WO1999027159A1 - Metal composition containing metal acetilide, blank having metallic coating formed therewith, and method for forming the metallic coating - Google Patents

Metal composition containing metal acetilide, blank having metallic coating formed therewith, and method for forming the metallic coating Download PDF

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Akio Harada
Yoshiki Okamoto
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Daiken Chemical Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/08Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of metallic material

Definitions

  • the present invention relates to a metal composition for forming a metal film such as an electrode or a decorative film on the surface of a material and a method of applying the same, and more particularly, to a method for converting a metal acetylide compound containing no sulfur or halogen into an organic compound.
  • TECHNICAL FIELD The present invention relates to a metal composition which does not generate harmful gases to the environment such as SO x and C 1 when firing a metal film to be used as a metal agent, and which can maintain the environment cleanly and a method of applying the same. (Background technology)
  • a metal powder or an organic metal complex is mixed and kneaded with a resin, an organic solvent, etc. to prepare an organic metal paste, and the second organic metal paste is prepared.
  • the strip is applied to electronic components on a circuit board by screen printing or the like to form a predetermined circuit pattern, and this pattern is heated to decompose organic components.
  • a method of evaporating and depositing a metal in a film form There is known a method of evaporating and depositing a metal in a film form.
  • a metal solution having low viscosity is required, and an organic metal complex that is soluble in an organic solvent is selected.
  • An organic metal liquid is prepared by dissolving and dispersing in the organic solvent.
  • organometallic complexes are currently used in a wide range of fields such as electronic equipment, ceramics, and crafts.
  • Pa Rusa beam based compound eg if sulfide Te Le Binet ol gold (C:. H, s SA u C 1,), vulcanized I ⁇ Te Le Binet Haut Le platinum (C,. H, B SP t C 1,), sulfide Te Le Binet per Rupa
  • C OH! S SP d Clx
  • gold balsam platinum balsam
  • palladium balsam palladium balsam
  • precious metal balsams such as rhodium balsam and ruthenium hum are known.
  • balsam compounds contain chlorine and sulfur, they are inevitably generated as by-products such as S0 and C1 in the firing process.
  • the release of these harmful substances into the environment not only adversely affects the hygiene of workers, but also has a negative effect on the natural environment in general.
  • a large amount of equipment such as a desulfurization unit was required to recover these harmful substances, and it was difficult to recover 100% of the harmful substances.
  • SOx and halogen are also causes of damage to the baking equipment, a metal composition for forming a safer metal film has been desired.
  • SO and halogen generated during firing may adversely affect the material.
  • the material is ripened to decompose and evaporate components other than metal.However, s ⁇ and halogens corrode the material, and sulfur and halogen atoms become impurities in the material. May spread. In particular, when the material was an electronic component, the electronic properties were sometimes adversely affected.
  • the present invention has been made in order to improve the above-mentioned drawbacks, and uses a metal acetylide compound containing no sulfur or chlorine as an organometallic complex which is a main component of a metal composition. Suggest and.
  • This metal acetylide compound has a general formula M (— C ⁇ C 1 R), where M is a metal atom, n is the valence of the metal atom M, and R is an oxygen atom-containing compound. Hydrocarbon group), and does not contain sulfur or halogen as a constituent element.
  • the present invention proposes a metal composition in which the metal acetylide compound is dissolved and dispersed in an organic solvent to make an organic metal liquid.
  • the present invention proposes a metal composition obtained by kneading the metal acetylide compound, a resin for adjusting viscosity, and an organic solvent to form an organic metal paste.
  • a metal composition containing an additive that enhances the adhesion of the metal film is proposed.
  • a metal composition in which a plurality of metal acetylide compounds having different metal elements are combined is proposed.
  • metal compositions are applied on the surface of the material in a desired pattern to form a metal composition film, and the metal composition film is heated to decompose and evaporate substances other than metals.
  • a metal film formation method that forms a dense metal film by sintering the metal.
  • a material with a metal film of the desired pattern formed on the surface by this method propose a material with a metal film of the desired pattern formed on the surface by this method.
  • the present inventors have conducted intensive studies on organometallic complexes that do not contain sulfur or halogens that cause environmental pollution and are soluble in many organic solvents, and as a result, a type of acetylene derivative It has been found that such a metal acetylide compound is suitable for the purpose of the present invention, and based on this knowledge, the present invention has been accomplished. That is, the organometallic complex used in the present invention is a metal acetylide compound represented by the general formula M (-C ⁇ C-R).
  • M represents a metal atom, for example, B i, C u, In, N i, R u, R h, P d, A g, O s, I r, P t , Au, etc.
  • a metal composition such as an organic metal liquid or an organic metal paste, a highly stable noble metal is often used.
  • the noble metal includes Au, Ag, and platinum group (Ru, R h, P d, O s, I r, P t).
  • n represents the valence of the metal atom M.
  • Au is monovalent and trivalent
  • Ag is monovalent and divalent
  • Pt is divalent, tetravalent and hexavalent. That is, not only does the value differ depending on the type of the metal element, but also a specific metal element has multiple valences.
  • Ligand of metal acetylide compound—R in C ⁇ C—R is a hydrocarbon group containing or not containing an oxygen atom, and its constituent elements are C and H, or C, H, and O You.
  • the hydrocarbon group R desirably has 1 to 8 carbon atoms, and accordingly, the ligand as a whole preferably has 3 to 10 carbon atoms. The reason is that if the number of carbon atoms is small, the metal acetylide compound becomes difficult to dissolve in the solvent, and at the same time, the explosive property becomes large and the handling becomes dangerous. As the number increases, the weight of the metal in the substance becomes relatively small, and it becomes impossible to form a metal film when using an organic metal liquid or an organic metal base.
  • the metal acetylide compound of the present invention when used for a metal composition, a metal weight that is soluble in a solvent and that is constant is required. In other words, when the number of carbon atoms of the ligand C CC ⁇ R is in the range of 3 to 10, the metal acetylide compound is easily soluble in the solvent, and the power and the metal weight are relatively large. Thus, it can be sufficiently used as a metal composition.
  • the hydrocarbon group R contains oxygen
  • it contains an aliphatic hydrocarbon group as a hydroxyl group when it contains oxygen, and in this case, it may be linear or may have a side chain. You may.
  • hydrocarbon group R contains oxygen
  • hydrocarbon group containing at least a cyclic hydrocarbon contained as a hydroxyl group This hydrocarbon group may have a cyclic hydrocarbon group in a straight chain or may have a cyclic hydrocarbon group in a side chain-as a matter of course, the entire R is a cyclic hydrocarbon group. Including the case of hydrogen.
  • H—C 3 C—R is in the form of 1—ethyl 1-cyclobromo 1—ethyl 1 1 — cyclobutano 1 — echini 1-cyclopentanol, 1 echini i-cyclohexano 1 — propyne 1 3 — ci Cloblobanol, i-propyne 13 — cyclobutanol, 11-propyne 13 — cycloventanol 1-butyne 14 — Cyclopropanol 1-butyne 1 4 — Cyclopropanol 1, pentin 1 5 — Cyclopropanol 1
  • the metal acetylide compound according to the present invention is composed only of a metal element, carbon, hydrogen, and / or oxygen, and even if it is decomposed by calcination, it is a gas.
  • carbon dioxide, water vapor, and other parts depend on the firing temperature. Only hydrocarbons are produced, but no harmful substances such as s O and halogen gas are produced: Therefore, organometallic complexes that are extremely safe and clean for the environment and organisms It is.
  • the organometallic paste is a mixture of a gold acetylide compound and a resin for viscosity adjustment in an organic solvent, and the viscosity is increased or decreased depending on the usage. You.
  • the liquid metal composition having low viscosity may be referred to as an organometallic liquid or an organometallic base, and the boundary between the two cannot be clearly defined.
  • metal acetylide compounds are soluble in a wide range of organic solvents, both polar and non-polar.
  • organic solvent include petroleum-based solvents, esters such as terbineol, petal carbitol, and ethyl lactate, and cellosolve. , Alcohols, aromatics, and DEP (jetiphthalate).
  • the viscosity of the organometallic base differs depending on the application conditions (printing conditions) to the material, the firing conditions and the surface state after firing, and a resin is mixed in to adjust the viscosity.
  • the resin is required to be easily dissolved and dispersed in an organic solvent together with the metal acetylide compound. Since metal acetylide compounds dissolve well in many organic solvents, the choice of resins that can be dissolved and dispersed in these organic solvents is much wider than conventional balsam compounds. It becomes: For example, ethylcellulose, nitroselorose, asphalt, butyral, acrylocobalms, dan Equally, these related substances can be used as resin.
  • the above-mentioned metal acetylide compound and an organic solvent are mixed to produce an organic metal liquid.
  • the metal acetylide compound is 60 to 10 parts by weight
  • the organic solvent is desirably 30 parts by weight to 90 parts by weight, and it is preferable to add 10 parts by weight to 1 part by weight of an additive described later thereto.
  • a small amount of resin may be added.
  • the amount of the metal acetylide compound is smaller than this, the metal weight is so small that a metal film cannot be formed, and when the amount is larger, the metal acetylide compound becomes organic. It cannot be dispersed in the solvent and precipitates. Therefore, an organometallic liquid having a favorable range can be provided.
  • the optimum blending amount can be set according to the conditions such as the material for forming the metal film, the ripening temperature, and the film thickness.
  • a metal acetyl compound, an organic solvent and a resin are mixed to produce an organic metal base.
  • the compounding amounts of the components are 60 to 10 parts by weight for the metal acetylide compound, 30 to 85 parts by weight for the organic solvent, and 3 to 30 parts by weight for the resin. Department is desirable. If necessary, the additives can be added in an amount of 1 to 10 parts by weight.
  • the viscosity of the organometallic base produced in this range is in the range of 5 Op (poise) to ⁇ 0000p (poise).
  • the organic metal base approaches the organometallic liquid
  • the viscosity becomes higher than the upper limit the metal composition is applied to the surface of the material. It will be difficult to reduce the thickness of the metal paste ..
  • the viscosity of the organometallic paste can be changed independently according to the application. To produce an organometallic liquid or organometallic paste, select the necessary components from metal acetylide compounds, organic solvents, resins, and additives, and fill the container with the required weight.
  • the metal composition film is fired to form a metal film.
  • the entire material may be put into a heating furnace and heated to the firing temperature, or the metal composition film on the material surface may be locally heated with a gas burner or the like.
  • ligands other than metals in organic solvents, resins, additives, and metal acetylide are thermally decomposed and evaporated, and the remaining metal atoms bond and grow with each other.
  • Form a metal film The metal film functions as a decoration film in a decorative product, and functions as an electrode in an electronic component.
  • the metal composition of the present invention has the following features. First, because it does not contain sulfur or chlorine, it does not emit harmful substances such as SOx and halogen during the firing stage, is environmentally clean, and requires no equipment such as desulfurization equipment. Become. Second, the decomposition temperature of the metal acetylide compound is about 400 degrees, which is slightly lower than the decomposition temperature of the conventional organometallic complex. In other words, since it can be fired at a relatively low temperature of 400 ° C. or more, it can be applied to many materials such as low-melting glass, and can prevent deterioration and thermal denaturation of the material. You.
  • the fired metal film can be finished smoothly like a mirror surface, and can be used in fields where high precision is required, such as decorative parts, as well as electronic parts.
  • Gold acetylide 40 parts, naphthenic acid bismuth 0.8 parts, rhodium acetylide 0.08 parts, ethylcellulose 6 parts, terbione When thirty-eight parts were kneaded, they became paste-like. The resulting paste was passed through a mesh to remove debris. When this gold paste was applied on pottery and glass by screen printing and then fired, a shiny golden pattern was obtained.
  • Example 11 1 [Application of palladium gold paste to electronic component electrode] 18 parts of gold acetylide, 12 parts of palladium acetylide, bis (octylate) 2.5 parts of mass, 0.4 parts of rhodium acetylide, 5 parts of ethylcellulose, 17 parts of petroleum resin, 15 parts of tervineol, 25 parts of butyl carbitol, When 5 parts of DEP were kneaded, it became paste-like. The finished paste was passed through a mesh to remove debris. This palladium gold paste was patterned on ceramics by screen printing and then baked, resulting in a smooth palladium gold alloy pattern. Was obtained. When this pattern was used as an electrode of an electronic component, it was found that it was excellent in terms of electrical conduction performance, and that it could be used as an electrode for other electronic components. I got it.
  • the present invention provides, as a metal source, a general formula M (—C ⁇ CR) friendship(where M is a metal atom, n is a valence of the metal atom M, and R is an oxygen atom.
  • this metal liquid or metal paste is applied to a material and then baked, an extremely smooth and fine metal film can be formed, and a high-grade metal film can be formed. Since it shows luster, it can be used for decoration of ceramics and glassware. Furthermore, since the electrical conductivity of the metal film is extremely good, it can be used as an electrode for electronic components. In addition, in a metal composition containing a plurality of metal acetylide compounds, a plurality of metals can exhibit their advantages and form a high-performance metal film.

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Abstract

A metal composition such as metallic fluid or metallic paste is prepared by compounding a metal acetilide represented by the general formula M(-C C-R)n (wherein M is a metallic atom, n is the valency of the atom M, and R is a hydrocarbon group optionally bearing oxygen) as an organometallic source with a resin and an organic solvent and kneading the mixture. When the composition is applied in a desired pattern to a required portion of a decorative article, such as porcelain or glass, or an electronic part and at least the required portion is dried and heated, the organic substances except for the metal are decomposed and released and only the metal is sintered in the required pattern.

Description

明 糸田 金属ァセチ リ ド化合物を含有 し た金属組成物、 これを 用 いて金属膜を形成 した素材及びその金属膜形成方法  Akira Itoda A metal composition containing a metal acetylide compound, a material on which a metal film is formed using the metal composition, and a method for forming the metal film
(技術分野) (Technical field)
本発明 は素材表面に電極や装飾膜等の金属膜を形成する金属組成物及 びその応用法に関 し、 更に詳細には硫黄やハ ロ ゲ ン等を含ま ない金属ァ セチ リ ド化合物を有機金属剤 と する ため に、 金属膜を焼成する 際に S O x、 C 1 等の環境に対する有害ガ ス を発生せず、 環境を清浄に保持でき る金属組成物及びその応用法に関する。 (背景技術) The present invention relates to a metal composition for forming a metal film such as an electrode or a decorative film on the surface of a material and a method of applying the same, and more particularly, to a method for converting a metal acetylide compound containing no sulfur or halogen into an organic compound. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a metal composition which does not generate harmful gases to the environment such as SO x and C 1 when firing a metal film to be used as a metal agent, and which can maintain the environment cleanly and a method of applying the same. (Background technology)
通常、 絶縁基板や電子部品等に電極を形成する場合、 金属粉末又は有 機金属錯体を樹脂、 有機溶剤等 と 配合 · 混練 し て有機金属ペ ー ス ト を調 製 し 、 二 の有機金属ペー ス ト を ス ク リ ー ン印刷等の方法で絶緣基板ゃ電 子部品上に塗布 して所定の回路パ タ ー ン を形成 し 、 こ のパタ ー ン部分を 加熱 して 有機成分を分解 · 蒸発 させ、 金属を膜状に析出 さ せる 方法が知 られてい る。 ま た、 陶器等の表面に装飾的に施 さ れ る金属膜を形成する 場合には、 粘性の少ない金属液が必要 と さ れ、 有機溶剤に可溶な有機金 属錯体を選択 し て、 その有機溶剤 に溶解分散 さ せて有機金属液 を調製 し てい る。 こ の よ う に、 有機金属錯体は、 現在では電子機器分野、 窯業分 野、 工芸分野等の広範な分野で使用 さ れてい る。  Normally, when electrodes are formed on an insulating substrate or an electronic component, a metal powder or an organic metal complex is mixed and kneaded with a resin, an organic solvent, etc. to prepare an organic metal paste, and the second organic metal paste is prepared. The strip is applied to electronic components on a circuit board by screen printing or the like to form a predetermined circuit pattern, and this pattern is heated to decompose organic components. There is known a method of evaporating and depositing a metal in a film form. In addition, when forming a decorative metal film on the surface of pottery or the like, a metal solution having low viscosity is required, and an organic metal complex that is soluble in an organic solvent is selected. An organic metal liquid is prepared by dissolving and dispersing in the organic solvent. As described above, organometallic complexes are currently used in a wide range of fields such as electronic equipment, ceramics, and crafts.
従来、 こ の様な用途に用 い られて き た有機金属錯体 と し ては、 パ ルサ ム系化合物、 例 えば硫化テ ル ビネ オール金 ( C :。 H , s S A u C 1 , ) 、 硫 ィ匕テ ル ビネ オー ル 白 金 ( C ,。 H , B S P t C 1 , ) 、 硫化テ ル ビネ オ一 ルパ Conventionally, as a organometallic complexes have been have use in such applications this, Pa Rusa beam based compound, eg if sulfide Te Le Binet ol gold (C:. H, s SA u C 1,), vulcanized I匕Te Le Binet Haut Le platinum (C,. H, B SP t C 1,), sulfide Te Le Binet per Rupa
I 一 ラ ジ ウ ム ( C ! o H ! s S P d C l x ) 等が知 られて いる c これ ら の化合物は 一般に金バ ルサム 、 白金バ ルサム 、 パラ ジ ウ ム バ ルサム と も略称されて お り 、 そ の他に も ロ ジ ウ ム バルサム、 ルテ ニ ウ ム サム等の貴金属バ ルサムが知 られてい る。 I one Radium (C! OH! S SP d Clx) is known. C These compounds are generally abbreviated as gold balsam, platinum balsam, and palladium balsam. In addition, precious metal balsams such as rhodium balsam and ruthenium hum are known.
これ ら従来のバ ルサム系化合物 を 、 金属ペー ス ト ゃ金属液等の金属組 成物の原 と し て利用する には以下の よ う な問題が残されていた.。  The following problems remain in using these conventional balsam compounds as a base for metal compositions such as metal pastes and metal liquids.
まず第 1 に、 これ ら の金属組成物を用 いて金属を析出 さ せよ う と する 場合に、 プ ロ セ ス上焼成工程を避け る こ と ができ ない。 バ ルサム系化合 物には塩素や硫黄が含まれてい る ため、 焼成工程で S O や C 1 ;:力;副産 物 と し て必然的に生成 され る。 こ れ らの有害物質が環境に放出 さ れ る と 、 作業員の衛生環境を悪 く す る だけ でな く 、 自 然環境一般に対 し て も悪い 影響を与 え る。 ま た 、 こ れ ら の有害物質を回収す る には脱硫装置な どの 多大な設備が必要 と な り 、 回収 と いっ て も 1 0 0 %回収す る こ と は困難 であっ た。 S O x やハ ロ ゲ ンは焼成用の設備を傷め る原因 と も な つ てお り 、 よ り 安全な金属膜形成用 の金属組成物が待望 さ れていた。  First, when attempting to deposit a metal using these metal compositions, the on-process firing step cannot be avoided. Since balsam compounds contain chlorine and sulfur, they are inevitably generated as by-products such as S0 and C1 in the firing process. The release of these harmful substances into the environment not only adversely affects the hygiene of workers, but also has a negative effect on the natural environment in general. In addition, a large amount of equipment such as a desulfurization unit was required to recover these harmful substances, and it was difficult to recover 100% of the harmful substances. Since SOx and halogen are also causes of damage to the baking equipment, a metal composition for forming a safer metal film has been desired.
第 2 に 、 焼成時に発生す る S O やハ ロ ゲ ン が素材に悪影響を与え る 場合があ る。 素材 を加熟 して金属以外の成分 を分解蒸発 さ せる の であ る が 、 s υ やハ ロ ゲ ンが素材を腐食 した り 、 硫黄原子やハ ロ ゲ ン原子が 素材中に不純物 と し て拡散す る場合があ る。 特に、 素材が電子部品であ る場合に はその電子特性に悪影響を与 え る場合も あ っ た。  Second, SO and halogen generated during firing may adversely affect the material. The material is ripened to decompose and evaporate components other than metal.However, sυ and halogens corrode the material, and sulfur and halogen atoms become impurities in the material. May spread. In particular, when the material was an electronic component, the electronic properties were sometimes adversely affected.
第 3 に、 バ ルサム 系化合物か ら 有機金属液を調製する場合に 、 使用 で き る 有機溶剤に は制 限があ っ た。 例 えば、 芳香族系 の溶剤に対 しては溶 解性が高いが 、 ア ル コ ー ル系の溶剤にはほ と ん ど溶解 しない。 ま た、 有 機金属ペー ス 卜 を調製する 上で必要な樹脂に も 同様な制限があ る。 例 え ば 、 樹脂がニ ト ロ セ ル ロ ー ス の場合、 ブ チ ル カ ル ビ ト ー ルやブチ ル カ ル ビ ト ールア テ ー ト 等の溶剤には可溶だが、 テ ル ビネ オールに は不要で あ る。 従っ て、 有機金属錯体側で溶剤が制限 さ れる と 自 ずから使用可能 な樹脂 も 制限さ れ る ため、 作成可能な金属べ一ス 卜 の種類が制限 され、 その用途 も制限 され る こ と になる。 Third, when preparing an organometallic liquid from a balsam-based compound, there are limitations on the organic solvents that can be used. For example, it is highly soluble in aromatic solvents, but hardly soluble in alcohol solvents. In addition, there are similar restrictions on the resins required for preparing an organic metal paste. For example, if the resin is nitrocellulose, it is soluble in solvents such as butyl carbitol and butyral carbitol acetate, but terbineol Not necessary for is there. Therefore, when the solvent is restricted on the organometallic complex side, the resin that can be used is naturally restricted, so that the types of metal bases that can be prepared are restricted, and their uses are also restricted. become.
(発明の開示) (Disclosure of the Invention)
本発明 は上記欠点を改善する ためにな さ れた も の であ り 、 金属組成物 の主成分であ る有機金属錯体 と して 、 硫黄や塩素 を含ま ない金属ァセチ リ ド化合物を用いる こ と を提案する。 こ の金属ァセチ リ ド化合物は、 一 般式 M ( — C ≡ C 一 R ) ,. (式中の Mは金属原子、 n は金属原子 Mの 価数、 R は酸素原子を含有する又は含有 しない炭化水素基) で表 され、 硫黄やハ ロ ゲン を構成元素 と して含ま ない。  The present invention has been made in order to improve the above-mentioned drawbacks, and uses a metal acetylide compound containing no sulfur or chlorine as an organometallic complex which is a main component of a metal composition. Suggest and. This metal acetylide compound has a general formula M (— C ≡ C 1 R), where M is a metal atom, n is the valence of the metal atom M, and R is an oxygen atom-containing compound. Hydrocarbon group), and does not contain sulfur or halogen as a constituent element.
前記金属ァセチ リ ド化合物を有機溶剤に溶解分散 させて有機金属液状 に した金属組成物を提案す る。 前記金属ァセチ リ ド化合物 と 、 粘度を調 製する樹脂 と 、 有機溶剤 を混練さ せて有機金属ペー ス ト 状に し た金属組 成物を提案する。 金属膜の密着性を高め る添加剤 を配合 し た金属組成物 を提案す る。 ま た、 金属元素の異な る複数の金属ァ セチ リ ド化合物を配 合 した金属組成物を提案す る。  The present invention proposes a metal composition in which the metal acetylide compound is dissolved and dispersed in an organic solvent to make an organic metal liquid. The present invention proposes a metal composition obtained by kneading the metal acetylide compound, a resin for adjusting viscosity, and an organic solvent to form an organic metal paste. We propose a metal composition containing an additive that enhances the adhesion of the metal film. In addition, a metal composition in which a plurality of metal acetylide compounds having different metal elements are combined is proposed.
これ ら の金属組成物を素材の表面に所望のパタ ー ンに塗着 し て金属組 成物膜を形成 し、 こ の金属組成物膜を加熱 して金属以外の物質を分解蒸 発 させ、 同時に金属を焼結 させて緻密な金属膜を形成する金属膜形成方 法を提案する。 こ の方法に よ り 所望のパ タ ー ンの金属膜を表面に形成 し た素材を提案する。  These metal compositions are applied on the surface of the material in a desired pattern to form a metal composition film, and the metal composition film is heated to decompose and evaporate substances other than metals. At the same time, we propose a metal film formation method that forms a dense metal film by sintering the metal. We propose a material with a metal film of the desired pattern formed on the surface by this method.
本発明者等は、 環境汚染原因 と なる硫黄やハロ ゲ ンを含有せず、 し力ゝ も 多 く の有機溶剤に可溶な有機金属錯体を鋭意研究 し た結果、 ァセチ レ ン誘導体の一種であ る金属ァセチ リ ド化合物が、 本発明の 目 的 に適合す る こ と を 見いだ し 、 こ の知 見に基づいて本発明 を なすに至 っ た。 即ち 、 本発明に用 い られ る有機金属錯体は、 一般式 M ( - C ≡ C - R ) , で表 さ れ る金属ァセチ リ ド化合物であ る。 こ の一股式の 中で Mは 金属原子 を表 し、 例 えば B i 、 C u 、 I n 、 N i 、 R u 、 R h 、 P d 、 A g 、 O s 、 I r 、 P t 、 A u 等の広範囲の金属元素から構成 される。 有機金属液や有機金属ペー ス ト 等の金属組成物 と しては、 安定性の高い 貴金属が よ く 用い られ、 こ こ で貴金属 と は、 A u 、 A g お よび白金族 ( R u 、 R h 、 P d 、 O s 、 I r 、 P t ) の金属元素を云 う 。 The present inventors have conducted intensive studies on organometallic complexes that do not contain sulfur or halogens that cause environmental pollution and are soluble in many organic solvents, and as a result, a type of acetylene derivative It has been found that such a metal acetylide compound is suitable for the purpose of the present invention, and based on this knowledge, the present invention has been accomplished. That is, the organometallic complex used in the present invention is a metal acetylide compound represented by the general formula M (-C≡C-R). In this single branch, M represents a metal atom, for example, B i, C u, In, N i, R u, R h, P d, A g, O s, I r, P t , Au, etc. As a metal composition such as an organic metal liquid or an organic metal paste, a highly stable noble metal is often used. Here, the noble metal includes Au, Ag, and platinum group (Ru, R h, P d, O s, I r, P t).
n は金属原子 Mの価数を表 し 、 例えば、 A u は 1 価 と 3 価、 A g は 1 価 と 2 価、 P t は 2 価 と 4 価 と 6 価等であ る。 つま り 、 金属元素の種類 に応 じ て その値が異な る だけでな く 、 特定の金属元素で も 複数の価数を 有 し てい る。  n represents the valence of the metal atom M. For example, Au is monovalent and trivalent, Ag is monovalent and divalent, and Pt is divalent, tetravalent and hexavalent. That is, not only does the value differ depending on the type of the metal element, but also a specific metal element has multiple valences.
金属ァ セチ リ ド化合物の配位子 一 C ≡ C — R 中の R は、 酸素原子を含 有する 又 は含有 しない炭化水素基で、 構成元素は C と H 、 又は C と H と Oであ る。 炭化水素基 R の炭素数は 1 〜 8 が望ま し く 、 従っ て配位子全 体 と して の炭素数は 3 〜 1 0 が望ま しい。 その理由 は、 炭素数が小 さ い と 金属ァ セチ リ ド化合物は溶剤に溶け難 く な る と 同時に、 爆発性が增大 し取扱が危険になる . - ま た 、 前記配位子の炭素数が大き く な る と 物質中 での金属重量が相対的に小 さ く な り 、 有機金属液や有機金属ベ ー ス ト に した と き に金属膜を形成でき な く なる。 つま り 、 こ の発明の金属ァセチ リ ド化合物 を金属組成物に利用する場合には、 溶剤に可溶で しかも一定 の金属重量が必要になる。 つま り 、 配位子 一 C ≡ C 一 Rの炭素数が 3 か ら 1 0 の範囲にあれば、 金属ァセチ リ ド化合物は溶媒に溶け易 く て し力 も 金属重量が相対的に も 大 き く な り 、 金属組成物 と して十分に用い る こ と ができ る。  Ligand of metal acetylide compound—R in C≡C—R is a hydrocarbon group containing or not containing an oxygen atom, and its constituent elements are C and H, or C, H, and O You. The hydrocarbon group R desirably has 1 to 8 carbon atoms, and accordingly, the ligand as a whole preferably has 3 to 10 carbon atoms. The reason is that if the number of carbon atoms is small, the metal acetylide compound becomes difficult to dissolve in the solvent, and at the same time, the explosive property becomes large and the handling becomes dangerous. As the number increases, the weight of the metal in the substance becomes relatively small, and it becomes impossible to form a metal film when using an organic metal liquid or an organic metal base. In other words, when the metal acetylide compound of the present invention is used for a metal composition, a metal weight that is soluble in a solvent and that is constant is required. In other words, when the number of carbon atoms of the ligand C CC 数 R is in the range of 3 to 10, the metal acetylide compound is easily soluble in the solvent, and the power and the metal weight are relatively large. Thus, it can be sufficiently used as a metal composition.
炭化水素基 R と して 、 酸素 を含有する 場合には水酸基 と し て 含有す 脂肪族炭化水素基が あ る こ の場合には直鎖状で も よ い し 、 側鎖を有 て も よ い。 配位子一 C ≡ C 一 R の具体例 と して 、 H — C ¾ C — Rの形で ブ ロ ピ ン 、 2 — プ ロ ピ ン 一 1 — ォ ー 1 — ブチ ン 一 3 — オ ー ル 、 3 — メ チ 1 — ブチ ン 一 3 — オ ー ル、 3, 3 — ジ メ チ ル 一 1 ー ブ チ ン 、 1 一 ベ ンチ ン 、 1 — ペ ンチ ン 一 3 — ォ ー 4 — ペ ン チ ン 一 1 — オ When the hydrocarbon group R contains oxygen, it contains an aliphatic hydrocarbon group as a hydroxyl group when it contains oxygen, and in this case, it may be linear or may have a side chain. You may. As specific examples of the ligand C 一 C R R, H — C ¾ C R R in the form of ropin, 2 プ propyl 1 1 1 ォ 1 ブ 1 ブ 3 オ, 3 — Methyl 1 — Butine 1 3 — All, 3, 3 — Dimethyl 1-1 -butyl, 1-Bentin, 1 — Pentin 1 3-4 4 — Pentin 1 1 — E
4 — ベ ン チ ン 一 2 — ォ ー 4 一 メ チ ル 一 1 — ペ ン チ ン 、 3 — メ チ 1 一 ベ ン チ ン 一 3 — オ ー ル 、 3 , 4 — ジ メ チ ル ー 1 一 ペ ン チ ン — 3 — ォ 1 — へ キ シ ン 、 1 キ シ ン 一 3 — ォ 一 5 — へ キ シ ン 一 1 — ォ 一 ,レ、 5 — メ チノ 1 キ シ ン 、 5 — メ チル ー 1 — へ キ シ ン 一 3 — オ ー ル 、 3 , 5 — ジ メ チ ル ー 1 キ シ ン 一 3 — オ ー ル、 1 ブチ ン 、 1 一 ヘプチ ン 一 3 — オ ー ル 、 5 — ヘプチ ン 一 3 — オ ー ル 、 3 , 6 — ジ メ チル ー 1 一 ヘ プチ ン 一 3 — オ ー ル 、 1 ー ォ ク チ ン 、 1 — ォ ク チ ン — 3 — オー ル等力 Sあ る。 4—Ventin 1 2—O 4 1 Methyl 1 1—Pentin, 3—Met 1 1 Ventin 1 3—Owl, 3, 4—Dimethyl 1 Pentin — 3 — O 1 — Hexin, 1 Kisin 1 — 3 — O 1 5 — Hexin 1 1 — O 1, Re, 5 — Metino 1 Kisin, 5 — Methyl 1 — hex 1 3 — all, 3, 5 — dimethyl 1 ix 1 3 — all, 1 butyl, 1 heptin 1 — 3 — all , 5-heptin 1-3-all, 3, 6-dimethyl-1-1 octin 3-all, 1-octin, 1-octin-3-o There is a certain strength S.
ま た、 炭化水素基 R と し て 、 酸素を含有する場合には水酸基 と し て含 有する環状炭化水素 を少な く と も 含んだ炭化水素基があ る。 こ の炭化水 素基には、 直鎖に環状炭化水素基があ っ て も よ い し 、 側鎖に環状炭化水 素基を含んで も よ い - も ち ろん、 R 全体が環状炭化水素であ る場合を含 む。 配位子一 C 三 C — Rの具体例 と して は、 H — C 三 C 一 R の形で 1 一 ェ チ ニ ル ー 1 ー シ ク ロ ブ ロ ハ ノ 1 — ェ チ ュ ル 一 1 — シ ク ロ ブ タ ノ 一 1 — ェチ ニ 1 ー シ ク ロ ペ ン タ ノ ー ル、 1 一 ェチ ニ i ー シ ク ロ へキ サ ノ 1 — プ ロ ピ ン 一 3 — シ ク ロ ブ ロ バ ノ ー ル 、 i 一 プ ロ ピ ン 一 3 — シ ク ロ ブ タ ノ ー ル、 1 一 プ ロ ピ ン 一 3 — シ ク ロ ベ ン タ ノ 一 1 ー ブチ ン 一 4 — シ ク ロ プ ロ パ ノ 1 ー ブチ ン 一 4 — シ ク ロ ブ タ ノ — ル 、 1 — ペ ンチ ン 一 5 — シ ク ロ プ ロ パ ノ ー ル等 力 S あ る。  Further, when the hydrocarbon group R contains oxygen, there is a hydrocarbon group containing at least a cyclic hydrocarbon contained as a hydroxyl group. This hydrocarbon group may have a cyclic hydrocarbon group in a straight chain or may have a cyclic hydrocarbon group in a side chain-as a matter of course, the entire R is a cyclic hydrocarbon group. Including the case of hydrogen. As a specific example of the ligand C 3 C—R, H—C 3 C—R is in the form of 1—ethyl 1-cyclobromo 1—ethyl 1 1 — cyclobutano 1 — echini 1-cyclopentanol, 1 echini i-cyclohexano 1 — propyne 1 3 — ci Cloblobanol, i-propyne 13 — cyclobutanol, 11-propyne 13 — cycloventanol 1-butyne 14 — Cyclopropanol 1-butyne 1 4 — Cyclopropanol 1, pentin 1 5 — Cyclopropanol 1
本発明 に係る金属ァセチ リ ド化合物は上述 した よ う に、 金属元素、 炭 素 、 水素お よ び /ま た は酸素のみか ら構成 さ れてお り 、 焼成に よ り 分解 して も ガス と して は二酸化炭素、 水蒸気、 その他焼成温度に よ っ て一部 炭化水素が生成 さ れる だけで、 s O やハ ロ ゲ ン ガス等環境に対 し有害 な物質は生成 さ れない: 従 っ て、 環境や生物に と っ て極めて安全で清浄 な有機金属錯体であ る。 As described above, the metal acetylide compound according to the present invention is composed only of a metal element, carbon, hydrogen, and / or oxygen, and even if it is decomposed by calcination, it is a gas. As a result, carbon dioxide, water vapor, and other parts depend on the firing temperature. Only hydrocarbons are produced, but no harmful substances such as s O and halogen gas are produced: Therefore, organometallic complexes that are extremely safe and clean for the environment and organisms It is.
発明 に係 る金属組成物は有機金属液 と 有機金属ベース ト に分類 さ れ る = 有機金属液は有機金属錯体であ る金属ァ セチ リ ド化合物を有機溶剤 に溶解 ' 分散 させた も の で 、 通常の液体であ る。 有機金属ペース ト は金 厲ァセチ リ ド化合物 と 粘度調製用 の樹脂 を有機溶剤に混入 させた も の で 、 使用態様に よ り 粘度を增大 さ せた り 減少 させた り し た も のであ る。 粘度 の小 さ な液体状の金属組成物は有機金属液 と 言っ て も よい し、 有機金属 ベー ス ト と 言っ て も よ く 、 両者の境界は明確に定義でき ない。 Engaging Ru metal composition invention organometallic liquid and are classified as organometallic-Based Ru = organometallic liquid also to a and the metal § isethionate Li de compound Ru der organometallic complex dissolved in an organic solvent 'is dispersed It is a normal liquid. The organometallic paste is a mixture of a gold acetylide compound and a resin for viscosity adjustment in an organic solvent, and the viscosity is increased or decreased depending on the usage. You. The liquid metal composition having low viscosity may be referred to as an organometallic liquid or an organometallic base, and the boundary between the two cannot be clearly defined.
従来のバルサ ム系化合物 と 異な り 、 金属ァセチ リ ド化合物は極性、 非 極性を問わず広範囲の有機溶剤 に溶解す る。 有機溶剤の具体例 と して は、 石 油系溶剤 、 テ ル ビ ネ オ一 ル 、 プ チ ル カ ル ビ ト ー ル 、 乳酸ェチ ル等 のェ ス テ ル類、 セ ロ ゾ ル ブ類、 ア ル コ ー ル類、 芳香族類、 D E P ( ジェ チ フ タ レ ー ト ) 等が あ る。  Unlike conventional balsam compounds, metal acetylide compounds are soluble in a wide range of organic solvents, both polar and non-polar. Specific examples of the organic solvent include petroleum-based solvents, esters such as terbineol, petal carbitol, and ethyl lactate, and cellosolve. , Alcohols, aromatics, and DEP (jetiphthalate).
有機金属べ一ス ト の粘度は、 素材への塗着条件 (印刷条件) 、 焼成条 件及び焼成後の表面状態に よ り 異な り こ の粘度 を調製するために樹脂 が混入さ れる。 樹脂 と して は金属ァセチ リ ド化合物 と 共に有機溶剤に溶 解 · 分散 し易い こ と が要請 さ れる。 金属ァセチ リ ド化合物は多 く の有機 溶剤に よ く 溶解する ので、 これ ら の有機溶剤に溶解 · 分散でき る樹脂の 選択幅は、 従来のバ ルサム系化合物 と 比較する と は る かに広 く な る:: 例 え ば、 ェ チ ルセ ル ロ ー ス 、 ニ ト ロ セ ノレ ロ ー ス 、 ア ス フ ァ ル ト 、 ブチ ラ ー ル 、 ァ ク リ ノレ コ パ イ バ ルサム 、 ダ ン 等ま た こ れ ら の関連物質が樹脂 と し て利用でき る。  The viscosity of the organometallic base differs depending on the application conditions (printing conditions) to the material, the firing conditions and the surface state after firing, and a resin is mixed in to adjust the viscosity. The resin is required to be easily dissolved and dispersed in an organic solvent together with the metal acetylide compound. Since metal acetylide compounds dissolve well in many organic solvents, the choice of resins that can be dissolved and dispersed in these organic solvents is much wider than conventional balsam compounds. It becomes: For example, ethylcellulose, nitroselorose, asphalt, butyral, acrylocobalms, dan Equally, these related substances can be used as resin.
上述 し た金属ァセ チ リ ド化合物 と 有機溶剤 を混合 し て有機金属液 を製 造す る。 こ の場合、 金属ァセチ リ ド化合物は 6 0 重量部〜 1 0 重量部、 有機溶剤 は 3 0 重量部〜 9 0 重量部が望ま し く 、 こ れに後述する添加剤 を 1 0 重量部〜 1 重量部配合すれば好適 であ る。 更に、 樹脂を微量添加 する場合があ る。 金属ァセチ リ ド化合物が こ れよ り 小量にな る と 、 金属 重量が少 な く なつ て金属膜を形成でき な く な り 、 これよ り 多量になる と 金属ァ セチ リ ド化合物は有機溶剤 中 に分散 し き れず沈殿す る よ う にな る。 従っ て 、 こ の範囲が 良好な有機金属液を提供でき る。 金属膜を形成す る 素材、 加熟温度 、 膜厚等の条件に応 じて最適の配合量に設定でき る。 ま た、 金属ァセチ リ ド化合物、 有機溶剤及び樹脂を混合 して有機金属 ベ一 ス ト を製造する。 こ の場合、 成分の配合量は、 金属ァセチ リ ド化合 物は 6 0 重量部〜 1 0 重量部、 有機溶剤 は 3 0 重量部〜 8 5 重量部及び 榭脂は 3 重量部〜 3 0 重量部が望ま しい。 こ れに必要な ら ば、 添加剤 を 1 重量部〜 1 0 重量部配合する こ と も で き る。 The above-mentioned metal acetylide compound and an organic solvent are mixed to produce an organic metal liquid. In this case, the metal acetylide compound is 60 to 10 parts by weight, The organic solvent is desirably 30 parts by weight to 90 parts by weight, and it is preferable to add 10 parts by weight to 1 part by weight of an additive described later thereto. In addition, a small amount of resin may be added. When the amount of the metal acetylide compound is smaller than this, the metal weight is so small that a metal film cannot be formed, and when the amount is larger, the metal acetylide compound becomes organic. It cannot be dispersed in the solvent and precipitates. Therefore, an organometallic liquid having a favorable range can be provided. The optimum blending amount can be set according to the conditions such as the material for forming the metal film, the ripening temperature, and the film thickness. In addition, a metal acetyl compound, an organic solvent and a resin are mixed to produce an organic metal base. In this case, the compounding amounts of the components are 60 to 10 parts by weight for the metal acetylide compound, 30 to 85 parts by weight for the organic solvent, and 3 to 30 parts by weight for the resin. Department is desirable. If necessary, the additives can be added in an amount of 1 to 10 parts by weight.
こ の範囲で製造 さ れる有機金属べ一ス ト の粘度は 5 O p (ポア ズ) 〜 δ 0 0 0 p (ポア ズ) の範囲にな る。 粘度が下限値よ り 小 さ く なる と 有 機金属ベー ス ト は有機金属液に近づき 、 粘度が上限値よ り 大 き く な る と 、 素材表面 に金属組成物を塗着 した と き そ の膜厚を薄 く する こ と が困難に な る .. 有機金属へー ス ト の粘度はその用途に応 じ て 自 在に変更でき る。 有機金属液又 は有機金属ペー ス ト を製造す る には、 金属ァセチ リ ド化 合物、 有機溶媒、 樹脂、 添加剤から必要な成分を選択 し 、 それ らの必要 重量を容器内 に充填 し て混練装置を用いて均一 に溶解分散 させ る。 こ の 混合液を 一段又は複数段の メ ッ シ ュ に通 し て 、 ゴ ミ ゃ大き な粒子を除去 する こ の結果、 微細で均一に溶解 · 分散 し た有機金属液、 有機金属ぺ — ス ト を得る こ と ができ る。 金属ァセチ リ ド化合物は従来の有機金属錯 体 と 比較 し て有機溶剤に非常に溶解 し易 いか ら 、 単純な上記の混練攪拌 工程で均一 に溶解 · 分散 し た金属組成物が得 られる利点を有す る: 上記製法で製造 さ れた有機金属液又は有機金属ペー ス ト を用 いて素材 表面に金属組成物膜を形成する。 素材には種 々 の物品があ り 、 特定物品 に限らず極めて広範囲の物品が本発明の対象 と な る。 例えば、 陶芸品、 タ イ ル、 ガラ ス製品等の装飾品か ら電子部品、 例えばプ リ ンタ 一のサ一 マルへ ッ ド用の電極等があ る。 The viscosity of the organometallic base produced in this range is in the range of 5 Op (poise) to δ0000p (poise). When the viscosity becomes lower than the lower limit, the organic metal base approaches the organometallic liquid, and when the viscosity becomes higher than the upper limit, the metal composition is applied to the surface of the material. It will be difficult to reduce the thickness of the metal paste .. The viscosity of the organometallic paste can be changed independently according to the application. To produce an organometallic liquid or organometallic paste, select the necessary components from metal acetylide compounds, organic solvents, resins, and additives, and fill the container with the required weight. Then, it is uniformly dissolved and dispersed using a kneading device. This mixture is passed through one or more stages of mesh to remove tiny particles. As a result, finely and uniformly dissolved and dispersed organometallic solution, organometallic solution is removed. You can get Metal acetylide compounds are much easier to dissolve in organic solvents than conventional organometallic complexes, and therefore have the advantage of obtaining a metal composition that is uniformly dissolved and dispersed in the simple kneading and stirring step. Has: Material using organometallic liquid or organometallic paste manufactured by the above process A metal composition film is formed on the surface. There are various types of materials, and the present invention covers not only specific products but also a very wide range of products. For example, there are decorative items such as ceramics, tiles, and glass products, as well as electronic components, such as electrodes for a printer's general head.
有機金属液で素材表面に所定パ タ ー ン の金属組成物膜を形成する には、 単純な筆書きやデ ィ ップ法等があ る。 ま た、 金属ぺ一 ス ト の場合には、 ス ク リ ー ン印刷、 パ ッ ド印刷、 転写、 デ ィ ッ プ法等の方法があ る。  In order to form a metal composition film of a predetermined pattern on a material surface with an organic metal liquid, there are simple writing and dipping methods. In the case of a metal sheet, there are methods such as screen printing, pad printing, transfer, and dipping.
次;こ金属組成物膜を焼成 して金属膜を形成する。 素材全体を加熱炉に 投入 して焼成温度ま で加熱 して も よ い し 、 素材表面の金属組成物膜部分 を ガスバーナー等で局所的に加熱 して も構わない。 焼成する と 、 有機溶 剤や樹脂、 添加剤、 ま た金属ァセチ リ ド中の金属以外の配位子は熱分解 し て蒸発 し、 残留 し た金属原子は相互に結合 · 成長 し なが ら金属膜を形 成する。 こ の金属膜は装飾品では装飾膜 と な り 、 ま た電子部品 では電極 と な る等、 目 的に応 じて適宜の機能を奏する。  Next, the metal composition film is fired to form a metal film. The entire material may be put into a heating furnace and heated to the firing temperature, or the metal composition film on the material surface may be locally heated with a gas burner or the like. During firing, ligands other than metals in organic solvents, resins, additives, and metal acetylide are thermally decomposed and evaporated, and the remaining metal atoms bond and grow with each other. Form a metal film. The metal film functions as a decoration film in a decorative product, and functions as an electrode in an electronic component.
本発明の金属組成物には次の よ う な特徴があ る。 第 1 に硫黄や塩素 を 含んでいないので、 焼成段階で S O x やハ ロ ゲ ン の よ う な有害物質を放 出せず、 環境に対 し清浄で、 しか も脱硫装置等の装置が不要 と な る。 第 2 に、 金属ァセチ リ ド化合物の分解温度は約 4 0 0 度であ り 、 従来 の有機金属錯体の分解温度 よ り やや低い。 つま り 、 4 0 0 度以上の温度 と い う 比較的低温で焼成が可能であ る か ら 、 低融点の ガラ ス等多 く の素 材に適用 でき 、 素材の変質 · 熱変成を防止でき る。  The metal composition of the present invention has the following features. First, because it does not contain sulfur or chlorine, it does not emit harmful substances such as SOx and halogen during the firing stage, is environmentally clean, and requires no equipment such as desulfurization equipment. Become. Second, the decomposition temperature of the metal acetylide compound is about 400 degrees, which is slightly lower than the decomposition temperature of the conventional organometallic complex. In other words, since it can be fired at a relatively low temperature of 400 ° C. or more, it can be applied to many materials such as low-melting glass, and can prevent deterioration and thermal denaturation of the material. You.
第 3 に、 焼成後の金属膜が鏡面の よ う に平滑に仕上が り 、 装飾品は も ち ろん、 電子部品の よ う に高精度 を要求 され る分野で能力 を発揮でき る。  Third, the fired metal film can be finished smoothly like a mirror surface, and can be used in fields where high precision is required, such as decorative parts, as well as electronic parts.
(発明 を 実施す るための最良の形態) (Best mode for carrying out the invention)
本発明 を実施する ため の最良の形態を 実施例 と し て以下に説明する。 実施例 1 [金ペー ス ト の作成 ] The best mode for carrying out the present invention will be described below as an embodiment. Example 1 [Preparation of gold paste]
金ァセチ リ ド 4 0 部、 ナ フ テ ン酸 ビ ス マ ス 0 . 8 部、 ロ ジ ウ ムァセチ リ ド 0 . 0 8 部、 ェ チ ルセ ル ロ ー ス 6 部、 テ ル ビ ネ オ一 ル 3 8 部を混練 した と こ ろペー ス ト 状にな っ た。 でき あがっ たペー ス ト を ゴ ミ を除去す る ためメ ッ シ ュ に通 した。 こ の金ペース ト を ス ク リ ー ン印刷に よ り 陶器 と ガラ ス 上に塗着 した後焼成する と 、 光沢のあ る金色のパタ ー ンが得 ら れた。  Gold acetylide 40 parts, naphthenic acid bismuth 0.8 parts, rhodium acetylide 0.08 parts, ethylcellulose 6 parts, terbione When thirty-eight parts were kneaded, they became paste-like. The resulting paste was passed through a mesh to remove debris. When this gold paste was applied on pottery and glass by screen printing and then fired, a shiny golden pattern was obtained.
実施例 2 [金べ一ス ト の作成 ]  Example 2 [Preparation of gold list]
金ァセチ リ ド 4 0 部、 ナフテ ン酸 ビ ス マ ス 5 . 5 部、 ロ ジ ウ ムァセチ リ ド 0 . 0 8 部、 ニ ト ロ セ ル ロ ー ス 5 部、 ブチノレ カ ノレ ビ ト 一ノレ 3 9 部を 混練 した と こ ろペー ス ト状になっ た。 こ の べ 一 ス ト を メ ッ シ ュ に通 し て ゴ ミ を除去 した。 こ の金ペー ス ト を ス ク リ ー ン印刷に よ り 陶器 と ガラ ス 上に塗着 した後焼成 した と こ ろ、 光沢の あ る 金色のパタ ー ンが得 られた。  Gold acetylide 40 parts, naphthenic acid bismuth 5.5 parts, rhodium acetyl chloride 0.08 parts, nitrocellulose 5 parts, butinole cane bite 39 When 9 parts were kneaded, it became paste-like. This base was passed through a mesh to remove debris. When this gold paste was applied to pottery and glass by screen printing and then baked, a shiny golden pattern was obtained.
実施例 3 [金銀べ一ス ト の作成 ]  Example 3 [Preparation of gold and silver base]
金ァセチ リ ド 4 0 部、 ォ ク チル酸 ビス マ ス 5 . 5 部、 銀ァ セチ リ ド 1 0 部、 ロ ジ ウ ム ァセチ リ ド 0 . 1 部、 ェ チルセル ロ ー ス 4 部、 乳酸ェチ ル 1 5 部、 ブチル カル ビ ト ール 2 0 部を混練 した と こ ろべ一ス ト 状;こな つ た こ のべ一ス ト を メ ッ シュ に通 して ゴ ミ を除去 した。 こ の金銀べ一 ス ト を ス ク リ ー ン印刷によ り 陶器 と ガラ ス 上に塗着 した後焼成 した と こ ろ 、 金光沢の強いパ タ ー ンが得 られた。  40 parts of gold acetylide, 5.5 parts of bismuth octylate, 10 parts of silver acetylide, 0.1 part of rhodium acetylide, 4 parts of ethylcellulose, lactic acid Kneaded with 15 parts of ethyl and 20 parts of butyl carbitol in the form of a roll; remove the dust by passing the roasted paste through a mesh did. When this gold and silver paste was applied to pottery and glass by screen printing and then baked, a pattern with strong gold luster was obtained.
実施例 4 [金ペー ス ト の作成 ]  Example 4 [Preparation of gold paste]
金ァセチ リ ド 1 4 部、 ォク チノレ酸ビ ス マ ス 2 . 0 部、 銀ァセチ リ ド 0 . 7 部、 ロ ジ ウ ムァセチ リ ド 0 . 0 2 8 部 、 ェチルセルロ ー ス 6 部、 ニ ト ロ セ ルロ ー ス 4 部、 乳酸ェチル 3 0 部、 ブチル カ ル ビ ト ーノレ 4 0 部を混 練 し た と こ ろペー ス ト 状に なっ た。 出来上が っ たペー ス ト は ゴ ミ 除去の ため に メ ッ シュ に通 さ れた。 こ の金ペー ス ト を ス ク リ ー ン印刷によ り 陶 器 と ガラ ス 上に塗着 し焼成 した と こ ろ 、 光沢のあ る 金色のパタ ー ンが得 られた。 14 parts of gold acetylide, 2.0 parts of bismuth octinoleate, 0.7 part of silver acetylide, 0.028 parts of rhodium acetylide, 6 parts of ethylcellulose, 2 parts When kneaded with 4 parts of cellulose acetate, 30 parts of ethyl lactate and 40 parts of butyl carbitol, it became paste-like. The finished paste was passed through a mesh to remove debris. This gold paste is screen printed by screen printing. When applied and baked on the glass and glass, a shiny golden pattern was obtained.
実施例 5 [金 白金べ一ス ト の作成 ]  Example 5 [Preparation of gold platinum base]
白金ァセチ リ ド 1 2 部、 金ァセチ リ ド 1 9 部、 ォク チル酸ビ ス マ ス 3 · 3 部、 ロ ジ ウ ムァセチ リ ド 0 . 0 4 8 部、 ェチルセル口 一ス 8 部、 乳酸 ェチル 2 0 部、 ブチルカル ビ ト ール 3 5 部を混練 した と こ ろペース ト 状 になっ た。 出来上がっ たペー ス ト を ゴ ミ 除去のためにメ ッ シ ュ に通 した。 こ の金白金ペー ス ト をス ク リ ー ン印刷に よ り 陶器 と ガラ ス 上に塗着 し焼 成 し た と こ ろ 、 白色金属光沢の強いパタ ー ンが得 られた。  12 parts of platinum acetylide, 19 parts of gold acetylide, 3.3 parts of bismuth octylate, 0.04 part of rhodium acetyl chloride, 8 parts of ethylcell mouth, 8 parts of lactic acid When 20 parts of ethyl and 35 parts of butyl carbitol were kneaded, the mixture became pasty. The finished paste was passed through a mesh to remove debris. This gold-platinum paste was applied on ceramics and glass by screen printing and baked. As a result, a pattern with strong white metallic luster was obtained.
実施例 6 [パラ ジ ウ ム金ペー ス ト の作成 ]  Example 6 [Preparation of palladium gold paste]
パラ ジ ウ ムァセチ リ ド 1 0 部、 金ァセチ リ ド 2 0 部、 ォク チル酸ビ ス マ ス 3 . 8 部、 ロ ジ ウ ムァ セチ リ ド 0 . 0 5 部、 ェ チ ル セ ル ロ ー ス 8 部、 乳酸ェ チ ル 2 0 部、 ブチル カ ル ビ ト ー ル 3 5 部を混練 した と こ ろベー ス 卜 状にな っ た。 出来上がっ たペー ス 卜 を ゴ ミ 除去の ために メ ッ シュ に通 した。 こ のパラ ジ ウ ム金ベース ト をス ク リ ー ン 印刷によ り 陶器 と ガラ ス 上に塗着 し焼成 した と こ ろ 、 白色金属光沢のパ タ ー ンが得 られた。  10 parts of palladium acetylide, 20 parts of gold acetylide, 3.8 parts of bismuth octylate, 0.05 part of rhodium acetyl chloride, ethylcellulo When 8 parts of base, 20 parts of ethyl lactate and 35 parts of butyl carbitol were kneaded, the mixture became a base. The resulting paste was passed through a mesh to remove debris. When this palladium gold base was applied on ceramics and glass by screen printing and baked, a pattern with a white metallic luster was obtained.
実施例 7 [金液の作成 ]  Example 7 [Preparation of gold solution]
金ァセチ リ ド 2 4 部、 ォ ク チル酸ビ ス マ ス 3 . 3 部、 ロ ジ ウ ムァセチ リ ド 0 . 0 4 8 部、 コ パイ バノレサム 2 0 部、 乳酸ェチル 4 5 部、 D E P 5 部を攪拌 した と こ ろ液体状になった。 出来上がっ た金液は ゴ ミ 除去の ために濂過 さ れた。 こ の金液を筆塗 り に よ り 陶器 と ガラ ス 上に塗着 した 後焼成す る と 、 光沢のあ る 金色のパタ ー ンが得 られた。  24 parts of gold acetylide, 3.3 parts of bismuth octoate, 0.048 parts of rhodium acetylide, 20 parts of kopaibanolesam, 45 parts of ethyl lactate, 5 parts of DEP When stirred, it became liquid. The resulting gold liquor was filtered to remove debris. When this gold solution was applied to pottery and glass by brush painting and then baked, a shiny golden pattern was obtained.
実施例 8 [プ リ ン タ ー · サ一マルへ ッ ド電極への金ペー ス ト の応 用―」  Example 8 [Application of Gold Paste to Printer / Head Head Electrode-]
金ァセチ リ ド 3 6 部、 ナ フ テ ン酸ビ ス マ ス 3 . 0 部、 ロ ジ ウ ム ァセチ リ ド 0 . 0 3 6 部、 ェチル セ ノレ ロ ー ス 7 部、 ア ス フ ァ ル ト 1 部 、 プチノレ カ ル ビ ト ー ル 4 9 部、 D E P 3 部を混練 した と こ ろべ一ス ト 状になっ た , でき あが っ たペー ス ト を ゴ ミ を除去する ため メ ッ シ ュ に通 した。 こ の金 ペース ト をス ク リ ー ン印刷に よ り セ ラ ミ ッ ク ス 上にパターエ ン グ した後 焼成する と 、 平滑な金のパタ ー ンが得 られた。 こ の金のパタ ー ンをプ リ ン タ 一のサ一マルへ ッ ドの電極 と して用 いた と こ ろ 、 電気伝導性能の点 で優れてい る こ と が分かっ た。 36 parts of gold acetylide, 3.0 parts of bismuth naphthenate, 0.036 parts of rhodium acetylide, 7 parts of ethyl cenorylose, asphal Part 1, Petit Norre After mixing 49 parts of carbitol and 3 parts of DEP, the resulting paste became a paste.The finished paste was passed through a mesh to remove debris. . When this gold paste was patterned on ceramics by screen printing and then baked, a smooth gold pattern was obtained. When this gold pattern was used as the electrode of the thermal head of the printer, it was found that it was excellent in terms of electric conduction performance.
実施例 9 [ 白金ペー ス ト の特殊セ ラ ミ ッ ク ス への応用 ]  Example 9 [Application of platinum paste to special ceramics]
白金ァ セ チ リ ド 6 0 部、 ニ ト ロ セル ロ ー ス 8 部、 ブチル カ ノレ ビ ト ール ァセテ一 ト 3 2 部を混練 した と こ ろペー ス ト 状になっ た。 でき あがっ た ペー ス ト を ゴ ミ を除去する ため メ ッ シュ に通 した。 こ の 白金ペース ト を ス ク リ ー ン印刷に よ り 半導体製造用の特殊セ ラ ミ ッ ク ス上にパタ ーニ ン グ した後焼成する と 、 平滑な 白 金のパタ ー ンが得 られた。 こ の特殊セ ラ ミ ッ ク ス を半導体製造装置の電極 と して利用する と 、 電気伝導性能が便 れてレ、 る こ と が分かっ た。  When 60 parts of platinum acetylide, 8 parts of nitrose cellulose, and 32 parts of butyl canolebitol acetate were kneaded, a paste was formed. The resulting paste was passed through a mesh to remove debris. If this platinum paste is patterned on a special ceramic for semiconductor manufacturing by screen printing and then fired, a smooth white gold pattern can be obtained. Was. It has been found that when this special ceramic is used as an electrode of a semiconductor manufacturing apparatus, the electric conduction performance is improved.
実施例 1 0 [電子部品電極への金 白 金ペー ス ト の応用 ]  Example 10 [Application of gold-white gold paste to electronic component electrode]
金ァセチ リ ド 1 7 部、 白 金ァ セチ リ ド 1 8 部、 ォク チル酸 ビ ス マ ス 3 3 部、 ロ ジ ウ ム ァセチ リ ド 0 . 0 7 2 部、 ェ チ ルセ ル ロ ー ス 4 部、 石油 系樹脂 1 5 部、 テ ル ビネオ一ル 2 0 部、 ブチルカ ル ビ ト ー ル 2 0 部、 D E P 5 部を混練 した と こ ろペー ス ト状になっ た。 出来上がっ たペース ト を ゴ ミ 除去のために メ ッ シュ に通 した。 こ の金白 金ぺ一ス ト を ス ク リ 一 ン印刷に よ り セ ラ ミ ッ ク ス 上にパ タ ーエ ン グ し た後焼成 した と こ ろ、 平 滑な金白 金合金のパ タ ー ン が得 られた。 こ のパタ ー ン を電子部品の電極 と して用 いた と こ ろ 、 電気伝導性能の点で優れてい る こ と が分か り 、 他 の電子部品の電極 と し て も利用 で き る こ と が分かっ た。  17 parts of gold acetylide, 18 parts of white gold acetylide, 33 parts of bismuth octylate, 0.072 parts of rhodium acetylide, ethylcellulose When 4 parts, 15 parts of petroleum-based resin, 20 parts of terbineol, 20 parts of butylcarbitol and 5 parts of DEP were kneaded, a paste was formed. The finished paste was passed through a mesh to remove debris. This gold-white gold paste was patterned on ceramics by screen printing and then fired. The pattern was obtained. When this pattern was used as an electrode for electronic components, it was found that it was excellent in terms of electrical conduction performance, and it could be used as an electrode for other electronic components. I understood that.
実施例 1 1 [電子部品電極へのパラ ジ ウ ム金ペー ス ト の応用 ] 金ァセチ リ ド 1 8 部、 パラ ジ ウ ムァセチ リ ド 1 2 部、 ォク チル酸ビ ス マ ス 2 . 5 部、 ロ ジ ウムァセチ リ ド 0 . 0 4 部、 ェチルセ ル ロ ー ス 5 部、 石油系樹脂 1 7 部、 テル ビネオール 1 5 部、 ブチル カ ル ビ ト ール 2 5 部、 D E P 5 部を混練 した と こ ろペー ス ト 状になっ た。 出来上がっ たペー ス ト を ゴ ミ 除去のためにメ ッ シ ュ に通 した。 こ のノ ラ ジ ウム金ペー ス ト を ス ク リ 一 ン印刷に よ り セ ラ ミ ッ ク ス上にパタ ーユ ング した後焼成 した と こ ろ、 平滑なパラ ジ ウム金合金のパタ ー ンが得 られた。 こ のパターンを 電子部品の電極 と して用いた と こ ろ、 電気伝導性能の点で優れてい る こ と が分か り 、 他の電子部品の電極 と して も利用でき る こ と が分かつ つ た。 Example 11 1 [Application of palladium gold paste to electronic component electrode] 18 parts of gold acetylide, 12 parts of palladium acetylide, bis (octylate) 2.5 parts of mass, 0.4 parts of rhodium acetylide, 5 parts of ethylcellulose, 17 parts of petroleum resin, 15 parts of tervineol, 25 parts of butyl carbitol, When 5 parts of DEP were kneaded, it became paste-like. The finished paste was passed through a mesh to remove debris. This palladium gold paste was patterned on ceramics by screen printing and then baked, resulting in a smooth palladium gold alloy pattern. Was obtained. When this pattern was used as an electrode of an electronic component, it was found that it was excellent in terms of electrical conduction performance, and that it could be used as an electrode for other electronic components. I got it.
本発明 は上記実施例に限定され る も のではな く 、 本発明の技術的思想 を逸脱 し ない範囲における種々 の変形例、 設計変更な どをその技術的範 囲内に包含する も のであ る。  The present invention is not limited to the above-described embodiments, but includes various modifications and design changes within the technical scope thereof without departing from the technical idea of the present invention. .
(産業上の利用) (Industrial use)
本発明 は以上詳述 したよ う に、 金属源 と して 、 一般式 M ( — C ≡ C R ) „ (式中 の Mは金属原子、 n は金属原子 Mの価数、 R は酸素原子 を含有す る又は含有 しない炭化水素基) で表 さ れ る金属ァセチ リ ド化合 物を用い、 これに有機溶剤、 お よ び ま たは樹脂を混練 し て金属液、 金 属ベー ス ト の よ う なメ ツ キ用金属組成物を製造する ものであ る。 金属ァ セチ リ ド化合物は各種の有機溶剤に溶解 し易いため、 メ ツ キ用金属組成 物の金属原料 と して好適であ る。 ま た、 こ の金属ァセチ リ ド化合物は硫 黄お よ びハ ロ ゲ ン元素を含有 していないため、 焼成時に S O 、 ハ ロ ゲ ン等の環境汚染物質を放出する こ と がな く 、 環境の清浄化に寄与でき る 利点を持つ。 その結果、 脱硫装置等の設備機材を不要 と し、 安価に金属 膜を形成する こ と ができ る。 こ の金属液又は金属ペー ス ト を素材に塗着 後焼成する と 、 極めて平滑で微密 な金属膜を形成でき 、 ま た高度の金属 光沢を示すから 、 陶磁器やガラ ス器具等の装飾に利用でき る。 さ ら に、 その金属膜の電気伝導性は極めて よ いか ら 、 電子部品の電極 と して利用 でき る。 ま た、 複数の金属ァセチ リ ド化合物 を含有 し た金属組成物では、 複数の金属がその長所を出 し合っ て高性能の金属膜を形成する こ と がで さ る。 As described in detail above, the present invention provides, as a metal source, a general formula M (—C≡CR) „(where M is a metal atom, n is a valence of the metal atom M, and R is an oxygen atom. A metal acetylide compound represented by (with or without a hydrocarbon group), and kneaded with an organic solvent and / or resin to form a metal liquid or a metal base. Since the metal acetyl compound is easily dissolved in various organic solvents, it is suitable as a metal raw material for the metal composition for a metal. In addition, since this metal acetylide compound does not contain sulfur and halogen elements, it does not release environmental pollutants such as SO and halogen during firing. As a result, it has the advantage of contributing to environmental cleanup, thereby eliminating the need for equipment such as desulfurization equipment. If this metal liquid or metal paste is applied to a material and then baked, an extremely smooth and fine metal film can be formed, and a high-grade metal film can be formed. Since it shows luster, it can be used for decoration of ceramics and glassware. Furthermore, since the electrical conductivity of the metal film is extremely good, it can be used as an electrode for electronic components. In addition, in a metal composition containing a plurality of metal acetylide compounds, a plurality of metals can exhibit their advantages and form a high-performance metal film.

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1 . 一般式 M ( — C C 一 R ) „ (式中の Mは金属原子、 n は金属原 子 M の価数、 R は酸素原子を含有する又は含有 しない炭化水素基) で表 さ れる金属ァセチ リ ド化合物を有機溶剤に溶解分散 させて有機金属液状 に した金属組成物。 1. A metal represented by the general formula M (— CC-R) „(where M is a metal atom, n is the valence of a metal atom M, and R is a hydrocarbon group containing or not containing an oxygen atom). A metal composition in which an acetylide compound is dissolved and dispersed in an organic solvent to form an organometallic liquid.
2 . —般式 M ( - C ≡ C - R ) „ (式中の Mは金属原子、 n は金属原 子 Mの価数、 R は酸素原子を含有する又は含有 しない炭化水素基) で表 さ れる金属ァセチ リ ド化合物 と 、 粘度を調製する樹脂 と 、 有機溶剤を混 練 させて有機金属ペース ト 状に した金属組成物。  2. General formula M (-C≡C-R) „(where M is a metal atom, n is the valence of metal atom M, and R is a hydrocarbon group containing or not containing an oxygen atom). A metal composition obtained by kneading a metal acetylide compound to be used, a resin for adjusting viscosity, and an organic solvent to form an organic metal paste.
3 . 焼成後の金属膜の密着性を高め る添加剤を配合 した請求項 1 又は 2 記載の金属組成物。  3. The metal composition according to claim 1, further comprising an additive that enhances the adhesion of the metal film after firing.
4 . 金属元素の異な る複数の金属ァセチ リ ド化合物を配合する請求項 1 乃至 3 記載の金属組成物。  4. The metal composition according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of metal acetylide compounds having different metal elements are blended.
5 . 請求項 1 乃至 4 記載の金属組成物 を素材の表面に所望のパター ン に塗着 して金属組成物膜を形成 し 、 こ の金属組成物膜を加熱 して金属以 外の物質を分解蒸発 させ、 同時に金属を焼結 させて緻密な金属膜を形成 する こ と を特徴 と す る金属膜形成方法。  5. A metal composition film is formed by applying the metal composition according to claims 1 to 4 on a surface of a material in a desired pattern, and heating the metal composition film to remove substances other than metal. A method for forming a metal film, comprising decomposing and evaporating and simultaneously sintering a metal to form a dense metal film.
6 . 請求項 5 記載の方法によ り 所望のパタ ー ンの金属膜を素材表面に 形成 した素材。  6. A material having a metal film of a desired pattern formed on the surface of the material by the method according to claim 5.
7 - 素材がガラ ス食器、 陶磁器又は装飾品であ る請求項 6 記載の素材。 7. The material according to claim 6, wherein the material is glass tableware, ceramics, or a decorative item.
8 . 素材が電子部品であ り 、 金属膜が こ の電子部品の電極を構成する 請求項 6 記載の素材。 8. The material according to claim 6, wherein the material is an electronic component, and the metal film forms an electrode of the electronic component.
9 . 電子部品がプ リ ン タ ーのサ一マルへ ッ ドであ る請求項 8 記載の素 材。  9. The material according to claim 8, wherein the electronic component is a thermal head of a printer.
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