TWM641149U - 光罩表面檢查裝置 - Google Patents
光罩表面檢查裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWM641149U TWM641149U TW111204660U TW111204660U TWM641149U TW M641149 U TWM641149 U TW M641149U TW 111204660 U TW111204660 U TW 111204660U TW 111204660 U TW111204660 U TW 111204660U TW M641149 U TWM641149 U TW M641149U
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- photomask
- image scanner
- inspection device
- control unit
- container
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
本創作係指一種光罩表面檢查裝置,其係於一機櫃體上設有一移動載台、一第一線性影像掃描器、一第二線性影像掃描器、一細縫光源模組、一區域圖像掃描器及一運算控制單元,供對一收納於一透視型光罩容器內部之一光罩進行檢測,藉以能在不打開光罩容器下,直接檢測收納於光罩容器內部之光罩,可能避免光罩在檢測過程中產生新的缺陷,且能有效縮小體積及佔積,進而降低購置與維護成本。
Description
本創作係隸屬一種檢測之技術領域,具體而言係一種用於檢查光罩容器內光罩之光罩表面檢查裝置及其方法。
按,在現今半導體的製程中,半導體元件的電路圖案是透過光刻〔Photolithography〕製程將光罩〔Photomask〕之電路圖案〔Pattern〕轉印至晶圓〔Wafer〕的表面。而光罩為了保護電路圖案,通常光罩會於形成電路圖案的表面設有一防塵護膜〔Pellicle〕)用來避免電路圖案遭受刮傷、污染或破壞。然在光刻製程中會因材料、氣體、或因零件微粒與油污之剝落,又或因環境中存在的微粒或氣體游離分子等污染物經積聚或化學變化後,在光罩表面附著微粒或形成霧霾等缺陷,由於半導體元件的微小化,前述光罩的缺陷會影響晶圓表面電路圖案形成之品質,因此在製程中防範光罩表面產生缺陷及早期偵測到光罩上的缺陷,對於管理半導體製程都極為重要;
為此,光罩在運送過程及保存期間,都必須放置於一高潔淨度、氣密性佳、低氣體逸出與抗靜電防護性高的光罩容器〔Reticle SMIF Pod,RSP〕內,以防止光罩受到污染產生缺陷,然而現行光罩之檢查裝置在進行防塵護膜、背側表面及電路圖案之檢測時,仍需打開該光罩容器,以提取置於光罩容器內的光罩,此時微粒或部份污染物仍可能會附著於光罩表
面,甚至重覆的啟閉動作也容易因磨擦或不當碰撞產生微粒或靜電,大幅增加了光罩受污染的機率,也需要提高無塵室的建置等級,更甚者縮短了光罩回廠整修的間隔時間,並增加光罩清洗的次數,從而縮短光罩之電路圖案壽命,大幅的降低其生產效率,故需增加同一佈局之光罩備用量,如此將增加整體製程成本,而隨著微影製程技術越來越精細、且高成本,因此對於光罩的保護需求也越來越高。
再加上,現有的光罩檢查裝置在檢查光罩的防塵護膜、背側表面及電路圖案時,受限於光源位置、照射角度、透光性及解析度的影響,通常係採獨立的檢查裝置、或可進行光罩換面的檢查裝置,不幸的是購買及維護單獨的光罩檢查裝置極為昂貴,且光罩檢查裝置內部更需組設有用於光罩容器之進出料機構、儲存機構及開盒機構,無形間現有光罩檢查裝置之體積及成本。
有鑑於上述缺失弊端,本創作人認為具有改正之必要,遂以從事相關技術以及產品設計製造之多年經驗,秉持優良設計理念,針對以上不良處加以研究改良,經不斷努力的試作,終於成功開發一種光罩表面檢查裝置,用於檢查光罩容器內光罩,以提供光罩檢查的新機制。
因此,本創作之主要目的係在提供一種光罩表面檢查裝置,藉以能在不打開光罩容器下,直接檢測收納於光罩容器內部之光罩,使其可在不開啟該光罩容器下分別進行光罩的背側表面、防塵護膜及電路圖案之檢測,其能避免光罩在檢測過程中產生新的缺陷。
又,本創作之次一主要目的係在提供一種光罩表面檢查裝置,其能一次進料時完成光罩之防塵護膜、背側表面及電路圖案的檢測,可縮短光罩檢測的時間,進一步可以大幅的提升其檢測效率。
再者,本創作之另一主要目的係在提供一種光罩表面檢查裝置,其能使表面檢查裝置不需設置用於光罩容器之進出料機構、儲存機構及開盒機構,可以有效縮小其體積及佔積,進而降低設備之購置與維護成本。
為此,本創作主要係透過下列的技術手段,來具體實現上述的各項目的與效能,應用於不換面狀況下檢測一光罩之上、下兩側表面,該光罩表面檢查裝置至少包含有:
一機櫃體,其具有一支撐構體,且該支撐構體中央設有一具長導孔之平台;
一移動載台,其與後述之運算控制單元電性耦合,該移動載台係滑設於該平台之長導孔內,且可沿著長導孔之長軸線被選擇性位移,該移動載台具有一供選擇性擺置一被檢測物之放置面,且該放置面具有複數相對圍繞該檢測物空間之定位件,再者該放置面具有一對應該被檢測物之檢視透孔;
一第一線性影像掃描器,其與後述之運算控制單元電性耦合,該第一線性影像掃描器可被利用一第一支臂設於該支撐構體中對應該移動載台之位移路徑,該第一支臂具有接設該第一線性影像掃描器之第一導軌組,令該第一線性影像掃描器可相對平台移動載台方向升降位移;
一第二線性影像掃描器,其與後述之運算控制單元電性耦合,該第二線性影像掃描器可被利用一第二支臂設於該支撐構體中對應該移動載台之位移路徑、且位於該平台相對
該第一線性影像掃描器之另側,又該第二支臂具有接設該第二線性影像掃描器之第二導軌組,令該第二線性影像掃描器可相對平台移動載台方向升降位移;
一細縫光源模組,其與後述之運算控制單元電性耦合,該細縫光源模組分別具有一第一光箱及一第二光箱,其中該第一光箱及該第二光箱分別利用一第一立座及一第二立座設於該平台之長導孔兩側、且對應該第一線性影像掃描器掃描該被檢測物的範圍,又該第一、二光箱對應該長導孔的側面分別形成有一道與移動載台移動方向平行之細縫,令該第一、二光箱可同時投射一照射於該被檢測物表面之直線光束;
一運算控制單元,其具有至少一記憶單元,供儲存用以執行處理之程式及檢測資料,又該運算控制單元電性耦接有一顯示單元,供顯示該運算控制單元執行處理程式之指令畫面及檢測結果。
藉此,透過前述技術手段的具體實現,使本創作光罩表面檢查裝置可提高其工作效率,而能增加其附加價值,並能提高其經濟效益。
為使 貴審查委員能進一步了解本創作的構成、特徵及其他目的,以下乃舉若干較佳之實施例,並配合圖式詳細說明如后,同時讓熟悉該項技術領域者能夠具體實施。
100:光罩
101:表面
102:表面
105:電路圖形
106:框架
108:防塵護膜
200:光罩容器
201:第一視窗
202:第二視窗
203:基座
204:蓋體
205:側透光窗
206:限位凹孔
10:機櫃體
11:支撐構體
14:進出料門
15:平台
16:長導孔
20:移動載台
21:載板
22:放置面
23:定位件
24:感應器
25:檢視透孔
26:滑軌組
28:限位凸柱
30:第一線性影像掃描器
31:第一支臂
32:第一導軌組
40:第二線性影像掃描器
41:第二支臂
42:第二導軌組
50:細縫光源模組
51:第一光箱
511:細縫
52:第二光箱
521:細縫
53:第一立座
54:第一立軌組
55:第一旋軸組
56:第二立座
57:第二立軌組
58:第二旋軸組
60:區域圖像掃描器
61:支撐懸臂
62:第三導軌組
63:第四導軌組
70:運算控制單元
71:記憶單元
75:顯示單元
第1A圖:係應用於本創作之光罩的立體外觀示意圖。
第1B圖:係應用於本創作之光罩的側視斷面示意圖。
第2A圖:係應用於本創作供收納光罩之透視型光罩容器的外觀示意圖。
第2B圖:係應用於本創作供收納光罩之透視型光罩容器的側視剖面示意圖。
第3圖:係本創作光罩表面檢查裝置的架構示意圖。
第4圖:係本創作光罩表面檢查裝置的立體外觀示意圖。
第5圖:係本創作光罩表面檢查裝置中移動載台的外觀示意圖。
第6圖:係本創作光罩表面檢查裝置中細縫光源模組的外觀示意圖。
第7圖:係本創作光罩表面檢查裝置於進行背側表面檢測的狀態示意圖。
第8圖:係本創作光罩表面檢查裝置於進行防塵護膜檢測的狀態示意圖。
第9圖:係本創作光罩表面檢查裝置於進行電路圖形檢測的狀態示意圖。
第10圖:係本創作光罩表面檢查裝置用於檢測收納於光罩容器內光罩的範例流程圖。
第11圖:係本創作光罩表面檢查裝置用於檢測光罩之背側表面或防塵護膜後的檢查畫面示意圖。
第12圖:係本創作光罩表面檢查裝置用於檢測光罩之電路圖形後的檢查畫面示意圖。
本創作係一種光罩表面檢查裝置,隨附圖例示之本創作光罩保持容器的具體實施例及其構件中,所有關於前與後、左與右、頂部與底部、上部與下部、以及水平與垂直的參考,僅用於方便進行描述,並非限制本創作,亦非將其構件限制於任何位置或空間方向。圖式與說明書中所指定的尺寸,當可在不離開本創作之申請專利範圍內,根據本創作之具體實施例的設計與需求而進行變化,故在專利申請上並不受此種結構之限制。
如第1A~3圖所顯示者,本創作係一種應用於檢測一透視型光罩容器(200)內部一光罩(100)或光罩(100)等被檢測物之光罩表面檢查裝置,其中如第1A、1B圖所示,該光罩(100)具有相互平行之表面(101、102),其中一側之表面(101)生成有可以透過光束投射轉印至一晶圓表面之電路圖形(105),其中該光罩(100)具有電路圖形(105)之表面(101)能利用一框架(106)支撐一用於保護該電路圖形(105)之防塵護膜(108),而該光罩(100)不具有電路圖形(105)之表面被定義為背側表面(102)。再者,如第2A、2B圖所示,該透視型之光罩容器(200)可以被選擇性啟閉收納一定位於內部之光罩(100),且該光罩容器(200)具有一第一視窗(201),該第一視窗(201)係設於該光罩容器(200)上相對內部光罩(100)具防塵護膜(108)之一側表面(101),且該第一視窗(201)的可視範圍大於或等於該光罩(100)之防塵護膜(108)輪廓,又該光罩容器(200)進一步包含有一第二視窗(202),該第二視窗(202)係設於該光罩容器(200)上相對內部光罩(100)異於防塵護膜(108)之背側表面(102),且該第二視窗(202)的可視範圍大於或等於該光罩(100)之
背側表面(102),根據某些實施例該光罩容器(200)可以是由能相對蓋合夾壓光罩(100)之一基座(203)及一蓋體(204)所組成,而該第一視窗(201)與該第二視窗(202)分別形成於該基座(203)與該蓋體(204)之相對表面,再者該光罩容器(200)之任兩相對應的壁面上分別設有一對應光罩(100)側面之側透光窗(205),而該等側透光窗(205)之可視範圍大於該光罩(100)側面輪廓,且由該等側透光窗(205)射入之光源可投射於該光罩容器(200)內部收納之光罩(100)的背側表面(102)或防塵護膜(108),又前述之第一、二視窗(201、202)及側透光窗(205)可以選自透明石英板;
而根據第3、4圖所揭示,該光罩表面檢查裝置係於一機櫃體(10)上設有一移動載台(20)、一第一線性影像掃描器(30)、一第二線性影像掃描器(40)、一細縫光源模組(50)、一區域圖像掃描器(60)及一運算控制單元(70),供對一光罩(100)進行檢測,而依據該移動載台(20)型態的不同可以提供不同的檢測模式,其中該光罩(100)可以是直接置放於該移動載台(20)上單獨進行檢測,且該光罩(100)也可以是收納於一透視型之光罩容器(200)內、再將光罩容器(200)置放於移動載台(20)上進行檢測;
如第4圖所揭示,該機櫃體(10)係由縱、橫支桿交錯組接而成之支撐構體(11),且該支撐構體(11)外部可以被複數外殼封閉〔圖中未示〕,再者該機櫃體(10)周緣側面具有一進出料門(14),該進出料門(14)可以電性耦接前述之運算控制單元(70),供依作業流程自動啟閉,再者該機櫃體(10)之支撐構體(11)中段固設有一平台(15),且該平台(15)上具有複數供上、下空間空氣流通之通孔,又該平
台(15)具有一長軸線對應該進出料門(14)之長導孔(16),供安裝前述之移動載台(20),使得該移動載台(20)可於平台(15)上沿著長軸線被選擇性移動,該移動之長軸線被定義為X軸,而與X軸呈水平交錯之軸線被定義為Y軸,另與X軸呈垂直交錯之軸線被定義為Z軸;
而該移動載台(20)電性耦合前述之運算控制單元(70),供承載該光罩(100)或該收納有光罩(100)之光罩容器(200),進一步配合第5圖所揭示,本創作以可被選擇性承載該光罩容器(200)為主要實施例,該移動載台(20)具有一載板(21),該載板(21)上具有一低於該載板(21)表面之放置面(22),且該放置面(22)具有複數相對圍繞呈一矩形空間之定位件(23),該等定位件(23)所圍範圍適對應該光罩容器(200)底緣輪廓,使該光罩容器(200)可以被正確定位放置於該載板(21)之放置面(22)上,又該放置面(22)於對應該等定位件(23)內緣處分別設有一耦合前述運算控制單元(70)、且略為凸出放置面(22)表面之感應器(24),供檢知該光罩容器(200)置放時是否完全平貼於該放置面(22)表面,再者該放置面(22)具有一檢視透孔(25),該檢視透孔(25)對應置放於該放置面(22)之該光罩容器(200)的第一視窗(201),且該放置面(22)於鄰近該檢視透孔(25)之周緣分設有呈三角排列之限位凸柱(28),而對應形成於該光罩容器(200)底面之限位凹孔(206)〔如第2A圖所示〕,使得該光罩容器(200)可以被準確、且穩固定位於該放置面(22),同時具有放置該光罩容器(200)時之防呆功能,又該載板(21)兩側分別具有一滑軌組(26),該等滑軌組(26)被分設於前述平台(15)鄰近長導孔(16)的兩側緣,使得承載該光罩容器(200)之該移動載台(20)被前述運算控制單元(70)操控選擇性產生X軸方向之位移;又該第一、二線性影像掃描器(30、40)〔Linear Image Sensors〕分別位於該平台(15)下方及上方,該第一、二線性影像掃描器(30、40)並分別與前述之運算控制單元(70)電性耦合,且配合第7、8圖所示,該第一、二線性影像掃描器(30、40)對應該移動載台(20)之位移路徑,又該第一、二線性影像掃描器(30、40)可以選自電荷耦合器件〔Charge-coupled Device,CCD〕或互補金屬氧化物半導體〔Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS〕,另該第一、二線性影像掃描器(30、40)被分別利用一第一支臂(31)及一第二支臂(41)設於該機櫃體(10)之支撐構體(11)上,其中該第一、二支臂(31、41)具有接設該第一、二線性影像掃描器(30、40)之第一、二導軌組(32、42),供分別帶動該第一、二線性影像掃描器(30、40)相對平台(15)沿Z軸方向位移,使得該第一、二線性影像掃描器(30、40)可被分別用於檢測該移動載台(20)上光罩容器(200)內部之光罩(100)的兩側表面如防塵護膜(108)或背側表面(102);另該細縫光源模組(50)電性耦接於前述之運算控制單元(70)、且係設於該平台(15)之長導孔(16)兩側,又該細縫光源模組(50)對應該第一、二線性影像掃描器(30、40)掃描該光罩(100)的範圍,進一步配合第5、6圖所揭示,該細縫光源模組(50)於該平台(15)之長導孔(16)兩側分設有內部具發光元件、且相對照射之一第一光箱(51)及一第二光箱(52),又該第一、二光箱(51、52)對應該平台(15)長導孔(16)的側面分別形成有一道與X軸平行之細縫(511、521),使得該第一、二光箱(51、52)可對於移動載台(20)上之光罩(100)表面投射一直線光束,另該第一、二光箱(51、52)被分別利用一第一立座(53)及一第二立座(56)設於該平台(15)上,其中該第一、二立座(53、56)具有接設該第一、二光箱(51、52)之第一、二立軌組(54、57),供分別帶動該第一、二光箱(51、52)相對平台(15)沿Z軸方向位移,且該第一、二立軌組(54、57)具有接設該第一、二光箱(51、52)之第一、二旋軸組(55、58),供分別帶動該第一、二光箱(51、52)相對平台(15)沿X軸旋轉調整角度,使得該第一、二線性影像掃描器(30、40)可被分別用於檢測該移動載台(20)上光罩容器(200)內部之光罩(100)的兩側表面如防塵護膜(108)或背側表面(102),且令該第一、二光箱(51、52)移動後之直線光束與該光罩(100)之受檢測表面如下方防塵護膜(108)或上方背側表面(102)的夾角為0~6度〔如第7、8圖所示〕;
再者,該區域圖像掃描器(60)〔Area Image Sensors〕位於該平台(15)上方,且該區域圖像掃描器(60)並與前述運算控制單元(70)電性耦合,又配合第9圖所示,該區域圖像掃描器(60)對應該移動載台(20)之移動路徑,另該區域圖像掃描器(60)可以選自電荷耦合器件〔Charge-coupled Device,CCD〕或互補金屬氧化物半導體〔Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS〕,且該區域圖像掃描器(60)被利用一支撐懸臂(61)設於該機櫃體(10)之支撐構體(11)上,其中該支撐懸臂(61)具有接設該區域圖像掃描器(60)之第三導軌組(62),供帶動該區域圖像掃描器(60)相對平台(15)沿Y軸方向位移,又該第三導軌組
(62)進一步具有接設該區域圖像掃描器(60)之第四導軌組(63),供帶動該區域圖像掃描器(60)相對平台(15)沿Z軸方向位移,使得該區域圖像掃描器(60)可被用於檢測該移動載台(20)上光罩容器(200)內部之光罩(100)其中的電路圖形(105)〔如第1A、9圖所示〕,且該區域圖像掃描器(60)於檢測時可以對該光罩(100)提供由上而下或由下而上之光源;
至於,如第3圖所示,該運算控制單元(70)係能統合性的操控整個光罩表面檢查裝置的各部位,例如控制該機櫃體(10)進出料門(14)之啟閉、該移動載台(20)之移動,該第一、二線性影像掃描器(30、40)之移動取像,該細縫光源模組(50)之照射,以及該區域圖像掃描器(60)之移動取像,該運算控制單元(70)具有至少一記憶單元(71),供儲存包含但不限於用以運算控制單元(70)所執行處理之程式、供比對之光罩(100)電路圖形(105)資料〔如該電路圖形(105)之設計圖面或無缺陷之電路圖形(105)影像〕、檢測影像資料及檢出結果資料等,又該運算控制單元(70)電性耦接有一供設於機櫃體(10)外部之顯示單元(75),供顯示該運算控制單元(70)執行處理程式之指令畫面及該第一、二線性影像掃描器(30、40)與該區域圖像掃描器(60)之檢出缺陷影像及檢出即時影像,又該運算控制單元(70)具有至少一輸出入單元〔圖中未示〕,供下載用於比對之電路圖形(105)資料或上傳檢測資料,以供後續製程處理及參考;
藉此,組構成一用於檢測收納於光罩容器(200)內部光罩(100)之光罩表面檢查裝置者。
而本創作於進行檢測作業之實際操作時,則係如
第10圖所示〔進一步參考第3、4及7~9圖〕,該光罩表面檢查裝置在進行檢測作業800前,預先將該第一、二線性影像掃描器(30、40)之焦距利用其第一、二導軌組(32、42)以Z軸方向調整於相對收納於光罩容器(200)內部之光罩(100)的背側表面(102)或防塵護膜(108),另預先將該區域圖像掃描器(60)之焦距利用其第四導軌組(63)以Z軸方向調整於相對收納於光罩容器(200)內部之光罩(100)的電路圖形(105)表面,而該檢測作業(800)之處理流程為:
在810,將收納有光罩(100)之透視型的光罩容器(200)放置於移動載台(20)上,如第4、5圖所示,其係透過運算控制單元(70)操作該機櫃體(10)之進出料門(14),而將收納有光罩(100)之透視型光罩容器(200)置於移動載台(20)之載板(21)放置面(22)上,並利用放置面(22)上的定位件(23)及限位凸柱(28)導引光罩容器(200)以正確方向穩固放置,且透過該放置面(22)之感應器(24)檢知該光罩容器(200)之放置是否異常。
在820,執行該光罩(100)之防塵護膜(108)的檢測,如第4、7圖所示,當光罩容器(200)被正確放置於該移動載台(20)之載板(21)放置面(22)後,前述進出料門(14)自動關閉,而該運算控制單元(70)並操作該移動載台(20)以X軸方向移動至第一線性影像掃描器(30)前,且作動該細縫光源模組(50)之第一、二光箱(51、52)以Z軸方向位移下降,並令該第一、二光箱(51、52)相對投射直線光束,使該等直線光束可以穿透該光罩容器(200)之兩側側透光窗(205)而照射於該光罩(100)底面的防塵護膜(108),且該等直線光束與該防塵護膜(108)保持由下而上之0~6度
夾角,同時該運算控制單元(70)啟動該第一線性影像掃描器(30)以X軸方向位移、且穿透該放置面(22)之檢視透孔(25)與該光罩容器(200)之第一視窗(201)線性掃描內部的光罩(100)的防塵護膜(108),供依預設之缺陷尺寸〔如5um或10um以上〕取得該防塵護膜(108)上該等缺陷之列表、全圖位置及實景影像〔如第11圖中A、B及C所示〕。
在830,執行該光罩(100)之背側表面(102)的檢測,如第4、8圖所示,當完成該光罩(100)之背側表面(102)檢測後,該運算控制單元(70)並操作該移動載台(20)移動至第二線性影像掃描器(40)前,且作動該細縫光源模組(50)之第一、二光箱(51、52)以Z軸方向位移上升,使得該第一、二光箱(51、52)相對投射直線光束可以穿透該光罩容器(200)之兩側側透光窗(205)而照射於該光罩(100)的背側表面(102),且該等直線光束與該背側表面(102)保持由上而下之0~6度夾角,同時該運算控制單元(70)啟動該第二線性影像掃描器(40)以X軸方向位移、且穿透該光罩容器(200)之第二視窗(202)線性掃描內部的光罩(100)的背側表面(102),並供依預設缺陷尺寸〔如5um或10um以上〕取得該背側表面(102)上該等缺陷之列表、全圖位置及實景影像〔如第11圖中A、B及C所示〕。根據某些實施例中,在820和830的執行可以互換或重覆交錯實施。
在840,執行該光罩(100)之電路圖形(105)的檢測,當完成該光罩(100)之背側表面(102)及防塵護膜(108)檢測後,該運算控制單元(70)並操作該移動載台(20)移動至該區域圖像掃描器(60)前,且關閉該細縫光源模組(50)之第一、二光箱(51、52),同時該運算控制單元(70)啟動
該區域圖像掃描器(60)以Y軸方向位移、且該移動載台(20)帶動該光罩容器(200)以X軸方向位移,並使該區域圖像掃描器(60)穿透該光罩容器(200)之第二視窗(202)區域掃描內部的光罩(100)的電路圖形(105),並供與該運算控制單元(70)之記憶單元(71)內儲存的比對用電路圖形(105)資料〔可以是該電路圖形(105)之設計圖面或無缺陷之電路圖形(105)影像〕進行分析,以取得該受測之光罩(100)電路圖形(105)上缺陷之列表、全圖位置及實景影像〔如第12圖中A、B及C所示〕。根據某些實施例中,在820和830的執行後可以不執行840或僅執行840而不執行820和830。
在850,配合該顯示單元(75)檢視該光罩(100)之檢出影像,當完成該光罩(100)之背側表面(102)、防塵護膜(108)及/或電路圖形(105)之檢測後,操作人員可以透過該運算控制單元(70)操控利用其顯示單元(75)逐一檢視各缺陷之檢出列表〔如第11、12圖中之A所示〕及全圖位置〔如第11、12圖中之B所示〕,且在電路圖形(105)檢測之檢視上,進一步可以透過該運算控制單元(70)控制啟動該區域圖像掃描器(60)以Y軸方向位移、且該移動載台(20)帶動該光罩容器(200)以X軸方向位移來取得該電路圖形(105)上缺陷之即時影像〔如第11、12圖中之C所示〕,供操作人員檢視判斷其缺陷之影響及歸類,作為後續製程之參考。
在860,取出該收納有光罩(100)之透視型的光罩容器(200),在完成收納於光罩容器(200)內部之光罩(100)檢測及檢視後,該運算控制單元(70)可以作動該移動載台(20)帶動該光罩容器(200)移動至機櫃體(10)進出料門(14)處,並作動該進出料門(14)自動開啟,供取出該收納有光罩
(100)之光罩容器(200),而完成整個檢測作業800。
經由上述的說明,本創作光罩表面檢測裝置透過移動載台(20)直接放置透視型之光罩容器(200),且利用細縫光源模組(50)兩側之第一、二光箱(51、52)可投射直線光束於該光罩容器(200)內部之光罩(100)表面,使得該光罩表面檢查裝置可以透過第一、二線性影像掃描器(30、40)及區域圖像掃描器(60)直接檢測收納於光罩容器(200)內部的光罩(100)之背側表面(102)、防塵護膜(108)及電路圖形(105),藉以能在不打開光罩容器(200)下直接檢測收納於內部之光罩(100),以避免光罩(100)在檢測過程中因接觸外部而產生新的缺陷,且可縮短光罩檢測的時間,提升其檢測效率,再者相較於現有者能不需設置用於光罩容器(200)之進出料機構、儲存機構及開盒機構等,可以有效縮小其體積及佔積,進而降低設備之購置與維護成本,大幅增進其實用性。
綜上所述,可以理解到本創作為一創意極佳之新型創作,除了有效解決習式者所面臨的問題,更大幅增進功效,且在相同的技術領域中未見相同或近似的產品創作或公開使用,同時具有功效的增進,故本創作已符合新型專利有關「新穎性」與「進步性」的要件,乃依法提出申請新型專利。
100:光罩
200:光罩容器
10:機櫃體
20:移動載台
30:第一線性影像掃描器
40:第二線性影像掃描器
50:細縫光源模組
60:區域圖像掃描器
70:運算控制單元
71:記憶單元
75:顯示單元
Claims (10)
- 一種光罩表面檢查裝置,應用於不換面狀況下檢測一光罩之上、下兩側表面,該光罩表面檢查裝置至少包含有:一機櫃體,其具有一支撐構體,且該支撐構體中央設有一具長導孔之平台;一移動載台,其與後述之運算控制單元電性耦合,該移動載台係滑設於該平台之長導孔內,且可沿著長導孔之長軸線被選擇性位移,該移動載台具有一供選擇性擺置一被檢測物之放置面,且該放置面具有複數相對圍繞該檢測物空間之定位件,再者該放置面具有一對應該被檢測物之檢視透孔;一第一線性影像掃描器,其與後述之運算控制單元電性耦合,該第一線性影像掃描器可被利用一第一支臂設於該支撐構體中對應該移動載台之位移路徑,該第一支臂具有接設該第一線性影像掃描器之第一導軌組,令該第一線性影像掃描器可相對平台移動載台方向升降位移;一第二線性影像掃描器,其與後述之運算控制單元電性耦合,該第二線性影像掃描器可被利用一第二支臂設於該支撐構體中對應該移動載台之位移路徑、且位於該平台相對該第一線性影像掃描器之另側,又該第二支臂具有接設該第二線性影像掃描器之第二導軌組,令該第二線性影像掃描器可相對平台移動載台方向升降位移;一細縫光源模組,其與後述之運算控制單元電性耦合,該細縫光源模組分別具有一第一光箱及一第二光箱,其中該第一光箱及該第二光箱分別利用一第一立座及一第二立 座設於該平台之長導孔兩側、且對應該第一線性影像掃描器掃描該被檢測物的範圍,又該第一、二光箱對應該長導孔的側面分別形成有一道與移動載台移動方向平行之細縫,令該第一、二光箱可同時投射一照射於該被檢測物表面之直線光束;一運算控制單元,其具有至少一記憶單元,供儲存用以執行處理之程式及檢測資料,又該運算控制單元電性耦接有一顯示單元,供顯示該運算控制單元執行處理程式之指令畫面及檢測結果。
- 如請求項1所述之光罩表面檢查裝置,其中該光罩表面檢查裝置之被檢測物可以是一收納於一透視型之光罩容器內部之一光罩,該光罩容器具有對應該光罩上、下兩側表面之一第一視窗及一第二視窗,再者該光罩容器之任兩相對應的壁面上分別設有一對應光罩兩相對側面之側透光窗,而該移動載台之放罩面於對應該等定位件內緣處分別設有一耦合前述運算控制單元、且略為凸出放置面表面之感應器,供檢知該光罩容器置放時是否完全平貼於該放置面表面。
- 如請求項2所述之光罩表面檢查裝置,其中該移動載台之放置面於鄰近該檢視透孔之周緣分設有呈三角排列之限位凸柱,而該光罩容器底面形成有對應之限位凹孔,使得該光罩容器可以被準確、且穩固定位於該放置面。
- 如請求項2所述之光罩表面檢查裝置,其中該移動載台之該放置面於對應該等定位件內緣處分別設有一耦合前述運算控制單元、且略為凸出放置面表面之感應器,供檢知該光罩容器置放時是否完全平貼於該放置面表面。
- 如請求項2或3或4所述之光罩表面檢查裝置,其中該移動載台具有一載板,而該放置面設於該載板,且該放置面低於該載板之表面。
- 如請求項1所述之光罩表面檢查裝置,其中該細縫光源模組之該第一、二立座具有接設該第一、二光箱之第一、二立軌組,使該第一、二光箱可被選擇性相對平台表面升降。
- 如請求項6所述之光罩表面檢查裝置,其中該細縫光源模組之第一、二光箱於該第一、二立軌組具有接設該第一、二光箱之第一、二旋軸組,使該第一、二光箱相對平台旋轉調整角度,令該第一、二光箱之直線光束與該光罩之受檢測表面的夾角為0~6度。
- 如請求項1或2所述之光罩表面檢查裝置,其中該光罩表面檢查裝置進一步包含有一區域圖像掃描器,該區域圖像掃描器與該運算控制單元電性耦合,又該區域圖像掃描器被利用一支撐懸臂設於該機櫃體之支撐構體上,且該區域圖像掃描器對應該移動載台之移動路徑,又該支撐懸臂具有接設該區域圖像掃描器之第三導軌組,使該區域圖像掃描器可以垂直該移動載台移動軸線方向位移,另該第三導軌組進一步具有接設該區域圖像掃描器之第四導軌組,使該區域圖像掃描器可相對平台升降。
- 如請求項1或2所述之光罩表面檢查裝置,其中該機櫃體於對應該平台上移動載台之其中一外殼具有一進出料門,該進出料門可以電性耦接前述之運算控制單元,供依作業流程自動啟閉。
- 如請求項2所述之光罩表面檢查裝置,其中該移動載台之載板兩側分別具有一滑軌組,該等滑軌組被分設於該平台鄰近長導孔的兩側緣,使得該移動載台可以承載該光罩容器被選擇性沿長導孔位移。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111204660U TWM641149U (zh) | 2022-05-06 | 2022-05-06 | 光罩表面檢查裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111204660U TWM641149U (zh) | 2022-05-06 | 2022-05-06 | 光罩表面檢查裝置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWM641149U true TWM641149U (zh) | 2023-05-21 |
Family
ID=87383065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111204660U TWM641149U (zh) | 2022-05-06 | 2022-05-06 | 光罩表面檢查裝置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWM641149U (zh) |
-
2022
- 2022-05-06 TW TW111204660U patent/TWM641149U/zh unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6822734B1 (en) | Apparatus and method for fabricating flat workpieces | |
US8482728B2 (en) | Apparatus and method for inspecting defect on object surface | |
JP4878907B2 (ja) | 画像検査装置およびこの画像検査装置を用いた画像検査方法 | |
JP5425189B2 (ja) | 半導体ウエハの検査装置および検査方法 | |
JP4085538B2 (ja) | 検査装置 | |
IL101063A (en) | Verification and repair station for pcbs | |
TWI673491B (zh) | 光箱結構及應用彼光學檢測設備 | |
JP7356359B2 (ja) | 基板コンテナの検査システム及び方法 | |
CN204360094U (zh) | 光罩检查机 | |
JP2007107973A (ja) | 検査装置 | |
TWM641149U (zh) | 光罩表面檢查裝置 | |
CN211402190U (zh) | 一种自动化缺陷检测设备 | |
TW202344811A (zh) | 光罩表面檢查裝置 | |
CN218567233U (zh) | 光罩表面检查装置 | |
CN117470873A (zh) | 光罩表面检查装置 | |
TWM641148U (zh) | 應用於光罩檢查機之載台機構 | |
TWI391649B (zh) | 面板缺陷之點燈測試機台及面板缺陷之點燈測試方法 | |
TW202345269A (zh) | 應用於光罩檢查機之載台機構 | |
KR20080019395A (ko) | 평판디스플레이용 이물검사장치 | |
CN105717739A (zh) | 光罩检查机 | |
CN218567230U (zh) | 应用于光罩检查机的载台机构 | |
TW593977B (en) | Microscope arrangement for inspecting a substrate | |
JP4135283B2 (ja) | 検査装置 | |
JP4154816B2 (ja) | 検査装置 | |
JP4172124B2 (ja) | 検査装置 |