UA87747U - ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий - Google Patents

ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий

Info

Publication number
UA87747U
UA87747U UAA201015237U UAA201015237U UA87747U UA 87747 U UA87747 U UA 87747U UA A201015237 U UAA201015237 U UA A201015237U UA A201015237 U UAA201015237 U UA A201015237U UA 87747 U UA87747 U UA 87747U
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
chamber
multilayer film
plasma device
sources
arc
Prior art date
Application number
UAA201015237U
Other languages
English (en)
Ukrainian (uk)
Inventor
Георгий Никитич Веремийченко
Игорь Васильевич Короташ
Эдуард Михайлович Руденко
Валерий Федорович Семенюк
Вадим Васильевич Одиноков
Георгий Яковлевич Павлов
Вадим Александрович Сологуб
Original Assignee
Институт Металлофизики Им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии Наук Украины
Общество с ограниченной ответственностью "СЕМПОН-2"
Открытое Акционерное Общество "Нии Точного Машиностроения"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Металлофизики Им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии Наук Украины, Общество с ограниченной ответственностью "СЕМПОН-2", Открытое Акционерное Общество "Нии Точного Машиностроения" filed Critical Институт Металлофизики Им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии Наук Украины
Priority to UAA201015237U priority Critical patent/UA87747U/ru
Priority to RU2011113235A priority patent/RU2482216C2/ru
Publication of UA87747U publication Critical patent/UA87747U/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Плазменное устройство нанесения многослойных пленочных покрытий содержит технологическую вакуумную камеру со средствами откачки и систему напуска и дозирования технологического газа, два или более расположенных вертикально по периферии камеры дуговых источника материалов, наносимых с источниками питания, столик с подкладкой, который расположен горизонтально и осесимметрично в нижней части камеры, и магнитную систему. Технологическая камера сверху имеет диэлектрическое окно с электродом возбуждения разряда, который через устройство согласования соединен с ВЧ генератором. Магнитная система, которая охватывает камер
UAA201015237U 2010-12-17 2010-12-17 ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий UA87747U (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201015237U UA87747U (ru) 2010-12-17 2010-12-17 ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий
RU2011113235A RU2482216C2 (ru) 2010-12-17 2011-04-07 Плазменное устройство нанесения многослойных пленочных покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201015237U UA87747U (ru) 2010-12-17 2010-12-17 ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA87747U true UA87747U (ru) 2014-02-25

Family

ID=47144757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAA201015237U UA87747U (ru) 2010-12-17 2010-12-17 ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий

Country Status (1)

Country Link
UA (1) UA87747U (ru)

Also Published As

Publication number Publication date
RU2011113235A (ru) 2012-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20180084647A (ko) 플라즈마 처리 장치
TW201129257A (en) Passive power distribution for multiple electrode inductive plasma source
WO2011142957A3 (en) Inductive plasma source with metallic shower head using b-field concentrator
WO2012082854A3 (en) Inductively coupled plasma source for plasma processing
EP2578729A4 (en) METHOD OF PREPARING BLACK SILICON BY MEANS OF PLASMAIMMERSIONSION IMPLANTATION
RU2009146299A (ru) Способ и устройство для изготовления трехмерных объектов
SG144876A1 (en) A method of processing a workpiece in a plasma reactor with variable height ground return path to control plasma ion density uniformity
TW200629336A (en) Semiconductor plasma-processing apparatus and method
WO2012057967A3 (en) Methods and apparatus for controlling photoresist line width roughness
TW200802549A (en) Vertical plasma processing apparatus for semiconductor process
MY183557A (en) Plasma cvd device and plasma cvd method
WO2012173769A3 (en) Powered grid for plasma chamber
CN203411602U (zh) 用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备
WO2009134588A3 (en) Nonplanar faceplate for a plasma processing chamber
WO2012058184A3 (en) Plasma processing apparatus with reduced effects of process chamber asymmetry
TW200605205A (en) Apparatus for an optimized plasma chamber top piece
IN2015DN01149A (ru)
TWI521559B (zh) Magnetic field distribution adjusting device for plasma processor and its adjusting method
WO2012051975A8 (de) Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken
WO2008149741A1 (ja) プラズマ処理装置のドライクリーニング方法
CN202871737U (zh) 等离子体处理装置及其包含的法拉第屏蔽装置
WO2012087919A3 (en) Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers
UA87747U (ru) ПЛАЗМЕННое УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ пленочных покрытий
WO2012171661A8 (de) Verfahren zur plasmabehandlung von werkstücken sowie werkstück mit gasbarriereschicht
TW201612944A (en) Plasma processing apparatus