JPH11193285A - Production of bicyclic heterocyclic thiol compound - Google Patents

Production of bicyclic heterocyclic thiol compound

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JPH11193285A
JPH11193285A JP9360298A JP36029897A JPH11193285A JP H11193285 A JPH11193285 A JP H11193285A JP 9360298 A JP9360298 A JP 9360298A JP 36029897 A JP36029897 A JP 36029897A JP H11193285 A JPH11193285 A JP H11193285A
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JP
Japan
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compound
substituent
group
general formula
defined above
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JP9360298A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshifumi Akiba
敏文 秋葉
Ritsu Saito
立 齋藤
Kazuaki Kanai
和昭 金井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D487/04Ortho-condensed systems
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    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/34Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by sulphur, selenium or tellurium atoms

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing, industrially advantageously, the subject compound useful as a substituent for excellent antibiotics by converting an inexpensive stock compound without through an unstable intermediate. SOLUTION: This compound shown by formula VIII is obtained in high yield through steps of (1) reacting a compound shown by formula I (X<1> is a halogen) with a compound shown by the formula; R<1> -SH [R<1> is a (substituted) aralkyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl or acyl] in the presence of a base, (2) treating the product of the above step (1) in the presence of a base to open its ring into a compound shown by formula II, (3) treating the compound shown by formula II with a reagent for producing a cyano compound into a compound shown by formula III, (4) reacting the compound shown by formula III with a hydroxylamine to form a compound shown by formula IV, (5) reducing the compound shown by formula IV and reacting the product with a compound shown by formula V (X<2> is a halogen) or its derivative to form a compound shown by formula VI, (6) halogenating the compound shown by formula VI and treating it close its ring into a compound shown by formula VII, and (7) eliminating the group R<1> from the compound shown by formula VII.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は抗生物質として有用な式
(11)
The present invention relates to a compound of formula (11) useful as an antibiotic.

【0002】[0002]

【化45】 で表されるβ−メチルカルバペネム誘導体の3位置換基
となる二環性複素環チオール化合物の製造方法及びその
製造中間体に関するものである。
Embedded image The present invention relates to a method for producing a bicyclic heterocyclic thiol compound which is a 3-position substituent of a β-methylcarbapenem derivative represented by the formula:

【0003】[0003]

【従来の技術】式(11)で表される化合物(特開平2
−223587号公報参照。以下、化合物(11)と表
す。また、これ以外の化合物についても同様に表す。)
は幅広い抗菌スペクトルと高い抗菌活性、さらに優れた
安全性を有しており、優れた抗生物質として期待されて
いる。その構造上の特徴は、3位の置換基として二環性
複素環置換基を有していることである。この置換基の導
入に必要な化合物(10)は、化合物(12)を出発原
料とする下記の製造工程を経て合成されていた(特開昭
62−149683号公報参照)。
2. Description of the Related Art A compound represented by the formula (11)
See -223587. Hereinafter, it is represented as compound (11). In addition, other compounds are similarly represented. )
Has a broad antibacterial spectrum, high antibacterial activity, and excellent safety, and is expected to be an excellent antibiotic. Its structural feature is that it has a bicyclic heterocyclic substituent as the 3-position substituent. The compound (10) required for the introduction of the substituent has been synthesized through the following production process using the compound (12) as a starting material (see JP-A-62-149683).

【0004】[0004]

【化46】 (式中、Phはフェニル基、PMBはパラメトキシベン
ジル基、Etはエチル基を表す。) 上記の製造方法は、光延反応を利用する工程があり、こ
の工程において生成物の単離操作が非常に煩雑であるこ
とや、反応原料や試薬類が比較的高価であり大量入手が
容易でないことなどから、工業的製造方法としては改良
の余地があった。
Embedded image (In the formula, Ph represents a phenyl group, PMB represents a paramethoxybenzyl group, and Et represents an ethyl group.) The above-mentioned production method includes a step utilizing the Mitsunobu reaction, and in this step, the operation of isolating the product is extremely difficult. In addition, there is room for improvement as an industrial production method because the reaction materials and reagents are relatively expensive and mass acquisition is not easy.

【0005】また、化合物(13)を出発原料とする下
記の製造方法も開発されたが(特開平9−241260
号公報参照)、脱離基導入の工程が低収率であること
や、製造中間体の多くが不安定かつ単離精製が困難であ
るなど、工業的規模での実用性に問題があった。
The following production method using compound (13) as a starting material has also been developed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-241260).
Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-157, and the process of introducing a leaving group is low in yield, and many of the production intermediates are unstable and difficult to isolate and purify. .

【0006】[0006]

【化47】 (式中、Msはメタンスルホニル基、Acはアセチル基
を表す。)
Embedded image (In the formula, Ms represents a methanesulfonyl group, and Ac represents an acetyl group.)

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、二環
性複素環チオール化合物を得るための工業的に有利な製
造方法およびこの製造方法に有用な中間体化合物を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an industrially advantageous production method for obtaining a bicyclic heterocyclic thiol compound and an intermediate compound useful in this production method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究を重
ねた結果、一般式(1)で表される化合物を原料とし
て、次に示す工程に従って変換を行うことによって、目
的とする二環性複素環チオール化合物(10)を工業的
に有利に製造できることを見いだし、本発明を完成し
た。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventor has conducted a conversion according to the following steps using a compound represented by the general formula (1) as a raw material to obtain a desired bicyclic compound. The present inventors have found that the heterocyclic thiol compound (10) can be produced industrially advantageously, and have completed the present invention.

【0009】[0009]

【化48】 Embedded image

【0010】(式中、XおよびXは各々独立にハロ
ゲン原子を表し、Rは置換基を有していてもよいアラ
ルキル基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル
基、置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基ま
たは置換基を有していてもよいアシル基を表す。) すなわち本発明は、一般式(1)
(Wherein X 1 and X 3 each independently represent a halogen atom, R 1 is an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, Represents a triphenylmethyl group which may have a group or an acyl group which may have a substituent.) That is, the present invention provides a compound represented by the general formula (1)

【0011】[0011]

【化49】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表される化合
物を、塩基存在下で一般式
Embedded image (Wherein X 1 represents a halogen atom) in the presence of a base,

【0012】[0012]

【化50】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物と反応させ、一般式(2)
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an acyl group which may be substituted with a compound represented by the general formula (2)

【0013】[0013]

【化51】 (式中、RおよびXは先の定義と同じである。)で
表される化合物とし、この化合物を塩基存在下で閉環さ
せて一般式(3)
Embedded image (Wherein R 1 and X 1 are the same as defined above), and the compound is subjected to ring closure in the presence of a base to obtain a compound represented by the general formula (3):

【0014】[0014]

【化52】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物をシアノ化試薬で処理し
て、一般式(4)
Embedded image (Wherein R 1 is the same as defined above), and then the compound is treated with a cyanating reagent to give a compound of the general formula (4)

【0015】[0015]

【化53】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とした後、ヒドロキシルアミン類と反応させて、一
般式(5)
Embedded image (Wherein R 1 is the same as defined above), and then reacted with hydroxylamines to obtain a compound of the general formula (5)

【0016】[0016]

【化54】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物を還元して、一般式(6)
Embedded image (Wherein R 1 is the same as defined above), and the compound is reduced to obtain a compound represented by the general formula (6)

【0017】[0017]

【化55】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物またはその塩とした後、塩基存在下で式
Embedded image (Wherein R 1 is the same as defined above) or a salt thereof, and then in the presence of a base,

【0018】[0018]

【化56】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表されるアル
デヒド化合物またはその誘導体と反応させ、一般式
(7)
Embedded image (Wherein X 2 represents a halogen atom), and a aldehyde compound represented by the general formula (7):

【0019】[0019]

【化57】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物をハロゲン化して、一般式
(8a)
Embedded image (Wherein R 1 is the same as defined above), and the compound is halogenated to give a compound of the general formula (8a)

【0020】[0020]

【化58】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは先の定義と
同じである。)で表される化合物および/または一般式
(8b)
Embedded image (Wherein X 3 represents a halogen atom and R 1 is the same as defined above) and / or a compound of the general formula (8b)

【0021】[0021]

【化59】 (式中、XおよびRは先の定義と同じである。)で
表される化合物とし、次いで閉環させて一般式(9)
Embedded image (Wherein X 3 and R 1 are the same as defined above), followed by ring closure to obtain a compound of the general formula (9)

【0022】[0022]

【化60】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とした後、置換基Rを脱離させることを特徴とす
る式
Embedded image (Wherein R 1 is the same as defined above), and after removing a substituent R 1 , a compound represented by the formula:

【0023】[0023]

【化61】 で表される化合物の製造方法に関する。Embedded image And a method for producing the compound represented by the formula:

【0024】また、一般式(1)で表される化合物を、
塩基存在下で一般式
Further, the compound represented by the general formula (1) is
General formula in the presence of a base

【0025】[0025]

【化62】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物と反応させ、一般式(2)で表される化合物と
し、この化合物を塩基存在下で閉環させて一般式(3)
で表される化合物とし、次いでこの化合物をシアノ化試
薬で処理して、一般式(4)で表される化合物とした
後、ヒドロキシルアミン類と反応させて、一般式(5)
で表される化合物とし、次いでこの化合物を還元して、
一般式(6)で表される化合物またはその塩とした後、
塩基存在下で式
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. With a compound represented by the general formula (2), and the compound is subjected to ring closure in the presence of a base to form a compound represented by the general formula (3):
Then, the compound is treated with a cyanating reagent to give a compound represented by the general formula (4), and then reacted with hydroxylamines to obtain a compound represented by the general formula (5)
And then reducing this compound,
After the compound represented by the general formula (6) or a salt thereof,
Formula in the presence of a base

【0026】[0026]

【化63】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表されるアル
デヒド化合物またはその誘導体と反応させ、一般式
(7)で表される化合物とし、次いでこの化合物をハロ
ゲン化することを特徴とする、一般式(8a)で表され
る化合物および/または一般式(8b)で表される化合
物の製造方法に関する。
Embedded image (Wherein, X 2 represents a halogen atom). The compound is reacted with an aldehyde compound or a derivative thereof to obtain a compound represented by the general formula (7), and then the compound is halogenated. And a method for producing a compound represented by the general formula (8a) and / or a compound represented by the general formula (8b).

【0027】さらに、一般式(1)で表される化合物
を、塩基存在下で一般式
Further, the compound represented by the general formula (1) is reacted with the compound represented by the general formula (1) in the presence of a base.

【0028】[0028]

【化64】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物と反応させることを特徴とする、一般式(2)で
表される化合物の製造方法に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And a compound represented by the general formula (2):

【0029】そして、一般式(2)で表される化合物
を、塩基存在下で閉環させることを特徴とする、一般式
(3)で表される化合物の製造方法に関する。
The present invention also relates to a method for producing a compound represented by the general formula (3), which comprises closing the compound represented by the general formula (2) in the presence of a base.

【0030】あるいは一般式(3)で表される化合物を
シアノ化試薬で処理することを特徴とする、一般式
(4)で表される化合物の製造方法に関する。
Alternatively, the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (4), comprising treating the compound represented by the general formula (3) with a cyanating reagent.

【0031】また、一般式(4)で表される化合物を、
ヒドロキシルアミン類と反応させることを特徴とする、
一般式(5)で表される化合物の製造方法に関する。
Further, the compound represented by the general formula (4) is
Characterized by reacting with hydroxylamines,
The present invention relates to a method for producing the compound represented by the general formula (5).

【0032】さらに、一般式(5)で表される化合物を
還元することを特徴とする、一般式(6)で表される化
合物またはその塩の製造方法に関する。
Further, the present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (6) or a salt thereof, which comprises reducing the compound represented by the general formula (5).

【0033】そして、一般式(6)で表される化合物ま
たはその塩を、塩基存在下で式
Then, the compound represented by the general formula (6) or a salt thereof is converted to a compound represented by the formula

【0034】[0034]

【化65】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表されるアル
デヒド化合物またはその誘導体と反応させることを特徴
とする、一般式(7)で表される化合物の製造方法に関
する。
Embedded image (Wherein X 2 represents a halogen atom). A method for producing a compound represented by the general formula (7), characterized by reacting with an aldehyde compound represented by the following formula:

【0035】また、一般式(2)The general formula (2)

【0036】[0036]

【化66】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表し、Xはハロゲ
ン原子を表す。)で表される化合物に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And X 1 represents a halogen atom.).

【0037】さらに、一般式(3)Further, the general formula (3)

【0038】[0038]

【化67】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an acyl group which may be substituted).

【0039】そして、一般式(4)Then, the general formula (4)

【0040】[0040]

【化68】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an acyl group which may be substituted).

【0041】あるいは、一般式(5)Alternatively, the general formula (5)

【0042】[0042]

【化69】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an acyl group which may be substituted).

【0043】そして、一般式(6)Then, the general formula (6)

【0044】[0044]

【化70】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物およびその塩に関する。
Embedded image (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And a salt thereof.

【0045】[0045]

【発明の実施の形態】本願発明について説明する。ま
ず、本願製法で用いられる化合物の置換基について説明
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described. First, the substituents of the compound used in the production method of the present application will be described.

【0046】置換基Rとしてはメルカプト基の保護基
としての役割を果たすことのできる置換基であれば特に
限定されない。メルカプト基の保護基としては、置換基
を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していて
もよいジフェニルメチル基、置換基を有していてもよい
トリフェニルメチル基および置換基を有していてもよい
アシル基が挙げられる。これらの中では、置換基を有し
ていてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい
ジフェニルメチル基、または置換基を有していてもよい
トリフェニルメチル基が好ましい例として挙げられる。
特に好ましいものとしては置換基を有していてもよいア
ラルキル基が挙げられ、中でもフェニル基に置換基を有
していてもよいアラルキル基が好ましい。アラルキル基
としては、ベンジル基、フェニルエチル基、メチルベン
ジル基、ナフチルメチル基等が挙げられるが、ベンジル
基が好ましい。フェニル基上の置換基としては、アルキ
ル基、アルコキシル基、ニトロ基およびハロゲン原子を
挙げることができ、これらの1種以上が、1または1以
上置換していてよく、例えば、4−メトキシベンジル
基、4−クロロベンジル基、4−ニトロベンジル基、
2,4−ジメトキシベンジル基、2,4−ジクロルベン
ジル基、2,4−ジニトロベンジル基、2,4,6−ト
リメチルベンジル基、2,4,6−トリメトキシベンジ
ル基、2,4,6−トリクロロベンジル基および2,
4,6−トリニトロベンジル基を挙げることができる。
The substituent R 1 is not particularly limited as long as it can serve as a protecting group for the mercapto group. Examples of the protecting group for the mercapto group include an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, and a substituent. And an acyl group which may be present. Among these, preferred examples include an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, and a triphenylmethyl group which may have a substituent. .
Particularly preferred are aralkyl groups which may have a substituent, among which aralkyl groups which may have a substituent on a phenyl group are preferred. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenylethyl group, a methylbenzyl group, and a naphthylmethyl group, and a benzyl group is preferable. Examples of the substituent on the phenyl group include an alkyl group, an alkoxyl group, a nitro group, and a halogen atom. One or more of these may be substituted with one or more, such as a 4-methoxybenzyl group. , 4-chlorobenzyl group, 4-nitrobenzyl group,
2,4-dimethoxybenzyl group, 2,4-dichlorobenzyl group, 2,4-dinitrobenzyl group, 2,4,6-trimethylbenzyl group, 2,4,6-trimethoxybenzyl group, 2,4 6-trichlorobenzyl group and 2,
A 4,6-trinitrobenzyl group can be mentioned.

【0047】置換基Xは、ハロゲン原子を表すが、ハ
ロゲン原子としては塩素原子が好ましい。
The substituent X 1 is a halogen atom, the halogen atom is preferably a chlorine atom.

【0048】次に本願発明の製造方法について説明す
る。本願発明の製法は、次の工程からなっている。 1.化合物(1)にアルキルチオ基を導入し、化合物
(2)とする。 2.化合物(2)を閉環して化合物(3)とする。 3.化合物(3)にニトリル基を導入し、化合物(4)
とする。 4.化合物(4)のニトリル基をアミドキシム基に変換
し、化合物(5)とする。 5.化合物(5)を還元して化合物(6)とする。 6.化合物(6)にアルデヒド化合物またはその誘導体
を反応させてイミダゾール環を形成させ、化合物(7)
とする。 7.化合物(7)をハロゲン化試薬で処理し、化合物
(8a)および/または化合物(8b)とする。 8.化合物(8a)および/または化合物(8b)を閉
環し、化合物(9)とする。 9.化合物(9)の保護基を除去し、化合物(10)と
する。
Next, the manufacturing method of the present invention will be described. The manufacturing method of the present invention includes the following steps. 1. An alkylthio group is introduced into compound (1) to obtain compound (2). 2. Compound (2) is closed to give compound (3). 3. Compound (3) is obtained by introducing a nitrile group into compound (4).
And 4. The nitrile group of the compound (4) is converted into an amidoxime group to obtain a compound (5). 5. Compound (5) is reduced to compound (6). 6. The compound (6) is reacted with an aldehyde compound or a derivative thereof to form an imidazole ring.
And 7. Compound (7) is treated with a halogenating reagent to give compound (8a) and / or compound (8b). 8. Compound (8a) and / or compound (8b) are closed to form compound (9). 9. The protecting group of compound (9) is removed to obtain compound (10).

【0049】各工程について以下に詳細に説明する。Each step will be described in detail below.

【0050】化合物(1)から化合物(2)を製造する
工程 化合物(1)を、塩基存在下でチオール化合物(R
SH)と反応させると、化合物(2)に変換できる。
Compound (2) is prepared from compound (1)
Step Compound (1) is reacted with a thiol compound (R 1-
When reacted with SH), it can be converted to compound (2).

【0051】反応原料となる化合物(1)は、市販のも
のを用いればよい。なお、化合物(1)の光学活性体を
用いると目的とする化合物(10)が光学活性体として
得られる。
As the compound (1) as a reaction raw material, a commercially available compound may be used. When the optically active form of the compound (1) is used, the target compound (10) is obtained as an optically active form.

【0052】反応に用いるチオール化合物は化合物
(1)に対して1から2当量の範囲で使用すればよい。
The thiol compound used in the reaction may be used in the range of 1 to 2 equivalents based on compound (1).

【0053】使用する塩基としては、ピリジン、トリエ
チルアミン、DBU等の有機塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無
機塩基を挙げることができるが、好ましくは水酸化ナト
リウムおよび炭酸カリウムである。塩基の使用量は1か
ら2当量用いればよい。
As the base to be used, organic bases such as pyridine, triethylamine and DBU, sodium hydroxide,
Inorganic bases such as potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate can be mentioned, and preferred are sodium hydroxide and potassium carbonate. The base may be used in an amount of 1 to 2 equivalents.

【0054】本反応は溶媒中で実施してもよく、使用す
る溶媒は、反応に対して不活性なものであればいずれの
ものも使用可能であり、例えばエタノール、含水エタノ
ール、アセトン、ジクロルメタン、クロロホルム、ジメ
チルホルムアミド等を挙げることができる。このうちで
は含水エタノールが好ましく、含水エタノールの含水率
は10%から50%の範囲でよく、好ましくは30%か
ら40%の範囲である。溶媒は化合物(1)に対して1
5から25倍量(例えば、化合物(1)1gに対して1
5mlから25mlの割合で)用いればよい。
This reaction may be carried out in a solvent, and any solvent may be used as long as it is inert to the reaction. For example, ethanol, hydrous ethanol, acetone, dichloromethane, Chloroform, dimethylformamide and the like can be mentioned. Among them, hydrous ethanol is preferred, and the water content of the hydrous ethanol may be in the range of 10% to 50%, preferably in the range of 30% to 40%. The solvent is 1 for compound (1).
5 to 25-fold amount (for example, 1 to 1 g of compound (1)
5 to 25 ml).

【0055】反応温度は−50℃から0℃の範囲でよ
く、好ましくは−20℃から−10℃である。反応時間
は通常、0.5時間から2時間でよい。
The reaction temperature may range from -50 ° C to 0 ° C, preferably from -20 ° C to -10 ° C. The reaction time may be generally from 0.5 hours to 2 hours.

【0056】化合物(2)はシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフィー等で単離できるが、化合物(2)を
単離精製することなく、次の工程の反応を連続して行う
ことができる。
The compound (2) can be isolated by column chromatography using silica gel or the like, but the reaction in the next step can be carried out continuously without isolating and purifying the compound (2).

【0057】化合物(2)から化合物(3)を製造する
工程 化合物(2)を、塩基性条件下で処理すると、脱ハロゲ
ン化水素反応を伴う、閉環反応が進行して化合物(3)
が得られる。
Compound (3) is prepared from compound (2)
Step When the compound (2) is treated under basic conditions, a ring-closing reaction accompanied by a dehydrohalogenation reaction proceeds to produce a compound (3)
Is obtained.

【0058】使用する塩基としては、ピリジン、トリエ
チルアミン、DBU等の有機塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無
機塩基を挙げることができるが、好ましくは水酸化ナト
リウムおよび炭酸カリウムである。塩基の使用量は1か
ら2当量用いればよい。
As the base to be used, organic bases such as pyridine, triethylamine and DBU, sodium hydroxide,
Inorganic bases such as potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate can be mentioned, and preferred are sodium hydroxide and potassium carbonate. The base may be used in an amount of 1 to 2 equivalents.

【0059】本反応は溶媒中で実施してもよく、使用す
る溶媒は、化合物(1)から化合物(2)を製造する工
程で使用するものと同じでよい。
This reaction may be carried out in a solvent, and the solvent used may be the same as that used in the step of producing compound (2) from compound (1).

【0060】反応温度は−10℃から30℃の範囲でよ
く、好ましくは0℃から10℃である。反応時間は2時
間から15時間の範囲でよい。
The reaction temperature may range from -10 ° C to 30 ° C, preferably from 0 ° C to 10 ° C. Reaction times may range from 2 hours to 15 hours.

【0061】化合物(3)はシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフィー等で単離できるが、化合物(3)を
単離精製することなく、次の工程の反応を連続して行う
ことができる。
The compound (3) can be isolated by column chromatography using silica gel or the like, but the reaction in the next step can be carried out continuously without isolating and purifying the compound (3).

【0062】なお、化合物(1)から化合物(2)を製
造した後、連続して化合物(3)を製造する場合は、化
合物(2)を製造した反応系がすでに塩基性であるの
で、生成した化合物(2)を含む反応液の温度を上げる
ことにより化合物(3)を製造することができる。
When the compound (3) is produced continuously after the production of the compound (2) from the compound (1), the reaction system for producing the compound (2) is already basic, The compound (3) can be produced by raising the temperature of the reaction solution containing the compound (2).

【0063】化合物(3)から化合物(4)を製造する
工程 化合物(3)はシアノ化試薬で処理することにより化合
物(4)に変換することができる。
Compound (4) is produced from compound (3)
Step Compound (3) can be converted to compound (4) by treating with a cyanating reagent.

【0064】本工程に使用するシアノ化試薬としてはシ
アン化ナトリウム、シアン化カリウム、トリメチルシリ
ルシアナイド等を挙げることができるが、好ましくはシ
アン化カリウムであり、使用量は1から2当量の範囲で
よい。
Examples of the cyanating reagent used in this step include sodium cyanide, potassium cyanide, and trimethylsilyl cyanide. Preferably, potassium cyanide is used, and the amount used may be in the range of 1 to 2 equivalents.

【0065】反応温度は20℃から50℃の範囲が好ま
しい。反応時間は6時間から24時間の範囲でよい。
The reaction temperature is preferably in the range of 20 ° C. to 50 ° C. Reaction times may range from 6 hours to 24 hours.

【0066】化合物(4)はシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフィー等で精製できるが、化合物(4)を
単離精製することなく、次の工程の反応に使用すること
ができる。
The compound (4) can be purified by column chromatography using silica gel or the like, but the compound (4) can be used in the next step without isolation and purification.

【0067】化合物(4)から化合物(5)を製造する
工程 化合物(4)のニトリル基をアミドキシム基に変換する
ことにより、化合物(5)を得ることができる。
Compound (5) is produced from compound (4)
Step Compound (5) can be obtained by converting the nitrile group of compound (4) to an amidoxime group.

【0068】変換のために用いる試薬としてはヒドロキ
シルアミン水溶液、硫酸ヒドロキシルアンモニウム、塩
酸ヒドロキシルアンモニウム等を挙げることができる
が、ヒドロキシルアミン水溶液が好適である。試薬は化
合物(4)に対して3から10当量の範囲で使用すれば
よい。また、アンモニウム塩を用いるときは、当量の中
和塩基が必要である。中和塩基としては有機塩基または
無機塩基のいずれでもよく、ピリジン、トリエチルアミ
ン、DBU、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等を挙げることができる。
Examples of the reagent used for the conversion include an aqueous solution of hydroxylamine, hydroxylammonium sulfate, hydroxylammonium hydrochloride and the like, and an aqueous solution of hydroxylamine is preferred. The reagent may be used in the range of 3 to 10 equivalents to compound (4). When an ammonium salt is used, an equivalent amount of a neutralizing base is required. The neutralizing base may be either an organic base or an inorganic base, and examples thereof include pyridine, triethylamine, DBU, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, and potassium hydroxide.

【0069】本反応に用いる溶媒は、反応に対して不活
性なものであればいずれのものも使用可能であるが、好
ましくはエタノールを挙げることができる。反応は通常
加熱還流で行う。反応時間は2時間から15時間の範囲
でよい。
As the solvent used in this reaction, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction, but ethanol is preferred. The reaction is usually carried out by heating under reflux. Reaction times may range from 2 hours to 15 hours.

【0070】化合物(5)はシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフィー等で精製できるが、化合物(5)を
単離精製することなく次の工程の反応に使用することが
できる。
The compound (5) can be purified by column chromatography using silica gel or the like, but the compound (5) can be used in the next step without isolation and purification.

【0071】化合物(5)から化合物(6)を製造する
工程 化合物(5)は還元することにより、化合物(6)に変
換することができる。
Compound (6) is produced from compound (5)
Step Compound (5) can be converted to compound (6) by reduction.

【0072】還元には、触媒と水素源の存在下で加水素
分解反応を行えばよい。
For the reduction, a hydrogenolysis reaction may be performed in the presence of a catalyst and a hydrogen source.

【0073】触媒としてはパラジウム−炭素が好適であ
る。10%パラジウム−炭素を用いる場合、化合物
(5)の重量に対して0.1から0.2倍程度の重量の
触媒を使用すればよい。また、水素源としては水素ガ
ス、ギ酸等を挙げることができるが、水素ガスが好まし
く、通常、水素ガスの圧力は1気圧程度でよい。。
As the catalyst, palladium-carbon is preferred. When 10% palladium-carbon is used, a catalyst having a weight of about 0.1 to 0.2 times the weight of the compound (5) may be used. Examples of the hydrogen source include hydrogen gas and formic acid, but hydrogen gas is preferable, and the pressure of the hydrogen gas may be about 1 atm. .

【0074】本反応は通常溶媒中で実施するが、使用す
る溶媒は、反応に対して不活性なものであればいずれの
ものも使用可能であるが、好ましくはエタノールを挙げ
ることができる。反応温度は室温程度でよい。反応時間
は3時間から15時間の範囲でよいが、通常は3時間か
ら4時間程度で反応は終了する。
This reaction is usually carried out in a solvent, and any solvent can be used as long as it is inert to the reaction, but ethanol is preferred. The reaction temperature may be about room temperature. The reaction time may range from 3 hours to 15 hours, but usually the reaction is completed in about 3 hours to 4 hours.

【0075】なお、本反応を行う際に化合物(5)のオ
キシム水酸基をアセチル化しておくと反応は速やかに進
行する。アセチル化試薬としては無水酢酸が好ましく、
化合物(5)に対して1から2当量の範囲で使用する。
化合物(5)をアセチル化した後、還元反応を行っても
よいが、アセチル化試薬を還元反応開始時に反応系内に
共存させておいてもよい。
In this reaction, if the oxime hydroxyl group of compound (5) is acetylated, the reaction proceeds rapidly. Acetic anhydride is preferred as the acetylating reagent,
It is used in the range of 1 to 2 equivalents based on compound (5).
After the compound (5) is acetylated, the reduction reaction may be performed, or the acetylation reagent may be coexisted in the reaction system at the start of the reduction reaction.

【0076】化合物(6)を塩として生成させる場合に
は、酢酸、ギ酸等の有機酸や塩酸等の無機酸で処理する
ことにより対応する塩を得ることできる。生成した塩は
単離精製することができる。
When the compound (6) is formed as a salt, the corresponding salt can be obtained by treating the compound with an organic acid such as acetic acid or formic acid or an inorganic acid such as hydrochloric acid. The resulting salt can be isolated and purified.

【0077】化合物(6)またはその塩から化合物
(7)を製造する工程 化合物(6)またはその塩は塩基存在下でハロゲノアセ
トアルデヒドまたはその誘導体と反応させることによ
り、化合物(7)を得ることができる。
Compound (6) or a salt thereof to compound
Step of producing (7) Compound (7) can be obtained by reacting compound (6) or a salt thereof with halogenoacetaldehyde or a derivative thereof in the presence of a base.

【0078】ハロゲノアセトアルデヒドの誘導体として
は、式
The derivative of halogenoacetaldehyde is represented by the formula

【0079】[0079]

【化71】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Mはアルカリ金属
を表す。)で表されるハロゲノアセトアルデヒド重亜硫
酸のアルカリ金属塩を挙げることができる。
Embedded image (Wherein, X 4 represents a halogen atom, and M represents an alkali metal). An alkali metal salt of halogenoacetaldehyde bisulfite represented by the following formula:

【0080】本工程では、化合物(6)に対してハロゲ
ノアセトアルデヒドまたはその誘導体を1から5当量の
範囲で使用する。
In this step, halogenoacetaldehyde or a derivative thereof is used in an amount of 1 to 5 equivalents based on compound (6).

【0081】使用する塩基としては、ピリジン、トリエ
チルアミン、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−
t−ブトキシド、DBU、Dabco等を挙げることが
できるが、化合物(6)に対して3から10当量の範囲
で使用すればよい。
As the base to be used, pyridine, triethylamine, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, calcium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium-
Although t-butoxide, DBU, Dabco, etc. can be mentioned, it may be used in the range of 3 to 10 equivalents to compound (6).

【0082】本反応に用いる溶媒は、反応に対して不活
性なものであればいずれのものも使用可能であるが、好
ましくはジクロルメタン、クロロホルム、1,2−ジク
ロルエタン等の塩素系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド等のスルホキシド類、アセトニトリル等のニトリル類
を挙げることができる。溶媒は化合物(6)に対して3
0から100倍量(例えば、化合物(6)1gに対して
30mlから100mlの割合で)用いればよい。
As the solvent used in this reaction, any solvent can be used as long as it is inert to the reaction. Preferably, a chlorinated solvent such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, and dimethylformamide are used. And amides such as dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, and nitriles such as acetonitrile. The solvent is 3 for compound (6).
The amount may be 0 to 100 times (for example, 30 to 100 ml per 1 g of compound (6)).

【0083】反応温度は室温程度から80℃の範囲で行
えばよく、好ましくは20℃から30℃の範囲である。
反応時間は通常、15時間から72時間の範囲である。
The reaction may be carried out at a temperature in the range of about room temperature to 80 ° C., preferably in the range of 20 ° C. to 30 ° C.
Reaction times typically range from 15 hours to 72 hours.

【0084】化合物(7)はシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフィー等で単離することができる。
Compound (7) can be isolated by column chromatography using silica gel or the like.

【0085】化合物(7)から化合物(8a)および/
または化合物(8b)を製造する工程 化合物(7)をハロゲン化試薬で処理すると、化合物
(8a)および/または化合物(8b)を得ることがで
きる。
From compound (7) to compound (8a) and / or
Alternatively, a step of producing compound (8b) When compound (7) is treated with a halogenating reagent, compound (8a) and / or compound (8b) can be obtained.

【0086】ハロゲン化試薬としては、塩化チオニル、
臭化チオニル、塩化スルフリル等が使用できるが、塩化
チオニルを用いるのが好ましい。ハロゲン化試薬は化合
物(7)に対し1当量から2当量の範囲で使用する。
As the halogenating reagent, thionyl chloride,
Thionyl bromide, sulfuryl chloride and the like can be used, but thionyl chloride is preferably used. The halogenating reagent is used in the range of 1 equivalent to 2 equivalents based on compound (7).

【0087】反応は溶媒中で実施してもよく、使用する
溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、1,1−
ジクロルエタン、1,2−ジクロルエタン等を用いるこ
とができるが、これら単一の溶媒系にジエチルエーテル
を加えて反応を行うのが好ましい。
The reaction may be carried out in a solvent. As the solvent used, chloroform, methylene chloride, 1,1-
Dichloroethane, 1,2-dichloroethane and the like can be used, but it is preferable to carry out the reaction by adding diethyl ether to these single solvent systems.

【0088】反応は0℃から40℃の範囲で行うことが
できるが、20℃から30℃の範囲で行うことが好まし
い。反応は1時間から5時間で終了する。
The reaction can be carried out at a temperature in the range of 0 ° C. to 40 ° C., preferably at a temperature in the range of 20 ° C. to 30 ° C. The reaction is completed in 1 to 5 hours.

【0089】化合物(7)のハロゲン化反応によって得
られる主成績体は化合物(8a)であり、この他に化合
物(8b)が副成績体として得られてくる場合もある。
これらの化合物(8a)および化合物(8b)はいずれ
も閉環体化合物である化合物(9)を与える。従って、
これらは分離精製することなく次の工程で使用すればよ
い。
The main product obtained by the halogenation reaction of compound (7) is compound (8a), and in addition, compound (8b) may be obtained as an auxiliary product.
Both of the compound (8a) and the compound (8b) give a compound (9) which is a closed-ring compound. Therefore,
These may be used in the next step without separation and purification.

【0090】化合物(8a)および/または化合物(8
b)から化合物(9)を製造する工程 化合物(8a)および/または化合物(8b)を閉環す
ることにより、化合物(9)を得ることができる。
Compound (8a) and / or compound (8
Step of producing compound (9) from b) Compound (9) can be obtained by cyclizing compound (8a) and / or compound (8b).

【0091】閉環反応は化合物(8a)および/または
化合物(8b)をヨウ化ナトリウム存在下に加熱する
か、あるいは適当な塩基の存在下で実施すればよい。こ
れらのうちでは塩基の存在下で閉環させるのが好まし
い。ここで使用できる塩基としては炭酸カリウム、水素
化ナトリウム、カリウム−t−ブトキサイド、トリエチ
ルアミン、水酸化ナトリウム等が使用できるが、これら
のうちでは水素化ナトリウム、カリウム−t−ブトキサ
イド、水酸化ナトリウムが好ましい。塩基は化合物(8
a)および/または化合物(8b)に対し、1当量から
2当量の範囲で使用すればよい。
The ring closure reaction may be carried out by heating compound (8a) and / or compound (8b) in the presence of sodium iodide or in the presence of a suitable base. Of these, ring closure is preferably performed in the presence of a base. As the base that can be used here, potassium carbonate, sodium hydride, potassium-t-butoxide, triethylamine, sodium hydroxide and the like can be used, and among these, sodium hydride, potassium-t-butoxide, and sodium hydroxide are preferable. . The base is the compound (8
It may be used in the range of 1 equivalent to 2 equivalents relative to a) and / or compound (8b).

【0092】この閉環反応は溶媒中で実施してもよく、
使用する溶媒としては、塩化メチレン、1,1−ジクロ
ルエタン、1,2−ジクロルエタン(これらは塩基を使
用しない場合。)、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等が使用できるが、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドが好ましい。使
用する溶媒量は化合物(8a)および/または化合物
(8b)に対して10から20倍量(例えば、化合物
(8a)および/または化合物(8b)1gに対して1
0mlから20mlの割合で)用いればよい。化合物
(9)はシリカゲルを用いたカラムクロマトにより精製
することができる。
This ring closure reaction may be carried out in a solvent,
As the solvent to be used, methylene chloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane (when these do not use a base), acetonitrile, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like can be used, and dimethylformamide and dimethylsulfoxide can be used. preferable. The amount of the solvent used is 10 to 20 times the amount of the compound (8a) and / or the compound (8b) (for example, 1 to 1 g of the compound (8a) and / or the compound (8b).
(From 0 ml to 20 ml). Compound (9) can be purified by column chromatography using silica gel.

【0093】化合物(9)から化合物(10)を製造す
る工程 化合物(9)から保護基Rを脱離することにより化合
物(10)を得ることができる。
Compound (10) is produced from compound (9)
That step Compound (9) Compound by leaving the protective group R 1 from (10) can be obtained.

【0094】この工程は保護基Rに応じて通常用いら
れる反応条件を選択すればよい。例えば、酸による分解
反応等を挙げることができる。
[0094] This step may be selected reaction conditions usually used depending on the protecting group R 1. For example, a decomposition reaction by an acid and the like can be mentioned.

【0095】[0095]

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 [実施例1]4−(4−メトキシベンジルチオ)−3−ヒドロキシ−
ブチロニトリル エピクロロヒドリン(500mg,5.40mmol)
と4−メトキシベンジルチオール(850mg,5.5
1mmol)をエタノール(10ml)に溶解し、−1
7℃に冷却した。水酸化ナトリウム(260mg,6.
50mmol)を水(1.5ml)に溶解した溶液を1
5分かけて滴下した。このとき内温を−10℃以下に保
った。次いで内温0℃で3時間撹拌した後、シアン化カ
リウム(700mg,10.7mmol)を加え、室温
で1.5時間、更に50℃で1.5時間撹拌した。反応
液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル
層を水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルクロ
マトグラフィー(Merck Art 7734;30
g;クロロホルム)に付し,標記の化合物(872m
g,68%)を得た。
Next, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 4- (4-methoxybenzylthio) -3-hydroxy-
Butyronitrile epichlorohydrin (500 mg, 5.40 mmol)
And 4-methoxybenzylthiol (850 mg, 5.5
1 mmol) in ethanol (10 ml).
Cooled to 7 ° C. Sodium hydroxide (260 mg, 6.
50 mmol) in water (1.5 ml)
It was added dropwise over 5 minutes. At this time, the internal temperature was kept at -10 ° C or lower. Next, after stirring at an internal temperature of 0 ° C. for 3 hours, potassium cyanide (700 mg, 10.7 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours and further at 50 ° C. for 1.5 hours. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue obtained is chromatographed on silica gel (Merck Art 7734; 30).
g; chloroform), and the title compound (872 m
g, 68%).

【0096】IR(KBr−disk);3460,2
916,2836,2252,1610,1510,1
300,1246,1176,1028cm-1. MS(m/z);237,153,121.1 H−NMR(CDCl3)δ;7.23(d,2H,J
=8.6Hz),6.87(d,2H,J=8.6H
z),3.88(m,1H),3.81(s,3H),
3.71(s,2H),2.70(dd,1H,J=1
3.9 and4.6Hz),2.61(dd,1H,
J=16.5 and 5.6Hz),2.55(d
d,1H,J=13.9 and 7.9Hz),2.
54(dd,1H,J=16.5 and 5.9H
z).
IR (KBr-disk); 3460, 2
916, 2836, 2252, 1610, 1510, 1
300, 1246, 1176, 1028 cm -1 . MS (m / z); 237, 153, 121. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ; 7.23 (d, 2H, J
= 8.6Hz), 6.87 (d, 2H, J = 8.6H)
z), 3.88 (m, 1H), 3.81 (s, 3H),
3.71 (s, 2H), 2.70 (dd, 1H, J = 1
3.9 and 4.6 Hz), 2.61 (dd, 1H,
J = 16.5 and 5.6 Hz), 2.55 (d
d, 1H, J = 13.9 and 7.9 Hz), 2.
54 (dd, 1H, J = 16.5 and 5.9H
z).

【0097】[実施例2]3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−[アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル]プロパン 4−(4−メトキシベンジルチオ)−3−ヒドロキシ−
ブチロニトリル(356mg,1.5mmol)をエタ
ノール(3.6ml)に溶解し、50%ヒドロキシルア
ミン水溶液(495mg,7.5mmol)を加えた。
2時間加熱還流した後、50%ヒドロキシルアミン水溶
液(495mg,7.5mmol)を追加し、更に13
時間加熱還流した。エタノールを留去した後、1規定塩
酸と酢酸エチルを加え、振盪分液した。水層に飽和重曹
水を加えてアルカリ性にし,酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥後、溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(Merck Art 773
4;10g;メタノール/クロロホルム=5/95)に
付し,標記の化合物(338mg,83%)を得た。
Example 2 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1- [amino (hydroxyimino) methyl] propane 4- (4-methoxybenzylthio) -3-hydroxy-
Butyronitrile (356 mg, 1.5 mmol) was dissolved in ethanol (3.6 ml), and a 50% aqueous hydroxylamine solution (495 mg, 7.5 mmol) was added.
After heating under reflux for 2 hours, a 50% aqueous hydroxylamine solution (495 mg, 7.5 mmol) was added, and an additional 13% was added.
Heated to reflux for an hour. After the ethanol was distilled off, 1N hydrochloric acid and ethyl acetate were added, and the mixture was separated by shaking. The aqueous layer was made alkaline with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue obtained is chromatographed on silica gel (Merck Art 773).
4; 10 g; methanol / chloroform = 5/95) to give the title compound (338 mg, 83%).

【0098】IR(KBr−disk);3354,2
912,2841,1658,1608,1512,1
302,1246,1176,1034cm-1. MS(m/z);270,215,149,121.1 H−NMR(CDCl3)δ;7.21(d,2H,J
=8.6Hz),6.84(d,2H,J=8.6H
z),3.89(m,1H),3.79(s,3H),
3.68(s,2H),2.60(dd,1H,J=1
3.9 and4.6Hz),2.49(dd,1H,
J=13.9 and 7.9Hz),2.38(d
d,1H,J=14.8 and 3.3Hz),2.
24(dd,1H,J=14.8 and 7.9H
z).
IR (KBr-disk); 3354,2
912, 2841, 1658, 1608, 1512, 1
302, 1246, 1176, 1034 cm -1 . MS (m / z); 270, 215, 149, 121. 1 H-NMR (CDCl 3) δ; 7.21 (d, 2H, J
= 8.6 Hz), 6.84 (d, 2H, J = 8.6H)
z), 3.89 (m, 1H), 3.79 (s, 3H),
3.68 (s, 2H), 2.60 (dd, 1H, J = 1
3.9 and 4.6 Hz), 2.49 (dd, 1H,
J = 13.9 and 7.9 Hz), 2.38 (d
d, 1H, J = 14.8 and 3.3 Hz), 2.
24 (dd, 1H, J = 14.8 and 7.9H
z).

【0099】[実施例3]3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−アミジノプロパン一塩酸塩 3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−[アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル]プロパン
(1.35g,5.0mmol)をエタノール(40m
l)に溶解し、無水酢酸(0.51g,5.0mmo
l)と10%パラジウム−炭素を加え、水素気流下室温
にて4時間撹拌した。触媒をろ去後、室温撹拌下ろ液に
1規定塩酸エタノール溶液(10ml)を加え、溶媒を
留去した。得られた結晶性残留物をエタノールと酢酸エ
チルから再結晶し、標記の化合物(1.30g,89
%)を得た。
Example 3 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1-amidinopropane monohydrochloride 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1- [amino (hydroxyimino) methyl] propane (1.35 g, 5.0 mmol) was added to ethanol (40 m
l) and dissolved in acetic anhydride (0.51 g, 5.0 mmol).
l) and 10% palladium-carbon were added, and the mixture was stirred at room temperature under a hydrogen stream for 4 hours. After removing the catalyst by filtration, a 1N hydrochloric acid ethanol solution (10 ml) was added to the filtrate while stirring at room temperature, and the solvent was distilled off. The obtained crystalline residue was recrystallized from ethanol and ethyl acetate to give the title compound (1.30 g, 89
%).

【0100】IR(KBr−disk);3290,3
064,1676,1608,1512,1306,1
240,1178,1034cm-1. MS(m/z);255,224,121.1 H−NMR(D2O)δ;6.95(d,2H,J=
8.6Hz),6.60(d,2H,J=8.6H
z),3.62(m,1H),3.44(s,3H),
3.40(s,2H),2.35(dd,1H,J=1
4.5 and 4.0Hz),2.25(dd,1
H,J=16.5 and 5.6Hz),2.55
(d,2H,J=5.9Hz),2.15(dd,1
H,J=14.5 and 9.0Hz). 元素分析(C121922SClとして) 理論値;C:49.56,H:6.58,N:9.6
3,Cl:12.19,S:11.03 測定値;C:49.41,H:6.79,N:9.6
7,Cl:12.16,S:11.52
IR (KBr-disk); 3290,3
064,1676,1608,1512,1306,1
240, 1178, 1034 cm -1 . MS (m / z); 255, 224, 121. 1 H-NMR (D 2 O ) δ; 6.95 (d, 2H, J =
8.6 Hz), 6.60 (d, 2H, J = 8.6H)
z), 3.62 (m, 1H), 3.44 (s, 3H),
3.40 (s, 2H), 2.35 (dd, 1H, J = 1
4.5 and 4.0 Hz), 2.25 (dd, 1
H, J = 16.5 and 5.6 Hz), 2.55
(D, 2H, J = 5.9 Hz), 2.15 (dd, 1
H, J = 14.5 and 9.0 Hz). Elemental analysis (C 12 H 19 N 2 O 2 as SCl) theory; C: 49.56, H: 6.58 , N: 9.6
3, Cl: 12.19, S: 11.03 measured values; C: 49.41, H: 6.79, N: 9.6
7, Cl: 12.16, S: 11.52

【0101】[実施例4]3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−(2−イミダゾイル)プロパン 3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−アミジノプロパン一塩酸塩(145mg,0.5m
mol)をジメチルスルホキシド(4.2ml)に溶解
し、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウン
デセン(228mg,1.5mmol)、次いでクロロ
アセトアルデヒド重亜硫酸ナトリウム(183mg,
1.0mmol)を加え、室温で8時間撹拌した。更に
クロロアセトアルデヒド重亜硫酸ナトリウム(183m
g,1.0mmol)を追加し、室温で16時間撹拌し
た。反応液を氷水に注加し、水酸化ナトリウム水溶液を
加え、酢酸エチルで3回抽出した。酢酸エチル層を水と
飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去した。得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフ
ィー(Merck Art 7734;6g;メタノー
ル/クロロホルム=5/95)に付し,標記の化合物
(86.2mg,52%)を得た。
Example 4 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1- (2-imidazoyl) propane 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1-amidinopropane monohydrochloride (145 mg, 0.5 m
mol) was dissolved in dimethyl sulfoxide (4.2 ml), 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (228 mg, 1.5 mmol), and then sodium chloroacetaldehyde bisulfite (183 mg,
1.0 mmol) and stirred at room temperature for 8 hours. In addition, sodium chloroacetaldehyde bisulfite (183m
g, 1.0 mmol) and stirred at room temperature for 16 hours. The reaction solution was poured into ice water, an aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was extracted three times with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography (Merck Art 7734; 6 g; methanol / chloroform = 5/95) to give the title compound (86.2 mg, 52%).

【0102】1H−NMR(CDCl3)δ;7.20
(d,2H,J=8.8Hz),6.95(s,2
H),6.84(d,2H,J=8.8Hz),3.9
9(m,1H),3.80(s,3H),3.68
(s,2H),3.03(dd,1H,J=15.1
and 2.9Hz),2.82(dd,1H,J=1
5.1and 7.8Hz),2.60(dd,1H,
J=13.7 and 4.9Hz),2.46(d
d,1H,J=13.7 and 8.3Hz).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ; 7.20
(D, 2H, J = 8.8 Hz), 6.95 (s, 2
H), 6.84 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 3.9
9 (m, 1H), 3.80 (s, 3H), 3.68
(S, 2H), 3.03 (dd, 1H, J = 15.1)
and 2.9 Hz), 2.82 (dd, 1H, J = 1)
5.1 and 7.8 Hz), 2.60 (dd, 1H,
J = 13.7 and 4.9 Hz), 2.46 (d
d, 1H, J = 13.7 and 8.3 Hz).

【0103】[実施例5]3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−(2−イミダゾイル)プロパン 3−(4−メトキシベンジルチオ)−2−ヒドロキシ−
1−アミジノプロパン一塩酸塩(581.6mg,2.
0mmol)を15%含水アセトニトリル(20ml)
に溶解し、炭酸カリウム(829.2mg,6.0mm
ol)、次いでブロモアセトアルデヒド(737.7m
g,6.0mmol)を加え、室温で36時間撹拌し
た。反応液を氷水に注加し、水酸化ナトリウム水溶液を
加え、酢酸エチルで3回抽出した。酢酸エチル層を水と
飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去した。得られた残留物をシリカゲルクロマトグラフ
ィー(Merck Art 7734;6g;メタノー
ル/クロロホルム=5/95)に付し,標記の化合物
(390.0mg,70%)を得た。
Example 5 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1- (2-imidazoyl) propane 3- (4-methoxybenzylthio) -2-hydroxy-
1-amidinopropane monohydrochloride (581.6 mg, 2.
0 mmol) in 15% aqueous acetonitrile (20 ml)
And dissolved in potassium carbonate (829.2 mg, 6.0 mm
ol) followed by bromoacetaldehyde (737.7 m
g, 6.0 mmol) and stirred at room temperature for 36 hours. The reaction solution was poured into ice water, an aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was extracted three times with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel chromatography (Merck Art 7734; 6 g; methanol / chloroform = 5/95) to give the title compound (390.0 mg, 70%).

【0104】NMRは実施例4のものと一致した。NMR was consistent with that of Example 4.

【0105】[0105]

【効果】本発明の製造方法は、安価な試薬を用いて、不
安定な中間体を経ることなく収率よく目的とする化合物
(10)を得られる製法である。
The production method of the present invention is a production method in which the desired compound (10) can be obtained in good yield using an inexpensive reagent without passing through an unstable intermediate.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表される化合
物を、塩基存在下で一般式 【化2】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物と反応させ、一般式(2) 【化3】 (式中、RおよびXは先の定義と同じである。)で
表される化合物とし、この化合物を塩基存在下で閉環さ
せて一般式(3) 【化4】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物をシアノ化試薬で処理し
て、一般式(4) 【化5】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とした後、ヒドロキシルアミン類と反応させて、一
般式(5) 【化6】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物を還元して、一般式(6) 【化7】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物またはその塩とした後、塩基存在下で式 【化8】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表される化合
物またはその誘導体と反応させ、一般式(7) 【化9】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物をハロゲン化して、一般式
(8a) 【化10】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは先の定義と
同じである。)で表される化合物および/または一般式
(8b) 【化11】 (式中、XおよびRは先の定義と同じである。)で
表される化合物とした後、閉環させて一般式(9) 【化12】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物として、置換基Rを脱離させることを特徴とする
式 【化13】 で表される化合物の製造方法。
1. A compound of the general formula (1) (Wherein X 1 represents a halogen atom) in the presence of a base and a compound represented by the general formula: (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And a compound represented by the general formula (2): (Wherein R 1 and X 1 are the same as defined above), and the compound is subjected to ring closure in the presence of a base to give a compound of the general formula (3) (Wherein R 1 is the same as defined above), and then the compound is treated with a cyanating reagent to give a compound of the general formula (4): (Wherein R 1 is the same as defined above) and then reacted with hydroxylamines to give a compound of the general formula (5) (Wherein R 1 is the same as defined above), and the compound is reduced to give a compound of the general formula (6) (Wherein R 1 is the same as defined above) or a salt thereof, and in the presence of a base, (Wherein X 2 represents a halogen atom) or a derivative thereof, and reacted with a compound represented by the general formula (7). (Wherein R 1 is the same as defined above), and the compound is halogenated to obtain a compound represented by the general formula (8a): (Wherein X 3 represents a halogen atom, and R 1 is the same as defined above) and / or a compound represented by the general formula (8b): (Wherein X 3 and R 1 are the same as defined above), and then the ring is closed to form a compound of the general formula (9). (Wherein R 1 is the same as defined above), wherein a substituent R 1 is eliminated. A method for producing a compound represented by the formula:
【請求項2】 一般式(1) 【化14】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表される化合
物を、塩基存在下で一般式 【化15】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物と反応させ、一般式(2) 【化16】 (式中、RおよびXは先の定義と同じである。)で
表される化合物とし、この化合物を塩基存在下で閉環さ
せて一般式(3) 【化17】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物をシアノ化試薬で処理し
て、一般式(4) 【化18】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とした後、ヒドロキシルアミン類と反応させて、一
般式(5) 【化19】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物を還元して、一般式(6) 【化20】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物またはその塩とした後、塩基存在下で式 【化21】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表される化合
物またはその誘導体と反応させ、一般式(7) 【化22】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物とし、次いでこの化合物をハロゲン化することを特
徴とする、一般式(8a) 【化23】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは先の定義と
同じである。)で表される化合物および/または一般式
(8b) 【化24】 (式中、XおよびRは先の定義と同じである。)で
表される化合物の製造方法。
2. A compound of the general formula (1) (Wherein X 1 represents a halogen atom) in the presence of a base and a compound represented by the general formula: (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And a compound represented by the general formula (2): (Wherein R 1 and X 1 are the same as defined above), and the compound is subjected to ring closure in the presence of a base to obtain a compound represented by the general formula (3). (Wherein R 1 is the same as defined above), and then the compound is treated with a cyanating reagent to give a compound of the general formula (4) (Wherein R 1 is the same as defined above) and then reacted with hydroxylamines to give a compound of the general formula (5) (Wherein R 1 is the same as defined above), and then this compound is reduced to give a compound of the general formula (6) (Wherein R 1 is the same as defined above) or a salt thereof, and in the presence of a base, (Wherein X 2 represents a halogen atom) or a derivative thereof, and reacted with a compound represented by the general formula (7). (Wherein R 1 is the same as defined above), and then the compound is halogenated, wherein the compound is represented by the general formula (8a): (Wherein X 3 represents a halogen atom, R 1 is the same as defined above) and / or a compound of the general formula (8b) (Wherein X 3 and R 1 are the same as defined above).
【請求項3】 一般式(1) 【化25】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表される化合
物を、塩基存在下で一般式 【化26】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物と反応させることを特徴とする、一般式(2) 【化27】 (式中、RおよびXは先の定義と同じである。)で
表される化合物の製造方法。
3. A compound of the general formula (1) (Wherein X 1 represents a halogen atom) in the presence of a base and a compound represented by the general formula: (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Which represents an acyl group which may be reacted with a compound represented by the general formula (2): (Wherein, R 1 and X 1 are the same as defined above).
【請求項4】 一般式(2) 【化28】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表し、Xはハロゲ
ン原子を表す。)で表される化合物を、塩基存在下で閉
環させることを特徴とする、一般式(3) 【化29】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物の製造方法。
4. A compound of the general formula (2) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Wherein X 1 represents a halogen atom, and the compound represented by the general formula (3) is ring-closed in the presence of a base. (Wherein, R 1 is the same as defined above).
【請求項5】 一般式(3) 【化30】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物をシアノ化試薬で処理することを特徴とする、一
般式(4) 【化31】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物の製造方法。
5. A compound of the general formula (3) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Wherein the compound represented by the general formula (4) is treated with a cyanating reagent. (Wherein, R 1 is the same as defined above).
【請求項6】 一般式(4) 【化32】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物を、ヒドロキシルアミン類と反応させることを特
徴とする、一般式(5) 【化33】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物の製造方法。
6. A compound of the general formula (4) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Wherein the compound represented by the general formula (5) is reacted with a hydroxylamine. (Wherein, R 1 is the same as defined above).
【請求項7】 一般式(5) 【化34】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物を還元することを特徴とする、一般式(6) 【化35】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物またはその塩の製造方法。
7. A compound of the general formula (5) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Wherein the compound represented by the general formula (6) is reduced: (Wherein R 1 is the same as defined above) or a method for producing the compound or a salt thereof.
【請求項8】 一般式(6) 【化36】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物またはその塩を、塩基存在下で式 【化37】 (式中、Xはハロゲン原子を表す。)で表されるアル
デヒド化合物またはその誘導体と反応させることを特徴
とする、一般式(7) 【化38】 (式中、Rは先の定義と同じである。)で表される化
合物の製造方法。
8. General formula (6) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. A salt of the compound represented by the formula: or a salt thereof, in the presence of a base. (Wherein, X 2 represents a halogen atom), characterized by reacting with an aldehyde compound or a derivative thereof represented by the following general formula (7): (Wherein, R 1 is the same as defined above).
【請求項9】 アルデヒド化合物の誘導体が式 【化39】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Mはアルカリ金属
を表す。)で表される化合物である請求項8に記載の製
造方法。
9. The derivative of the aldehyde compound has the formula: (Wherein X 4 represents a halogen atom and M represents an alkali metal).
【請求項10】 一般式(2) 【化40】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表し、Xはハロゲ
ン原子を表す。)で表される化合物。
10. A compound of the general formula (2) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And X 1 represents a halogen atom.).
【請求項11】 一般式(3) 【化41】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物。
11. A compound of the general formula (3) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.).
【請求項12】 一般式(4) 【化42】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物。
12. A compound of the general formula (4) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.).
【請求項13】 一般式(5) 【化43】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物。
13. A compound of the general formula (5) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. Represents an optionally substituted acyl group.).
【請求項14】 一般式(6) 【化44】 (式中、Rは置換基を有していてもよいアラルキル
基、置換基を有していてもよいジフェニルメチル基、置
換基を有していてもよいトリフェニルメチル基または置
換基を有していてもよいアシル基を表す。)で表される
化合物およびその塩。
14. A compound of the general formula (6) (Wherein, R 1 represents an aralkyl group which may have a substituent, a diphenylmethyl group which may have a substituent, a triphenylmethyl group which may have a substituent, or a group having a substituent. And a salt thereof.
【請求項15】 一般式(9)で表される化合物を得る
閉環反応の条件が、一般式(8a)で表される化合物お
よび/または一般式(8b)で表される化合物を塩基の
存在下で処理する、またはヨウ化ナトリウム存在下で加
熱する反応条件である請求項1の製造方法。
15. The conditions of the ring-closure reaction for obtaining the compound represented by the general formula (9) are as follows: the compound represented by the general formula (8a) and / or the compound represented by the general formula (8b) The production method according to claim 1, wherein the reaction conditions are such that the treatment is carried out under the condition or heating in the presence of sodium iodide.
【請求項16】 ヒドロキシルアミン類がヒドロキシル
アミン水溶液、硫酸ヒドロキシルアンモニウムまたは塩
酸ヒドロキシルアンモニウムである請求項1、請求項2
または請求項6の製造方法。
16. The method according to claim 1, wherein the hydroxylamine is an aqueous hydroxylamine solution, hydroxylammonium sulfate or hydroxylammonium hydrochloride.
Or the manufacturing method according to claim 6.
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