TWM643993U - 具有吸塵功能的光罩清潔裝置 - Google Patents

具有吸塵功能的光罩清潔裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWM643993U
TWM643993U TW111213702U TW111213702U TWM643993U TW M643993 U TWM643993 U TW M643993U TW 111213702 U TW111213702 U TW 111213702U TW 111213702 U TW111213702 U TW 111213702U TW M643993 U TWM643993 U TW M643993U
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
cleaning
dust suction
module
photomask
cleaning device
Prior art date
Application number
TW111213702U
Other languages
English (en)
Inventor
陳毓正
詹印豐
杜林炘
羅銘模
Original Assignee
家碩科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 家碩科技股份有限公司 filed Critical 家碩科技股份有限公司
Priority to TW111213702U priority Critical patent/TWM643993U/zh
Publication of TWM643993U publication Critical patent/TWM643993U/zh

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning Implements For Floors, Carpets, Furniture, Walls, And The Like (AREA)

Abstract

一種具有吸塵功能的光罩清潔裝置,包括:一分隔板及一升降清潔模組,分隔板具有至少一清潔口,升降清潔模組設置於分隔板的下方,升降清潔模組包括一升降動力構件、一捲布構件及一吸塵構件,捲布構件包括依序排列的一送布輪、一接觸部及一收布輪,升降動力構件動力連接捲布構件,驅動接觸部通過清潔口,該吸塵構件位於送布輪的一側。本創作解決了光罩、光罩護膜在清潔時仍有可能受到擦拭布汙染的問題。

Description

具有吸塵功能的光罩清潔裝置
本創作係關於一種清洗裝置,更特別的是關於一種具有吸塵功能的光罩清潔裝置。
在製作積體電路的過程中,乃利用光罩(Reticle)與微影技術,將光罩的圖型轉印於晶圓上。光罩為極精密之高價元件,若表面受到微粒沾染將會導致微影成像缺陷。故光罩上會設置一層光罩護膜(Pellicle),以免於光罩受到微塵或揮發性氣體的汙染。落在光罩護膜上的微粒不會影響光罩的成像。然而光罩長久使用下來仍會累積髒汙,特別是光罩護膜兩邊的外側。
新型專利證書號M623801提出一種可用於清潔光罩護膜兩邊的外側的光罩清洗設備,利用捲布擦拭光罩護膜外側。然而,無塵布可能帶有塵粒,導致在清洗過後,仍有塵粒殘留在光罩護膜的邊緣表面上。
因此,為解決習知的光罩清潔的種種問題,本創作提出一種具有吸塵功能的光罩清潔裝置。
為達上述目的及其他目的,本創作提出一種具有吸塵功能的光罩清潔裝置,其包括一分隔板,具有至少一清潔口;以及一升降清潔模組,設置於該分隔板的下方,該升降清潔模組包括一升降動力構件、一捲布構件及一吸塵構件,該捲布構件包括依序排列的一送布輪、一接觸部及一收布輪,該升 降動力構件動力連接該捲布構件,驅動該接觸部通過該清潔口,該吸塵構件位於該送布輪的一側。
於本創作之一實施例中,該吸塵構件呈柱狀,並開設有至少一吸氣口。
於本創作之一實施例中,該清潔口的數量為二,彼此相隔一預定距離。
於本創作之一實施例中,更包括一夾持模組,設置於該分隔板的上方,用以夾持一待清洗物件。
於本創作之一實施例中,該夾持模組包括一夾頭及一動力臂,該動力臂動力連接該夾頭並驅動該夾頭相對該清潔口移動。
於本創作之一實施例中,更包括一控制模組及一即時靜電監控模組,該控制模組訊連接該升降清潔模組及該即時靜電監控模組。
於本創作之一實施例中,更包括一流量監控模組,訊號連接該控制模組。
於本創作之一實施例中,更包括一糾偏模組,訊號連接該控制模組。
於本創作之一實施例中,更包括一框架及一組移動輪,該升降清潔模組及該分隔板設置於該框架中,該組移動輪設置於該框架底部。
藉此,本創作的具有吸塵功能的光罩清潔裝置利用吸塵構件吸走清潔布上可能存在的塵粒,確保光罩在清洗的過程中不受到汙染。
100:具有吸塵功能的光罩清潔裝置
1:框架
2:分隔板
21:清潔口
3:升降清潔模組
31:升降動力構件
32:捲布構件
321:送布輪
322:接觸部
323:收布輪
33:吸塵構件
331:吸氣口
4:夾持模組
41:夾頭
42:動力臂
5:控制模組
6:即時靜電監控模組
7:糾偏模組
8:移動輪
9:流量監控模組
T:清潔布
圖1係為根據本創作實施例之具有吸塵功能的光罩清潔裝置之立體示意圖。
圖2係為根據本創作實施例之升降清潔模組之立體示意圖。
圖3係為根據本創作實施例之具有吸塵功能的光罩清潔裝置之方塊示意圖。
為充分瞭解本創作,茲藉由下述具體之實施例,並配合所附之圖式,對本創作做一詳細說明。本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的目的、特徵及功效。須注意的是,本創作可透過其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用,在不悖離本創作的精神下進行各種修飾與變更。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容,但所公開的內容並非用以限制本創作的申請專利範圍。說明如後:如圖1及圖2所示,本創作一實施例的具有吸塵功能的光罩清潔裝置100,包含:一分隔板2及一升降清潔模組3。
分隔板2上下分隔負責清潔的升降清潔模組3及待清洗物件(圖未示),例如光罩。分隔板2具有至少一清潔口21。
升降清潔模組3設置於分隔板2的下方。升降清潔模組3包括一升降動力構件31、一捲布構件32及一吸塵構件33。捲布構件32包括依序排列的一送布輪321、一接觸部322及一收布輪323。清潔布T經由送布輪321饋入捲布構件32中,並依序經過接觸部322並由收布輪323捲收。升降動力構件31動力連接 捲布構件32,當需要清潔分隔板2上方的光罩時,升降動力構件31驅動接觸部322向上抬起以通過清潔口21,覆在接觸部322的清潔布T擦拭光罩的二側。升降動力構件31例如為步進馬達或伺服馬達等電致動構件,清潔布T例如是無塵捲布(防靜電材料電子級無塵室專用擦拭布)。吸塵構件33位於送布輪321的一側,用以在清潔布T通過清潔口21前,吸走清潔布T上可能存在的塵粒,確保光罩在清洗的過程中不受到汙染。換句話說,吸塵構件33位於接觸部322的上游,並朝向清潔布T的清潔表面。
進一步地,在本實施例中,吸塵構件33呈柱狀,並開設有至少一吸氣口331。然而本創作不限於此,吸塵構件33及清潔口21的數量、形狀及分布可視需求加以改變。
進一步地,在本實施例中,清潔口21的數量為二,彼此相隔一預定距離,可供捲布構件32同時清潔光罩的二側。然而本創作不限於此,清潔口21的數量、形狀及分布可視需求加以改變。
進一步地,在本實施例中,更包括一夾持模組4,設置於分隔板2的上方,用以夾持一待清洗物件(例如為光罩,然而本創作不限於此)。在本實施例中,夾持模組4以氣流吸取的方式自光罩的背面夾持光罩,然而本創作不限於此,可為力學上以機械直接接觸夾持,或利用電磁及其他科學原理夾持光罩,使光罩的側邊位於清潔口21。
進一步地,在本實施例中,如圖1所示,夾持模組4包括一夾頭41及一動力臂42,動力臂42動力連接夾頭41並驅動夾頭41相對清潔口21移動。動力臂42例如是步進馬達或伺服馬達等電致動構件。藉由可移動的夾持模組4,使清潔口21可縮小至一個小孔,夾頭41相對清潔口21移動便可使光罩的側邊接受到捲布構件32的擦拭。然而本創作不限於此,在其他實施例中,夾持模組4亦可為固定不動,清潔口21則呈長條溝狀(長度大於等於光罩的側邊長 度),捲布構件32在溝狀的清潔口21中來回移動,或升降動力構件31驅動捲布構件32的長條頂端(匹配溝狀的清潔口21)通過清潔口。
進一步地,如圖3所示,在本實施例中,具有吸塵功能的光罩清潔裝置100更包括一控制模組5及一即時靜電監控模組6,控制模組5訊號連接升降清潔模組3、動力臂42及即時靜電監控模組6。即時靜電監控模組6偵測環境、光罩或設備的靜電,控制模組5依據即時靜電監控模組6的偵測數據決定是否停止清潔或讓即時靜電監控模組6即時釋放中和用之電荷。控制模組5例如是控制晶片或控制電路。
進一步地,如圖3所示,在本實施例中,具有吸塵功能的光罩清潔裝置100更包括一流量監控模組9,訊號連接控制模組5。流量監控模組9設置於連通吸塵構件33的吸氣管路(圖未示),以監測吸塵構件33的流量。吸塵構件33的流量較佳為介於10~200LPM的範圍。
進一步地,如圖3所示,在本實施例中,具有吸塵功能的光罩清潔裝置100更包括一糾偏模組7,訊號連接控制模組5。控制模組5依據糾偏模組7的偵測訊號決定夾持模組4所夾持的光罩是否產生偏斜,而控制升降清潔模組3停止清潔、動力臂42調整位置或歸回原位。糾偏模組7例如是光學糾偏原理的裝置,利用發出的光線(通常為紅外線)並判斷其反射訊號或另一側的接收訊號是否有異常,藉此判定光罩在移動的過程中是否偏斜。然而本創作不限於此,糾偏模組7可為應用其他原理之糾偏裝置。
進一步地,如圖1所示,在本實施例中,具有吸塵功能的光罩清潔裝置100更包括一框架1及一組移動輪8,升降清潔模組3及分隔板2設置於框架1中,移動輪8設置於框架1底部。框架1使具有吸塵功能的光罩清潔裝置100各部件一體化,移動輪8則可使各部件偕同框架1一起移動。
本創作在上文中已以實施例揭露,然熟習本項技術者應理解的是,該實施例僅用於描繪本創作,而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是,舉凡與該實施例等效之變化與置換,均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此,本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。
3:升降清潔模組
31:升降動力構件
32:捲布構件
321:送布輪
322:接觸部
323:收布輪
33:吸塵構件
331:吸氣口
T:清潔布

Claims (9)

  1. 一種具有吸塵功能的光罩清潔裝置,其包含:一分隔板,具有至少一清潔口;以及一升降清潔模組,設置於該分隔板的下方,該升降清潔模組包括一升降動力構件、一捲布構件及一吸塵構件,該捲布構件包括依序排列的一送布輪、一接觸部及一收布輪,該升降動力構件動力連接該捲布構件,驅動該接觸部通過該清潔口,該吸塵構件位於該送布輪的一側。
  2. 如請求項1所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,其中該吸塵構件呈柱狀,並開設有至少一吸氣口。
  3. 如請求項1所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,其中該清潔口的數量為二,彼此相隔一預定距離。
  4. 如請求項1所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,更包括一夾持模組,設置於該分隔板的上方,用以夾持一待清洗物件。
  5. 如請求項4所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,其中該夾持模組包括一夾頭及一動力臂,該動力臂動力連接該夾頭並驅動該夾頭相對該清潔口移動。
  6. 如請求項1所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,更包括一控制模組及一即時靜電監控模組,該控制模組訊連接該升降清潔模組及該即時靜電監控模組。
  7. 如請求項6所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,更包括一流量監控模組,訊號連接該控制模組。
  8. 如請求項6所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,更包括一糾偏模組,訊號連接該控制模組。
  9. 如請求項1所述之具有吸塵功能的光罩清潔裝置,更包括一框架及一組移動輪,該升降清潔模組及該分隔板設置於該框架中,該組移動輪設置於該框架底部。
TW111213702U 2022-12-12 2022-12-12 具有吸塵功能的光罩清潔裝置 TWM643993U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW111213702U TWM643993U (zh) 2022-12-12 2022-12-12 具有吸塵功能的光罩清潔裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW111213702U TWM643993U (zh) 2022-12-12 2022-12-12 具有吸塵功能的光罩清潔裝置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWM643993U true TWM643993U (zh) 2023-07-21

Family

ID=88148774

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111213702U TWM643993U (zh) 2022-12-12 2022-12-12 具有吸塵功能的光罩清潔裝置

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TWM643993U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10201927B2 (en) Imprint apparatus, foreign particle removal method, and method of manufacturing article
KR101437215B1 (ko) 임프린트 장치 및 물품 제조 방법
US20150290846A1 (en) Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device
KR102393023B1 (ko) 임프린트 장치 및 물품 제조 방법
KR102383372B1 (ko) 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법
TWM643993U (zh) 具有吸塵功能的光罩清潔裝置
TW202305501A (zh) 光罩單元及曝光裝置
JP2017139452A (ja) インプリント装置および物品の製造方法
KR102239964B1 (ko) 임프린트 장치, 및 물품의 제조 방법
JP3975212B2 (ja) レチクルバリヤシステム
US10350631B2 (en) Liquid discharge apparatus, imprint apparatus, and method of manufacturing article
TWM623801U (zh) 光罩清洗設備
TW200903186A (en) Ploting device
CN216622955U (zh) 光掩模清洗设备
JP6732475B2 (ja) インプリント装置、物品の製造方法、保持装置および露光装置
US11698584B2 (en) Conveyance apparatus, lithography apparatus, and article manufacturing method
KR20170054455A (ko) 임프린트 장치, 임프린트 방법, 및 물품 제조 방법
JP2020185558A (ja) 観察装置、観察方法、成形装置、および、物品の製造方法
JP7419030B2 (ja) 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法
US20220364972A1 (en) Evaluation method, substrate processing apparatus, manufacturing method of substrate processing apparatus and article manufacturing method
TWI821436B (zh) 微影裝置、確定方法及製造物品的方法
JP2023051335A (ja) 基板処理装置及び物品の製造方法
US20220223461A1 (en) Substrate transportation hand, substrate transportation system, storage medium, and method for producing article
JP6921690B2 (ja) 集塵装置、基板処理システム、および物品の製造方法
JP3817461B2 (ja) 液晶基板の組立方法