TWM656483U - 測量裝置 - Google Patents

Abstract

本創作係有關於一種「測量裝置」，包括有一基座單 元，該基座單元上組置有一測量單元。該基座單元中包括有一穿口，該穿口之位置介於該測量單元與待測物之間；經於該穿口中組置一遮蔽元件，能解決待測物在進行測溫或各式測量作業時放射率所造成的影響。

Description

測量裝置

本創作「測量裝置」，涉及一種測量技術，特別是有關於待測物因放射率會造成測量誤差影響之解決技術。

習知許多物品在工廠進行加工作業時，有可能會因工序造成半成品溫度上升，若不即時進行溫度監控，採取必要降溫措施，半成品有可能不良率提高。當這些半成品因材料表面因素存有放射率偏低的特性時，以坊間泛用的非接觸式測溫器進行溫度測量，往往會因為放射率干擾測量，或其放射率超出感測器可讀取之範圍，造成無法測量或數值誤差等狀況，相當惱人。

顯見，現有表面之測溫結構仍不理想完善，實有改進的必要。創作人有鑑於此，特以研創成本案，期能藉本案之提出，俾改進現有之缺點，期使非接觸式測量技術得以更臻完善且理想，符合實際需求。

為改善前述習知非接觸式測量作業易受待測物表面放射係數影響之缺失，本新型主要目的在於：提供一種「測量裝置」，其利用在測量單元與待測物之間的基座單元處，增設有一能提高待測物放射率，及提高熱傳導係數之遮蔽元件；如是，進行非接觸式溫度或其它各式光學量測作業時，能解決放射率干擾量測行為之問題，以獲致提升量測成功率、降低誤差與增進量測準確度。

本新型另一目的在於：提供一種「測量裝置」，其結構簡易，成本增加相當有限，能具體實施且商品化。

為達成上述目的，本案具體之主要手段為：該「測量裝置」，包括有一基座單元，該基座單元上組置有一測量單元。

較佳的，該基座單元，包括有一第一板體，該第一板體底部連接有一第二板體，兩者間形成L字型態；該第二板體略呈平置狀，頂面凹設有一容置槽，該容置槽任一側邊略呈階梯狀，且該容置槽中央為穿透狀態，並於該容置槽兩旁之頂面處分別設有一鎖孔；該容置槽內能提供一座體組置，該座體底部向下凸設有符合容置槽形體之塊體，且該座體中央穿設有一貫通之穿口；又該第二板體上配置設有一鎖板，該鎖板開設有兩穿孔，利用兩鎖件分別穿經各鎖孔後，利用該鎖件上之螺牙配合螺件，能將該鎖板與該第二板體結合，並將座體限制其間；另於該鎖板中央開設有一開口，該開口與該穿口以位於同一軸線上最佳。

較佳的，該測量單元，得以任何方式結合於該第一板體側邊，特別是位於第二板體頂部處；該測量單元底部設置有一測量元件，其能以光學或任意非接觸之方式 進行測量作業，該測量行為包括但不限定於溫度之測量。

前述該測量單元於進行測量時，於該測量單元之穿口底部處，以任意方式結合有一遮蔽元件；該遮蔽元件主要用途是提高放射率、提高熱傳導系數作用，其可以是各式物品，至少包括但不限定是膠帶、薄膜、紙張或片體等。

前述該基座單元之該第一板體、該第二板體、該座體與該鎖板，可以是一體式結構。

1:基座單元

10:第一板體

11:第二板體

111:容置槽

112:鎖孔

12:座體

121:塊體

122:穿口

13:鎖板

131:開口

132:穿孔

14:鎖件

141:螺牙

142:螺件

2:測量單元

21:測量元件

3:遮蔽元件

9:待測物

第一圖：係為本新型之立體外觀圖；第二圖：係為本新型之立體分解圖；第三圖：係為本新型之側面局部剖面圖；第四圖：係為本新型之穿口貼合遮蔽元件之示意圖；第五圖：係為本新型進行測量時貼近待測物之示意圖；第六圖：係為本新型進行測量時之示意圖；第七圖：係為本新型進行測量時利用遮蔽元件提高放射率之示意圖。

茲謹就本創作「測量裝置」其結構組成，及所能產生的功效，配合圖式，舉一本案之較佳實施例詳細說明如下。

首請參閱第一圖、第二圖與第三圖所示，本案「測量裝置」，包括有一基座單元1，該基座單元1上組置有一測量單元2。

其中該基座單元1，包括有一第一板體10，該第一板體10底部連接有一第二板體11，兩者間形成L字型態；該第二板體11略呈平置狀，頂面凹設有一容置槽111，該容置槽111任一側邊略呈階梯狀，且該容置槽111中央為穿透狀態，並於該容置槽111兩旁之頂面處分別設有一鎖孔112；該容置槽111內能提供一座體12組置；該座體12底部向下凸設有符合容置槽形體之一塊體121，且該座體12中央穿設有一貫通之穿口122；又該第二板體11上配置設有一鎖板13，該鎖板13開設有兩穿孔132，利用兩鎖件14分別穿經各鎖孔112與各穿孔132後，利用該鎖件14上之一螺牙141配合一螺件142，能將該鎖板13與該第二板體11結合，並將該座體12限制於其間；另於該鎖板13中央開設有一開口131，該開口131與該穿口122以位於同一軸線上最佳。

又該測量單元2，得以任何方式結合於該第一板體10側邊，特別是該測量單元2將位於該第二板體11頂部處；該測量單元2底部設置有一測量元件21，其能以光學或任意非接觸之方式進行測量作業，該測量行為包括但不限定於溫度之測量。

前述該測量單元2之穿口122底部處，如第四圖，以任意方式結合有一遮蔽元件3；該遮蔽元件3主要用途是提高放射作用，其可以是各式物品，至少包括但不限定是膠帶、薄膜、紙張或片體等。

又前述該基座單元1之該第一板體10、該第二 板體11、該座體12與該鎖板13，亦可以改成是一體式結構。

本案實施時，如第五圖，依習知之升降機構使該基座單元1與測量單元2降低高度並靠近一待測物9，當來到預設位置或與之接觸時，請再配合第六圖與第七圖，該測量元件21將以非接觸方式進行光學測量作業，藉由開口131與穿口122可提供測量元件21之光學訊號朝待測物9發射，由於遮蔽元件3之設置，可使測量時不受放射因素之影響，有效提升放射率，解決習知待測物在進行測溫或各式測量作業時放射率所造成的影響與弊病。

綜上所述，本案「測量裝置」，其技術內容完全符合新型專利之取得要件。本案在產業上確實得以利用，於申請前未曾見於刊物或公開使用，且非為公眾所知悉之技術。再者，本案有效解決先前技術中長期存在的問題並達成相關使用者與消費者長期的需求，得佐證本新型並非能輕易完成。本案富具專利法規定之「產業利用性」、「新穎性」與「進步性」等要件，爰依法提請專利，懇請 鈞局詳查，並儘早為准予專利之審定，以保護申請人之智慧財產權，俾勵創新。

本新型雖藉由前述實施例來描述，但仍可變化其形態與細節，於不脫離本新型之精神而達成，並由熟悉此項技藝之人士可了解。前述本案之較佳實施例，僅係藉本案原理可以具體實施的方式之一，但並不以此為限制，應依後附之申請專利範圍所界定為準。

1:基座單元

121:塊體

2:測量單元

21:測量元件

3:遮蔽元件

Claims (10)

1. 一種測量裝置，包括：

   一基座單元，該基座單元包括有一穿口，該穿口底部貼合有一遮蔽元件；

   一測量單元，組置於該基座單元之穿口上方，該測量單元底部設置有一測量元件。
2. 如請求項1所述之測量裝置，其中該基座單元包括有一第一板體，該第一板體底部連接有一第二板體，兩者間形成L字型態。
3. 如請求項2所述之測量裝置，其中該第二板體略呈平置狀，頂面凹設有一容置槽，該容置槽任一側邊略呈階梯狀，且該容置槽中央為穿透狀態，並於該容置槽兩旁之頂面處分別設有一鎖孔。
4. 如請求項3所述之測量裝置，其中該容置槽內提供一座體組置，該座體底部向下凸設有符合容置槽形體之一塊體，且該座體中央穿設有貫通之一穿口。
5. 如請求項4所述之測量裝置，其中該第二板體上配置設有一鎖板，該鎖板開設有兩穿孔，利用兩鎖件分別穿經各該鎖孔與各該穿孔後，利用該鎖件上之一螺牙配合一螺件，能將該鎖板與該第二板體結合，並將該座體限制於其間。
6. 如請求項5所述之測量裝置，其中該鎖板中央開設有一開口，該開口與該穿口以位於同一軸線上最佳。
7. 如請求項2所述之測量裝置，其中該測量單元係結合於該第一板體側邊。
8. 如請求項1所述之測量裝置，其中該測量元件係以光學或任意非接觸之方式進行測量作業。
9. 如請求項1所述之測量裝置，其中該測量元件係進行溫度之測量。
10. 如請求項1所述之測量裝置，其中該遮蔽元件之用途係提高放射率及熱傳導係數，其可以是膠帶、薄膜、紙張或片體。

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