UA122445C2 - Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі - Google Patents
Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі Download PDFInfo
- Publication number
- UA122445C2 UA122445C2 UAA201812115A UAA201812115A UA122445C2 UA 122445 C2 UA122445 C2 UA 122445C2 UA A201812115 A UAA201812115 A UA A201812115A UA A201812115 A UAA201812115 A UA A201812115A UA 122445 C2 UA122445 C2 UA 122445C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- housing
- coaxially
- cylindrical body
- Prior art date
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Abstract
Винахід стосується іонно-плазмової техніки і може бути використаний для нанесення на внутрішню поверхню циліндрів стійких проти спрацювання, корозійностійких та інших покриттів із металів та їх сполук. Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі містить співвісно розташовані катод та анод, який має корпус у вигляді герметичного пустотілого циліндра, виконаного з немагнітного матеріалу, а також водоохолоджувану магнітну систему, розташовану в нижній частині корпуса анода. До торцевої частини магнітної системи співвісно їй приєднаний фокусуючий магнітопровід у вигляді зрізаного конуса. На верхній частині корпусу анода встановлені патрубки подачі та відводу води. Всередині корпусу анода коаксіально циліндричній частині корпусу розміщена трубка, один кінець якої з'єднаний із патрубком для подачі води, а інший знаходиться поблизу постійного магніту. Корпус пустотілого катода має форму циліндра верхня відкрита частина якого звернена до анода. Нижня частина циліндричного корпусу катода приєднана до основи, яка з'єднана з тримачем у вигляді трубки, закріпленої на ізоляторі, всередині якої розміщений розпилювальний елемент. Нижній торець розпилювального елемента приєднаний до механізму його переміщення вздовж осі катода, а верхній - розташований співвісно аноду, поблизу фокусуючого магнітопроводу. Циліндричний корпус катода виконаний із сітки, і довжиною, що дорівнює відстані від основи циліндричного корпусу катода до верхнього торця розпилювального елементу.
Description
Винахід стосується іонно-плазмової техніки і може бути використаний для нанесення на внутрішню поверхню циліндрів стійких проти спрацювання, корозійностійких та інших покриттів із металів та їх сполук.
Відомий пристрій для іонно-плазмового розпилення матеріалів у вакуумі, що містить анод, циліндричний катод з розпилюваною частиною у вигляді зрізаного конусу, встановлену співвісно катоду в корпусі анода водоохолоджувану магнітну систему у вигляді постійного магніту циліндричної форми з наскрізним осьовим отвором, в якому розташована проволока, що подається в область розряду |див. патент України на винахід Мео57940А, МПК С23С14/35, 15.07.2003.
Цей пристрій не забезпечує достатньо велику площу розпилення матеріалу для формування покриття. Крім того переважна частина атомів, які розпилені з обмеженої за площею торцевої частини пустотілого катода, конденсується на його внутрішній поверхні, а не на внутрішній поверхні труби. Пристрій також не дозволяє розпилювати водночас декілька матеріалів та отримувати покриття зі змінним елементним складом, а розігрівання електронами проволоки, що подається в область розряду з аноду, приводить до випаровування атомів з низькою енергією (50.1 еВ). В свою чергу низька енергія атомів, що конденсується, не забезпечує необхідну адгезію покриттів на внутрішні поверхні труби та гомогенізацію необхідних сполук.
Найближчим до запропонованого винаходу, який обраний прототипом, є пристрій для нанесення покриттів у вакуумі, що містить співвісно розташовані катод та анод, який має корпус у вигляді герметичного пустотілого циліндра, виконаного з немагнітного матеріалу, а також водоохолоджувану магнітну систему, розташовану в нижній частині корпуса анода, до торцевої частини магнітної системи співвісно їй приєднаний фокусуючий магнітопровід у вигляді зрізаного конуса, на верхній частині корпусу анода встановлені патрубки подачі та відводу води, а всередині корпусу анода коаксіально циліндричній частині корпусу розміщена трубка, один кінець якої з'єднаний із патрубком для подачі води, а інший знаходиться поблизу постійного магніту, корпус пустотілого суцільного катода має форму циліндра верхня відкрита частина якого звернена до анода, а нижня частина корпусу катода приєднана до основи, яка з'єднана з тримачем у вигляді трубки, закріпленої на ізоляторі, всередині якої розміщений
Зо розпилювальний елемент, нижній торець якого приєднаний до механізму його переміщення вздовж осі катода, а верхній - розташований соосно аноду, поблизу фокусуючого магнітопроводу. |див. патент України на винахід Ме57940А, МПК С23С14/35, 15.07.2003).
Відомий пристрій не дозволяє формувати покриття за рахунок розпилення частини розпилювального елементу, що знаходяться всередині пустотілого суцільного корпусу катоду, що також не дозволяє підвищувати осаджувані на внутрішні поверхні труби потоки розпилених атомів шляхом зниження тисків робочого газу при збереженні високого струму розряду.
В основу винаходу поставлена задача вдосконалення пристрою для нанесення покриттів у вакуумі на внутрішні поверхні труб шляхом модифікації його конструкції, що дозволяє зменшити час нанесення покриття на всю внутрішню поверхню труби за умови, коли її довжина перевищує довжину розпилювального елементу, за рахунок збільшення довжини розпилювального елементу, розпилені атоми якого конденсуються на внутрішній поверхні труби, а також за рахунок зменшення довжини вільного пробігу розпилених атомів при зниженні тиску робочого газу.
Поставлена задача вирішується тим, що пристрій для нанесення покриттів у вакуумі, що містить співвісно розташовані катод та анод, який має корпус у вигляді герметичного пустотілого циліндра, виконаного з немагнітного матеріалу, а також водоохолоджувану магнітну систему, розташовану в нижній частині корпуса анода, до торцевої частини магнітної системи співвісно їй приєднаний фокусуючий магнітопровід у вигляді зрізаного конуса, на верхній частині корпусу анода встановлені патрубки подачі та відводу води, а всередині корпусу анода коаксіально циліндричній частині корпусу розміщена трубка, один кінець якої з'єднаний із патрубком для подачі води, а інший знаходиться поблизу постійного магніту, корпус пустотілого катода має форму циліндра верхня відкрита частина якого звернена до анода, а нижня частина корпусу катода приєднана до основи, яка з'єднана з тримачем у вигляді трубки, закріпленої на ізоляторі, всередині якої розміщений розпилювальний елемент, нижній торець якого приєднаний до механізму його переміщення вздовж осі катода, а верхній - розташований соосно аноду, поблизу фокусуючого магнітопроводу, відповідно до винаходу, циліндричний корпус катода виконаний із сітки, і довжиною, що визначена відстанню від основи корпусу катода до верхнього торця розпилювального елементу.
Використання пристрою, що заявляється, у сукупності зі всіма істотними ознаками, 60 включаючи відмітні дозволяє отримувати покриття за рахунок розпилення усього розпилювального елементу, що знаходяться в всередині циліндричного корпусу катоду. Це досягається використанням циліндричного корпусу катоду, виготовленого із сітки. При цьому циліндричний корпус катода із сітки виконує ті ж функції, що їі суцільний, так як потенціал сітки не дозволяє електронам виходити за межі об'єму циліндричного корпусу катоду. Разом з тим, атоми, що розпилюються із розпилювального елементу проходять через сітку і конденсуються на внутрішній поверхні труби. Довжина розпилювального елементу при використанні циліндричного корпусу катоду із сітки може сягати 140 мм, що дозволяє водночас формувати покриття на значній площі внутрішньої поверхні труби, довжиною, що приблизно співпадає з довжиною розпилювальнного елементу. Експериментально встановлено, що при використанні суцільного циліндричного корпусу катоду оптимальна довжина частини розпилювального елементу, що виходить за межі суцільного циліндричного корпусу катоду, становить приблизно 25 мм. На основі розпилення цієї довжини розпилювального елементу і формується покриття на внутрішній поверхні труби. При цьому довжина труби, на поверхні якої водночас формується покриття теж складає приблизно 25 мм. Розпилення частини розпилювального елементу, що знаходяться всередині суцільного циліндричного корпусу катоду, призводе до осадження атомів на його внутрішній частині. В разі збільшення частини розпилювального елементу, що виступає над суцільним циліндричним корпусом катода понад 25 мм, необхідно підвищувати тиск робочого газу понад 9,5 Па, що призводе до розсіювання розпилених атомів на молекулах робочого газу і до відповідного зменшення потоку розпилених атомів, що конденсуються на внутрішній поверхні труби. За умови, коли довжина труби для нанесення покриття перевищує довжину розпилювального елементу і є необхідність нанесення покриття на всю внутрішню поверхню труби, остання переміщується відносно розпилювального елементу. Виходячи з того, що, залежно від структури сіток, втрати потоку розпилених атомів за рахунок їх зіткнення з матеріалом сітки не перевищують 23 95, а довжина розпилювального елементу для отримання покриття при переході від суцільного циліндричного корпусу катоду до корпусу катоду із сітки, відповідно, збільшується від 25 до 140 мм, тобто приблизно на 560 95, час нанесення покриття необхідної товщини на всю внутрішню поверхню труби, за умови використання циліндричного корпусу катода із сітки, скорочується. З другого боку використання циліндричного корпусу катоду із сітки, довжиною, що визначена відстанню від основи корпусу катода до верхнього торця розпилювального елементу, дозволяє знизити тиск робочого газу до З Па при збереженні високих токів розряду. Таке зниження тиску робочого газу дозволяє знизити розсіювання розпилених атомі на молекулах робочого газу і, тим самим, збільшити осаджуваний потік розпилених атомів. Це досягається завдяки збільшенню довжини вільного пробігу розпилених атомів від поверхні розпилювального елементу до внутрішньої поверхні труби. Так, в разі використання суцільних циліндричних корпусів катоду, тиск робочого газу, за умови виходу розпилювального елементу з циліндричного корпусу катода на 25 мм, повинен перевищувати 9,5 Па. При таких тисках робочого газу довжина вільного пробігу розпилених атомів не перевищує 30 мм. У разі використання циліндричного корпусу катода із сітки, довжина якого співпадає з довжиною розпилювального елементу, тиск робочого газу при збереженні струму розряду знижується до З Па, що збільшує довжину вільного пробігу розпилених атомів приблизно до 50 мм. Таким чином, в разі нанесення покриттів на внутрішні поверхні труб з радіусами понад 30 мм при тиску робочого газу 9.5 Па і при використанні суцільних циліндричних корпусів катода, частина розпилених атомів буде розсіюватися на молекулах робочого газу і змінювати траєкторію руху на протилежний. Такі технологічні умови зменшують потік речовини, що конденсується, а використання циліндричного корпусу катода із сітки довжиною, що визначена відстанню від основи корпусу катода до верхнього торця розпилювального елементу, дозволяє знизити тиск робочого газу і, як наслідок, зменшити розсіювання розпилених атомів на молекулах робочого газу і тим самим підвищити швидкість нанесення покриття або зменшити час технологічного процесу.
На Фіг. зображена схема пристрою, що заявляється.
Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі містить співвісно розташовані анод 1, катод 2 та установлену співвісно їм водоохолоджувану магнітну систему 3. Анод 1 складається із герметичного циліндричного корпусу 4. В нижній частині циліндричного корпусу 4 аноду 1 розміщена водоохолоджувана магнітна система 3, що складається із однієї секції циліндричного постійного магніту, до торця якого співвісно приєднаний фокусуючий магнітопровід 5, виконаний з магнітом'якого матеріалу у вигляді зрізаного конусу. Магнітопровід 5 та нижній звужений торець герметичного циліндричного корпусу 4 аноду 1 приварені один до одного. На верхній частині герметичного циліндричного корпусу4 анода розташовані патрубки 6 та 7, що служать відповідно для подачі та відводу води. Трубка 8, розташована всередині герметичного бо циліндричного корпусу 4 анода 1 коаксіально його циліндричній поверхні, служить для підводу води до магнітної системи 3. Один кінець трубки 8 з'єднаний з патрубком 6 для подачі води, а інший знаходиться поблизу магніту 3.
Катод 2 має циліндричний корпус 9 катоду, що виготовлений із сітки і закріплений на основі 10, тримача 11 у вигляді трубки, який приєднаний до основи 10 та спирається на ізолятор 12.
При цьому циліндричний корпус катода 9 має довжину, що визначена відстанню від основи корпусу катода 10 до верхнього торця розпилювального елементу 13 у вигліді стрижня, який розташований всередині трубчатого тримача 11. Верхній торць розпилювального елемента 13 у вигляді стрижня знаходяться біля фокусуючого магнітопроводу 5, а нижня частина розпилювального елемента приєднана до механізму його переміщення 14. Довжина розпилювального елемента 13, що в нашому випадку складається із стрижня та визначається відстанню від основи 10 до загостреного торця розпилювального елемента 13 призначена для розпилення і отримання покриття 15 на внутрішній поверхні труби 16. За допомогою джерела живлення 17 створюється різниця потенціалів між катодом і анодом.
Пристрій працює наступним чином.
Попередньо в об'ємі вакуумної камери, де знаходиться розпилювальний пристрій, створюють технологічний вакуум. Після відкачки роблять проточний напуск робочого газу, наприклад, аргону, до тиску З Па (окрім інертних газів, можна провести напуск реактивних газів -
О», Мг, СН» і т.д. - якщо потрібно отримати відповідні сполуки). Нижній торець труби 16 повинен бути розміщений на рівні магнітної системи 3. Далі за допомогою блоку живлення 17 подають напругу між катодом 2 ї анодом 1. Виникає тліючий розряд, який підтримується при відносно високих струмах за рахунок магнетронного ефекту та ефекту пустотілого катоду. При цьому всередині пустотілого корпусу 9 катода 2 формується плазма с підвищеним коефіцієнтом іонізації. Позитивні іони цієї плазми бомбардують розпилювальний елемент 13, що призводить до його розпилення. При цьому використання циліндричного корпусу 9 катода 2 у вигляді сітки довжиною, що визначена відстанню від основи корпусу катода 10 до верхнього торця розпилювального елементу 13 визначає зниження тиску робочого газу до З Па при збереження струму розряду. Поряд з цим завдяки розігріву циліндричного корпусу катода 9, а також розпилювального елементу 13, з їх поверхні відбувається термоемісія електронів, що підсилюється прикладеним до катода 2 від'ємним потенціалом. В свою чергу поява додаткового джерела електронів обумовлює більш інтенсивну іонізацію робочого газу і відповідне підвищення струму розряду та процесу розпилення елементу 13.
Після знегажування пристрою, стабілізації розряду та попереднього розігріву труби 16 її переміщують вниз. Потік розпиленої речовини, що проходе через сітку циліндричного корпусу катода 9, осаджується на внутрішній поверхні труби в вигляді покриття 15. За потребою механізмом 14 проводять переміщення розпилювального елементу 13 в міру його розпилення.
Claims (1)
- ФОРМУЛА ВИНАХОДУ Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі, що містить співвісно розташовані катод та анод,який має корпус у вигляді герметичного пустотілого циліндра, виконаного з немагнітного матеріалу, а також водоохолоджувану магнітну систему, розташовану в нижній частині корпусу анода, до торцевої частини магнітної системи співвісно їй приєднаний фокусуючий магнітопровід у вигляді зрізаного конуса, на верхній частині корпусу анода встановлені патрубки подачі та відводу води, а всередині корпусу анода коаксіально циліндричній частині корпусу,розміщена трубка, один кінець якої з'єднаний із патрубком для подачі води, а інший знаходиться поблизу постійного магніту, корпус пустотілого катода має форму циліндра, верхня відкрита частина якого звернена до анода, а нижня частина циліндричного корпусу катода приєднана до основи, яка з'єднана з тримачем у вигляді трубки, закріпленої на ізоляторі, всередині якої розміщений розпилювальний елемент, нижній торець якого приєднаний до механізму його переміщення вздовж осі катода, а верхній - розташований співвісно аноду, поблизу фокусуючого магнітопроводу, який відрізняється тим, що циліндричний корпус катода виконаний із сітки і довжиною, що дорівнює відстані від основи циліндричного корпусу катода до верхнього торця розпилювального елемента.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
UAA201812115A UA122445C2 (uk) | 2018-12-07 | 2018-12-07 | Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
UAA201812115A UA122445C2 (uk) | 2018-12-07 | 2018-12-07 | Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
UA122445C2 true UA122445C2 (uk) | 2020-11-10 |
Family
ID=73717361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
UAA201812115A UA122445C2 (uk) | 2018-12-07 | 2018-12-07 | Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
UA (1) | UA122445C2 (uk) |
-
2018
- 2018-12-07 UA UAA201812115A patent/UA122445C2/uk unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1554412B1 (en) | Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus | |
EP0508612B1 (en) | Apparatus and method for coating a substrate using vacuum arc evaporation | |
US8038858B1 (en) | Coaxial plasma arc vapor deposition apparatus and method | |
US7867366B1 (en) | Coaxial plasma arc vapor deposition apparatus and method | |
JPH0645870B2 (ja) | 真空中で材料を蒸発する方法および装置 | |
KR101854936B1 (ko) | 지정된 전기장을 갖는 아크 증착 소스 | |
CN104046943A (zh) | 低压电弧等离子体浸没涂层气相沉积和离子处理 | |
JPH06508001A (ja) | 線形磁電管スパッタリング方法及び装置 | |
US3616452A (en) | Production of deposits by cathode sputtering | |
CN110205589B (zh) | 一种脉冲碳离子激发源装置 | |
US2939943A (en) | Process and device for vaporizing electrically conductive substances, preferably metals, in vacuo | |
GB1122438A (en) | Ion cleaning and deposition apparatus | |
CN103469164A (zh) | 一种实现等离子体激活电子束物理气相沉积的装置和方法 | |
RU2631553C2 (ru) | Магнетронная распылительная система с инжекцией электронов | |
UA122445C2 (uk) | Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі | |
CN111893440A (zh) | 电弧离子镀膜装置 | |
CN210438827U (zh) | 一种脉冲碳离子激发源装置 | |
RU2657896C1 (ru) | Устройство для синтеза покрытий | |
US20150101924A1 (en) | Assembly and method of coating an interior surface of an object | |
RU2607398C2 (ru) | Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления | |
Maiti et al. | Note: Design of transverse electron gun for electron beam based reactive evaporation system | |
RU159075U1 (ru) | Устройство для получения многокомпонентных многослойных покрытий | |
CN114411099B (zh) | 一种真空镀膜系统及镀膜方法 | |
CN114318249B (zh) | 一种无液滴的等离子体镀膜弧源结构、镀膜系统及镀膜方法 | |
RU2510428C1 (ru) | Электродуговой испаритель металлов и сплавов |