UA78101C2 - Gas-discharge electron gun - Google Patents
Gas-discharge electron gun Download PDFInfo
- Publication number
- UA78101C2 UA78101C2 UAA200502612A UAA200502612A UA78101C2 UA 78101 C2 UA78101 C2 UA 78101C2 UA A200502612 A UAA200502612 A UA A200502612A UA A200502612 A UAA200502612 A UA A200502612A UA 78101 C2 UA78101 C2 UA 78101C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- cathode
- insulator
- electron gun
- gas
- discharge
- Prior art date
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 abstract 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 244000309464 bull Species 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000010152 pollination Effects 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/065—Construction of guns or parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/073—Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/077—Electron guns using discharge in gases or vapours as electron sources
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/16—Remelting metals
- C22B9/22—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation
- C22B9/228—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation by particle radiation, e.g. electron beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/03—Mounting, supporting, spacing or insulating electrodes
- H01J2237/032—Mounting or supporting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/03—Mounting, supporting, spacing or insulating electrodes
- H01J2237/038—Insulating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3128—Melting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3132—Evaporating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
Опис винаходуDescription of the invention
Винахід належить до електронних приладів та пристроїв, а більш конкретно до газорозрядних електронних 2 гармат технологічного призначення і може бути використаний для електронно-променевої плавки, випаровування, модифікації поверхні та інших термічних процесів, що використовуються у вакуумі з застосуванням потужних електронних пучків.The invention belongs to electronic devices and devices, and more specifically to gas-discharge electronic 2 guns of technological purpose and can be used for electron-beam melting, evaporation, surface modification and other thermal processes used in a vacuum with the use of powerful electron beams.
Відомі газорозрядні електронні гармати (Патенти України: Мо45505, с2, 15.04.2002, бюл. Мо1; Моб0О3777, С2, 15.10. 2003, бюл. Мо10. Плазменнье процессь в технологических злектронньїх пушках /М.А. Завьялов и др., 1989, 0 м. Знергоатомиздат, 97 - 145 с. в яких для генерації електронного пучка використовується високовольтний тліючий розряд з холодним катодом і порожнистим анодом. Характерним для такого розряду є схильність до дугових пробої в розрядному проміжку, що порушує стабільність роботи гармат. На розрядні явища, пов'язані з дуговими пробоями, можуть впливати конфігурація і матеріал електродів, стан поверхні і температура електродів, вакуумні умови роботи та інше. В таких умовах розрядні явища залежать в першу Чергу від 12 напруженості електричного поля на катоді. Передпробійні струми в таких умовах поширюються нерівномірно і можуть локалізуватися на окремих ділянках поверхні катоду (мікро-виступах або місцях найменшої роботи виходу). Підвищення напруженості поля в проміжку визиває послідовне виникнення емісійних центрів, наростання струму цих центрів та перехід струму окремих центрів в електричні пробої проміжку з падінням високої напруги до десятків вольт. Застосування високовольтних джерел живлення з пристроями для переривання дугових пробоїв значно підвищує вартість обладнання і не завжди забезпечує потрібну стабільність роботи відомих газорозрядних гармат.Known gas-discharge electron guns (Patents of Ukraine: Мо45505, с2, 15.04.2002, bull. Мо1; Моб0О3777, С2, 15.10. 2003, bull. Мо10. Plasma process in technological electron guns / M.A. Zavyalov et al., 1989, 0 m. Znergoatomizdat, 97 - 145 p. in which a high-voltage glow discharge with a cold cathode and a hollow anode is used to generate an electron beam. This discharge is characterized by a tendency to arc breakdowns in the discharge interval, which disrupts the stability of the guns. On discharge phenomena, associated with arc breakdowns, may be affected by the configuration and material of the electrodes, the surface condition and temperature of the electrodes, vacuum operating conditions, etc. In such conditions, the discharge phenomena depend first of all on the intensity of the electric field at the cathode. Pre-breakdown currents in such conditions spread unevenly and can be localized on separate areas of the cathode surface (micro-protrusions or places of the smallest output work). An increase in the field strength in the gap causes the successive emergence of emission centers, the increase of the current of these centers and the transition of the current of individual centers into electrical breakdowns of the interval with a drop of high voltage up to tens of volts. The use of high-voltage power sources with devices for interrupting arc breakdowns significantly increases the cost of the equipment and does not always ensure the required stability of operation of known gas-discharge guns.
Найближчим по технічній суті до запропонованого винаходу є газорозрядна електронна гармата з холодним катодом (Патент України 38451,22,15.01.2004, бюл. Мо1), яка містить високовольтний опорний ізолятор, на якому закріплений холодний алюмінієвий катод, порожнистий анод та вузол транспортування електронного променя за с допомогою електромагнітних лінз. ЇЇ недоліком є можливість виникнення дугових пробоїв у вакуумному проміжку Ге) між анодом і катодом із-за неоднорідності електричного поля, пов'язаної з конструкцією катодного вузла, а також поверхневих пробоїв на ізоляторі, особливо в місці контакту ізолятора з катодом.The closest technical substance to the proposed invention is a gas-discharge electron gun with a cold cathode (Patent of Ukraine 38451, 22, 15.01.2004, Bull. Mo1), which contains a high-voltage support insulator on which a cold aluminum cathode, a hollow anode and an electron beam transport unit are fixed with the help of electromagnetic lenses. Its disadvantage is the possibility of arc breakdowns in the vacuum gap between the anode and cathode due to the inhomogeneity of the electric field associated with the construction of the cathode assembly, as well as surface breakdowns on the insulator, especially at the point of contact between the insulator and the cathode.
В основу винаходу поставлена задача розробки газорозрядної електронної гармати, в якій шляхом зниження напруженості електричного поля біля катоду та на поверхні ізолятора досягається підвищення стабільності її -- роботи, Га»)The invention is based on the task of developing a gas-discharge electron gun, in which, by reducing the electric field strength near the cathode and on the surface of the insulator, an increase in the stability of its operation is achieved, Ha»)
Поставлена задача вирішується тим, що в газорозрядній електронній гарматі, яка містить розташований уздовж її осі опорний високовольтний ізолятор, холодний металевий катод, порожнистий анод та магнітну -- фокусуючу лінзу, високовольтний ізолятор заглиблений у металевий катод, причому виступ, що охоплює ізолятор, с має в перетині форму півкруга, радіус якого становить 0,5-1,0 ширини вакуумного проміжку між корпусом та катодом, що його охоплює. Крім того ізолятор з боку вакуумного проміжку між ним і катодом виконаний в рельєфним, причому радіальний розмір заглибин співпадає за розміром з шириною проміжку між анодом і ізолятором. При цьому холодний металевий катод підпружинений відносно ізолятора прокладкою, яка розташована за межами вакуумного проміжку в порожнині ізолятора. «The problem is solved by the fact that in a gas-discharge electron gun, which contains a supporting high-voltage insulator located along its axis, a cold metal cathode, a hollow anode, and a magnetic - focusing lens, the high-voltage insulator is embedded in the metal cathode, and the protrusion covering the insulator has in the cross-section, the shape of a semicircle, the radius of which is 0.5-1.0 of the width of the vacuum gap between the case and the cathode covering it. In addition, the insulator on the side of the vacuum gap between it and the cathode is made in relief, and the radial size of the depressions corresponds in size to the width of the gap between the anode and the insulator. At the same time, the cold metal cathode is spring-loaded relative to the insulator by a gasket located outside the vacuum gap in the insulator cavity. "
В такій гарматі для отримання електронного пучка потужністю десятки - сотні кВт збуджується високовольтний тліючий розряд в діапазоні тиску робочого газу одиниці - десятки Па і прискорюючій напрузі З с десятки кВ. Щоб розряд локалізувався вподовж осі електродної системи, катод охоплений анодом черезIn such a gun, in order to obtain an electron beam with a capacity of tens to hundreds of kW, a high-voltage glow discharge is excited in the range of working gas pressure of one tens of Pa and an accelerating voltage of tens of kV. In order for the discharge to be localized along the axis of the electrode system, the cathode is covered by the anode through
І» вакуумний ізолюючий проміжок. У відповідності з кривою Пашена |Плазменнье процессь! в технологических електронньїх пушках. / М.А. Завьялов и др., 1989, М. Знергоатомиздат, 99 с., рис. 4.2). ширина ізолюючого проміжку при вказаних режимах розряду становить 6-8мм. Неоднорідність поля у такому проміжку особливо 42 значна на межі катод - ізолятор, що стимулює дугові пробої між анодом і катодом та поверхневі пробої на і ізоляторі. Округлений виступ забезпечує зменшення неоднорідності поля між катодом і анодом, який охоплюєAnd" vacuum insulating gap. In accordance with Paschen's curve |Plasma process! in technological electronic guns. / M.A. Zavyalov et al., 1989, M. Znergoatomizdat, 99 p., fig. 4.2). the width of the insulating gap at the specified discharge modes is 6-8 mm. The heterogeneity of the field in such an interval is especially significant at the cathode-insulator interface, which stimulates arc breakdowns between the anode and cathode and surface breakdowns on and insulator. The rounded projection provides a reduction in the inhomogeneity of the field between the cathode and the anode it covers
Ге | катод і ізолятор, а також напруженість в місті контакту ізолятора з катодом, що значно зменшує вірогідність дугових пробоїв на катоді і підвищує напругу поверхневого пробою на ізоляторі. Оптимальний радіус округлення - виступу з урахуванням відстані між катодом і анодом становить 0,5 - 1 ширини вакуумного проміжку між ними. о 20 Зменшення радіусу округлення виступу приводить до неоднорідності поля, а його збільшення пов'язане з можливістю виникнення побічного розряду, так як потребує розширення ізолюючого проміжку. та Напруга поверхневого пробою дуже чутлива до конфігурації і якості поверхні ізолятора, особливо в умовах роботи газорозрядних гармат (запилення поверхні ізолятора при розпиленні холодного катода під дією іонного бомбардування та дугових пробоїв, проникнення пари металів із технологічної камери в процесі плавки та інше), 29 тому рельєфна поверхня значно покращує ізоляційні властивості ізолятора навіть при умові його частковогоGe | cathode and insulator, as well as the tension in the contact between the insulator and the cathode, which significantly reduces the probability of arcing breakdowns on the cathode and increases the surface breakdown voltage on the insulator. The optimal radius of the rounding - protrusion, taking into account the distance between the cathode and the anode, is 0.5 - 1 of the width of the vacuum gap between them. o 20 A decrease in the radius of rounding of the protrusion leads to field inhomogeneity, and its increase is associated with the possibility of a side discharge, as it requires the expansion of the insulating gap. and The surface breakdown voltage is very sensitive to the configuration and quality of the surface of the insulator, especially in the conditions of operation of gas discharge guns (dusting of the surface of the insulator during cold cathode sputtering under the action of ion bombardment and arc breakdowns, penetration of metal vapor from the technological chamber during the melting process, etc.), 29 volumes the relief surface significantly improves the insulating properties of the insulator even if it is partial
ГФ) запилення. Розмір заглиблень співпадає з шириною вакуумного ізоляційного проміжку. Зменшення їх глибини скорочує подовжній розмір поверхні ізолятора і підвищує вірогідність запилення їх поверхні, а збільшення о глибини заглиблень обмежене можливістю виникнення побічного розряду в надто великій порожнині. Крім того із-за різниці діелектричних сталих вакууму і ізолятора наявність значних виступів і їх нависання над місцем 60 контакту з катодом може привести до значного зниження пробивної напруги.GF) pollination. The size of the depressions coincides with the width of the vacuum insulating gap. Reducing their depth reduces the longitudinal size of the surface of the insulator and increases the probability of their surface becoming dusty, while increasing the depth of the recesses is limited by the possibility of a side discharge in a too large cavity. In addition, due to the difference in the dielectric constants of the vacuum and the insulator, the presence of significant protrusions and their overhang over the place 60 of contact with the cathode can lead to a significant decrease in the breakdown voltage.
Електрична міцність ізолятора в значній мірі залежить також від надійності з'єднання його з катодом.The electrical strength of the insulator also largely depends on the reliability of its connection to the cathode.
Наявність зазору між ізолятором і катодом визиває поверхневі пробої, які в умовах газорозрядних гармат стимулюють дугові пробої в місці контакту ізолятора з катодом. Прагнення ліквідувати зазор між ізолятором і катодом привело до застосування в високовольтних пристроях різних методів ущільнення (прокладки із м'яких бо матеріалів, паяння при використанні керамічних ізоляторів та інше). В газорозрядних гарматах з холодним катодом, де є можливість використання відносно недорогих ізоляторів із органічних матеріалів, наприклад капролону, застосовується механічний метод кріплення, який є зручним при проведенні профілактичних робіт в процесі експлуатації гармат. Для надійності з'єднання в запропонованій гарматі катод підпружинений відносно Волятора пружиною, що розташована за межами вакуумного зазору. Так як з'єднання повинно бути вакуумно-щільним, то пружиною може бути гумова прокладка.The presence of a gap between the insulator and the cathode causes surface breakdowns, which in the conditions of gas discharge guns stimulate arc breakdowns at the point of contact between the insulator and the cathode. The desire to eliminate the gap between the insulator and the cathode led to the use of various sealing methods in high-voltage devices (gaskets made of soft materials, soldering when using ceramic insulators, etc.). In gas-discharge guns with a cold cathode, where it is possible to use relatively inexpensive insulators made of organic materials, for example, kaprolon, a mechanical fastening method is used, which is convenient when carrying out preventive work during the operation of guns. For the reliability of the connection in the proposed gun, the cathode is spring-loaded relative to the Volator by a spring located outside the vacuum gap. Since the connection must be vacuum-tight, the spring can be a rubber gasket.
На Фіг.1 представлений схематичний розріз запропонованої газорозрядної гармати, а на Фіг.2 - схема ізолюючого проміжку між катодом і анодом. Газорозрядна гармата містить опорний високовольтний ізолятор 1, на якому закріплений холодний металевий катод 2, підпружинений прокладкою 3. З боку катоду ізолятор охоплений 7/0 виступом 4. Катод з ізолятором розміщені в корпусі 5 з вакуумним ізолюючим проміжком 6. Нижня частина корпусу служить порожнистим анодом для високовольтного тліючого розряду. На виході з аноду встановлена магнітна фокусуючи лінза 7.Figure 1 shows a schematic section of the proposed gas discharge gun, and Figure 2 shows a diagram of the insulating gap between the cathode and the anode. The gas discharge gun contains a supporting high-voltage insulator 1, on which a cold metal cathode 2 is fixed, supported by a gasket 3. On the cathode side, the insulator is covered by a 7/0 protrusion 4. The cathode and insulator are placed in a housing 5 with a vacuum insulating gap 6. The lower part of the housing serves as a hollow anode. for high-voltage glow discharge. A magnetic focusing lens 7 is installed at the output from the anode.
При роботі газорозрядної гармати здійснюється безперервне її відкачування вакуумними насосами та контрольована подача робочого газу для підтримання заданого тиску, а на катод подається прискорююча напруга 7/5 В 20-ЗОКВ. В діапазоні тиску газу одиниці - десятки Па збуджується високовольтний тліючий розряд з анодною плазмою 8, яка локалізована в порожнині аноду і служить джерелом іонів. їни з плазми прискорюються в проміжку плазма - катод і в результаті бомбардування його поверхні вибивають електрони, які полем прикатодної області розряду формуються в пучок 9 з фокусом біля отвору в дні аноду. За допомогою магнітної лінзи пучок виводиться в технологічну камеру та фокусується на поверхні об'єкту термічної обробки. Потужність 2о електронного пучка регулюється зміною струму розряду шляхом зміни тиску робочого газу в гарматі.During the operation of the gas discharge gun, it is continuously pumped out by vacuum pumps and controlled supply of working gas to maintain the set pressure, and an accelerating voltage of 7/5 V 20-ZOKV is applied to the cathode. In the gas pressure range of units - tens of Pa, a high-voltage glow discharge is excited with anode plasma 8, which is localized in the anode cavity and serves as a source of ions. ions from the plasma are accelerated in the space between the plasma and the cathode and as a result of the bombardment of its surface, electrons are knocked out, which are formed by the field of the near-cathode area of the discharge into a beam 9 with a focus near the hole at the bottom of the anode. With the help of a magnetic lens, the beam is brought into the technological chamber and focused on the surface of the heat treatment object. The power 2o of the electron beam is regulated by changing the discharge current by changing the pressure of the working gas in the gun.
Запропонована газорозрядна електронна гармата призначена для електронно-променевої плавки, випаровування та інших термічних процесів, для яких потужність електронного пучка може становити від одиниць до сотень кВт. Гармата відрізняється високою стабільністю роботи в складних вакуумних умовах, відносно проста і надійна в експлуатації. сч щі оThe proposed gas-discharge electron gun is designed for electron-beam melting, evaporation and other thermal processes, for which the power of the electron beam can range from units to hundreds of kW. The gun is characterized by high stability of operation in difficult vacuum conditions, relatively simple and reliable operation. sch shchi o
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAA200502612A UA78101C2 (en) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | Gas-discharge electron gun |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAA200502612A UA78101C2 (en) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | Gas-discharge electron gun |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA78101C2 true UA78101C2 (en) | 2007-02-15 |
Family
ID=37834342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAA200502612A UA78101C2 (en) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | Gas-discharge electron gun |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| UA (1) | UA78101C2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112969543A (en) * | 2018-11-06 | 2021-06-15 | 恩沃切尔沃那维利雅联合股份公司 | System for manufacturing three-dimensional objects |
-
2005
- 2005-03-22 UA UAA200502612A patent/UA78101C2/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112969543A (en) * | 2018-11-06 | 2021-06-15 | 恩沃切尔沃那维利雅联合股份公司 | System for manufacturing three-dimensional objects |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100944291B1 (en) | Indirectly heated cathode ion source | |
| US8796649B2 (en) | Ion implanter | |
| US4691109A (en) | Apparatus and method for producing ions | |
| EP0095311B1 (en) | Ion source apparatus | |
| RU2654494C1 (en) | Vacuum spark discharger | |
| UA78101C2 (en) | Gas-discharge electron gun | |
| WO2002019379A1 (en) | Device and process for producing dc glow discharge | |
| KR200369059Y1 (en) | Improvements to cold cathode fluorescent lamps | |
| US10217600B1 (en) | Indirectly heated cathode ion source assembly | |
| US4697085A (en) | Apparatus and method for producing ions | |
| KR102365700B1 (en) | Ion source, ion implantation device, and operation method of the ion source | |
| LV14938B (en) | Gaseous-discharge electron gun | |
| UA124892C2 (en) | GAS DISCHARGE ELECTRONIC GUN | |
| UA140445U (en) | GAS DISCHARGE ELECTRONIC GUN | |
| KR20030084630A (en) | Ion source | |
| RU2215383C1 (en) | Plasma electron source | |
| US11961696B1 (en) | Ion source cathode | |
| KR101626516B1 (en) | Electron Beam Gun having Concave Cathode and Holder | |
| CN113646864A (en) | Electron source and charged particle beam device | |
| RU2654493C1 (en) | Vacuum arrester | |
| JP2000090844A (en) | Ion source | |
| RU2427940C1 (en) | Plasma emitter of electrones | |
| JP6744694B1 (en) | Surface modifying device and surface modifying method | |
| WO2024181226A1 (en) | Ion source | |
| Alexeyevich et al. | Optical radiation in breakdown of the acceleration gap of a forevacuum pressure, wide-aperture, plasma-cathode, pulsed electron source |