UA79015C2 - Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів - Google Patents
Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів Download PDFInfo
- Publication number
- UA79015C2 UA79015C2 UAA200503635A UAA200503635A UA79015C2 UA 79015 C2 UA79015 C2 UA 79015C2 UA A200503635 A UAA200503635 A UA A200503635A UA A200503635 A UAA200503635 A UA A200503635A UA 79015 C2 UA79015 C2 UA 79015C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- wetting liquid
- abrasive material
- pes
- grinding
- treatment
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 30
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title abstract description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 title abstract 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 abstract description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 19
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract description 16
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Natural products CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007794 irritation Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 210000004400 mucous membrane Anatomy 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
Винахід належить до засобів виготовлення детектуючих пристроїв для реєстрації іонізуючих випромінювань які використовуються у медичних діагностичних гамма-камерах. Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів включає шліфування їх торцевих поверхонь складом, який містить абразивний матеріал та змочувальну рідину, видалення відходів шліфування шляхом промивання тетраетоксисиланом, обробку промитої поверхні з боку вхідного вікна сухим абразивним матеріалом з високою відбивною здатністю. За винаходом, як змочувальну рідину використовують суміш олігодиметилсилоксану ПМС-5 і олігодіетилсилоксану ПЕС-3, при наступному співвідношенні компонентів, мас. %: олігодіетилсилоксан ПЕС-3 5-20 олігодиметилсилоксан ПМС-5 решта. Винахід забезпечує покращення сцинтиляційних характеристик детекторів та підвищує стабільність у процесі експлуатації.
Description
Опис винаходу
Винахід відноситься до технології виготовлення детектуючих пристроїв для реєстрації іонізуючих 2 випромінювань, у тому числі детекторів великої площі та малої товщини, які використуються у медичних діагностичних гамма-камерах.
Сцинтиляційні детектори, що призначені для діагностичних медичних гамма-камер, відрізняються від звичайних спектрометричних тім, що, крім енергетичного розділення, характеризуються ще й просторовим, яке залежить від характеру розподілу активатора, а також від якості оброблених поверхонь сцинтилятору.
Актуальною проблемою виготовлення зазначених детекторів є вибір такого способу обробки торцевих поверхонь сцинтилятору, що забезпечує не тільки високу однорідність світлового виходу по площині і, як наслідок, хороше енергетичне розділення, але і стабільність зазначених сцинтиляційних характеристик у процесі експлуатації детекторів.
Відомий спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів (ЕПВ Мо01451659. Кл. (30111/20 1985), що 12 включає шліфування їх торцевих поверхонь абразивним матеріалом з високою відбивною здатністю, наприклад, оксидом алюмінію, розмір часток якого знаходиться в межах 40...100мкм, (номерів абразивного матеріалу 150...400), видалення надлишку абразивного матеріалу за допомогою очищення щіткою або обдуванням.
Недоліком відомого способу є те, що шліфування поверхонь кристалічних заготівок великої площі, що мають, як правило, багато блоків з різною кристалографічною орієнтацією, виявляє блокову структуру і приводить до утворення неоднорідного спотвореного шару, що створює неоднорідність світлозбирання й обумовлює погіршення енергетичного розділу детектора. Крім того, відомий спосіб обробки не забезпечує високої надійності оптичного зчленування обробленої поверхні сцинтилятору з вихідним вікном детектора, а отже й стабільність сцинтиляційних характеристик, тому що на шліфованій поверхні залишаються частки зруйнованого сцинтилятору, що знижує адгезійну міцність з'єднання. с
Найбільш близьким по технічній сутності й обраним у якості прототипу є спосіб обробки поверхні Го) лужно-галоїдних кристалів |Пат. РФ Мо2017170 5 д. 0111/202), що включає шліфування торцевих поверхонь складом, що містить абразивний матеріал - карбід кремнію або електрокорунд з розміром зерна бЗ3мкм та змочувальну рідину - етиловий ефір ортокремневої кислоти (тетраетоксисилан - ТЕОС), промивання відшліфованих поверхонь ТЕОС, обробку промитих поверхонь сухим абразивним матеріалом, що має високий о коефіцієнт відбиття, наприклад, оксидом алюмінію, шляхом його втирання в поверхню, видалення надлишку «-- абразивного матеріалу за допомогою очищення щіткою або обдуванням.
Застосування абразиву у складі з ТЕОС дозволяє створити більш сприятливі умови роботи абразиву, за о рахунок розклинуваючої дії змочувальної рідини, проте у зазначеному способі не забезпечується висока якість Ге») шліфованих поверхонь сцинтиляторів діаметром не менш за 500мм через високу випаровуваність і недостатню 3о мастильну дію ТЕОС, що призводить до утворення налипань та задирів, що погіршують однорідність структури в поверхневого шару і його сцинтиляційних властивостей. Крім того, вадою зазначеного способу обробки є те, що застосування ТЕОС як змочувальної рідини при шліфуванні впливає на організм працюючих у спеціальній "сухій" кімнаті. «
В основу запропонованого винаходу покладено задачу розробити спосіб обробки поверхонь лужногалоїдних З 50 кристалів, великої площі і малої товщини, який забезпечує покращення сцинтиляційних характеристик детектора с та їх стійкість у процесі експлуатації.
Із» Вирішення цієї задачі забезпечується тим, що в способі обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів, що включає шліфування їх торцевих поверхонь складом, що містить абразивний матеріал і змочувальну рідину, видалення відходів шліфування шляхом промивання тетраетоксисиланом, обробку промитої поверхні з боку вхідного вікна сухим абразивним матеріалом з високою відбивною здатністю, відповідно до винаходу, як і змочувальну рідину, використовують суміш олігодиметілсилоксану ПМО-5 і олігодиетілсилоксану ПЕС-3, при (се) наступному співвідношенні компонентів, мас.9о: о ПЕС-3 5-20 -оУу 70 ПМО-5 інше. сл Використання для шліфування лужно-галоїдних кристалів як змочувальну рідину суміші олігоорганосилоксанових рідин ПМО-5 і ПЕС-3, що є поверхнево-активними речовинами і мають мастильну дію, усуває утворення налипань і задирів, що забезпечує покращення якості відшліфованих поверхонь сцинтилятору та поліпшення його сцинтиляційних характеристик. Використання у складі змочувальної рідини о олігодиетілсилоксану ПЕС-3, здатного лише частково розчиняти йодид натрію (втрата маси кристала Маї!:ТІ розмірами їх!хбсм?, зануреного на 10хв у ПЕС складає 0,2396), дозволяє знизити пружні напруження вже на о стадії шліфування. Крім того, наявність етільних груп у ПЕС, забезпечує більш високу розчинність змочувальної рідини в тетраетоксисилані, що забезпечує їх більш повне видалення з обробленої поверхні на стадії очищення 60 відшліфованих поверхонь. Це призводить до підвищення оптичної чистоти поверхні, підвищення надійності оптичного зчленування сцинтилятору з вихідним вікном детектора та покращення сцинтиляційних характеристик детектора. Зазначений зміст ПЕС-3 у змочувальній рідині є оптимальним і обрано у процесі проведення експериментів. Зменшення кількості ПЕС-3 у складі змочувальної рідини, менш за 595 призводить до збільшення пружних напружень на стадії шліфування, що призводить до погіршення якості оброблених поверхонь. Крім того, бо зменшення кількості ПЕС-3 у складі змочувальної рідини призводить до ускладнення видалення залишку адсорбованої змочувальної рідини з поверхні при промиванні. Збільшення кількості ПЕС-3 у складі змочувальної рідини, більш за 2095 призводить до збільшення її в'язкості та поверхневого натягу, що призводить до погіршення якості обробленої поверхні і знижує продуктивність технологічного процесу шліфування.
Олігодиетілсилоксанові рідини ПМО-5 і ПЕС-3 є хімічно інертними, вибухобезпечними, нетоксичними, не спричиняють дратівної дії на шкіру й слизові оболонки, що дозволяє покращити екологічні аспекти технології обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів у "сухій" кімнаті з відносною вологістю повітря до 1905.
У таблиці наведено сцинтиляційні характеристики детекторів на основі лужногалоїдних кристалів у залежності від головних параметрів запропонованого способу обробки їх торцевих поверхонь.
Запропонований спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів реалізується наступним чином: 70 Приклад 1. Запропонований спосіб був перевірений для детекторів на основі монокристалів Маї/!:ТІ, розмірами 2е63х1О0мм. Відповідно до пропонованого способу, торцеві поверхні сцинтиляторів шліфують складом, що містить, як абразивний матеріал - порошок Е 230 з розміром зерна бЗмкм, а як змочувальну рідину склад, що містить УОмас.уо ПМО-5 і тОмас.бо ПЕС-3. Відшліфовані поверхні промивають ТЕОС. Поверхня сцинтилятору з боку вихідного вікна, після промивання оптично зчленовують з вихідним вікном кремнійорганічним гелем СУРЕЛ 75 СЛ-1. Поверхню сцинтилятора з боку вхідного вікна обробляють оксидом алюмінію з розміром зерна б3мкм до утворення однорідної матової поверхні й упаковують у корпус детектора (приклади 3-5).
Приклади реалізації способу за іншими технічними рішеннями наведено у таблиці (приклади 2, 6, 7). У таблиці також наведено результати вимірів сцинтиляційних характеристик детектора, виготовленого у відповідності з прототипом (приклад 1). Попередньо вимірюють сцинтиляційні характеристики, після чого детектори піддають кліматичним іспитам: впливові температури 1502 протягом 3-Х годин і впливові температури -402С протягом 3-х годин. Потім вдруге вимірюють сцинтиляційні характеристики. Як видно з таблиці, запропонований спосіб обробки поверхонь кристалу Ма!:ТІ у порівнянні з прототипом (приклад 1), забезпечує покращення енергетичного розділення детекторів більш ніж на 13905.
З таблиці видно, що тільки при параметрах процесу обробки, що заявляються, досягається покращення с сцинтиляційних характеристик детекторів і підвищення їх стійкості. Вихід за границі діапазонів значень, що о заявляються, кількості ПЕС-3 у змочувальній рідині (приклади 2, 6, 7) не дозволяє поліпшити сцинтиляційні характеристики і підвищити їх стійкість.
Приклад 2. Запропонований спосіб був реалізований для детекторів на основі полікристалів Маї!:ТІ, розмірами 593х470х9,5мм. Відповідно до запропонованого способу, торцеві поверхні сцинтилятору шліфують юю складом, що містить як абразивний матеріал порошок Е 230 з розміром зерна бЗмкм, а як змочувальну рідину - склад, що містить ПМО-5 (94мас.бв) і ПЕС-3 (бмас.9о). Відшліфовані поверхні промивають ТЕОС. Поверхню сцинтилятору з боку вхідного вікна обробляють оксидом алюмінію з розміром зерна бЗмкм до утворення (ав) однорідної матової поверхні, надлишки абразивного матеріалу видаляють щіткою. Поверхня сцинтилятору з боку Ф вихідного вікна, після промивання оптично зчленовують з вихідним вікном кремнійорганічним гелем СУРЕЛ СЛ-1 | упаковують у корпус детектора (приклад 9). У таблиці також наведено результати вимірів сцинтиляційних - характеристик такого ж детектора, виготовленого у відповідності з прототипом (приклад 8). Попередньо вимірюють сцинтиляційні характеристики детекторів, піддають їх кліматичним іспитам: впливі температури від 1590 до ж459С із швидкістю зміни температури 109С/год. протягом 4 циклів. Потім вдруге вимірюють « сцинтиляційні характеристики. Як видно з таблиці, запропонований спосіб обробки поверхонь кристалів МаїТІ у порівнянні з прототипом, забезпечує поліпшення неоднорідності світлового виходу по площі детектора більш ніж т с на 695, енергетичного розділення більш ніж на 5905. ч Приклад 3. Запропонований спосіб був реалізований для детекторів на основі монокристалів Св1:ТІ » розмірами 2160х5мм. Відповідно до запропонованого способу, торцеві поверхні сцинтилятору шліфують складом, що містить як абразивний матеріал оксид алюмінію з розміром зерна 8Омкм, а як змочувальну рідину склад, що містить ПМО-5 (8Омас.95) і ПЕС-3 (20мас.90). Відшліфовані поверхні промивають ТЕОС, потім - надлишки абразивного матеріалу видаляють щіткою. Поверхні сцинтиляторів з боку вхідного вікна обробляють о сухим оксидом алюмінію з розміром зерна 8Омкм до утворення однорідної матової поверхні. Поверхні сцинтиляторів з боку вихідного вікна після промивання оптично зчленовують із вихідним вікном детектора о кремнійорганічним гелем СУРЕЛ СЛ-1 і упаковують в корпус (приклад 11-13). У таблиці також наведено -лй 20 результати вимірів сцинтиляційних характеристик детектора, виготовленого відповідно з прототипом (приклад 10). Попередньо виміривши сцинтиляційні характеристики, детектори піддають кліматичним іспитам: на вплив сл температури 1002 протягом 3-х годин і вплив температури -602С протягом 3-х годин. Потім вдруге вимірюють сцинтиляційні характеристики. Як видно з таблиці, запропонований спосіб обробки торцевих поверхонь кристалів
Сві:ТІ у порівнянні з прототипом забезпечує покращення енергетичного розділення більш ніж на 10905. 52 Таким чином, запропонований спосіб обробки торцевих поверхонь лужно-галоїдних кристалів забезпечує
Ф! покращення сцинтиляційних характеристик детекторів від 595 до 1595 та їх стабільність у процесі експлуатації. з во шк М ШИ МОЯ По МОЯ ПН пол мац(тІ б3х10 2 Запропонований спосіб 4 - 11,9 - 12,7 Відклеювання ма!:ТтІ І-1мм бо еб3х10
00000117 51171151 01 (веж 00101011 04 вам 51111816 вм 21 12,0 12,6 Відклеювання
Іх1мм 00101081 вояк
Прототип 32 16,6 34 16,8 Без змін. ма!:ТтІ 593х470х9,Б5Ммм
Запропонований спосіб 2,9 15,7 2,8 15,7 Без змін ма!:ТтІ 593х470х9,Б5Ммм 10 Прототип 20,1 20,8 Без змін
СвІСТІ елвох5,о я - - 11 Запропонований спосіб 20 18,9 18,8 Без змін
СвІСТІ елвох5,о 00000585 в век в 11000010
Примітка: С - зміст ПЕС-3 у змочувальної рідині, 5І. - неоднорідність світлового виходу, К - енергетичне розділення. Виміри проведено з ізотопом 241Ат (Еу-6бОкзВ). с
Ф ормула винаходу Го)
Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів, що полягає у шліфуванні їх торцевих поверхонь складом, який містить абразивний матеріал та змочувальну рідину, видаленні відходів шліфування шляхом ю промивання тетраетоксисиланом, обробки промитої поверхні з боку вхідного вікна сухим абразивним матеріалом з високою відбивною здатністю, який відрізняється тим, що як змочувальну рідину використовують суміш - олігодиметилсилоксану ПМО-5 і олігодіетилсилоксану ПЕС-3, при наступному співвідношенні компонентів, мас. о
Фо: (о) олігодіетилсилоксан ПЕС-3 5-20 й ї- олігодиметилсилоксан. ПМО-5 решта.
Офіційний бюлетень "Промислоава власність". Книга 1 "Винаходи, корисні моделі, топографії інтегральних « дю мікросхем", 2007, М 6, 10.05.2007. Державний департамент інтелектуальної власності Міністерства освіти і з с науки України. . и? -і се) («в) - 70 сл іме) 60 б5
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
UAA200503635A UA79015C2 (uk) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
UAA200503635A UA79015C2 (uk) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
UA79015C2 true UA79015C2 (uk) | 2007-05-10 |
Family
ID=38230344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
UAA200503635A UA79015C2 (uk) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
UA (1) | UA79015C2 (uk) |
-
2005
- 2005-04-18 UA UAA200503635A patent/UA79015C2/uk unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4115562B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
DE102008039459B4 (de) | Beschichtete Feststoffpartikel | |
DE112011103232T5 (de) | Oberflächenbehandlungszusammensetzung und Oberflächenbehandlungsverfahren unter Verwendung derselben | |
JP5262917B2 (ja) | ペリクル用支持枠の製造方法及びペリクル用支持枠並びにペリクル | |
US9599889B2 (en) | Method for manufacturing support frame for pellicle, support frame for pellicle, and pellicle | |
Lyann et al. | Efficacy of Various Surface Treatments on the Bonding Performance of Saliva-contaminated Lithium-Disilicate Ceramics. | |
Amsler et al. | Long-Term Bond Strength of Self-Etch Adhesives to Normal and Artificially Eroded Dentin: Effect of Relative Humidity and Saliva Contamination. | |
DE10046933A1 (de) | Verfahren zur Politur von Siliciumscheiben | |
US3807979A (en) | Quaternary ammonium silicate for polishing silicon metal | |
UA79015C2 (uk) | Спосіб обробки поверхні лужно-галоїдних кристалів | |
TW583149B (en) | Quartz article having sand blast-treated surface and method for cleaning the same | |
Juškevičius et al. | Investigation of subsurface damage impact on resistance of laser radiation of fused silica substrates | |
CN106458734A (zh) | 玻璃基板、玻璃基板的制造方法和黑矩阵基板 | |
Souder et al. | Abrasion and solution of teeth | |
DE2526052A1 (de) | Verfahren zur reinigung polierter halbleiterscheiben | |
JP3124127B2 (ja) | 半導体製造装置等の清掃方法 | |
CN111732883A (zh) | 一种长效防雾涂料及其生产工艺、应用 | |
JP2017140748A (ja) | 積層体、及び積層体の形成方法 | |
Levengood | Study of Moisture‐Condensation Patterns on Glass and Crystalline Surfaces | |
JP7405567B2 (ja) | 研磨液組成物 | |
Lauffenburger et al. | Changes in gloss of marble surfaces as a result of methylcell ulose poulticing | |
RU2487163C1 (ru) | Средство для очистки очковой оптики, телевизионных экранов и мониторов | |
Kohli | Application of strippable coatings for removal of particulate contaminants | |
JP6822219B2 (ja) | ディスプレイ用ガラス基板 | |
Ku et al. | The effect of different dental adhesive systems on hybrid layer qualities |