室温で Jone's試薬を反応系が橙色となるまでカ卩えた。 2 0分後、沈殿をセライト濾別し、 濾液を酢酸ェチルと水で分液抽出した。 油層を 減圧濃縮後、トルエンと炭酸カリゥム溶液から抽出した。 水層を塩酸水で酸性と し、 酢酸ェチルで抽出した。 油層を硫酸ナトリウムで脱水し、 減圧濃縮し、 化合 物 V (1. 24g)を得た。
工程(iv)
一 1 5 °Cの化合物 V (0. 47g)、 N-メチルモルホリン(0. 25ml)、 テトラヒドロフ ラン(30ml)溶液に、 イソプロピルクロ口ホルメイト(0. 1ml)を滴下した。 1 5分 後、ジメチルァミンのテトラヒドロフラン溶液 ( 2モル濃度、 0. 76ml)を滴下した。 3 0分後、 塩酸水と酢酸ェチルから分液抽出した。 油層を硫酸ナトリゥムで脱水 し、 減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出溶媒:へ キサン/ S乍酸ェチル =1/4)で精製した。 精製したアミド体に、 酢酸ェチル (30ml)、 5 %パラジウム/炭素 (80mg)を加えて、室温、 常圧の水素雰囲気下で攪拌した。 4 時間後、 触媒をセライト濾別し、 減圧濃縮し、 化合物 VI (0. 4g)を得た。
工程 (V)
ィ匕合物 VI (0. 42 g )、 ジイソプロピルァミン(0. 15ml)のジメチルホルムアミ ド (10ml)溶液に、 室温で O—(1 H—べンゾトリァゾールー 1一ィル) _ Ν,Ν, Ν, , N ' —テトラメチルーゥロニゥム へキサフロロホスフェイト (HBTU、0. 3g)を加 えた。 3時間後、ジイソプロピルアミン(0. 3ml)、 O—ベンジルヒドロキシルアミ ン塩酸塩 (0. 2 g )を加え、 8 0でで 1 2時間攪拌した。 室温に戻して、酢酸ェチル と重曹水で分液抽出した。 油層を塩酸水、 食塩水の順で洗浄して、硫酸ナトリウ ムで脱水し、 減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出溶媒:メタ ノール /酢酸ェチル =0/1、 1/100)で精製した。 精製物にテトラヒドロフラン (10ml)、 メタノール (20ml)、 5 %パラジウム/炭素(0. lg)を加えて、室温、 常圧の
水素雰囲気下で攪拌した。 4時間後触媒をセライト濾別し、 減圧濃縮し、 化合物 Vll(O.lg)を得た。 ·
Ή一腿 (DMS0-D6) 61.91 (m, 2H), 2.29 (m, 2H), 2.67 (m, 2H) , 2.79 (s, 3Η),
2.94(s,3H), 3.23(s, 3H), 3.38 (t, J= 10.8Hz, 2H) , 3.49(m,2H), 3.71 (m, 2H) ,
7.28 (m, 2H) , 7.33 (m, 2H) , 7.89 (m, 2H), 7.98(m,2H), 8.96(s, 1H), 10.69 (s, 1H) 以下の実施例 5— 48のうち、 実施例 5— 7、 9一 24、 32 35、 37- 38、 41—42、 および 46— 48の化合物は実施例 2と同様にして製造され、 実施例 8、 36、 39— 40、 および 43— 44の化合物は実施例 3と同様にし て製造され、 そして実施例 25— 31、 および 45の化合物は実施例 4と同様に して製造された。
実施例 5
N, r—ヒ ドロキシー Ν, 2'—イソプチルー N' 2'— ({4— [4一(メチルスルホニル) フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)グリシナミ ド
-赚 (DMS0-D6) δ 0.82 (d, J=6.8Hz, 6H) , 1.85 (m, 1H), 2.92 (d, J=7.6Hz, 2H), 3.23 (s, 3H), 3.71(s, 2H), 7· 23-7.31 (m, 4H), 7.87 (m, 2H), 7.97(m,2H),
8.91 (s, 1H), 10.58 (s, 1H) .
実施例 6
ェチル N— [2—(ヒ ドロキシァミノ)一 2—ォキソェチル]一 N—({4 - [4 -(メチ ルスルホニル)フエノキシ]フエエル }スルホ -ル)一 ーァラニネィ ト
ー醒 (DMS0— D
6) δ 1.17 (t, J=7.2Hz, 3H) , 2.63 (t, J=7.6Hz, 2H), 3.23 (s, 3H), 3.41 (t, J= 7.6Hz, 2H) , 3.79 (s, 2H) , 4.04 (q, J=7.2Hz, 2H) , 7.23—7.34 (m, 4H) , 7.88 (m,2H), 7.98(m,2H), 8.94 (s, 1H) , 10.62 (s, 1H).
N, rーヒ ドロキシー 2—メチル一N' 2'—({4— [4一(メチルスルホニル)フエノ キシ]フエエル }スルホニル)ァラニンアミ ド
¾-NMR (DMSO— D6) δ 1.25 (s, 6H), 3.22 (s, 3H) , 7.25-7.31 (m, 4H) , 7.80 (br, IH), 7.88 (m, 2H) , 7.96(m,2H), 8.74 (s, IH), 10.40 (s, IH) .
実施例 8
ェチル N— [2—(ヒ ドロキシァミノ)一 2—ォキソェチル]—N— ({4— [4- (メ チルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)一 ーァラニネィ ト ¾-NMR (DMS0-D6) δ 1.17 (t, J=7.2Hz, 3H) , 2.63 (t, J=7.6Hz, 2H) , 3.23 (s, 3H), 3.41 (t, J= 7.6Hz, 2H), 3.79 (s, 2H), 4.04 (q, J=7.2Hz, 2H), 7.23-7.34 (m, 4H) , 7.88(m, 2H), 7.98 (m, 2H), 8.94 (s,lH), 10.62 (s,lH).
N, r—ヒ ドロキシ一 N, 2'—ェチルー 2—メチル一N, 2—({4一 [4一(メチル スルホニル)フエノキシ]フエエル)スルホニル)了ラニンァミ ド
Ή -羅 (DMSO- D6) δ 1.12 (t, J=6.8Hz, 3H), 3.19-3.24 (m, 5H) , 7.25-7.33 (m, 4H) ,
7.96-8.03(m,4H), 8.76 (s, IH), 10.39 (s, IH) .
rーヒ ドロキシ一 2—メチル一N, 2'— ({4— [4— (メチ ノレスノレホニノレ)フエノキシ]フエ二ノレ }スルホニル)了ラエンァミ ド
—腿 (DMS0-D6) δ 1.46 (s, 6H) , 3.23 (s, 3Η) , 4.56 (s, 2Η), 7.17-7.24 (m, 7H), 7.32 (m, 2H) , 7.94-7.99(m,4H), 8.78 (s, IH), 10.41 (s,lH).
実施例 11
チルスルホニル)フエノキシ]フエ二ノレ }スルホニル)ァラニンアミ ド
Ήー賺 (DMS0-D6) δ 0.74 (d, J=6.8Hz, 6H), 1.45 (s, 6H) , 1.86 (m, IH) ,
3.07 (d, J=7.6Hz, 2H), 3.23 (s, 3H ), 7.25-7.30 (m, 4H) , 7.96-7.99 (m, 4H) ,
8.75 (s, IH), 10.36 (s,lH).
実施例 12
4一 [ベンジル({ 4一 [ 4— (メチルスルホニノレ)フエノキシ]フエ二ル}スルホ二 /レ)ァミノ]一 N—ヒ ドロキシテトラヒ ドロー 2 H—ピラン一 4一力ルポキサミ ド Ή-腿 (DMS0-D6) δ 1.82 (m, 2H), 2.38 (m, 2H) , 3.23 (s, 3Η), 3.64 (m, 2H), 4.68 (s, 2H ), 7.22-7.39 (m, 9H), 7.88 (m, 2H), 7.97 (m, 2H), 8.92 (s, IH) , 10.68 (s, IH).
実施例 13
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N— {1一 [(ヒ ドロキシァミノ)カルボ-ル]メチル }— N—({4— [4一(メチルス ノレホニル)フエノキシ]フエ二ノレ }スルホニル) -グリシン モルホリノアミ ド
-賺 (DMSO- D6) δ 3.23 (s, 3H), 3.41 (m, 4H), 3.56 (m, 4H) , 3.81 (s, 2Η) ,
4.29 (s, 2Η), 7.26-7.32(m,4H), 7.91 (m,2H), 7.97(m,2H), 8.90 (s, 1H),
10.90 (s, 1H).
実施例 20
N'
1 '—ヒ ドロキシー N'
2'_[2— (メチルァミノ)_ 2—ォキソェチル]— N'
2'— ( { 4— [ 4一(メチルスルホニル)フエノキシ]フェニル }スルホ二ル)グリシナミ ド ¾-讓 (DMS0 - D
6) 52.60 (d, J=4.4Hz, 3H), 3.23 (s, 3H) , 3.83 (s, 2H), 3.85 (s, 2H) , 7.32(m,4H), 7.89 (m,2H), 7.98(m, 2H), 8.54 (br, 1H),9.03 (s, IH), 11.09(s,lH). 実施例 21
1一 [ェチル({ 4一 [ 4— (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル) ァミノ]一 N—ヒ ドロキシシク口ブタンカルボキサミ ド
-NMR (DMSO- D6) δ 1.15 (t, J=7.2Hz, 3H), 1.69 (m, 2H), 2.40 (m, 4H) , 3.23 (s, 3H) , 3.26(q, J=7.2Hz, 2H), 7.24 (m, 2H), 7.32 (m,2H), 7.842 (m, 2H) , 7.97(m,2H), 8.87 (s, IH), 10.59 (s, IH) .
実施例 22
TJP02/13580
56
ェチル N— { [(ヒ ドロキシァミノ)カルボニル]メチル }— N—({4一 [4一 (メチル スノレホニノレ)フエノキシ]フエ二ノレ }スノレホニノレ)ーグリシネィ ト
Ή—腿 (DMS0-D6) δ 1.14 (t, J=7.2Hz, 3H), 3.23 (s, 3H), 3.86 (s, 2H),
4.04(q, J=7.2Hz, 2H), 4.17 (s, 2H), 7.26-7.32 (m,4H), 7.89 (m, 2H), 7.98(m,2H),
8.94 (s,lH), 10.61(s, IH).
実施例 23
ェチル N— { 1— [(ヒ ドロキシァミノ)カルボニル]シク口ペンチル} _ N—( { 4 - [4- (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)グリシネィ ト
-丽 (DMS0 - D6) δ 1.17 (t, J=7.2Hz, 3H), 1.53 (m, 4H), 1.89 (m, 2H), 2.23 (m, 2H), 3.23(s, 3H), 4.02 (q, J=7.2Hz, 2H) , 4.29 (s, 2H) , 7.26 (m, 2H) , 7.31(m, 2H), 7.92(m, 2H), 7.98 (m, 2H) , 8.87 (s, IH), 10.42 (s, IH).
実施例 24
N— { [(ヒ ドロキシァミノ)力ルボニル]メチル }— N— ({4— [4一(メチルスルホ -ル)フエノキシ]フエ二ノレ }スルホニル)一グリシン
¾- MR (DMSO- D6) δ 3.23 (s, 3H), 3.88 (s, 2H) , 4.07 (s, 2H) , 7.26-7.32 (m, 2H), 7.90(m, 2H), 7.97(m, 2H), 8.99+9.24 (s, IH), 10.23+10.70 (s, IH),
13.02 (br, IH) .
実施例 25
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フエ二ル}スルホニル)ァミノ] シクロへキサン力ルポキサミ ド -賺 (DMS0 - D6) δ 0.82 (d, J=6.8Hz, IH), 1.04 (m, IH) , 1.27 (m, 2H), 1.50 (m, 3H) , 1.66(m,2H), 1.98(m, IH), 2.26 (m, 2H), 3.18 (d, J=7.2Hz, 2H) , 3.23 (s, 3H) , 7.42-7.31 (m, 4H) , 7.86 (m, 2H) , 7.98 (m, 2H), 8.82 (s, IH), 10.57 (s, IH).
実施例 34
N_{1 _ [(ヒ ドロキシァミノ)カルボニル]シクロペンチル}— N— ({4— [4— (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホ -ル)一グリシンジメチルァミ 一腿 (DMSO- D6) 51.55 (m, 4H), 1.82 (m, 2H) , 2.14 (m, 2H), 2.79 (s, 3H),
2.99 (s, 3H), 3.33 (s, 3H) , 4.29(s,2H), 7.22 - 7.31 (m, 4H), 7.94 - 8.00 (m, 4H),
8.79 (s, IH), 11.64 (s, IH).
N—ヒ ドロキシー 1一 [ ({ 4一 [ 4一(メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}ス ルホニル)ァミノ]シクロへキサンカルボキサミ ド
一脈 (DMS0-D6) δ 1.28 (m, 6H) , 1.65 (m, 2Η), 1.78 (m, 2H) , 3.22 (s, 3Η) , 7.25 - 7.33(m, 4Η), 7.59 (s, IH) , 7.8 (m, 2H), 7.95 (m, 2H) , 8.62(s, IH), 10.25(s, IH). 実施例 36
N— [2—(ヒ ドロキシァミノ)一 2—ォキソェチル]一 N—({4一 [4一(メチルス ノレホニノレ)フエノキシ]フエ二ノレ }スゾレホニ/レ)一 βーァラニン
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S£l/Z0df/X3d
IS8SS0/C0 OAV
ンアミ ド
¾-NMR (DMS0 - D6) δ 2.40 (t, J=7.6Hz, 2H) , 2.54 (d, J=4.4Hz, 3H), 3.23 (s, 3H), 3.76 (s, 2H), 7.28-7.35(m,4H), 7.88(m, 3H), 7.98(m,2H), 8.94 (s,lH), 10.68 (s, IH) .
実施例 40
N - { 1 - [(ヒ ドロキシァミノ)力ルポニル]メチル } - N- ( { 4 - [ 4 -(メチルスルホ: ノレ)フエノキシ]フエ二ル}スルホ二ノレ) - β -ァラニンモノレホリノアミ ド
¾-NMR (DMS0-D6) δ 2.66 (m, 2H) , 3.23 (s, 3H) , 3.38 (m, 6H), 3.51-3.58 (m, 4H) , 3.81(s,2H), 7.28-7.43(m,4H), 7.88 (m, 2H) , 7.98(m,2H), 8.93(s, IH), 10.66 (s, IH).
実施例 41
N, 1ーヒ ドロキシー N' 2- ({4- [4- (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二 ル}スルホニル)一 N, 2—(3-ピリジニルメチル)グリシナミ ド
—賺 (DMS0-D6) δ 3.23 (s, 3H) , 3.73 (s, 2Η) , 4.45 (s, 2Η) , 7.26-7.36 (m, 4Η) ,
7.37 (m, IH), 7.71(m, IH), 7.89 (m, 2H), 7.99 (m,2H), 8.43 (m, IH), 7.49(m,lH):
8.92 (s, IH), 10.59 (s, IH) .
実施例 42
N'
1 '—ヒ ドロキシー N,
2'— ({4— [4一(メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二 ル}スルホ二ル)一 Ν,
2—(4一ピリジニルメチル)グリシナミ ド
¾-NMR (DMSO- D6) 83.23 (s, 3H) , 4.04 (s, 2Η) , 4.685 (s, 2Η) , 7.29-7, 35 (m, 4Η) ,
7.85 (br, 2Η) , 7.94-8.01 (m, 4Η) , 7.72-8.79 (br, 3Η), 12.30 (s, 1H).
実施例 43
N1—ヒ ドロキシー N2—(3—メ トキシプロピル)一 N2— ({4— [4一(メチルスル ホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)グリシンァミ ド
¾-NMR (DMSO— D6) δ 1.70 (m, 4Η) , 3.16—3.21 (m, 5Η), 3.23 (s, 3H),
3.29(t, J=6. OHz, 2H), 3.73(s,2H), 7.27-7.34 (m, 4H) , 7.88(m,2H), 7.98 (m, 2H),
8.93(s,lH), 10.62(s,lH).
実施例 44
N1—ヒ ドロキシ一N2— (2—メ トキシェチル)一 N2—( {4— [4— (メチルスルホニ グレ)フエノキシ]フエ二ノレ }スノレホニル)グリシンアミ ド
Ή一腿 (DMS0-D6) δ 3.19 (s, 3H), 3.23 (s, 3H), 3.36 (t, J=6. OHz, 2H) ,
3.45 (t, J=6.0Hz, 2H), 3.80(s,2H), 7.23-7.33 (m, 4H) , 7.89 (m, 2H), 7.98(m, 2H):
8.91 (s, 1H), 10.53 (s, 1H).
実施例 45
64
1ー[(2—ェトキシェチル)({4一 [4— (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二 ノレ }スノレホニル)ァミノ]一 N—ヒ ドロキシシクロペンタンカノレポキサミ ド
-丽 (DMS0- D6) δ 1.09 (t, J=6.8Hz, 3H) , 1.53 (m, 4H), 1.95 (m, 2H) , 2.24 (m, 2H), 3.23 (s, 3H), 3.39-3.49 (m, 4H) , 3.52 (m, 2H), 3.81(m, 2H), 7.25-7.34 (m, 4H), 7.90(m, 2H), 7.98 (m, 2H) , 8.81 (s, IH), 10.32 (s, IH).
実施例 46
ェチル N—{1— [(ヒ ドロキシァミノ)力ルボニル]シクロブチル }一 N _ ( { 4— [4一(メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホ二ル)グリシネィ ト
¾-醒 (DMS0-D6) δ 1.18 (t, J=7.2Hz, 3H) , 1.69 (m, 2H) , 2.36 (m, 4H), 3.23 (s, 3H), 4.10 (q, J=7.2Hz, 2H), 4.17 (s, 2H), 7.25 (m, 2H) , 7.31 (m, 4H), 7.84 (m, 2H), 7.97(m,2H), 8.88 (s, IH), 10.64 (s, IH).
N—ヒ ドロキシー 1一 [({4一 [4一(メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}ス ルホニル)ァミノ]シク口ペンタンカルボキサミ ド
Ή -腿 (DMSO- D
6) 51.27 (m, 2H), 1.41 (m, 2H), 1.79 (m, 4H), 3.17 (s, 3H), 7.19- 7.22(m,4H), 7.76 (br, IH) , 7.79 (m, 2H) , 7.89 (m, 2H) , 8.64 (s, IH), 10.21 (s, IH) . 実施例 4 8
N—ヒ ドロキシー 1一 [({4— [4— (メチルスルホ -ル)フエノキシ]フエ二ル}ス ルホニル)ァミノ]シクロブタンカルボキサミ ド
¾-丽 (DMS0-D6) δ 1.64 (m, 2H) , 2.05 (m, 2Η), 2.29 (m, 4H) , 3.23 (s, 3Η) , 7.26-
7.31(m,4H), 7.84(m,2H), 7.96 (m,2H), 8.21(br, 1H), 8.71 (br, 1H),
10.41 (s, 1H) .
工程(i) :
チォグリコール酸 (10.8g)、 炭酸カリウム(65g)、 ジメチルホルムアミド (300ml)の混合物に、 4_クロ口 _3—二ト口安息香酸ェチル(28. lg)の DMF (100ml)溶液を加え、 80°Cに加熱した。 混合物を 6時間で攪拌した後、固体を濾 別し、 濾液を減圧濃縮した。 残渣にジェチルエーテル (50ml)と水(100ml)とを加 え、 黄色固体を濾取した。 この固体を 4 N—塩酸を加えて酸性にし、 酢酸ェチル で抽出した。 有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、 濃縮した。 取得物 (27.63g)はこの ままで次反応に用いた。
先の取得物(12.9g)のテトラヒドロフラン (300ml)溶液に、 10 % Pd/C (13g) を加え、 室温、 水素雰囲気下で 9時間激しく攪拌した。 触媒を濾別し、 濾液を減
圧濃縮した。 粗生成物 (9. 4 g )と N-ヒドロキシベンズトリアゾール (HOBt) (5. 9g) とのジメチルホルムアミ ド(200ml)溶液に、 1—ェチル一 3—( 3—ジメチルァミ ノプロピル)カルボジィミド ·塩酸塩 (EDC · HC 1 ) (7. 4g)を加えた。 室温で一夜 攪拌し、 減圧濃縮した。 残渣を酢酸ェチルに溶解し、 1 N-塩酸、 5 %炭酸ナト リゥム水および食塩水の順で洗浄した。 有機層を硫酸ナトリゥムで乾燥、 濃縮し た。 残渣をジェチルエーテルとへキサンとから再結晶して精製し、 化合物
11 (8. 5g)を白色固体として得た。
X@ (ii) :
化合物 11 (8. 43g)のジクロロメタン(80ml)溶液に、 塩ィヒスルフリル (4. 8グラ ム)を滴下した。 室温で 6時間攪拌し、 減圧濃縮した。 残渣をクロ口ホルムとへ キサンとから再結晶し、 白色固体 (8. 8g)を得た。
取得した白色固体 (8, 7グラム)とトリェチルホスフアイト(11. 7グラム)の混合 物を 1 2 0 °Cで 1 0時間攪拌した。 溶媒を減圧除去し、 残渣をテトラヒドロフラ ンとジェチルエーテルから再結晶し、 ィ匕合物 III (10. 5g)を薄黄色固体として得た。 工程(iii) :
氷冷した窒素雰囲気下の 4一( 4ーメチルスルホニルフエノキシ)ベンズアルデ ヒ ド(1. 5g)と化合物 111 (1. 9g)のテトラヒ ドロフラン(80ml)溶液に、 6 0 %水素 化ナトリウム(0. 5g)を加えた。 4時間後、 反応系を減圧濃縮した。 残渣に酢酸ェ チル(10ml)とへキサン(50ml)を加えた後、 1 N—塩酸 (20ml)、 水(80ml)の順に加 え、 更にへキサン(100ml)を加え、室温で 2 0分攪拌した。 固体生成物を濾取し、 減圧乾燥し、 黄色固体 (2. 6g)を得た。
黄色固体 (2. 6g)にジォキサン(300ml)、 メタノール(50ral)、 テトラヒドロフラ ン (80ml)、 および 5 % P d / C (2. 6g)を加えた。 常圧の水素雰囲気下、 室温で 6 時間攪拌した。 触媒を濾別し、 濾液を減圧濃縮した。 白色固体の化合物 IV (2. 3g) を得た。
工程(iv) :
氷冷した窒素雰囲気下の化合物 IV (2. 3g)のジメチルホルムァミド (20ml)溶液に、 6 0 %水素化ナトリゥム(0. 2g)を加えた後、室温で 1時間攪拌した。 再び氷冷下 として、ブロモ酢酸 t一ブチル (lml)を滴下した。 6時間後、塩ィ匕アンモニゥム溶
液に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、 減圧濃縮 した。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(へキサン/酢酸ェチル =3/1 から 7/3)で処理し、 付加体 (2. 4g)を得た。 これに塩ィ匕メチレン(15m 1 )、 1 , 2 一エタンジチオール (0. 8m 1 )を加え、 0 °Cとして、 トリフロロ酢酸 (20m 1 )を 加えた。 3時間後減圧濃縮した。 ジイソプロピルエーテル (20m 1 )、 へキサン (200m 1 )を加えて、 出た固体を濾取乾燥し、 化合物 V (2. 4g)を得た。
工程 (V):
一 1 5 °Cの窒素雰囲気下の化合物 V (2. 4g)、 N—メチルモルホリン(0. 6ml)のテト ラヒドロフラン溶液(50ml)に、 ィソプロビルク口口ホルメィト(0. 5ml)を滴下し た。 2 0分後、 0-トリメチルシリノレヒドロキシルァミン (0. 7ml)を滴下した。 室 温まで、ゆっくりと昇温して、 1 N—塩酸と酢酸ェチルから抽出した。 有機層を 硫酸ナトリゥムで乾燥し減圧濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ ィー (へキサン/酔酸ェチル から 1/4)で処理し、 化合物 VI 9g)を得た。
Ή-赚 (CDC13) δ 1. 41 (t, J=7. 2Hz, 3H) , 2. 88 (m, 1H), 3. 06 (m, 1H), 3. 20 (m, 1H) , 3. 75 (m, 1H), 4. 40 (q, J=7. 2Hz, 2H), 4. 50 (d, J=16Hz, 1H), 4. 74 (d, J=16Hz, 1H), 7. 00 (m, 2H) , 7. 08 (m, 1H) , 7. 18 (m, 2H) , 7. 45 (d, J=8. 0Hz, 1H) ,
7. 78 (d, J=8. 0Hz, 1H) , 7. 89 (m, 2H) 8. 09 (m, 1H) , 9. 03 (br, 1H)
実施例 5 0
0 °Cの実施例 4 9の化合物 (VI) (0. 5g)のテトラヒドロフラン溶液 (8m 1 )に 0 . 5 N水酸ィ匕リチウム水溶液 (3. 5ml)を滴下した。 ゆっくりと室温に戻し、 1晚攪拌 した。 3 N—塩酸 (70ml)を加え、酢酸ェチル (80ml X 2)で抽出し、 油層を硫酸ナ トリウムで乾燥し、 減圧濃縮した。 テトラヒドロフラン一へキサンから再結晶し、 化合物 VII (0. 4g)を得た。
-腿 (DMS0- D6) δ 2. 81 (m, 1H) , 3. 19 (S, 3H) , 3. 40 (m, 1H), 4. 02 (m, 1H),
4. 52+4. 73+4. 95 (2H, NCH2C0), 7. 06 (m, 2H), 7. 13 (m, 2H) , 7. 33 (m, 2H),
7. 51 (d, J=8Hz, 1H), 7. 62 (dd, J=l. 6, 8Hz, 1H), 7. 67 (d, J=l. 6Hz, 1H) , 7. 91 (m, 2H),
9.05+9.46 (s, 1H) , 10.41+10.85 (s, 1H) , 13.19 (br 1H)
下表 1に挙げた実施例 51— 58の化合物は前記 (製造法 2及び製造法 4 )の方 法で製造される。
表 1
下表 2に挙げた実施例 59-80の化合物は前記 (製造法 4)の方法で製造され る
前記 (製造法 8 )の方法に従レヽ、 下記化合物を製造することができる。
N—ヒ ドロキシー 4一 [({4一 [4一(メチノレスノレホニル)フエノキシ]フェ二ノレ }ス ルホニル)メチル]テトラヒ ドロー 2 H—ピラン一 4一カルボキサミ ド。
前記 (製造法 9 )の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
JP02/13580
70
N—ヒ ドロキシー 2, 2—ジメチルー 4— ({4— [4一(メチルスルホニル)フエノ キシ]フエ二ノレ }スノレホニノレ)チオモルホリンー 3一カルボキサミ ド。
前記 (製造法 11)の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
ベンジル 3— [(ヒ ドロキサミノ)カルボ二ル]— 4一({4一 [4一(メチルスルホ ニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)ピぺラジン一 1—カルボキシレート。 前記 (製造法 11)の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
N—ヒ ドロキシー 1一({4ー[4— (メチルスルホニノレ)フエノキシ]フエ二ノレ }ス ルホニル)一 4一(モルホリン一 4ーィルカルボエル)ピぺラジン一 2—カルボキ サミ ド。
前記 (製造法 11)の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
JP02/13580
71
4— ( 2—フロイル)一 N -ヒ ドロキシー 1一( { 4一 [ 4一(メチルスルホニル)フ . ノキシ]フエ二ル}スルホニル)ピぺラジン一 2 _力ルポキサミ ド。
前記 (製造法 1 0 )の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
N -ヒ ドロキシ { 4 - [ 4 - (メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}スルホ: ル)ピぺラジン - 2 -力ルボキサミ ド。
前記 (製造法 9 )の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
N—ヒ ド口キシ一 4一( { 4— [ 4一(メチルスルホニル)フエノキシ]フエ二ル}ス ノレホニル)モノレホリン一 3—カノレポキサミ ド。
前記 (製造法 1 1 )の方法に従い、 下記化合物を製造することができる。
N—ヒ ドロキシー 4— (2—メ トキシェチル)一 1一({4— [4一(メチルスルホニ ル)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)ピペラジン一 2—カルボキサミ ド。
実施例 2と同様にして、 下記化合物を製造することができる。
N2—ェチル _Ni—ヒ ドロキシー N2—({4一 [4 _ (メチルスルホニル)フエノキ シ]フェ二ル}スルホ二ノレ)パリナミ ド。
実施例 2と同様にして、 下記化合物を製造することができる。
N1—ヒ ドロキシー N2—ィソブチル一 N2— ({4— [4一(メチルスルホニル)フ. ノキシ]フエ二ル}スルホニル)バリナミ ド。
実施例 4と同様にして、 '下記化合物を製造することができる。
N1—ヒ ドロキシー N2— ( 2 -エトキシェチル)一 N2—( { 4一 [ 4一(メチルスルホ 二ノレ)フエノキシ]フエ二ル}スルホニル)ノ リナミ ド。
実施例 4と同様にして、 下記化合物を製造することができる。
¾
N1—ヒ ドロキシー N2—(2—ィソプロボキシェチル)一N2— ({ 4— [ 4— (メチル スノレホェノレ)フエノキシ]フエ二ノレ }スノレホニノレ)バリナミ ド。
実施例 4と同様にして、 下記化合物を製造することができる。
N1—ヒ ドロキシー N2—(2—メ トキシプロピル)一N2— ({ 4— [ 4— (メチルスル ホエル)フエノキシ]フェ二ノレ }スノレホニノレ)バリナミ ド。
製剤例 1
錠剤の製造
各成分を混合し、 必要に応じて造粒した後、 打錠することで、 錠剤を製造する ことができる。
組 成 量 (m g Z錠剤) 実施例 2の化合物 2 0
乳糖 7 0
トゥモロコシデンプン 1 7
低置換度ヒドロキシプ口ピルセルロース 8
ヒ ドロキシプロピノレセノレロース 4
ステアリン酸マグネシウム
合 計 1 2 0
製剤例 2
錠剤の製造
各成分を混合し、 必要に応じて造粒した後、 打錠することで、 錠剤を製造する
ことができる。
組 成 量 (mg/錠剤)
実施例 24の化合物 20
D—マンニトーノレ 60
リン酸水素カルシウム 25
カノレメロースカノレシゥム 8
ヒ ドロキシプロピルメチノレセノレロース 4
タルク 3
Π B I 120 試験例
T T C緩衝液は MMP— 2酵素ァッセィキットに付属しており、 組成は 50 mM t r i s、 IraM塩化カルシウム溶液、 0.05 %TritonX—100溶液から p H 7. 5 に調製した溶液である。
ABT Sは MMP— 2酵素アツセィキットに付属している。
Streptavidin_PODはストレプトアビジン-ぺノレオキシダーゼを表す。
T r i s -HC 1は 2—アミノー 2—ヒドロキシメチルー 1, 3—プロパンジ オール塩酸塩である。 '
0.05 % B r i j 35はポリォキシェチレンドデシルエタンの 0.05 %溶液 である。
2.5mM 4ーァミノフエニル水銀アセテート(AMPA)溶液は、 4—ァミノフエ二 ル水銀ァセテ一ト(35ミリグラム)、 0. 1規定水酸化ナトリウム水溶液 (10ml)、 TTC緩衝液 (30tnl)から pH7.0力 ら 7.5となるように調製した溶液である。 N a N3はナトリウムアジドを表わす。
M0CAc-Pro-Leu-Gly-Leu-A2pr (DNP) - Ala-Arg- H2は( 7 -メトキシクマリン- 4 - ィノレ)— Pro - Leu-Gly - Leu— L— [N— ( 2, 4 -ジニトロフエニル)— L— 2, 3—ジァミノ プロピオニル] - Ala- Arg - H2(ぺプチド研)である。
D M S Oはジメチルスルホキシドを意味する。
MOP Sは 3—(N—モルホリノ)プロパンスルホン酸を意味する。
試験例 1 MMP-3阻害活性測 ¾ 験
MM P— 3活性化
ヒトプロストロメリジン cDNAの C末端が切断された物をサブクロー-ング し(pro匿 - 3, cDNA sequence in Nature, 348, 699 - 704 (1990))、 大月昜菌で発現、 更に Biochemistry 30, 6476 - 6483 (1991)の記載にしたがって精製された。 p r o MM P— 3の活性ィ匕は、 1 mM 4—ァミノフエニル水銀ァセテ一トで 60分 間 37 °Cで処理することにより行われた。
阻害試験方法
酵素活性試験を G. Knightの方法 (FEBS Lett. , 296(3), 263-266
(1992) )に従って行つた。
活性 MMP— 3 (20ηΜ、 10μ1)、 緩衝液ひ0 1、 lOOmM Tris- HC1溶液、 lOmM塩 ィ匕カルシウム溶液、 10 OmM塩化ナトリゥム溶液および 0.05%B r i j - 35溶液を含む p H 7. 5溶液)、 M0CAc-Pro-Leu-Gly-Leu-A2pr (DNP)-Ala-Arg- NH2の 0. 1 %DM S O溶液 (100 μ M, 10 / 1)と被験ィ匕合物の DM S O溶液を 1. 5 時間、 37。Cでィンキュベーションした。 混合物を 96孔のプレート上に 100 μ 1/ゥエルで処理し、 37 °Cで培養、 化合物存在下での酵素活性を蛍光強度( λ ex 320nm、 em 405nm)測定し、 I C5。を算出した。 試験例 2. MMP - 13阻害活性測定試験
MMP— 13活性ィ匕
プロコラーゲナーゼ一 3(proMMP- 13) c DN Aの C末端が切断された物をサブク ローニングする(J.Biol. Chem., 269 (24) , 16766-16773 (1994))ため、 2個の合 成オリゴヌクレオチドプライマー
(5-GGAATTCCATATGCTGCCGCTGCCGAGTGGTGGTG ATGMGATG- 3,および
5-TTTGGATCCTTAGCCGTACAGGCTTTGAATACCTTGTACATCGTCATCAGG-3' :前者は最初のメ チォニンを含む特有の Ndel部(下線部)のための配列が組み込まれており、 後者は 終止コドンと BamHI部(下線部)のための配列を有する。 ) 、 ヒト軟骨細胞 cD NAライブラリーと共に: PCRで用いられた。 これらのプライマーと P f U D NA ポリメラーゼ (STRATAGENE)により P C Rで、 完全な MMP— 13の 84の
アミノ酸の原配列と 1 64のアミノ酸とをコードする 7 6 7 bp フラグメントが 生成した。 該フラグメントは Ndelと BamHIとで取出され、 pETlla (STRATAGENE)の Ndelおよび BamHI部に接続され、 E. c o 1 i BL2 1 (DE3)中に形質転換され培養 された。 粗製の細胞抽出物力 ^Biochemistryの記載にしたがって調製された。 該抽 出物を 2 0 nil Tris-HCl (pH7.2)/5mM C a C 12/ 0. 0 2 % N a N3溶液で 透析し、 S P—セファロース HPカラム(1.6 x 10 cm、 アマシャム一ファノレマシ ァバイオテック)に処し、 溶出を 5 Om 1の 0から 0. 3 m塩化ナトリゥム溶液の 直線的変化により行つた。 (一部精製した proMMP-13は約 0.2Mで溶出した。 )溶出 分画を 2 OmM T r i s— HC 1 (pH7.9)/5mM C a C 12/ 200 mM (NH 2 S〇4Z 0. 02% N a N3溶液で透析し、 フエ二ルセファロース HPカラム (1.6 X 5cm、 アマシャムーファルマシアバイォテック)に付し、 溶出を 0. 2Mか ら 0 M硫酸ァンモニゥム溶液の直線的変化により行つた。 (精製した proMMP- 13は 約 50mMで溶出した。 )溶出分画を YM— 5限外濾過膜で濃縮、 4ーァミノフエ二 ル水銀アセテートで活性ィ匕し、 活性 MMP— 1 3を Biochemistry詰の記載に従い ゲル濾過ク口マトグラフィ一によりプロぺプチド断片から分離した。
阻害試験方法
酵素活性試験を G. Knightの方法 (FEBS Lett. , 296(3), 263-266 (1992)) に従って行った。
活性 MMP— 1 3 (20nM、 10 1)、 緩衝液(70 1、 lOOmM Tris- HC1溶液、 lOraM 塩化カルシウム溶液、 lOOmM塩ィ匕ナトリゥム溶液および 0.05%Brij - 35溶液を含む pH7.5溶液)、 MOCAc- Pro- Leu- Gly- Leu- A2pr (DNP)_Ala- Arg- NH2の 0. 1 %DMS O 溶液 (100 μ M, 10 1)と被験化合物の DM S O溶液を 1. 5時間、 3 7 °Cでィンキ ュベーシヨンした。 混合物を 9 6ゥエルのプレート上に 1 0 0 il/ゥエルで処理 し、 3 7 °Cで培養、 化合物存在下での酵素活性を蛍光強度( Lex 320nm、 λ em 405nm)測定し、 I C5。を算出した。 試験例 3 MMP- 2阻害活性測 験
MMP— 2酵素アツセィキット(Gelatinase Activity Assay, 口ッシュ ·ダイ ァゴニスティッタス)を使用した。
MM P— 2活性化
1.2 Uヒ ト MMP— 2 (20 A( 1、 ベーリンガーマンハイム 30U凍結乾燥品)、 TTC緩衝液 (980 1)、 2.5mM 4ーァミノフエニル水銀アセテート溶液(144 μΐ)を 37°Cで 30分間インキュベートした後、使用時まで氷冷下で保存した。 阻害試験方法
所定濃度の化合物の DM S O溶液 (2 1)、 ピオチン標識されたゼラチン(188^ 1)、 活性化 ΜΜΡ— 2の溶液(10 Αί 1)を 96 ゥエルァッセィプレート(タンパク 非吸着型)のゥエルに入れ、 よく振盪し、 37°Cで 1時間ィンキュベーションし た。 この溶液を Streptavidinをコーティングしたプレートに移し、 15°Cから 3 0°Cで 30分間振盪した。 その後、 3回 TTC緩衝液 (200 i l)で洗浄した。 更に
Streptavidin- POD (200 1)を添カ卩し、 15 から 25 °C で 60分間振盪し たのち、 3回 TTC緩衝液 (200/^1)で洗浄した。 ついで、 ABTS 溶液 (200μ1) を加え、 室温で 40分放置後、 蛍光強度 405 nmで測定し、 I C5。を算出した。 尚、 上記測定にあたり、 コントロールおよびブランクはゥエル調製時に以下の ように調製した。 コントロールはサンプル溶液の替りに DM SO (2 il)を加えた。 また、 ブランクはサンプル溶液の替りに DMSO (2^1)を加え、 かつ活性ィヒ MM P— 2溶液(10 il)の替りに、 1. 2Uヒ ト MMP— 2を加えずに活性化 MM P— 2溶液調製時と同様に調製した溶液 (10 1)を加えた。 試験例 4 MMP—9阻害活性測^^験
MMP— 9活性化
緩衝液(190 1; 50mM Tris— HCl溶液、 0.5m塩化ナトリゥム溶液、 5mM塩化 カルシウム溶液、 から pH7.5に調整したもの)、 ヒト MMP—9 (10 1)、 トリ プシン溶液 (20 1; トリプシン 3mg を 5 ml活性化緩衝液に溶解)を混合し、 3 7°Cで 10分間インキュベーションした。 これにァプロチュン溶液(20μ1; ァ プロチニン 3mgを 5ml緩衝液に溶解)を加え、 37 で 10分間ィンキュベ ーシヨンした。 ついで、緩衝液 (2ml)を追加した。 これを使用時まで氷冷下で保 存した。
阻害試験方法
所定濃度の化合物の DM S O溶液 (2 1)、 ビォチン標識されたゼラチン(188 1)、 活性化 MMP— 9の溶液(10 At 1)を 96ゥエルァッセィプレート(タンパク非 吸着型)のゥエルに入れ、 よく振盪し、 37°Cで 1時間インキュベーションした。 この溶液をストレプトアビジンをコーティングしたプレートに移し、 15でから 30 °Cで 3◦分間振盪した。 その後、 3回 T T C緩衝液 (200 μ 1)で洗浄した。 更 に Streptavidin— POD (200 μ 1)を添カ卩し、 15 °Cから 25 で 60分間振盪し たのち、 3回 TTC緩衝液(200μ1)で洗浄した。 ついで、 ABTS溶液(200μ1) を加え、 室温で 40分放置後、 蛍光強度 405 nmで測定し、 I C5。を算出した。 なお、上記測定にあたり、 コント口ールはサンプル溶液の替りに DM S O (2 μ 1)を加えた。 また、 ブランクはサンプル溶液の替りに DM SO (2 μΐ)を加え、 か つ活性化 ΜΜΡ— 9溶液(ΙΟμΙ)の替りに、 1.2Uヒト ΜΜΡ— 9を加えずに活 性化 ΜΜΡ― 2溶液調製時と同様に調製した溶液 (10 1)を加えた。 試験例 5 MM P-14 (MT 1 - MM P )阻害活性測^;験
ヒトリコンビナント MT1— MMPはメーカー;バイオジェネシス社、 購入 先;コスモバイオ (ナカライテスク)を使用した。
阻害試験方法
アツセィ緩衝液(70^ 1;0.1M Tris - HC1溶液, 0.1M塩化ナトリゥム溶液, lOmM 塩ィ匕カルシウム溶液, 0.05% Brij35から pH7.5に調製した溶液)、 化合物の 0.1%
MMP基質溶液(10 z 1; MOCAc— Pro— Leu - Gly— Leu -
A2pr (DNP) - Ala - Arg- NH2、 ぺプチド研をアツセィ緩衝溶液で 50 β Μに希釈した溶 液)、 ヒトリコンビナント MT 1 -ΜΜΡ (0.4pg/l0;u 1/ゥエル)をよく攪拌振盪 した。 これを蛍光プレートリーダーにて測定した(え ex320nm/ em405nm)。 3 7°Cで 0.5時間インキュベーションした後、各時間ごとに蛍光プレートリーダー にて測定し( λ ex320nm/ λ em405nm)、 I C50を算出した。
阻害値は MT1— MMPを添カ卩したゥエルの蛍光平均値から、 ブランクのゥ エルの平均値を差し引いた値から算出した。 なお、 ブランクとしては、 MT1 一 MM P溶液の代わりに Assay bufferを 10 1添カ卩した混合液を用いた。
試験例 6 MMP- 1阻害活性測 験
MMP-1 (間質コラゲナーゼ: EC3.4.24.7、 ヒトリユーマチ滑膜線維芽細胞、 calbiochem cat.444208)は 37 で 60分間 AMP Aで活性化した。 被験物質は 5 OmM MO P S (pH7.2)、 10 mM塩化カルシゥム水溶液、 1 0 μ Μ塩化亜鉛を含 んだ反応混合物中、 活性化 MM Ρ— 1と 37°Cで 60分間プレインキュペートし た。 これに 25 丽 ca - ? 0-1^ひ-0 3-八13-1^- 2を加ぇて、 3 7°Cで 1 20分間 インキュベートした。 酵素活性は Mca- Pro- Leu- Glyの蛍光強度により測定し、 I C5。を算出した。
試験例:!〜 6の結果を表 3に示した。 尚、 表中の阻害活性値は I C 5。値 (nM) を表す。
表 3
MMP活性
室偷例 MMP - 13 MMP-3 MMP-14 MMP-2 MMP-9 置 - 1 阻害活性値 阻害活性値 阻害活性値 阻害活性値 阻害活性値 阻害活性値 比較例 1 7.4 88 87.3 〉100 >100 NT 実施例 2 5.7 21.2 3802 く 100 300 7210 実施例 3 0.5 4.8 172 〉100 1000 NT 実施例 5 1.3 15.4 105 100 >100 NT 実施例 10 34.4 85.8 >5000 2400 6800 NT 実施例 12 4 16 893.3 <100 く 100 〉10000 実施例 13 10.8 13.5 >5000 900 4700 〉10000 実施例 15 24.6 5.2 >5000 300 700 NT 実施例 18 3.1 29.9 799 100 500 3300 実施例 22 1.9 26.6 668 1200 1400 〉10000 実施例 23 4.1 21.6 〉5000 2100 2300 )10000 実施例 24 16.3 128.2 〉5000 〉10000 > 10000 NT 実施例 26 1.9 14.3 395.4 300 >100 3900 実施例 27 21.3 89.4 >5000 〉10000 > 10000 NT 実施例 31 11.2 59 >5000 800 4900 NT 実施例 36 3.81 37.1 937.8 2900 >100 NT 実施例 42 4.02 67.5 >5000 く 100 4300 〉10000 実施例 43 〈0.5 8.5 82 1500 600 NT 実施例 44 0.5 2.7 343 >100 〉10000 NT 実施例 45 0.6 1.5 〉1500 >100 >100 4960 実施例 46 10.5 11.6 〉1500 〉100 >100 NT 実施例 48 6.9 35.9 >1500 >100 >100 NT 実施例 50 3 38 >1000 >100 244 NT
N T:未試験 なお、 比較例 1の化合物は下記式で示され、 上記実施例 4 9および 5 0と同様 にして製造した。
試験例 7 アジュバント関節炎 (インビボ)
実験動物として Lewis系雄 '1*生ラットを用いた。 Mycobacterium butyricumの死菌 菌体を 0 . 5 %の濃度になるように流動パラフィンに懸濁した液をラットの右側 後肢足躕皮下に注入した。 1 0日後に左側後肢にも明確な 2次炎症の発症の見ら れた動物を選び、 0 . 5 %メチルセルロース溶液に懸濁させた本発明化合物(実施 例 2の化合物)を 1 2日間連続 1日 1回経口投与し、 投与終了から 5時間後の後肢 容積を投与開始時の後肢容積と比較し、 この差により腫脹抑制作用の評価を行つ た。
その結果を表 4に示した。
** : Pく 0. 01 (t検定) 試験例 8 ラット半月板切除モデル試験 (ィンビポ)
実験動物として 6週齢の SD (IGS)系雄性ラットを用いた。 右後肢の関節の半月 板を部分的に切除した。 実施例 2の化合物を 1日 1回 5 O mg/kgを 3週間経口投 与した。 関節部の組織標本を作製し、 サフラニン 0/ファーストグリーン染色を施 し、 軟骨変性を評価した。 病態コントロール群の軟骨変性の程度を 1 0 0 %とし、 被験薬投与群の軟骨の変性程度を算出した。 軟骨変性率は 3 3 %であった。 (* ; p < 0. 05, Steel-test)