Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Харківський Фізико-Технічний Інститут, Харьковский физико-технический институтfiledCriticalХарківський Фізико-Технічний Інститут
Priority to UA3683344ApriorityCriticalpatent/UA13657A1/ru
Publication of UA13657A1publicationCriticalpatent/UA13657A1/ru
Physical Or Chemical Processes And Apparatus
(AREA)
Chemical Vapour Deposition
(AREA)
Abstract
Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы содержит реактор цилиндрической формы, индуктор, средство ввода газовой смеси, средства откачки и улавливания продуктов реакции. С целью повышения эффективности использования материала покрытия при обработке цилиндрических изделий с торцевыми поверхностями оно снабжено дефлектором с отверстием, установленным на реакторе со стороны откачки.
UA3683344A1984-01-021984-01-02Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы
UA13657A1
(ru)