WO1999033830A1 - Process for the preparation of heterobicyclic thiol compound - Google Patents

Process for the preparation of heterobicyclic thiol compound Download PDF

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WO1999033830A1
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formula
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general formula
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Toshifumi Akiba
Tatsuru Saito
Kazuaki Kanai
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Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd.
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    • C07D303/34Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by sulphur, selenium or tellurium atoms

Definitions

  • Ph represents a phenyl group
  • PMB represents a paramethoxybenzyl group
  • Et represents an ethyl group.
  • X ′ and X 3 each independently represent a halogen atom, and R ′ has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, and a substituent. Represents an optionally substituted triphenylmethyl group or an optionally substituted phenyl group.
  • the compound represented by the general formula (1) is converted to a compound represented by the general formula (1) in the presence of a base.
  • R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.
  • the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (5), which comprises reacting the compound represented by the general formula (4) with hydroxylamines.
  • the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (6) or a salt thereof, comprising reducing the compound represented by the general formula (5).
  • R 1 has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a group which has a substituent.
  • X 1 represents a halogen atom
  • X 1 represents a halogen atom.
  • R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.
  • the substituent R 1 is not particularly limited as long as it can serve as a protecting group for the mercapto group.
  • the protective group for the mercapto group include an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenyloxynyl group which may have a substituent, and a substituent.
  • an optionally substituted acyl group include an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, and a triphenylmethyl group which may have a substituent. .
  • an aralkyl group which may have a substituent and among them, an aralkyl group which may have a substituent in a phenyl group portion is preferable.
  • the aralkyl group include a benzyl group, a phenylethyl group, a methylbenzyl group, and a naphthylmethyl group, and a benzyl group is preferable.
  • the substituent on the phenyl group include an alkyl group, an alkoxyl group, a nitro group and a halogen atom.
  • the reaction temperature may range from -10 to 30 ° C, preferably from 0 to 10 ° C. Reaction times may range from 2 hours to 15 hours.
  • Compound (5) can be obtained by converting the nitrile group of compound (4) to an amide oxime group.
  • any solvent can be used as long as it is inert to the reaction, but ethanol is preferred.
  • the reaction is usually carried out by heating under reflux. Reaction times may range from 2 hours to 15 hours.
  • halogenoacetoaldehyde include those of the formula
  • Step of producing compound (9) from compound (8a) and / or compound (8b) By closing the ring of compound (8a) and / or compound (8b), compound (9) can be obtained .

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Abstract

A process for the preparation of the compound represented by chemical formulae (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8a, 8b, 9, 10) which is useful as a raw material for the preparation of antibiotics; and intermediates used for the preparation of the compound: wherein X?1 and X3¿ are each halogeno; and R1 is (substituted) aralkyl, (substituted) diphenylmethyl, (substituted) triphenylmethyl or (substituted) acyl.

Description

明細書  Specification
-環性複素環チオール化合物の製造方法 技術分野  For producing cyclic-heterocyclic thiol compounds
本発明は抗生物質として有用な式 ( 1 1 ) The present invention relates to a compound of formula (11) useful as an antibiotic.
Figure imgf000003_0001
Figure imgf000003_0001
で表される 3—メチルカルバぺネム誘導体の 3位置換基となる二環性複素環チォ ール化合物の製造方法及びその製造中間体に関するものである。 背景技術 The present invention relates to a method for producing a bicyclic heterocyclic thiol compound which is a 3-position substituent of a 3-methylcarbapanem derivative represented by the formula: and a production intermediate thereof. Background art
式 ( 1 1 ) で表される化合物 (特開平 2— 2 2 3 5 8 7号公報参照。 以下、 化 合物 ( 1 1 ) と表す。 また、 これ以外の化合物についても同様に表す。 ) は幅広 い抗菌スペク トルと高い抗菌活性、 さらに優れた安全性を有しており、 優れた抗 生物質として期待されている。 その構造上の特徴は、 3位の置換基として二環性 複素環置換基を有していることである。 この置換基の導入に必要な化合物 ( 1 0 ) は、 化合物 ( 1 2 ) を出発原料とする下記の製造工程を経て合成されていた ( 特開昭 6 2— 1 4 9 6 8 3号公報参照) 。  The compound represented by the formula (11) (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-235887. Hereinafter, the compound is represented by the compound (11). Other compounds are similarly represented.) Has a broad antibacterial spectrum, high antibacterial activity, and excellent safety, and is expected to be an excellent antibacterial substance. Its structural feature is that it has a bicyclic heterocyclic substituent as the 3-position substituent. The compound (10) required for the introduction of the substituent was synthesized through the following production process using the compound (12) as a starting material (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-1496983). See).
Figure imgf000003_0002
(式中、 P hはフヱニル基、 PMBはパラメ トキシベンジル基、 E tはェチル基 を表す。 )
Figure imgf000003_0002
(In the formula, Ph represents a phenyl group, PMB represents a paramethoxybenzyl group, and Et represents an ethyl group.)
上記の製造方法は、 光延反応を利用する工程があり、 この工程において生成物 の単離操作が非常に煩雑であることや、 反応原料や試薬類が比較的高価であり大 量入手が容易でないことなどから、 工業的製造方法としては改良の余地があつた o  The above-mentioned production method has a step of utilizing the Mitsunobu reaction, and in this step, the operation of isolating the product is extremely complicated, and the reaction raw materials and reagents are relatively expensive, so that it is not easy to obtain a large amount. Therefore, there is room for improvement as an industrial manufacturing method.o
また、 化合物 ( 1 3) を出発原料とする下記の製造方法も開発されたが (特開 平 9一 2 4 1 2 6 0号公報参照) 、 脱離基導入の工程が低収率であることや、 製 造中間体の多くが不安定かつ単離精製が困難であるなど、 工業的規模での実用性 に問題があった。  Further, the following production method using compound (13) as a starting material has also been developed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-241260), but the step of introducing a leaving group has a low yield. In addition, many of the production intermediates are unstable and difficult to isolate and purify.
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(式中、 M sはメタンスルホニル基、 A cはァセチル基を表す。 ) (In the formula, Ms represents a methanesulfonyl group, and Ac represents an acetyl group.)
本発明の目的は、 二環性複素環チオール化合物を得るための工業的に有利な製 造方法およびこの製造方法に有用な中間体化合物を提供することにある。 発明の開示  An object of the present invention is to provide an industrially advantageous production method for obtaining a bicyclic heterocyclic thiol compound and an intermediate compound useful for this production method. Disclosure of the invention
本発明者は鋭意研究を重ねた結果、 一般式 ( 1 ) で表される化合物を原料とし て、 次に示す工程に従って変換を行うことによって、 目的とする二環性複素環チ オール化合物 ( 1 0 ) を工業的に有利に製造できることを見いだし、 本発明を完 成した。 As a result of intensive studies, the inventor of the present invention obtained the desired bicyclic heterocyclic thiol compound (1) by converting the compound represented by the general formula (1) as a raw material according to the following steps. 0) can be industrially advantageously produced, and the present invention has been completed.
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(式中、 X ' および X 3 は各々独立にハロゲン原子を表し、 R ' は置換基を有し ていてもよいァラルキル基、 置換基を有していてもよいジフヱニルメチル基、 置 換基を有していてもよいトリフエニルメチル基または置換基を有していてもよい ァシル基を表す。 ) (In the formula, X ′ and X 3 each independently represent a halogen atom, and R ′ has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, and a substituent. Represents an optionally substituted triphenylmethyl group or an optionally substituted phenyl group.)
すなわち本発明は、 一般式 ( 1 )  That is, the present invention provides a compound represented by the general formula (1):
Figure imgf000005_0003
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(式中、 X 1 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 1 represents a halogen atom.)
で表される化合物を、 塩基存在下で一般式 In the presence of a base, a compound represented by the general formula
R1— SH R 1 — SH
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフエニルメチル基、 置換基を有していてもよい卜リフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) で表される化合物と反応させ、 一般式 (2) (Wherein, R 1 has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a group which has a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.) With the compound represented by the general formula (2)
FTS
Figure imgf000006_0001
X1 (2)
FTS
Figure imgf000006_0001
X 1 (2)
(式中、 R' および X' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'and X' are the same as defined above.)
で表される化合物とし、 この化合物を塩基存在下で閉環させて一般式 (3) A compound represented by the general formula (3)
o (3) o (3)
(式中、 R' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'is the same as defined above.)
で表される化合物とし、 次いでこの化合物をシァノ化試薬で処理して、 一般式 ( 4) And then treating the compound with a cyanating reagent to obtain a compound represented by the general formula (4)
R,S
Figure imgf000006_0002
CN (4)
R, S
Figure imgf000006_0002
CN (4)
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物とした後、 ヒ ドロキシルアミ ン類と反応させて、 一般式 (5) After reacting with a hydroxylamine, the compound represented by the general formula (5)
(5)(Five)
Figure imgf000006_0003
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(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) で表される化合物とし、 次いでこの化合物を還元して、 一般式 (6) (Wherein R 1 is as defined above.) And then reducing this compound to obtain a compound represented by the general formula (6)
Figure imgf000007_0001
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(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物またはその塩とした後、 塩基存在下で式 Or a salt thereof, and then in the presence of a base,
HO HO
(式中、 X2 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 2 represents a halogen atom.)
で表されるアルデヒ ド化合物またはその誘導体と反応させ、 一般式 (7 ) With an aldehyde compound or a derivative thereof represented by the following formula:
Figure imgf000007_0002
Figure imgf000007_0002
(式中、 R' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'is the same as defined above.)
で表される化合物とし、 次いでこの化合物をハロゲン化して、 一般式 (8 a) Then, the compound is halogenated to obtain a compound represented by the general formula (8a)
Figure imgf000007_0003
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(式中、 X:1 はハロゲン原子を表し、 R1 は先の定義と同じである。 ) で表される化合物および Zまたは一般式 (8 b) R,S (In the formula, X : 1 represents a halogen atom, and R 1 is the same as defined above.) And a compound represented by the general formula (8): R, S
(式中、 X3 および R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein X 3 and R 1 are as defined above.)
で表される化合物とした後、 閉環させて一般式 (9) The compound represented by the general formula (9)
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(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物として、 置換基 R' を脱離させることを特徴とする式 A compound represented by the formula: wherein the substituent R ′ is eliminated.
Figure imgf000008_0002
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で表される化合物の製造方法に関する。 And a method for producing the compound represented by the formula:
また、 一般式 ( 1 ) で表される化合物を、 塩基存在下で一般式  Further, the compound represented by the general formula (1) is converted to a compound represented by the general formula (1) in the presence of a base.
R1— SH R 1 — SH
(式中、 R' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (Wherein, R ′ is an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or Represents an optionally substituted acyl group. )
で表される化合物と反応させ、 一般式 (2 ) で表される化合物とし、 この化合物 を塩基存在下で閉環させて一般式 (3 ) で表される化合物とし、 次いでこの化合 物をシァノ化試薬で処理して、 一般式 (4) で表される化合物とした後、 ヒ ドロ キシルァミ ン類と反応させて、 一般式 (5 ) で表される化合物とし、 次いでこの 化合物を還元して、 一般式 (6 ) で表される化合物またはその塩とした後、 塩基 存在下で式 Reacting with the compound represented by the general formula (2) to form a compound represented by the general formula (2), and ring-closing this compound in the presence of a base to obtain a compound represented by the general formula (3). After treating with a reagent to form a compound represented by the general formula (4), the compound is reacted with hydroxylamines to form a compound represented by the general formula (5), and then the compound is reduced, After converting the compound represented by the general formula (6) or a salt thereof into a compound represented by the formula
Figure imgf000009_0001
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(式中、 X2 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 2 represents a halogen atom.)
で表されるアルデヒ ド化合物またはその誘導体と反応させることを特徴とする. 一般式 (7) で表される化合物の製造方法に関する。 And a derivative thereof. The present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (7).
さらに、 一般式 ( 1 ) で表される化合物を、 塩基存在下で一般式  Further, the compound represented by the general formula (1) is converted to a compound represented by the general formula (1) in the presence of a base.
R1— SH R 1 — SH
(式中、 R' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物と反応させることを特徴とする、 一般式 (2 ) で表される化合 物の製造方法に関する。 A method for producing a compound represented by the general formula (2), characterized by reacting with a compound represented by the following formula:
そして、 一般式 (2 ) で表される化合物を、 塩基存在下で閉環させることを特 徴とする、 一般式 (3) で表される化合物の製造方法に関する。  The present invention also relates to a method for producing a compound represented by the general formula (3), which comprises cyclizing the compound represented by the general formula (2) in the presence of a base.
あるいは一般式 (3) で表される化合物をシァノ化試薬で処理することを特徴 とする、 一般式 (4) で表される化合物の製造方法に関する。 Alternatively, the compound represented by the general formula (3) is treated with a cyanating reagent. And a method for producing the compound represented by the general formula (4).
また、 一般式 (4) で表される化合物を、 ヒ ドロキシルァミ ン類と反応させる ことを特徴とする、 一般式 (5) で表される化合物の製造方法に関する。  Further, the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (5), which comprises reacting the compound represented by the general formula (4) with hydroxylamines.
さらに、 一般式 (5) で表される化合物を還元することを特徴とする、 一般式 (6) で表される化合物またはその塩の製造方法に関する。  Further, the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (6) or a salt thereof, comprising reducing the compound represented by the general formula (5).
そして、 一般式 (6) で表される化合物またはその塩を、 塩基存在下で式  Then, the compound represented by the general formula (6) or a salt thereof is converted to a compound represented by the formula
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000010_0001
(式中、 X2 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 2 represents a halogen atom.)
で表されるアルデヒ ド化合物またはその誘導体と反応させることを特徴とする. 一般式 (7) で表される化合物の製造方法に関する。 And a derivative thereof. The present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (7).
また、 一般式 (2)  The general formula (2)
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Figure imgf000010_0002
(式中、 R1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよい卜リフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表し、 X1 はハロゲン原子を表す。 ) で 表される化合物に関する。 (Wherein, R 1 has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a group which has a substituent. X 1 represents a halogen atom, and X 1 represents a halogen atom.
さらに、 一般式 (3)
Figure imgf000010_0003
Furthermore, the general formula (3)
Figure imgf000010_0003
(式中、 R1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (Wherein, R 1 is an aralkyl group which may have a substituent, It represents a good diphenylmethyl group, a triphenylmethyl group which may have a substituent or an acyl group which may have a substituent. )
で表される化合物に関する。 With respect to the compound represented by
そして、 一般式 (4 )  And the general formula (4)
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0001
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよい卜リフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (Wherein, R 1 has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a group which has a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物に関する。 With respect to the compound represented by
あるいは、 一般式 (5 )  Or the general formula (5)
Figure imgf000011_0002
Figure imgf000011_0002
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物に関する。 With respect to the compound represented by
そして、 一般式 (6 )
Figure imgf000011_0003
And the general formula (6)
Figure imgf000011_0003
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ is an aralkyl group which may have a substituent, It represents a good diphenylmethyl group, a triphenylmethyl group which may have a substituent or an acyl group which may have a substituent. )
で表される化合物およびその塩に関する。 And a salt thereof.
(発明の実施の形態)  (Embodiment of the invention)
本願発明について説明する。  The present invention will be described.
まず、 本願製法で用いられる化合物の置換基について説明する。 First, the substituents of the compound used in the production method of the present invention will be described.
置換基 R 1 としてはメルカプト基の保護基としての役割を果たすことのできる 置換基であれば特に限定されない。 メルカプト基の保護基としては、 置換基を有 していてもよいァラルキル基、 置換基を有していてもよいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフ Xニルメチル基および置換基を有していてもよ いァシル基が挙げられる。 これらの中では、 置換基を有していてもよいァラルキ ル基、 置換基を有していてもよいジフヱニルメチル基、 または置換基を有してい てもよいトリフエニルメチル基が好ましい例として挙げられる。 特に好ましいも のとしては置換基を有していてもよいァラルキル基が挙げられ、 中でもフヱニル 基部分に置換基を有していてもよいァラルキル基が好ましい。 ァラルキル基とし ては、 ベンジル基、 フヱニルェチル基、 メチルベンジル基、 ナフチルメチル基等 が挙げられる力く、 ベンジル基が好ましい。 フエニル基上の置換基としては、 アル キル基、 アルコキシル基、 ニトロ基およびハロゲン原子を挙げることができ、 こ れらの 1種以上が、 1または 1以上置換していてよく、 例えば、 4ーメ トキシべ ンジル基、 4 —クロ口べンジル基、 4一二トロべンジル基、 2, 4—ジメ トキシ ベンジル基、 2, 4—ジクロルべンジル基、 2, 4 —ジニトロべンジル基、 2, 4, 6 —トリメチルベンジル基、 2, 4 , 6 —トリメ トキシベンジル基、 2, 4 , 6 _トリクロ口べンジル基および 2, 4, 6 — ト リニトロベンジル基を挙げる ことができる。 The substituent R 1 is not particularly limited as long as it can serve as a protecting group for the mercapto group. Examples of the protective group for the mercapto group include an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenyloxynyl group which may have a substituent, and a substituent. And an optionally substituted acyl group. Among these, preferred examples include an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, and a triphenylmethyl group which may have a substituent. . Particularly preferred are an aralkyl group which may have a substituent, and among them, an aralkyl group which may have a substituent in a phenyl group portion is preferable. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenylethyl group, a methylbenzyl group, and a naphthylmethyl group, and a benzyl group is preferable. Examples of the substituent on the phenyl group include an alkyl group, an alkoxyl group, a nitro group and a halogen atom. One or more of these may be substituted with one or more, for example, 4- Methoxybenzyl group, 4-cyclobutenyl group, 412 trobenzyl group, 2,4-dimethoxybenzyl group, 2,4-dichlorobenzyl group, 2,4-dinitrobenzyl group, 2 , 4, 6-trimethylbenzyl group, 2,4,6-trimethoxybenzyl group, 2,4,6_trichlorobenzyl group and 2,4,6-trinitrobenzyl group.
置換基 X ' は、 ハロゲン原子を表すが、 ハロゲン原子としては塩素原子が好ま しい。  The substituent X ′ represents a halogen atom, and a chlorine atom is preferred as the halogen atom.
次に本願発明の製造方法について説明する。  Next, the manufacturing method of the present invention will be described.
本願発明の製法は、 次の工程からなっている。  The manufacturing method of the present invention comprises the following steps.
1 . 化合物 ( 1 ) にアルキルチオ基を導入し、 化合物 (2 ) とする。 2. 化合物 (2) を閉環して化合物 (3) とする。 1. An alkylthio group is introduced into compound (1) to obtain compound (2). 2. Compound (2) is closed to give compound (3).
3. 化合物 (3) に二トリル基を導入し、 化合物 (4) とする。  3. A nitrile group is introduced into compound (3) to give compound (4).
4. 化合物 (4) の二トリル基をアミ ドキシム基に変換し、 化合物 (5) とする  4. Convert the nitrile group of compound (4) to an amide oxime group to obtain compound (5)
5. 化合物 (5) を還元して化合物 (6) とする。 5. Compound (5) is reduced to compound (6).
6. 化合物 (6) にアルデヒ ド化合物またはその誘導体を反応させてイミダゾー ル環を形成させ、 化合物 (7) とする。  6. The compound (6) is reacted with an aldehyde compound or a derivative thereof to form an imidazole ring, thereby obtaining a compound (7).
7. 化合物 (7) をハロゲン化試薬で処理し、 化合物 (8 a) および Zまたは化 合物 (8 b) とする。  7. Treat compound (7) with a halogenating reagent to give compound (8a) and Z or compound (8b).
8. 化合物 (8 a) および Zまたは化合物 (8 b) を閉環し、 化合物 (9) とす る。  8. Compound (8a) and Z or compound (8b) are closed to give compound (9).
9. 化合物 (9) の保護基を除去し、 化合物 ( 1 0) とする。  9. The protecting group of compound (9) is removed to obtain compound (10).
各工程について以下に詳細に説明する。  Each step will be described in detail below.
化合物 (1) から化合物 (2) を製造する工程 Step of producing compound (2) from compound (1)
化合物 (1 ) を、 塩基存在下でチオール化合物 (R' -SH) と反応させると 、 化合物 (2) に変換できる。  When the compound (1) is reacted with a thiol compound (R'-SH) in the presence of a base, the compound (1) can be converted to the compound (2).
反応原料となる化合物 (1 ) は、 市販のものを用いればよい。 なお、 化合物 ( 1 ) の光学活性体を用いると目的とする化合物 ( 1 0) が光学活性体として得ら れ  As the compound (1) as a reaction raw material, a commercially available compound may be used. When the optically active form of the compound (1) is used, the desired compound (10) can be obtained as an optically active form.
反応に用いるチオール化合物は化合物 (1 ) に対して 1から 2当量の範囲で使 用すればよい。  The thiol compound used in the reaction may be used in the range of 1 to 2 equivalents to compound (1).
使用する塩基としては、 ピリジン、 卜リエチルァミ ン、 DBU等の有機塩基、 水酸化ナ トリウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ トリウム、 炭酸力リウム等の無機塩 基を挙げることができるカ^ 好ましくは水酸化ナトリウムおよび炭酸力リウムで ある。 塩基の使用量は 1から 2当量用いればよい。  Examples of the base used include organic bases such as pyridine, triethylamine and DBU, and inorganic bases such as sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. Preferably, water is used. Sodium oxide and potassium carbonate. The amount of the base used may be 1 to 2 equivalents.
本反応は溶媒中で実施してもよく、 使用する溶媒は、 反応に対して不活性なも のであればいずれのものも使用可能であり、 例えばエタノール、 含水エタノール 、 アセ トン、 ジクロルメタン、 クロ口ホルム、 ジメチルホルムアミ ド等を挙げる ことができる。 このうちでは含水エタノールが好ましく、 含水エタノールの含水 率は 1 0 %から 5 0 %の範囲でよく、 好ましくは 3 0 %から 4 0 %の範囲である 。 溶媒は化合物 ( 1 ) に対して 1 5から 2 5倍量 (例えば、 化合物 (1 ) 1 gに 対して 1 5 m 1から 2 5 m lの割合で) 用いればよい。 This reaction may be carried out in a solvent, and any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, ethanol, aqueous ethanol, acetone, dichloromethane, chloroform Examples include form and dimethylformamide. Of these, hydrous ethanol is preferable, and hydrous ethanol The percentage can range from 10% to 50%, and preferably ranges from 30% to 40%. The solvent may be used in an amount of 15 to 25 times the amount of the compound (1) (for example, 15 ml to 25 ml per 1 g of the compound (1)).
反応温度は一 5 0でから 0 °Cの範囲でよく、 好ましくは一 2 0 °Cから一 1 0 °C である。 反応時間は通常、 0. 5時間から 2時間でよい。  Reaction temperatures may range from 150 to 0 ° C, preferably from 120 ° C to 110 ° C. The reaction time may be generally 0.5 to 2 hours.
化合物 (2) はシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー等で単離できる 力く、 化合物 (2) を単離精製することなく、 次の工程の反応を連続して行うこと ができる。  Compound (2) can be isolated by column chromatography using silica gel or the like, and the reaction of the next step can be performed continuously without isolating and purifying compound (2).
化合物 (2) から化合物 (3 ) を製造する工程 Step of producing compound (3) from compound (2)
化合物 (2) を、 塩基性条件下で処理すると、 脱ハロゲン化水素反応を伴う、 閉環反応が進行して化合物 (3 ) が得られる。  When the compound (2) is treated under basic conditions, a ring closure reaction involving a dehydrohalogenation reaction proceeds to obtain a compound (3).
使用する塩基としては、 ピリジン、 トリェチルァミン、 DBU等の有機塩基、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナト リウム、 炭酸力リゥム等の無機塩 基を挙げることができる力 好ましくは水酸化ナ卜リウムおよび炭酸力リウムで ある。 塩基の使用量は 1から 2当量用いればよい。  Examples of the base used include organic bases such as pyridine, triethylamine and DBU, and inorganic bases such as sodium hydroxide, hydroxide hydroxide, sodium carbonate, carbonate carbonate, and the like. Preferably, sodium hydroxide. And potassium carbonate. The amount of the base used may be 1 to 2 equivalents.
本反応は溶媒中で実施してもよく、 使用する溶媒は、 化合物 ( 1 ) から化合物 (2) を製造する工程で挙げたものと同じでよい。  This reaction may be carried out in a solvent, and the solvent used may be the same as that described in the step of producing compound (2) from compound (1).
反応温度は— 1 0 から 3 0 °Cの範囲でよく、 好ましくは 0 から 1 0 °Cであ る。 反応時間は 2時間から 1 5時間の範囲でよい。  The reaction temperature may range from -10 to 30 ° C, preferably from 0 to 10 ° C. Reaction times may range from 2 hours to 15 hours.
化合物 (3) はシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー等で単離できる カ^ 化合物 (3) を単離精製することなく、 次の工程の反応を連続して行うこと ができる。  Compound (3) can be isolated by column chromatography using silica gel, etc. The reaction in the next step can be performed continuously without isolating and purifying Compound (3).
なお、 化合物 ( 1 ) から化合物 (2) を製造した後、 連続して化合物 (3) を 製造する場合は、 化合物 (2) を製造した反応系がすでに塩基性であるので、 生 成した化合物 (2 ) を含む反応液の温度を上げることにより化合物 (3) を製造 することができる。  When compound (3) is produced continuously after producing compound (2) from compound (1), the reaction system that produced compound (2) is already basic, Compound (3) can be produced by raising the temperature of the reaction solution containing (2).
化合物 (3) から化合物 (4) を製造する工程  Step of producing compound (4) from compound (3)
化合物 (3) はシァノ化試薬で処理することにより化合物 (4) に変換するこ とができる。 本工程に使用するシァノ化試薬としてはシアン化ナトリウム、 シアン化力リゥ ム、 トリメチルシリルシアナイ ド等を挙げることができる力く、 好ましくはシアン 化力リウムであり、 使用量は 1から 2当量の範囲でよい。 Compound (3) can be converted to compound (4) by treating with a cyanating reagent. As the cyanating reagent used in this step, sodium cyanide, lithium cyanide, trimethylsilyl cyanide and the like are strong, preferably lithium cyanide, and the amount used is 1 to 2 equivalents. Range is fine.
反応温度は 1 0 °Cから 5 0 °Cの範囲が好ましい。 反応時間は 6時間から 2 4時 間の範囲でよい。  The reaction temperature is preferably in the range of 10 ° C to 50 ° C. Reaction times may range from 6 hours to 24 hours.
化合物 (4 ) はシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ一等で精製できる 力'、 化合物 (4 ) を単離精製することなく、 次の工程の反応に使用することがで きる。  The compound (4) can be used for the reaction of the next step without isolating and purifying the compound (4) without the need to isolate and purify the compound (4) by column chromatography using silica gel.
化合物 (4 ) から化合物 (5 ) を製造する工程 Step of producing compound (5) from compound (4)
化合物 (4 ) の二トリル基をアミ ドキシム基に変換することにより、 化合物 ( 5 ) を得ることができる。  Compound (5) can be obtained by converting the nitrile group of compound (4) to an amide oxime group.
変換のために用いる試薬としてはヒ ドロキシルァミン水溶液、 硫酸ヒ ドロキシ ルアンモニゥム、 塩酸ヒ ドロキシルアンモニゥム等を挙げることができる力く、 ヒ ドロキシルアミ ン水溶液が好適である。 試薬は化合物 (4 ) に対して 3から 1 0 当量の範囲で使用すればよい。 また、 アンモニゥム塩を用いるときは、 当量の塩 基が必要である。 塩基としては有機塩基または無機塩基のいずれでもよく、 ピリ ジン、 トリエチルァミン、 D B U、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リウム、 水酸化ナト リウム、 水酸化カリウム等を挙げることができる。  As the reagent used for the conversion, an aqueous solution of hydroxylamine, hydroxyammonium sulfate, hydroxyammonium hydrochloride and the like are strong, and an aqueous solution of hydroxylamine is preferred. The reagent may be used in the range of 3 to 10 equivalents to compound (4). When an ammonium salt is used, an equivalent amount of a base is required. The base may be either an organic base or an inorganic base, and examples thereof include pyridine, triethylamine, DBU, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like.
本反応に用いる溶媒は、 反応に対して不活性なものであればいずれのものも使 用可能であるが、 好ましくはエタノールを挙げることができる。 反応は通常加熱 還流で行う。 反応時間は 2時間から 1 5時間の範囲でよい。  As the solvent used in this reaction, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction, but ethanol is preferred. The reaction is usually carried out by heating under reflux. Reaction times may range from 2 hours to 15 hours.
化合物 (5 ) はシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー等で精製できる 、 化合物 (5 ) を単離精製することなく次の工程の反応に使用することができ o  The compound (5) can be purified by column chromatography using silica gel, etc. The compound (5) can be used in the next step reaction without isolation and purification o
化合物 (5 ) から化合物 (6 ) を製造する工程 Step of producing compound (6) from compound (5)
化合物 (5 ) は還元することにより、 化合物 (6 ) に変換することができる。 還元には、 触媒と水素源の存在下で加水素分解反応を行えばよい。  Compound (5) can be converted to compound (6) by reduction. For the reduction, a hydrogenolysis reaction may be performed in the presence of a catalyst and a hydrogen source.
触媒としてはパラジウム一炭素が好適である。 1 0 %パラジウム一炭素を用い る場合、 化合物 ( 5 ) の重量に対して 0 . 1から 0 . 2倍程度の重量の触媒を使 用すればよい。 また、 水素源としては水素ガス、 ギ酸等を挙げることができるがPalladium-carbon is preferred as the catalyst. When using 10% palladium on carbon, use a catalyst about 0.1 to 0.2 times the weight of compound (5). Just use it. Examples of the hydrogen source include hydrogen gas and formic acid.
、 水素ガスが好ましく、 通常、 水素ガスの圧力は 1気圧程度でよい。 Hydrogen gas is preferable, and the pressure of hydrogen gas may be about 1 atm.
本反応は通常溶媒中で実施するが、 使用する溶媒は、 反応に対して不活性なも のであればいずれのものも使用可能であるが、 好ましくはエタノールを挙げるこ とができる。 反応温度は室温程度でよい。 反応時間は 3時間から 1 5時間の範囲 でよいが、 通常は 3時間から 4時間程度で反応は終了する。  This reaction is usually carried out in a solvent, and any solvent can be used as long as it is inert to the reaction, and preferably ethanol can be used. The reaction temperature may be about room temperature. The reaction time may be in the range of 3 hours to 15 hours, but usually the reaction is completed in about 3 hours to 4 hours.
なお、 本反応を行う際に化合物 (5 ) のォキシム水酸基をァセチル化しておく と反応は速やかに進行する。 ァセチル化試薬としては無水酢酸が好ましく、 化合 物 (5 ) に対して 1から 2当量の範囲で使用する。 化合物 (5 ) をァセチル化し た後、 還元反応を行ってもよいが、 ァセチル化試薬を還元反応開始時に反応系内 に共存させておいてもよい。  In this reaction, if the oxime hydroxyl group of compound (5) is acetylated, the reaction proceeds rapidly. As the acetylating reagent, acetic anhydride is preferable, and it is used in the range of 1 to 2 equivalents to the compound (5). After the compound (5) is acetylated, the reduction reaction may be performed, but the acetylation reagent may be coexisted in the reaction system at the start of the reduction reaction.
化合物 (6 ) を塩として生成させる場合には、 酢酸、 ギ酸等の有機酸や塩酸等 の無機酸で処理することにより対応する塩を得ることできる。 生成した塩は単離 精製することができる。  When the compound (6) is formed as a salt, the corresponding salt can be obtained by treating with an organic acid such as acetic acid or formic acid or an inorganic acid such as hydrochloric acid. The resulting salt can be isolated and purified.
化合物 (6 ) またはその塩から化合物 (7 ) を製造する工程 Step of producing compound (7) from compound (6) or a salt thereof
化合物 (6 ) またはその塩は塩基存在下でハロゲノアセトアルデヒ ドまたはそ の誘導体と反応させることにより、 化合物 (7 ) を得ることができる。  Compound (7) can be obtained by reacting compound (6) or a salt thereof with halogenoacetoaldehyde or a derivative thereof in the presence of a base.
ハロゲノアセトアルデヒ ドの誘導体としては、 式  Derivatives of halogenoacetoaldehyde include those of the formula
Figure imgf000016_0001
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(式中、 X ' はハロゲン原子を表し、 Mはアルカリ金属を表す。 ) (In the formula, X ′ represents a halogen atom, and M represents an alkali metal.)
で表されるハロゲノアセ卜アルデヒ ド重亜硫酸のアル力リ金属塩を挙げることが できる。 And a halogenoacetyl aldehyde bisulfite metal salt represented by the following formula:
本工程では、 化合物 (6 ) に対してハロゲノアセトアルデヒ ドまたはその誘導 体を 1から 5当量の範囲で使用する。 In this step, compound (6) is reacted with halogenoacetoaldehyde or its derivative. Use the body in the range of 1 to 5 equivalents.
使用する塩基としては、 ピリジン、 トリェチルァミン、 炭酸カリウム、 水酸化 ナトリウム、 水酸化力リゥム、 水素化ナトリウム、 水素化カルシウム、 ナトリウ ムメ トキシド、 ナトリウムエトキシド、 カリウム一 t —ブトキシド、 D B U、 D a b c o等を挙げることができる力 化合物 (6 ) に対して 3から 1 0当量の範 囲で使用すればよい。  As the base to be used, pyridine, triethylamine, potassium carbonate, sodium hydroxide, hydroxide hydroxide, sodium hydride, calcium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium butoxide, DBU, Dabco, etc. The force that can be used may be used in the range of 3 to 10 equivalents to compound (6).
本反応に用いる溶媒は、 反応に対して不活性なものであればいずれのものも使 用可能である力く、 好ましくはジクロルメタン、 クロ口ホルム、 1, 2—ジクロル ェタン等の塩素系溶媒、 ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ド等のアミ ド類、 ジメチルスルホキンド等のスルホキシド類、 ァセトニトリル等の二トリル 類を挙げることができる。 溶媒は化合物 (6 ) に対して 3 0から 1 0 0倍量 (例 えば、 化合物 ( 6 ) 1 gに対して 3 0 m 1から 1 0 0 m 1の割合で) 用いればよ い。  As the solvent used in this reaction, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction. Preferably, a chlorinated solvent such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, or the like, Examples thereof include amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethylsulfokinde, and nitriles such as acetonitrile. The solvent may be used in an amount of 30 to 100 times the amount of the compound (6) (for example, 30 to 100 ml of 1 g of the compound (6)).
反応温度は室温程度から 8 0 °Cの範囲で行えばよく、 好ましくは 2 0 °Cから 3 0 °Cの範囲である。 反応時間は通常、 1 5時間から 7 2時間の範囲である。  The reaction temperature may be in the range of about room temperature to 80 ° C, preferably in the range of 20 ° C to 30 ° C. Reaction times typically range from 15 hours to 72 hours.
化合物 (7 ) はシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー等で単離するこ とができる。  Compound (7) can be isolated by column chromatography using silica gel or the like.
化合物 (7 ) から化合物 (8 a ) および/または化合物 (8 b ) を製造する工程 化合物 (7 ) をハロゲン化試薬で処理すると、 化合物 (8 a ) および Zまたは 化合物 (8 b ) を得ることができる。 Step of producing compound (8a) and / or compound (8b) from compound (7) When compound (7) is treated with a halogenating reagent, compound (8a) and Z or compound (8b) are obtained. Can be.
ハロゲン化試薬としては、 塩化チォニル、 臭化チォニル、 塩化スルフリル等が 使用できるが、 塩化チォニルを用いるのが好ましい。 ハロゲン化試薬は化合物 ( As the halogenating reagent, thionyl chloride, thionyl bromide, sulfuryl chloride and the like can be used, but it is preferable to use thionyl chloride. The halogenating reagent is a compound (
7 ) に対し 1当量から 2当量の範囲で使用する。 Use in the range of 1 to 2 equivalents to 7).
反応は溶媒中で実施してもよく、 使用する溶媒としては、 クロ口ホルム、 塩化 メチレン、 1, 1—ジクロルェタン、 1, 2—ジクロルエタン等を用いることが できるが、 これら単一の溶媒にジェチルェ一テルを加えて反応を行うのが好まし い。  The reaction may be carried out in a solvent. As the solvent used, chloroform, methylene chloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane and the like can be used. It is preferable to carry out the reaction by adding one ter.
反応は 0 °Cから 4 0 °Cの範囲で行うことができるが、 2 0 °Cから 3 0 °Cの範囲 で行うことが好ましい。 反応は 1時間から 5時間で終了する。 化合物 (7) のハロゲン化反応によって得られる主成績体は化合物 (8 a) で あり、 この他に化合物 (8 b) が副成績体として得られてくる場合もある。 これ らの化合物 (8 a) および化合物 (8 b) はいずれも閉環体化合物である化合物 (9) を与える。 従って、 これらは分離精製することなく次の工程で使用するこ とができる。 The reaction can be carried out in the range of 0 ° C to 40 ° C, but is preferably carried out in the range of 20 ° C to 30 ° C. The reaction is completed in 1 to 5 hours. The main product obtained by the halogenation reaction of compound (7) is compound (8a), and in addition, compound (8b) may be obtained as an auxiliary product. Each of these compounds (8a) and (8b) gives compound (9) which is a closed-ring compound. Therefore, they can be used in the next step without separation and purification.
化合物 (8 a) および/または化合物 (8 b) から化合物 (9) を製造する工程 化合物 (8 a) および/または化合物 (8 b) を閉環することにより、 化合物 (9) を得ることができる。 Step of producing compound (9) from compound (8a) and / or compound (8b) By closing the ring of compound (8a) and / or compound (8b), compound (9) can be obtained .
閉環反応は化合物 (8 a) および/または化合物 (8 b) をヨウ化ナトリウム 存在下に加熱するか、 あるいは適当な塩基の存在下で実施すればよい。 これらの うちでは塩基の存在下で閉環させるのが好ましい。 ここで使用できる塩基として は炭酸カリウム、 水素化ナトリウム、 カリウム一 tーブトキサイ ド、 ト リェチル ァミン、 水酸化ナトリウム等が使用できる力 これらのうちでは水素化ナトリウ ム、 カリウム— t—ブトキサイ ド、 水酸化ナトリウムが好ましい。 塩基は化合物 (8 a) および/または化合物 (8 b) に対し、 1当量から 2当量の範囲で使用 すればよい。  The ring closure reaction may be carried out by heating compound (8a) and / or compound (8b) in the presence of sodium iodide or in the presence of a suitable base. Of these, ring closure is preferably performed in the presence of a base. Bases that can be used here include potassium carbonate, sodium hydride, potassium monobutoxide, triethylamine, sodium hydroxide, etc. Among these, sodium hydride, potassium-t-butoxide, hydroxide Sodium is preferred. The base may be used in the range of 1 equivalent to 2 equivalents based on compound (8a) and / or compound (8b).
この閉環反応は溶媒中で実施してもよく、 使用する溶媒としては、 塩化メチレ ン、 1, 1ージクロルェタン、 1, 2—ジクロルェタン (これらは塩基を使用し ない場合。 ) 、 ァセ トニトリル、 ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスルホキシ ド 等が使用できるが、 ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスルホキシドが好ましい。 使用する溶媒量は化合物 (8 a) および Zまたは化合物 (8 b) に対して 1 0か ら 2 0倍量 (例えば、 化合物 (8 a) および/または化合物 (8 b) 1 gに対し て 1 0 m 1から 2 0 m 1の割合で) 用いればよい。 化合物 ( 9 ) はシリカゲルを 用いたカラムクロマトにより精製することができる。  This ring closure reaction may be carried out in a solvent. Examples of the solvent used include methylene chloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane (when these do not use a base), acetonitrile, and dimethyl. Formamide, dimethyl sulfoxide and the like can be used, but dimethyl formamide and dimethyl sulfoxide are preferred. The amount of solvent used is 10 to 20 times the amount of compound (8a) and Z or compound (8b) (for example, 1 g of compound (8a) and / or 1 g of compound (8b). (At a rate of 10 m 1 to 20 m 1). Compound (9) can be purified by column chromatography using silica gel.
化合物 (9) から化合物 (1 0) を製造する工程 Step of producing compound (10) from compound (9)
化合物 (9) から保護基 R1 を脱離することにより化合物 ( 1 0) を得ること ができる。 Compound (9) Compound by leaving the protective group R 1 from (1 0) can be obtained.
この工程は保護基 R1 に応じて通常用いられる反応条件を選択すればよい。 例 えば、 酸による分解反応等を挙げることができる。 発明を実施するための最良の形態 In this step, reaction conditions usually used may be selected according to the protecting group R 1 . For example, a decomposition reaction by an acid and the like can be mentioned. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
次に、 実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、 本発明はこれに限定される ものではない。 なお、 化合物 (7) から化合物 ( 1 0) までの製造の具体例は特 開平 9 _ 3 2 3 9 9 4号公報を参照。  Next, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. For specific examples of the production of the compound (7) to the compound (10), see JP-A-9-329394.
[実施例 1 ]  [Example 1]
4— (4ーメ 卜キシベンジルチオ) 一 3—ヒ ドロキシ一ブチロニトリル  4- (4-methoxybenzylthio) 1-3-hydroxy-butyronitrile
ェピクロロヒ ドリ ン (5 0 0 mg, 5. 4 0 mmo 1 ) と 4—メ トキシべンジ ルチオ一ル ( 8 5 0 mg, 5. 5 1 mm 0 1 ) をエタノール ( 1 0 m 1 ) に溶解 し、 — 1 7°Cに冷却した。 水酸化ナトリウム (2 6 O mg, 6. 5 0 mmo 1 ) を水 ( 1. 5 m l ) に溶解した溶液を 1 5分かけて滴下した。 このとき内温を一 1 0°C以下に保った。 次いで内温 0°Cで 3時間撹拌した後、 シアン化カリウム ( Dissolve Epichlorohydrin (500 mg, 5.40 mmo 1) and 4-Methoxybenzylthiol (850 mg, 5.51 mm 01) in ethanol (10 m 1) And — cooled to 17 ° C. A solution of sodium hydroxide (26 mg, 6.50 mmo 1) dissolved in water (1.5 ml) was added dropwise over 15 minutes. At this time, the internal temperature was kept at 110 ° C or lower. Then, after stirring at an internal temperature of 0 ° C for 3 hours, potassium cyanide (
7 0 0 mg, 1 0. 7 mmo 1 ) を加え、 室温で 1. 5時間、 更に 5 0 °Cで 1.700 mg, 10.7 mmo 1), add 1.5 hours at room temperature, and then add 1.
5時間撹拌した。 反応液を氷水に注加し、 酢酸ェチルで抽出した。 酢酸ェチル層 を水と飽和食塩水で洗浄し、 硫酸ナト リウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られ た残留物をシリ力ゲルク口マトグラフィー (Me r c k A r t 7 7 3 4 ; 3 0 g ; クロ口ホルム) に付し, 標記の化合物 (8 7 2 mg, 収率 6 8 %) を得た。 I R (KB r— d i s k) ; 3 4 6 0, 2 9 1 6, 2 8 3 6, 2 2 5 2, 1 6 1 0, 1 5 1 0, 1 3 0 0, 1 2 4 6, 1 1 7 6, 1 0 2 8 cm"1. Stir for 5 hours. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The resulting residue was subjected to gel chromatography on a silica gel (Merck Art 734; 30 g; black form) to give the title compound (872 mg, yield 68%). Obtained. IR (KB r—disk); 3 4 6 0, 2 9 16, 2 8 3 6, 2 2 5 2 7 6, 1 0 2 8 cm " 1 .
MS (m/ z ) ; 2 3 7, 1 5 3, 1 2 1. MS (m / z); 2 3 7, 1 5 3, 1 2 1.
Ή-NMR (CD C 13) δ ; 7. 2 3 (d, 2 H, J = 8. 6 H z ) , 6. Ή-NMR (CD C 13) δ; 7.23 (d, 2 H, J = 8.6 H z), 6.
8 7 (d, 2 H, J = 8. 6 H z) , 3. 8 8 (m, 1 H) , 3. 8 1 (s, 3 H) , 3. 7 1 (s, 2 H) , 2. 7 0 (d d, 1 H, J = 1 3. 9 a n d 4. 6 H z ) , 2. 6 1 (d d, 1 H, J = 1 6. 5 a n d 5. 6 H z ) , 2. 5 5 (d d, 1 H, J = 1 3. 9 a n d 7. 9 H z ) , 2. 5 4 (d d , 1 H, J = 1 6. 5 a n d 5, 9 H z) . 8 7 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 3.88 (m, 1 H), 3.81 (s, 3 H), 3.71 (s, 2 H), 2.70 (dd, 1H, J = 13.9 and 4.6Hz), 2.61 (dd, 1H, J = 16.5 and 5.6Hz), 2. 5 5 (dd, 1 H, J = 13.9 and 7.9 Hz), 2.54 (dd, 1 H, J = 16.5 and 5, 9 Hz).
[実施例 2 ]  [Example 2]
3— ( 4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ドロキシ一 1一 [ァミ ノ (ヒ ドロキ シィ ミノ) メチル プロパン 4 - ( 4ーメ トキシベンジルチオ) 一 3—ヒ ドロキシ一ブチロ二トリル (3 5 6 mg, 1. 5 mmo 1 ) をェタノール ( 3. 6m l ) に溶解し、 5 0 %ヒ ドロ キシルァミ ン水溶液 (4 9 5 mg, 7. 5 mmo 1 ) を加えた。 2時間加熱還流 した後、 5 0 %ヒ ドロキシルァミ ン水溶液 (4 9 5 mg, 7. 5 mmo l ) を追 加し、 更に 1 3時間加熱還流した。 エタノールを留去した後、 1規定塩酸と酢酸 ェチルを加え、 振盪後、 分液した。 水層に飽和重曹水を加えてアルカリ性にし, 酢酸ェチルで抽出した。 酢酸ェチル層を水と飽和食塩水で洗浄し、 硫酸ナトリウ ムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー (Me r c k A r t 7 7 3 4 ; 1 0 g ; メタノール/クロ口ホルム = 5 / 9 5) に付し, 標記の化合物 (3 3 8 mg, 収率 8 3 %) を得た。 3- (4-Methoxybenzylthio) 1 2—Hydroxy 1-11 [Amino (hydroximino) methyl propane 4-(4-Methoxybenzylthio) 1-3-hydroxy-butyronitrile (356 mg, 1.5 mmo 1) was dissolved in ethanol (3.6 ml), and 50% hydroxyxylamine was dissolved. An aqueous solution (495 mg, 7.5 mmo 1) was added. After heating under reflux for 2 hours, a 50% aqueous solution of hydroxylamine (495 mg, 7.5 mmol) was added, and the mixture was further heated under reflux for 13 hours. After the ethanol was distilled off, 1N hydrochloric acid and ethyl acetate were added, and the mixture was shaken and separated. The aqueous layer was made alkaline with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography (Mercck Art 7334; 10 g; methanol / chloroform / form = 5/95) to give the title compound (338 mg, yield 8). 3%).
I R (KB r - d i s k) ; 3 3 5 4, 2 9 1 2, 2 8 4 1 , 1 6 5 8, 1 6 0 8, 1 5 1 2, 1 3 0 2, 1 2 4 6, 1 1 7 6, 1 0 3 4 cm 1. IR (KB r-disk); 3 3 5 4, 2 9 1 2, 2 8 4 1, 1 6 5 8, 1 6 0 8, 1 5 1 2, 1 3 0 2, 1 2 4 6, 1 1 7 6, 1 0 3 4 cm 1 .
MS (mZz) ; 2 7 0, 2 1 5, 1 4 9, 1 2 1. MS (mZz); 27 0, 2 15, 1 49, 1 2 1.
Ή-NMR (CDC 13) δ ; 7. 2 1 (d, 2 H, J = 8. 6 H z) , 6. 8 4 (d, 2 H, J = 8. 6 H z ) , 3. 8 9 (m, 1 H) , 3. 7 9 (s, 3 H) , 3. 6 8 (s, 2 H) , 2. 6 0 (d d, 1 H, J = 1 3. 9 a n d 4. 6 H z) , 2. 4 9 (d d, 1 H, J = 1 3. 9 a n d 7. 9 H z) , 2. 3 8 (d d, 1 H, J = 1 4. 8 a n d 3. 3 H z ) , 2. 2 4 (d d , 1 H, J = 1 4. 8 a n d 7. 9 H z ) . Ή-NMR (CDC 1 3) δ; 7. 2 1 (d, 2 H, J = 8. 6 H z), 6. 8 4 (d, 2 H, J = 8. 6 H z), 3. 8 9 (m, 1 H), 3.79 (s, 3 H), 3.68 (s, 2 H), 2.60 (dd, 1 H, J = 13.9 and 4. 6 Hz), 2.49 (dd, 1 H, J = 13.9 and 7.9 Hz), 2.38 (dd, 1 H, J = 14.8 and 3.3 H) z), 2.24 (dd, 1H, J = 14.8 and 7.9Hz).
[実施例 3 ]  [Example 3]
3 - (4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ドロキシ一 1—ァミ ジノプロパン一 3- (4-Methoxybenzylthio) 1 2-hydroxy 1 1-Amidinopropane
•¾a酸 • ¾a acid
3— ( 4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ドロキシ一 1— [ァミ ノ (ヒ ドロ キシィ ミ ノ) メチル] プロパン ( 1. 3 5 g, 5. 0 mm 0 1 ) をエタノール ( 3- (4-Methoxybenzylthio) 1-2-hydroxy-1-1- [amino (hydroxymino) methyl] propane (1.35 g, 5.0 mm 01) in ethanol (
4 0m l ) に溶解し、 無水酢酸 ( 0. 5 1 g, 5. 0 mmo 1 ) と 1 0 %パラジ ゥムー炭素を加え、 水素気流下室温にて 4時間撹拌した。 触媒をろ去後、 室温撹 拌下ろ液に 1規定塩酸エタノール溶液 ( 1 0 m l ) を加え、 溶媒を留去した。 得 られた結晶性残留物をエタノールと酢酸ェチルから再結晶し、 標記の化合物 (1Acetic anhydride (0.51 g, 5.0 mmo 1) and 10% paradigm carbon were added, and the mixture was stirred at room temperature under a hydrogen stream for 4 hours. After removing the catalyst by filtration, 1N hydrochloric acid ethanol solution (10 ml) was added to the filtrate while stirring at room temperature, and the solvent was distilled off. The obtained crystalline residue was recrystallized from ethanol and ethyl acetate to give the title compound (1
. 3 0 g, 収率 8 9 %) を得た。 I R CKB r— d i s k) ; 3 2 9 0, 3 0 6 4, 1 6 7 6, 1 6 0 8, 1 5 1 2, 1 3 0 6, 1 2 4 0, 1 1 7 8, 1 0 3 4 cm—'. 30 g, 89% yield). IR CKB r- disk); 3290, 3 06 4, 16 7 6, 16 08, 15 15 12, 13, 06, 12 04, 11, 78, 10 03 4 cm— '.
MS (m/z) ; 2 5 5, 2 2 4, 1 2 1. MS (m / z); 2 5, 5, 2 4, 1 2 1.
Ή-NMR (D20) 5 ; 6. 9 5 (d, 2 H, J - 8. 6 H z) , 6. 6 0 (d, 2 H, J = 8. 6 H z) , 3. 6 2 (m, 1 H) , 3. 4 4 (s, 3 H) , 3. 4 0 (s, 2 H) , 2. 3 5 (d d, 1 H, J = 1 4. 5 a n d 4. 0 H z) , 2. 2 5 (d d, 1 H, J = 1 6. 5 a n d 5. 6 H z) , 2. 5 5 (d, 2 H, J = 5. 9 H z) , 2. 1 5 (d d, 1 H, J = 1 4. 5 a n d 9. 0 H z) . Ή-NMR (D 2 0) 5; 6.95 (d, 2 H, J-8.6 Hz), 6.60 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 3. 6 2 (m, 1 H), 3.44 (s, 3 H), 3.40 (s, 2 H), 2.35 (dd, 1 H, J = 14.5 and 4. 0 Hz), 2.25 (dd, 1 H, J = 16.5 and 5.6 Hz), 2.55 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 2. 1 5 (dd, 1 H, J = 14.5 and 9.0 Hz).
元素分析 (C12HI 9N202S C 1 として) Elemental analysis (as C 12 H I 9 N 2 0 2 SC 1)
理論値; C : 4 9. 5 6, H : 6. 5 8, N: 9. 6 3, C 1 : 1 2. 1 9, S : 1 1. 0 3 Theoretical value; C: 49.56, H: 6.58, N: 9.63, C1: 12.19, S: 11.03
測定値; C : 4 9. 4 1, H: 6. 7 9, N: 9. 6 7, C 1 : 1 2. 1 6, S : 1 1. 5 2 Measured value; C: 49.41, H: 6.79, N: 9.67, C1: 12.16, S: 1.1.52
[実施例 4 ]  [Example 4]
3— (4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ドロ—キシ一 1一 ( 2—イ ミダゾィル ) プロパン  3- (4-Methoxybenzylthio) 1-2-Hydroxy-1-1 (2-I-midazolyl) propane
3— (4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ドロキシ _ 1一アミ ジノプロパン 一塩酸塩 ( 1 4 5 mg, 0. 5 mmo 1 ) をジメチルスルホキシ ド (4. 2 m l ) に溶解し、 1, 8—ジァザビシクロ [ 5, 4 , 0 ] — 7—ゥンデセン (2 2 8 m g, 1. 5 mmo 1 ) 、 次いでクロロアセトアルデヒ ド重亜硫酸ナトリウム ( 1 8 3 mg, 1. 0 mmo 1 ) を加え、 室温で 8時間撹拌した。 更にクロロアセ 卜アルデヒ ド重亜硫酸ナトリウム ( 1 8 3 mg, 1. 0 mmo 1 ) を追加し、 室 温で 1 6時間撹拌した。 反応液を氷水に注加し、 水酸化ナトリウム水溶液を加え 、 酢酸ェチルで 3回抽出した。 酢酸ェチル層を水と飽和食塩水で洗浄し、 硫酸ナ トリウムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残留物をシリカゲルクロマトグラ フィ一 (Me r c k A r t 7 7 3 4 ; 6 g ; メタノール Zクロ口ホルム = 5 /9 5) に付し, 標記の化合物 (8 6. 2 mg, 収率 5 2 %) を得た。  3- (4-Methoxybenzylthio) -l-hydroxyl-l-amidinopropane monohydrochloride (145 mg, 0.5 mmol) was dissolved in dimethylsulfoxide (4.2 ml). 1,8-diazabicyclo [5,4,0] —7-ndecene (2 28 mg, 1.5 mmo 1) followed by sodium chloroacetoaldehyde bisulfite (183 mg, 1.0 mmo 1) The mixture was stirred at room temperature for 8 hours. Further, sodium chloroacetaldehyde sodium bisulfite (183 mg, 1.0 mmo 1) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. The reaction solution was poured into ice water, an aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was extracted three times with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography (Merck Art 734; 6 g; methanol Z-cloth form = 5/95) to give the title compound (86.2 mg, yield Rate of 52%).
Ή-NMR (C D C 1 3) 5 ; 7. 2 0 (d, 2 H, J = 8. 8 H z) , 6. 9 5 (s, 2 H) , 6. 8 4 (d, 2 H, J = 8. 8 H z) , 3. 9 9 (m, 1 H) , 3. 8 0 (s, 3 H) , 3. 6 8 (s, 2 H) , 3. 0 3 (d d, 1 H, J = 1 5. 1 a n d 2. 9 H z) , 2. 8 2 (d d, 1 H, J = 1 5. 1 a n d 7. 8 H z ) , 2. 6 0 (d d, 1 H, J = 1 3. 7 a n d 4. 9 H z) , 2. 4 6 (d d, 1 H, J = 1 3. 7 a n d 8. 3 H z) . Ή-NMR (CDC 1 3) 5; 7. 2 0 (d, 2 H, J = 8. 8 H z), 6. 9 5 (s, 2 H), 6.84 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 3.99 (m, 1 H), 3.80 (s, 3 H), 3.68 (s, 2H), 3.03 (dd, 1H, J = 15.1 and 2.9Hz), 2.82 (dd, 1H, J = 15. 1 and 7.8 Hz), 2.60 (dd, 1 H, J = 1 3.7 and 4.9 Hz), 2.46 (dd, 1 H, J = 1 3.7 and 8.3 Hz).
[実施例 5 ]  [Example 5]
3 - (4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ド口キシ一 1一 ( 2—イ ミダゾィル ) プロパン  3- (4-Methoxybenzylthio) 1-2-Hydrox1-1-1 (2-imidazolyl) propane
3— ( 4—メ トキシベンジルチオ) 一 2—ヒ ドロキシ _ 1—アミ ジノプロパン 一塩酸塩 (5 8 1. 6 mg, 2. 0 mm o 1 ) を 1 5 %含水ァセトニトリル ( 3- (4-Methoxybenzylthio) 1-2-hydroxy_1-amidinopropane monohydrochloride (581.6 mg, 2.0 mmo1) in 15% aqueous acetonitrile (58%)
2 0 m 1 ) に溶解し、 炭酸カリウム ( 8 2 9. 2 mg, 6. O mmo l ) 、 次い でブロモアセトアルデヒ ド (7 3 7. 7 mg, 6. 0 mm o 1 ) を加え、 室温で20 ml), add potassium carbonate (829.2 mg, 6.0 mmol), and then add bromoacetoaldehyde (737.7 mg, 6.0 mmol). At room temperature
3 6時間撹拌した。 反応液を氷水に注加し、 水酸化ナトリウム水溶液を加え、 酢 酸ェチルで 3回抽出した。 酢酸ェチル層を水と飽和食塩水で洗浄し、 硫酸ナトリ ゥムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィ - (Me r c k A r t 7 7 3 4 ; 6 g ; メタノール/クロ口ホルム = 5 / 9 5 ) に付し, 標記の化合物 ( 3 9 0. 0 mg, 収率 7 0 %) を得た。 The mixture was stirred for 36 hours. The reaction solution was poured into ice water, an aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was extracted three times with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography-(Merc Art 773 4; 6 g; methanol / chloroform = 5/95) to give the title compound (390.0 mg, yield). 70%).
NMRは実施例 4のものと一致した。 産業上の利用可能性  NMR was consistent with that of Example 4. Industrial applicability
本発明の製造方法は、 安価な試薬を用いて、 不安定な中間体を経ることなく収 率よく目的とする化合物 ( 1 0) を得られる製法である。  The production method of the present invention is a production method in which an inexpensive reagent can be used to obtain the desired compound (10) with good yield without passing through an unstable intermediate.

Claims

l . 一般式 ( i ) l. General formula (i)
0、 0,
X1 (1) X 1 (1)
口一-青 の  Mouth-blue
(式中、 X1 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 1 represents a halogen atom.)
で表される化合物を、 塩基存在下で一般式 In the presence of a base, a compound represented by the general formula
R1-SH R 1 -SH
(式中、 R' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物と反応させ、 一般式 (2) With the compound represented by the general formula (2)
Figure imgf000023_0001
Figure imgf000023_0001
(式中、 R' および X1 は先の定義と同じである。 ) (Where R 'and X 1 are the same as defined above.)
で表される化合物とし、 この化合物を塩基存在下で閉環させて一般式 (3)
Figure imgf000023_0002
A compound represented by the general formula (3)
Figure imgf000023_0002
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) で表される化合物とし、 次いでこの化合物をシァノ化試薬で処理して、 一般式 ((Wherein R 1 is as defined above.) And then treating the compound with a cyanating reagent to obtain a compound represented by the general formula (
4) Four)
Figure imgf000024_0001
Figure imgf000024_0001
(式中、 R' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'is the same as defined above.)
で表される化合物とした後、 ヒ ドロキシルァミ ン類と反応させて、 一般式 (5) After reacting with a compound represented by the general formula (5)
Figure imgf000024_0002
Figure imgf000024_0002
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物とし、 次いでこの化合物を還元して、 一般式 (6) And then reducing this compound to obtain a compound represented by the general formula (6)
Figure imgf000024_0003
Figure imgf000024_0003
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物またはその塩とした後、 塩基存在下で式 Or a salt thereof, and then in the presence of a base,
X 2 X 2
ノ CHO  No Cho
(式中、 X2 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 2 represents a halogen atom.)
で表される化合物またはその誘導体と反応させ、 一般式 (7 )
Figure imgf000025_0001
Reacting with a compound represented by the formula or a derivative thereof;
Figure imgf000025_0001
(式中、 R' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'is the same as defined above.)
で表される化合物とし、 次いでこの化合物をハロゲン化して、 一般式 (8 a) Then, the compound is halogenated to obtain a compound represented by the general formula (8a)
Figure imgf000025_0002
Figure imgf000025_0002
(式中、 X3 はハロゲン原子を表し、 R' は先の定義と同じである。 ) で表される化合物および/または一般式 (8 b) (Wherein X 3 represents a halogen atom, and R ′ is the same as defined above.) And / or a general formula (8b)
Figure imgf000025_0003
Figure imgf000025_0003
(式中、 X3 および R' は先の定義と同じである。 ) (Wherein X 3 and R ′ are the same as defined above.)
で表される化合物とした後、 閉環させて一般式 (9) The compound represented by the general formula (9)
Figure imgf000025_0004
Figure imgf000025_0004
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物として、 置換基 R' を脱離させることを特徴とする式
Figure imgf000026_0001
で表される化合物の製造方法。
A compound represented by the formula: wherein the substituent R ′ is eliminated.
Figure imgf000026_0001
A method for producing a compound represented by the formula:
2. 一般式 ( 1 )  2. General formula (1)
0、 "1 (1) 0, "1 (1)
(式中、 X' はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X ′ represents a halogen atom.)
で表される化合物を、 塩基存在下で一般式 In the presence of a base, a compound represented by the general formula
R1— SH R 1 — SH
(式中、 R' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物と反応させ、 一般式 (2) With the compound represented by the general formula (2)
Figure imgf000026_0002
Figure imgf000026_0002
(式中、 R' および X' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'and X' are the same as defined above.)
で表される化合物とし、 この化合物を塩基存在下で閉環させて一般式 (3)  A compound represented by the general formula (3)
R1S、 ズ? (3) (式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) R 1 S, Z? (3) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物とし、 次いでこの化合物をシァノ化試薬で処理して、 一般式 ( 4) And then treating the compound with a cyanating reagent to obtain a compound represented by the general formula (4)
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000027_0001
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物とした後、 ヒ ドロキシルァミ ン類と反応させて、 一般式 (5) After reacting with a compound represented by the general formula (5)
Figure imgf000027_0002
Figure imgf000027_0002
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein, R 1 is the same as defined above.)
で表される化合物とし、 次いでこの化合物を還元して、 一般式 (6) And then reducing this compound to obtain a compound represented by the general formula (6)
Figure imgf000027_0003
Figure imgf000027_0003
(式中、 R1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物またはその塩とした後、 塩基存在下で式 Or a salt thereof, and then in the presence of a base,
X 2 CHO X 2 CHO
(式中、 X2 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X 2 represents a halogen atom.)
で表される化合物またはその誘導体と反応させることを特徴とする一般式 ( 7 ) (7) A compound represented by the general formula (7): (7)
R,S  R, S
(式中、 R ' は先の定義と同じである。 ) (Where R 'is the same as defined above.)
で表される化合物の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula:
3 . 一般式 ( 1 )  3. General formula (1)
0 0
X, (1)  X, (1)
(式中、 X ' はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, X ′ represents a halogen atom.)
で表される化合物を、 塩基存在下で一般式 In the presence of a base, a compound represented by the general formula
R1— SH R 1 — SH
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group or a substituent which may have a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物と反応させることを特徴とする、 一般式 (2 ) A compound represented by the general formula (2):
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000028_0001
で表される化合物の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula:
4 . 一般式 (2 ) 4. General formula (2)
Figure imgf000029_0001
Figure imgf000029_0001
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表し、 X 1 はハロゲン原子を表す。 ) で 表される化合物を、 塩基存在下で閉環させることを特徴とする、 一般式 (3 ) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Wherein X 1 represents a halogen atom, and X 1 represents a halogen atom.) The compound represented by the formula:
O O
(3)  (3)
(式中、 R ' は先の定義と同じである。 ) (Where R 'is the same as defined above.)
で表される化合物の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula:
5 . 一般式 ( 3 )  5. General formula (3)
0 0
R'S、 I (3)  R'S, I (3)
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよい卜リフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a group which has a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物をシァ ノ化試薬で処理することを特徴とする、 一般式 (4 )
Figure imgf000030_0001
Wherein the compound represented by the formula is treated with a cyanating reagent;
Figure imgf000030_0001
(式中、 R ' は先の定義と同じである。 ) (Where R 'is the same as defined above.)
で表される化合物の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula:
6 . 一般式 ( 4 )  6. General formula (4)
Figure imgf000030_0002
Figure imgf000030_0002
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group or a substituent which may have a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物を、 ヒ ドロキシルァミ ン類と反応させることを特徴とする、 一 般式 (5 ) Wherein the compound represented by the general formula (5) is reacted with a hydroxyamine.
R,SR, S
Figure imgf000030_0003
Figure imgf000030_0003
(式中、 R 1 は先の定義と同じである。 ) (Wherein R 1 is as defined above.)
で表される化合物の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula:
7 . 一般式 ( 5 )
Figure imgf000031_0001
7. General formula (5)
Figure imgf000031_0001
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよい卜リフエニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group or a substituent which may have a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物を還元することを特徴とする、 一般式 (6 ) A compound represented by the general formula (6):
Figure imgf000031_0002
Figure imgf000031_0002
(式中、 R ' は先の定義と同じである。 ) (Where R 'is the same as defined above.)
で表される化合物またはその塩の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula: or a salt thereof.
8 . 一般式 ( 6 )  8. General formula (6)
Figure imgf000031_0003
Figure imgf000031_0003
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物またはその塩を、 塩基存在下で式
Figure imgf000032_0001
In the presence of a base, a compound represented by the formula
Figure imgf000032_0001
(式中、 χ2 はハロゲン原子を表す。 ) (In the formula, χ 2 represents a halogen atom.)
で表されるアルデヒ ド化合物またはその誘導体と反応させることを特徴とする. 一般式 ( 7 ) Characterized by reacting with an aldehyde compound represented by or a derivative thereof. General formula (7)
(7)(7)
Figure imgf000032_0002
Figure imgf000032_0002
(式中、 R' は先の定義と同じである。 ) (In the formula, R 'is the same as defined above.)
で表される化合物の製造方法。 A method for producing a compound represented by the formula:
9. アルデヒ ド化合物の誘導体が式  9. Derivatives of aldehyde compounds have the formula
Figure imgf000032_0003
Figure imgf000032_0003
(式中、 X4 はハロゲン原子を表し、 Mはアルカリ金属を表す。 ) (In the formula, X 4 represents a halogen atom, and M represents an alkali metal.)
で表される化合物である請求項 8に記載の製造方法。 9. The production method according to claim 8, which is a compound represented by the formula:
1 0. 一般式 (2)  1 0. General formula (2)
Figure imgf000032_0004
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表し、 X ' はハロゲン原子を表す。 ) で 表される化合物。
Figure imgf000032_0004
(In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a substituent. X ′ represents a halogen atom, and X ′ represents a halogen atom.
1 1 . 一般式 ( 3 )  1 1. General formula (3)
, /。 (3) , /. (3)
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフエニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (Wherein, R 1 has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group which has a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物。 A compound represented by the formula:
1 2 . 一般式 ( 4 )  1 2. General formula (4)
Figure imgf000033_0001
Figure imgf000033_0001
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group or a substituent which may have a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物。 A compound represented by the formula:
1 3 . 一般式 (5 )
Figure imgf000034_0001
1 3. General formula (5)
Figure imgf000034_0001
(式中、 R ' は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよいトリフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R ′ represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group or a substituent which may have a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物。 A compound represented by the formula:
1 4 . 一般式 ( 6 )  1 4. General formula (6)
Figure imgf000034_0002
Figure imgf000034_0002
(式中、 R 1 は置換基を有していてもよいァラルキル基、 置換基を有していても よいジフヱニルメチル基、 置換基を有していてもよい卜リフヱニルメチル基また は置換基を有していてもよいァシル基を表す。 ) (In the formula, R 1 has an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent or a group which has a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.)
で表される化合物およびその塩。 And a salt thereof.
1 5 . 一般式 (9 ) で表される化合物を得る閉環反応の条件が、 一般式 (8 a ) で表される化合物および Zまたは一般式 (8 b ) で表される化合物を塩基の存 在下で処理する、 またはヨウ化ナトリウム存在下で加熱する反応条件である請求 項 1の製造方法。  15. The conditions for the ring closure reaction to obtain the compound represented by the general formula (9) are as follows: 2. The method according to claim 1, wherein the reaction is carried out in the presence or heating conditions in the presence of sodium iodide.
1 6 . ヒ ドロキシルアミ ン類がヒ ドロキシルアミ ン水溶液、 硫酸ヒ ドロキシル アンモニゥムまたは塩酸ヒ ドロキシルアンモニゥムである請求項 1、 請求項 2ま たは請求項 6の製造方法。  16. The method according to claim 1, 2 or 6, wherein the hydroxylamine is an aqueous hydroxylamine solution, hydroxylammonium sulfate or hydroxylammonium hydrochloride.
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