Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Харківський Фізико-Технічний Інститут, Харьковский физико-технический институтfiledCriticalХарківський Фізико-Технічний Інститут
Priority to UA3683344ApriorityCriticalpatent/UA13657A1/uk
Publication of UA13657A1publicationCriticalpatent/UA13657A1/uk
Physical Or Chemical Processes And Apparatus
(AREA)
Chemical Vapour Deposition
(AREA)
Abstract
Пристрій для нанесення покрить з газової фази містить реактор циліндричної форми, індуктор, засіб вводу газової суміші, засоби відкачки і уловлювання продуктів реакції. З метою підвищення ефективності використання матеріалу покриття при обробці циліндричних виробів з торцовими поверхнями він забезпечений дефлектором з отвором, встановленим на реакторі з боку відкачки.
UA3683344A1984-01-021984-01-02Пристрій для hаhесеhhя покриттів з газової фази
UA13657A1
(uk)