TWM644243U - 柏努力沖洗去除殘留液設備 - Google Patents

Abstract

本創作係柏努力沖洗去除殘留液設備，包含沿著一製程動線排列的一藥液槽及至少一柏努力沖洗裝置槽。各柏努力沖洗裝置槽包含上下排列的一上管組及一下管組，上管組及下管組之間形成一板體通行空間。上管組與下管組能朝向板體通行空間且朝向一水平方向傾斜地噴射液體，且兩者所噴射的液體的流速不同。藉由在板體上形成不同流速與壓力的液體膜，於板體的上下兩面通過板體的穿孔形成單邊抽水沖洗的效果，使液體以相同方向流過板體上的穿孔，能藉此避免流體互相干擾而無法流暢的進入穿孔內清除殘留液。

Description

柏努力沖洗去除殘留液設備

本創作係涉及一種板體加工裝置，尤指一種能在加工後具有穿孔的板體上將殘留於穿孔內的藥液完全去除的柏努力沖洗去除殘留液設備。

在某些製程中，板體(例如用於各類型電路板的半成品)在鑽孔後需先經過活化鈀的處理再上化銅，而在上化銅前必須要將板體銅面上殘留的鈀液去除，否則會導致化銅會生長在各底銅面上附著造成後續鍍銅的脫皮，以及通孔內部孔環銅側壁殘鈀語或銅的ICD互連缺失。

以幾何結構而言，在板體上鑽孔，後面走濕製程容易殘留藥液在鑽孔內，造成沖洗困難的現象。其原因之一是槽液表面張力為30 dyne/cm，而水洗的表面張力是73 dyne/cm，潤濕性不佳所致；而另一原因是幾何結構所造成的。

例如請參考圖6，在現有技術的濕製程的槽位配置中，板體會先經過前段處理裝置91，接著浸泡於藥液槽92中，而後依序通過第一水洗裝置93與第二水洗裝置94，就直接進入轉站裝置95進行下一個製程。然而，若板體有進行鑽孔的程序，則這樣的槽位配置容易使藥液殘留在鑽孔內，而造成種種濕製程的問題。例如化銅線通孔中的酸性錫鈀膠體槽液的滯留，造成深通孔各孔環與孔銅壁之間的化銅式的ICD、以及增層深盲孔的化銅脫墊等等。

因此，如何克服現有技術的濕製程的槽位配置中，潤濕性不佳與穿孔的幾何結構限制的問題，而能夠完全的去除殘留於板體的穿孔內的藥液，以提升化銅與板體的結合強度，則成為此領域的一項課題。

有鑑於前述之現有技術的缺點及不足，本創作提供一種柏努力沖洗去除殘留液設備，其將一般的水洗裝置槽更換為柏努力水裝置洗槽，使沖洗的流向一致，確保每個穿孔的完整清洗，並且新增一超音波水洗裝置槽，將夾在微小隙縫的殘留液震出，達到完整的清洗效果。

為達到上述的創作目的，本創作所採用的技術手段為設計一種柏努力沖洗去除殘留液設備，其中包含： 一藥液槽及至少一柏努力沖洗裝置槽；該藥液槽及該至少一柏努力沖洗裝置槽依序沿著一製程動線排列； 該藥液槽能承裝藥液； 各該至少一柏努力沖洗裝置槽能於該板體的兩面分別形成兩流速不相同的液體膜。 各該至少一柏努力沖洗裝置槽包含一上管組及一下管組，該上管組及該下管組上下排列，且該上管組及該下管組之間形成一板體通行空間；該板體能沿著一行進方向通過該板體通行空間； 該上管組包含複數上清洗管，該等上清洗管水平排列，各該上清洗管具有複數上噴嘴，該等上噴嘴能朝向該板體通行空間且朝向一水平方向傾斜地噴射液體； 該下管組包含複數下清洗管，該等下清洗管水平排列，各該下清洗管具有複數下噴嘴，該等下噴嘴能朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜地噴射液體； 其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速與該等上噴嘴所噴射的液體的流速不同。

本創作的優點在於，藉由在藥液槽後設置柏努力沖洗裝置槽，通過上噴嘴與下噴嘴不同的流速在板體上形成不同流速與壓力的液體膜，在板體的上下兩面通過板體上的穿孔形成單邊抽水沖洗的效果，使液體以相同方向流過板體上的穿孔，且因沖洗的方向一致，能藉此避免流體互相沖臺干擾而無法流暢的進入穿孔內清除殘留液。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，各該至少一柏努力沖洗裝置槽包含一上管組及一下管組，該上管組及該下管組上下排列，且該上管組及該下管組之間形成一板體通行空間；該板體能沿著一行進方向通過該板體通行空間；該上管組包含複數上清洗管，該等上清洗管水平排列，各該上清洗管具有複數上噴嘴，該等上噴嘴能朝向該板體通行空間且朝向一水平方向傾斜地噴射液體；該下管組包含複數下清洗管，該等下清洗管水平排列，各該下清洗管具有複數下噴嘴，該等下噴嘴能朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜地噴射液體；其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速與該等上噴嘴所噴射的液體的流速不同，藉此該等下噴嘴及該等上噴嘴能於該板體的兩面分別形成該兩流速不相同的液體膜。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速大於該等上噴嘴所噴射的液體的流速。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速小於該等上噴嘴所噴射的液體的流速。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該至少一柏努力沖洗裝置槽的數量為二，且該兩柏努力沖洗裝置槽沿著該製程動線排列；在其中一該柏努力沖洗裝置槽中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速大於該等上噴嘴所噴射的液體的流速；在另一該柏努力沖洗裝置槽中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速小於該等上噴嘴所噴射的液體的流速。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等上噴嘴朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜的角度能改變。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等下噴嘴朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜的角度能改變。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該板體所沿之該行進方向與該等上噴嘴所沿之該水平方向為相同方向。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該板體所沿之該行進方向與該等上噴嘴所沿之該水平方向為相反方向。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，各該至少一柏努力沖洗裝置槽包含一槽體，其用以容置該板體，且該板體能直立設置於該槽體內；一第一循環管路，其連接於該槽體；一第二循環管路，其連接於該槽體；該第一循環管路及該第二循環管路分別於該板體的兩面形成該兩流速不相同的液體膜。

進一步而言，所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該柏努力沖洗去除殘留液設備包含一超音波清洗裝置槽；該藥液槽、該至少一柏努力沖洗裝置槽以及該超音波清洗裝置槽依序沿著該製程動線排列；該超音波清洗裝置槽能承裝液體且能於所承裝的液體中產生超音波震盪。

此外，加上超音波清洗裝置槽，將夾在微小縫隙的殘留液或異物，先以超音波震盪將其震出縫隙，再以表面的液體沖洗，達到完整的清洗效果。

以下配合圖式及本創作之較佳實施例，進一步闡述本創作為達成預定創作目的所採取的技術手段。

請參考圖1至圖4，本創作之柏努力沖洗去除殘留液設備係用以沖洗一板體B。在第一實施例中，柏努力沖洗去除殘留液設備包含一藥液槽10、至少一柏努力沖洗裝置槽20及一超音波清洗裝置槽30。藥液槽10、柏努力沖洗裝置槽20以及超音波清洗裝置槽30依序沿著一製程動線D1排列。

藥液槽10能承裝用以浸泡板體B的藥液。

請參考圖2及圖3，各柏努力沖洗裝置槽20包含一上管組21及一下管組22。上管組21及下管組22上下排列，且上管組21及下管組22之間形成一板體通行空間23。板體B能沿著一行進方向D2通過板體通行空間23。上管組21包含複數上清洗管211，該等上清洗管211水平排列，各上清洗管211具有複數上噴嘴212，該等上噴嘴212能朝向板體通行空間23且朝向一水平方向D3傾斜地噴射液體。下管組22包含複數下清洗管221，該等下清洗管221水平排列，各下清洗管221具有複數下噴嘴222，該等下噴嘴222能朝向板體通行空間23且朝向水平方向D3傾斜地噴射液體。其中，該等下噴嘴222所噴射的液體的流速與該等上噴嘴212所噴射的液體的流速不同。

藉此，當板體B通過板體通行空間23時，上噴嘴212與下噴嘴222會於板體B的上下兩面形成不同流速的液體膜，利用柏努力定律，流速較快壓力較小而流速較慢壓力較大，因此不同流速的液體膜會在板體B的上下兩面通過板體B上的穿孔B1形成單邊抽水沖洗的效果，使液體以相同方向流過板體B上的穿孔B1，藉以確實沖洗穿孔B1內的殘留藥液。

具體來說，可以是該等下噴嘴222所噴射的液體的流速大於該等上噴嘴212所噴射的液體的流速，或者也可以是該等下噴嘴222所噴射的液體的流速小於該等上噴嘴212所噴射的液體的流速。

此外，在第一實施例中，柏努力沖洗裝置槽20的數量為二，且兩柏努力沖洗裝置槽20沿著製程動線D1排列。並且，在其中一柏努力沖洗裝置槽20中，該等下噴嘴222所噴射的液體的流速大於該等上噴嘴212所噴射的液體的流速；而在另一柏努力沖洗裝置槽20中，該等下噴嘴222所噴射的液體的流速小於該等上噴嘴212所噴射的液體的流速。也就是說，在其中一柏努力沖洗裝置槽20中是液體是由板體B底面被向上抽通過板體B的穿孔B1至板體B的頂面，而在另一柏努力沖洗裝置槽20中是液體是由板體B頂面被向下抽通過板體B的穿孔B1至板體B的底面。但不以此為限，也可以是複數個柏努力沖洗裝置槽20的抽水方向相同。

請參考圖1及圖4，超音波清洗裝置槽30能承裝液體且能於所承裝的液體中產生超音波震盪。

此外，該等上噴嘴212與該等下噴嘴222朝向板體通行空間23且朝向水平方向D3傾斜的角度能改變，藉以因應不同的板厚、孔徑與穿孔B1密度。並且，上噴嘴212與下噴嘴222所噴射的流體的溫度可為攝氏20度至攝氏80度，藉此提高沖洗能力。

再者，板體B所沿之行進方向D2與該等上噴嘴212所沿之水平方向D3為可以是相同方向也可以是相反方向。

第一實施例運作時，板體B首先經過前處理裝置F後進入藥液槽10浸泡，浸泡完成後沿著行進方向D2通過柏努力沖洗裝置槽20的板體通行空間23，接受上噴嘴212與下噴嘴222的柏努力式單邊抽水沖洗，接著進入超音波清洗裝置槽30清洗，最後送入轉站裝置T進行後續製程。

此外，柏努力沖洗裝置槽的具體結構不以上述為限，例如請參考圖5，在第二實施例中，柏努力沖洗裝置槽20A包含一槽體21A、一第一循環管路22A及一第二循環管路23A。槽體21A用以容置板體B，且板體B能直立設置於槽體21A內。第一循環管路22A與第二循環管路23A皆連接於槽體21A，且分別位於板體B的兩側。第一循環管路22A頂端的出水口221A朝板體B的一面上流出液體並形成流速較快的液體膜，第一循環管路22A底端的抽水口222A連通於槽體21A的底部，並藉由第一泵浦223A較快速地將液體回抽至出水口221A。第二循環管路23A頂端的出水口231A於槽體21A內對應於板體B的另一面的空間中注入液體，並藉此於板體B的另一面上形成流速較慢的液體膜(即第一循環管路22A與第二循環管路23A分別於板體B的兩面形成兩流速不相同的液體膜)，第二循環管路23A底端的抽水口232A連通於槽體21A的底部，並藉由第二泵浦233A較緩慢地將液體回抽至出水口231A。藉由上述結構，可以達到直立式柏努力沖洗板體B的功效，而先前的實施例中則為水平式柏努力沖洗板體B。

並且，在直立式柏努力沖洗的實施例中，柏努力沖洗裝置槽20A可為兩個沿著製程動線D1排列，且兩柏努力沖洗裝置槽20A於板體B的兩面上的液體膜的流速相互對調，意即其中一柏努力沖洗裝置槽20A的第一循環管路22A對應於板體B的一面，而另一柏努力沖洗裝置槽20A的第一循環管路22A則對應於板體B的另一面，藉此在兩個柏努力沖洗裝置槽20A中，液體將以相反的方向抽水並沖洗板體B的穿孔B1。

換言之，垂直線的柏努力式單邊抽水洗，利用板體B將槽體21A分割成兩邊，左邊用噴嘴快速吹出清洗液，在板體B的左面形成一層流速較快的液體膜，液壓較低。右邊體採一般的循環泵浦，清洗板體B的右面並在右面形成一層流速較慢的液體膜，液壓較高。壓力差會使穿孔B1的清洗液由右流向左，將化學殘液帶出，由下方的快速泵浦抽吸而出。並且，設計成兩槽柏努力沖洗裝置槽20A，使清洗液由右流至左一次，隨後再由左流至右一次。

藉由在藥液槽10後設置柏努力沖洗裝置槽20，通過上噴嘴212與下噴嘴222不同的流速在板體B上形成不同流速與壓力的液體膜，在板體B的上下兩面通過板體B上的穿孔B1形成單邊抽水沖洗的效果，使液體以相同方向流過板體B上的穿孔B1，且因沖洗的方向一致，能藉此避免流體互相干擾而無法流暢的進入穿孔B1內清除殘留液。再加上超音波清洗裝置槽30，將夾在微小縫隙的殘留液或異物，先以超音波震盪將其震出縫隙，再以表面的液體沖洗，達到完整的清洗效果。

以上所述僅是本創作的較佳實施例而已，並非對本創作做任何形式上的限制，雖然本創作已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本創作，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本創作技術方案的範圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本創作技術方案的內容，依據本創作的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本創作技術方案的範圍內。

B:板體 B1:穿孔 F:前處理裝置 T:轉站裝置 D1:製程動線 D2:行進方向 D3:水平方向 10:藥液槽 20:柏努力沖洗裝置槽 21:上管組 211:上清洗管 212:上噴嘴 22:下管組 221:下清洗管 222:下噴嘴 23:板體通行空間 30:超音波清洗裝置槽 20A:柏努力沖洗裝置槽 21A:槽體 22A:第一循環管路 221A:出水口 222A:抽水口 223A:第一泵浦 23A:第二循環管路 231A:出水口 232A:抽水口 233A:第二泵浦

圖1係本創作的第一實施例的槽位配置示意圖。 圖2係本創作的第一實施例的柏努力沖洗裝置槽的立體示意圖。 圖3係本創作的第一實施例的柏努力沖洗裝置槽的側視剖面示意圖。 圖4係本創作的第一實施例的超音波清洗裝置槽的立體示意圖。 圖5係本創作的第二實施例中的柏努力沖洗裝置槽的示意圖。 圖6係現有技術的濕製程的槽位配置示意圖。

B:板體

B1:穿孔

D2:行進方向

D3:水平方向

21:上管組

211:上清洗管

212:上噴嘴

22:下管組

221:下清洗管

222:下噴嘴

23:板體通行空間

Claims (11)

1. 一種柏努力沖洗去除殘留液設備，其用以沖洗一板體，且包含 一藥液槽及至少一柏努力沖洗裝置槽；該藥液槽及該至少一柏努力沖洗裝置槽依序沿著一製程動線排列； 該藥液槽能承裝藥液； 各該至少一柏努力沖洗裝置槽能於該板體的兩面分別形成兩流速不相同的液體膜。
2. 如請求項1所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中， 各該至少一柏努力沖洗裝置槽包含一上管組及一下管組，該上管組及該下管組上下排列，且該上管組及該下管組之間形成一板體通行空間；該板體能沿著一行進方向通過該板體通行空間； 該上管組包含複數上清洗管，該等上清洗管水平排列，各該上清洗管具有複數上噴嘴，該等上噴嘴能朝向該板體通行空間且朝向一水平方向傾斜地噴射液體； 該下管組包含複數下清洗管，該等下清洗管水平排列，各該下清洗管具有複數下噴嘴，該等下噴嘴能朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜地噴射液體； 其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速與該等上噴嘴所噴射的液體的流速不同，藉此該等下噴嘴及該等上噴嘴能於該板體的兩面分別形成該兩流速不相同的液體膜。
3. 如請求項2所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速大於該等上噴嘴所噴射的液體的流速。
4. 如請求項2所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速小於該等上噴嘴所噴射的液體的流速。
5. 如請求項2所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該至少一柏努力沖洗裝置槽的數量為二，且該兩柏努力沖洗裝置槽沿著該製程動線排列； 在其中一該柏努力沖洗裝置槽中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速大於該等上噴嘴所噴射的液體的流速； 在另一該柏努力沖洗裝置槽中，該等下噴嘴所噴射的液體的流速小於該等上噴嘴所噴射的液體的流速。
6. 如請求項2至5中任一項所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等上噴嘴朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜的角度能改變。
7. 如請求項2至5中任一項所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該等下噴嘴朝向該板體通行空間且朝向該水平方向傾斜的角度能改變。
8. 如請求項2至5中任一項所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該板體所沿之該行進方向與該等上噴嘴所沿之該水平方向為相同方向。
9. 如請求項2至5中任一項所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該板體所沿之該行進方向與該等上噴嘴所沿之該水平方向為相反方向。
10. 如請求項1所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中， 各該至少一柏努力沖洗裝置槽包含 一槽體，其用以容置該板體，且該板體能直立設置於該槽體內； 一第一循環管路，其連接於該槽體； 一第二循環管路，其連接於該槽體；該第一循環管路及該第二循環管路分別於該板體的兩面形成該兩流速不相同的液體膜。
11. 如請求項1至5中任一項所述之柏努力沖洗去除殘留液設備，其中，該柏努力沖洗去除殘留液設備包含一超音波清洗裝置槽；該藥液槽、該至少一柏努力沖洗裝置槽以及該超音波清洗裝置槽依序沿著該製程動線排列；該超音波清洗裝置槽能承裝液體且能於所承裝的液體中產生超音波震盪。

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