TWM648859U - 理線裝置 - Google Patents

Abstract

一種理線裝置，包含基座、蓋體以及理線槽。蓋體配置以遠離基座移動至開啟位置以及朝向基座移動至關閉位置。理線槽位於基座與蓋體之間。當蓋體位於開啟位置時，理線槽由基座與蓋體之間的間隙暴露出。當蓋體位於關閉位置時，間隙閉合以使理線槽位於基座與蓋體所形成的遮蔽空間內。

Description

理線裝置

本揭露是有關於一種理線裝置。

目前常見用於收納纜線、連接線等線材的理線器用以整理線材的理線槽是外露的。

然而，外露的理線槽不只在外觀上不美觀，異物(例如灰塵、髒污)也容易進入、堆積於理線槽中。

因此，如何提出一種可解決上述問題的理線裝置，是目前業界亟欲投入研發資源解決的問題之一。

有鑑於此，本揭露之一目的在於提出一種可有解決上述問題的理線裝置。

本揭露是有關於一種理線裝置包含基座、蓋體以及理線槽。蓋體配置以遠離基座移動至開啟位置以及朝向基座移動至關閉位置。理線槽位於基座與蓋體之間。當蓋體位於開啟位置時，理線槽由基座與蓋體之間的間隙暴露出。當蓋體位於關閉位置時，間隙閉合以使理線槽位於基座與蓋體所形成的遮蔽空間內。

在一些實施方式中，理線裝置進一步包含理線結構連接至蓋體。理線槽環繞形成於理線結構的外緣。當蓋體位於關閉位置時，理線結構位於基座與蓋體所形成的遮蔽空間內。

在一些實施方式中，理線裝置進一步包含至少一銜接柱以及止擋片。至少一銜接柱連接至基座。止擋片連接至銜接柱。理線結構至少部分限位於止擋片以及基座之間。

在一些實施方式中，理線裝置進一步包含磁性件連接至理線結構。當蓋體位於關閉位置時，磁性件吸附至磁性金屬片。磁性金屬片鑲嵌至基座。

在一些實施方式中，理線裝置進一步包含理線結構，理線結構包含第一理線件以及第二理線件。第一理線件連接至蓋體。第二理線件連接至第二理線件。第一理線件的延伸部向遠離蓋體的方向突出延伸以連接至第二理線件。理線槽環繞形成於延伸部的外緣。

在一些實施方式中，第二理線件具有至少一定位孔。基座具有至少一定位凸點。在蓋體位於關閉位置時，至少一定位凸點穿入至少一定位孔。

在一些實施方式中，理線裝置，進一步包含至少一銜接柱以及止擋片。至少一銜接柱連接至基座。止擋片連接至銜接柱。第二理線件限位於止擋片與基座之間。第一理線件具有鏤空部，且至少一銜接柱穿入鏤空部中。

在一些實施方式中，在蓋體由關閉位置移動至開啟位置的期間，止擋片沿著鏤空部相對於理線結構滑動。在蓋體位於開啟位置時，止擋片抵靠至第二理線件。

在一些實施方式中，第一理線件具有鏤空部。理線槽環繞鏤空部。第一理線件包含位於鏤空部的側壁上的第一卡扣件。第二理線件包含第二卡扣件。第二卡扣件扣合至第一卡扣件。

在一些實施方式中，理線槽配置以纏繞一線材。線材的一端連接至連接埠。當蓋體位於關閉位置時，基座與蓋體於間隙形成一缺口，連接埠配置以契合地卡合於缺口。

綜上所述，於本新型的理線裝置中，基座與蓋體可以閉合以形成遮蔽空間遮蔽理線槽，進而避免異物沾染於理線槽中。具體來說，利用銜接柱及止檔片使蓋體滑動銜接於基座。蓋體選擇性地相對於基座滑動以接近或遠離基座。當蓋體位於關閉位置時，蓋體抵靠基座並遮蔽理線槽。

本揭露的這些與其他方面通過結合圖式對優選實施例進行以下的描述，本揭露的實施例將變得顯而易見，但在不脫離本公開的新穎概念的精神和範圍的情況下，可以進行其中的變化和修改。

以下揭露內容現在在此將透過圖式及參考資料被更完整描述，一些示例性的實施例被繪示在圖式中。本揭露可以被以不同形式實施並且不應被以下提及的實施例所限制。但是，這些實施例被提供以幫助更完整的理解本揭露之內容並且向本領域之技術人員充分傳達本新型的範圍。相同的參考標號會貫穿全文指代相似元件。

請同時參考第1圖及第2圖。第1圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置10的立體圖，其中理線裝置10的蓋體200位於關閉位置。第2圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置10的另一立體圖，其中理線裝置10的蓋體200位於開啟位置。在本實施例中，理線裝置10包含基座100以及蓋體200。蓋體200可以沿著方向x相對地接近或遠離基座100。具體來說，當蓋體200抵靠至基座100時(如第1圖所示)，蓋體200位於關閉位置。當蓋體200遠離基座100(如第2圖所示)移動而使蓋體200與基座100之間具有間隙D1時，蓋體200位於開啟位置。當蓋體200位於開啟位置時，理線槽302由間隙D1暴露。當蓋體200位於關閉位置時，蓋體200閉合於基座100形成遮蔽空間(例如第5圖所示的遮蔽空間S)，理線槽302位於遮蔽空間中。遮蔽空間可以定義為蓋體200與基座100圍繞形成的空間。據此，由於蓋體200與基座100可以選擇性的閉合以遮蔽理線槽302，可以達到美觀、防止異物進入的有利功效。

請同時參考第3圖及第4圖。第3圖為本揭露一實施例之理線裝置10的爆炸圖。第4圖為本揭露一實施例之理線裝置10的部分元件的立體圖。在本實施方式中，理線裝置10還包含理線結構300。理線結構300包含第一理線件310以及第二理線件320。理線結構300連接至蓋體200。更精確地說，第一理線件310連接至蓋體200。第二理線件320連接至第一理線件310。理線槽302形成於第一理線件310與第二理線件320之間。具體來說，理線槽302形成以環繞理線結構300的外緣。線材500配置以纏繞於理線槽302。在蓋體200位於關閉位置時(如第1圖所示)，理線結構300位於遮蔽空間中。換言之，在蓋體200位於關閉位置時，理線結構300被基座100以及蓋體200圍繞。

在一些實施例中，在蓋體200位於關閉位置時(如第1圖所示)，基座100與蓋體200於間隙D1形成缺口102。當一端具有連接埠550的一線材500沿著一固定方向(例如順時針或是逆時針)纏繞於理線槽302後，缺口102可以契合地卡合連接埠550。當缺口102契合地卡合連接埠550時，基座100以及蓋體200所圍繞形成的遮蔽空間可完全封閉。

本揭露的理線裝置10可以應用於多個領域，換言之，理線裝置10可以用於收納任意合適的線材500。例如，線材500可以為纜線、電源線、耳機線、連接線或其他合適的線材。

在一些實施例中，適配連接埠550的缺口102可以位於基座100上。在另一些實施例中，適配連接埠550的缺口102可以位於蓋體200上。在另一些實施例中，適配連接埠550的缺口102的一部分位於基座100上，另一部分位於蓋體200上。

在一些實施例中，可以藉由在貫穿第一理線件310以及第二理線件320的穿孔304中栓入螺絲、插上插銷或是填入合適的填充物連接固定第一理線件310以及第二理線件320。在一些實施例中，第一理線件310包含第一卡扣件312，第二理線件320包含第二卡扣件322，第一理線件310與第二理線件320藉由扣合第一卡扣件312與第二卡扣件322相互卡合連接。在一些實施例中，第一卡扣件312為凹槽，第二卡扣件322為卡勾，但本揭露並不以此為限。於實際應用中，第一卡扣件312與第二卡扣件322的結構可互換。

請同時參考第3圖至第6圖。第5圖為繪示第1圖的理線裝置10由割面線5-5觀察的立體剖面圖。第6圖為繪示第2圖的理線裝置10由割面線6-6觀察的立體剖面圖。在本實施方式中，第一理線件310具有鏤空部314。鏤空部314位於第一理線件310的中心區域。第一理線件310的延伸部310a沿著遠離蓋體200的方向朝著第二理線件320延伸。鏤空部314貫穿延伸部310a。理線槽302環繞形成於延伸部310a的外緣。

請同時參考第3圖以及第5圖。在本實施方式中，理線裝置10還包含銜接柱110以及止擋片120。銜接柱110連接基座100。銜接柱110穿過第二理線件320的銜接孔326。銜接柱110穿入第一理線件310的鏤空部314。也就是說，銜接柱110的一些部位位於鏤空部314中。銜接柱110在理線結構300遠離基座100的一側連接至止擋片120。理線結構300至少部分地限位於止擋片120與基座100之間。更精確地說，第二理線件320限位於止擋片120與基座100之間。

請同時參考第5圖以及第6圖。在本實施方式中，在蓋體200由關閉位置移動至開啟位置的期間，基座100、銜接柱110以及止擋片120之間的位置相對固定，蓋體200以及連接於蓋體200的理線結構300相對於基座100遠離。在蓋體200由關閉位置移動至開啟位置的期間，止擋片120接近第二理線件320。當止擋片120抵靠至第二理線件320或第二理線件320上的元件(例如以下所述的磁性件400)時，蓋體200和基座100之間具有最大間隙D1。在蓋體200由關閉位置移動至開啟位置的期間，止擋片120沿著鏤空部314相對於理線結構300以及蓋體200移動。

請同時參考第3圖、第5圖以及第6圖。在本實施例中，理線裝置10還包含磁性件400以及對應於磁性件400的磁性金屬片130。磁性件400可以鑲嵌於第二理線件320的鑲嵌孔328中，磁性金屬片130可以鑲嵌於基座100上。磁性件400配置以吸附於理線裝置10的其他部位，例如止擋片120和/或磁性金屬片130。止擋片120和/或磁性金屬片130可以是金屬材質或是磁性物質，例如鐵、鈷、鎳等具有磁性之金屬，但不以此為限。在一些實施例中，當蓋體200位於關閉位置時(如第5圖所示)，磁性件400吸附於磁性金屬片130，使基座100和蓋體200相對閉合定位。在一些實施例中，當蓋體200位於開啟位置時，磁性件400吸附於止擋片120，使蓋體200穩定地位於開啟位置，方便理線。基座100的材質可以為塑膠，但本揭露不以此為限。

請同時參考第5圖以及第6圖。在本實施例中，第二理線件320具有定位孔324。基座100具有對應於定位孔324的定位凸點104。當蓋體200位於關閉位置時，定位凸點104穿入定位孔324，可以精準對位理線結構300以及基座100，使蓋體200和基座100適配地閉合。當蓋體200位於開啟位置時，定位凸點104脫離定位孔324。

請參考第7圖。第7圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置10的一部分元件的俯視圖，為了清楚說明，省略繪示蓋體200以及止擋片120。在本實施方式中，第一理線件310的鏤空部314暴露下方的第二理線件320。磁性件400鑲嵌於第二理線件320的鑲嵌孔328中。第二卡扣件322扣合於位於鏤空部314的側壁上的第一卡扣件312。銜接柱110的數量為複數個，且銜接柱110位於鏤空部314中。

請同時參考第5圖、第6圖以及第7圖。在本實施方式中，第二卡扣件322包含抵靠部位322a。抵靠部位322a沿著遠離第一理線件310的方向延伸。抵靠部位322a配置以抵靠止擋片120。在蓋體200由開啟位置移動至關閉位置時，抵靠部位322a可以抵靠於止擋片120的側面，使止擋片120穩固地在鏤空部314中滑動。

請參考第8圖。第8圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置10的立體圖。在本實施方式中，連接埠550脫離缺口102。延伸線材500遠離理線裝置10，使用者可以方便地使用連接埠550。在線材500至少一些部位解除纏繞於理線槽302(請參考第4圖)且遠離理線裝置10延伸時，蓋體200可以位於關閉位置。也就是說，在使用連接埠550時，理線槽302依然可以位於遮蔽空間中，保持美觀整潔且避免異物進入。

綜上所述，由於本揭露的理線裝置包含可相對地開啟、關閉的蓋體以及基座，可以選擇性地遮蔽理線槽，達到保持美觀且避免異物進入理線槽的有利功效。

前面描述內容僅對於本揭露之示例性實施例給予說明和描述，並無意窮舉或限制本揭露所公開之新型的精確形式。以上教示可以被修改或者進行變化。

被選擇並說明的實施例是用以解釋本揭露之內容以及他們的實際應用從而激發本領域之其他技術人員利用本揭露及各種實施例，並且進行各種修改以符合預期的特定用途。在不脫離本揭露之精神和範圍的前提下，替代性實施例將對於本揭露所屬領域之技術人員來說為顯而易見者。因此，本新型的範圍是根據所附新型申請專利範圍而定，而不是被前述說明書和其中所描述之示例性實施例所限定。

x:方向 5-5,6-6:割面線 D1:間隙 S:遮蔽空間 10:理線裝置 100:基座 102:缺口 104:定位凸點 110:銜接柱 120:止擋片 130:磁性金屬片 200:蓋體 300:理線結構 302:理線槽 304:穿孔 310:第一理線件 310a:延伸部 312:第一卡扣件 314:鏤空部 320:第二理線件 322:第二卡扣件 322a:抵靠部位 324:定位孔 326:銜接孔 328:鑲嵌孔 400:磁性件 500:線材 550:連接埠

圖式繪示了本揭露的一個或多個實施例，並且與書面描述一起用於解釋本揭露之原理。在所有圖式中，儘可能使用相同的圖式標記指代實施例的相似或相同元件，其中： 第1圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置的立體圖。 第2圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置的立體圖。 第3圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置的爆炸圖。 第4圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置的一部分元件的側視圖。 第5圖為繪示第1圖的理線裝置的立體剖面圖。 第6圖為繪示第2圖的理線裝置的立體剖面圖。 第7圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置的一部分元件的俯視圖。 第8圖為繪示本揭露一實施例之理線裝置的立體圖。

x:方向

6-6:割面線

D1:間隙

10:理線裝置

100:基座

102:缺口

200:蓋體

302:理線槽

550:連接埠

Claims (10)

1. 一種理線裝置，包含：一基座；一蓋體，配置以遠離該基座移動至一開啟位置以及朝向該基座移動至一關閉位置；以及一理線槽，位於該基座與該蓋體之間，其中當該蓋體位於該開啟位置時，該理線槽由該基座與該蓋體之間的一間隙暴露出，且當該蓋體位於該關閉位置時，該間隙閉合以使該理線槽位於該基座與該蓋體所形成的一遮蔽空間內。
2. 如請求項1所述之理線裝置，進一步包含一理線結構連接至該蓋體，該理線槽環繞形成於該理線結構的外緣，其中當該蓋體位於該關閉位置時，該理線結構位於該基座與該蓋體所形成的該遮蔽空間內。
3. 如請求項2所述之理線裝置，進一步包含至少一銜接柱以及一止擋片，其中該至少一銜接柱連接至該基座，該止擋片連接至該銜接柱，其中該理線結構至少部分限位於該止擋片以及該基座之間。
4. 如請求項2所述之理線裝置，進一步包含一磁性件連接至該理線結構，其中當該蓋體位於該關閉位置時，該磁性件吸附至一磁性金屬片，該磁性金屬片鑲嵌至 該基座。
5. 如請求項1所述之理線裝置，進一步包含一理線結構，該理線結構包含一第一理線件以及一第二理線件，該第一理線件連接至該蓋體，該第二理線件連接至該第二理線件，其中該第一理線件的一延伸部向遠離該蓋體的方向延伸以連接至該第二理線件，該理線槽環繞形成於該延伸部的外緣。
6. 如請求項5所述之理線裝置，其中該第二理線件具有至少一定位孔，該基座具有至少一定位凸點，在該蓋體位於該關閉位置時，該至少一定位凸點穿入該至少一定位孔。
7. 如請求項5所述之理線裝置，進一步包含至少一銜接柱以及一止擋片，其中該至少一銜接柱連接至該基座，該止擋片連接至該銜接柱，該第二理線件限位於該止擋片與該基座之間，其中該第一理線件具有一鏤空部，且該至少一銜接柱穿入該鏤空部中。
8. 如請求項7所述之理線裝置，其中在該蓋體由該關閉位置移動至該開啟位置的期間，該止擋片沿著該鏤空部相對於該理線結構滑動，且在該蓋體位於該開啟位置時，該止擋片抵靠至該第二理線件。
9. 如請求項5所述之理線裝置，其中該第一理線件具有一鏤空部，且該理線槽環繞該鏤空部，其中該第一理線件包含位於該鏤空部的一側壁上的一第一卡扣件，該第二理線件包含一第二卡扣件，該第二卡扣件扣合至該第一卡扣件。
10. 如請求項1所述之理線裝置，其中該理線槽配置以纏繞一線材，該線材的一端連接至一連接埠，其中當該蓋體位於該關閉位置時，該基座與該蓋體於該間隙形成一缺口，該缺口配置以契合地卡合該連接埠。

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