WO2002079324A1 - Vinyl chloride-based paste sol composition - Google Patents

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WO2002079324A1
WO2002079324A1 PCT/JP2002/002218 JP0202218W WO02079324A1 WO 2002079324 A1 WO2002079324 A1 WO 2002079324A1 JP 0202218 W JP0202218 W JP 0202218W WO 02079324 A1 WO02079324 A1 WO 02079324A1
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WO
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atom
vinyl chloride
group
compound
acid
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Application number
PCT/JP2002/002218
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French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Ryotaro Tsuji
Tomoki Hiiro
Original Assignee
Kaneka Corporation
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0016Plasticisers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/39Thiocarbamic acids; Derivatives thereof, e.g. dithiocarbamates

Definitions

  • the present invention relates to a vinyl chloride paste sol composition. More specifically, the present invention relates to a butyl chloride-based paste sol composition exhibiting remarkable thixotropic behavior under low viscosity, having less mold contamination during molding, and having a uniform molecular weight distribution.
  • dipping using a chloride chloride-based paste sol composition has been adopted for the molding of gloves made of vinyl chloride resin, caps for electrical components, coating materials such as hose fasteners, etc. .
  • a mold such as gloves (porcelain, porcelain, or metal) is immersed in a chloride chlorinated paste sol composition, or a mold for electrical components or a hose made of fiber is immersed.
  • the sol adheres to the mold and the periphery of the hose, and then is heated and gelled, then cooled and peeled off from the mold, or the product is left as it is.
  • Such immersion processing methods include a hot diving method in which the mold is preheated to a predetermined temperature and then immersed in the sol to adjust the amount of adhesion.
  • a cold diving method in which a sol is adhered and then gelled by heating.
  • the mainstream of the immersion processing method is the cold diving method, but in this case the amount of sol attached depends on the fluidity of the sol itself, and there is a conflicting relationship between the sol dripping and the attached amount. is there.
  • a dripping sol has a problem in processability, and a method of adding a large amount of a thixotropic agent (thickener) to prevent dripping is known.
  • a method of adding an organic sulfonic acid salt to a vinyl chloride paste sol composition is disclosed in Japanese Patent Publication No. 7-719, but is obtained by ordinary radical polymerization.
  • the uniform dispersibility of these organic sulfonates and other thixotropic agents is poor and the stability is low, so that the thixotropic behavior when the thixotropic agent is added is insufficient.
  • the thickness of the molded product was not stable.
  • the polymerization method is excellent, for example, WO98 / 01478, WO99Z05099, WO99 / 31144, and Macromolecules 1998, 31 1, 5559-5562, and the reaction mechanism.
  • the details are described, including However, for compositions containing a vinyl chloride paste resin as an essential component, application of the RAFT polymerization method has not been studied so far.
  • the present invention relates to a composition containing a vinyl chloride paste resin produced by a RAFT polymerization method as an essential component.
  • the problem to be solved by the present invention is to provide a thixotropic agent, which has problems in productivity, cost, product quality, environmental burden, etc. ⁇ Biel chloride paste showing sufficient thixotropic behavior without the need to add a large amount of solvent It is to provide a sol composition.
  • the inventors of the present invention have been studying to solve the above problems, and (A) radical polymerization of a vinyl chloride monomer in the presence of a specific compound having a thiocarbonylthio structure.
  • the present invention was found to be particularly effective in a vinyl chloride paste sol composition containing two components, a vinyl chloride paste resin and (B) a plasticizer, as essential components.
  • the butyl chloride-based polymer produced by the RAFT polymerization method which is the component (A) of the present invention, has a thiocarbonylthio structure at its terminal, various additives, particularly sulfonic acid salts, and other thixotroping agents are mixed. In this case, the uniform dispersibility is very good. For this reason, the vinyl chloride paste sol composition of the present invention shows a sufficient thixotropy behavior by adding a small amount of a thixotrope, and the like. And other additives can reduce the amount of additive. In addition, it is considered that the effects of hydrogen bonding and polarity involving the terminal thiocarboxy thio group also contribute to the development of thixotropic behavior.
  • the molecular weight, the molecular weight distribution, and the copolymer composition can be easily controlled. Therefore, when a composition suitable for an actual immersion processing method is added by adding a plasticizer or the like, it is possible to easily adjust the physical properties of the composition and the gelled product thereof.
  • the vinyl chloride paste resin as the component (A) of the present invention has the general formula (1)
  • R 1 is a p-valent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight.
  • Z 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, and a phosphorus atom.
  • p may be 1 or more. It is an integer.
  • R 2 is a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight.
  • R 2 may be a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, or a high molecular weight compound, and R 2 may be the same as or different from each other.
  • Q is an integer of 2 or more.
  • / 0 is a vinyl chloride paste resin obtained by radical polymerization of less than / 0 .
  • the compound having a thiocarbolthio structure used in the present invention includes a compound represented by the general formula (3) in that a vinyl chloride polymer having a thiocarbolthio structure at both terminals can be easily produced.
  • R 3 is a divalent organic group having 1 or more carbon atoms, such as nitrogen atom, oxygen atom, sulfur It may contain atoms, halogen atoms, silicon atoms, phosphorus atoms, and metal atoms, and may be a high molecular weight compound.
  • z 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a high molecular weight It may be a body.
  • Z 3 may be the same or different.
  • a compound having a thiocarbonylthio structure at both ends represented by
  • the general formula (4) As a component other than the component (A) and the component (B), in order to exhibit a sufficient thixotropic behavior, the general formula (4)
  • R 4 is a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and L 2 is an alkali metal or an ammonium group.
  • Such sulfonates are not particularly limited, but include, for example, sodium isethionate, potassium isethionate, ammonium isethionate, sodium lauryl ethyl ester sulfonate, sodium myristyl ethyl ester sulfonate, and stearyl ethyl ester Examples include sodium sulfonic acid. You. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the salt-based paste resin used as the component (A) in the present invention exhibits a sufficient thixotropic behavior with a small amount of addition, since it has a very good uniform dispersion 1 "production with these sulfonates.
  • the amount of the sulfonate used is not particularly limited but may be small, and is preferably 0.05 to 2 parts by weight, more preferably 0.02 to 100 parts by weight of the component (A).
  • the amount is less than 0.05 part by weight, the effect of improving the thixotropic behavior may not be clear, and when the amount is more than 2 parts by weight, the sol viscosity is too high, which is not practical.
  • R 1 is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, a benzyl group, a 1-phenyl / reethyl group, 2-phenyl-2-propyl, 1-acetoxityl, 11- (4-methoxyphenol) ethyl, ethoxycanolepolmethyl, 2-ethoxycarbonyl 2-propyl, 2-cyano 2 —Propyl group, t-butyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 2- (4-chlorophenyl) -12-propyl group, vinylbenzyl group, t-butylsulfide group, 2- Power / Repoxysilethyl group, carboxymethyl group, cyanomethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyano-2-butyl group, and general formula (6)
  • R 2 is not particularly limited, but in terms of availability, benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenyl-2-propyl group, 1-acetoxethyl group, 1- (4-methoxyphenyl) ethyl Ethoxycanoleboninolemethyl group, 2-ethoxyethoxycarbonyl-2-propyl group, 2-cyano-2-propyl group, t-butyl group, 1,1, 3,3-tetramethylbutyl group, 2- (4-chlorophenol) 1-2-propyl group, vinylbenzyl group, t-butylsulfide group, 2-carboxyethyl group, carboxylmethyl group, cyanomethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyano-2-butyl group, and general formula on (7)
  • Z 1 is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, phenyl, methyl, ethyl, benzyl, 4-chlorophenyl, 1-naphthyl, 2- Naphthyl group, diethoxyphosphinyl group, n-butyl group, t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, thiomethyl group (methylsulfide), phenoxy group, thiophenyl group N, N-dimethylamino group, N, N-Getylamino group, N-phenyl-1-N-methylamino group, N-phenyl-1-N-ethylamino group, thiobenzinole group (benzylsnolefide), pentaphenylolef Enoxy group, and general formula (8)
  • Organic substituents represented by CH 3 are preferred. Although not particularly limited as z 2, in terms of the incoming hand property, phenyl group, methyl group, Echiru group, a benzyl group, 4 _ black port phenylene group, 1 _ naphthyl, 2 _ naphthyl group, di Ethoxyphosphinyl group, n-butyl group, t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, thiomethyl group (methyl sulfide), phenoxy group, thiophenyl group (phenyl sulfide), N, N-dimethylamino group , N, N-getylamino, N-phenyl-1-N-methylamino, N-phenyl-N-ethylamino, thiobenzyl (benzylsulfide), pentafluorophenoxy, and the general formula (9)
  • the organic substituent represented by is preferred.
  • R 3 is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, the compound represented by the general formula (10)
  • Z 3 is not particularly limited, phenyl, methyl, ethyl, benzyl, 4-chlorophenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, diphenyl Ethoxyphosphinyl group, n-butyl group, t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, thiomethyl group (methyl sulfide), phenoxy group, thiopheninole group (phenylsnosulfide), N, N-dimethylamido , N, N-Jethylamino, N-phenylN-methylamino, N-phenyl-N-ethylamino, thiobenzyl (benzylsulfido), pentafluorophenoxy, and the general formula ( 7 ) 0
  • r represents an integer of 1 or more.
  • Me represents a methyl group
  • E′t represents an ethyl group
  • Ph represents a phenyl group
  • Ac represents an acetyl group
  • r represents an integer of 1 or more. It is not limited to these.
  • the method of radically polymerizing vinyl chloride monomer in the presence of a compound having a thiocarbonylthio structure is not particularly limited, and a vinyl chloride paste resin such as an emulsion polymerization method or a fine suspension polymerization method may be used.
  • a conventionally known method used in the production can be used.
  • polymerization initiator or polymerization initiation method when polymerizing vinyl chloride monomer Is not particularly limited, and a conventionally known polymerization initiator or a polymerization initiation method can be used.
  • a conventionally known polymerization initiator or a polymerization initiation method can be used.
  • Peroxide polymerization initiators such as monooxybenzoate, 2,5-dimethyl-1,2,5-di (benzoy ⁇ propoxy) hexane; 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 1,1 —Azobis (cyclohexane 1-force ⁇ / bonitolinole), azocumene, 2, 2 '—azobis (2-methylbutyronitrile), 2, 2'—azobisdimethinorevalero nitrile, 4, 4'-Azobis (4-cyanovaleric acid), 2- (tert-butylacetyl) -1-2-cyanopropane, 2, 2'-Azobis (2,4,4-trimethylpentane), 2,2,1-azobis Azo polymerization initiators such as (2-methylpropane) and dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate); inorganic peroxides such as potassium persulfate and sodium persulfate; styrene, etc
  • That generate radical species thermally such as -Compounds that generate radical species by light, such as benzoin derivatives, benzophenone, asinolephosphinoxide, and photoredox systems; sodium sulfite, sodium thiosulfate, sodium formaldehyde sulfoxylate, ascorbic acid, and sulfuric acid sulfate Iron is used as a reducing agent, and potassium peroxodisulfate, hydrogen peroxide, and t-butyl hydroperoxide are used as oxidizing agents.
  • Redox-type polymerization initiators but are not limited thereto. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
  • a polymerization initiation system by electron beam irradiation, X-ray irradiation, radiation irradiation, or the like.
  • a polymerization initiation method is described in Mo adand Sol omo n ⁇ he Chemistry of Free Radical P ol y mer rization ", Pergamon, London, 1995, pp. 53-95.
  • the amount of the polymerization initiator used in the practice of the present invention is not particularly limited, but the amount of the radical species generated during the polymerization is reduced in that a polymer having a small molecular weight distribution can be obtained.
  • the amount of the compound having a thiocarbonylthio structure is preferably 1 equivalent or less, more preferably 0.5 equivalent or less, and the amount of the polymerization initiator used is controlled to control the amount of radical species generated during the polymerization.
  • the emulsifier to be used is not particularly limited, and fatty acid soap, rosin acid soap, sodium naphthalenesulfonic acid sodium honoremarin condensate, Sodium alkylbenzenesnolephonate, ammonium alkyl sulfate, sodium alkyl sulfate, triethanolamine alkyl sulfate, sodium dialkyl sulfosuccinate, alkyl diphenyl ether disulfonate sodium, polyoxyethylene alkyl ether sodium sulfate, polyoxyethylene alkylphenyl Anionic surfactants such as sodium monoter sulfate; polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene higher alcohol ether, sorbitan fatty acid ester, polyoxy Nonionic surfactants such as Tylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid
  • emulsifiers may be used alone or in combination of two or more. If necessary, partially saponified polyacetic acid butyl, poly (vinyl alcohol), methyl / resenololose, phenolic methyl cellulose, gelatin, polyalkylene oxide, a combination of anionic surfactant and dispersing agent, etc. A conventionally known dispersant for suspension polymerization may be added.
  • the amount of the emulsifier used is not particularly limited. For emulsification liquid (latex) stabilization, usually 0.01 to 3 parts by weight is used per 100 parts by weight of the monomer.
  • the method of adding the compound having a thiocarbolthio structure is not limited, but the polymerization behavior is stable. It is preferable that the structure of the vinyl chloride polymer is easily mixed with the vinyl chloride monomer in an aqueous dispersion or an aqueous emulsion and stirred in advance with a homogenizer or the like because the structure of the vinyl chloride polymer can be easily controlled. .
  • a vinyl chloride monomer when subjected to radical polymerization in the presence of a compound having a thiocarbonylthio structure, it is possible to copolymerize a monomer capable of undergoing radical copolymerization with a vinyl chloride monomer.
  • Such monomers are not particularly limited, but include, for example, styrene, ⁇ -methyl ⁇ styrene, dibininolebenzene, ⁇ -hydroxystyrene, ⁇ -carboxystyrene, ⁇ -methoxystyrene, and acetylaminostyrene.
  • Styrene compounds such as, ethinoleamino ⁇ -methinolestyrene, ⁇ -vinylinolebenzenesulfonic acid, ⁇ -vinylinolebenzenesnolephonate, and m, m_dimethyl / restyrene; ethylene, propylene, 1-butene, 1 —Aliphatic terminal olefin compounds such as heptene, 1-hexene, 1-octene, isobutylene, butadiene, and isoprene; halogen-containing olefins such as butyl fluoride, vinyl bromide, chloroprene, and vinylidene salt Compound; acrylic acid, methacrylic acid; acrylic acid Tyl, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexy
  • the monomers used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
  • styrene, ⁇ -methylstyrene, butadiene, isoprene, chloroprene, ethylene, propylene, futonidani vinylonole, and bromide are useful in that the obtained polymer is useful.
  • a single monomer may be copolymerized, or a plurality of monomers may be combined and copolymerized.
  • a conventionally known form such as a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, or a gradient copolymer may be used. it can.
  • the copolymer is copolymerized with 50% by weight or more of a vinyl chloride monomer.
  • the vinyl chloride paste resin of the present invention can be used by mixing a plurality of vinyl chloride paste resins having different number average molecular weights.
  • various physical properties such as viscosity, fluidity, thixotropy, genolization properties, heat resistance, weather resistance, hot water resistance, and light resistance are adjusted. It is preferable to mix vinyl chloride-based paste resins having different physical properties.
  • vinyl chloride-based paste resins whose number average molecular weights calculated by gel 'permeation' chromatography differ from each other by more than 300,000 are preferred. It is more preferable to mix vinyl chloride paste resins whose number average molecular weights are different from each other by 500 or more.
  • chlorinated vinyl-based paste resin in the present invention preferably has a molecular weight distribution of 2 or less, more preferably 1.5 or less, as measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • the vinyl chloride paste resin in the present invention may be used as a chlorinated vinyl chloride polymer by polymerizing a vinyl chloride monomer and then partially chlorinating it.
  • a method of chlorinating a vinyl chloride resin various conventionally known methods can be used. However, industrially, the water suspension chlorination method is preferred.
  • the plasticizer as the component (B) of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known plasticizer can be used.
  • plasticizers include, for example, dimethyl phthalate, di- / ethyl phthalate, di-n-butynole phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethyl phthalate hexyl, diisononyl phthalate, phthalic acid Disodecinole, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, esterenole tetrahydrophthalate, tricresyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tris (2-ethylhexyl) phosphate, tri (2-chloroethynole) phosphate , Tris diclo mouth propionole phosphate, Tributoxyshetti phosphate, Tris — clo
  • the amount of the plasticizer used in the present invention is not particularly limited. However, it is preferable to use 100 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the vinyl chloride paste resin of the component ( ⁇ ). , 50 to 100 parts by weight. If the amount is less than 100 parts by weight, the effect of plasticization may not be exhibited, and if it exceeds 2000 parts by weight, weather resistance and heat resistance may be adversely affected.
  • an acidic compound, a hydrotalcite compound, and a zeolites are used for the purpose of improving the physical properties of the obtained butyl chloride-based resin.
  • a compound selected from the group consisting of a light compound and a metal perchlorate can be contained. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the acidic compound used in the present invention is not particularly limited. For example, phosphoric acid, phosphorous acid, sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, chromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, nitric acid, nitrous acid, And inorganic acids such as iodic acid; acetic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, nicotinic acid, benzenes / lephonic acid, benzoic acid, tartaric acid, malic acid, formic acid, butyric acid, citric acid, succinic acid, oxalic acid, Picric acid, picolinic acid, phthalic acid, sulfamic acid, sulfamic acid, aspartic
  • hydrotalcite compound used in the present invention is not particularly limited.
  • natural hydrotasite Japanese Patent Publication No. 46-22880, Japanese Patent Publication No. 50-30039, Japanese Patent Publication No. Synthetic hydrotalcite synthesized by the method described in, for example, Japanese Patent Publication No. 61-174702; hydrotalcite surface-treated with wax such as fatty acid ester; zinc-modified hydrotalcite; perchloric acid Hydrotalcite treated; hydrotalcite obtained by treating zinc-modified hydrotalcite with perchloric acid; and hydrotalcite dried. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the zeolite compound used in the present invention is not particularly limited, but zeolite ⁇ , X-zeolite, Y-zeolite, P-zeolite, monodenite, arnassite, sodalite aluminokerate, clinopti mouth Examples include light, erionite, and chabazite. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the metal perchlorate used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include tin perchlorate, barium perchlorate, sodium perchlorate, and magnesium perchlorate. These may be used alone or in combination of two or more.
  • various conventionally known stabilizers, additives, fillers, and the like can be blended as components other than the above.
  • Such stabilizers, additives, and fillers include, for example, cadmium stearate, zinc stearate, barium stearate, dibasic lead stearate, lead stearate, calcium stearate, and lead tribasic sulfate.
  • Dibutyltin diphosphoric acid ship tris (noninolepheninole) phosphite, triphenylphosphite, and diphenylisodecyl phosphite, etc .; PVC stabilizers; di-n-octyltin bis (isooctylthioglycolic acid) Ester) Salt, di-n-octyltin maleate polymer, di-n-octyltin dilaurate, di-n-octynolesuzumaleate salt, di-n-butyltin bismaleate salt , Di-n-butyltin maleate polymer, g-n-butyltin bi Octylthioglycol ester salt, di-n-butyltin i3-mercaptopropionate polymer, di-n-butyltin dilaurate, di-n-methyltin bis (iso
  • Phenolic antioxidants such as 5-triazine-1,2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, and tocohues; dilauryl 3,3 '- ⁇ -dipropionate, dimyristyl 3, Sulfur-based antioxidants such as 3'-dithiopropionate and distearyl 3,3'-thiodipropionate; triphenylphosphite, diphenylisodecylphosphite, 4,4,1-butylidenebis (3-Methyl-6_t-butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (octadecyl phosphite), tris (noelfenenole) phosphite, tris (monononinolephenine) phosphite, Tris (diphenyl) phosphite, diisode
  • Phosphorus antioxidants such as 6-di-t-butylphenyl) octylphosphite
  • Salicylic acid-based ultraviolet absorbers such as phenyl salicylate, p-t-butylphenol-salicylate, and p-octylphenyl salicylate
  • 2,4-dihydroxybenzophenone 2-hydroxy-14-methoxybenzophene
  • a plasticizer and The method of adding the additive is not particularly limited, and may be kneaded with the vinyl chloride paste resin at the time of preparing the sol, may be added at the time of polymerization of the vinyl chloride paste resin, and may be added at the time of polymerization. It may be added to an aqueous dispersion or aqueous emulsion of the base paste resin, stirred and mixed, followed by spray drying, or a combination of these methods.
  • the vinyl chloride polymer used in the present invention has a thiocarbonylthio structure at its terminal, it has very good uniform dispersibility when mixed with various additives, especially sulfonates and other thixotropic agents. Therefore, the vinyl chloride paste sol composition of the present invention exhibits a sufficient thixotropy behavior, and the amount of additive thixotrope and other additives can be reduced. In addition, it is considered that the effects of hydrogen bonding and polarity involving the terminal thiocarbonylthio group also contribute to the development of thixotropic behavior.
  • the vinyl chloride-based polymer used in the present invention can easily control the molecular weight, the molecular weight distribution, and the copolymer composition, the vinyl chloride-based paste sol composition and the gelled product thereof using the same can be easily controlled. Physical properties can be easily adjusted.
  • a plasticizer, silicon dioxide powder, a solvent, etc. are added so that the sol viscosity becomes 4500 to 5000 centipoise (cps), and the temperature is adjusted to 35 ° C by Tokyo Keiki Co., Ltd. BM type viscometer using No. 3 rotor,
  • V 6 and V 12 The viscosities at 6 rpm and 12 rpm were measured (referred to as V 6 and V 12 respectively). From this V 6, and V 12, it was calculated yield value and the number of thixotropy finger according to the following equation.
  • This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and A salt-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer. The thixotropy index of this butyl chloride-based paste sol was 0.33.
  • Example 2 The same procedure as in Example 1 was repeated except that 700 g of sodium lauryl sulfate was used as an emulsifier, and sodium isethionate was not used as a thixotropic agent.
  • Nyl paste sol was prepared. The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.19.
  • This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and barium — 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based paste sol.
  • the thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.28.
  • Example 3 The same procedure as in Example 3 was repeated except that 700 g of sodium lauryl sulfate was used as an emulsifier and sodium isethionate was not used as a thixotropic agent.
  • Nyl paste sol was prepared. The thixotropy index of this butyl chloride paste sol was 0.19.
  • This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and A salt-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer.
  • the thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.33.
  • This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of octyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and 100 parts by weight of barium chloride resin were obtained.
  • a zinc chloride-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer. The thixotropy index of this butyl chloride-based paste sol was 0.35.
  • a vinyl chloride paste sol was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, using 300 g of sodium isethionate as a thixotropic agent. This thixotropic paste sol had a thixotropic index of 0.20.
  • This latex is spray-dried, and the obtained vinyl chloride paste resin is 100 parts by weight.
  • the thixotropy index of this butyl chloride-based primary sol was 0.38.
  • the obtained chlorinated butyl paste sol was dropped on a ferrule plate, heated at 230 ° C for 2 minutes to gel, and then peeled off 20 times. Was visually observed, but no mold contamination was observed.
  • a butyl chloride-based paste sol was prepared in the same manner as in Example 7 without using a compound having a thiocarbonylthio structure.
  • the thixotropic peak index of this butyl chloride paste sol was 0.19.
  • the obtained chlorinated butyl-based paste sol was dropped on a top plate, heated at 230 ° C. for 2 minutes to gel, and then peeled off, repeating the operation 20 times to adhere the stain to the mold. When the degree was visually observed, mold contamination was observed.
  • This latex was spray-dried, and based on 100 parts by weight of the obtained butyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of an adipic acid polyester plasticizer, and 0.5 part of silicon dioxide powder. By weight, 3 parts by weight of a barium-zinc based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based paste sol.
  • This vinyl chloride type The thixotropic index of the stozol was 0.07.
  • the obtained chlorinated butyl chloride paste sol was dropped onto a Hue mouth plate, heated at 230 ° C for 2 minutes to form a gel, and then peeled off 20 times. Was visually observed, and mold contamination was observed.
  • This latex was spray-dried, and based on 100 parts by weight of the obtained butyl chloride-based paste resin, 100 parts by weight of octyl phthalate, 200 parts by weight of an adipic acid polyester-based plasticizer, and 0.5 part of silicon dioxide powder. By weight, 3 parts by weight of a barium-zinc-based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based paste sol. The thixotropic index of this salt-based paste sol was 0.35. (Example 9)
  • a vinyl chloride paste sol was prepared in the same manner as in Example 8, except that 700 g of sodium dodecylbenzenesulfonate was used as an emulsifier, and sodium lauryl ester sulfonate was not used as a thixotropic agent. .
  • the thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.26.
  • a hydrogenated paste paste sol was prepared in the same manner as in Example 8 without using a compound having a thiocarbolthio structure.
  • the thixotopic peak index of this butyl chloride-based paste sol was 0.22.
  • This latex was spray-dried, and based on 100 parts by weight of the obtained butyl chloride-based paste resin, 100 parts by weight of octyl phthalate, 200 parts by weight of an adipic acid polyester-based plasticizer, and 0.5 part of silicon dioxide powder. By weight, and 3 parts by weight of a barium-zinc-based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based first sol. The thixotropy index of this butyl chloride-based paste sol was 0.28.
  • a butyl chloride-based paste sol was prepared in the same manner as in Example 10 except that sodium lauryl ethyl sulfonate was not used as a thixotropic agent.
  • the thixotropy index of the biel chloride paste sol was 0.17.
  • a Bier chloride paste sol was prepared in the same manner as in Example 10 except that a compound having a thiocarpenylthio structure was not used.
  • the thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.18.
  • a butyl chloride-based paste sol was prepared in the same manner as in Example 10 except that a compound having a thiocarbolthio structure was not used, and sodium lauryl ethyl ester sulfonate as a thixotropic agent was not used.
  • the thixotropy index of this Shii-Dani Bull type paste sol was 0.05.
  • the butyl chloride-based paste sol composition of the present invention exhibits a high thixotropy behavior, so that the amount of the thixotrope agent to be added can be reduced, and a low-viscosity sol that does not easily drip can be easily obtained. Also, since there is almost no mold contamination during immersion processing, the number of mold washings is reduced, and productivity is improved. Furthermore, it is possible to easily obtain a vinyl chloride paste sol composition with controlled molecular weight, molecular weight distribution, etc., and to easily carry out copolymerization with vinyl monomers other than vinyl chloride monomer. Adjustments are possible.

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Abstract

A vinyl chloride-based paste sol composition which is sufficiently thixotropic without the need of containing a large amount of a thixotropic agent or solvent, which poses problems concerning productivity, cost, product quality, burden to the environment, etc. The composition comprises as essential ingredients a plasticizer and a vinyl chloride-based paste resin obtained by radical-polymerizing a vinyl chloride monomer in the presence of a specific compound having a thiocarbonylthio structure.

Description

明細書  Specification
塩ィ匕ビュル系ペーストゾル組成物 Shii-dani bull paste sol composition
技術分野 Technical field
本発明は塩化ビニル系ペーストゾル組成物に関する。 さらに詳しくは、 本発明 は低粘度下に著しいチキソトロピー挙動を示し、 成形時における型汚染の少ない、 かつ分子量分布の揃った塩化ビュル系ペーストゾル組成物に関する。  The present invention relates to a vinyl chloride paste sol composition. More specifically, the present invention relates to a butyl chloride-based paste sol composition exhibiting remarkable thixotropic behavior under low viscosity, having less mold contamination during molding, and having a uniform molecular weight distribution.
背景技術 Background art
従来、 塩化ビニル系樹脂を材料とする手袋、 電気部品のキャップ、 ホースゃェ 具などの被覆材などの成形加工には塩化ビュル系ペーストゾル組成物を用いた浸 漬加工法が採用されている。 この方法においては、 塩化ビュル系ペーストゾル組 成物中に手袋などの型 (陶器製、 磁器製、 または金属製) を浸漬したり、 電気部 品の金型や繊維製のホース類などを浸漬することにより、 型やホースの周辺にゾ ルを付着させ、 その後加熱してゲル化させて、 冷却させて型から剥離させるか、 あるいはそのままの状態で製品とする。 このような浸漬加工法には、 型を所定の 温度に予熱してからゾル中に浸漬し、 付着量を調整するホットデイツビング法と、 型を常温においてゾル中に浸漬し、 必要な量のゾルを付着させた後加熱ゲル化さ せるコールドデイツビング法とが知られている。 現在、 浸漬加工法の主流を占め るのはコールドディッビング法であるが、 この場合のゾル付着量はゾル自体の流 動性に依存し、 ゾルの垂れ易さと付着量とは相反する関係にある。 垂れ易いゾル は加工性に問題があるため、 チキソトロ一プ剤 (増粘剤) を多量に添加して垂れ 難くする方法が知られているが、 チキソトロープ剤を多量に添カ卩したゾルは見か け粘度が高くなり、 付着量が多くなる結果、 肉厚の大きいものしか得られないと いう問題があった。 また、 溶剤などの添加により付着量を調整することは可能で ある力 溶剤の添加はコストアップになるばかりでなく、 ゲル化時に溶剤が揮発 することによつて成形品にピンホールが開いたり、 溶剤蒸気が環境を悪化させた り、 火災原因になったりするなど、 多くの問題があった。 また、 型を繰り返し使 用する浸漬加工法においては、 ゾルの加熱ゲル化成形を繰り返し実施しているう ちに、 ゾルの配合剤、 特に安定剤を中心としたブリード物が型表面に付着、 堆積 することによる型汚れが生じ、 型の洗浄を行わねばならないため生産性が低くな るという問題があった。 Conventionally, dipping using a chloride chloride-based paste sol composition has been adopted for the molding of gloves made of vinyl chloride resin, caps for electrical components, coating materials such as hose fasteners, etc. . In this method, a mold such as gloves (porcelain, porcelain, or metal) is immersed in a chloride chlorinated paste sol composition, or a mold for electrical components or a hose made of fiber is immersed. By doing so, the sol adheres to the mold and the periphery of the hose, and then is heated and gelled, then cooled and peeled off from the mold, or the product is left as it is. Such immersion processing methods include a hot diving method in which the mold is preheated to a predetermined temperature and then immersed in the sol to adjust the amount of adhesion. There is known a cold diving method in which a sol is adhered and then gelled by heating. At present, the mainstream of the immersion processing method is the cold diving method, but in this case the amount of sol attached depends on the fluidity of the sol itself, and there is a conflicting relationship between the sol dripping and the attached amount. is there. It is known that a dripping sol has a problem in processability, and a method of adding a large amount of a thixotropic agent (thickener) to prevent dripping is known. However, a sol with a large amount of a thixotropic agent added is not seen. There was a problem that as a result of the increase in the viscosity and the increase in the amount of adhesion, only a thick material could be obtained. In addition, it is possible to adjust the amount of adhesion by adding a solvent, etc.Addition of a solvent not only increases the cost, but also causes a pinhole to be formed in the molded article due to the volatilization of the solvent during gelation. There were many problems, such as solvent vapor deteriorating the environment and causing fire. In addition, in the immersion processing method in which the mold is used repeatedly, the heat gel formation of the sol is repeatedly performed. In addition, there is a problem in that bleeding substances, especially sol compounding agents, especially stabilizers, adhere to and accumulate on the mold surface, resulting in mold fouling and the necessity of cleaning the mold, resulting in low productivity. Was.
このような問題を解決する方法として、 塩化ビニル系ペーストゾル組成物に有 機スルホン酸塩を添加する方法が、 特公平 7— 71 9号公報に開示されているが、 通常のラジカル重合により得られた塩化ビュル系重合体においては、 これら有機 スルホン酸塩及びその他のチキソトロ一プ剤の均一分散性が悪く、 また安定性も 低いため、 チキソトロープ剤を添加した場合のチキソトロピー挙動が不十分であ り、 成形体の肉厚が安定しないといつた問題があつた。  As a method for solving such a problem, a method of adding an organic sulfonic acid salt to a vinyl chloride paste sol composition is disclosed in Japanese Patent Publication No. 7-719, but is obtained by ordinary radical polymerization. In the prepared butyl chloride-based polymer, the uniform dispersibility of these organic sulfonates and other thixotropic agents is poor and the stability is low, so that the thixotropic behavior when the thixotropic agent is added is insufficient. There was a problem when the thickness of the molded product was not stable.
一方ビニル系共重合体の製造に関しては、 分子量および分子量分布を制御でき、 広範囲のモノマー、 および重合方法が使用できるという点、 およびブロック体の 製造に適している点で可逆的付加脱離連鎖移動 (Re v e r s i b l e Ad d i t i o n— F r a gme n t a t i o n し h a i n T r a n s f e r : R On the other hand, in the production of vinyl copolymers, reversible addition-desorption chain transfer is possible because the molecular weight and molecular weight distribution can be controlled, a wide range of monomers and polymerization methods can be used, and it is suitable for the production of block products. (Reversible Ad dition—Fragmentation: hain Transfer: R
AFT) 重合法が優れており、 例えば WO 98/01478号公報、 WO 99 Z 05099号公報、 WO 99/3 1 144号公報、 Ma c r omo l e c u l e s 1 998, 3 1, 5559— 5562に、 反応機構も含めその詳細が記載さ れている。 しかしながら塩化ビニル系ペースト樹脂を必須成分とする組成物に関 しては、 RAFT重合法適用の検討が従来なされていなかった。 本発明は、 RA FT重合法により製造した塩化ビニル系ペースト樹脂を必須成分とする組成物に 関する。 AFT) The polymerization method is excellent, for example, WO98 / 01478, WO99Z05099, WO99 / 31144, and Macromolecules 1998, 31 1, 5559-5562, and the reaction mechanism. The details are described, including However, for compositions containing a vinyl chloride paste resin as an essential component, application of the RAFT polymerization method has not been studied so far. The present invention relates to a composition containing a vinyl chloride paste resin produced by a RAFT polymerization method as an essential component.
発明の開示 Disclosure of the invention
本発明が解決しょうとする課題は、 生産性、 コスト、 製品品質、 および環境負 荷などに問題のあるチキソトロープ剤ゃ溶剤を多量に添加する必要なく、 十分な チキソトロピ一挙動を示す塩化ビエル系ペーストゾル組成物を提供することであ る。  The problem to be solved by the present invention is to provide a thixotropic agent, which has problems in productivity, cost, product quality, environmental burden, etc. ゃ Biel chloride paste showing sufficient thixotropic behavior without the need to add a large amount of solvent It is to provide a sol composition.
本発明者らは上記課題を解決するために検討を重ね、 (A) チォカルボニルチ ォ構造を有する特定化合物の存在下、 塩化ビニル単量体をラジカル重合して得ら れる塩化ビュル系ペースト樹脂、 および (B ) 可塑剤の 2成分を必須成分とする 塩化ビニール系ペーストゾル組成物において特に効果が高いことを見出し、 本発 明を完成した。 The inventors of the present invention have been studying to solve the above problems, and (A) radical polymerization of a vinyl chloride monomer in the presence of a specific compound having a thiocarbonylthio structure. The present invention was found to be particularly effective in a vinyl chloride paste sol composition containing two components, a vinyl chloride paste resin and (B) a plasticizer, as essential components.
本発明の (A) 成分である R A F T重合法により製造した塩化ビュル系重合体 は、 末端にチォカルボ二ルチオ構造を有するため、 各種添加剤、 特にスルホン酸 塩、 及びその他のチキソトロープ剤などを混合した場合の均一分散性が非常に良 好であり、 このために本発明の塩化ビニル系ぺ一ストゾル組成物は少量のチキソ トロ一プ剤などの添加で十分なチキソトロピー挙動を示し、 チキソトロ一プ剤を はじめとする添加剤の添力卩量を削減できる。 また、 末端に存在するチォカルボ二 ルチオ基が関与する水素結合や極性の効果も、 チキソトロピー挙動の発現に寄与 していると考えられる。 さらに、 R A F T重合法により製造した塩ィ匕ビュル系重 合体は、 分子量、 分子量分布、 および共重合体組成を容易に制御することができ る。 それゆえ可塑剤等を加えて実際の浸漬加工法に適した組成物とした場合、 該 組成物やそのゲル化物の物性を容易に調節することが可能である。  Since the butyl chloride-based polymer produced by the RAFT polymerization method, which is the component (A) of the present invention, has a thiocarbonylthio structure at its terminal, various additives, particularly sulfonic acid salts, and other thixotroping agents are mixed. In this case, the uniform dispersibility is very good. For this reason, the vinyl chloride paste sol composition of the present invention shows a sufficient thixotropy behavior by adding a small amount of a thixotrope, and the like. And other additives can reduce the amount of additive. In addition, it is considered that the effects of hydrogen bonding and polarity involving the terminal thiocarboxy thio group also contribute to the development of thixotropic behavior. Further, in the Shiridani bull-based polymer produced by the RAFT polymerization method, the molecular weight, the molecular weight distribution, and the copolymer composition can be easily controlled. Therefore, when a composition suitable for an actual immersion processing method is added by adding a plasticizer or the like, it is possible to easily adjust the physical properties of the composition and the gelled product thereof.
本発明の (A) 成分である塩化ビニル系ペースト樹脂は、 一般式 (1 )  The vinyl chloride paste resin as the component (A) of the present invention has the general formula (1)
Figure imgf000004_0001
Figure imgf000004_0001
(式中、 R 1は炭素数 1以上の p価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄 原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子、 金属原子を含んでいてもよく、 高 分子量体であってもよい。 Z 1は水素原子、 ハロゲン原子、 または炭素数 1以上 の 1価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄原子、 ハロゲン原子、 ケィ素 原子、 リン原子を含んでいてもよく、 高分子量体であってもよい。 Z 1が複数存 在する場合、 それらは互いに同一でもよく、 異なっていてもよい。 pは 1以上の 整数である。 ) で示される化合物、 および一般式 (2 )
Figure imgf000005_0001
(In the formula, R 1 is a p-valent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight. Z 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, and a phosphorus atom. When a plurality of Z 1 are present, they may be the same or different, and p may be 1 or more. It is an integer. And a compound represented by the general formula (2)
Figure imgf000005_0001
(式中、 R 2は炭素数 1以上の 1価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄 原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子、 金属原子を含んでいてもよく、 高 分子量体であってもよい。 Z 2は酸素原子 (q = 2の場合) 、 硫黄原子 (q = 2 の場合) 、 窒素原子 (q = 3の場合) 、 または炭素数 1以上の q価の有機基であ り、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子を含 んでいてもよく、 高分子量体であってもよい。 R 2は互いに同一でもよく、 異な つていてもよい。 qは 2以上の整数である。 ) で示される化合物からなる群から 選ばれる、 チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物の存在下、 塩化ビニル単量体 もしくは、 塩化ビニル単量体 5 0重量%以上と、 塩化ビニル単量体と共重合可能 な単量体 5 0重量。 /0未満とをラジカル重合して得られる塩化ビュル系ペースト樹 脂である。 (In the formula, R 2 is a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight. Z 2 is an oxygen atom (when q = 2), a sulfur atom (when q = 2), a nitrogen atom (when q = 3), or a q-valent organic compound having 1 or more carbon atoms. R 2 may be a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, or a high molecular weight compound, and R 2 may be the same as or different from each other. Q is an integer of 2 or more.) A vinyl chloride monomer or a vinyl chloride monomer 50 in the presence of a compound having a thiocarbonylthio structure selected from the group consisting of compounds represented by Weight% or more, monomer copolymerizable with vinyl chloride monomer 50 weight. / 0 is a vinyl chloride paste resin obtained by radical polymerization of less than / 0 .
本発明において使用する、 チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物としては、 両末端にチォカルボ二ルチオ構造を有する塩化ビュル系重合体を容易に製造でき る点で、 一般式 (3 ) The compound having a thiocarbolthio structure used in the present invention includes a compound represented by the general formula (3) in that a vinyl chloride polymer having a thiocarbolthio structure at both terminals can be easily produced.
Figure imgf000005_0002
Figure imgf000005_0002
(式中、 R 3は炭素数 1以上の 2価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄 原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子、 金属原子を含んでいてもよく、 高 分子量体であってもよい。 z 3は水素原子、 ハロゲン原子、 または炭素数 1以上 の 1価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄原子、 ハロゲン原子、 ケィ素 原子、 リン原子を含んでいてもよく、 高分子量体であってもよい。 Z 3は互いに 同一でもよく、 異なっていてもよい。 ) で示される、 チォカルボ二ルチオ構造を 両末端に有する化合物が好ましい。 (In the formula, R 3 is a divalent organic group having 1 or more carbon atoms, such as nitrogen atom, oxygen atom, sulfur It may contain atoms, halogen atoms, silicon atoms, phosphorus atoms, and metal atoms, and may be a high molecular weight compound. z 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a high molecular weight It may be a body. Z 3 may be the same or different. A compound having a thiocarbonylthio structure at both ends represented by
本発明の塩化ビニル系ペーストゾル組成物においては、 上記 (A) 成分、 (B ) 成分以外の成分として、 十分なチキソトロピー挙動を発現させるために、 一般式 ( 4 )  In the vinyl chloride paste sol composition of the present invention, as a component other than the component (A) and the component (B), in order to exhibit a sufficient thixotropic behavior, the general formula (4)
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0001
(式中、 L 1はアルカリ金属、 またはアンモニゥム基であり、 nは 1〜2 0まで の整数である。 ) で示される化合物、 および一般式 (5 ) (Wherein L 1 is an alkali metal or ammonium group, and n is an integer of 1 to 20), and a compound represented by the general formula (5):
Figure imgf000006_0002
Figure imgf000006_0002
(式中、 R 4は炭素数 1以上の 1価の有機基であり、 L 2はアルカリ金属、 または アンモニゥム基である。 ) で示される化合物からなる群から選ばれる、 一種以上 のスルホン酸塩を含有させることができる。 これらスルホン酸塩は本発明の塩ィ匕 ビュル系ペーストゾル組成物においてチキソトロープ剤として作用する。 (Wherein, R 4 is a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and L 2 is an alkali metal or an ammonium group.) One or more sulfonates selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas: Can be contained. These sulfonates act as thixotropic agents in the Shii-Dani Bull-based paste sol composition of the present invention.
このようなスルホン酸塩としては特に限定されなレ、が、 例えば、 イセチオン酸 ナトリウム、 イセチオン酸カリウム、 イセチオン酸アンモニゥム、 ラウリルェチ ルエステルスルホン酸ナトリウム、 ミリスチルェチルエステルスルホン酸ナトリ ゥム、 ステアリルェチルエステルスルホン酸ナトリゥムなどを挙げることができ る。 これらは単独で用いてもよく、 複数を組合せて用いてもよい。 本発明におい て使用する (A) 成分である塩ィヒビュル系ペース ト樹脂は、 これらスルホン酸塩 との均一分散 1"生が非常に良好であるため、 少量の添加で十分なチキソトロピー挙 動を示す。 これらスルホン酸塩の使用量は特に制限されないが少量で良く、 (A) 成分の塩化ビュル系ペースト樹脂 1 0 0重量部に対し、 0 . 0 0 5〜 2重量部が 好ましく、 0 . 0 1〜1重量部がより好ましい。 0 . 0 0 5重量部よりも少ない とチキソトロピー挙動改善の効果が明確でない場合があり、 2重量部よりも多い とゾル粘度が上昇しすぎるため実用的でない。 Such sulfonates are not particularly limited, but include, for example, sodium isethionate, potassium isethionate, ammonium isethionate, sodium lauryl ethyl ester sulfonate, sodium myristyl ethyl ester sulfonate, and stearyl ethyl ester Examples include sodium sulfonic acid. You. These may be used alone or in combination of two or more. The salt-based paste resin used as the component (A) in the present invention exhibits a sufficient thixotropic behavior with a small amount of addition, since it has a very good uniform dispersion 1 "production with these sulfonates. The amount of the sulfonate used is not particularly limited but may be small, and is preferably 0.05 to 2 parts by weight, more preferably 0.02 to 100 parts by weight of the component (A). When the amount is less than 0.05 part by weight, the effect of improving the thixotropic behavior may not be clear, and when the amount is more than 2 parts by weight, the sol viscosity is too high, which is not practical.
上記チォカルボ二ルチオ構造を有する一般式 (1 ) および (2 ) で示される化 合物において、 R 1 としては特に限定されないが、 入手性の点で、 ベンジル基、 1 _フエ二/レエチル基、 2—フエ二ルー 2 _プロピル基、 1—ァセトキシェチル 基、 1一 (4—メ トキシフエ-ノレ) ェチル基、 エトキシカノレポ-ルメチル基、 2 一エトキシカルボ二ルー 2—プロピル基、 2—シァノー 2—プロピル基、 t—ブ チル基、 1, 1, 3, 3—テトラメチルブチル基、 2— ( 4—クロ口フエニル) 一 2—プロピル基、 ビニルベンジル基、 t—ブチルスルフイ ド基、 2—力/レポキ シルェチル基、 カルボキシルメチル基、 シァノメチル基、 1—シァノエチル基、 2—シァノ— 2—ブチル基、 および一般式 (6 ) In the compounds represented by the general formulas (1) and (2) having the thiocarbonylthio structure, R 1 is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, a benzyl group, a 1-phenyl / reethyl group, 2-phenyl-2-propyl, 1-acetoxityl, 11- (4-methoxyphenol) ethyl, ethoxycanolepolmethyl, 2-ethoxycarbonyl 2-propyl, 2-cyano 2 —Propyl group, t-butyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 2- (4-chlorophenyl) -12-propyl group, vinylbenzyl group, t-butylsulfide group, 2- Power / Repoxysilethyl group, carboxymethyl group, cyanomethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyano-2-butyl group, and general formula (6)
O CN O O CN O
— CH2-CO-CH3 C-CH2CH2-CO-CH3 — CH 2 -CO-CH 3 C-CH2CH2-CO-CH3
CH3 CH 3
O O
IIII
CH2 CO"(cH2CH CH 2 CO "(cH 2 CH
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000008_0001
(式中、 rは 1以上の整数を示す。 ) で示される有機置換基が好ましい。 また、 R 2としては特に限定されないが、 入手性の点で、 ベンジル基、 1 _フエニルェ チル基、 2—フエ二ルー 2—プロピル基、 1—ァセトキシェチル基、 1— ( 4— メ トキシフエニル) ェチル基、 エトキシカノレボニノレメチル基、 2 _エトキシカル ボニルー 2—プロピル基、 2—シァノ— 2—プロピル基、 t一ブチル基、 1 , 1 , 3, 3—テトラメチルブチル基、 2— ( 4—クロ口フエ二ノレ) 一 2—プロピル基、 ビニルベンジル基、 t—ブチルスルフイ ド基、 2—カルボキシルェチル基、 カル ポキシルメチル基、 シァノメチル基、 1—シァノエチル基、 2—シァノ一 2—ブ チル基、 および一般式 on (7 ) (Wherein, r represents an integer of 1 or more.). Also, R 2 is not particularly limited, but in terms of availability, benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenyl-2-propyl group, 1-acetoxethyl group, 1- (4-methoxyphenyl) ethyl Ethoxycanoleboninolemethyl group, 2-ethoxyethoxycarbonyl-2-propyl group, 2-cyano-2-propyl group, t-butyl group, 1,1, 3,3-tetramethylbutyl group, 2- (4-chlorophenol) 1-2-propyl group, vinylbenzyl group, t-butylsulfide group, 2-carboxyethyl group, carboxylmethyl group, cyanomethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyano-2-butyl group, and general formula on (7)
0  0
II  II
— CH2 CO-CH3 (7) — CH 2 CO-CH 3 (7)
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0001
CN  CN
— C-CH2CH2-C0-(CH2CH20)-CH3 — C-CH 2 CH 2 -C0- (CH 2 CH 2 0) -CH3
CH3 r CH 3 r
Figure imgf000009_0002
Figure imgf000009_0002
(式中、 rは 1以上の整数を示す。 ) で示される有機置換基が好ましい。 また、 Z 1としては特に限定されなレ、が、 入手性の点で、 フエニル基、 メチル基、 ェチ ル基、 ベンジル基、 4—クロ口フエ二ル基、 1—ナフチル基、 2—ナフチル基、 ジエトキシホスフィニル基、 n _ブチル基、 t—ブチル基、 メ トキシ基、 ェトキ シ基、 チオメチル基 (メチルスルフイド) 、 フエノキシ基、 チォフエニル基 (フ ェニルスルフイ ド) 、 N, N—ジメチルァミノ基、 N, N—ジェチルァミノ基、 N—フエニル一 N—メチルァミノ基、 N—フエニル一 N—ェチルァミノ基、 チォ ベンジノレ基 (ベンジルスノレフィ ド) 、 ペンタフノレオロフエノキシ基、 および一般 式 (8 ) (Wherein, r represents an integer of 1 or more.). Also, Z 1 is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, phenyl, methyl, ethyl, benzyl, 4-chlorophenyl, 1-naphthyl, 2- Naphthyl group, diethoxyphosphinyl group, n-butyl group, t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, thiomethyl group (methylsulfide), phenoxy group, thiophenyl group N, N-dimethylamino group, N, N-Getylamino group, N-phenyl-1-N-methylamino group, N-phenyl-1-N-ethylamino group, thiobenzinole group (benzylsnolefide), pentaphenylolef Enoxy group, and general formula (8)
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000010_0001
CH3 CH 3
— S-C-COOCH2CH3 — SC-COOCH 2 CH 3
CH3 で示される有機置換基が好ましい。 また、 z 2としては特に限定されないが、 入 手性の点で、 フエニル基、 メチル基、 ェチル基、 ベンジル基、 4 _クロ口フエ二 ル基、 1 _ナフチル基、 2 _ナフチル基、 ジエトキシホスフィニル基、 n—ブチ ル基、 t—ブチル基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 チオメチル基 (メチルスルフィ ド) 、 フエノキシ基、 チォフエニル基 (フエニルスルフィ ド) 、 N, N—ジメチ ルァミノ基、 N, N—ジェチルァミノ基、 N—フエニル一N—メチルァミノ基、 N—フエニル— N—ェチルァミノ基、 チォベンジル基 (ベンジルスルフイ ド) 、 ペンタフルオロフエノキシ基、 および一般式 (9 )
Figure imgf000011_0001
で示される有機置換基が好ましい。
Organic substituents represented by CH 3 are preferred. Although not particularly limited as z 2, in terms of the incoming hand property, phenyl group, methyl group, Echiru group, a benzyl group, 4 _ black port phenylene group, 1 _ naphthyl, 2 _ naphthyl group, di Ethoxyphosphinyl group, n-butyl group, t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, thiomethyl group (methyl sulfide), phenoxy group, thiophenyl group (phenyl sulfide), N, N-dimethylamino group , N, N-getylamino, N-phenyl-1-N-methylamino, N-phenyl-N-ethylamino, thiobenzyl (benzylsulfide), pentafluorophenoxy, and the general formula (9)
Figure imgf000011_0001
The organic substituent represented by is preferred.
一般式 (3) で示されるチォカルボ二ルチオ構造を両末端に有する化合物にお いて、 R3としては特に限定されないが、 入手性の点で、 一般式 (10)
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
In the compound having a thiocarbolthio structure at both ends represented by the general formula (3), R 3 is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, the compound represented by the general formula (10)
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
Figure imgf000012_0003
で示される構造が好ましい。 また、 Z 3としては特に限定されなレ、が、 入手性の 点で、 フエニル基、 メチル基、 ェチル基、 ベンジル基、 4—クロ口フエニル基、 1 _ナフチル基、 2—ナフチル基、 ジエトキシホスフィニル基、 n—ブチル基、 t—ブチル基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 チオメチル基 (メチルスルフィド) 、 フエノキシ基、 チォフエ二ノレ基 (フエニルスノレフィ ド) 、 N, N—ジメチルアミ ノ基、 N , N—ジェチルァミノ基、 N—フエ二ルー N—メチルァミノ基、 N—フ ェニル—N—ェチルァミノ基、 チォベンジル基 (ベンジルスルフイド) 、 ペンタ フルオロフエノキシ基、 および一般式 (7 ) 0
Figure imgf000012_0003
Is preferred. Although Z 3 is not particularly limited, phenyl, methyl, ethyl, benzyl, 4-chlorophenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, diphenyl Ethoxyphosphinyl group, n-butyl group, t-butyl group, methoxy group, ethoxy group, thiomethyl group (methyl sulfide), phenoxy group, thiopheninole group (phenylsnosulfide), N, N-dimethylamido , N, N-Jethylamino, N-phenylN-methylamino, N-phenyl-N-ethylamino, thiobenzyl (benzylsulfido), pentafluorophenoxy, and the general formula ( 7 ) 0
II II
CH2CO-CH3 (7) CH 2 CO-CH 3 (7)
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000013_0001
CN O CN O
II II
— C- CH2CH2— CO;CH2CH2Oj"CH3 — C- CH 2 CH 2 — CO; CH 2 CH 2 Oj "CH 3
CH3 r CH 3 r
Figure imgf000013_0002
Figure imgf000013_0002
(式中、 rは 1以上の整数を示す。 ) で示される有機置換基が好ましい。 (Wherein, r represents an integer of 1 or more.).
本発明において使用する、 上記いずれかに記載の、 チォカルポ二ルチオ構造を 有する化合物の具体例としては、 一般式 (11) Specific examples of the compound having a thiocarpenylthio structure described in any of the above and used in the present invention include a compound represented by the following general formula (11)
Figure imgf000014_0001
Figure imgf000014_0001
e (Π)
Figure imgf000015_0001
e (Π)
Figure imgf000015_0001
S CN S  S CN S
Ph— — S— CCH2CH2COOH Ph—C— S—CH2COOH Ph— — S— CCH 2 CH 2 COOH Ph—C— S—CH 2 COOH
Me  Me
S S
II II
Ph— C一 S-CH2COO"(CH2CH2o)"Me Ph— C-S-CH 2 COO "(CH 2 CH 2 o)" Me
Figure imgf000015_0002
Figure imgf000015_0002
S  S
Ph— C— S— CH2. \ ■CH2-S-C-Ph Ph— C— S— CH 2. \ ■ CH 2 -SC-Ph
Figure imgf000015_0003
Figure imgf000015_0003
S S CN S S CN
II II
Ph-C-S-CH2COOMe Ph-C-S-CCH2CH2COOMe Ph-CS-CH 2 COOMe Ph-CS-CCH 2 CH 2 COOMe
Me
Figure imgf000016_0001
Me
Figure imgf000016_0001
s  s
II  II
PhCH2— S— C— S— CH2Ph PhCH 2 — S— C— S— CH 2 Ph
Figure imgf000016_0002
Figure imgf000017_0001
Figure imgf000016_0002
Figure imgf000017_0001
(式中、 M eはメチル基、 E 'tはェチル基、 P hはフエニル基、 A cはァセチル 基を示し、 rは 1以上の整数である。 ) で示される化合物が挙げられるが、 これ らに限定されるものではない。 (In the formula, Me represents a methyl group, E′t represents an ethyl group, Ph represents a phenyl group, Ac represents an acetyl group, and r represents an integer of 1 or more.) It is not limited to these.
本発明において、 チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物の存在下、 塩化ビニ ル単量体をラジカル重合する方法については特に限定されず、 乳化重合法や微細 懸濁重合法など、 塩化ビニル系ペースト樹脂を製造する際に用いられる従来公知 の方法を使用することができる。  In the present invention, the method of radically polymerizing vinyl chloride monomer in the presence of a compound having a thiocarbonylthio structure is not particularly limited, and a vinyl chloride paste resin such as an emulsion polymerization method or a fine suspension polymerization method may be used. A conventionally known method used in the production can be used.
塩化ビニル単量体を重合する際の重合開始剤、 あるいは重合開始方法について は特に限定されず、 従来公知の重合開始剤、 あるいは重合開始方法を用いること ができる。 例えば、 シクロへキサノンパーオキサイド、 3, 3, 5—トリメチノレ シクロへキサノンパーオキサイド、 メチルシクロへキサノンパーオキサイ ド、 1,About polymerization initiator or polymerization initiation method when polymerizing vinyl chloride monomer Is not particularly limited, and a conventionally known polymerization initiator or a polymerization initiation method can be used. For example, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethinolecyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, 1,
1一ビス ( t e r t _ブチルパーォキシ) 一 3, 3, 5—トリメチルシクロへキ サン、 1, 1—ビス ( t e r t _ブチルパーォキシ) シクロへキサン、 n—ブチ ノレ一 4, 4—ビス (t e r t _ブチルパーォキシ) バレレート、 クメンハイドロ パーオキサイ ド、 2, 5—ジメチルへキサン一 2, 5—ジハイド口パーォキサイ ド、 1, 3—ビス ( t e r t—プチルパ一ォキシ) 一m f ソプロピル) ベンゼ ン、 2, 5—ジメチル _ 2, 5—ジ (t e r t—ブチルバ一ォキシ) へキサン、 ジィソプロピルベンゼンパーォキサイド、 t e r t—ブチルクミルパーォキサイ ド、 デカノィルパーォキサイド、 ラウロイルパーォキサイド、 ベンゾィルバーオ キサイド、 2, 4—ジクロロベンゾィルパーォキサイド、 ビス ( t e r t _プチ /レシクロへキシノレ) ノヽ。ーォキシジカーボネート、 t e r t—ブチノレハ。一ォキシベ ンゾエート、 2, 5—ジメチル一 2, 5—ジ (ベンゾイ^^パ一ォキシ) へキサン などの過酸化物系重合開始剤; 2, 2 '—ァゾビス (イソプチロニトリル) 、 1, 1—ァゾビス (シクロへキサン一 1—力 ^/ボ二トリノレ) 、 ァゾクメン、 2, 2 ' —ァゾビス (2—メチルブチロニトリル) 、 2, 2 '—ァゾビスジメチノレバレロ 二トリル、 4, 4 ' —ァゾビス (4—シァノ吉草酸) 、 2 - ( t e r t _プチル ァゾ) 一 2—シァノプロパン、 2, 2 '—ァゾビス (2, 4, 4—トリメチルぺ ンタン) 、 2, 2, 一ァゾビス (2—メチルプロパン) 、 ジメチル 2, 2 '—ァ ゾビス ( 2—メチルプロビオネ一ト) などのァゾ系重合開始剤;過硫酸力リウム、 過硫酸ナトリウムなどの無機過酸化物;スチレンなどのように熱的にラジカル種 を生成するモノマー ; ベンゾイン誘導体、 ベンゾフエノン、 アシノレフォスフィン ォキシド、 フォトレドックス系などのように光によりラジカル種を発生する化合 物;亜硫酸ナトリウム、 チォ硫酸ナトリウム、 ナトリゥムホルムアルデヒ ドスル フォキシレート、 ァスコルビン酸、 硫酸第一鉄などを還元剤とし、 ペルォキソ二 硫酸カリウム、 過酸化水素、 t一プチルヒ ドロパーォキサイドなどを酸化剤とす るレドックス型重合開始剤などを挙げることができるが、 これらに限定されるも のではない。 これら重合開始剤は単独で用いてもよく、 複数を組合せて用いても よい。 また、 電子線照射、 エックス線照射、 放射線照射などによる重合開始系を 利用することも可能である。 このような重合開始方法に関しては、 Mo a d a n d S o l omo n Γ h e Ch em i s t r y o f F r e e R a d i c a l P o l yme r i z a t i o n" , P e r g amo n, Lo n d o n, 1 995, 53— 95ページに記載されている方法を使用可能である。 本発明の 実施において使用する重合開始剤の使用量については特に限定されないが、 分子 量分布の小さい重合体を得られる点で、 重合中に発生するラジカル種の量が、 チ ォカルボ二ルチオ構造を有する化合物の 1当量以下が好ましく、 0. 5当量以下 がより好ましい。 また、 重合中に発生するラジカル種の量を制御するために、 重 合開始剤の使用量と合わせて、 熱的解離する重合開始剤の場合には温度を調節し たり、 光や電子線などによりラジカルを発生する重合開始系の場合には照射する エネルギー量を調節したりすることが好ましい。 1-bis (tert-butylperoxy) 1,3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, n-butyne 1,4,4-bis (tert-butylperoxy) Valerate, cumene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-1,2,5-dihydridoperoxide, 1,3-bis (tert-butylpropyloxy) -mf-sopropyl) benzene, 2,5-dimethyl_2 , 5-di (tert-butylhydroxy) hexane, diisopropylpropylbenzeneperoxide, tert-butylcumylperoxide, decanoylperoxide, lauroylperoxide, benzoylbaroxide, 2, 4-dichlorobenzoyl peroxide, bis (tert-butyl / recyclohexynole) Oxydicarbonate, tert-butynoleha. Peroxide polymerization initiators such as monooxybenzoate, 2,5-dimethyl-1,2,5-di (benzoy ^^ propoxy) hexane; 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 1,1 —Azobis (cyclohexane 1-force ^ / bonitolinole), azocumene, 2, 2 '—azobis (2-methylbutyronitrile), 2, 2'—azobisdimethinorevalero nitrile, 4, 4'-Azobis (4-cyanovaleric acid), 2- (tert-butylacetyl) -1-2-cyanopropane, 2, 2'-Azobis (2,4,4-trimethylpentane), 2,2,1-azobis Azo polymerization initiators such as (2-methylpropane) and dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate); inorganic peroxides such as potassium persulfate and sodium persulfate; styrene, etc. That generate radical species thermally, such as -Compounds that generate radical species by light, such as benzoin derivatives, benzophenone, asinolephosphinoxide, and photoredox systems; sodium sulfite, sodium thiosulfate, sodium formaldehyde sulfoxylate, ascorbic acid, and sulfuric acid sulfate Iron is used as a reducing agent, and potassium peroxodisulfate, hydrogen peroxide, and t-butyl hydroperoxide are used as oxidizing agents. Redox-type polymerization initiators, but are not limited thereto. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. It is also possible to use a polymerization initiation system by electron beam irradiation, X-ray irradiation, radiation irradiation, or the like. Such a polymerization initiation method is described in Mo adand Sol omo nΓ he Chemistry of Free Radical P ol y mer rization ", Pergamon, London, 1995, pp. 53-95. The amount of the polymerization initiator used in the practice of the present invention is not particularly limited, but the amount of the radical species generated during the polymerization is reduced in that a polymer having a small molecular weight distribution can be obtained. The amount of the compound having a thiocarbonylthio structure is preferably 1 equivalent or less, more preferably 0.5 equivalent or less, and the amount of the polymerization initiator used is controlled to control the amount of radical species generated during the polymerization. In addition, it is preferable to adjust the temperature in the case of a polymerization initiator that thermally dissociates, or to adjust the amount of irradiation energy in the case of a polymerization initiation system that generates radicals by light or electron beam.
本発明において、 ビニル系単量体を乳化重合、 または微細懸濁重合させる場合、 使用する乳化剤としては特に限定されず、 脂肪酸石けん、 ロジン酸石けん、 ナフ タレンスルホン酸ナトリゥムホノレマリン縮合物、 アルキルベンゼンスノレホン酸ナ トリウム、 アルキル硫酸アンモニゥム、 アルキル硫酸ナトリウム、 アルキル硫酸 トリエタノールァミン、 ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、 アルキルジフエ ニルエーテルジスルフォン酸ナトリウム、 ポリオキシエチレンアルキルエーテル 硫酸ナトリゥム、 ポリオキシエチレンアルキルフエ二ルェ一テル硫酸ナトリウム などのァニオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルエーテル、 ポリオキ シエチレン高級アルコールエーテル、 ソルビタン脂肪酸エステル、 ポリオキシェ チレンソルビタン脂肪酸ェステル、 ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸ェス テル、 グリセリン脂肪酸エステル、 ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、 ポリオ キシエチレンアルキルァミン、 アルキルアルカノ一ルアミ ドなどの非イオン系界 面活性剤;アルキルトリメチルアンモニゥムクロライドなどのカチオン系界面活 性剤などを例示することができる。 これらの乳化剤は単独で用いてもよく、 複数 を組合せて用いてもよい。 必要に応じて、 部分けん化ポリ酢酸ビュル、 ポリビ- ノレァノレコーノレ、 メチ/レセノレロース、 力ノレボキシメチルセルロース、 ゼラチン、 ポ リアルキレンォキサイ ド、 ァニオン性界面活性剤と分散助剤の組合せなど、 従来 公知の懸濁重合の分散剤を添加してもよい。 乳化剤の使用量は特に限定されない 力 乳化液 (ラテックス) 安定化のために、 単量体 1 0 0重量部当たり、 通常 0 . 0 1〜 3重量部程度使用する。 In the present invention, when the vinyl monomer is subjected to emulsion polymerization or fine suspension polymerization, the emulsifier to be used is not particularly limited, and fatty acid soap, rosin acid soap, sodium naphthalenesulfonic acid sodium honoremarin condensate, Sodium alkylbenzenesnolephonate, ammonium alkyl sulfate, sodium alkyl sulfate, triethanolamine alkyl sulfate, sodium dialkyl sulfosuccinate, alkyl diphenyl ether disulfonate sodium, polyoxyethylene alkyl ether sodium sulfate, polyoxyethylene alkylphenyl Anionic surfactants such as sodium monoter sulfate; polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene higher alcohol ether, sorbitan fatty acid ester, polyoxy Nonionic surfactants such as Tylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, alkyl alkanolamide; alkyltrimethylammonium Cationic surfactant such as muchloride And the like. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more. If necessary, partially saponified polyacetic acid butyl, poly (vinyl alcohol), methyl / resenololose, phenolic methyl cellulose, gelatin, polyalkylene oxide, a combination of anionic surfactant and dispersing agent, etc. A conventionally known dispersant for suspension polymerization may be added. The amount of the emulsifier used is not particularly limited. For emulsification liquid (latex) stabilization, usually 0.01 to 3 parts by weight is used per 100 parts by weight of the monomer.
本発明において、 チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物の存在下、 塩化ビニ ル単量体を重合する際、 チォカルボ-ルチオ構造を有する化合物の添加方法につ いては限定されないが、 重合挙動が安定しており塩化ビニル系重合体の構造を容 易に制御できる点で、 塩ィヒビニル単量体と共に水性分散液や水性乳化液にあらか じめ混合し、 ホモジナイザ一などであらかじめ撹拌しておく方法が好ましい。 本発明において、 チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物の存在下、 塩化ビニ ル単量体をラジカル重合する際、 塩化ビニル単量体とラジカル共重合可能な単量 体を共重合させることが可能である。 このような単量体としては特に制限されな レ、が、 例えば、 スチレン、 α—メチ^^スチレン、 ジビニノレベンゼン、 ρ—ヒ ドロ キシスチレン、 ρ—カルボキシスチレン、 ρ—メ トキシスチレン、 ジェチルアミ ノスチレン、 ジェチノレアミノ α—メチノレスチレン、 ρ —ビニノレベンゼンスルホン 酸、 ρ—ビニノレベンゼンスノレホン酸ナトリウム、 および m, m _ジメチ /レスチレ ンなどのスチレン系化合物;エチレン、 プロピレン、 1—ブテン、 1—ヘプテン、 1—へキセン、 1—ォクテン、 イソブチレン、 ブタジエン、 およびイソプレンな どの脂肪族末端ォレフィン化合物; フッ化ビュル、 臭化ビニル、 クロ口プレン、 および塩ィ匕ビ二リデンなどのハロゲン含有ォレフィン化合物;ァクリル酸、 メタ クリル酸; アクリル酸メチル、 アクリル酸ェチル、 アクリル酸 n—プロピル、 ァ クリル酸ィソプロピル、 アタリル酸 n―ブチル、 アタリル酸へキシル、 アクリル 酸 2—ェチルへキシル、 アクリル酸シクロへキシル、 アクリル酸ォクチル、 ァク リル酸デシル、 アタリル酸ドデシル、 ァクリル酸フヱニル、 ァクリル酸トルイル、 ァクリル酸ベンジル、 ァクリル酸ィソボルニル、 ァクリル酸 2—メ トキシェチル、 アクリル酸 3—メ トキシプチル、 アクリル酸 2—ヒ ドロキシェチノレ、 アクリル酸 2—ヒ ドロキシプロピル、 アクリル酸ステアリル、 アクリル酸グリシジル、 2— ァクリロイノレォキシプロピルジメ トキシメチルシラン、 2—ァク リロイルォキシ プロビルトリメ トキシシラン、 アクリル酸トリフルォロメチル、 アクリル酸ペン タフ/レオロェチル、 アクリル酸 2, 2, 2—トリフルォロェチル、 アクリル酸 3 ージメチルァミノェチル、 ァクリル酸ィソプチル、 アタリル酸 4—ヒ ドロキシブ チル、 アタリル酸 t—プチル、 アルキル変性ジペンタエリスリ トールのァクリレ —ト、 エチレンオキサイ ド変性ビスフエノール Aジアタリレート、 アクリル酸力 ルビトール、 E—力プロラク トン変性ジペンタエリスリ トールのァクリ レート、 力プロラク トン変性テトラヒ ドロフルフリルァクリレート、 力プロラク トン変性 ヒ ドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジァクリ レート、 ジトリ メチロールプロパンテトラァクリレ一ト、 ジペンタエリスリ ト一ノレへキサァクリ レ一ト、 ジペンタエリスリ トールペンタァクリレ一ト、 ァクリル酸テトラエチレ ングリコ一ル、 アクリル酸テトラヒ ドロフルフリル、 アクリル酸トリプロピレン グリコール、 トリメチロールプロパンエトキシトリアタリレート、 トリメチロー ルプロパントリアタリレート、 ネオペンチルグリコールジァクリ レ一ト、 ネオペ ンチルダリコールヒ ドロキシビバリン酸エステルジアタリ レート、 アクリル酸 1, 9—ノナンジォ一ノレ、 アクリル酸 1, 4—ブタンジオール、 2—プロぺノイツク アシッ ド 〔2— 〔1, 1一ジメチルー 2— 〔 (1一ォキソ一2—プロぺニル) ォ キシ〕 ェチノレ〕 一 5—ェチル一 1, 3—ジォキサン一 5—ィル〕 メチノレエステノレ、 ァクリル酸 1, 6—へキサンジオール、 ペンタエリスリ トールトリアクリレート、 2—ァクリロイルォキシプロピルハイ ドロジェンフタレート、 3—メ トキシァク リル酸メチル、 およびアクリル酸ァリルなどのアクリル酸エステル; メタクリル 酸メチル、 メタクリル酸ェチル、 メタクリル酸 n—ブチル、 メタクリル酸ィソブ チル、 メタクリル酸 t —プチル、 メタクリル酸 2—ェチルへキシル、 メタクリル 酸トリデシル、 メタクリル酸ステアリル、 メタクリル酸シクロへキシル、 メタク リル酸べンジル、 メタクリル酸 2—ヒ ドロキシェチル、 メタクリル酸 2—ヒ ドロ キシプロピル、 メタクリル酸 N, N—ジメチルアミノエチル、 メタクリル酸 N, N -ジェチルァミノェチル、 メタクリル酸グリシジル、 メタクリル酸テトラヒ ド 口フルフリル、 ジメタクリル酸エチレングリコール、 ジメタクリル酸トリエチレ ングリコール、 ジメタクリル酸テトラエチレングリコール、 ジメタクリル酸 1, 3—ブチレングリコール、 トリメタクリル酸トリメチロールプロパン、 メタクリ ル酸イソプロピル、 メタクリル酸ペンチル、 メタクリル酸へキシノレ、 メタクリル 酸へプチル、 メタクリル酸ォクチル、 メタクリル酸 2—ェチルへキシル、 メタク リル酸ノニル、 メタクリル酸デシル、 メタクリル酸ドデシル、 メタクリル酸フエ ニル、 メタタリル酸トルイル、 メタクリル酸ィソボル-ル、 メタタリル酸 2—メ トキシェチル、 メタクリル酸 3—メ トキシブチル、 メタクリル酸 2—アミノエチ ル、 メタクリル酸トリエチレングリコール、 2—メタクリロイルォキシプロピル トリメ トキシシラン、 2—メタクリロイルォキシプロピルジメ トキシメチルシラ ン、 メタクリル酸トリフ /レオロメチル、 メタクリル酸ペンタフノレォロェチル、 お よびメタクリル酸 2, 2, 2 _トリフルォロェチルなどのメタクリル酸エステル; アクリルアミ ド、 メタクリルアミ ド、 N—メチルアクリルアミ ド、 N—メチルメ タクリルアミ ド、 N, N—ジメチルアクリルアミ ド、 N, N—ジメチルメタクリ ルァミ ド、 N— tーブチルァクリルァミ ド、 N— t—ブチルメタクリルァミ ド、 N— n—プチルアクリルアミ ド、 N— n—ブチルメタクリルアミ ド、 N—メチロ ールアクリルアミ ド、 N—メチロールメタクリルアミ ド、 N—ェチロールアタリ ルァミ ド、 N—ェチロールメタクリルァミ ド、 アクリロニトリル、 メタクリロニ ト リノレ、 N—フエ二ノレマレイ ミ ド、 N—ブチルマレイ ミ ド、 4—ビニノレピリジン、 N—ビニルピロリ ドン、 および N—ビュル力ルバゾールなどの窒素含有ォレフィ ン化合物; P -ビニル安息香酸、 安息香酸ビニル、 イタコン酸、 無水ィタコン酸、 α—メチルビュル安息香酸、 齚酸ビュル、 ブタン酸ビニル、 無水マレイン酸、 酢 酸ァリル、 および安息香酸ァリルなどのカルボキシ基含有不飽和化合物;ジァリ ルアンモニゥムクロライド、 1, 6—へブタジエン、 2, 6—ジシァノ一 1, 6 —へブタジエン、 および 2, 4, 4, 6—テトラキス (エトキシカルボ-ル) 一 1 , 6 —へブタジエンなどの 1 , 6 _へブタジエン構造を有する化合物などの環 化重合可能な化合物;ジメチルビユルシラン、 トリメチルビ二ルシラン、 ジメチ ノレフェニ^^ビニ シラン、 ジメ トキシメチ /レビ二/レシラン、 ジェトキシフエ二ノレ ビュルシラン、 トリメ トキシビニノレシラン、 ペンタメチルビニノレジシロキサン、 トリメチルァリルシラン、 トリメ トキシァリルシラン、 ジメ トキシメチルァリル シラン、 ヘプタメチルビニルシクロテトラシロキサン、 および 1 , 1 , 3, 3— テトラメチルジビエルジシロキサンなどのケィ素含有不飽和化合物;ァリル末端 ポリエチレンオキサイド、 ァリル末端ポリプロピレンオキサイド、 ァリル末端ポ リエチレンォキサイドーポリプロプレンォキサイド共重合体、 ビニル末端ポリェ チレンオキサイド、 ビュル末端ポリプロピレンオキサイド、 ビュル末端ポリェチ レンォキサイドーポリプロピレンォキサイド共重合体、 メタリル末端ポリプロピ レンオキサイド、 ビエル末端ポリテトラメチレンオキサイ ド、 ァクリロイル末端 ポリアクリル酸、 メタクリロイル末端ポリメタクリル酸、 ァクリロイル末端ポリ アクリル酸エステル、 ァクリロイル末端ポリメタクリル酸エステル、 メタクリロ ィル末端ァクリル酸エステル、 メタクリロイル末端メタクリル酸エステル、 ビニ ル末端ポリシロキサン、 ビュル末端ポリカーボネート、 ァリル末端ポリカーボネ —ト、 ビエル末端ポリエチレンテレフタレ一ト、 ビニル末端ポリプチレンテレフ タレ一ト、 ビュル末端力プロラクタム、 ビニル末端ポリアミ ド、 およびビニル末 端ポリウレタンなどの不飽和基含有マクロモノマーなどを挙げることができるが、 これらに限定されるものではない。 本発明で使用する単量体は、 単独で用いても よく、 複数を組合せて用いてもよい。 これらの単量体のうち、 入手が容易で得ら れる重合体が有用である点で、 スチレン、 α—メチルスチレン、 ブタジエン、 ィ ソプレン、 クロ口プレン、 エチレン、 プロピレン、 フツイ匕ビニノレ、 臭化ビニノレ、 塩化ビニリデン、 アタリル酸、 メタクリル酸、 アタリル酸エステル、 メタクリル 酸エステル、 ァクリルアミド、 メタクリルアミ ド、 アクリロニトリル、 メタクリ ロニトリル、 酢酸ビュル、 ブタン酸ビニル、 安息香酸ビュル、 無水マレイン酸、 マレイミ ド化合物、 N—ビュルピロリ ドン、 N—ビニルカルバゾール、 フマル酸 エステル、 1, 6 _へブタジエン系化合物、 およびジァリルアンモニゥム塩が好 ましく、 スチレン、 ブタジエン、 イソプレン、 クロ口プレン、 塩化ビニリデン、 アクリル酸、 メタクリル酸、 アクリル酸エステル、 メタクリル酸エステル、 ァク リルアミド、 メタクリルアミ ド、 ァクリロ二トリル、 酢酸ビュルがより好ましい。 これらの単量体を塩化ビニル単量体と共重合させる場合には、 単一の単量体を共 重合させてもよく、 複数の単量体を組合せて共重合させてもよい。 塩化ビュル単 量体と上記単量体とを共重合させる場合には、 ランダム共重合体、 ブロック共重 合体、 グラフト共重合体、 グラジェント共重合体など、 従来公知の形態とするこ とができる。 本発明の (A) 塩化ビニル系ペースト樹脂として、 これらの単量体 と塩化ビニル単量体とを共重合させる場合、 5 0重量%以上の塩化ビニル単量体 と共重合させる。 In the present invention, when a vinyl chloride monomer is polymerized in the presence of a compound having a thiocarbolthio structure, the method of adding the compound having a thiocarbolthio structure is not limited, but the polymerization behavior is stable. It is preferable that the structure of the vinyl chloride polymer is easily mixed with the vinyl chloride monomer in an aqueous dispersion or an aqueous emulsion and stirred in advance with a homogenizer or the like because the structure of the vinyl chloride polymer can be easily controlled. . In the present invention, when a vinyl chloride monomer is subjected to radical polymerization in the presence of a compound having a thiocarbonylthio structure, it is possible to copolymerize a monomer capable of undergoing radical copolymerization with a vinyl chloride monomer. . Such monomers are not particularly limited, but include, for example, styrene, α-methyl ^^ styrene, dibininolebenzene, ρ-hydroxystyrene, ρ-carboxystyrene, ρ-methoxystyrene, and acetylaminostyrene. Styrene compounds such as, ethinoleamino α-methinolestyrene, ρ-vinylinolebenzenesulfonic acid, ρ-vinylinolebenzenesnolephonate, and m, m_dimethyl / restyrene; ethylene, propylene, 1-butene, 1 —Aliphatic terminal olefin compounds such as heptene, 1-hexene, 1-octene, isobutylene, butadiene, and isoprene; halogen-containing olefins such as butyl fluoride, vinyl bromide, chloroprene, and vinylidene salt Compound; acrylic acid, methacrylic acid; acrylic acid Tyl, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, acrylate Decyl, dodecyl acrylate, phenyl acrylate, toluyl acrylate, Benzyl acrylate, Isobornyl acrylate, 2-Methoxyxyl acrylate, 3-Methoxybutyl acrylate, 2-Hydroxyshetinole acrylate, 2-Hydroxypropyl acrylate, Stearyl acrylate, Glycidyl acrylate, 2-Acrylo Inoleoxypropyl dimethoxymethylsilane, 2-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, trifluoromethyl acrylate, pentaf / rheoloethyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 3-dimethyla acrylate Minoethyl, isoptyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, t-butyl acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A diatalylate, acrylic acid Rubitol, E—Proprolactone modified dipentaerythritol acrylate, Proprolactone modified tetrahydrofurfuryl acrylate, Proprolactone modified hydroxypivalate neopentylglycol ester diacrylate, Ditrimethylolpropane tetraacrylate Dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, tetraethylene glycol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, tripropylene glycol acrylate, trimethylolpropane ethoxy tritalylate, trimethylolpropane Triatalylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl dalicol hydroxybivalate diatalylate, 1,9-nonanediol acid, 1,4-butanediol acrylate, 2-propionic acid [2- [1,1,1-dimethyl-2-[((1-oxo-2-propenyl)] [Xin] ethinole] 1-5-ethyl-1, 3-dioxane-1 5-yl] methinoleestenole, 1,6-hexanediol acrylate, pentaerythritol triacrylate, 2-acryloyloxypropyl hydroxide Acrylates such as genphthalate, methyl 3-methacrylate, and aryl acrylate; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-methacrylic acid Ethylhexyl, tridecyl methacrylate, stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate Metaku Benzyl acrylate, 2-hydroxyhexyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-N-ethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tetrahid methacrylate Furfuryl, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, isopropyl methacrylate, pentyl methacrylate, Hexinyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, dodecyl methacrylate, phenyl methacrylate , Toluyl methacrylate, Isobol methacrylate, 2-Methoxyxetyl methacrylate, 3-Methoxybutyl methacrylate, 2-Aminoethyl methacrylate, Triethylene glycol methacrylate, 2-Methacryloyloxypropyl trimethoxysilane, 2-Methacryloyl Methacrylic acid esters such as oxypropyldimethoxymethylsilane, trif / reolomethyl methacrylate, pentaphenylenoethyl methacrylate, and 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate; acrylamide, methacrylamide , N-methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N-t-butylmethacrylamide Mid, N—n—petit Acrylamide, N-n-butyl methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N-ethylol acrylamide, N-ethylol methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, N- Nitrogen-containing olefin compounds such as phenylenomaleimide, N-butylmaleimide, 4-vinylinolepyridine, N-vinylpyrrolidone, and N-butyl rubazole; P-vinylbenzoic acid, vinyl benzoate, itaconic acid, itaconic anhydride Carboxyl group-containing unsaturated compounds such as acid, α-methylbutylbenzoic acid, vinyl nitrate, vinyl butanoate, maleic anhydride, allylic acetate, and allyl benzoate; diarylammonium chloride, 1,6-heptadiene , 2, 6—Dicyan, 1, 6 Cyclobutadiene, and cyclopolymerizable compounds such as 2,4,4,6-tetrakis (ethoxycarbol) 1,6, -butadiene and other compounds with 1,6-heptadiene structure; dimethylbiphenyl Yulsilane, trimethylvinylsilane, dimethyinolepheny ^^ vinyla, dimethyoxymethy / rebiny / lehsilane, ethoxyphenyolebutyursilane, trimethoxyvinylinolesilane, pentamethylvinylinolesiloxane, trimethylarylsilane, trimethyoxyarylsilane , Dimethoxymethylarylsilane, heptamethylvinylcyclotetrasiloxane, and silicon-containing unsaturated compounds such as 1,1,3,3-tetramethyldivierdisiloxane; aryl-terminated polyethylene oxide, aryl-terminated polypropylene oxide, aryl-terminated Po Polyethylene oxide-polypropylene oxide copolymer, vinyl-terminated polyethylene oxide, vinyl-terminated polypropylene oxide, vinyl-terminated polyethylene oxide-polypropylene oxide copolymer, methallyl-terminated polypropylene oxide, bier-terminated polytetramethylene Oxide, acryloyl-terminated polyacrylic acid, methacryloyl-terminated polymethacrylic acid, acryloyl-terminated polyacrylic acid ester, acryloyl-terminated polymethacrylic acid ester, methacryloyl-terminated acrylic acid ester, methacryloyl-terminated methacrylic acid ester, vinyl-terminated polysiloxane, Bull-terminated polycarbonate, aryl-terminated polycarbonate, beer-terminated polyethylene terephthalate, vinyl-terminated polybutylene terephate Les one DOO, Bulle terminus force caprolactam, vinyl-terminated polyamide-de, and the like can be given unsaturated group-containing macromonomers such as vinyl terminus polyurethane, but is not limited thereto. The monomers used in the present invention may be used alone or in combination of two or more. Among these monomers, styrene, α-methylstyrene, butadiene, isoprene, chloroprene, ethylene, propylene, futonidani vinylonole, and bromide are useful in that the obtained polymer is useful. Vinylinole, vinylidene chloride, atalylic acid, methacrylic acid, acrylate ester, methacrylic acid ester, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, butyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, maleic anhydride, Maleimide compounds, N-butylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, fumaric acid esters, 1,6-heptadiene compounds, and diarylammonium salts are preferred, and styrene, butadiene, isoprene, More preferred are vinylidene chloride, acrylic acid, methacrylic acid, acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, and butyl acetate. When these monomers are copolymerized with a vinyl chloride monomer, a single monomer may be copolymerized, or a plurality of monomers may be combined and copolymerized. When the vinyl chloride monomer and the above monomer are copolymerized, a conventionally known form such as a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, or a gradient copolymer may be used. it can. When copolymerizing these monomers and a vinyl chloride monomer as the (A) vinyl chloride paste resin of the present invention, the copolymer is copolymerized with 50% by weight or more of a vinyl chloride monomer.
また本発明における塩化ビュル系ペースト樹脂は、 数平均分子量の異なる複数 の塩化ビュル系ペースト樹脂を混合して使用することもできる。 塩化ビニル系ぺ 一スト樹脂を混合して使用する際、 粘度、 流動性、 チキソトロピー挙動、 ゲノレ化 特性、 耐熱性、 耐候性、 耐熱水性、 および耐光性などの種々の物性を調整するた めに、 これらの物性の異なる塩化ビニル系ペースト樹脂を混合することが好まし く、 例えば、 ゲル 'パーミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより算出した数平 均分子量が互いに 3 0 0 0以上異なる塩化ビニル系ペースト樹脂を混合すること が好ましく、 数平均分子量が互いに 5 0 0 0以上異なる塩化ビニル系ペースト樹 脂を混合することがより好ましい。  Further, the vinyl chloride paste resin of the present invention can be used by mixing a plurality of vinyl chloride paste resins having different number average molecular weights. When using a mixture of vinyl chloride-based resins, various physical properties such as viscosity, fluidity, thixotropy, genolization properties, heat resistance, weather resistance, hot water resistance, and light resistance are adjusted. It is preferable to mix vinyl chloride-based paste resins having different physical properties. For example, vinyl chloride-based paste resins whose number average molecular weights calculated by gel 'permeation' chromatography differ from each other by more than 300,000 are preferred. It is more preferable to mix vinyl chloride paste resins whose number average molecular weights are different from each other by 500 or more.
また本発明における塩化ビュル系ペースト樹脂は、 ゲル ·パーミエ一シヨン · クロマトグラフィー (G P C) で測定した分子量分布が、 2以下であることが好 ましく、 1 . 5以下であることがより好ましい。  Further, the chlorinated vinyl-based paste resin in the present invention preferably has a molecular weight distribution of 2 or less, more preferably 1.5 or less, as measured by gel permeation chromatography (GPC).
また本発明における塩化ビュル系ペースト樹脂は、 塩化ビュル単量体を重合さ せた後、 部分的に塩素化して塩素化塩化ビニル系重合体として使用してもよレ、。 塩化ビニル樹脂を塩素化する方法としては、 従来公知の種々の方法を使用可能で あるが、 工業的には水懸濁塩素化法が好ましい。 Further, the vinyl chloride paste resin in the present invention may be used as a chlorinated vinyl chloride polymer by polymerizing a vinyl chloride monomer and then partially chlorinating it. As a method of chlorinating a vinyl chloride resin, various conventionally known methods can be used. However, industrially, the water suspension chlorination method is preferred.
本発明の (B ) 成分である可塑剤としては、 特に限定されず、 従来公知の可塑 剤を使用することができる。 このような可塑剤としては、 例えば、 フタル酸ジメ チル、 フタル酸ジェチ/レ、 フタル酸ジ一 n—ブチノレ、 フタル酸ジヘプチル、 フタ ル酸ジ一 2—ェチルへキシル、 フタル酸ジィソノニル、 フタル酸ジィソデシノレ、 フタル酸ジトリデシル、 フタル酸ブチルベンジル、 フタル酸ジシクロへキシル、 テトラヒ ドロフタル酸エステノレ、 トリクレシルホスフェート、 トリェチルホスフ エート、 トリブチルホスフェート、 トリス (2—ェチルへキシル) ホスフェート、 トリ (2—クロロェチノレ) ホスフェート、 トリスジクロ口プロピノレホスフェート、 トリブトキシェチ ホスフェート、 トリス —クロ口プロピ /レ) ホスフェート、 トリフエニルホスフェート、 ォクチルジフエ二ノレホスフェート、 トリス (イソプ ロピ フエ二ノレ) ホスフェート、 クレジ/レジフエ二 ホスフェート、 アジピン酸 ジ一 2—ェチルへキシル、 アジピン酸ジイソノニル、 アジピン酸ジィソデシル、 アジピン酸ジ一 η—アルキル、 ジブチルジグリコールアジぺート、 ァゼライン酸 ビス (2—ェチノレへキシル) 、 セバシン酸ジプチ 4^、 セバシン酸ジ一 2—ェチノレ へキシノレ、 クェン酸ァセチルトリエチル、 クェン酸ァセチルトリブチル、 マレイ ン酸ジブチル、 マレイン酸ジー 2—ェチノレへキシノレ、 フマル酸ジブチル、 トリメ リット酸トリス _ 2—ェチルへキシル、 トリメリット酸トリアルキル、 ポリエス テル系可塑剤、 エポキシ系可塑剤、 ステアリン酸系可塑剤、 および塩化パラブイ ンなどが挙げられるが、 これらに限定されるものではない。 これらは単独で用い てもよく、 複数を組合せて用いてもよい。 本発明で使用する可塑剤の使用量につ いては特に制限されないが、 (Α) 成分の塩化ビニル系ペースト樹脂 1 0 0重量 部に対して 1 0〜2 0 0 0重量部用いることが好ましく、 5 0〜1 0 0 0重量部 用いることがより好ましい。 1 0重量部未満では可塑化の効果が現れない場合が あり、 2 0 0 0重量部を超えると耐候性や耐熱性に悪影響を及ぼす場合がある。 本発明の塩化ビュル系ペーストゾル組成物においては、 得られる塩化ビュル系 樹脂の物性を向上させる目的で、 酸性化合物、 ハイドロタルサイ ト化合物、 ゼォ ライ ト化合物、 および過塩素酸金属塩からなる群から選ばれる化合物を含有させ ることができる。 これらは単独で用いてもよく、 複数を組合せて用いてもよい。 本発明で使用する酸性化合物としては特に限定されないが、 例えば、 リン酸、 亜 リン酸、 硫酸水素ナトリウム、 硫酸水素カリウム、 クロム酸、 塩酸、 硫酸、 亜硫 酸、 チォ硫酸、 硝酸、 亜硝酸、 およびヨウ素酸などの無機酸;酢酸、 クロ口酢酸、 ジクロロ酢酸、 トリクロ口酢酸、 ニコチン酸、 ベンゼンス /レホン酸、 安息香酸、 酒石酸、 リンゴ酸、 ギ酸、 酪酸、 クェン酸、 コハク酸、 シユウ酸、 ピクリン酸、 ピコリン酸、 フタル酸、 スルファミン酸、 スルファミル酸、 ァスパラギン酸、 グ リコール酸、 グノレタミン酸、 フマル酸、 マレイン酸、 マロン酸、 乳酸、 ォレイン 酸、 サリチル酸、 トリメリット酸、 p -トルエンスルホン酸、 および強酸性ィォ ン交換樹脂などの有機酸などが挙げられる。 これらは単独で用いてもよく、 複数 を組合せて用いてもよい。 本発明で使用するハイドロタルサイ ト化合物としては 特に限定されないが、 例えば、 天然ハイドロタ サイ ト ;特公昭 4 6 - 2 2 8 0 号公報、 特公昭 5 0— 3 0 0 3 9号公報、 特公昭 6 1— 1 7 4 2 7 0号公報など に記載の方法により合成される合成ハイドロタルサイ ト ;脂肪酸エステルなどの ワックスで表面処理したハイドロタルサイ ト ;亜鉛変性ハイドロタルサイト ;過 塩素酸処理ハイドロタルサイ ト ;亜鉛変性ハイドロタルサイ トを過塩素酸処理し たハイドロタルサイ ト ;および乾燥処理したハイドロタルサイトなどを挙げるこ とができる。 これらは単独で用いてもよく、 複数を組合せて用いてもよい。 本発 明で使用するゼォライ ト化合物としては特に限定されないが、 Α型ゼォライ ト、 X型ゼォライ ト、 Y型ゼォライ ト、 P型ゼォライト、 モノデナィ ト、 アルナサィ ト、 ソーダライ ト族アルミノケィ酸塩、 クリノプチ口ライ ト、 エリオナイト、 お よびチヤバサイ トなどを挙げることができる。 これらは単独で用いてもよく、 複 数を組合せて用いてもよい。 本発明で使用する過塩素酸金属塩としては特に限定 されないが、 例えば、 過塩素酸スズ、 過塩素酸バリウム、 過塩素酸ナトリウム、 および過塩素酸マグネシゥムなどを挙げることができる。 これらは単独で用いて もよく、 複数を組合せて用いてもよい。 本発明の塩化ビニル系ペーストゾル組成物には、 上記以外の成分として、 従来 公知の種々の安定剤、 添加剤、 および充填剤などを配合することができる。 この ような安定剤、 添加剤、 および充填剤などとしては、 例えば、 ステアリン酸カド ミゥム、 ステアリン酸亜鉛、 ステアリン酸バリウム、 二塩基性ステアリン酸鉛、 ステアリン酸鉛、 ステアリン酸カルシウム、 三塩基性硫酸鉛、 ジブチルスズジラ ゥリン酸船、 トリス (ノニノレフエ二ノレ) ホスファイ ト、 トリフエニルホスフアイ ト、 およびジフエ-ルイソデシルホスフアイトなどの塩ビ安定剤;ジ一 n—ォク チルスズビス (イソォクチルチオグリコール酸エステル) 塩、 ジ一 n—ォクチル スズマレイン酸塩ポリマー、 ジ一 n—ォクチルスズジラウリン酸塩、 ジ一n—ォ クチノレスズマレイン酸エステル塩、 ジ一 n—ブチルスズビスマレイン酸エステル 塩、 ジ— n—プチルスズマレイン酸塩ポリマー、 ジー n—ブチルスズビスォクチ ルチオグリコールエステル塩、 ジ一 n—ブチルスズ i3—メルカプトプロピオン酸 塩ポリマ一、 ジ一n—プチルスズジラウレ一ト、 ジ一 n—メチルスズビス (イソ ォクチルメルカプトアセテート) 塩、 ポリ (チォビス一 n—プチルスズサルファ イド) 、 モノォクチルスズトリス (イソォクチルチオグリコール酸エステル) 、 ジ一 n—プチノレスズマレートエステノレ .カルボキシレート、 およびジ一 n—ブチ ルスズマレートエステル ·メルカプチドなどの有機スズ系安定剤;三塩基性硫酸 鉛、 二塩基性亜リン酸鉛、 塩基性亜硫酸鈴、 二塩基性フタル酸鉛、 ケィ酸鉛、 二 塩基性ステアリン酸鉛、 およびステアリン酸鉛などの鉛系安定剤;力ドミゥム系 石けん、 亜鉛系石けん、 バリウム系石けん、 鉛系石けん、 複合型金属石けん、 お よびステアリン酸カルシウムなどの金属石けん系安定剤; 2 , 6ージ一 t一プチ ル一 p—クレゾール、 ブチル化ヒ ドロキシァ二ソール、 2, 6—ジ一 t—プチル — 4—ェチノレフエノ一ル、 ステアリノレ一 — (3, 5—ジ一 tーブチノレ一 4—ヒ ドロキシフエニル) プロピオネート、 2, 2 ' —メチレンビス (4—メチルー 6 — t—ブチルフエノール) 、 2, 2, 一メチレンビス (4—ェチル一 6— t—プ チノレフエノーノレ) 、 4; 4, ーチォビス (3—メチノレ一 6— t—ブチノレフエノー ル) 4, 4, 一ブチリデンビス (3—メチルー 6— t—プチルフヱノール) 、 3, 9—ビス 〔 1, 1—ジメチノレ一 2— 〔 β— ( 3— t—ブチノレ一 4ーヒ ドロキ シ一 5—メチルフエニル) プロピオニルォキシ〕 ェチル〕 2, 4, 8, 1 0—テ トラォキサスピロ [ 5 . 5 ] ゥンデカン、 1, 3—トリス (2—メチノレ一 4—ヒ ドロキシ一 5— t—ブチルフエニル) ブタン、 1, 3, 5 _トリメチル一 2, 4, 6—トリス (3 , 5—ジ一 t—ブチルー 4ーヒ ドロキシベンジノレ) ベンゼン、 テ トラキス一 〔メチレン一 3— ( 3 ' , 5, 一ジー t—ブチノレ一 4, 一ヒ ドロキシ フエニル) プロピオネート] メタン、 ビス 〔3, 3 ' 一ビス一 (4, 一ヒ ドロキ シ一 3, 一 t—ブチルフエニル) ブチリックアシッド〕 グリコールエステノレ、 1, 3, 5—トリス (3, , 5, 一ジ一 t _ブチル一 4, 一ヒ ドロキシベンジノレ) -The plasticizer as the component (B) of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known plasticizer can be used. Such plasticizers include, for example, dimethyl phthalate, di- / ethyl phthalate, di-n-butynole phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethyl phthalate hexyl, diisononyl phthalate, phthalic acid Disodecinole, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, esterenole tetrahydrophthalate, tricresyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tris (2-ethylhexyl) phosphate, tri (2-chloroethynole) phosphate , Tris diclo mouth propionole phosphate, Tributoxyshetti phosphate, Tris — clo mouth propi / re) Phosphate, Triphenyl phosphate, Octyl diphenyl phosphate, Tris (Isopropi fenii) Nore) Phosphate, Cresi / Resiphenic Phosphate, Di-1-ethylhexyl adipate, Diisononyl adipate, Disodecyl adipate, Di-η-alkyl adipate, Dibutyldiglycol adipate, Bisazelate (2-Ethynole) Hexyl), dibutyl sebacate 4 ^, di-2-sechinolate hexinole, acetyl triethyl quenate, acetyl butyl citrate, dibutyl maleate, dibutyl maleate hexinole maleate, dibutyl fumarate, dibutyl fumarate, Examples include, but are not limited to, tris-2-ethylhexyl trimellitate, trialkyl trimellitate, polyester plasticizers, epoxy plasticizers, stearic plasticizers, and parabutyl chloride is not. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the plasticizer used in the present invention is not particularly limited. However, it is preferable to use 100 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the vinyl chloride paste resin of the component (Α). , 50 to 100 parts by weight. If the amount is less than 100 parts by weight, the effect of plasticization may not be exhibited, and if it exceeds 2000 parts by weight, weather resistance and heat resistance may be adversely affected. In the butyl chloride-based paste sol composition of the present invention, an acidic compound, a hydrotalcite compound, and a zeolites are used for the purpose of improving the physical properties of the obtained butyl chloride-based resin. A compound selected from the group consisting of a light compound and a metal perchlorate can be contained. These may be used alone or in combination of two or more. The acidic compound used in the present invention is not particularly limited. For example, phosphoric acid, phosphorous acid, sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, chromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, nitric acid, nitrous acid, And inorganic acids such as iodic acid; acetic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, nicotinic acid, benzenes / lephonic acid, benzoic acid, tartaric acid, malic acid, formic acid, butyric acid, citric acid, succinic acid, oxalic acid, Picric acid, picolinic acid, phthalic acid, sulfamic acid, sulfamic acid, aspartic acid, glycolic acid, gnoletamic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lactic acid, oleic acid, salicylic acid, trimellitic acid, p-toluenesulfonic acid And organic acids such as strong acid ion exchange resins. These may be used alone or in combination of two or more. The hydrotalcite compound used in the present invention is not particularly limited. For example, natural hydrotasite; Japanese Patent Publication No. 46-22880, Japanese Patent Publication No. 50-30039, Japanese Patent Publication No. Synthetic hydrotalcite synthesized by the method described in, for example, Japanese Patent Publication No. 61-174702; hydrotalcite surface-treated with wax such as fatty acid ester; zinc-modified hydrotalcite; perchloric acid Hydrotalcite treated; hydrotalcite obtained by treating zinc-modified hydrotalcite with perchloric acid; and hydrotalcite dried. These may be used alone or in combination of two or more. The zeolite compound used in the present invention is not particularly limited, but zeolite 、, X-zeolite, Y-zeolite, P-zeolite, monodenite, arnassite, sodalite aluminokerate, clinopti mouth Examples include light, erionite, and chabazite. These may be used alone or in combination of two or more. The metal perchlorate used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include tin perchlorate, barium perchlorate, sodium perchlorate, and magnesium perchlorate. These may be used alone or in combination of two or more. In the vinyl chloride paste sol composition of the present invention, various conventionally known stabilizers, additives, fillers, and the like can be blended as components other than the above. Such stabilizers, additives, and fillers include, for example, cadmium stearate, zinc stearate, barium stearate, dibasic lead stearate, lead stearate, calcium stearate, and lead tribasic sulfate. , Dibutyltin diphosphoric acid ship, tris (noninolepheninole) phosphite, triphenylphosphite, and diphenylisodecyl phosphite, etc .; PVC stabilizers; di-n-octyltin bis (isooctylthioglycolic acid) Ester) Salt, di-n-octyltin maleate polymer, di-n-octyltin dilaurate, di-n-octynolesuzumaleate salt, di-n-butyltin bismaleate salt , Di-n-butyltin maleate polymer, g-n-butyltin bi Octylthioglycol ester salt, di-n-butyltin i3-mercaptopropionate polymer, di-n-butyltin dilaurate, di-n-methyltin bis (isooctylmercaptoacetate) salt, poly (thiobis-n) -Butyltin sulfide), monooctyltin tris (isooctylthioglycolate), di-n-butylinosuzumalate esterol carboxylate, and di-n-butyltin malate ester / mercaptide Organic tin stabilizers such as tribasic lead sulfate, dibasic lead phosphite, basic tin sulfite, dibasic lead phthalate, lead silicate, dibasic lead stearate, and lead stearate Lead-based stabilizer; power dome soap, zinc-based soap, barium-based soap, lead-based soap, composite metal stone 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxydisole, 2,6-di-t-butyl, 4- and ethynolepheno-1 Le, stearinole-1- (3,5-di-butynole-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2,1-methylenebis (4-ethyl) 1, 6-t-butynolephenol), 4; 4, -thiobis (3-methynole-1-6-t-butynolephenol) 4, 4, 1-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylenol), 3,9-bis [1,1-dimethinole-1- (β- (3-t-butynole-1-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] 2,4,8,10-te Toloxaspiro [5.5] pentane, 1,3-tris (2-methynole-1-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-1,2,4,6-tris (3,5 —Di-t-butyl-4-hydroxybenzinole) benzene, tetrakis [methylene-1- (3 ′, 5, di-t-butynole-1,4-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3 , 3'-bis- (4,1-hydroxy-1,3-t-butylphenyl) butylic acid] Glycol Estenole, 1,3,5-tris (3,, 5, di-tert-butyl-1 4 , One hydroxybenzinole)-
5—トリアジン一 2, 4, 6 - ( 1 H, 3 H, 5 H) トリオン、 およびトコフエ 口一ノレ類などの、 フエノール系酸化防止剤;ジラウリル 3, 3 ' —^ォジプロピ ォネート、 ジミリスチル 3, 3 ' 一チォジプロピオネート、 およびジステアリル 3, 3 ' —チォジプロピオネートなどの硫黄系酸化防止剤; トリフエニルホスフ アイ ト、 ジフエニルイソデシルホスファイ ト、 4, 4, 一ブチリデン一ビス (3 —メチル一 6 _ t—ブチルフエニルジトリデシル) ホスファイ ト、 サイクリック ネオペンタンテトライルビス (ォクタデシルホスフアイト) 、 トリス (ノエルフ ェニノレ) ホスファイ ト、 トリス (モノノニノレフエ二ノレ) ホスフアイ ト、 トリス (ジ ノ ルフェニル) ホスフアイ ト、 ジイソデシルペンタエリスリ トールジフォスフ アイト、 9, 1 0—ジヒ ドロ一 9—ォキサ _ 1 0—ホスファフェナントレン一 1 0—オキサイド、 1 0— ( 3, 5—ジ一 t _プチル一 4—ヒ ドロキシベンジル) — 9 , 1 0—ジヒ ドロ一 9—ォキサー 1 0—ホスファフェナントレン一 1 0—ォ キサイド、 1 0—デシロキシ _ 9, 1 0—ジヒ ドロ一 9—ォキサ一 1 0—ホスフ ァフエナントレン、 トリス (2, 4—ジー t—ブチルフエニル) ホスファイ ト、 サイクリックネオペンタンテトライルビス (2, 4—ジ一 t—ブチルフエニル) ホスファイト、 サイクリックネオペンタンテトライルビス (2, 6—ジ一 t—ブ チノレ一 4—メチノレフエ二ノレ) ホスファイ ト、 および 2, 2—メチレンビス (4,Phenolic antioxidants, such as 5-triazine-1,2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, and tocohues; dilauryl 3,3 '-^-dipropionate, dimyristyl 3, Sulfur-based antioxidants such as 3'-dithiopropionate and distearyl 3,3'-thiodipropionate; triphenylphosphite, diphenylisodecylphosphite, 4,4,1-butylidenebis (3-Methyl-6_t-butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (octadecyl phosphite), tris (noelfenenole) phosphite, tris (monononinolephenine) phosphite, Tris (diphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol diphosphite 9,10-dihydro-9-oxa _10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t_butyl-1-4-hydroxybenzyl)-9,10 —Dihydro 9—oxa 10—Phosphafenanthrene 10—Oxide, 10—Desiloxy — 9,10—Dihydro 9—Oxa 10 0—Phosphaphenanthrene, Tris (2,4—G t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,6-di-t-butyltinole 4- methinorefue Ninore) phosphite and 2,2-methylenebis (4,
6—ジ一 t—プチルフエニル) ォクチルホスフアイ トなどのリン系酸化防止剤; フエニルサリシレート、 p— t—ブチルフエ-ルザリシレート、 および p—ォク チルフェニルサリシレートなどのサリチル酸系紫外線吸収剤; 2, 4—ジヒ ドロ キシベンゾフエノン、 2—ヒ ドロキシ一 4—メ トキシベンゾフエノン、 2—ヒ ド 口キシ一 4—ォク トキシベンゾフエノン、 2—ヒ ドロキシ _ 4—ドデシノレォキシ ベンゾフエノン、 2, 2 ' —ジヒ ドロキシ _ 4—メ トキシベンゾフエノン、 2, 2, ージヒ ドロキシ一 4, 4' ージメ トキシベンゾフエノン、 2—ヒ ドロキシ一 4—メ トキシー 5 _スルホベンゾフエノン、 およびビス (2—メ トキシー 4—ヒ ドロキシ一 5—ベンゾィルフエニル) メタンなどのべンゾフエノン系紫外線吸収 剤; 2— (2, 一ヒ ドロキシ一 5' —メチルフエ二ノレ) ベンゾトリァゾール、 2 — (2' —ヒ ドロキシ一 5, _ t一ブチルフエニル) ベンゾトリァゾーノレ、 2 - (2, ーヒ ドロキシ一 3, , 5 ' —ジ一 t—ブチルフエニル) ベンゾトリアゾー ノレ、 2 - (2, —ヒ ドロキシ一 3' — t—ブチノレ一 5, 一メチノレフエ二ノレ) - 5 —クロ口べンゾトリァゾール、 2 - (2, —ヒ ドロキシ一 3, , 5, 一ジ一 t— ブチノレフエ-ノレ) 一 5 _クロ口べンゾトリァゾ一ノレ、 2 - (2, ーヒ ドロキシ一 3, , 5 ' —ジ一 t—アミノレフエ二ノレ) ベンゾトリァゾール、 2 - (2 ' —ヒ ド ロキシ _4, 一ォク トキシフエ二ノレ) ベンゾトリァゾール、 2 - 〔2, 一ヒ ドロ キシ一 3, - (3" , 4" , 5" , 6" —テトラヒ ドロフタルイミ ドメチル) 一 5 ' —メチノレフエ二ノレ〕 ベンゾトリアゾール、 2, 2—メチレンビス 〔4— (1, 1, 3, 3—テトラメチルブチル) 一6— (2 H—ベンゾトリアゾール _ 2—ィ ル) フエノール〕 、 [2- (2' —ヒ ドロキシ一 5' —メタクリロキシフエニル) 一 2 H—ベンゾトリァゾール〕 、 および 〔2, 2' —メチレンビス 〔4一 (1, 1, 3, 3—テトラメチルブチル) 一 6— 〔 ( 2 H—ベンゾトリァゾ一ル— 2 _ ィル) フエノール〕 〕 〕 などのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤; 2—ェチル へキシル一 2 _シァノ一 3, 3, 一ジフエニルアタリレート、 およびェチルー 2 —シァノ一 3, 3 ' —ジフエニルアタリレートなどのシァノアクリレート系紫外 線吸収剤;ニッケルビス (ォクチルフヱニル) サルファイ ド、 〔2, 2 ' —チォ ビス (4 _ t一才クチルフエノラート) 〕 一n—プチルァミンニッケノレ、 エッケ ルコンプレックス一 3, 5—ジ一 t—ブチルー 4—ヒドロキシベンジルーリン酸 モノエチレ一ト、 およびニッケ^—ジブチノレジチォカノレバメートなどのエッケノレ 系紫外線安定剤; ビス (2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4ーピペリジル) セバ ケート、 S a n o l LS— 7 70 (三共製) 、 アデカスタブ LA— 7 7 (旭電化 製) 、 スミソープ 5 77 (住友化学製) 、 バイオソープ 04 (共同薬品製) 、 C h i ma s s o r b 944 LD (C i b a S p e c i a 1 t y製) 、 T i n u v i n l 44 (C i b a S p e c i a 1 t y製)、アデカスタブ LA— 52 (旭 電化製) 、 アデカスタブ LA— 5 7 (旭電化製) 、 アデカスタブ LA— 6 7 (旭 電化製) 、 アデカスタブ LA— 68 (旭電化製) 、 アデカスタブ LA— 77 (旭 電化製) 、 アデカスタブ LA— 8 7 (旭電化製) 、 および Go o d r i t e UV -3034 (G o o d r i c h製) などのヒンダードアミン系光安定剤 (HAL S) ;ポリ (ォキシエチレン) アルキルァミン、 ポリ (ォキシエチレン) アルキ ルアミ ド、 ポリ (ォキシエチレン) アルキルエーテル、 ポリ (ォキシエチレン) アルキルフユニルエーテル、 グリセリン脂肪酸エステル、 およびソルビタン脂肪 酸エステルなどの非イオン系帯電防止剤;アルキルスルホネート、 アルキルベン ゼンスルホネート、 ァノレキノレサノレフェート、 およびァノレキノレホスフェートなどの ァニオン系帯電防止剤;第 4級アンモニゥムクロライド、 第 4級アンモニゥムサ ルフェート、 および第 4級アンモニゥムナイトレートなどのカチオン系帯電防止 剤;アルキルべタイン化合物、 アルキルィミダゾリン化合物、 およびアルキルァ ラニン化合物などの両性系帯電防止剤;ポリビニルベンジル型カチオン化合物、 およびポリアクリル酸型カチオン化合物などの導電性樹脂型帯電防止剤;テトラ ブロモビスフエノール A、 2, 2—ビス (4ーヒ ドロキシ一 3, 5—ジブロモフ ェニル) プロハ°ン、 へキサブロモベンゼン、 トリス (2, 3—ジブロモプロピノレ) イソシァヌレート、 2, 2—ビス (4—ヒ ドロキシエトキシ一 3, 5—ジブロモ フエニル) プロパン、 デカブロモジフエニルオキサイド、 および含ハロゲンポリ フォスフェートなどのハロゲン系難燃剤; リン酸アンモニゥム、 トリクレジルホ スフェート、 トリェチノレホスフェート、 トリス ( _クロロェチノレ) ホスフエ一 ト、 トリスクロロェチノレホスフェート、 トリスジクロ口プロピノレホスフェート、 クレジルジフエ二ノレホスフェート、 キシレニルジフエニルホスフエ一ト、 酸†生リ ン酸エステル、 およぴ含窒素リン化合物などのリン系難燃剤;赤燐、 酸化スズ、 三酸化アンチモン、 水酸化ジルコニウム、 メタホウ酸バリウム、 水酸化アルミ二 ゥム、 および水酸化マグネシウムなどの無機系難燃剤;ポリ (ジメ トキシシロキ サン) 、 ポリ (ジエトキシシロキサン) 、 ポリ (ジフエノキシシロキサン) 、 ポ リ (メ トキシフエノキシシロキサン) 、 メチルシリケート、 ェチルシリケート、 およびフエニルシリケートなどのシロキサン系難燃剤;紛体状着色剤、 顆粒状着 色剤、 液状着色剤、 およびマスタ一バッチなどの着色剤;ァゾジカーボンアミ ド、 ァゾビスイソブチロニトリル、 Ν, Ν ' —ニトロソペンタメチレンテトラミン、 ρ—トルエンスノレホニノレヒ ドラジン、 および ρ、 ρ ' —ォキシビス (ベンゼンス ルホヒ ドラジド) などの有機発泡剤;流動パラフイン、 マイクロクリスタリンヮ ックス、 天然パラフィン、 合成パラフィン、 ポリオレフインワックス、 これらの 部分酸化物、 これらのフッ化物、 およびこれらの塩化物などの脂肪族炭化水素系 滑剤;牛脂や魚油などの動物油、 やし油、 大豆油、 菜種油、 米ぬかワックスなど の植物油、 これらの分離精製品、 およびモンタンワックスなどの、 高級脂肪族系 アルコールおよび高級脂肪酸系滑剤;高級脂肪酸のァマイド、 および高級脂肪酸 のビスアマィ ドなどの脂肪酸ァマイド系滑剤; ステアリン酸バリゥム、 ステアリ ン酸カルシウム、 ステアリン酸亜鉛、 ステアリン酸アルミニウム、 ステアリン酸 マグネシウム、 ステアリン酸亜鉛 ·ステアリン酸バリウム複合体、 およびステア リン酸亜鉛 ·ステアリン酸カルシウム複合体などの金属石けん系滑剤; 一価アル コールの高級脂肪酸エステル、 多価アルコールの高級脂肪酸エステル、 多価アル コールの高級脂肪酸部分エステル、 モンタンワックスタイプの長鎖エステル、 お よびモンタンワックスタイプの長鎖ェステルの部分加水分解物などの脂肪酸ェス テル系滑剤;バイナジン、 プリベントール、 およびチアベンダゾ一ルなどの防力 ビ剤; リン酸 2 , 2, 一メチレンビス (4, 6—ジ一 t—ブチルフエニル) ナト リウム、 リン酸ビス (4— t—ブチルフエニル) ナトリウム、 ビス (p—メチル ベンジリデン) ソルビト一ル、 アルキル置換ジベンジリデンソルビトール、 およ びビス ( p —ェチルベンジリデン) ソルビトールなどの結晶核剤;へキサメチレ ンテトラミン、 n—プチルアルデヒ ドァニリン、 1, 3—ジフエ-ルグァ二ジン、 ジ一 o—トリルグァ二ジン、 1— o—トリルビグァ二ド、 ジカテコールボレート のジー o—トリルグァニジン塩、 N, N, —ジフエ二ルチオ尿素、 2—メルカプ トイミダゾリン、 N, N ' —ジェチルチオ尿素、 ジブチルチオ尿素、 ジラウリル チォ尿素、 2—メルカプトべンゾチアゾール、 ジベンゾチアジルジスルフイ ド、 2 _メルカプトベンゾチアゾールのナトリゥム塩、 2—メルカプトべンゾチアゾ —ルの亜鉛塩、 2—メルカプトべンゾチアゾールのシクロへキシルァミン塩、 2 - ( 4, 一モノレホリノジチォ) ベンゾチアゾーノレ、 N—シクロへキシ /レー 2—べ ンゾチアゾリ/レスノレフェンアミ ド、 N—才キシジエチレン一 2—べンゾチアゾリ ルスルフェンアミ ド、 N— t _ブチル— 2—ベンゾチアゾリルスルフェンアミ ド、 Phosphorus antioxidants such as 6-di-t-butylphenyl) octylphosphite; Salicylic acid-based ultraviolet absorbers such as phenyl salicylate, p-t-butylphenol-salicylate, and p-octylphenyl salicylate; 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-14-methoxybenzophene Non, 2-Hydroxy 4-hydroxybenzophenone, 2-Hydroxy_4-Dodecinoleoxybenzophenone, 2,2'-Dihydroxy_4-4-methoxybenzophenone, 2,2, Dihydroxy 1,4'-Dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-14-methoxy-5_sulfobenzophenone, and bis (2-methoxy-4-hydroxy-1-5-benzoylphenyl) methane Nzophenone UV absorber; 2- (2,1-hydroxy-5'-methylpheninole) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-1-5 , _T-Butylphenyl) benzotriazonole, 2- (2, -Hydroxy-1,3,, 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazonole, 2-(2, -Hydroxy-1 3'-t —Bucinole 1-5, 1-Methinolephen-2-ole)-5 —Black benzotriazole, 2- (2, —Hydroxy-1,3,, 5,1-t-Bucinolefe) 1 5 _Black benzotriazole 1-5 , 2- (2, -hydroxy-1,3,, 5'-di-t-aminorefninole) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy_4, octoxypheninole) benzotriazole, 2-[2,1-hydroxy-1,3-, (3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimid-methyl) 1 5'-methinolepheninole] benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- 1, 1, 3, 3-tetramethylbutyl) Zotriazole_2-yl) phenol], [2- (2'-hydroxy-5'-methacryloxyphenyl) -12H-benzotriazole], and [2,2'-methylenebis [4-1 ( 1,1-, 3-, 3-tetramethylbutyl) 16-[(2H-benzotriazole-2-yl) phenol]]] and other benzotriazole ultraviolet absorbers; 2-ethylhexyl-1-2 Cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers such as cyano-3,3,1-diphenyl atalylate and ethyl-2—cyano-3,3′-diphenyl atalylate; nickel bis (octylphenyl) sulfide; [2,2 '—Chobis (4_t one-year-old tyl phenolate)] 1 n—Ptilamin Nickenore, Ecke Bis- (2,2,6,6) Eckenole-based UV stabilizers such as 1,3-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl-phosphate monoethylate and nickel ^ -dibutinoresitica canolebamate —Tetramethyl-1-piperidyl) Sebacate, Sanol LS—770 (manufactured by Sankyo), ADK STAB LA—77 (manufactured by Asahi Denka), Smithorpe 577 (manufactured by Sumitomo Chemical), BioSoap 04 (manufactured by Kyodo Yakuhin), Chima ssorb 944 LD (C iba S pecia 1 ty), Tinuvinl 44 (C iba S pecia 1 ty), ADK STAB LA—52 (Asahi Denki), ADK STAB LA—57 (Asahi Denka), ADK STAB LA—67 (Asahi Denka), ADK STAB LA—68 (Asahi Denka), ADK STAB LA—77 (Asahi Denka), ADK STAB LA—87 (Asahi Denka), and Go odrite UV-3034 (G hindered amine based light stability Agents (HAL S); nonionics such as poly (oxyethylene) alkylamine, poly (oxyethylene) alkylamide, poly (oxyethylene) alkyl ether, poly (oxyethylene) alkyl fuunyl ether, glycerin fatty acid ester, and sorbitan fatty acid ester Antistatic agent; anionic antistatic agents such as alkyl sulfonate, alkylbenzene sulfonate, anolequinolesanophosphate, and anolequinolephosphate; quaternary ammonium chloride, quaternary ammonium sulfate, and quaternary ammonium sulfate Antistatic agents such as high-grade ammonium nitrate; amphoteric antistatic agents such as alkyl betaine compounds, alkyl imidazoline compounds and alkyl alanine compounds; polyvinyl benzyl type Conductive compounds such as on-compounds and polyacrylic acid-type cationic compounds; tetrabromobisphenol A, 2,2-bis (4-hydroxy-1,3,5-dibromophenyl) prohane, hexane Bromobenzene, tris (2,3-dibromopropynole) isocyanurate, 2,2-bis (4-hydroxyethoxy-1,3,5-dibromophenyl) propane, decabromodiphenyl oxide, halogen-containing polyphosphate, etc. Ammonium phosphate, tricresyl phosphate, trietinole phosphate, tris (_chloroethinole) phosphate Phosphorus, trischloroethynolephosphate, tris-dichropropane phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylendiphenyl phosphate, acid-based phosphoric acid esters, and nitrogen-containing phosphorus compounds Flame retardants; inorganic flame retardants such as red phosphorus, tin oxide, antimony trioxide, zirconium hydroxide, barium metaborate, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide; poly (dimethoxysiloxane), poly (diethoxysiloxane) ), Siloxane-based flame retardants such as poly (diphenoxysiloxane), poly (methoxyphenoxysiloxane), methyl silicate, ethyl silicate and phenyl silicate; powdery colorant, granular colorant, Liquid colorants and colorants such as master batches; Organic blowing agents such as carbonamide, azobisisobutyronitrile, Ν, Ν'-nitrosopentamethylenetetramine, ρ-toluenesolehoninolehydrazine, and ρ, ρ'-oxybis (benzenesulfohydrazide); liquid paraffin , Microcrystalline liposomes, natural paraffins, synthetic paraffins, polyolefin waxes, their partial oxides, their fluorides, and their chlorides, and other aliphatic hydrocarbon-based lubricants; animal oils such as tallow and fish oils, and coconut oil , Soybean oil, rapeseed oil, vegetable oils such as rice bran wax, their separated and purified products, and higher fatty alcohol and higher fatty acid lubricants such as montan wax; higher fatty acid amides and higher fatty acid bisamides such as bisamides System lubricant; steari Metal soap lubricants such as barium acid, calcium stearate, zinc stearate, aluminum stearate, magnesium stearate, zinc stearate / barium stearate complex, and zinc stearate / calcium stearate complex; Higher fatty acid esters of coal, higher fatty acid esters of polyhydric alcohols, higher fatty acid partial esters of polyhydric alcohols, long-chain esters of montan wax type, and partial hydrolysates of long-chain esters of montan wax type Sterilizing lubricants; protective agents such as binazine, preventol, and thiabendazole; 2,2,1-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) phosphate sodium, bisphosphate (4-t —Butylphenyl) sodium, Bis (p-methyl Benzylidene) Sorbitol, alkyl-substituted dibenzylidene sorbitol, and crystal nucleating agents such as bis (p-ethylbenzylidene) sorbitol; hexamethylene teramine, n-butyl aldehyde aniline, 1,3-diphenylguanidine, diphenyl 1-o-tolylguanidine, 1-o-tolylbiguanide, dicatechol borate di-o-tolylguanidine salt, N, N, -diphenylthiourea, 2-mercaptoimidazoline, N, N'-getylthiourea, dibutylthio Urea, dilauryl thiourea, 2-mercaptobenzothiazole, dibenzothiazyl disulfide, sodium salt of 2-mercaptobenzothiazole, zinc salt of 2-mercaptobenzothiazole, cyclohexylamine salt of 2-mercaptobenzothiazole, 2-(4, one monorejo Nodithio) Benzothiazonole, N-cyclohexyl / le 2-benzothiazoli / resnolefenamide, N-cyclohexydiethylene-12-benzothiazolylsulfenamide, N-t_butyl-2-benzothia Zolylsulfenamide,
タメチレンチウラムテトラスルフィ ド、 ペンタメチレンジチォ力ルバミン酸ピぺ リジン塩、 ピペコリルジチォカルバミン酸ピペコリン塩、 ジメチルジチォカルバ ミン酸ナトリゥム、 ジェチルジチォカルバミン酸ナトリウム、 ジブチルジチォカ ルバミン酸ナトリウム、 ジメチルジチォカルバミン酸亜鉛、 ジェチルジチォカル バミン酸亜鉛、 ジブチルジチォカルバミン酸亜鉛、 N—ェチルー N—フエニルジ チォカルバミン酸亜鉛、 およびテルリゥムジェチルジチォ力ルバメートなどの加 硫促進剤;ポリ (2, 2 , 4—トリメチル _ 1, 2—ジヒ ドロキノリン) 、 6— エトキシー 1, 2—ジヒ ドロ一 2, 2 , 4一トリメチルキノリン、 1— (N—フ ェニルァミノ) 一ナフタレン、 スチレン化ジフエニルァミン、 ジアルキルジフエ ニルァミン、 N, N ' —ジフエ二ノレ一 p—フエ二レンジァミン、 N—フエニノレー N ' —イソプロピル一 p—フエ二レンジァミン、 N, N ' —ジー 2—ナフチルー p—フエ二レンジァミン、 2, 6—ジ一 t—ブチノレ一 4—メチノレフエノーノレ、 モ ノ (α—メチルベンジル) フエノール、 ジ (α _メチルベンジル) フエノール、 トリ (α—メチルベンジル) フエノール、 2, 2, ーメチレンビス (4—メチル — 6— t—ブチノレフエノ一ル) 、 2, 2, 一メチレンビス (4—ェチル一 6— t —プチルフエノール) 、 4, 4 ' —ブチリデンビス (6— t—ブチノレ一 3—メチ ルフエノール) 、 4, 4, 一チォビス (6 _ t—プチルー 3—メチルフエノール) 、 1, 1—ビス (4ーヒ ドロキシフエニル) シクロへキサン、 2, 5—ジ一 tーブ チノレハイドロキノン、 2, 5—ジー t—ァミルハイドロキノン、 2—メルカプト ベンズィミダゾール、 2—メルカプトベンズィミダゾールの亜鉛塩、 2—メルカ プトメチルベンズィミダゾール、 ジブチルジチォカルバミン酸ニッケル、 トリス (ノエルフエニル) ホスファイ ト、 チォジプロピオン酸ジラウリル、 チォジプロ ピオン酸ジステアリル、 サンノック、 サンタイ ト、 およびォゾガード Gなどの老 化防止剤; P—キノンジォキシム、 P、 P, 一ジベンゾィルキノンジォキシム、 4, 4 ' —ジチォジモルホリン、 ポリ p—ジニトロソベンゼン、 2—ジ一 n—ブ チルァミノ一 4, 6—ジメルカプト一 1, 3, 5—トリアジン、 2, 4 , 6—ト リメルカプトー s—トリアジン、 タツキロール 2 0 1、 ヒタノ一ル 2 5 0 1、 お ょぴ臭素化アルキルフエノールホルムアルデヒ ド樹脂などの加硫剤; N—二トロ ソジフエニルァミン、 および無水フタル酸などのスコーチ防止剤; o, O ' —ジ ベンズアミドジフエユルジスルフィド、 2—ベンズアミ ドチォフエノールの亜鉛 塩、 およびぺプタ一 Sなどの素練促進剤; タツキロール 1 0 1、 ヒタノール 1 5 0 1、 変性アルキルフエノールホルムアルデヒド榭脂、 およびヒタノ一ル 5 5 0 1などの粘着付与剤;酢酸のシク口へキシルァミン塩などのラテツクス凝固剤; ェクストン K l、 およびェクストン L— 2などの加工助剤;含水微紛ケィ酸、 ケ ィ酸カルシウム、 ファーネスブラック、 チャンネルブラック、 サーマルランプブ ラック、 ガスブラック、 オイルブラック、 アセチレンブラック、 炭酸カルシウム、 クレー、 タルク、 酸化チタン、 亜鉛華、 珪藻土、 および硫酸バリウムなどの充填 剤などが挙げられるが、 これらに限定されるものではない。 これらは単独で用い てもよく、 複数を組合せて用いてもよい。 Tamethylene thiuram tetrasulfide, pentamethylene dithio-potassium pyrimidine salt, pipecolyl dithiocarbamic acid pipecoline salt, sodium dimethyl dithiocarbamate, sodium getyl dithiocarbamate, sodium dibutyl dithiocarbamate, Vulcanization accelerators such as zinc dimethyldithiocarbamate, zinc getyldithiocarbamate, zinc dibutyldithiocarbamate, zinc N-ethyl-N-phenyldithiocarbamate, and telluride dimethyldithiocarbamate; Poly (2,2,4-trimethyl_1,2-dihydroquinoline), 6-ethoxy-1,2-dihydro-1,2,2,4-trimethylquinoline, 1- (N-phenylamino) -naphthalene, styrenated Diphenylamine, dialkyldiphenylamine, N, N'-Dipheninole p-Phenylenediamine, N-Pheninylene N'-Isopropyl-p-phenylenediamine, N, N'-G-2-naphthyl-p-Phenylenediamine, 2,6-Di-t- Butinole 4-methylinophenol, mono (α-methylbenzyl) phenol, di (α_methylbenzyl) phenol Tri (α-methylbenzyl) phenol, 2,2, -methylenebis (4-methyl-6-t-butynolephenol), 2,2,1-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4 '—Butylidenebis (6-t-butynole-3-methylthiophene), 4,4,1-thiobis (6_t-butyl-3-methylphenol), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2 , 5-dibutyltinolehydroquinone, 2,5-di-tert-amylhydroquinone, 2-mercaptobenzimidazole, zinc salt of 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptomethylbenzimid Dazole, nickel dibutyldithiocarbamate, tris (noerphenyl) phosphite, dilauryl thiodipropionate, distear thiodipropionate Anti-aging agents such as Lil, Sunnock, Sunite, and Ozogard G; P-quinone dioxime, P, P, dibenzoylquinone dioxime, 4, 4'-dithiodimorpholine, poly p-dinitrosobenzene, 2-di-n-butylamino-1,4,6-dimercapto-1,3,5-triazine, 2,4,6-trimercapto s-triazine, Tatsukilol 201, Hitachi 2501,加 Vulcanizing agents such as brominated alkylphenol formaldehyde resins; anti-scorch agents such as N-ditrosodiphenylamine and phthalic anhydride; o, O'-dibenzamide diphenyl disulfide, 2-benzamide dothiophenol Zinc salts, and mastication accelerators such as Pepta S; Tatsukilol 101, Hitanol 1501, Modified alkylphenol formaldehyde Fats and tackifiers such as titanium 5501; latex coagulants such as hexylamine salt of acetic acid; processing aids such as Exton Kl and Exton L-2; Fillers such as calcium silicate, furnace black, channel black, thermal lamp black, gas black, oil black, acetylene black, calcium carbonate, clay, talc, titanium oxide, zinc oxide, diatomaceous earth, and barium sulfate However, the present invention is not limited to these. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明の塩化ビニル系ペーストゾル組成物を製造する際、 可塑剤、 および種々 の添加剤を添加する方法については特に限定されず、 ゾル調整時に塩化ビニル系 ペースト樹脂と共に混練してもよく、 塩化ビニル系ペースト樹脂の重合時に添加 しておいてもよく、 重合後の塩化ビニル系ペースト樹脂の水性分散液や水性乳化 液に添加し、 撐拌混合した後噴霧乾燥させてもよく、 あるいはこれらの方法を組 み合わせてもよい。 When producing the vinyl chloride paste sol composition of the present invention, a plasticizer and The method of adding the additive is not particularly limited, and may be kneaded with the vinyl chloride paste resin at the time of preparing the sol, may be added at the time of polymerization of the vinyl chloride paste resin, and may be added at the time of polymerization. It may be added to an aqueous dispersion or aqueous emulsion of the base paste resin, stirred and mixed, followed by spray drying, or a combination of these methods.
本発明において使用する塩化ビニル系重合体は、 末端にチォカルボ二ルチオ構 造を有するため、 各種添加剤、 特にスルホン酸塩やその他のチキソトロープ剤な どを混合した場合の均一分散性が非常に良好であり、 このために本発明の塩化ビ ニル系ペーストゾル組成物は十分なチキソトロピー挙動を示し、 チキソトロープ 剤をはじめとする添加剤の添力卩量を削減できる。 また、 末端に存在するチォカル ボニルチオ基が関与する水素結合や極性の効果も、 チキソトロピー挙動の発現に 寄与していると考えられる。 さらに、 本発明において使用する塩化ビュル系重合 体は、 分子量、 分子量分布、 および共重合体組成を容易に制御することができる ため、 これを用いた塩化ビニル系ペーストゾル組成物やそのゲル化物の物性を容 易に調節することが可能である。  Since the vinyl chloride polymer used in the present invention has a thiocarbonylthio structure at its terminal, it has very good uniform dispersibility when mixed with various additives, especially sulfonates and other thixotropic agents. Therefore, the vinyl chloride paste sol composition of the present invention exhibits a sufficient thixotropy behavior, and the amount of additive thixotrope and other additives can be reduced. In addition, it is considered that the effects of hydrogen bonding and polarity involving the terminal thiocarbonylthio group also contribute to the development of thixotropic behavior. Furthermore, since the vinyl chloride-based polymer used in the present invention can easily control the molecular weight, the molecular weight distribution, and the copolymer composition, the vinyl chloride-based paste sol composition and the gelled product thereof using the same can be easily controlled. Physical properties can be easily adjusted.
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
以下に本発明を実施例に基づき説明するが、 本発明はこれらに限定されるもの ではない。 なお、 塩化ビエル系ペーストゾルのチキソトロピー挙動を評価する方 法として、 以下の方法を採用した:  Hereinafter, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited thereto. The following method was used to evaluate the thixotropic behavior of the Biel chloride paste sol:
(チキソトロピー指数の決定)  (Determination of thixotropic index)
塩化ビュル系ペーストゾル組成物を調整する際、 可塑剤、 二酸化ケイ素粉末、 溶剤などを、 ゾル粘度が 4500〜 5000センチポィズ ( c p s ) となるよう に添カ卩し、 35°Cで東京計器 (株) 製 BM型粘度計で No. 3ローターを使用し、 When preparing the chlorinated butyl paste sol composition, a plasticizer, silicon dioxide powder, a solvent, etc. are added so that the sol viscosity becomes 4500 to 5000 centipoise (cps), and the temperature is adjusted to 35 ° C by Tokyo Keiki Co., Ltd. BM type viscometer using No. 3 rotor,
6 r pm、 および 1 2 r p mにおける粘度を測定した (それぞれ V 6、 および V 12 とする) 。 この V 6、 および V 12より、 次式に従って降伏値とチキソトロピー指 数を算出した。 The viscosities at 6 rpm and 12 rpm were measured (referred to as V 6 and V 12 respectively). From this V 6, and V 12, it was calculated yield value and the number of thixotropy finger according to the following equation.
降伏値 (d y n eZcm2) = (V6— V 12) X 1 2/100 チキソトロピ一指数 =降伏値/補正粘度 Yield value (dyn eZcm 2 ) = (V 6 — V 12 ) X 1 2/100 Thixotropic index = yield value / corrected viscosity
ただし、 補正粘度 =2V 12— V6 However, corrected viscosity = 2V 12 — V 6
(実施例 1 )  (Example 1)
300 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 1 30 k g、 塩化ビニ ル単量体 100 k g、 重合開始剤として 2, 2 ' —ァゾビスイソブチルバレロニ トリノレ 500 g、 乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム 400 g、 チキソトロー プ剤としてイセチオン酸ナトリウム 300 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を 有する化合物として、 式 (1 2)  In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 2,2'-azobisisobutylvaleroni trinole as a polymerization initiator, 500 g of sodium lauryl sulfate as an emulsifier, As a thixotropic agent, 300 g of sodium isethionate, and as a compound having a thiocarbolthio structure, a compound of the formula (12)
Figure imgf000035_0001
で示される化合物 108 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処 理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩化ビュル単 量体の飽和蒸気圧よりも l k g/cm 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、 塩化ビニル重合体ラテックスを得た。 塩ィヒビニル重合体の分子量 分布をゲル 'パーミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより求めると、 1. 43 であった。
Figure imgf000035_0001
Was charged, and homogenized for 90 minutes using a homogenizer, followed by polymerization at 50 ° C. Obtained when the internal pressure of the reactor became LKG / cm 2 lower than the saturated vapor pressure of the chloride Bulle monomer in 50 ° C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, a vinyl chloride polymer latex of Was. The molecular weight distribution of the vinyl chloride polymer determined by gel 'permeation' chromatography was 1.43.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビニルペースト樹脂 100重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 100重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 00重量部、 二酸化ケイ素粉末 0. 5重量部、 およびバリウム一亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩ィヒビュル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビュル系ぺー ストゾルのチキソトロピー指数は 0. 33であった。  This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and A salt-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer. The thixotropy index of this butyl chloride-based paste sol was 0.33.
(実施例 2)  (Example 2)
乳化剤としてラウリル硫酸ナトリゥムを 700 g使用し、 チキソトロープ剤と してのイセチオン酸ナトリゥムを使用しない以外は実施例 1と同じ方法で塩化ビ ニル系ペーストゾルを調製した。 この塩化ビニル系ペーストゾルのチキソトロピ 一指数は 0. 1 9であった。 The same procedure as in Example 1 was repeated except that 700 g of sodium lauryl sulfate was used as an emulsifier, and sodium isethionate was not used as a thixotropic agent. Nyl paste sol was prepared. The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.19.
(実施例 3)  (Example 3)
300 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 1 30 k g、 塩化ビニ ル単量体 100 k g、 重合開始剤として 2, 2' —ァゾビスイソブチルバレロ二 トリル 500 g、 乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム 400 g、 チキソトロー プ剤としてイセチオン酸ナトリウム 300 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を 有する化合物として、 式 (1 3)  In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 2,2'-azobisisobutyl valeronitrile 500 g as a polymerization initiator, 400 g of sodium lauryl sulfate as an emulsifier, As a thixotropic agent, 300 g of sodium isethionate, and as a compound having a thiocarbolthio structure, a compound of the formula (13)
SS
CH3CH20 - C一 S— CH2CN (13) で示される化合物 100 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処 理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩化ビニル単 量体の飽和蒸気圧よりも l k g cm 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、 塩化ビュル重合体ラテックスを得た。 塩化ビニル重合体の分子量 分布をゲル'パーミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより求めると、 1. 49 であった。 100 g of a compound represented by CH 3 CH 20 -C-S-CH 2 CN (13) was charged, and homogenized using a homogenizer for 90 minutes, followed by polymerization at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor became LKG cm 2 lower than the saturated vapor pressure of vinyl chloride monomer in 50 ° C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, to obtain a chloride Bulle polymer latex . The molecular weight distribution of the vinyl chloride polymer determined by gel 'permeation' chromatography was 1.49.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビニルペースト榭脂 100重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 100重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 00重量部、 二酸化ケイ素粉末 0. 5重量部、 およびバリウム—亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩化ビュル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビニル系ぺー ストゾルのチキソトロピー指数は 0. 28であった。  This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and barium — 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based paste sol. The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.28.
(実施例 4)  (Example 4)
乳化剤としてラウリル硫酸ナトリゥムを 700 g使用し、 チキソトロープ剤と してのイセチオン酸ナトリゥムを使用しない以外は実施例 3と同じ方法で塩化ビ ニル系ペーストゾルを調製した。 この塩化ビュル系ペーストゾルのチキソトロピ —指数は 0. 1 9であった。 The same procedure as in Example 3 was repeated except that 700 g of sodium lauryl sulfate was used as an emulsifier and sodium isethionate was not used as a thixotropic agent. Nyl paste sol was prepared. The thixotropy index of this butyl chloride paste sol was 0.19.
(実施例 5)  (Example 5)
300 Lステンレス製ォ一トクレーブ中にイオン交換水 1 30 k g、 塩化ビニ ル単量体 100 k g、 重合開始剤として 2 , 2' —ァゾビスイソプチルバレロニ トリノレ 500 g、 乳化剤としてラウリノレ硫酸ナトリウム 400 g、 チキソトロー プ剤としてイセチオン酸ナトリウム 300 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を 有する化合物として、 式 (14)  In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 2,2'-azobisisobutyl valeroni trinole as a polymerization initiator, 500 g of sodium laurinole sulfate as an emulsifier 400 g, 300 g of sodium isethionate as a thixotropic agent, and a compound having a thiocarbolthio structure represented by the formula (14)
Figure imgf000037_0001
で示される化合物 1 10 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処 理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩化ビュル単 量体の飽和蒸気圧よりも l k gZcm 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、 塩化ビニル重合体ラテックスを得た。 塩化ビニル重合体の分子量 分布をゲル 'パーミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより求めると、 1. 22 であった。
Figure imgf000037_0001
Was charged and homogenized for 90 minutes using a homogenizer, followed by polymerization at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor became lk gZcm 2 lower than the saturated vapor pressure of the chloride Bulle monomer in 50 ° C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, to obtain a vinyl chloride polymer latex . The molecular weight distribution of the vinyl chloride polymer determined by gel 'permeation' chromatography was 1.22.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビニルペースト樹脂 100重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 100重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 00重量部、 二酸化ケイ素粉末 0. 5重量部、 およびバリウム一亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩ィヒビュル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビニル系ぺー ストゾルのチキソトロピー指数は 0. 33であった。  This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and A salt-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer. The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.33.
(実施例 6)  (Example 6)
300 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 1 30 k g、 塩ィヒビ二 ル単量体 100 k g、 重合開始剤として 2, 2 ' —ァゾビスィソブチルバレロニ トリル 500 g、 乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム 400 g、 チキソトロ一 プ剤としてイセチオン酸ナトリゥム 300 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を 有する化合物として、 式 (1 5) In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 2, 2'-azobisisobutyl valeroni as a polymerization initiator Tolyl 500 g, sodium lauryl sulfate 400 g as an emulsifier, sodium isethionate 300 g as a thixotropic agent, and a compound having a thiocarbolthio structure represented by the formula (15)
(15)
Figure imgf000038_0001
で示される化合物 1 70 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処 理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩化ビニル単 量体の飽和蒸気圧よりも 1 k g/c m 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、 塩化ビニル重合体ラテックスを得た。 塩化ビニル重合体の分子量 分布をゲル 'パ一ミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより求めると、 1. 67 であった。
( 15 )
Figure imgf000038_0001
Was charged, and homogenized using a homogenizer for 90 minutes, followed by polymerization at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor became 1 kg / cm 2 less than the saturated vapor pressure of vinyl chloride monomer in 50 ° C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, a vinyl chloride polymer latex of Obtained. The molecular weight distribution of the vinyl chloride polymer determined by gel 'permeation' chromatography was 1.67.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビュルペースト樹脂 100重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 100重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 00重量部、 二酸化ケイ素粉末 0. 5重量部、 およびバリウム—亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩化ビュル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビュル系ぺー ストゾルのチキソトロピー指数は 0. 35であった。  This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of octyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and 100 parts by weight of barium chloride resin were obtained. A zinc chloride-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer. The thixotropy index of this butyl chloride-based paste sol was 0.35.
(比較例 1 )  (Comparative Example 1)
300 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 130 k g、 塩化ビニ ル単量体 100 k g、 重合開始剤として 2, 2' —ァゾビスイソブチルバレロニ トリル 500 g、 および乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム 400 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩ィヒビ二ル単量体の飽和蒸気圧よりも l kgZcm 2低くなった時点で、未反応単量体を反応器外へ留去し、塩化ビュル重合体ラテツ クスを得た。 塩化ビニル重合体の分子量分布をゲル ·パーミエーション 'クロマ トグラフィ一により求めると、 2. 30であった。 このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビニルペースト樹脂 100重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 100重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 00重量部、 二酸化ケイ素粉末 0. 5重量部、 およびバリウム一亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩化ビニル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビニル系ぺー ストゾルのチキソトロピー指数は 0. 10であった。 In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 500 g of 2,2'-azobisisobutylvaleronitrile as a polymerization initiator, and 400 g of sodium lauryl sulfate as an emulsifier After charging and homogenizing for 90 minutes using a homogenizer, polymerization was carried out at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor than the saturated vapor pressure of the salt Ihibi alkenyl monomer in 50 ° C was l kgZcm 2 low, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, chloride Bulle polymer Ratetsu box I got The molecular weight distribution of the vinyl chloride polymer determined by gel permeation 'chromatography-1 was 2.30. This latex was spray-dried, and 100 parts by weight of the obtained vinyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and A zinc chloride-based paste sol was prepared by mixing 3 parts by weight of a zinc-based stabilizer. The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.10.
(比較例 2)  (Comparative Example 2)
チキソトロープ剤としてイセチオン酸ナトリウム 300 gを使用し、 比較例 1 と同じ方法で塩化ビニル系ペーストゾルを調製した。 この塩化ビュル系ペースト ゾルのチキソトロピー指数は 0. 20であった。  A vinyl chloride paste sol was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, using 300 g of sodium isethionate as a thixotropic agent. This thixotropic paste sol had a thixotropic index of 0.20.
(実施例 7)  (Example 7)
300 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 130 k g、 塩化ビニ ル単量体 100 k g、 重合開始剤として 2, 2 ' —ァゾビスイソブチルバレロニ トリノレ 500 g、 乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 300 g、 チキソトロープ剤としてラウリルェチルエステルスルホン酸ナトリゥム 400 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を有する化合物として、 式 (14)  In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 2,2'-azobisisobutylvaleroni trinole as a polymerization initiator, 500 g of sodium dodecylbenzenesulfonate as an emulsifier, 300 g As a thixotropic agent, sodium lauryl ester sulfonate (400 g), and a compound having a thiocarbolthio structure, a compound represented by the formula (14)
Figure imgf000039_0001
で示される化合物 100 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処 理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩ィヒビニル単 量体の飽和蒸気圧よりも l k g/cm 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、 塩化ビニル重合体ラテックスを得た。 塩化ビニル重合体の分子量 分布をゲル 'パ一ミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより求めると、 1. 38 であった。
Figure imgf000039_0001
Was charged, and homogenized using a homogenizer for 90 minutes, followed by polymerization at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor becomes 1 kg / cm 2 lower than the saturated vapor pressure of vinyl chloride monomer at 50 ° C, unreacted monomers are distilled out of the reactor to obtain a vinyl chloride polymer latex. Was. The molecular weight distribution of the vinyl chloride polymer determined by gel 'permeation' chromatography was 1.38.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビニルペースト樹脂 100重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 1 0 0重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 0 0重量部、 二酸化ケイ素粉末 0 . 5重量部、 およびバリウム—亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩化ビニル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビュル系ぺ一 ストゾルのチキソトロピー指数は 0 . 3 8であった。 This latex is spray-dried, and the obtained vinyl chloride paste resin is 100 parts by weight. To 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of adipic acid polyester plasticizer, 0.5 parts by weight of silicon dioxide powder, and 3 parts by weight of barium-zinc stabilizer The paste sol was prepared. The thixotropy index of this butyl chloride-based primary sol was 0.38.
得られた塩化ビュル系ペーストゾルをフェ口板に滴下し、 2 3 0 °Cで 2分間加 熱してゲル化させた後剥がす操作を 2 0回繰り返すことにより、 型への汚れの付 着度を目視で観察したが、 型汚染は認められなかつた。  The obtained chlorinated butyl paste sol was dropped on a ferrule plate, heated at 230 ° C for 2 minutes to gel, and then peeled off 20 times. Was visually observed, but no mold contamination was observed.
(比較例 3 )  (Comparative Example 3)
チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物を使用せずに、 実施例 7と同じ方法で 塩化ビュル系ペーストゾルを調製した。 この塩化ビュル系ペーストゾルのチキソ ト口ピー指数は 0 . 1 9であつた。  A butyl chloride-based paste sol was prepared in the same manner as in Example 7 without using a compound having a thiocarbonylthio structure. The thixotropic peak index of this butyl chloride paste sol was 0.19.
得られた塩化ビュル系ペーストゾルをフヱ口板に滴下し、 2 3 0 °Cで 2分間加 熱してゲル化させた後剥がす操作を 2 0回繰り返すことにより、 型への汚れの付 着度を目視で観察したところ、 型汚染が認められた。  The obtained chlorinated butyl-based paste sol was dropped on a top plate, heated at 230 ° C. for 2 minutes to gel, and then peeled off, repeating the operation 20 times to adhere the stain to the mold. When the degree was visually observed, mold contamination was observed.
(比較例 4 )  (Comparative Example 4)
3 0 0 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 1 3 0 k g、 塩化ビニ ル単量体 1 0 0 k g、 重合開始剤として 2, 2 ' —ァゾビスイソプチルバレロ二 トリル 5 0 0 g、 および乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 1 k gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 9 0分間均一化処理した後、 5 0 °Cで重 合を実施した。 反応器内圧が 5 0 °Cにおける塩化ビニル単量体の飽和蒸気圧より も 1 k g Z c m 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応器外へ留去し、 塩化ビ ニル重合体ラテックスを得た。 塩化ビュル重合体の分子量分布をゲル ·パーミェ ーシヨン ·クロマトグラフィーにより求めると、 2 . 2 1であった。 In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 100 kg of vinyl chloride monomer, 500 g of 2,2′-azobisisobutyl valeronitrile as a polymerization initiator, Then, 1 kg of sodium dodecylbenzenesulfonate was charged as an emulsifier, homogenized using a homogenizer for 90 minutes, and then polymerized at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor was 5 0 ° 1 kg Z cm 2 lower than the saturated vapor pressure of vinyl chloride monomer in C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, vinyl chloride polymers Latex was obtained. The molecular weight distribution of the butyl chloride polymer was found to be 2.21 by gel permeation chromatography.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビュルペースト榭脂 1 0 0重量部 に対し、 フタル酸ジォクチル 1 0 0重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 0 0重量部、 二酸化ケイ素粉末 0 . 5重量部、 およびバリウム一亜鉛系安定剤 3 重量部を配合し、 塩化ビュル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビニル系ぺー ストゾルのチキソトロピー指数は 0 . 0 7であった。 This latex was spray-dried, and based on 100 parts by weight of the obtained butyl chloride paste resin, 100 parts by weight of dioctyl phthalate, 200 parts by weight of an adipic acid polyester plasticizer, and 0.5 part of silicon dioxide powder. By weight, 3 parts by weight of a barium-zinc based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based paste sol. This vinyl chloride type The thixotropic index of the stozol was 0.07.
得られた塩化ビュル系ペーストゾルを、 フエ口板に滴下し、 2 3 0 °Cで 2分間 加熱してゲル化させた後剥がす操作を 2 0回繰り返すことにより、 型への汚れの 付着度を目視で観察したところ、 型汚染が認められた。  The obtained chlorinated butyl chloride paste sol was dropped onto a Hue mouth plate, heated at 230 ° C for 2 minutes to form a gel, and then peeled off 20 times. Was visually observed, and mold contamination was observed.
(実施例 8 )  (Example 8)
3 0 0 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 1 3 0 k g、 塩化ビニ ル単量体 9 0 k g、 アタリロニトリル単量体 2 0 k g , 重合開始剤として 2, 2 ' —ァゾビスィソブチルバレ口 -トリル 5 0 0 g、 乳化剤としてドデシルベンゼン スルホン酸ナトリゥム 2 0 0 g、 チキソトロープ剤としてラウリルェチルエステ ルスルホン酸ナトリウム 5 0 0 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を有する化合 物として、 式 (1 4 )  In a 300 L stainless steel autoclave, 130 kg of ion-exchanged water, 90 kg of vinyl chloride monomer, 20 kg of atarilonitrile monomer, 2, 2'-azobisy as a polymerization initiator Sobutyl bale mouth-tolyl 500 g, sodium dodecylbenzene sulfonate 200 g as emulsifier, sodium lauryl ethyl ester sulfonate 500 g as thixotropic agent, and a compound having a thiocarbolthio structure (14 )
Figure imgf000041_0001
で示される化合物 1 0 0 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 9 0分間均一化処 理した後、 5 0 °Cで重合を実施した。 反応器内圧が 5 0 °Cにおける塩化ビュル単 量体の飽和蒸気圧よりも 1 k g Z c m 2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、塩化ビュル系重合体ラテックスを得た。 !Η NMR測定より、塩 化ビニル—ァクリロ二トリルの共重合体であることを確認した。 この共重合体の 分子量分布をゲル ·パーミエーシヨン ·クロマトグラフィ一により求めると、 1 . 5 0であった。
Figure imgf000041_0001
Was charged and homogenized for 90 minutes using a homogenizer, followed by polymerization at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor was 5 0 ° 1 kg Z cm 2 lower than the saturated vapor pressure of the chloride Bulle monomer in C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, chloride Bulle polymer Latex was obtained. ! Η NMR measurement confirmed that the copolymer was a vinyl chloride-acrylonitrile copolymer. The molecular weight distribution of the copolymer was determined by gel permeation chromatography to be 1.55.
このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビュル系ペースト樹脂 1 0 0重量 部に対し、 フタル酸ジォクチル 1 0 0重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 0 0重量部、 二酸化ケイ素粉末 0 . 5重量部、 およびバリウム—亜鉛系安定剤 3重量部を配合し、 塩化ビュル系ペーストゾルを調整した。 この塩ィヒビュル系ぺ ーストゾルのチキソトロピー指数は 0 . 3 5であった。 (実施例 9 ) This latex was spray-dried, and based on 100 parts by weight of the obtained butyl chloride-based paste resin, 100 parts by weight of octyl phthalate, 200 parts by weight of an adipic acid polyester-based plasticizer, and 0.5 part of silicon dioxide powder. By weight, 3 parts by weight of a barium-zinc-based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based paste sol. The thixotropic index of this salt-based paste sol was 0.35. (Example 9)
乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 700 gを使用し、 チキ ソトロ一プ剤としてのラウリルェチルエステルスルホン酸ナトリゥムを使用しな い以外は、 実施例 8と同じ方法で塩化ビニル系ペーストゾルを調製した。 この塩 化ビニル系ペーストゾルのチキソトロピー指数は 0. 26であった。  A vinyl chloride paste sol was prepared in the same manner as in Example 8, except that 700 g of sodium dodecylbenzenesulfonate was used as an emulsifier, and sodium lauryl ester sulfonate was not used as a thixotropic agent. . The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.26.
(比較例 5)  (Comparative Example 5)
チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物を使用せず、 実施例 8と同じ方法で塩 化ビュル系ペーストゾルを調製した。 この塩化ビュル系ペーストゾルのチキソト 口ピ一指数は 0. 22であった。  A hydrogenated paste paste sol was prepared in the same manner as in Example 8 without using a compound having a thiocarbolthio structure. The thixotopic peak index of this butyl chloride-based paste sol was 0.22.
(実施例 10)  (Example 10)
300 Lステンレス製オートクレーブ中にイオン交換水 13◦ k g、 塩化ビニ ル単量体 70 k g、 酢酸ビニル単量体 40 k g、 重合開始剤として 2, 2, —ァ ゾビスィソブチルバレロニトリル 500 g、 乳化剤としてドデシルベンゼンスル ホン酸ナトリウム 500 g、 チキソトロープ剤としてラウリルェチルエステルス ルホン酸ナトリウム 200 g、 およびチォカルボ二ルチオ構造を有する化合物と して、 式 (1 5)  13 ◦ kg of ion-exchanged water, 70 kg of vinyl chloride monomer, 40 kg of vinyl acetate monomer, 500 g of 2,2, -azobisisobutylvaleronitrile as polymerization initiator in a 300 L stainless steel autoclave , 500 g of sodium dodecylbenzenesulfonate as an emulsifier, 200 g of sodium laurylethyl ester sulfonate as a thixotropic agent, and a compound having a thiocarbolthio structure represented by the formula (15)
Figure imgf000042_0001
で示される化合物 1 50 gを仕込み、 ホモジナイザーを用いて 90分間均一化処 理した後、 50°Cで重合を実施した。 反応器内圧が 50°Cにおける塩ィヒビニル単 量体の飽和蒸気圧よりも lkgZcm2低くなった時点で、 未反応単量体を反応 器外へ留去し、塩化ビュル系重合体ラテックスを得た。 NMR測定より、塩 化ビュル一酢酸ビュルの共重合体であることを確認した。 この共重合体の分子量 分布をゲル ·パーミエ一シヨン 'クロマトグラフィーにより求めると、 1. 71 であった。 このラテックスを噴霧乾燥し、 得られた塩化ビュル系ペースト樹脂 1 0 0重量 部に対し、 フタル酸ジォクチル 1 0 0重量部、 アジピン酸ポリエステル系可塑剤 2 0 0重量部、 二酸化ケイ素粉末 0 . 5重量部、 およびバリウム—亜鉛系安定剤 3重量部を配合し、 塩化ビュル系ぺ一ストゾルを調整した。 この塩化ビュル系ぺ ーストゾルのチキソトロピー指数は 0 . 2 8であった。
Figure imgf000042_0001
Was charged, and homogenized using a homogenizer for 90 minutes, followed by polymerization at 50 ° C. When the internal pressure of the reactor became LkgZcm 2 lower than the saturated vapor pressure of the salt Ihibiniru monomer in 50 ° C, distilling off the unreacted monomers out of the reactor, to obtain a chloride Bulle polymer latex . From NMR measurement, it was confirmed that the copolymer was a copolymer of vinyl chloride monobutyl acetate. The molecular weight distribution of this copolymer determined by gel permeation 'chromatography was 1.71. This latex was spray-dried, and based on 100 parts by weight of the obtained butyl chloride-based paste resin, 100 parts by weight of octyl phthalate, 200 parts by weight of an adipic acid polyester-based plasticizer, and 0.5 part of silicon dioxide powder. By weight, and 3 parts by weight of a barium-zinc-based stabilizer were blended to prepare a butyl chloride-based first sol. The thixotropy index of this butyl chloride-based paste sol was 0.28.
(実施例 1 1 )  (Example 11)
チキソトロープ剤としてのラウリルェチルエステルスルホン酸ナトリゥムを使 用しない以外、 実施例 1 0と同じ方法で塩化ビュル系ペーストゾルを調製した。 この塩化ビエル系ペーストゾルのチキソトロピー指数は 0 . 1 7であった。  A butyl chloride-based paste sol was prepared in the same manner as in Example 10 except that sodium lauryl ethyl sulfonate was not used as a thixotropic agent. The thixotropy index of the biel chloride paste sol was 0.17.
(比較例 6 )  (Comparative Example 6)
チォカルポ二ルチオ構造を有する化合物を使用しない以外は、 実施例 1 0と同 じ方法で塩化ビエル系ペーストゾルを調整した。 この塩化ビニル系ペーストゾル のチキソトロピ一指数は 0 . 1 8であった。  A Bier chloride paste sol was prepared in the same manner as in Example 10 except that a compound having a thiocarpenylthio structure was not used. The thixotropic index of this vinyl chloride paste sol was 0.18.
(比較例 7 )  (Comparative Example 7)
チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物を使用せず、 かつチキソトロープ剤と してのラウリルェチルエステルスルホン酸ナトリゥムを使用しない以外は、 実施 例 1 0と同じ方法で塩化ビュル系ペーストゾルを調製した。 この塩ィ匕ビュル系ぺ ーストゾルのチキソトロピー指数は 0 . 0 5であった。  A butyl chloride-based paste sol was prepared in the same manner as in Example 10 except that a compound having a thiocarbolthio structure was not used, and sodium lauryl ethyl ester sulfonate as a thixotropic agent was not used. The thixotropy index of this Shii-Dani Bull type paste sol was 0.05.
産業上の利用可能性 Industrial applicability
本発明の塩化ビュル系ペーストゾル組成物は、 高いチキソトロピー挙動を示す ため、 チキソトロープ剤の添加量を減らすことが可能であり、 低粘度でかつ垂れ 難いゾルを容易に得ることができる。 また浸漬加工時の型汚染がほとんどないた め、 型洗浄の回数が低減され、 生産性が向上する。 さらに分子量、 分子量分布な どの制御された塩化ビュル系ペーストゾル組成物を容易に得ることができ、 塩化 ビニル単量体以外のビニル系単量体との共重合も容易に実施できるため、 幅広い 物性調整が可能である。  The butyl chloride-based paste sol composition of the present invention exhibits a high thixotropy behavior, so that the amount of the thixotrope agent to be added can be reduced, and a low-viscosity sol that does not easily drip can be easily obtained. Also, since there is almost no mold contamination during immersion processing, the number of mold washings is reduced, and productivity is improved. Furthermore, it is possible to easily obtain a vinyl chloride paste sol composition with controlled molecular weight, molecular weight distribution, etc., and to easily carry out copolymerization with vinyl monomers other than vinyl chloride monomer. Adjustments are possible.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
1 . 以下の 2成分 (A) および (B ) を必須成分とする塩化ビニル系- ース ト ゾル組成物:  1. Vinyl chloride base sol composition containing the following two components (A) and (B) as essential components:
(A) —般式 (1 )  (A) — General formula (1)
Figure imgf000044_0001
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(式中、 R 1は炭素数 1以上の p価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄 原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子、 金属原子を含んでいてもよく、 高 分子量体であってもよい。 Z 1は水素原子、 ハロゲン原子、 または炭素数 1以上 の 1価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄原子、 ハロゲン原子、 ケィ素 原子、 リン原子を含んでいてもよく、 高分子量体であってもよい。 Z 1が複数存 在する場合、 それらは互いに同一でもよく、 異なっていてもよい。 pは 1以上の 整数である。 ) で示される化合物、 および一般式 (2 ) (In the formula, R 1 is a p-valent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight. Z 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, and a phosphorus atom. When there are a plurality of Z 1 , they may be the same or different, and p is an integer of 1 or more. , And general formula (2)
Figure imgf000044_0002
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(式中、 R 2は炭素数 1以上の 1価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄 原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子、 金属原子を含んでいてもよく、 高 分子量体であってもよい。 Z 2は酸素原子 (q = 2の場合) 、 硫黄原子 (q = 2 の場合) 、 窒素原子 (q = 3の場合) 、 または炭素数 1以上の q価の有機基であ り、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子を含 んでいてもよく、 高分子量体であってもよい。 R 2は互いに同一でもよく、 異な つていてもよい。 qは 2以上の整数である。 ) で示される化合物からなる群から 選ばれる、 チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物の存在下、 塩化ビニル単量体 もしくは、 塩化ビニル単量体 5 0重量%以上と、 塩ィヒビ二ル単量体と共重合可能 な単量体 5 0重量。 /0未満とをラジカル重合して得られる塩化ビニル系ペースト樹 脂。 (In the formula, R 2 is a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight. Z 2 is an oxygen atom (when q = 2) and a sulfur atom (q = 2 ), A nitrogen atom (when q = 3), or a q-valent organic group having 1 or more carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, and a phosphorus atom. Or a high molecular weight compound. R 2 may be the same or different. q is an integer of 2 or more. ) In the presence of a compound having a thiocarbolthio structure selected from the group consisting of compounds represented by the following formula: 50% by weight or more of vinyl chloride monomer or vinyl chloride monomer; 50 weight of copolymerizable monomer. / Vinyl chloride paste resin obtained by radical polymerization of less than / 0 .
( B ) 可塑剤。  (B) Plasticizer.
2 . チォカルボ二ルチオ構造を有する化合物が、 一般式 (3 )  2. The compound having a thiocarbonylthio structure is represented by the general formula (3)
Figure imgf000045_0001
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(式中、 R 3は炭素数 1以上の 2価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄 原子、 ハロゲン原子、 ケィ素原子、 リン原子、 金属原子を含んでいてもよく、 高 分子量体であってもよい。 Z 3は水素原子、 ハロゲン原子、 または炭素数 1以上 の 1価の有機基であり、 窒素原子、 酸素原子、 硫黄原子、 ハロゲン原子、 ケィ素 原子、 リン原子を含んでいてもよく、 高分子量体であってもよい。 Z 3は互いに 同一でもよく、 異なっていてもよい。 ) で示される化合物であることを特徴とす る、 請求項 1に記載の塩化ビュル系ペーストゾル組成物。 (In the formula, R 3 is a divalent organic group having 1 or more carbon atoms, and may include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a metal atom, and has a high molecular weight. Z 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and includes a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a silicon atom, and a phosphorus atom Z 3 may be the same as or different from each other.) The compound according to claim 1, wherein Z 3 is a compound represented by the following formula: -Based paste sol composition.
3 . 塩化ビニルと共重合可能な単量体が、 スチレン、 ブタジエン、 イソプレン、 クロ口プレン、 塩化ビニリデン、 アクリル酸、 メタクリル酸、 アクリル酸エステ ル、 メタクリル酸エステル、 ァクリルアミ ド、 メタクリルアミ ド、 アタリロニト リル、 酢酸ビニルからなる群から選ばれる、 少なくとも一種類以上の単量体であ ることを特徴とする、 請求項 1または 2のいずれかに記載の塩化ビュル系ペース トゾル組成物。 3. The monomers copolymerizable with vinyl chloride are styrene, butadiene, isoprene, chloroprene, vinylidene chloride, acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, acrylamide, methacrylamide, and atalylonite. 3. The vinyl chloride paste sol composition according to claim 1, wherein the composition is at least one or more monomers selected from the group consisting of ril and vinyl acetate.
4. (A) 成分の塩化ビニル系ペースト樹脂の、 ゲル ·パーミエ一ション 'クロ マトグラフィー (GPC) で測定した分子量分布が、 2以下であることを特徴と する、 請求項 1なレ、し 3のいずれかに記載の塩化ビュル系ペーストゾル組成物。4. The vinyl chloride paste resin of component (A) has a molecular weight distribution measured by gel permeation chromatography (GPC) of 2 or less, wherein the molecular weight distribution is 2 or less. 4. The butyl chloride-based paste sol composition according to any one of 3.
5. (A) 成分の塩化ビニル系ペースト樹脂の、 ゲル ·パ一ミエーション 'クロ マトグラフィー (GPC) で測定した分子量分布が、 1. 5以下であることを特 徴とする、 請求項 1ないし 3のいずれかに記載の塩化ビュル系ペーストゾル組成 物。 5. The vinyl chloride paste resin of component (A) is characterized in that the molecular weight distribution measured by gel permeation 'chromatography (GPC) is 1.5 or less. 4. The chlorinated vinyl paste sol composition according to any one of the above-mentioned items.
6■ (A) 成分の塩化ビニル系ペースト樹脂が、 ゲル ·パーミエ一シヨン ·ク口 マトグラフィー (GPC) 測定より求めた数平均分子量の差が 3000以上ある 複数の塩化ビニル系ペースト樹脂を混合したものであることを特徴とする、 請求 項 1ないし 5のいずれかに記載の塩化ビュル系ペーストゾル組成物。  6) The vinyl chloride paste resin of component (A) is a mixture of multiple vinyl chloride paste resins that have a difference of 3000 or more in number average molecular weight determined by gel permeation and mouth chromatography (GPC) measurement. The butyl chloride-based paste sol composition according to any one of claims 1 to 5, wherein
7. (A) 成分、 (B) 成分以外の成分として、 一般式 (4)
Figure imgf000046_0001
7. As components other than component (A) and component (B), general formula (4)
Figure imgf000046_0001
(式中、 L 1はアルカリ金属、 またはアンモ-ゥム基であり、 nは 1〜20まで の整数である。 ) で示される化合物、 および一般式 (5) (Wherein L 1 is an alkali metal or an ammonium group, and n is an integer from 1 to 20), and a compound represented by the general formula (5)
0 0
II  II
R4— C— 0— CH2CH2S03L 2 (5) R 4 — C— 0— CH 2 CH 2 S0 3 L 2 (5)
(式中、 R 4は炭素数 1以上の 1価の有機基であり、 L 2はアルカリ金属、 または アンモニゥム基である。 ) で示される化合物からなる群から選ばれる、 一種以上 のスルホン酸塩を含有することを特徴とする、 請求項 1ないし 6のいずれかに記 載の、 塩化ビニル系ペーストゾル組成物。 (Wherein, R 4 is a monovalent organic group having 1 or more carbon atoms, and L 2 is an alkali metal or an ammonium group.) One or more sulfonates selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas: The vinyl chloride-based paste sol composition according to any one of claims 1 to 6, comprising:
8. (A) 成分、 (B) 成分以外の成分として、 酸性化合物、 ハイドロタルサイ ト化合物、 ゼォライト化合物、 および過塩素酸金属塩からなる群から選ばれる化 合物を含有することを特徴とする、 請求項 1ないし 7のいずれかに記載の、 塩化 ビュル系ペーストゾル組成物。 8. Components other than component (A) and component (B) include acidic compounds and hydrotalcite. The paste sol composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the paste sol composition contains a compound selected from the group consisting of a metal compound, a zeolite compound, and a metal perchlorate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004003042A1 (en) * 2002-06-28 2004-01-08 Kaneka Corporation Vinyl chloride copolymer resin for paste, composition, and process for producing resin

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160066530A (en) * 2014-12-02 2016-06-10 한화케미칼 주식회사 Polyvinyl chloride paste resin and Method for preparing the same
KR101841356B1 (en) * 2015-09-14 2018-03-22 주식회사 엘지화학 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and preparation method thereof

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59197449A (en) * 1983-04-26 1984-11-09 Asahi Chem Ind Co Ltd Coating sol composition
JPH03217406A (en) * 1990-01-22 1991-09-25 Mitsubishi Kasei Vinyl Co Preparation of vinyl chloride polymer

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59197449A (en) * 1983-04-26 1984-11-09 Asahi Chem Ind Co Ltd Coating sol composition
JPH03217406A (en) * 1990-01-22 1991-09-25 Mitsubishi Kasei Vinyl Co Preparation of vinyl chloride polymer

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004003042A1 (en) * 2002-06-28 2004-01-08 Kaneka Corporation Vinyl chloride copolymer resin for paste, composition, and process for producing resin
US7354970B2 (en) 2002-06-28 2008-04-08 Kaneka Corporation Polyvinyl chloride copolymer paste resin, composition thereof, and method for making the resin
KR101014584B1 (en) 2002-06-28 2011-02-16 카네카 코포레이션 Vinyl chloride copolymer resin for paste, composition, and process for producing resin
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