WO2002065551A1 - Dispositif d'ajustement des circuits avant mise en boitier - Google Patents

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WO2002065551A1
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Sébastien LAVILLE
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Stmicroelectronics Sa
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Definitions

  • the present invention relates to the field of analog and digital integrated circuits. These circuits must use the smallest possible silicon surface in order to reduce costs while maintaining high precision.
  • a silicon wafer at the end of the different etching steps and / or of depositing conductive, semi-conductive or insulating layers is the subject of a sorting step intended to eliminate the circuits having defects.
  • a step of packaging or encapsulation is implemented.
  • tests are carried out on each circuit of a wafer in order to check their compliance with specifications.
  • the circuit can be considered satisfactory, to be scrapped or to be adjusted.
  • the adjustment is carried out by imposing determined voltages and / or electric currents on the pads of the integrated circuit, some pads may no longer be accessible after the circuit has been encapsulated.
  • the present invention provides a device for adjusting an integrated circuit before encapsulation during the sorting step.
  • the present invention provides a device forming part of an integrated circuit and arranged between an external contact pad accessible even after encapsulation and the rest of the circuit, that is to say its useful part intended to perform a particular function.
  • the integrated electronic circuit comprises a plurality of MOS transistors.
  • the circuit comprises at least first and second MOS transistors arranged in series, each transistor comprising a gate and a short-circuited source, and a base connected to the ground of the integrated circuit.
  • the circuit comprises a first resistor mounted parallel to the first transistor and a second resistor mounted parallel to the second transistor.
  • the circuit comprises a third transistor connected in series with the first and second transistors, and comprising a gate and a short-circuited source, and a basic junction connected to the ground of the integrated circuit .
  • the circuit may include a third resistor mounted parallel to the third transistor. Indeed, it is the overall mass of the circuit that is necessary for the proper functioning of the circuit.
  • the circuit comprises a connection pad connected to the source of the first transistor and accessible after encapsulation of the circuit.
  • a resistor can be mounted between the pad and the source of the first transistor.
  • the circuit comprises a connection pad connected to the source of the second transistor and not accessible after the encapsulation of the circuit and a connection pad connected to the drain of the second transistor and not accessible after the circuit encapsulation.
  • the circuit further comprises a connection pad connected to the drain of the third transistor and not accessible after encapsulation of the circuit. More generally, the connection pad connected to the drain of the umpteenth transistor can be connected to the rest of the circuit.
  • the MOS transistors can be of the isolated type or of the non-isolated type. Preferably, the basic outlet will be adjacent to the drain.
  • the invention also provides a method of adjusting electrical resistance in an integrated electronic circuit comprising a plurality of MOS transistors connected in series and each provided with a resistance connected in parallel. We connect the bases of the MOS transistors. A first voltage is applied to a MOS transistor on its base, its gate and its source and a second voltage on its drain in order to slam the said MOS transistor.
  • the bases of the MOS transistors are connected to the overall ground of the circuit and the base of the transistors are short-circuited at the gate and at the source of the MOS transistor to be broken.
  • the first voltage is constant and the second tension is a monotonous ramp. The first voltage can be zero and the second voltage can be increasing.
  • the breakdown of the MOS transistor can be carried out by avalanche of the drain / substrate junction, irreversible breakdown of the drain / substrate junction and short-circuit between the drain and the source.
  • the difference between the first and second voltage is approximately 16 V.
  • the breakdown current can be less than 100 mA.
  • the invention applies to both the MOS-N transistor and the MOS-P transistor.
  • the use of so-called "snap-back" MOS transistors makes it possible to obtain a short circuit and therefore to obtain resistance inside an integrated circuit by acting on the pins of the integrated circuit which can be accessed before the encapsulation.
  • the component thus produced occupies a small space on a silicon wafer and is therefore inexpensive.
  • the fact that the gate and the source of the MOS transistor are short-circuited guarantees the permanent blocking of said MOS transistor and prevents it from influencing the operation of the rest of the electronic circuit. Before breakdown, the MOS transistor can be compared to an open circuit.
  • the invention takes advantage of a natural characteristic of MOS transistors which is to have parasitic components, in particular a bi-polar transistor. In certain configurations, these parasitic components are harmful. During electrostatic discharges, circuits can be seriously damaged by switching on the parasitic transistor.
  • the invention uses the parasitic bipolar transistor of the MOS transistor to make a short circuit thereof and obtain a resistance of predetermined value between the drain and the source of the MOS transistor, that is to say between the collector and the emitter of the parasitic bi-polar transistor.
  • This component can be considered as an "anti-fuse". Indeed, a fuse is a closed circuit in the normal state and an open circuit after blowing.
  • the MOS transistor is an open circuit before breakdown and a closed circuit after breakdown with a low residual resistance value.
  • FIG. 1 is a characteristic operating curve of an MOS transistor
  • Figure 2 is a cross-sectional view of a transistor
  • FIG. 1 is a diagram of the device according to the invention
  • Figure 4 is a cross-sectional view of an alternative MOS transistor.
  • an NMOS transistor has four operating regions. Region 1 is that of the conventional linear operation of a MOS transistor. Region 2 is that of operation in saturated mode where the current changes only very slightly as a function of the voltage. Region 3 is said to be "avalanche" with a weakening of the drain / substrate junction caused by the avalanche of said junction.
  • region 4 is that of the conduction of the parasitic bipolar transistor with on the curve a first break referenced 5 and which is reversible and a second break referenced 6 and which is destructive and therefore irreversible.
  • the MOS transistor comprises a drain 8, a source 9 and a gate 10 formed on a base 11 also called bulk.
  • a parasitic bipolar transistor 12 is formed, the collector of which is formed by the drain 8, the emitter of which is formed by the source 9 and the base of which can be modeled as being connected to ground by a substrate resistance. 13 and by a current source 14 connected to the drain 8.
  • the drain 8 is connected to a first supply voltage, while the source 9, the gate 10 and the base 11 are short-circuited and connected to a second supply voltage.
  • the current generator 14 which has been represented in FIG. 2 between the collector and the base of the parasitic bipolar transistor initially simulates the leakage currents of the drain / base junction. Subsequently, it simulates the avalanche of the junction and the polarization of the parasitic bipolar transistor of the NPN type. For example, tests have been carried out using HF4 technology
  • the source is grounded and a voltage ramp varying from 8 to 18 volts with a current limitation is applied to the drain.
  • a current of 2 mA a resistance after breakdown of 300 Ohms is formed.
  • a resistance after breakdown of 60 Ohms was obtained and for a current of 100 mA, a resistance after breakdown of 11 Ohms was obtained.
  • the drain / base junction is not in avalanche, therefore no current flows through the drain / source channel. Beyond this tension, the phenomenon snaps into place with the creation of a conductive path allowing the passage of current. When the breakdown voltage is reached, all of the available current flows through the channel and resistance is created.
  • transistors with the shortest possible channel since the shorter the channel, the lower the breakdown voltage, due to the increase in the drain current and the increase in the number of electron-hole pairs generated, at constant channel width.
  • a decrease in the channel width results in a decrease in the voltage and the current of the second break 6 illustrated in FIG. 1. Even if the width of the channel does not intervene in the tension of the first break 5, a width reduced will increase the thermal effect of the second break 6 since the field lines are then more unidirectional, implying a decrease in the torque of the second break. It is therefore particularly advantageous to use MOS transistors of small dimensions.
  • the substrate When using a MOS transistor in snap-back, the substrate is connected to the lowest potential of the circuit to reverse bias all the parasitic diodes existing between the drain 8 and the source 9 on the one hand, and the base 11 on the other hand.
  • the source 9 and the base 11 are short-circuited.
  • the gate 10 is also short-circuited at the source 9 and at the base to deactivate the transistor.
  • FIG. 3 an embodiment of the invention is shown comprising three resistors at adjust arranged in series referenced 15, 16 and 17, the resistor 15 being connected to a ground stud 18 which will be connected to one of the external pins of the circuit during encapsulation and the resistor 17 being connected to the rest of the circuit, not shown .
  • the device further comprises three MOS transistors 19, 20, 21 each provided with a grid, respectively 22, 23 and 24, with a drain, respectively 25, 26 and 27, with a source and, respectively, 28, 29 and 30 and a base, respectively 31, 32 and 33.
  • the transistor 19 is mounted parallel to the resistor 15, the transistor 20 parallel to the resistor 16 and the transistor 21 parallel to the resistor 17.
  • the gate and the source of each transistor 19, 20 and 21 are short-circuited.
  • the bases 31 to 33 of the transistors 19 to 21 are all connected to the pad 18.
  • the gate 22 and the source 28 of the transistor 19 are connected to the pad 18.
  • the drain 25 of the transistor 19, the gate 23 and the source 29 of the transistor 20 are connected to the common point between the resistors 15 and
  • the drain 26 of the transistor 20, the gate 24 and the source 30 of the transistor 21 are connected to the common point between the resistors 16 and 17 and to an adjustment pad 35 which may no longer be accessible after the encapsulation of the circuit.
  • the drain 27 of the transistor 21 is connected to the other terminal of the resistor 17, to the rest of the circuit, not shown and to an adjustment pad 36 which may no longer be accessible after the encapsulation of the circuit.
  • pads 18 and 35 are connected together to ground and a positive voltage ramp is applied to pad 36.
  • a non-isolated MOS transistor occupies a much smaller surface than that occupied by an isolated MOS transistor, for example an area of 7 ⁇ m by 14 ⁇ m instead of a surface of 40 ⁇ m by 40 ⁇ m, that is to say a division by approximately 16 of the occupied silicon surface.
  • the breakdown of isolated MOS snap-back transistors is difficult to achieve due to the presence of a second parasitic bipolar transistor whose collector is formed by the drain of the MOS transistor, the emitter by the source and the base by the bulk. This second parasitic transistor being capable of stealing the majority of the current which is sent by a breakdown pad to the drain of the MOS transistor. It results that the resistance after breakdown is likely to vary between 100 Ohms and 1 k Ohms which is to be compared with the resistance of 10 Ohms obtained in a reproducible way when the non-isolated MOS structure is broken.
  • isolated MOS transistor is understood here to mean an MOS transistor whose substrate and base are separated by a dielectric layer.
  • the constraints of vertical and especially lateral insulation push to use high silicon surfaces to increase the dimensions of the base and reduce the gain of the second parasitic bipolar transistor.
  • the isolated MOS transistors it is preferable to use non-isolated MOS transistors which prevent the flow of leakage currents from the base to the substrate.
  • the base and the substrate are at the same potential.
  • the base layer, of type P for an NMOS transistor may be of annular shape or not. In both cases, we will have the basic socket, ie the output to the connection levels, closer to the drain than to the source.
  • the invention therefore makes it possible to precisely and reproducibly adjust resistors arranged in series by means of economical MOS transistors occupying a reasonable silicon surface.

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Abstract

Circuit électronique intégré comprenant au moins un premier 19 et un deuxième 20 transistors MOS disposés en série, chaque transistor comprenant une grille et une source court circuitées, et une base reliée à la masse du circuit intégré.

Description

Dispositif d'ajustement des circuits avant mise en boîtier.
La présente invention concerne le domaine des circuits intégrés analogiques et numériques. Ces circuits doivent utiliser une surface de silicium la plus faible possible afin de réduire les coûts tout en conservant une forte précision. Une plaquette de silicium à l'issue des différentes étapes de gravure et/où de dépôt de couches conductrices, semi conductrices ou isolantes fait l'objet d'une étape de tri destinée à éliminer les circuits présentant des défauts. Après l'étape de tri, on met en oeuvre une étape de mise en boîtier ou encapsulation. Lors de l'étape de tri, on effectue des tests sur chaque circuit d'une plaquette afin de vérifier leur conformité à un cahier des charges. Le circuit peut être considéré comme satisfaisant, à mettre au rebut ou encore à ajuster. L'ajustement est effectué en imposant des tensions et/ou des courants électriques déterminés à des plots du circuit intégré, certains plots pouvant ne plus être accessibles après l'encapsulation du circuit.
La présente invention propose un dispositif permettant l'ajustement d'un circuit intégré avant l'encapsulation lors de l'étape de tri.
La présente invention propose un dispositif faisant partie d'un circuit intégré et disposé entre un plot de contact extérieur accessible même après encapsulation et le reste du circuit c'est-à-dire sa partie utile destinée à réaliser une fonction particulière.
Le circuit électronique intégré, selon un aspect de l'invention, comprend une pluralité de transistors MOS. Le circuit comprend au moins un premier et un deuxième transistors MOS disposés en série, chaque transistor comprenant une grille et une source court-circuitées, et une base reliée à la masse du circuit intégré.
Avantageusement, le circuit comprend une première résistance montée parallèlement au premier transistor et une deuxième résistance montée parallèlement au deuxième transistor. Dans un mode de réalisation de l'invention, le circuit comprend un troisième transistor monté en série avec le premier et le deuxième transistors, et comprenant une grille et une source court-circuitées, et une jonction de base reliée à la masse du circuit intégré. Le circuit peut comprendre une troisième résistance montée parallèlement au troisième transistor. En effet, c'est la masse globale du circuit qui est nécessaire pour le bon fonctionnement du circuit.
Dans un mode de réalisation de l'invention, le circuit comprend un plot de connexion relié à la source du premier transistor et accessible après l'encapsulation du circuit. Alternativement, une résistance peut être montée entre le plot et la source du premier transistor.
Dans un mode de réalisation de l'invention, le circuit comprend un plot de connexion relié à la source du deuxième transistor et non accessible après l'encapsulation du circuit et un plot de connexion relié au drain du deuxième transistor et non accessible après l'encapsulation du circuit.
Dans un mode de réalisation de l'invention, le circuit comprend en outre un plot de connexion relié au drain du troisième transistor et non accessible après l'encapsulation du circuit. Plus généralement, le plot de connexion relié au drain du énième transistor peut être relié au reste du circuit. On entend par transistor MOS disposé en série, les transistors dont la source du n+lième transistor est connectée au drain du πieme transistor.
Les transistors MOS peuvent être de type isolé ou de type non isolé. De préférence, la prise de base sera adjacente au drain. L'invention propose également un procédé d'ajustement de résistance électrique dans un circuit électronique intégré comprenant une pluralité de transistors MOS montés en série et chacun pourvu d'une résistance montée en parallèle. On relie les bases des transistors MOS. On applique à un transistor MOS une première tension sur sa base, sa grille et sa source et une deuxième tension sur son drain afin de claquer le dit transistor MOS.
De préférence, on relie les bases des transistors MOS à la masse globale du circuit et on court-circuite la base des transistors à la grille et à la source du transistor MOS à casser. De préférence, la première tension est constante et la deuxième tension est une rampe monotone. La première tension peut être nulle et la deuxième tension peut être croissante.
Le claquage du transistor MOS peut être effectué par avalanche de la jonction drain/substrat, claquage irréversible de la jonction drain/ substrat et court-circuit entre le drain et la source. La différence entre les première et deuxième tension est d'environ 16 V. Le courant de claquage peut être inférieur à 100 mA.
L'invention s'applique aussi bien au transistor MOS-N qu'au transistor MOS-P. L'utilisation de transistors MOS dit "snap-back" permet d'obtenir un court circuit et donc d'obtenir une résistance à l'intérieur d'un circuit intégré en agissant sur les broches du circuit intégré auquel on peut accéder avant l'encapsulation. Le composant ainsi réalisé occupe une faible place sur une plaquette de silicium et est donc bon marché. Le fait que la grille et la source du transistor MOS soient court-circuités garantit le blocage permanent dudit transistor MOS et évite qu'il n'influe sur le fonctionnement du reste du circuit électronique. Avant claquage, le transistor MOS peut être assimilé à un circuit ouvert.
L'invention met à profit une caractéristique naturelle des transistors MOS qui est de posséder des composants parasites, en particulier un transistor bi-polaire. Dans certaines configurations, ces composants parasites sont néfastes. Lors de décharges électrostatiques, des circuits peuvent être gravement endommagés par mise en conduction du transistor parasite. A l'inverse, l'invention utilise le transistor bipolaire parasite du transistor MOS pour en faire un court circuit et obtenir une résistance de valeur prédéterminée entre le drain et la source du transistor MOS , c'est-à- dire entre le collecteur et l'émetteur du transistor bi-polaire parasite. Ce composant peut être considéré comme un "anti-fusible". En effet, un fusible est un circuit fermé à l'état normal et un circuit ouvert après claquage. Ici, le transistor MOS est un circuit ouvert avant claquage et un circuit fermé après claquage avec une faible valeur de résistance résiduelle.
La présente invention sera mieux comprise à l'étude de la description détaillée de quelques modes de réalisation pris à titre d'exemple nullement limitatifs illustrés par les dessins annexés, sur lesquels : la figure 1 est une courbe caractéristique de fonctionnement d'un transistor MOS ; la figure 2 est une vue en coupe transversale d'un transistor
MOS ; la figure 3 est un schéma du dispositif selon l'invention; et la figure 4 est une vue en coupe transversale d'une variante de transistor MOS. Comme on peut le voir sur la figure 1, où la tension de drain figure en abscisse et le courant de drain en ordonnée, un transistor NMOS possède quatre régions de fonctionnement. La région 1 est celle du fonctionnement linéaire classique d'un transistor MOS. La région 2 est celle du fonctionnement en régime saturé où le courant n'évolue que très faiblement en fonction de la tension. La région 3 est dite "d'avalanche" avec un affaiblissement de la jonction drain/substrat causé par l'avalanche de ladite jonction. Enfin, la région 4 est celle de la mise en conduction du transistor bipolaire parasite avec sur la courbe une première brisure référencée 5 et qui est réversible et une seconde brisure référencée 6 et qui est destructive donc irréversible.
Au-delà de la seconde brisure 6, on remarque que le courant évolue extrêmement rapidement en fonction de la tension, la pente de la courbe étant quasiment verticale. Le processus de brisure également appelé "second breakdown " étant irréversible, on peut se déplacer sur la courbe en partant de la seconde brisure 6 et en se déplaçant vers le haut, ce qui se traduit par une diminution de la résistance que présente le transistor MOS ainsi claqué dans la mesure où pour une tension de drain sensiblement constante, on voit que le courant augmente.
Sur la figure 2, est représentée la structure des différents constituants. Le transistor MOS comprend un drain 8, une source 9 et une grille 10 formés sur une base 11 également appelée bulk. Dans la base 11 , se forme un transistor bipolaire parasite 12 dont le collecteur est formé par le drain 8, dont l'émetteur est formé par la source 9 et dont la base peut être modélisée comme étant reliée à la masse par une résistance de substrat 13 et par une source de courant 14 reliée au drain 8. Dans le montage conforme à l'invention, le drain 8 est relié à une première tension d'alimentation, tandis que la source 9, la grille 10 et la base 11 sont court- circuitées et reliées à une deuxième tension d'alimentation. A partir du régime de saturation du transistor MOS, une tension élevée sur le drain déclenche l'avalanche de la jonction drain/ base par génération de paires électrons-trous, créant ainsi un courant de base. La tension aux bornes de la résistance de base augmente, polarisant ainsi la jonction source/base. Le transistor bipolaire parasite est ainsi amorcé, le phénomène de brisure se produit alors. A fort courant, le composant rentre en régime de seconde brisure irréversible et qui se traduit par une destruction du réseau cristallin de poly silicium du canal formé entre le drain et la source. Après l'avalanche de la jonction collecteur-base du transistor bipolaire parasite, l'émetteur relié à la masse permet de mettre en direct la jonction base-émetteur, ce qui engendre l'effet de retournement ou snap-back. Pour déclencher le phénomène d'avalanche, il faut imposer une tension sur le drain suffisante pour mettre en inverse la jonction drain/base. Cette tension dépend des caractéristiques de dopage et est proportionnelle au carré du champ électrique. Le générateur de courant 14 que l'on a représenté sur la figure 2 entre le collecteur et la base du transistor bipolaire parasite simule dans un premier temps les courants de fuite de la jonction drain/base. Par la suite, il permet de simuler l'avalanche de la jonction et la polarisation du transistor bipolaire parasite de type NPN. A titre d'exemple, des essais ont été réalisés en technologie HF4
CMOS avec un transistor NMOS dont le canal est à dimensions suivantes : largeur (W) =1 μm, longueur du canal (L) = 0,7 μm. La source est à la masse et une rampe de tension évoluant de 8 à 18 volts avec une limitation en courant est appliquée sur le drain. Pour un courant de 2 mA, une résistance après claquage de 300 Ohms se forme. Pour un courant de 10 mA, on a obtenu une résistance après claquage de 60 Ohms et pour un courant de 100 mA, on a obtenu une résistance après claquage de 11 Ohms. On remarque que pour une tension de drain inférieure à 11 volts, la jonction drain/base n'est pas en avalanche, donc aucun courant ne passe à travers le canal drain/source. Au-delà de cette tension, le phénomène s'enclenche avec création d'un chemin conducteur permettant le passage du courant. Arrivé à la tension de claquage, tout le courant disponible passe dans le canal et une résistance se crée.
Il est particulièrement intéressant d'utiliser des transistors dont le canal est le plus court possible, dans la mesure où plus le canal est court, plus la tension de claquage est faible, en raison de l'augmentation du courant de drain et de l'augmentation du nombre de paires électrons-trous générées, à largeur de canal constante. Une diminution de la largeur de canal se traduit par une diminution de la tension et du courant de la seconde brisure 6 illustrée sur la figure 1. Même si la largeur du canal n'intervient pas dans la tension de la première brisure 5, une largeur réduite augmentera l'effet thermique de la seconde brisure 6 puisque les lignes de champ sont alors plus unidirectionnelles, impliquant une diminution du couple de la seconde brisure. Il est donc particulièrement intéressant d'utiliser des transistors MOS de faibles dimensions.
Lors de l'utilisation d'un transistor MOS en snap-back, le substrat est connecté au potentiel le plus bas du circuit pour polariser en inverse toutes les diodes parasites existant entre le drain 8 et la source 9 d'une part, et la base 11 d'autre part. La source 9 et la base 11 sont court- circuitées. On court-circuite également la grille 10 à la source 9 et à la base pour désactiver le transistor.
Avec ce type de transistor MOS snap-back, on peut ajuster des résistances disposées en parallèle, voir à ce sujet le document FR A 2 795 557. Sur la figure 3, est représenté un mode de réalisation de l'invention comprenant trois résistances à ajuster disposées en série référencées 15, 16 et 17, la résistance 15 étant reliée à un plot de masse 18 qui sera relié à une des broches externes du circuit lors de l'encapsulation et la résistance 17 étant reliée au reste du circuit, non représenté. Le dispositif comprend en outre trois transistors MOS 19, 20, 21 chacun pourvu d'une grille, respectivement 22, 23 et 24, d'un drain, respectivement 25, 26 et 27, d'une source et, respectivement 28, 29 et 30 et d'une base, respectivement 31, 32 et 33.
Le transistor 19 est monté parallèlement à la résistance 15, le transistor 20 parallèlement à la résistance 16 et le transistor 21 parallèlement à la résistance 17. La grille et la source de chaque transistor 19, 20 et 21 sont court-circuitées. Les bases 31 à 33 des transistors 19 à 21 sont toutes reliées au plot 18. La grille 22 et la source 28 du transistor 19 sont reliées au plot 18. Le drain 25 du transistor 19, la grille 23 et la source 29 du transistor 20 sont reliés au point commun entre les résistance 15 et
16 et à un plot d'ajustement 34 qui pourra ne plus être accessible après l'encapsulation du circuit. Le drain 26 du transistor 20, la grille 24 et la source 30 du transistor 21 sont reliés au point commun entre les résistances 16 et 17 et à un plot 35 d'ajustement qui pourra ne plus être accessible après l'encapsulation du circuit. Le drain 27 du transistor 21 est relié à l'autre borne de la résistance 17, au reste du circuit, non représenté et à un plot d'ajustement 36 qui pourra ne plus être accessible après l'encapsulation du circuit.
Pour claquer le transistor 21, on connecte ensemble les plots 18 et 35 à la masse et on applique une rampe de tension positive sur le plot 36.
Si on laissait le plot 18 non connecté, le phénomène de snap-back ne se produirait pas en raison de l'impossibilité d'avoir l'avalanche de la jonction drain/base et donc d'obtenir la polarisation en direct de la jonction base/émetteur. Si l'on veut claquer le transistor 20, on connecte ensemble les plots 18 et 34 et on applique une rampe de tension positive sur le plot 35. Pour claquer le transistor 19, on applique une rampe de tension positive sur le plot 34 et on connecte le plot 18 à la masse.
On peut ainsi ajuster de façon reproductible et fiable un système de résistances en série de faible valeur grâce aux transistors MOS. Un transistor MOS non isolé occupe une surface beaucoup plus faible que celle occupée par un transistor MOS isolé, par exemple une surface de 7 μm sur 14 μm au lieu d'une surface de 40 μm sur 40 μm soit une division par 16 environ de la surface de silicium occupée. Le claquage des transistors MOS snap-back isolés est difficile à réaliser en raison de la présence d'un deuxième transistor bipolaire parasite dont le collecteur est formé par le drain du transistor MOS, l'émetteur par la source et la base par le bulk. Ce deuxième transistor parasite étant susceptible de dérober la majorité du courant que l'on envoie par un plot de claquage vers le drain du transistor MOS. Il en résulte que la résistance après claquage est susceptible de varier entre 100 Ohms et 1 k Ohms qui est à comparer à la résistance de 10 Ohms obtenue de façon reproductible lorsqu'on casse la structure MOS non isolée.
On entend ici par transistor MOS isolé un transistor MOS dont le substrat et la base sont séparés par une couche diélectrique. Les contraintes d'isolation verticale et surtout latérale poussent à utiliser des surfaces de silicium élevées pour augmenter les dimensions de la base et diminuer le gain du second transistor bipolaire parasite.
Sans exclure les transistors MOS isolés, on préfère plutôt utiliser des transistors MOS non isolés qui évitent la circulation de courants de fuite de la base vers le substrat. La base et le substrat sont au même potentiel. En outre, il est particulièrement avantageux de disposer la prise de base le plus près possible du drain pour des raisons de répartition des lignes de courant lors du claquage. La couche de base, de type P pour un transistor NMOS , peut être de forme annulaire ou non. Dans les deux cas, on disposera la prise de base, c'est à dire la sortie vers les niveaux de connexion, plus près du drain que de la source.
L'invention permet donc d'ajuster de façon précise et reproductible des résistances disposées en série et ce au moyen de transistors MOS économiques occupant une surface de silicium raisonnable.

Claims

REVENDICATIONS
1. Circuit électronique intégré comprenant une pluralité de transistors MOS , avec au moins un premier (19) et un deuxième (20) transistors MOS disposés en série, chaque transistor comprenant une grille et une source court-circuitées, et une base reliée à la masse du circuit intégré, caractérisé par le fait qu'il comprend une première résistante ( 15) montée parallèlement au premier transistor et une deuxième résistance (16) montée parallèlement au deuxième transistor.
2. Circuit selon la revendication 1, caractérisé par le fait qu'il comprend un troisième transistor (21) monté en série avec le premier et le deuxième transistors, et comprenant une grille et une source court circuitées, et une jonction de base reliée à la masse du circuit intégré.
3. Circuit selon la revendication 2, caractérisé par le fait qu'il comprend une troisième résistance (17) montée parallèlement au troisième transistor.
4. Circuit selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il comprend un plot de connexion (18) relié à la source du premier transistor et accessible après l'encapsulation du circuit.
5. Circuit selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il comprend un plot de connexion (34) relié à la source du deuxième transistor et non accessible après l'encapsulation du circuit et un plot de connexion (35) relié au drain du deuxième transistor et non- accessible après l'encapsulation du circuit.
6. Circuit selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que chaque transistor MOS occupe une surface inférieure à 500 m2, préférablement inférieure à 200 μm2.
7. Procédé d'ajustement de résistances électriques dans un circuit électronique intégré comprenant une pluralité de transistors MOS montés en série et chacun pourvu d'une résistance montée en parallèle, dans lequel on relie les bases des transistors MOS et on applique à un transistor MOS une première tension sur sa base, sa grille et sa source et une deuxième tension sur son drain afin de claquer ledit transistor MOS.
8. Procédé selon la revendication 7, dans lequel la première tension est constante et la deuxième tension est une rampe monotone.
9. Procédé selon la revendication 8, dans lequel la première tension est nulle et la deuxième tension est croissante.
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