WO2002088105A1 - Process for producing oxirane compound - Google Patents

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WO2002088105A1
WO2002088105A1 PCT/JP2002/003986 JP0203986W WO02088105A1 WO 2002088105 A1 WO2002088105 A1 WO 2002088105A1 JP 0203986 W JP0203986 W JP 0203986W WO 02088105 A1 WO02088105 A1 WO 02088105A1
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PCT/JP2002/003986
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Inventor
Manabu Sasyou
Toshihiko Naito
Original Assignee
Eisai Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00Preparation of oxiranes
    • C07D301/02Synthesis of the oxirane ring
    • C07D301/24Synthesis of the oxirane ring by splitting off HAL—Y from compounds containing the radical HAL—C—C—OY
    • C07D301/26Y being hydrogen
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a lipid A (Lipid A) analog (lipid A) useful for prevention and treatment of endotoxin exposure including infectious disease (sepsis), septicemia (septicemia), endotoxemia and various forms of septic shock.
  • the present invention relates to a novel method for producing an oxysilane compound which is important as a side chain synthesis intermediate of E5564). Background art
  • E5564 a lipid A. analog disclosed in U.S. Patent Nos. 5,750,664 and 5,935,938, is a compound represented by the following structural formula:
  • LPS lipopolysaccharide
  • Lipid A is thought to play a central role in the toxicity exhibited by this bacterial lipopolysaccharide molecule.It has a structure in which diphosphorylated disaccharides are acylated by long-chain fatty acids. I have.
  • E5564 is a compound that has been developed as an analog to suppress the toxicity of lipid A. As shown in the above formula, E5564 has four side chains from diphosphorylated disaccharide. It has a rugged structure.
  • the fourth side chain from the right (hereinafter referred to as the “fourth side chain”), a 3-methoxydecanol derivative, is a side chain having a characteristic structure.
  • the present inventors have found an industrially advantageous method for producing a 3-methoxydeoxyl derivative from (S)-(2-benzyloxystyl) oxylan and have filed a patent application ( Japanese Patent Application No. 200 1-1 23 95 1).
  • An object of the present invention is to provide an excellent method for synthesizing (S)-(2-benzyloxyshethyl) oxysilane, which solves the above problems.
  • Another object of the present invention is to provide a method for producing highly pure (S)-(2-benzyloxystyl) oxylan which has an excellent total yield and does not require purification using a column, in addition to the above objects.
  • An object of the present invention is to provide an industrially very useful method.
  • the present inventors have found that the novel production method satisfies these conditions and is industrially very useful. That is, the present inventors have found the following ⁇ 1> to ⁇ 11>. ⁇
  • the compound (4) represented by the general formula (4) [wherein PG 1 represents a protecting group for a hydroxyl group] is a compound represented by the general formula (5) , R 3 and R 4 each represent a C 1 _6 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 has the same definition as described above.)
  • the compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. And each symbol has the same definition as described above.]
  • a compound (6) and / or a general formula (7) [Wherein each symbol has the same definition as above], and then the leaving group of these compounds (6) and Z or compound (7) is eliminated.
  • a protecting group is introduced into the compound (2) represented by the general formula (2), wherein R 1 and R 2 each represent a C 1 _6 alkyl group which may be the same or different, and Wherein R 1 and R 2 have the same definition as described above, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group.
  • R 3 and R 4 are the same or different may be C 1 one alkyl group of the compound (4), PG 1 Has the same definition as described above.
  • a protecting group is introduced into the compound (1) represented by the general formula (1) to form a compound represented by the general formula (2) wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each is a C 16 alkyl group.
  • R 1 and R 2 may be the same or different and each is a C 16 alkyl group.
  • R 3 and R 4 are the same or different may be C 1 _ 6 alkyl group of the compound (4), PG 1 Has the same definition as described above.
  • ⁇ 7> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein X is a bromine atom.
  • ⁇ 8> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein ⁇ is an acetyl group.
  • ⁇ 9> The method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein PG 1 is a benzyl group.
  • R ⁇ 3 > and R ⁇ 4 > are methyl groups. the method of.
  • a C 1-6 alkyl group refers to a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, i -Propinole, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, i-pentyl, sec-pentyl, t-pentyl, neopentyl, 1-methylol Butyl, 2-methylbutyl, 1,1-dimethylpropyl, 1,2-dimethylpropyl, n-hexyl, i-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3- Methylpentyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-d
  • the C 2-11 acyl group means a C 2-11 aliphatic acyl group, a C 7-11 aromatic acyl group, and a C 1-10 alkyl group, a C 2-10 alkenyl group or Above C A 2- to 10-alkyl group having a carbonyl group bonded to the terminal thereof; and a C6-10 aryl group having a terminal carbonyl group or the above C2-7 aliphatic acyl group at the terminal thereof.
  • a group derived by removing one hydrogen atom and corresponding thereto is bonded, and specifically, for example, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, a vivaloyl group, and a hexanoyl group
  • Octanoyl group acryloyl group, methacryloyl group, methacrylonitrile group, benzoyl group, o-tonoleoyl group, m-tonoleoyl group, P-toluoyl group, cinnamoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, etc.
  • hydroxyl-protecting group examples include, but are not particularly limited to, any group that is generally known as a hydroxyl-protecting group in organic synthesis. Examples thereof include a trimethylsilyl group and a t-butyl group.
  • a lower alkylsilyl group such as a dimethylsilyl group; a lower alkoxymethyl group such as a methoxymethyl group and a 2-methoxyethoxymethyl group; for example, a tetrahydroviranyl group; for example, a benzyl group, a P-methoxybenzyl group, and 2,4;
  • Aralkyl groups such as -dimethyloxybenzyl group, 0-nitrobenzyl group, p-nitrobenzyl group, and trityl group; for example, acyl groups such as formyl group and acetyl group; for example, t-butoxy force / repotinole group, Lower alkoxycarbonyl groups such as 2-odo
  • Elimination of these protecting groups can be carried out by a conventional method such as hydrolysis or reduction depending on the type of the protecting group used.
  • the halogen atom specifically refers to, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
  • the leaving group may be any group that is generally known as a leaving group in organic synthesis, and is not particularly limited. Examples thereof include a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; Substituted or unsubstituted acetoxy groups such as trifluoroacetoxy group; substitution of methanesulfonolenoxy group, trifluoromethanesulfoninoleoxy group, benzenesnolephoninolexy group, p-toluenesolephoninoleoxy group, etc.
  • a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom
  • Substituted or unsubstituted acetoxy groups such as trifluoroacetoxy group
  • a Suruhoniruo alkoxy group more preferably a bromine atom, an iodine atom, Asetokishi group, methanesulfonic sulfo two / Reokishi group, p - toluene sulfonyl Nino les group.
  • the type of the salt is not particularly limited, but specific examples thereof include, for example, hydrofluoric acid, hydrochloride, sulfate, nitrate, perchlorate, phosphate, carbonate, bicarbonate
  • Addition salts of inorganic acids such as, hydrobromide and hydroiodide
  • organic carboxylic acids such as acetate, maleate, fumarate, oxalate, lactate, tartrate, trifluoroacetate
  • Addition salts methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, ethanesulfonate, hydroxymethanesulfonate, hydroxyxetane snorefonate, benzenesnolefonate, tonoleensnolefonate, taurine salt, etc.
  • Addition salts of organic sulfonic acids trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridin salts, proline salts, picoline salts, dicyclohexylamine salts, N, N '— Giben
  • Addition salts of amines such as diethylenediamine salt, N-methyldalcamine salt, diethanolamine salt, triethanolamine salt, tris (hydroxymethylamino) methane salt and phenylbenzylamine salt; sodium salt,
  • Addition salts of alkali metals such as potassium salts; addition salts of alkaline earth metals such as magnesium salts and calcium salts; addition of amino acids such as arginine, lysine, serine, glycine, aspartate and glutamate Salts and the like can be mentioned.
  • the production method of the present invention can be carried out by the following method.
  • each symbol represents the same group as defined above.
  • Step 1 is a step of introducing a protecting group into the diol.
  • a dialkoxyalkyl such as dimethoxypropane, dimethoxypentane, dimethoxyheptane, ethoxypropane, diethoxypentane or diethoxyheptane, or a ketone such as acetone, getylketone or diisopropylketone is acidified.
  • a compound of formula (2) can be obtained.
  • the acid catalyst is not particularly limited.
  • hydrochloric acid, hydrogen bromide, hydrogen fluoride, sulfuric acid, phosphoric acid, boron trifluoride getyl ether complex, p-toluenesulfonate, pyridinium p-toluenesulfonate, (1S ) _ (+) - 10-camphorsulfonic acid, and the like may be used triphenylmethyl salts such TrC10 4.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction.
  • dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate, getyl ether, t- Butyl methyl ether, toluene, chloroform, methylene chloride, or benzene chloride, or a mixed solvent thereof can be used.
  • -Incubate at 20 ° C to 100 ° C for several hours to tens of hours.
  • Step 2 is a step of introducing a protecting group into a hydroxyl group.
  • the alcohol compound of formula (2) is reacted with a reagent such as benzyl chloride, methoxymethyl chloride, benzyloxymethyl chloride, or p-methoxybenzyloxymethyl chloride in the presence of a base, usually in the presence of a base.
  • a reagent such as benzyl chloride, methoxymethyl chloride, benzyloxymethyl chloride, or p-methoxybenzyloxymethyl chloride in the presence of a base, usually in the presence of a base.
  • the compound represented by (3) can be obtained.
  • Bases include n-butyllithium, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, carbon dioxide, carbon dioxide, potassium t-butoxide, lithium disopropylamide, lithium Hexamethyldisilazane, sodium hexamethyldisilazane, or the like can be used.
  • the reaction can be performed at 0 to 100 ° C. in a non-protonic solvent such as tetrahydrofuran, getinoleatenole, t-butynolemethinoleatele, or dioxane, or a mixed solvent thereof.
  • the reaction time is usually several hours.
  • Step 3 is a step of deprotecting the protecting group of the diol.
  • PG 1 is not deprotected.
  • an acetal-based protecting group it can be deprotected with an acid such as hydrochloric acid.
  • the reaction can be performed in a solvent such as methanol, ethanol, propanol, butanol, acetonitrile, toluene, or dimethylformamide, or a mixed solvent thereof.
  • the reaction can be performed at 0 to 100 ° C for several hours to tens of hours.
  • Step 4 is a step of converting 1,2-diol to a cyclic orthoester.
  • the compound represented by the formula (4) is converted to trimethyl orthoacetate, trimethyl orthopropionate, trimethyl orthobutyrate, trimethyl orthovalerate, trimethyl orthobenzoate, trimethyl orthoacetate, triethyl orthopropionate in the presence of an acid catalyst.
  • the compound represented by the formula (5) can be obtained by reacting with orthoesters such as triethyl orthobutyrate, triethyl orthovalerate, and triethyl orthobenzoate.
  • the acid catalyst is not particularly limited.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction.
  • the solvent examples include dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate, diethylenoethenol, t-butynolemethynoleethenol, and tonolone.
  • Chlorophonolem, methylene chloride, or benzene chloride, or a mixed solvent thereof can be used.
  • the reaction is usually performed at 0 ° C to 100 ° C for several tens of minutes to several hours.
  • Step 5 is a step of opening the cyclic orthoester and introducing a leaving group.
  • an acyl halide represented by the general formula Y—X wherein each symbol has the same meaning as described above
  • the compounds represented by the formulas (6) and ( The compound represented by 7) can be obtained.
  • the acyl halide acetyl chloride, acetyl chloride, acetyl chloride, acetyl chloride, trimethylsilyl chloride, trimethylsilyl bromide, trimethylsilyl iodide, benzoyl chloride, benzoyl bromide, benzoyl iodide, etc.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction.For example, dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate, getyl ether, t-butyl methine ether, toluene, chloroform, chloride, etc. Methylene, benzene chloride, or a mixed solvent thereof can be used.
  • the reaction is usually performed at 0 ° C to 100 ° C for tens of minutes to several hours.
  • Step 6 is a step of a ring-closing reaction of the oxysilane.
  • the oxysilane compound represented by the formula (8) can be obtained.
  • the base potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, carbon dioxide lime, hydrogen carbonate lime, or the like can be used.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. For example, methanol can be used.
  • the reaction is usually performed at 0 ° C to 100 ° C for several tens of minutes to several hours.
  • Steps 4 to 6 can be applied to the next reaction without isolating each target compound.
  • X is preferably a bromine atom and the like
  • Y is preferably an acetyl group and the like
  • PG] is preferably a benzyl group and the like
  • R 3 and R 4 are preferably a methyl group and the like
  • R 1 and R 2 are preferably an ethyl group. Therefore, the method of the present invention can be implemented by the following scheme.
  • Ts is a p-toluenesulfonyl group
  • Bn is a benzyl group
  • TBAI is tetra-n-butylammonium hydroxide
  • PPTS is pyridyl-dimethyl P-toluenesulfonate
  • Ac is acetyl Each means a group.
  • the solvent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and may be any solvent that is generally used in organic synthesis.
  • the solvent include methanol and ethanol. , Lower alcohols such as propanol and butanol, polyalcohols such as ethylene glycol and glycerin, ketones such as acetone, methinoolethylene ketone, ethynoleketone and cyclohexanone, getyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, and dioxy.
  • Ethers such as sun, 2-methoxyethanol and 1,2-dimethoxetane, trinitols such as acetonitrile and propionitrile, and esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, petitinole acetate, and ginolephthalate.
  • the bases that can be used in the present invention are those that do not inhibit the reaction, and are not particularly limited as long as they are generally known as bases in organic synthesis.
  • bases in organic synthesis for example, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride, potassium t-butoxide, pyridine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropylethyl N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N-methylbiperidine, N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicik mouth [5,4,0] pendene-7-ene (DBU), pyridine , 4-dimethylaminoviridine, picoline, lutidine, quinoline, isoquinoline, sodium hydroxide, hydroxylated water, hydroxylated Lithium, heptyl lithium, sodium methylate, Kariumumechi acrylate, etc. Natoriumu or force
  • purification can be performed by a usual treatment method, for example, by column chromatography using silica gel or an adsorption resin, or by recrystallization from a suitable solvent.
  • benzyl bromide a solution of 25.5 g (0.149 mol) in tetrahydrofuran (50 ml), tetra-n-butylammonium iodide: 5.3 g (0.014 mol) And heated again at 70 ° C for 2 hours. Under ice-cooling, water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate (250 ml). The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and n-hexane (250 ml) was added to the residue. After filtration of the insolubles, the solvent was distilled off to obtain 40.8 g (quant.) Of the title compound.
  • (S)-(2-benzyloxystyl) oxysilane () is converted to the following (3R) -3-methoxy-1-decanol (4) or (3R) -3-methoxydecanyl methanesulfur Fornate (5) , Used by guiding.
  • Reference Example 1 Method for producing (3R) -3- 3-methoxydecanyl methanesulfonate
  • (3R) _1-benzyloxydecane-3-ol A solution of 1.80 g (6.8 mmol) in tetrahydrofuran (2 ml) was mixed with potassium hydroxide: 895 mg (13.6 s ol), and lodomethane: 0.55 ml ( 8.8 mmol) and stirred for 4 days. Water was added to the reaction solution, extracted with n-hexane, and the extract was washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • Ice-cooled (3R) -3- 3-methoxy-1-decanol 1.90 g (10.1 acetyl) of tetrahydrofuran (20 ml) in solution of triethylamine: 1.60 ml (11.5 glutanol) ), And then 0.80 ml (10.3 tmol) of methanesulfonyl chloride was added, followed by stirring for 30 minutes. Water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate (20 ml). The extract was washed with water and saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • E5564 (R) -3-Methoxy-1-decanol (4) and (3R) -3-methoxydecanyl methanesulfonate (5) thus obtained can be used for the production of E5564 by the following method.
  • This E5564 can be produced, for example, by a method represented by the following scheme, as disclosed in US Pat. Nos. 5,750,664, 5,935,938, and JP-T-11-506793.
  • E5564 can be similarly produced by using the following formula synthesized in the present application instead of

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Abstract

An industrially more advantageous process for producing an oxirane derivative. The process, by which a compound (8) represented by the general formula (8) (wherein PG1 represents a hydroxyl-protecting group), a salt thereof, or a hydrate of either is produced, is characterized by eliminating the leaving groups of a compound (6) represented by the general formula (6) (wherein X represents halogeno; Y represents C¿2-11? acyl; and PG?1¿ is as defined above) and/or a compound (7) represented by the general formula (7) (wherein the symbols are as defined above). (6) (7) (8)

Description

明 細 書  Specification
ォキシラン化合物の製造方法 技術分野  Method for producing oxysilane compounds
本発明は、 感染症 (sepsis)、 敗血症 (septicemia)、 内毒素症 (endotoxemia) 及び種々の形の敗血症性ショックを含むェンドトキシン露出の予防 ·治療に有用 なリピッド A (Lipid A) 類縁体 (E5564) の側鎖の合成中間体として重要なォキ シラン化合物の新規製造方法に関する。 背景技術  The present invention relates to a lipid A (Lipid A) analog (lipid A) useful for prevention and treatment of endotoxin exposure including infectious disease (sepsis), septicemia (septicemia), endotoxemia and various forms of septic shock. The present invention relates to a novel method for producing an oxysilane compound which is important as a side chain synthesis intermediate of E5564). Background art
米国特許第 5750664号、 及び第 5935938号公報に開示されているリピッド A.類 縁体の E5564は、 以下の構造式で表される化合物であり、  E5564, a lipid A. analog disclosed in U.S. Patent Nos. 5,750,664 and 5,935,938, is a compound represented by the following structural formula:
Figure imgf000003_0001
Figure imgf000003_0001
グラム陰性菌外膜のリポ多糖類(LPS)成分が引き起こす致死率の高いグラム陰性 菌血症、 特にェンドトキシンショックの予防 ·治療などに優れた効果を有する。 It is highly effective in preventing and treating gram-negative bacteremia with a high lethality caused by the lipopolysaccharide (LPS) component of the outer membrane of gram-negative bacteria, especially endotoxin shock.
リピッド Aは、 この細菌性リポ多糖分子が示す毒性において、 中心的な役割を 果たしていると考えられており、 2リン酸化された 2糖類が、 長鎖脂肪酸により ァシル化された構造を有している。  Lipid A is thought to play a central role in the toxicity exhibited by this bacterial lipopolysaccharide molecule.It has a structure in which diphosphorylated disaccharides are acylated by long-chain fatty acids. I have.
E5564は、 このリピッド Aの毒性を抑えるべく、 その類縁体として開発された 化合物であり、 上記式で示されるように 2リン酸化された 2糖類から 4本の側鎖 がのぴた構造を有している。 E5564 is a compound that has been developed as an analog to suppress the toxicity of lipid A. As shown in the above formula, E5564 has four side chains from diphosphorylated disaccharide. It has a rugged structure.
〈従来の技術〉  <Conventional technology>
この 4本の側鎖の内、 右から 4番目の側鎖 (以下 「第 4側鎖」 とレ、う) である 3-メ トキシデカノール誘導体は、 特徴的な構造を有する側鎖であり、 本発明者ら は鋭意研究の結果、 (S)- (2-ベンジルォキシェチル)ォキシランから 3-メ トキシデ 力ノール誘導体を製造する工業的に有利な方法を見出し特許出願を行った (特願 200 1 - 1 23 95 1号)。  Of these four side chains, the fourth side chain from the right (hereinafter referred to as the “fourth side chain”), a 3-methoxydecanol derivative, is a side chain having a characteristic structure. As a result of diligent studies, the present inventors have found an industrially advantageous method for producing a 3-methoxydeoxyl derivative from (S)-(2-benzyloxystyl) oxylan and have filed a patent application ( Japanese Patent Application No. 200 1-1 23 95 1).
この(S)- (2-ベンジルォキシェチル)ォキシランについては、 例えば Frickらは ァスパラギン酸から 3工程で製造する方法を開示している (Synthesis, p621, 1992)。 この方法は工程数が短いが、 目的化合物の収率や、純度などの点での問題 カ あった。 発明の開示  For example, Frick et al. Disclose a method for preparing (S)-(2-benzyloxyshethyl) oxylan from aspartic acid in three steps (Synthesis, p621, 1992). Although this method has a short number of steps, it has problems in the yield and purity of the target compound. Disclosure of the invention
本発明の目的は、 上記問題を解決した、 優れた(S)- (2-ベンジルォキシェチル) ォキシランの合成方法を提供することにある。  An object of the present invention is to provide an excellent method for synthesizing (S)-(2-benzyloxyshethyl) oxysilane, which solves the above problems.
また、 本発明の目的は、 上記目的に加えて、 トータル収率に優れ、 カラムなど での精製の不要な純度の高い(S) - (2-ベンジルォキシェチル)ォキシランを製造す る方法であって、 工業的に非常に有用な方法を提供することにある。  Another object of the present invention is to provide a method for producing highly pure (S)-(2-benzyloxystyl) oxylan which has an excellent total yield and does not require purification using a column, in addition to the above objects. An object of the present invention is to provide an industrially very useful method.
本発明者らは、鋭意研究を行った結果、新規製造方法がこれらの条件を満たし、 工業的に非常に有用であることを見出した。 即ち、 本発明者らは、 以下の < 1 > 〜< 1 1〉を見出した。 ―  As a result of intensive studies, the present inventors have found that the novel production method satisfies these conditions and is industrially very useful. That is, the present inventors have found the following <1> to <11>. ―
< 1 > 一般式(6)〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2- 1 1ァシル基を、 PG1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される化合物 (6) および/また は一般式(7) 〔式中、各記号は前記定義に同じ基を示す〕 で表される化合物(7) の脱離基を脱離させることを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は前記定義に 同じ基を示す〕 で表される化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の 製造方法:
Figure imgf000004_0001
OY
<1> A compound represented by the general formula (6), wherein X represents a halogen atom, Y represents a C2-111 acyl group, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group. Or leaving a leaving group of the compound (7) represented by the general formula (7) wherein each symbol represents the same group as defined above, wherein the general formula (8) [ Wherein the symbol represents the same group as defined above.] A method for producing a compound (8) or a salt thereof or a hydrate thereof:
Figure imgf000004_0001
OY
γ Τ „ (7)
Figure imgf000005_0001
γ Τ „(7)
Figure imgf000005_0001
< 2 > 一般式 (5) 〔式中、 R 3および R 4はそれぞれ同一又は異なってもよ い C l _ 6アルキル基を、 PG1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される 化合物 (5) に、 式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1アシノレ 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および Zまたは一般式 (7)<2> A compound represented by the general formula (5) wherein R 3 and R 4 each represent a Cl 6 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group. (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X (wherein X represents a halogen atom, and Y represents a C 2-11 acyl group), and a compound represented by the general formula (6): Each symbol has the same definition as described above.] Compound (6) and Z represented by general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) および または化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法:
Figure imgf000005_0002
[Wherein each symbol has the same definition as described above], and the leaving group of these compounds (6) and / or (7) is then eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof:
Figure imgf000005_0002
x_  x_
Y0 1 (6)  Y0 1 (6)
Figure imgf000005_0003
Figure imgf000005_0003
< 3 > 一般式 (4) 〔式中、 PG1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表さ れる化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R3お よび R4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1 _6アルキル基を示し、 PG1は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (5) とし、 <3> The compound (4) represented by the general formula (4) [wherein PG 1 represents a protecting group for a hydroxyl group] is a compound represented by the general formula (5) , R 3 and R 4 each represent a C 1 _6 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 has the same definition as described above.)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および または一般式 (7) 〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) および Zまたは化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: ) The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. And each symbol has the same definition as described above.] A compound (6) and / or a general formula (7) [Wherein each symbol has the same definition as above], and then the leaving group of these compounds (6) and Z or compound (7) is eliminated. A method for producing a compound (8) or a salt thereof or a hydrate thereof represented by the following general formula (8): wherein the symbols have the same definitions as described above:
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0001
OY  OY
(7)  (7)
OPG
Figure imgf000006_0002
OPG
Figure imgf000006_0002
く 4〉 一般式 (3) 〔式中、 R 1および R2はそれぞれ同一又は異なってもよ い C 1一 6アルキル基を、 PG1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される 化合物 (3) を酸で処理して一般式 (4) 〔式中、 PG1は上述と同じ定義を有す る〕 で表される化合物 (4) とし、 次いで該化合物 (4) の 2つの水酸基に保護 基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R3および R4はそれぞれ同一又は異なっても よい C 1一 6アルキル基を示し、 PG1は上述と同じ定義を有する〕 で表される 化合物 (5) とし、 4> A compound represented by the general formula (3) wherein R 1 and R 2 each represent a C 16 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group. (3) is treated with an acid to give a compound (4) represented by the general formula (4), wherein PG 1 has the same definition as described above; and then the two hydroxyl groups of the compound (4) Wherein R 3 and R 4 each represent a C 16 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 has the same definition as described above. Compound (5)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および または一般式 (7)The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. And each symbol has the same definition as described above.] A compound (6) and / or a general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) およびノまたは化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: チ。
Figure imgf000007_0001
[Wherein each symbol has the same definition as above], and the leaving group of these compounds (6) and (h) or compound (7) is then eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof: Ji.
Figure imgf000007_0001
OR 4  OR 4
(5) (Five)
YO、 ^ ^ハ 1 (6) YO, ^ ^ c 1 (6)
OY OY
X、/\^\ハ nハ 1 X, / \ ^ \ ha nha 1
Figure imgf000007_0002
(8)。
Figure imgf000007_0002
( 8 ).
< 5 > 一般式 (2) 〔式中、 R1および R 2はそれぞれ同一又は異なってもよ い C 1 _6アルキル基を示す〕 で表される化合物 (2) に保護基を導入して一般 式 (3) 〔式中、 R1および R2は上述と同じ定義を有し、 PG1は水酸基の保護基 を示す〕 で表される化合物 (3) とし、 <5> A protecting group is introduced into the compound (2) represented by the general formula (2), wherein R 1 and R 2 each represent a C 1 _6 alkyl group which may be the same or different, and Wherein R 1 and R 2 have the same definition as described above, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group.
該化合物 (3) を酸で処理して一般式 (4) 〔式中、 PG1は上述と同じ定義を有 する〕 で表される化合物 (4) とし、 Treating the compound (3) with an acid to give a compound (4) represented by the general formula (4) wherein PG 1 has the same definition as described above;
次いで該化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R 3および R4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1一 6アルキル基を示し、 PG 1は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (5) とし、 Then shows two hydroxyl groups by introducing protective groups in formula (5) [wherein, R 3 and R 4 are the same or different may be C 1 one alkyl group of the compound (4), PG 1 Has the same definition as described above.)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) およびノまたは一般式 (7)The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. And each symbol has the same definition as described above.] (6) and a compound represented by the general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) および または化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れるチ。化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法[Wherein each symbol has the same definition as described above], and the leaving group of these compounds (6) and / or (7) is then eliminated. Represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as above. Ji Method for producing compound (8) or a salt thereof or a hydrate thereof
2 Two
R  R
0  0
0 % (2)  0% (2)
R R
R  R
(3)  (3)
OH OH
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000008_0001
χ_  χ_
YO 1 (6)  YO 1 (6)
ΟΥ ΟΥ
X 1 (7)
Figure imgf000008_0002
X 1 ( 7 )
Figure imgf000008_0002
< 6 > 一般式 (1) で表される化合物 (1) に保護基を導入し一般式 (2) 〔式中、 R1および R2はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1一 6アルキル基を 示す〕 で表される化合物 (2) とし、 <6> A protecting group is introduced into the compound (1) represented by the general formula (1) to form a compound represented by the general formula (2) wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each is a C 16 alkyl group. And the compound (2) represented by
該化合物 (2) に保護基を導入して一般式 (3) 〔式中、 R1および R2は上述と 同じ定義を有し、 PG1は水酸基の保護基を示す〕 で表される化合物 (3) とし、 該化合物 (3) を酸で処理して一般式 (4) 〔式中、 PG1は上述と同じ定義を有 する〕 で表される化合物 (4) とし、 A compound represented by the general formula (3) wherein a protecting group is introduced into the compound (2), wherein R 1 and R 2 have the same definition as described above, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group. Treating the compound (3) with an acid to obtain a compound (4) represented by the general formula (4) wherein PG 1 has the same definition as described above;
次いで該化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R 3および R4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1 _ 6アルキル基を示し、 PG 1は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (5) とし、 Then shows two hydroxyl groups by introducing protective groups in formula (5) [wherein, R 3 and R 4 are the same or different may be C 1 _ 6 alkyl group of the compound (4), PG 1 Has the same definition as described above.)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述とψ同 γじ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および Zまたは一般式 (7)In the compound (5), a compound represented by the formula Y—X wherein X is a halogen atom, and Y is a C 2-11 acyl A compound represented by the general formula (6), wherein each symbol has the same definition as above, and a compound (6) and Z or a compound represented by the general formula ( 7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) および/または化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: [Wherein each symbol has the same definition as described above], and then the leaving group of these compounds (6) and / or compound (7) is eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof:
OH OH
HO へ (1) To HO (1)
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0001
OH  OH
(4)  (Four)
OPG OPG
OR OR
R  R
0 (5)
Figure imgf000009_0002
0 (5)
Figure imgf000009_0002
X 1 (7)
Figure imgf000009_0003
X 1 ( 7 )
Figure imgf000009_0003
< 7 > Xが臭素原子であるく 1〉〜< 6〉のいずれかに記載の方法。  <7> The method according to any one of <1> to <6>, wherein X is a bromine atom.
< 8 > Υがァセチル基であるく 1 >〜< 7〉のいずれかに記載の方法。 <8> The method according to any one of <1> to <7>, wherein Υ is an acetyl group.
< 9 > PG1がべンジル基であるく 1 >〜< 8 >のいずれかに記載の方法。<9> The method according to any one of <1> to <8>, wherein PG 1 is a benzyl group.
< 1 0 > R3および R4がメチル基であるく 2 >〜く 9 >のいずれかに記载 の方法。 <10> R < 3 > and R < 4 > are methyl groups. the method of.
< 1 1 > R 1および R 2がェチル基であるく 4 >〜< 1 0〉のいずれかに記 載の方法。 発明の実施の形態 <1 1> R 1 and R 2 walks in Echiru group 4> ~ <1 0 The method of mounting the serial to any of>. Embodiment of the Invention
以下に本明細書中で使用される語句について詳細に説明する。  Hereinafter, the terms used in the present specification will be described in detail.
本明細書中、 C 1—6アルキル基とは、 炭素数 1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状 のアルキル基を示し、 具体的には例えばメチル基、 ェチル基、 n-プロピル基、 i- プロピノレ基、 n-ブチル基、 i-ブチル基、 sec-ブチル基、 t-ブチル基、 n-ペンチル 基、 i-ペンチル基、 sec-ペンチル基、 t-ペンチル基、 ネオペンチル基、 1-メチノレ プチル基、 2-メチルブチル基、 1, 1-ジメチルプロピル基、 1, 2-ジメチルプロピル 基、 n-へキシル基、 i -へキシル基、 1-メチルペンチル基、 2 -メチルペンチル基、 3-メチルペンチル基、 1, 1-ジメチルブチル基、 1, 2-ジメチルブチル基、 2, 2-ジメ チルブチル基、 1, 3-ジメチルプチル基、 2, 3-ジメチルブチル基、 3, 3 -ジメチルブ チル基、 1-ェチルブチル基、 2-ェチルブチル基、 1, 1, 2-トリメチルプロピル基、 1, 2,2-トリメチルプロピル基、 1-ェチル -1—メチルプロピル基、 1_ェチル -2—メ チルプロピル基などが挙げられ、 好ましくは、 メチル基、 ェチル基、 n -プロピル 基、 i-プロピノレ基、 n-ブチル基、 i-ブチル基、 sec-ブチノレ基、 t-プチノレ基、 n-ぺ ンチル基、 i -ペンチル基、 sec-ペンチル基、 t-ペンチル基、 ネオペンチル基、 1- メチルブチル基、 2-メチルブチル基、 1, 1 -ジメチルプロピル基、 1, 2 -ジメチルプ 口ピル基、 n -へキシル基、 i-へキシル基であり、 より好ましくは、 メチル基、 ェ チル基、 n-プロピル基、 i-プロピル基、 n-ブチル基、 i -プチル基、 sec-ブチル基、 t_ブチル基、 n-ペンチル基、 i -ペンチル基、 sec-ペンチル基、 t-ペンチル基、 ネ ォペンチル基、 1-メチルブチル基、 2-メチルブチル基、 1, 1 -ジメチルプロピル基、 1, 2 -ジメチルプロピル基、 さらに好ましくはメチル基、ェチル基、 n -プロピル基、 i-プロピル基、 n-ブチル基、 i-ブチル基、 sec-ブチル基、 t-ブチル基であり、 も つとも好ましくはメチル基、 ェチル基、 n-プロピル基、 i-プロピル基である。  In the present specification, a C 1-6 alkyl group refers to a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, i -Propinole, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, i-pentyl, sec-pentyl, t-pentyl, neopentyl, 1-methylol Butyl, 2-methylbutyl, 1,1-dimethylpropyl, 1,2-dimethylpropyl, n-hexyl, i-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3- Methylpentyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 3,3-dimethylbutyl Group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2- Examples include methylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1_ethyl-2-methylpropyl group, and the like, preferably, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propynole group, and n-butyl. Group, i-butyl group, sec-butynole group, t-butynole group, n-pentyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group and i-hexyl group, more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group and i-hexyl group. Propyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, t_butyl, n-pentyl, i-pentyl, sec-pentyl, t-pentyl, neopentyl, 1-methylbutyl Group, 2-methylbutyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1, 2-dimethylpropyl group, more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, and Preferred are a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and an i-propyl group.
C 2 - 1 1ァシル基とは、 C 2— 1 1脂肪族ァシル基おょぴ C 7 - 1 1芳香族 ァシル基をいい、 C 1— 1 0アルキル基、 C 2— 1 0アルケニル基または上記 C 2— 1 0アルキ-ル基において、 その末端にカルボニル基が結合したもの、 およ び、 C 6— 1 0ァリール基において、 その末端に力ルポニル基または上記 C 2— 7脂肪族ァシル基からさらに水素原子を 1個除いて誘導される基が結合したもの が相当し、 具体的には例えばァセチル基、 プロピオニル基、 プチリル基、 イソプ チリル基、 バレリル基、 イソバレリル基、 ビバロイル基、 へキサノィル基、 ォク タノィル基、ァクリロイル基、 メタクリロイノレ基、 ク口 トニノレ基、ベンゾィル基、 o-トノレオイル基、 m-トノレオイル基、 P-トルオイル基、 シンナモイル基、 1-ナフト ィル基、 2-ナフトイル基などの基が挙げられる。 好ましくはァセチル基、 プロピ ォニル基、 ブチリル基、 イソプチリル基、 バレリル基、 イソバレリル基、 ピバロ ィル基、へキサノィル基、オタタノィル基、 ァクリロイル基、 メタクリロイル基、 クロ トニノレ基、 ベンゾィノレ基、 o—トノレオイノレ基、 m_ トノレオイノレ基、 p—トノレオイノレ 基、 シンナモイル基、 1-ナフトイル基、 2-ナフトイル基であり、 より好ましくは ァセチル基、 プロピオニル基、 プチリル基、 イソプチリル基、 バレリル基、 イソ ノくレリル基、 ビバロイル基、 へキサノィル基、 オタタノイノレ基、 ベンゾィル基、 0-トルオイル基、 m_ トノレオイノレ基、 p -トルオイル基、 シンナモイル基であり、 さ らに好ましくはァセチル基、 プロピオニル基、 プチリル基、 イソプチリル基、 ベ ンゾィル基、 シンナモイル基であり、 もっとも好ましくはァセチル基、 プロピオ ニル基、 ベンゾィル基である。 ' The C 2-11 acyl group means a C 2-11 aliphatic acyl group, a C 7-11 aromatic acyl group, and a C 1-10 alkyl group, a C 2-10 alkenyl group or Above C A 2- to 10-alkyl group having a carbonyl group bonded to the terminal thereof; and a C6-10 aryl group having a terminal carbonyl group or the above C2-7 aliphatic acyl group at the terminal thereof. In addition, a group derived by removing one hydrogen atom and corresponding thereto is bonded, and specifically, for example, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, a vivaloyl group, and a hexanoyl group Octanoyl group, acryloyl group, methacryloyl group, methacrylonitrile group, benzoyl group, o-tonoleoyl group, m-tonoleoyl group, P-toluoyl group, cinnamoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, etc. The group of is mentioned. Preferable are acetyl, propionyl, butyryl, isoptyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl, otatanyl, acryloyl, methacryloyl, crotoninole, benzoynole, and o-tonolenole. , M_ tonoleinoyl group, p-tonoleinoyl group, cinnamoyl group, 1-naphthoyl group, and 2-naphthoyl group, more preferably acetyl group, propionyl group, butyryl group, isoptyryl group, valeryl group, isonokrilleryl group, and vivaloyl. Group, hexanoyl group, otanoinoyl group, benzoyl group, 0-toluoyl group, m_tonoleoinole group, p-toluoyl group, cinnamoyl group, and more preferably acetyl group, propionyl group, butyryl group, isoptyryl group, benzoyl A cinnamoyl group, most preferably Asechiru group, propionic group, an Benzoiru group. '
水酸基の保護基とは、 具体例を挙げると、 通常、 有機合成上水酸基の保護基と して知られている基であればいかなる基でもよく特に限定されないが、 例えばト リメチルシリル基、 t -ブチルジメチルシリル基等の低級アルキルシリル基;例え ばメ トキシメチル基、 2 -メ トキシエトキシメチル基等の低級アルコキシメチル 基;例えばテトラヒ ドロビラニル基;例えばべンジル基、 P-メ トキシベンジル基、 2, 4 -ジメ 卜キシベンジル基、 0-ニトロべンジル基、 p-ニトロべンジル基、 トリチ ル基等のァラルキル基;例えばホルミル基、 ァセチル基等のァシル基;例えば t- ブトキシ力/レポ二ノレ基、 2-ョードエトキシカ^^ボ二ノレ基、 2, 2, 2-トリクロ口エト キシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基;例えば 2-プロぺニルォキシ カノレポ二ノレ基、 2 -ク口口- 2-プロぺニノレオキシカノレボニノレ基、 3 -メ トキシカノレボニ ノレ - 2-プロぺニルォキシカルボニル基、 2-メチル- 2-プロぺニノレオキシカルボニル 基、 2-プテニルォキシカルボ-ル基、 シンナミルォキシカルボニル基等のアルケ ニルォキシカノレボニル基;例えばべンジルォキシカノレポ-ノレ基、 p -メ トキシベン ジノレォキシ力/レポニル基、 0-ニトロベンジルォキシカノレボニル基、 p-ニトロベン ジルォキシカルボニル基等のァラルキルォキシカルボニル基等が挙げられる。 好 ましくはべンジル基である。 Specific examples of the hydroxyl-protecting group include, but are not particularly limited to, any group that is generally known as a hydroxyl-protecting group in organic synthesis. Examples thereof include a trimethylsilyl group and a t-butyl group. A lower alkylsilyl group such as a dimethylsilyl group; a lower alkoxymethyl group such as a methoxymethyl group and a 2-methoxyethoxymethyl group; for example, a tetrahydroviranyl group; for example, a benzyl group, a P-methoxybenzyl group, and 2,4; Aralkyl groups such as -dimethyloxybenzyl group, 0-nitrobenzyl group, p-nitrobenzyl group, and trityl group; for example, acyl groups such as formyl group and acetyl group; for example, t-butoxy force / repotinole group, Lower alkoxycarbonyl groups such as 2-odoethoxyka ^ boninole and 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl; for example, 2-propenyloxy Kanorepo two Norre group, 2 - click every mouth - 2-propenyl Nino les oxy Kano levo Nino les group, 3 - main Tokishikanoreboni Honoré - 2-propenyl O alkoxycarbonyl group, 2-methyl - 2-propenyl Nino les butyloxycarbonyl Alkenyloxycanolebonyl groups, such as 2-penyloxycarbonyl, cinnamyloxycarbonyl, etc .; for example, benzyloxycanolepo-nore, p-methoxybenzinoleoxy / reponyl And aralkyloxycarbonyl groups such as 0-nitrobenzyloxycanolebonyl group and p-nitrobenzyloxycarbonyl group. Preferably, it is a benzyl group.
これらの保護基の脱離は、 使用した保護基の種類に応じ、 加水分解、 還元など 常法により行うことができる。  Elimination of these protecting groups can be carried out by a conventional method such as hydrolysis or reduction depending on the type of the protecting group used.
ハロゲン原子とは、 具体的には例えばフッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ 素原子などをいう。  The halogen atom specifically refers to, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
脱離基とは、 通常、 有機合成上脱離基として知られている基であればいかなる 基でもよく、 特に限定されないが、 例えば塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子など のハロゲン原子; ァセトキシ基、 トリフルォロアセトキシ基などの置換または非 置換ァセトキシ基; メタンスノレホニノレォキシ基、 トリフルォロメタンスルホニノレ ォキシ基、 ベンゼンスノレホニノレ才キシ基、 p—トルエンスノレホニノレォキシ基など の置換スルホニルォキシ基; ジフエノキシホスホリルォキシ基等の置換ホスホリ ルォキシ基などが挙げられ、 好ましくは臭素原子、 ヨウ素原子、 ァセトキシ基、 メタンスルホニノレオキシ基、 トリフ/レオロメタンスノレホニノレォキシ基、 ベンゼン スルホニルォキジ基、 -トルエンスルホニルォキシ基などの置換スルホニルォ キシ基であり、 より好ましくは臭素原子、 ヨウ素原子、 ァセトキシ基、 メタンス ルホ二/レオキシ基、 p -トルエンスルホニノレオキシ基である。  The leaving group may be any group that is generally known as a leaving group in organic synthesis, and is not particularly limited. Examples thereof include a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; Substituted or unsubstituted acetoxy groups such as trifluoroacetoxy group; substitution of methanesulfonolenoxy group, trifluoromethanesulfoninoleoxy group, benzenesnolephoninolexy group, p-toluenesolephoninoleoxy group, etc. A sulfonyloxy group; a substituted phosphoryloxy group such as a diphenoxyphosphoryloxy group; and the like, preferably a bromine atom, an iodine atom, an acetoxy group, a methanesulfoninoleoxy group, a trif / reolomethansnolephoninoleoxy group. , Benzenesulfonyloxy, -toluenesulfonyloxy, etc. A Suruhoniruo alkoxy group, more preferably a bromine atom, an iodine atom, Asetokishi group, methanesulfonic sulfo two / Reokishi group, p - toluene sulfonyl Nino les group.
本願発明において塩とは、 種類は特に限定されないが具体的に挙げると、 例え ばフッ化水素酸塩、 塩酸塩、 硫酸塩、 硝酸塩、 過塩素酸塩、 リン酸塩、 炭酸塩、 重炭酸塩、 臭化水素酸塩、 ヨウ化水素酸塩などの無機酸の付加塩;酢酸塩、 マレ イン酸塩、 フマール酸塩、 蓚酸塩、 乳酸塩、 酒石酸塩、 トリフルォロ酢酸塩など の有機カルボン酸の付加塩; メタンスルホン酸塩、 トリフルォロメタンスルホン 酸塩、 エタンスルホン酸塩、 ヒ ドロキシメタンスルホン酸塩、 ヒ ドロキシェタン スノレホン酸塩、 ベンゼンスノレホン酸塩、 トノレエンスノレホン酸塩、 タウリン塩など の有機スルホン酸の付加塩; トリメチルァミン塩、 トリェチルァミン塩、 ピリジ ン塩、 プロ力イン塩、 ピコリン塩、 ジシクロへキシルァミン塩、 N, N ' —ジベン ジルエチレンジァミン塩、 N—メチルダルカミン塩、 ジエタノールアミン塩、 ト リエタノールアミン塩、 トリス (ヒ ドロキシメチルァミノ) メタン塩、 フエネチ ルベンジルアミン塩などのァミンの付加塩;ナトリゥム塩、 力リゥム塩などのァ ルカリ金属の付加塩;マグネシウム塩、 カルシウム塩などのアルカリ土類金属の 付加塩;アルギニン塩、 リジン塩、 セリン塩、 グリシン塩、 ァスパラギン酸塩、 グルタミン酸塩などのアミノ酸の付加塩などを挙げることができる。 好ましくは 薬理学的に許容できる塩である。 In the present invention, the type of the salt is not particularly limited, but specific examples thereof include, for example, hydrofluoric acid, hydrochloride, sulfate, nitrate, perchlorate, phosphate, carbonate, bicarbonate Addition salts of inorganic acids such as, hydrobromide and hydroiodide; organic carboxylic acids such as acetate, maleate, fumarate, oxalate, lactate, tartrate, trifluoroacetate Addition salts; methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, ethanesulfonate, hydroxymethanesulfonate, hydroxyxetane snorefonate, benzenesnolefonate, tonoleensnolefonate, taurine salt, etc. Addition salts of organic sulfonic acids; trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridin salts, proline salts, picoline salts, dicyclohexylamine salts, N, N '— Giben Addition salts of amines such as diethylenediamine salt, N-methyldalcamine salt, diethanolamine salt, triethanolamine salt, tris (hydroxymethylamino) methane salt and phenylbenzylamine salt; sodium salt, Addition salts of alkali metals such as potassium salts; addition salts of alkaline earth metals such as magnesium salts and calcium salts; addition of amino acids such as arginine, lysine, serine, glycine, aspartate and glutamate Salts and the like can be mentioned. Preferred are pharmacologically acceptable salts.
本発明製造方法は下記の方法で実施することができる。  The production method of the present invention can be carried out by the following method.
一般製造法 General manufacturing method
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OY
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OY
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OPG1
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OPG 1
7  7
式中、 各記号は前記定義に同じ基を示す。 In the formula, each symbol represents the same group as defined above.
工程 1 (化合物 1から 2 )は、ジオールに保護基を導入する工程である。式(1 ) のトリオール化合物に、 ジメ トキシプロパン、 ジメ トキシペンタン、 ジメ トキシ ヘプタン、 ジェトキシプロパン、 ジエトキシペンタン、 ジエトキシヘプタンなど のジアルコキシアルキルや、 アセトン、 ジェチルケトン、 ジイソプロピルケトン などのケトンを酸触媒存在下反応させることにより式 (2 ) の化合物を得ること ができる。 酸触媒としては特に限定されないが、 例えば塩酸、 臭化水素、 フッ化 水素、 硫酸、 リン酸、 三フッ化ホウ素ジェチルエーテル錯体、 p-トルエンスルホ ン酸、 ピリジニゥム p-トルエンスルホナート、 (1S) _ (+) - 10-ショウノウスルホン 酸、 TrC104などのトリフエニルメチル塩などを使用することができる。 溶媒とし ては反応に関与しないものなら特に限定されないが、 例えばジメチルホルムァミ ド、 テトラヒ ドロフラン、 ァセトニトリル、 酢酸ェチル、 ジェチルエーテル、 t- ブチルメチルエーテル、 トルエン、 クロ口ホルム、 塩化メチレン、 もしくは塩化 ベンゼンなどまたはこれらの混合溶媒を使用することができる。 - 20°Cから 100°C で数時間から数十時間反応させる。 Step 1 (compounds 1 and 2) is a step of introducing a protecting group into the diol. To the triol compound of the formula (1), a dialkoxyalkyl such as dimethoxypropane, dimethoxypentane, dimethoxyheptane, ethoxypropane, diethoxypentane or diethoxyheptane, or a ketone such as acetone, getylketone or diisopropylketone is acidified. By reacting in the presence of a catalyst, a compound of formula (2) can be obtained. The acid catalyst is not particularly limited. For example, hydrochloric acid, hydrogen bromide, hydrogen fluoride, sulfuric acid, phosphoric acid, boron trifluoride getyl ether complex, p-toluenesulfonate, pyridinium p-toluenesulfonate, (1S ) _ (+) - 10-camphorsulfonic acid, and the like may be used triphenylmethyl salts such TrC10 4. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction.For example, dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate, getyl ether, t- Butyl methyl ether, toluene, chloroform, methylene chloride, or benzene chloride, or a mixed solvent thereof can be used. -Incubate at 20 ° C to 100 ° C for several hours to tens of hours.
工程 2 (化合物 2から 3 ) は、 水酸基に保護基を導入する工程である。 式 (2 ) のアルコール化合物に通常塩基存在下、 ベンジルクロライ ド、 メ トキシメチルク 口ライ ド、 ベンジルォキシメチルクロライ ド、 または p-メ トキシベンジルォキシ メチルクロライ ドなど試薬と反応させることにより式 (3 ) で表される化合物を 得ることができる。 塩基としては n-ブチルリチウム、 水酸化カリウム、 水酸化ナ トリゥム、 炭酸ナトリゥム、 炭酸水素ナトリゥム、 炭酸力リゥム、 炭酸水素力リ ゥム、 カリウム t-ブトキサイ ド、 リチウム ジィソプロピルァミ ド、 リチウム へ キサメチルジシラザン、またはナトリゥム へキサメチルジシラザンなどを用いる ことができる。 テ トラヒ ドロフラン、 ジェチノレエーテノレ、 t -ブチノレメチノレエーテ ル、 もしくはジォキサンなどの非プロ トン性溶媒中またはこれらの混合溶媒中、 0から 100°Cで反応を行うことができる。 反応時間は通常数時間である。  Step 2 (compounds 2 to 3) is a step of introducing a protecting group into a hydroxyl group. The alcohol compound of formula (2) is reacted with a reagent such as benzyl chloride, methoxymethyl chloride, benzyloxymethyl chloride, or p-methoxybenzyloxymethyl chloride in the presence of a base, usually in the presence of a base. The compound represented by (3) can be obtained. Bases include n-butyllithium, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, carbon dioxide, carbon dioxide, potassium t-butoxide, lithium disopropylamide, lithium Hexamethyldisilazane, sodium hexamethyldisilazane, or the like can be used. The reaction can be performed at 0 to 100 ° C. in a non-protonic solvent such as tetrahydrofuran, getinoleatenole, t-butynolemethinoleatele, or dioxane, or a mixed solvent thereof. The reaction time is usually several hours.
工程 3 (化合物 3から 4 )は、ジオールの保護基の脱保護の工程である。式(3 ) で表される化合物を、 P G 1が脱保護されない条件で反応させることにより行う ことができる。 例えばァセタール系の保護基の場合、 塩酸などの酸で脱保護する ことが可能である。 この場合、 メタノール、 エタノール、 プロパノール、 ブタノ ール、 ァセトニトリル、 トルエン、 もしくはジメチルホルムアミ ドなどの溶媒ま たはこれらの混合溶媒中で行うことができる。 反応は 0から 100°Cで、 数時間か ら数十時間行うことができる。 Step 3 (compounds 3 to 4) is a step of deprotecting the protecting group of the diol. Can be carried out by a compound represented by the formula (3) are reacted in conditions PG 1 is not deprotected. For example, in the case of an acetal-based protecting group, it can be deprotected with an acid such as hydrochloric acid. In this case, the reaction can be performed in a solvent such as methanol, ethanol, propanol, butanol, acetonitrile, toluene, or dimethylformamide, or a mixed solvent thereof. The reaction can be performed at 0 to 100 ° C for several hours to tens of hours.
工程 4 (化合物 4から 5 ) は、 1, 2-ジオールから環状オルトエステルへ変換す る工程である。 式 (4 ) で表される化合物を、 酸触媒存在下、 オルト酢酸トリメ チル、 オルトプロピオン酸トリメチル、 オルト酪酸トリメチル、 オルト吉草酸ト リメチル、 オルト安息香酸トリメチル、 オルト酢酸トリェチル、 オルトプロピオ ン酸トリエチル、 オルト酪酸トリェチル、 オルト吉草酸トリエチル、 オルト安息 香酸トリェチルなどのオルト酸エステルと反応させることにより式 (5 ) で表さ れる化合物を得ることができる。 酸触媒としては特に限定されないが、 例えば塩 酸、 臭化水素、 フッ化水素、 硫酸、 リン酸、 三フッ化ホウ素ジェチルエーテル錯 体、 p-トルエンスルホン酸、ピリジニゥム p-トルエンスルホナ一ト、(1S) - (+) - 10- ショウノウスルホン酸、 TrC104などのトリフエニルメチル塩などを使用すること ができる。 溶媒としては反応に関与しないものなら特に限定されないが、 例えば ジメチルホルムアミ ド、 テ トラヒ ドロフラン、 ァセ トニトリル、 酢酸ェチル、 ジ ェチノレエーテノレ、 t—ブチノレメチノレエーテノレ、 トノレ工ン、 クロロホノレム、 塩化メチ レン、 もしくは塩化ベンゼンなどまたはこれらの混合溶媒を使用することができ る。 0°Cから 100°Cで通常数十分から数時間反応させる。 Step 4 (compounds 4 to 5) is a step of converting 1,2-diol to a cyclic orthoester. The compound represented by the formula (4) is converted to trimethyl orthoacetate, trimethyl orthopropionate, trimethyl orthobutyrate, trimethyl orthovalerate, trimethyl orthobenzoate, trimethyl orthoacetate, triethyl orthopropionate in the presence of an acid catalyst. The compound represented by the formula (5) can be obtained by reacting with orthoesters such as triethyl orthobutyrate, triethyl orthovalerate, and triethyl orthobenzoate. The acid catalyst is not particularly limited. For example, hydrochloric acid, hydrogen bromide, hydrogen fluoride, sulfuric acid, phosphoric acid, boron trifluoride dimethyl ether complex Body, p- toluenesulfonic acid, Pirijiniumu p- toluenesulfonate Na one preparative, (1S) - (+) - 10- camphorsulfonic acid, and the like may be used triphenylmethyl salts such TrC10 4. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. Examples of the solvent include dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate, diethylenoethenol, t-butynolemethynoleethenol, and tonolone. , Chlorophonolem, methylene chloride, or benzene chloride, or a mixed solvent thereof can be used. The reaction is usually performed at 0 ° C to 100 ° C for several tens of minutes to several hours.
工程 5 (化合物 5から 6および 7 ) は、 環状オルトエステルを開環し脱離基を 導入する工程である。 式 (5 ) で表される化合物を、 一般式 Y— X 〔式中、 各記 号は前記定義に同じ意を有する〕 で表されるァシルハライ ドと反応させることに より式 (6 ) と (7 ) で表される化合物を得ることができる。 ァシルハライ ドと しては、臭化ァセチル、塩化ァセチル、 ョゥ化ァセチル、塩化トリメチルシリル、 臭化トリメチルシリル、 ヨウ化トリメチルシリル、 塩化べンゾィル、 臭化べンゾ ィル、 ヨウ化ベンゾィルなどを用いることができる。 溶媒としては反応に関与し ないものなら特に限定されないが、 例えばジメチルホルムアミ ド、 テトラヒ ドロ フラン、 ァセ トニ トリノレ、 酢酸ェチル、 ジェチルエーテル、 t -ブチルメチノレエ一 テル、 トルエン、 クロ口ホルム、 塩化メチレン、 もしくは塩化ベンゼンなどまた はこれらの混合溶媒を使用することができる。 0°Cから 100°Cで通常数十分から数 時間反応させる。  Step 5 (compounds 5 to 6 and 7) is a step of opening the cyclic orthoester and introducing a leaving group. By reacting the compound represented by the formula (5) with an acyl halide represented by the general formula Y—X, wherein each symbol has the same meaning as described above, the compounds represented by the formulas (6) and ( The compound represented by 7) can be obtained. As the acyl halide, acetyl chloride, acetyl chloride, acetyl chloride, acetyl chloride, trimethylsilyl chloride, trimethylsilyl bromide, trimethylsilyl iodide, benzoyl chloride, benzoyl bromide, benzoyl iodide, etc. may be used. it can. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction.For example, dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate, getyl ether, t-butyl methine ether, toluene, chloroform, chloride, etc. Methylene, benzene chloride, or a mixed solvent thereof can be used. The reaction is usually performed at 0 ° C to 100 ° C for tens of minutes to several hours.
工程 6 (化合物 6および 7から 8 ) は、 ォキシランの閉環反応の工程である。 式(6 )および(7 ) で表される化合物を、塩基と反応させることにより、式 (8 ) で表されるォキシラン化合物を得ることができる。塩基としては水酸化カリゥム、 水酸化ナトリゥム、 炭酸ナトリゥム、 炭酸水素ナトリゥム、 炭酸力リゥム、 炭酸 水素力リゥムなどを用いることができる。 溶媒としては反応に関与しないものな ら特に限定されなレ、が、例えばメタノールなどを使用することができる。 0°Cから 100°Cで通常数十分から数時間反応させる。  Step 6 (compounds 6 and 7 to 8) is a step of a ring-closing reaction of the oxysilane. By reacting the compounds represented by the formulas (6) and (7) with a base, the oxysilane compound represented by the formula (8) can be obtained. As the base, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, carbon dioxide lime, hydrogen carbonate lime, or the like can be used. The solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction. For example, methanol can be used. The reaction is usually performed at 0 ° C to 100 ° C for several tens of minutes to several hours.
工程 4から 6は各目的化合物を単離することなく次の反応に付すこともできる。 本願において Xは臭素原子などが好ましく、 Yはァセチル基などが好ましく、 P G】がべンジル基などが好ましく、 R 3および R 4はメチル基などが好ましく、 R 1および R 2がェチル基などが好ましい。 従って、 本願発明方法は下記のような スキームによっても実施することが可能である。 Steps 4 to 6 can be applied to the next reaction without isolating each target compound. In the present application, X is preferably a bromine atom and the like, Y is preferably an acetyl group and the like, PG] is preferably a benzyl group and the like, R 3 and R 4 are preferably a methyl group and the like, R 1 and R 2 are preferably an ethyl group. Therefore, the method of the present invention can be implemented by the following scheme.
方法一 1 Method 1 1
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2N-HCl MeOH 2N-HCl MeOH
r.t. r.t.
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式中、 Ts は p -トルエンスルホニル基を、 Bnはベンジル基を、 TBAI はテトラ- n- ブチルアンモニゥムョーダイ ドを、 PPTSはピリジ-ゥム P-トルエンスルホネィ ト を、 Acはァセチル基をそれぞれ意味する。 ' In the formula, Ts is a p-toluenesulfonyl group, Bn is a benzyl group, TBAI is tetra-n-butylammonium hydroxide, PPTS is pyridyl-dimethyl P-toluenesulfonate, and Ac is acetyl Each means a group. '
上述したように、 本発明で使用しうる溶媒としては、 反応を阻害しないもので あって、 通常有機合成上用いられているものであればいかなる溶媒でもよく特に 限定されず、 例えば、 メタノール、 エタノール、 プロパノール、 ブタノールなど の低級アルコール類、エチレングリコール、グリセリンなどのポリアルコール類、 アセトン、 メチノレエチノレケトン、 ジェチノレケトン、 シクロへキサノンなどのケト ン類、 ジェチルエーテル、 イソプロピルエーテル、 テトラヒ ドロフラン、 ジォキ サン、 2—メ トキシエタノール、 1 , 2—ジメ トキシェタンなどのエーテル類、 ァセトニトリル、プロピオ二トリルなどの二トリノレ類、酢酸メチル、酢酸ェチル、 酢酸イソプロピル、 酢酸プチノレ、 フタノレ酸ジェチノレなどのエステル類、 ジクロロ メタン、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 1 , 2—ジクロロェタン、 トリクロロェチ レン、テトラクロ口エチレンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 モノクロノレベンゼン、 ニトロベンゼン、 インデン、 ピリジン、 キノリ ン、 コリジン、 フエノールなどの芳香族類、 ペンタン、 シクロへキサン、 へキサ ン、 ヘプタン、 オクタン、 イソオクタン、 石油ベンジン、 石油エーテルなどの炭 化水素類、エタノールアミン、 ジェチルアミン、 トリェチルアミン、 ピロリジン、 ピぺリジン、 ピぺラジン、 モノレホリン、 ァニリン、 ジメチノレア二リン、 ベンジノレ ァミン、 トルイジンなどのアミン類、ホルムアミ ド、 N—メチルピロリ ドン、 N , N—ジメチルイミダゾロン、 N , N—ジメチノレアセトアミ ド、 N , N—ジメチル ホルムアミ ドなどのアミ ド類、 へキサメチルリン酸トリアミ ド、 へキサメチル亜 リン酸トリアミ ドなどのリン酸アミ ド類、 水、 その他一般に使用される溶媒など の一種もしくは二種以上の混合溶媒を挙げることができ、 その混合比は特に限定 されない。 As described above, the solvent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and may be any solvent that is generally used in organic synthesis. Examples of the solvent include methanol and ethanol. , Lower alcohols such as propanol and butanol, polyalcohols such as ethylene glycol and glycerin, ketones such as acetone, methinoolethylene ketone, ethynoleketone and cyclohexanone, getyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, and dioxy. Ethers such as sun, 2-methoxyethanol and 1,2-dimethoxetane, trinitols such as acetonitrile and propionitrile, and esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, petitinole acetate, and ginolephthalate. S, dichloro methane, black hole Holm, carbon tetrachloride, 1, 2-Jikuroroetan, Torikuroroechi Ren, halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethene port ethylene, benzene, toluene, Aromatic substances such as xylene, monochlorobenzene, nitrobenzene, indene, pyridine, quinoline, collidine, phenol, pentane, cyclohexane, hexane, heptane, octane, isooctane, petroleum benzine, petroleum hydrocarbon, etc. , Ethanolamine, getylamine, triethylamine, pyrrolidine, piperidine, piperazine, monoleforin, aniline, dimethinorea diline, benzinoleamine, toluidine and other amines, formamide, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylimidazo Amides such as RON, N, N-dimethinoleacetamide, N, N-dimethylformamide, phosphate amides such as hexamethyl phosphate triamide, hexamethyl phosphite triamide, water, and others Can be exemplified one or two or more kinds of mixed solvents such as solvent use, the mixing ratio is not particularly limited.
上述したように、 本発明で使用しうる塩基としては、 反応を阻害しないもので あって、 通常、 有機合成上塩基として知られているものであればいかなるもので もよく特に限定されず、具体的には例えば炭酸ナトリゥム、炭酸水素ナトリゥム、 炭酸力リウム、 水素化ナトリウム、 水素化力リウム、 t-ブトキシカリウム、 ピリ ジン、 ジメチルァミノピリジン、 トリメチルァミン、 トリェチルァミン、 N , N —ジイソプロピルェチルァミン、 N _メチルモルホリン、 N-メチルピロリジン、 N—メチルビペリジン、 N , N—ジメチルァニリン、 1 , 8 _ジァザビシク口 [ 5 , 4 , 0 ] ゥンデ力一 7—ェン(D B U)、 ピリジン、 4—ジメチルアミノビリジン、 ピコリン、 ルチジン、 キノリン、 イソキノリン、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リ ゥム、 水酸化リチウム、 プチルリチウム、 ナトリウムメチラート, カリウムメチ ラート, ナトリゥムェチラ一トなどのナトリゥムまたは力リゥムアルコラ一ト等 が挙げられる。  As described above, the bases that can be used in the present invention are those that do not inhibit the reaction, and are not particularly limited as long as they are generally known as bases in organic synthesis. Specifically, for example, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride, potassium t-butoxide, pyridine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropylethyl N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N-methylbiperidine, N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicik mouth [5,4,0] pendene-7-ene (DBU), pyridine , 4-dimethylaminoviridine, picoline, lutidine, quinoline, isoquinoline, sodium hydroxide, hydroxylated water, hydroxylated Lithium, heptyl lithium, sodium methylate, Kariumumechi acrylate, etc. Natoriumu or force Riumuarukora Ichito such Natoriumuechira one preparative and the like.
以上の反応終了後、 所望により通常の処理法によって、 例えばシリカゲルまた は吸着樹脂等を用いるカラムクロマトグラフィーや適当な溶媒から再結晶するこ とにより精製することが可能である。 実施例  After completion of the above reaction, if desired, purification can be performed by a usual treatment method, for example, by column chromatography using silica gel or an adsorption resin, or by recrystallization from a suitable solvent. Example
以下の実施例により本発明を詳細に且つ具体的に説明するが、 本発明はこれら の実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in detail and specifically with reference to the following Examples. However, the present invention is not limited to the embodiment.
実施例 1. (S)-(2-ベンジルォキシェチル)ォキシランの製造方法 Example 1. Method for producing (S)-(2-benzyloxyshethyl) oxylan
実施例 1-1) (S) - 2, 2-ジェチル- 4- (2-ハイ ドロキシェチル) -1,3-ジォキソラン( )
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Example 1-1) (S) -2,2-Getyl-4- (2-hydroxyxethyl) -1,3-dioxolan ()
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室温下、 (S)- 1,2, 4-ブタントリオール: 30.0 g(0.277 mol)のジメチルホルムァ ミ ド(150 ml)溶液に 3, 3 -ジエトキシペンタン: 49.8 g(0.311 mol)、 p-トルエンス ルホン酸 一水和物: 400 mgを加えー晚撹拌した。 トリェチルァミン: 5 mlを加え 溶媒を留去後、 炭酸水素ナトリゥムを含んだ飽和食塩水を加えて酢酸ェチル(300 ml)で抽出し、 抽出液を飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾過後溶媒を留去し、 残渣を減圧下蒸留して標記化合物を 41.8 g(b.p. 80〜84°C /0.20 mmHg; 0.240 mol, 86.7%)得た。 At room temperature, (S) -1,2,4-butanetriol: 30.0 g (0.277 mol) in dimethylformamide (150 ml) solution, 3,3-diethoxypentane: 49.8 g (0.311 mol), p -Toluenesulfonic acid monohydrate: 400 mg was added, and the mixture was stirred. Triethylamine: 5 ml was added, the solvent was distilled off, a saturated saline solution containing sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate (300 ml). The extract was washed with a saturated saline solution and dried over anhydrous magnesium sulfate. . After filtration, the solvent was distilled off, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 41.8 g (bp 80 to 84 ° C / 0.20 mmHg; 0.240 mol, 86.7%) of the title compound.
-丽 R(CDC13) δ: 0.90 (3H, t, J=7.6Hz), 0.91 (3H, t, J=7.6Hz), 1.63 (2H, q, J=7.6Hz) , 1.66 (2H, q, J=7.6Hz) , 1.80-1.86 (2H, m) , 2.35 (1H, bs), 3.55 (1H, t, J=8.2Hz), 3.78-3.84 (2H, m), 4.10 (1H, dd, J=8.2, 6.2Hz) , 4.22-4.30 (1H, m). 実施例 1-2) (S)_4-(2_ベンジルォキシェチル) -2, 2-ジェチル -1,3-ジォキソラン (3)
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-丽R (CDC1 3) δ: 0.90 (3H, t, J = 7.6Hz), 0.91 (3H, t, J = 7.6Hz), 1.63 (2H, q, J = 7.6Hz), 1.66 (2H, q , J = 7.6Hz), 1.80-1.86 (2H, m), 2.35 (1H, bs), 3.55 (1H, t, J = 8.2Hz), 3.78-3.84 (2H, m), 4.10 (1H, dd, J = 8.2, 6.2Hz), 4.22-4.30 (1H, m). Example 1-2) (S) _4- (2_benzyloxyshetyl) -2,2-getyl-1,3-dioxolane ( 3)
Figure imgf000018_0002
窒素気流下、 氷冷した水素化ナトリウム: 7.5 g(0.188 mol: 60% dispersion in mineral oil をトノレェン(50 ml)で三回洗浄)のテトラヒ ドロフラン(200 ml)溶液 に(S)-2, 2-ジェチル- 4- (2-ハイ ドロキシェチル)- 1, 3-ジォキソラン:25.0 g(0.143 mol)のテトラヒ ドロフラン(50 ml)溶液を滴下した後、 70°Cで 30分加熱 した。 室温まで冷却後、 ベンジル ブロマイ ド: 25.5 g(0.149 mol)のテトラヒ ドロ フラン(50 ml)溶液、テトラ- n -ブチルアンモニゥム ョーダイド: 5.3 g (0.014 mol) を加え再び 70°Cで 2時間加熱した。 氷冷下、 反応液に水を加えて酢酸ェチル(250 ml)で抽出し、 抽出液を飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾過後溶媒を留去し、 残渣に n-へキサン(250 ml)を加えた。 不溶物を濾過後溶媒 を留去し、 標記化合物を 40.8 g(quant.)得た。 In a nitrogen stream, ice-cooled sodium hydride: 7.5 g (0.188 mol: 60% dispersion in mineral oil was washed three times with Tonolene (50 ml)) in tetrahydrofuran (200 ml) was added to (S) -2,2. -Jetyl-4- (2-hydroxyxetyl) -1,3-dioxolane: A solution of 25.0 g (0.143 mol) of tetrahydrofuran (50 ml) was added dropwise, and the mixture was heated at 70 ° C for 30 minutes. After cooling to room temperature, benzyl bromide: a solution of 25.5 g (0.149 mol) in tetrahydrofuran (50 ml), tetra-n-butylammonium iodide: 5.3 g (0.014 mol) And heated again at 70 ° C for 2 hours. Under ice-cooling, water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate (250 ml). The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and n-hexane (250 ml) was added to the residue. After filtration of the insolubles, the solvent was distilled off to obtain 40.8 g (quant.) Of the title compound.
'H-NMR(CDC13) δ 0.90 (6Η, t, J二 7·6Ηζ), 1.61 (2Η, q, J=7.6Hz), 1.63 (2H, q, J=7.6Hz) , 1.80-1.89 (1H, m), 1.90-1.99 (1H, m), 3.53 (1H, t, J=8.2Hz) , 3.55-3.62 (2H, m), 4.07 (1H, dd, J=8.2, 6.2), 4.17-4.25 (1H, m), 4.50 (2H, s), 7.24-7.36 (5H, m). 実施例 1-3) (S)- 4- (ベンジルォキシ)ブタン- 1, 2-ジオール (
Figure imgf000019_0001
'H-NMR (CDC1 3 ) δ 0.90 (6 t, t, J 二 7.6Ηζ), 1.61 (2Η, q, J = 7.6Hz), 1.63 (2H, q, J = 7.6Hz), 1.80-1.89 ( 1H, m), 1.90-1.99 (1H, m), 3.53 (1H, t, J = 8.2Hz), 3.55-3.62 (2H, m), 4.07 (1H, dd, J = 8.2, 6.2), 4.17- 4.25 (1H, m), 4.50 (2H, s), 7.24-7.36 (5H, m). Examples 1-3) (S) -4- (Benzyloxy) butane-1,2-diol (
Figure imgf000019_0001
室温下、 (S)-4-(2-ベンジルォキシェチル) - 2, 2-ジェチル- 1, 3-ジォキソラ ン: 40.0g(0.151 mol)のメタノール(280 ml)溶液に 2N-塩酸: 120 ml (0.240 mol)を 加えー晚撹拌した。 メタノールを留去後、 水層をヘプタン: 80mlで洗浄した。 水 層に食塩を加えて酢酸ェチル(200 mix 3)で抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾過後溶媒を留去し、 標記化合物を 27.6 g (0.141 mol, quant, from 导 7こ。  At room temperature, (N) -hydrochloric acid was added to a solution of 40.0 g (0.151 mol) of methanol (280 ml) in (280 ml) of (S) -4- (2-benzyloxethyl) -2,2-diethyl-1,3-dioxolane: 120 ml (0.240 mol) was added and stirred. After the methanol was distilled off, the aqueous layer was washed with heptane: 80 ml. Salt was added to the aqueous layer and extracted with ethyl acetate (200 mix 3). The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and 27.6 g of the title compound (0.141 mol, quant, from about 7 mg) was obtained.
'H-NMR (CDC13) δ: 1.69-1.78 (1H, m), 1.79-1.88 (1H, m), 3.50 (1H, dd, J:11.0, 5.5Hz), 3.63 (1H, dd, J=ll.0, 4.1Hz), 3.65-3.74 (2H, m), 3.89-3.95 (1H, m), 7.26-7.38 (5H, m) . 実施例 1-4) (S)- (2-ベンジルォキシェチル)ォキシラン ( )
Figure imgf000019_0002
室温下、 (S) -4- (ベンジルォキシ)ブタン- 1.2-ジオール: 25.0 g (0.127 mol)の塩 化メチレン(200 ml)溶液にピリジニゥム p-トルエンスルフォネィ ト: 320mg(1.27 匪 ol)、 トリメチル オルトァセティ ト: 19.5 ml (0.152 mol)を加え 30分撹拌した。 溶媒を留去し、真空ポンプで 3分間乾燥した。室温下、残渣の塩化メチレン(200 ml) 溶液にァセチル ブロマイ ド: 10.7 ml (0.143 mol)を加え 40分撹拌後、 溶媒を留去 した。 室温下、 残渣のメタノール(200 ml)溶液に炭酸カリウム: 23.0g(0.166 mol) を加えて 2.5時間撹拌し、 その後濃縮した。 残馇に酢酸ェチル(200 ml), 水を加 え抽出し、 抽出液を飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾 過後溶媒を留去し、残渣を減圧下蒸留して標記化合物を 20.7 g(b. p. 〜93°C/0.15 mmHg; 0.116 mol, 91.5%)得た。
'H-NMR (CDC1 3) δ: 1.69-1.78 (1H, m), 1.79-1.88 (1H, m), 3.50 (1H, dd, J: 11.0, 5.5Hz), 3.63 (1H, dd, J = ll.0, 4.1Hz), 3.65-3.74 (2H, m), 3.89-3.95 (1H, m), 7.26-7.38 (5H, m) .Example 1-4) (S)-(2-benzylo Kishetil) Oxylan ()
Figure imgf000019_0002
At room temperature, pyridinium p-toluenesulfonate: 320 mg (1.27 g) was added to a solution of (S) -4- (benzyloxy) butane-1.2-diol: 25.0 g (0.127 mol) in methylene chloride (200 ml). Bandar ol), trimethyl orthoacetate: 19.5 ml (0.152 mol) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. The solvent was distilled off and dried with a vacuum pump for 3 minutes. At room temperature, 10.7 ml (0.143 mol) of acetyl bromide was added to a solution of the residue in methylene chloride (200 ml), and after stirring for 40 minutes, the solvent was distilled off. At room temperature, 23.0 g (0.166 mol) of potassium carbonate was added to a solution of the residue in methanol (200 ml), the mixture was stirred for 2.5 hours, and then concentrated. Ethyl acetate (200 ml) and water were added to the residue for extraction. The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 20.7 g (bp-93 ° C / 0.15 mmHg; 0.116 mol, 91.5%) of the title compound.
'Η - NMR(CDC13) δ: 1.74—1.83 (1Η, m), 1.88—1.97 (1H, m), 2.53 (1H, dd, J=4.8, 2.4Hz), 2.79 (1H, t, J=4.8Hz) , 3.05-3.10 (1H, m), 3.60-3.66 (2H, m), 4.54 (2H, s), 7.26—7.37 (5H, m) . 'Η - NMR (CDC1 3) δ: 1.74-1.83 (1Η, m), 1.88-1.97 (1H, m), 2.53 (1H, dd, J = 4.8, 2.4Hz), 2.79 (1H, t, J = 4.8Hz), 3.05-3.10 (1H, m), 3.60-3.66 (2H, m), 4.54 (2H, s), 7.26-7.37 (5H, m).
参考例 Reference example
このようにして得られた(S) - (2-ベンジルォキシェチル)ォキシラン( )は、ダラ ム陰性菌血症、 特にエンドトキシンショックの予防 ·治療などに有用なリピッ ド A類縁体の下記構造式で表される E5564の製造中間体として有用である。  (S)-(2-Benzyloxshetyl) oxylan () obtained in this manner is a lipid A analog useful for the prevention and treatment of dallam-negative bacteremia, especially endotoxin shock. Useful as an intermediate for producing E5564 represented by the structural formula.
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000020_0001
具体的には、 (S)- (2-ベンジルォキシェチル)ォキシラン( )を下記(3R)- 3-メ トキ シ- 1-デカノール (4)や(3R) - 3 -メ トキシデカニル メタンスルフォネイ ト (5)に , 導くことにより用いる。 参考例 1. (3R)- 3-メ トキシデカニル メタンスルフォネィ 卜の製造方法 Specifically, (S)-(2-benzyloxystyl) oxysilane () is converted to the following (3R) -3-methoxy-1-decanol (4) or (3R) -3-methoxydecanyl methanesulfur Fornate (5) , Used by guiding. Reference Example 1. Method for producing (3R) -3- 3-methoxydecanyl methanesulfonate
参考例 1-1) (3R)- 1-ベンジルォキシデカン - 3_オール (6)
Figure imgf000021_0001
窒素気流下、 一 30°Cに冷却したヨウ化銅(I): 2.22 g(ll.1 mmol)のテトラヒ ド 口フラン(25 ml)溶液にへキシルマグネシウム ブロマイ ド: 11.10 ml (22.4賺 ol:
Reference Example 1-1) (3R) -1-benzyloxydecane-3_ol (6)
Figure imgf000021_0001
Hexylmagnesium bromide in a solution of copper (I) iodide: 2.22 g (ll. 1 mmol) in tetrafuran-furan (25 ml) cooled to 30 ° C under a nitrogen stream: 11.10 ml (22.4)
2.0Mジェチルエーテル溶液)を加え 30分撹拌後、(S)- (2-ベンジルォキシェチル) ォキシラン: 1.97 g(ll.l mmol)のテトラヒ ドロフラン(5 ml)溶液を加えた。 1時 間撹拌後、 室温にしてさらに 1時間撹拌した。 反応液に塩化アンモニゥム水溶液 を加えて酢酸ェチル(50 ml)で抽出し、 抽出液を水、 飽和食塩水で洗浄後、 無水硫 酸マグネシウムで乾燥した。 濾過後溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロ マトグラフィー (n-へキサン、 酢酸ェチル) で精製して標記化合物を 2.74 g(10.4 mmol, 93.8%)得た。 2.0M getyl ether solution), and the mixture was stirred for 30 minutes, and then a solution of (S)-(2-benzyloxyshethyl) oxysilane: 1.97 g (ll.l mmol) in tetrahydrofuran (5 ml) was added. After stirring for 1 hour, the mixture was brought to room temperature and further stirred for 1 hour. An aqueous solution of ammonium chloride was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate (50 ml). The extract was washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane, ethyl acetate) to obtain 2.74 g (10.4 mmol, 93.8%) of the title compound.
!H— NMR(CDC13) δ 0.88 (3Η, t, J=7.0Hz) , 1.28(10H, bs), 1· 36 - 1.52 (2H, m) , 1.72-1.78 (2H, m), 2.87 (1H, bs), 3.62-3: 68 (1H, m) , 3.70- 3.76 (1H, m), ! H- NMR (CDC1 3) δ 0.88 (3Η, t, J = 7.0Hz), 1.28 (10H, bs), 1 · 36 - 1.52 (2H, m), 1.72-1.78 (2H, m), 2.87 ( 1H, bs), 3.62-3: 68 (1H, m), 3.70- 3.76 (1H, m),
3.77-3.83 (1H, m), 4.51 (2H, s), 7.26-7.37 (5H, m). 参考例 1-2) (3R)- 1_ベンジルォキシ- 3-メ トキシデカン (7) (7)3.77-3.83 (1H, m), 4.51 (2H, s), 7.26-7.37 (5H, m). Reference Example 1-2) (3R) -1_benzyloxy-3-methoxydecane (7) (7)
Figure imgf000021_0002
室温下、 (3R)_1-ベンジルォキシデカン- 3-オール: 1.80 g (6.8 mmol)のテトラ ヒ ドロフラン(2 ml)溶液に水酸化カリウム: 895 mg(13.6 讓 ol)、 ョードメタン: 0.55 ml (8.8 mmol)を加え 4 日間撹拌した。 反応液に水を加えて n-へキサンで抽 出し、 抽出液を水、 飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾 過後溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-へキサン、 酢酸ェチル) で精製して標記化合物を 1.52 g(5.5 腿 ol, 80.2%)得た。 —匪 R(CDC13) δ : 0.88 (3Η, t, J "二 7.0Hz), 1.27(10H, bs), 1.40-1.52 (2H, m), 1.72-1.80 (2H, m), 3.32 (3H, s), 3.27-3.36 (1H, m), 3.50-3.62 (2H,. m) , 4.50 (2H, s), 7.26— 7.37 (5H, m) . 参考例 1-3) (3R)- 3-メ トキシ- 1 -デカノール (4)
Figure imgf000022_0001
Figure imgf000021_0002
At room temperature, (3R) _1-benzyloxydecane-3-ol: A solution of 1.80 g (6.8 mmol) in tetrahydrofuran (2 ml) was mixed with potassium hydroxide: 895 mg (13.6 s ol), and lodomethane: 0.55 ml ( 8.8 mmol) and stirred for 4 days. Water was added to the reaction solution, extracted with n-hexane, and the extract was washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (n-hexane, The residue was purified by ethyl acetate to give 1.52 g (5.5 t, 80.2%) of the title compound. — Marauder R (CDC1 3 ) δ: 0.88 (3Η, t, J "2 7.0Hz), 1.27 (10H, bs), 1.40-1.52 (2H, m), 1.72-1.80 (2H, m), 3.32 (3H , s), 3.27-3.36 (1H, m), 3.50-3.62 (2H, .m), 4.50 (2H, s), 7.26-- 7.37 (5H, m) .Reference example 1-3) (3R) -3 -Methoxy-1-decanol (4)
Figure imgf000022_0001
室温下、 (3R)- 1-ベンジルォキシ- 3-メ トキシデカン: 1.30 g(4.7 mmol)のメタ ノール(20 ml)溶液に 20%水酸化パラジウム (水 〜50%): 260 mgを加え一晚水添 (常圧) した。 反応液をセライ ト濾過後溶媒を留去し、 標記化合物を 880 mg (4.7 mmol, quant. ) 导た。 参考例 1 - 4) (3R) - 3 -メ トキシデカニル メタンスルフォネィ ト (5)  At room temperature, (3R) -1-benzyloxy-3-methoxydecane: 1.30 g (4.7 mmol) in methanol (20 ml) was added with 20% palladium hydroxide (water to 50%): 260 mg, and added water. (Normal pressure). After the reaction solution was filtered through celite, the solvent was distilled off to give 880 mg (4.7 mmol, quant.) Of the title compound. Reference example 1-4) (3R)-3 -Methoxydecanyl methanesulfonate (5)
OMe  OMe
^/^ A^0Ms (5) 氷冷した(3R)- 3 -メ トキシ- 1-デカノール: 1.90 g(10.1讓 ol)のテトラヒ ドロフ ラン(20 ml)溶液にトリェチルァミン: 1.60 ml (11.5膽 ol)を加え、 次いでメタン スルフォニル クロライ ド: 0.80 ml (10.3 腿 ol)を加えて 30分撹拌した。 反応液 に水を加えて酢酸ェチル(20 ml)で抽出し、 抽出液を水、 飽和食塩水で洗浄後、 無 水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾過後溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィー (n-へキサン、 酢酸ェチル) で精製して標記化合物を 2.68 g(10.1 mmol, 99.7%)得た。 ^ / ^ A ^ 0Ms (5) Ice-cooled (3R) -3- 3-methoxy-1-decanol: 1.90 g (10.1 acetyl) of tetrahydrofuran (20 ml) in solution of triethylamine: 1.60 ml (11.5 glutanol) ), And then 0.80 ml (10.3 tmol) of methanesulfonyl chloride was added, followed by stirring for 30 minutes. Water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate (20 ml). The extract was washed with water and saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography ( n- hexane, ethyl acetate) to obtain 2.68 g (10.1 mmol, 99.7%) of the title compound.
^-NMRiCDC^) δ : 0.88 (3Η, t, J=7.2Hz) , 1.29(10H, bs), 1.40-1.48 (1H, m) , 1.51-1.59(1H, m), 1.78-1.87 (1H, m) , 1.90-1.99 (1H, m) , 3.01 (3H, s), 3.29-3.36 (1H, m), 3.33 (3H, s), 4.28-4.39 (2H, m) .  ^ -NMRiCDC ^) δ: 0.88 (3Η, t, J = 7.2Hz), 1.29 (10H, bs), 1.40-1.48 (1H, m), 1.51-1.59 (1H, m), 1.78-1.87 (1H, m), 1.90-1.99 (1H, m), 3.01 (3H, s), 3.29-3.36 (1H, m), 3.33 (3H, s), 4.28-4.39 (2H, m).
このようにして得られた(3R)- 3 -メ トキシ- 1-デカノール (4)や(3R)- 3 -メ トキ シデカニル メタンスルフォネィ ト (5)は以下の方法で E5564 製造に用いること ができる。 この E5564は、米国特許第 5750664号、第 5935938号公報、又は特表平 11-506793 号公報などに開示されているように、 例えば下記スキームで表される方法により 製造することができる。 (3R) -3-Methoxy-1-decanol (4) and (3R) -3-methoxydecanyl methanesulfonate (5) thus obtained can be used for the production of E5564 by the following method. Can be. This E5564 can be produced, for example, by a method represented by the following scheme, as disclosed in US Pat. Nos. 5,750,664, 5,935,938, and JP-T-11-506793.
Figure imgf000023_0001
Figure imgf000023_0001
21 twenty one
差替え用紙 (規則 26) の方法において 6 . の反応で使用されている式で表される化合物 Replacement form (Rule 26) The compound represented by the formula used in the reaction of 6. in the method of 6.
21/1 21/1
差替え用紙 (規則 26)
Figure imgf000025_0001
Replacement form (Rule 26)
Figure imgf000025_0001
の代わりに本願で合成される下記式を用いることによつても、 同様にして E5564 を製造することができる。 E5564 can be similarly produced by using the following formula synthesized in the present application instead of
CH3Q
Figure imgf000025_0002
CH 3 Q
Figure imgf000025_0002
22. twenty two.

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1. 一般式 (6) 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2_ l 1ァシル基を、 P G1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される化合物 (6) およびノまたは 一般式 (7) 〔式中、 各記号は前記定義に同じ基を示す〕 で表される化合物 (7) の脱離基を脱離させることを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は前記定義に 同じ基を示す〕 で表される化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の 製造方法: ' 1. General formula (6): wherein, X is a halogen atom, Y is C 2_ l 1 a Ashiru group, PG 1 denotes a protecting group for hydroxyl group] are represented by the compound (6) and Bruno or general Wherein the leaving group of the compound (7) represented by the formula (7) [wherein each symbol represents the same group as defined above], is represented by the following general formula (8): The symbols represent the same groups as defined above.] A method for producing compound (8) or a salt thereof or a hydrate thereof:
Figure imgf000026_0001
Figure imgf000026_0001
2. 一般式 (5) 〔式中、 R 3および R 4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1一 6アルキル基を、 PG]は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される化合 物 (5) に、 式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル基を それぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は上述 と同じ定義を有する〕で表される化合物(6)および Zまたは一般式(7)〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 2. A compound represented by the general formula (5) wherein R 3 and R 4 each represent a C 16 alkyl group which may be the same or different, and PG ] represents a hydroxyl-protecting group. 5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X (wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group), and a compound represented by the general formula (6) Wherein the symbols have the same definition as described above), and compounds (6) and Z or a compound (7) represented by the general formula (7) wherein each symbol has the same definition as described above;
次いでこれらの化合物 (6) および または化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法:
Figure imgf000026_0002
Then, the compound represented by the general formula (8), wherein the symbols have the same definitions as described above, wherein the leaving group of the compound (6) and / or the compound (7) is eliminated. (8) or a method for producing the salt or hydrate thereof:
Figure imgf000026_0002
YO. A i (6)  YO. A i (6)
23
Figure imgf000027_0001
(8)。
twenty three
Figure imgf000027_0001
( 8 ).
3. 一般式 (4) 〔式中、 PG1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される 化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R3および R 4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1 -6アルキル基を示し、 PG1は上述 と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (5) とし、 3. A protecting group is introduced into two hydroxyl groups of the compound (4) represented by the general formula (4) [wherein, PG 1 represents a protecting group for a hydroxyl group], and the general formula (5) R 3 and R 4 each represent a C 1-6 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 has the same definition as described above.)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および/または一般式 (7)The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. And each symbol has the same definition as described above.) Compound (6) and / or general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) およびノまたは化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: [Wherein each symbol has the same definition as above], and the leaving group of these compounds (6) and (h) or compound (7) is then eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof:
OH OH
HO (4) HO (4)
OPG 1  OPG 1
Figure imgf000027_0002
Figure imgf000027_0002
χ_  χ_
YO 1 (6)  YO 1 (6)
Figure imgf000027_0003
Figure imgf000027_0003
4. 一般式 (3) 〔式中、 R1および R 2はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1一 6アルキル基を、 PG1は水酸基の保護基をそれぞれ示す〕 で表される化合 物 (3) を酸で処理して一般式 (4) 〔式中、 PG1は上述と同じ定義を有する〕 4. A compound represented by the general formula (3) wherein R 1 and R 2 each represent a C 16 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group. 3) is treated with an acid to form a general formula (4) wherein PG 1 has the same definition as above.
24 で表される化合物 (4) とし、 次いで該化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を 導入して一般式 (5) 〔式中、 R3および R4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1— 6アルキル基を示し、 PG1は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合 物 (5) とし、 twenty four And a protecting group is introduced into two hydroxyl groups of the compound (4) to obtain a compound represented by the general formula (5): wherein R 3 and R 4 may be the same or different. Represents a 1-6 alkyl group, and PG 1 has the same definition as above.)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および または一般式 (7)The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. And each symbol has the same definition as described above.] A compound (6) and / or a general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) および/または化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) -もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: [Wherein each symbol has the same definition as described above], and then the leaving group of these compounds (6) and / or compound (7) is eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof:
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000028_0001
OH  OH
(4)  (Four)
OPG1 OPG 1
Figure imgf000028_0002
Figure imgf000028_0002
5. —般式 (2) 〔式中、 R1および R2はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1—6アルキル基を示す〕で表される化合物(2)に保護基を導入して一般式(3) 〔式中、 R1および R2は上述と同じ定義を有し、 PG1は水酸基の保護基を示す〕 で表される化合物 (3) とし、 5. General formula (2) wherein a protecting group is introduced into the compound (2) represented by the general formula (2) wherein R 1 and R 2 each represent a C 1-6 alkyl group which may be the same or different. Wherein R 1 and R 2 have the same definition as described above, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group.
25 該化合物 (3) を酸で処理して一般式 (4) 〔式中、 PG1は上述と同じ定義を有 する〕 で表される化合物 (4) とし、 twenty five Treating the compound (3) with an acid to give a compound (4) represented by the general formula (4) wherein PG 1 has the same definition as described above;
次いで該化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R 3および R4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1 _6アルキル基を示し、 PG 1は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (5) とし、 Then, protecting groups are introduced into two hydroxyl groups of the compound (4) to obtain a compound represented by the general formula (5) wherein R 3 and R 4 each represent a C 1 -6 alkyl group which may be the same or different, and PG 1 Having the same definition as described above].
該化合物 (5) に式 Y_X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Υは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および Ζまたは一般式 (7)The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y_X (wherein X represents a halogen atom and Υ represents a C 2-11 acyl group), and a compound represented by the following general formula (6): The symbols have the same definitions as described above.] (6) and Ζ or the general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) およびノまたは化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: [Wherein each symbol has the same definition as above], and the leaving group of these compounds (6) and (h) or compound (7) is then eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof:
Figure imgf000029_0001
Figure imgf000029_0001
YO (6) YO (6)
Figure imgf000029_0002
Figure imgf000029_0002
26 26
6. 一般式(1) で表される化合物(1) に保護基を導入し一般式(2) 〔式中、 R1および R 2はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1— 6アルキル基を示す〕 で 表される化合物 (2) とし、 6. A protecting group is introduced into the compound (1) represented by the general formula (1) to form a compound represented by the general formula (2) wherein R 1 and R 2 are each a C 1-6 alkyl group which may be the same or different. The compound (2) represented by
該化合物 (2) に保護基を導入して一般式 (3) 〔式中、 R1および R2は上述と 同じ定義を有し、 PG1は水酸基の保護基を示す〕 で表される化合物 (3) とし、 該化合物 (3) を酸で処理して一般式 (4) 〔式中、 PG1は上述と同じ定義を有 する〕 で表される化合物 (4) とし、 A compound represented by the general formula (3) wherein a protecting group is introduced into the compound (2), wherein R 1 and R 2 have the same definition as described above, and PG 1 represents a hydroxyl-protecting group. Treating the compound (3) with an acid to obtain a compound (4) represented by the general formula (4) wherein PG 1 has the same definition as described above;
次いで該化合物 (4) の 2つの水酸基に保護基を導入して一般式 (5) 〔式中、 R 3および R4はそれぞれ同一又は異なってもよい C 1一 6アルキル基を示し、 PG 1は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (5) とし、 Then shows two hydroxyl groups by introducing protective groups in formula (5) [wherein, R 3 and R 4 are the same or different may be C 1 one alkyl group of the compound (4), PG 1 Has the same definition as described above.)
該化合物 (5) に式 Y— X 〔式中、 Xはハロゲン原子を、 Yは C 2— 1 1ァシル 基をそれぞれ示す〕 で表される化合物を反応させ、 一般式 (6) 〔式中、 各記号は 上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (6) および Zまたは一般式 (7)The compound (5) is reacted with a compound represented by the formula Y—X wherein X represents a halogen atom and Y represents a C 2-11 acyl group. Wherein each symbol has the same definition as described above.] (6) and Z or the general formula (7)
〔式中、 各記号は上述と同じ定義を有する〕 で表される化合物 (7) とし、 次いでこれらの化合物 (6) および または化合物 (7) の脱離基を脱離させる ことを特徴とする、 一般式 (8) 〔式中、 記号は上述と同じ定義を有する〕 で表さ れる化合物 (8) もしくはその塩またはそれらの水和物の製造方法: [Wherein each symbol has the same definition as described above], and the leaving group of these compounds (6) and / or (7) is then eliminated. A method for producing a compound (8) represented by the general formula (8) wherein the symbols have the same definitions as described above, or a salt thereof, or a hydrate thereof:
OH OH
HO^^ oH (1) HO ^^ oH (1)
Figure imgf000030_0001
Figure imgf000030_0001
0H  0H
H0  H0
OPG 11 (4) OPG 1 1 ( 4 )
27
Figure imgf000031_0001
27
Figure imgf000031_0001
7 . Xが臭素原子である請求項 1〜 6のいずれか 1項記載の方法。  7. The method according to any one of claims 1 to 6, wherein X is a bromine atom.
8 . Yがァセチル基である請求項 1〜 7のいずれか 1項記載の方法。  8. The method according to any one of claims 1 to 7, wherein Y is an acetyl group.
9 . P G 1がべンジル基である請求項 1〜 8のいずれか 1項記載の方法。 9. PG 1 Gabe Njiru method of any one of claims 1-8 is a group.
0 R 3および R 4がメチル基である請求項 2〜 9のいずれか 1項記載の方法0 R 3 and R 4 are the method of any one of claims 2-9 is a methyl group
1 1 R 1および R 2がェチル基である請求項 4〜 1 0のいずれか 1項記載の方 法。 The method according to any one of claims 4 to 10, wherein 11 R 1 and R 2 are an ethyl group.
28 28
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