TWM633934U - 自動化氣霧培育系統 - Google Patents

Abstract

本新型提供一種自動化氣霧培育系統，包含有硝酸鹽液槽、銨態氮液槽、第一母液槽、營養液混合槽、噴灑管線裝置和控制器。硝酸鹽液槽用於盛裝並輸出一硝化氮液。銨態氮液槽用於盛裝並輸出一銨態氮液。第一母液槽連接硝酸鹽液槽以及銨態氮液槽，用於接收並混合硝化氮液和銨態氮液，以形成並輸出一第一母液。營養液混合槽連接第一母液槽，用於接收第一母液，以形成並輸出一營養液。控制器連接硝酸鹽液槽以及銨態氮液槽，用以控制硝化氮液槽和銨態氮液槽的輸出量，以調整第一母液之成份比例。

Description

自動化氣霧培育系統

本新型係關於一種氣霧培育系統，尤其是指一種自動化控制營養液成分及環境抑菌的氣霧培育系統。

氣霧栽培是無土栽培的一種，與基質栽培、水耕栽培等方式相同屬於無須土壤的植株培育方式。基質栽培本身具有無菌環境、植株成長有限和基質更換等嚴謹的條件限制。而與水耕栽培相比，氣霧栽培相當地省水、省肥，又能解決水中溶氧量不足的問題。氣霧栽培發展限制少，根系發育良好，農產品質高，成為未來極具發展潛力的栽培技術。

然而，由於沒有了土壤作為緩衝，也缺少了土壤中的共生類細菌，氣霧栽培對於環境的溫溼度、可吸收利用的營養成份及酸鹼度相當的敏感。另一方面，植物一般會分泌次級代謝物到土壤中以發揮抗菌抑菌效果，但在氣霧栽培中植物會減少分泌次級代謝物，以避免次級代謝物停留在根上阻礙呼吸作用，甚至毒害自體。

目前產業界普遍會設置營養液槽，在水中加入肥料粉末，混勻後透過管線對植株根系噴霧。此方式耗費大量人工，且存在人為誤差。並且，在不同季節施予相同肥料，不能良好的激發植株生長潛能。接著，為了循環利用營養液，營養液槽會回收凝結的營養液噴霧。營養液噴霧又回收的過程容易滋生細菌，細菌會大量消耗營養成分，並對降低分泌次級 代謝物的植株造成傷害。

因此，本領域需要更完整、更平衡的系統，以減少人為作業量以及病害的威脅。

有鑑於此，本新型係提供一種氣霧培育系統，能自動化調節養份，配製營養液，供給水與養份並且消毒。

本新型的自動化氣霧培育系統，係應用於一植床之作物栽種，植床藉由植板而區隔出根系空間。本系統包含有一硝酸鹽液槽、一銨態氮液槽、一第一母液槽、一營養液混合槽、一噴灑管線裝置和一控制器。硝酸鹽液槽用於盛裝並輸出一硝化氮液。銨態氮液槽用於盛裝並輸出一銨態氮液。第一母液槽連接硝酸鹽液槽以及銨態氮液槽，用於接收並混合硝化氮液和銨態氮液，以形成並輸出一第一母液。營養液混合槽連接第一母液槽，用於接收第一母液，以形成並輸出一營養液。噴灑管線裝置連通營養液混合槽並延伸至根系空間，用以噴灑營養液。控制器連接硝酸鹽液槽以及銨態氮液槽，用以控制硝化氮液槽和銨態氮液槽的輸出量，以調整第一母液之成份比例。

自動化氣霧培育系統進一步包含有一溫度計和一溼度計。溫度計耦接控制器，用於偵測環境溫度，而輸出溫度訊號。溼度計耦接控制器，用於偵測環境濕度，而輸出一濕度訊號。其中控制器係用以根據溫度訊號及濕度訊號調整第一母液之成份比例。

若環境溫度升高，則控制器調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例升高；若環境溫度降低，則控制器調整第一母液中銨態氮 液相對於硝化氮液的比例降低。若環境濕度降低，則控制器調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例升高；若環境濕度升高，則控制器調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例降低。

當環境濕度超過90%，控制器控制噴灑管線裝置縮短噴灑營養液的噴灑時長，或延長不噴灑營養液的間隔時長。當環境濕度低於50%，控制器控制噴灑管線裝置延長噴灑營養液的噴灑時長，或縮短不噴灑營養液的間隔時長，或額外噴灑不含營養的水。

自動化氣霧培育系統進一步包含有一第二母液槽和一第三母液槽。第二母液槽連接營養液混合槽，用於盛裝並輸出一第二母液至營養液混合槽，第二母液之成分包含有磷酸一鉀、硫酸鉀和硫酸鎂。第三母液槽連接營養液混合槽，用於盛裝並輸出一第三母液至營養液混合槽，第三母液之成分包含有螯合鐵、硼酸、硫酸鋅、硫酸銅、硫酸錳、鉬酸銨。第一母液之成份包含有尿素、硝酸鈣、硝酸鉀、氯化鈣。營養液混合槽用於接收第一母液、第二母液和第三母液，以形成並輸出營養液。

自動化氣霧培育系統進一步包含有一水槽，連接營養液混合槽，用於盛裝並輸出水至營養液混合槽。控制器控制第一母液槽、第二母液槽、第三母液槽、水槽的輸出量，以調整營養液之成份比例。

自動化氣霧培育系統進一步包含有一酸鹼度計、一酸液槽和一鹼液槽。酸鹼度計設置於營養液混合槽中，用於偵測營養液的酸鹼度，並輸出一酸鹼度訊號。酸液槽連接營養液混合槽，用於盛裝並選擇性地輸出一酸液至營養液混合槽。鹼液槽連接營養液混合槽，用於盛裝並選擇性地輸出一鹼液至營養液混合槽。控制器根據酸鹼度訊號，控制酸液槽和鹼 液槽的輸出量，以調整營養液之酸鹼度。

自動化氣霧培育系統進一步包含有一液體集輸管道和一紫外光設備。液體集輸管道連通營養液混合槽，並延伸至根系空間底部，用以回收根系空間中凝結而成之二次營養液。紫外光設備設置於液體集輸管道旁，用以對液體集輸管道之一部份發出紫外光以照射液體集輸管道中的二次營養液。

自動化氣霧培育系統進一步包含有一消毒液槽，連接噴灑管線裝置，用於盛裝並輸出一消毒液。其中，控制器控制消毒液槽於一預定時間輸出，使噴灑管線裝置於根系空間噴灑消毒液。

液體集輸管道進一步包含有一三通閥裝置，三通閥裝置之第一端連通營養液混合槽，三通閥裝置之第二端延伸至根系空間，三通閥裝置之第三端連通至一消毒液排放區。當噴灑管線裝置噴灑消毒液時，控制器調整三通閥裝置關閉液體集輸管道通往營養液混合槽之路線，開啟液體集輸管道通往消毒液排放區之路線。當噴灑管線裝置噴灑營養液時，控制器調整三通閥裝置開啟液體集輸管道通往營養液混合槽之路線，關閉液體集輸管道通往消毒液排放區之路線。

綜上所述，本新型之自動化氣霧培育系統利用母液槽，可以預先配置好適當且大量的母液，以供長時間穩定的營養來源。進一步讓硝酸鹽液以及銨態氮液分槽再混合成母液，可以根據溫度、濕度、或天氣預報等進行比例調整，提供更適當的氮源予植株。利用酸鹼調節以提供適當的酸鹼度。利用回收營養液的液體集輸管道和紫外光設備，可以降低回收液體汙染的風險，而消毒液的定時噴灑則有效地抑制植株根系雜菌的孳 生，最後利用三通閥裝置來使單一的液體集輸管道可以進行回收營養液和消毒液的分流，避免浪費營養液或是消毒液過度傷害植株。

1:自動化氣霧培育系統

10:控制器

101:溫度計

102:溼度計

105:酸鹼度計

11:第一母液槽

111:銨態氮液槽

112:硝酸鹽液槽

12:第二母液槽

13:第三母液槽

14:水槽

151:酸液槽

152:鹼液槽

16.營養液混合槽

17:消毒液槽

180:噴灑管線裝置

181:液體集輸管道

19:紫外光設備

2:植床

20:根系空間

3:消毒液排放區

圖1繪示本新型一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖；

圖2繪示本新型另一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖；

圖3繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖；

圖4繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖；

圖5繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖；

圖6繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖；

圖7繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。

為了讓本新型的優點，精神與特徵可以更容易且明確地了解，後續將以具體實施例並參照所附圖式進行詳述與討論。需注意的是，這些具體實施例僅為本新型代表性的具體實施例，其中所舉例的特定方法、裝置、條件、材質等並非用以限定本新型或對應的具體實施例。又，圖中垂直方向、水平方向和各元件僅係用於表達其相對位置，且未按其實際比例繪述，合先敘明。

本新型圖中的粗黑線箭頭代表液體流動路線，細黑線箭頭代表訊號傳遞路線，但為求簡潔僅繪示部分線路，不代表任兩者必然僅有一種連接方式，或任兩者沒有連接關係。

本新型中有多個實施例。除非另有說明，否則每個實施例中 相同名稱與編號的元件，其結構、作動及功能原則上相同，在本領域技術人員可以輕易理解的狀況下，可以合理的組合或變化。因此，後續實施例中將不會贅述已經說明過的元件。

本新型中所述的硝化氮液是指溶有硝酸鹽類的液體，硝酸鹽具有硝酸根(NO₃-)，例如是硝酸鈣(Ca(NO₃)₂)或硝酸鉀(KNO₃)等。本新型中所述的銨態氮液是指溶有銨鹽類的液體，銨態氮亦可稱氨態氮，銨鹽具有銨根(NH₄ ⁺)，例如氯化銨(NH₄Cl)、硫酸銨((NH₄)₂SO₄)、碳酸氫銨(NH₄HCO₃)、尿素(CN₂H₄O)等。

請參閱圖1，圖1繪示本新型一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。本新型的自動化氣霧培育系統1應用於植床2之作物栽種。植床2藉由植板而區隔出根系空間20。自動化氣霧培育系統1包含有一銨態氮液槽111、一硝酸鹽液槽112、一第一母液槽11、一營養液混合槽16、一噴灑管線裝置180和一控制器10。銨態氮液槽111用於盛裝並輸出一銨態氮液。硝酸鹽液槽112用於盛裝並輸出一硝化氮液。第一母液槽11連接硝酸鹽液槽112以及銨態氮液槽111，用於接收並混合硝化氮液和銨態氮液，以形成並輸出一第一母液。營養液混合槽16連接第一母液槽11，用於接收第一母液，稀釋第一母液以形成並輸出一營養液。噴灑管線裝置180連通營養液混合槽16並延伸至根系空間20，用以噴灑營養液。控制器10連接硝酸鹽液槽112以及銨態氮液槽111，用以控制硝酸鹽液槽112和銨態氮液槽111的輸出量，以調整第一母液之成份比例。

作物種類不限於草本植物、木本植物或水生植物，例如有馬鈴薯、番茄、草莓等經濟作物。植株的支撐可仰賴於植板。植株之根部主 要位於植板下的根系空間20，植株之莖部與葉部主要位於植板上的架上莖葉區。根系空間20之四周被泡沫板及黑布包覆，達到保濕與保溫的效果。

銨態氮液槽111中的銨態氮液及硝酸鹽液槽112中的硝化氮液，可以是植株所需元素濃度的10倍以上之濃縮液，於配置營養液之過程中稀釋成植株所需濃度。第一母液槽11的設計可以使粉狀化合物先行備製成溶液狀，作為配置成營養液之前的過渡時期。較高濃度的第一母液可以長期擺放而不易變質，直到營養液混合槽16的營養液量不足時，再輸出第一母液到營養液混合槽16中形成較低濃度的植株適宜溶液。噴灑管線裝置180包含有多個散佈設置於根系空間20當中的噴霧頭，依照預設的時辰、時長、水量，噴灑霧化營養液。

第一母液之成份包含有尿素(銨態氮)、硝酸鈣(硝化氮)、硝酸鉀(硝化氮)、氯化鈣等，第一母液主要提供植株所需氮源。本新型申請人發現，植株在不同季節中對合硝化氮和銨態氮兩種氮肥的吸收程度不同。因此，在系統中設置了銨態氮液槽111及硝酸鹽液槽112於第一母液槽11上游，並且由控制器10統一控制，使第一母液中的氮肥比例達到可設定切換和自動調節的效果。使用者可以根據天氣預報設定今日的氮肥比例，或系統根據天氣預報自動安排今日的氮肥比例，或由下述實施例進行自動調節。

請參閱圖2，圖2繪示本新型另一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。除上述所述元件，本實施例中的自動化氣霧培育系統進一步包含有一溫度計101和一溼度計102。溫度計101耦接控制器10，用於偵測環境溫度而輸出溫度訊號。溼度計102耦接控制器10，用於偵測環境濕度而輸出一濕度訊號。其中控制器10根據溫度訊號及濕度訊號調整第一 母液之成份比例，實現自動化的成分比例調節。溫度計101和溼度計102主要裝設於根系空間20中，環境溫度主要是指根系空間20的環境溫度。

具體來說，若溫度計101偵測到環境溫度升高，則控制器10使銨態氮液槽111輸出比例增加，硝酸鹽液槽112輸出比例降低，調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例升高。同理，若環境溫度降低，則控制器10調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例降低。如此一來，可以在溫度變化時，使植株吸收較多當下偏好利用的氮源。

若溼度計102偵測到環境濕度降低，則控制器10使銨態氮液槽111輸出比例降低，硝酸鹽液槽112輸出比例升高，調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例升高。同理，若環境濕度升高，則控制器10調整第一母液中銨態氮液相對於硝化氮液的比例降低。

舉例而言，當環境濕度超過90%，控制器10控制噴灑管線裝置180縮短噴灑營養液的噴灑時長(例如60秒縮短為30秒)，或延長不噴灑營養液的間隔時長(例如15分鐘延長為30分鐘)。當環境濕度低於50%，控制器10控制噴灑管線裝置180延長噴灑營養液的噴灑時長，或縮短不噴灑營養液的間隔時長，或額外噴灑來自水槽不含營養的水。

圖3繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。本實施例中，自動化氣霧培育系統1進一步包含有一第二母液槽12和一第三母液槽13。第二母液槽12連接營養液混合槽16，用於盛裝並輸出一第二母液至營養液混合槽16，第二母液之成分包含有磷酸一鉀、硫酸鉀和硫酸鎂等，主要提供植株所需的多量元素(磷、鉀、鎂、硫)。第三母液槽13連接營養液混合槽16，用於盛裝並輸出一第三母液至營養液混合槽 16，第三母液之成分包含有螯合鐵(EDTA-Fe)、硼酸、硫酸鋅、硫酸銅、硫酸錳、鉬酸銨等，主要為植物所需的微量元素(鐵、錳、硼、鉬、銅、鋅、鈷等)。

由於化合物混合溶液在長期擺放下容易產生交互作用或沉澱，但是每一種化合物都各自配置成母液，又需大量的設備與控制成本。因此本新型中根據植株需求挑選適當的化合物，並將化合物適當地分為三大類，每一類各自配置成母液，使配置出的母液相對不容易反應或變質。本新型中所述的三種母液可長期擺放，使品質管理與設備管理達到平衡。

第一母液、第二母液、第三母液中的成分可以是植株所需元素濃度的5倍以上之濃縮液，於配置營養液之過程中以水稀釋成植株所需濃度。自動化氣霧培育系統1進一步包含有一水槽14，連接營養液混合槽16，用於盛裝並輸出水至營養液混合槽16。營養液混合槽16接收水、第一母液、第二母液和第三母液，以形成並輸出營養液。控制器10控制第一母液槽11、第二母液槽12、第三母液槽13、水槽14的輸出量，以調整營養液之成份比例。

圖4繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。本實施例中，自動化氣霧培育系統1進一步包含有一酸鹼度計105、一酸液槽151和一鹼液槽152。酸鹼度計105設置於營養液混合槽16中，用於偵測營養液的酸鹼度，並輸出一酸鹼度訊號。酸液槽151連接營養液混合槽16，用於盛裝並選擇性地輸出一酸液至營養液混合槽16。鹼液槽152連接營養液混合槽16，用於盛裝並選擇性地輸出一鹼液至營養液混合槽16。控制器10根據酸鹼度訊號，控制酸液槽151和鹼液槽152的輸出量，以調整 營養液之酸鹼度。

由於第一母液槽11輸出的第一母液中銨態氮與硝酸氮的比例會隨氣候變更，營養液的酸鹼值也會因此而有波動變化。植物對pH值5以下或pH值7以上的營養液環境較容易產生不良生長狀況。當酸鹼度計105偵測到營養液的酸鹼值高於閾值時，控制器10控制酸液槽151輸出酸液至營養液混合槽16，降低酸鹼值；當酸鹼度計105偵測到營養液的酸鹼值低於閾值時，控制器10控制鹼液槽152輸出鹼液至營養液混合槽16，提高酸鹼值。

圖5繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。本實施例中，自動化氣霧培育系統1進一步包含有一液體集輸管道181和一紫外光設備19。液體集輸管道181連通營養液混合槽16，並延伸至根系空間20底部，用以回收根系空間20中凝結而成之二次營養液。紫外光設備19設置於液體集輸管道181旁，用以對液體集輸管道181之一部份發出紫外光以照射液體集輸管道181中的二次營養液。

所述二次營養液表示從液體集輸管道181回收的營養液，但不代表其中成分僅在營養液混合槽16和根系空間之間循環兩次，而可能是多次。紫外光設備19發出之紫外光不會照射到根系空間20，避免對植物根部造成傷害。紫外光設備19可以降低二次營養液從根系空間20攜帶病毒、細菌、黴菌等微生物回到營養液混合槽16的風險。

圖6繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功能方塊圖。自動化氣霧培育系統1進一步包含有一消毒液槽17，連接噴灑管線裝置180，用於盛裝並輸出一消毒液。其中，控制器10控制消毒液槽17於一預定時間輸出，使噴灑管線裝置180於根系空間20噴灑消毒液。

消毒液可以是次氯酸鈉(NaClO)、二氧化氯(ClO₂)、次氯酸(HClO)或其他已知的消毒劑。消毒液可以有效地抑制根系空間20及液體集輸管道181中的病毒或微生物。考量植物在晚間的生理活動趨緩，對消毒液的反應較為輕微，控制器10可以設定於晚間短暫地噴灑消毒液，尤其是晚上八點至十點之間取一時段。噴灑消毒液後至清晨前不再噴灑營養液，以使消毒液充分作用。清晨時植株逐漸恢復生理活動，可以噴灑水以洗去消毒液後，接著噴灑營養液。

液體集輸管道181進一步包含有一三通閥裝置(圖未示)，三通閥裝置之第一端連通營養液混合槽16，三通閥裝置之第二端延伸至根系空間20，三通閥裝置之第三端連通至一消毒液排放區3。當噴灑管線裝置180噴灑消毒液時，控制器10調整三通閥裝置關閉液體集輸管道181通往營養液混合槽16之路線，開啟液體集輸管道181通往消毒液排放區3之路線，並持續至下次噴水後，或噴營養液之前。藉此可以避免消毒液通往營養液混合槽16造成消毒液影響營養液成份，並對植株反覆造成傷害。當噴灑管線裝置180噴灑營養液時，控制器調整三通閥裝置開啟液體集輸管道181通往營養液混合槽16之路線，關閉液體集輸管道181通往消毒液排放區3之路線。消毒液排放區3也可以連通至消毒液槽17，藉此也可重複利用消毒液。

以上所述的各種槽體，可以透過幫浦、水管、水閘、閥門來達到選擇性液體連通、輸出之目的。以上所述的各種槽體中可以包含有水位計監測槽內液體量，槽內液體量不足時由上游槽體供給前驅溶液，或是發出警報。

圖7繪示本新型又一具體實施例中自動化氣霧培育系統之功 能方塊圖。本實施例描述前述各個元件、裝置、設備可以協同作用。控制器10接收溫度計101、溼度計102的數據，控制銨態氮液槽111和硝酸鹽液槽112輸出銨態氮液和硝化氮液至第一母液槽11。控制器10監測營養液混合槽16中的水位，控制第一母液槽11、第二母液槽12、第三母液槽13、水槽14的輸出量，以調整營養液之成份比例。混合營養液後，控制器10根據酸鹼度計105的數據，選擇性地從酸液槽151和鹼液槽152的輸出酸液和鹼液到營養液混合槽16中，調整至恰當之酸鹼值。

控制器10在預定的時間驅使營養液混合槽16輸出營養液，藉由噴灑管線裝置180在根系空間20中進行營養液噴霧施肥。凝結的二次營養液透過液體集輸管道181回流至營養液混合槽16，途中由紫外光設備進行紫外光照射消毒。

控制器10在預定的時間驅使消毒液槽17輸出消毒液，藉由噴灑管線裝置180在根系空間20中進行消毒液噴灑殺菌。同時控制器10導通液體集輸管道181至消毒液排放區3之路線，關閉液體集輸管道181至營養液混合槽16之路線。凝結的消毒液透過液體集輸管道181排放到消毒液排放區3。

綜上所述，本新型之自動化氣霧培育系統，可以預先配置好適當且大量的母液，以供長時間穩定的營養來源。進一步讓硝酸鹽液以及銨態氮液分槽再混合成母液，可以根據溫度、濕度、或天氣預報等進行比例調整，提供更適當的氮源予植株。本新型提供酸鹼調節功能以提供適當酸鹼度的營養液。利用回收營養液的液體集輸管道和紫外光設備，可以減少肥料成本並降低回收液體汙染的風險。定時噴灑消毒液有效地抑制植株根系雜菌的孳生，最後利用三通閥裝置來使單一的液體集輸管道可以進行 回收營養液和消毒液的分流，避免浪費營養液或是消毒液過度傷害植株。

藉由以上較佳具體實施例之詳述，係希望能更加清楚描述本新型之特徵與精神，而並非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本新型之範疇加以限制。相反地，其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排於本新型所欲申請之專利範圍的範疇內。因此，本新型所申請之專利範圍的範疇應該根據上述的說明作最寬廣的解釋，以致使其涵蓋所有可能的改變以及具相等性的安排。

1:自動化氣霧培育系統

10:控制器

11:第一母液槽

111:銨態氮液槽

112:硝酸鹽液槽

16:營養液混合槽

180:噴灑管線裝置

2:植床

20:根系空間

Claims (10)

1. 一種自動化氣霧培育系統，應用於一植床之作物栽種，該植床藉由一植板而區隔出一根系空間，該系統包含有：

   一硝酸鹽液槽，用於盛裝並輸出一硝化氮液；

   一銨態氮液槽，用於盛裝並輸出一銨態氮液；

   一第一母液槽，連接該硝酸鹽液槽以及該銨態氮液槽，用於接收並混合該硝化氮液和該銨態氮液，以形成並輸出一第一母液；

   一營養液混合槽，連接該第一母液槽，用於接收該第一母液，以形成並輸出一營養液；

   一噴灑管線裝置，連通該營養液混合槽並延伸至該根系空間，用以噴灑該營養液；以及

   一控制器，連接該硝酸鹽液槽以及該銨態氮液槽，用以控制該硝化氮液槽和該銨態氮液槽的輸出量，以調整該第一母液之成份比例。
2. 如申請專利範圍第1項所述之系統，進一步包含有：

   一溫度計，耦接該控制器，用於偵測一環境溫度，而輸出一溫度訊號；以及

   一溼度計，耦接該控制器，用於偵測一環境濕度，而輸出一濕度訊號；

   其中該控制器係用以根據該溫度訊號及該濕度訊號調整該第一母液之成份比例。
3. 如申請專利範圍第2項所述之系統，其中若該環境溫度升高或該環境濕度降低，則該控制器調整該第一母液中該銨態氮液相對於該硝化氮液的比例升高。
4. 如申請專利範圍第2項所述之系統，其中當該環境濕度超過90%，該控制器控制該噴灑管線裝置縮短噴灑該營養液的噴灑時長，或延長不噴灑該營養液的間隔時長。
5. 如申請專利範圍第1項所述之系統，進一步包含有：一第二母液槽，連接該營養液混合槽，用於盛裝並輸出一第二母液至該營養液混合槽，該第二母液之成分包含有磷酸一鉀、硫酸鉀和硫酸鎂；以及一第三母液槽，連接該營養液混合槽，用於盛裝並輸出一第三母液至該營養液混合槽，該第三母液之成分包含有螯合鐵、硼酸、硫酸鋅、硫酸銅、硫酸錳、鉬酸銨；其中該第一母液之成份包含有尿素、硝酸鈣、硝酸鉀、氯化鈣；其中該營養液混合槽用於接收該第一母液、該第二母液和該第三母液，以形成並輸出該營養液。
6. 如申請專利範圍第5項所述之系統，進一步包含有：一水槽，連接該營養液混合槽，用於盛裝並輸出水至該營養液混合槽；其中該控制器控制該第一母液槽、該第二母液槽、該第三母液槽、該水槽的輸出量，以調整該營養液之成份比例。
7. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該進一步包含有：一酸鹼度計，設置於該營養液混合槽中，用於偵測該營養液的酸鹼度，並輸出一酸鹼度訊號；一酸液槽，連接該營養液混合槽，用於盛裝並選擇性地輸出一酸液至該營養液混合槽；以及一鹼液槽，連接該營養液混合槽，用於盛裝並選擇性地輸出一鹼液至該營養液混合槽；

   其中，該控制器根據該酸鹼度訊號，控制該酸液槽和該鹼液槽的輸出量，以調整該營養液之酸鹼度。
8. 如申請專利範圍第1項所述之系統，進一步包含有：

   一液體集輸管道，連通該營養液混合槽並延伸至該根系空間底部，用以回收該根系空間中凝結而成之一二次營養液；以及

   一紫外光設備，設置於該液體集輸管道旁，用以對該液體集輸管道之一部份發出紫外光以照射該液體集輸管道中的該二次營養液。
9. 如申請專利範圍第8項所述之系統，進一步包含有：

   一消毒液槽，連接該噴灑管線裝置，用於盛裝並輸出一消毒液；

   其中，該控制器控制該消毒液槽於一預定時間輸出，使該噴灑管線裝置於該根系空間噴灑該消毒液。
10. 如申請專利範圍第9項所述之系統，其中該液體集輸管道進一步包含有：

    一三通閥裝置，該三通閥裝置之一第一端連通該營養液混合槽，該三通閥裝置之一第二端延伸至該根系空間，該三通閥裝置之一第三端連通至一消毒液排放區；

    其中當該噴灑管線裝置噴灑該消毒液時，該控制器調整該三通閥裝置關閉該液體集輸管道通往該營養液混合槽之路線，開啟該液體集輸管道通往該消毒液排放區之路線。

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