UA144388U - DEVICE FOR PRODUCTION OF HIGH-ENTROPY FILM ALLOYS - Google Patents
DEVICE FOR PRODUCTION OF HIGH-ENTROPY FILM ALLOYS Download PDFInfo
- Publication number
- UA144388U UA144388U UAU202002482U UAU202002482U UA144388U UA 144388 U UA144388 U UA 144388U UA U202002482 U UAU202002482 U UA U202002482U UA U202002482 U UAU202002482 U UA U202002482U UA 144388 U UA144388 U UA 144388U
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- evaporators
- vacuum chamber
- substrate
- ceramic insulator
- film
- Prior art date
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 18
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 2
- 101100072790 Mus musculus Irf4 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Abstract
Пристрій для одержання плівкових високоентропійних сплавів складається з вакуумної камери, в якій встановлені випарники і на однаковій відстані від них розташована підкладка. В вакуумну камеру на керамічний ізолятор встановлена система суміщених екранів, яка являє собою два циліндри більшого і меншого діаметрів, що з'єднані між собою радіальними перегородками, які ділять внутрішній простір системи суміщених екранів на рівні сектори. В кожному з секторів на керамічному ізоляторі розміщений випарник, який підключений до двох електричних контактів, що з'єднані з елементом живлення. На внутрішній стороні зовнішньої стінки кожного з секторів прикріплений "свідок" для визначення товщини нанесеної плівки.The device for obtaining high-entropy film alloys consists of a vacuum chamber in which evaporators are installed and the substrate is located at the same distance from them. A system of combined screens is installed in the vacuum chamber on the ceramic insulator, which is two cylinders of larger and smaller diameters, interconnected by radial partitions that divide the internal space of the system of combined screens at the sector level. In each of the sectors on the ceramic insulator is an evaporator, which is connected to two electrical contacts connected to the battery. A "witness" is attached to the inner side of the outer wall of each of the sectors to determine the thickness of the applied film.
Description
Корисна модель належить до області одержання нових матеріалів і покриттів шляхом резистивного або електронно- променевого випарування і спрямованого осадження парового потоку на підкладку у вакуумі та може знайти застосування у мікроелектроніці, плівковому матеріалознавстві і сенсорній електроніці.The useful model belongs to the field of obtaining new materials and coatings by resistive or electron beam evaporation and directed deposition of vapor flow on a substrate in vacuum and can find application in microelectronics, film materials science and sensor electronics.
Високоентропійні сплави (ВЕС) |1| завдяки своїм унікальним властивостям широко використовуються у різних галузях науки і техніки. Застосування знайшли, в першу чергу, масивні ВЕС (21; великий об'єм досліджень фазового складу і механічних властивостей вже виконаний як іноземними |1, З, 4), так і вітчизняними |5, 6| вченими. Але дослідження тонкоплівкових (до 100 нм) ВЕС потребує додаткових ресурсів. Це пов'язано з методиками, які застосовуються для отримання таких структур, певними технологічними умовами (температура, тиск залишкової атмосфери в робочому об'ємі, керованість осадження тощо).High-entropy alloys (VES) |1| due to their unique properties, they are widely used in various fields of science and technology. First of all, massive wind turbines have been used (21; a large volume of research on the phase composition and mechanical properties has already been carried out by both foreign |1, Z, 4) and domestic |5, 6| scientists But the study of thin-film (up to 100 nm) wind turbines requires additional resources. This is due to the methods used to obtain such structures, certain technological conditions (temperature, pressure of the residual atmosphere in the working volume, controllability of deposition, etc.).
До аналогів запропонованої корисної моделі можна віднести спосіб отримання ВЕС шляхом магнетронного розпилення |/| переплавленої багатокомпонентної шихти на основі металів.Analogues of the proposed useful model include the method of obtaining VES by magnetron sputtering |/| remelted multicomponent charge based on metals.
Недоліком способу магнетронного розпилення є низька швидкість осадження металів та висока вартість установки.The disadvantage of the magnetron sputtering method is the low rate of metal deposition and the high cost of the installation.
Відомим близьким технічним рішенням для формування ВЕС є спосіб вакуумно-дугового осадження. Суть вакуумно-дугового способу полягає в нанесенні покриттів у вакуумі шляхом конденсації на підкладку матеріалу з потоків плазми, які генеруються на катоді (мішені) у катодній плямі вакуумної дуги. Перевагою даного способу є можливість отримання гомогенних сплавів та ВЕС на основі тугоплавких металів, оскільки спосіб забезпечує температуру випарування до 3000 "С. Недоліки способу - випаровування легкоплавких металів із сплаву вже під час формування зразка та ймовірне утворення макрокрапель на поверхні одержуваного зразка |8) у результаті перегріву катода в області катодної плями, що призводить до зростання неоднорідності і шорсткості поверхні зразків.A well-known close technical solution for the formation of wind turbines is the method of vacuum-arc deposition. The essence of the vacuum-arc method is to apply coatings in a vacuum by condensing on the substrate material from plasma streams that are generated on the cathode (target) in the cathode spot of the vacuum arc. The advantage of this method is the possibility of obtaining homogeneous alloys and VES based on refractory metals, since the method provides an evaporation temperature of up to 3000 "C. The disadvantages of the method are the evaporation of low-melting metals from the alloy already during the formation of the sample and the probable formation of macrodroplets on the surface of the obtained sample |8) in as a result of overheating of the cathode in the area of the cathode spot, which leads to an increase in heterogeneity and roughness of the surface of the samples.
Ще одним із варіантів отримання ВЕС є спосіб механічного плавлення. Суть методу полягає в тому, що за допомогою високоенергетичного кульового млина частинки порошку, які знаходяться в твердому стані, руйнуються та ретельно перемішуються, і завдяки використанню холодного зварювання формується гомогенний матеріал. До недоліків цього способу відносять, по-перше, високу енергозатратність; по-друге, в процесі сплавляння вірогідне потрапляння доAnother option for obtaining wind turbines is the method of mechanical melting. The essence of the method is that with the help of a high-energy ball mill, the powder particles that are in a solid state are destroyed and thoroughly mixed, and thanks to the use of cold welding, a homogeneous material is formed. The disadvantages of this method include, firstly, high energy consumption; secondly, in the process of fusing it is likely to get into
Зо сплаву домішкових атомів від камери та розмельних тіл, що може досягати 5 905 |9|, а також за рахунок взаємодії з активними компонентами в атмосфері.From the alloy of impurity atoms from the chamber and grinding bodies, which can reach 5,905 |9|, as well as due to interaction with active components in the atmosphere.
Відомий також спосіб одержання ВЕС плавленням шихтової наважки в атмосфері очищеного аргону електродуговим методом |10| з використанням вольфрамового електрода в плавильних печах. Недоліками цього способу є необхідність використання складного і дорогого технологічного обладнання, великі витрати електроенергії.There is also a known method of obtaining VES by melting the charge weight in an atmosphere of purified argon by the electric arc method |10| using a tungsten electrode in melting furnaces. The disadvantages of this method are the need to use complex and expensive technological equipment, high consumption of electricity.
Пристрій та спосіб електронно-променевого випаровування і спрямованого вакуумного осадження покриття з багатокомпонентного жароміцного сплаву описаний в (11). Пристрій містить вакуумну камеру, тримач підкладки та щонайменше один випарник. Пристрій характеризується тим, що містить хоча б одну електронно-променеву гармату (ЕПГ) для нагрівання випарника прямим електронним променем. Випарник складається із двох частин - верхньої і нижньої, причому вихідний отвір для виходу парового потоку матеріалу, який конденсується, перебуває у верхній частині. Суттєвим недоліком даного пристрою є його важка технологічна реалізація. По-перше, матеріал, що конденсується, знаходиться у рідкому стані.The device and method of electron beam evaporation and directional vacuum deposition of a multicomponent heat-resistant alloy coating is described in (11). The device includes a vacuum chamber, a substrate holder, and at least one vaporizer. The device is characterized by the fact that it contains at least one electron beam gun (EBG) for heating the vaporizer with a direct electron beam. The evaporator consists of two parts - the upper and the lower, and the outlet for the exit of the steam flow of the condensing material is located in the upper part. A significant drawback of this device is its difficult technological implementation. First, the condensing material is in a liquid state.
По-друге, з технічної точки зору важко реалізувати додавання додаткової порції матеріалу, який випаровується, або іншого матеріалу для здійснення легування. По-третє, в даному пристрої міститься один випарник, що достатньою мірою не дозволить реалізувати осадження багатокомпонентних сплавів. Також не зазначено, як саме відбувається контроль товщини зразків.Secondly, from a technical point of view, it is difficult to realize the addition of an additional portion of material that evaporates or other material to do doping. Thirdly, this device contains one evaporator, which will not allow the deposition of multicomponent alloys to a sufficient extent. It is also not specified how exactly the thickness of the samples is controlled.
Найближчим аналогом корисної моделі, що заявляється, є спосіб термічного випаровування та пристрій для осадження матеріалів у вакуумі (12|Ї. Зазначений спосіб випарування і формування парового потоку для його наступного осадження на підкладку у вакуумі в заданому напрямку включає розміщення матеріалу у випарнику, його нагрівання за допомогою резистивних електронагрівників до температури плавлення й випарування та його конденсацію на підкладку, розташовану нижче рівня вихідного отвору випарника. До основних недоліків зазначеного пристрою слід віднести необхідність періодичного переривання процесу осадження для додавання матеріалу у випарник, висока технологічність пристрою та значні витрати для його виготовлення.The closest analogue of the claimed useful model is a method of thermal evaporation and a device for deposition of materials in a vacuum (12|Й. The specified method of evaporation and formation of a vapor stream for its subsequent deposition on a substrate in a vacuum in a given direction includes placing the material in the evaporator, heating it with the help of resistive electric heaters to the melting and evaporation temperature and its condensation on a substrate located below the level of the outlet of the evaporator. The main disadvantages of the mentioned device include the need to periodically interrupt the deposition process to add material to the evaporator, high manufacturability of the device and significant costs for its manufacture.
В основу корисної моделі поставлена задача розробки пристрою з простою малоенергоємною конструкцією, за допомогою якого можливе одержання тонкоплівкових ВЕС одночасною або пошаровою конденсацією металів на підкладки, для отримання зразків високої чистоти і однофазного складу з можливістю контролю параметрів осадження компонентів.The useful model is based on the task of developing a device with a simple, low-energy design, with which it is possible to obtain thin-film wind turbines by simultaneous or layer-by-layer condensation of metals on substrates, to obtain samples of high purity and single-phase composition with the possibility of controlling the parameters of the deposition of components.
Поставлена задача вирішується тим, що пристрій для одержання плівкових високоентропійних сплавів, який складається з вакуумної камери, в якій встановлені випарники і на однаковій відстані від них розташована підкладка, згідно з корисною моделлю, в вакуумну камеру на керамічний ізолятор встановлена система суміщених екранів, яка являє собою два циліндри більшого і меншого діаметра, що з'єднані між собою радіальними перегородками, які ділять внутрішній простір системи суміщених екранів на рівні сектори, в кожному з яких на керамічному ізоляторі розміщений випарник, який підключений до двох електричних контактів, що з'єднані з елементом живлення, а на внутрішній стороні зовнішньої стінки кожного з секторів прикріплений "свідок" для визначення товщини нанесеної плівки.The problem is solved by the fact that the device for obtaining film high-entropy alloys, which consists of a vacuum chamber in which evaporators are installed and a substrate is located at the same distance from them, according to a useful model, a system of combined screens is installed in the vacuum chamber on a ceramic insulator, which represents are two cylinders of larger and smaller diameters, connected to each other by radial partitions, which divide the internal space of the system of combined screens into equal sectors, in each of which there is an evaporator on a ceramic insulator, which is connected to two electrical contacts connected to power element, and a "witness" is attached to the inner side of the outer wall of each of the sectors to determine the thickness of the applied film.
Крім цього, випарники можуть бути виконані у формі човника, корзинки або електронно- променевої гармати.In addition, vaporizers can be made in the form of a shuttle, a basket or an electron beam gun.
Завдяки використанню в корисній моделі системи суміщених екранів, де випарники розміщені у секторах, які відділені між собою радіальними перегородками, з можливістю підключення їх до джерела живлення одночасно або поперемінно, дозволяє проводити одночасну або пошарову конденсацію металів на підкладку і отримувати багатошарові або одношарові плівки заданої структури. Розташування в кожному секторі системи суміщених екранів "свідка" для визначення товщини нанесеної плівки дозволяє контролювати параметри осадження компонентів ВЕС. Конструкція пристрою досить проста, не потребує спеціального обладнання для її виготовлення, але повністю виконує своє призначення.Due to the use in the useful model of a system of combined screens, where the evaporators are placed in sectors that are separated from each other by radial partitions, with the possibility of connecting them to the power source simultaneously or alternately, it is possible to carry out simultaneous or layer-by-layer condensation of metals on the substrate and obtain multilayer or single-layer films of a given structure . The location in each sector of the system of combined "witness" screens to determine the thickness of the applied film allows controlling the deposition parameters of the wind turbine components. The design of the device is quite simple, it does not require special equipment for its manufacture, but it fully fulfills its purpose.
Суть корисної моделі пояснюється кресленнями, де на фіг. 1 зображена конструкція пристрою для одержання плівкових високоентропійних сплавів, на фіг. 2 - енерго-дисперсійний спектр від зразка Сцщ(5,5нм)/Мі(5,5нм)/Ре(5,5нм)/Со(5нм)/А1(8нм)/П, отриманого методом одночасної конденсації на 5іО»г/5і підкладку.The essence of the useful model is explained by the drawings, where in fig. 1 shows the design of the device for obtaining film high-entropy alloys, in fig. 2 - energy-dispersive spectrum from a sample of Cssh(5.5nm)/Mi(5.5nm)/Re(5.5nm)/Co(5nm)/A1(8nm)/P, obtained by the method of simultaneous condensation at 5iO»g/ 5 and lining.
Запропонований пристрій для одержання плівкових високоентропійних сплавів складається зі встановлених у вакуумну камеру системи суміщених екранів 1, яка розташована на керамічному ізоляторі 2. Система суміщених екранів 1 являє собою два циліндри 3, 4 більшого і меншого діаметрів, відповідно, які з'єднані між собою радіальними перегородками 5 і утворюютьThe proposed device for obtaining film high-entropy alloys consists of a system of combined screens 1 installed in a vacuum chamber, which is located on a ceramic insulator 2. The system of combined screens 1 is two cylinders 3, 4 of larger and smaller diameters, respectively, which are connected to each other by radial partitions 5 and form
Зо до шести секторів 6 в системі суміщених екранів 1. В кожному секторі 6 на внутрішній стороні зовнішньої стінки циліндра З прикріплений "свідок" 7 для контролю товщини нанесених плівок.From to six sectors 6 in the system of combined screens 1. In each sector 6, on the inner side of the outer wall of the cylinder Z, a "witness" 7 is attached to control the thickness of the deposited films.
Також в кожному секторі 6 на керамічному ізоляторі 2 встановлені випарники 8, які підключені через електричні контакти 9 до елемента живлення (не показаний). Над системою суміщених екранів 1 на рівній відстані від кожного з випарників 6 розташована підкладка 10, біля якої розміщений кварцовий резонатор 11.Also, in each sector 6, on the ceramic insulator 2, evaporators 8 are installed, which are connected through electrical contacts 9 to a power supply (not shown). Above the system of combined screens 1 at an equal distance from each of the evaporators 6 is a substrate 10, near which a quartz resonator 11 is placed.
Пристрій працює наступним чином.The device works as follows.
При формуванні плівкових ВЕС одночасної конденсації.During the formation of simultaneous condensation film wind turbines.
У вакуумну камеру, наприклад ВУП-5М, на керамічний ізолятор 2 встановлюють випарники 8, в яких знаходиться матеріал (метал), що випаровується між електричними контактами 9.In a vacuum chamber, for example, VUP-5M, on a ceramic insulator 2, evaporators 8 are installed, in which there is a material (metal) that evaporates between electrical contacts 9.
Маса матеріалу підбирається експериментальним шляхом. Над системою суміщених екранів 1 по центру, на однаковій відстані від кожного з випарників розташовують підкладку 10.The mass of the material is selected experimentally. Above the system of combined screens 1 in the center, at the same distance from each of the evaporators, a substrate 10 is placed.
Оптимальна висота розташування підкладки над системою суміщення екранів 1 складає 7 см.The optimal height of the substrate above the screen alignment system 1 is 7 cm.
На випарники 8 через електричні контакти 9 одночасно подають напругу до 20 В при резистивному випаровуванні При цьому відбувається одночасне розплавлення та випаровування металу з випарників 8 і осадження його на підкладку 10. Пристрій дозволяє одночасно випаровувати до шести різних матеріалів. Контроль за товщиною осаджених матеріалів здійснюється за допомогою "свідків" 7 та кварцового резонатора 11.At the same time, a voltage of up to 20 V is applied to the evaporators 8 through electrical contacts 9 during resistive evaporation. At the same time, there is simultaneous melting and evaporation of metal from the evaporators 8 and its deposition on the substrate 10. The device allows simultaneous evaporation of up to six different materials. Control of the thickness of deposited materials is carried out with the help of "witnesses" 7 and quartz resonator 11.
При формуванні плівкових ВЕС пошаровою конденсацією на випарники 8 напруга подається почергово. Порядок подачі напруги залежить від того, яка черговість шарів металів повинна бути отримана в плівці. Оскільки випарники 8 розміщені на однаковій відстані від підкладки 10 та в окремих секторах б, це дозволяє отримати однорідний по всій площі підкладки зразок.During the formation of film wind turbines by layer-by-layer condensation, the voltage is applied alternately to the evaporators 8. The order of voltage application depends on the sequence of metal layers to be obtained in the film. Since the evaporators 8 are placed at the same distance from the substrate 10 and in separate sectors b, it allows to obtain a uniform sample over the entire area of the substrate.
Контроль за товщиною осаджених матеріалів здійснюється за допомогою "свідків" 7 та кварцового резонатора 11.Control of the thickness of deposited materials is carried out with the help of "witnesses" 7 and quartz resonator 11.
При електропроменевому випаровуванні, для випаровування тугоплавких металів як випарники використовують ЕПГ і на випарники подають напругу до 2 кВ.In electrobeam evaporation, EPGs are used as evaporators for the evaporation of refractory metals, and a voltage of up to 2 kV is applied to the evaporators.
Для підтвердження ефективності даного способу одержання плівкових ВЕС було проведено ряд експериментів (13). Після гомогенізації шляхом термічного відпалювання зразків формується ГЦК-фаза твердого розчину ВЕС із параметром а-0,360-0,365 нм (у сплавах на основі Си, Ст, Ее, Мі та Со) або а-0,402-0,405 нм (у сплавах на основі АТ, Ст, Ее, Мі та Со), тобто бо плівки стають однофазними (фіг. 2).To confirm the effectiveness of this method of obtaining film VES, a number of experiments were conducted (13). After homogenization by thermal annealing of the samples, the fcc phase of the solid solution of VES is formed with a parameter of a-0.360-0.365 nm (in alloys based on Cy, St, Ee, Mi and So) or a-0.402-0.405 nm (in alloys based on AT, St, Ee, Mi and So), that is, because the films become single-phase (Fig. 2).
Таким чином, запропонований спосіб одержання багатокомпонентних плівкових ВЕС дає змогу отримати зразки достатньо високої чистоти і однофазного складу з наперед заданими параметрами.Thus, the proposed method of obtaining multicomponent film VES makes it possible to obtain samples of sufficiently high purity and single-phase composition with predetermined parameters.
Джерела інформації: 1. Мапозігисіитей підп-епігору айоуб м/ййп тийі-ргіпсіра! еіетепів-поме! ау девзідп сопсерів апа ошісотев / УМ. Мей, 5.К. Спеп, 5.9. Піп, У.М. Сбап, Т.5. Спіп, Т.Т. Зп!йп // Аду. Епд. Маїег. - 2004. - М. 6, Мо 5. - Р. 299-303. 2. Фирстов С.А. Механические свойства многокомпонентного титанового сплава / С.А.Sources of information: 1. Mapozigisiitey podp-epigoru ayoub m/yyp tiyi-rgipsira! eietepiv-pome! au devzidp sopseriv apa oshisotev / UM. May, 5.K. Spep, 5.9. Pip, U.M. Sbap, T.5. Spip, T.T. Zp!yp // Hell. Epd. Maieg. - 2004. - M. 6, Mo. 5. - R. 299-303. 2. Firstov S.A. Mechanical properties of multicomponent titanium alloy / S.A.
Фирстов, В.Ф. Горбань, Н.А. Крапивка // Проблемь прочности. - 2010. - Мо 5. - С. 178-189.Firstov, V.F. Horban, N.A. Krapyvka // The problem of strength. - 2010. - Mo. 5. - P. 178-189.
З. Тваї М. -Н. Нідн-епігору аїоувх: А сійсаї! гемівм/ / М.-Н. Твзаї, 9У.-МУ. Мей // Маїег. Незв. І еїї. - 2014.-М.2, Мо 3. - Р. 107-123. 4. А птасішге-тевзівїапі Нідп-епігору айоу їог сгтуодепіс арріїсайопе / В. Сідомаї?, А.Z. Tvai M. -N. Nidn-epigoru aiouvh: And siysai! hemivm/ / M.-N. Tvzai, 9U.-MU. May // Mayeg. Not known And hey. - 2014.-M.2, Mo. 3. - R. 107-123. 4. A ptasishge-tevziviapi Nidp-epigoru aiou yoog sgtuodepis arriisayope / V. Sidomai?, A.
Нопепуланег, 0. Сайсог, Е. Спапа // Зсієпсе. - 2014. - М. 345. - Мо 6201. - Р.1153-1158. 5. Структура и свойства вьісокознтропийньїх сплавов и нитридньїх покрьітий на их основе /Nopepulaneg, 0. Saisog, E. Spapa // Zsiepse. - 2014. - M. 345. - Mo. 6201. - R.1153-1158. 5. Structure and properties of high-isotropy alloys and nitride coatings based on them /
А. Д. Погребняк, А. А. Багдасарян, И. В. Якущенко, В. М. Береснев // Успехи химии. - 2014. - Т. 83, Мо 11. - б. 1027-1061. 6. Вплив Мі на фазовий склад високоентропійних сплавів / М. В. Карпець, 0. С. Макаренко,A. D. Pogrebnyak, A. A. Baghdasaryan, I. V. Yakushchenko, V. M. Beresnev // Successes in chemistry. - 2014. - T. 83, Mo. 11. - b. 1027-1061. 6. The effect of Mi on the phase composition of high-entropy alloys / M. V. Karpets, 0. S. Makarenko,
О. М. Мисливченко, В. Ф. Горбань // Наукові вісті НТУУ "КПІ". - 2014. - Мо 2. - С. 46-52. 7. Сгаіп дгоумй апа їйе НаїпІ-Реїси геїайопвпір іп а підн-епігору ГеСтміСоМп аїоу / М. Н. Чи, У.O. M. Myslivchenko, V. F. Horban // Scientific news of NTUU "KPI". - 2014. - Volume 2. - P. 46-52. 7. Sgaip dgoumy apa oliye NaipI-Reisy heiayopvpir ip a podn-epigoru GeStmiSoMp aiou / M. N. Chi, U.
Ми, УМ. Не, Т.а. Мівєй, 2. Р. Ги // Зсііріа Маїег. - 2013.- М. 68, Мо 7. - Р. 526-529. 8. Влияниє давления азота при осаждениий сверхтвердьх ТІМ покрьтий на их свойства / А.А.We, UM. No, T.a. Mivey, 2. R. Gy // Zsiiria Maieg. - 2013.- M. 68, Mo. 7. - R. 526-529. 8. The effect of nitrogen pressure upon deposition of superhard TIM coated on their properties / A.A.
Андреев, В.М. Шулаеєв, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Фізична інженерія поверхні. - 2007. - Т. 5, Мо 3-4. - Р. 203-206. 9. Косп С. Меспапіса! тійпд/аПйоуїпу ої іпієптеїайсв / С. Коси, у. МУпійепрегдег //Andreev, V.M. Shulaeev, V.F. Horban, V.A. Stolbovoi // Physical engineering of the surface. - 2007. - T. 5, Mo. 3-4. - R. 203-206. 9. Cosp S. Mespapis! tiipd/aPiouipu oi ipiepteiaisv / S. Kosy, u. MUpiyepregdeg //
Іптептегзаїїсв. - 1996. - М. 4, Мо 5. - Р. 339-355. 10. Влияниє фазового состава литьїх вьісокознтропийньїх сплавов на механическиє свойства / С.А. Фирстов, В.Ф. Горбань, Н.А. Крапивка, З.П. Печковский // Современнье проблемьї физического материаловедения: Сб. научн. трудов. - Киев: ИПМ НАН Украийнь!. - 2011. - Вьп. 20. - С. 21-37. 11. Патент на винахід Мо 98085, МПК С23С14/30, опубл. 14.04.2012, бюл. Мо 7. 12. М. дан. Ап аррагайшз5 Тог емарогайоп сотргізіпд ап епйивіоп сеїЇ апа а теїной ої дгоміпа а тт оп а 5,ибвігаїє. Раїепі ЕР2130941 (В1), опубл. 24.07.2013. 13. Стувіа|пе вігисіиге, еІесігорпувзісаІ апа тадпеїйогевівіїме ргорепіевз ої пПідп-епігору йт айоув / 5.І1. Могобіом, О.М. Копагакпома, 5.А. Меріїко, О.М. Родитетпе, М.І. ЗпитакКома, І.Ми.Ipteptegzaiisv. - 1996. - M. 4, Mo. 5. - R. 339-355. 10. Influence of the phase composition of cast high-isotropy alloys on mechanical properties / S.A. Firstov, V.F. Horban, N.A. Krapyvka, Z.P. Pechkovsky // Contemporary problems of physical material science: Sat. scientific labor - Kyiv: IPM NAS Ukraine!. - 2011. - Ex. 20. - P. 21-37. 11. Patent for the invention No. 98085, IPC C23С14/30, publ. 04/14/2012, Bull. Mo 7. 12. M. dan. Ap arragaishz5 Tog emarogayop sotrgizipd ap epiyiviop seiYi apa a teinoi oi dgomipa a tt op a 5,ibvigaiye. Raiepi EP2130941 (B1), publ. 24.07.2013. 13. Stuvia|pe vigisiige, eIesigorpuvzisaI apa tadpeiiyogeviviime rgorepievz oi pPidp-epigoru yt aiouv / 5.I1. Mogobiom, O.M. Kopagakpoma, 5.A. Meriiko, O.M. Roditetpe, M.I. ZpytakKoma, I.My.
РгоїзепкКо // ). Мапо-ЕІесігоп. Рпув. - 2016. - М. 8, Мо 3. - Р. 03026-1-03026-5.RgoizepkKo // ). Mapo-EIesigop. Rpuv - 2016. - M. 8, Mo. 3. - R. 03026-1-03026-5.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAU202002482U UA144388U (en) | 2020-04-21 | 2020-04-21 | DEVICE FOR PRODUCTION OF HIGH-ENTROPY FILM ALLOYS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAU202002482U UA144388U (en) | 2020-04-21 | 2020-04-21 | DEVICE FOR PRODUCTION OF HIGH-ENTROPY FILM ALLOYS |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA144388U true UA144388U (en) | 2020-09-25 |
Family
ID=74106794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAU202002482U UA144388U (en) | 2020-04-21 | 2020-04-21 | DEVICE FOR PRODUCTION OF HIGH-ENTROPY FILM ALLOYS |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| UA (1) | UA144388U (en) |
-
2020
- 2020-04-21 UA UAU202002482U patent/UA144388U/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5296274A (en) | Method of producing carbon-containing materials by electron beam vacuum evaporation of graphite and subsequent condensation | |
| US5317235A (en) | Magnetically-filtered cathodic arc plasma apparatus | |
| EP1436441B2 (en) | Method for applying metallic alloy coatings and coated component | |
| CN102212786B (en) | Method for preparing thermal barrier coating | |
| US3329524A (en) | Centrifugal-type vapor source | |
| JP3475403B2 (en) | Evaporation apparatus and method | |
| EP1497479A1 (en) | Methods and apparatus for deposition of thin films | |
| CN101484966B (en) | Apparatus for electron beam evaporation | |
| US7928411B2 (en) | Linear electron source, evaporator using linear electron source, and applications of electron sources | |
| Spalvins | Survey of ion plating sources | |
| UA144388U (en) | DEVICE FOR PRODUCTION OF HIGH-ENTROPY FILM ALLOYS | |
| JPH0122729B2 (en) | ||
| US3482133A (en) | Cold cathode,glow discharge devices | |
| UA81169C2 (en) | Process for preparation of coal-containing material by method of electron-beam evaporation of carbon in vacuum with subsequent condensation on substrate and a unit for realizing the same and at least one additional component | |
| Makarova et al. | Technological features of the thick tin film deposition by with magnetron sputtering form liquid-phase target | |
| RU2649355C1 (en) | METHOD OF SYNTHESIS OF TiN-Cu COMPOSITE COATINGS AND DEVICE FOR ITS IMPLEMENTATION | |
| JP2021066954A (en) | Vapor deposition cell for vacuum vapor deposition chamber, and related vapor deposition method | |
| US3673006A (en) | Method and apparatus for surface coating articles | |
| Deshpandey et al. | Evaporation processes | |
| RU2653399C2 (en) | Method of amorphous oxide of aluminum coating by reactive evaporation of aluminum in low pressure discharge | |
| US3963839A (en) | Method for the preparation of thin layers of tungsten and molybdenum | |
| Grechanyuk et al. | Industrial electron-beam installation L-8 for deposition of heat-protective coating on turbine blades | |
| RU2775978C1 (en) | Device for production of thin metal films with thermal energy of self-distributing high-temperature synthesis in ground conditions and in weightlessness conditions | |
| TW201912820A (en) | Evaporation method for forming metal/ceramic coating which is excellent in abrasion-resistance, temperature-resistance and friction improvement | |
| JP2008280578A (en) | Film deposition method of metal oxide film |