WO2002103417A3 - Justierverfahren, insbesondere laser-justierverfahren, und hierfür geeigneter aktor - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Justierverfahren, insbesondere für das Justieren optischer oder faseroptischer Komponenten, bei dem ein erster Teilbereich eines Justierbereichs (106, 114) eines Aktors (100, 200, 400) lokal so weit definiert erhitzt wird, dass in Folge der von wenigstens einem zweiten Teilbereich des Justierbereichs des Aktors (100, 200, 400) behinderten thermischen Ausdehnung des erhitzten Teilbereichs in diesem Druckspannungen entstehen, die bei Erreichen der Fliessgrenze σF des Materials des Teilbereichs zu einer plastischen Stauchung des erhitzen Teilbereichs führen und bei dem sich der erhitzte erste Teilbereich wahrend des Abkühlens verkürzt und so nach dem Abkühlen eine definierte Geometrieänderung des Aktors (100, 200, 400) eintritt, wobei in Folge einer Behinderung der Verkürzung durch den wenigstens einen zweiten Teilbereich im zuvor erhitzten ersten Teilbereich Zugspannungen entstehen und in dem wenigstens einen zweiten Bereich Druckspannungen eingefroren werden. Nach der Erfindung werden wesentliche Bereiche des Aktors (100, 200, 300, 400), in denen nach dem Abkühlen die Zug- oder Druckspannungen eingefroren sind, nach dem Abkühlen zumindest so lange auf eine hinsichtlich des Einsatztemperaturbereichs des Aktors kritische Temperatur (Tk) gebracht, bis Fliessprozesse des Materials bei der kritischen Temperatur weitgehend abgeschlossen sind. anschliessend wird erneut ein Justiervorgang durchgeführt. Des Weiteren betrifft die Erfindung einen Aktor, der zur Durchführung dieses Verfahrens besonders geeignet ist sowie ein optisches Bauelement mit einem derartigen Aktor.
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